JP5055044B2 - Multi-shower head for multi-layer CVD - Google Patents
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Description
本発明は、主として半導体製造プロセスにおいて用いられるCVD用マルチシャワーヘッドに関し、特には、多層構造のCVD用マルチシャワーヘッドの製造方法に関する。 The present invention relates to a CVD multi-shower head mainly used in a semiconductor manufacturing process, and more particularly to a method for manufacturing a multi-layer CVD multi-shower head.
半導体製造プロセスにおいては、CVD(Chemical Vapor Deposition 化学気相成長)プロセスが用いられることが多い。それらプロセスに用いられる装置の中で、シャワーヘッドと名付けられた装置システムがある(特許文献1参照)。 特許文献1に示されるシャワーヘッドは、図5に示されるように、各段を構成するブロック体内にガス通路用のパターンを形成し、各段のブロックを積層一体化することによって相互に干渉しない複数のガス通路を構成するものである。すなわち、上段ブロック31には、上部に第1ガス(例えば原料ガス)導入口32、第2ガス(例えば燃料ガス)導入口33をそれぞれ有する第1ガス流路34、第2ガス流路35が形成されており、中段ブロック36には、前記第1ガス流路34、第2ガス流路35にそれぞれ連通する第1ガス流路34’、第2ガス流路35’が、さらに、下段ブロック37には、第1ガス流路34”、第2ガス流路35”が、それぞれ形成され、上段ブロック31、中段ブロック36および下段ブロック37が順次密着密閉されてシャワーヘッド38が構成される。
In the semiconductor manufacturing process, a CVD (Chemical Vapor Deposition) process is often used. Among the apparatuses used in these processes, there is an apparatus system named a shower head (see Patent Document 1). As shown in FIG. 5, the shower head shown in
そして、下段ブロック37の下側に形成される第1ガス噴出口39、第2ガス噴出口40から第1ガス、第2ガスがそれぞれ噴出され、ここで両ガスが混合され、化学反応が起こると同時にガス噴出口に対向して設置されている処理対象物(図示せず)の表面に化学反応生成物の皮膜が形成される。なお、41は冷却水路である。
特許文献1によれば、「ガス噴出口」39、40は、「例えば10〜20mm程度の所定のピッチで整然と配列されて」おり、その「孔径」は、「例えば5〜6mm程度に設定される」とされ、「ガス噴射孔」及び「ガス流路」は、「ドリル加工により容易に形成することが可能である。」とされている。
Then, the first gas and the second gas are respectively ejected from the first
According to
ブロックの板厚内にガス流路を形成することなく、板厚方向に貫通するガス流路と表面に掘られる凹部を形成されたブロックを組み合わせることによってシャワーヘッドを構成する改良形も知られている(特許文献2参照)。
特許文献2によれば、図6に示されるとおり、2種類のプロセスガス(例えば、4塩化チタンとアンモニア)は、表面板(a faceplate)42に設けられた表面板板厚貫通路43と、下部ガス分配板(a lower gas distribution plate)44に設けられた下部ガス分配板板厚貫通路45とを通してプロセス領域(the process rigion)46に供給され、混合され、化学反応が起こると同時に、各プロセスガスの噴出口に対向して設置されている処理対象物47の表面に化学反応生成物の皮膜が形成される。なお、48はボルトであり、該ボルト48で表面板42、下部ガス分配板44ならびにガス分配集成体(a gasdistribution manifold)49が相互に固定されている。
There is also known an improved type in which a shower head is configured by combining a gas channel penetrating in the plate thickness direction and a block formed with a recess dug in the surface without forming a gas channel in the plate thickness. (See Patent Document 2).
