JP5062758B2 - Storage system and semiconductor storage device used therefor - Google Patents

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Description

この発明は、記憶システムおよびそれに用いられる半導体記憶装置に関し、特に長期間のデータ記憶に耐え得る技術に関する。   The present invention relates to a storage system and a semiconductor storage device used therefor, and more particularly to a technique that can withstand long-term data storage.

近年の情報通信技術の急速な発展に伴って、大容量のデータを含むマルチメディアコンテンツを提供するサービスが普及しつつある。このようなマルチメディアコンテンツの提供形態の一つとして、従来のフィルムを用いて撮影や上映を行なう映画事業の形態に代えて、ディジタル情報を用いて撮影や上映を行なう「ディジタルシネマ」という形態が提案されている。このようなディジタルシネマについては、Digital Cinema Initiative,LLC(Limited Liability Company)などの標準化団体が設立されている。   With the rapid development of information communication technology in recent years, services that provide multimedia contents including large amounts of data are becoming popular. As one form of providing such multimedia content, there is a form called “digital cinema” in which shooting and screening is performed using digital information in place of the conventional film business that performs shooting and screening using film. Proposed. For such digital cinema, standardization organizations such as the Digital Cinema Initiative and LLC (Limited Liability Company) have been established.

このディジタルシネマでは、撮影時に映像をディジタル化した上で編集を行い、上映時には、各映画館へネットワークを介して配信するような形態が想定されている。このようにディジタルデータを用いることにより、フィルムの経年変化や上映による機械的な損傷による映像の劣化を防止することができる。   In this digital cinema, it is assumed that the video is digitized at the time of shooting and edited, and distributed at the time of screening to each movie theater. By using digital data in this way, it is possible to prevent image deterioration due to aging of the film or mechanical damage due to screening.

ところで、文化財としての価値もある映画コンテンツは、理想的には、恒久的に保存しておくことが要望されている。従来のフィルム映画では、たとえば1年毎にフィルムの焼き直しを行なうことによって、映画コンテンツ自体の品質を維持してきた。   By the way, ideally, movie contents that are also valuable as cultural assets are required to be stored permanently. In a conventional film movie, for example, the quality of movie content itself has been maintained by re-baking the film every year.

一方、ディジタル情報は、磁気テープ、磁気ディスク、光ディスク、光磁気ディスク、フラッシュメモリといった様々な記録媒体に格納されて記憶されるが、このような記録媒体自体にも寿命が存在する。たとえば、CD(Compact Disc)やDVD(Digital Versatile Disc)などの光ディスクでは、アルミニウムなどで形成される記録層が大気の侵入によって腐食するなどの理由から、その寿命は数10年程度であると言われている。また、磁気テープおよび磁気ディスク(たとえば、ハードディスクやフレキシブルディスク)などの磁気を用いてデータを記憶する方式の記録媒体では、磁気自体が時間の経過とともに自然に減衰し、また外界からの磁界の影響も受けやすいため、データ記憶を長期間保持することは事実上困難である。また、フラッシュメモリなどの電荷を用いてデータを記憶する方式の記録媒体においても、電荷自体が時間の経過とともに自然に減衰し、外界からの電界の影響も受けやすいため、データ記憶を長期間保持することは事実上困難である。   On the other hand, digital information is stored and stored in various recording media such as a magnetic tape, a magnetic disk, an optical disk, a magneto-optical disk, and a flash memory, and such a recording medium itself has a lifetime. For example, an optical disk such as a CD (Compact Disc) or a DVD (Digital Versatile Disc) is said to have a lifetime of several tens of years because a recording layer formed of aluminum or the like corrodes due to the intrusion of air. It has been broken. In addition, in recording media that store data using magnetism, such as magnetic tape and magnetic disks (for example, hard disks and flexible disks), the magnetism itself decays naturally over time, and the influence of magnetic fields from the outside world It is practically difficult to retain data storage for a long time. In addition, even in recording media that use data such as flash memory to store data, the charge itself decays naturally over time and is easily affected by the electric field from the outside. It is virtually difficult to do.

以上のように、現在普及しているこれらの記録媒体では、長期間のデータ保持が事実上不可能であり、従来のフィルムと同様に、所定期間毎の再複製処理が必要となる。   As described above, it is practically impossible to hold data for a long period of time with these currently used recording media, and re-duplication processing is required every predetermined period as in the case of a conventional film.

そこで、より長寿命な記録媒体として、マスクROM(Read Only Memory)などの半導体記憶装置が考えられる。このような半導体記憶装置は、物理的および化学的に安定なシリコンによって構成されるため、腐食などの影響を受け難い。たとえば、特開2006−237454号公報(特許文献1)には、このようなマスクROMの構成や製造方法が開示されている。
特開2006−237454号公報
Therefore, a semiconductor storage device such as a mask ROM (Read Only Memory) can be considered as a recording medium having a longer life. Since such a semiconductor memory device is made of physically and chemically stable silicon, it is hardly affected by corrosion or the like. For example, Japanese Patent Laying-Open No. 2006-237454 (Patent Document 1) discloses the configuration and manufacturing method of such a mask ROM.
JP 2006-237454 A

上述のような半導体記憶装置は、少量の不純物を含むシリコン層および金属層などを用いて電気回路を構成し、この電気回路に流れる電流量や電流の有無に基づいて、情報(ディジタルデータ)を記憶する。すなわち、半導体記憶装置から情報を読出すことは、半導体記憶装置からそこに記憶された情報に応じた電気信号が出力されることを意味する。そのため、半導体記憶装置には、情報読出しのためのインターフェイスとして、パッド部と呼ばれる金属製の入出力部が形成される。   The semiconductor memory device as described above forms an electric circuit using a silicon layer and a metal layer containing a small amount of impurities, and information (digital data) is obtained based on the amount of current flowing through the electric circuit and the presence or absence of the current. Remember. That is, reading information from the semiconductor memory device means that an electrical signal corresponding to the information stored therein is output from the semiconductor memory device. Therefore, in the semiconductor memory device, a metal input / output unit called a pad unit is formed as an interface for reading information.

しかしながら、通常のパッド部は大気中に露出しているので、このパッド部を介して、半導体記憶装置に形成された回路に腐食が生じるおそれがある。さらに、仮にパッド部に樹脂を充填したり、不活性ガスや真空環境下で維持管理したりすることで腐食を抑制できたとしても、情報を読出すためにパッド部と接触する金属端子に、腐食や磨耗の問題が生じ得る。すなわち、情報の読出しを接触方式で実現する限り、腐食や磨耗の問題を回避することはできない。このような理由によって、半導体記憶装置に恒久的に情報を記憶することは難しい。   However, since the normal pad portion is exposed to the atmosphere, the circuit formed in the semiconductor memory device may be corroded through the pad portion. In addition, even if corrosion can be suppressed by filling the pad part with resin or maintaining it under inert gas or vacuum environment, to the metal terminal that contacts the pad part to read information, Corrosion and wear problems can occur. That is, the problem of corrosion and wear cannot be avoided as long as information is read out by a contact method. For this reason, it is difficult to permanently store information in the semiconductor memory device.

そこで、この発明は、かかる課題を解決するためになされたものであり、その目的は、従来の半導体記憶装置に比較して長寿命化を図った記憶システムおよびそれに用いられる半導体記憶装置を提供することである。   SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems, and an object of the present invention is to provide a storage system that has a longer life than a conventional semiconductor memory device and a semiconductor memory device used therefor. That is.

この発明のある局面に従えば、複数の半導体記憶装置とデータ読出装置とからなる記憶システムを提供する。複数の半導体記憶装置は、所定の規則に従って近接配置される。複数の半導体記憶装置の各々は、光透過性の基板と、基板を透過する光を受けて電力を発生する電力発生部と、基板上に配置され、不揮発的にデータを格納する不揮発性記憶部と、基板上に配置され、電力発生部からの電力を受けて不揮発性記憶部に格納されたデータを自装置に隣接する半導体記憶装置へ無線伝送する通信部と、電力発生部、不揮発性記憶部、通信部の露出面を覆う封止膜とを含む。データ読出装置は、複数の半導体記憶装置へ光を照射する光照射部と、近接配置された複数の半導体記憶装置の少なくとも1つに近接して設けられ、当該半導体記憶装置が無線伝送するデータを受信する読出部とを含む。   According to an aspect of the present invention, a storage system including a plurality of semiconductor storage devices and a data reading device is provided. The plurality of semiconductor memory devices are arranged close to each other according to a predetermined rule. Each of the plurality of semiconductor storage devices includes a light transmissive substrate, a power generation unit that receives light transmitted through the substrate and generates power, and a nonvolatile storage unit that is disposed on the substrate and stores data in a nonvolatile manner A communication unit that is disposed on the substrate and that receives power from the power generation unit and wirelessly transmits data stored in the nonvolatile storage unit to a semiconductor storage device adjacent to the device, a power generation unit, and a nonvolatile storage And a sealing film that covers the exposed surface of the communication unit. The data reading device is provided in proximity to at least one of the light irradiating unit for irradiating light to the plurality of semiconductor storage devices and the plurality of semiconductor storage devices arranged in proximity to each other, and transmits the data wirelessly transmitted by the semiconductor storage device And a reading unit for receiving.

好ましくは、通信部は、自装置に隣接する半導体記憶装置から受信したデータを自装置に隣接する別の半導体記憶装置へ転送する。   Preferably, the communication unit transfers data received from the semiconductor memory device adjacent to the own device to another semiconductor memory device adjacent to the own device.

さらに好ましくは、通信部は、自装置に隣接する半導体記憶装置から受信したデータを転送した後に、不揮発性記憶部に格納されたデータを当該転送先に送信する。   More preferably, the communication unit transmits the data stored in the non-volatile storage unit to the transfer destination after transferring the data received from the semiconductor storage device adjacent to the communication unit.

また、さらに好ましくは、基板は、略円板状であり、通信部は、自装置に隣接する半導体記憶装置からデータを受信するための受信部と、自装置に隣接する別の半導体記憶装置へデータを送信するための送信部とを含み、受信部と送信部とは、略円板状の基板上でその中心について所定の円周角だけ離れて形成されており、複数の半導体記憶装置は、その円周中心が同一直線上になるように配置されるとともに、隣接する半導体記憶装置間において、一方の受信部と他方の送信部とが近接するように配置される。   More preferably, the substrate has a substantially disk shape, and the communication unit is connected to a receiving unit for receiving data from a semiconductor memory device adjacent to the own device and another semiconductor memory device adjacent to the own device. A transmission unit for transmitting data, and the reception unit and the transmission unit are formed on a substantially disk-shaped substrate and separated from each other by a predetermined circumferential angle, and a plurality of semiconductor memory devices The circumferential centers are arranged on the same straight line, and one receiving unit and the other transmitting unit are arranged close to each other between adjacent semiconductor memory devices.

好ましくは、複数の半導体記憶装置は、各半導体記憶装置が複数の半導体記憶装置と近接するように配置されており、通信部は、自装置に隣接する半導体記憶装置との間でデータ送信およびデータ受信が可能な送受信部を複数含んでおり、送受信部の各々は、自装置に隣接する半導体記憶装置との間でアドホックネットワークを確立する。   Preferably, the plurality of semiconductor memory devices are arranged so that each semiconductor memory device is close to the plurality of semiconductor memory devices, and the communication unit transmits and receives data to and from the semiconductor memory device adjacent to the semiconductor memory device. A plurality of transmission / reception units capable of reception are included, and each of the transmission / reception units establishes an ad hoc network with a semiconductor memory device adjacent to the own device.

好ましくは、封止膜は、二酸化シリコン膜である。
この発明の別の局面に従えば、所定の規則に従って近接配置された複数の半導体記憶装置からなる記憶システムに用いられる半導体記憶装置を提供する。半導体記憶装置は、光透過性の基板と、基板を透過する光を受けて電力を発生する電力発生部と、基板上に配置され、不揮発的にデータを格納する不揮発性記憶部と、基板上に配置され、電力発生部からの電力を受けて不揮発性記憶部に格納されたデータを自装置に隣接する半導体記憶装置へ無線伝送する通信部と、電力発生部、不揮発性記憶部、通信部の露出面を覆う封止膜とを含む。
Preferably, the sealing film is a silicon dioxide film.
According to another aspect of the present invention, there is provided a semiconductor memory device used in a memory system including a plurality of semiconductor memory devices arranged in close proximity according to a predetermined rule. A semiconductor storage device includes a light-transmitting substrate, a power generation unit that generates light by receiving light transmitted through the substrate, a nonvolatile storage unit that is disposed on the substrate and stores data in a nonvolatile manner, A communication unit that receives power from the power generation unit and wirelessly transmits data stored in the non-volatile storage unit to a semiconductor storage device adjacent to the device, a power generation unit, a non-volatile storage unit, and a communication unit And a sealing film covering the exposed surface.

この発明のさらに別の局面に従えば、複数の半導体記憶装置とデータ読出装置とからなる記憶システムを提供する。複数の半導体記憶装置は、所定の規則に従って近接配置されている。複数の半導体記憶装置の各々は、基板と、基板上に配置され、不揮発的にデータを格納する不揮発性記憶部と、基板上に配置され、外部から非接触状態で供給されるエネルギーを受けて内部電力を発生する電力発生部と、基板上に配置され、内部電力を受けて自装置に隣接する半導体記憶装置との間で無線信号を用いてデータを送受信可能な通信部と、電力発生部、不揮発性記憶部、通信部の露出面を覆う封止膜とを含む。通信部は、自装置に隣接する半導体記憶装置からデータを受信すると、当該受信データを自装置に隣接する別の半導体記憶装置へ転送する。データ読出装置は、近接配置された複数の半導体記憶装置の少なくとも1つに近接して設けられ、当該半導体記憶装置が転送するデータを受信する読出部を含む。   According to still another aspect of the present invention, a storage system including a plurality of semiconductor storage devices and a data reading device is provided. The plurality of semiconductor memory devices are arranged in close proximity according to a predetermined rule. Each of the plurality of semiconductor memory devices receives a substrate, a non-volatile memory unit that is disposed on the substrate and stores data in a non-volatile manner, and energy that is disposed on the substrate and is supplied in a non-contact state from the outside. A power generation unit that generates internal power, a communication unit that is disposed on the substrate and that can receive and transmit data using a wireless signal between the semiconductor storage device and the semiconductor storage device adjacent to the device, and the power generation unit , A non-volatile memory part, and a sealing film covering the exposed surface of the communication part. When the communication unit receives data from the semiconductor memory device adjacent to the own device, the communication unit transfers the received data to another semiconductor memory device adjacent to the own device. The data reading device includes a reading unit that is provided in proximity to at least one of the plurality of semiconductor memory devices arranged in proximity and receives data transferred by the semiconductor memory device.

好ましくは、通信部は、自装置に隣接する半導体記憶装置から受信したデータを転送した後に、不揮発性記憶部に格納されたデータを当該転送先に送信する。   Preferably, the communication unit transmits the data received from the semiconductor storage device adjacent to the own device, and then transmits the data stored in the nonvolatile storage unit to the transfer destination.

好ましくは、複数の半導体記憶装置は、各半導体記憶装置が複数の半導体記憶装置と近接するように配置されており、通信部は、自装置に隣接する半導体記憶装置との間でデータ送信およびデータ受信が可能な送受信部を複数含んでおり、送受信部の各々は、自装置に隣接する半導体記憶装置との間でアドホックネットワークを確立する。   Preferably, the plurality of semiconductor memory devices are arranged so that each semiconductor memory device is close to the plurality of semiconductor memory devices, and the communication unit transmits and receives data to and from the semiconductor memory device adjacent to the semiconductor memory device. A plurality of transmission / reception units capable of reception are included, and each of the transmission / reception units establishes an ad hoc network with a semiconductor memory device adjacent to the own device.

好ましくは、基板は、光透過性の基板であり、電力発生部は、基板を透過する光を受けて電力を発生する太陽電池であり、データ読出装置は、複数の半導体記憶装置へ光を照射する光照射部をさらに含む。   Preferably, the substrate is a light-transmitting substrate, the power generation unit is a solar cell that generates power by receiving light transmitted through the substrate, and the data reading device irradiates light to a plurality of semiconductor memory devices. A light irradiating unit to be further included.

好ましくは、データ読出装置は、複数の半導体記憶装置へ交番磁束を供給する磁束供給部をさらに含み、電力発生部は、交番磁束と鎖交する位置に形成されたコイルと、コイルが交番磁束と鎖交することで生じる起電力から内部電力を生成する電源回路とを含む。   Preferably, the data reading device further includes a magnetic flux supply unit that supplies an alternating magnetic flux to the plurality of semiconductor memory devices, and the power generation unit includes a coil formed at a position interlinking with the alternating magnetic flux, and the coil is an alternating magnetic flux. And a power supply circuit that generates internal power from electromotive force generated by linking.

この発明のさらに別の局面に従えば、所定の規則に従って近接配置された複数の半導体記憶装置からなる記憶システムに用いられる半導体記憶装置を提供する。半導体記憶装置は、基板と、基板上に配置され、不揮発的にデータを格納する不揮発性記憶部と、基板上に配置され、外部から非接触状態で供給されるエネルギーを受けて内部電力を発生する電力発生部と、基板上に配置され、内部電力を受けて自装置に隣接する半導体記憶装置との間で無線信号を用いてデータを送受信可能な通信部と、電力発生部、不揮発性記憶部、通信部の露出面を覆う封止膜とを含む。通信部は、自装置に隣接する半導体記憶装置からデータを受信すると、当該受信データを自装置に隣接する別の半導体記憶装置へ転送する。   According to still another aspect of the present invention, there is provided a semiconductor memory device used in a memory system including a plurality of semiconductor memory devices arranged close to each other according to a predetermined rule. A semiconductor storage device is disposed on a substrate, a nonvolatile storage unit that stores data in a non-volatile manner, and is disposed on the substrate to generate internal power by receiving energy supplied in a non-contact state from the outside. A power generating unit, a communication unit arranged on the substrate and receiving internal power and capable of transmitting and receiving data using a wireless signal between the semiconductor memory device adjacent to the device, a power generating unit, and a non-volatile memory And a sealing film that covers the exposed surface of the communication unit. When the communication unit receives data from the semiconductor memory device adjacent to the own device, the communication unit transfers the received data to another semiconductor memory device adjacent to the own device.

この発明によれば、従来の半導体記憶装置に比較して長寿命化を図った記憶システムおよびそれに用いられる半導体記憶装置を実現できる。   According to the present invention, it is possible to realize a storage system and a semiconductor storage device used therefor that have a longer life than a conventional semiconductor storage device.

この発明の実施の形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、図中の同一または相当部分については、同一符号を付してその説明は繰返さない。   Embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. Note that the same or corresponding parts in the drawings are denoted by the same reference numerals and description thereof will not be repeated.

[実施の形態1]
図1は、この発明の実施の形態1に従う記憶システム300の外観図である。
[Embodiment 1]
FIG. 1 is an external view of a storage system 300 according to the first embodiment of the present invention.

図1を参照して、本実施の形態に従う記憶システム300は一種のデータ蓄積装置として機能する。具体的には、記憶システム300の側面には、複数の挿入口300aが形成されており、複数の半導体記憶装置100が受入可能に構成されている。そして、記憶システム300は、これらの半導体記憶装置100から必要な情報を読出して図示しない外部装置へ出力する。なお、記憶システム300が受入可能な半導体記憶装置100の数は、一度に読出すべきデータ速度や蓄積すべきデータ量などに応じて適宜設計される。   Referring to FIG. 1, storage system 300 according to the present embodiment functions as a kind of data storage device. Specifically, a plurality of insertion openings 300a are formed on the side surface of the storage system 300, and a plurality of semiconductor storage devices 100 can be received. Then, the storage system 300 reads out necessary information from these semiconductor storage devices 100 and outputs it to an external device (not shown). Note that the number of semiconductor memory devices 100 that can be received by the storage system 300 is appropriately designed according to the data speed to be read at one time, the amount of data to be stored, and the like.

