JP5044831B2

JP5044831B2 - Electro-optical device and electronic apparatus

Info

Publication number: JP5044831B2
Application number: JP2007078305A
Authority: JP
Inventors: 明秀春山
Original assignee: 株式会社ジャパンディスプレイウェスト
Priority date: 2007-03-26
Filing date: 2007-03-26
Publication date: 2012-10-10
Anticipated expiration: 2027-03-26
Also published as: JP2008241790A

Description

本発明は、電気光学装置及び電子機器に関する。 The present invention relates to an electro-optical device and an electronic apparatus.

Ｋｅｒｒ効果による電子分極を利用した電気光学装置が知られている。Ｋｅｒｒ効果とは、電界を印加したときに当該電界の方向を軸として電界強度の２乗に比例する大きさの光学異方性を示す現象をいう。このようなＫｅｒｒ効果を示す電気光学物質として、例えばブルー相と呼ばれる液晶材料が知られている。液晶層としてブルー相を用いた液晶表示装置は、応答速度が速いことで知られている。ブルー相は、電界が印加されていない状態では光学等方性を呈している。ブルー相が所定範囲内の温度にあるとき、当該ブルー相に電界を印加すると電界強度の２乗に比例する光学異方性を示す。 An electro-optical device using electronic polarization due to the Kerr effect is known. The Kerr effect refers to a phenomenon that exhibits optical anisotropy having a magnitude proportional to the square of the electric field strength with the electric field direction as an axis when an electric field is applied. As an electro-optical substance exhibiting such a Kerr effect, for example, a liquid crystal material called a blue phase is known. A liquid crystal display device using a blue phase as a liquid crystal layer is known for its high response speed. The blue phase exhibits optical isotropy when no electric field is applied. When the blue phase is at a temperature within a predetermined range, an optical anisotropy proportional to the square of the electric field strength is exhibited when an electric field is applied to the blue phase.

近年では、携帯電話機や携帯情報端末等の携帯用電子機器の表示部として、液晶表示装置などの電気光学装置が用いられていることが多い。一般に、携帯用電子機器に用いられる液晶表示装置としては、反射表示及び透過表示が可能な半透過反射型のものが採用されている。特に、横電界方式の液晶表示装置は視野角が広いことで知られている。しかし、この横電界方式の半透過反射型において、透過、反射の領域のリタデーションを電圧のON、OFFによって同時に０にできないため、反射領域に内面位相差を形成する必要がある。そこで、このような横電界方式の半透過反射型液晶表示装置に液晶層としてブルー相を用いることで、上記のような位相差板を必要とせず、視野角の向上及び高速応答が可能となる（例えば、特許文献１参照。）。また、通常の横電界方式の液晶表示装置において、電圧印加により界面付近の液晶の配向が変化することで、その近傍の液晶分子も弾性的に変化し、その結果、液晶層の厚み方向に配向の変化が伝播していく。一方、ブルー相に代表されるＫeｒｒ効果を用いた電気光学装置では、電界により界面の液晶分子が変化しても、横電界の印加されない領域において、弾性的な変化はほとんどなく、電界の生じた局所的な領域でしか光学異方性を示さない。
特開２００６−３８４０号公報 In recent years, electro-optical devices such as liquid crystal display devices are often used as display units of portable electronic devices such as mobile phones and portable information terminals. In general, as a liquid crystal display device used for a portable electronic device, a transflective type capable of reflective display and transmissive display is adopted. In particular, a horizontal electric field type liquid crystal display device is known to have a wide viewing angle. However, in the transflective type of the horizontal electric field method, the retardation of the transmission and reflection regions cannot be simultaneously reduced to 0 by turning on and off the voltage, and thus it is necessary to form an inner surface phase difference in the reflection region. Therefore, by using a blue phase as a liquid crystal layer in such a transverse electric field type transflective liquid crystal display device, the viewing angle can be improved and a high-speed response can be achieved without the need for the retardation plate as described above. (For example, refer to Patent Document 1). Moreover, in a normal lateral electric field type liquid crystal display device, the liquid crystal molecules in the vicinity of the interface change elastically by changing the orientation of the liquid crystal in the vicinity of the interface by voltage application, and as a result, the liquid crystal layer is aligned in the thickness direction. Changes will propagate. On the other hand, in the electro-optical device using the Kerr effect typified by the blue phase, even if the liquid crystal molecules at the interface change due to the electric field, there is almost no elastic change in the region where the transverse electric field is not applied, and the electric field is generated. It exhibits optical anisotropy only in a local region.
JP 2006-3840 A

