JP5085587B2 - Photopolymerizable composition, optical recording medium, and information recording method - Google Patents
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Description
本発明は、2光子吸収による光重合が可能な光重合性組成物に関するものであり、より詳しくは、非共鳴2光子吸収を利用したラジカル重合が可能な光重合性組成物に関するものである。
更に本発明は、3次元的屈折率変調が可能な光記録媒体およびこの光記録媒体への情報記録方法に関するものである。
The present invention relates to a photopolymerizable composition capable of photopolymerization by two-photon absorption, and more particularly to a photopolymerizable composition capable of radical polymerization utilizing non-resonant two-photon absorption.
Furthermore, the present invention relates to an optical recording medium capable of three-dimensional refractive index modulation and a method for recording information on the optical recording medium.
従来から、レーザー光により一回限りの情報の記録が可能な光情報記録媒体(光ディスク)が知られており、追記型CD(いわゆるCD−R)、追記型DVD(いわゆるDVD−R)などが実用化されている。 2. Description of the Related Art Conventionally, optical information recording media (optical discs) capable of recording information only once with a laser beam are known, such as a write-once CD (so-called CD-R) and a write-once DVD (so-called DVD-R). It has been put into practical use.
最近、デジタル放送の開始、Blu-rayディスクの普及などにより、民生用途においても大容量記録媒体への要求が高くなっている。さらにはコンピューターバックアップ用途、放送バックアップ用途、業務用途においては1TB以上、またはそれ以上の大容量の情報を高速かつ、安価に記録できる光記録媒体が求められている。そのような中、DVD−Rのような従来の2次元光記録媒体は物理原理上、たとえ記録再生波長を短波長化したとしても記録容量は片面25GB程度で、将来の要求に対応できる程の充分大きな記録容量が期待できるとは言えない。 Recently, with the start of digital broadcasting and the spread of Blu-ray discs, the demand for large-capacity recording media is increasing in consumer applications. Furthermore, in computer backup applications, broadcast backup applications, and business applications, there is a demand for optical recording media capable of recording large-capacity information of 1 TB or more or more at high speed and low cost. Under such circumstances, a conventional two-dimensional optical recording medium such as a DVD-R has a recording capacity of about 25 GB on one side even if the recording / reproducing wavelength is shortened on the physical principle, and can meet future requirements. It cannot be said that a sufficiently large recording capacity can be expected.
そのような状況の中、究極の高密度、高容量記録媒体として、3次元光記録媒体が注目を集めている。3次元光記録媒体は、3次元(膜厚)方向に何十、何百層もの記録を重ねることで、従来の2次元記録媒体の何十、何百倍もの超高密度、超高容量記録を達成しようとするものである。3次元光記録媒体を提供するためには、3次元(膜厚)方向の任意の場所にアクセスして書き込みできなければならない。 Under such circumstances, a three-dimensional optical recording medium is attracting attention as an ultimate high-density, high-capacity recording medium. Three-dimensional optical recording media can be recorded in dozens or hundreds of layers in the three-dimensional (film thickness) direction, resulting in tens or hundreds of times the ultra-high density and ultra-high capacity recording of conventional two-dimensional recording media. That is what we are trying to achieve. In order to provide a three-dimensional optical recording medium, it is necessary to be able to access and write at an arbitrary place in the three-dimensional (film thickness) direction.
近年、3次元光記録方法として、2光子吸収を利用する方法が提案されている。2光子吸収とは、化合物が2つの光子を同時に吸収して励起される現象である。2光子吸収の中でも、化合物の線形吸収帯が存在しないエネルギー領域で起こる2光子吸収を、非共鳴2光子吸収という。非共鳴2光子吸収の効率は、印加する光電場の2乗に比例する(2光子吸収の2乗特性)。このため、2次元平面にレーザーを照射した場合においては、レーザースポットの中心部の電界強度の高い位置のみで2光子の吸収が起こり、周辺部の電界強度の弱い部分では2光子の吸収は全く起こらない。一方、3次元空間においては、レーザー光をレンズで集光した焦点の電界強度の大きな領域でのみ2光子吸収が起こり、焦点から外れた領域では電界強度が弱いために2光子吸収が全く起こらない。印加された光電場の強度に比例してすべての位置で励起が起こる線形吸収に比べて、非共鳴2光子吸収では、この2乗特性に由来して空間内部の1点のみで励起が起こるため、空間分解能が著しく向上する。
通常、非共鳴2光子吸収を誘起する場合には、化合物の(線形)吸収帯が存在する波長領域よりも長波でかつ吸収の存在しない、近赤外領域の短パルスレーザーを用いることが多い。いわゆる透明領域の近赤外光を用いるため、励起光が吸収や散乱を受けずに試料内部まで到達でき、非共鳴2光子吸収の2乗特性のために試料内部の1点を極めて高い空間分解能で励起できる。
したがって、非共鳴2光子吸収により得た励起エネルギーを用いて情報の記録や重合を起こすことができれば、3次元空間の任意の場所において重合を起こすことができるため、究極の高密度記録媒体と考えられる3次元光記録媒体や、微細3次元光造形材料等への応用も可能となる。例えば非特許文献1〜5には、非共鳴2光子吸収による2光子重合を、光造形などへ応用することが提案されている。
In recent years, a method using two-photon absorption has been proposed as a three-dimensional optical recording method. Two-photon absorption is a phenomenon in which a compound is excited by simultaneously absorbing two photons. Among the two-photon absorption, the two-photon absorption occurring in the energy region where the linear absorption band of the compound does not exist is called non-resonant two-photon absorption. The efficiency of non-resonant two-photon absorption is proportional to the square of the applied photoelectric field (square characteristic of two-photon absorption). For this reason, when a two-dimensional plane is irradiated with a laser, two-photon absorption occurs only at a position where the electric field strength is high in the central portion of the laser spot, and two-photon absorption is completely absent in a portion where the electric field strength is weak in the peripheral portion. Does not happen. On the other hand, in the three-dimensional space, two-photon absorption occurs only in the region where the electric field strength at the focal point where the laser light is collected by the lens is large, and no two-photon absorption occurs in the region outside the focal point because the electric field strength is weak. . Compared with linear absorption where excitation occurs at all positions in proportion to the intensity of the applied photoelectric field, non-resonant two-photon absorption results in excitation at only one point inside the space due to this square characteristic. , The spatial resolution is significantly improved.
Usually, when inducing non-resonant two-photon absorption, a short-pulse laser in the near-infrared region, which is longer than the wavelength region in which the (linear) absorption band of the compound exists and does not have absorption, is often used. The so-called transparent near-infrared light is used, so that the excitation light can reach the inside of the sample without being absorbed or scattered, and because of the square characteristic of non-resonant two-photon absorption, one point inside the sample has an extremely high spatial resolution. Can be excited.
Therefore, if information recording and polymerization can be performed using excitation energy obtained by non-resonant two-photon absorption, polymerization can be performed in an arbitrary place in a three-dimensional space. Application to a three-dimensional optical recording medium, a fine three-dimensional optical modeling material, and the like is also possible. For example, Non-Patent Documents 1 to 5 propose applying two-photon polymerization based on non-resonant two-photon absorption to optical modeling.
しかし非特許文献1〜5に記載の方法では、高効率な2光子吸収化合物および適切な重合開始剤を用いていないため、重合の効率が悪い。したがって、これらの方法は、重合により光造形等を行うためには強いレーザー光を長時間照射しなければならず、光記録用途に使用することは実用上困難と考えられる。 However, in the methods described in Non-Patent Documents 1 to 5, since a highly efficient two-photon absorption compound and an appropriate polymerization initiator are not used, the efficiency of polymerization is poor. Therefore, these methods must be irradiated with a strong laser beam for a long time in order to perform optical modeling or the like by polymerization, and it is considered practically difficult to use for optical recording.
これに対し本願出願人は、非共鳴2光子吸収化合物と重合開始剤を併用することにより、非共鳴2光子吸収により得た励起エネルギーを用いて重合を起こし、その結果、レーザー焦点部と非焦点部で3次元的に屈折率変調を起こすことにより3次元光記録が可能となることを見出した(特許文献1参照)。 On the other hand, the applicant of the present invention uses the non-resonant two-photon absorption compound and the polymerization initiator in combination to cause polymerization using the excitation energy obtained by non-resonant two-photon absorption. It has been found that three-dimensional optical recording is possible by causing refractive index modulation three-dimensionally in the part (see Patent Document 1).
上記特許文献1に記載の方法は、3次元空間の任意の場所にきわめて高い空間分解能で屈折率変調を起こすことができ、これにより究極の高密度記録媒体と考えられる3次元光記録媒体を実現することができる優れた方法であるが、記録感度の点からは必ずしも十分とは言えず、更なる改善が求められる。 The method described in Patent Document 1 can cause refractive index modulation with an extremely high spatial resolution in an arbitrary place in a three-dimensional space, thereby realizing a three-dimensional optical recording medium considered as the ultimate high-density recording medium. Although it is an excellent method that can be performed, it is not necessarily sufficient from the viewpoint of recording sensitivity, and further improvement is required.
そこで本発明の目的は、高感度かつ超高密度光記録を実現するための手段を提供することにある。 Accordingly, an object of the present invention is to provide means for realizing high sensitivity and ultra high density optical recording.
本発明者らは、上記目的を達成するために鋭意検討を重ねた結果、下記一般式(I)で表される環状アリルスルフィド化合物を、非共鳴2光子吸収化合物と併用することにより、高感度記録が可能な3次元光記録媒体を提供できることを見出し、本発明を完成するに至った。 As a result of intensive studies to achieve the above object, the present inventors have achieved high sensitivity by using a cyclic allyl sulfide compound represented by the following general formula (I) together with a non-resonant two-photon absorption compound. The inventors have found that a three-dimensional optical recording medium capable of recording can be provided, and have completed the present invention.
即ち、上記目的は、下記手段により達成された。
[1]下記一般式(II)で表されるラジカル重合性化合物、非共鳴2光子吸収化合物、およびバインダーを含有することを特徴とする光重合性組成物。
[2]光記録用重合性組成物である[1]に記載の光重合性組成物。
[3]一般式(II)中、R1およびR12は、それぞれ独立に水素原子またはメチル基を表し、R13 およびR 14 は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アミノ基またはアシル基を表す[1]または[2]に記載の光重合性組成物。
[4]一般式(II)中、R1およびR12はいずれも水素原子を表し、R13 およびR 14 は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基またはアシルオキシ基を表し、m1は1を表す[1]〜[3]のいずれかに記載の光重合性組成物。
[5]ラジカル重合開始剤を更に含有する[1]〜[4]のいずれかに記載の光重合性組成物。
[6]前記バインダーは、前記ラジカル重合性化合物とは異なる屈折率を有する[1]〜[5]のいずれかに記載の光重合性組成物。
[7]前記バインダーは、前記ラジカル重合性化合物よりも低屈折率を有する[6]に記載の光重合性組成物。
[8]前記バインダーは、セルロースエステル、ポリビニルアルコール、ポリビニルアセテート、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリウレタン、およびフッ素原子含有高分子からなる群から選ばれる少なくとも一つのポリマーである[1]〜[7]のいずれかに記載の光重合性組成物。
[9]前記非共鳴2光子吸収化合物は、有機色素である[1]〜[8]のいずれかに記載の光重合性組成物。
[10]前記有機色素は、シアニン色素、メロシアニン色素、オキソノール色素およびポリアリール色素からなる群から選ばれる少なくとも一種である[9]に記載の光重合性組成物。
[11][1]〜[10]のいずれかに記載の光重合性組成物を含む記録層を有することを特徴とする光記録媒体。
[12][11]に記載の光記録媒体へ光照射することにより情報を記録する情報記録方法であって、
前記照射する光として、前記非共鳴2光子吸収化合物の線形吸収の存在しない波長であって、かつ該化合物の線形吸収帯よりも長波長域の波長のレーザー光を使用することを特徴とする情報記録方法。
[13]前記光照射により、前記記録層中に屈折率変調を起こすことによって情報を記録する[12]に記載の情報記録方法。
[14]前記屈折率変調は、3次元的屈折率変調である[13]に記載の情報記録方法。
That is, the above object was achieved by the following means.
[1] A photopolymerizable composition comprising a radical polymerizable compound represented by the following general formula ( II ), a non-resonant two-photon absorption compound, and a binder.
[2] The photopolymerizable composition according to [1], which is a polymerizable composition for optical recording .
[3 ] In general formula (II), R 1 and R 12 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group, and R 13 and R 14 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, The photopolymerizable composition according to [ 1 ] or [2] , which represents an aryloxy group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, an acyloxy group, an acylamino group, an amino group, or an acyl group.
[ 4 ] In general formula (II), R 1 and R 12 both represent a hydrogen atom, and R 13 and R 14 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group or an acyloxy group. The photopolymerizable composition in any one of [ 1 ] -[3] in which group is represented and m1 represents 1 .
[ 5 ] The photopolymerizable composition according to any one of [1] to [ 4 ], further containing a radical polymerization initiator.
[ 6 ] The photopolymerizable composition according to any one of [1] to [ 5 ], wherein the binder has a refractive index different from that of the radical polymerizable compound.
[ 7 ] The photopolymerizable composition according to [ 6 ], wherein the binder has a lower refractive index than the radical polymerizable compound.
[ 8 ] The binder according to [1] to [ 7 ], wherein the binder is at least one polymer selected from the group consisting of cellulose ester, polyvinyl alcohol, polyvinyl acetate, polyvinyl butyral, polyvinyl formal, polyurethane, and a fluorine atom-containing polymer. The photopolymerizable composition in any one.
[ 9 ] The photopolymerizable composition according to any one of [1] to [ 8 ], wherein the non-resonant two-photon absorption compound is an organic dye.
[ 10 ] The photopolymerizable composition according to [ 9 ], wherein the organic dye is at least one selected from the group consisting of a cyanine dye, a merocyanine dye, an oxonol dye, and a polyaryl dye.
[ 11 ] An optical recording medium comprising a recording layer containing the photopolymerizable composition according to any one of [1] to [ 10 ].
[ 12 ] An information recording method for recording information by irradiating the optical recording medium according to [ 11 ] with light,
As the light to be irradiated, laser light having a wavelength at which linear absorption of the non-resonant two-photon absorption compound does not exist and having a wavelength longer than the linear absorption band of the compound is used. Recording method.
[ 13 ] The information recording method according to [ 12 ], wherein information is recorded by causing refractive index modulation in the recording layer by the light irradiation.
[ 14 ] The information recording method according to [ 13 ], wherein the refractive index modulation is three-dimensional refractive index modulation.
本発明の光重合性組成物は、レーザー焦点部(記録部)と非焦点部(非記録部)にて屈折率を3次元的に変調することができ、その結果、光の反射率または透過率を変えることができるため、3次元光記録媒体への応用が可能である。
更に本発明によれば、高感度記録が可能な3次元光記録媒体を提供することができる。
The photopolymerizable composition of the present invention can three-dimensionally modulate the refractive index at the laser focus portion (recording portion) and the non-focus portion (non-recording portion), and as a result, reflectivity or transmission of light. Since the rate can be changed, application to a three-dimensional optical recording medium is possible.
Furthermore, according to the present invention, a three-dimensional optical recording medium capable of high sensitivity recording can be provided.
[光重合性組成物]
本発明の光重合性組成物は、下記一般式(I)で表されるラジカル重合性化合物(環状アリルスルフィド化合物)、非共鳴2光子吸収化合物、およびバインダーを含有するものであり、任意にラジカル重合開始剤、連鎖移動剤、熱安定剤、可塑剤、溶剤等の成分を含むことができる。本発明の光重合性組成物は、光照射により非共鳴2光子吸収化合物が非共鳴2光子吸収を起こす。前記ラジカル重合性化合物は、非共鳴2光子吸収化合物が重合開始剤の役割を果たすことにより、または非共鳴2光子吸収化合物との相互作用によりラジカル種を発生するラジカル重合開始剤の作用により、光重合を起こすことができる。
[Photopolymerizable composition]
The photopolymerizable composition of the present invention contains a radically polymerizable compound (cyclic allyl sulfide compound) represented by the following general formula (I), a non-resonant two-photon absorption compound, and a binder, and is optionally a radical. Components such as a polymerization initiator, a chain transfer agent, a heat stabilizer, a plasticizer, and a solvent can be included. In the photopolymerizable composition of the present invention, the non-resonant two-photon absorption compound causes non-resonant two-photon absorption when irradiated with light. The radical polymerizable compound can be produced by the action of a non-resonant two-photon absorption compound serving as a polymerization initiator, or by the action of a radical polymerization initiator that generates radical species by interaction with the non-resonant two-photon absorption compound. Polymerization can occur.
2光子吸収化合物とは、2つの光子を同時に吸収して励起される化合物であり、非共鳴2光子吸収化合物とは、2光子吸収化合物の中でも、化合物の線形吸収帯が存在しないエネルギー領域で2光子吸収(このような2光子吸収を、「非共鳴2光子吸収」という)を起こす化合物である。先に説明したように、非共鳴2光子吸収化合物は、2光子吸収の2乗特性に由来して空間内部の1点でのみ励起を起こすことができる。したがって、非共鳴2光子吸収化合物の励起エネルギーを用いることにより、3次元空間の任意の場所において重合を起こすことができる。そして本発明の光重合性組成物は、上記特性を有する非共鳴2光子吸収化合物を一般式(I)で表されるラジカル重合性化合物と組み合わせることにより、3次元光記録の高感度化を実現することができる。一般式(I)で表される環状アリルスルフィド化合物は、成長ラジカルがSラジカルであることと、S原子のα位の水素(隣の炭素の水素)原子を有するため、チオールエン反応に見られるような酸素重合阻害を受けないという特徴を有する。そのため、汎用的なラジカル重合性モノマーであるメタクリレートや、アクリレートモノマーよりも酸素存在下、または溶存酸素存在下においても重合反応が進行しやすいという特徴を有する。光記録媒体を構成した際、記録層にも溶存酸素が存在し得るために、汎用モノマーを用いた場合は、ある程度の重合阻害を受ける。これに対して、一般式(I)で表される環状アリルスルフィドをモノマーとして用いた際は重合阻害を受けないために高感度で記録が可能である。
以上説明したように、本発明の光重合性組成物によれば、高感度な3次元光記録が可能となる。
以下、本発明の光重合性組成物について、更に詳細に説明する。
A two-photon absorption compound is a compound that is excited by simultaneously absorbing two photons, and a non-resonant two-photon absorption compound is a two-photon absorption compound in an energy region where there is no linear absorption band of the compound. It is a compound that causes photon absorption (such two-photon absorption is referred to as “non-resonant two-photon absorption”). As described above, the non-resonant two-photon absorption compound can be excited only at one point in the space due to the square characteristic of two-photon absorption. Therefore, by using the excitation energy of the non-resonant two-photon absorption compound, polymerization can occur at an arbitrary place in the three-dimensional space. The photopolymerizable composition of the present invention realizes high sensitivity of three-dimensional optical recording by combining a non-resonant two-photon absorption compound having the above characteristics with a radical polymerizable compound represented by the general formula (I). can do. The cyclic allyl sulfide compound represented by the general formula (I) has a growth radical as an S radical and a hydrogen at the α position of the S atom (hydrogen of the adjacent carbon), so that it can be seen in a thiolene reaction. It has the characteristic that it is not subject to oxygen polymerization inhibition. Therefore, the polymerization reaction is more likely to proceed even in the presence of oxygen or in the presence of dissolved oxygen than methacrylate and acrylate monomers, which are general-purpose radical polymerizable monomers. When an optical recording medium is constructed, dissolved oxygen may also be present in the recording layer. Therefore, when a general-purpose monomer is used, it is subject to some degree of polymerization inhibition. On the other hand, when the cyclic allyl sulfide represented by the general formula (I) is used as a monomer, the polymerization is not hindered, so that recording can be performed with high sensitivity.
