JP5090392B2 - Stage equipment - Google Patents

Stage equipment Download PDF

Info

Publication number
JP5090392B2
JP5090392B2 JP2009065013A JP2009065013A JP5090392B2 JP 5090392 B2 JP5090392 B2 JP 5090392B2 JP 2009065013 A JP2009065013 A JP 2009065013A JP 2009065013 A JP2009065013 A JP 2009065013A JP 5090392 B2 JP5090392 B2 JP 5090392B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
counter mass
stage
mass
counter
control
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2009065013A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2010217032A (en
Inventor
博紀 小川
昌宏 小山
信雄 柴田
勝 松島
周一 中川
勝則 小貫
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi High Tech Corp
Original Assignee
Hitachi High Technologies Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi High Technologies Corp filed Critical Hitachi High Technologies Corp
Priority to JP2009065013A priority Critical patent/JP5090392B2/en
Publication of JP2010217032A publication Critical patent/JP2010217032A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5090392B2 publication Critical patent/JP5090392B2/en
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Sampling And Sample Adjustment (AREA)

Description

本発明は、半導体製造分野における半導体の検査や評価に用いる電子顕微鏡装置の試料ステージとして好適な、ステージ装置に関する。   The present invention relates to a stage apparatus suitable as a sample stage of an electron microscope apparatus used for semiconductor inspection and evaluation in the field of semiconductor manufacturing.

半導体ウェハ上に形成したパターンの検査では、測長機能を備えた走査型電子顕微鏡(以下、測長SEMと称す)が用いられる。近年、一回の測定にかかる時間を短縮化する傾向がある。そのため、ウェハを搭載した試料ステージは高速かつ高加速度で移動させる必要がある。   In the inspection of a pattern formed on a semiconductor wafer, a scanning electron microscope having a length measuring function (hereinafter referred to as a length measuring SEM) is used. In recent years, there is a tendency to shorten the time required for one measurement. Therefore, it is necessary to move the sample stage on which the wafer is mounted at high speed and high acceleration.

試料ステージを高速かつ高加速度で移動させると、その反力によって、装置全体に振動が発生する。このような振動は、測長SEMの二次電子像に悪影響を及ぼすばかりでなく、試料ステージの位置決め時の整定時間が増大する原因となる。そこで、試料ステージの移動に起因する装置の振動を抑制する必要がある。例えば、測長SEMでは、ナノメートルオーダ以下の振動に制限される。   When the sample stage is moved at a high speed and with a high acceleration, vibration is generated in the entire apparatus due to the reaction force. Such vibration not only adversely affects the secondary electron image of the length measurement SEM, but also causes an increase in settling time when positioning the sample stage. Therefore, it is necessary to suppress the vibration of the apparatus caused by the movement of the sample stage. For example, in a length measurement SEM, the vibration is limited to vibrations on the order of nanometers or less.

従来、試料ステージの移動に伴う装置加振への対策が幾つか知られている。そのような技術のなかに、カウンタマスと称する移動体を設け、ステージにより発生する反力を、相殺し、装置の振動を抑制する技術がある。   Conventionally, several countermeasures against the apparatus vibration accompanying the movement of the sample stage are known. Among such techniques, there is a technique in which a moving body called a counter mass is provided to counteract reaction forces generated by a stage and suppress vibrations of the apparatus.

この技術では、ステージとカウンタマスの重心を一致させるようにして動作させることにより、ステージの移動に伴う反力を完全に相殺させる。   In this technique, the reaction force accompanying the movement of the stage is completely canceled by operating the stage and the countermass so that the center of gravity of the counter mass coincides.

特開2005−268268号公報JP 2005-268268 A 特開2006−303312号公報JP 2006-303131 A

特許文献1に示された技術では、カウンタマスをステージと同じ高さに配置する必要があり、カウンタマスをステージ近傍に設置することになる。即ち、カウンタマスを試料室内に配置する必要がある。しかしながら、従来のカウンタマス機構を試料室内のステージ近傍に設置するのは困難である。   In the technique disclosed in Patent Document 1, it is necessary to arrange the counter mass at the same height as the stage, and the counter mass is installed near the stage. That is, it is necessary to arrange the counter mass in the sample chamber. However, it is difficult to install the conventional counter mass mechanism near the stage in the sample chamber.

また、特許文献2に示された技術では、カウンタマスをステージの周囲を囲うように配置する。この場合、第一軸(X軸と称する)とそれに直交する第二軸(Y軸と称する)について、それぞれ2個のカウンタマスを必要とし、装置全体では4個のカウンタマスとそれを駆動するモータを備えなければならない。これは、装置構成が複雑になるとともに、装置質量が増加し、ステージ装置のコスト増大という問題につながる。   In the technique disclosed in Patent Document 2, the counter mass is arranged so as to surround the periphery of the stage. In this case, two counter masses are required for each of the first axis (referred to as the X axis) and the second axis (referred to as the Y axis) perpendicular thereto, and the entire apparatus drives four counter masses. Must have a motor. This complicates the apparatus configuration, increases the apparatus mass, and leads to the problem of increased cost of the stage apparatus.

本発明の目的は、構成を複雑化することなくステージの移動時の振動を抑制することが可能なステージ装置を提供することにある。   The objective of this invention is providing the stage apparatus which can suppress the vibration at the time of the movement of a stage, without complicating a structure.

本発明によるステージ装置は、ステージ機構とカウンタマス機構と制御装置とを有し、制御装置は、ステージ機構を制御するステージ制御ユニットとカウンタマス機構を制御するカウンタマス制御ユニットを有する。   The stage device according to the present invention includes a stage mechanism, a counter mass mechanism, and a control device, and the control device includes a stage control unit that controls the stage mechanism and a counter mass control unit that controls the counter mass mechanism.

本発明によるステージ装置では、カウンタマスの可動平面とステージの可動平面は、互いに平行であり、且つ、互いに隔てられて配置されている。   In the stage apparatus according to the present invention, the movable plane of the counter mass and the movable plane of the stage are parallel to each other and spaced apart from each other.

本発明によれば、構成を複雑化することなくステージの移動時の振動を抑制することが可能なステージ装置を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the stage apparatus which can suppress the vibration at the time of the movement of a stage can be provided, without complicating a structure.

本発明のステージ装置の例の全体構成を示す図である。It is a figure which shows the whole structure of the example of the stage apparatus of this invention. 本発明のステージ装置に設けられたカウンタマス機構の概略構成を示す図である。It is a figure which shows schematic structure of the counter mass mechanism provided in the stage apparatus of this invention. 本発明のステージ装置のカウンタマス機構の概略構成を示す図である。It is a figure which shows schematic structure of the counter mass mechanism of the stage apparatus of this invention. 本発明のステージ装置の制御装置の概略構成を示す図である。It is a figure which shows schematic structure of the control apparatus of the stage apparatus of this invention. 本発明のステージ装置において、ステージ移動時においてカウンタマスに入力する推力指令の時間応答波形の一例を示す図である。In the stage apparatus of this invention, it is a figure which shows an example of the time response waveform of the thrust command input into a counter mass at the time of stage movement. 本発明のステージ装置において、ステージ連続移動時におけるカウンタマス位置の時間応答波形の一例を示す図である。In the stage apparatus of this invention, it is a figure which shows an example of the time response waveform of the counter mass position at the time of a stage continuous movement.

以下、図面(図1〜図6)を参照しながら、本発明実施形態に係るステージ装置について詳細に説明する。   Hereinafter, a stage apparatus according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings (FIGS. 1 to 6).

図1は、本発明による測長機能を備えた走査型電子顕微鏡(以下、測長SEMと称す)に装着されたステージ装置の例を示す。ここで、図1の左右方向をX軸方向とし、紙面に垂直方向をY軸方向とし、図1の上下方向をZ軸方向とする。本例の測長SEMは、試料室11と、試料室11の上側の略中央に設けられた円筒形のカラム12を有する。カラム12には、電子線源、電子線光学系、及び、2次電子検出系が設けられている。測長SEMは、更に、制御装置4を有する。   FIG. 1 shows an example of a stage apparatus mounted on a scanning electron microscope (hereinafter referred to as a length measurement SEM) having a length measurement function according to the present invention. Here, the left-right direction in FIG. 1 is the X-axis direction, the direction perpendicular to the paper surface is the Y-axis direction, and the up-down direction in FIG. 1 is the Z-axis direction. The length measuring SEM of this example includes a sample chamber 11 and a cylindrical column 12 provided at a substantially center above the sample chamber 11. The column 12 is provided with an electron beam source, an electron beam optical system, and a secondary electron detection system. The length measuring SEM further includes a control device 4.

試料室11は、4つの防振部材14および支持脚13を介してベース10の上に設置されている。試料室11の内部にはステージ機構2が設けられている。ステージ機構2は、ステージベース21、ステージ22、案内機構23、及び、ステージ駆動機構24を有する。ステージ22はステージ駆動機構24によって駆動される。ステージ22は案内機構23によってX軸方向又はY軸方向に沿って移動する。ステージ駆動機構24は、リニアモータ等によって構成されてよい。ステージ22の位置は、ステージ位置検出ユニット(図示せず)によって計測され、制御装置4にフィードバックされる。ステージ位置検出ユニット(図示せず)は、レーザ干渉計やリニアスケール等によって構成されてよい。   The sample chamber 11 is installed on the base 10 via four vibration isolation members 14 and support legs 13. A stage mechanism 2 is provided inside the sample chamber 11. The stage mechanism 2 includes a stage base 21, a stage 22, a guide mechanism 23, and a stage drive mechanism 24. The stage 22 is driven by a stage drive mechanism 24. The stage 22 is moved along the X-axis direction or the Y-axis direction by the guide mechanism 23. The stage drive mechanism 24 may be configured by a linear motor or the like. The position of the stage 22 is measured by a stage position detection unit (not shown) and fed back to the control device 4. The stage position detection unit (not shown) may be configured by a laser interferometer, a linear scale, or the like.