しかしながら、特許文献１に記載の半透過反射型の液晶表示装置においては、反射表示領域の屈折率位相差（リタデーション）と透過表示領域のリタデーションとが一致しないという問題がある。反射表示領域と透過表示領域との間でリタデーションが一致しないと、両領域で光透過率が異なることになる。光透過率が異なることによって、両領域で表示の明るさが異なってしまい、電圧に対する階調特性が変わり、画質の低下やコントラスト差が生じる原因となる。反射表示領域と透過表示領域との間でコントラストに差があると、表示特性が悪くなってしまう。ブルー相を用いた液晶表示装置に限らず、Ｋｅｒｒ効果を発現する電気光学物質を用いた電気光学装置において同様の問題がある。 However, the transflective liquid crystal display device described in Patent Document 1 has a problem in that the refractive index phase difference (retardation) in the reflective display region does not match the retardation in the transmissive display region. If the retardation does not match between the reflective display area and the transmissive display area, the light transmittance will be different between the two areas. Due to the difference in the light transmittance, the brightness of the display is different between the two regions, the gradation characteristics with respect to the voltage change, and this causes a reduction in image quality and a contrast difference. If there is a difference in contrast between the reflective display area and the transmissive display area, the display characteristics are deteriorated. There is a similar problem not only in a liquid crystal display device using a blue phase but also in an electro-optical device using an electro-optical material that exhibits the Kerr effect.

以上のような事情に鑑み、本発明の目的は、表示特性の高い電気光学装置及び電子機器を提供することにある。 In view of the circumstances as described above, an object of the present invention is to provide an electro-optical device and an electronic apparatus having high display characteristics.

上記目的を達成するため、本発明に係る電気光学装置は、対向配置された一対の基板と、一対の基板に挟持され、電界の非印加時に光学的に等方性を示し且つ電界の印加時には電界強度の２乗に比例する光学異方性を示す電気光学物質を有する電気光学物質層とを具備する電気光学装置であって、反射表示を行う反射表示領域と透過表示を行う透過表示領域とを有する複数のサブ画素領域を具備し、反射表示領域における電気光学物質層の層厚が、透過表示領域における電気光学物質層の層厚の３分の１以下であるとする。 To achieve the above object, an electro-optical device according to the present invention includes a pair of substrates facing each other, are clamped to the substrate one pair, and applying an electric field indicates the optically isotropic when no application of an electric field An electro-optical device having an electro-optical material layer having an electro-optical material exhibiting optical anisotropy proportional to the square of the electric field strength sometimes, a reflective display region for performing reflective display and a transmissive display region for performing transmissive display It comprises a plurality of sub-pixel areas having a preparative layer thickness of put that electric-optical material layer in reflection display region is less than one third of the thickness of the put that electric-optical material layer transparently display area Suppose that

