JP2009116309A - Liquid crystal display device - Google Patents

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Satoshi Asada
智 浅田
Hisaaki Ogino
商明 荻野
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a liquid crystal display device capable of improving the display quality and manufacturing yield while suppressing a counter substrate from being charged. <P>SOLUTION: The liquid crystal display device includes: an array substrate AR; a counter-substrate CT which is disposed to be opposed to the array substrate AR; a liquid crystal layer LQ which is formed of a liquid crystal material which is held between the array substrate AR and the counter-substrate CT; and a sealant 300 which bonds the array substrate AR and the counter-substrate CT. The array substrate AR includes a pixel electrode EP having a slit SL, and a counter-electrode ET which is opposed to the pixel electrode EP via an interlayer insulation film IL. The counter-substrate CT has a shield electrode ES on an outer surface thereof. The shield electrode ES is disposed such that an end portion CTb thereof along at least one side of the counter-substrate CT, is exposed on the outer surface of the counter-substrate CT. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

この発明は、液晶表示装置に係り、特に、液晶表示パネルを構成する一方の基板に画素電極及び対向電極を備えた構造の液晶表示装置に関する。   The present invention relates to a liquid crystal display device, and more particularly to a liquid crystal display device having a structure in which a pixel electrode and a counter electrode are provided on one substrate constituting a liquid crystal display panel.

近年、CRTディスプレイに代わる平面表示装置が盛んに開発されており、中でも液晶表示装置は、軽量、薄型、低消費電力等の利点から特に注目を集めている。特に、各画素にスイッチング素子を組み込んだアクティブマトリクス型液晶表示装置においては、IPS(In−Plane Switching)モードやFFS(Fringe Field Switching)モードなどの横電界(フリンジ電界も含む)を利用した構造が注目されている。   2. Description of the Related Art In recent years, flat display devices that replace CRT displays have been actively developed. Among them, liquid crystal display devices have attracted particular attention because of their advantages such as light weight, thinness, and low power consumption. In particular, an active matrix liquid crystal display device in which a switching element is incorporated in each pixel has a structure using a lateral electric field (including a fringe electric field) such as an IPS (In-Plane Switching) mode or an FFS (Fringe Field Switching) mode. Attention has been paid.

このIPSモードやFFSモードの液晶表示装置は、アレイ基板上に形成された画素電極と対向電極とを備え、これらの間に形成されるアレイ基板の主面に対してほぼ平行な横電界で液晶分子をスイッチングする。また、アレイ基板及び対向基板のそれぞれの外面には、互いに偏向軸が直交するように配置された偏光板が配置されている。このような偏光板の配置により、例えば電圧無印加時に黒色画面を表示し、映像信号に対応した電圧を画素電極に印加することにより徐々に透過率(変調率)が増加して白色画面を表示する。   This IPS mode or FFS mode liquid crystal display device includes a pixel electrode and a counter electrode formed on an array substrate, and a liquid crystal with a lateral electric field substantially parallel to the main surface of the array substrate formed therebetween. Switch molecules. Further, polarizing plates are arranged on the outer surfaces of the array substrate and the counter substrate so that their deflection axes are orthogonal to each other. With such a polarizing plate arrangement, for example, a black screen is displayed when no voltage is applied, and a white screen is displayed by gradually increasing the transmittance (modulation factor) by applying a voltage corresponding to the video signal to the pixel electrode. To do.

このような液晶表示装置において、静電気などによって対向基板が帯電してしまうと、対向基板とアレイ基板との間に縦電界が形成されてしまう。このように縦電界が形成されると、液晶分子の配向不良が生じ、表示品位の劣化を招いてしてしまう。このため、対向基板の帯電を防ぐために、対向基板の外面又は内面にシールド電極を配置する技術が開示されている(例えば、特許文献1参照)。
特開2005−234547号公報
In such a liquid crystal display device, when the counter substrate is charged by static electricity or the like, a vertical electric field is formed between the counter substrate and the array substrate. When a vertical electric field is formed in this way, alignment defects of liquid crystal molecules occur, resulting in deterioration of display quality. For this reason, in order to prevent the counter substrate from being charged, a technique of disposing a shield electrode on the outer surface or the inner surface of the counter substrate has been disclosed (for example, see Patent Document 1).
JP 2005-234547 A

IPSモードやFFSモードの液晶表示装置においては、液晶層の厚みが比較的薄い。このため、対向基板の内面にシールド電極を配置した場合、シールド電極と対向電極及び画素電極とが近接する。このため、シールド電極との間に形成された縦電界によって液晶分子の配向不良が生じ、表示品位の劣化を招くおそれがある。   In an IPS mode or FFS mode liquid crystal display device, the thickness of the liquid crystal layer is relatively thin. For this reason, when the shield electrode is disposed on the inner surface of the counter substrate, the shield electrode, the counter electrode, and the pixel electrode are close to each other. For this reason, the vertical electric field formed between the shield electrodes may cause alignment failure of liquid crystal molecules, leading to deterioration of display quality.

また、対向基板の外面にシールド電極を配置する構成において、対向基板となるマザー基板の外面にベタ状にシールド電極を形成した場合には、マザー基板から所定サイズの対向基板を切り出す際に、シールド電極の一部が剥がれ落ち、導電性の微小な異物となって周囲を汚染するおそれがある。   In addition, in the configuration in which the shield electrode is arranged on the outer surface of the counter substrate, when the shield electrode is formed in a solid shape on the outer surface of the mother substrate to be the counter substrate, the shield is used when cutting out the counter substrate of a predetermined size from the mother substrate. There is a possibility that a part of the electrode peels off and becomes a conductive minute foreign matter and contaminates the surroundings.

例えば、アレイ基板上の配線と駆動ICなどの信号供給源とを接続するための実装部が汚染された場合、端子間のショートなどの不具合が発生するおそれがある。したがって、液晶表示装置の表示品質及び信頼性の低下や、製造歩留まりの低下を招くおそれがある。   For example, when a mounting portion for connecting a wiring on the array substrate and a signal supply source such as a driving IC is contaminated, there is a possibility that a problem such as a short circuit between terminals may occur. Therefore, the display quality and reliability of the liquid crystal display device may be reduced, and the manufacturing yield may be reduced.

さらに、液晶材料を真空注入する構成において、注入口付近が汚染された場合には、液晶材料を注入する際に、導電性異物が引き込まれ、液晶層に混入してしまうことがある。このように導電性の異物は、配線間や電極間でのショートや液晶分子の配向不良を引き起こす原因となりうる。このため、液晶表示装置の表示品質の低下や、製造歩留まりの低下を招くおそれがある。   Further, in the configuration in which the liquid crystal material is vacuum-injected, if the vicinity of the injection port is contaminated, the conductive foreign material may be drawn into the liquid crystal layer when the liquid crystal material is injected. As described above, the conductive foreign matter may cause a short circuit between the wirings or the electrodes or a liquid crystal molecule alignment defect. For this reason, there is a possibility that the display quality of the liquid crystal display device is lowered and the production yield is lowered.

この発明は、上述した問題点に鑑みなされたものであって、その目的は、対向基板の帯電を抑制しつつ、表示品位の改善及び製造歩留まりの向上が可能な液晶表示装置を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above-described problems, and an object thereof is to provide a liquid crystal display device capable of improving display quality and manufacturing yield while suppressing charging of the counter substrate. is there.

この発明の第1態様による液晶表示装置は、
第1基板と、
前記第1基板と対向するように配置された第2基板と、
前記第1基板と前記第2基板との間に保持された液晶材料からなる液晶層と、
前記第1基板と前記第2基板とを貼り合わせるシール材と、を備え、
前記第2基板は、その外面にシールド電極を備え、
前記シールド電極は、前記第2基板の外面において、前記第2基板の少なくとも一辺に沿った端部を露出するように配置されていることを特徴とする。
The liquid crystal display device according to the first aspect of the present invention comprises:
A first substrate;
A second substrate disposed to face the first substrate;
A liquid crystal layer made of a liquid crystal material held between the first substrate and the second substrate;
A sealing material for bonding the first substrate and the second substrate;
The second substrate includes a shield electrode on an outer surface thereof,
The shield electrode is arranged on the outer surface of the second substrate so as to expose an end portion along at least one side of the second substrate.