試料室11の下面には、カウンタマス機構3が設けられている。カウンタマス機構3は、カウンタマスベース31、カウンタマス案内機構32、カウンタマス駆動機構33及びカウンタマス34を有する。カウンタマス機構3は、更に、カウンタマスの位置を検出するカウンタマス位置検出ユニット(図示なし)を有する。カウンタマス位置検出ユニットは、レーザ干渉計やリニアスケール等によって構成されてよい。試料室11の下面には、試料室11を真空排気するための真空排気ユニット(図示せず)が設けられる。カウンタマス機構3の詳細は、後に、図2及び図3を参照して説明する。   A counter mass mechanism 3 is provided on the lower surface of the sample chamber 11. The counter mass mechanism 3 includes a counter mass base 31, a counter mass guide mechanism 32, a counter mass drive mechanism 33, and a counter mass 34. The counter mass mechanism 3 further includes a counter mass position detection unit (not shown) that detects the position of the counter mass. The counter mass position detection unit may be configured by a laser interferometer, a linear scale, or the like. An evacuation unit (not shown) for evacuating the sample chamber 11 is provided on the lower surface of the sample chamber 11. Details of the counter mass mechanism 3 will be described later with reference to FIGS.

試料室11の下面には、試料室11の加速度を検出する加速度センサ35が装着されている。加速度センサ35は、XYZ軸の三軸の加速度を計測可能なものであることが望ましい。この場合、加速度の入力軸のうちのいずれか二軸をステージのX軸方向およびY軸方向に一致させるように加速度センサ35を配置することが望ましい。なお、本例では加速度センサ35を、試料室11の下面に装着しているが、試料室11の側面、上面、又は、試料室の内部等、試料室の振動を検出可能な任意の位置に設置してよい。また本例では、1個の加速度センサを用いているが、2個もしくはそれ以上の加速度センサを使用することも有効である。   An acceleration sensor 35 for detecting the acceleration of the sample chamber 11 is attached to the lower surface of the sample chamber 11. The acceleration sensor 35 is preferably capable of measuring three-axis acceleration of the XYZ axes. In this case, it is desirable to arrange the acceleration sensor 35 so that any two axes of the input axes of acceleration coincide with the X-axis direction and the Y-axis direction of the stage. In this example, the acceleration sensor 35 is mounted on the lower surface of the sample chamber 11. However, the acceleration sensor 35 is located at any position where vibration of the sample chamber can be detected, such as the side surface, upper surface of the sample chamber 11, or the inside of the sample chamber. May be installed. In this example, one acceleration sensor is used, but it is also effective to use two or more acceleration sensors.

更に、加速度センサ35は、ステージ機構2に設けてもよい。即ち、加速度センサ35は、ステージ22に装着するのでなければ、ステージ機構2の任意の位置に設けることができる。この場合、加速度センサ35はステージ機構2の加速度を検出するが、ステージ機構2の加速度と試料室の加速度は実質的に同一である。   Further, the acceleration sensor 35 may be provided in the stage mechanism 2. That is, the acceleration sensor 35 can be provided at any position of the stage mechanism 2 unless it is mounted on the stage 22. In this case, the acceleration sensor 35 detects the acceleration of the stage mechanism 2, but the acceleration of the stage mechanism 2 and the acceleration of the sample chamber are substantially the same.

制御装置4は、位置決め制御ユニット41、ステージ制御ユニット42、カウンタマス制御ユニット44、及び、ステージ駆動アンプ43、45を有する。位置決め制御ユニット41は、ステージ22を移動させるための目標位置指令をステージ制御ユニット42に出力する。ステージ制御ユニット42は、ステージ位置検出ユニット(図示せず)からフィードバックされたステージ22の位置情報と目標位置指令によりステージ22を駆動するための推力指令を算出する。この推力指令は、ステージ駆動アンプ43を介して、ステージ駆動機構24に供給され、ステージ22を駆動する。ステージ制御ユニット42によって算出された推力指令は、カウンタマス制御ユニット44にも出力される。カウンタマス制御ユニット44は、カウンタマス位置検出ユニット(図示せず)からフィードバックされたカウンタマス34の位置情報と、ステージ制御ユニット42から入力されたステージの推力指令と、加速度センサ35により計測された試料室11の加速度情報を用いてカウンタマス34を駆動するための推力指令を算出する。この推力は、カウンタマス駆動アンプ45を介してカウンタマス駆動機構33に供給され、カウンタマス34を駆動する。   The control device 4 includes a positioning control unit 41, a stage control unit 42, a counter mass control unit 44, and stage drive amplifiers 43 and 45. The positioning control unit 41 outputs a target position command for moving the stage 22 to the stage control unit 42. The stage control unit 42 calculates a thrust command for driving the stage 22 based on the position information of the stage 22 and a target position command fed back from a stage position detection unit (not shown). This thrust command is supplied to the stage drive mechanism 24 via the stage drive amplifier 43 to drive the stage 22. The thrust command calculated by the stage control unit 42 is also output to the counter mass control unit 44. The counter mass control unit 44 is measured by the position information of the counter mass 34 fed back from the counter mass position detection unit (not shown), the stage thrust command input from the stage control unit 42, and the acceleration sensor 35. A thrust command for driving the counter mass 34 is calculated using the acceleration information of the sample chamber 11. This thrust is supplied to the counter mass drive mechanism 33 via the counter mass drive amplifier 45 to drive the counter mass 34.

なお、図1では簡単のために、ステージ機構2及びカウンタマス機構3をX軸方向に沿って駆動する場合を説明したが、Y軸方向に沿って駆動する場合も同様である。   For the sake of simplicity, FIG. 1 illustrates the case where the stage mechanism 2 and the counter mass mechanism 3 are driven along the X-axis direction, but the same applies to the case where they are driven along the Y-axis direction.

本例のカウンタマス機構3による振動防止機構の概略を説明する。図示のように、ステージ22とカウンタマス34は、共に、XY平面に沿って移動する。即ち、ステージ22の可動面とカウンタマス34の可動面は、平行であり、且つ、Z軸方向に沿って、互いに離れて配置されている。ステージ22が加速又は減速するとき、図示のように加速又は減速に起因した力F1が作用する。この力F1は、XY平面に沿って作用する。この力F1に対する反力がステージ機構2を介して試料室11に作用する。この反力によって、試料室11は振動する。試料室11の振動は、基本的には、XY平面に沿った1次元又は2次元の直線振動である。しかしながら、試料室11を剛体と見なすと、試料室11は、防振部材14又は支持脚13を通る回転軸線回りに、遥動運動又は回転振動R1する。   The outline of the vibration preventing mechanism by the counter mass mechanism 3 of this example will be described. As illustrated, the stage 22 and the counter mass 34 both move along the XY plane. In other words, the movable surface of the stage 22 and the movable surface of the counter mass 34 are parallel to each other and are arranged apart from each other along the Z-axis direction. When the stage 22 accelerates or decelerates, a force F1 resulting from acceleration or deceleration acts as illustrated. This force F1 acts along the XY plane. A reaction force against the force F1 acts on the sample chamber 11 via the stage mechanism 2. Due to this reaction force, the sample chamber 11 vibrates. The vibration of the sample chamber 11 is basically one-dimensional or two-dimensional linear vibration along the XY plane. However, when the sample chamber 11 is regarded as a rigid body, the sample chamber 11 swings or oscillates R <b> 1 around the rotation axis passing through the vibration isolation member 14 or the support leg 13.

本例では、カウンタマス34に推力F2が発生するように、カウンタマス34を駆動する。この推力F2に対する反力によって、試料室11の振動は相殺される。   In this example, the counter mass 34 is driven so that the thrust F 2 is generated in the counter mass 34. The vibration of the sample chamber 11 is canceled by the reaction force against the thrust F2.

ステージ22に印加される力F1とカウンタマス34の推力F2は、同一の大きさを有するが、互いに反対方向に作用する。ステージ22に印加される力F1とカウンタマス34の推力F2は偶力を生成する。この偶力によって、試料室11の1次元又は2次元の直線振動が相殺されるばかりでなく、試料室11の遥動運動又は回転振動が抑制される。こうして本発明によると、試料室11の直線振動及び遥動運動又は回転振動を、ステージ22とカウンタマス34に作用する偶力によって置き換える。   The force F1 applied to the stage 22 and the thrust F2 of the counter mass 34 have the same magnitude but act in opposite directions. The force F1 applied to the stage 22 and the thrust F2 of the counter mass 34 generate a couple. By this couple, not only the one-dimensional or two-dimensional linear vibration of the sample chamber 11 is canceled, but also the swinging motion or the rotational vibration of the sample chamber 11 is suppressed. Thus, according to the present invention, the linear vibration and the swinging motion or the rotational vibration of the sample chamber 11 are replaced by the couple acting on the stage 22 and the counter mass 34.

ステージ22とカウンタマス34が共に原点にあるとき、カウンタマス34は、ステージ22の鉛直方向下方に配置させることができる。このとき、カウンタマス34の重心を、ステージ22の重心を通る鉛直線上に配置させることができる。これについては、後に詳細に説明する。   When the stage 22 and the counter mass 34 are both at the origin, the counter mass 34 can be disposed vertically below the stage 22. At this time, the center of gravity of the counter mass 34 can be arranged on a vertical line passing through the center of gravity of the stage 22. This will be described in detail later.

