JP5075987B2 - 装置設計製造支援システム - Google Patents
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Description
また、本発明のように再現装置を備えることによって、製造装置での実行結果に基づいて、シミュレーション処理を行うことが可能となる。これによって、実行結果さえ取得できれば、例えば遠隔地で当該製造装置と同一の環境を再現することが出来る。例えば製造装置に不具合が発生した場合、わざわざ製造装置が設置されている工場まで赴かなくても、製造装置に発生した事象と同一の事象を再現できるため、工場外で不具合の原因追及などを行うことが出来る。
そして、本発明のように構成することで、従来のように、俯瞰的な視点でのシミュレーション表示のみならず、マテリアル視点でのシミュレーション表示が可能となる。これによって、マテリアルの移動に伴って視点が自動的に変更され、マテリアルの視点による製造装置の動作状況などを確認することが可能となる。
2:装置シミュレータ
3:装置コントローラ
4:EES
5:CAD
6:再現装置
20:モデリングレイアウト部
21:データ記憶部
22:シミュレーション処理部
23:表示処理部
30:演算装置
31:記憶装置
32:表示装置
33:入力装置
34:通信装置
Claims (6)
- 製造装置の設計、製造を支援する装置設計製造支援システムであって、
前記装置設計製造支援システムは、装置シミュレータと装置コントローラとEESと再現装置とを有しており、
前記装置シミュレータは、
前記製造装置の装置レイアウトデータの入力を受け付け、前記装置レイアウトデータと前記装置コントローラからの制御指令とに基づいて、前記製造装置の各階層に対応したシミュレーションプログラムにより、仮想的な製造装置としてシミュレーション処理を実行し、
前記装置コントローラは、
前記製造装置及び前記装置シミュレータにおける仮想的な製造装置を制御するための制御指令を、前記製造装置及び前記装置シミュレータに渡し、
前記EESは、
前記装置シミュレータにおける仮想的な製造装置でのシミュレーション処理の実行結果と、前記製造装置における実行結果とをそれぞれ取得し、各実行結果を比較可能なように表示し、
前記再現装置は、
前記製造装置における実行結果に含まれるマテリアルの位置情報に基づいて、前記製造装置の各階層に対応したシミュレーションプログラムにより、マテリアル視点でのシミュレーション処理の表示を行う、
ことを特徴とする装置設計製造支援システム。 - 製造装置の設計、製造を支援する装置設計製造支援システムであって、
前記装置設計製造支援システムは、装置シミュレータと装置コントローラとEESと再現装置とを有しており、
前記装置シミュレータは、
前記製造装置を構成する各階層の全部または一部の部品の位置情報および/または大きさを示す情報を含むCADデータと、各部品をどのようなタイミングで動かすかを示す動作パラメータとの入力を受け付けるモデリングレイアウト部と、
前記CADデータと動作パラメータとを少なくとも含む装置レイアウトデータを記憶するデータ記憶部と、
前記データ記憶部で記憶した前記装置レイアウトデータと前記装置コントローラから受け取った制御指令とに基づいて、前記製造装置の各階層に対応したシミュレーションプログラムにより、各部品に対する動作時間をシミュレートして全体の動作時間を算出することで仮想的な製造装置としてシミュレーション処理を実行するシミュレーション処理部と、
前記シミュレーション処理部におけるシミュレーション状況を、前記装置シミュレータの表示装置に表示させる表示処理部と、を有しており、
前記装置コントローラは、
前記製造装置に対する制御を行う実制御モードと、前記装置シミュレータにおける前記仮想的な製造装置に対する制御を行うシミュレーションモードとの切替が可能であって、
前記シミュレーションモードでは、前記装置シミュレータにおける前記仮想的な製造装置に対して制御指令を渡し、前記実制御モードでは、実際に製造された前記製造装置に対して制御指令を渡すことで、前記製造装置及び前記仮想的な製造装置の制御を行い、
前記EESは、
前記装置シミュレータにおける仮想的な製造装置でのシミュレーション処理の実行結果としての動作時間と制御指令で処理対象となったマテリアルの位置情報と、前記製造装置における実行結果としての動作時間とをそれぞれ取得し、それぞれの動作時間を比較可能なように表示し、
前記再現装置は、
前記製造装置における実行結果に含まれるマテリアルの位置情報に基づいて、前記製造装置の各階層に対応したシミュレーションプログラムにより、マテリアル視点でのシミュレーション処理の表示を行う、
ことを特徴とする装置設計製造支援システム。 - 前記装置シミュレータのモデリングレイアウト部は、
前記EESにおける、前記仮想的な製造装置での実行結果と、前記製造装置における実行結果との比較の結果を反映した、新たな動作パラメータの入力を前記モデリングレイアウト部で受け付け、
前記シミュレーション処理部は、
前記受け付けた新たな動作パラメータと前記装置コントローラからの制御指令とに基づいて、前記製造装置の各階層に対応したシミュレーションプログラムにより、前記仮想的な製造装置としてのシミュレーション処理を、再度、実行する、
ことを特徴とする請求項2に記載の装置設計製造支援システム。 - 前記実行結果には、その処理に要した時間、または処理開始時刻および処理終了時刻とを含んでおり、
前記再現装置は、
前記実行結果におけるその処理時間に応じてシミュレーション処理を実行する、
ことを特徴とする請求項1から請求項3のいずれかに記載の装置設計製造支援システム。 - 前記実行結果には、前記製造装置を構成する部品またはマテリアルにおける時間変化情報を含んでおり、
前記再現装置は、
前記実行結果における時間変化情報と所定のしきい値とを比較し、予め定められた条件を充足した場合に、前記時間変化情報における部品またはマテリアルが条件を充足していることをユーザに通知する、
ことを特徴とする請求項1から請求項4のいずれかに記載の装置設計製造支援システム。 - 前記再現装置は、
前記実行結果にエラーがあったことを示す情報が含まれている場合には、前記実行結果に基づいてエラーがあった部品を特定し、その部品について、所定の色で表示する、
ことを特徴とする請求項1から請求項5のいずれかに記載の装置設計製造支援システム。
Priority Applications (1)
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JP2010532760A JP5075987B2 (ja) | 2009-04-07 | 2009-09-04 | 装置設計製造支援システム |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8617398B2 (en) | 1996-08-12 | 2013-12-31 | Debasish Mukhopadhyay | Method for high efficiency reverse osmosis operation |
US8758720B2 (en) | 1996-08-12 | 2014-06-24 | Debasish Mukhopadhyay | High purity water produced by reverse osmosis |
Citations (3)
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JP2000056080A (ja) * | 1998-08-12 | 2000-02-25 | Toshiba Corp | プラントの遠隔保守支援システム |
JP2006059316A (ja) * | 2004-07-21 | 2006-03-02 | Hitachi Kiden Kogyo Ltd | 搬送装置の設計支援システム |
JP2007133579A (ja) * | 2005-11-09 | 2007-05-31 | Hitachi High-Technologies Corp | 産業用装置の仮想シミュレーションシステムおよび装置コントローラ |
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2009
- 2009-09-04 JP JP2010532760A patent/JP5075987B2/ja active Active
Patent Citations (3)
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US8641905B2 (en) | 1996-08-12 | 2014-02-04 | Debasish Mukhopadhyay | Method for high efficiency reverse osmosis operation |
US8758720B2 (en) | 1996-08-12 | 2014-06-24 | Debasish Mukhopadhyay | High purity water produced by reverse osmosis |
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Publication number | Publication date |
---|---|
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