リタデーションの大きさは、電気光学物質層の厚さ（ｄ）と光学異方性の大きさ（Δｎ）との積（Δｎｄ）で規定される。反射表示領域と透過表示領域とが設けられたいわゆる半透過反射型の電気光学装置において、光は反射表示領域の電気光学物質層を２回通過する。このことは、実質的に反射表示領域の電気光学物質層の厚さが透過表示領域の電気光学物質層の厚さの２倍であることを意味する。したがって、従来の液晶表示装置の場合、反射表示領域の実質的なリタデーションは透過表示領域の実質的なリタデーションの２倍になる。ブルー相の場合、セル厚に対する必要なリタデーションが線形的でないため、反射表示領域のリタデーションを低くすることによって、反射表示領域の実質的なリタデーションを透過表示領域の実質的なリタデーションと同等にすることができる。 The magnitude of retardation is defined by the product (Δnd) of the thickness (d) of the electro-optic material layer and the magnitude of optical anisotropy (Δn). In a so-called transflective electro-optical device provided with a reflective display region and a transmissive display region, light passes through the electro-optical material layer in the reflective display region twice. This means that the thickness of the electro-optic material layer in the reflective display area is substantially twice the thickness of the electro-optic material layer in the transmissive display area. Therefore, in the case of the conventional liquid crystal display device, the substantial retardation of the reflective display region is twice the substantial retardation of the transmissive display region. In the case of the blue phase, the retardation required for the cell thickness is not linear, so by making the retardation of the reflective display area low, make the substantial retardation of the reflective display area equivalent to the substantial retardation of the transmissive display area. Can do.

本発明者は、反射表示領域における電気光学物質層の層厚が、透過表示領域における電気光学物質層の層厚の３分の１以下である場合に、反射表示領域の実質的なリタデーションを透過表示領域の実質的なリタデーションと同等にすることができることを見出した。そこで、本発明では、反射表示領域における電気光学物質層の層厚が、透過表示領域における電気光学物質層の層厚の３分の１以下であることとしたので、反射表示領域の実質的なリタデーションを透過表示領域の実質的なリタデーションと同等にすることができ、反射表示領域と透過表示領域との間の光透過率の差を解消することができる。これにより、反射表示領域と透過表示領域との間のコントラストの差を解消することができ、表示特性の高い電気光学装置を得ることができる。 The inventor transmits the substantial retardation of the reflective display region when the thickness of the electro-optical material layer in the reflective display region is one third or less of the thickness of the electro-optical material layer in the transmissive display region. It has been found that it can be equivalent to the substantial retardation of the display area. Therefore, in the present invention, the layer thickness of the electro-optical material layer in the reflective display region is set to one third or less of the layer thickness of the electro-optical material layer in the transmissive display region. The retardation can be made equivalent to the substantial retardation of the transmissive display area, and the difference in light transmittance between the reflective display area and the transmissive display area can be eliminated. Thereby, the difference in contrast between the reflective display area and the transmissive display area can be eliminated, and an electro-optical device with high display characteristics can be obtained.

上記の電気光学装置は、複数のサブ画素領域が、第１の色光を表示する第１サブ画素領域と、第２の色光を表示する第２サブ画素領域とを含んでおり、第１サブ画素領域における電気光学物質層の層厚が、第２サブ画素領域における電気光学物質層の層厚よりも大きくなっているとしてもよい。
この場合、色光の種類に応じて最適な光透過率を得ることができる。これにより、表示特性の高い電気光学装置を得ることができる。 The electro-optical device, the sub-pixel region of the double number, a first sub-pixel region for displaying the first color light, includes a second sub-pixel region for displaying the second color light, the first sub thickness of that electric-optical material layer put in the pixel region may be larger than the layer thickness of the second conductive that put the sub-pixel areas optic material layer.
In this case , an optimal light transmittance can be obtained according to the type of color light. Thereby, an electro-optical device having high display characteristics can be obtained.