代表的な適用例として、本実施の形態に従う半導体記憶装置100の各々は、絵画や映画などの文化財としても価値のあるデータを格納する記憶媒体として利用される。なお、記憶システム300には、任意の半導体記憶装置100を挿入することが可能であるので、多数の半導体記憶装置100のうち、必要なものだけを記憶システム300に挿入するようにしてもよい。   As a typical application example, each of semiconductor storage devices 100 according to the present embodiment is used as a storage medium for storing data that is also valuable as a cultural asset such as a picture or a movie. Since any semiconductor storage device 100 can be inserted into the storage system 300, only a necessary one of the multiple semiconductor storage devices 100 may be inserted into the storage system 300.

後述するように、記憶システム300に挿入された半導体記憶装置100の各々から読出されたデータは、無線信号によって、記憶システム300側へ伝送される。   As will be described later, data read from each of the semiconductor storage devices 100 inserted into the storage system 300 is transmitted to the storage system 300 side by radio signals.

図2は、図1に示す記憶システム300の模式的な断面構造を示す概略図である。なお、図2には、簡略化のため、3つの挿入口だけが形成されている構成を示すが、実際には、挿入口の数に応じて必要な構成が適宜設けられる。   FIG. 2 is a schematic diagram showing a schematic cross-sectional structure of the storage system 300 shown in FIG. FIG. 2 shows a configuration in which only three insertion ports are formed for the sake of simplification, but actually, a necessary configuration is appropriately provided according to the number of insertion ports.

図2を参照して、記憶システム300は、制御部10と、複数の光照射部20と、複数の受信部30と、インターフェイス部12とを含む。記憶システム300には、その側面部に半導体記憶装置100を挿入するための挿入口が複数形成されている。各挿入口の下面側および上面側には、それぞれ光照射部20および受信部30が配置されている。   With reference to FIG. 2, the storage system 300 includes a control unit 10, a plurality of light irradiation units 20, a plurality of reception units 30, and an interface unit 12. In the storage system 300, a plurality of insertion openings for inserting the semiconductor storage device 100 are formed in the side surface portion. A light irradiation unit 20 and a reception unit 30 are disposed on the lower surface side and the upper surface side of each insertion port, respectively.

光照射部20の各々は、対応する半導体記憶装置100へ非接触でエネルギーを供給するエネルギー供給部であり、代表的にLED(Light Emitting Diode)などの光源装置を含む。より具体的には、光照射部20の各々は、図示しない電源部からの電力を受けて光を発生し、この発生した光を紙面下側から半導体記憶装置100へ向けて照射する。受信部30の各々は、対応する半導体記憶装置100が光照射部20からの光を受けて送信するデータを受信し、その受信したデータを制御部10へ出力する。制御部10は、CPUやRAM(Random Access Memory)などを含んで構成されており、それぞれの受信部30から出力されるデータを受信して所定の処理を実行する。インターフェイス部12は、制御部10で所定の処理が行なわれた後に生成される読出しデータを図示しない外部装置へ出力するための部位であり、代表的に、イーサネット(登録商標)、USB(Universal Serial Bus)、IEEE(Institute of Electrical and Electronic Engineers)1394、SCSI(Small Computer System Interface)、RS−232Cといった有線インターフェイス、もしくは無線LAN(Local Area Network)やBluetooth(登録商標)といった無線インターフェイスなどからなる。   Each of the light irradiation units 20 is an energy supply unit that supplies energy to the corresponding semiconductor memory device 100 in a non-contact manner, and typically includes a light source device such as an LED (Light Emitting Diode). More specifically, each of the light irradiation units 20 receives light from a power supply unit (not shown) to generate light, and irradiates the generated light toward the semiconductor memory device 100 from the lower side of the drawing. Each of the receiving units 30 receives data transmitted by the corresponding semiconductor storage device 100 receiving light from the light irradiation unit 20, and outputs the received data to the control unit 10. The control unit 10 includes a CPU, a RAM (Random Access Memory), and the like. The control unit 10 receives data output from each receiving unit 30 and executes predetermined processing. The interface unit 12 is a part for outputting read data generated after predetermined processing is performed by the control unit 10 to an external device (not shown), and typically includes an Ethernet (registered trademark), a USB (Universal Serial). Bus), IEEE (Institute of Electrical and Electronic Engineers) 1394, SCSI (Small Computer System Interface), RS-232C, wired interface such as wireless LAN (Local Area Network) and Bluetooth (registered trademark).

図3は、この発明の実施の形態1に従う半導体記憶装置100の模式図である。
図3を参照して、半導体記憶装置100は、基板102上に複数の記憶セル120が形成される。基板102は、シリコンやガラスといった物理化学的に安定な絶縁物からなり、本実施の形態においては、代表的に光透過性のガラスからなる構成について例示する。さらに、複数の記憶セル120の露出面は全面にわたって封止膜によって覆われている。この封止膜は、代表的に、二酸化シリコン膜などの物理化学的に安定な絶縁物からなる。
FIG. 3 is a schematic diagram of semiconductor memory device 100 according to the first embodiment of the present invention.
Referring to FIG. 3, semiconductor memory device 100 has a plurality of memory cells 120 formed on substrate 102. The substrate 102 is made of a physicochemically stable insulator such as silicon or glass. In the present embodiment, a structure typically made of light-transmitting glass is exemplified. Furthermore, the exposed surfaces of the plurality of memory cells 120 are entirely covered with a sealing film. This sealing film is typically made of a physicochemically stable insulator such as a silicon dioxide film.

記憶セル120の各々は、予めデータを格納しており、後述するように、半導体記憶装置100の外部から非接触状態でエネルギーを受けて、当該記憶するデータを無線信号として順次送信(応答)する。なお、図3では、複数の記憶セル120が形成される構成をより明確に示すために、各記憶セル120が区画された模式図を示すが、記憶セル120は必ずしも明確に区画されている必要はない。   Each storage cell 120 stores data in advance, and receives energy from the outside of the semiconductor storage device 100 in a non-contact state and sequentially transmits (responds) the stored data as a radio signal, as will be described later. . Note that FIG. 3 shows a schematic diagram in which each memory cell 120 is partitioned in order to more clearly show a configuration in which a plurality of memory cells 120 are formed. However, the memory cells 120 need not be clearly partitioned. There is no.

図4は、この発明の実施の形態1に従う半導体記憶装置100と受信部30の機能構成を示すブロック図である。   FIG. 4 is a block diagram showing functional configurations of semiconductor memory device 100 and receiving unit 30 according to the first embodiment of the present invention.

図4を参照して、半導体記憶装置100を構成する記憶セル120の各々は、太陽電池50と、制御回路60と、マスクROM70と、送信回路80と、アンテナ90とを含む。   Referring to FIG. 4, each of memory cells 120 configuring semiconductor memory device 100 includes a solar cell 50, a control circuit 60, a mask ROM 70, a transmission circuit 80, and an antenna 90.

太陽電池50は、基板102(図3)側に形成され、光照射部20から照射され、基板102(図3)を透過して内部に侵入した光を受光して内部電力を発生する。そして、太陽電池50は、この発生した内部電力を制御回路60および送信回路80へ供給する。   The solar cell 50 is formed on the substrate 102 (FIG. 3) side, receives the light irradiated from the light irradiation unit 20 and transmitted through the substrate 102 (FIG. 3), and generates internal power. The solar cell 50 supplies the generated internal power to the control circuit 60 and the transmission circuit 80.

制御回路60は、太陽電池50からの電力供給が開始されると、マスクROM70から所定の周期でデータを読出して、送信回路80へ出力する。特に、制御回路60はカウンタ回路60aを含み、このカウンタ回路60aは、太陽電池50から内部電力を供給されると、そのカウント値をリセットして、所定の周期でカウントアップを開始する。制御回路60は、このカウントアップされるカウント値に従って、マスクROM70の所定のアドレス(番地)を順次指定して、データの読出しを行なう。なお、マスクROM70の全アドレスの読出しが終了すると、制御回路60は、マスクROM70の最初のアドレスからのデータ読出しを繰返す。すなわち、制御回路60は、太陽電池50から電力を供給されている限り、マスクROM70からのデータ読出しをサイクリックに繰返す。   When power supply from the solar cell 50 is started, the control circuit 60 reads data from the mask ROM 70 at a predetermined cycle and outputs the data to the transmission circuit 80. In particular, the control circuit 60 includes a counter circuit 60a. When the internal power is supplied from the solar cell 50, the counter circuit 60a resets the count value and starts counting up at a predetermined cycle. The control circuit 60 reads data by sequentially designating predetermined addresses (addresses) of the mask ROM 70 according to the counted up count value. When reading of all the addresses in the mask ROM 70 is completed, the control circuit 60 repeats data reading from the first address in the mask ROM 70. That is, as long as power is supplied from the solar cell 50, the control circuit 60 cyclically repeats data reading from the mask ROM 70.

マスクROM70は、格納すべきデータに応じた回路パターンを形成することで、データを不揮発的に記憶する不揮発性記憶部である。マスクROM70は、代表的に、データに応じた回路パターンを予め作成するとともに、ステッパーなどを用いて基板にその回路パターンを転写することで形成される。   The mask ROM 70 is a nonvolatile storage unit that stores data in a nonvolatile manner by forming a circuit pattern corresponding to the data to be stored. The mask ROM 70 is typically formed by creating a circuit pattern according to data in advance and transferring the circuit pattern to a substrate using a stepper or the like.

なお、マスクROM70に代えて、事後的にプログラム可能なPROM(Programmable Read Only Memory)を用いてもよい。このようなPROMとしては、半導体記憶装置100の外部からレーザを照射して、必要なデータに対応する回路を形成することでデータ記憶可能な、レーザPROMやヒューズ式PROMなどが知られている。また、特表2005−504434号公報などに開示されているようなPROMを用いてもよい。   Instead of the mask ROM 70, a PROM (Programmable Read Only Memory) that can be programmed afterwards may be used. As such a PROM, a laser PROM, a fuse-type PROM, or the like that can store data by irradiating a laser from the outside of the semiconductor memory device 100 to form a circuit corresponding to necessary data is known. Moreover, you may use PROM as disclosed by the Japanese translations of PCT publication No. 2005-504434.

送信回路80は、太陽電池50からの電力を受けて、制御回路60によってマスクROM70から読出されるデータに応じた変調信号を生成する。そして、送信回路80は、この変調信号によってアンテナ90を励起する。   The transmission circuit 80 receives electric power from the solar battery 50 and generates a modulation signal corresponding to data read from the mask ROM 70 by the control circuit 60. Then, the transmission circuit 80 excites the antenna 90 with this modulated signal.

アンテナ90は、代表的に基板上にループ状に形成された金属配線によって形成され、送信回路80からの変調信号を受けて無線信号を送信する。本実施の形態に従う半導体記憶装置100は、複数の記憶セル120を含むので、各記憶セル120から送信された無線信号を識別できるように、それぞれから送信される無線信号の搬送波周波数が異なるようにアンテナ90が形成される。具体的には、各アンテナ90は、それを構成する配線長、配線幅、隣接する配線間の距離などをそれぞれ調整されることでインピーダンス値が可変となる、このインピーダンス値を可変にすることでそれぞれの同調周波数が異なるように形成される。これにより、各記憶セル120から送信される無線信号の周波数を互いに識別できるようになる。   The antenna 90 is typically formed of a metal wiring formed in a loop shape on the substrate, and receives a modulation signal from the transmission circuit 80 and transmits a radio signal. Since semiconductor memory device 100 according to the present embodiment includes a plurality of memory cells 120, the carrier frequency of the radio signal transmitted from each memory cell 120 is different so that the radio signal transmitted from each memory cell 120 can be identified. An antenna 90 is formed. Specifically, each antenna 90 has a variable impedance value by adjusting a wiring length, a wiring width, a distance between adjacent wirings, and the like constituting the antenna 90. By making this impedance value variable, Each tuning frequency is formed to be different. Thereby, the frequency of the radio signal transmitted from each storage cell 120 can be identified from each other.

これに対して、記憶システム300の受信部30は、半導体記憶装置100の記憶セル120と対応するように複数の受信セル310を含む。受信セル310の各々は、半導体記憶装置100の対応する記憶セル120から送信される無線信号を受信し、この無線信号をデータに復号して、制御部10(図2)へ出力する。   On the other hand, the receiving unit 30 of the storage system 300 includes a plurality of receiving cells 310 so as to correspond to the storage cells 120 of the semiconductor storage device 100. Each of the reception cells 310 receives a radio signal transmitted from the corresponding storage cell 120 of the semiconductor memory device 100, decodes this radio signal into data, and outputs the data to the control unit 10 (FIG. 2).

受信セル310の各々は、アンテナ30aと、受信回路30bとを含む。アンテナ30aは、対応の記憶セル120のアンテナ90と整合するように構成されている。そのため、アンテナ30aの各々は、対応の記憶セル120のアンテナ90から送信された無線信号を選択的に受信することができる。すなわち、受信回路30bには特定の周波数をもつ無線信号だけが与えられる。受信回路30bは、接続されたアンテナ30aが無線信号を受信することによって誘起される電圧信号に対して、所定の復号処理を行なう。受信回路30bは、この復号処理によって得られたデータを順次出力する。以下では、各受信回路30bから順次出力されるデータをデータ列Ch1,Ch2,・・・とも記載する。   Each of the reception cells 310 includes an antenna 30a and a reception circuit 30b. The antenna 30a is configured to match the antenna 90 of the corresponding storage cell 120. Therefore, each of the antennas 30a can selectively receive a radio signal transmitted from the antenna 90 of the corresponding storage cell 120. That is, only a radio signal having a specific frequency is given to the receiving circuit 30b. The receiving circuit 30b performs a predetermined decoding process on the voltage signal induced when the connected antenna 30a receives a radio signal. The receiving circuit 30b sequentially outputs the data obtained by this decoding process. Hereinafter, data sequentially output from each receiving circuit 30b is also referred to as a data string Ch1, Ch2,.

図5は、この発明の実施の形態1に従う半導体記憶装置100の断面構造を示す模式図である。   FIG. 5 is a schematic diagram showing a cross-sectional structure of semiconductor memory device 100 according to the first embodiment of the present invention.

図5を参照して、半導体記憶装置100は、基板102と、反射防止膜122と、n型半導体層124と、p型半導体層126と、p+不純物半導体層128と、電極層130と、スルーホール132,134,136,138と、絶縁膜140,150とからなる。   Referring to FIG. 5, semiconductor memory device 100 includes substrate 102, antireflection film 122, n-type semiconductor layer 124, p-type semiconductor layer 126, p + impurity semiconductor layer 128, electrode layer 130, and through. The holes 132, 134, 136 and 138 and the insulating films 140 and 150 are formed.

具体的には、二酸化ケイ素を主成分とする光透過性のガラスからなる基板102上の所定領域に、n型半導体層124が形成される。n型半導体層124は、シリコンやゲルマニウムにn型の不純物をドープしたものである。このn型半導体層124の下層側には、反射防止膜122が形成される。また、このn型半導体層124の上層側には、p型半導体層126が形成される。さらに、p型半導体層126の上層側には、p+不純物半導体層128が形成される。すなわち、n型半導体層124、p型半導体層126、p+不純物半導体層128は、pn接合型の太陽電池セルを構成する。半導体記憶装置100の下側に位置する光照射部20(図2)から照射された光は、基板102を透過した後、反射防止膜122を経てn型半導体層124へ照射される。この光によってn型半導体層124では電子が励起し、n型半導体層124とp+不純物半導体層128との間には、照射光の量に応じた起電力が生じる。この起電力によって、各回路へ電力が供給される。   Specifically, the n-type semiconductor layer 124 is formed in a predetermined region on the substrate 102 made of light-transmitting glass containing silicon dioxide as a main component. The n-type semiconductor layer 124 is obtained by doping silicon or germanium with an n-type impurity. An antireflection film 122 is formed on the lower layer side of the n-type semiconductor layer 124. A p-type semiconductor layer 126 is formed on the upper layer side of the n-type semiconductor layer 124. Further, a p + impurity semiconductor layer 128 is formed on the upper layer side of the p-type semiconductor layer 126. That is, the n-type semiconductor layer 124, the p-type semiconductor layer 126, and the p + impurity semiconductor layer 128 constitute a pn junction solar cell. The light irradiated from the light irradiation unit 20 (FIG. 2) located on the lower side of the semiconductor memory device 100 passes through the substrate 102 and then is irradiated to the n-type semiconductor layer 124 through the antireflection film 122. This light excites electrons in the n-type semiconductor layer 124, and an electromotive force is generated between the n-type semiconductor layer 124 and the p + impurity semiconductor layer 128 according to the amount of irradiation light. Electric power is supplied to each circuit by this electromotive force.

この太陽電池の上層側には、制御回路60と、マスクROM70と、送信回路80、アンテナ90とが形成される。この太陽電池で発生した電力の一部は、n型半導体層124に接続されたスルーホール138と、p+不純物半導体層128の上層側に配置された電極層130に接続されたスルーホール134とを介して、制御回路60へ供給される。また、n型半導体層124に接続されたスルーホール136と、電極層130に接続されたスルーホール132とを介して、この太陽電池で発生した電力の一部は送信回路80へ供給される。   On the upper layer side of the solar cell, a control circuit 60, a mask ROM 70, a transmission circuit 80, and an antenna 90 are formed. Part of the electric power generated in this solar cell passes through a through hole 138 connected to the n-type semiconductor layer 124 and a through hole 134 connected to the electrode layer 130 disposed on the upper layer side of the p + impurity semiconductor layer 128. Via the control circuit 60. In addition, a part of the electric power generated in the solar cell is supplied to the transmission circuit 80 through the through hole 136 connected to the n-type semiconductor layer 124 and the through hole 132 connected to the electrode layer 130.

記憶セル120の太陽電池と隣接する記憶セルの太陽電池との間は、絶縁層140が形成されており、それぞれの記憶セル同士が電気的に絶縁された状態に維持される。   An insulating layer 140 is formed between the solar cell of the memory cell 120 and the solar cell of the adjacent memory cell, and the respective memory cells are maintained in an electrically insulated state.

さらに、半導体記憶装置100は、その表面を絶縁膜150によって封止されている。すなわち、半導体記憶装置100の表面は、その全面に渡って絶縁膜150で覆われており外気の侵入が遮断される。この絶縁膜150は、代表的に、物理化学的に安定なガラスや二酸化シリコンからなる。   Further, the surface of the semiconductor memory device 100 is sealed with an insulating film 150. That is, the surface of the semiconductor memory device 100 is covered with the insulating film 150 over the entire surface, so that intrusion of outside air is blocked. This insulating film 150 is typically made of physicochemically stable glass or silicon dioxide.

図1〜図5に示す構成と本願発明との対応関係については、基板102が「基板」に対応し、マスクROM70が「不揮発性記憶部」に対応し、太陽電池50が「電力発生部」に対応し、送信回路80が「送信部」に対応し、絶縁膜150が「封止膜」に対応し、光照射部20が「エネルギー供給部」に対応し、受信部30が「受信部」に対応する。   Regarding the correspondence relationship between the configuration shown in FIGS. 1 to 5 and the present invention, the substrate 102 corresponds to the “substrate”, the mask ROM 70 corresponds to the “nonvolatile storage portion”, and the solar cell 50 corresponds to the “power generation portion”. , The transmission circuit 80 corresponds to the “transmission unit”, the insulating film 150 corresponds to the “sealing film”, the light irradiation unit 20 corresponds to the “energy supply unit”, and the reception unit 30 corresponds to the “reception unit” ".

図6は、この発明の実施の形態1に従う半導体記憶装置100から読出されるデータの一例を説明するための図である。   FIG. 6 is a diagram for describing an example of data read from semiconductor memory device 100 according to the first embodiment of the present invention.