As described above, the photopolymerizable composition of the present invention enables highly sensitive three-dimensional optical recording.
Hereinafter, the photopolymerizable composition of the present invention will be described in more detail.
ラジカル重合性化合物
本発明の光重合性組成物は、下記一般式(I)で表されるラジカル重合性化合物を含む。
Radical Polymerizable Compound The photopolymerizable composition of the present invention contains a radical polymerizable compound represented by the following general formula (I).
以下、一般式(I)で表される環状アリルスルフィド化合物について説明する。 Hereinafter, the cyclic allyl sulfide compound represented by the general formula (I) will be described.
一般式(I)中、Z1は隣り合う炭素原子、硫黄原子および該硫黄原子と結合する炭素原子とともに環構造を形成する原子団を表す。Z1により形成される環状構造の構成要素としてはメチレン炭素を挙げることができ、メチレン炭素以外に、カルボニル基、チオカルボニル基、酸素原子や、硫黄原子など二価の有機連結基を挙げることもでき、これらの組み合わせにより上記環構造が構成される。その環員数は6〜9であることが好ましく、6〜8であることがより好ましく、7〜8であることが特に好ましい。また、その環構造のメチレン炭素数は3〜7であることが好ましく、4〜6であることがより好ましく、4〜5であることが特に好ましい。 In the general formula (I), Z 1 represents an atomic group that forms a ring structure with adjacent carbon atoms, sulfur atoms, and carbon atoms bonded to the sulfur atoms. Examples of the component of the cyclic structure formed by Z 1 include methylene carbon. In addition to methylene carbon, divalent organic linking groups such as a carbonyl group, a thiocarbonyl group, an oxygen atom, and a sulfur atom are also exemplified. These ring structures are constituted by a combination thereof. The number of ring members is preferably 6 to 9, more preferably 6 to 8, and particularly preferably 7 to 8. Moreover, it is preferable that methylene carbon number of the ring structure is 3-7, It is more preferable that it is 4-6, It is especially preferable that it is 4-5.
一般式(I)中、R1は水素原子またはアルキル基を表す。R1で表されるアルキル基としては直鎖であっても分岐を有していてもよく、また、無置換であっても置換基を有していてもよい。その炭素数は1〜20であることが好ましく、1〜10であることがより好ましく、1〜3であることが特に好ましい。なお、本発明において、ある基について「炭素数」とは、置換基を有する基については、該置換基を含まない部分の炭素数をいうものとする。 In the general formula (I), R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group. The alkyl group represented by R 1 may be linear or branched, and may be unsubstituted or may have a substituent. The number of carbon atoms is preferably 1-20, more preferably 1-10, and particularly preferably 1-3. In the present invention, the “carbon number” for a certain group means the carbon number of the portion not containing the substituent for the group having a substituent.
R1で表されるアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ノルマルプロピル基、イソプロピル基、ノルマルブチル基、イソブチル基、ターシャリーブチル基、ペンチル基、シクロペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ターシャリーオクチル基、2−エチルヘキシル基、デシル基、ドデシル基、オクタデシル基、2,3−ジブロモプロピル基、アダマンチル基、ベンジル基、4−ブロモベンジル基などが挙げられる。これらは更に置換基を有していてもよい。 Examples of the alkyl group represented by R 1 include a methyl group, an ethyl group, a normal propyl group, an isopropyl group, a normal butyl group, an isobutyl group, a tertiary butyl group, a pentyl group, a cyclopentyl group, a hexyl group, a cyclohexyl group, Examples include heptyl group, octyl group, tertiary octyl group, 2-ethylhexyl group, decyl group, dodecyl group, octadecyl group, 2,3-dibromopropyl group, adamantyl group, benzyl group and 4-bromobenzyl group. These may further have a substituent.
一般式(I)中において、R1で表される基が更に置換基を有する場合、置換基としてはハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アリールオキシ、アルキルチオ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アミノ基、アシル基、アルキルアミノカルボニル基、アリールアミノカルボニル基、スルホンアミド基、シアノ基、カルボキシ基、水酸基、スルホン酸基などが挙げられる。これらの中でも、ハロゲン原子、アルコキシ基、アルキルチオ基が特に好ましい。また、置換基として一般式(I)の環状アリルスルフィド化合物が置換した場合は、多官能体を表す。 In the general formula (I), when the group represented by R 1 further has a substituent, examples of the substituent include a halogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkoxy group, an aryloxy, an alkylthio group, an alkoxycarbonyl group, an aryl Examples thereof include an oxycarbonyl group, an amino group, an acyl group, an alkylaminocarbonyl group, an arylaminocarbonyl group, a sulfonamide group, a cyano group, a carboxy group, a hydroxyl group, and a sulfonic acid group. Among these, a halogen atom, an alkoxy group, and an alkylthio group are particularly preferable. Further, when the cyclic allyl sulfide compound of the general formula (I) is substituted as a substituent, it represents a polyfunctional compound.
一般式(I)中においてR1が水素原子またはアルキル基を表し、かつZ1と隣り合う炭素原子、硫黄原子および該硫黄原子と結合する炭素原子とともに形成される環構造の環員数が6〜9であり、かつZ1で表される原子団がメチレン炭素以外に、カルボニル基、酸素原子または硫黄原子のいずれか、もしくはそれらの組み合わせを含むことが好ましく、R1が水素原子またはアルキル基を表し、かつZ1と隣り合う炭素原子、硫黄原子および該硫黄原子と結合する炭素原子とともに形成される環構造の環員数が6〜8であり、かつZ1で表される原子団がメチレン炭素以外にカルボニル基と酸素原子の組み合わせ、または硫黄原子を含むことより好ましく、R1が水素原子またはアルキル基を表し、かつZ1と隣り合う炭素原子、硫黄原子および該硫黄原子と結合する炭素原子とともに形成される環構造の環員数が7〜8であり、かつZ1で表される原子団がメチレン炭素以外に硫黄原子を含むこと特に好ましい。一般式(I)で表される化合物は、記録特性の点からは、一般式(II)、または一般式(III)で表される化合物であることが好ましく、一般式(II)で表される化合物であることが特に好ましい。
以下に、一般式(II)で表される化合物および一般式(III)で表される化合物について説明する。
In general formula (I), R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group, and the number of ring members of the ring structure formed together with the carbon atom adjacent to Z 1 , the sulfur atom, and the carbon atom bonded to the sulfur atom is 6 to 9 and the atomic group represented by Z 1 preferably contains a carbonyl group, an oxygen atom or a sulfur atom, or a combination thereof in addition to methylene carbon, and R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group. And the number of ring members of the ring structure formed together with the carbon atom adjacent to Z 1 , the sulfur atom and the carbon atom bonded to the sulfur atom is 6-8, and the atomic group represented by Z 1 is methylene carbon It is more preferable that it contains a combination of a carbonyl group and an oxygen atom, or a sulfur atom, R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group, and a carbon atom adjacent to Z 1 , a sulfur atom, and It is particularly preferable that the ring structure formed together with the carbon atom bonded to the sulfur atom has 7 to 8 ring members and the atomic group represented by Z 1 contains a sulfur atom in addition to methylene carbon. The compound represented by the general formula (I) is preferably a compound represented by the general formula (II) or the general formula (III) from the viewpoint of recording characteristics, and is represented by the general formula (II). Particularly preferred is a compound.
Below, the compound represented by general formula (II) and the compound represented by general formula (III) are demonstrated.
一般式(II)で表される環状アリルスルフィド化合物Cyclic allyl sulfide compound represented by general formula (II)
一般式(II)中、R1は一般式(I)における定義と同義であり、R12は水素原子またはアルキル基を表し、R13、R14およびR15はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、アミノ基、アシル基またはハロゲン基を表し、m1は0または1を表す。 In general formula (II), R 1 has the same definition as in general formula (I), R 12 represents a hydrogen atom or an alkyl group, and R 13 , R 14 and R 15 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group. , Aryl group, heterocyclic group, alkoxy group, aryloxy group, alkylthio group, arylthio group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, acyloxy group, acylamino group, sulfonylamino group, amino group, acyl group or halogen group , M1 represents 0 or 1.
一般式(II)中、R1、R12、R13、R14、R15で表されるアルキル基の詳細は、上述した一般式(I)中のアルキル基の説明と同様である。 In the general formula (II), the details of the alkyl group represented by R 1 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 are the same as those described above for the alkyl group in the general formula (I).
一般式(II)中、R13、R14、R15で表されるアリール基としては、無置換であっても置換基を有していてもよい。その炭素数は6〜30であることが好ましく、6〜20であることが特に好ましい。アリール基の具体例としては、例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラニル基などが挙げられる。これらは更に置換基を有していてもよい。 In the general formula (II), the aryl group represented by R 13 , R 14 , and R 15 may be unsubstituted or may have a substituent. The carbon number is preferably 6 to 30, and particularly preferably 6 to 20. Specific examples of the aryl group include a phenyl group, a naphthyl group, and an anthranyl group. These may further have a substituent.
一般式(II)中、R13、R14、R15で表されるヘテロ環基は、炭素数4〜14のヘテロ環基であることが好ましく、炭素数4〜10のヘテロ環基であることがより好ましく、炭素数5のヘテロ環基であることが特に好ましい。R13、R14、R15で表されるヘテロ環基の具体例としては、ピリジン環、ピペラジン環、チオフェン環、ピロール環、イミダゾール環、オキサゾール環、チアゾール環が挙げられる。これらは更に置換基を有していてもよい。前記ヘテロ環の中でもピリジン環が特に好ましい。 In general formula (II), the heterocyclic group represented by R 13 , R 14 , or R 15 is preferably a heterocyclic group having 4 to 14 carbon atoms, and is a heterocyclic group having 4 to 10 carbon atoms. It is more preferable that the heterocyclic group has 5 carbon atoms. Specific examples of the heterocyclic group represented by R 13 , R 14 and R 15 include a pyridine ring, piperazine ring, thiophene ring, pyrrole ring, imidazole ring, oxazole ring and thiazole ring. These may further have a substituent. Of the heterocycles, a pyridine ring is particularly preferred.
一般式(II)中、R13、R14、R15で表されるアルコキシ基は、直鎖であっても分岐を有していてもよく、また、無置換であっても置換基を有していてもよい。その炭素数は1〜30であることが好ましく、1〜20であることがより好ましい。このようなアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ノルマルプロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ノルマルブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、ターシャリーブチルオキシ基、ペンチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、ターシャリーオクチルオキシ基、2−エチルヘキシルオキシ基、デシルオキシ基、ドデシルオキシ基、オクタデシルオキシ基、2,3−ジブロモプロピルオキシ基、アダマンチルオキシ基、ベンジルオキシ基、4−ブロモベンジルオキシ基などが挙げられる。 In general formula (II), the alkoxy group represented by R 13 , R 14 , or R 15 may be linear or branched, and may be unsubstituted or substituted. You may do it. The carbon number is preferably 1-30, and more preferably 1-20. Examples of such alkoxy groups include methoxy, ethoxy, normal propyloxy, isopropyloxy, normal butyloxy, isobutyloxy, tertiary butyloxy, pentyloxy, cyclopentyloxy, hexyloxy. Group, cyclohexyloxy group, heptyloxy group, octyloxy group, tertiary octyloxy group, 2-ethylhexyloxy group, decyloxy group, dodecyloxy group, octadecyloxy group, 2,3-dibromopropyloxy group, adamantyloxy group, Examples include benzyloxy group and 4-bromobenzyloxy group.
一般式(II)中、R13、R14、R15で表されるアリールオキシ基は、無置換であっても置換基を有していてもよい。その炭素数は6〜30であることが好ましく、6〜20であることが特に好ましい。具体例としては、例えば、フェニルオキシ基、ナフチルオキシ基、アントラニルオキシ基などが挙げられる。 In general formula (II), the aryloxy groups represented by R 13 , R 14 , and R 15 may be unsubstituted or have a substituent. The carbon number is preferably 6 to 30, and particularly preferably 6 to 20. Specific examples include a phenyloxy group, a naphthyloxy group, an anthranyloxy group, and the like.
一般式(II)中、R13、R14、R15で表されるアルキルチオ基は、直鎖であっても分岐を有していてもよく、また、無置換であっても置換基を有していてもよい。その炭素数は1〜30であることが好ましく、1〜20であることがより好ましい。このようなアルキルチオ基としては、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、ノルマルプロピルチオ基、イソプロピルチオ基、ノルマルブチルチオ基、イソブチルチオ基、ターシャリーブチルチオ基、ペンチルチオ基、シクロペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、シクロヘキシルチオ基、ヘプチルチオ基、オクチルチオ基、ターシャリーオクチルチオ基、2−エチルヘキシルチオ基、デシルチオ基、ドデシルチオ基、オクタデシルチオ基、2,3−ジブロモプロピルチオ基、アダマンチルチオ基、ベンジルチオ基、4−ブロモベンジルチオ基などが挙げられる。 In general formula (II), the alkylthio group represented by R 13 , R 14 , or R 15 may be linear or branched, and may be unsubstituted or substituted. You may do it. The carbon number is preferably 1-30, and more preferably 1-20. Examples of such an alkylthio group include a methylthio group, an ethylthio group, a normal propylthio group, an isopropylthio group, a normal butylthio group, an isobutylthio group, a tertiary butylthio group, a pentylthio group, a cyclopentylthio group, a hexylthio group, Cyclohexylthio, heptylthio, octylthio, tertiary octylthio, 2-ethylhexylthio, decylthio, dodecylthio, octadecylthio, 2,3-dibromopropylthio, adamantylthio, benzylthio, 4- Examples include a bromobenzylthio group.
一般式(II)中、R13、R14、R15で表されるアリールチオ基は、無置換であっても置換基を有していてもよい。その炭素数は6〜30であることが好ましく、6〜20であることが特に好ましい。具体例としては、例えば、フェニルチオ基、ナフチルチオ基、アントラニルチオ基などが挙げられる。 In the general formula (II), the arylthio group represented by R 13 , R 14 and R 15 may be unsubstituted or may have a substituent. The carbon number is preferably 6 to 30, and particularly preferably 6 to 20. Specific examples include a phenylthio group, a naphthylthio group, an anthranylthio group, and the like.
一般式(II)中、R13、R14、R15で表されるアルコキシカルボニル基は、無置換であっても置換基を有していてもよい。その炭素数は1〜30であることが好ましく、1〜20であることがより好ましい。このようなアルコキシカルボニル基としては、メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基、ノルマルプロピルオキシカルボニル基、イソプロピルオキシカルボニル基、ノルマルブチルオキシカルボニル基、イソブチルオキシカルボニル基、ターシャリーブチルオキシカルボニル基、ペンチルオキシカルボニル基、シクロペンチルオキシカルボニル基、ヘキシルオキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基、ヘプチルオキシカルボニル基、オクチルオキシカルボニル基、ターシャリーオクチルオキシカルボニル基、2−エチルヘキシルオキシカルボニル基、デシルオキシカルボニル基、ドデシルオキシカルボニル基などが挙げられる。 In general formula (II), the alkoxycarbonyl groups represented by R 13 , R 14 , and R 15 may be unsubstituted or may have a substituent. The carbon number is preferably 1-30, and more preferably 1-20. Examples of such alkoxycarbonyl groups include methyloxycarbonyl group, ethyloxycarbonyl group, normal propyloxycarbonyl group, isopropyloxycarbonyl group, normal butyloxycarbonyl group, isobutyloxycarbonyl group, tertiary butyloxycarbonyl group, pentyloxy Carbonyl group, cyclopentyloxycarbonyl group, hexyloxycarbonyl group, cyclohexyloxycarbonyl group, heptyloxycarbonyl group, octyloxycarbonyl group, tertiary octyloxycarbonyl group, 2-ethylhexyloxycarbonyl group, decyloxycarbonyl group, dodecyloxycarbonyl group Group and the like.
一般式(II)中、R13、R14、R15で表されるアリールオキシカルボニル基、無置換であっても置換基を有していてもよい。その炭素数は7〜30であることが好ましく、7〜20であることが特に好ましい。具体例としては。例えば、フェニルオキシカルボニル基、ナフチルオキシカルボニル基、アントラニルオキシカルボニル基などが挙げられる。 In the general formula (II), the aryloxycarbonyl group represented by R 13 , R 14 , R 15 may be unsubstituted or may have a substituent. The carbon number is preferably 7-30, and particularly preferably 7-20. As a specific example. For example, a phenyloxycarbonyl group, a naphthyloxycarbonyl group, an anthranyloxycarbonyl group, etc. are mentioned.
一般式(II)中、R13、R14、R15で表されるアシルオキシ基は、無置換であっても置換基を有していてもよい。その炭素数は1〜30であることが好ましく、1〜20であることがより好ましい。このようなアシルオキシ基としては、メチルカルボニルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、ノルマルプロピルカルボニルオキシ基、イソプロピルカルボニルオキシ基、ノルマルブチルカルボニルオキシ基、イソブチルカルボニルオキシ基、ターシャリーブチルカルボニルオキシ基、ペンチルカルボニルオキシ基、シクロペンチルカルボニルオキシ基、ヘキシルカルボニルオキシ基、シクロヘキシルカルボニルオキシ基、ヘプチルカルボニルオキシ基、オクチルカルボニルオキシ基、ターシャリーオクチルカルボニルオキシ基、2−エチルヘキシルカルボニルオキシ基、デシルカルボニルオキシ基、ドデシルカルボニルオキシ基、ベンゾイルオキシ基などが挙げられる。 In general formula (II), the acyloxy groups represented by R 13 , R 14 and R 15 may be unsubstituted or may have a substituent. The carbon number is preferably 1-30, and more preferably 1-20. Examples of the acyloxy group include methylcarbonyloxy group, ethylcarbonyloxy group, normal propylcarbonyloxy group, isopropylcarbonyloxy group, normal butylcarbonyloxy group, isobutylcarbonyloxy group, tertiary butylcarbonyloxy group, pentylcarbonyloxy group. Group, cyclopentylcarbonyloxy group, hexylcarbonyloxy group, cyclohexylcarbonyloxy group, heptylcarbonyloxy group, octylcarbonyloxy group, tertiary octylcarbonyloxy group, 2-ethylhexylcarbonyloxy group, decylcarbonyloxy group, dodecylcarbonyloxy group And benzoyloxy group.
一般式(II)中、R13、R14、R15で表されるアシルアミノ基は、無置換であっても置換基を有していてもよい。その炭素数は1〜30であることが好ましく、1〜20であることがより好ましい。このようなアシルアミノ基としては、メチルカルボニルアミノ基、エチルカルボニルアミノ基、フェニルカルボニルアミノ基などが挙げられる。 In general formula (II), the acylamino groups represented by R 13 , R 14 , and R 15 may be unsubstituted or may have a substituent. The carbon number is preferably 1-30, and more preferably 1-20. Examples of such an acylamino group include a methylcarbonylamino group, an ethylcarbonylamino group, and a phenylcarbonylamino group.
一般式(II)中、R13、R14、R15で表されるスルホニルアミノ基は、無置換であっても置換基を有していてもよい。その炭素数は1〜30であることが好ましく、1〜20であることがより好ましい。このようなスルホニルアミノ基としては、メチルスルホニルアミノ基、エチルスルホニルアミノ基、フェニルスルホニルアミノ基などが挙げられる。 In the general formula (II), the sulfonylamino group represented by R 13 , R 14 , or R 15 may be unsubstituted or may have a substituent. The carbon number is preferably 1-30, and more preferably 1-20. Examples of such a sulfonylamino group include a methylsulfonylamino group, an ethylsulfonylamino group, and a phenylsulfonylamino group.