この発明の第2態様による液晶表示装置は、
第1基板の一方の面に実装部及び第1表示素子部を形成する工程と、
第2基板の一方の面に第2表示素子部を形成する工程と、
前記第2基板の他方の面において割断線に重なることなく前記第2表示素子部と対向するシールド電極を形成する工程と、
前記第1表示素子部または前記第2表示素子部を囲むようにシール材を塗布する工程と、
前記第1表示素子部と前記第2表示素子部とが向かい合うように前記第1基板と前記第2基板とを貼り合わせる工程と、
前記第2基板の前記実装部の対向する領域を割断線に沿って割断する工程と、を経て形成された液晶表示装置であって、
前記シールド電極は、前記第2基板の他方の面において、前記第2基板の少なくとも一辺に沿った端部を露出するように配置されていることを特徴とする。
A liquid crystal display device according to a second aspect of the present invention provides:
Forming a mounting portion and a first display element portion on one surface of the first substrate;
Forming a second display element portion on one surface of the second substrate;
Forming a shield electrode facing the second display element portion without overlapping the breaking line on the other surface of the second substrate;
Applying a sealing material so as to surround the first display element unit or the second display element unit;
Bonding the first substrate and the second substrate so that the first display element unit and the second display element unit face each other;
A step of cleaving the opposing region of the mounting portion of the second substrate along a cleaving line, and a liquid crystal display device formed through
The shield electrode is disposed on the other surface of the second substrate so as to expose an end portion along at least one side of the second substrate.

この発明によれば、対向基板の帯電を抑制しつつ、表示品位の改善及び製造歩留まりの向上が可能な液晶表示装置を提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide a liquid crystal display device capable of improving display quality and manufacturing yield while suppressing charging of the counter substrate.

以下、この発明の一実施の形態に係る液晶表示装置について図面を参照して説明する。   A liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.

ここでは、一方の基板に一対の電極すなわち画素電極及び対向電極を備え、これらの間に形成される横電界を利用して液晶分子をスイッチングする液晶モードとして、FFSモードの液晶表示装置を例に説明する。   Here, an FFS mode liquid crystal display device is taken as an example as a liquid crystal mode in which a pair of electrodes, that is, a pixel electrode and a counter electrode are provided on one substrate and liquid crystal molecules are switched using a lateral electric field formed therebetween. explain.

図1乃至図3に示すように、液晶表示装置は、アクティブマトリクスタイプの液晶表示装置であって、液晶表示パネルLPNを備えている。この液晶表示パネルLPNは、アレイ基板(第1基板)ARと、アレイ基板ARと互いに対向して配置された対向基板(第2基板)CTと、アレイ基板ARと対向基板CTとの間に保持された液晶層LQと、を備えて構成されている。これらのアレイ基板ARと対向基板CTとは、シール材300によって貼り合わせられている。シール材300は、表示エリアDSPを囲むように配置されている。図1に示した例では、シール材300は、液晶材料を注入するための注入口300Aを確保するように配置されている。注入口300Aは、感光性樹脂などからなる封止材500によって封止されている。表示エリアDSPは、m×n個のマトリクス状に配置された複数の画素PXによって構成されている。   As shown in FIGS. 1 to 3, the liquid crystal display device is an active matrix type liquid crystal display device and includes a liquid crystal display panel LPN. The liquid crystal display panel LPN is held between an array substrate (first substrate) AR, a counter substrate (second substrate) CT arranged opposite to the array substrate AR, and the array substrate AR and the counter substrate CT. Liquid crystal layer LQ. The array substrate AR and the counter substrate CT are bonded to each other with a sealing material 300. The sealing material 300 is disposed so as to surround the display area DSP. In the example shown in FIG. 1, the sealing material 300 is disposed so as to secure an injection port 300 </ b> A for injecting a liquid crystal material. The injection port 300A is sealed with a sealing material 500 made of a photosensitive resin or the like. The display area DSP is composed of a plurality of pixels PX arranged in an mxn matrix.

アレイ基板ARは、ガラス板や石英板などの光透過性を有する絶縁基板20を用いて形成されている。すなわち、このアレイ基板ARは、表示エリアDSPにおいて、画素PX毎に配置されたm×n個の画素電極(第2電極)EP、各画素PXの行方向Hにそれぞれ延在したn本の走査線Y(Y1〜Yn)、各画素PXの列方向Vにそれぞれ延在したm本の信号線X(X1〜Xm)、各画素PXにおいて走査線Yと信号線Xとの交差部を含む領域に配置されたm×n個のスイッチング素子W、画素電極EPと層間絶縁膜ILを介して対向配置された対向電極(第1電極)ETなどを備えている。   The array substrate AR is formed using an insulating substrate 20 having optical transparency such as a glass plate or a quartz plate. That is, the array substrate AR has n × n pixel electrodes (second electrodes) EP arranged for each pixel PX and n scans extending in the row direction H of each pixel PX in the display area DSP. A line Y (Y1 to Yn), m signal lines X (X1 to Xm) extending in the column direction V of each pixel PX, and a region including the intersection of the scanning line Y and the signal line X in each pixel PX Are provided with m × n switching elements W, a pixel electrode EP, and a counter electrode (first electrode) ET disposed to face the pixel electrode EP with an interlayer insulating film IL interposed therebetween.

さらに、アレイ基板ARは、表示エリアDSPの外側に実装部10を備えている。すなわち、アレイ基板ARは、対向基板CTの端辺CTa(L2)より外方に延在した延在部ARaを備えている。実装部10は、延在部ARaの表面側(画素電極EPなどが配置された側)に配置されている。この実装部10には、ゲートドライバ10a、ソースドライバ10bなどを含む駆動ICなどの信号供給源が実装されている。   Furthermore, the array substrate AR includes a mounting portion 10 outside the display area DSP. That is, the array substrate AR includes an extending portion ARa that extends outward from the end side CTa (L2) of the counter substrate CT. The mounting portion 10 is disposed on the surface side of the extending portion ARa (the side where the pixel electrode EP and the like are disposed). The mounting unit 10 is mounted with a signal supply source such as a driving IC including a gate driver 10a and a source driver 10b.

ゲートドライバ10aは、n本の走査線Yと電気的に接続され、表示エリアDSPにおけるそれぞれの画素PXを駆動するための走査信号を供給する。また、ソースドライバ10bは、m本の信号線Xと電気的に接続され、表示エリアDSPにおけるそれぞれの画素PXに書き込む映像信号を各行のスイッチング素子Wが走査信号によってオンするタイミングで供給する。これにより、各行の画素電極EPは、対応するスイッチング素子Wを介して供給される映像信号に応じた画素電位にそれぞれ設定される。   The gate driver 10a is electrically connected to the n scanning lines Y, and supplies a scanning signal for driving each pixel PX in the display area DSP. The source driver 10b is electrically connected to the m signal lines X, and supplies a video signal to be written to each pixel PX in the display area DSP at a timing when the switching elements W in each row are turned on by the scanning signal. Thereby, the pixel electrode EP of each row is set to a pixel potential corresponding to the video signal supplied via the corresponding switching element W.

各スイッチング素子Wは、例えば、薄膜トランジスタによって構成されている。スイッチング素子Wの半導体層は、例えば、ポリシリコンやアモルファスシリコンなどによって形成可能である。スイッチング素子Wのゲート電極WGは、走査線Yに接続されている(あるいは走査線Yと一体的に形成されている)。スイッチング素子Wのソース電極WSは、信号線Xに接続される(あるいは信号線Xと一体に形成される)とともに、半導体層のソース領域にコンタクトしている。スイッチング素子Wのドレイン電極WDは、画素電極EPに接続される(あるいは画素電極EPと一体に形成される)とともに、半導体層のドレイン領域にコンタクトしている。   Each switching element W is configured by, for example, a thin film transistor. The semiconductor layer of the switching element W can be formed of, for example, polysilicon or amorphous silicon. The gate electrode WG of the switching element W is connected to the scanning line Y (or formed integrally with the scanning line Y). The source electrode WS of the switching element W is connected to the signal line X (or formed integrally with the signal line X) and is in contact with the source region of the semiconductor layer. The drain electrode WD of the switching element W is connected to the pixel electrode EP (or formed integrally with the pixel electrode EP) and is in contact with the drain region of the semiconductor layer.