図2は、試料室11の下側の構造を示す。図2は、試料室11を斜め下から見た斜視図である。図2では、説明のため、ベース10は図示していない。図2に示すように、試料室11は、4つの防振部材14および支持脚13を介してベース10(図示なし)の上に設置されている。試料室11の上にはカラム12が設けられ、試料室11の下面には、カウンタマス機構3と真空排気ユニット6が設けられている。真空排気ユニット6は、試料室11の下面の中央付近に取り付けられる。本発明によると、カウンタマス機構3は、略L字形を有する。そのため、真空排気ユニット6の設置を妨害しないで、カウンタマス機構3を、試料室11の下面に配置することができる。即ち、真空排気ユニット6が試料室11の下面の中央付近に設置されていても、試料室11の下面に、カウンタマス機構3を設けることができる。   FIG. 2 shows the lower structure of the sample chamber 11. FIG. 2 is a perspective view of the sample chamber 11 as viewed obliquely from below. In FIG. 2, the base 10 is not shown for explanation. As shown in FIG. 2, the sample chamber 11 is installed on a base 10 (not shown) via four vibration isolation members 14 and support legs 13. A column 12 is provided on the sample chamber 11, and a counter mass mechanism 3 and a vacuum exhaust unit 6 are provided on the lower surface of the sample chamber 11. The vacuum exhaust unit 6 is attached near the center of the lower surface of the sample chamber 11. According to the present invention, the counter mass mechanism 3 has a substantially L shape. Therefore, the counter mass mechanism 3 can be disposed on the lower surface of the sample chamber 11 without disturbing the installation of the vacuum exhaust unit 6. That is, even if the vacuum exhaust unit 6 is installed near the center of the lower surface of the sample chamber 11, the counter mass mechanism 3 can be provided on the lower surface of the sample chamber 11.

ここでは、カウンタマス機構3を、試料室11の下面に配置する例を示したが、カウンタマス機構3は、試料室11の上面に設置してもよい。試料室11の上にはカラム12が設けられている。しかしながら、カウンタマス機構3は、略L字形を有する。そのため、カウンタマス機構3を、試料室11の上面に設けることができる。更に、カウンタマス機構3を試料室11の内部に設けてもよい。   Here, an example in which the counter mass mechanism 3 is arranged on the lower surface of the sample chamber 11 has been shown, but the counter mass mechanism 3 may be installed on the upper surface of the sample chamber 11. A column 12 is provided on the sample chamber 11. However, the counter mass mechanism 3 has a substantially L shape. Therefore, the counter mass mechanism 3 can be provided on the upper surface of the sample chamber 11. Further, the counter mass mechanism 3 may be provided inside the sample chamber 11.

図3を参照して、カウンタマス機構3の詳細を説明する。図3は、試料室11の下面に設けられたカウンタマス機構3を斜め下から見た斜視図である。図3では、説明のため、試料室11の下面は図示していない。図示のように、試料室11の下面に沿ってX軸及びY軸をとり、垂直上方にZ軸をとる。   The details of the counter mass mechanism 3 will be described with reference to FIG. FIG. 3 is a perspective view of the counter mass mechanism 3 provided on the lower surface of the sample chamber 11 as viewed obliquely from below. In FIG. 3, the lower surface of the sample chamber 11 is not shown for the sake of explanation. As shown, the X axis and the Y axis are taken along the lower surface of the sample chamber 11, and the Z axis is taken vertically upward.

カウンタマス機構3は、試料室11の下面に固定された、カウンタマスベース311x、311y(図1では31)と、カウンタマスベース311x、311yの下面に装着されたカウンタマス案内機構32x、32y(図1では32)と、その下に装着されたカウンタマス駆動機構33x、33y(図1では33)と、更に、その下に装着されたカウンタマス341X、341Y、342(図1では34)を有する。   The counter mass mechanism 3 includes a counter mass base 311x, 311y (31 in FIG. 1) fixed to the lower surface of the sample chamber 11, and counter mass guide mechanisms 32x, 32y (mounted on the lower surface of the counter mass base 311x, 311y). 32), counter mass drive mechanisms 33x and 33y (33 in FIG. 1) mounted below them, and counter masses 341X, 341Y and 342 (34 in FIG. 1) mounted below them. Have.

カウンタマスベース(図1では31)は略L字形の板材によって形成され、X軸方向に沿って延びるXベース311xとY軸方向に沿って延びるYベース311yを有する。   The counter mass base (31 in FIG. 1) is formed of a substantially L-shaped plate material, and has an X base 311x extending along the X-axis direction and a Y base 311y extending along the Y-axis direction.

カウンタマス案内機構(図1では32)は、X案内機構32xとY案内機構32yを有する。X案内機構32xは、Yベース311yに固定された1対の平行なXレール321xと、Xサブテーブル322xとを有する。Y案内機構32yは、Xベース311xに固定された1対の平行なYレール321yと、Yサブテーブル322yとを有する。Xサブテーブル322xは、X軸方向に沿って延びるXレール321xによって拘束され、X軸方向に沿ってのみ可動である。Yサブテーブル322yは、Y軸方向に沿って延びるYレール321yによって拘束され、Y軸方向に沿ってのみ可動である。   The counter mass guide mechanism (32 in FIG. 1) includes an X guide mechanism 32x and a Y guide mechanism 32y. The X guide mechanism 32x has a pair of parallel X rails 321x fixed to the Y base 311y, and an X sub-table 322x. The Y guide mechanism 32y has a pair of parallel Y rails 321y fixed to the X base 311x, and a Y subtable 322y. The X sub-table 322x is restrained by an X rail 321x extending along the X-axis direction, and is movable only along the X-axis direction. The Y sub-table 322y is restrained by a Y rail 321y that extends along the Y-axis direction, and is movable only along the Y-axis direction.

カウンタマス駆動機構(図1では33)は、X駆動機構33xとY駆動機構33yを有する。X駆動機構33xは、Yサブテーブル322yに装着されたX軸モータ可動子332xとX軸モータ固定子331xを有する。Y駆動機構33yは、Xサブテーブル322xに装着されたY軸モータ可動子332yとY軸モータ固定子331yを有する。   The counter mass drive mechanism (33 in FIG. 1) includes an X drive mechanism 33x and a Y drive mechanism 33y. The X drive mechanism 33x has an X-axis motor movable element 332x and an X-axis motor stator 331x mounted on the Y sub-table 322y. The Y drive mechanism 33y includes a Y-axis motor movable element 332y and a Y-axis motor stator 331y mounted on the X sub-table 322x.

カウンタマス(図1では34)は、Xカウンタマス部材341x、Yカウンタマス部材341y、及び、連結部材342を有する。Xカウンタマス部材341xと連結部材342は、X軸モータ固定子331xを介して接続されている。Yカウンタマス部材341yと連結部材342は、Y軸モータ固定子331yを介して接続されている。X軸モータ固定子331x及びY軸モータ固定子331yは、カウンタマス補助部材として機能し、カウンタマスの構成要素である。本例のカウンタマスは、カウンタマスベース31と同様に、略L字形に形成されている。   The counter mass (34 in FIG. 1) includes an X counter mass member 341x, a Y counter mass member 341y, and a connecting member 342. The X counter mass member 341x and the connecting member 342 are connected via an X-axis motor stator 331x. The Y counter mass member 341y and the connecting member 342 are connected via a Y-axis motor stator 331y. The X-axis motor stator 331x and the Y-axis motor stator 331y function as a counter mass auxiliary member and are constituent elements of the counter mass. Like the counter mass base 31, the counter mass of this example is formed in a substantially L shape.

X駆動機構33x及びY駆動機構33yは、例えばリニアモータによって構成されてよい。リニアモータは、基本的にはマグネットとコイルからなり、両者間の磁気的な吸引力により駆動力を発生する。通常のリニアモータでは、固定子の質量は可動子の質量より大きい。そこで、本例では、モータ固定子331x、331yをカウンタマス補助体として利用する。一方、モータ可動子332x、332yを、サブテーブル322x、322yに装着した。   The X drive mechanism 33x and the Y drive mechanism 33y may be configured by, for example, a linear motor. The linear motor basically includes a magnet and a coil, and generates a driving force by a magnetic attraction between them. In a normal linear motor, the mass of the stator is larger than the mass of the mover. Therefore, in this example, the motor stators 331x and 331y are used as counter mass auxiliary bodies. On the other hand, the motor movable elements 332x and 332y were mounted on the sub-tables 322x and 322y.

こうして本例では、比較的質量が大きいモータ固定子331x、331yを、カウンタマス補助部材として利用する。それによって、カウンタマス部材341X、341Y、及び、連結部材342の質量を低減させることができる。例えば、モータ固定子331x、331yを、鋳鉄等の比較的質量が大きい鉄材によって形成してよい。なお、モータ固定子331x、331yをサブテーブル322x、322yに装着し、モータ可動子332x、332yをカウンタマス補助部材として使用してもよい。   Thus, in this example, motor stators 331x and 331y having a relatively large mass are used as counter mass auxiliary members. Accordingly, the masses of the counter mass members 341X and 341Y and the connecting member 342 can be reduced. For example, the motor stators 331x and 331y may be formed of an iron material having a relatively large mass such as cast iron. The motor stators 331x and 331y may be mounted on the sub tables 322x and 322y, and the motor movable elements 332x and 332y may be used as counter mass auxiliary members.