図6を参照して、半導体記憶装置100の各記憶セル120は、光照射部20(図2)から光照射が開始されると、その制御回路60に含まれるカウンタ回路60aがカウンタ値をリセットし、対応のマスクROM70の先頭アドレスから順次データの読出しを開始する。その結果、各記憶セル120からは、対応のマスクROM70の先頭アドレスから順次データ読出しが行なわれる。すなわち、いずれかの記憶セル120では、対応のマスクROMのアドレスADD0にあるデータが読出された後の、次のアドレスADD1にあるデータが読出され、以下、同様の手順でデータが読出される。   Referring to FIG. 6, in each memory cell 120 of semiconductor memory device 100, when light irradiation is started from light irradiation unit 20 (FIG. 2), counter circuit 60a included in its control circuit 60 resets the counter value. Then, data reading is sequentially started from the head address of the corresponding mask ROM 70. As a result, data is sequentially read from each memory cell 120 from the head address of the corresponding mask ROM 70. That is, in any memory cell 120, the data at the next address ADD1 is read after the data at the address ADD0 of the corresponding mask ROM is read, and then the data is read in the same procedure.

図7は、この発明の実施の形態1に従う記憶システム300の受信部30における制御構造の一例を示す機能ブロック図である。   FIG. 7 is a functional block diagram showing an example of a control structure in receiving unit 30 of storage system 300 according to the first embodiment of the present invention.

図7に示す制御構造は、記憶されるべき情報(データ列)を半導体記憶装置100の各記憶セル120にアドレス順に割り当てた場合において、当該記憶したデータを読出すための構成である。受信部30は、パラレル/シリアル変換部31と、誤り訂正回路32と、復号回路33とをその機能として含む。   The control structure shown in FIG. 7 is a configuration for reading the stored data when the information (data string) to be stored is assigned to each storage cell 120 of the semiconductor memory device 100 in the order of addresses. The receiving unit 30 includes a parallel / serial conversion unit 31, an error correction circuit 32, and a decoding circuit 33 as its functions.

パラレル/シリアル変換部31は、各記憶セル120から並列(パラレル)出力されるデータ列(Ch1,Ch2,…)を1次元のデータとして直列(シリアル)出力するための部位である。すなわち、パラレル/シリアル変換部31からは、Ch1の1番目データ、Ch2の1番目データ、…、Ch1の2番目データ、Ch2の2番目データ、…の順にデータ列が出力される。誤り訂正回路32は、パラレル/シリアル変換部31から出力されるデータ列に対して、所定の誤り訂正処理を行なう。このような誤り訂正方式としては、LDPC(Low Density Parity Check)と呼ばれる誤り訂正方式などを用いることができる。なお、このような誤り訂正を行なうためには、半導体記憶装置100に記憶されるべきデータに誤り訂正符号を付加した状態で、予め記憶セル120のマスクROM70の各々に記憶させるデータを決定する必要がある。なお、このような誤り訂正符号を付加することで、無線信号を送受信する構成の一部に故障などが生じても、確実なデータ読出しを実現できる。   The parallel / serial conversion unit 31 is a part for serially outputting a data string (Ch1, Ch2,...) Output in parallel (parallel) from each memory cell 120 as one-dimensional data. That is, the parallel / serial converter 31 outputs a data string in the order of the first data of Ch1, the first data of Ch2,..., The second data of Ch1, the second data of Ch2. The error correction circuit 32 performs a predetermined error correction process on the data string output from the parallel / serial converter 31. As such an error correction method, an error correction method called LDPC (Low Density Parity Check) can be used. In order to perform such error correction, it is necessary to determine data to be stored in each mask ROM 70 of the storage cell 120 in advance with an error correction code added to the data to be stored in the semiconductor memory device 100. There is. Note that by adding such an error correction code, reliable data reading can be realized even if a failure or the like occurs in a part of the configuration for transmitting and receiving wireless signals.

図8は、この発明の実施の形態1に従う記憶システム300の受信部30における制御構造の他の例を示す機能ブロック図である。   FIG. 8 is a functional block diagram showing another example of the control structure in receiving unit 30 of storage system 300 according to the first embodiment of the present invention.

図8に示す制御構造は、半導体記憶装置100の各記憶セル120に記憶するべき情報を割り当てて記憶した場合において、当該記憶したデータをランダムに読出すための構成である。受信部30は、複数のバッファ部34および36と、空間スイッチ35とを含む。   The control structure shown in FIG. 8 is a configuration for randomly reading the stored data when information to be stored is allocated and stored in each storage cell 120 of the semiconductor storage device 100. The receiving unit 30 includes a plurality of buffer units 34 and 36 and a space switch 35.

バッファ部34の各々は、対応の記憶セル120から順次読出されるデータを一時的に格納する。空間スイッチ35は、制御部10などからのアドレス信号に従って、それぞれのバッファ部34に格納されるデータを選択的に抽出するとともに、その抽出したデータを特定のバッファ部36へ出力する。すなわち、空間スイッチ35は、各記憶セル120からアドレス順に読出されるデータのうち、必要なデータを選択的に抽出して、特定のバッファ部36へ出力する。バッファ部36では、空間スイッチ35から出力されるデータを一時的に格納するとともに、所定量のデータを格納するとデータ列として出力する。このように、入力側および出力側にそれぞれ複数のバッファ部を設けることで、記憶セル120に格納されるデータをランダム読出したり、離散的に格納されるデータを結合して1つのデータ列として出力したりすることができる。   Each buffer unit 34 temporarily stores data sequentially read from the corresponding memory cell 120. The space switch 35 selectively extracts data stored in each buffer unit 34 according to an address signal from the control unit 10 or the like, and outputs the extracted data to a specific buffer unit 36. That is, the space switch 35 selectively extracts necessary data from the data read from each storage cell 120 in the order of addresses and outputs the data to a specific buffer unit 36. The buffer unit 36 temporarily stores data output from the space switch 35 and outputs a data string when a predetermined amount of data is stored. In this manner, by providing a plurality of buffer units on the input side and the output side, data stored in the memory cell 120 is randomly read out, or data stored discretely is combined and output as one data string. You can do it.

次に、本実施の形態に従う半導体記憶装置100のデータ記憶および使用形態について説明する。   Next, data storage and usage mode of semiconductor memory device 100 according to the present embodiment will be described.

図9は、この発明の実施の形態1に従う半導体記憶装置100を用いたデータ流通に係る処理手順の一例を示す図である。   FIG. 9 shows an example of a processing procedure related to data distribution using semiconductor memory device 100 according to the first embodiment of the present invention.

図10は、この発明の実施の形態1に従う半導体記憶装置100を用いたデータ流通に係る処理手順の別形態を示す図である。   FIG. 10 shows another form of the processing procedure related to data distribution using semiconductor memory device 100 according to the first embodiment of the present invention.

図9には、半導体記憶装置100の製造時に、データ所有者(代表的には、著作権者)の管理下でデータの格納まで行なう形態を示す。具体的には、半導体記憶装置100を形成するために、基板102上に太陽電池の形成(ステップS101)、太陽電池の上層に各回路の形成(ステップS102)、形成した回路の表面を除く他の部位のグラシベーション化(ステップS103)を順に行なう。なお、グラシベーション化とは、絶縁膜などの封止膜を形成する処理を意味する。ここで、形成した回路の表面をグラシベーションしなかった理由は、マスクROMへのデータ書き込みを可能な状態に維持するためである。   FIG. 9 shows a form in which data storage is performed under the control of the data owner (typically the copyright holder) when the semiconductor memory device 100 is manufactured. Specifically, in order to form the semiconductor memory device 100, a solar cell is formed on the substrate 102 (step S101), each circuit is formed on the upper layer of the solar cell (step S102), and the surface of the formed circuit is excluded. The parts are subjected to grabbing (step S103) in order. Note that “grabbing” means a process of forming a sealing film such as an insulating film. Here, the reason why the surface of the formed circuit was not grabbed is to maintain a state in which data can be written to the mask ROM.

このように半導体記憶装置100が形成されると、データ所有者の管理下において、格納すべきデータに応じたマスクROMへのパターン成形が行なわれ(ステップS104)、さらに、半導体記憶装置100の露出面に対してグラシベーションが行なわれる(ステップS105)。この時点で、半導体記憶装置100はその全面にわたってパッケージ化される。そして、このデータが格納された半導体記憶装置100は、ユーザへ頒布される。   When the semiconductor memory device 100 is formed in this way, under the control of the data owner, pattern formation is performed on the mask ROM in accordance with the data to be stored (step S104), and further, the semiconductor memory device 100 is exposed. The surface is grabbed (step S105). At this point, the semiconductor memory device 100 is packaged over the entire surface. The semiconductor memory device 100 storing this data is distributed to the user.

ユーザへ頒布された半導体記憶装置100は、所定のデータ読出装置などを用いて、自由にデータ読出し可能な状態におかれる(ステップS106)。   The semiconductor memory device 100 distributed to the user is placed in a state where data can be freely read using a predetermined data reading device or the like (step S106).

一方、図10には、半導体記憶装置100の製造後に、データ所有者が任意にデータを格納する形態を示す。具体的には、まず、半導体記憶装置100を形成するために、基板102上に太陽電池の形成(ステップS101)、太陽電池の上層に各回路の形成(ステップS102)、形成した回路の表面を除く他の部位のグラシベーション化(ステップS103)を順に行なう。この時点で、半導体記憶装置100は、データ所有者へ供給される。   On the other hand, FIG. 10 shows a mode in which the data owner arbitrarily stores data after the semiconductor memory device 100 is manufactured. Specifically, first, in order to form the semiconductor memory device 100, a solar cell is formed on the substrate 102 (step S101), each circuit is formed on the upper layer of the solar cell (step S102), and the surface of the formed circuit is formed. Grabbing (step S103) is sequentially performed on the other parts except for the above. At this time, the semiconductor memory device 100 is supplied to the data owner.

データ所有者は、格納すべきデータに応じたマスクROMへのパターン成形を行なう(ステップS114)。マスクROMへの回路パターンの焼付けは、比較的大掛かりな装置が必要となるので、マスクROMをレーザPROMやヒューズ式PROMなどによって構成し、データ所有者がレーザなどを用いて、必要な回路パターンを成形すればよい。そして、データ所有者は、マスクROMへのパターン成形が完了すると、半導体記憶装置100の全面に対してグラシベーションを行なう(ステップS115)。そして、このデータが格納された半導体記憶装置100は、ユーザへ頒布される。   The data owner performs pattern formation on the mask ROM according to the data to be stored (step S114). Burning a circuit pattern onto a mask ROM requires a relatively large device, so the mask ROM is composed of a laser PROM, a fuse-type PROM, etc., and the data owner uses a laser to create the necessary circuit pattern. What is necessary is just to shape | mold. Then, when the data owner completes the pattern formation on the mask ROM, the data owner performs grabbation on the entire surface of the semiconductor memory device 100 (step S115). The semiconductor memory device 100 storing this data is distributed to the user.

ユーザへ頒布された半導体記憶装置100は、所定のデータ読出装置などを用いて、自由にデータ読出し可能な状態におかれる(ステップS106)。   The semiconductor memory device 100 distributed to the user is placed in a state where data can be freely read using a predetermined data reading device or the like (step S106).

本実施の形態によれば、基板上に、データを不揮発的に格納するマスクROMおよびこのマスクROMからのデータ読出しを行なうための周辺回路が形成された上、これらの露出面を物理化学的に安定な封止膜で覆う構造を採用する。これにより、大気による侵食を抑制して、そのデータ保持の長寿命化を実現することができる。   According to the present embodiment, a mask ROM for storing data in a nonvolatile manner and a peripheral circuit for reading data from the mask ROM are formed on the substrate, and these exposed surfaces are physicochemically treated. A structure that is covered with a stable sealing film is employed. As a result, it is possible to suppress the erosion caused by the atmosphere and to extend the life of the data retention.

また、本実施の形態によれば、外部から供給されるエネルギーを利用して読出し動作などを行なうため、回路構成を簡素化できる。さらに、光透過性を有するガラス基板を採用することにより、当該基板上に形成した太陽電池を用いて電力供給を行なうことができる。また、シリコン基板などはある程度の導電性を有しているが、ガラス基板は良好な絶縁体であるため、電磁波の吸収が少ないため透過性が高く、より少ない送信電力で効率的にデータ通信を行なうことができる。   In addition, according to the present embodiment, since a read operation or the like is performed using energy supplied from the outside, the circuit configuration can be simplified. Furthermore, by employing a light-transmitting glass substrate, power can be supplied using a solar cell formed on the substrate. Silicon substrates and other materials have a certain degree of electrical conductivity, but glass substrates are good insulators, so they have high transparency because they absorb less electromagnetic waves, enabling efficient data communication with less transmission power. Can be done.

[実施の形態1の変形例]
上述の実施の形態では、外部から照射される光を受けて内部電力を発生する太陽電池を含む半導体記憶装置について例示したが、パッシブ型の無線システムを搭載してもよい。
[Modification of Embodiment 1]
In the above-described embodiment, the semiconductor memory device including the solar cell that receives the light irradiated from the outside and generates internal power is illustrated, but a passive wireless system may be mounted.

図11は、この発明の実施の形態1の変形例に従う半導体記憶装置100Aと受信部30Aの機能構成を示すブロック図である。   FIG. 11 is a block diagram showing functional configurations of semiconductor memory device 100A and receiver 30A according to the modification of the first embodiment of the present invention.

図11を参照して、記憶セル120Aの各々は、図4に示す記憶セル120に比較して、太陽電池50を取り除いた上で、送信回路80に代えて送受信回路80Aを設け、かつ制御回路60に代えて制御回路60Aを設けたものである。この記憶セル120Aは、装置外部からの無線信号を受けると、その内部に格納するデータを応答する、パッシブ型の記憶媒体である。   Referring to FIG. 11, each of memory cells 120 </ b> A is provided with transmission / reception circuit 80 </ b> A in place of transmission circuit 80 and a control circuit after removing solar cell 50 as compared with storage cell 120 shown in FIG. 4. Instead of 60, a control circuit 60A is provided. The storage cell 120A is a passive storage medium that responds to data stored therein when receiving a radio signal from the outside of the apparatus.

より具体的には、対応の受信セル310Aからデータ読出しのための無線信号が送信されると、その無線信号はアンテナ90を介して送受信回路80Aによって受信される。送受信回路80Aは、受信セル310Aからの無線信号から電力および識別情報を取り出して、制御回路60Aへ供給する。制御回路60Aは、受信セル310Aからの電力を受けて活性化状態になり、受信セル310Aからの識別情報に従って、マスクROM70の所定のアドレスからデータの読出す。この読出されたデータは、送受信回路80Aへ出力される。送受信回路80Aは、アンテナ90で受信した無線信号の一部を利用して、この無線信号をマスクROM70から読出されたデータで変調して、再度送信を行なう。   More specifically, when a radio signal for data reading is transmitted from the corresponding reception cell 310A, the radio signal is received by the transmission / reception circuit 80A via the antenna 90. The transmission / reception circuit 80A extracts power and identification information from the radio signal from the reception cell 310A and supplies the power and identification information to the control circuit 60A. Control circuit 60A is activated upon receiving power from receiving cell 310A, and reads data from a predetermined address of mask ROM 70 in accordance with the identification information from receiving cell 310A. The read data is output to transmission / reception circuit 80A. The transmission / reception circuit 80A uses a part of the radio signal received by the antenna 90, modulates the radio signal with data read from the mask ROM 70, and performs transmission again.

これに対して、受信セル310Aは、アンテナ30aと送受信回路30cとを含む。送受信回路30cは、記憶セル120Aからデータを読出すための無線信号を生成して、アンテナ30aから送出するとともに、アンテナ30aによって受信された記憶セル120Aからの無線信号からデータを復号して出力する。   In contrast, reception cell 310A includes antenna 30a and transmission / reception circuit 30c. The transmission / reception circuit 30c generates a radio signal for reading data from the memory cell 120A, transmits the radio signal from the antenna 30a, and decodes and outputs the data from the radio signal from the memory cell 120A received by the antenna 30a. .

このようにして、本実施の形態の変形例に従う受信セル310Aは、記憶セル120Aからデータの読出しを行なう。   Thus, receiving cell 310A according to the modification of the present embodiment reads data from storage cell 120A.

本実施の形態によれば、上述の実施の形態1における効果と同様の効果を得られるとともに、半導体記憶装置100に無線信号により電力供給がされ、また無線信号によりデータが読出されるので、半導体記憶装置100の全面に意匠を施すこともできる。   According to the present embodiment, the same effect as in the first embodiment described above can be obtained, and power is supplied to semiconductor memory device 100 by a radio signal and data is read by the radio signal. A design can be applied to the entire surface of the storage device 100.

[実施の形態2]
図12は、この発明の実施の形態2に従う記憶システムを利用した構成の一例を示す外観図である。図12を参照して、本実施の形態に従う半導体記憶装置100は、一例として、携帯型ゲーム装置200で実行されるアプリケーションを格納する記録媒体として利用される。より具体的には、半導体記憶装置100は、携帯型ゲーム装置200のCPU(Central Processing Unit)などの演算装置で実行されるプログラムコードおよび各種データなどを不揮発的に格納しており、携帯型ゲーム装置200は、この半導体記憶装置100からデータを読出すためのデータ読出装置を含む。そして、半導体記憶装置100が携帯型ゲーム装置200に挿入されることによって、それらの情報が読出される。
[Embodiment 2]
FIG. 12 is an external view showing an example of a configuration using a storage system according to the second embodiment of the present invention. Referring to FIG. 12, semiconductor memory device 100 according to the present embodiment is used as a recording medium for storing an application executed on portable game device 200 as an example. More specifically, the semiconductor storage device 100 stores in a non-volatile manner a program code and various data that are executed by an arithmetic device such as a CPU (Central Processing Unit) of the portable game device 200, and the like. Device 200 includes a data reading device for reading data from semiconductor memory device 100. Then, when the semiconductor memory device 100 is inserted into the portable game device 200, such information is read out.

図13は、図12に示す携帯型ゲーム装置200の断面構造を示す概略図である。
図13を参照して、携帯型ゲーム装置200は、制御部10Aと、光照射部20と、受信部30と、電源部(BAT)40とを含む。携帯型ゲーム装置200には、その本体部側に半導体記憶装置100を挿入するための切欠部が形成されている。この切欠部の下面側および上面側には、それぞれ光照射部20および受信部30が配置されている。
FIG. 13 is a schematic diagram showing a cross-sectional structure of portable game device 200 shown in FIG.
Referring to FIG. 13, portable game device 200 includes a control unit 10 </ b> A, a light irradiation unit 20, a reception unit 30, and a power supply unit (BAT) 40. The portable game apparatus 200 has a notch for inserting the semiconductor memory device 100 on the main body side. A light irradiation unit 20 and a reception unit 30 are disposed on the lower surface side and the upper surface side of the notch, respectively.

光照射部20は、半導体記憶装置100へ非接触でエネルギーを供給するエネルギー供給部であり、電源部40からの電力から光を発生し、この発生した光を紙面下側から半導体記憶装置100へ向けて照射する。受信部30は、半導体記憶装置100が光照射部20からの光を受けて送信するデータを受信し、その受信したデータを制御部10Aへ出力する。制御部10Aは、CPUやRAMおよび表示回路などを含んで構成されており、受信部30から出力されるデータを受信して所定の処理を実行する。電源部40は、代表的に蓄電池からなり、光照射部20や制御部10Aへ駆動電力を供給する。   The light irradiation unit 20 is an energy supply unit that supplies energy to the semiconductor storage device 100 in a non-contact manner. The light irradiation unit 20 generates light from the power from the power supply unit 40 and transmits the generated light from the lower side of the drawing to the semiconductor storage device 100. Irradiate toward. The receiving unit 30 receives data transmitted by the semiconductor storage device 100 in response to light from the light irradiation unit 20, and outputs the received data to the control unit 10A. The control unit 10A includes a CPU, a RAM, a display circuit, and the like. The control unit 10A receives data output from the receiving unit 30 and executes predetermined processing. The power supply unit 40 typically includes a storage battery and supplies driving power to the light irradiation unit 20 and the control unit 10A.