一般式(II)中、R13、R14、R15で表されるアミノ基は、一置換アミノ基であっても、二置換のアミノ基であってもよく、二置換のアミノ基が好ましい。無置換であっても置換基を有していてもよい。その炭素数は1〜30であることが好ましく、1〜20であることがより好ましい。このようなアミノ基としては、例えば、ジメチルアミノ基、ジフェニルアミノ基などが挙げられる。 In general formula (II), the amino group represented by R 13 , R 14 , or R 15 may be a mono-substituted amino group or a di-substituted amino group, and a di-substituted amino group is preferred. . It may be unsubstituted or may have a substituent. The carbon number is preferably 1-30, and more preferably 1-20. Examples of such an amino group include a dimethylamino group and a diphenylamino group.
一般式(II)中、R13、R14、R15で表されるアシル基は、無置換であっても置換基を有していてもよい。その炭素数は1〜30であることが好ましく、1〜20であることがより好ましい。このようなアシル基としては、アセチル基、ベンゾイル基などが挙げられる。 In general formula (II), the acyl groups represented by R 13 , R 14 and R 15 may be unsubstituted or may have a substituent. The carbon number is preferably 1-30, and more preferably 1-20. Examples of such an acyl group include an acetyl group and a benzoyl group.
一般式(II)中、R13、R14、R15で表されるハロゲン基としては、クロロ基、ブロモ基、ヨード基などが挙げられ、ブロモ基が好ましい。 In the general formula (II), examples of the halogen group represented by R 13 , R 14 , and R 15 include a chloro group, a bromo group, and an iodo group, and a bromo group is preferable.
一般式(II)中、R1、R12、R13、R14、R15で表される基が更に置換基を有する場合、置換基としては、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アリールオキシ、アルキルチオ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アミノ基、アシル基、アルキルアミノカルボニル基、アリールアミノカルボニル基、スルホンアミド基、シアノ基、カルボキシ基、水酸基、スルホン酸基などが挙げられる。これらの中でも、ハロゲン原子、アルコキシ基、アルキルチオ基が特に好ましい。また、置換基として一般式(II)で表される環状アリルスルフィド化合物が置換した場合は、多官能体を表す。 In the general formula (II), when the group represented by R 1 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 further has a substituent, the substituent includes a halogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, and an alkoxy group. , Aryloxy, alkylthio group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, amino group, acyl group, alkylaminocarbonyl group, arylaminocarbonyl group, sulfonamido group, cyano group, carboxy group, hydroxyl group, sulfonic acid group, etc. It is done. Among these, a halogen atom, an alkoxy group, and an alkylthio group are particularly preferable. When the cyclic allyl sulfide compound represented by the general formula (II) is substituted as a substituent, it represents a polyfunctional compound.
一般式(II)中、m1は0または1の整数を表す。m1は1であることが好ましい。 In general formula (II), m1 represents an integer of 0 or 1. m1 is preferably 1.
一般式(II)で表される化合物の好ましい態様としては、R1およびR12は、それぞれ独立に水素原子またはメチル基を表し、R13、R14およびR15はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アミノ基またはアシル基を表す化合物を挙げることができる。より好ましい態様としては、一般式(II)中、R1およびR12がそれぞれ独立に水素原子またはメチル基であり、R13およびR14がそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アミノ基、アシル基であり、R15が水素原子、アルキル基、アリール基、アシルオキシ基であり、かつm1が0または1である化合物を挙げることができる。更に好ましい態様としては、一般式(II)中、R1およびR12が水素原子またはメチル基であり、R13およびR14がそれぞれ独立に水素原子またはメチル基であり、R15がアルキル基またはアシルオキシ基であり、かつm1が0または1である化合物を挙げることができる。よりいっそう好ましい態様としては、一般式(II)中、R1およびR12がいずれも水素原子であり、R13、R14およびR15は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基またはアシルオキシ基であり、m1が1である化合物を挙げることができる。最も好ましい態様としては、R1およびR12がいずれも水素原子であり、R13、R14が水素原子であり、R15がアシルオキシ基であり、かつm1が1である化合物を挙げることができる。 In a preferred embodiment of the compound represented by the general formula (II), R 1 and R 12 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group, and R 13 , R 14 and R 15 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl And a compound representing a group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, an acyloxy group, an acylamino group, an amino group, or an acyl group. In a more preferred embodiment, in general formula (II), R 1 and R 12 are each independently a hydrogen atom or a methyl group, and R 13 and R 14 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group. , Aryloxy group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, acyloxy group, acylamino group, amino group, acyl group, R 15 is a hydrogen atom, alkyl group, aryl group, acyloxy group, and m1 is 0 or The compound which is 1 can be mentioned. In a more preferred embodiment, in general formula (II), R 1 and R 12 are a hydrogen atom or a methyl group, R 13 and R 14 are each independently a hydrogen atom or a methyl group, and R 15 is an alkyl group or The compound which is an acyloxy group and m1 is 0 or 1 can be mentioned. In a more preferred embodiment, in general formula (II), R 1 and R 12 are both hydrogen atoms, and R 13 , R 14 and R 15 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group. And a compound in which m1 is 1 is a group, an aryloxy group or an acyloxy group. The most preferred embodiment is a compound in which R 1 and R 12 are both hydrogen atoms, R 13 and R 14 are hydrogen atoms, R 15 is an acyloxy group, and m1 is 1. .
一般式(III)で表される環状アリルスルフィド化合物Cyclic allyl sulfide compound represented by general formula (III)
一般式(III)中、R1は一般式(I)における定義と同義であり、R23、R24およびR25はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、アミノ基、アシル基またはハロゲン基を表し、m2は0または1を表す。 In general formula (III), R 1 has the same definition as in general formula (I), and R 23 , R 24 and R 25 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an alkoxy group, An aryloxy group, an alkylthio group, an arylthio group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, an acyloxy group, an acylamino group, a sulfonylamino group, an amino group, an acyl group, or a halogen group, and m2 represents 0 or 1.
一般式(III)中、R1、R23、R24、R25で表されるアルキル基の詳細は、上述した一般式(I)中のアルキル基の説明と同様である。 The details of the alkyl group represented by R 1 , R 23 , R 24 , R 25 in general formula (III) are the same as those described above for the alkyl group in general formula (I).
一般式(III)中、R23、R24、R25で表されるアリール基としては、無置換であっても置換基を有していてもよい。その炭素数は6〜30であることが好ましく、6〜20であることが特に好ましい。アリール基の具体例としては、例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラニル基などが挙げられる。これらは更に置換基を有していてもよい。 In the general formula (III), the aryl group represented by R 23 , R 24 and R 25 may be unsubstituted or may have a substituent. The carbon number is preferably 6 to 30, and particularly preferably 6 to 20. Specific examples of the aryl group include a phenyl group, a naphthyl group, and an anthranyl group. These may further have a substituent.
一般式(III)中、R23、R24、R25で表されるヘテロ環基は、炭素数4〜14のヘテロ環基であることが好ましく、炭素数4〜10のヘテロ環基であることがより好ましく、炭素数5のヘテロ環基であることが特に好ましい。R23、R24、R25で表されるヘテロ環基の具体例としては、ピリジン環、ピペラジン環、チオフェン環、ピロール環、イミダゾール環、オキサゾール環、チアゾール環が挙げられる。これらは更に置換基を有していてもよい。前記ヘテロ環の中でもピリジン環が特に好ましい。 In general formula (III), the heterocyclic group represented by R 23 , R 24 , or R 25 is preferably a heterocyclic group having 4 to 14 carbon atoms, and is a heterocyclic group having 4 to 10 carbon atoms. It is more preferable that the heterocyclic group has 5 carbon atoms. Specific examples of the heterocyclic group represented by R 23 , R 24 and R 25 include a pyridine ring, piperazine ring, thiophene ring, pyrrole ring, imidazole ring, oxazole ring and thiazole ring. These may further have a substituent. Of the heterocycles, a pyridine ring is particularly preferred.
一般式(III)中、R23、R24、R25で表されるアルコキシ基は、直鎖であっても分岐を有していてもよく、また、無置換であっても置換基を有していてもよい。その炭素数は1〜30であることが好ましく、1〜20であることがより好ましい。このようなアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ノルマルプロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ノルマルブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、ターシャリーブチルオキシ基、ペンチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、ターシャリーオクチルオキシ基、2−エチルヘキシルオキシ基、デシルオキシ基、ドデシルオキシ基、オクタデシルオキシ基、2,3−ジブロモプロピルオキシ基、アダマンチルオキシ基、ベンジルオキシ基、4−ブロモベンジルオキシ基などが挙げられる。 In general formula (III), the alkoxy groups represented by R 23 , R 24 and R 25 may be linear or branched, and may be unsubstituted or substituted. You may do it. The carbon number is preferably 1-30, and more preferably 1-20. Examples of such alkoxy groups include methoxy, ethoxy, normal propyloxy, isopropyloxy, normal butyloxy, isobutyloxy, tertiary butyloxy, pentyloxy, cyclopentyloxy, hexyloxy. Group, cyclohexyloxy group, heptyloxy group, octyloxy group, tertiary octyloxy group, 2-ethylhexyloxy group, decyloxy group, dodecyloxy group, octadecyloxy group, 2,3-dibromopropyloxy group, adamantyloxy group, Examples include benzyloxy group and 4-bromobenzyloxy group.
一般式(III)中、R23、R24、R25で表されるアリールオキシ基は、無置換であっても置換基を有していてもよい。その炭素数は6〜30であることが好ましく、6〜20であることが特に好ましい。具体例としては、例えば、フェニルオキシ基、ナフチルオキシ基、アントラニルオキシ基などが挙げられる。 In general formula (III), the aryloxy groups represented by R 23 , R 24 , and R 25 may be unsubstituted or have a substituent. The carbon number is preferably 6 to 30, and particularly preferably 6 to 20. Specific examples include a phenyloxy group, a naphthyloxy group, an anthranyloxy group, and the like.
一般式(III)中、R23、R24、R25で表されるアルキルチオ基は、直鎖であっても分岐を有していてもよく、また、無置換であっても置換基を有していてもよい。その炭素数は1〜30であることが好ましく、1〜20であることがより好ましい。このようなアルキルチオ基としては、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、ノルマルプロピルチオ基、イソプロピルチオ基、ノルマルブチルチオ基、イソブチルチオ基、ターシャリーブチルチオ基、ペンチルチオ基、シクロペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、シクロヘキシルチオ基、ヘプチルチオ基、オクチルチオ基、ターシャリーオクチルチオ基、2−エチルヘキシルチオ基、デシルチオ基、ドデシルチオ基、オクタデシルチオ基、2,3−ジブロモプロピルチオ基、アダマンチルチオ基、ベンジルチオ基、4−ブロモベンジルチオ基などが挙げられる。 In general formula (III), the alkylthio groups represented by R 23 , R 24 , and R 25 may be linear or branched, and may be unsubstituted or substituted. You may do it. The carbon number is preferably 1-30, and more preferably 1-20. Examples of such an alkylthio group include a methylthio group, an ethylthio group, a normal propylthio group, an isopropylthio group, a normal butylthio group, an isobutylthio group, a tertiary butylthio group, a pentylthio group, a cyclopentylthio group, a hexylthio group, Cyclohexylthio, heptylthio, octylthio, tertiary octylthio, 2-ethylhexylthio, decylthio, dodecylthio, octadecylthio, 2,3-dibromopropylthio, adamantylthio, benzylthio, 4- Examples include a bromobenzylthio group.
一般式(III)中、R23、R24、R25で表されるアリールチオ基は、無置換であっても置換基を有していてもよい。その炭素数は6〜30であることが好ましく、6〜20であることが特に好ましい。具体例としては、例えば、フェニルチオ基、ナフチルチオ基、アントラニルチオ基などが挙げられる。 In general formula (III), the arylthio groups represented by R 23 , R 24 and R 25 may be unsubstituted or may have a substituent. The carbon number is preferably 6 to 30, and particularly preferably 6 to 20. Specific examples include a phenylthio group, a naphthylthio group, an anthranylthio group, and the like.
一般式(III)中、R23、R24、R25で表されるアルコキシカルボニル基は、無置換であっても置換基を有していてもよい。その炭素数は1〜30であることが好ましく、1〜20であることがより好ましい。このようなアルコキシカルボニル基としては、メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基、ノルマルプロピルオキシカルボニル基、イソプロピルオキシカルボニル基、ノルマルブチルオキシカルボニル基、イソブチルオキシカルボニル基、ターシャリーブチルオキシカルボニル基、ペンチルオキシカルボニル基、シクロペンチルオキシカルボニル基、ヘキシルオキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基、ヘプチルオキシカルボニル基、オクチルオキシカルボニル基、ターシャリーオクチルオキシカルボニル基、2−エチルヘキシルオキシカルボニル基、デシルオキシカルボニル基、ドデシルオキシカルボニル基などが挙げられる。 In general formula (III), the alkoxycarbonyl group represented by R 23 , R 24 and R 25 may be unsubstituted or may have a substituent. The carbon number is preferably 1-30, and more preferably 1-20. Examples of such alkoxycarbonyl groups include methyloxycarbonyl group, ethyloxycarbonyl group, normal propyloxycarbonyl group, isopropyloxycarbonyl group, normal butyloxycarbonyl group, isobutyloxycarbonyl group, tertiary butyloxycarbonyl group, pentyloxy Carbonyl group, cyclopentyloxycarbonyl group, hexyloxycarbonyl group, cyclohexyloxycarbonyl group, heptyloxycarbonyl group, octyloxycarbonyl group, tertiary octyloxycarbonyl group, 2-ethylhexyloxycarbonyl group, decyloxycarbonyl group, dodecyloxycarbonyl group Group and the like.
一般式(III)中、R23、R24、R25で表されるアリールオキシカルボニル基は、無置換であっても置換基を有していてもよい。その炭素数は7〜30であることが好ましく、7〜20であることが特に好ましい。具体例としては。例えば、フェニルオキシカルボニル基、ナフチルオキシカルボニル基、アントラニルオキシカルボニル基などが挙げられる。 In general formula (III), the aryloxycarbonyl group represented by R 23 , R 24 and R 25 may be unsubstituted or may have a substituent. The carbon number is preferably 7-30, and particularly preferably 7-20. As a specific example. For example, a phenyloxycarbonyl group, a naphthyloxycarbonyl group, an anthranyloxycarbonyl group, etc. are mentioned.
一般式(III)中、R23、R24、R25で表されるアシルオキシ基は、無置換であっても置換基を有していてもよい。その炭素数は1〜30であることが好ましく、1〜20であることがより好ましい。このようなアシルオキシ基としては、メチルカルボニルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、ノルマルプロピルカルボニルオキシ基、イソプロピルカルボニルオキシ基、ノルマルブチルカルボニルオキシ基、イソブチルカルボニルオキシ基、ターシャリーブチルカルボニルオキシ基、ペンチルカルボニルオキシ基、シクロペンチルカルボニルオキシ基、ヘキシルカルボニルオキシ基、シクロヘキシルカルボニルオキシ基、ヘプチルカルボニルオキシ基、オクチルカルボニルオキシ基、ターシャリーオクチルカルボニルオキシ基、2−エチルヘキシルカルボニルオキシ基、デシルカルボニルオキシ基、ドデシルカルボニルオキシ基、ベンゾイルオキシ基などが挙げられる。 In general formula (III), the acyloxy groups represented by R 23 , R 24 and R 25 may be unsubstituted or may have a substituent. The carbon number is preferably 1-30, and more preferably 1-20. Examples of the acyloxy group include methylcarbonyloxy group, ethylcarbonyloxy group, normal propylcarbonyloxy group, isopropylcarbonyloxy group, normal butylcarbonyloxy group, isobutylcarbonyloxy group, tertiary butylcarbonyloxy group, pentylcarbonyloxy group. Group, cyclopentylcarbonyloxy group, hexylcarbonyloxy group, cyclohexylcarbonyloxy group, heptylcarbonyloxy group, octylcarbonyloxy group, tertiary octylcarbonyloxy group, 2-ethylhexylcarbonyloxy group, decylcarbonyloxy group, dodecylcarbonyloxy group And benzoyloxy group.
一般式(III)中、R23、R24、R25で表されるアシルアミノ基は、無置換であっても置換基を有していてもよい。その炭素数は1〜30であることが好ましく、1〜20であることがより好ましい。このようなアシルアミノ基としては、メチルカルボニルアミノ基、エチルカルボニルアミノ基、フェニルカルボニルアミノ基などが挙げられる。 In general formula (III), the acylamino group represented by R 23 , R 24 , or R 25 may be unsubstituted or may have a substituent. The carbon number is preferably 1-30, and more preferably 1-20. Examples of such an acylamino group include a methylcarbonylamino group, an ethylcarbonylamino group, and a phenylcarbonylamino group.
一般式(III)中、R23、R24、R25で表されるスルホニルアミノ基は、無置換であっても置換基を有していてもよい。その炭素数は1〜30であることが好ましく、1〜20であることがより好ましい。このようなスルホニルアミノ基としては、メチルスルホニルアミノ基、エチルスルホニルアミノ基、フェニルスルホニルアミノ基などが挙げられる。 In the general formula (III), the sulfonylamino group represented by R 23 , R 24 and R 25 may be unsubstituted or may have a substituent. The carbon number is preferably 1-30, and more preferably 1-20. Examples of such a sulfonylamino group include a methylsulfonylamino group, an ethylsulfonylamino group, and a phenylsulfonylamino group.
一般式(III)中、R23、R24、R25で表されるアミノ基は、一置換アミノ基であっても、二置換のアミノ基であってもよく、二置換のアミノ基が好ましい。無置換であっても置換基を有していてもよい。その炭素数は1〜30であることが好ましく、1〜20であることがより好ましい。このようなアミノ基としては、例えば、ジメチルアミノ基、ジフェニルアミノ基などが挙げられる。 In general formula (III), the amino group represented by R 23 , R 24 and R 25 may be a mono-substituted amino group or a di-substituted amino group, and a di-substituted amino group is preferred. . It may be unsubstituted or may have a substituent. The carbon number is preferably 1-30, and more preferably 1-20. Examples of such an amino group include a dimethylamino group and a diphenylamino group.
一般式(III)中、R23、R24、R25で表されるアシル基は、無置換であっても置換基を有していてもよい。その炭素数は1〜30であることが好ましく、1〜20であることがより好ましい。このようなアシル基としては、アセチル基、ベンゾイル基などが挙げられる。 In general formula (III), the acyl groups represented by R 23 , R 24 and R 25 may be unsubstituted or may have a substituent. The carbon number is preferably 1-30, and more preferably 1-20. Examples of such an acyl group include an acetyl group and a benzoyl group.
一般式(III)中、R23、R24、R25で表されるハロゲン基としては、クロロ基、ブロモ基、ヨード基などが挙げられ、ブロモ基が好ましい。 In the general formula (III), examples of the halogen group represented by R 23 , R 24 , and R 25 include a chloro group, a bromo group, and an iodo group, and a bromo group is preferable.
一般式(III)中、R1、R23、R24、R25で表される基が更に置換基を有する場合、置換基としては、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アリールオキシ、アルキルチオ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アミノ基、アシル基、アルキルアミノカルボニル基、アリールアミノカルボニル基、スルホンアミド基、シアノ基、カルボキシ基、水酸基、スルホン酸基などが挙げられる。これらの中でも、ハロゲン原子、アルコキシ基、アルキルチオ基が特に好ましい。また、置換基として一般式(III)で表される環状アリルスルフィド化合物が置換した場合は、多官能体を表す。 In the general formula (III), when the group represented by R 1 , R 23 , R 24 , or R 25 further has a substituent, examples of the substituent include a halogen atom, alkyl group, alkenyl group, alkoxy group, aryloxy Alkylthio group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, amino group, acyl group, alkylaminocarbonyl group, arylaminocarbonyl group, sulfonamido group, cyano group, carboxy group, hydroxyl group, sulfonic acid group and the like. Among these, a halogen atom, an alkoxy group, and an alkylthio group are particularly preferable. When the cyclic allyl sulfide compound represented by the general formula (III) is substituted as a substituent, it represents a polyfunctional compound.