対向電極ETは、例えば、各画素PXにおいて島状に配置され、コモン電位が供給されるコモン配線COMに電気的に接続されている。この対向電極ETの上には、層間絶縁膜ILが配置されている。画素電極EPは、層間絶縁膜ILの上に配置されている。この画素電極EPは、各画素PXにおいて対向電極ETに対向するように島状に配置されている。この画素電極EPには、対向電極ETと対向する複数のスリットSLが設けられている。これらの画素電極EP及び対向電極ETは、例えばインジウム・ティン・オキサイド(ITO)やインジウム・ジンク・オキサイド(IZO)などの光透過性を有する導電材料によって形成されている。   For example, the counter electrode ET is arranged in an island shape in each pixel PX, and is electrically connected to the common wiring COM to which a common potential is supplied. An interlayer insulating film IL is disposed on the counter electrode ET. The pixel electrode EP is disposed on the interlayer insulating film IL. The pixel electrode EP is arranged in an island shape so as to face the counter electrode ET in each pixel PX. The pixel electrode EP is provided with a plurality of slits SL facing the counter electrode ET. The pixel electrode EP and the counter electrode ET are formed of a light-transmitting conductive material such as indium tin oxide (ITO) or indium zinc oxide (IZO).

アレイ基板ARの液晶層LQに接する面は、配向膜36aによって覆われている。   The surface in contact with the liquid crystal layer LQ of the array substrate AR is covered with the alignment film 36a.

一方、対向基板CTは、ガラス板や石英板などの光透過性を有する絶縁基板30を用いて形成されている。特に、カラー表示タイプの液晶表示装置においては、図3に示したように、対向基板CTは、絶縁基板30の内面(すなわち液晶層LQに対向する面)に、各画素PXを区画するブラックマトリクス32、ブラックマトリクス32によって囲まれた各画素PXに配置されたカラーフィルタ層34などを備えている。また、対向基板CTは、さらに、カラーフィルタ層34の表面の凹凸を平坦化するように比較的厚い膜厚で配置されたオーバーコート層などを備えて構成してもよい。   On the other hand, the counter substrate CT is formed using an insulating substrate 30 having optical transparency such as a glass plate or a quartz plate. In particular, in the color display type liquid crystal display device, as shown in FIG. 3, the counter substrate CT is a black matrix that partitions each pixel PX on the inner surface of the insulating substrate 30 (that is, the surface facing the liquid crystal layer LQ). 32, a color filter layer 34 disposed in each pixel PX surrounded by the black matrix 32, and the like. Further, the counter substrate CT may further include an overcoat layer arranged with a relatively thick film thickness so as to flatten the unevenness of the surface of the color filter layer 34.

ブラックマトリクス32は、絶縁基板30上において、アレイ基板ARに設けられた走査線Yや信号線X、さらにはスイッチング素子Wなどの配線部に対向するように配置されている。カラーフィルタ層34は、絶縁基板30上に配置され、互いに異なる複数の色、例えば、赤色、青色、緑色といった3原色にそれぞれ着色された着色樹脂によって形成されている。赤色着色樹脂、青色着色樹脂及び緑色着色樹脂は、それぞれ赤色画素、青色画素及び緑色画素に対応して配置されている。なお、カラーフィルタ層34は、アレイ基板側に配置しても良い。   The black matrix 32 is arranged on the insulating substrate 30 so as to face the scanning lines Y and the signal lines X provided on the array substrate AR, and further the wiring portions such as the switching elements W. The color filter layer 34 is disposed on the insulating substrate 30 and is formed of a plurality of different colors, for example, colored resins that are colored in three primary colors such as red, blue, and green. The red colored resin, the blue colored resin, and the green colored resin are disposed corresponding to the red pixel, the blue pixel, and the green pixel, respectively. The color filter layer 34 may be disposed on the array substrate side.

対向基板CTの液晶層LQに接する面は、配向膜36bによって覆われている。   The surface in contact with the liquid crystal layer LQ of the counter substrate CT is covered with the alignment film 36b.

また、対向基板CTは、その外面(すなわち液晶層LQ側の面とは反対の面)にシールド電極ESを備えている。ここでは、シールド電極ESは、絶縁基板30の外面に配置されている。このシールド電極ESは、例えば、ITOやIZOなどの光透過性を有する導電材料によって形成されている。
このような対向基板CTと上述したようなアレイ基板ARとは、それぞれの配向膜36a及び配向膜36bが対向するように配置される。このとき、アレイ基板ARと対向基板CTとの間には、図示しないスペーサにより、所定のギャップが形成される。液晶層LQは、これらのアレイ基板ARの配向膜36aと対向基板CTの配向膜36bとの間に形成されたギャップに封入された液晶分子を含む液晶材料で構成されている。
Further, the counter substrate CT includes a shield electrode ES on the outer surface thereof (that is, the surface opposite to the surface on the liquid crystal layer LQ side). Here, the shield electrode ES is disposed on the outer surface of the insulating substrate 30. The shield electrode ES is formed of a light-transmitting conductive material such as ITO or IZO, for example.
The counter substrate CT and the array substrate AR as described above are arranged so that the alignment films 36a and 36b face each other. At this time, a predetermined gap is formed between the array substrate AR and the counter substrate CT by a spacer (not shown). The liquid crystal layer LQ is made of a liquid crystal material including liquid crystal molecules sealed in a gap formed between the alignment film 36a of the array substrate AR and the alignment film 36b of the counter substrate CT.

この液晶表示装置は、液晶表示パネルLPNの一方の外面(すなわちアレイ基板ARの液晶層LQと接する面とは反対の面)に設けられた光学素子OD1を備え、また、液晶表示パネルLPNの他方の外面(すなわち対向基板CTの液晶層LQと接する面とは反対の面)に設けられた光学素子OD2を備えている。これらの光学素子OD1及びOD2は、それぞれ偏光板を含む。また、これらの光学素子OD1及びOD2は、必要に応じて偏光板を含んでいても良い。光学素子OD1は、絶縁基板20に直接接着されている。光学素子OD2は、シールド電極ESの上に接着されている。   This liquid crystal display device includes an optical element OD1 provided on one outer surface of the liquid crystal display panel LPN (ie, the surface opposite to the surface in contact with the liquid crystal layer LQ of the array substrate AR), and the other side of the liquid crystal display panel LPN. Optical element OD2 provided on the outer surface (that is, the surface opposite to the surface in contact with the liquid crystal layer LQ of the counter substrate CT). Each of these optical elements OD1 and OD2 includes a polarizing plate. Further, these optical elements OD1 and OD2 may include a polarizing plate as necessary. The optical element OD1 is directly bonded to the insulating substrate 20. The optical element OD2 is bonded on the shield electrode ES.

このような構成により、液晶表示パネルLPNに対してアレイ基板AR側に配置されたバックライトユニットBLからのバックライト光を液晶表示パネルLPNで選択的に透過し、画像を表示する。   With such a configuration, the backlight light from the backlight unit BL disposed on the array substrate AR side with respect to the liquid crystal display panel LPN is selectively transmitted through the liquid crystal display panel LPN to display an image.

ここで、対向基板CTの外面に配置されたシールド電極ESについて詳しく説明する。シールド電極ESは、少なくとも表示エリアDSP全体を覆うように配置されている。ここでは、シールド電極ESは、略四角形状の表示エリアDSPに対応して、表示エリアDSPと同等以上の寸法の略四角形状に形成されている。このようなシールド電極ESは、対向基板CTの外面において、対向基板CTの少なくとも一辺に沿った端部を露出するように配置されている。図1に示した例では、シールド電極ESは、対向基板CTの4辺L1、L2、L3及びL4に沿ったそれぞれの端部C1、C2、C3及びC4を露出するように配置されている。   Here, the shield electrode ES disposed on the outer surface of the counter substrate CT will be described in detail. The shield electrode ES is disposed so as to cover at least the entire display area DSP. Here, the shield electrode ES is formed in a substantially rectangular shape having a dimension equal to or larger than that of the display area DSP, corresponding to the substantially rectangular display area DSP. Such a shield electrode ES is disposed on the outer surface of the counter substrate CT so as to expose an end portion along at least one side of the counter substrate CT. In the example shown in FIG. 1, the shield electrode ES is disposed so as to expose the respective end portions C1, C2, C3, and C4 along the four sides L1, L2, L3, and L4 of the counter substrate CT.