その他の構成や処理については、上述の実施の形態1と同様であるので、詳細な説明は繰返さない。   Since other configurations and processes are the same as those in the first embodiment, detailed description will not be repeated.

本実施の形態によれば、上述の実施の形態1における効果と同様の効果を得られるとともに、半導体記憶装置100から非接触でデータが読出されるので、機械的な摩擦、化学的な錆の発生、および静電気による破損などに対する耐力が向上するという効果が得られる。また、解読(リバースエンジニアリング)や改造などに対する耐力も向上するという効果が得られる。   According to the present embodiment, the same effects as those in the first embodiment described above can be obtained, and data can be read out from the semiconductor memory device 100 in a non-contact manner. The effect of improving the resistance to occurrence and damage due to static electricity can be obtained. In addition, the effect of improving resistance to decoding (reverse engineering) and remodeling can be obtained.

上述の実施の形態1および2においては、予め方形状に成型された基板の上に回路が形成された構成について例示したが、より記憶容量を増大させる構成の一例として、結晶成長させた円板状のシリコンウェハに対して、本発明に係る半導体記憶装置を実現するための回路を形成してもよい。   In the first and second embodiments described above, the configuration in which the circuit is formed on the substrate molded in advance in a square shape is exemplified. However, as an example of the configuration for further increasing the storage capacity, a crystal-grown disc A circuit for realizing the semiconductor memory device according to the present invention may be formed on the silicon wafer having the shape.

[実施の形態3]
図14は、この発明の実施の形態3に従う記憶システム400の外観図である。図14を参照して、本実施の形態に従う記憶システム400は、複数の半導体記憶装置100Bと、これらの半導体記憶装置100Bを収納するラック410と、これらの半導体記憶装置100Bに光を照射する光照射部20Bと、一方端に位置する半導体記憶装置100Bに近接して配置された読出部30Bと、制御部10Bと、インターフェイス部12とを含む。なお、ラック410、光照射部20B、読出部30B、制御部10B、およびインターフェイス部12が「データ読出装置」として機能する。
[Embodiment 3]
FIG. 14 is an external view of a storage system 400 according to the third embodiment of the present invention. Referring to FIG. 14, a storage system 400 according to the present embodiment includes a plurality of semiconductor storage devices 100B, a rack 410 that houses these semiconductor storage devices 100B, and light that irradiates these semiconductor storage devices 100B. It includes an irradiation unit 20B, a reading unit 30B arranged close to the semiconductor memory device 100B located at one end, a control unit 10B, and an interface unit 12. The rack 410, the light irradiation unit 20B, the reading unit 30B, the control unit 10B, and the interface unit 12 function as a “data reading device”.

半導体記憶装置100Bの各々は、略円板状のシリコンウェハに、マスクROMなどの不揮発性記憶部と、マスクROMからのデータ読出しおよび無線伝送を行なう周辺回路と、太陽電池などの外部から非接触状態で供給されるエネルギーを受けて内部電力を発生する電力発生部とを設けたものである。ラック410には、所定の規則に従って、このような半導体記憶装置100Bが互いに近接して収納される。   Each of the semiconductor memory devices 100B includes a non-volatile storage unit such as a mask ROM, a peripheral circuit that performs data reading and wireless transmission from the mask ROM, and a non-contact from the outside such as a solar cell on a substantially disc-shaped silicon wafer. And a power generation unit that generates internal power in response to energy supplied in the state. In the rack 410, such semiconductor memory devices 100B are stored close to each other according to a predetermined rule.

本実施の形態に従う半導体記憶装置100Bは、代表的に、アドホック(ad-hoc)ネットワークのような、隣接する半導体記憶装置100Bの間で自律的な通信を行なうことが可能である。すなわち、本実施の形態に従う記憶システム400では、光照射部20Bからそれぞれの半導体記憶装置100Bへ向けて光の照射が開始されると、各半導体記憶装置100Bは、隣接する半導体記憶装置100Bから受信したデータを隣接する他の半導体記憶装置100Bへ無線伝送するとともに、各自の格納するデータについても隣接する半導体記憶装置100Bへ無線伝送する。この結果、半導体記憶装置100Bがそれぞれ格納しているデータは、半導体記憶装置100Bの配列規則に沿って、いずかの方向に順次伝送される。そして、この伝送方向の最下流側に位置する半導体記憶装置100Bから送信されるデータは、読出部30Bで受信され、制御部10Bを介してインターフェイス部12から外部出力される。   Semiconductor memory device 100B according to the present embodiment is typically capable of autonomous communication between adjacent semiconductor memory devices 100B such as an ad-hoc network. That is, in storage system 400 according to the present embodiment, when light irradiation is started from light irradiation unit 20B toward each semiconductor storage device 100B, each semiconductor storage device 100B receives from adjacent semiconductor storage device 100B. The transmitted data is wirelessly transmitted to another adjacent semiconductor memory device 100B, and the data stored therein is wirelessly transmitted to the adjacent semiconductor memory device 100B. As a result, the data respectively stored in the semiconductor memory device 100B is sequentially transmitted in any direction along the arrangement rule of the semiconductor memory device 100B. Data transmitted from the semiconductor memory device 100B located on the most downstream side in the transmission direction is received by the reading unit 30B and output from the interface unit 12 to the outside via the control unit 10B.

上述のように、本実施の形態に従う半導体記憶装置100Bは、自律的にデータを伝送するので、ラック410に収納する順序や数については何らの制約も受けることがなく、各半導体記憶装置100Bを隣接して配置する限り、必要に応じて半導体記憶装置100Bを追加や交換することが容易にできる。   As described above, since semiconductor storage device 100B according to the present embodiment autonomously transmits data, there is no restriction on the order and number of storage in rack 410, and each semiconductor storage device 100B is not limited. As long as they are arranged adjacent to each other, the semiconductor memory device 100B can be easily added or replaced as necessary.

光照射部20Bについては、その照射面積の点を除いて、上述の光照射部20と同様であるので、詳細な説明は繰返さない。また、インターフェイス部12についても、上述したので、詳細な説明は繰返さない。   The light irradiation unit 20B is the same as the above-described light irradiation unit 20 except for the irradiation area, and therefore detailed description will not be repeated. Since interface unit 12 has also been described above, detailed description thereof will not be repeated.

制御部10Bは、複数の半導体記憶装置100Bから順次送信されるデータをそのIDなどに基づいて区別した上で内部メモリ内などに一時的に蓄積し、外部要求などに応じて、必要なデータをインターフェイス部12から出力する。   The control unit 10B discriminates data sequentially transmitted from the plurality of semiconductor storage devices 100B based on their IDs, temporarily stores them in an internal memory or the like, and stores necessary data according to an external request or the like. Output from the interface unit 12.

図15は、この発明の実施の形態3に従う半導体記憶装置100Bの平面構造を示すブロック図である。図16は、図15に示す半導体記憶装置100BのXVI−XVI線断面図である。   FIG. 15 is a block diagram showing a planar structure of semiconductor memory device 100B according to the third embodiment of the present invention. 16 is a cross-sectional view of the semiconductor memory device 100B shown in FIG. 15 taken along the line XVI-XVI.

図15を参照して、半導体記憶装置100Bの各々は、太陽電池50Bと、制御回路60Bと、マスクROM70Bと、送信用のアンテナを含む送信回路42と、受信用のアンテナを含む受信回路44とを含む。なお、送信回路42および受信回路44は、「通信部」として機能する。これらの各部位は、光透過性の基板(ウェハ)上に形成されるとともに、その露出面は全面にわたって封止膜(代表的に、二酸化シリコン膜などの物理化学的に安定な絶縁物)によって覆われている。   Referring to FIG. 15, each of semiconductor memory devices 100B includes a solar cell 50B, a control circuit 60B, a mask ROM 70B, a transmission circuit 42 including a transmission antenna, and a reception circuit 44 including a reception antenna. including. The transmission circuit 42 and the reception circuit 44 function as a “communication unit”. Each of these parts is formed on a light-transmitting substrate (wafer), and its exposed surface is entirely covered with a sealing film (typically a physicochemically stable insulator such as a silicon dioxide film). Covered.

太陽電池50Bは、光透過性のウェハ上に馬蹄形に形成され、光照射部20B(図14)から照射される光を受光して内部電力を発生する。この発生した内部電力は、制御回路60B、送信回路42および受信回路44などへ供給される。本実施の形態に従う半導体記憶装置100Bは、他の半導体記憶装置100Bとその平面が互いに隣接するように配置される。そのような状態においても、光照射部20B(図14)からの光を有効に受光できるように、太陽電池50Bは、半導体記憶装置100Bの外周側に形成される。なお、図15には、太陽電池50Bが他の回路が形成される面とは反対の一方面に形成されている構成を示すが、より多くの内部電力を発生できるように、両面に形成されていてもよい。   The solar cell 50B is formed in a horseshoe shape on a light-transmitting wafer, receives light emitted from the light irradiation unit 20B (FIG. 14), and generates internal power. The generated internal power is supplied to the control circuit 60B, the transmission circuit 42, the reception circuit 44, and the like. Semiconductor memory device 100B according to the present embodiment is arranged such that the other semiconductor memory device 100B and its plane are adjacent to each other. Even in such a state, solar cell 50B is formed on the outer peripheral side of semiconductor memory device 100B so that light from light irradiation unit 20B (FIG. 14) can be received effectively. FIG. 15 shows a configuration in which solar cell 50B is formed on one surface opposite to the surface on which other circuits are formed, but it is formed on both surfaces so that more internal power can be generated. It may be.

制御回路60Bは、太陽電池50Bからの電力供給が開始されると、送信回路42および受信回路44と協働して、他の半導体記憶装置100Bとの間でアドホックネットワークを構成する。具体的には、制御回路60Bは、受信回路44が隣接する半導体記憶装置100Bから送信されたデータを受信すると、送信回路42から当該受信したデータを隣接する別の半導体記憶装置100Bへ送信する。すなわち、制御回路60Bは、自装置に隣接する半導体記憶装置100Bから別の隣接する半導体記憶装置100Bへデータを転送する中継装置として機能する。この中継動作に併せて、制御回路60Bは、マスクROM70Bからデータを読出して送信回路42へ出力することで、各自の格納するデータを他の半導体記憶装置100Bへ送信する。なお、より詳細な通信処理については、後述する。   When power supply from the solar battery 50B is started, the control circuit 60B cooperates with the transmission circuit 42 and the reception circuit 44 to form an ad hoc network with the other semiconductor memory device 100B. Specifically, when the receiving circuit 44 receives data transmitted from the adjacent semiconductor memory device 100B, the control circuit 60B transmits the received data from the transmitting circuit 42 to another adjacent semiconductor memory device 100B. That is, the control circuit 60B functions as a relay device that transfers data from the semiconductor memory device 100B adjacent to the own device to another adjacent semiconductor memory device 100B. In conjunction with this relay operation, the control circuit 60B reads the data from the mask ROM 70B and outputs it to the transmission circuit 42, thereby transmitting the data stored therein to the other semiconductor memory device 100B. Note that more detailed communication processing will be described later.

マスクROM70Bは、上述したマスクROM70などと同様の構成であるので、詳細な説明は繰返さない。   Since mask ROM 70B has the same configuration as mask ROM 70 described above, detailed description will not be repeated.

送信回路42は、太陽電池50Bからの電力を受けて、制御回路60BによってマスクROM70Bから読出されるデータに応じた変調信号を生成する。そして、送信回路42は、この変調信号によってアンテナ(図示しない)を励起することで、隣接する半導体記憶装置100Bへ無線信号(変調信号)を送信する。   The transmission circuit 42 receives electric power from the solar battery 50B and generates a modulation signal corresponding to data read from the mask ROM 70B by the control circuit 60B. Then, the transmission circuit 42 excites an antenna (not shown) with this modulated signal, thereby transmitting a radio signal (modulated signal) to the adjacent semiconductor memory device 100B.

受信回路44は、太陽電池50Bからの電力を受けて、他の半導体記憶装置100Bからアンテナ(図示しない)を介して無線信号を受信すると、当該無線信号をデータに復号して制御回路60Bへ出力する。   When the receiving circuit 44 receives power from the solar battery 50B and receives a radio signal from another semiconductor storage device 100B via an antenna (not shown), the receiving circuit 44 decodes the radio signal into data and outputs the data to the control circuit 60B. To do.

本実施の形態に従う半導体記憶装置100Bの各々では、無線信号の送信と無線信号の受信とが独立に行なわれるので、互いに無線信号が干渉しないように、送信回路42と受信回路44とは、そのウェハ面上で所定距離だけ離れて形成される。   In each of semiconductor memory devices 100B according to the present embodiment, transmission of the radio signal and reception of the radio signal are performed independently. Therefore, transmission circuit 42 and reception circuit 44 are arranged so that the radio signals do not interfere with each other. They are formed a predetermined distance apart on the wafer surface.

図16を参照して、半導体記憶装置100Bは、図5に示す実施の形態1に従う半導体記憶装置100と同様の断面構造を有しており、基板102と、反射防止膜122と、n型半導体層124と、p型半導体層126と、p+不純物半導体層128と、電極層130と、スルーホール136B,138Bと、絶縁膜140,150とからなる。   Referring to FIG. 16, semiconductor memory device 100B has the same cross-sectional structure as semiconductor memory device 100 according to the first embodiment shown in FIG. 5, and includes substrate 102, antireflection film 122, and n-type semiconductor. The layer 124 includes a p-type semiconductor layer 126, a p + impurity semiconductor layer 128, an electrode layer 130, through holes 136B and 138B, and insulating films 140 and 150.

具体的には、二酸化ケイ素を主成分とする光透過性のガラスからなる基板102上の所定領域に、太陽電池50Bが形成される。この太陽電池50Bでは、n型半導体層124、p型半導体層126、p+不純物半導体層128がpn接合型の太陽電池セルを構成する。そして、光照射部20B(図15)から照射された光は、基板102を透過した後、反射防止膜122を経てn型半導体層124へ照射される。この光によってn型半導体層124では電子が励起し、n型半導体層124とp+不純物半導体層128との間には、照射光の量に応じた起電力が生じる。この起電力によって、スルーホール136Bおよび138Bを通じて制御回路60B、受信回路44および送信回路42(図15)などへ電力が供給される。   Specifically, solar cell 50B is formed in a predetermined region on substrate 102 made of light-transmitting glass whose main component is silicon dioxide. In this solar cell 50B, the n-type semiconductor layer 124, the p-type semiconductor layer 126, and the p + impurity semiconductor layer 128 constitute a pn junction solar cell. Then, the light irradiated from the light irradiation unit 20B (FIG. 15) passes through the substrate 102, and then is irradiated to the n-type semiconductor layer 124 through the antireflection film 122. This light excites electrons in the n-type semiconductor layer 124, and an electromotive force is generated between the n-type semiconductor layer 124 and the p + impurity semiconductor layer 128 according to the amount of irradiation light. With this electromotive force, electric power is supplied to the control circuit 60B, the reception circuit 44, the transmission circuit 42 (FIG. 15) and the like through the through holes 136B and 138B.

図16に示すように、半導体記憶装置100Bでは、基板102および絶縁膜140で囲まれた領域に太陽電池50Bが形成されるとともに、絶縁膜140の上表面に形成される制御回路60Bなどの露出面は絶縁膜150によって封止されている。したがって、半導体記憶装置100Bの表面は、その全面に渡って物理化学的に安定なガラスや二酸化シリコンなどの絶縁膜で覆われており外気の侵入が遮断される。   As shown in FIG. 16, in the semiconductor memory device 100B, the solar cell 50B is formed in the region surrounded by the substrate 102 and the insulating film 140, and the control circuit 60B formed on the upper surface of the insulating film 140 is exposed. The surface is sealed with an insulating film 150. Therefore, the surface of the semiconductor memory device 100B is covered with an insulating film such as glass or silicon dioxide that is physicochemically stable over the entire surface, so that intrusion of outside air is blocked.

図17は、この発明の実施の形態3に従う記憶システム400におけるデータ伝送の状態を示す模式図である。   FIG. 17 is a schematic diagram showing a state of data transmission in storage system 400 according to the third embodiment of the present invention.

図17を参照して、本実施の形態に従う記憶システム400では、複数の半導体記憶装置100Bが、その円周中心が同一直線上に配置されるように、ラック410(図14)に互いに近接して収納される。図15に示すように、各半導体記憶装置100Bには、同一の円周面上に送信回路42および受信回路44が、所定の円周角だけ離れて形成される。   Referring to FIG. 17, in storage system 400 according to the present embodiment, a plurality of semiconductor storage devices 100B are close to each other in rack 410 (FIG. 14) such that their circumferential centers are arranged on the same straight line. Stored. As shown in FIG. 15, in each semiconductor memory device 100B, a transmission circuit 42 and a reception circuit 44 are formed on the same circumferential surface so as to be separated by a predetermined circumferential angle.

そこで、半導体記憶装置100Bを上記所定の円周角ずつ回転させて隣接配置することで、隣接する2つの半導体記憶装置100Bの間で送信回路42と受信回路44とを近接して配置することができる。代表的に、図17には、隣接する半導体記憶装置100B同士が90°ずつ回転した相対関係を保って順次配置されている場合を示す。なお、この半導体記憶装置100Bでは、送信回路42および受信回路44が円周角で90°だけ離れて配置されている。   Therefore, by rotating the semiconductor memory device 100B by the predetermined circumferential angle and arranging them adjacent to each other, the transmitter circuit 42 and the receiver circuit 44 can be arranged close to each other between the two adjacent semiconductor memory devices 100B. it can. Typically, FIG. 17 shows a case where adjacent semiconductor memory devices 100B are sequentially arranged with a relative relationship rotated by 90 °. In this semiconductor memory device 100B, the transmission circuit 42 and the reception circuit 44 are arranged with a circumferential angle of 90 ° apart.

複数の半導体記憶装置100Bを図17に示すような位置関係に従って配置することで、アドホックネットワークを形成することができる。すなわち、図17に示す構成では、紙面左側の半導体記憶装置100Bから紙面右側の半導体記憶装置100Bに向けて、一方向にデータが伝送される。   An ad hoc network can be formed by arranging a plurality of semiconductor memory devices 100B according to the positional relationship as shown in FIG. In other words, in the configuration shown in FIG. 17, data is transmitted in one direction from the semiconductor memory device 100B on the left side of the drawing to the semiconductor storage device 100B on the right side of the drawing.

なお、各半導体記憶装置100Bでは、送信回路42および受信回路44は、それぞれ受信または送信される無線信号が互いに干渉しないように、所定距離だけ離れて形成される。さらに、各送信回路42から送信される無線信号は、最も近接した受信回路44でのみ受信されるような強度に設定される。すなわち、ある送信回路42から送信された無線信号が隣接する半導体記憶装置100Bとは別の半導体記憶装置100Bの受信回路44に影響を与えないように、その強度が設定される。   In each semiconductor memory device 100B, the transmission circuit 42 and the reception circuit 44 are formed a predetermined distance apart so that radio signals received or transmitted do not interfere with each other. Furthermore, the radio signal transmitted from each transmission circuit 42 is set to such an intensity that it is received only by the closest reception circuit 44. That is, the strength is set so that a radio signal transmitted from a certain transmission circuit 42 does not affect the reception circuit 44 of another semiconductor storage device 100B other than the adjacent semiconductor storage device 100B.

