JP5047315B2 - Ceramic circuit board - Google Patents
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Description
本発明は、セラミックス回路基板に関するものである。さらに詳細には、本発明は、高出力トランジスタ、パワーモジュール等の実装に好適なセラミックス回路基板に関するものである。 The present invention relates to a ceramic circuit board. More specifically, the present invention relates to a ceramic circuit board suitable for mounting high-power transistors, power modules, and the like.
近年、セラミックス基板上に導電性材料、例えば銅板、からなる金属回路板を設けたセラミックス回路基板が使用されている。このようなセラミックス回路基板は、一般に電気絶縁性が高く耐熱性が良好であることから高出力トランジスタやパワーモジュールなどの回路基板として特に有用なものである。 In recent years, a ceramic circuit board in which a metal circuit board made of a conductive material such as a copper plate is provided on a ceramic board has been used. Such ceramic circuit boards are particularly useful as circuit boards for high-power transistors and power modules because they generally have high electrical insulation and good heat resistance.
しかし、セラミックス基板とこの基板上に設けられる金属回路板とは熱膨張係数が通常大きく異なっており、また両者の接合が高温度条件下でなされることが多いことから、接合後に冷却された場合、両者間の残留応力によってセラミックス回路基板が金属回路層側に凹状に湾曲することがあった。 However, the ceramic substrate and the metal circuit board provided on this substrate usually have a large coefficient of thermal expansion, and both are often joined under high temperature conditions. The ceramic circuit board may be bent concavely toward the metal circuit layer due to the residual stress between the two.
このように金属回路層側に凹状に湾曲したセラミックス回路基板は、電子素子、例えば高出力トランジスタやパワーモジュールなどの実装工程におけるはんだフロー性が悪い場合が多くて実装信頼性低下の要因となっていた。
セラミックス回路基板を例えば産業用機械などに搭載する場合には特に高い実装信頼性が要求されるが、上記理由によりこの要求を満たすことは容易ではなかった。
In this way, the ceramic circuit board curved in a concave shape on the metal circuit layer side often has poor solder flow properties in the mounting process of electronic elements such as high-power transistors and power modules, which causes a decrease in mounting reliability. It was.
When a ceramic circuit board is mounted on, for example, an industrial machine, a particularly high mounting reliability is required. However, it has not been easy to satisfy this requirement for the reasons described above.
本発明は、電子素子の実装工程におけるはんだフロー性が向上したセラミックス回路基板を提供しようとするものである。 The present invention seeks to provide a ceramic circuit board with improved solder flow in the mounting process of electronic elements.
したがって、本発明によるセラミックス回路基板は、セラミックス基板上に金属回路板が設けられ、このセラミックス基板の反対面側には前記金属回路板と同一または異なる金属から構成された金属板が設けられてなるセラミックス回路基板であって、前記セラミックス回路板が前記金属板側に凹状形状に反っており、その反り量が前記セラミックス回路基板の長手方向の長さの０．１５〜０．３０％であること、を特徴とするものである。 Therefore, the ceramic circuit board according to the present invention is provided with a metal circuit board on the ceramic board, and a metal board made of the same or different metal as the metal circuit board is provided on the opposite side of the ceramic board. A ceramic circuit board, wherein the ceramic circuit board warps in a concave shape toward the metal plate, and the amount of warpage is 0.15 to 0.30% of the length in the longitudinal direction of the ceramic circuit board. , Is characterized by.
本発明によるセラミックス回路基板は、電子素子が実装される金属回路板側に凸状形状に反っており、その反り量が前記セラミックス回路基板の長手方向の長さの０．１５〜０．３０％であることから、電子素子の実装時のはんだフロー性が良好になり、はんだが金属回路板上で局在化するのが抑制される。 The ceramic circuit board according to the present invention is warped in a convex shape on the side of the metal circuit board on which electronic elements are mounted, and the amount of warpage is 0.15 to 0.30% of the length in the longitudinal direction of the ceramic circuit board. Therefore, the solder flow property at the time of mounting the electronic element is improved, and it is suppressed that the solder is localized on the metal circuit board.