カウンタマス341X、341Y、342、331x、331yをX軸方向に沿って移動させる場合には、X駆動機構33x(331xと332x)を駆動させる。それによって、X軸モータ可動子332xが、X軸モータ固定子331xに対して相対的にX方向に移動するように、X方向の推力Fxが発生する。推力Fxは、カウンタマスをX軸方向に移動させる。カウンタマスが、X軸方向に移動するとき、Y軸モータ可動子332y、及び、Xサブテーブル322xも、Xレール321xに沿ってX軸方向に移動する。   When the counter masses 341X, 341Y, 342, 331x, and 331y are moved along the X-axis direction, the X drive mechanism 33x (331x and 332x) is driven. Thereby, a thrust Fx in the X direction is generated so that the X-axis motor movable element 332x moves in the X direction relative to the X-axis motor stator 331x. The thrust Fx moves the counter mass in the X-axis direction. When the counter mass moves in the X-axis direction, the Y-axis motor movable element 332y and the X sub-table 322x also move in the X-axis direction along the X rail 321x.

カウンタマス341X、341Y、342、331x、331yをY軸方向に沿って移動させる場合には、Y駆動機構33y(331yと332y)を駆動させる。それによって、Y軸モータ可動子332yが、Y軸モータ固定子331yに対して相対的にY方向に移動するように、Y方向の推力Fyが発生する。推力Fyは、カウンタマスをY軸方向に移動させる。カウンタマスが、Y軸方向に移動するとき、X軸モータ可動子332x、及び、Yサブテーブル322yもYレール321yに沿ってY軸方向に移動する。   When the counter masses 341X, 341Y, 342, 331x, and 331y are moved along the Y-axis direction, the Y drive mechanism 33y (331y and 332y) is driven. Thereby, a thrust Fy in the Y direction is generated so that the Y axis motor movable element 332y moves in the Y direction relative to the Y axis motor stator 331y. The thrust Fy moves the counter mass in the Y-axis direction. When the counter mass moves in the Y axis direction, the X axis motor movable element 332x and the Y sub table 322y also move in the Y axis direction along the Y rail 321y.

本例によると、カウンタマス341X、341Y、342、331x、及び、331yはX軸方向及びY軸方向に移動可能であるから、X軸とY軸それぞれに対して別のカウンタマスを設置する場合に比べてカウンタマス機構の質量を軽減できる。   According to this example, the counter masses 341X, 341Y, 342, 331x, and 331y are movable in the X-axis direction and the Y-axis direction. The mass of the counter mass mechanism can be reduced compared to

次に、本例のカウンタマスの重心の位置を説明する。本例のカウンタマスは、カウンタマス部材341X、341Y、連結部材342、及び、カウンタマス補助部材として機能するX軸モータ固定子331x、及び、Y軸モータ固定子331yを有する。本例のカウンタマスは、これらの構成要素によって形成されたL字形の構造体からなる。従って、カウンタマスの構成要素の中心を結ぶと三角形が描かれる。カウンタマスの重心は、この三角形の内部にある。   Next, the position of the center of gravity of the counter mass of this example will be described. The counter mass of this example includes counter mass members 341X and 341Y, a connecting member 342, an X-axis motor stator 331x that functions as a counter mass auxiliary member, and a Y-axis motor stator 331y. The counter mass of this example is composed of an L-shaped structure formed by these components. Therefore, a triangle is drawn by connecting the centers of the components of the counter mass. The center of gravity of the counter mass is inside this triangle.

本例のカウンタマスでは、カウンタマス補助部材として機能するX軸モータ固定子331xとY軸モータ固定子331yの長さを変化させることによって、これらのカウンタマスの構成要素の間の相対的な位置が変化する。こうして、カウンタマスの構成要素の間の相対的な位置を変化させることによって、カウンタマスの重心の位置を所望の位置に選択することができる。   In the counter mass of this example, the relative positions between the components of the counter mass are changed by changing the lengths of the X-axis motor stator 331x and the Y-axis motor stator 331y that function as counter mass auxiliary members. Changes. Thus, by changing the relative positions between the components of the counter mass, the position of the center of gravity of the counter mass can be selected to a desired position.

更に、これらのカウンタマスの構成要素の質量を適当な値に選択することによって、カウンタマスの重心の位置を所望の位置に選択することができる。本例では、X軸モータ固定子331x、及び、Y軸モータ固定子331yを、鋳鉄などの鉄系材料によって構成する。そのため、X軸モータ固定子331x、及び、Y軸モータ固定子331yの質量を大きくすることができる。   Furthermore, the position of the center of gravity of the counter mass can be selected as a desired position by selecting the mass of the component of the counter mass to an appropriate value. In this example, the X-axis motor stator 331x and the Y-axis motor stator 331y are made of an iron-based material such as cast iron. Therefore, the masses of the X-axis motor stator 331x and the Y-axis motor stator 331y can be increased.

本例によると、ステージ22(図1参照)が原点にあり、カウンタマスが原点にあるとき、カウンタマスは、ステージ22の鉛直方向下方に配置させることができる。即ち、ステージ22の重心位置の鉛直方向下方に、カウンタマスの重心位置が存在するように、カウンタマスの重心の位置が選択される。即ち、ステージ22(図1参照)の重心位置を通る鉛直方向の軸線上にカウンタマスの重心位置が配置される。   According to this example, when the stage 22 (see FIG. 1) is at the origin and the counter mass is at the origin, the counter mass can be arranged below the stage 22 in the vertical direction. That is, the position of the center of gravity of the counter mass is selected so that the position of the center of gravity of the counter mass exists below the position of the center of gravity of the stage 22 in the vertical direction. That is, the position of the center of gravity of the counter mass is arranged on the vertical axis passing through the position of the center of gravity of the stage 22 (see FIG. 1).

図2を参照して説明したように、本例によると、カウンタマス機構3は、試料室11の下面及び下面のいずれに設けてもよい。試料室11の下面には、真空排気ユニット6が設けられ、試料室11の上面には、カラム12が設けられている。しかしながら、カウンタマス機構3はL字形に形成されている。そのため、真空排気ユニット6、又は、カラム12が存在しても、カウンタマスの重心位置を、ステージ22(図1参照)の重心位置の鉛直方向下方に配置することができる。更に、カウンタマス機構3は、試料室11の内部に設けてもよい。試料室11の内部にも様々な構成部品が存在する。しかしながら、カウンタマス機構3はL字形に形成されている。そのため、カウンタマスの重心位置を、ステージ22(図1参照)の重心位置の鉛直方向下方に配置することができる。   As described with reference to FIG. 2, according to this example, the counter mass mechanism 3 may be provided on either the lower surface or the lower surface of the sample chamber 11. A vacuum exhaust unit 6 is provided on the lower surface of the sample chamber 11, and a column 12 is provided on the upper surface of the sample chamber 11. However, the counter mass mechanism 3 is formed in an L shape. Therefore, even if the vacuum exhaust unit 6 or the column 12 is present, the barycentric position of the counter mass can be arranged vertically below the barycentric position of the stage 22 (see FIG. 1). Further, the counter mass mechanism 3 may be provided inside the sample chamber 11. Various components are also present inside the sample chamber 11. However, the counter mass mechanism 3 is formed in an L shape. Therefore, the barycentric position of the counter mass can be arranged vertically below the barycentric position of the stage 22 (see FIG. 1).

図4は、本発明のステージ装置の制御装置の例の概略構成を示す図である。制御装置4は、位置決め制御ユニット41、ステージ制御ユニット42、及び、カウンタマス制御ユニット44を有する。ステージ機構2は、ステージ22、ステージ駆動機構24、及び、ステージ位置検出ユニット25を有する。カウンタマス機構3は、カウンタマス34、カウンタマス駆動機構33及びカウンタマス位置検出ユニット36を有する。   FIG. 4 is a diagram showing a schematic configuration of an example of the control device of the stage apparatus of the present invention. The control device 4 includes a positioning control unit 41, a stage control unit 42, and a counter mass control unit 44. The stage mechanism 2 includes a stage 22, a stage drive mechanism 24, and a stage position detection unit 25. The counter mass mechanism 3 includes a counter mass 34, a counter mass drive mechanism 33, and a counter mass position detection unit 36.

位置決め制御ユニット41は、予め設定された駆動プロファイルに従って、予め設定された目標位置へステージ22を移動させるための目標位置指令を生成し、それをステージ制御ユニット42に出力する。   The positioning control unit 41 generates a target position command for moving the stage 22 to a preset target position according to a preset drive profile, and outputs it to the stage control unit 42.

ステージ制御ユニット42は、位置制御ユニット421、速度制御ユニット422、及び、微分器423を有する。位置制御ユニット421は、ステージ位置検出ユニット25からフィードバックされたステージ22の位置情報と、位置決め制御ユニット41から供給された目標位置指令を入力し、両者の差分である位置偏差を算出する。更に、この位置偏差からPID制御演算などにより速度指令を生成し、それを速度制御ユニット422に出力する。微分器423は、ステージ位置検出ユニット25からフィードバックされたステージ22の位置情報のサンプル時間ごとの差分からステージ22の現在速度を算出し、それを速度制御ユニット422に出力する。速度制御ユニット422は、ステージ22の速度指令と現在速度を入力し、両者の差分である速度偏差を算出する。更に、この速度偏差からPID制御演算などにより推力指令を生成し、それをステージ駆動アンプ43に出力する。ステージ駆動アンプ43は、推力指令よりステージ駆動命令を生成し、それをステージ駆動機構24に出力する。   The stage control unit 42 includes a position control unit 421, a speed control unit 422, and a differentiator 423. The position control unit 421 inputs the position information of the stage 22 fed back from the stage position detection unit 25 and the target position command supplied from the positioning control unit 41, and calculates a position deviation which is the difference between the two. Further, a speed command is generated from the position deviation by PID control calculation or the like, and is output to the speed control unit 422. The differentiator 423 calculates the current speed of the stage 22 from the difference for each sample time of the position information of the stage 22 fed back from the stage position detection unit 25 and outputs it to the speed control unit 422. The speed control unit 422 inputs the speed command of the stage 22 and the current speed, and calculates a speed deviation that is the difference between the two. Further, a thrust command is generated from the speed deviation by PID control calculation or the like, and is output to the stage drive amplifier 43. The stage drive amplifier 43 generates a stage drive command from the thrust command and outputs it to the stage drive mechanism 24.