このように、第2光学素子OD2と対向基板CTを構成する絶縁基板30との間にシールド電極ESが介在することにより、第2光学素子OD2が帯電した場合であっても電荷を分散することができ、対向基板CTの帯電を抑制することが可能となる。また、このシールド電極ESは、表示エリアDSPを覆うように配置されているため、表示エリアDSPに向かう外部電界をシールドすることが可能となる。このため、アレイ基板ARと対向基板CTとの間に不所望な縦電界が形成されることがなく、表示品位の向上が可能となる。   As described above, the shield electrode ES is interposed between the second optical element OD2 and the insulating substrate 30 constituting the counter substrate CT, so that the charge is dispersed even when the second optical element OD2 is charged. It is possible to suppress charging of the counter substrate CT. Further, since the shield electrode ES is disposed so as to cover the display area DSP, it is possible to shield an external electric field toward the display area DSP. For this reason, an undesired vertical electric field is not formed between the array substrate AR and the counter substrate CT, and display quality can be improved.

ここで、第1実施例及び第2実施例について説明する。   Here, the first embodiment and the second embodiment will be described.

第1実施例において、図4A及び図4Bに示すように、シールド電極ESは、表示エリアDSPより大きいサイズに形成されている。このようなシールド電極ESは、表示エリアDSPを覆うように配置されている。また、シールド電極ESは、対向基板CTよりも小さいサイズに形成されている。ここでは、特に、液晶表示パネルを構成するアレイ基板AR及び対向基板CTは、四角形状に形成されている。シールド電極ESは、図1に示した例と同様に、対向基板CTの外面において、対向基板CTの4辺に沿った端部(つまり、絶縁基板30の外面の周辺部)を露出するように配置されている。   In the first embodiment, as shown in FIGS. 4A and 4B, the shield electrode ES is formed larger than the display area DSP. Such a shield electrode ES is disposed so as to cover the display area DSP. Further, the shield electrode ES is formed in a size smaller than the counter substrate CT. Here, in particular, the array substrate AR and the counter substrate CT constituting the liquid crystal display panel are formed in a square shape. As in the example shown in FIG. 1, the shield electrode ES exposes the end portions along the four sides of the counter substrate CT (that is, the peripheral portion of the outer surface of the insulating substrate 30) on the outer surface of the counter substrate CT. Has been placed.

液晶表示装置は、さらに、対向基板CTの外面側から液晶表示パネルLPNを覆う枠状の金属フレームFLを有している。この金属フレームFLは、矩形状の表示エリアDSPより大きく形成されるとともに表示エリアDSPを露出する矩形状の開口部APを有している。この開口部APは、シールド電極ESより小さく形成されている。なお、第2光学素子OD2は、シールド電極ESより小さく形成され、シールド電極ESの一部を露出するように配置されている。   The liquid crystal display device further includes a frame-shaped metal frame FL that covers the liquid crystal display panel LPN from the outer surface side of the counter substrate CT. The metal frame FL has a rectangular opening AP that is formed larger than the rectangular display area DSP and exposes the display area DSP. The opening AP is formed smaller than the shield electrode ES. Note that the second optical element OD2 is formed to be smaller than the shield electrode ES, and is disposed so as to expose a part of the shield electrode ES.

つまり、金属フレームFLは、表示エリアDSPを囲むとともに、シールド電極ESの周辺部分(第2光学素子OD2から露出した部分)と重なるように配置されている。金属フレームFLは、シールド電極ESと対向する内面に突起を設け、この突起を介してシールド電極ESと接している。あるいは、金属フレームFLとシールド電極ESは直に接しても良い。すなわち、シールド電極ESと金属フレームFLとは、表示エリアDSP外において、導通している。   That is, the metal frame FL surrounds the display area DSP and is arranged so as to overlap with the peripheral portion of the shield electrode ES (the portion exposed from the second optical element OD2). The metal frame FL is provided with a protrusion on the inner surface facing the shield electrode ES, and is in contact with the shield electrode ES via the protrusion. Alternatively, the metal frame FL and the shield electrode ES may be in direct contact. That is, the shield electrode ES and the metal frame FL are electrically connected outside the display area DSP.

金属フレームFLは、例えば、接地されている。シールド電極ESは、突起を介して接地電位の金属フレームFLと接触しているので、第2光学素子OD2あるいは対向基板CTに帯電した電荷を金属フレームFLから逃がすことが可能となる。このため、対向基板CTの帯電を抑制することが可能となり、対向基板CTとアレイ基板ARとの間において、縦電界の形成を抑制できる。   The metal frame FL is grounded, for example. Since the shield electrode ES is in contact with the metal frame FL at the ground potential via the protrusion, it is possible to release the charges charged in the second optical element OD2 or the counter substrate CT from the metal frame FL. For this reason, it becomes possible to suppress the charging of the counter substrate CT, and it is possible to suppress the formation of a vertical electric field between the counter substrate CT and the array substrate AR.

第2実施例において、図5A及び図5Bに示すように、シールド電極ESは、表示エリアDSPより大きいサイズに形成され、表示エリアDSPを覆うように配置されている。また、シールド電極ESは、対向基板CTよりも小さいサイズに形成され、図1に示した例と同様に、対向基板CTの外面において、対向基板CTの4辺に沿った端部を露出するように配置されている。この第2実施例では、さらに、対向基板CTは、その外面にシールド電極ESに電気的に接続された端子部ESaを有している。この端子部ESaは、シールド電極ESと同一材料により一体的に形成しても良いし、シールド電極ESと異なる導電材料により別体として形成しても良い。この端子部ESaは、対向基板CTの一辺に引き出されている。このような構成によれば、端子部ESaを介して第2光学素子OD2あるいは対向基板CTに帯電した電荷を外部に逃がすことが可能である。   In the second embodiment, as shown in FIGS. 5A and 5B, the shield electrode ES is formed in a size larger than the display area DSP and is arranged so as to cover the display area DSP. Further, the shield electrode ES is formed in a size smaller than that of the counter substrate CT, and the end portions along the four sides of the counter substrate CT are exposed on the outer surface of the counter substrate CT as in the example shown in FIG. Is arranged. In the second embodiment, the counter substrate CT further has a terminal portion ESa electrically connected to the shield electrode ES on its outer surface. The terminal portion ESa may be formed integrally with the same material as the shield electrode ES, or may be formed separately from a conductive material different from the shield electrode ES. This terminal portion ESa is drawn to one side of the counter substrate CT. According to such a configuration, it is possible to release the charges charged in the second optical element OD2 or the counter substrate CT to the outside via the terminal portion ESa.

特に、図5A及び図5Bで示した例では、端子部ESaは、対向基板CTの辺L2に引き出されている。アレイ基板ARの延在部ARaは、端子部ESaが引き出された辺L2より外方に延在している。また、アレイ基板ARは、接地電位の配線Zを有している。この配線Zは、アレイ基板ARの延在部ARaに配置されている。端子部ESaは、導電部材200、例えば導電性ペーストや、導電性テープなどを介して配線Zと電気的に接続されている。   In particular, in the example shown in FIGS. 5A and 5B, the terminal portion ESa is drawn to the side L2 of the counter substrate CT. The extended portion ARa of the array substrate AR extends outward from the side L2 from which the terminal portion ESa is drawn. Further, the array substrate AR has a wiring Z having a ground potential. The wiring Z is disposed in the extending portion ARa of the array substrate AR. The terminal portion ESa is electrically connected to the wiring Z through a conductive member 200, for example, a conductive paste or a conductive tape.

つまり、シールド電極ESは、端子部ESa及び導電部材200を介して接地電位の配線Zに接続されているため、第2光学素子OD2あるいは対向基板CTに帯電された電荷を配線Zから逃がすことが可能となる。このため、対向基板CTの帯電を抑制することが可能となり、対向基板CTとアレイ基板ARとの間において、縦電界の形成を抑制できる。   That is, since the shield electrode ES is connected to the wiring Z having the ground potential via the terminal portion ESa and the conductive member 200, the charge charged in the second optical element OD2 or the counter substrate CT can be released from the wiring Z. It becomes possible. For this reason, it becomes possible to suppress the charging of the counter substrate CT, and it is possible to suppress the formation of a vertical electric field between the counter substrate CT and the array substrate AR.

