JP5071323B2 - Liquid crystal display panel and method for manufacturing liquid crystal display panel - Google Patents

Liquid crystal display panel and method for manufacturing liquid crystal display panel Download PDF

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Description

この発明は、液晶表示装置に用いられる液晶表示パネルおよび液晶表示パネルの製造方法に関する。   The present invention relates to a liquid crystal display panel used in a liquid crystal display device and a method for manufacturing the liquid crystal display panel.

液晶表示装置に備えられる液晶表示パネルは、配線や画素を構成する電極がマトリクス状に形成されたアレイ基板と、カラーフィルタが形成されたカラーフィルタ基板とで、液晶層を挟み込むことで製造される。アレイ基板やカラーフィルタ基板にはポリイミド等の有機高分子材料からなる膜が塗布され、加熱処理して配向膜が形成される。配向膜は液晶層中の液晶分子を優先的に特定の方向に配向させる作用を有する。配向膜は、単に塗布されただけでは、液晶分子が基板の表面に対して単に平行に配列されるだけであり、液晶分子を一定方向に配列(配向)させることはできない。そこで配向膜に対して、その表面をレーヨン等のラビング布で一定方向に機械的にラビングする(擦る)ラビング処理を施し、これによって液晶分子を、ラビングした方向と一定の関係を有する方向に配向させることが行われている。   A liquid crystal display panel provided in a liquid crystal display device is manufactured by sandwiching a liquid crystal layer between an array substrate in which electrodes constituting wirings and pixels are formed in a matrix and a color filter substrate on which a color filter is formed. . A film made of an organic polymer material such as polyimide is applied to the array substrate or the color filter substrate, and an alignment film is formed by heat treatment. The alignment film has a function of preferentially aligning liquid crystal molecules in the liquid crystal layer in a specific direction. When the alignment film is simply applied, the liquid crystal molecules are simply aligned in parallel to the surface of the substrate, and the liquid crystal molecules cannot be aligned (aligned) in a certain direction. Therefore, the alignment film is subjected to a rubbing process in which the surface is mechanically rubbed (rubbed) in a certain direction with a rubbing cloth such as rayon, thereby aligning the liquid crystal molecules in a direction having a certain relationship with the rubbed direction. Has been done.

このようにしてラビング処理が施された後に、アレイ基板とカラーフィルタ基板とからなる一対の基板はスペーサを介して対向配置され、その間の周辺部分にシール剤が配設して貼り合わせられ、ガラス基板間に液晶が充填されることにより、液晶表示パネルが作製される。このようにして作製された液晶表示パネルを使用して、液晶表示装置が製造される。この液晶表示装置の製造工程で作製される液晶表示パネルにおいては、湿度に対する信頼性やシール剤の接着強度の維持をはかるために、配向膜はシール領域の内側領域に形成される。ここでシール領域の内側領域とは、液晶パネルの表示を行う画素領域、ならびに画素領域とシール領域の間の画素周辺領域に相当する。そのため従来では、配向膜の形成方法として、ポリイミド等の溶液或いはその前駆体を印刷法によりシール領域の内側領域にのみ塗布し、加熱処理した後ラビング布で配向処理する方法がとられている。   After the rubbing process is performed in this way, a pair of substrates composed of the array substrate and the color filter substrate are arranged to face each other via a spacer, and a sealing agent is arranged and bonded to the peripheral portion between them, and glass A liquid crystal display panel is manufactured by filling liquid crystal between the substrates. A liquid crystal display device is manufactured using the liquid crystal display panel thus manufactured. In the liquid crystal display panel manufactured in the manufacturing process of the liquid crystal display device, the alignment film is formed in the inner region of the seal region in order to maintain the reliability with respect to humidity and the adhesive strength of the sealant. Here, the inner area of the seal area corresponds to a pixel area for displaying a liquid crystal panel and a pixel peripheral area between the pixel area and the seal area. For this reason, conventionally, as a method for forming the alignment film, a solution such as polyimide or a precursor thereof is applied only to the inner region of the seal region by a printing method, heat-treated, and then subjected to an alignment treatment with a rubbing cloth.

ところで、ラビング処理は基板全体に行うが、ラビング処理の際に配向膜の密着性が弱い部分は剥離して、画素領域内に再付着する場合がある。画素領域内で再付着すると、配向膜の付着した部分では表面特性が他の部分と異なり、液晶を接触させた場合に液晶分子の配列構成が乱されて輝点が生じ、製品不良となる。   By the way, although the rubbing process is performed on the entire substrate, a portion having low adhesion of the alignment film may be peeled off during the rubbing process and may be reattached in the pixel region. When redeposited in the pixel region, the surface property of the portion to which the alignment film is attached is different from that of other portions, and when the liquid crystal is brought into contact, the arrangement of the liquid crystal molecules is disturbed to produce bright spots, resulting in product defects.

これに対処するため、特許文献1において、TFT基板上の比較的平坦な画素周辺領域に、配向膜に対して親和性を有する凸部を複数形成し、配向膜を強固に密着させる方法が示されている。   In order to cope with this, Patent Document 1 discloses a method in which a plurality of convex portions having affinity for the alignment film are formed in a relatively flat pixel peripheral region on the TFT substrate to firmly adhere the alignment film. Has been.

2004−341334号広報2004-341334

しかしながら、われわれの検討の結果、ラビングにより配向膜の剥離が開始するのは、基板表面の画素周辺領域に形成された金属配線や絶縁膜で被覆された構造物などの段差部分、とりわけラビングローラーが乗り上げる側の段差部分であり、これを起点として平坦領域にまで配向膜の剥離が進行しやすいことを見出した。   However, as a result of our study, peeling of the alignment film due to rubbing is caused by stepped portions such as metal wiring formed in the pixel peripheral region of the substrate surface and structures covered with an insulating film, particularly rubbing rollers. It was found that the alignment film is easy to proceed to the flat region starting from the stepped portion on the side where it rides.

特許文献1の方法では比較的平坦な領域の配向膜の密着性を改善するのみであり、段差部分での配向膜剥離が依然として発生し、配向膜の剥離を部分的に減少させるにとどまっていた。さらに、特許文献1で配向膜の材料であるポリイミドに対して親和性を有するとされたAlなどの金属からなる配線部に関しても段差部分で剥離が生じやすいことがわかった。   The method of Patent Document 1 only improves the adhesion of the alignment film in a relatively flat region, and the alignment film peeling still occurs at the step portion, and the alignment film peeling is only partially reduced. . Further, it has been found that peeling is likely to occur at the stepped portion of the wiring portion made of a metal such as Al, which is said to have affinity for polyimide, which is the material of the alignment film, in Patent Document 1.

そこで、本発明はかかる問題点に鑑みてなされたものであって、金属配線を有する周辺領域において配向膜の剥離を防止し、製品不良率の低減を実現することのできる液晶表示パネルおよびその製造方法を提供することを目的とする。   Accordingly, the present invention has been made in view of such problems, and a liquid crystal display panel capable of preventing the peeling of the alignment film in the peripheral region having the metal wiring and realizing a reduction in the product defect rate and its manufacture It aims to provide a method.