According to
特許文献2におけるプロセスガスの噴出口パターンは、図7に示すような例が例示されている。
特許文献2によれば、表面板の板厚はほぼ2.5mm程度、板厚貫通路は、その長さ(深さ)がほぼ1.21mm程度、隣接中心間距離がほぼ6.35mm程度であり、その径は約0.64mm(0.025 inches)程度とされている。
特許文献1、特許文献2にそれぞれ示されているシャワーヘッド装置においては、ブロック・板にそれぞれ設けられたガス通路の密度が疎らであるので、対向端部の径を大きくする余裕があり、ブロックないし板の位置合わせにそれほど神経を使わなくても組み立てることは容易である。
An example of the process gas jet pattern in
According to
In the showerhead devices shown in
この種の反応系においては、噴出後の混合によって各ガスの反応が開始され、それらの反応後速やかに被処理物表面に皮膜形成されることが好ましいので、ガス通路ないし板厚貫通路の密度(径と隣接通路中心間隔)は細かいことが、皮膜の均一性等を実現するために、一般に好ましい。
ガス通路の密度を上げるために、径の小さなドリルを用いるとき、ドリル自体の強度も小さくなり、また、一般に、ドリルによる穿孔深さはドリル径の6〜10倍が限度とされていることから、ドリルにより形成する貫通孔のみでガス通路密度の高いシャワーヘッドを作成することには限度がある。
貫通孔の中に所要内径を有するパイプを嵌め込むことによって、ガス通路の密度を上げることを、本出願人は試みている。その概要を図8に示す。
In this type of reaction system, the reaction of each gas is started by mixing after ejection, and it is preferable that a film is formed on the surface of the workpiece immediately after the reaction. It is generally preferable that the (diameter and the center distance between adjacent passages) is small in order to achieve uniformity of the film and the like.
When using a drill with a small diameter to increase the density of the gas passage, the strength of the drill itself is also reduced, and generally the drilling depth by the drill is limited to 6 to 10 times the drill diameter. There is a limit to producing a shower head having a high gas passage density only with through holes formed by a drill.
The applicant has attempted to increase the density of the gas passages by fitting a pipe having the required inner diameter into the through hole. The outline is shown in FIG.
図8において、下板51には、ガス1(例えば原料ガス)通路用孔58およびガス2(例えば燃料ガス)通路用孔52が形成されている。上板53の下面には広範囲に凹部54が形成され、下板51のガス2通路用孔52に対応する位置には、ガス2通路用孔55が穿たれている。そして、下板51と上板53とが対接され、ガス2通路用孔52およびガス2通路用孔55に亘って、長ガス通路パイプ56が埋設される。ガス1通路用孔58には、短ガス通路パイプが埋設されてもよい。
In FIG. 8, a gas 1 (for example, source gas)
下板51と上板53の対接部分、下板51と上板53とに穿たれたガス2通路用孔52、55と長ガス通路パイプ56、更には、用いた場合には短ガス通路パイプと下板51のガス2通路用孔52周囲とは、気密(ガス密)に、例えばロウ付けなどで、接合される。
一般の金属材料においては、クリアランスが50μm程度であれば、例えばロウ付けなどで気密(ガス密)に接合される。
なお、57は、被処理物である。
The contact portion between the
In the case of a general metal material, if the clearance is about 50 μm, it is joined in an airtight (gas tight) manner, for example, by brazing.
ガス通路用孔へのガス通路パイプの挿入において、短ガス通路パイプの場合は、下板51にだけ関係するのであるから、格別の問題はない。
長ガス通路パイプ56の場合には、下板51と上板53との両方に関係するので、問題となることが多くなりやすい。
2つの方法があり得る。その1は、用いる場合には、下板51に短ガス通路パイプをセットした後に、下板51と上板53とを、ガス2通路用孔52とガス2通路用孔55とが対応するように重ね合わせて、そこに長ガス通路パイプ56を共通に挿通させる方法である。この方法は、比較的クリアランスの少ない孔が長くなるに従って、加工精度ならびにパイプ自体の強度が問題となっていき、困難さが増加する。
In the insertion of the gas passage pipe into the gas passage hole, since the short gas passage pipe is related only to the
In the case of the long
There can be two ways. First, in the case of use, after setting a short gas passage pipe on the
その2は、用いる場合には、下板51に短ガス通路パイプをセットし、続いて長ガス通路パイプ56をもセットし(このとき、長ガス通路パイプ56の大半は、下板51の上方向に突出する)、その突出している長ガス通路パイプ56群に上板53のガス2通路用孔55を適合させながら挿通させる方法である。この方法は、パイプの本数が増加する、ないしパイプの密度が大きくなるに従って、上板53の挿通が困難になってくる。
Second, when used, a short gas passage pipe is set on the
シャワーヘッドへの高性能化の課題としては、第1に、反応系の高温化に対応する冷却機能の付加であり、第2は、反応に関与するガス(物質)の多様化である。
それらの高性能化を実現するための思考実験的なアプローチとしては、“ブロックないし板の増加”が想定し得る。しかし、前述の通りの、気密接合が可能な50μm程度のクリアランスでの数百本のパイプの同時挿通は、実際には不可能に近い。
The problem of improving the performance of the shower head is firstly the addition of a cooling function corresponding to the higher temperature of the reaction system, and secondly the diversification of gases (substances) involved in the reaction.