カウンタマス制御ユニット44は、位置制御ユニット441、速度制御ユニット442、微分器443、加速度フィードバック演算ユニット444、及び、推力フィードフォワード係数器445、及び、加算器446を有する。加算器446には、3つの推力指令が供給される。加算器446は、入力された3つの推力指令の和を求め、それを最終的な推力指令としてカウンタマス駆動アンプ45に出力する。カウンタマス駆動アンプ45は、加算器446からの推力指令よりカウンタマス駆動命令を生成し、それをカウンタマス駆動機構33に出力する。   The counter mass control unit 44 includes a position control unit 441, a speed control unit 442, a differentiator 443, an acceleration feedback calculation unit 444, a thrust feedforward coefficient unit 445, and an adder 446. Three thrust commands are supplied to the adder 446. The adder 446 calculates the sum of the three input thrust commands and outputs the sum to the counter mass drive amplifier 45 as the final thrust command. The counter mass drive amplifier 45 generates a counter mass drive command from the thrust command from the adder 446 and outputs it to the counter mass drive mechanism 33.

加算器446に入力される3つの推力指令を説明する。先ず、推力フィードフォワード制御に用いる推力指令を説明する。ステージ制御ユニット42の速度制御ユニット422からカウンタマス制御ユニット44に、ステージ22に対する推力指令が供給される。推力フィードフォワード係数器445は、ステージ22に対する推力指令に、係数を乗ずることにより、カウンタマス34に対する推力指令が生成される。推力フィードフォワード係数器445によって乗ずる係数は、ステージ22の質量とカウンタマス34の質量の比によって決定する。こうして、ステージ22に対する推力指令に比例したカウンタマス34に対する推力指令が生成される。推力フィードフォワード制御では、ステージ22の移動に起因して生じるX軸方向およびY軸方向の試料室11の反力を相殺するように、カウンタマス34を駆動する。   Three thrust commands input to the adder 446 will be described. First, thrust commands used for thrust feedforward control will be described. A thrust command for the stage 22 is supplied from the speed control unit 422 of the stage control unit 42 to the counter mass control unit 44. The thrust feedforward coefficient unit 445 generates a thrust command for the counter mass 34 by multiplying the thrust command for the stage 22 by a coefficient. The coefficient multiplied by the thrust feedforward coefficient unit 445 is determined by the ratio of the mass of the stage 22 and the mass of the counter mass 34. Thus, a thrust command for the counter mass 34 proportional to the thrust command for the stage 22 is generated. In the thrust feedforward control, the counter mass 34 is driven so as to cancel the reaction force of the sample chamber 11 in the X-axis direction and the Y-axis direction caused by the movement of the stage 22.

次に、カウンタマス位置制御に用いる推力指令を説明する。位置制御ユニット441は、カウンタマス位置検出ユニット36からフィードバックされたカウンタマス34の位置情報からPID制御演算などによりカウンタマス34に対する速度指令を生成し、それを速度制御ユニット442に出力する。微分器443は、カウンタマス位置検出ユニット36からフィードバックされたカウンタマス34の位置のサンプル時間ごとの差分からカウンタマス34の現在速度を算出し、それを速度制御ユニット442に出力する。速度制御ユニット442は、カウンタマス34に対する速度指令と現在速度を入力し、両者の差分である速度偏差を算出する。更に、速度偏差からPID制御演算などにより、カウンタマス34に対する推力指令を生成する。こうして、カウンタマス位置制御では、カウンタマス34の位置が原点(ストローク中心)に収束するように、カウンタマス34を駆動する。それによって、カウンタマス34の可動範囲(ストローク)は大幅に低減することができる。カウンタマス34の位置フィードバック制御の例は、図6に示す。   Next, thrust commands used for counter mass position control will be described. The position control unit 441 generates a speed command for the counter mass 34 by PID control calculation or the like from the position information of the counter mass 34 fed back from the counter mass position detection unit 36, and outputs it to the speed control unit 442. The differentiator 443 calculates the current speed of the counter mass 34 from the difference for each sample time of the position of the counter mass 34 fed back from the counter mass position detection unit 36, and outputs it to the speed control unit 442. The speed control unit 442 inputs a speed command for the counter mass 34 and a current speed, and calculates a speed deviation that is a difference between the two. Further, a thrust command for the counter mass 34 is generated from the speed deviation by PID control calculation or the like. Thus, in the counter mass position control, the counter mass 34 is driven so that the position of the counter mass 34 converges to the origin (stroke center). Thereby, the movable range (stroke) of the counter mass 34 can be greatly reduced. An example of position feedback control of the counter mass 34 is shown in FIG.

加速度フィードバック制御に用いる推力命令を説明する。加速度フィードバック演算ユニット444は、加速度センサ35からフィードバックされた試料室11の加速度より、試料室11の振動を抑制するような推力指令を生成する。加速度フィードバック演算ユニット444は、フィードバックした加速度に単純に係数を乗じて推力指令を生成してもよいが、加速度から試料室11の運動状態(並進・回転の変位・速度)を推定し、それを打ち消す推力指令を算出してもよい。こうして加速度フィードバック制御では、推力フィードフォワード制御で相殺できないX軸およびY軸方向の回転軸線まわりの試料室11の回転振動を抑制するようにカウンタマス34を駆動する。   A thrust command used for acceleration feedback control will be described. The acceleration feedback calculation unit 444 generates a thrust command that suppresses the vibration of the sample chamber 11 from the acceleration of the sample chamber 11 fed back from the acceleration sensor 35. The acceleration feedback calculation unit 444 may generate a thrust command by simply multiplying the fed back acceleration by a coefficient, but estimates the motion state (translation / rotation displacement / velocity) of the sample chamber 11 from the acceleration, and calculates it. A thrust command to be canceled may be calculated. Thus, in the acceleration feedback control, the counter mass 34 is driven so as to suppress the rotational vibration of the sample chamber 11 around the rotation axis in the X-axis and Y-axis directions that cannot be canceled by the thrust feedforward control.

加算器446には、推力フィードフォワード制御に用いる推力指令が負入力され、カウンタマス位置制御に用いる推力指令が負入力され、加速度フィードバック制御に用いる推力命令が正入力される。本例では、上述した3つの推力指令の和を最終的な推力指令としてカウンタマス34の制御を行ったが、必ずしも3つ全ての制御を適用する必要はなく、2つ以下の制御方法を適用してカウンタマス34の制御を行う構成としてもよい。   The adder 446 receives a negative input of a thrust command used for thrust feedforward control, a negative input of a thrust command used for counter mass position control, and a positive input of a thrust command used for acceleration feedback control. In this example, the counter mass 34 is controlled using the sum of the above three thrust commands as a final thrust command, but it is not always necessary to apply all three controls, and two or less control methods are applied. The counter mass 34 may be controlled.

図5は、本発明のステージ装置において、ステージの移動時においてカウンタマスに供給する推力指令の時間応答波形の一例を示す図である。図5の横軸は時間、縦軸は推力指令である。点線のグラフ701は、推力フィードフォワード制御のみを適用した場合の推力指令の時間変化を表し、実線のグラフ702は、推力フィードフォワード制御、加速度フィードバック制御及びカウンタマス位置制御の3つの制御を適用した場合の推力指令の時間変化を表す。期間Aは、カウンタマス34が移動している期間、期間Bは、カウンタマス34が停止している期間を表す。即ち、停止期間Bの後に移動期間Aとなり、次に、停止期間Bとなる。カウンタマス34の移動期間Aは、更に、加速期間a、定速期間b、減速期間cからなる。   FIG. 5 is a diagram showing an example of a time response waveform of a thrust command supplied to the counter mass when the stage is moved in the stage apparatus of the present invention. The horizontal axis in FIG. 5 is time, and the vertical axis is thrust command. A dotted line graph 701 represents a time change of the thrust command when only the thrust feedforward control is applied, and a solid line graph 702 is applied with three controls of thrust feedforward control, acceleration feedback control, and counter mass position control. This represents the time change of the thrust command. A period A represents a period during which the counter mass 34 is moving, and a period B represents a period during which the counter mass 34 is stopped. That is, after the stop period B, the movement period A is reached, and then the stop period B is set. The movement period A of the counter mass 34 further includes an acceleration period a, a constant speed period b, and a deceleration period c.

点線のグラフ701に示すように、推力フィードフォワード制御のみを適用した場合には、加速期間a及び減速期間cでは、一定の大きさFの推力指令を生成させるが、停止期間B及び定速期間bでは、推力指令はゼロである。加速期間aの推力指令と減速期間cの推力指令は、互いに反対方向である。カウンタマス34によって生成される推力によって、ステージの移動に起因した試料室11のX軸方向およびY軸方向の反力を相殺できる。   As shown by a dotted line graph 701, when only the thrust feedforward control is applied, a thrust command having a constant magnitude F is generated in the acceleration period a and the deceleration period c, but the stop period B and the constant speed period are generated. In b, the thrust command is zero. The thrust command for the acceleration period a and the thrust command for the deceleration period c are in opposite directions. The thrust generated by the counter mass 34 can cancel reaction forces in the X-axis direction and the Y-axis direction of the sample chamber 11 due to the movement of the stage.