上記の電気光学装置は、電気光学物質が、コレステリックブルー相を含んでいるとしてもよい。
コレステリックブルー相は、電界の非印加時に光学的に等方性を示し且つ電界の印加時には電界強度の２乗に比例する光学異方性を示す電気光学物質の一種である。本発明では、電気光学物質がコレステリックブルー相を含んでいるので、反射表示領域及び透過表示領域の間で同等の光透過率を得ることができる。これにより、表示特性の高い電気光学装置を得ることができる。 The electro-optical device, electrical-optical material may be contain a cholesteric blue phase.
The cholesteric blue phase is a kind of electro-optic material that exhibits optical isotropy when no electric field is applied and exhibits optical anisotropy proportional to the square of the electric field strength when an electric field is applied. In the present invention, since the electro-optical material contains a cholesteric blue phase, an equivalent light transmittance can be obtained between the reflective display region and the transmissive display region. Thereby, an electro-optical device having high display characteristics can be obtained.

上記の電気光学装置は、電気光学物質が、スメクティックブルー相、キュービック相、スメクティックＤ相及びミセル相のうちいずれかを含んでいるとしてもよい。
スメクティックブルー相、キュービック相、スメクティックＤ相及びミセル相は、電界の非印加時に光学的に等方性を示し且つ電界の印加時には電界強度の２乗に比例する光学異方性を示す電気光学物質の一種である。本発明では、電気光学物質がスメクティックブルー相を含んでいるので、反射表示領域及び透過表示領域の間で同等の光透過率を得ることができる。これにより、表示特性の高い電気光学装置を得ることができる。 The electro-optical device, the gas-optical material conductive, smectic blue phase, a cubic phase may be include any of a smectic D phase and micellar phases.
Smectic blue phase, cubic phase, smectic D phase and micelle phase are optically isotropic when no electric field is applied and exhibit optical anisotropy proportional to the square of the electric field strength when an electric field is applied It is a kind of. In the present invention, since the electro-optical material contains a smectic blue phase, an equivalent light transmittance can be obtained between the reflective display region and the transmissive display region. Thereby, an electro-optical device having high display characteristics can be obtained.

上記の電気光学装置は、一対の基板のうち少なくとも一方の電気光学物質層との界面に配向膜が設けられているとしてもよい。
この場合、電界を印加したときに電気光学物質の配向を補助的に規制することができる。 The electro-optical device may be an interface to the alignment film is provided with at least one of the electric-optical material layer of the substrate of a pair.
In this case , the orientation of the electro-optic material can be supplementarily regulated when an electric field is applied.

上記の電気光学装置は、配向膜が、電気光学物質層に印加される電界の方向に平行な方向にラビングされているとしてもよい。
この場合、電界を印加したときに電気光学物質の配向を確実に規制することができる。 The electro-optical device, Oriented films may be is rubbed in a direction parallel to the direction of the electric field applied to the electric-optical material layer.
In this case , the orientation of the electro-optic material can be reliably regulated when an electric field is applied.

上記の電気光学装置は、一対の基板における電気光学物質層と反対側の面のそれぞれには、円偏光板が設けられているとしてもよい。
この場合、コントラストの高い表示を得ることができる。これにより、表示特性の高い電気光学装置を得ることができる。 The electro-optical device, each of the opposite surface and put that electric-optical material layer on a substrate of a pair may be a circularly polarizing plate is provided.
In this case , a display with high contrast can be obtained. Thereby, an electro-optical device having high display characteristics can be obtained.

本発明に係る電子機器は、上記の電気光学装置を搭載する。
本発明によれば、透過表示領域及び反射表示領域にて同等の光透過率が得られ、コントラストの高い表示が可能な電気光学装置を搭載したので、表示品位が高く、信頼性の高い電子機器を得ることができる。
Electronic device according to the present invention, you mounting tower the electro-optical device.
According to the present invention, since an electro-optical device capable of obtaining the same light transmittance in the transmissive display area and the reflective display area and capable of displaying with high contrast is mounted, an electronic apparatus having high display quality and high reliability. Can be obtained.