As an approach of thinking experiment to realize such high performance, “increase in blocks or boards” can be assumed. However, as described above, simultaneous insertion of several hundred pipes with a clearance of about 50 μm capable of airtight joining is almost impossible.
以上の事情から、本発明は、多段のシャワーヘッドを実用的に実現する方策を確立することを課題とする。 In view of the above circumstances, an object of the present invention is to establish a policy for practically realizing a multi-stage shower head.
本発明の多層構造のCVD用マルチシャワーヘッドは、反応ガスを被処理物の近傍で混合しCVD法で被処理物の表面に被膜を形成するシャワーヘッドであって、蓋板、上板、中板及び下板を積層して形成される多層構造のCVD用マルチシャワーヘッドにおいて、蓋板と上板との間に第1流体が供給される第1流体分配空間が形成され、上板と中板との間に第2流体が供給される第2流体分配空間が形成され、中板と下板との間に第3流体が供給される第3流体分配空間が形成され、前記第1流体分配空間内の第1流体を反応空間に噴出するための第1流体通路パイプが上板、中板、下板を貫通して挿通され、前記第2流体分配空間内の第2流体を反応空間に噴出するための第2流体通路パイプが中板、下板を貫通して挿通され、前記第1と第2の流体通路パイプが挿通された上板及び中板の貫通孔において、該貫通孔と流体通路パイプとの間隙にパイプガイドが挿通設置されていることを特徴としている。なお、前記貫通孔において、流体通路パイプ及びパイプガイドとの間はロウ材で気密構造とするのが好ましい。 CVD multi shower head having a multilayer structure of the present invention, the reaction gas to a shower head to form a coating film on the surface of the object to be treated by mixing the CVD method in the vicinity of the object, the cover plate, the upper plate, medium In a multi-layer CVD multi-shower head formed by laminating a plate and a lower plate , a first fluid distribution space for supplying a first fluid is formed between the cover plate and the upper plate, and the upper plate and the middle plate A second fluid distribution space to be supplied with a second fluid is formed between the plate and a third fluid distribution space to be supplied with a third fluid between the middle plate and the lower plate. A first fluid passage pipe for ejecting the first fluid in the distribution space to the reaction space is inserted through the upper plate, the middle plate, and the lower plate, and the second fluid in the second fluid distribution space is passed through the reaction space. A second fluid passage pipe for injecting into the first through the middle plate and the lower plate, In the through hole of the second fluid passage pipe inserted through the top and middle plate, it is characterized in that gap pipe guide between the through hole and the fluid passage pipe is inserted installed. In the through hole, it is preferable that a space between the fluid passage pipe and the pipe guide is made of a brazing material.
数千本の流体通路パイプを林立させた状態で貫通孔を形成させた板に嵌め込むことが、本発明のように、流体通路パイプを小外径とし、貫通孔と流体通路パイプとの間にパイプガイドを挿入することによって、製造工業的に可能となるという絶大な効果が得られ、その結果として、均一・精密なCVD皮膜の形成が効率化される。 By inserting thousands of fluid passage pipes into a plate having through holes formed in a forested state, as in the present invention, the fluid passage pipes have a small outer diameter, and between the through holes and the fluid passage pipes. By inserting the pipe guide into the wall, the great effect that it becomes possible in the manufacturing industry is obtained, and as a result, the formation of a uniform and precise CVD film is made efficient.
本発明は、貫通孔の内径とガス通路パイプの外径とのギャップを、挿通に支障の無いように十分に大きく設け、その貫通孔の内径とガス通路パイプの外径とのギャップは、パイプガイドをその間隙に挿通・追加することにより、気密(ガス密)に接合され得る50μm程度にまで埋めることを基本的なコンセプトとする。
以下に、図面を参照しつつ、本発明を詳細に説明する。
初めに、本発明のシャワーヘッドの実施の形態における流体および冷却水の流れをそれぞれに分けて表した説明図を図1に示す。
図1において、1は本発明のシャワーヘッドであり、基本的に、蓋板2、上板3、中板4、下板5からなる。
The present invention provides a sufficiently large gap between the inner diameter of the through hole and the outer diameter of the gas passage pipe so as not to hinder the insertion, and the gap between the inner diameter of the through hole and the outer diameter of the gas passage pipe The basic concept is to fill the gap to about 50 μm that can be joined in an airtight (gas tight) manner by inserting and adding a guide to the gap.
Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
First, FIG. 1 is an explanatory view showing the flow of the fluid and the cooling water in the embodiment of the shower head of the present invention separately.
In FIG. 1,
第1流体(例えば原料ガス)は、第1流体供給口6から、蓋板2の下部に形成された第1流体分配空間7を介して第1流体通路パイプ8(図4も参照)に供給され、反応空間9に噴出される。
第2流体(例えば燃料ガス)は、図1中段に示されるように、第2流体供給具10から第2流体分配空間11介して第2流体通路パイプ12(図4も参照)に供給され、反応空間9に噴出される。
第3流体(例えば、冷却水)は、図1下段に示されるように、第3流体供給通路13から第3流体分配空間14を通過し、第3流体排出通路15から系外へと排出される。
The first fluid (for example, source gas) is supplied from the first fluid supply port 6 to the first fluid passage pipe 8 (see also FIG. 4) through the first
As shown in the middle stage of FIG. 1, the second fluid (for example, fuel gas) is supplied from the second
As shown in the lower part of FIG. 1, the third fluid (for example, cooling water) passes through the third
図2には、本発明のシャワーヘッドの実施の形態における全体構成を説明図として示す。
図2には、図1で説明した蓋板2、上板3、中板4、下板5、さらに、第1流体分配空間7、第2流体分配空間11、第3流体分配空間14、それらの空間にそれぞれのガスないし冷却水を供給・排出する第1流体供給口6、第1流体通路パイプ8、第2流体供給具10、第2流体通路パイプ12、第3流体供給通路13、第3流体排出通路15が示されている。なお、16は、温度センサーその他の操業中のパラメータ測定端子挿入用の測定端子サイトであって、図示例では、一つの半径に5サイトとしているが、1列中のサイト数、また設定半径数は適宜とすることができ、さらには、列をなさずに面内に分散したものであっても良い。
In FIG. 2, the whole structure in embodiment of the shower head of this invention is shown as explanatory drawing.
FIG. 2 shows the
第1流体通路パイプ8および第2流体通路パイプ12の反応空間側の端部は、流体噴出口17となっており、その配列の一例が図2(b)に示されている。図2(b)に示された例では、流体噴出口が配列された単位正方形の1辺の長さが4mmで、図示例では第1流体の噴出口1589個、第2流体の噴出口1588個の、合計3177個のものである。
流体噴出口17は、図3に拡大して示されるように、例えば、第1流体噴出口18、第2流体噴出口19のように、正方形の各頂点を交互に配列される。正方形は正六角形配列とすることもできるし、各噴出口の間隔が近似するように配列されるものであれば、各種の配列とすることができる。但し、ガス反応系の種類により、あるいは各ガス成分の活動度に差異がある場合、等では、第1流体と第2流体の噴出口は、均等に配列させることは必ずしも必要不可欠なものではない。
The ends of the first
As shown in an enlarged view in FIG. 3, the
次に、図4を用いて、本発明のマルチシャワーヘッドの製造方法を説明する。なお、ここでは、本発明の骨子部分である、従来極めて困難とされてきた高密度に反応ガス噴射口を実現する部分について、主として説明する。
平板である下板5には、第1流体通路パイプ8および第2流体通路パイプ12を挿通する貫通孔20を穿孔する。貫通孔20の内径と流体通路パイプ(第1流体通路パイプ8および第2流体通路パイプ12)の外径とのクリアランスは、50μm程度とする。
中板4には、第3流体分配空間14となる凹部を形成し、第3流体供給通路13とパイプガイド21、23挿通設置用の貫通孔22、24を穿孔する。
Next, the manufacturing method of the multi shower head of this invention is demonstrated using FIG. Here, the main part of the present invention, which is a part that realizes the reactive gas injection ports at a high density, which has been considered extremely difficult in the past, will be mainly described.