実線702のグラフに示すように、3つの制御を適用した場合には、加速期間a及び減速期間cでは、推力指令が発生しているが、この推力指令は、時間と共に僅かであるが減少している。一方、加速期間aの直後の定速期間bでは、加速期間aに印加された推力指令Fと反対方向の小さな推力が生成される。同様に、減速期間cの直後の停止期間Bでは、減速期間cに印加された推力指令Fと反対方向の小さな推力が生成される。これらの反対方向の推力は、変動しながら、時間の経過とともに零に収束する。これは、加速度フィードバック制御とカウンタマス位置制御によるものである。   As shown in the graph of the solid line 702, when three controls are applied, a thrust command is generated in the acceleration period a and the deceleration period c, but this thrust command decreases slightly with time. ing. On the other hand, in the constant speed period b immediately after the acceleration period a, a small thrust in the direction opposite to the thrust command F applied in the acceleration period a is generated. Similarly, in the stop period B immediately after the deceleration period c, a small thrust in the direction opposite to the thrust command F applied in the deceleration period c is generated. These thrusts in the opposite directions converge to zero over time while fluctuating. This is due to acceleration feedback control and counter mass position control.

図6は、本発明によるステージ装置において、ステージを連続的に移動させた場合のカウンタマスの位置の時間応答波形の一例を示す図である。図6の横軸は時間、縦軸はカウンタマスの位置である。図6は、ステージ22を原点から一定の移動量Lで正方向に3回、負方向に3回連続して動作させた場合のカウンタマス位置の応答を示す。点線のグラフ801は、推力フィードフォワード制御のみを適用して推力指令を生成した場合のカウンタマスの位置、実線のグラフ802は、推力フィードフォワード制御、加速度フィードバック制御及びカウンタマス位置制御の3つの制御を適用して推力指令を生成した場合のカウンタマスの位置を表す。期間Aは、カウンタマス34が移動している期間、期間Bは、カウンタマス34が停止している期間を表す。即ち移動期間Aと停止期間Bが交互に変化している。移動期間Aと停止期間Bは、図5の移動期間Aと停止期間Bに対応する。カウンタマス34の移動期間Aは、加速期間a、定速期間b、減速期間cからなる。   FIG. 6 is a diagram showing an example of a time response waveform of the position of the counter mass when the stage is continuously moved in the stage apparatus according to the present invention. The horizontal axis of FIG. 6 is time, and the vertical axis is the position of the counter mass. FIG. 6 shows the response of the counter mass position when the stage 22 is continuously operated three times in the positive direction and three times in the negative direction with a constant movement amount L from the origin. A dotted line graph 801 indicates the position of the counter mass when a thrust command is generated by applying only the thrust feed forward control, and a solid line graph 802 indicates three controls: thrust feed forward control, acceleration feedback control, and counter mass position control. Represents the position of the counter mass when the thrust command is generated by applying. A period A represents a period during which the counter mass 34 is moving, and a period B represents a period during which the counter mass 34 is stopped. That is, the movement period A and the stop period B are alternately changed. The movement period A and the stop period B correspond to the movement period A and the stop period B in FIG. The movement period A of the counter mass 34 includes an acceleration period a, a constant speed period b, and a deceleration period c.

点線のグラフ801に示すように、推力フィードフォワード制御のみを適用した場合には、推力指令を生成するたびに、カウンタマス34の位置が距離Lだけ変化している。距離Lは、推力フィードフォワード係数445により決まる。カウンタマス34の質量がステージ22の質量に対して小さければ、カウンタマス34の移動距離Lは大きくなり、逆に、カウンタマス34の質量がステージ22の質量に対して大きければ、カウンタマス34の移動距離Lは小さくなる。カウンタマス34の移動距離Lが大きくなると、カウンタマス34の可動範囲(ストローク)を大きくする必要がある。   As shown by the dotted line graph 801, when only the thrust feedforward control is applied, the position of the counter mass 34 changes by the distance L every time a thrust command is generated. The distance L is determined by the thrust feedforward coefficient 445. If the mass of the counter mass 34 is smaller than the mass of the stage 22, the moving distance L of the counter mass 34 becomes larger. Conversely, if the mass of the counter mass 34 is larger than the mass of the stage 22, The moving distance L becomes smaller. When the moving distance L of the counter mass 34 increases, the movable range (stroke) of the counter mass 34 needs to be increased.

一方、実線のグラフ802に示すように、推力フィードフォワード制御、加速度フィードバック制御及びカウンタマス位置制御の3つの制御を適用した場合には、カウンタマス34の位置は最初の位置、即ち、原点の近傍に収まっている。従って、カウンタマス34の可動範囲は小さい。この場合には、カウンタマス機構の質量増加を抑制するとともに、カウンタマス機構の寸法を小さくすることができる。そのため、カウンタマス機構の設置の自由度を高めることができる。   On the other hand, as shown by a solid line graph 802, when three controls of thrust feedforward control, acceleration feedback control, and counter mass position control are applied, the position of the counter mass 34 is the initial position, that is, near the origin. Is in the range. Therefore, the movable range of the counter mass 34 is small. In this case, an increase in the mass of the counter mass mechanism can be suppressed, and the size of the counter mass mechanism can be reduced. Therefore, the degree of freedom of installation of the counter mass mechanism can be increased.

本例では、カウンタマス34の位置制御は常に原点を目標位置としたが、ステージ22の次回移動時の移動量および移動方向が予め決まっている場合には、カウンタマス制御ユニット44の位置制御ユニット441は次回移動時に備えて特定の方向にストロークを確保できる位置に位置制御を行ってもよい。上述のように、本発明では、ステージ22(図1参照)が原点にあり、カウンタマスが原点にあるとき、カウンタマスは、ステージ22の鉛直方向下方にある。従って、ステージ22が移動しても、常に、カウンタマスをステージ22の鉛直方向下方に配置させることができる。   In this example, the position control of the counter mass 34 is always set to the target position, but if the movement amount and the movement direction of the stage 22 at the next movement are determined in advance, the position control unit of the counter mass control unit 44 is determined. Position control 441 may be performed at a position where a stroke can be secured in a specific direction in preparation for the next movement. As described above, in the present invention, when the stage 22 (see FIG. 1) is at the origin and the counter mass is at the origin, the counter mass is below the stage 22 in the vertical direction. Therefore, even if the stage 22 moves, the counter mass can always be arranged below the stage 22 in the vertical direction.

以上のように本発明のステージ装置では、カウンタマス機構の複雑化と、カウンタマス機構の質量の増加を抑えながら、カウンタマス機構の配置の自由度を向上させることができる、と共に、振動抑制効果の両立が可能となる。   As described above, the stage apparatus of the present invention can improve the degree of freedom of arrangement of the counter mass mechanism while suppressing the complexity of the counter mass mechanism and the increase in the mass of the counter mass mechanism, as well as the vibration suppressing effect. Can be achieved.

以上本発明の例を説明したが本発明は上述の例に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載された発明の範囲にて様々な変更が可能であることは、当業者によって容易に理解されよう。   Although the examples of the present invention have been described above, the present invention is not limited to the above-described examples, and it is easy for those skilled in the art to make various modifications within the scope of the invention described in the claims. Will be understood.

2…ステージ機構、3…カウンタマス機構、4…制御装置、6…真空排気ユニット、10…ベース、11…試料室、12…カラム、13…支持脚、14…防振部材、21…ステージベース、22…ステージ、23…ステージ案内機構、24…ステージ駆動機構、32…カウンタマス案内機構、33…カウンタマス駆動機構、34…カウンタマス、35…加速度センサ、41…位置決め制御ユニット、42…ステージ制御ユニット、43…ステージ駆動アンプ、44…カウンタマス制御ユニット、45…カウンタマス駆動アンプ DESCRIPTION OF SYMBOLS 2 ... Stage mechanism, 3 ... Counter mass mechanism, 4 ... Control apparatus, 6 ... Vacuum exhaust unit, 10 ... Base, 11 ... Sample chamber, 12 ... Column, 13 ... Support leg, 14 ... Anti-vibration member, 21 ... Stage base , 22 ... stage, 23 ... stage guide mechanism, 24 ... stage drive mechanism, 32 ... counter mass guide mechanism, 33 ... counter mass drive mechanism, 34 ... counter mass, 35 ... acceleration sensor, 41 ... positioning control unit, 42 ... stage Control unit 43... Stage drive amplifier 44. Counter mass control unit 45. Counter mass drive amplifier

Claims (20)