ここで、液晶表示装置の具体的な製造方法の一例について説明する。   Here, an example of a specific manufacturing method of the liquid crystal display device will be described.

まず、アレイ基板AR用の第1マザー基板及び対向基板CT用の第2マザー基板を用意する。第1マザー基板は、複数のアレイ基板ARを形成することが可能な面積を有している。第2マザー基板は、複数の対向基板CTを形成することが可能な面積を有している。   First, a first mother substrate for the array substrate AR and a second mother substrate for the counter substrate CT are prepared. The first mother substrate has an area where a plurality of array substrates AR can be formed. The second mother substrate has an area where a plurality of counter substrates CT can be formed.

第1マザー基板の一方の面において、各アレイ基板形成領域に実装部10及び表示エリアDSPに対応する第1表示素子部を形成する。第1表示素子部には、スイッチング素子W、画素電極EP、対向電極ETなどを形成する。   On one surface of the first mother substrate, a first display element portion corresponding to the mounting portion 10 and the display area DSP is formed in each array substrate formation region. In the first display element portion, a switching element W, a pixel electrode EP, a counter electrode ET, and the like are formed.

また、第2マザー基板の一方の面において、各対向基板形成領域に第2表示素子部を形成する。第2表示素子部には、カラーフィルタ層34やブラックマトリクス32などを形成する。   A second display element portion is formed in each counter substrate formation region on one surface of the second mother substrate. In the second display element portion, a color filter layer 34, a black matrix 32, and the like are formed.

その後、第2マザー基板の他方の面(第2表示素子部が形成された面とは反対の面)において、各対向基板形成領域に、第2表示素子部に対向するシールド電極ESを形成する。このシールド電極ESは、例えば、マスクスパッタ法により第2表示素子部に対向する領域に島状に形成される。特に、このシールド電極ESは、後の割断工程で第2マザー基板を割断する際の割断線に重なることなく形成される。図6に示した例は、第1実施例に相当し、シールド電極ESは、隣接する2本の割断線Aと、割断線B1及びB2によって囲まれた内側に配置されている。   Thereafter, on the other surface of the second mother substrate (the surface opposite to the surface on which the second display element portion is formed), a shield electrode ES facing the second display element portion is formed in each counter substrate formation region. . The shield electrode ES is formed in an island shape in a region facing the second display element portion by, for example, mask sputtering. In particular, the shield electrode ES is formed without overlapping with a breaking line when the second mother substrate is cut in a subsequent cutting step. The example shown in FIG. 6 corresponds to the first embodiment, and the shield electrode ES is disposed on the inner side surrounded by two adjacent breaking lines A and the breaking lines B1 and B2.

その後、第1マザー基板の第1表示素子部又は第2マザー基板の第2表示素子部を囲むようにシール材300を塗布する。シール材300は、各液晶表示パネル形成領域において、液晶材料を注入するための注入口300Aを確保するように配置する。注入口300Aは、実装部10が配置された辺と異なる辺に形成される。シール材300は、例えば、熱硬化性樹脂などの樹脂材料によって形成される。   Thereafter, the sealing material 300 is applied so as to surround the first display element portion of the first mother substrate or the second display element portion of the second mother substrate. The sealing material 300 is disposed so as to secure an injection port 300A for injecting a liquid crystal material in each liquid crystal display panel formation region. The inlet 300A is formed on a side different from the side where the mounting portion 10 is disposed. The sealing material 300 is formed of a resin material such as a thermosetting resin, for example.

そして、第1表示素子部と第2表示素子部とがそれぞれ向かい合うように第1マザー基板と第2マザー基板とを配置する。そして、第1マザー基板と第2マザー基板とを貼り合わせる方向に加圧しながら加熱する。これにより、シール材300が硬化し、第1マザー基板と第2マザー基板とが貼り合わせられる。   Then, the first mother substrate and the second mother substrate are arranged so that the first display element portion and the second display element portion face each other. And it heats, pressurizing in the direction which bonds a 1st mother board | substrate and a 2nd mother board | substrate. Thereby, the sealing material 300 is cured, and the first mother substrate and the second mother substrate are bonded together.

続いて、図6に示すように、貼り合わせたマザー基板対を割断線Aに沿ってスクライブした後、短冊状に割断する。その後、注入口300Aから液晶材料を真空注入する。その後、封止材500として、例えば、紫外線硬化型樹脂などの感光性樹脂を注入口300Aに塗布し、紫外線を照射することにより液晶材料が封止される。そして、短冊状のマザー基板対を割断線B1に沿ってスクライブした後に割断する。さらに、第2マザー基板の実装部10に対向する領域を割断線B2に沿って割断することによって除去する。これにより、実装部10を露出した各セルが形成される。   Subsequently, as shown in FIG. 6, the bonded mother substrate pair is scribed along the cutting line A and then cut into strips. Thereafter, a liquid crystal material is vacuum injected from the injection port 300A. Thereafter, as the sealing material 500, for example, a photosensitive resin such as an ultraviolet curable resin is applied to the injection port 300A, and the liquid crystal material is sealed by irradiating with ultraviolet rays. Then, the strip-shaped mother substrate pair is cleaved after being scribed along the cutting line B1. Furthermore, the area | region facing the mounting part 10 of a 2nd mother board | substrate is removed by cleaving along the cutting line B2. Thereby, each cell which exposed the mounting part 10 is formed.

このような工程により、アレイ基板ARと対向基板CTとの間に液晶層LQを保持した液晶表示パネルLPNが形成される。   By such a process, the liquid crystal display panel LPN holding the liquid crystal layer LQ between the array substrate AR and the counter substrate CT is formed.

上述したように、シールド電極ESは、注入口300Aに重なる割断線Aに重ならないように配置され、図6に示した例では、割断線A、B1及びB2のいずれにも重ならないように配置されている。つまり、シールド電極ESは、少なくとも液晶注入工程より前に割断される割断線Aには重ならないように配置されている。このため、マザー基板対を割断線Aに沿って割断する際に、シールド電極ESにカッター等の割断部材が接触することはない。   As described above, the shield electrode ES is disposed so as not to overlap the breaking line A that overlaps the injection port 300A. In the example shown in FIG. 6, the shielding electrode ES is disposed not to overlap any of the breaking lines A, B1, and B2. Has been. That is, the shield electrode ES is disposed so as not to overlap the breaking line A that is broken at least before the liquid crystal injection step. For this reason, when the mother substrate pair is cut along the cutting line A, the cutting member such as a cutter does not contact the shield electrode ES.

したがって、マザー基板対の割断の際に、シールド電極ESが削りとられることがなく、導電性の異物を発生しない。このため、液晶材料の注入の過程において、導電性の異物の液晶中への混入を防ぐことが可能となる。したがって、液晶層内での配線間でのショート、電極間でのショートを防ぐことが可能となる。また、異物の混入による、液晶分子の配向不良を防ぐことが可能となる。   Therefore, when the mother substrate pair is cleaved, the shield electrode ES is not scraped off and no conductive foreign matter is generated. For this reason, in the process of injecting the liquid crystal material, it is possible to prevent the conductive foreign matter from being mixed into the liquid crystal. Therefore, it is possible to prevent a short circuit between wirings and a short circuit between electrodes in the liquid crystal layer. In addition, it is possible to prevent alignment defects of liquid crystal molecules due to foreign matters.

つまり、図1に示すように、シールド電極ESを対向基板CTの外面において、少なくとも注入口300Aが設けられた対向基板CTの辺L1に沿った端部を露出するように配置する。言い換えれば、シールド電極ESが対向基板CTの辺L1にまで達しないように設ける。このようなシールド電極ESの形状にすれば、表示装置の表示品位を改善できるとともに製造歩留まりを向上することが可能となる。   That is, as shown in FIG. 1, the shield electrode ES is arranged on the outer surface of the counter substrate CT so as to expose at least the end portion along the side L1 of the counter substrate CT provided with the injection port 300A. In other words, the shield electrode ES is provided so as not to reach the side L1 of the counter substrate CT. With such a shape of the shield electrode ES, the display quality of the display device can be improved and the manufacturing yield can be improved.