以下、本発明によるセラミックス回路基板を必要に応じて図面を参照しながら説明する。
図１は、本発明によるセラミックス回路基板の好ましい一具体例の断面を示すすものである。このセラミックス回路基板１は、セラミックス基板２上に金属回路板３が設けられ、このセラミックス基板１の前記金属回路板３の反対面側には金属板４が設けられてなるものであり、このセラミックス回路板１は、前記金属回路板３側に凸状形状に反っており、その反り量Ａは前記セラミックス回路基板の長手方向の長さＢの０．１５〜０．３０％となっている。このように反り量Ａは金属回路板を接合後の反り量を示すものである。セラミックス回路基板の長手方向とは、セラミックス基板の縦横に対し長い方を示すものである。また、セラミックス回路基板の長手方向の長さＢとは接合後のセラミックス基板の端部から端部までの距離を示すものである。このとき簡易的には金属回路板接合前の実質的に反りがないセラミックス基板の長手方向の長さを長さＢとして適用してもよい。なぜなら本発明は（反り量Ａ／セラミックス回路基板の長手方向の長さＢ）×１００が０．１５〜０．３０％と小さいからであり実測においての影響は少ないからである。
Hereinafter, a ceramic circuit board according to the present invention will be described with reference to the drawings as necessary.
FIG. 1 shows a cross-section of a preferred embodiment of a ceramic circuit board according to the present invention. The ceramic circuit board 1 is provided with a
このような本発明によるセラミックス回路基板に使用されるセラミックス基板は、特に限定されるものでなく、合目的的な任意のものを使用することができる。例えば、（イ）窒化物系セラミックス、例えば窒化アルミニウム、窒化珪素、窒化チタン等、（ロ）酸化物系セラミックス、例えば酸化アルミニウム、酸化アルミニウムと酸化ジルコニウムとの化合物、（ハ）炭化物系セラミックス、例えば炭化珪素、炭化チタン等、（ニ）硼化物系セラミックス、例えば硼化ランタン等、を使用することができる。これらの中では、窒化アルミニウム、窒化珪素、酸化アルミニウム、および酸化アルミニウムと酸化ジルコニウムとの化合物が好ましい。 The ceramic substrate used for the ceramic circuit board according to the present invention is not particularly limited, and any desired purpose can be used. For example, (a) nitride ceramics such as aluminum nitride, silicon nitride, titanium nitride, etc. (b) oxide ceramics such as aluminum oxide, compounds of aluminum oxide and zirconium oxide, (c) carbide ceramics such as Silicon carbide, titanium carbide and the like, (d) boride-based ceramics such as lanthanum boride and the like can be used. Among these, aluminum nitride, silicon nitride, aluminum oxide, and a compound of aluminum oxide and zirconium oxide are preferable.
これらの各セラミックスには、焼結助剤、例えば酸化イットリウム等の希土類酸化物、酸化マグネシウム等の金属酸化物を含有されていてもよい。焼結助剤の含有量は、２〜２０重量％の範囲が好ましい。 Each of these ceramics may contain a sintering aid, for example, a rare earth oxide such as yttrium oxide, or a metal oxide such as magnesium oxide. The content of the sintering aid is preferably in the range of 2 to 20% by weight.
セラミックス基板の厚さは、実装される電子素子の大きさや重量、発熱量、セラミックス回路基板の大きさ、必要な強度、耐久性等を考慮したうえで、セラミックス回路基板が所定の反り量のものとなるように、金属回路板の厚さないしセラミックス基板の反対面に設けられる金属板（以下、本明細書において「裏金属板」という場合がある）の厚さなどとの関連から定めることができる。セラミックス基板の厚さは特に限定されるものではないが０．３〜１ｍｍ、さらには０．３〜０．７ｍｍの範囲が好ましい。セラミックス基板の厚さが０．３ｍｍ未満であると基板の強度が保ち難く割れの原因になり易い。一方、基板厚さが１ｍｍを超えるとセラミックス回路基板の薄型化が困難になると共に所定の反り量を保ち難い。 The thickness of the ceramic circuit board is determined based on the size and weight of the electronic element to be mounted, the amount of heat generated, the size of the ceramic circuit board, the required strength, durability, etc. The thickness of the metal circuit board is not determined, and the thickness is determined in relation to the thickness of the metal plate (hereinafter, sometimes referred to as “back metal plate” in this specification) provided on the opposite surface of the ceramic substrate. it can. The thickness of the ceramic substrate is not particularly limited, but is preferably in the range of 0.3 to 1 mm, more preferably 0.3 to 0.7 mm. If the thickness of the ceramic substrate is less than 0.3 mm, it is difficult to maintain the strength of the substrate, which tends to cause cracking. On the other hand, if the substrate thickness exceeds 1 mm, it is difficult to reduce the thickness of the ceramic circuit board and it is difficult to maintain a predetermined amount of warpage.