［第１実施形態］
以下、図面に基づき本発明の第１実施形態を説明する。
（液晶表示装置の構成）
図１は、液晶表示装置１の全体構成を示す図である。本実施形態では、スイッチング素子に薄膜トランジスタ（Thin Film Transistor、以下ＴＦＴという）素子を用いたアクティブマトリクス方式の半透過反射型液晶表示装置であり、電界（横電界）を基板面方向に印加する横電界方式のうち、ＩＰＳ（In-Plane Switching）方式と呼ばれる方式を採用した液晶表示装置を例に挙げて説明する。 [First Embodiment]
Hereinafter, a first embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
(Configuration of liquid crystal display device)
FIG. 1 is a diagram showing an overall configuration of the liquid crystal display device 1. The present embodiment is an active matrix type transflective liquid crystal display device using a thin film transistor (hereinafter referred to as TFT) element as a switching element, and a horizontal electric field that applies an electric field (lateral electric field) in the direction of the substrate surface. Of the methods, a liquid crystal display device adopting a method called an IPS (In-Plane Switching) method will be described as an example.

同図に示すように、液晶表示装置１は、液晶パネル２と、バックライト３とを主体として構成されている。液晶パネル２とバックライト３とは平面視で重なるように配置されており、図１では液晶パネル２のみが示されている。この液晶パネル２には図示しないフレキシブル回路基板が接続されている。 As shown in the figure, the liquid crystal display device 1 is mainly composed of a liquid crystal panel 2 and a backlight 3. The liquid crystal panel 2 and the backlight 3 are arranged so as to overlap in plan view, and only the liquid crystal panel 2 is shown in FIG. A flexible circuit board (not shown) is connected to the liquid crystal panel 2.

液晶パネル２は、一対の基板、具体的にはＴＦＴアレイ基板４とカラーフィルタ基板５とがシール材７によって貼り合わされると共に、このシール材７によって区画された領域内に液晶層６が封入された構成になっている。シール材７の一部には液晶を注入する注入口７ａが設けられている。注入口７ａは封止材７ｂにより封止されている。シール材７の内側の領域には、周辺見切り領域（周辺領域）８が設けられている。周辺見切り領域８の内側の領域は、画像や動画等を表示する表示領域９になっている。表示領域９には、複数のサブ画素領域１０がマトリクス状に設けられている。 In the liquid crystal panel 2, a pair of substrates, specifically, a TFT array substrate 4 and a color filter substrate 5 are bonded together by a sealing material 7, and a liquid crystal layer 6 is enclosed in a region partitioned by the sealing material 7. It has a configuration. An injection port 7 a for injecting liquid crystal is provided in a part of the sealing material 7. The injection port 7a is sealed with a sealing material 7b. A peripheral parting region (peripheral region) 8 is provided in a region inside the sealing material 7. The area inside the peripheral parting area 8 is a display area 9 for displaying images, moving images, and the like. In the display area 9, a plurality of sub-pixel areas 10 are provided in a matrix.

本実施形態では、図中左右方向に隣接する３つのサブ画素領域１０が１組になって１つの画素を構成している。この１画素を構成する３つのサブ画素領域１０は、それぞれ赤色を表示する赤色サブ画素領域、緑色を表示する緑色サブ画素領域、青色を表示する青色サブ画素領域である。サブ画素領域１０の間の領域は画素間領域１１である。 In the present embodiment, three sub-pixel regions 10 adjacent in the left-right direction in the figure constitute one set to constitute one pixel. The three sub pixel areas 10 constituting one pixel are a red sub pixel area for displaying red, a green sub pixel area for displaying green, and a blue sub pixel area for displaying blue. A region between the sub-pixel regions 10 is an inter-pixel region 11.