なお、図17では、代表的に、送信回路42および受信回路44が円周角で90°離れた構成を例示したが、上述のような条件を満足すれば、いずれの円周角であってもよい。   Note that in FIG. 17, the transmission circuit 42 and the reception circuit 44 are representatively illustrated as being 90 ° apart from each other at a circumferential angle, but any circumferential angle can be used as long as the above-described conditions are satisfied. Also good.

ところで、複数の半導体記憶装置100Bを上述したような位置関係を容易に実現できることが好ましい。そこで、本実施の形態では、このような位置合わせをより容易に行なえるように、半導体記憶装置100Bの各々に、その相対的な位置関係を特定するための切欠部110(図15)が形成される。すなわち、半導体記憶装置100Bを収納するラック410(図15)の各スロットにおいて、切欠部110と係合する突起部を適切な位置に設けておくことで、隣接する半導体記憶装置100Bの間での無線通信を確実に行なうための位置関係を実現することができる。   Incidentally, it is preferable that the positional relationship as described above can be easily realized for the plurality of semiconductor memory devices 100B. Therefore, in the present embodiment, a cutout portion 110 (FIG. 15) for specifying the relative positional relationship is formed in each of the semiconductor memory devices 100B so that such alignment can be performed more easily. Is done. In other words, in each slot of the rack 410 (FIG. 15) that houses the semiconductor memory device 100B, a protrusion that engages with the notch 110 is provided at an appropriate position, so that the gap between the adjacent semiconductor memory devices 100B can be reduced. A positional relationship for reliably performing wireless communication can be realized.

このような構成を採用することで、何らの専門知識を持たないユーザであっても、新たな半導体記憶装置100B(すなわち、コンテンツ)を容易に追加することができる。また、各半導体記憶装置100Bの配置順序などの制限もない。   By adopting such a configuration, a new semiconductor memory device 100B (that is, content) can be easily added even by a user who does not have any specialized knowledge. Further, there is no restriction on the arrangement order of the semiconductor memory devices 100B.

図17に示す記憶システム400のアドホックネットワークのトポロジーは、1次元となる。そこで、本実施の形態に従う記憶システム400では、データが一方向に伝送されるものとし、各半導体記憶装置100Bは、より上流側の半導体記憶装置100Bが存在する場合には、上流側からのデータ伝送を優先的に下流側に転送し、その転送が終わると、自身が格納しているデータの送信を行なうものとする。以下、これらのデータ伝送に係る通信シーケンスについて、図18を用いて説明する。   The topology of the ad hoc network of the storage system 400 shown in FIG. 17 is one-dimensional. Therefore, in storage system 400 according to the present embodiment, it is assumed that data is transmitted in one direction, and each semiconductor storage device 100B receives data from the upstream side when semiconductor storage device 100B on the upstream side exists. The transmission is preferentially transferred to the downstream side, and when the transfer is completed, the data stored therein is transmitted. Hereinafter, a communication sequence related to these data transmissions will be described with reference to FIG.

図18は、この発明の実施の形態3に従う記憶システム400における通信シーケンス図である。なお、図18には、N個の半導体記憶装置100Bが配置されているものとし、各半導体記憶装置100Bを、読出部30B(図15)から近い順にNode1〜NodeNとも称す。   FIG. 18 is a communication sequence diagram in storage system 400 according to the third embodiment of the present invention. In FIG. 18, it is assumed that N semiconductor memory devices 100B are arranged, and each semiconductor memory device 100B is also referred to as Node1 to NodeN in order from the reading unit 30B (FIG. 15).

図18を参照して、光照射部20B(図15)からN個の半導体記憶装置100Bに対して光照射が開始されると、各半導体記憶装置100Bは、活性化されて処理を開始する。本実施の形態に従う記憶システム400では、いずれの半導体記憶装置100Bが最も上流に位置しているかを、他の半導体記憶装置100Bから「開始信号」を受信するか否かに基づいて判断する。すなわち、各半導体記憶装置100Bは、光照射の開始後、他の半導体記憶装置100Bから「開始信号」を受信しない無受信状態が所定期間にわたって継続した場合には、自身が最上流に位置すると判断し、自身が格納しているデータを下流側の半導体記憶装置100Bに送信し、データ送信が完了すると、それに続けて「終了信号」を下流側の半導体記憶装置100Bに送信する。一方、光照射の開始後、所定期間内に他の半導体記憶装置100Bから「開始信号」を受信した場合には、自身より上流側に他の半導体記憶装置100Bが存在すると判断し、当該他の半導体記憶装置100Bから「終了信号」を受信するまでの間、上流側から受信したデータを下流側の半導体記憶装置100Bに順次転送し、その後「終了信号」を受信すると、自身の格納するデータを下流側の半導体記憶装置100Bに送信し、データ送信が完了すると、それに続けて「終了信号」を下流側の半導体記憶装置100Bに送信する。   Referring to FIG. 18, when light irradiation is started from light irradiation unit 20 </ b> B (FIG. 15) to N semiconductor memory devices 100 </ b> B, each semiconductor memory device 100 </ b> B is activated and starts processing. In storage system 400 according to the present embodiment, which semiconductor storage device 100B is located most upstream is determined based on whether or not a “start signal” is received from another semiconductor storage device 100B. That is, each semiconductor memory device 100B determines that it is positioned at the most upstream position when a non-reception state in which no “start signal” is received from another semiconductor memory device 100B continues for a predetermined period after the start of light irradiation. Then, the data stored therein is transmitted to the downstream semiconductor memory device 100B. When the data transmission is completed, an “end signal” is subsequently transmitted to the downstream semiconductor memory device 100B. On the other hand, when the “start signal” is received from another semiconductor memory device 100B within a predetermined period after the light irradiation is started, it is determined that the other semiconductor memory device 100B exists upstream from itself, and the other Until the “end signal” is received from the semiconductor memory device 100B, the data received from the upstream side is sequentially transferred to the semiconductor memory device 100B on the downstream side, and when the “end signal” is received thereafter, the data stored therein is transferred. When the data is transmitted to the downstream side semiconductor storage device 100B and the data transmission is completed, an “end signal” is subsequently transmitted to the downstream side semiconductor storage device 100B.

このようにして、最上流側に位置する半導体記憶装置100Bから下流側に位置する半導体記憶装置100Bに向かって順次データが転送されることで、記憶システム400を構成するすべての半導体記憶装置100Bが格納するデータを読出すことができる。   In this way, the data is sequentially transferred from the semiconductor memory device 100B located on the most upstream side toward the semiconductor memory device 100B located on the downstream side, so that all the semiconductor memory devices 100B constituting the storage system 400 are transferred. Data to be stored can be read.

より具体的には、各半導体記憶装置100Bは、処理を開始すると、まず開始信号を送信する(ステップS200)とともに、上流側の半導体記憶装置100Bからの開始信号の受信を所定期間だけ待つ。なお、この所定期間は、ランダムに決定されてもよい。   More specifically, when the processing starts, each semiconductor memory device 100B first transmits a start signal (step S200) and waits for a predetermined period of time to receive the start signal from the upstream semiconductor memory device 100B. Note that the predetermined period may be determined randomly.

このとき、少なくとも、最上流側に位置する(すなわち、読出部30B(図15)から最も離れた位置にある)半導体記憶装置100B(NodeN)では、他の半導体記憶装置100Bから開始信号を受信しない無受信状態が所定期間継続する(ステップS202)。すると、NodeNは、自身のマスクROM70B(図15)に格納されたデータNを読出し(ステップS204)、そのデータNを隣接する半導体記憶装置100B(NodeN−1)へ送信する(ステップS206)。すなわち、半導体記憶装置100Bは、所定の時間にわたって、他の半導体記憶装置100Bから開始信号を受信しない場合に限って、自身のデータ送信を開始する。なお、送信されるデータNには、NodeNからのデータあることを示す識別情報が付加されてもよい。さらに、NodeNは、自身のデータ送信が完了すると、続けて、終了信号を隣接するNodeN−1へ送信する。   At this time, at least semiconductor memory device 100B (NodeN) located on the most upstream side (that is, the most distant from reading unit 30B (FIG. 15)) does not receive the start signal from other semiconductor memory device 100B. The non-reception state continues for a predetermined period (step S202). Then, the NodeN reads the data N stored in its mask ROM 70B (FIG. 15) (step S204), and transmits the data N to the adjacent semiconductor memory device 100B (NodeN-1) (step S206). In other words, semiconductor memory device 100B starts its own data transmission only when it does not receive a start signal from another semiconductor memory device 100B for a predetermined time. Note that identification information indicating that there is data from the Node N may be added to the transmitted data N. Furthermore, when the node N completes its own data transmission, the Node N continues to transmit an end signal to the adjacent Node N-1.

NodeN−1は、NodeNからデータNを受信すると、そのままデータNを隣接するNodeN−2(図示しない)へ送信(転送)する(ステップS208)。以下、同様にして、データNは、NodeN−2からNode1まで順次転送される。そして、データNを受信(ステップS210)したNode1は、当該受信したデータNを読出部30B(図15)へ出力(送信)する(ステップS212)。このような手順によって、NodeNに格納されていたデータNは、読出される。   When Node N-1 receives data N from Node N, Node N-1 transmits (transfers) data N as it is to adjacent Node N-2 (not shown) (step S208). Hereinafter, similarly, the data N is sequentially transferred from Node N-2 to Node 1. Then, Node 1 that has received the data N (step S210) outputs (transmits) the received data N to the reading unit 30B (FIG. 15) (step S212). By such a procedure, the data N stored in NodeN is read out.

一方、NodeN−1は、データNに引き続いて送信される終了信号を受信すると、自身のマスクROM70Bに格納されたデータN−1を読出し(ステップS214)、そのデータN−1を隣接するNodeN−2(図示しない)へ送信する(ステップS216)。以下、データNの場合と同様に、データN−1についても、NodeN−2からNode1まで順次転送される。そして、データN−1を受信(ステップS218)したNode1は、当該受信したデータN−1を読出部30Bへ出力(送信)する(ステップS220)。このような手順によって、NodeN−1に格納されていたデータN−1は、読出される。さらに、NodeN−1は、自身のデータ送信が完了すると、続けて、終了信号を隣接するNodeN−2へ送信する。   On the other hand, when receiving an end signal transmitted subsequent to the data N, the Node N-1 reads the data N-1 stored in its own mask ROM 70B (step S214), and the data N-1 is read from the adjacent Node N- 2 (not shown) (step S216). Hereinafter, as with the data N, the data N-1 is also sequentially transferred from NodeN-2 to Node1. Node 1 that has received data N-1 (step S218) outputs (transmits) the received data N-1 to reading unit 30B (step S220). By such a procedure, data N-1 stored in NodeN-1 is read. Further, when the node N-1 completes its own data transmission, it continuously transmits an end signal to the adjacent Node N-2.

同様にして、NodeN−2〜Node1の各々は、より上流側から受信したデータを下流側に転送した後、当該データに引き続いて上流側から送信される終了信号を受信すると、自身が格納しているデータの下流側への送信を開始する。   Similarly, each of Node N-2 to Node 1 transfers data received from the upstream side to the downstream side, and then receives an end signal transmitted from the upstream side following the data, stores itself. Start transmitting data to the downstream side.

最終的に、Node1は、Node2からデータ2を受信する(ステップS222)と、当該受信したデータ2を読出部30Bへ出力する(ステップS224)。そして、Node1は、データ2に引き続いてNode2から送信される終了信号を受信する(S223)と、自身のマスクROM70Bに格納されたデータ1を読出し(ステップS226)、そのデータ1を読出部30Bへ出力(送信)する(ステップS228)。   Finally, when Node 1 receives data 2 from Node 2 (step S222), Node 1 outputs the received data 2 to reading unit 30B (step S224). When Node 1 receives the end signal transmitted from Node 2 following Data 2 (S223), Node 1 reads data 1 stored in its own mask ROM 70B (Step S226), and sends the data 1 to reading unit 30B. Output (transmit) (step S228).

このような一連の処理によって、すべての半導体記憶装置100B(Node1〜NodeN)からデータを読出すことができる。これらの一連のデータは、制御回路60B(図15)に一旦蓄積され、必要に応じて、その一部または全部がインターフェイス部12から読出しデータとして出力される。   Through such a series of processing, data can be read from all the semiconductor memory devices 100B (Node 1 to Node N). The series of data is temporarily stored in the control circuit 60B (FIG. 15), and part or all of the data is output as read data from the interface unit 12 as necessary.

本実施の形態によれば、各半導体記憶装置100Bが隣接する他の半導体記憶装置100Bとの間で自律的にデータ通信を行ない、所定の通信規則に従ってデータを順次転送する。そのため、記憶システム400を構成する半導体記憶装置100Bは自由に設定することができ、かつ半導体記憶装置100Bの数にかかわらず読出部を1つだけ設ければすべてのデータを読出すことができる。さらに、半導体記憶装置100Bの配置順序についても自由に設定することができる。   According to the present embodiment, each semiconductor storage device 100B autonomously performs data communication with another adjacent semiconductor storage device 100B, and sequentially transfers data according to a predetermined communication rule. Therefore, the semiconductor memory device 100B constituting the storage system 400 can be freely set, and all data can be read if only one reading unit is provided regardless of the number of the semiconductor memory devices 100B. Further, the arrangement order of the semiconductor memory device 100B can be freely set.

よって、保存すべきデータが増大した場合であっても、柔軟かつ自由に半導体記憶装置100Bを追加や変更することができる。   Therefore, even if the data to be stored increases, the semiconductor memory device 100B can be added or changed flexibly and freely.

また、本実施の形態によれば、各半導体記憶装置100Bに切欠部を設けて、かつラック410に対応する突起部を適切な位置に設けておくことで、隣接する半導体記憶装置100B同士が所定の相対関係となるように、それぞれを収納することができる。そのため、ユーザに意識させることなく、アドホックネットワークを確立するために必要な位置関係を実現することができる。   Further, according to the present embodiment, each semiconductor memory device 100B is provided with a notch, and a protrusion corresponding to the rack 410 is provided at an appropriate position, so that adjacent semiconductor memory devices 100B are predetermined. Each can be stored so as to have a relative relationship. Therefore, the positional relationship necessary for establishing an ad hoc network can be realized without making the user aware of it.

[実施の形態3の変形例]
上述の実施の形態では、外部から照射される光を受けて内部電力を発生する太陽電池を含む半導体記憶装置について例示したが、外部から照射される電磁エネルギーを受けて内部電力を発生する構成を採用してもよい。
[Modification of Embodiment 3]
In the above-described embodiment, the semiconductor memory device including the solar cell that generates the internal power by receiving the light irradiated from the outside is illustrated, but the configuration that generates the internal power by receiving the electromagnetic energy irradiated from the outside. It may be adopted.

図19は、この発明の実施の形態3の変形例に従う記憶システム400Aの外観図である。図19を参照して、本実施の形態の変形例に従う記憶システム400Aは、複数の半導体記憶装置100Dと、これらの半導体記憶装置100Dに磁束を供給する磁束供給部90A,90Bと、一方端に位置する半導体記憶装置100Dに近接して配置された読出部30Bと、制御部10Bと、インターフェイス部12とを含む。なお、ラック410、磁束供給部90A,90B、読出部30B、制御部10B、およびインターフェイス部12が「データ読出装置」として機能する。   FIG. 19 is an external view of a storage system 400A according to the modification of the third embodiment of the present invention. Referring to FIG. 19, a storage system 400A according to a modification of the present embodiment includes a plurality of semiconductor storage devices 100D, magnetic flux supply units 90A and 90B that supply magnetic fluxes to these semiconductor storage devices 100D, and one end. It includes a reading unit 30B, a control unit 10B, and an interface unit 12 that are arranged in the vicinity of the located semiconductor memory device 100D. The rack 410, the magnetic flux supply units 90A and 90B, the reading unit 30B, the control unit 10B, and the interface unit 12 function as a “data reading device”.

本実施の形態の変形例に従う半導体記憶装置100Dは、外部から非接触状態でエネルギーを供給する方式において、実施の形態3に従う半導体装置100Bと異なっているが、それ以外の構成は、実質的に同様である。すなわち、各半導体記憶装置100Dは、磁束供給部90Aおよび90Bによって磁束の供給が開始されると、隣接する半導体記憶装置100Dから受信したデータを隣接する他の半導体記憶装置100Dへ無線伝送するとともに、各自の格納するデータについても隣接する半導体記憶装置100Dへ無線伝送する。   The semiconductor memory device 100D according to the modification of the present embodiment is different from the semiconductor device 100B according to the third embodiment in the method of supplying energy from the outside in a non-contact state, but other configurations are substantially the same. It is the same. That is, when the supply of magnetic flux is started by the magnetic flux supply units 90A and 90B, each semiconductor storage device 100D wirelessly transmits data received from the adjacent semiconductor storage device 100D to another adjacent semiconductor storage device 100D. The data stored therein is also wirelessly transmitted to the adjacent semiconductor memory device 100D.

磁束供給部90Aおよび90Bは、一連に配置された複数の半導体記憶装置100Dの両サイドに対向配置され、すべての半導体記憶装置100Dを貫通するような磁束(交番磁束)を発生する。この発生する磁束は、各半導体記憶装置100Dのコイル(後述する)と鎖交することで、内部電力に変換される。   The magnetic flux supply units 90A and 90B are arranged to face both sides of a plurality of semiconductor memory devices 100D arranged in series, and generate magnetic flux (alternating magnetic flux) that penetrates all the semiconductor memory devices 100D. This generated magnetic flux is converted into internal power by interlinking with a coil (described later) of each semiconductor memory device 100D.

制御部10B、インターフェイス部12、読出部30Bについては、図14に示す記憶システム400と同様であるので、詳細な説明は繰返さない。   Since control unit 10B, interface unit 12, and reading unit 30B are the same as storage system 400 shown in FIG. 14, detailed description thereof will not be repeated.

図20は、この発明の実施の形態3の変形例に従う半導体記憶装置100Dの平面構造を示すブロック図である。   FIG. 20 is a block diagram showing a planar structure of semiconductor memory device 100D according to the modification of the third embodiment of the present invention.

図20を参照して、半導体記憶装置100Dの各々は、コイル94と、電源回路96と、制御回路60Dと、マスクROM70Dと、送信用のアンテナを含む送信回路42と、受信用のアンテナを含む受信回路44とを含む。なお、送信回路42および受信回路44は、「通信部」として機能する。これらの各部位は、物理的および化学的に安定な基板(ウェハ)上に形成されるとともに、その露出面は全面にわたって封止膜(代表的に、二酸化シリコン膜などの物理化学的に安定な絶縁物)によって覆われている。   Referring to FIG. 20, each of semiconductor memory devices 100D includes a coil 94, a power supply circuit 96, a control circuit 60D, a mask ROM 70D, a transmission circuit 42 including a transmission antenna, and a reception antenna. And a receiving circuit 44. The transmission circuit 42 and the reception circuit 44 function as a “communication unit”. Each of these parts is formed on a physically and chemically stable substrate (wafer), and its exposed surface is entirely covered with a sealing film (typically a physicochemically stable film such as a silicon dioxide film). Covered with insulation).

コイル94は、ウェハの中心部に形成され、磁束供給部90Aおよび90B(図19)から供給される交番磁束を受けて起電力を誘起する。このコイル94に誘起した起電力は、電源回路96へ入力される。電源回路96は、整流機能および平滑化機能を有しており、コイル94で発生した交流の起電力を直流の内部電力として出力する。より具体的には、電源回路96は、ダイオードのブリッジ回路などからなる全波整流回路と、線路に並列接続されたコンデンサなどの平滑化回路とを含む。   The coil 94 is formed at the center of the wafer, and receives an alternating magnetic flux supplied from the magnetic flux supply units 90A and 90B (FIG. 19) to induce an electromotive force. The electromotive force induced in the coil 94 is input to the power supply circuit 96. The power supply circuit 96 has a rectifying function and a smoothing function, and outputs an alternating electromotive force generated by the coil 94 as direct internal power. More specifically, the power supply circuit 96 includes a full-wave rectifier circuit including a diode bridge circuit and a smoothing circuit such as a capacitor connected in parallel to the line.