また、上述したように、シールド電極ESは、割断線B2に重ならないように配置されている。このため、第2マザー基板の実装部10に対向する領域を割断線B2に沿って割断する際に、シールド電極ESにカッター等が接触せず、シールド電極ESが削りとられることがなくなる。これにより、シールド電極ESの剥れ落ちた一部の実装部10への接触を防止することができる。つまり、実装部10の汚染を防ぐことが可能となり、実装部10でのショートを防ぐことが可能となる。   Further, as described above, the shield electrode ES is disposed so as not to overlap the breaking line B2. For this reason, when the region facing the mounting portion 10 of the second mother substrate is cut along the cutting line B2, the shield electrode ES is not scraped off without the cutter or the like coming into contact with the shield electrode ES. Thereby, the contact to the part of mounting part 10 from which the shield electrode ES has peeled off can be prevented. That is, it is possible to prevent the mounting unit 10 from being contaminated, and it is possible to prevent a short circuit in the mounting unit 10.

つまり、図1に示すように、シールド電極ESを対向基板CTの外面において、少なくとも実装部10が配置された側の辺L2に沿った端部を露出するように配置する。言い換えれば、シールド電極ESが対向基板CTの辺L2にまで達しないように設ける。これによって、表示装置の表示品位を改善できるとともに製造歩留まりを向上することが可能となる。   That is, as shown in FIG. 1, the shield electrode ES is disposed on the outer surface of the counter substrate CT so that at least the end portion along the side L2 on the side where the mounting portion 10 is disposed is exposed. In other words, the shield electrode ES is provided so as not to reach the side L2 of the counter substrate CT. As a result, the display quality of the display device can be improved and the manufacturing yield can be improved.

なお、上述した例では、シールド電極ESは、第1マザー基板と第2マザー基板とを貼り合わせる前に形成したが、第1マザー基板と第2マザー基板とを貼り合わせた後であって液晶材料を注入する前の段階で形成しても良い。   In the above-described example, the shield electrode ES is formed before the first mother substrate and the second mother substrate are bonded together. However, after the first mother substrate and the second mother substrate are bonded together, the shield electrode ES is liquid crystal. You may form in the step before inject | pouring material.

また、上述した製造方法では、第1マザー基板と第2マザー基板とを貼り合わせた後に液晶材料を真空注入する例について説明したが、この例に限らない。以下に、製造方法として、液晶材料を滴下注入する例について説明する。滴下注入の手法を適用した液晶表示パネルの特徴としては、図7に示すように、アレイ基板ARと対向基板CTとを貼り合わせるシール材300が表示エリアDSPを囲むループ状に形成されている点が挙げられる。   In the manufacturing method described above, the example in which the liquid crystal material is vacuum-injected after the first mother substrate and the second mother substrate are bonded to each other has been described. However, the present invention is not limited to this example. Hereinafter, an example in which a liquid crystal material is dropped and injected as a manufacturing method will be described. As a feature of the liquid crystal display panel to which the dropping injection method is applied, as shown in FIG. 7, a sealing material 300 for bonding the array substrate AR and the counter substrate CT is formed in a loop shape surrounding the display area DSP. Is mentioned.

このような液晶表示パネルは以下のようにして製造される。   Such a liquid crystal display panel is manufactured as follows.

まず、液晶材料を真空注入する場合と同様の手順により、図8に示すように、アレイ基板AR用の第1マザー基板M1及び対向基板CT用の第2マザー基板M2を用意する。すなわち、第1マザー基板M1の一方の面において、各アレイ基板形成領域に実装部10及び表示エリアDSPに対応する第1表示素子部12を形成する。また、第2マザー基板M2の一方の面において、各対向基板形成領域に第2表示素子部14を形成する。   First, as shown in FIG. 8, a first mother substrate M1 for the array substrate AR and a second mother substrate M2 for the counter substrate CT are prepared by the same procedure as that for vacuum injection of the liquid crystal material. That is, the first display element unit 12 corresponding to the mounting unit 10 and the display area DSP is formed in each array substrate formation region on one surface of the first mother substrate M1. In addition, the second display element unit 14 is formed in each counter substrate formation region on one surface of the second mother substrate M2.

その後、第2マザー基板M2の他方の面において、各対向基板形成領域に、第2表示素子部14に対向するシールド電極ESを形成する。特に、このシールド電極ESは、後の割断工程で第2マザー基板M2を割断する際の割断線に重なることなく形成される。   Thereafter, on the other surface of the second mother substrate M2, a shield electrode ES facing the second display element unit 14 is formed in each counter substrate formation region. In particular, the shield electrode ES is formed without overlapping with a breaking line when the second mother substrate M2 is cleaved in a later cleaving process.

その後、第1マザー基板M1の第1表示素子部12又は第2マザー基板M2の第2表示素子部14を囲むようにループ状にシール材300を塗布する。   Thereafter, the sealing material 300 is applied in a loop shape so as to surround the first display element portion 12 of the first mother substrate M1 or the second display element portion 14 of the second mother substrate M2.

その後、シール材300で囲まれた内側の領域に液晶材料400を滴下する。   After that, the liquid crystal material 400 is dropped on the inner region surrounded by the sealing material 300.

その後、第1表示素子部12と第2表示素子部14とが向かい合うように第1マザー基板M1と第2マザー基板M2とを配置する。   Thereafter, the first mother substrate M1 and the second mother substrate M2 are disposed so that the first display element unit 12 and the second display element unit 14 face each other.

そして、図9に示すように、第1マザー基板M1及び第2マザー基板M2を貼り合わせる方向に加圧しながら加熱し、第1マザー基板M1と第2マザー基板M2とを貼り合わせる。貼り合わせられたマザー基板対の平面図を図12に示す。   Then, as shown in FIG. 9, the first mother substrate M1 and the second mother substrate M2 are bonded together by heating them while applying pressure in the bonding direction to the first mother substrate M1 and the second mother substrate M2. FIG. 12 shows a plan view of the bonded mother substrate pair.

そして、貼り合わせられたマザー基板対を割断線A、B1及びB2に沿って割断する。特に、図10に示すように、第2マザー基板M2の実装部10と対向する領域MXを除去する工程では、まず、割断線B2に沿ってスクライブ部材によりスクライブする。そして、ブレイクバーなどを用いて衝撃を与え、クラックを進展させて割断線B2に沿って割断する。これにより、領域MXが除去され、図11に示すように、アレイ基板ARと対向基板CTとの間に液晶層LQを保持した液晶表示パネルLPNが形成される。   Then, the bonded mother substrate pair is cut along the cutting lines A, B1, and B2. In particular, as shown in FIG. 10, in the step of removing the region MX facing the mounting portion 10 of the second mother substrate M2, first, scribing is performed by a scribe member along the breaking line B2. Then, an impact is applied using a break bar or the like, the crack is advanced, and it is cut along the cutting line B2. Thereby, the region MX is removed, and as shown in FIG. 11, a liquid crystal display panel LPN holding the liquid crystal layer LQ between the array substrate AR and the counter substrate CT is formed.

上述したように、液晶材料400を真空注入した場合と同様に、シールド電極ESは、割断線B2に重ならないように配置されている。したがって、割断線B2に沿った割断工程においてシールド電極ESが削りとられることがなく、導電性異物による汚染が発生しない。つまり、実装部10の汚染を防ぐことが可能となり、実装部10でのショートを防ぐことが可能となる。このため、表示装置の表示品位を改善できるとともに製造歩留まりを向上することが可能となる。   As described above, similarly to the case where the liquid crystal material 400 is vacuum-injected, the shield electrode ES is disposed so as not to overlap the breaking line B2. Therefore, the shield electrode ES is not scraped off in the cleaving process along the cleaving line B2, and contamination due to conductive foreign matter does not occur. That is, it is possible to prevent the mounting unit 10 from being contaminated, and it is possible to prevent a short circuit in the mounting unit 10. For this reason, the display quality of the display device can be improved and the manufacturing yield can be improved.