ＴＦＴアレイ基板４の周縁部は、カラーフィルタ基板５から張り出した張出領域になっている。この張出領域のうち図中左辺側及び右辺側には、走査信号を生成する走査線駆動回路１２が形成されている。図中下辺側には、データ信号を生成するデータ線駆動回路１３と、フレキシブル回路基板に接続するための接続端子１５とが形成されている。走査線駆動回路１２と接続端子１５との間の領域には、両者を接続する配線１６が形成されている。 The peripheral edge portion of the TFT array substrate 4 is an overhanging region protruding from the color filter substrate 5. A scanning line driving circuit 12 for generating a scanning signal is formed on the left side and the right side in the drawing in the overhang region. On the lower side in the figure, a data line driving circuit 13 for generating a data signal and a connection terminal 15 for connecting to a flexible circuit board are formed. In a region between the scanning line driving circuit 12 and the connection terminal 15, a wiring 16 that connects them is formed.

図２は、液晶表示装置１のうち１つのサブ画素領域１０及び画素間領域１１の構成を示す平面図である。図２においては、説明の便宜上、カラーフィルタ基板５の図示を省略している。
同図に示すように、サブ画素領域１０は平面視で矩形状になっており、図中の上下方向（マトリクスの列方向）が長手方向、図中の左右方向（マトリクスの行方向）が短手方向となっている。サブ画素領域１０には、光反射層４１と、画素電極４２と、共通電極４３とが配置されている。画素間領域１１には、走査線４４と、データ線４５と、共通電極線４６と、半導体薄膜４７と、柱状スペーサ４８とが配置されている。 FIG. 2 is a plan view showing the configuration of one sub-pixel region 10 and inter-pixel region 11 in the liquid crystal display device 1. In FIG. 2, the color filter substrate 5 is not shown for convenience of explanation.
As shown in the figure, the sub-pixel region 10 has a rectangular shape in plan view, and the vertical direction (column direction of the matrix) in the figure is the longitudinal direction and the horizontal direction (matrix row direction) in the figure is short. It is a hand direction. In the sub-pixel region 10, a light reflection layer 41, a pixel electrode 42, and a common electrode 43 are disposed. In the inter-pixel region 11, scanning lines 44, data lines 45, common electrode lines 46, semiconductor thin films 47, and columnar spacers 48 are arranged.

画素間領域１１内の構成を説明する。
走査線４４は、例えばアルミニウムやクロム、タンタル等の金属からなり、サブ画素領域１０の短手方向（図中左右方向）に延在する配線である。この走査線４４は、一端が走査線駆動回路１２（図１参照）に接続されており、走査線駆動回路１２で生成された走査信号を供給する。走査線４４は、サブ画素領域１０の図中下側の画素間領域１１に配置されている。 A configuration in the inter-pixel region 11 will be described.
The scanning line 44 is made of a metal such as aluminum, chromium, or tantalum, and is a wiring extending in the short direction (left and right direction in the drawing) of the sub-pixel region 10. One end of the scanning line 44 is connected to the scanning line driving circuit 12 (see FIG. 1), and supplies the scanning signal generated by the scanning line driving circuit 12. The scanning line 44 is disposed in the inter-pixel region 11 below the sub-pixel region 10 in the drawing.

データ線４５は、走査線４４と同様、例えばアルミニウムやクロム、タンタル等の金属からなり、サブ画素領域１０の長手方向（図中上下方向）に延在する配線である。このデータ線４５は、一端がデータ線駆動回路１３（図１参照）に接続されており、データ線駆動回路１３で生成されたデータ信号を供給する。このデータ線４５には、半導体薄膜４７に向けて分岐するソース電極４５ａが設けられている。ソース電極４５ａは、平面視でＬ形の電極であり、一部が半導体薄膜４７に平面視で重なるように設けられている。 Similarly to the scanning line 44, the data line 45 is made of a metal such as aluminum, chromium, or tantalum and extends in the longitudinal direction (vertical direction in the drawing) of the sub-pixel region 10. One end of the data line 45 is connected to the data line driving circuit 13 (see FIG. 1) and supplies a data signal generated by the data line driving circuit 13. The data line 45 is provided with a source electrode 45 a that branches toward the semiconductor thin film 47. The source electrode 45 a is an L-shaped electrode in plan view, and is provided so as to partially overlap the semiconductor thin film 47 in plan view.