一般式(III)中、m2は0または1の整数を表す。m2は0であることが好ましい。 In general formula (III), m2 represents an integer of 0 or 1. m2 is preferably 0.
一般式(III)で表される化合物の好ましい態様としては、R1は、水素原子またはメチル基を表し、R23、R24およびR25はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アミノ基またはアシル基を表す化合物を挙げることができる。より好ましい態様としては、一般式(III)中、R1が水素原子またはメチル基であり、R23およびR24がそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アミノ基、アシル基であり、R25が水素原子、アルキル基、アリール基、アシルオキシ基であり、かつm2が0または1である化合物を挙げることができる。更に好ましい態様としては、一般式(III)中、R1が水素原子またはメチル基であり、R23およびR24がそれぞれ独立に水素原子またはメチル基であり、R25がアルキル基またはアシルオキシ基であり、かつm2が0または1である化合物を挙げることができる。よりいっそう好ましい態様としては、一般式(III)中、R1がメチル基であり、R23、R24およびR25は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基またはアシルオキシ基であり、m2が0である化合物を挙げることができる。最も好ましい態様としては、R1がメチル基であり、R23、R24が水素原子であり、R25がアシルオキシ基であり、かつm2が0である化合物を挙げることができる。 In a preferred embodiment of the compound represented by the general formula (III), R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, and R 23 , R 24 and R 25 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group. And a compound representing a group, an aryloxy group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, an acyloxy group, an acylamino group, an amino group, or an acyl group. In a more preferred embodiment, in general formula (III), R 1 is a hydrogen atom or a methyl group, and R 23 and R 24 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkoxy group. Examples include a carbonyl group, an aryloxycarbonyl group, an acyloxy group, an acylamino group, an amino group, and an acyl group, R 25 is a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, and an acyloxy group, and m2 is 0 or 1. be able to. In a more preferred embodiment, in general formula (III), R 1 is a hydrogen atom or a methyl group, R 23 and R 24 are each independently a hydrogen atom or a methyl group, and R 25 is an alkyl group or an acyloxy group. And a compound in which m2 is 0 or 1. In a more preferred embodiment, in general formula (III), R 1 is a methyl group, and R 23 , R 24 and R 25 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group. Alternatively, a compound that is an acyloxy group and m2 is 0 can be given. A most preferred embodiment is a compound in which R 1 is a methyl group, R 23 and R 24 are hydrogen atoms, R 25 is an acyloxy group, and m2 is 0.
前記ラジカル重合性化合物は、記録感度の観点から、200〜1000nmの範囲の吸収スペクトルにおいて、5,000mol・l・cm-1以上のモル吸光係数を示すことが好ましく、200〜500nmの範囲の吸収スペクトルにおいて、5,000mol・l・cm-1以上のモル吸光係数を示すことが更に好ましい。5,000mol・l・cm-1以上のモル吸光係数を示す波長をλ1とすると、前記ラジカル重合性化合物は、記録感度の点からは、波長λ1に吸収極大を有することが好ましい。吸収極大波長におけるモル吸光係数は、10,000mol・l・cm-1以上であることが好ましく、30,000mol・l・cm-1以上であることが更に好ましく、100,000mol・l・cm-1以上であることが特に好ましい。吸収極大におけるモル吸光係数の上限は特に限定されるものではないが、例えば200,000 mol・l・cm-1程度である。
上記吸収特性は、化合物を塩化メチレン等の適当な溶媒に溶解して得られた溶液について、紫外可視分光光度計を用いて測定される吸収スペクトルから求めることができる。
From the viewpoint of recording sensitivity, the radical polymerizable compound preferably exhibits a molar extinction coefficient of 5,000 mol·l · cm −1 or more in an absorption spectrum in the range of 200 to 1000 nm, and has an absorption in the range of 200 to 500 nm. More preferably, the spectrum shows a molar extinction coefficient of 5,000 mol·l · cm −1 or more. When the wavelength showing a molar extinction coefficient of 5,000 mol·l · cm −1 or more is λ 1 , the radical polymerizable compound preferably has an absorption maximum at the wavelength λ 1 from the viewpoint of recording sensitivity. Molar extinction coefficient at the absorption maximum wavelength is preferably at 10,000mol · l · cm -1 or more, further preferably 30,000mol · l · cm -1 or more, 100,000mol · l · cm - It is particularly preferable that the number is 1 or more. The upper limit of the molar extinction coefficient at the absorption maximum is not particularly limited, but is, for example, about 200,000 mol·l · cm −1 .
The absorption characteristics can be determined from an absorption spectrum measured using a UV-visible spectrophotometer for a solution obtained by dissolving the compound in an appropriate solvent such as methylene chloride.
前述の吸収特性を得るためには、一般式(I)で表される化合物が下記一般式(C−1)、(C−2)、(C−3)、(C―4)、(C−5)または(C−6)で表される部分構造を少なくとも一種含むことが好ましい。一般式(I)で表される化合物は、例えば、上記部分構造を1分子中に少なくとも1つ含むことができるが、1分子中の上記部分構造の数は、前述の吸収特性が得られれば特に限定されるものではない。但し、前述の吸収特性を有する一般式(I)で表される化合物は、下記一般式(C−1)〜(C−6)で表される部分構造を含むものに限定されるものではない。なお、部分構造として含むということは、一般式(I)、一般式(II)または一般式(III)で表される化合物に、一般式(C−1)、(C−2)、(C−3)、(C―4)、(C−5)または(C−6)で表される部分構造が同一分子として含まれることを示す。
具体的には、一般式(I)、(II)、(III)における置換基として、一般式(C−1)、(C−2)、(C−3)、(C―4)、(C−5)または(C−6)で表される構造が連結されている状態である。
In order to obtain the aforementioned absorption characteristics, the compound represented by the general formula (I) is represented by the following general formulas (C-1), (C-2), (C-3), (C-4), (C It is preferable that at least one partial structure represented by −5) or (C-6) is included. The compound represented by the general formula (I) can contain, for example, at least one of the above partial structures in one molecule, but the number of the above partial structures in one molecule can be as long as the above-described absorption characteristics are obtained. It is not particularly limited. However, the compound represented by the general formula (I) having the above-described absorption characteristics is not limited to those including the partial structures represented by the following general formulas (C-1) to (C-6). . The inclusion as a partial structure means that the compound represented by the general formula (I), the general formula (II) or the general formula (III) is added to the general formula (C-1), (C-2), (C -3), the partial structure represented by (C-4), (C-5) or (C-6) is included as the same molecule.
Specifically, as substituents in the general formulas (I), (II), and (III), the general formulas (C-1), (C-2), (C-3), (C-4), ( The structure represented by C-5) or (C-6) is linked.
一般式(I)、一般式(II)または一般式(III)で表される化合物に一般式(C−1)、(C−2)、(C−3)、(C―4)、(C−5)または(C−6)で表される構造が連結された場合は、その連結基はアルキレン基、フェニレン基、−O−、−S−、−CO−、−NR46−から選ばれる基またはそれらの二種以上の組み合わせから構成されることが好ましい。なかでもアルキレン基、−O−、−S−、−CO−またはそれらの二種以上の組み合わせが好ましく、アルキレン基、−O−、−CO−またはそれらの二種以上の組み合わせがより好ましく、アルキレン基、−O−またはそれらの組み合わせが特に好ましく、−(OCH2CH2)−の構成単位を有するエチレンオキシド鎖が最も好ましい。 Compounds represented by general formula (I), general formula (II) or general formula (III) are represented by general formulas (C-1), (C-2), (C-3), (C-4), ( When the structure represented by C-5) or (C-6) is linked, the linking group is selected from an alkylene group, a phenylene group, —O—, —S—, —CO—, and —NR 46 —. Or a combination of two or more thereof. Of these, an alkylene group, —O—, —S—, —CO— or a combination of two or more thereof is preferable, and an alkylene group, —O—, —CO— or a combination of two or more thereof is more preferable. The group, —O— or a combination thereof is particularly preferred, and an ethylene oxide chain having a structural unit of — (OCH 2 CH 2 ) — is most preferred.
以下に、一般式(C−1)、(C−2)、(C−3)、(C―4)、(C−5)または(C−6)で表される部分構造について説明する。 Below, the partial structure represented by general formula (C-1), (C-2), (C-3), (C-4), (C-5) or (C-6) is demonstrated.
一般式(C−1)〜(C−6)中、R31、R32、R33、R34、R37、R38、R39、R40、R41、R42、R43、R44、R45で表されるアルキル基の詳細は、一般式(I)中のアルキル基の説明と同様である In the general formulas (C-1) to (C-6), R 31 , R 32 , R 33 , R 34 , R 37 , R 38 , R 39 , R 40 , R 41 , R 42 , R 43 , R 44 The details of the alkyl group represented by R 45 are the same as those described for the alkyl group in formula (I).
一般式(C−1)〜(C−6)中、R31、R32、R33、R34、R37、R41、R42、R43、R44、R45で表されるアリール基の詳細は、一般式(I)中のアリール基の説明と同様である。 In the general formulas (C-1) to (C-6), an aryl group represented by R 31 , R 32 , R 33 , R 34 , R 37 , R 41 , R 42 , R 43 , R 44 , R 45 The details of are the same as those described for the aryl group in formula (I).
一般式(C−1)〜(C−6)中、R31、R32、R33、R34、R37、R41、R42で表されるヘテロ環基の詳細は、一般式(I)中のヘテロ環基の説明と同様である。 In the general formulas (C-1) to (C-6), the details of the heterocyclic groups represented by R 31 , R 32 , R 33 , R 34 , R 37 , R 41 , R 42 are as follows. It is the same as the explanation of the heterocyclic group in
一般式(C−1)〜(C−6)中、R31、R32、R33、R34、R37で表されるアルコキシ基の詳細は、一般式(I)中のアルコキシ基の説明と同様である。 In the general formulas (C-1) to (C-6), the details of the alkoxy group represented by R 31 , R 32 , R 33 , R 34 , R 37 are explained for the alkoxy group in the general formula (I). It is the same.
一般式(C−1)〜(C−6)中、R31、R32、R33、R34、R37で表されるアリールオキシ基の詳細は、一般式(I)のアリールオキシ基の説明と同様である。 In the general formulas (C-1) to (C-6), the details of the aryloxy group represented by R 31 , R 32 , R 33 , R 34 , and R 37 are the same as those of the aryloxy group of the general formula (I). It is the same as the description.
一般式(C−1)〜(C−6)中、R31、R32、R33、R34、R37で表されるアルコキシカルボニル基の詳細は、一般式(I)中のアルコキシカルボニル基の説明と同様である。 In the general formulas (C-1) to (C-6), the details of the alkoxycarbonyl group represented by R 31 , R 32 , R 33 , R 34 , R 37 are the alkoxycarbonyl groups in the general formula (I). It is the same as that of description.
一般式(C−1)〜(C−6)中、R31、R32、R33、R34、R37で表されるアリールオキシカルボニル基の詳細は、一般式(I)中のアリールオキシカルボニル基の説明と同様である。 In the general formulas (C-1) to (C-6), the details of the aryloxycarbonyl group represented by R 31 , R 32 , R 33 , R 34 , R 37 are the aryloxy in the general formula (I). The same as described for the carbonyl group.
一般式(C−1)〜(C−6)中、R31、R32、R33、R34、R37、R41、R42で表されるアシル基としては、炭素数1〜10のものが好ましく、炭素数1〜6のものがより好ましく、炭素数4のものが最も好ましい。具体的にはメチルカルボニル基、エチルカルボニル基、ノルマルプロピルカルボニル基、イソプロピルカルボニル基、ノルマルブチルカルボニル基、イソブチルカルボニル基、ターシャリーブチルカルボニル基、ペンチルカルボニル基、シクロペンチルカルボニル基、ヘキシルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、ヘプチルカルボニル基、オクチルカルボニル基、ターシャリーオクチルカルボニル基、2−エチルヘキシルカルボニル基、デシルカルボニル基、ドデシルカルボニル基、ベンゾイル基などが挙げられる。 In the general formulas (C-1) to (C-6), the acyl group represented by R 31 , R 32 , R 33 , R 34 , R 37 , R 41 , R 42 has 1 to 10 carbon atoms. Those having 1 to 6 carbon atoms are more preferable, and those having 4 carbon atoms are most preferable. Specifically, methylcarbonyl group, ethylcarbonyl group, normal propylcarbonyl group, isopropylcarbonyl group, normal butylcarbonyl group, isobutylcarbonyl group, tertiary butylcarbonyl group, pentylcarbonyl group, cyclopentylcarbonyl group, hexylcarbonyl group, cyclohexylcarbonyl Group, heptylcarbonyl group, octylcarbonyl group, tertiary octylcarbonyl group, 2-ethylhexylcarbonyl group, decylcarbonyl group, dodecylcarbonyl group, benzoyl group and the like.
一般式(C−1)〜(C−6)中、R31、R32、R33、R34、R37、R41、R42で表されるスルホニル基としては、炭素数1〜10のものが好ましく、炭素数1〜6のものがより好ましく、炭素数1〜4のものが最も好ましい。具体的にはメチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ノルマルプロピルスルホニル基、イソプロピルスルホニル基、ノルマルブチルスルホニル基、イソブチルスルホニル基、ターシャリーブチルスルホニル基、ペンチルスルホニル基、シクロペンチルスルホニル基、ヘキシルスルホニル基、シクロヘキシルスルホニル基、ヘプチルスルホニル基、オクチルスルホニル基、ターシャリーオクチルスルホニル基、2−エチルヘキシルスルホニル基、デシルスルホニル基、ドデシルスルホニル基、などが挙げられる。 In formula (C-1) ~ (C -6), as a sulfonyl group represented by R 31, R 32, R 33 , R 34, R 37, R 41, R 42, 1 to 10 carbon atoms Those having 1 to 6 carbon atoms are more preferable, and those having 1 to 4 carbon atoms are most preferable. Specifically, methylsulfonyl group, ethylsulfonyl group, normal propylsulfonyl group, isopropylsulfonyl group, normal butylsulfonyl group, isobutylsulfonyl group, tertiary butylsulfonyl group, pentylsulfonyl group, cyclopentylsulfonyl group, hexylsulfonyl group, cyclohexylsulfonyl Group, heptylsulfonyl group, octylsulfonyl group, tertiary octylsulfonyl group, 2-ethylhexylsulfonyl group, decylsulfonyl group, dodecylsulfonyl group, and the like.
一般式(C−1)〜(C−6)中、R31、R32、R33、R34、R37で表されるカルバモイル基としては、炭素数1〜12のカルバモイル基が好ましく、炭素数1〜6のカルバモイル基がより好ましい。このようなカルバモイル基としては、例えばメチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基、ノルマルプロピルカルバモイル基、イソプロピルカルバモイル基、ノルマルブチルカルバモイル基、イソブチルカルバモイル基、ターシャリーブチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基などが挙げられる。該カルバモイル基は置換基で更に置換されていてもよい。 In the general formulas (C-1) to (C-6), the carbamoyl group represented by R 31 , R 32 , R 33 , R 34 , R 37 is preferably a carbamoyl group having 1 to 12 carbon atoms. A carbamoyl group having 1 to 6 is more preferable. Examples of such a carbamoyl group include a methylcarbamoyl group, an ethylcarbamoyl group, a normalpropylcarbamoyl group, an isopropylcarbamoyl group, a normalbutylcarbamoyl group, an isobutylcarbamoyl group, a tertiary butylcarbamoyl group, and a phenylcarbamoyl group. The carbamoyl group may be further substituted with a substituent.
一般式(C−1)〜(C−6)中、R31、R32、R33、R34、R37で表されるスルファモイル基としては、炭素数1〜12のスルファモイル基が好ましく、炭素数1〜6のスルファモイル基がより好ましい。このようなスルファモイル基としては、例えばメチルスルファモイル基、エチルスルファモイル基、ノルマルプロピルスルファモイル基、イソプロピルスルファモイル基、ノルマルブチルスルファモイル基、イソブチルスルファモイル基、ターシャリーブチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基などが挙げられる。該スルファモイル基は置換基で更に置換されていてもよい。 In the general formulas (C-1) to (C-6), the sulfamoyl group represented by R 31 , R 32 , R 33 , R 34 , R 37 is preferably a sulfamoyl group having 1 to 12 carbon atoms. A sulfamoyl group of 1 to 6 is more preferable. Examples of such a sulfamoyl group include a methylsulfamoyl group, an ethylsulfamoyl group, a normalpropylsulfamoyl group, an isopropylsulfamoyl group, a normalbutylsulfamoyl group, an isobutylsulfamoyl group, and tertiary butyl. Examples thereof include a sulfamoyl group and a phenylsulfamoyl group. The sulfamoyl group may be further substituted with a substituent.
一般式(C−1)〜(C−6)中、R31、R32、R33、R34、R37で表されるアミノ基の詳細は、一般式(I)中のアミノ基の説明と同様である。 In the general formulas (C-1) to (C-6), the details of the amino groups represented by R 31 , R 32 , R 33 , R 34 , and R 37 are explained for the amino group in the general formula (I). It is the same.
一般式(C−1)〜(C−6)中、R31、R32、R33、R34、R37で表されるアシルオキシ基の詳細は、一般式(I)中のアシルオキシ基の説明と同様である。 In the general formulas (C-1) to (C-6), the details of the acyloxy group represented by R 31 , R 32 , R 33 , R 34 , R 37 are explained for the acyloxy group in the general formula (I). It is the same.
一般式(C−1)〜(C−6)中、R31、R32、R33、R34、R37で表されるアシルアミノ基の詳細は、一般式(I)中のアシルアミノ基の説明と同様である。 In the general formulas (C-1) to (C-6), the details of the acylamino group represented by R 31 , R 32 , R 33 , R 34 , R 37 are explained for the acylamino group in the general formula (I). It is the same.
一般式(C−1)〜(C−6)中、R31、R32、R33、R34、R37で表されるハロゲン基の詳細は、一般式(I)中のハロゲン基の説明と同様である。 In the general formulas (C-1) to (C-6), details of the halogen groups represented by R 31 , R 32 , R 33 , R 34 , and R 37 are explained in the explanation of the halogen group in the general formula (I). It is the same.
上記式(C−1)〜(C−6)中、A1およびA2は、それぞれ独立に−CR43R44−、−O−、−NR45−、−S−、または−C(=O)−を表す。A1およびA2は、好ましくは−CR43R44−、−O−、−NR45−、または−S−であり、より好ましくは−O−、−NR45−、または−S−であり、更に好ましくは−NR45−、または−S−である。 In the above formulas (C-1) to (C-6), A 1 and A 2 are each independently —CR 43 R 44 —, —O—, —NR 45 —, —S—, or —C (= O)-. A 1 and A 2 are preferably -CR 43 R 44 -, - O -, - NR 45 -, or a -S-, more preferably -O -, - NR 45 -, or -S- and and More preferably —NR 45 — or —S—.