また、第1マザー基板M1と第2マザー基板M2とを貼り合わせる前に液晶材料400を滴下して液晶層LQを形成することにより、製造時間を短縮することが可能となる。   In addition, the manufacturing time can be shortened by forming the liquid crystal layer LQ by dropping the liquid crystal material 400 before the first mother substrate M1 and the second mother substrate M2 are bonded to each other.

特に、図6及び図12に示すように、シールド電極ESが割断線A、B1及びB2のいずれにも重ならないように配置されることにより、全ての割断線に沿った割断工程において、シールド電極ESが削りとられることがなく、導電性の異物を発生することがない。このため、各液晶表示パネルLPNへの導電性異物の付着や、周辺の製造環境の汚染を抑制することが可能となる。   In particular, as shown in FIGS. 6 and 12, the shield electrode ES is arranged so as not to overlap any of the breaking lines A, B1, and B2, so that in the cutting process along all the breaking lines, the shielding electrode ES The ES is not scraped off and no conductive foreign matter is generated. For this reason, it becomes possible to suppress the adhesion of the conductive foreign matter to each liquid crystal display panel LPN and the contamination of the surrounding manufacturing environment.

以上、説明したように、本実施の形態によれば、液晶表示装置は、対向基板CTの帯電を防ぎつつ、表示装置の歩留まりの低下を防止することが可能となる。   As described above, according to the present embodiment, the liquid crystal display device can prevent a decrease in the yield of the display device while preventing the counter substrate CT from being charged.

なお、この発明は、上記実施形態そのものに限定されるものではなく、その実施の段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合せにより種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。更に、異なる実施形態に亘る構成要素を適宜組み合せてもよい。   In addition, this invention is not limited to the said embodiment itself, In the stage of implementation, it can change and implement a component within the range which does not deviate from the summary. Further, various inventions can be formed by appropriately combining a plurality of constituent elements disclosed in the embodiment. For example, some components may be deleted from all the components shown in the embodiment. Furthermore, you may combine suitably the component covering different embodiment.

シールド電極ESは、液晶材料400を真空注入する場合、少なくとも注入口300Aが設けられている辺L1に沿った端部CTbを露出するように配置されていればよい。言い換えれば、シールド電極ESの周辺と対向基板CTの辺L1との間に間隔を設け、シールド電極ESの周辺は、注入口300Aを横切るように配置されていればよい。また、アレイ基板ARの延在部ARaに実装部10を備えた構成の場合には、シールド電極ESは、少なくとも実装部10が配置された側の辺L2に沿った端部C2を露出するように間隔を設けて配置されていれば良い。さらに、シールド電極ESは、対向基板CTの4辺L1、L2、L3及びL4に沿った端部C1、C2、C3及びC4を露出するように配置されることがより望ましい。すなわち、シールド電極ESは表示エリアDSPの全面を覆い、且つ、シールド電極ESの面積は、対向基板CTの面積より小さく、表示エリアDSPの面積より大きくすれば良い。   When the liquid crystal material 400 is vacuum-injected, the shield electrode ES may be disposed so as to expose at least the end portion CTb along the side L1 where the injection port 300A is provided. In other words, an interval may be provided between the periphery of the shield electrode ES and the side L1 of the counter substrate CT, and the periphery of the shield electrode ES may be disposed so as to cross the injection port 300A. In the case where the mounting portion 10 is provided in the extending portion ARa of the array substrate AR, the shield electrode ES exposes at least the end portion C2 along the side L2 on the side where the mounting portion 10 is disposed. It suffices if they are arranged at intervals. Furthermore, the shield electrode ES is more preferably arranged so as to expose the end portions C1, C2, C3, and C4 along the four sides L1, L2, L3, and L4 of the counter substrate CT. That is, the shield electrode ES covers the entire surface of the display area DSP, and the area of the shield electrode ES may be smaller than the area of the counter substrate CT and larger than the area of the display area DSP.

第1実施例においては、シールド電極ESは、表示エリアDSP外で金属フレームFLと接点を有するように、表示エリアDSPより大きなサイズに形成されるが、第2実施例においては、シールド電極ESは、対向基板CTの端辺に引き出された端子部ESaに接続されているため、シールド電極ESを表示エリアDSPと略同等のサイズになるように形成しても良い。このようにシールド電極ESを形成することにより、シールド電極ESから割断線A、Bまでの距離(つまり、シールド電極から対向基板の端辺までの距離)を長く確保できる。このため、割断線に沿った割断の際に、割断部材のシールド電極ESへの接触をさらに抑制できる。また、シールド電極ESのサイズを小さく形成することができるため、材料の消費量を抑えることが可能となり、製造コストも抑えることが可能となる。   In the first embodiment, the shield electrode ES is formed larger than the display area DSP so as to have a contact with the metal frame FL outside the display area DSP. In the second embodiment, the shield electrode ES is Since the connection is made to the terminal portion ESa drawn to the end side of the counter substrate CT, the shield electrode ES may be formed so as to be approximately the same size as the display area DSP. By forming the shield electrode ES in this way, it is possible to ensure a long distance from the shield electrode ES to the breaking lines A and B (that is, a distance from the shield electrode to the edge of the counter substrate). For this reason, it is possible to further suppress contact of the cleaving member with the shield electrode ES when cleaving along the cleaving line. Further, since the size of the shield electrode ES can be reduced, the consumption of material can be suppressed, and the manufacturing cost can also be suppressed.

上述した実施の形態では、液晶モードの一例として、横電界を利用して液晶分子をスイッチングするFFSモードを例に説明したが、この例に限らず、静電気対策などで対向基板の外面にシールド電極を配置することを必要とする他の液晶モード、例えばTN(Twisted Nematic)モードや、対向電極にスリットを形成したマルチドメイン構造のVA(Vertical Alignment)モードなどの縦電界を利用して液晶分子をスイッチングする液晶モードについてもこの発明を適用可能である。   In the above-described embodiment, the FFS mode in which the liquid crystal molecules are switched using the horizontal electric field has been described as an example of the liquid crystal mode. However, the present invention is not limited to this example. Other liquid crystal modes that need to be arranged, for example, TN (Twisted Nematic) mode, and multi-domain structure VA (Vertical Alignment) mode in which a slit is formed in the counter electrode, to make liquid crystal molecules The present invention can also be applied to a switching liquid crystal mode.

図1は、この発明の一実施の形態に係る横電界を利用した液晶モードの液晶表示装置の構成を概略的に示す図である。FIG. 1 is a diagram schematically showing a configuration of a liquid crystal mode liquid crystal display device using a lateral electric field according to an embodiment of the present invention. 図2は、図1に示した液晶表示装置に適用される1画素の画素電極及び対向電極の構造を概略的に示す平面図である。FIG. 2 is a plan view schematically showing the structure of a pixel electrode and a counter electrode of one pixel applied to the liquid crystal display device shown in FIG. 図3は、図1に示した液晶表示装置に適用されるアレイ基板及び対向基板の構造を概略的に示す断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view schematically showing structures of an array substrate and a counter substrate applied to the liquid crystal display device shown in FIG. 図4Aは、第1実施例におけるアレイ基板及び対向基板の構造を概略的に示す断面図である。FIG. 4A is a cross-sectional view schematically showing structures of the array substrate and the counter substrate in the first embodiment. 図4Bは、第1実施例におけるシールド電極及び金属フレームの構造を概略的に示す平面図である。FIG. 4B is a plan view schematically showing the structure of the shield electrode and the metal frame in the first embodiment. 図5Aは、第2実施例におけるアレイ基板及び対向基板の構造を概略的に示す断面図である。FIG. 5A is a cross-sectional view schematically showing structures of an array substrate and a counter substrate in the second embodiment. 図5Bは、第2実施例における液晶表示装置の構成を概略的に示す図である。FIG. 5B is a diagram schematically showing the configuration of the liquid crystal display device according to the second embodiment. 図6は、液晶表示装置の製造方法において、割断する工程を説明するための図である。FIG. 6 is a diagram for explaining a cleaving step in the method of manufacturing a liquid crystal display device. 図7は、他の実施の形態に係る横電界を利用した液晶モードの液晶表示装置の構成を概略的に示す図である。FIG. 7 is a diagram schematically showing the configuration of a liquid crystal mode liquid crystal display device using a horizontal electric field according to another embodiment. 図8は、液晶材料を滴下注入した場合の製造方法を説明するための図であって、液晶材料を滴下する工程を説明するための図である。FIG. 8 is a diagram for explaining a manufacturing method when a liquid crystal material is dropped and injected, and is a diagram for explaining a step of dripping the liquid crystal material. 図9は、第1マザー基板と第2マザー基板とを貼り合わせる工程を説明するための図である。FIG. 9 is a diagram for explaining a process of bonding the first mother substrate and the second mother substrate. 図10は、第2マザー基板の実装部と対向する領域を除去するためにスクライブ面を形成する工程を説明するための図である。FIG. 10 is a diagram for explaining a process of forming a scribe surface in order to remove a region facing the mounting portion of the second mother substrate. 図11は、図8乃至図10の工程を経て形成された液晶表示装置の構成を概略的に示す断面図である。FIG. 11 is a cross-sectional view schematically showing the configuration of the liquid crystal display device formed through the steps of FIGS. 図12は、液晶表示装置の製造方法において、割断する工程を説明するための図である。FIG. 12 is a diagram for explaining a cleaving step in the method of manufacturing a liquid crystal display device.