本発明によるセラミックス回路基板の金属回路板を構成する金属は、前記のセラミックス基板の構成成分と共晶化合物を生成し、直接接合法や活性金属法による接合方法を適用できる金属であれば特に限定されない。本発明では、例えば銅、アルミニウム、鉄、ニッケル、クロム、銀、モリブデン、コバルトの単体またはその合金などを使用することができる。導電性および価格などの観点からは、銅、アルミニウムおよびその合金が特に好ましい。 The metal constituting the metal circuit board of the ceramic circuit board according to the present invention is particularly limited as long as it is a metal that can form a eutectic compound with the components of the ceramic board and can apply a direct joining method or a joining method by an active metal method. Not. In the present invention, for example, copper, aluminum, iron, nickel, chromium, silver, molybdenum, cobalt alone or an alloy thereof can be used. From the viewpoints of conductivity and cost, copper, aluminum and alloys thereof are particularly preferable.
この金属回路板の厚さは、通電容量およびセラミックス回路基板の反り量を考慮して決定することができる。金属回路板の厚さは、０．２５〜１ｍｍ、さらには０．２５〜０．６ｍｍの範囲が好ましい。金属回路板の厚さが０．２５ｍｍ未満では通電容量を確保し難く回路板としての効果が小さい。一方、金属回路板の厚さが１ｍｍを超えると通電容量は確保できるものの金属回路板が厚すぎるため所定の反り量を確保し難い。 The thickness of the metal circuit board can be determined in consideration of the current carrying capacity and the warpage amount of the ceramic circuit board. The thickness of the metal circuit board is preferably in the range of 0.25 to 1 mm, more preferably 0.25 to 0.6 mm. If the thickness of the metal circuit board is less than 0.25 mm, it is difficult to secure a current-carrying capacity and the effect as a circuit board is small. On the other hand, if the thickness of the metal circuit board exceeds 1 mm, the current-carrying capacity can be secured, but the metal circuit board is too thick and it is difficult to secure a predetermined amount of warpage.
前記のセラミックス基板と金属回路板の接合は、直接接合法および活性金属法によって行うことができる。特に金属回路板として銅回路板を使用し直接接合法によって接合する場合には、酸素を１００〜１０００ｐｐｍ含有するタフピッチ電解銅からなる銅回路板を使用し、さらに後述するよう銅回路板表面に所定の厚さで酸化銅層を予め形成することにより、直接接合時に発生するＣｕ‐Ｏ共晶の量を増加させることによって基板と銅回路板との接合強度をより向上させることができる。なお、直接接合法は、酸化アルミニウムなどの酸化物系セラミックス基板を使用した場合には直ちに適用可能であるが、非酸化物系セラミックス（例えば窒化アルミニウムや窒化珪素等）の場合のように金属回路板との接合強度が不足する場合には、非酸化物系セラミックス基板の表面に予め酸化物層を形成させることが好ましい。この酸化物層は、セラミックス基板を酸化雰囲気中で１０００〜１４００℃の温度で２〜１５時間加熱処理することによって形成させることができる。また、他にはＡｌ−Ｓｉ合金板を金属回路板に用いて直接接合することも可能である。 The ceramic substrate and the metal circuit board can be joined by a direct joining method and an active metal method. In particular, when a copper circuit board is used as a metal circuit board and bonded by a direct bonding method, a copper circuit board made of tough pitch electrolytic copper containing 100 to 1000 ppm of oxygen is used, and a predetermined surface is provided on the surface of the copper circuit board as described later. By previously forming the copper oxide layer with the thickness of, the bonding strength between the substrate and the copper circuit board can be further improved by increasing the amount of Cu—O eutectic generated during direct bonding. The direct bonding method can be applied immediately when an oxide ceramic substrate such as aluminum oxide is used, but a metal circuit as in the case of non-oxide ceramics (for example, aluminum nitride or silicon nitride). When the bonding strength with the plate is insufficient, it is preferable to previously form an oxide layer on the surface of the non-oxide ceramic substrate. This oxide layer can be formed by heat-treating the ceramic substrate at a temperature of 1000 to 1400 ° C. for 2 to 15 hours in an oxidizing atmosphere. In addition, it is also possible to directly join using an Al-Si alloy plate as a metal circuit board.