少なくとも1軸方向に沿って移動可能なステージと前記ステージを駆動するステージ駆動機構と前記ステージの位置を検出するステージ位置検出ユニットとを含むステージ機構と、少なくとも1軸方向に沿って移動可能なカウンタマスと前記カウンタマスを駆動するカウンタマス駆動機構と前記カウンタマスの位置を検出するカウンタマス位置検出ユニットとを含むカウンタマス機構と、前記ステージ機構を制御するステージ制御ユニットと前記カウンタマス機構を制御するカウンタマス制御ユニットを有する制御装置と、を有し、
前記カウンタマスは、L字形の構造体であり、前記カウンタマスの可動平面と前記ステージの可動平面は互いに平行であり、且つ、互いに隔てられて配置されていることを特徴とするステージ装置。
A stage mechanism including a stage movable along at least one axial direction, a stage drive mechanism that drives the stage, and a stage position detection unit that detects the position of the stage, and a counter movable along at least one axial direction A counter mass mechanism including a mass, a counter mass drive mechanism that drives the counter mass, and a counter mass position detection unit that detects the position of the counter mass; a stage control unit that controls the stage mechanism; and a control of the counter mass mechanism A control device having a counter mass control unit to
The counter mass is an L-shaped structure, and the movable plane of the counter mass and the movable plane of the stage are parallel to each other and are spaced apart from each other.
請求項1記載のステージ装置において、
前記カウンタマスは、第1のカウンタマス部材と、第2のカウンタマス部材と、連結部材と、前記第1のカウンタマス部材と前記連結部材を接続する第1のカウンタマス補助部材と、前記第2のカウンタマス部材と前記連結部材を接続する第2のカウンタマス補助部材と、を含み、前記第1のカウンタマス部材と前記第1のカウンタマス補助部材と前記連結部材は一方の軸方向に沿って配置され、前記第2のカウンタマス部材と前記第2のカウンタマス補助部材と前記連結部材は他方の軸方向に沿って配置され、それによって、L字形に構成されていることを特徴とするステージ装置。
The stage apparatus according to claim 1, wherein
The counter mass includes a first counter mass member, a second counter mass member, a connecting member, a first counter mass auxiliary member connecting the first counter mass member and the connecting member, and the first counter mass member. 2 counter mass members and a second counter mass auxiliary member connecting the connecting member, wherein the first counter mass member, the first counter mass auxiliary member and the connecting member are in one axial direction. The second counter mass member, the second counter mass auxiliary member, and the connecting member are arranged along the other axial direction, thereby being configured in an L shape. Stage device.
請求項2記載のステージ装置において、
前記第1及び第2のカウンタマス補助部材は、前第1及び第2のカウンタマス部材の材料に比べて比重の大きな材料によって形成されていることを特徴とする請求項3記載のステージ装置。
The stage apparatus according to claim 2, wherein
4. The stage apparatus according to claim 3, wherein the first and second counter mass auxiliary members are made of a material having a larger specific gravity than materials of the front first and second counter mass members.
請求項1記載のステージ装置において、
前記カウンタマス駆動機構は、固定子と可動子を有するリニアモータによって構成され、該固定子と可動子のうち質量が大きいほうを前記カウンタマスの構成要素として用いることを特徴とするステージ装置。
The stage apparatus according to claim 1, wherein
The counter mass drive mechanism is constituted by a linear motor having a stator and a mover, and a stage device having a larger mass among the stator and the mover is used as a component of the counter mass.
請求項1記載のステージ装置において、
前記ステージと前記カウンタマスが原点に配置されているとき、前記ステージの重心を通る鉛直線上に前記カウンタマスの重心が配置されていることを特徴とするステージ装置。
The stage apparatus according to claim 1, wherein
A stage apparatus, wherein the center of gravity of the counter mass is arranged on a vertical line passing through the center of gravity of the stage when the stage and the counter mass are arranged at the origin.
請求項1記載のステージ装置において、
前記カウンタマス制御ユニットは、前記ステージ制御ユニットによって算出された前記ステージに対する推力指令に比例した前記カウンタマスに対する推力指令を生成する推力フィードフォワード制御を行うことを特徴とするステージ装置。
The stage apparatus according to claim 1, wherein
The stage device, wherein the counter mass control unit performs thrust feedforward control for generating a thrust command for the counter mass proportional to a thrust command for the stage calculated by the stage control unit.
請求項6記載のステージ装置において、前記カウンタマスに対する推力指令は、前記ステージに対する推力指令に、前記ステージの質量と前記カウンタマスの質量の比を乗算することによって求めることを特徴とするステージ装置。   7. The stage apparatus according to claim 6, wherein the thrust command for the counter mass is obtained by multiplying the thrust command for the stage by a ratio of the mass of the stage and the mass of the counter mass. 請求項1記載のステージ装置において、
前記カウンタマス制御ユニットは、前記カウンタマスの位置が原点に収束するように、前記カウンタマスを駆動するカウンタマス位置制御を行うことを特徴とするステージ装置。
The stage apparatus according to claim 1, wherein
The stage apparatus, wherein the counter mass control unit performs counter mass position control for driving the counter mass so that the position of the counter mass converges to an origin.
請求項8記載のステージ装置において、
前記カウンタマス位置制御では、前記カウンタマス位置検出ユニットからフィードバックされた前記カウンタマスの位置情報からPID制御演算により前記カウンタマスに対する速度指令を生成し、前記カウンタマスの位置情報から前記カウンタマスの現在位置を算出し、前記速度指令と前記現在速度の間の偏差により、前記カウンタマスに対する推力指令を生成することを特徴とするステージ装置。
The stage apparatus according to claim 8, wherein
In the counter mass position control, a speed command for the counter mass is generated by PID control calculation from the position information of the counter mass fed back from the counter mass position detection unit, and the current value of the counter mass is determined from the position information of the counter mass. A stage device that calculates a position and generates a thrust command for the counter mass based on a deviation between the speed command and the current speed.
請求項1記載のステージ装置において、
前記ステージ機構は加速度を計測する加速度センサを有し、
前記カウンタマス制御ユニットは、前記加速度センサからフィードバックされた加速度より、前記ステージ機構の振動を抑制するように前記カウンタマスに対する推力指令を生成する加速度フィードバック制御を行うことを特徴とするステージ装置。
The stage apparatus according to claim 1, wherein
The stage mechanism has an acceleration sensor for measuring acceleration,
The stage device is characterized in that the counter mass control unit performs acceleration feedback control for generating a thrust command for the counter mass so as to suppress vibration of the stage mechanism from the acceleration fed back from the acceleration sensor.
真空排気されるように構成された試料室と、該試料室の上に設けられカラムと、該カラムの内部に設けられた電子線源及び電子線光学系と、互いに直交するX軸、Y軸及びZ軸を有する電子顕微鏡装置において、
X軸及びY軸に沿って移動可能なステージと前記ステージを駆動するステージ駆動機構と前記ステージの位置を検出するステージ位置検出ユニットとを含むステージ機構と、X軸及びY軸に沿って移動可能なカウンタマスと前記カウンタマスを駆動するカウンタマス駆動機構と前記カウンタマスの位置を検出するカウンタマス位置検出ユニットとを含むカウンタマス機構と、前記ステージ機構を制御するステージ制御ユニットと前記カウンタマス機構を制御するカウンタマス制御ユニットを有する制御装置と、を有し、
前記カウンタマスは、L字形の構造体であり、前記カウンタマスの可動平面と前記ステージの可動平面は互いに平行であり、且つ、互いに隔てられて配置されていることを特徴とする電子顕微鏡装置。
A sample chamber configured to be evacuated, a column provided on the sample chamber, an electron beam source and an electron beam optical system provided in the column, and an X axis and a Y axis orthogonal to each other In an electron microscope apparatus having an axis and a Z axis,
A stage mechanism including a stage movable along the X axis and the Y axis, a stage drive mechanism for driving the stage, and a stage position detection unit for detecting the position of the stage, and movable along the X axis and the Y axis A counter mass mechanism including a counter mass, a counter mass drive mechanism for driving the counter mass, and a counter mass position detection unit for detecting the position of the counter mass; a stage control unit for controlling the stage mechanism; and the counter mass mechanism A control device having a counter mass control unit for controlling
The electron microscope apparatus, wherein the counter mass is an L-shaped structure, and the movable plane of the counter mass and the movable plane of the stage are parallel to each other and spaced apart from each other.
請求項11記載の電子顕微鏡装置において、
前記カウンタマスは、第1のカウンタマス部材と、第2のカウンタマス部材と、連結部材と、前記第1のカウンタマス部材と前記連結部材を接続する第1のカウンタマス補助部材と、前記第2のカウンタマス部材と前記連結部材を接続する第2のカウンタマス補助部材と、を含み、前記第1のカウンタマス部材と前記第1のカウンタマス補助部材と前記連結部材はX軸方向に沿って配置され、前記第2のカウンタマス部材と前記第2のカウンタマス補助部材と前記連結部材はY軸方向に沿って配置され、それによって、L字形に構成されていることを特徴とする電子顕微鏡装置。
The electron microscope apparatus according to claim 11,
The counter mass includes a first counter mass member, a second counter mass member, a connecting member, a first counter mass auxiliary member connecting the first counter mass member and the connecting member, and the first counter mass member. 2 counter mass members and a second counter mass auxiliary member for connecting the connecting member, wherein the first counter mass member, the first counter mass auxiliary member and the connecting member are along the X-axis direction. The second counter mass member, the second counter mass auxiliary member, and the connecting member are arranged along the Y-axis direction, and are thus configured in an L shape. Microscope device.
請求項11記載の電子顕微鏡装置において、
前記カウンタマス機構は、前記試料室の下面又は上面に設置されていることを特徴とする電子顕微鏡装置。
The electron microscope apparatus according to claim 11,
The electron microscope apparatus, wherein the counter mass mechanism is installed on a lower surface or an upper surface of the sample chamber.
請求項11記載の電子顕微鏡装置において
前記試料室内部の真空排気を行う真空排気ユニットを有し、
前記真空排気ユニットと前記カウンタマス機構は、前記試料室の下面に設けられていることを特徴とする電子顕微鏡装置。
The electron microscope apparatus according to claim 11, further comprising an evacuation unit that evacuates the sample chamber.
The electron microscope apparatus, wherein the vacuum exhaust unit and the counter mass mechanism are provided on a lower surface of the sample chamber.
請求項11記載の電子顕微鏡装置において、
前記試料室には加速度を計測する加速度センサが設けられ、
前記カウンタマス制御ユニットは、前記ステージ制御ユニットによって算出された前記ステージに対する推力指令に比例した前記カウンタマスに対する推力指令を生成する推力フィードフォワード制御と、前記カウンタマスの位置が原点に収束するように、前記カウンタマスを駆動するカウンタマス位置制御と、前記加速度センサからフィードバックされた加速度より、前記ステージ機構の振動を抑制するように前記カウンタマスに対する推力指令を生成する加速度フィードバック制御の少なくとも1つを行うことを特徴とする電子顕微鏡装置。
The electron microscope apparatus according to claim 11,
The sample chamber is provided with an acceleration sensor for measuring acceleration,
The counter mass control unit is configured to generate a thrust feedforward control for generating a thrust command for the counter mass proportional to a thrust command for the stage calculated by the stage control unit, so that the position of the counter mass converges to the origin. , At least one of counter mass position control for driving the counter mass and acceleration feedback control for generating a thrust command for the counter mass so as to suppress vibration of the stage mechanism from the acceleration fed back from the acceleration sensor. An electron microscope apparatus characterized by being performed.
請求項15記載の電子顕微鏡装置において、
前記推力フィードフォワード制御において前記カウンタマスに対する推力指令は、前記ステージに対する推力指令に、前記ステージの質量と前記カウンタマスの質量の比を乗算することによって求めることを特徴とする電子顕微鏡装置。
The electron microscope apparatus according to claim 15, wherein
In the thrust feedforward control, the thrust command for the counter mass is obtained by multiplying the thrust command for the stage by a ratio of the mass of the stage and the mass of the counter mass.
請求項15記載の電子顕微鏡装置において、
前記カウンタマス位置制御において、前記カウンタマス位置検出ユニットからフィードバックされた前記カウンタマスの位置情報からPID制御演算により前記カウンタマスに対する速度指令を生成し、前記カウンタマスの位置情報から前記カウンタマスの現在位置を算出し、前記速度指令と前記現在速度の間の偏差により、前記カウンタマスに対する推力指令を生成することを特徴とする電子顕微鏡装置。
The electron microscope apparatus according to claim 15, wherein
In the counter mass position control, a speed command for the counter mass is generated by PID control calculation from the position information of the counter mass fed back from the counter mass position detection unit, and the current value of the counter mass is determined from the position information of the counter mass. An electron microscope apparatus that calculates a position and generates a thrust command for the counter mass based on a deviation between the speed command and the current speed.
請求項15記載の電子顕微鏡装置において、
前記加速度フィードバック制御では、前記推力フィードフォワード制御で相殺できないX軸およびY軸方向の回転軸線回りの回転振動を抑制することを特徴とする電子顕微鏡装置。
The electron microscope apparatus according to claim 15, wherein
The acceleration feedback control suppresses rotational vibrations about rotation axes in the X-axis and Y-axis directions that cannot be canceled out by the thrust feedforward control.
少なくとも1軸方向に沿って移動可能なステージと前記ステージを駆動するステージ駆動機構と前記ステージの位置を検出するステージ位置検出ユニットとを含むステージ機構と、少なくとも1軸方向に沿って移動可能なカウンタマスと前記カウンタマスを駆動するカウンタマス駆動機構と前記カウンタマスの位置を検出するカウンタマス位置検出ユニットとを含むカウンタマス機構と、前記ステージ機構を制御するステージ制御ユニットと前記カウンタマス機構を制御するカウンタマス制御ユニットを有する制御装置と、加速度を計測する加速度センサと、を有し、
前記カウンタマスは、L字形の構造体であり、前記カウンタマスの可動平面と前記ステージの可動平面は互いに平行であり、且つ、互いに隔てられて配置されており、
前記カウンタマス制御ユニットは、前記ステージ制御ユニットによって算出された前記ステージに対する推力指令に比例した前記カウンタマスに対する推力指令を生成する推力フィードフォワード制御と、前記カウンタマスの位置が原点に収束するように、前記カウンタマスを駆動するカウンタマス位置制御と、前記加速度センサからフィードバックされた加速度より、前記ステージ機構の振動を抑制するように前記カウンタマスに対する推力指令を生成する加速度フィードバック制御の少なくとも1つを行うことを特徴とするステージ装置。
A stage mechanism including a stage movable along at least one axial direction, a stage drive mechanism that drives the stage, and a stage position detection unit that detects the position of the stage, and a counter movable along at least one axial direction A counter mass mechanism including a mass, a counter mass drive mechanism that drives the counter mass, and a counter mass position detection unit that detects the position of the counter mass; a stage control unit that controls the stage mechanism; and a control of the counter mass mechanism A control device having a counter mass control unit for measuring, and an acceleration sensor for measuring acceleration,
The counter mass is an L-shaped structure, and the movable plane of the counter mass and the movable plane of the stage are parallel to each other and spaced apart from each other.
The counter mass control unit is configured to generate a thrust feedforward control for generating a thrust command for the counter mass proportional to a thrust command for the stage calculated by the stage control unit, so that the position of the counter mass converges to the origin. , At least one of counter mass position control for driving the counter mass and acceleration feedback control for generating a thrust command for the counter mass so as to suppress vibration of the stage mechanism from the acceleration fed back from the acceleration sensor. The stage apparatus characterized by performing.
請求項19記載のステージ装置において、
前記ステージと前記カウンタマスが原点に配置されているとき、前記ステージの重心を通る鉛直線上に前記カウンタマスの重心が配置されていることを特徴とするステージ装置。
The stage device according to claim 19,
A stage apparatus, wherein the center of gravity of the counter mass is arranged on a vertical line passing through the center of gravity of the stage when the stage and the counter mass are arranged at the origin.
JP2009065013A 2009-03-17 2009-03-17 Stage equipment Expired - Fee Related JP5090392B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009065013A JP5090392B2 (en) 2009-03-17 2009-03-17 Stage equipment