本発明の液晶表示パネルは液晶層と液晶層を外部から入力される電気信号によって駆動する基板とを有し、基板には液晶層が駆動される画素領域と、画素領域の外側であって外部からの電気信号を伝達する金属配線を備えた周辺領域とを有する液晶表示パネルであって、基板の画素領域および周辺領域に配向膜が形成され、周辺領域の金属配線と配向膜との間に金属配線の一方の側面のみを覆う透明電極層を有する。
The liquid crystal display panel of the present invention includes a liquid crystal layer and a substrate for driving the liquid crystal layer by an electric signal input from the outside. The substrate includes a pixel region in which the liquid crystal layer is driven, and an external region outside the pixel region. Liquid crystal display panel having a peripheral region having a metal wiring for transmitting an electrical signal from the substrate, wherein an alignment film is formed in the pixel region and the peripheral region of the substrate, and the metal wiring and the alignment film in the peripheral region are between A transparent electrode layer covering only one side surface of the metal wiring is provided.

基板上の周辺領域にある金属配線層の一方の側面のみを覆う透明電極層を設けたので、配向膜の密着性が良好となり、配向膜の剥離を防止することができる。

Since the transparent electrode layer covering only one side surface of the metal wiring layer in the peripheral region on the substrate is provided, the adhesion of the alignment film is improved, and peeling of the alignment film can be prevented.

以下、本発明の実施の形態を示す液晶表示パネルの製造方法について、図面を参照しながら具体的に説明する。   Hereinafter, a method for manufacturing a liquid crystal display panel according to an embodiment of the present invention will be specifically described with reference to the drawings.

<実施の形態1>
図1は本実施の形態1の液晶表示パネルを用いた液晶表示装置の構成の説明図である。本実施の形態1の液晶表示パネル50はアレイ基板2およびカラーフィルタが形成されたカラーフィルタ基板3との間に液晶層1が挟まれている。アレイ基板2と対向するカラーフィルタ基板3とは、それぞれの周辺でシール材によりシールされ、液晶層1はシールされた空間に保持される。なお、本実施の形態1の液晶表示パネル50はカラー表示とするため、アレイ基板2に対向する基板をカラーフィルタ基板3としたが、液晶層1を挟み込む基板があれば必ずしもカラーフィルタは必須ではない。また、カラーフィルタをアレイ基板2側に形成してもよい。
<Embodiment 1>
FIG. 1 is an explanatory diagram of a configuration of a liquid crystal display device using the liquid crystal display panel of the first embodiment. In the liquid crystal display panel 50 according to the first embodiment, the liquid crystal layer 1 is sandwiched between the array substrate 2 and the color filter substrate 3 on which the color filters are formed. The color filter substrate 3 facing the array substrate 2 is sealed with a sealing material at each periphery, and the liquid crystal layer 1 is held in the sealed space. Since the liquid crystal display panel 50 of the first embodiment uses color display for the color display, the substrate facing the array substrate 2 is the color filter substrate 3, but the color filter is not necessarily required if there is a substrate sandwiching the liquid crystal layer 1. Absent. A color filter may be formed on the array substrate 2 side.

アレイ基板2および対向するカラーフィルタ基板3には画素領域15がマトリクス状に配列される。液晶表示パネル50には画像信号入力部52に入力された信号をもとに液晶表示パネル50を駆動する駆動回路51が接続される。画素領域15では駆動回路51によって画像信号に応じて画素ごとに液晶層1に所定の電圧が印加され、液晶層1の光学特性が制御される。透過型の液晶表示パネル50の場合、アレイ基板2、カラーフィルタ基板3は、例えば、石英基板、ガラス基板などの透明な絶縁基板とする。液晶表示パネル50の背面側には光源53が設置され、その光源53の光の透過率が画素ごとに液晶層1の光学特性の変化で制御されて画素領域15の正面側に画像が表示される。光源53には光源制御回路54が接続される。たとえば光源制御回路54によって画素領域15に画像が表示されるフレーム周期にあわせて光源53が点灯と消光と繰り返すように制御される。   Pixel regions 15 are arranged in a matrix on the array substrate 2 and the opposing color filter substrate 3. A drive circuit 51 that drives the liquid crystal display panel 50 based on a signal input to the image signal input unit 52 is connected to the liquid crystal display panel 50. In the pixel region 15, a predetermined voltage is applied to the liquid crystal layer 1 for each pixel according to the image signal by the drive circuit 51, and the optical characteristics of the liquid crystal layer 1 are controlled. In the case of the transmissive liquid crystal display panel 50, the array substrate 2 and the color filter substrate 3 are transparent insulating substrates such as a quartz substrate and a glass substrate. A light source 53 is installed on the back side of the liquid crystal display panel 50, and the light transmittance of the light source 53 is controlled for each pixel by a change in the optical characteristics of the liquid crystal layer 1, and an image is displayed on the front side of the pixel region 15. The A light source control circuit 54 is connected to the light source 53. For example, the light source control circuit 54 controls the light source 53 to be repeatedly turned on and off in accordance with a frame period in which an image is displayed in the pixel region 15.