活性金属法でセラミックス基板と金属回路板との接合を行う場合には、適当なろう付け材、例えばＴｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｎｂから選択される少なくとも一種の活性金属を含有するＡｇ‐Ｃｕ系ろう付け材を使用して、好ましくは真空中で７００〜９５０℃で５〜３０分間加熱することによって接合を行うことができる。 When the ceramic substrate and the metal circuit board are joined by the active metal method, a suitable brazing material, for example, an Ag-Cu brazing material containing at least one active metal selected from Ti, Zr, Hf, and Nb. Bonding can be performed using an adhesive material, preferably by heating at 700 to 950 ° C. for 5 to 30 minutes in a vacuum.
セラミックス回路基板の金属回路板の反対側に設けられる金属板（裏金属板）の金属も特に限定されない。本発明での裏金属板は、前記の金属回路板を構成する金属と同一または異なる金属によって構成することができるが、本発明で好ましい金属は前記の金属回路板を構成している金属である。このように裏金属板を金属回路板と同じ金属で構成することにより、裏金属板とセラミックス基板との接合を、金属回路板と同じ方法によって金属回路板の接合と同時に行うことができるようになる。 The metal of the metal plate (back metal plate) provided on the opposite side of the ceramic circuit board from the metal circuit board is not particularly limited. The back metal plate in the present invention can be composed of the same or different metal as the metal constituting the metal circuit plate, but the preferred metal in the present invention is the metal constituting the metal circuit plate. . By configuring the back metal plate with the same metal as the metal circuit board in this way, the back metal plate and the ceramic substrate can be joined simultaneously with the joining of the metal circuit board by the same method as the metal circuit board. Become.
この裏金属板の厚さは、セラミックス回路基板が金属回路板側に凸状形状に反りかつその反り量が所定のものとなるようにするために、通常、金属回路板の厚さよりも薄くした方が効果的である。裏金属板の具体的な厚さは、金属回路板の厚さおよびセラミックス基板の厚さ、セラミックス回路基板の反り量に応じて変化するが、金属回路板の厚さの０．５〜１．５倍、好ましくは０．５〜０．８倍、の厚さが適当である。 The thickness of the back metal plate is usually made thinner than the thickness of the metal circuit board so that the ceramic circuit board warps in a convex shape toward the metal circuit board and the amount of warpage becomes a predetermined value. Is more effective. The specific thickness of the back metal plate varies depending on the thickness of the metal circuit board, the thickness of the ceramic substrate, and the amount of warpage of the ceramic circuit substrate. A thickness of 5 times, preferably 0.5 to 0.8 times is appropriate.
また、セラミックス回路基板を金属回路板側に凸状に反りかつその反り量を所定のものにするためには、セラミックス基板上の前記金属回路板の面積と裏金属板の面積とが所定の面積比を有するようにすることも効果的である。即ち、金属回路板のセラミックス基板との接合面積を面積（１）、裏金属板のセラミックス基板との接合面積を面積（２）とした場合の（面積（１）／面積（２））×１００が４０〜９５％、さらには５０〜９０％であることが好ましい。なお、金属回路板が複数の金属回路板からなる場合は、その金属回路板のすべての面積を合わせた数値を面積（１）とする。同様に裏金属板が複数の金属板からなるときは、すべての裏金属板の面積を合わせた数値を面積（２）とする。 Further, in order to warp the ceramic circuit board convexly toward the metal circuit board and to make the amount of warpage predetermined, the area of the metal circuit board and the area of the back metal plate on the ceramic board are predetermined areas. It is also effective to have a ratio. That is, (Area (1) / Area (2)) × 100 where the bonding area of the metal circuit board to the ceramic substrate is area (1) and the bonding area of the back metal plate to the ceramic substrate is area (2). Is preferably 40 to 95%, more preferably 50 to 90%. In addition, when a metal circuit board consists of a some metal circuit board, let the numerical value which united all the areas of the metal circuit board be an area (1). Similarly, when the back metal plate is composed of a plurality of metal plates, a value obtained by adding the areas of all the back metal plates is defined as area (2).