共通電極線４６は、走査線４４やデータ線４５と同様、例えばアルミニウムやクロム、タンタル等の金属からなり、サブ画素領域１０の短手方向（図中方向）に延在する配線である。この共通電極線４６は、各サブ画素領域１０に設けられるそれぞれの共通電極４３に接続されており、サブ画素領域１０の図中上側の画素間領域１１に配置されている。 Similar to the scanning line 44 and the data line 45, the common electrode line 46 is made of a metal such as aluminum, chromium, or tantalum, and extends in the short direction (direction in the figure) of the sub-pixel region 10. The common electrode line 46 is connected to each common electrode 43 provided in each sub-pixel region 10 and is disposed in the inter-pixel region 11 on the upper side of the sub-pixel region 10 in the drawing.

走査線４４とデータ線４５とは画素間領域１１内で交差するように設けられており、平面視で格子状に配列されている。サブ画素領域１０は、これら走査線４４とデータ線４５とで囲まれる領域に位置する構成になっている。 The scanning lines 44 and the data lines 45 are provided so as to intersect within the inter-pixel region 11 and are arranged in a lattice shape in plan view. The sub-pixel area 10 is configured to be located in an area surrounded by the scanning lines 44 and the data lines 45.

半導体薄膜４７は、例えばアモルファスシリコンなどからなり、走査線４４に平面視で重なる領域内に島状に設けられた薄膜である。半導体薄膜４７は、チャネル領域４７ａと、ソース領域４７ｂと、ドレイン領域４７ｃとを有している。チャネル領域４７ａは半導体薄膜４７の中央に設けられた領域であり、走査線４４と対向している。ソース領域４７ｂは半導体薄膜４７の一端側（図中左側）に設けられた領域であり、ソース電極４５ａを介してデータ線４５に電気的に接続されている。ドレイン領域４７ｃは半導体薄膜４７の他端側（図中右側）に設けられた領域である。ドレイン領域４７ｃに平面視で重なる領域にはドレイン電極４７ｄが設けられている。ドレイン電極４７ｄは、一部が画素電極４２のコンタクト部４２ｂに平面視で重なるように設けられている。コンタクト部４２ｂとドレイン電極４７ｄとが平面視で重なる部分には、コンタクトホール４７ｅが設けられている。 The semiconductor thin film 47 is made of, for example, amorphous silicon, and is a thin film provided in an island shape in a region overlapping the scanning line 44 in plan view. The semiconductor thin film 47 has a channel region 47a, a source region 47b, and a drain region 47c. The channel region 47 a is a region provided in the center of the semiconductor thin film 47 and faces the scanning line 44. The source region 47b is a region provided on one end side (left side in the figure) of the semiconductor thin film 47, and is electrically connected to the data line 45 via the source electrode 45a. The drain region 47 c is a region provided on the other end side (right side in the drawing) of the semiconductor thin film 47. A drain electrode 47d is provided in a region overlapping the drain region 47c in plan view. The drain electrode 47d is provided so as to partially overlap the contact portion 42b of the pixel electrode 42 in plan view. A contact hole 47e is provided in a portion where the contact portion 42b and the drain electrode 47d overlap in plan view.

柱状スペーサ４８は、ＴＦＴアレイ基板４とカラーフィルタ基板５との間を一定の間隔に保つためのスペーサ部材である。この柱状スペーサ４８は、画素間領域１１のうちサブ画素領域１０の図示右下の角部側に設けられている。 The columnar spacer 48 is a spacer member for maintaining a constant distance between the TFT array substrate 4 and the color filter substrate 5. The columnar spacer 48 is provided on the lower right corner of the sub-pixel region 10 in the inter-pixel region 11.