A1とA2の具体的な組み合わせとしては、A1、A2のいずれか一方と他方との組み合わせが(−CR43R44−、−NR45−)、(−S−、−S−)、(−NR45−、−S−)、(−O−、−NR45−)、(−NR45−、−NR45−)、(−C(=O)−、−NR45−)などが挙げられ、好ましくは(−S−、−S−)、(−NR45−、−S−)、(−O−、−NR45−)、(−NR45−、−NR45−)であることが好ましく、より好ましくは(−NR45−、−S−)、(−O−、−NR45−)であり、最も好ましくは(−NR45−、−S−)である。 As a specific combination of A 1 and A 2 , a combination of one of A 1 and A 2 and the other is (—CR 43 R 44 —, —NR 45 —), (—S—, —S—). ), (—NR 45 —, —S—), (—O—, —NR 45 —), (—NR 45 —, —NR 45 —), (—C (═O) —, —NR 45 —) Preferably, (—S—, —S—), (—NR 45 —, —S—), (—O—, —NR 45 —), (—NR 45 —, —NR 45 —) are preferred. More preferably, (—NR 45 —, —S—), (—O—, —NR 45 —) are preferred, and (—NR 45 —, —S—) is most preferred.
一般式(C−1)〜(C−6)中、R35、R36で表される電子求引性の置換基とは、ハメットの置換基定数σp値が正の値である置換基であり、好ましくは、σp値が0.2以上であり、上限としては1.0以下の置換基を表す。σp値が0.2以上の電子求引性基の具体例としては、アシル基、ホルミル基、アシルオキシ基、アシルチオ基、カルバモイル基、オキシカルボニル基、シアノ基、ニトロ基、ジアルキルホスホノ基、ジアリールホスホノ基、ジアルキルホスフィニル基、ジアリールホスフィニル基、ホスホリル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホニルオキシ基、アシルチオ基、スルファモイル基、チオシアネート基、チオカルボニル基、イミノ基、N原子で置換したイミノ基、カルボキシ基(またはその塩)、少なくとも2つ以上のハロゲン原子で置換されたアルキル基、少なくとも2つ以上のハロゲン原子で置換されたアルコキシ基、少なくとも2つ以上のハロゲン原子で置換されたアリールオキシ基、アシルアミノ基、少なくとも2つ以上のハロゲン原子で置換されたアルキルアミノ基、少なくとも2つ以上のハロゲン原子で置換されたアルキルチオ基、σp値が0.2以上の他の電子求引性基で置換されたアリール基、ヘテロ環基、ハロゲン原子、アゾ基、セレノシアネート基などが挙げられる。ハメットのσp値については、Hansch,C.;Leo,A.;Taft,R.W.Chem.Rev.1991,91,165−195に詳しく記載されている。この中でもシアノ基、オキシカルボニル基、アシル基、スルホニル基が好ましい。 In the general formulas (C-1) to (C-6), the electron-withdrawing substituents represented by R 35 and R 36 are substituents whose Hammett substituent constant σ p value is a positive value. Preferably, the σ p value is 0.2 or more, and the upper limit is 1.0 or less. Specific examples of the electron withdrawing group having a σ p value of 0.2 or more include an acyl group, a formyl group, an acyloxy group, an acylthio group, a carbamoyl group, an oxycarbonyl group, a cyano group, a nitro group, a dialkylphosphono group, Diarylphosphono group, dialkylphosphinyl group, diarylphosphinyl group, phosphoryl group, alkylsulfinyl group, arylsulfinyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, sulfonyloxy group, acylthio group, sulfamoyl group, thiocyanate group, thio A carbonyl group, an imino group, an imino group substituted with an N atom, a carboxy group (or a salt thereof), an alkyl group substituted with at least two halogen atoms, an alkoxy group substituted with at least two halogen atoms, Substituted with at least two halogen atoms Aryloxy groups, acylamino groups, alkylamino groups substituted with at least two or more halogen atoms, alkylthio groups substituted with at least two or more halogen atoms, other electrons having a σ p value of 0.2 or more Examples thereof include an aryl group substituted with an attractive group, a heterocyclic group, a halogen atom, an azo group, and a selenocyanate group. For Hammett σp values, see Hansch, C .; Leo, A .; Taft, R .; W. Chem. Rev. 1991, 91, 165-195. Among these, a cyano group, an oxycarbonyl group, an acyl group, and a sulfonyl group are preferable.
R35で表される置換基とR36で表される置換基は様々な組み合わせを取ることができる。好ましい組み合わせとしては、下記組み合わせ1〜9を挙げることができる。組み合わせ2、3および4において、R35で表される置換基とR36で表される置換基は同一であっても異なる基であってもよい。 The substituent represented by R 35 and the substituent represented by R 36 can take various combinations. Preferred combinations include the following combinations 1 to 9. In the combinations 2, 3 and 4, the substituent represented by R 35 and the substituent represented by R 36 may be the same or different.
(組み合わせ1)R35:シアノ基、R36:シアノ基
(組み合わせ2)R35:アシル基、R36:アシル基
(組み合わせ3)R35:オキシカルボニル基、R36:オキシカルボニル基
(組み合わせ4)R35:スルホニル基、R36:スルホニル基
(組み合わせ5)R35:シアノ基、R36:オキシカルボニル基
(組み合わせ6)R35:シアノ基、R36:アシル基
(組み合わせ7)R35:オキシカルボニル基、R36:アシル基
(組み合わせ8)R35:アシル基、R36:スルホニル基
(組み合わせ9)R35:オキシカルボニル基、R36:スルホニル基
(Combination 1) R 35 : Cyano group, R 36 : Cyano group (Combination 2) R 35 : Acyl group, R 36 : Acyl group (Combination 3) R 35 : Oxycarbonyl group, R 36 : Oxycarbonyl group (Combination 4) ) R 35 : sulfonyl group, R 36 : sulfonyl group (combination 5) R 35 : cyano group, R 36 : oxycarbonyl group (combination 6) R 35 : cyano group, R 36 : acyl group (combination 7) R 35 : Oxycarbonyl group, R 36 : acyl group (combination 8) R 35 : acyl group, R 36 : sulfonyl group (combination 9) R 35 : oxycarbonyl group, R 36 : sulfonyl group
上記組み合わせ中、組み合わせ1、3、4、5、9がより好ましく、組み合わせ5が最も好ましい。また、一般式(C−1)〜(C−6)中、R35およびR36が互いに結合して環状構造を形成してもよい。結合する場合は炭素鎖で連結されても、N、O、S原子などを含んでもよい。 Among the above combinations, combinations 1, 3, 4, 5, and 9 are more preferable, and combination 5 is most preferable. In general formulas (C-1) to (C-6), R 35 and R 36 may be bonded to each other to form a cyclic structure. When bonded, they may be linked by a carbon chain or may contain N, O, S atoms, and the like.
前述したように一般式(C−1)、(C−2)、(C−3)、(C―4)、(C−5)または(C−6)は一般式(I)、(II)または(III)で表される化合物の部分構造として含まれ得るため、部分構造中に少なくとも1つの連結基を含む。即ち、R31、R32、R33、R34、R37、R38、R39、R40、R41、R42、R43、R44、R45で表されるいずれか1つ以上の基が連結基として存在し、一般式(C−1)、(C−2)、(C−3)、(C―4)、(C−5)または(C−6)は、上記連結基により結合し、一般式(I)、(II)または(III)で表される化合物に含まれる。各部分構造には1つ連結基が含まれればよい。連結基の詳細は前述の通りである。 As described above, the general formulas (C-1), (C-2), (C-3), (C-4), (C-5) or (C-6) are represented by the general formulas (I), (II ) Or (III), at least one linking group is included in the partial structure. That is, any one or more of R 31 , R 32 , R 33 , R 34 , R 37 , R 38 , R 39 , R 40 , R 41 , R 42 , R 43 , R 44 , R 45 Group is present as a linking group, and the general formula (C-1), (C-2), (C-3), (C-4), (C-5) or (C-6) is the above linking group And is included in the compound represented by the general formula (I), (II) or (III). Each partial structure may contain one linking group. The details of the linking group are as described above.
以下に、一般式(I)および(II)、(III)で表される環状アリルスルフィド化合物の具体例を示す。但し、本発明は下記具体例に限定されるものではない。 Specific examples of the cyclic allyl sulfide compounds represented by the general formulas (I), (II), and (III) are shown below. However, the present invention is not limited to the following specific examples.
以上説明したラジカル重合性化合物の合成方法は、例えば、Macromolecules. 1994, 27, 7935. Macromolecules, 1996, 29, 6983.や Macromolecules, 2000, 33, 6722.や J. Po1ym. Sci.: Part A Polym. Chem. 2001, 39, 202等に詳細に記載されている。合成方法の詳細については、後述の実施例も参照できる。 For example, Macromolecules. 1994, 27, 7935. Macromolecules, 1996, 29, 6983., Macromolecules, 2000, 33, 6722. and J. Po1ym. Sci .: Part A Polym. Chem. 2001, 39, 202 and the like. For details of the synthesis method, the examples described later can also be referred to.
本発明の光重合性組成物には、前記ラジカル重合性化合物を一種のみ用いてもよく、二種以上を併用することもできる。本発明の光重合性組成物における前記ラジカル重合性化合物の含有量は、高感度記録の観点から、好ましくは5〜60質量%であり、より好ましくは15〜50質量%である。 In the photopolymerizable composition of the present invention, only one kind of the radical polymerizable compound may be used, or two or more kinds thereof may be used in combination. The content of the radical polymerizable compound in the photopolymerizable composition of the present invention is preferably 5 to 60% by mass, more preferably 15 to 50% by mass, from the viewpoint of high sensitivity recording.
また、一般式(I)で表されるラジカル重合性化合物を、他の重合性モノマーと併用して用いてもよい。併用する他のモノマーとしては、例えば、アクリロイルモルホリン、フェノキシエチルアクリレート、イソボルニルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールPO変性ジアクリレート、1,9−ノナンジオールジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレート、EO変性ビスフェノールAジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールヘキサアクリレート、EO変性グリセロールトリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、EO変性トリメチロールプロパントリアクリレート、2−ナフト−1−オキシエチルアクリレート、2−カルバゾイル−9−イルエチルアクリレート、(トリメチルシリルオキシ)ジメチルシリルプロピルアクリレート、ビニル−1−ナフトエート、2,4,6−トリブロムフェニルアクリレート、ペンタブロムアクリレート、フェニルチオエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ビスフェノキシエタノールフルオレンジアクリレート、スチレン、p−クロロスチレン、N−ビニルカルバゾール、N−ビニルピロピドンなどが挙げられる。それらの中でもフェノキシエチルアクリレート、2,4,6−トリブロムフェニルアクリレート、ペンタブロムアクリレート、ビスフェノキシエタノールフルオレンジアクリレートが好ましく、2,4,6−トリブロムフェニルアクリレート、ビスフェノキシエタノールフルオレンジアクリレートがより好ましい。他の重合性モノマーと併用する場合、全重合性モノマー中の併用する重合性モノマー量は50質量%以下であることが好ましい。 Further, the radically polymerizable compound represented by the general formula (I) may be used in combination with other polymerizable monomers. Other monomers used in combination include, for example, acryloylmorpholine, phenoxyethyl acrylate, isobornyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, tripropylene glycol diacrylate, neopentyl Glycol PO-modified diacrylate, 1,9-nonanediol diacrylate, hydroxypivalate neopentyl glycol diacrylate, EO-modified bisphenol A diacrylate, polyethylene glycol diacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, pentaerythritol hexaacrylate , EO-modified glycerol triacrylate, trimethylol proppant Acrylate, EO-modified trimethylolpropane triacrylate, 2-naphth-1-oxyethyl acrylate, 2-carbazoyl-9-ylethyl acrylate, (trimethylsilyloxy) dimethylsilylpropyl acrylate, vinyl-1-naphthoate, 2,4,6 -Tribromophenyl acrylate, pentabromo acrylate, phenylthioethyl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, bisphenoxyethanol fluorene acrylate, styrene, p-chlorostyrene, N-vinyl carbazole, N-vinyl pyropydone and the like. Among these, phenoxyethyl acrylate, 2,4,6-tribromophenyl acrylate, pentabromoacrylate, and bisphenoxyethanol full orange acrylate are preferable, and 2,4,6-tribromophenyl acrylate and bisphenoxyethanol full orange acrylate are more preferable. When used in combination with other polymerizable monomers, the amount of polymerizable monomer used in combination in the total polymerizable monomer is preferably 50% by mass or less.
非共鳴2光子吸収化合物
本発明の光重合性組成物に含まれる2光子吸収化合物は、非共鳴2光子吸収を起こす化合物である。非共鳴2光子吸収化合物とは、化合物の線形吸収帯が存在しないエネルギー領域で2つの光子を同時に吸収して励起される現象(非共鳴2光子吸収)を起こす化合物である。非共鳴2光子吸収は、通常、化合物の線形吸収の存在しない、該吸収帯よりも長波長域において誘起される。いわゆる透明領域の近赤外光を用いて2光子吸収を起こすことができるため、励起光が吸収や散乱を受けずに試料内部まで到達でき、非共鳴2光子吸収の2乗特性により試料内部の1点をきわめて高い空間分解能で励起できる。
Non-resonant two-photon absorption compound The two-photon absorption compound contained in the photopolymerizable composition of the present invention is a compound that causes non-resonant two-photon absorption. A non-resonant two-photon absorption compound is a compound that causes a phenomenon (non-resonant two-photon absorption) that is excited by simultaneously absorbing two photons in an energy region where there is no linear absorption band of the compound. Non-resonant two-photon absorption is usually induced in the wavelength region longer than the absorption band where there is no linear absorption of the compound. Two-photon absorption can be caused by using so-called near-infrared light in a transparent region, so that excitation light can reach the inside of the sample without being absorbed or scattered. One point can be excited with extremely high spatial resolution.
前記非共鳴2光子吸収化合物は、有機色素であることができる。ここで色素とは、紫外域(好ましくは200〜400nm)、可視光領域(400〜700nm)、または近赤外領域(好ましくは700〜2000nm)に吸収の一部を有する化合物をいう。前記有機色素は、可視光領域に吸収の一部を有する化合物であることが好ましい。 The non-resonant two-photon absorption compound can be an organic dye. Here, the dye refers to a compound having a part of absorption in the ultraviolet region (preferably 200 to 400 nm), the visible light region (400 to 700 nm), or the near infrared region (preferably 700 to 2000 nm). The organic dye is preferably a compound having a part of absorption in the visible light region.
前記有機色素としては、シアニン色素、メロシアニン色素、オキソノール色素、ポリアリール色素が好ましい。シアニン色素、メロシアニン色素、オキソノール色素についての2光子吸収化合物の具体的な構造については特開2004−346238号公報、特開2007−87532号公報、および特開2007−262155号公報に詳しく記載されている。またより短波な波長(例えば700nmよりも短い波長)での2光子吸収化合物としてはポリアリール色素を用いることができる。ポリアリール色素とは、以下の一般式(IV)で表される構造を有する化合物である。 As the organic dye, a cyanine dye, a merocyanine dye, an oxonol dye, and a polyaryl dye are preferable. Specific structures of the two-photon absorption compounds for cyanine dyes, merocyanine dyes, and oxonol dyes are described in detail in JP-A Nos. 2004-346238, 2007-87532, and 2007-262155. Yes. A polyaryl dye can be used as the two-photon absorption compound at a shorter wavelength (for example, shorter than 700 nm). The polyaryl dye is a compound having a structure represented by the following general formula (IV).
一般式(IV)中、XおよびYはハメット式におけるσp値がゼロ以上の値を取るもの、所謂電子求引性の基を指し、好ましくは例えばトリフルオロメチル基、ヘテロ環基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基、カルバモイル基、アシル基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、などが挙げられ、より好ましくはトリフルオロメチル基、シアノ基、アシル基、アシルオキシ基、またはアルコキシカルボニル基であり、最も好ましくはシアノ基、ベンゾイル基である。これらの置換基のうち、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基、カルバモイル基、アシル基、アシルオキシ基、およびアルコキシカルボニル基は、溶媒への溶解性の付与等の他、様々な目的で、更に置換基を有してもよく、そのような置換基としては、好ましくは、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、アリールオキシ基、などが挙げられる。 In the general formula (IV), X and Y represent a so-called electron-withdrawing group in which the σp value in the Hammett formula is zero or more, preferably a trifluoromethyl group, a heterocyclic group, a halogen atom, A cyano group, a nitro group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, a sulfamoyl group, a carbamoyl group, an acyl group, an acyloxy group, an alkoxycarbonyl group, and the like, more preferably a trifluoromethyl group, a cyano group, an acyl group, and an acyloxy group. Group or an alkoxycarbonyl group, and most preferably a cyano group or a benzoyl group. Among these substituents, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, a sulfamoyl group, a carbamoyl group, an acyl group, an acyloxy group, and an alkoxycarbonyl group are further added for various purposes in addition to imparting solubility to a solvent. It may have a substituent, and preferred examples of such a substituent include an alkyl group, an alkoxy group, an alkoxyalkyl group, and an aryloxy group.
nは1〜4の範囲の整数を表し、より好ましくは2または3であり、最も好ましくは2である。nが5以上になるほど、線形吸収が長波長側に出てくるようになり、700nmよりも短波長の領域の記録光を用いての非共鳴2光子吸収記録が困難となる。 n represents an integer in the range of 1 to 4, more preferably 2 or 3, and most preferably 2. As n is 5 or more, linear absorption comes out on the longer wavelength side, and non-resonant two-photon absorption recording using recording light having a wavelength shorter than 700 nm becomes more difficult.
Rは置換基を表し、置換基としては、特に限定されず、具体的には、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、アリールオキシ基、などが挙げられる。mは0〜4の範囲の整数を表す。 R represents a substituent, and the substituent is not particularly limited, and specific examples include an alkyl group, an alkoxy group, an alkoxyalkyl group, and an aryloxy group. m represents an integer in the range of 0-4.
以下に、上記一般式(IV)で表される構造を有する化合物において、X、Yが、ハメットの置換基定数σp値が正の値を取る、所謂電子求引性の基であることが望ましい旨を述べる。 Hereinafter, in the compound having the structure represented by the general formula (IV), X and Y are desirably so-called electron-withdrawing groups in which Hammett's substituent constant σp value is a positive value. State that.
T.Kogej, et al., Chem.Phys.Lett.,298,1(1998))によれば、有機化合物の2光子吸収効率、すなわち2光子吸収断面積δは、3次分子分極率(2次超分極率)γの虚数部と以下の関係にある。 According to T. Kogej, et al., Chem. Phys. Lett., 298, 1 (1998)), the two-photon absorption efficiency of an organic compound, that is, the two-photon absorption cross section δ, is expressed by the third-order molecular polarizability (2 It has the following relationship with the imaginary part of (second hyperpolarizability) γ.
ここでc;光速、ν;周波数、n;屈折率、ε0;真空中の誘電率、ω;光子の振動数、Im;虚数部を表す。γの虚数部(Imγ)は、|g>と|e>間の双極子モーメント;Mge、|g>と|e'>間の双極子モーメント;Mge' 、|g>と|e>間の双極子モーメントの差;Δμge、遷移エネルギー;Ege、ダンピングファクター;Γと以下の関係にある。 Here, c: speed of light, ν: frequency, n: refractive index, ε 0 : dielectric constant in vacuum, ω: frequency of photons, Im: imaginary part. The imaginary part of γ (Imγ) is the dipole moment between | g> and | e>; the dipole moment between Mge, | g> and | e '>; between Mge', | g> and | e> Dipole moment difference; Δμge, transition energy; Ege, damping factor;
ここでPは可換演算子を表す。
従って、数式(2)の値を計算すれば、化合物の2光子吸収断面積を予測することが可能である。そこで、基底状態の最安定構造を6-31G*を基底関数としてB3LYP汎関数を用いたDFT法により計算し、その結果を基にMge、Mee'およびEgeを計算してImγの値を算出することができる。例えば、上記一般式(IV)で表される構造を有する化合物において、XおよびYに電子供与性置換基であるメトキシ基が置換したクアテルフェニル化合物の計算から得られたImγの極大値を1とした場合、その他の置換基として、ハメットの置換基定数σp値が正の値を取る、所謂電子求引性の基を有する分子のImγ極大値の相対値が大きいものとなる。
上記一般式(IV)で表される構造を有する化合物において、XおよびYに電子供与性基のメトキシ基が置換するクアテルフェニル化合物では、Imγは小さく、XおよびYが共に電子求引性置換基で置換された分子では総じてImγが大きく増大する。先にも述べたが、理論的に2光子吸収断面積δは3次超分極率γの虚数部、すなわちImγに比例するため、これらの計算よりXおよびYは共に電子求引性置換基が置換した構造が望ましい。
Here, P represents a commutative operator.