制御回路60Dは、電源回路96からの電力供給が開始されると、送信回路42および受信回路44と協働して、他の半導体記憶装置100Dとの間でアドホックネットワークを構成する。具体的には、制御回路60Dは、自装置に隣接する半導体記憶装置100Dから別の隣接する半導体記憶装置100Dへデータを転送する中継装置として機能する。この中継動作に併せて、制御回路60Dは、マスクROM70Dからデータを読出して送信回路42へ出力することで、各自の格納するデータを転送先である他の半導体記憶装置100Dへ送信する。これらのアドホックネットワークにおける通信処理については、上述の実施の形態3と同様であるので、詳細な説明は繰返さない。   When the power supply from the power supply circuit 96 is started, the control circuit 60D cooperates with the transmission circuit 42 and the reception circuit 44 to form an ad hoc network with another semiconductor memory device 100D. Specifically, the control circuit 60D functions as a relay device that transfers data from the semiconductor memory device 100D adjacent to the own device to another adjacent semiconductor memory device 100D. In conjunction with this relay operation, the control circuit 60D reads the data from the mask ROM 70D and outputs it to the transmission circuit 42, thereby transmitting the data stored therein to the other semiconductor memory device 100D as the transfer destination. Since communication processing in these ad hoc networks is the same as that in the third embodiment, detailed description will not be repeated.

マスクROM70Dは、上述したマスクROM70などと同様の構成であるので、詳細な説明は繰返さない。   Since mask ROM 70D has the same configuration as mask ROM 70 described above, detailed description will not be repeated.

送信回路42および受信回路44は、電源回路96からの電力を受けて動作する点を除いて、上述の実施の形態3と同様であるので、詳細な説明は繰返さない。   Transmitting circuit 42 and receiving circuit 44 are the same as in the third embodiment described above except that they operate by receiving power from power supply circuit 96, and thus detailed description will not be repeated.

本実施の形態の変形例によれば、上述の実施の形態3における効果と同様の効果を得られるとともに、供給する磁束の強度および/またはコイルの巻き数を増大させることで、内部電力の単位面積当りの発生効率を高めることができるので、各半導体記憶装置でのマスクROMが形成される領域を大きくすることができる。この結果、各半導体記憶装置の記憶容量をより大きくすることができる。   According to the modification of the present embodiment, the same effect as that of the above-described third embodiment can be obtained, and the unit of internal power can be increased by increasing the strength of the supplied magnetic flux and / or the number of turns of the coil. Since the generation efficiency per area can be increased, the area in which the mask ROM is formed in each semiconductor memory device can be increased. As a result, the storage capacity of each semiconductor memory device can be increased.

[実施の形態4]
上述の実施の形態3に従う記憶システム400では、半導体記憶装置100Bを一次元的に配置し、各半導体記憶装置100Bが格納しているデータを一方向に伝送される構成について例示した。これに対して、本実施の形態では、半導体記憶装置を二次元的あるいは三次元的に配置した構成について例示する。
[Embodiment 4]
In storage system 400 according to the above-described third embodiment, semiconductor memory device 100B is arranged one-dimensionally, and the configuration in which data stored in each semiconductor memory device 100B is transmitted in one direction is illustrated. In contrast, in the present embodiment, a configuration in which semiconductor memory devices are arranged two-dimensionally or three-dimensionally is illustrated.

図21は、この発明の実施の形態4に従う記憶システム500の外観図である。図21を参照して、本実施の形態に従う記憶システム500は、複数の半導体記憶装置100Cと、これらの半導体記憶装置100Cに光を照射する光照射部20Cと、四隅に位置する半導体記憶装置100Cに近接して配置された4つの読出部30Cと、制御部10Cと、インターフェイス部12とを含む。なお、光照射部20C、読出部30C、制御部10C、およびインターフェイス部12が「データ読出装置」として機能する。   FIG. 21 is an external view of a storage system 500 according to the fourth embodiment of the present invention. Referring to FIG. 21, storage system 500 according to the present embodiment includes a plurality of semiconductor storage devices 100C, a light irradiation unit 20C that irradiates light to these semiconductor storage devices 100C, and semiconductor storage devices 100C located at the four corners. Includes four reading units 30 </ b> C, a control unit 10 </ b> C, and an interface unit 12 that are arranged close to each other. The light irradiation unit 20C, the reading unit 30C, the control unit 10C, and the interface unit 12 function as a “data reading device”.

本実施の形態に従う記憶システム500では、上述した実施の形態3に従う半導体記憶装置100Bに類似した半導体記憶装置100Cが2次元的に配置される。四隅に配置された半導体記憶装置100Cを除いて、各半導体記憶装置100Cは、2〜4個の半導体記憶装置100Cと隣接配置される。また、各半導体記憶装置100Cは、他の半導体記憶装置100Cとの間で送信および受信が可能な送受信回路を複数個含んでおり、隣接する半導体記憶装置100Cとの間でそれぞれ独立したデータの送受信が可能となっている。   In storage system 500 according to the present embodiment, semiconductor memory device 100C similar to semiconductor memory device 100B according to the above-described third embodiment is two-dimensionally arranged. Except for the semiconductor memory devices 100C arranged at the four corners, each semiconductor memory device 100C is arranged adjacent to two to four semiconductor memory devices 100C. Each semiconductor memory device 100C includes a plurality of transmission / reception circuits capable of transmitting and receiving data to / from other semiconductor memory devices 100C, and independently transmits / receives data to / from adjacent semiconductor memory devices 100C. Is possible.

読出部30Cの各々は、実施の形態3に従う読出部30Bの機能に加えて、制御部10Cからの指令を近接する半導体記憶装置100Cへ伝送する機能を有する。   Each of reading units 30C has a function of transmitting a command from control unit 10C to adjacent semiconductor memory device 100C in addition to the function of reading unit 30B according to the third embodiment.

光照射部20Cは、実施の形態3に従う光照射部20Bと同様であるので、詳細な説明は繰返さない。   Since light irradiation unit 20C is similar to light irradiation unit 20B according to the third embodiment, detailed description will not be repeated.

図21に示すようなネットワーク構成を採用することで、読出し対象の半導体記憶装置100Cから制御部10Cまでの経路の自由度を高めることができる。すなわち、読出し対象の半導体記憶装置100Cから制御部10Cまでの経路を複数提供できるので、いずれかの半導体記憶装置100Cに故障があった場合にもデータ読出しを継続できる。あるいは、複数の経路で並列的に読出すことで、読出し速度を高めることもできる。   By adopting the network configuration as shown in FIG. 21, the degree of freedom of the path from the semiconductor memory device 100C to be read to the control unit 10C can be increased. That is, since a plurality of paths from the semiconductor memory device 100C to be read to the control unit 10C can be provided, data reading can be continued even if any one of the semiconductor memory devices 100C has a failure. Alternatively, reading speed can be increased by reading in parallel through a plurality of paths.

また、本実施の形態に従う記憶システム500では、各半導体記憶装置100Cが独立してデータの送受信が可能であるので、外部要求などに応じて、必要なデータを選択的に読出すことが可能である。   In storage system 500 according to the present embodiment, each semiconductor storage device 100C can transmit and receive data independently, so that necessary data can be selectively read according to an external request or the like. is there.

図22は、この発明の実施の形態4に従う半導体記憶装置100Cの平面構造を示すブロック図である。   FIG. 22 is a block diagram showing a planar structure of a semiconductor memory device 100C according to the fourth embodiment of the present invention.

図22を参照して、半導体記憶装置100Cの各々は、太陽電池50Bと、制御回路60Cと、マスクROM70Bと、6個の送受信回路46−1〜46−6、送受信回路46−1〜46−6にそれぞれ対応するアンテナ48−1〜48−6とを含む。これらの各部位は、ウェハ上に形成されるとともに、その露出面は全面にわたって封止膜(代表的に、二酸化シリコン膜などの物理化学的に安定な絶縁物)によって覆われている。   Referring to FIG. 22, each of semiconductor memory devices 100C includes a solar cell 50B, a control circuit 60C, a mask ROM 70B, six transmission / reception circuits 46-1 to 46-6, and transmission / reception circuits 46-1 to 46-. 6 and antennas 48-1 to 48-6 corresponding to 6 respectively. Each of these portions is formed on the wafer, and the exposed surface is entirely covered with a sealing film (typically, a physicochemically stable insulator such as a silicon dioxide film).

制御回路60Cは、太陽電池50Bからの電力供給が開始されると、送受信回路46−1〜46−6と協働して、隣接する少なくとも1つの半導体記憶装置100Cとの間でアドホックネットワークを構成する。具体的には、制御回路60Cは、送受信回路46−1〜46−6のうちいずれかが隣接する半導体記憶装置100Cからデータ要求命令を受けると、自身の格納するデータが当該データ要求命令の対象であるか否かを判断し、対象である場合には、要求されたデータをマスクROM70Bから読出して隣接する半導体記憶装置100Cへ送信する。一方、対象でない場合には、当該受信したデータ要求命令を隣接する他の半導体記憶装置100Cへ転送する。なお、より詳細な通信処理については、後述する。   When the power supply from the solar cell 50B is started, the control circuit 60C forms an ad hoc network with at least one adjacent semiconductor memory device 100C in cooperation with the transmission / reception circuits 46-1 to 46-6. To do. Specifically, when one of the transmission / reception circuits 46-1 to 46-6 receives a data request command from the adjacent semiconductor storage device 100C, the control circuit 60C receives the data request command from the data storage command 100C. If it is a target, the requested data is read from the mask ROM 70B and transmitted to the adjacent semiconductor memory device 100C. On the other hand, if it is not the target, the received data request command is transferred to another adjacent semiconductor memory device 100C. Note that more detailed communication processing will be described later.

送受信回路46−1〜46−6は、それぞれ太陽電池50Bからの電力を受けて、制御回路60Cからの指令に従って、対応するアンテナ48−1〜48−6を励起することで隣接する半導体記憶装置100Cへ無線信号(変調信号)を送信し、また他の半導体記憶装置100Cから対応するアンテナ48−1〜48−6を介して受信した無線信号をデータに復号して制御回路60Cへ出力する。   The transmission / reception circuits 46-1 to 46-6 receive power from the solar cell 50B, respectively, and excite the corresponding antennas 48-1 to 48-6 in accordance with instructions from the control circuit 60C, thereby adjacent semiconductor memory devices. Radio signals (modulated signals) are transmitted to 100C, and radio signals received from other semiconductor storage devices 100C via corresponding antennas 48-1 to 48-6 are decoded into data and output to control circuit 60C.

太陽電池50BおよびマスクROM70Bについては、上述の実施の形態3に従う半導体記憶装置100Bのそれと同じであるので、詳細な説明は繰返さない。   Since solar cell 50B and mask ROM 70B are the same as those of semiconductor memory device 100B according to the above-described third embodiment, detailed description thereof will not be repeated.

また、本実施の形態に従う半導体記憶装置100Cの断面構造についても、図16に示す実施の形態3に従う半導体記憶装置100Bの断面構造と同様であるので、詳細な説明は繰返さない。   Also, the cross-sectional structure of semiconductor memory device 100C according to the present embodiment is similar to the cross-sectional structure of semiconductor memory device 100B according to the third embodiment shown in FIG. 16, and therefore detailed description will not be repeated.

本実施の形態に従う半導体記憶装置100Cの各々では、無線信号の送受信処理が独立に行なわれるので、互いに無線信号が干渉しないように、アンテナ48−1〜48−6は、そのウェハ面上で所定距離だけ離れて形成される。より具体的には、アンテナ48−1〜48−6は、ウェハの中心点から所定距離だけ離れた同一の円周上に、所定の円周角だけ離れて配置される。   In each of semiconductor memory devices 100C according to the present embodiment, transmission / reception processing of radio signals is performed independently, so that antennas 48-1 to 48-6 are predetermined on the wafer surface so that radio signals do not interfere with each other. Formed by a distance. More specifically, the antennas 48-1 to 48-6 are arranged on the same circumference separated by a predetermined distance from the center point of the wafer and separated by a predetermined circumferential angle.

図23は、この発明の実施の形態3に従う半導体記憶装置100Cにおけるアンテナ配置を示す模式図である。   FIG. 23 is a schematic diagram showing an antenna arrangement in semiconductor memory device 100C according to the third embodiment of the present invention.

図23を参照して、各半導体装置100Cでは、紙面左側の円周上にアンテナ48−1〜48−3が配置され、紙面右側の円周上にアンテナ48−4〜48−6が配置される。なお、アンテナ48−1,48−2,48−3とアンテナ48−6,48−5,48−4は、それぞれウェハの中心点について点対称の関係にある。   Referring to FIG. 23, in each semiconductor device 100C, antennas 48-1 to 48-3 are arranged on the circumference on the left side of the drawing, and antennas 48-4 to 48-6 are arranged on the circumference on the right side of the drawing. The The antennas 48-1, 48-2, 48-3 and the antennas 48-6, 48-5, 48-4 are in a point-symmetric relationship with respect to the center point of the wafer.

ここで、アンテナ48−1とアンテナ48−2との間の円周角は、アンテナ48−2とアンテナ48−3との間の円周角の約2倍となっている。同様に、アンテナ48−6とアンテナ48−5との間の円周角は、アンテナ48−5とアンテナ48−4との間の円周角の約2倍となっている。アンテナ48−1〜48−6をこのような位置関係に配置することで、以下に示すように、三次元的に配置した場合における隣接する半導体記憶装置100Cとの間の混信を回避できる。   Here, the circumferential angle between the antenna 48-1 and the antenna 48-2 is approximately twice the circumferential angle between the antenna 48-2 and the antenna 48-3. Similarly, the circumferential angle between the antenna 48-6 and the antenna 48-5 is approximately twice the circumferential angle between the antenna 48-5 and the antenna 48-4. By arranging the antennas 48-1 to 48-6 in such a positional relationship, as shown below, it is possible to avoid interference between adjacent semiconductor memory devices 100 </ b> C when arranged three-dimensionally.

より具体的には、隣接する半導体記憶装置100C間において、3つの直線H,M,Lを仮想的に考える。各半導体装置100Cの相対的な角度を変化させることで、これらの直線H,M,Lと交差するアンテナ48−1〜48−6を少なくとも3の配置パターンに切替えることができる。   More specifically, three straight lines H, M, and L are virtually considered between adjacent semiconductor memory devices 100C. By changing the relative angle of each semiconductor device 100C, the antennas 48-1 to 48-6 intersecting with these straight lines H, M, and L can be switched to at least three arrangement patterns.

図23(a)には、半導体装置100Cの紙面左側に配置されたアンテナ48−2および48−3がそれぞれ直線Hおよび直線Mと交差し、半導体装置100Cの紙面右側に配置されたアンテナ48−4および48−5がそれぞれ直線Mおよび直線Lと交差する「HM−ML配置」を示す。   In FIG. 23A, antennas 48-2 and 48-3 disposed on the left side of the paper of the semiconductor device 100C intersect the straight line H and the straight line M, respectively, and the antenna 48- disposed on the right side of the paper of the semiconductor device 100C. The “HM-ML arrangement” in which 4 and 48-5 intersect the straight line M and the straight line L, respectively.

図23(b)には、半導体装置100Cの紙面左側に配置されたアンテナ48−2および48−3がそれぞれ直線Mおよび直線Lと交差し、半導体装置100Cの紙面右側に配置されたアンテナ48−4および48−5がそれぞれ直線Hおよび直線Mと交差する「ML−HM配置」を示す。   In FIG. 23B, the antennas 48-2 and 48-3 disposed on the left side of the paper of the semiconductor device 100C intersect with the straight line M and the straight line L, respectively, and the antenna 48- disposed on the right side of the semiconductor device 100C of FIG. “ML-HM arrangement” in which 4 and 48-5 intersect the straight line H and the straight line M, respectively.

図23(c)には、半導体装置100Cの紙面左側に配置されたアンテナ48−1および48−2がそれぞれ直線Hおよび直線Lと交差し、半導体装置100Cの紙面右側に配置されたアンテナ48−5および48−6がそれぞれ直線Hおよび直線Lと交差する「HL−HL配置」を示す。   In FIG. 23C, the antennas 48-1 and 48-2 arranged on the left side of the paper of the semiconductor device 100C intersect the straight line H and the straight line L, respectively, and the antenna 48- arranged on the right side of the paper of the semiconductor device 100C. “HL-HL arrangement” in which 5 and 48-6 intersect the straight line H and the straight line L, respectively.

図24は、図21に示す記憶システム500を構成する場合の半導体装置100Cの位置関係を示す模式図である。なお、図24において、「HL」、「HM」、「ML」といった記号は、図23に示す各配置パターンに対応している。   FIG. 24 is a schematic diagram showing the positional relationship of the semiconductor device 100C when the storage system 500 shown in FIG. 21 is configured. In FIG. 24, symbols such as “HL”, “HM”, and “ML” correspond to the arrangement patterns shown in FIG.

図24において、隣接する半導体記憶装置100Cの間では、同じ直線上に配置されたアンテナを介してデータの送受信が可能となる。たとえば、「HL」の記号が付された半導体記憶装置100Cでは、図23に示す直線Hおよび直線Lと交差する位置にアンテナが配置されており、「HM」の記号が付された半導体記憶装置100Cでは、図23に示す直線Hおよび直線Mと交差する位置にアンテナが配置されている。そのため、図24の紙面鉛直方向において「H」の位置、すなわち、紙面横方向に延在する同一の直線H上に、それぞれの半導体装置100Cのアンテナが位置することになる。したがって、この直線H上に位置する2つのアンテナを介して、隣接する半導体記憶装置100Cの間でデータの送受信が行なわれる。   In FIG. 24, data transmission / reception can be performed between adjacent semiconductor memory devices 100C via antennas arranged on the same straight line. For example, in the semiconductor memory device 100C to which the symbol “HL” is attached, the antenna is arranged at a position intersecting with the straight line H and the straight line L shown in FIG. 23, and the semiconductor memory device to which the symbol “HM” is attached. In 100C, an antenna is arranged at a position intersecting with the straight line H and the straight line M shown in FIG. Therefore, the antennas of the respective semiconductor devices 100C are positioned on the position of “H” in the vertical direction of the paper in FIG. 24, that is, on the same straight line H extending in the horizontal direction of the paper. Therefore, data is transmitted / received between the adjacent semiconductor memory devices 100C via the two antennas located on the straight line H.

また、図24に示すような配置とすることで、半導体記憶装置100Cの表面および裏面、すなわち図24における紙面右側および紙面左側でそれぞれ隣接する半導体記憶装置100Cとの間のデータ通信に用いるアンテナの位置を互いに異ならせることができる。より具体的には、図24に示すように、紙面最上段に配置されたそれぞれの半導体記憶装置100Cが隣接する半導体記憶装置100Cとの間でデータ送受信に用いるアンテナの位置は、「H」、「M」、「L」、「H」・・・の順で巡回的に変化する。   24, the antenna used for data communication with the semiconductor memory device 100C adjacent to the front and back surfaces of the semiconductor memory device 100C, that is, the right side and the left side in FIG. The positions can be different from each other. More specifically, as shown in FIG. 24, the position of the antenna used for data transmission / reception between each semiconductor storage device 100C arranged at the top of the drawing and the adjacent semiconductor storage device 100C is “H”, It changes cyclically in the order of “M”, “L”, “H”.

図21に示す記憶システム500のネットワークトポロジーは、2次元となる。そこで、本実施の形態に従う記憶システム500では、論理的な通信経路が動的に形成されるように、各半導体記憶装置100Cが経路設定プロトコルに従う制御を行なう。以下、これらのデータ伝送に係る経路設定プロトコルについて、図25および図26を用いて説明する。   The network topology of the storage system 500 shown in FIG. 21 is two-dimensional. Therefore, in storage system 500 according to the present embodiment, each semiconductor storage device 100C performs control according to a path setting protocol so that a logical communication path is dynamically formed. Hereinafter, the route setting protocol for data transmission will be described with reference to FIGS. 25 and 26. FIG.