図2は本実施の形態1の液晶表示パネルのアレイ基板2構成を示す平面図である。アレイ基板2の周辺部に形成された端子部21は駆動回路51とフレキシブルケーブルなどの配線が接続されて駆動信号が入力される。アレイ基板2の周辺部であって端子部21の内側にはシール材が形成されるシール領域16を有する。さらにそのシール領域16の内側には画像表示を行う画素領域15を有し、また、シール領域16と画素領域15との間に周辺領域17を有する。周辺領域17には走査回路57や信号回路58が形成され、それぞれの回路は端子部21と金属配線5によって接続される。金属配線5はシール領域16の外側と内側とを横断する。また、走査回路57や信号回路58から画素内に信号線が接続される。図は走査回路57からコモン線Cおよびゲート線G、信号回路58からソース線Sが画素内に伸びるように配置された構造の例を示している。図では、コモン線Cおよびゲート線Gとソース線Sとが交差した位置ごとに画素が配置される。また、ゲート線Gとソース線Sとが交差した位置近傍にトランジスタ10が形成され、画素内の一方の画素電極8はこのトランジスタ10を介してソース線Sに接続される。トランジスタ10のゲート電極はゲート線Gに接続され、走査回路57から所定の周期でゲート線Gに駆動信号が入力されて導通し、信号回路58からソース線Sの電圧が一方の画素電極8に与えられる。画素内の他方の画素電極9にはコモン線Cからコモン電位が与えられて、一方の画素電極8と他方の画素電極9との電圧によって電極間に挟まれる液晶層1に電界が与えられて画素が駆動される。なお、図では画素内に2つの画素電極を有する場合を示したが、画素内にはソース線Sから電位が与えられる画素電極8のみを有して、対向する基板側にコモン電位が与えられる画素電極9を形成する構成としてもよい。透過型の液晶表示パネルの場合、これらの画素電極8、9にはITO(酸化インジウムスズ)などの透明導電膜が用いられる。ゲート線G、ソース線Sはたとえばアルミニウムやその合金などの金属線、トランジスタ10は薄膜シリコン用いたTFTが用いられる。   FIG. 2 is a plan view showing the configuration of the array substrate 2 of the liquid crystal display panel according to the first embodiment. The terminal portion 21 formed in the peripheral portion of the array substrate 2 is connected to a drive circuit 51 and a wiring such as a flexible cable, and a drive signal is input thereto. A seal region 16 in which a sealing material is formed is provided around the array substrate 2 and inside the terminal portion 21. Further, a pixel region 15 for displaying an image is provided inside the seal region 16, and a peripheral region 17 is provided between the seal region 16 and the pixel region 15. A scanning circuit 57 and a signal circuit 58 are formed in the peripheral region 17, and each circuit is connected to the terminal portion 21 by the metal wiring 5. The metal wiring 5 crosses the outside and the inside of the seal region 16. Further, signal lines are connected from the scanning circuit 57 and the signal circuit 58 to the pixels. The figure shows an example of a structure in which the common line C and gate line G from the scanning circuit 57 and the source line S from the signal circuit 58 are arranged to extend into the pixel. In the figure, a pixel is arranged at each position where the common line C, the gate line G, and the source line S intersect. Further, the transistor 10 is formed in the vicinity of the position where the gate line G and the source line S intersect, and one pixel electrode 8 in the pixel is connected to the source line S through the transistor 10. The gate electrode of the transistor 10 is connected to the gate line G, and a drive signal is input from the scanning circuit 57 to the gate line G at a predetermined cycle, and the voltage is applied to the one pixel electrode 8 from the signal circuit 58. Given. A common potential is applied from the common line C to the other pixel electrode 9 in the pixel, and an electric field is applied to the liquid crystal layer 1 sandwiched between the electrodes by the voltage between the one pixel electrode 8 and the other pixel electrode 9. The pixel is driven. Although the figure shows a case where the pixel has two pixel electrodes, the pixel has only the pixel electrode 8 to which a potential is applied from the source line S, and a common potential is applied to the opposing substrate side. The pixel electrode 9 may be formed. In the case of a transmissive liquid crystal display panel, a transparent conductive film such as ITO (indium tin oxide) is used for the pixel electrodes 8 and 9. The gate line G and the source line S are, for example, metal lines such as aluminum or an alloy thereof, and the transistor 10 is a TFT using thin film silicon.

配向膜18は画素領域15全体を覆ってさらにその外側の周辺領域17にも形成される。配向膜18はその一部がシール領域16に形成されていてもよい。配向膜18は液晶層1に電界を印加されない状態で、液晶層1の液晶分子を特定の方向に配向させるためのものである。従って、画素電極8、9やトランジスタ10、ゲート線G、ソース線Sなどの要素が形成された上に形成される。また、周辺領域17においては、金属配線5、走査回路57や信号回路58の上にも配向膜18が形成される。配向膜18はポリイミド等の有機樹脂層であり、一般に塗布によって形成される。   The alignment film 18 covers the entire pixel region 15 and is also formed in the peripheral region 17 outside. A part of the alignment film 18 may be formed in the seal region 16. The alignment film 18 is for aligning the liquid crystal molecules of the liquid crystal layer 1 in a specific direction in a state where no electric field is applied to the liquid crystal layer 1. Accordingly, the pixel electrodes 8 and 9, the transistor 10, the gate line G, the source line S, and the like are formed on the elements. In the peripheral region 17, the alignment film 18 is also formed on the metal wiring 5, the scanning circuit 57 and the signal circuit 58. The alignment film 18 is an organic resin layer such as polyimide, and is generally formed by coating.

また、配向膜18の液晶分子の配向作用は上述のように、ラビング処理によって与えられる。本来、配向膜18は画素領域15のみとしてもよいが、ラビング処理によって配向処理する場合はラビング開始付近となる配向膜の周辺部で配向状態が安定しにくいので、画素領域15よりも少し外側の周辺領域17まで配向膜18を延在させる。この周辺領域17には周辺回路や、画素領域15と基板2の周辺回路や外部回路と電気信号を伝達するための金属配線5などが形成されており、配向膜18はこれらの上に形成されることになる。   Further, the alignment action of the liquid crystal molecules of the alignment film 18 is given by the rubbing process as described above. Originally, the alignment film 18 may be only the pixel region 15. However, when the alignment process is performed by rubbing, the alignment state is difficult to stabilize at the periphery of the alignment film near the start of rubbing, so that the alignment film 18 is slightly outside the pixel area 15. The alignment film 18 is extended to the peripheral region 17. The peripheral region 17 is formed with a peripheral circuit, a metal wiring 5 for transmitting an electrical signal with the peripheral circuit of the pixel region 15 and the substrate 2 and an external circuit, and the like, and an alignment film 18 is formed thereon. Will be.

しかしながら、これらの周辺領域17の金属配線5の上、特にその段差部付近で配向膜18が剥離しやすいことを見出した。一方、金属配線5の上であっても画素領域内では配向膜18の剥離はほとんど生じない。画素周辺領域17では金属配線5のパターン幅が画素領域15内よりも比較的大きいことや、ラビング開始付近となる配向膜18の周辺部で配向状態が安定しにくいこととも関係していると思われる。   However, it has been found that the alignment film 18 easily peels off on the metal wiring 5 in these peripheral regions 17, particularly in the vicinity of the stepped portion. On the other hand, even on the metal wiring 5, the alignment film 18 hardly peels off in the pixel region. In the pixel peripheral region 17, the pattern width of the metal wiring 5 is relatively larger than that in the pixel region 15, and it seems to be related to the fact that the alignment state is difficult to stabilize in the peripheral portion of the alignment film 18 in the vicinity of the rubbing start. It is.