金属回路板の面積（１）が裏金属板の面積（２）の９５％を超える場合には、セラミックス回路基板の反り量が不足し、一方、金属回路層の面積（１）が裏金属層の面積（２）の４０％未満の場合にはセラミックス回路基板の反り量が大きくなりすぎる場合がある。このように所定の反り量を持たせるためには上記のような方法があり、これらの２つの方法を組合せて反り量を制御することも可能である。また、当然ながら本発明はセラミックス回路基板に所定の反り量を具備させたことに特徴のあるものであるから必ずしも製造方法が上記方法に限定されるものではない。 When the area (1) of the metal circuit board exceeds 95% of the area (2) of the back metal plate, the warp amount of the ceramic circuit board is insufficient, while the area (1) of the metal circuit layer is the back metal layer. If the area (2) is less than 40%, the amount of warpage of the ceramic circuit board may be too large. In order to provide a predetermined amount of warp as described above, there is a method as described above, and it is also possible to control the amount of warp by combining these two methods. Of course, since the present invention is characterized in that the ceramic circuit board is provided with a predetermined amount of warpage, the manufacturing method is not necessarily limited to the above method.
そして、本発明によるセラミックス回路基板の反り量は、セラミックス回路基板の長手方向の長さの０．１５〜０．３０％、好ましくは０．１５〜０．２０％、である。反り量が０．１５％未満の場合には、はんだフロー性の向上効果が充分得られず、一方、０．３０％を超える場合には、セラミックス回路基板の反り量が大きくなりすぎて、強度および電子素子の実装上の問題が発生する場合がある。 And the curvature amount of the ceramic circuit board by this invention is 0.15-0.30% of the length of the longitudinal direction of a ceramic circuit board, Preferably it is 0.15-0.20%. If the warpage amount is less than 0.15%, the effect of improving the solder flow property is not sufficiently obtained. On the other hand, if the warpage amount exceeds 0.30%, the warpage amount of the ceramic circuit board becomes too large and the strength is increased. In addition, there may be a problem in mounting the electronic element.
（実施例１〜６、比較例１〜３）
表１に示した材質を主成分とするセラミックス基板の縦５０ｍｍ×横５０ｍｍ×厚さ０．６３５ｍｍ、金属回路板を縦３０ｍｍ×横１０ｍｍ×厚さ０．２５ｍｍの銅板を２枚（接合時の間隔は１ｍｍ）、裏金属板を縦４０ｍｍ×横４０ｍｍ×厚さ０．２０ｍｍの銅板とし、直接接合法または活性金属法により所定の反り量Ａを有するセラミックス回路基板を作製した。
(Examples 1-6, Comparative Examples 1-3)
Two copper plates (50 mm long × 50 mm wide × 0.635 mm thick) and 30 mm long × 10 mm wide × 0.25 mm thick metal circuit board (mainly bonded) The interval was 1 mm), and the back metal plate was a copper plate having a length of 40 mm × width of 40 mm × thickness of 0.20 mm, and a ceramic circuit board having a predetermined warpage amount A was produced by a direct bonding method or an active metal method.
このセラミックス回路基板に対し、リフロー工法により電子素子を表面実装した際のはんだフロー性を検討した。はんだフロー性の測定としては、リフロー工程の際はんだフローによる金属回路板のショートなどの不具合の発生の有無を各１００個ずつ測定し、不具合発生が０〜１個のものをはんだフロー性「良好」、２〜４個のものを「やや不良」、５個以上のものを「不良」として表示した。その結果を表１に示す。 This ceramic circuit board was examined for solder flow when electronic devices were surface-mounted by the reflow method. For the measurement of solder flow, 100 pieces each of the occurrence of defects such as short circuit of the metal circuit board due to the solder flow during the reflow process are measured. 2-4 pieces were displayed as “slightly defective”, and 5 or more pieces were displayed as “defective”. The results are shown in Table 1.
また、比較のために反り量を本発明の範囲外のセラミックス回路基板を作製し、同様の測定を行った。なお、（反り量／セラミックス回路基板の長手方向の長さ）×１００の測定において、セラミックス基板の長手方向の長さＢとして金属回路板接合前のセラミックス基板の長手方向の長さである５０ｍｍを用いて算出した。 For comparison, a ceramic circuit board having a warpage amount outside the range of the present invention was produced, and the same measurement was performed. In the measurement of (amount of warpage / length in the longitudinal direction of the ceramic circuit board) × 100, the length B in the longitudinal direction of the ceramic substrate is 50 mm, which is the length in the longitudinal direction of the ceramic substrate before joining the metal circuit board. Used to calculate.