図25は、この発明の実施の形態4に従う記憶システム500における経路設定プロトコルを説明するための図である。図26は、図25に示すネットワークにおいて故障がある場合の処理を説明するための図である。ここで、図25および図26では、複数の半導体記憶装置100Cを便宜上、Node1〜Node7とも称し、Node1に相当する半導体記憶装置100Cに近接して読出部30Cが配置されているものとする。なお、図25および図26に示すトポロジーは、各Nodeの論理的な接続関係の一例を示すものであり、実際の半導体記憶装置100Cの位置関係とは必ずしも一致していない。   FIG. 25 is a diagram for describing a path setting protocol in storage system 500 according to the fourth embodiment of the present invention. FIG. 26 is a diagram for explaining processing when there is a failure in the network shown in FIG. Here, in FIG. 25 and FIG. 26, the plurality of semiconductor memory devices 100C are also referred to as Node1 to Node7 for convenience, and the reading unit 30C is disposed in the vicinity of the semiconductor memory device 100C corresponding to Node1. Note that the topology shown in FIGS. 25 and 26 shows an example of the logical connection relationship between the nodes, and does not necessarily match the actual positional relationship of the semiconductor memory device 100C.

図25を参照して、インターフェイス部12(図21)から制御部10Cに対して、特定のデータに対する読出し要求が与えられたとすると、Node1に対して要求命令が送信される。この要求命令には、一例として、Node4に格納されているデータの読出しを要求するメッセージが含まれているものとする。なお、この要求命令は、ブロードキャスト(放送)メッセージとして扱われる。   Referring to FIG. 25, if a read request for specific data is given from interface unit 12 (FIG. 21) to control unit 10C, a request command is transmitted to Node1. As an example, it is assumed that this request command includes a message for requesting reading of data stored in Node4. This request command is handled as a broadcast message.

各Nodeは、要求命令の内容に基づいて、自Nodeに格納されているデータに要求されているものが含まれているか否かをそれぞれ判断する。そして、要求されたデータは、自Nodeに格納されているデータには含まれていないと判断した場合には、各Nodeは、隣接する他の(要求命令の送信元とは異なる)Nodeへ当該要求命令を転送する。なお、複数のNodeと隣接している場合には、1つ以上のNodeへ要求命令を転送してもよい。図25(a)には、Node1は、受信した要求命令を隣接するNode2およびNode5へそれぞれ転送する場合を示す。   Each Node determines whether or not the requested data is included in the data stored in its own Node based on the content of the request command. When it is determined that the requested data is not included in the data stored in the own node, each node is transferred to another adjacent node (different from the transmission source of the request command). Transfer the request instruction. Note that when adjacent to a plurality of Nodes, the request command may be transferred to one or more Nodes. FIG. 25A shows a case where Node1 transfers the received request command to adjacent Node2 and Node5, respectively.

ここで、各Nodeは、隣接するNodeへ転送する要求命令に、自Nodeの情報を経路情報として付加する。すなわち、図25(a)に示すように、Node1からNode2およびNode5へそれぞれ転送される要求命令には、経路情報として「Node1」がそれぞれ付加される。   Here, each Node adds its node information as route information to a request command to be transferred to an adjacent Node. That is, as shown in FIG. 25A, “Node 1” is added as route information to the request commands transferred from Node 1 to Node 2 and Node 5, respectively.

このNode1からの要求命令をそれぞれ受信したNode2およびNode5は、要求命令の内容に基づいて、自Nodeに格納されているデータに要求されているものが含まれているか否かをそれぞれ判断する。いずれのNodeにおいても、要求されたデータが自Nodeに格納されているデータには含まれていないと判断されるので、Node2およびNode5は、自Nodeの情報を経路情報としてそれぞれ付加した上で、隣接するNodeへ受信した要求命令をそれぞれ転送する。すなわち、図25(a)に示すように、Node2からNode3へ転送される要求命令には、経路情報として「Node1+2」が付加され、Node5からNode6へ転送される要求命令には、経路情報として「Node1+5」が付加される。   Each of Node 2 and Node 5 that has received the request command from Node 1 determines whether or not the requested data is included in the data stored in its own Node based on the content of the request command. In any Node, since it is determined that the requested data is not included in the data stored in the own Node, the Node 2 and Node 5 add the information of the own Node as route information, respectively. The received request command is transferred to each adjacent Node. That is, as illustrated in FIG. 25A, “Node1 + 2” is added as route information to the request command transferred from Node 2 to Node 3, and route information is added to the request command transferred from Node 5 to Node 6 as “ Node1 + 5 "is added.

以下、同様の処理がなされて、最終的には、送信要求は、2つの経路でNode3に転送される。同じ送信要求を受信したNode3は、それぞれに付加されている経路情報を参照し、その中継したNode数の最も少ない送信要求を、隣接するNode4へ転送する。あるいは、各Nodeに最も早く到達した送信要求のみを転送するようにしてもよい。   Thereafter, the same processing is performed, and finally, the transmission request is transferred to Node 3 through two paths. The Node 3 that receives the same transmission request refers to the route information added to each node, and transfers the transmission request with the smallest number of relayed Nodes to the adjacent Node 4. Or you may make it transfer only the transmission request which arrived at each Node earliest.

Node4では、要求されたデータが自Nodeに格納されているデータに含まれていると判断される。そして、Node4は、自身のマスクROM70Bに格納されている、要求されたデータを読出し、読出したデータを要求命令の送信元のNodeへ返送する。このとき、図25(b)に示すように、Node4から送信されるデータには、経路情報が付加される。この経路情報は、受信した送信要求に付加していた経路情報の基づいて生成されるものであり、図25(b)に示す例では、経路情報として「Node4+3+2+1」が付加される。その後、この付加された経路情報に従って、要求されたデータは、それぞれのNodeに転送されていき、最終的にNode1から読出部30C(図21)へ出力(送信)される。   In Node 4, it is determined that the requested data is included in the data stored in its own Node. Then, Node 4 reads the requested data stored in its own mask ROM 70B, and returns the read data to the Node that is the transmission source of the request command. At this time, as shown in FIG. 25B, route information is added to the data transmitted from Node4. This route information is generated based on the route information added to the received transmission request, and in the example shown in FIG. 25B, “Node4 + 3 + 2 + 1” is added as the route information. Thereafter, according to the added route information, the requested data is transferred to each Node, and finally output (transmitted) from Node 1 to reading unit 30C (FIG. 21).

あるいは、Node1とNode4との間の2つの経路を通じてデータを並列的に読出すことで、読出し速度をより高めることもできる。   Alternatively, the reading speed can be further increased by reading data in parallel through two paths between Node1 and Node4.

次に、上述のようなトポロジーにおいて、Node2とNode3との経路に何らかの故障があって、データの送受信ができない場合の処理について説明する。   Next, in the above-described topology, processing when data cannot be transmitted / received due to some failure in the route between Node 2 and Node 3 will be described.

図26(a)に示すように、Node1に対して要求命令が与えられると、上述の図25(a)と同様に、この要求命令はNode2まで転送される。しかしながら、Node2からNode3への要求命令の転送はできない。   As shown in FIG. 26A, when a request command is given to Node 1, this request command is transferred to Node 2 as in FIG. 25A described above. However, the request command cannot be transferred from Node2 to Node3.

一方、Node1からNode5へ転送された要求命令は、Node5→Node6→Node7の順に転送されてNode3へ到達する。さらに、Node3からNode4へこの要求命令は転送される。   On the other hand, the request command transferred from Node 1 to Node 5 is transferred in the order of Node 5 → Node 6 → Node 7 and reaches Node 3. Further, this request command is transferred from Node3 to Node4.

さらに、Node4は、このNode3から転送された要求命令を受信すると、自身のマスクROM70Bに格納されている、要求されたデータを読出し、読出したデータを要求命令の送信元のNodeへ返送する。このとき、要求命令に付加されていた経路情報「Node1+5+7+3」に基づいて、Node4で読出されたデータは、Node4→Node3→Node7→Node6→Node5の順に転送されてNode1へ到達する。   Further, when the node 4 receives the request command transferred from the node 3, the node 4 reads the requested data stored in its mask ROM 70B, and returns the read data to the node of the transmission source of the request command. At this time, based on the route information “Node1 + 5 + 7 + 3” added to the request command, the data read out at Node4 is transferred in the order of Node4 → Node3 → Node7 → Node6 → Node5 and reaches Node1.

このように、Node1からNode4への経路が複数存在する場合には、何らかの故障があっていずれかの経路が使用できない場合であっても、他の経路を介してデータの読出しを行なうことができる。   Thus, when there are a plurality of routes from Node 1 to Node 4, even if there is some failure and one of the routes cannot be used, data can be read via the other route. .

本実施の形態によれば、各半導体記憶装置100Cが隣接する他の半導体記憶装置100Cとの間でアドホックネットワークを自律的に確立するため、記憶システム500を構成する半導体記憶装置100Cは自由に設定することができる。さらに、半導体記憶装置100Cの配置順序についても自由に設定することができる。   According to the present embodiment, each semiconductor storage device 100C autonomously establishes an ad hoc network with another adjacent semiconductor storage device 100C, so that the semiconductor storage device 100C constituting the storage system 500 can be freely set. can do. Further, the arrangement order of the semiconductor memory device 100C can be freely set.

よって、保存すべきデータが増大した場合であっても、柔軟かつ自由に半導体記憶装置100Cを追加や変更することができる。   Therefore, even if the data to be stored increases, the semiconductor memory device 100C can be added or changed flexibly and freely.

また、本実施の形態によれば、いずれかの半導体記憶装置100Cに故障が生じた場合であっても、他の経路が自動的に選択されて、要求されたデータの読出しが継続される。そのため、より冗長性を高めて信頼性の高い記憶システムを実現できる。   Further, according to the present embodiment, even when a failure occurs in any one of the semiconductor memory devices 100C, another path is automatically selected and the requested data is continuously read. Therefore, it is possible to realize a highly reliable storage system with higher redundancy.

[実施の形態4の変形例]
上述の実施の形態4に対しても、実施の形態3の変形例と同様に、外部から電磁エネルギー(交番磁束)を供給することで各半導体記憶装置における内部電力を発生するように構成してもよい。なお、その具体的な構成については、実施の形態3の変形例と同様であるので、詳細な説明は繰返さない。
[Modification of Embodiment 4]
Similarly to the modification of the third embodiment, the fourth embodiment is also configured to generate internal power in each semiconductor memory device by supplying electromagnetic energy (alternating magnetic flux) from the outside. Also good. Since the specific configuration is the same as that of the modification of the third embodiment, detailed description will not be repeated.

[その他の形態]
上述の実施の形態1〜4およびその変形例では、半導体記憶装置に非接触でエネルギーを供給する構成として、光エネルギー(太陽電池)を用いる構成、および電磁エネルギーを用いる構成について例示したが、その他の構成を採用してもよい。
[Other forms]
In the above-described first to fourth embodiments and modifications thereof, the configuration using light energy (solar cell) and the configuration using electromagnetic energy are exemplified as the configuration for supplying energy to the semiconductor memory device in a non-contact manner. The configuration may be adopted.

たとえば、外部から熱エネルギーを供給する構成を採用することも可能である。具体的には、ゼーベック効果を生じる熱電変換素子を各半導体記憶装置に形成した上で、外部から熱エネルギーを供給、すなわち各半導体装置に温度変化を生じさせることで、内部電力を発生することが可能である。   For example, it is possible to adopt a configuration in which heat energy is supplied from the outside. Specifically, after forming a thermoelectric conversion element that generates the Seebeck effect in each semiconductor memory device, it is possible to generate internal power by supplying thermal energy from the outside, that is, causing a temperature change in each semiconductor device. Is possible.

今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は、上記した説明ではなく、特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。   The embodiment disclosed this time should be considered as illustrative in all points and not restrictive. The scope of the present invention is defined by the terms of the claims, rather than the description above, and is intended to include any modifications within the scope and meaning equivalent to the terms of the claims.

この発明の実施の形態1に従う記憶システム300の外観図である。1 is an external view of a storage system 300 according to Embodiment 1 of the present invention. FIG. 図1に示す記憶システム300の模式的な断面構造を示す概略図である。It is the schematic which shows the typical cross-section of the storage system 300 shown in FIG. この発明の実施の形態1に従う半導体記憶装置100の模式図である。1 is a schematic diagram of a semiconductor memory device 100 according to a first embodiment of the present invention. この発明の実施の形態1に従う半導体記憶装置100と受信部30の機能構成を示すブロック図である。FIG. 3 is a block diagram showing functional configurations of semiconductor memory device 100 and receiving unit 30 according to the first embodiment of the present invention. この発明の実施の形態1に従う半導体記憶装置100の断面構造を示す模式図である。1 is a schematic diagram showing a cross-sectional structure of a semiconductor memory device 100 according to a first embodiment of the present invention. この発明の実施の形態1に従う半導体記憶装置100から読出されるデータの一例を説明するための図である。FIG. 7 is a diagram for illustrating an example of data read from semiconductor memory device 100 according to the first embodiment of the present invention. この発明の実施の形態1に従う記憶システム300の受信部30における制御構造の一例を示す機能ブロック図である。It is a functional block diagram which shows an example of the control structure in the receiver 30 of the storage system 300 according to Embodiment 1 of this invention. この発明の実施の形態1に従う記憶システム300の受信部30における制御構造の他の例を示す機能ブロック図である。It is a functional block diagram which shows the other example of the control structure in the receiver 30 of the storage system 300 according to Embodiment 1 of this invention. この発明の実施の形態1に従う半導体記憶装置100を用いたデータ流通に係る処理手順の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the process sequence which concerns on the data distribution using the semiconductor memory device 100 according to Embodiment 1 of this invention. この発明の実施の形態1に従う半導体記憶装置100を用いたデータ流通に係る処理手順の別形態を示す図である。It is a figure which shows another form of the process sequence which concerns on the data distribution using the semiconductor memory device 100 according to Embodiment 1 of this invention. この発明の実施の形態1の変形例に従う半導体記憶装置100Aと受信部30Aの機能構成を示すブロック図である。It is a block diagram showing a functional configuration of a semiconductor memory device 100A and a receiving unit 30A according to a modification of the first embodiment of the present invention. この発明の実施の形態2に従う記憶システムを利用した構成の一例を示す外観図である。It is an external view which shows an example of the structure using the storage system according to Embodiment 2 of this invention. 図12に示す携帯型ゲーム装置200の断面構造を示す概略図である。It is the schematic which shows the cross-section of the portable game device 200 shown in FIG. この発明の実施の形態3に従う記憶システム400の外観図である。It is an external view of the storage system 400 according to Embodiment 3 of this invention. この発明の実施の形態3に従う半導体記憶装置100Bの平面構造を示すブロック図である。FIG. 11 is a block diagram showing a planar structure of a semiconductor memory device 100B according to the third embodiment of the present invention. 図15に示す半導体記憶装置100BのXVI−XVI線断面図である。FIG. 16 is a cross-sectional view of the semiconductor memory device 100B shown in FIG. 15 taken along line XVI-XVI. この発明の実施の形態3に従う記憶システム400におけるデータ伝送の状態を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the state of the data transmission in the storage system 400 according to Embodiment 3 of this invention. この発明の実施の形態3に従う記憶システム400における通信シーケンス図である。It is a communication sequence diagram in the storage system 400 according to Embodiment 3 of this invention. この発明の実施の形態3の変形例に従う記憶システム400Aの外観図である。It is an external view of the storage system 400A according to the modification of Embodiment 3 of this invention. この発明の実施の形態3の変形例に従う半導体記憶装置100Dの平面構造を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the planar structure of semiconductor memory device 100D according to the modification of Embodiment 3 of this invention. この発明の実施の形態4に従う記憶システム500の外観図である。It is an external view of the storage system 500 according to Embodiment 4 of this invention. この発明の実施の形態4に従う半導体記憶装置100Cの平面構造を示すブロック図である。It is a block diagram showing a planar structure of a semiconductor memory device 100C according to the fourth embodiment of the present invention. この発明の実施の形態3に従う半導体記憶装置100Cにおけるアンテナ配置を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows antenna arrangement | positioning in 100 C of semiconductor memory devices according to Embodiment 3 of this invention. 図21に示す記憶システム500を構成する場合の半導体装置100Cの位置関係を示す模式図である。FIG. 22 is a schematic diagram showing a positional relationship of a semiconductor device 100C when configuring the storage system 500 shown in FIG. 21. この発明の実施の形態4に従う記憶システム500における経路設定プロトコルを説明するための図である。It is a figure for demonstrating the route setting protocol in the storage system 500 according to Embodiment 4 of this invention. 図25に示すネットワークにおいて故障がある場合の処理を説明するための図である。It is a figure for demonstrating a process when there exists a failure in the network shown in FIG.

符号の説明Explanation of symbols

10,10A,10B,10C 制御部、12 インターフェイス部、20,20B,20C 光照射部、30,30A 受信部、30a,90 アンテナ、30b 受信回路、30c 送受信回路、30B,30C 読出部、31 シリアル変換部、32 訂正回路、33 復号回路、34,36 バッファ部、35 空間スイッチ、40 電源部、42 送信回路、44 受信回路、46,46−1〜46−6 送受信回路、48−1〜48−6 アンテナ、50,50B 太陽電池、60,60A,60B,60C,60D 制御回路、60a カウンタ回路、70,70B,70D マスクROM、80,80A 送受信回路、90A,90B 磁束供給部、96 電源回路、100,100A,100B,100C,100D 半導体記憶装置、102 基板、110 切欠部、120,120A 記憶セル、122 反射防止膜、124 n型半導体層、126 p型半導体層、128 p+不純物半導体層、130 電極層、132,134,136,136B,138B,138 スルーホール、140,150 絶縁膜、200 携帯型ゲーム装置、300,400,400A,500 記憶システム、310,310A 受信セル、410 ラック。   10, 10A, 10B, 10C control unit, 12 interface unit, 20, 20B, 20C light irradiation unit, 30, 30A reception unit, 30a, 90 antenna, 30b reception circuit, 30c transmission / reception circuit, 30B, 30C readout unit, 31 serial Conversion unit, 32 correction circuit, 33 decoding circuit, 34, 36 buffer unit, 35 space switch, 40 power supply unit, 42 transmission circuit, 44 reception circuit, 46, 46-1 to 46-6 transmission / reception circuit, 48-1 to 48 -6 antenna, 50, 50B solar cell, 60, 60A, 60B, 60C, 60D control circuit, 60a counter circuit, 70, 70B, 70D mask ROM, 80, 80A transceiver circuit, 90A, 90B magnetic flux supply unit, 96 power supply circuit , 100, 100A, 100B, 100C, 100D Semiconductor memory device, 10 2 substrate, 110 notch, 120, 120A memory cell, 122 antireflection film, 124 n-type semiconductor layer, 126 p-type semiconductor layer, 128 p + impurity semiconductor layer, 130 electrode layer, 132, 134, 136, 136B, 138B, 138 Through hole, 140, 150 insulating film, 200 portable game device, 300, 400, 400A, 500 storage system, 310, 310A receiving cell, 410 rack.