符号の説明Explanation of symbols

LPN…液晶表示パネル
AR…アレイ基板(第1基板)
CT…対向基板(第2基板)
LQ…液晶層
DSP…表示エリア
PX…画素
EP…画素電極(第2電極)
ET…対向電極(第1電極)
COM…コモン配線
IL…層間絶縁膜
ES…シールド電極
30…絶縁基板
32…ブラックマトリクス
34…カラーフィルタ層
BL…ブックライトユニット
LPN ... Liquid crystal display panel AR ... Array substrate (first substrate)
CT: Counter substrate (second substrate)
LQ ... Liquid crystal layer DSP ... Display area PX ... Pixel EP ... Pixel electrode (second electrode)
ET ... Counter electrode (first electrode)
COM ... Common wiring IL ... Interlayer insulating film ES ... Shield electrode 30 ... Insulating substrate 32 ... Black matrix 34 ... Color filter layer BL ... Book light unit

Claims (12)

第1基板と、
前記第1基板と対向するように配置された第2基板と、
前記第1基板と前記第2基板との間に保持された液晶材料からなる液晶層と、
前記第1基板と前記第2基板とを貼り合わせるシール材と、を備え、
前記第2基板は、その外面にシールド電極を備え、
前記シールド電極は、前記第2基板の外面において、前記第2基板の少なくとも一辺に沿った端部を露出するように配置されていることを特徴とする液晶表示装置。
A first substrate;
A second substrate disposed to face the first substrate;
A liquid crystal layer made of a liquid crystal material held between the first substrate and the second substrate;
A sealing material for bonding the first substrate and the second substrate;
The second substrate includes a shield electrode on an outer surface thereof,
The liquid crystal display device, wherein the shield electrode is disposed on an outer surface of the second substrate so as to expose an end portion along at least one side of the second substrate.
前記第1基板は、
第1電極と、
前記第1電極の上に配置された層間絶縁膜と、
前記層間絶縁膜の上に配置され、前記第1電極と対向するとともにスリットを有する第2電極と、
を備えたことを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。
The first substrate is
A first electrode;
An interlayer insulating film disposed on the first electrode;
A second electrode disposed on the interlayer insulating film, facing the first electrode and having a slit;
The liquid crystal display device according to claim 1, further comprising:
前記シールド電極は、複数の画素によって構成された前記表示エリアを覆うように配置されていることを特徴とする請求項2に記載の液晶表示装置。   The liquid crystal display device according to claim 2, wherein the shield electrode is disposed so as to cover the display area constituted by a plurality of pixels. 前記シール材は、前記液晶材料を注入するための注入口を形成するように配置され、
前記シールド電極は、前記第2基板の外面において、前記注入口が設けられた前記第2基板の辺に沿った端部を露出するように配置されていることを特徴とする請求項2に記載の液晶表示装置。
The sealing material is arranged to form an inlet for injecting the liquid crystal material,
The said shield electrode is arrange | positioned so that the edge part along the edge | side of the said 2nd board | substrate with which the said injection hole was provided may be exposed in the outer surface of the said 2nd board | substrate. Liquid crystal display device.
前記第1基板は、前記第2基板の端辺より外方に延在した延在部に実装部を備え、
前記シールド電極は、前記第2基板の外面において、前記端辺に沿った端部を露出するように配置されていることを特徴とする請求項2に記載の液晶表示装置。
The first substrate includes a mounting portion in an extending portion extending outward from an end side of the second substrate,
The liquid crystal display device according to claim 2, wherein the shield electrode is disposed on the outer surface of the second substrate so as to expose an end portion along the end side.
前記シール材は、ループ状に配置されたことを特徴とする請求項5に記載の液晶表示装置。   The liquid crystal display device according to claim 5, wherein the sealing material is arranged in a loop shape. 前記シール材は、前記実装部が配置された辺と異なる辺に前記液晶材料を注入するための注入口を形成するように配置され、
前記シールド電極は、前記第2基板の外面において、前記注入口が設けられた前記第2基板の辺に沿った端部を露出するように配置されていることを特徴とする請求項5に記載の液晶表示装置。
The sealing material is arranged so as to form an injection port for injecting the liquid crystal material into a side different from the side where the mounting part is arranged,
The said shield electrode is arrange | positioned so that the edge part along the edge | side of the said 2nd board | substrate with which the said injection hole was provided may be exposed in the outer surface of the said 2nd board | substrate. Liquid crystal display device.
前記第2基板は、四角形状に形成され、
前記シールド電極は、前記第2基板の外面において、前記第2基板の4辺に沿った端部を露出するように配置されたことを特徴とする請求項2に記載の液晶表示装置。
The second substrate is formed in a square shape,
The liquid crystal display device according to claim 2, wherein the shield electrode is disposed on the outer surface of the second substrate so as to expose end portions along four sides of the second substrate.
さらに、前記シールド電極と接触する金属フレームを有していることを特徴とする請求項8に記載の液晶表示装置。   The liquid crystal display device according to claim 8, further comprising a metal frame in contact with the shield electrode. さらに、前記シールド電極に電気的に接続され、前記第2基板の一辺に引き出された端子部を有していることを特徴とする請求項8に記載の液晶表示装置。   The liquid crystal display device according to claim 8, further comprising a terminal portion that is electrically connected to the shield electrode and led out to one side of the second substrate. 前記第1基板は、前記第2基板の前記端子部が引き出された端辺より外方に延在した延在部に接地電位の配線を有し、
前記端子部と前記配線とが導電部材を介して接続されていることを特徴とする請求項10に記載の液晶表示装置。
The first substrate has a wiring having a ground potential in an extending portion extending outward from an end side from which the terminal portion of the second substrate is drawn,
The liquid crystal display device according to claim 10, wherein the terminal portion and the wiring are connected via a conductive member.
第1基板の一方の面に実装部及び第1表示素子部を形成する工程と、
第2基板の一方の面に第2表示素子部を形成する工程と、
前記第2基板の他方の面において割断線に重なることなく前記第2表示素子部と対向するシールド電極を形成する工程と、
前記第1表示素子部または前記第2表示素子部を囲むようにシール材を塗布する工程と、
前記第1表示素子部と前記第2表示素子部とが向かい合うように前記第1基板と前記第2基板とを貼り合わせる工程と、
前記第2基板の前記実装部の対向する領域を割断線に沿って割断する工程と、を経て形成された液晶表示装置であって、
前記シールド電極は、前記第2基板の他方の面において、前記第2基板の少なくとも一辺に沿った端部を露出するように配置されていることを特徴とする液晶表示装置。
Forming a mounting portion and a first display element portion on one surface of the first substrate;
Forming a second display element portion on one surface of the second substrate;
Forming a shield electrode facing the second display element portion without overlapping the breaking line on the other surface of the second substrate;
Applying a sealing material so as to surround the first display element unit or the second display element unit;
Bonding the first substrate and the second substrate so that the first display element unit and the second display element unit face each other;
A step of cleaving the opposing region of the mounting portion of the second substrate along a cleaving line, and a liquid crystal display device formed through
The liquid crystal display device, wherein the shield electrode is disposed on the other surface of the second substrate so as to expose an end portion along at least one side of the second substrate.
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