表１から分かる通り、本実施例にかかるセラミックス回路基板のはんだフロー性は良好であり、不具合の発生は０〜１個に抑えられた。
As can be seen from Table 1, the solder flowability of the ceramic circuit board according to this example was good, and the occurrence of defects was suppressed to 0 to 1.
それに対し、反り量の大きい比較例２および裏金属板側に反った比較例３は不具合が多く、はんだフロー性は不良またはやや不良となった。これは反り量が不十分であることから２つの金属回路板の間隔１ｍｍの間にはんだが流れ込んでしまいショートの原因となってしまったことが原因である。また、反り量の小さい比較例１は反り量が不十分であることから金属回路板側に凸状に反った効果が十分得られていないことが分かった。 On the other hand, Comparative Example 2 with a large amount of warpage and Comparative Example 3 warped to the back metal plate side had many defects, and the solder flow property was poor or slightly poor. This is due to the fact that the amount of warpage is insufficient, so that the solder flows into the interval of 1 mm between the two metal circuit boards, causing a short circuit. Further, it was found that Comparative Example 1 having a small amount of warping did not have a sufficient effect of warping in a convex shape toward the metal circuit board because the amount of warping was insufficient.
（実施例７〜１１、比較例４）
次に金属回路板と裏金属板の厚さおよび面積率とを関係を検討する。縦６０ｍｍ×横４０ｍｍ×厚さ０．８ｍｍの酸化アルミニウム基板を用意した。これに対し、板厚および面積率［（面積（１）／面積（２））×１００（％）］を表２のように変えたときの反り量を測定した。
(Examples 7 to 11 and Comparative Example 4)
Next, the relationship between the thickness and area ratio of the metal circuit board and the back metal board will be examined. An aluminum oxide substrate 60 mm long × 40 mm wide × 0.8 mm thick was prepared. On the other hand, the amount of warpage when the plate thickness and the area ratio [(area (1) / area (2)) × 100 (%)] were changed as shown in Table 2 was measured.
なお、（反り量／セラミックス回路基板の長手方向の長さ）×１００（％）の値を測定する際のセラミックス回路基板の長手方向の長さは金属回路板接合後の長さＢにて対応した。また、金属回路板は同一サイズのものを３枚用意し、その全ての面積を合せて面積（１）とし、裏金属板は１枚で形成し面積（２）とした。 The length in the longitudinal direction of the ceramic circuit board when measuring the value of (warping amount / length in the longitudinal direction of the ceramic circuit board) × 100 (%) corresponds to the length B after joining the metal circuit boards. did. In addition, three metal circuit boards having the same size were prepared, and all the areas were combined to make area (1), and the back metal board was made of one board to make area (2).
また、比較例４として金属回路板と裏金属板の厚さおよび面積率との関係が本発明の好ましい範囲外であるものを用意した。各金属回路板および裏金属板はいずれも直接結合法にて接合することによりセラミックス回路基板を作製した。 Further, as Comparative Example 4, one in which the relationship between the thickness and area ratio of the metal circuit plate and the back metal plate was outside the preferable range of the present invention was prepared. A ceramic circuit board was produced by bonding each metal circuit board and back metal board by a direct bonding method.
表２から分かる通り、金属回路板の厚さ＞裏金属板の厚さ、（金属回路板の面積（１）／裏金属板の面積（２））×１００（％）＝５０〜９５％のものは、（反り量Ａ／基板の長手方向の長さＢ）×１００（％）を０．１５〜０．３０（％）にできることが判明した。
As can be seen from Table 2, the thickness of the metal circuit board> the thickness of the back metal plate, (the area of the metal circuit board (1) / the area of the back metal plate (2)) × 100 (%) = 50 to 95% It has been found that (amount of warpage A / length B in the longitudinal direction of the substrate) × 100 (%) can be 0.15 to 0.30 (%).
また、裏金属板の厚さ／金属回路板の厚さの比が０．５〜０．８である実施例８、実施例１０、実施例１１はいずれも（反り量Ａ／基板の長手方向の長さＢ）×１００（％）の値が０．１５〜０．２０％と本発明の好ましい範囲にすることができた。 Moreover, all of Example 8, Example 10, and Example 11 in which the ratio of the thickness of the back metal plate / the thickness of the metal circuit board is 0.5 to 0.8 (warping amount A / longitudinal direction of the substrate) The length B) × 100 (%) was 0.15 to 0.20%, which was within the preferred range of the present invention.