A through-
The
上板3には、第2流体分配空間11となる凹部を形成し、第3流体供給通路13と第2流体供給具用の貫通孔(図示省略)とパイプガイド23挿通設置用の貫通孔24を穿孔する。パイプガイド(21、23)挿通設置用の貫通孔(22、24)の大きさ(内径)とパイプガイド(21、23)の外側の大きさ(外径)とのクリアランスは、50μm程度とする。
図示例では、貫通孔22および貫通孔24の孔形状にプロフィールを有する例を示したが、ストレート貫通孔でも差し支えない。
蓋板2には、第3流体供給通路13と第2流体供給具用の貫通孔(図示省略)と、第1流体供給口6(図1等、図4では図示省略)を形成する。
The
In the example of illustration, although the example which has a profile in the hole shape of the through-
The
組み立ては、次の通りである。
下板5に設けられている流体通路パイプ用の貫通孔20に、所定の配列になるように流体通路パイプを挿通立設する。
クリアランスが50μm程度であれば、1本ずつ行うので、流体通路パイプの挿通立設操作に格別の支障はない。
流体通路パイプ(第1流体通路パイプ8および第2流体通路パイプ12)の林立している下板5に、中板4を重ねる。下板5には多数の流体通路パイプが林立しているが、流体通路パイプと、パイプガイド21、23挿通設置用の貫通孔22、24とのクリアランスは、パイプガイド21、23が挿入可能な分だけあるので、重ね操作に格別の支障はない。
The assembly is as follows.
The fluid passage pipe is inserted and erected in the through
If the clearance is about 50 μm, since it is performed one by one, there is no particular problem in the operation of inserting and standing the fluid passage pipe.
The
下板5と中板4との重ね合わせの後、流体通路パイプ(第1流体通路パイプ8および第2流体通路パイプ12)とパイプガイド21、23挿通設置用の貫通孔22、24との間隙にパイプガイド21、23を挿通設置する。
ここでは、第2流体通路パイプ12の先端は、第2流体分配空間内に開口し、第1流体通路パイプ8は、中板4から大きく突出している。
下板5と中板4との対接部、流体通路パイプとパイプガイド(パイプガイド21、23)との接合部、パイプガイドと中板4との接合部にロウ材を塗布・載置等する。
After the
Here, the distal end of the second
A brazing material is applied to and placed on the joint between the
中板4の上から、突出している第1流体通路パイプ8をパイプガイド23挿通設置用の貫通孔24に挿通しつつ、上板3を重ね合わせる。貫通孔24と第1流体通路パイプ8とのクリアランスは、パイプガイド23が挿入可能な分だけあるので、重ね操作に格別の支障はない。そして、パイプガイド23を挿通設置する。
ここでは、第1流体通路パイプ8の先端は、第1流体分配空間内に開口している。
中板4と上板3との対接部、流体通路パイプとパイプガイド23との接合部にロウ材を塗布・載置等する。
The
Here, the tip of the first
A brazing material is applied to and placed on the contact portion between the
上板3の上に、蓋板2を載置し、その対接部にロウ材を塗布・載置等する。
これらの組み立て体の全体を、真空炉に挿入し所定温度に加熱することにより、ロウ材を塗布・載置等した箇所で漏れのない多層構造のマルチシャワーヘッドが製造される。
本発明のマルチシャワーヘッドを構成する素材については、従来用いられてきた耐熱性・耐蝕性の高いSUS316L等のステンレス材、純Ni材、インコネル材等が用いられ得る。
また、プロセス温度が低い場合には、アルミ材等で全ての部材を構成しても良い。
The
The entire assembly is inserted into a vacuum furnace and heated to a predetermined temperature, thereby producing a multi-shower head having a multilayer structure that does not leak at a place where a brazing material is applied and placed.
As the material constituting the multi shower head of the present invention, a conventionally used stainless material such as SUS316L having high heat resistance and corrosion resistance, pure Ni material, Inconel material, and the like can be used.
Further, when the process temperature is low, all members may be made of an aluminum material or the like.
以上、2ガス反応系と冷却系とを確保するマルチ(3)シャワーヘッドについて説明してきたが、低温反応系で3ガス(それ以上)反応系であれば、例えば、第3流体分配空間から反応系空間への通路を形成することにより、対応変形することが可能であることはいうまでもない。さらに、中板類似の板を重ねることによって、更なるマルチシャワーヘッドを構成することも可能である。但し、流体噴出口の配列パターンには、それなりの考慮を払う必要が出てくることはいうまでもない。 The multi (3) shower head that secures the two-gas reaction system and the cooling system has been described above. However, if the low-temperature reaction system is a three-gas (or more) reaction system, for example, the reaction starts from the third fluid distribution space. Needless to say, it is possible to perform corresponding deformation by forming a passage to the system space. Furthermore, it is possible to construct a further multi-shower head by stacking similar plates. However, it goes without saying that it is necessary to pay due consideration to the arrangement pattern of the fluid ejection ports.