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009065013A JP5090392B2 (en) 2009-03-17 2009-03-17 Stage equipment

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2010217032A JP2010217032A (en) 2010-09-30
JP5090392B2 true JP5090392B2 (en) 2012-12-05

Family

ID=42976032

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009065013A Expired - Fee Related JP5090392B2 (en) 2009-03-17 2009-03-17 Stage equipment

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5090392B2 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2019043204A1 (en) * 2017-09-04 2019-03-07 Asml Netherlands B.V. Electron beam inspection apparatus stage positioning

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002061703A (en) * 2000-08-21 2002-02-28 Nikon Corp Vibration control method and vibration control device using this vibration control method
JP2004134682A (en) * 2002-10-15 2004-04-30 Nikon Corp Gas cylinder, stage apparatus, and aligner
JP2005268268A (en) * 2004-03-16 2005-09-29 Canon Inc Electron beam exposure apparatus
JP2006032788A (en) * 2004-07-20 2006-02-02 Canon Inc Exposure apparatus and method for manufacturing semiconductor device
JP4626753B2 (en) * 2005-02-15 2011-02-09 株式会社ニコン Stage apparatus and exposure apparatus
JP2006303312A (en) * 2005-04-22 2006-11-02 Nikon Corp Stage equipment and aligner
JP2007067162A (en) * 2005-08-31 2007-03-15 Sumitomo Heavy Ind Ltd Xy stage
JP2007184193A (en) * 2006-01-10 2007-07-19 Hitachi High-Technologies Corp Charged particle beam device
US20100141923A1 (en) * 2007-01-30 2010-06-10 Kabushiki Kaisha Yaskawa Denki Stage apparatus and aligner

Also Published As

Publication number Publication date
JP2010217032A (en) 2010-09-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US8076651B2 (en) Specimen stage apparatus and specimen stage positioning control method
US9791018B2 (en) Vibration isolation apparatus, method of isolating vibration, lithography apparatus, and method of producing device
Kim et al. Dual servo stage without mechanical coupling for process of manufacture and inspection of flat panel displays via modular design approach
WO2018020625A1 (en) Charged particle radiation device
JPH11150062A (en) Vibration isolator, aligner, and method for canceling vibration of vibration canceling base
WO2011108170A1 (en) Stage device
JP4386293B2 (en) Vibration control apparatus, vibration control method, exposure apparatus, and device manufacturing method
TWI667682B (en) Platform device and charged particle beam device
JP4493484B2 (en) Active vibration isolation method and apparatus
JP5090392B2 (en) Stage equipment
US8970821B2 (en) Positioning apparatus, exposure apparatus and device manufacturing method
JP2009071178A (en) Stage device
JP2023001194A (en) Charged particle beam drawing device
IL272694B2 (en) Electron beam inspection apparatus stage positioning
JP3732763B2 (en) Stage equipment
KR100659479B1 (en) A reaction force treatment system for stage apparatus
JP6401598B2 (en) Active vibration isolator
JP5690686B2 (en) Stage device and stage positioning control method in stage device
KR20180090860A (en) EXPOSURE APPARATUS AND METHOD OF CONTROLLING EXPOSURE APPARATUS
JP2001242937A (en) Stage mechanism
JP2007184193A (en) Charged particle beam device
WO2019138656A1 (en) Active anti-vibration device
JP2007067162A (en) Xy stage
JP3121528B2 (en) Vibration detection device and vibration detection method
JP2004162745A (en) Controller for elastic vibration

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20110209

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20120516

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20120522

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120723

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20120814

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20120912

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150921

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees