JP5080124B2 - 表示装置 - Google Patents
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Description
前記透明導電膜は、金属酸化物から構成されているとともに、酸化物に対する割合が10%以下の窒化物が含有されており、前記ガラス基板又は窒化シリコン膜上と前記透明導電膜との界面の屈折率が2.11であることを特徴とする。
前記電極は、オンされた前記薄膜トランジスタを介してドレイン信号線からの映像信号が供給される画素電極であることを特徴とする。
前記電極は、前記画素電極との間に電界を発生せしめる対向電極であることを特徴とする。
図2は、本発明による表示装置の一実施例である液晶表示装置を示す概略平面図である。
図3は上述した各画素のうちの一つの画素の一実施例を示した構成図で、図3(a)は平面図、図3(b)は図3(a)のb−b線における断面図、図3(c)は図3(a)のc−c線における断面図である。
前記対向電極CTおよび画素電極PXは、上述したように、たとえばITO(Indium Tin Oxide)の材料に窒化物(Nitride)が含有された透明導電材料で構成されている。
このようにして形成される透明導電膜は、基板上に形成した膜厚50nmのITO膜の材料膜の光透過率は89.5%であった。この値からなる光透過率は従来の場合と比較すると若干低くなっているが、光屈折率は2.11となり従来の光屈折率よりも大きくなっていることが確認できる。
上述した実施例では、透明導電膜としてITO膜に窒化物(Nitride)を含有させたものを挙げたものである。しかし、たとえばIZO(Indium Zinc Oxide)等の他の透明導電膜であっても同様の効果が得られることから、該他の透明導電膜においても本発明を適用することができる。また、前記透明導電膜として、In、Sn、Znの各金属酸化物のうち少なくとも一つの金属酸化物によって構成されているものにも適用することができる。
Claims (5)
- ガラス基板又は窒化シリコン膜上の画素領域に形成された電極を備え、この電極は光の透過がなされる透明導電膜から構成されている表示装置であって、
前記透明導電膜は、金属酸化物から構成されているとともに、酸化物に対する割合が10%以下の窒化物が含有されており、前記ガラス基板又は窒化シリコン膜上と前記透明導電膜との界面の屈折率が2.11であることを特徴とする表示装置。 - 前記透明導電膜の窒化物の酸化物に対する割合が3%であることを特徴とする請求項1に記載の表示装置。
- 前記透明導電膜は、In、Sn、Znの各金属酸化物のうち少なくとも一つの金属酸化物によって構成されていることを特徴とする請求項1に記載の表示装置。
- 基板の前記画素領域に、ゲート信号線からの走査信号によってオンされる薄膜トランジスタを備え、
前記電極は、オンされた前記薄膜トランジスタを介してドレイン信号線からの映像信号が供給される画素電極であることを特徴とする請求項1に記載の表示装置。 - 議半の前記画素領域に、ゲート信号線からの走査信号によってオンされる薄膜トランジスタと、このオンされた前記薄膜トランジスタを介してドレイン信号線からの映像信号が供給される画素電極を備え、
前記電極は、前記画素電極との間に電界を発生せしめる対向電極であることを特徴とする請求項1に記載の表示装置。
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