流体通路パイプの内径0.4±0.01mm、外径1.2mm、パイプガイドの内径1.2mm、外径2.4mm、パイプガイド挿入孔の径2.4mm、で、上板・中板・下板の板厚は、順に9mm、11.5mm、4mm、流体噴出口配置面は1辺4mmの正四角形形状のものを試作した。
今回製作したマルチシャワーヘッドの材料としては、半導体プロセスに使用可能で、耐熱性・耐食性が優れ、比較的安価であるSUS316L材で、全ての部材を構成した。
各部分に気密性が損なわれている箇所は見られなかった。
Fluid passage pipe inner diameter 0.4 ± 0.01mm, outer diameter 1.2mm, pipe guide inner diameter 1.2mm, outer diameter 2.4mm, pipe guide insertion hole diameter 2.4mm, upper plate / middle plate -The plate thickness of the lower plate was 9 mm, 11.5 mm, 4 mm in order, and a fluid jet outlet arrangement surface was prototyped with a regular square shape with a side of 4 mm.
As the material of the multi shower head manufactured this time, all members are made of SUS316L material that can be used in semiconductor processes, has excellent heat resistance and corrosion resistance, and is relatively inexpensive.
There were no places where airtightness was impaired in each part.
本発明によれば、流体噴出口分布の細かいマルチシャワーヘッドが高性能に高能率に製造することができ、それを用いることによって、設計意図通りの精密な皮膜形成が可能となるため、皮膜形成に係る半導体製造等の産業分野に寄与する処大である。 According to the present invention, a multi-shower head with a fine distribution of fluid jets can be manufactured with high performance and high efficiency, and by using this, it becomes possible to form a precise film as intended. This is a big contribution to the industrial field such as semiconductor manufacturing.
1:シャワーヘッド
2:蓋板
3:上板
4:中板
5:下板
6:第1流体(例えば原料ガス)供給口
7:第1流体分配空間
8:第1流体通路パイプ
9:反応空間
10:第2流体(例えば燃料ガス)供給具
11:第2流体分配空間
12:第2流体通路パイプ
13:第3流体供給通路
14:第3流体分配空間
15:第3流体排出通路
16:測定端子サイト
17:流体噴出口
18:第1流体噴出口
19:第2流体噴出口
20:(流体通路パイプ用)貫通孔
21:パイプガイド
22:(パイプガイド用)貫通孔
23:パイプガイド
24:(パイプガイド用)貫通孔
31:上段ブロック
32:第1ガス導入口
33:第2ガス導入口
34、34’、34’:第1ガス流路
35、35’、35”:第2ガス流路
36:中段ブロック
37:下段ブロック
38:シャワーヘッド
39:第1ガス噴出口
40:第2ガス噴出口
41:冷却水路
42:表面板(a faceplate)
43:表面板板厚貫通路
44:下部ガス分配板
45:下部ガス分配板板厚貫通路
46:プロセス領域
47:処理対象物
48:ボルト
49:ガス分配集成体
51:下板
58:ガス1(例えば原料ガス)通路用孔
52:ガス2(例えば燃料ガス)通路用孔
53:上板
54:(上板の)凹部
55:ガス2通路用孔
56:長ガス通路パイプ
57:被処理物
1: shower head 2: lid plate 3: upper plate 4: middle plate 5: lower plate 6: first fluid (for example, source gas) supply port 7: first fluid distribution space 8: first fluid passage pipe 9: reaction space 10: Second fluid (for example, fuel gas) supply tool 11: Second fluid distribution space 12: Second fluid passage pipe 13: Third fluid supply passage 14: Third fluid distribution space 15: Third fluid discharge passage 16: Measurement Terminal site 17: Fluid outlet 18: First fluid outlet 19: Second fluid outlet 20: (For fluid passage pipe) Through hole 21: Pipe guide 22: (For pipe guide) Through hole 23: Pipe guide 24: (For pipe guide) Through hole 31: Upper block 32: First gas inlet 33:
43: Surface plate thickness through passage 44: Lower gas distribution plate 45: Lower gas distribution plate thickness through passage 46: Process region 47: Process object 48: Bolt 49: Gas distribution assembly 51: Lower plate 58: Gas 1 (For example, source gas) passage hole 52: gas 2 (for example, fuel gas) passage hole 53: upper plate 54: recess (of upper plate) 55:
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