このような本実施例にかかるセラミックス回路基板はいずれもはんだフロー性は良好であった。
それに対し、比較例４のものは裏金属板側に凸状に反ってしまい反りが発生する方向が逆になってしまった。
The ceramic circuit board according to this example had good solder flow properties.
On the other hand, the comparative example 4 was warped convexly toward the back metal plate, and the direction in which the warp occurred was reversed.
（実施例１２〜１３）
セラミックス基板として、窒化アルミニウム基板（厚さ０．６３５ｍｍ）と窒化珪素基板（厚さ０．３５ｍｍ）を用意した。金属回路板（厚さ０．３５ｍｍ）および裏金属板（厚さ０．２５ｍｍ）としてＡｌ‐６ｗｔ％Ｓｉ合金板を用意した。
(Examples 12 to 13)
As the ceramic substrate, an aluminum nitride substrate (thickness 0.635 mm) and a silicon nitride substrate (thickness 0.35 mm) were prepared. An Al-6 wt% Si alloy plate was prepared as a metal circuit plate (thickness 0.35 mm) and a back metal plate (thickness 0.25 mm).
金属回路板と裏金属板の面積比［（面積（１）／面積（２））×１００％］を８０％になるよう調整しセラミックス基板に直接結合した。このようなセラミックス回路基板に対し、（反り量Ａ／セラミックス基板の長手方向の長さ）×１００（％）を求め、更にはんだリフロー性を実施例１と同条件により測定した。その結果を表３に示す。 The area ratio [(area (1) / area (2)) × 100%] of the metal circuit plate and the back metal plate was adjusted to 80% and directly bonded to the ceramic substrate. With respect to such a ceramic circuit board, (amount of warp A / length in the longitudinal direction of the ceramic board) × 100 (%) was determined, and solder reflow properties were measured under the same conditions as in Example 1. The results are shown in Table 3.
表３から分かる通り、金属回路板および裏金属板の材質を変えたとしても同様な効果が得られることが分かった。
As can be seen from Table 3, the same effect can be obtained even if the material of the metal circuit board and the back metal board is changed.
（発明の効果）
本発明によるセラミックス回路基板は、電子素子が実装される金属回路板側に凸状形状に反っており、その反り量が前記セラミックス回路基板の長手方向の長さの０．１５〜０．３０％であることから、電子素子の実装時のはんだフロー性が良好になり、はんだが金属回路板上で局在化するのが抑制される。
(Effect of the invention)
The ceramic circuit board according to the present invention is warped in a convex shape on the side of the metal circuit board on which electronic elements are mounted, and the amount of warpage is 0.15 to 0.30% of the length in the longitudinal direction of the ceramic circuit board. Therefore, the solder flow property at the time of mounting the electronic element is improved, and it is suppressed that the solder is localized on the metal circuit board.
１ セラミックス回路基板
２ セラミックス基板
３ 金属回路板
４ 金属板（裏金属板）
Ａ 反り量
Ｂ セラミックス回路基板の長手方向の長さ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Ceramic circuit board 2
A Warp amount B Length of ceramic circuit board in the longitudinal direction
Claims (4)
（イ）前記金属回路板の厚さが０．２５〜１ｍｍであり、（ロ）前記金属板の厚さが前記金属回路板の厚さの０．５〜０．８倍であり、（ハ）その反り量が前記セラミックス回路基板の長手方向の長さの０．１５〜０．３０％であり、（ニ）前記の複数の金属回路板の面積が前記金属板の面積の４０〜９５％であり、（ホ）前記金属回路板が２枚または３枚であることを特徴とする、セラミックス回路基板。 A ceramic circuit board in which a plurality of metal circuit boards are provided on a ceramic board, and a single metal board made of the same metal as the metal circuit board is provided on the opposite side of the ceramic board. The ceramic circuit board is warped in a convex shape on the metal circuit board side,
(B) The thickness of the metal circuit board is 0.25 to 1 mm, and (b) the thickness of the metal board is 0.5 to 0.8 times the thickness of the metal circuit board. ) The amount of warpage is 0.15 to 0.30% of the length in the longitudinal direction of the ceramic circuit board, and (d) the area of the plurality of metal circuit boards is 40 to 95% of the area of the metal plates. (E) A ceramic circuit board comprising two or three metal circuit boards .
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