Therefore, if the value of Formula (2) is calculated, it is possible to predict the two-photon absorption cross section of the compound. Therefore, the most stable structure of the ground state is calculated by the DFT method using the B3LYP functional with 6-31G * as the basis function, and Mge, Mee ', and Ege are calculated based on the result to calculate the value of Imγ. be able to. For example, in the compound having the structure represented by the general formula (IV), the maximum value of Imγ obtained from the calculation of a quaterphenyl compound in which X and Y are substituted with a methoxy group as an electron donating substituent is 1 In this case, as the other substituent, the relative value of the Imγ maximum value of a molecule having a so-called electron withdrawing group in which Hammett's substituent constant σp value is a positive value is large.
In the compound having the structure represented by the above general formula (IV), in the quaterphenyl compound in which X and Y are substituted by the methoxy group of the electron donating group, Imγ is small and both X and Y are electron withdrawing substitution. In general, Imγ greatly increases in molecules substituted with a group. As mentioned earlier, since the two-photon absorption cross section δ is theoretically proportional to the imaginary part of the third-order hyperpolarizability γ, that is, Imγ, X and Y are both electron-withdrawing substituents from these calculations. A substituted structure is desirable.
また、上記一般式(IV)で表される構造を有する化合物としては、下記一般式(V)で表される構造を有する化合物であることが好ましい。 The compound having the structure represented by the general formula (IV) is preferably a compound having a structure represented by the following general formula (V).
一般式(V)中、X、Y、n、R、mは、それぞれ一般式(IV)で規定したものと同じである。
一般式(IV)または一般式(V)で表される構造を有する化合物において、XおよびYは、同一でもそれぞれ異なってもよいが、異なっているほうが、2光子吸収断面積が大きくなる傾向にあり好ましい。
一般式(IV)または一般式(V)で表される構造を有する化合物の具体例としては、特に限定されないが、下記のものが挙げられる。
In the general formula (V), X, Y, n, R, and m are the same as those defined in the general formula (IV).
In the compound having the structure represented by the general formula (IV) or the general formula (V), X and Y may be the same or different from each other, but the two-photon absorption cross section tends to increase as they differ. It is preferable.
Specific examples of the compound having a structure represented by the general formula (IV) or the general formula (V) are not particularly limited, but include the following.
本発明の光重合性組成物において、非共鳴2光子吸収化合物は1種のみ使用してもよく、2種以上を併用してもよい。本発明の光重合性組成物における非共鳴2光子吸収化合物の含有量は、記録感度および重合効率向上の観点から、好ましくは0.01〜10質量%、より好ましくは0.1〜7質量%である。 In the photopolymerizable composition of the present invention, the nonresonant two-photon absorption compound may be used alone or in combination of two or more. The content of the non-resonant two-photon absorption compound in the photopolymerizable composition of the present invention is preferably 0.01 to 10% by mass, more preferably 0.1 to 7% by mass, from the viewpoint of improving recording sensitivity and polymerization efficiency. It is.
ラジカル重合開始剤
前記ラジカル重合性化合物は、非共鳴2光子吸収化合物がラジカル重合開始剤の役割を果たすことにより、または非共鳴2光子吸収化合物との相互作用によりラジカル種を発生するラジカル重合開始剤の作用により、光重合を起こすことができる。本発明の光重合性組成物は、重合効率の点から、非共鳴2光子吸収化合物とは別にラジカル重合開始剤を含むことが好ましい。非共鳴2光子吸収化合物とラジカル重合性化合物との相互作用とは、エネルギー移動によるもの、または電子移動によるものである。重合開始剤としては、非共鳴2光子吸収化合物と相互作用できるものであれば特に限定されるものではない。例えば、ラジカル重合開始剤としては、ビスイミダゾール系重合開始剤を使用することができる。ビスイミダゾール系重合開始剤としては、ビス(2,4,5−トリフェニル)イミダゾール誘導体、具体的には、例えばビス(2,4,5−トリフェニル)イミダゾール、2−(o−クロロフェニル)−4,5−ビス(m−メトキシフェニル)−イミダゾールダイマー(CDM−HABI)、1,1′−ビイミダゾール、2,2′−ビス(o−クロロフェニル)−4,4′5,5′−テトラフェニル(o−Cl−HABI)、1H−イミダゾール、2,5−ビス(o−クロロフェニル)−4−〔3,4−ジメトキシフェニル〕−ダイマー(TCTM−HABI)などが挙げられる。また、ビスイミダゾール系重合開始剤は水素供与体と共に用いることもできる。水素供与体として好ましくは、2−メルカプトベンズオキサゾール、2−メルカプトベンゾチアゾール、4−メチル−4H−1,2,4−トリアゾール−3−チオール、などが挙げられる。その他、本発明において使用可能なラジカル重合開始剤の具体的な構造については特開2004−346238号公報に詳しく記載されている。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。本発明の光重合性組成物におけるラジカル重合性組成物の含有量は、重合効率の観点から、好ましくは0.01〜10質量%、より好ましくは0.1〜7質量%である。
Radical Polymerization Initiator The radical polymerizable compound is a radical polymerization initiator that generates radical species when the non-resonant two-photon absorption compound functions as a radical polymerization initiator or interacts with the non-resonant two-photon absorption compound. Photopolymerization can be caused by the action of. The photopolymerizable composition of the present invention preferably contains a radical polymerization initiator separately from the non-resonant two-photon absorption compound from the viewpoint of polymerization efficiency. The interaction between the non-resonant two-photon absorption compound and the radical polymerizable compound is due to energy transfer or electron transfer. The polymerization initiator is not particularly limited as long as it can interact with the non-resonant two-photon absorption compound. For example, a bisimidazole-based polymerization initiator can be used as the radical polymerization initiator. As the bisimidazole-based polymerization initiator, bis (2,4,5-triphenyl) imidazole derivatives, specifically, for example, bis (2,4,5-triphenyl) imidazole, 2- (o-chlorophenyl)- 4,5-bis (m-methoxyphenyl) -imidazole dimer (CDM-HABI), 1,1'-biimidazole, 2,2'-bis (o-chlorophenyl) -4,4'5,5'-tetra Examples include phenyl (o-Cl-HABI), 1H-imidazole, 2,5-bis (o-chlorophenyl) -4- [3,4-dimethoxyphenyl] -dimer (TCTM-HABI), and the like. The bisimidazole polymerization initiator can also be used together with a hydrogen donor. Preferred examples of the hydrogen donor include 2-mercaptobenzoxazole, 2-mercaptobenzothiazole, 4-methyl-4H-1,2,4-triazole-3-thiol, and the like. In addition, the specific structure of the radical polymerization initiator that can be used in the present invention is described in detail in JP-A No. 2004-346238. These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together. The content of the radically polymerizable composition in the photopolymerizable composition of the present invention is preferably 0.01 to 10% by mass, more preferably 0.1 to 7% by mass, from the viewpoint of polymerization efficiency.
バインダー
本発明の光重合性組成物におけるバインダーは、重合前の組成物の成膜性、膜厚の均一性、保存時安定性の向上等の目的で通常使用される。バインダーとしては、組成物に含まれる各種成分(ラジカル重合性化合物、重合開始剤、非共鳴2光子吸収化合物等)と相溶性の良いものが好ましい。
Binder The binder in the photopolymerizable composition of the present invention is usually used for the purpose of improving the film formability of the composition before polymerization, the uniformity of the film thickness, the stability during storage, and the like. As the binder, those having good compatibility with various components (radical polymerizable compound, polymerization initiator, non-resonant two-photon absorption compound, etc.) contained in the composition are preferable.
バインダーとしては、溶媒可溶性の熱可塑性重合体が好ましく、それらを単独または互いに組合せて使用することができる。 As the binder, a solvent-soluble thermoplastic polymer is preferable, and they can be used alone or in combination with each other.
本発明の光重合性組成物を塗布することにより形成された塗布膜に光照射(露光)を行うと、光が強い部分において光重合が開始され、それに伴いラジカル重合性化合物の濃度勾配ができ、光が弱い部分から強い部分にラジカル重合性化合物の拡散移動が起こると考えられる。本発明の光重合性組成物において3次元的屈折率変調を起こすことができる理由は、上記拡散移動の結果、記録光の強弱に応じて、ラジカル重合性化合物が密に存在する領域とバインダーポリマーが主成分として存在する領域とが形成され、それら領域の屈折率の差が生じるからと考えられる。記録感度を高めるためには、前記ラジカル重合性化合物とバインダーの屈折率が異なることが好ましい。これにより、非共鳴2光子吸収により起こる光重合によって、レーザー光照射された部分(レーザー焦点部)と未照射部(非焦点部)にて、ラジカル重合性化合物およびその重合反応物とバインダーとの組成比の不均一化が起こり、大きな屈折率変調を起こすことができ、記録感度を高めることができる。形成される屈折率変調は0.005より大きいことが好ましく、0.01より大きいことがより好ましく、0.05より大きいことがさらに好ましい。ラジカル重合性化合物とバインダーの屈折率の違いは、重合性化合物の方が屈折率が大きくても、バインダーの方が屈折率が大きくてもどちらでも構わないが、記録感度の点からは、バインダーがラジカル重合性化合物よりも低屈折率であることがより好ましい。 When light irradiation (exposure) is performed on a coating film formed by applying the photopolymerizable composition of the present invention, photopolymerization is started in a portion where light is strong, and a concentration gradient of the radical polymerizable compound can be generated accordingly. It is considered that the diffusion transfer of the radical polymerizable compound occurs from the weak part to the strong part. The reason why three-dimensional refractive index modulation can occur in the photopolymerizable composition of the present invention is that the region in which the radical polymerizable compound is present densely and the binder polymer depending on the intensity of the recording light as a result of the diffusion transfer. This is considered to be due to the difference in refractive index between these regions. In order to increase the recording sensitivity, it is preferable that the radically polymerizable compound and the binder have different refractive indexes. As a result, the radical polymerizable compound and its polymerization reaction product and the binder in the portion irradiated with the laser beam (laser focal portion) and the non-irradiated portion (non-focal portion) by photopolymerization caused by non-resonant two-photon absorption. The composition ratio becomes non-uniform, a large refractive index modulation can occur, and the recording sensitivity can be increased. The formed refractive index modulation is preferably greater than 0.005, more preferably greater than 0.01, and even more preferably greater than 0.05. The difference between the refractive index of the radical polymerizable compound and the binder may be either the refractive index of the polymerizable compound or the refractive index of the binder, but from the viewpoint of recording sensitivity, the binder Is more preferably lower in refractive index than radically polymerizable compounds.
ラジカル重合性化合物とバインダーとの屈折率を変えるためには、ラジカル重合性化合物またはバインダーのいずれか一方が、少なくとも1個のアリール基、芳香族ヘテロ環基、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、硫黄原子を含み、他方がそれらを含まないことが好ましく、ラジカル重合性化合物が少なくとも1個のアリール基、芳香族ヘテロ環基、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、硫黄原子を含み、バインダーはそれらを含まないことが好ましい。 In order to change the refractive index of the radically polymerizable compound and the binder, either the radically polymerizable compound or the binder has at least one aryl group, aromatic heterocyclic group, chlorine atom, bromine atom, iodine atom, It preferably contains a sulfur atom and the other does not contain them, and the radical polymerizable compound contains at least one aryl group, aromatic heterocyclic group, chlorine atom, bromine atom, iodine atom, sulfur atom, It is preferable not to contain.
以下に、A)屈折率:ラジカル重合性化合物>バインダーの態様と、B)屈折率:バインダー>ラジカル重合性化合物、の態様にわけて、好ましいバインダーの例を説明する。 Examples of preferred binders will be described below, divided into A) refractive index: radical polymerizable compound> binder embodiment and B) refractive index: binder> radically polymerizable compound.
A)屈折率:重合性化合物>バインダーの態様におけるバインダー(以下、「低屈折率バインダー」という)の好ましい例
好ましい低屈折率バインダーの具体例としては、アクリレートおよびアルファ−アルキルアクリレートエステル、酸性重合体およびインターポリマー(例えばポリメタクリル酸メチルおよびポリメタクリル酸エチル、メチルメタクリレートと他の(メタ)アクリル酸アルキルエステルの共重合体)、ポリビニルエステル(例えば、ポリ酢酸ビニル、ポリ酢酸/アクリル酸ビニル、ポリ酢酸/メタクリル酸ビニルおよび加水分解型ポリ酢酸ビニル)、エチレン/酢酸ビニル共重合体、飽和および不飽和ポリウレタン、ブタジエンおよびイソプレン重合体および共重合体、4,000〜1,000,000程度の重量平均分子量を有するポリグリコールの高分子量ポリ酸化エチレン、エポキシ化物(例えば、アクリレートまたはメタクリレート基を有するエポキシ化物)、ポリアミド(例えば、N−メトキシメチルポリヘキサメチレンアジパミド)、セルロースエステル(例えば、セルロースアセテート、セルロースアセテートサクシネートおよびセルロースアセテートブチレート)、セルロースエーテル(例えば、メチルセルロース、エチルセルロース、エチルベンジルセルロース)、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール(例えば、ポリビニルブチラールおよびポリビニルホルマール)、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、米国特許3,458,311中および米国特許4,273,857中に開示されている酸含有重合体および共重合体、ならびに米国特許4,293,635中開示されている両性重合体バインダーなどが挙げられ、より好ましくはセルロースアセテートブチレート重合体、セルロースアセテートラクテート重合体、ポリメタクリル酸メチル、メタクリル酸メチル/メタクリル酸およびメタクリル酸メチル/アクリル酸共重合体を含むアクリル系重合体およびインターポリマー、メタクリル酸メチル/アクリル酸またはメタクリル酸C2〜C4アルキル/アクリル酸またはメタクリル酸の3元重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアセタール、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ならびにそれらの混合物などが挙げられる。
A) Refractive Index: Polymerizable Compound> Preferred Examples of Binders in the Mode of Binder (hereinafter referred to as “Low Refractive Index Binder”) Specific examples of preferred low refractive index binders include acrylates and alpha-alkyl acrylate esters, acidic polymers. And interpolymers (eg polymethyl methacrylate and polyethyl methacrylate, copolymers of methyl methacrylate and other alkyl (meth) acrylates), polyvinyl esters (eg polyvinyl acetate, polyacetic acid / vinyl acrylate, poly Acetic acid / vinyl methacrylate and hydrolyzable polyvinyl acetate), ethylene / vinyl acetate copolymers, saturated and unsaturated polyurethanes, butadiene and isoprene polymers and copolymers, weights on the order of 4,000 to 1,000,000 Average High molecular weight poly (ethylene oxide) of polyglycol having molecular weight, epoxidized product (for example, epoxidized product having acrylate or methacrylate group), polyamide (for example, N-methoxymethyl polyhexamethylene adipamide), cellulose ester (for example, cellulose Acetate, cellulose acetate succinate and cellulose acetate butyrate), cellulose ethers (eg, methylcellulose, ethylcellulose, ethylbenzylcellulose), polycarbonates, polyvinyl acetals (eg, polyvinyl butyral and polyvinyl formal), polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone, US Pat. , 458,311 and in U.S. Pat. No. 4,273,857, acid-containing polymers and copolymers, And amphoteric polymer binders disclosed in U.S. Pat. No. 4,293,635, more preferably cellulose acetate butyrate polymer, cellulose acetate lactate polymer, polymethyl methacrylate, methyl methacrylate / methacrylic acid And acrylic polymers and interpolymers including methyl methacrylate / acrylic acid copolymer, methyl methacrylate / acrylic acid or C2-C4 alkyl methacrylate / acrylic acid or methacrylic acid terpolymer, polyvinyl acetate, polyvinyl Examples include acetal, polyvinyl butyral, polyvinyl formal, and mixtures thereof.
また、フッ素原子含有高分子も低屈折率バインダーとして好ましい。好ましいものとしては、フルオロオレフィンを必須成分とし、アルキルビニルエーテル、アリサイクリックビニルエーテル、ヒドロキシビニルエーテル、オレフィン、ハロオレフィン、不飽和カルボン酸およびそのエステル、ならびにカルボン酸ビニルエステルから選ばれる1種または2種以上の不飽和単量体を共重合成分とする有機溶媒に可溶性の重合体が挙げられる。その重量平均分子量は5,000から200,000で、またフッ素原子含有量が5〜70質量%であることが更に好ましい。 A fluorine atom-containing polymer is also preferable as the low refractive index binder. Preferably, fluoroolefin is an essential component, and one or more selected from alkyl vinyl ether, alicyclic vinyl ether, hydroxy vinyl ether, olefin, haloolefin, unsaturated carboxylic acid and ester thereof, and carboxylic acid vinyl ester Examples thereof include polymers soluble in an organic solvent containing an unsaturated monomer as a copolymerization component. More preferably, the weight average molecular weight is from 5,000 to 200,000, and the fluorine atom content is from 5 to 70% by mass.
フッ素原子含有高分子におけるフルオロオレフィンとしては、テトラフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、フッ化ビニル、フッ化ビニリデンなどが使用される。また、他の共重合成分であるアルキルビニルエーテルとしては、エチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、n−ブチルビニルエーテルなど、アリサイクリックビニルエーテルとしてはシクロヘキシルビニルエーテルおよびその誘導体、ヒドロキシビニルエーテルとしてはヒドロキシブチルビニルエーテルなど、オレフィンおよびハロオレフィンとしてはエチレン、プロピレン、イソブチレン、塩化ビニル、塩化ビニリデンなど、カルボン酸ビニルエステルとしては酢酸ビニル、n−酪酸ビニルなど、また不飽和カルボン酸およびそのエステルとしては(メタ)アクリル酸、クロトン酸などの不飽和カルボン酸、および(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸プロピル、(メタ)アクリル酸イソプロピル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸ヘキシル、(メタ)アクリル酸オクチル、(メタ)アクリル酸ラウリルなどの(メタ)アクリル酸のC1〜C18のアルキルエステル類、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレートなどの(メタ)アクリル酸のC2〜C8のヒドロキシアルキルエステル類、およびN,N−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、N,N−ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレートなどが挙げられる。これらラジカル重合性単量体はそれぞれ単独でも、また2種以上組み合わせて使用してもよく、更に必要に応じて該単量体の一部を他のラジカル重合性単量体、例えばスチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン、(メタ)アクリロニトリルなどのビニル化合物と代替しても良い。また、その他の単量体誘導体として、カルボン酸基含有のフルオロオレフィン、グリシジル基含有ビニルエーテルなども使用可能である。 As the fluoroolefin in the fluorine atom-containing polymer, tetrafluoroethylene, chlorotrifluoroethylene, vinyl fluoride, vinylidene fluoride, or the like is used. In addition, as other copolymerization components, alkyl vinyl ethers include ethyl vinyl ether, isobutyl vinyl ether, n-butyl vinyl ether, alicyclic vinyl ethers such as cyclohexyl vinyl ether and derivatives thereof, hydroxy vinyl ethers such as hydroxybutyl vinyl ether, olefins and halo. Examples of olefins include ethylene, propylene, isobutylene, vinyl chloride, and vinylidene chloride. Examples of carboxylic acid vinyl esters include vinyl acetate and n-vinyl butyrate. Examples of unsaturated carboxylic acids and esters include (meth) acrylic acid and crotonic acid. Unsaturated carboxylic acids and methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, iso (meth) acrylate C1-C18 alkyl esters of (meth) acrylic acid, such as lopyr, butyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, hydroxyethyl (meth) C2-C8 hydroxyalkyl esters of (meth) acrylic acid such as acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, and N, N-dimethylaminoethyl (meth) acrylate, N, N-diethylaminoethyl (meth) acrylate, etc. Can be mentioned. These radical polymerizable monomers may be used singly or in combination of two or more, and if necessary, a part of the monomer may be used as another radical polymerizable monomer such as styrene, α -You may substitute with vinyl compounds, such as methylstyrene, vinyl toluene, and (meth) acrylonitrile. Further, as other monomer derivatives, carboxylic acid group-containing fluoroolefin, glycidyl group-containing vinyl ether, and the like can also be used.