そこで、以下のように配向膜18が形成される下地材質と配向膜18の剥離との関係を確認する実験を行った。実験では、ガラス基板上に、Cr金属配線層、Al合金配線層、SiN絶縁層、ITO透明導電膜層のパターンを形成して、その上に配向膜18を塗布して、その後にラビング処理を行い、光学顕微鏡にて配向膜18の剥離の有無を検査した。各層の厚みはおおよそ150nm厚としてCr金属配線層、Al合金配線層、ITO透明導電膜層はスパッタ法で形成し、SiN絶縁層はプラズマCVD法により形成した。それらの膜をパターニング加工によってそれぞれの層に段差部を形成した。また、それらの上に形成した配向膜18の厚みは70nm厚とした。配向膜18は、JSR株式会社製低温処理型配向膜オプトマーALシリーズなどのポリイミド樹脂材料を塗布して形成した。また、配向膜で覆われた段差を横切る方向にラビングを実施した。ラビングは長さ2〜3mmのレーヨン製のパイルを有するラビング布をラビングローラーに巻き付けたものを使用した。そのラビングローラーを回転しながら配向膜18表面にパイルを押し付けることでラビングを行った。このときパイルが押し込まれる量であるラビングローラーの押込み量は0.3mm、0.5mm、0.7mmとした。押込み量が大きくなるほど配向膜18を強い力でこすることになる。各々の条件で10枚の基板をラビングし、顕微鏡観察により段差部分での配向膜剥離の有無を確認した。   Therefore, an experiment was conducted to confirm the relationship between the base material on which the alignment film 18 is formed and the peeling of the alignment film 18 as follows. In the experiment, a Cr metal wiring layer, an Al alloy wiring layer, a SiN insulating layer, and an ITO transparent conductive film layer pattern are formed on a glass substrate, and an alignment film 18 is applied thereon, followed by a rubbing process. The alignment film 18 was checked for peeling with an optical microscope. The thickness of each layer was approximately 150 nm, and the Cr metal wiring layer, the Al alloy wiring layer, and the ITO transparent conductive film layer were formed by sputtering, and the SiN insulating layer was formed by plasma CVD. Stepped portions were formed in the respective layers by patterning the films. Further, the thickness of the alignment film 18 formed thereon was set to 70 nm. The alignment film 18 was formed by applying a polyimide resin material such as a low temperature processing alignment film Optomer AL series manufactured by JSR Corporation. Further, rubbing was performed in a direction crossing the step covered with the alignment film. The rubbing used was a rubbing cloth having a 2 to 3 mm long rayon pile wrapped around a rubbing roller. The rubbing was performed by pressing the pile against the surface of the alignment film 18 while rotating the rubbing roller. At this time, the pushing amount of the rubbing roller, which is the amount by which the pile is pushed, was set to 0.3 mm, 0.5 mm, and 0.7 mm. As the amount of pressing increases, the alignment film 18 is rubbed with a stronger force. Ten substrates were rubbed under each condition, and the presence or absence of alignment film peeling at the stepped portion was confirmed by microscopic observation.

図3は上記のように本実施の形態1の液晶表示パネルについて行った実験結果を示す表である。図3では各下地の基板に各ラビング押し込み量でラビング処理した際に、配向膜の剥離が発生した基板の割合が10基板あたり何枚となるかを分数で表示している。下地がCr金属配線層、Al合金配線層からなる段差では、押込み量が0.3mmの段階で既に剥離が発生しており、SiN絶縁層からなる段差も押込み量が0.5mmで剥離が発生した。これに対し、ITO透明導電膜層からなる段差では、押込み量が0.7mmでも剥離がまったく発生せず、配向膜18との密着性に優れることが示された。また、段差以外の平坦領域においては、いずれの条件でも配向膜の剥離は見られなかった。   FIG. 3 is a table showing the results of experiments conducted on the liquid crystal display panel of the first embodiment as described above. In FIG. 3, when the rubbing process is performed on each base substrate with each rubbing push-in amount, the ratio of the number of substrates on which the separation of the alignment film is generated per 10 substrates is displayed as a fraction. At the step consisting of the Cr metal wiring layer and the Al alloy wiring layer as the base, peeling has already occurred when the push amount is 0.3 mm, and the step made of the SiN insulating layer is peeled when the push amount is 0.5 mm. did. On the other hand, at the step formed of the ITO transparent conductive film layer, no peeling occurred even when the indentation amount was 0.7 mm, indicating that the adhesion with the alignment film 18 was excellent. Further, in the flat region other than the step, no peeling of the alignment film was observed under any condition.

以上のように、ラビングに対する配向膜18との密着性はCrやAlなどの金属配線層よりSiN絶縁層が良好で、さらにITO透明導電膜層で最も良好であった。ITO透明導電膜層では表面に微細な凹凸ができやすいため、配向膜18との密着性が良好であると推定できる。   As described above, the adhesion with the alignment film 18 against rubbing was better for the SiN insulating layer than the metal wiring layer such as Cr or Al, and the best for the ITO transparent conductive film layer. Since the ITO transparent conductive film layer tends to have fine irregularities on the surface, it can be estimated that the adhesion to the alignment film 18 is good.

そこで、本実施の形態1の液晶表示パネルでは図2に示したように周辺領域17の金属配線5の上を金属配線5に沿ったパターンのITO透明導電膜層6で覆う構成とした。複数の金属配線5間を短絡しないように隣り合う金属配線5を覆うITO透明導電膜層6どうしは分離されたパターンに加工される。また、特に金属配線5の側面部の段差部分で剥離が発生しやすいことから、この段差部を覆うようにITO透明導電膜層6のパターンはI金属配線5のパターンよりも少し広い幅とすることにより、金属配線5の側面部から外側にはみ出すように形成した。このように画素周辺領域17の金属配線5の上をITO透明導電膜層6で覆った部分の上では配向膜18の剥離を大幅に減少することができる。   Therefore, the liquid crystal display panel of the first embodiment is configured to cover the metal wiring 5 in the peripheral region 17 with the ITO transparent conductive film layer 6 having a pattern along the metal wiring 5 as shown in FIG. The ITO transparent conductive film layers 6 covering the adjacent metal wires 5 are processed into separated patterns so as not to short-circuit the plurality of metal wires 5. Further, since peeling easily occurs particularly at the step portion of the side surface portion of the metal wiring 5, the pattern of the ITO transparent conductive film layer 6 is slightly wider than the pattern of the I metal wiring 5 so as to cover the step portion. Thus, the metal wiring 5 was formed so as to protrude outward from the side surface. As described above, the peeling of the alignment film 18 can be significantly reduced on the portion of the pixel peripheral region 17 where the metal wiring 5 is covered with the ITO transparent conductive film layer 6.