Claims (13)

複数の半導体記憶装置とデータ読出装置とからなる記憶システムであって、
前記複数の半導体記憶装置は、所定の規則に従って近接配置されており、
前記複数の半導体記憶装置の各々は、
光透過性の基板と、
前記基板を透過する光を受けて電力を発生する電力発生部と、
前記基板上に配置され、不揮発的にデータを格納する不揮発性記憶部と、
前記基板上に配置され、前記電力発生部からの電力を受けて前記不揮発性記憶部に格納されたデータを自装置に隣接する半導体記憶装置へ無線伝送する通信部と、
前記電力発生部、前記不揮発性記憶部、前記通信部の露出面を覆う封止膜とを含み、
前記通信部は、
前記自装置に隣接する半導体記憶装置からデータを受信するための受信部と、
前記自装置に隣接する別の半導体記憶装置へデータを送信するための送信部とを有し、
前記受信部と前記送信部とは、前記基板上で所定の距離だけ離れて形成されており、
前記複数の半導体記憶装置は、
隣接する半導体記憶装置間において、一方の前記受信部と他方の前記送信部とが近接するように配置され、
前記データ読出装置は、
前記複数の半導体記憶装置へ光を照射する光照射部と、
前記近接配置された複数の半導体記憶装置の少なくとも1つに近接して設けられ、当該半導体記憶装置が無線伝送するデータを受信する読出部とを含む、記憶システム。
A storage system comprising a plurality of semiconductor storage devices and a data reading device,
The plurality of semiconductor memory devices are arranged close to each other according to a predetermined rule,
Each of the plurality of semiconductor memory devices includes:
A light transmissive substrate;
A power generation unit that generates power by receiving light transmitted through the substrate;
A non-volatile storage unit that is disposed on the substrate and stores data in a non-volatile manner;
A communication unit that is disposed on the substrate and receives power from the power generation unit and wirelessly transmits data stored in the nonvolatile storage unit to a semiconductor storage device adjacent to the device;
A sealing film that covers an exposed surface of the power generation unit, the nonvolatile storage unit, and the communication unit;
The communication unit is
A receiving unit for receiving data from a semiconductor memory device adjacent to the device;
A transmission unit for transmitting data to another semiconductor memory device adjacent to the own device;
The receiving unit and the transmitting unit are formed apart from each other by a predetermined distance on the substrate,
The plurality of semiconductor memory devices are:
Between the adjacent semiconductor memory devices, one receiving unit and the other transmitting unit are arranged so as to be close to each other,
The data reading device comprises:
A light irradiation unit for irradiating light to the plurality of semiconductor memory devices;
A storage system comprising: a reading unit provided in proximity to at least one of the plurality of semiconductor storage devices arranged in proximity to each other and receiving data wirelessly transmitted by the semiconductor storage device.
前記通信部は、自装置に隣接する前記半導体記憶装置から受信したデータを自装置に隣接する別の前記半導体記憶装置へ転送する、請求項1に記載の記憶システム。   The storage system according to claim 1, wherein the communication unit transfers data received from the semiconductor storage device adjacent to the own device to another semiconductor storage device adjacent to the own device. 前記通信部は、自装置に隣接する前記半導体記憶装置から受信したデータを転送した後に、前記不揮発性記憶部に格納されたデータを当該転送先に送信する、請求項2に記載の記憶システム。   The storage system according to claim 2, wherein the communication unit transmits the data stored in the nonvolatile storage unit to the transfer destination after transferring the data received from the semiconductor storage device adjacent to the communication unit. 前記基板は、略円板状であり、
記受信部と前記送信部とは、略円板状の前記基板上でその中心について所定の円周角だけ離れて形成されており、
前記複数の半導体記憶装置は、その円周中心が同一直線上になるように配置されるとともに、隣接する半導体記憶装置間において、一方の前記受信部と他方の前記送信部とが近接するように配置される、請求項2または3に記載の記憶システム。
The substrate is substantially disc-shaped,
The said transmitter unit and the front Symbol receiver are spaced apart by a predetermined circumferential angle about its center in a substantially disk shape of the substrate,
The plurality of semiconductor memory devices are arranged so that their circumferential centers are on the same straight line, and one of the receiving units and the other transmitting unit are adjacent to each other between adjacent semiconductor memory devices. The storage system according to claim 2 or 3, wherein the storage system is arranged.
複数の半導体記憶装置とデータ読出装置とからなる記憶システムであって、
前記複数の半導体記憶装置は、所定の規則に従って近接配置されており、
前記複数の半導体記憶装置の各々は、
光透過性の基板と、
前記基板を透過する光を受けて電力を発生する電力発生部と、
前記基板上に配置され、不揮発的にデータを格納する不揮発性記憶部と、
前記基板上に配置され、前記電力発生部からの電力を受けて前記不揮発性記憶部に格納されたデータを自装置に隣接する半導体記憶装置へ無線伝送する通信部と、
前記電力発生部、前記不揮発性記憶部、前記通信部の露出面を覆う封止膜とを含み、
前記複数の半導体記憶装置は、各半導体記憶装置が複数の半導体記憶装置と近接するように配置されており、
前記通信部は、前記自装置に隣接する半導体記憶装置との間でデータ送信およびデータ受信が可能な複数の送受信部を含んでおり、
前記複数の送受信部は、前記基板上で互いに所定の距離だけ離れて形成されており、
前記複数の半導体記憶装置のうちの1つの半導体記憶装置は、
前記複数の送受信部のうちの1つの送受信部が、当該半導体記憶装置に隣接する半導体記憶装置の前記送受信部と近接するとともに、前記複数の送受信部のうちの別の送受信部が、当該半導体記憶装置に隣接する別の半導体記憶装置の前記送受信部と近接するように配置され、
前記送受信部の各々は、前記自装置に隣接する半導体記憶装置との間でアドホックネットワークを確立し、
前記データ読出装置は、
前記複数の半導体記憶装置へ光を照射する光照射部と、
前記近接配置された複数の半導体記憶装置の少なくとも1つに近接して設けられ、当該半導体記憶装置が無線伝送するデータを受信する読出部とを含む、記憶システム。
A storage system comprising a plurality of semiconductor storage devices and a data reading device,
The plurality of semiconductor memory devices are arranged close to each other according to a predetermined rule,
Each of the plurality of semiconductor memory devices includes:
A light transmissive substrate;
A power generation unit that generates power by receiving light transmitted through the substrate;
A non-volatile storage unit that is disposed on the substrate and stores data in a non-volatile manner;
A communication unit that is disposed on the substrate and receives power from the power generation unit and wirelessly transmits data stored in the nonvolatile storage unit to a semiconductor storage device adjacent to the device;
A sealing film that covers an exposed surface of the power generation unit, the nonvolatile storage unit, and the communication unit;
The plurality of semiconductor memory devices are arranged so that each semiconductor memory device is close to the plurality of semiconductor memory devices,
The communication unit includes a plurality of transmission / reception units capable of transmitting and receiving data to and from a semiconductor storage device adjacent to the device.
The plurality of transmission / reception units are formed apart from each other by a predetermined distance on the substrate,
One semiconductor memory device of the plurality of semiconductor memory devices is
One transmitter / receiver of the plurality of transmitter / receivers is adjacent to the transmitter / receiver of the semiconductor memory device adjacent to the semiconductor memory device, and another transmitter / receiver of the plurality of transmitter / receivers is the semiconductor memory. Arranged so as to be close to the transceiver unit of another semiconductor memory device adjacent to the device,
Each of the transmission / reception units establishes an ad hoc network with a semiconductor storage device adjacent to the own device ,
The data reading device comprises:
A light irradiation unit for irradiating light to the plurality of semiconductor memory devices;
A storage system comprising: a reading unit provided in proximity to at least one of the plurality of semiconductor storage devices arranged in proximity to each other and receiving data wirelessly transmitted by the semiconductor storage device.
前記封止膜は、二酸化シリコン膜である、請求項1〜5のいずれか1項に記載の記憶システム。   The storage system according to claim 1, wherein the sealing film is a silicon dioxide film. 所定の規則に従って近接配置された複数の半導体記憶装置からなる記憶システムに用いられる半導体記憶装置であって、
光透過性の基板と、
前記基板を透過する光を受けて電力を発生する電力発生部と、
前記基板上に配置され、不揮発的にデータを格納する不揮発性記憶部と、
前記基板上に配置され、前記電力発生部からの電力を受けて前記不揮発性記憶部に格納されたデータを自装置に隣接する半導体記憶装置へ無線伝送する通信部と、
前記電力発生部、前記不揮発性記憶部、前記通信部の露出面を覆う封止膜とを含
前記通信部は、
前記自装置に隣接する半導体記憶装置からデータを受信するための受信部と、
前記自装置に隣接する別の半導体記憶装置へデータを送信するための送信部とを有し、
前記受信部と前記送信部とは、前記基板上で所定の距離だけ離れて形成されており、
前記半導体記憶装置は、
前記自装置の前記受信部が、前記自装置に隣接する半導体記憶装置の前記送信部と近接するように配置される、半導体記憶装置。
A semiconductor storage device used in a storage system comprising a plurality of semiconductor storage devices arranged close to each other according to a predetermined rule,
A light transmissive substrate;
A power generation unit that generates power by receiving light transmitted through the substrate;
A non-volatile storage unit that is disposed on the substrate and stores data in a non-volatile manner;
A communication unit that is disposed on the substrate and receives power from the power generation unit and wirelessly transmits data stored in the nonvolatile storage unit to a semiconductor storage device adjacent to the device;
Said power generating unit, the nonvolatile storage unit, seen including a sealing film covering exposed surfaces of said communication unit,
The communication unit is
A receiving unit for receiving data from a semiconductor memory device adjacent to the device;
A transmission unit for transmitting data to another semiconductor memory device adjacent to the own device;
The receiving unit and the transmitting unit are formed apart from each other by a predetermined distance on the substrate,
The semiconductor memory device
A semiconductor memory device, wherein the receiving unit of the own device is arranged so as to be close to the transmitting unit of the semiconductor memory device adjacent to the own device.
複数の半導体記憶装置とデータ読出装置とからなる記憶システムであって、
前記複数の半導体記憶装置は、所定の規則に従って近接配置されており、
前記複数の半導体記憶装置の各々は、
基板と、
前記基板上に配置され、不揮発的にデータを格納する不揮発性記憶部と、
前記基板上に配置され、外部から非接触状態で供給されるエネルギーを受けて内部電力を発生する電力発生部と、
前記基板上に配置され、前記内部電力を受けて自装置に隣接する半導体記憶装置との間で無線信号を用いてデータを送受信可能な通信部と、
前記電力発生部、前記不揮発性記憶部、前記通信部の露出面を覆う封止膜とを含み、
前記通信部は、
前記自装置に隣接する半導体記憶装置からデータを受信するための受信部と、
前記自装置に隣接する別の半導体記憶装置へデータを送信するための送信部とを有し、
前記受信部と前記送信部とは、前記基板上で所定の距離だけ離れて形成されており、
前記複数の半導体記憶装置は、
隣接する半導体記憶装置間において、一方の前記受信部と他方の前記送信部とが近接するように配置され、
前記通信部は、自装置に隣接する前記半導体記憶装置からデータを受信すると、当該受信データを自装置に隣接する別の前記半導体記憶装置へ転送し、
前記データ読出装置は、前記近接配置された複数の半導体記憶装置の少なくとも1つに近接して設けられ、当該半導体記憶装置が転送するデータを受信する読出部を含む、記憶システム。
A storage system comprising a plurality of semiconductor storage devices and a data reading device,
The plurality of semiconductor memory devices are arranged close to each other according to a predetermined rule,
Each of the plurality of semiconductor memory devices includes:
A substrate,
A non-volatile storage unit that is disposed on the substrate and stores data in a non-volatile manner;
A power generation unit that is disposed on the substrate and generates internal power by receiving energy supplied in a non-contact state from the outside;
A communication unit that is arranged on the substrate and receives the internal power and can transmit and receive data using a wireless signal with a semiconductor memory device adjacent to the device;
A sealing film that covers an exposed surface of the power generation unit, the nonvolatile storage unit, and the communication unit;
The communication unit is
A receiving unit for receiving data from a semiconductor memory device adjacent to the device;
A transmission unit for transmitting data to another semiconductor memory device adjacent to the own device;
The receiving unit and the transmitting unit are formed apart from each other by a predetermined distance on the substrate,
The plurality of semiconductor memory devices are:
Between the adjacent semiconductor memory devices, one receiving unit and the other transmitting unit are arranged so as to be close to each other,
When the communication unit receives data from the semiconductor memory device adjacent to the device, the communication unit transfers the received data to another semiconductor memory device adjacent to the device.
The data reading device is a storage system including a reading unit that is provided in proximity to at least one of the plurality of semiconductor memory devices arranged close to each other and receives data transferred by the semiconductor memory device.
前記通信部は、自装置に隣接する前記半導体記憶装置から受信したデータを転送した後に、前記不揮発性記憶部に格納されたデータを当該転送先に送信する、請求項8に記載の記憶システム。   The storage system according to claim 8, wherein the communication unit transmits the data stored in the nonvolatile storage unit to the transfer destination after transferring the data received from the semiconductor storage device adjacent to the communication unit. 複数の半導体記憶装置とデータ読出装置とからなる記憶システムであって、
前記複数の半導体記憶装置は、所定の規則に従って近接配置されており、
前記複数の半導体記憶装置の各々は、
基板と、
前記基板上に配置され、不揮発的にデータを格納する不揮発性記憶部と、
前記基板上に配置され、外部から非接触状態で供給されるエネルギーを受けて内部電力を発生する電力発生部と、
前記基板上に配置され、前記内部電力を受けて自装置に隣接する半導体記憶装置との間で無線信号を用いてデータを送受信可能な通信部と、
前記電力発生部、前記不揮発性記憶部、前記通信部の露出面を覆う封止膜とを含み、
前記複数の半導体記憶装置は、各半導体記憶装置が複数の半導体記憶装置と近接するように配置されており、
前記通信部は、前記自装置に隣接する半導体記憶装置との間でデータ送信およびデータ受信が可能な複数の送受信部を含んでおり、
前記複数の送受信部は、前記基板上で互いに所定の距離だけ離れて形成されており、
前記複数の半導体記憶装置のうちの1つの半導体記憶装置は、
前記複数の送受信部のうちの1つの送受信部が、当該半導体記憶装置に隣接する半導体記憶装置の前記送受信部と近接するとともに、前記複数の送受信部のうちの別の送受信部が、当該半導体記憶装置に隣接する別の半導体記憶装置の前記送受信部と近接するように配置され、
前記送受信部の各々は、前記自装置に隣接する半導体記憶装置との間でアドホックネットワークを確立し、
前記通信部は、自装置に隣接する前記半導体記憶装置からデータを受信すると、当該受信データを自装置に隣接する別の前記半導体記憶装置へ転送し、
前記データ読出装置は、前記近接配置された複数の半導体記憶装置の少なくとも1つに近接して設けられ、当該半導体記憶装置が転送するデータを受信する読出部を含む、記憶システム。
A storage system comprising a plurality of semiconductor storage devices and a data reading device,
The plurality of semiconductor memory devices are arranged close to each other according to a predetermined rule,
Each of the plurality of semiconductor memory devices includes:
A substrate,
A non-volatile storage unit that is disposed on the substrate and stores data in a non-volatile manner;
A power generation unit that is disposed on the substrate and generates internal power by receiving energy supplied in a non-contact state from the outside;
A communication unit that is arranged on the substrate and receives the internal power and can transmit and receive data using a wireless signal with a semiconductor memory device adjacent to the device;
A sealing film that covers an exposed surface of the power generation unit, the nonvolatile storage unit, and the communication unit;
The plurality of semiconductor memory devices are arranged so that each semiconductor memory device is close to the plurality of semiconductor memory devices,
The communication unit includes a plurality of transmission / reception units capable of transmitting and receiving data to and from a semiconductor storage device adjacent to the device.
The plurality of transmission / reception units are formed apart from each other by a predetermined distance on the substrate,
One semiconductor memory device of the plurality of semiconductor memory devices is
One transmitter / receiver of the plurality of transmitter / receivers is adjacent to the transmitter / receiver of the semiconductor memory device adjacent to the semiconductor memory device, and another transmitter / receiver of the plurality of transmitter / receivers is the semiconductor memory. Arranged so as to be close to the transceiver unit of another semiconductor memory device adjacent to the device,
Each of the transmission / reception units establishes an ad hoc network with a semiconductor storage device adjacent to the own device ,
When the communication unit receives data from the semiconductor memory device adjacent to the device, the communication unit transfers the received data to another semiconductor memory device adjacent to the device.
The data reading device is a storage system including a reading unit that is provided in proximity to at least one of the plurality of semiconductor memory devices arranged close to each other and receives data transferred by the semiconductor memory device.
前記基板は、光透過性の基板であり、
前記電力発生部は、前記基板を透過する光を受けて電力を発生する太陽電池であり、
前記データ読出装置は、前記複数の半導体記憶装置へ光を照射する光照射部をさらに含む、請求項8〜10のいずれか1項に記載の記憶システム。
The substrate is a light transmissive substrate,
The power generation unit is a solar cell that generates power by receiving light transmitted through the substrate,
The storage system according to any one of claims 8 to 10, wherein the data reading device further includes a light irradiation unit that irradiates light to the plurality of semiconductor storage devices.
前記データ読出装置は、前記複数の半導体記憶装置へ交番磁束を供給する磁束供給部をさらに含み、
前記電力発生部は、
前記交番磁束と鎖交する位置に形成されたコイルと、
前記コイルが交番磁束と鎖交することで生じる起電力から内部電力を生成する電源回路とを含む、請求項8〜10のいずれか1項に記載の記憶システム。
The data reading device further includes a magnetic flux supply unit that supplies an alternating magnetic flux to the plurality of semiconductor memory devices,
The power generator is
A coil formed at a position interlinking with the alternating magnetic flux;
11. The storage system according to claim 8, further comprising: a power supply circuit that generates internal power from an electromotive force generated when the coil is interlinked with an alternating magnetic flux.
所定の規則に従って近接配置された複数の半導体記憶装置からなる記憶システムに用いられる半導体記憶装置であって、
基板と、
前記基板上に配置され、不揮発的にデータを格納する不揮発性記憶部と、
前記基板上に配置され、外部から非接触状態で供給されるエネルギーを受けて内部電力を発生する電力発生部と、
前記基板上に配置され、前記内部電力を受けて自装置に隣接する半導体記憶装置との間で無線信号を用いてデータを送受信可能な通信部と、
前記電力発生部、前記不揮発性記憶部、前記通信部の露出面を覆う封止膜とを含み、
前記通信部は、自装置に隣接する前記半導体記憶装置からデータを受信すると、当該受信データを自装置に隣接する別の前記半導体記憶装置へ転送し、
前記通信部は、
前記自装置に隣接する半導体記憶装置からデータを受信するための受信部と、
前記自装置に隣接する別の半導体記憶装置へデータを送信するための送信部とを有し、
前記受信部と前記送信部とは、前記基板上で所定の距離だけ離れて形成されており、
前記半導体記憶装置は、
前記自装置の前記受信部が、前記自装置に隣接する半導体記憶装置の前記送信部と近接するように配置される、半導体記憶装置。
A semiconductor storage device used in a storage system comprising a plurality of semiconductor storage devices arranged close to each other according to a predetermined rule,
A substrate,
A non-volatile storage unit that is disposed on the substrate and stores data in a non-volatile manner;
A power generation unit that is disposed on the substrate and generates internal power by receiving energy supplied in a non-contact state from the outside;
A communication unit that is arranged on the substrate and receives the internal power and can transmit and receive data using a wireless signal with a semiconductor memory device adjacent to the device;
A sealing film that covers an exposed surface of the power generation unit, the nonvolatile storage unit, and the communication unit;
When the communication unit receives data from the semiconductor memory device adjacent to the device, the communication unit transfers the received data to another semiconductor memory device adjacent to the device .
The communication unit is
A receiving unit for receiving data from a semiconductor memory device adjacent to the device;
A transmission unit for transmitting data to another semiconductor memory device adjacent to the own device;
The receiving unit and the transmitting unit are formed apart from each other by a predetermined distance on the substrate,
The semiconductor memory device
A semiconductor memory device, wherein the receiving unit of the own device is arranged so as to be close to the transmitting unit of the semiconductor memory device adjacent to the own device.
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