前記したフッ素原子含有高分子の具体例として、例えば水酸基を有する有機溶媒可溶性の旭硝子社製「ルミフロン」シリーズ(例えばルミフロンLF200、重量平均分子量:約50,000)が挙げられる。この他にも、ダイキン工業(株)、セントラル硝子(株)、ペンウオルト社などからも有機溶媒可溶性のフッ素原子含有高分子が上市されており、これらも使用することができる。 Specific examples of the aforementioned fluorine atom-containing polymer include, for example, “Lumiflon” series (for example, Lumiflon LF200, weight average molecular weight: about 50,000) manufactured by Asahi Glass Co., Ltd., which is soluble in an organic solvent having a hydroxyl group. In addition, organic solvent-soluble fluorine atom-containing polymers are also marketed by Daikin Industries, Ltd., Central Glass Co., Ltd., and Penwort Co., Ltd., and these can also be used.
以上説明した低屈折率バインダーの中で、前記ラジカル重合性化合物および非共鳴2光子吸収化合物との併用に好適なバインダーとしては、セルロースエステル、ポリビニルアルコール、ポリビニルアセテート、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリウレタン、およびフッ素原子含有高分子からなる群から選ばれる少なくとも一つのポリマーを挙げることができる。 Among the low refractive index binders described above, as a binder suitable for use in combination with the radical polymerizable compound and the non-resonant two-photon absorption compound, cellulose ester, polyvinyl alcohol, polyvinyl acetate, polyvinyl butyral, polyvinyl formal, polyurethane, And at least one polymer selected from the group consisting of fluorine atom-containing polymers.
B)屈折率:バインダー>重合性化合物の態様におけるバインダー(以下、「高屈折率バインダー」という)の好ましい例。
好ましい高屈折率バインダーの具体例としては、ポリスチレン重合体、ならびに、例えばアクリロニトリル、無水マレイン酸、アクリル酸、メタクリル酸およびそのエステルとの共重合体、塩化ビニリデン共重合体(例えば、塩化ビニリデン/アクリロニトリル共重合体、ビニリデンクロリド/メタクリレート共重合体、塩化ビニリデン/酢酸ビニル共重合体)、ポリ塩化ビニルおよび共重合体(例えば、ポリビニルクロリド/アセテート、塩化ビニル/アクリロニトリル共重合体)、ポリビニルベンザル合成ゴム(例えば、ブタジエン/アクリロニトリル共重合体、アクリロニトリル/ブタジエン/スチレン共重合体、メタクリレート/アクリロニトリル/ブタジエン/スチレン共重合体、2−クロロブタジエン−1,3重合体、塩素化ゴム、スチレン/ブタジエン/スチレン、スチレン/イソプレン/スチレンブロック共重合体)、コポリエステル(例えば、式HO(CH2)nOH(式中nは、2〜10の整数である)のポリメチレングリコール、並びに(1)ヘキサヒドロテレフタル酸、セバシン酸およびテレフタル酸、(2)テレフタル酸、イソフタル酸およびセバシン酸、(3)テレフタル酸およびセバシン酸、(4)テレフタル酸およびイソフタル酸の反応生成物から製造されたもの、ならびに(5)該グリコール、および(i)テレフタル酸、イソフタル酸およびセバシン酸、および(ii)テレフタル酸、イソフタル酸、セバシン酸およびアジピン酸から製造されたコポリエステルの混合物)、ポリN−ビニルカルバゾールおよびその共重合体、ならびにH.カモガワらによりJournal of Polymer Science:Polymer Chemistry Edition,18巻、9〜18頁(1979)中開示されているようなカルバゾール含有重合などが挙げられ、より好ましくはポリスチレン、ポリ(スチレン/アクリロニトリル)、ポリ(スチレン/メタクリル酸メチル)、ならびにポリビニルベンザルおよびそれらの混合物などが挙げられる。
B) Refractive index: Binder> Preferable example of a binder in an embodiment of a polymerizable compound (hereinafter referred to as “high refractive index binder”).
Specific examples of preferable high refractive index binders include polystyrene polymers, and copolymers such as acrylonitrile, maleic anhydride, acrylic acid, methacrylic acid and esters thereof, and vinylidene chloride copolymers (eg, vinylidene chloride / acrylonitrile). Copolymer, vinylidene chloride / methacrylate copolymer, vinylidene chloride / vinyl acetate copolymer), polyvinyl chloride and copolymers (eg, polyvinyl chloride / acetate, vinyl chloride / acrylonitrile copolymer), polyvinyl benzal synthesis Rubber (for example, butadiene / acrylonitrile copolymer, acrylonitrile / butadiene / styrene copolymer, methacrylate / acrylonitrile / butadiene / styrene copolymer, 2-chlorobutadiene-1,3 polymer, chlorinated rubber) , Styrene / butadiene / styrene, styrene / isoprene / styrene block copolymer), copolyesters (e.g., formula HO (CH 2) polymethylene glycol nOH (n in the formula is an integer of 2 to 10), and (1) produced from reaction products of hexahydroterephthalic acid, sebacic acid and terephthalic acid, (2) terephthalic acid, isophthalic acid and sebacic acid, (3) terephthalic acid and sebacic acid, (4) terephthalic acid and isophthalic acid And (5) mixtures of the glycols and (i) terephthalic acid, isophthalic acid and sebacic acid, and (ii) copolyesters made from terephthalic acid, isophthalic acid, sebacic acid and adipic acid), polyN -Vinylcarbazole and its copolymers, and H.I. Examples include carbazole-containing polymerization as disclosed in Journal of Polymer Science: Polymer Chemistry Edition, Vol. 18, pages 9 to 18 (1979) by Kamogawa et al., More preferably polystyrene, poly (styrene / acrylonitrile), poly (polystyrene). (Styrene / methyl methacrylate), and polyvinyl benzal and mixtures thereof.
本発明の光重合性組成物におけるバインダーの含有量は、例えば10〜90質量%であり、好ましくは45〜75質量%である。 Content of the binder in the photopolymerizable composition of this invention is 10-90 mass%, for example, Preferably it is 45-75 mass%.
その他の成分
本発明の光重合性組成物は、必要により連鎖移動剤、熱安定剤、可塑剤、溶媒等の添加物を適量含むことができる。
Other Components The photopolymerizable composition of the present invention can contain an appropriate amount of additives such as a chain transfer agent, a heat stabilizer, a plasticizer, and a solvent as necessary.
本発明の光重合性組成物は連鎖移動剤を含むことが好ましい場合がある。好ましい連鎖移動剤としてはチオール類であり、例えば、2−メルカプトベンズオキサゾール、2−メルカプトベンズチアゾール、2−メルカプトベンズイミダゾール、4−メチル−4H−1,2,4−トリアゾール−3−チオール、4,4−チオビスベンゼンチオール、p−ブロモベンゼンチオール、チオシアヌル酸、1,4−ビス(メルカプトメチル)ベンゼン、p−トルエンチオールなど、また、米国特許第4414312号や特開昭64−13144号記載のチオール類、特開平2−291561号記載のジスルフィド類、米国特許第3558322号や特開昭64−17048号記載のチオン類、特開平2−291560号記載のO−アシルチオヒドロキサメートやN−アルコキシピリジンチオン類なども挙げられる。特に重合開始剤が2,4,5−トリフェニルイミダゾリルダイマーの場合は連鎖移動剤を用いることが好ましい。連鎖移動剤の使用量は、組成物全体に対して1.0〜30質量%とすることが好ましい。 The photopolymerizable composition of the present invention may preferably contain a chain transfer agent. Preferred chain transfer agents are thiols such as 2-mercaptobenzoxazole, 2-mercaptobenzthiazole, 2-mercaptobenzimidazole, 4-methyl-4H-1,2,4-triazole-3-thiol, 4 , 4-thiobisbenzenethiol, p-bromobenzenethiol, thiocyanuric acid, 1,4-bis (mercaptomethyl) benzene, p-toluenethiol, etc., as described in U.S. Pat. No. 4,414,312 and JP-A 64-13144 Thiols, disulfides described in JP-A-2-291561, thiones described in U.S. Pat. No. 3,558,322 and JP-A-64-17048, O-acylthiohydroxamates described in JP-A-2-291560, and N -Alkoxypyridinethiones are also included. In particular, when the polymerization initiator is 2,4,5-triphenylimidazolyl dimer, it is preferable to use a chain transfer agent. The amount of the chain transfer agent used is preferably 1.0 to 30% by mass relative to the entire composition.
本発明の光重合性組成物には、保存時の重合を防止し、保存安定性を保つ目的で熱安定剤(熱重合禁止剤)を添加することができる。
有用な熱安定剤には、ハイドロキノン、フェニドン、p−メトキシフェノール、アルキルおよびアリール置換されたハイドロキノンとキノン、カテコール、t−ブチルカテコール、ピロガロール、2−ナフトール、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール、フェノチアジン、およびクロルアニールなどが含まれる。Pazos氏の米国特許第4,168,982号中に述べられた、ジニトロソダイマ類もまた有用である。
熱安定剤はラジカル重合性化合物100質量部に対して0.001〜5質量部の範囲で添加することが好ましい。
A heat stabilizer (thermal polymerization inhibitor) can be added to the photopolymerizable composition of the present invention for the purpose of preventing polymerization during storage and maintaining storage stability.
Useful heat stabilizers include hydroquinone, phenidone, p-methoxyphenol, alkyl and aryl substituted hydroquinones and quinones, catechol, t-butylcatechol, pyrogallol, 2-naphthol, 2,6-di-t-butyl- p-cresol, phenothiazine, chloranneal and the like are included. Also useful are dinitroso dimers described in US Pat. No. 4,168,982 to Pazos.
The heat stabilizer is preferably added in the range of 0.001 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the radical polymerizable compound.
光重合性組成物の接着性、柔軟性、硬さ、およびその他の機械的諸特性を変えるために可塑剤を使用することができる。また、可塑剤は、ラジカル重合性化合物の移動を促進し、屈折率変調量を大きくする効果もある。
可塑剤としては例えば、トリエチレングリコールジカプリレート、トリエチレングリコールビス(2−エチルヘキサノエート)、テトラエチレングリコールジヘプタノエート、ジエチルセバケート、ジブチルスベレート、トリス(2−エチルヘキシル)ホスフェート、トリクレジルホスフェート、ジブチルフタレート等が挙げられる。可塑剤の添加量は適宜設定すればよい。
Plasticizers can be used to alter the adhesion, flexibility, hardness, and other mechanical properties of the photopolymerizable composition. The plasticizer also has the effect of promoting the movement of the radical polymerizable compound and increasing the refractive index modulation amount.
Examples of the plasticizer include triethylene glycol dicaprylate, triethylene glycol bis (2-ethylhexanoate), tetraethylene glycol diheptanoate, diethyl sebacate, dibutyl suberate, tris (2-ethylhexyl) phosphate, Examples include tricresyl phosphate and dibutyl phthalate. What is necessary is just to set the addition amount of a plasticizer suitably.
以上説明した各種成分は、公知の方法で合成可能であり、市販品として入手可能なものもある。 The various components described above can be synthesized by known methods, and some are available as commercial products.
本発明の光重合性組成物は、通常の方法で調製することができる。例えば上述の必須成分および任意成分をそのまま混合するか、または必要に応じて溶媒を加えることにより調製することができる。 The photopolymerizable composition of the present invention can be prepared by a usual method. For example, the above-mentioned essential components and optional components can be mixed as they are, or can be prepared by adding a solvent as necessary.
溶媒としては、例えば、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセトン、シクロヘキサノンなどのケトン系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールジアセテート、乳酸エチル、セロソルブアセテートなどのエステル系溶媒、シクロヘキサン、トルエン、キシレンなどの炭化水素系溶媒、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエーテルなどのエーテル系溶媒、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、ジメチルセロソルブなどのセロソルブ系溶媒、メタノール、エタノール、n−プロパノール、2−プロパノール、n−ブタノール、ジアセトンアルコールなどのアルコール系溶媒、2,2,3,3−テトラフルオロプロパノールなどのフッ素系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素系溶媒、N、N−ジメチルホルムアミドなどのアミド系溶媒を挙げることができる。 Examples of the solvent include ketone solvents such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, acetone and cyclohexanone, ester solvents such as ethyl acetate, butyl acetate, ethylene glycol diacetate, ethyl lactate and cellosolve acetate, cyclohexane, toluene and xylene. Hydrocarbon solvents, ether solvents such as tetrahydrofuran, dioxane, diethyl ether, cellosolv solvents such as methyl cellosolve, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, dimethyl cellosolve, methanol, ethanol, n-propanol, 2-propanol, n-butanol, di Alcohol solvents such as acetone alcohol, fluorine solvents such as 2,2,3,3-tetrafluoropropanol, dichloromethane, chloroform, 1,2-di Halogenated hydrocarbon solvents such as Roroetan, N, may be mentioned amide solvents such as N- dimethylformamide.
本発明の光重合性組成物は、基体上に直接塗布することも、スピンコートすることもできるし、またはフィルムとしてキャストし次いで通常の方法により基体にラミネートすることもできる。使用した溶媒は乾燥時に蒸発除去することができる。 The photopolymerizable composition of the present invention can be applied directly onto a substrate, spin-coated, or cast as a film and then laminated to the substrate by conventional methods. The solvent used can be removed by evaporation during drying.
本発明の光重合性組成物は、重合反応に2光子吸収(非共鳴2光子吸収)を利用する2光子吸収重合性組成物であり、光重合を利用する各種用途に使用することができ、光記録用途に好適であり、3次元的屈折率変調が可能であるため3次元光記録媒体に特に好適である。本発明の光重合組成物は、レーザー光等の光を照射することにより屈折率変調記録を行った後、UVまたは可視光を全面照射して1光子吸収を起こし、定着処理を行うことが好ましい。またさらに40〜160℃の間で加熱を行うことも好ましい。 The photopolymerizable composition of the present invention is a two-photon absorption polymerizable composition that utilizes two-photon absorption (non-resonant two-photon absorption) in a polymerization reaction, and can be used for various applications that use photopolymerization. It is suitable for optical recording applications and is particularly suitable for a three-dimensional optical recording medium because it can perform three-dimensional refractive index modulation. The photopolymerizable composition of the present invention is preferably subjected to a refractive index modulation recording by irradiating light such as laser light, and then irradiating the entire surface with UV or visible light to cause one-photon absorption to perform a fixing treatment. . Further, it is also preferable to perform heating at 40 to 160 ° C.
[光記録媒体]
本発明の光記録媒体は、本発明の光重合性組成物を含む記録層を有する。即ち、記録層に前記ラジカル重合性組成物、非共鳴2光子吸収化合物およびバインダーを含み、任意にラジカル重合開始剤等の成分を含むものである。
[Optical recording medium]
The optical recording medium of the present invention has a recording layer containing the photopolymerizable composition of the present invention. That is, the recording layer contains the radical polymerizable composition, the nonresonant two-photon absorption compound and the binder, and optionally contains components such as a radical polymerization initiator.
前記記録層は、好ましくは支持体上に直接または他の層を介して間接に設けられる。
支持体としては、透明性を有する基材フィルムを用いることができ、例えば、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリフッ化エチレン系フィルム、ポリフッ化ビニリデンフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、エチレン−ビニルアルコールフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリエーテルエーテルケトンフィルム、ポリアミドフィルム、テトラフルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合フィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム等のポリエステルフィルム、ポリイミドフィルム等の樹脂製フィルムが代表的なものとして例示される。
支持体の厚さは、目的に応じて適宜選択されるが、一般的には、2〜200μm、好ましくは10〜50μmの範囲である。
The recording layer is preferably provided directly on the support or indirectly through another layer.
As the support, a transparent base film can be used. For example, a polyethylene film, a polypropylene film, a polyvinyl fluoride film, a polyvinylidene fluoride film, a polyvinyl chloride film, a polyvinylidene chloride film, ethylene-vinyl. Alcohol film, polyvinyl alcohol film, polymethyl methacrylate film, polyethersulfone film, polyetheretherketone film, polyamide film, tetrafluoroethylene-perfluoroalkylvinylether copolymer film, polyester film such as polyethylene terephthalate film, polyimide film, etc. A resin film is exemplified as a representative one.
Although the thickness of a support body is suitably selected according to the objective, generally it is 2-200 micrometers, Preferably it is the range of 10-50 micrometers.
本発明の光記録媒体は、本発明の光重合性組成物を支持体上に塗布することで形成することができる。記録層形成用塗布液は、前記光重合性組成物を前述の如き適切な溶媒に溶解して調製することができ、これをスピンコーター、グラビアコーター、コンマコーター、バーコーター等の方法により、上記支持体基材上に塗布し、乾燥することで本発明の光記録媒体を得ることができる。 The optical recording medium of the present invention can be formed by coating the photopolymerizable composition of the present invention on a support. The recording layer forming coating solution can be prepared by dissolving the photopolymerizable composition in an appropriate solvent as described above, and this can be prepared by a method such as a spin coater, gravure coater, comma coater, or bar coater. The optical recording medium of the present invention can be obtained by coating on a support substrate and drying.
記録層の厚みは、ある体積にできるだけ高密度、大容量に記録するためには厚いほうが好ましいが、その場合でも、記録層の光学濃度(OD)が高いと材料の屈折率変化の大きさを活かせないことになるので、記録光および読み取り光の波長における光学濃度は低いことが好ましい。これらの観点から、記録層の厚みは50〜2000μmが好ましく、100〜1000μmがさらに好ましく、最も好ましくは、200〜500μmの範囲である。また、記録層を深部まで均一に重合硬化させるという観点から、この厚みにおける記録層の光学濃度(OD)は0.4以下であることが好ましく、0.3以下であることがさらに好ましく、0.2以下であることが最も好ましい。 The thickness of the recording layer is preferably as thick as possible in order to record as high density and large capacity as possible in a certain volume, but even in this case, if the optical density (OD) of the recording layer is high, the magnitude of the change in the refractive index of the material will be reduced. Since it cannot be utilized, it is preferable that the optical density at the wavelength of the recording light and reading light is low. From these viewpoints, the thickness of the recording layer is preferably 50 to 2000 μm, more preferably 100 to 1000 μm, and most preferably in the range of 200 to 500 μm. Further, from the viewpoint of uniformly polymerizing and hardening the recording layer to the deep part, the optical density (OD) of the recording layer at this thickness is preferably 0.4 or less, more preferably 0.3 or less, and 0 Most preferably, it is 2 or less.