図4は本実施の形態1の液晶表示パネルの部分断面図である。カラーフィルタ基板3には画素領域15にカラーフィルタ31と遮光層32とが形成されている。遮光層32はアレイ基板1側のトランジスタ10や各配線に対向する部分に設けられる。遮光層32はトランジスタ10や各配線で反射した光がカラーフィルタ31を透過する表示光に混入することを防止する。配向膜19がカラーフィルタ基板3のカラーフィルタ31と遮光層32の上に形成される。アレイ基板2上には画素領域15に画素電極8とトランジスタ10が配列され、その周辺領域17には金属配線5、および金属配線5の側面を覆う透明電極層6を有する。周辺領域17において金属配線5上を透明電極層6で覆ったことにより、直接に金属配線5の上に配向膜18を形成した場合に比べて配向膜18の剥離を大幅に減少する。上記のようなアレイ基板2とカラーフィルタ基板3とで液晶層1を挟み込み、シール領域16でシール材20により基板どうしを貼り合わすとともに液晶層1を封止する。   FIG. 4 is a partial cross-sectional view of the liquid crystal display panel of the first embodiment. A color filter 31 and a light shielding layer 32 are formed in the pixel region 15 on the color filter substrate 3. The light shielding layer 32 is provided in a portion facing the transistor 10 and each wiring on the array substrate 1 side. The light shielding layer 32 prevents light reflected by the transistor 10 and each wiring from being mixed into display light transmitted through the color filter 31. An alignment film 19 is formed on the color filter 31 and the light shielding layer 32 of the color filter substrate 3. On the array substrate 2, the pixel electrode 8 and the transistor 10 are arranged in the pixel region 15, and the peripheral region 17 has the metal wiring 5 and the transparent electrode layer 6 that covers the side surface of the metal wiring 5. Since the metal wiring 5 is covered with the transparent electrode layer 6 in the peripheral region 17, the peeling of the alignment film 18 is greatly reduced as compared with the case where the alignment film 18 is directly formed on the metal wiring 5. The liquid crystal layer 1 is sandwiched between the array substrate 2 and the color filter substrate 3 as described above, and the substrates are bonded to each other by the sealing material 20 in the seal region 16 and the liquid crystal layer 1 is sealed.

また、図5は本実施の形態1の液晶表示パネルを構成するアレイ基板の部分構造図であり、図4と異なり基板の辺に対して斜めとなる金属配線5部分を示している。図5(a)は上面図、図5(b)は図5(a)の点線AB部分の断面図である。この図においても上記と同様に基板の辺に対して斜めとなる金属配線5も透明導電層6によって覆われる。また、金属配線5は基板の辺に対して平行な配線も同様に透明導電層6によって覆われるようにしてもよい。特にラビング処理時に繊維が乗り上げる金属配線5の側面部および繊維がラビングする方向と平行な金属配線5の側面部は、剥離が生じやすい部分であるので透明導電層6が覆うとよい。   FIG. 5 is a partial structural diagram of the array substrate constituting the liquid crystal display panel according to the first embodiment. Unlike FIG. 4, the metal wiring 5 is inclined with respect to the side of the substrate. 5A is a top view, and FIG. 5B is a cross-sectional view taken along the dotted line AB in FIG. 5A. Also in this figure, the metal wiring 5 which is inclined with respect to the side of the substrate is covered with the transparent conductive layer 6 in the same manner as described above. Further, the metal wiring 5 may be covered with the transparent conductive layer 6 in the same manner as the wiring parallel to the side of the substrate. In particular, the side surfaces of the metal wiring 5 on which the fibers ride during the rubbing treatment and the side surfaces of the metal wiring 5 parallel to the direction in which the fibers are rubbed are easily peeled off, so that the transparent conductive layer 6 is preferably covered.

以上のように本実施の形態1の液晶表示パネルは、液晶層1と液晶層1を外部から入力される電気信号によって駆動するアレイ基板2とを有し、そのアレイ基板2は液晶層1が駆動される画素領域15と、画素領域15の外側であって外部からの電気信号を伝達する金属配線5を備えた周辺領域17とを有する液晶表示パネルであって、基板の画素領域15および周辺領域17に配向膜18が形成され、周辺領域17の金属配線5と配向膜18との間に金属配線5の側部を覆う透明電極層6を有するので配向膜18の剥離が生じにくい。これにより剥離した配向膜18が画素領域15に付着して表示品質を低下させることが防止できるので、良好な液晶表示が可能となる。   As described above, the liquid crystal display panel according to the first embodiment includes the liquid crystal layer 1 and the array substrate 2 that drives the liquid crystal layer 1 by an electric signal input from the outside. A liquid crystal display panel having a pixel region 15 to be driven and a peripheral region 17 provided with a metal wiring 5 that transmits an electric signal from the outside outside the pixel region 15. Since the alignment film 18 is formed in the region 17 and the transparent electrode layer 6 covering the side portion of the metal wiring 5 is provided between the metal wiring 5 and the alignment film 18 in the peripheral region 17, the alignment film 18 is hardly peeled off. As a result, it is possible to prevent the peeled alignment film 18 from adhering to the pixel region 15 and deteriorating the display quality, so that a good liquid crystal display is possible.

以下では本実施の形態1の液晶表示パネルの製造方法について述べる。透過型の液晶表示パネルでは、一般にアレイ基板2を形成する工程中に画素内にITO透明導電膜層からなる画素電極8が形成される。そこで、ITO透明導電膜層からなる画素電極8と金属配線5の端部を覆うITO透明導電膜層6とを同時に形成すると工程が簡単となる。   Hereinafter, a method for manufacturing the liquid crystal display panel of the first embodiment will be described. In a transmissive liquid crystal display panel, a pixel electrode 8 made of an ITO transparent conductive film layer is generally formed in a pixel during the process of forming the array substrate 2. Therefore, if the pixel electrode 8 made of an ITO transparent conductive film layer and the ITO transparent conductive film layer 6 covering the end of the metal wiring 5 are simultaneously formed, the process becomes simple.

図6は本実施の形態1の液晶表示パネルを構成するアレイ基板の製造工程を説明する断面図である。まず図6(a)のようにアレイ基板2の画素領域15にトランジスタ10やソース線などの各配線、周辺領域17の金属配線5や回路58を形成する。次いで、図6(b)のようにITO透明電極膜を形成し、その膜をパターン加工することにより画素電極8と、金属配線5の端部を覆うITO透明導電膜層6と、を同時に形成する。画素電極8はトランジスタ10を介してソース線に接続される。ITO透明電極膜の厚みはたとえば約80nmとする。その後、図6(c)のように画素領域15と周辺領域17とに配向膜18を塗布形成する。たとえば、ポリイミド系溶液を印刷法により、シール領域16より内側となる領域に塗布し、約200℃で1時間の加熱処理をして膜厚70nmの有機高分子の配向膜を形成することができる。画素領域15の全面は配向膜18で覆われるが、周辺領域17の全面は配向膜18で覆わなくてもよい。次いで図6(d)のように配向膜18を繊維75でこするラビング処理を行う。繊維75はたとえばレーヨン繊維を用いることができる。図には示さないが、さらにその後に配向膜18、19を形成したアレイ基板とカラーフィルタ基板とをシール材20でシールして、その間に液晶層1を挟み込む工程を経て液晶表示パネルが製造される。液晶層1の間隔を一定にするため、柱スペーサを介し両基板を対向させてシール剤で貼り合わせるとよい。また、液晶層1はシール後に基板間に設けた注入口から注入してもよい。   FIG. 6 is a cross-sectional view for explaining the manufacturing process of the array substrate constituting the liquid crystal display panel of the first embodiment. First, as shown in FIG. 6A, each wiring such as the transistor 10 and the source line and the metal wiring 5 and the circuit 58 in the peripheral region 17 are formed in the pixel region 15 of the array substrate 2. Next, as shown in FIG. 6B, an ITO transparent electrode film is formed, and the pixel electrode 8 and an ITO transparent conductive film layer 6 covering the end of the metal wiring 5 are formed simultaneously by patterning the film. To do. The pixel electrode 8 is connected to the source line via the transistor 10. The thickness of the ITO transparent electrode film is about 80 nm, for example. Thereafter, as shown in FIG. 6C, an alignment film 18 is formed on the pixel region 15 and the peripheral region 17 by coating. For example, a polyimide-based solution can be applied to a region inside the seal region 16 by a printing method, and heat-treated at about 200 ° C. for 1 hour to form an organic polymer alignment film having a thickness of 70 nm. . Although the entire surface of the pixel region 15 is covered with the alignment film 18, the entire surface of the peripheral region 17 may not be covered with the alignment film 18. Next, as shown in FIG. 6D, rubbing treatment is performed by rubbing the alignment film 18 with the fibers 75. As the fiber 75, for example, rayon fiber can be used. Although not shown in the figure, a liquid crystal display panel is manufactured through a process of sealing the array substrate on which the alignment films 18 and 19 are formed and the color filter substrate with a sealing material 20 and sandwiching the liquid crystal layer 1 therebetween. The In order to make the interval between the liquid crystal layers 1 constant, both substrates may be bonded to each other with a sealant through column spacers. The liquid crystal layer 1 may be injected from an injection port provided between the substrates after sealing.

図7は本実施の形態1の液晶表示パネルを構成するアレイ基板の製造工程を説明する説明図であり、図6(d)のラビング工程を説明する図である。ラビングローラー73にラビング布74が巻かれ、ラビング布74には配向膜18をこする繊維75が植え付けられている。ラビングローラー73は回転された状態で配向膜18、19が形成された基板がラビングローラー73に向かって送られる。図はラビングローラー73が高さ位置を固定して回転しており、その下を被ラビング基板が、矢印方向に一定速度で移動し、ラビングローラー73部を通過することを示している。このときラビングローラーに形成された繊維75が基板上の配向膜を擦る。また、ラビングローラーの押込み量が適当な量となるように、それぞれの高さ位置関係が調整される。   FIG. 7 is an explanatory diagram for explaining the manufacturing process of the array substrate constituting the liquid crystal display panel of the first embodiment, and is a diagram for explaining the rubbing process of FIG. 6 (d). A rubbing cloth 74 is wound around a rubbing roller 73, and fibers 75 that rub the alignment film 18 are planted on the rubbing cloth 74. The substrate on which the alignment films 18 and 19 are formed is fed toward the rubbing roller 73 while the rubbing roller 73 is rotated. The figure shows that the rubbing roller 73 is rotating with the height position fixed, and the substrate to be rubbed moves at a constant speed in the direction of the arrow and passes through the rubbing roller 73 portion. At this time, the fibers 75 formed on the rubbing roller rub the alignment film on the substrate. Further, the height positional relationship is adjusted so that the pushing amount of the rubbing roller becomes an appropriate amount.

また、図では複数のアレイ基板2が1枚のマザー基板71に形成され、マザー基板71のままラビング処理される場合を示している。ラビング処理後にマザー基板71を切断して複数のアレイ基板2を切り出す。複数のアレイ基板2のラビング処理が同時にできるので処理が簡単である。カラーフィルタ基板3の配向膜19のラビング処理も同様にマザー基板を用いて処理できる。マザー基板71にはアレイ基板2領域ごとに、画素領域15が形成され、画素領域15とその周辺領域に配向膜18が塗布形成される。画素領域15には配線や画素電極が形成され、その上に配向膜がパネル形状に合わせてパターン転写される。マザー基板71の隣り合う配向膜18の間には基板ごとに切り離す切断領域、および液晶表示パネルを構成する対向基板と貼り合わせる際のシール領域がある。   In the figure, a plurality of array substrates 2 are formed on one mother substrate 71 and are rubbed with the mother substrate 71 as it is. After the rubbing process, the mother substrate 71 is cut to cut out a plurality of array substrates 2. Since a plurality of array substrates 2 can be rubbed simultaneously, the processing is simple. The rubbing process of the alignment film 19 of the color filter substrate 3 can be similarly performed using a mother substrate. A pixel region 15 is formed on the mother substrate 71 every two regions of the array substrate, and an alignment film 18 is formed on the pixel region 15 and its peripheral region by coating. Wirings and pixel electrodes are formed in the pixel region 15, and an alignment film is pattern-transferred thereon according to the panel shape. Between the alignment films 18 adjacent to each other on the mother substrate 71, there are a cutting region to be separated for each substrate and a sealing region when being bonded to the counter substrate constituting the liquid crystal display panel.

以上のように、本実施の形態1の液晶表示パネルの製造方法では、アレイ基板2上の画素領域15にソース線Sなどの信号線を形成する工程と、アレイ基板2上の画素領域15の外側の周辺領域17に金属配線5を形成する工程と、画素領域15に信号線に接続されるITO透明導電材料からなる画素電極8と周辺領域17に金属配線5の側部を覆うITO透明導電層6とを同時に形成する工程と、画素電極8とITO透明導電層6とを同時に形成する工程の後に画素領域15および周辺領域17に配向膜18を形成する工程と、配向膜18をラビング処理する工程とを有している。ラビング処理の前に金属配線5の側部をITO透明導電層6で覆ったことにより、その上に形成された配向膜18がラビング処理する工程で剥離することを防止できる。また、ITO透明導電層6は画素電極8に同時に形成されるので、製造が容易となる。   As described above, in the method of manufacturing the liquid crystal display panel according to the first embodiment, the signal line such as the source line S is formed in the pixel region 15 on the array substrate 2 and the pixel region 15 on the array substrate 2 is formed. The step of forming the metal wiring 5 in the outer peripheral region 17, the pixel electrode 8 made of an ITO transparent conductive material connected to the signal line in the pixel region 15, and the ITO transparent conductive covering the side of the metal wiring 5 in the peripheral region 17. A step of simultaneously forming the layer 6, a step of simultaneously forming the pixel electrode 8 and the ITO transparent conductive layer 6, a step of forming an alignment film 18 in the pixel region 15 and the peripheral region 17, and a rubbing treatment of the alignment film 18 And a process of performing. By covering the side portions of the metal wiring 5 with the ITO transparent conductive layer 6 before the rubbing treatment, it is possible to prevent the alignment film 18 formed thereon from being peeled off in the rubbing treatment step. Further, since the ITO transparent conductive layer 6 is formed on the pixel electrode 8 at the same time, the manufacture becomes easy.