また、乾燥後の塗布層に粘着性がある場合等には、保護フィルムを積層して表面を保護することができる。また、記録層上に酸素遮断性を有するフィルムを積層することも可能である。保護フィルムまたは酸素遮断性フィルムとしては、例えば、前記支持体基材フィルムとして例示されている材料からなる、厚さ0.1〜5μm程度の薄層フィルムを用いることができ、これをラミネートして用いればよい。この場合、ラミネートフィルムの記録層との接触面は、後から剥がしやすいように離型処理することもできる。 Moreover, when the coating layer after drying has adhesiveness etc., a protective film can be laminated | stacked and the surface can be protected. It is also possible to laminate a film having oxygen barrier properties on the recording layer. As the protective film or the oxygen barrier film, for example, a thin film having a thickness of about 0.1 to 5 μm made of the material exemplified as the support substrate film can be used, and this is laminated. Use it. In this case, the contact surface of the laminate film with the recording layer can be subjected to release treatment so that it can be easily peeled off later.
本発明の光記録媒体は、2光子吸収を利用して記録を行う2光子吸収光記録媒体であり、非共鳴2光子吸収により起こる光重合により3次元的屈折率変調が可能であるため3次元光記録媒体として好適である。本発明の光情報記録媒体への記録は、露光による記録工程を実施することで行われる。2光子吸収反応を起こすために、パルスレーザを用いることが好ましい。レーザの尖頭出力は1kW〜100GWが好ましく、パルス幅は1フェムト秒〜10ナノ秒が好ましい。用いるレーザー光源としては、波長中心1000nm付近に発振波長を有する固体レーザーやファイバーレーザー、780nm付近の発振波長を有する半導体レーザー、固体レーザー、ファイバーレーザー、620〜680nmの範囲の発振波長を有する半導体レーザーや固体レーザーなどを用いることができる。本発明の光記録媒体への情報記録方法の好ましい態様は、本発明の情報記録方法について後述する通りである。 The optical recording medium of the present invention is a two-photon absorption optical recording medium that performs recording using two-photon absorption, and three-dimensional refractive index modulation is possible by photopolymerization caused by non-resonant two-photon absorption. It is suitable as an optical recording medium. Recording on the optical information recording medium of the present invention is performed by performing a recording process by exposure. In order to cause a two-photon absorption reaction, it is preferable to use a pulse laser. The peak output of the laser is preferably 1 kW to 100 GW, and the pulse width is preferably 1 femtosecond to 10 nanoseconds. As the laser light source to be used, a solid-state laser or fiber laser having an oscillation wavelength near the wavelength center of 1000 nm, a semiconductor laser having an oscillation wavelength near 780 nm, a solid-state laser, a fiber laser, a semiconductor laser having an oscillation wavelength in the range of 620 to 680 nm, A solid laser or the like can be used. A preferred embodiment of the information recording method on the optical recording medium of the present invention is as described later for the information recording method of the present invention.
再生の際使用する光は、例えば上記レーザー光であることが好ましい。また、パワーまたはパルス形状は同じか異なるものの、記録時と同じ波長のレーザーを用いて再生することがより好ましい。また、再生の際使用する光として、カーボンアーク、高圧水銀灯、キセノンランプ、メタルハライドランプ、蛍光ランプ、タングステンランプ、LED、有機ELなども挙げられる。特定の波長域の光を照射するために、必要に応じてシャープカットフィルターやバンドパスフィルター、回折格子等を用いることも好ましい。 The light used for reproduction is preferably the above laser light, for example. Further, although the power or pulse shape is the same or different, it is more preferable to reproduce using a laser having the same wavelength as that used for recording. Examples of the light used for reproduction include carbon arc, high-pressure mercury lamp, xenon lamp, metal halide lamp, fluorescent lamp, tungsten lamp, LED, and organic EL. In order to irradiate light in a specific wavelength range, it is also preferable to use a sharp cut filter, a band pass filter, a diffraction grating, or the like as necessary.
[情報記録方法]
本発明の情報記録方法は、本発明の光情報記録媒体へ光照射することにより情報を記録する。ここで照射する光は、前記非共鳴2光子吸収化合物の線形吸収の存在しない波長であって、かつ該化合物の線形吸収帯よりも長波長域の波長のレーザー光である。上記波長のレーザー光を使用することにより、非共鳴2光子吸収を起こすことができ、その結果、前記ラジカル重合性化合物が光重合することによって記録層中に屈折率変調、好ましくは3次元的屈折率変調を起こし情報を記録することができる。
照射される光の波長は、記録層に含まれる非共鳴2光子吸収化合物の吸収特性に応じて決定すればよいが、例えば400〜1600nmの範囲であり、励起光が吸収や散乱を受けずに記録層内部まで到達でき、非共鳴2光子吸収の2乗特性により記録層内部の1点をきわめて高い分解能で励起できる点から、波長400〜850nmのレーザー光を使用することが好ましい。
[Information recording method]
The information recording method of the present invention records information by irradiating the optical information recording medium of the present invention with light. The light irradiated here is a laser beam having a wavelength where there is no linear absorption of the non-resonant two-photon absorption compound and having a wavelength longer than the linear absorption band of the compound. By using a laser beam having the above wavelength, non-resonant two-photon absorption can be caused. As a result, the radical polymerizable compound is photopolymerized to modulate the refractive index in the recording layer, preferably three-dimensional refraction. Information can be recorded by rate modulation.
The wavelength of the irradiated light may be determined according to the absorption characteristics of the non-resonant two-photon absorption compound included in the recording layer, but is in the range of 400 to 1600 nm, for example, and the excitation light is not subjected to absorption or scattering. Laser light having a wavelength of 400 to 850 nm is preferably used because it can reach the inside of the recording layer and can excite one point in the recording layer with extremely high resolution due to the square characteristic of non-resonant two-photon absorption.
以下、本発明を実施例により更に説明する。但し、本発明は実施例に示す態様に限定されるものではない。 The present invention will be further described below with reference to examples. However, this invention is not limited to the aspect shown in the Example.
[ラジカル重合性化合物の合成例]
以下に示す例示化合物を、下記スキームにより合成した。
[Synthesis example of radically polymerizable compound]
The following exemplary compounds were synthesized according to the following scheme.
上記スキームにより合成した例示化合物中、下記化合物について1H NMRにより同定を行った。結果を以下に示す。
M-17;1H NMR (300 MHz, CDCl3) δ2.00 (s, 3H), 3.05 (m, 4H), 3.21 (s, 4H), 4.95 (m, 1H), 5.20 (s, 2H)
M-18;1H NMR (300 MHz, CDCl3) δ3.16 (d, 2H), 3.18 (d, 2H), 3.23 (s, 4H), 5.20 (s, 2H), 5.20 (m, 1H), 7.30 (m, 3H), 8.0 (m, 3H)
M-46;1H NMR (300 MHz, CDCl3) δ3.16 (d, 2H), 3.18 (d, 2H), 3.24 (s, 4H), 5.20 (s, 2H), 5.22 (m, 1H), 7.36 (m, 2H), 7.79 (dd, 1H), 7.80 (dd, 1H)
M-47;1H NMR (300 MHz, CDCl3) δ3.16 (d, 2H), 3.18 (d, 2H), 3.24 (s, 4H), 5.20 (s, 2H), 5.20 (m, 1H), 7.30 (dd, 1H), 7.48 (d, 1H), 7.79 (d, 1H)M-44;1H NMR (300 MHz, CDCl3) δ2.00 (s, 3H), 2.80-3.80(m, 7H), 4.10~4.30 (m, 2H), 4.85 (d, 2H)
M-35;1H NMR (300 MHz, CDCl3) δ2.95 (m, 2H), 2.36 (s, 2H), 4.50 (m, 2H), 5.60 (s, 1H), 5.85 (s, 1H)
MD-1;1H NMR (300 MHz, CDCl3) δ1.01 (t, 3H), 1.53 (dd, 2H), 1.87〜1.99 (m, 2H), 3.07 (dd, 4H), 3.18〜3.33 (m, 4H), 4.62 (dd, 2H), 5.09〜5.19 (m, 1H), 5.26 (s, 2H), 7.25〜7.34 (m, 2H), 7.47 (t, 1H), 7.68 (d, 1H) 〔λmax=341.0, ε=40859(in CH2Cl2)〕
MD-2;1H NMR (300 MHz, CDCl3) δ1.02 (t, 3H), 1.56 (dd, 2H), 1.90〜2.00 (m, 2H), 2.6.2〜2.71 (m,4H), 3.08(dd, 4H), 3.24 (s, 4H), 4.39〜4.49 (m, 4H), 4.60 (dd, 2H), 5.01〜5.09 (m, 1H), 5.23 (s, 2H), 7.29〜7.34 (m, 2H), 7.47 (t, 1H), 7.69 (d, 1H) 〔λmax=341.0, ε=41139(in CH2Cl2)〕
Among the exemplary compounds synthesized by the above scheme, the following compounds were identified by 1 H NMR. The results are shown below.
M-17; 1 H NMR (300 MHz, CDCl 3 ) δ2.00 (s, 3H), 3.05 (m, 4H), 3.21 (s, 4H), 4.95 (m, 1H), 5.20 (s, 2H)
M-18; 1 H NMR (300 MHz, CDCl 3 ) δ 3.16 (d, 2H), 3.18 (d, 2H), 3.23 (s, 4H), 5.20 (s, 2H), 5.20 (m, 1H) , 7.30 (m, 3H), 8.0 (m, 3H)
M-46; 1 H NMR (300 MHz, CDCl 3 ) δ 3.16 (d, 2H), 3.18 (d, 2H), 3.24 (s, 4H), 5.20 (s, 2H), 5.22 (m, 1H) , 7.36 (m, 2H), 7.79 (dd, 1H), 7.80 (dd, 1H)
M-47; 1 H NMR (300 MHz, CDCl 3 ) δ 3.16 (d, 2H), 3.18 (d, 2H), 3.24 (s, 4H), 5.20 (s, 2H), 5.20 (m, 1H) , 7.30 (dd, 1H), 7.48 (d, 1H), 7.79 (d, 1H) M-44; 1 H NMR (300 MHz, CDCl 3 ) δ2.00 (s, 3H), 2.80-3.80 (m, 7H), 4.10-4.30 (m, 2H), 4.85 (d, 2H)
M-35; 1 H NMR (300 MHz, CDCl 3 ) δ2.95 (m, 2H), 2.36 (s, 2H), 4.50 (m, 2H), 5.60 (s, 1H), 5.85 (s, 1H)
MD-1; 1 H NMR (300 MHz, CDCl 3 ) δ1.01 (t, 3H), 1.53 (dd, 2H), 1.87 to 1.99 (m, 2H), 3.07 (dd, 4H), 3.18 to 3.33 ( m, 4H), 4.62 (dd, 2H), 5.09-5.19 (m, 1H), 5.26 (s, 2H), 7.25-7.34 (m, 2H), 7.47 (t, 1H), 7.68 (d, 1H) (Λmax = 341.0, ε = 40859 (in CH 2 Cl 2 ))
MD-2; 1 H NMR (300 MHz, CDCl 3 ) δ1.02 (t, 3H), 1.56 (dd, 2H), 1.90 to 2.00 (m, 2H), 2.6.2 to 2.71 (m, 4H), 3.08 (dd, 4H), 3.24 (s, 4H), 4.39 to 4.49 (m, 4H), 4.60 (dd, 2H), 5.01 to 5.09 (m, 1H), 5.23 (s, 2H), 7.29 to 7.34 ( m, 2H), 7.47 (t, 1H), 7.69 (d, 1H) (λmax = 341.0, ε = 41139 (in CH 2 Cl 2 ))
[実施例1]
光重合性組成物の作製
以下の組成にて、グローブボックス内で窒素雰囲気下において混合し、光重合性組成物を作製した。
ラジカル重合化合物:例示化合物M-18 1.15g
非共鳴2光子吸収化合物:DEAW 0.02g
重合開始剤:Cl-HABI 0.03g
バインダー:セルロースアセテートブチレート(CAB) 1.25g
連鎖移動剤:A-1 0.045g
溶媒:ジクロロメタン 7.8g
[Example 1]
Preparation of Photopolymerizable Composition A photopolymerizable composition having the following composition was mixed in a glove box under a nitrogen atmosphere to prepare a photopolymerizable composition.
Radical polymerization compound: Exemplified compound M-18 1.15g
Non-resonant two-photon absorption compound: DEAW 0.02g
Polymerization initiator: Cl-HABI 0.03g
Binder: Cellulose acetate butyrate (CAB) 1.25g
Chain transfer agent: A-1 0.045g
Solvent: 7.8 g of dichloromethane
[実施例2、参考例1]
ラジカル重合性化合物M-18に代えて表1に示す例示化合物を使用した点以外、実施例1と同様の方法で光重合性組成物を作製した。
[Example 2, Reference Example 1 ]
A photopolymerizable composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that the exemplified compounds shown in Table 1 were used in place of the radical polymerizable compound M-18.
[実施例4]
バインダーとしてCABに代えてポリビニルアセテート(PVAc)を使用した点以外、実施例1と同様の方法で光重合性組成物を作製した。
[Example 4]
A photopolymerizable composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that polyvinyl acetate (PVAc) was used instead of CAB as a binder.
[比較例1、2]
ラジカル重合性化合物M-18に代えて下記比較化合物R-1、R-2(特開2004−346238号公報に記載の化合物)を使用した点以外、実施例1と同様の方法で光重合性組成物を作製した。
[Comparative Examples 1 and 2]
Photopolymerizability in the same manner as in Example 1 except that the following comparative compounds R-1 and R-2 (compounds described in JP-A-2004-346238) were used in place of the radical polymerizable compound M-18. A composition was prepared.
屈折率の測定
表1に示すラジカル重合性化合物およびバインダーを塩化メチレンで10-3 mol/Lに調整した溶液をガラス基板にスピンコートし、塗布サンプルを得た。それらをエリプソメトリー法(ウーラム・ジャパン社製)により測定し、屈折率nDを求めた。結果を下記表2に示す。
Measurement of Refractive Index A solution prepared by adjusting the radical polymerizable compound and binder shown in Table 1 to 10 −3 mol / L with methylene chloride was spin-coated on a glass substrate to obtain a coated sample. They were measured by ellipsometry (manufactured by Woollam Japan) to determine the refractive index nD. The results are shown in Table 2 below.
例示化合物MD−1および化合物DEAWの吸収特性の確認
上記例示化合物MD−1および化合物DEAWの溶液(溶媒:塩化メチレン、溶液濃度:1x10-5mol/L)の吸収スペクトルを、UV-3600(島津製作所(株)社製)にて測定し、吸収スペクトルから吸収特性を求めた。例示化合物MD−1の吸収特性は、λmax=341.0nm、λmaxにおけるモル吸光係数ε=40738mol・l・cm-1であった。化合物DEAWの吸収特性は、λmax=494nm、λmaxにおけるモル吸光係数ε=73400mol・l・cm-1、波長800nmにおけるモル吸光係数ε=0mol・l・cm-1であり、波長800nmには線形吸収が存在しなかった。更に、化合物DEAWの吸収スペクトルでは、800nmより短波長側に線形吸収帯が存在していることが確認された。
Confirmation of absorption characteristics of Exemplified Compound MD-1 and Compound DEAW Absorption spectra of the above Exemplified Compound MD-1 and Compound DEAW solution (solvent: methylene chloride, solution concentration: 1 × 10 −5 mol / L) were measured using UV-3600 (Shimadzu). And the absorption characteristics were determined from the absorption spectrum. The absorption characteristics of Exemplified Compound MD-1 were λmax = 341.0 nm and the molar extinction coefficient ε = 40738 mol·l · cm −1 at λmax. The absorption characteristics of Compound DEAW are λmax = 494 nm, molar extinction coefficient ε = 73400 mol·l · cm −1 at λmax, molar extinction coefficient ε = 0 mol·l · cm −1 at wavelength 800 nm, and linear absorption at wavelength 800 nm. Did not exist. Furthermore, in the absorption spectrum of the compound DEAW, it was confirmed that a linear absorption band was present on the shorter wavelength side than 800 nm.
[実施例5、6、8、参考例2、比較例3、4]
光記録媒体(2光子吸収媒体)の作製
表3に示す光重合性組成物をプレパラートガラス板上にスピンコート塗布し、溶媒を乾燥させ記録層を形成した。記録層の膜厚は5〜10μmの範囲であった。また、オーバーコート(酸素遮断性フィルム)を有するサンプルは、形成した記録層の上部に更にPETフィルムを圧着することで作製した。
[Examples 5 , 6, 8, Reference Example 2 , Comparative Examples 3, 4]
Preparation of optical recording medium (two-photon absorption medium) The photopolymerizable composition shown in Table 3 was spin-coated on a preparation glass plate, and the solvent was dried to form a recording layer. The film thickness of the recording layer was in the range of 5-10 μm. Further, a sample having an overcoat (oxygen barrier film) was produced by further pressing a PET film on the formed recording layer.
記録感度の評価
実施例5、6、8、参考例2、比較例3、4の各光記録媒体に、以下の方法で記録再生を行い、記録感度を評価した。
700nmから1000nmの波長範囲で測定可能なTi:Sapphireパルスレーザー(パルス幅:100fs、繰り返し:80MHz、平均出力:1W、ピークパワー:100kW)を用い、各光記録媒体に該レーザーの800nmのパルス光をNA0.6のレンズで集光して照射することで記録を行った。
記録の再生に関しては、660nmの半導体レーザーを照射して得られる反射光シグナルを読み出した。反射光シグナルが非常に高い場合を◎、高い場合を○、中程度の場合を△、シグナルが見えない場合を×と判定した。結果を表3に示す。
Evaluation of Recording Sensitivity Recording sensitivity was evaluated by performing recording and reproduction on the optical recording media of Examples 5 , 6, and 8, Reference Example 2 , and Comparative Examples 3 and 4 by the following method.
Using a Ti: Sapphire pulse laser (pulse width: 100 fs, repetition rate: 80 MHz, average output: 1 W, peak power: 100 kW) that can be measured in the wavelength range from 700 nm to 1000 nm, the pulse light of 800 nm of the laser is used for each optical recording medium. Was recorded by converging with an NA 0.6 lens.
For recording reproduction, a reflected light signal obtained by irradiating a 660 nm semiconductor laser was read out. The case where the reflected light signal was very high was judged as ◎, the case where it was high as ○, the case where it was moderate as Δ, and the case where the signal was not visible as ×. The results are shown in Table 3.
評価結果
表3に示すように、実施例1、2、4、参考例1の光重合性組成物を用いた実施例5、6、8、参考例2の光記録媒体は、比較例1、2の光重合性組成物を用いた比較例3、4の光記録媒体に比べて、いずれも優れた記録感度を有していた。
Evaluation Results As shown in Table 3, the optical recording media of Examples 5 , 6, 8 and Reference Example 2 using the photopolymerizable compositions of Examples 1 , 2, 4 and Reference Example 1 were Comparative Example 1, As compared with the optical recording media of Comparative Examples 3 and 4 using the photopolymerizable composition of No. 2, all had excellent recording sensitivity.
本発明の光重合性組成物は、より高密度の記録を行うことができるので、高密度記録が可能な3次元記録媒体の作製に好適である。 Since the photopolymerizable composition of the present invention can perform higher density recording, it is suitable for production of a three-dimensional recording medium capable of high density recording.
Claims (14)
前記照射する光として、前記非共鳴2光子吸収化合物の線形吸収の存在しない波長であって、かつ該化合物の線形吸収帯よりも長波長域の波長のレーザー光を使用することを特徴とする情報記録方法。 An information recording method for recording information by irradiating the optical recording medium according to claim 11 with light,
As the light to be irradiated, laser light having a wavelength at which linear absorption of the non-resonant two-photon absorption compound does not exist and having a wavelength longer than the linear absorption band of the compound is used. Recording method.
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