<実施の形態2>
図8は本実施の形態2の液晶表示パネルを構成するアレイ基板の部分構造図である。実施の形態1の図5と同様の部分を示している。図8(a)は上面図であり、図8(b)は図8(a)の点線CD部の断面図である。実施の形態1ではITO透明導電層6は金属配線5の幅全体を覆い、従って金属配線5の両側面を連続するITO透明導電層6のパターンで覆う構造としたが、本実施の形態2のアレイ基板のITO透明導電層6は金属配線5の側面近傍のみがITO透明導電層6で覆われ、金属配線5の上面の大部分がITO透明導電層6で覆われない構造とした。また、ITO透明導電層6が金属配線5の一方の側面のみを覆い他方の側面は覆わない構造とした。
<Embodiment 2>
FIG. 8 is a partial structural view of an array substrate constituting the liquid crystal display panel of the second embodiment. The same part as FIG. 5 of Embodiment 1 is shown. FIG. 8A is a top view, and FIG. 8B is a cross-sectional view of the dotted line CD portion of FIG. In the first embodiment, the ITO transparent conductive layer 6 covers the entire width of the metal wiring 5, and thus the both sides of the metal wiring 5 are covered with the pattern of the continuous ITO transparent conductive layer 6. The ITO transparent conductive layer 6 of the array substrate has a structure in which only the vicinity of the side surface of the metal wiring 5 is covered with the ITO transparent conductive layer 6 and most of the upper surface of the metal wiring 5 is not covered with the ITO transparent conductive layer 6. The ITO transparent conductive layer 6 covers only one side surface of the metal wiring 5 and does not cover the other side surface.

ラビング処理は、通常、一定の方向に処理される。そこで本実施の形態2の液晶表示パネルではラビング処理の際にラビング繊維が金属配線5の側面の段差部を下から上に乗り上げる側面側をITO透明導電層6で覆う構成とした。また、図には示さないが、ラビング処理方向と平行に伸びる金属配線5はその両側面部をITO透明導電層6で覆うようにするが、金属配線5の上面の大部分にはITO透明導電層6で覆われないようにした。これらのラビング繊維が下から上に乗り上げる段差部分、およびラビング処理と平行な側面は配向膜の剥離の起点となりやすい部分であり、この部分をITO透明導電層6で覆うことにより配向膜18の剥離を防ぐことができる。周辺領域17の金属配線5は比較的幅が広い場合が多いが、このような金属配線5の上面全面をITO透明導電層6で覆うと、金属配線5の材料によっては金属配線5とITO透明導電層6との膜中残存応力の違いなどによりITO透明導電層6自体に剥離が生じるやすくなる場合がある。周辺領域17でITO透明導電層6の剥離が生じると、それが画素領域15内に拡散して表示品質を劣化させる。本実施の形態2では、金属配線5の側面を覆うITO透明導電層6は、一方の側面のみを覆うパターンからなり、金属配線5の上面の大部分を覆わない。このためITO透明導電層6自体の剥離が防止できる。   The rubbing process is usually processed in a certain direction. Therefore, in the liquid crystal display panel of the second embodiment, the rubbing fiber covers the side surface side where the stepped portion on the side surface of the metal wiring 5 rises from the bottom to the top with the ITO transparent conductive layer 6 during the rubbing process. Although not shown in the drawing, the metal wiring 5 extending in parallel with the rubbing treatment direction is covered with the ITO transparent conductive layer 6 on both sides, but the ITO transparent conductive layer is mostly on the upper surface of the metal wiring 5. 6 so that it was not covered. The step portion where these rubbing fibers run from the bottom to the top and the side surface parallel to the rubbing process are portions that are likely to be the starting point of the alignment film, and the alignment film 18 is peeled off by covering this portion with the ITO transparent conductive layer 6. Can be prevented. In many cases, the metal wiring 5 in the peripheral region 17 is relatively wide. However, if the entire upper surface of the metal wiring 5 is covered with the ITO transparent conductive layer 6, depending on the material of the metal wiring 5, the metal wiring 5 and the ITO transparent The ITO transparent conductive layer 6 itself may be easily peeled off due to a difference in residual stress in the film with the conductive layer 6 or the like. When the ITO transparent conductive layer 6 is peeled off in the peripheral region 17, it diffuses into the pixel region 15 and degrades the display quality. In the second embodiment, the ITO transparent conductive layer 6 covering the side surface of the metal wiring 5 has a pattern covering only one side surface and does not cover most of the upper surface of the metal wiring 5. For this reason, peeling of ITO transparent conductive layer 6 itself can be prevented.

また、ITO透明導電層6のパターンを金属配線5の外側に形成して、透明導電層の側面と金属配線の側面に接するようにして、透明導電層が金属配線の上に乗り上げない構造としてもよい。この場合でも、金属配線の側面が透明導電層におおわれるので配向膜の剥離を防止する効果がある。また、透明導電層が金属配線に乗り上げる場合に比べて金属配線の側面にできる段差が小さくなるので、段差による剥離を防止する効果が大きい。   Alternatively, the transparent conductive layer may be formed on the outside of the metal wiring 5 so that the transparent conductive layer does not run on the metal wiring so that the side of the transparent conductive layer and the side of the metal wiring are in contact with each other. Good. Even in this case, since the side surface of the metal wiring is covered with the transparent conductive layer, the alignment film is prevented from being peeled off. In addition, since the step formed on the side surface of the metal wiring is smaller than when the transparent conductive layer runs on the metal wiring, the effect of preventing peeling due to the step is great.

なお、ITO透明導電層6が金属配線5の側部の外側にはみ出す幅は、金属配線5の幅に比べて小さいことが望ましい。はみ出す部分を小さくすると、配線全体の幅の増加が制限され、寄生容量の増加が抑えられるので、特に高速の信号を伝達する場合に信号の伝搬特性の低下を防止できる。   The width of the ITO transparent conductive layer 6 that protrudes outside the side portion of the metal wiring 5 is preferably smaller than the width of the metal wiring 5. If the protruding portion is reduced, an increase in the width of the entire wiring is limited and an increase in parasitic capacitance is suppressed, so that deterioration of signal propagation characteristics can be prevented particularly when a high-speed signal is transmitted.

以上でのべた実施の形態ではITO透明導電層6で側面を覆う部分を金属配線5としたが、配線に限らず金属のパターンを有する部分は同様に透明導電層で覆うようにすると同様の効果が得られる。周辺回路の金属露出部分の段差部にITO透明導電層6を形成してもよい。また、金属配線5のすべての側面部を覆われることが望ましいが、主要な部分が覆われていれば、すべての側面部を覆うことは必須ではない。たとえば金属配線5の全長の50%のみで側面が覆われ、他の配線部分では覆われなくてもよい。また、透明導電層の材料はITOに限らずAZO(アルミニウムを添加した酸化亜鉛)などの導電性材料であってもよい。電気導電性酸化物の材料であれば同様の効果がある。   In the embodiment described above, the portion of the ITO transparent conductive layer 6 that covers the side surface is the metal wiring 5, but the same effect can be obtained if the portion having a metal pattern is also covered with the transparent conductive layer. Is obtained. The ITO transparent conductive layer 6 may be formed on the stepped portion of the exposed metal portion of the peripheral circuit. Moreover, it is desirable to cover all the side parts of the metal wiring 5, but it is not essential to cover all the side parts as long as the main part is covered. For example, the side surface is covered with only 50% of the entire length of the metal wiring 5, and the other wiring portions may not be covered. The material of the transparent conductive layer is not limited to ITO, and may be a conductive material such as AZO (zinc oxide with aluminum added). The same effect can be obtained if the material is an electrically conductive oxide.

また、以上では画素周辺領域の金属配線層の上を直接、ITO透明導電膜層で覆ったが、金属配線層がSiNなどの絶縁層で覆われていた場合や、画素周辺領域に絶縁層の段差部が形成されている場合に、その絶縁層の上をITO透明導電膜層で覆うことでその上に形成する配向膜の剥離をさらに減少させることができる。   In the above, the metal wiring layer in the pixel peripheral region is directly covered with the ITO transparent conductive film layer. However, when the metal wiring layer is covered with an insulating layer such as SiN, the insulating layer is formed in the pixel peripheral region. When the stepped portion is formed, it is possible to further reduce peeling of the alignment film formed thereon by covering the insulating layer with the ITO transparent conductive film layer.

本発明の液晶表示パネルおよび液晶表示パネルの製造方法は、液晶表示パネル内の配向層の剥離を防止できるので、歩留まりが向上し、表示品質が良好である液晶表示装置を実現できる。   The liquid crystal display panel and the method for manufacturing the liquid crystal display panel of the present invention can prevent peeling of the alignment layer in the liquid crystal display panel, so that a liquid crystal display device with improved yield and good display quality can be realized.

本実施の形態1の液晶表示パネルを用いた液晶表示装置の構成の説明図である。It is explanatory drawing of the structure of the liquid crystal display device using the liquid crystal display panel of this Embodiment 1. FIG. 本実施の形態1の液晶表示パネルのアレイ基板2構成を示す平面図である。3 is a plan view showing a configuration of an array substrate 2 of the liquid crystal display panel according to Embodiment 1. FIG. 本実施の形態1の液晶表示パネルについて行った実験結果を示す表である。6 is a table showing results of experiments conducted on the liquid crystal display panel of the first embodiment. 本実施の形態1の液晶表示パネルの部分断面図である。FIG. 3 is a partial cross-sectional view of the liquid crystal display panel of the first embodiment. 本実施の形態1の液晶表示パネルを構成するアレイ基板の部分構造図である。2 is a partial structural diagram of an array substrate constituting the liquid crystal display panel of Embodiment 1. FIG. 本実施の形態1の液晶表示パネルを構成するアレイ基板の製造工程を説明する断面図である。It is sectional drawing explaining the manufacturing process of the array substrate which comprises the liquid crystal display panel of this Embodiment 1. FIG. 本実施の形態1の液晶表示パネルを構成するアレイ基板の製造工を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the manufacture of the array substrate which comprises the liquid crystal display panel of this Embodiment 1. FIG. 本実施の形態2の液晶表示パネルを構成するアレイ基板の部分構造図である。It is a partial structure figure of the array substrate which comprises the liquid crystal display panel of this Embodiment 2. FIG.

符号の説明Explanation of symbols

1 液晶層、2 アレイ基板、3 カラーフィルタ基板、5 金属配線、6 ITO透明電極層、8、9 画素電極、10 トランジスタ、15 画素領域、16 シール領域、17 周辺領域、18、19 配向膜、20 シール材、21 端子部、31 カラーフィルタ、32 遮光層、50 液晶表示パネル、51 駆動回路、52 画像信号入力部、53 光源、54 光源制御回路、57 走査回路、58 信号回路、71 マザー基板、73 ラビングローラー、74 ラビング布、75 繊維、 S ソース線、C コモン線、G ゲート線。 1 liquid crystal layer, 2 array substrate, 3 color filter substrate, 5 metal wiring, 6 ITO transparent electrode layer, 8 and 9 pixel electrode, 10 transistor, 15 pixel region, 16 seal region, 17 peripheral region, 18, 19 alignment film, 20 sealing material, 21 terminal section, 31 color filter, 32 light shielding layer, 50 liquid crystal display panel, 51 drive circuit, 52 image signal input section, 53 light source, 54 light source control circuit, 57 scanning circuit, 58 signal circuit, 71 mother board 73 rubbing roller, 74 rubbing cloth, 75 fibers, S source line, C common line, G gate line.

Claims (2)

液晶層と該液晶層を外部から入力される電気信号によって駆動する基板とを有し、該基板は前記液晶層が駆動される画素領域と、前記画素領域の外側であって外部からの電気信号を伝達する金属配線を備えた周辺領域とを有する液晶表示パネルであって、前記基板の前記画素領域および前記周辺領域に配向膜が形成され、前記周辺領域の前記金属配線と前記配向膜との間に前記金属配線の一方の側面のみを覆う透明電極層を有する液晶表示パネル。 A liquid crystal layer and a substrate for driving the liquid crystal layer by an electric signal input from the outside, the substrate being a pixel region in which the liquid crystal layer is driven, and an electric signal from the outside outside the pixel region Liquid crystal display panel having a peripheral region having a metal wiring for transmitting the liquid crystal, wherein an alignment film is formed in the pixel region and the peripheral region of the substrate, and the metal wiring and the alignment film in the peripheral region A liquid crystal display panel having a transparent electrode layer covering only one side surface of the metal wiring therebetween. 液晶層と該液晶層を外部から入力される電気信号によって駆動する基板とを有し、該基板は前記液晶層が駆動される画素領域と、前記画素領域の外側であって外部からの電気信号を伝達する金属配線を備えた周辺領域とを有する液晶表示パネルの製造方法であって、
前記基板上の前記画素領域に信号線を形成する工程と、前記基板上の前記画素領域の外側の周辺領域に前記金属配線を形成する工程と、前記画素領域に前記信号線に接続される透明導電材料からなる画素電極と前記周辺領域に前記金属配線の一方の側面のみを覆う前記透明導電層とを同時に形成する工程と、前記画素電極と前記透明導電層とを同時に形成する工程の後に前記画素領域および前記周辺領域に配向膜を形成する工程と、前記配向膜をラビング処理する工程と、を有する液晶表示パネルの製造方法。
A liquid crystal layer and a substrate for driving the liquid crystal layer by an electric signal input from the outside, the substrate being a pixel region in which the liquid crystal layer is driven, and an electric signal from the outside outside the pixel region A liquid crystal display panel manufacturing method having a peripheral region with metal wiring for transmitting
Forming a signal line in the pixel region on the substrate; forming the metal wiring in a peripheral region outside the pixel region on the substrate; and transparent connecting to the signal line in the pixel region After the step of simultaneously forming the pixel electrode made of a conductive material and the transparent conductive layer covering only one side surface of the metal wiring in the peripheral region, and the step of simultaneously forming the pixel electrode and the transparent conductive layer A method for manufacturing a liquid crystal display panel, comprising: a step of forming an alignment film in a pixel region and the peripheral region; and a step of rubbing the alignment film.
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