サブ画素領域１０内の構成を説明する。
光反射層４１は、例えばアルミニウムや銀などの光反射率の高い金属からなり、サブ画素領域１０のほぼ半分の領域を覆うように設けられた薄膜である。サブ画素領域１０のうち光反射層４１で覆われた領域が反射表示領域１０ａであり、光反射層で覆われていない領域が透過表示領域１０ｂである。反射表示における視認性を向上させるため、光反射層４１の表面に凹凸を設ける構成としても構わない。 A configuration in the sub-pixel region 10 will be described.
The light reflecting layer 41 is made of a metal having high light reflectance such as aluminum or silver, and is a thin film provided so as to cover almost half of the sub-pixel region 10. Of the sub-pixel region 10, the region covered with the light reflecting layer 41 is the reflective display region 10a, and the region not covered with the light reflecting layer is the transmissive display region 10b. In order to improve the visibility in the reflective display, the surface of the light reflecting layer 41 may be uneven.

画素電極４２は、基端部４２ａと、コンタクト部４２ｂと、枝状部４２ｃとからなる電極部材である。基端部４２ａ、コンタクト部４２ｂ及び枝状部４２ｃは、それぞれ例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）などの透明な導電材料からなる。 The pixel electrode 42 is an electrode member including a base end portion 42a, a contact portion 42b, and a branch portion 42c. The base end part 42a, the contact part 42b, and the branch part 42c are each made of a transparent conductive material such as ITO (Indium Tin Oxide).

基端部４２ａは、サブ画素領域１０内の透過表示領域１０ｂ側に設けられており、サブ画素領域１０の短手方向に延在するように設けられている。基端部４２ａの幅（延在方向に直交する方向の寸法）は例えば１０μｍ程度で一定になっている。この基端部４２ａは、走査線４４に近接した位置に配置されている。 The base end portion 42 a is provided on the transmissive display region 10 b side in the sub-pixel region 10, and is provided so as to extend in the short direction of the sub-pixel region 10. The width of the base end portion 42a (the dimension in the direction orthogonal to the extending direction) is, for example, about 10 μm and constant. The base end portion 42 a is disposed at a position close to the scanning line 44.

コンタクト部４２ｂは、基端部４２ａから走査線４４側に突出している部分であり、基端部４２ａと一体的に設けられている。コンタクト部４２ｂは、その一部が平面視で走査線４４に重なるように設けられている。このコンタクト部４２ｂは、コンタクトホール４７ｅを介してドレイン電極４７ｄに電気的に接続されている。 The contact part 42b is a part protruding from the base end part 42a toward the scanning line 44, and is provided integrally with the base end part 42a. The contact part 42b is provided so that a part thereof overlaps the scanning line 44 in plan view. The contact portion 42b is electrically connected to the drain electrode 47d through the contact hole 47e.

枝状部４２ｃは、基端部４２ａからサブ画素領域１０の長手方向に延びている部分であり、基端部４２ａと一体的に設けられている。枝状部４２ｃの幅（延在方向に直交する方向の寸法）は例えば１０μｍ程度で一定になっている。この枝状部４２ｃは、基端部４２ａの設けられた透過表示領域１０ｂ側から反射表示領域１０ａ側に向けて両方の領域に跨るように延在しており、サブ画素領域１０の短手方向に等ピッチで複数配置されている。 The branch portion 42c is a portion extending in the longitudinal direction of the sub-pixel region 10 from the base end portion 42a, and is provided integrally with the base end portion 42a. The width of the branch portion 42c (the dimension in the direction perpendicular to the extending direction) is, for example, about 10 μm and constant. The branch portion 42c extends from the transmissive display region 10b side where the base end portion 42a is provided to the reflective display region 10a side so as to straddle both regions, and the short direction of the sub-pixel region 10 Are arranged at an equal pitch.

共通電極４３は、基端部４３ａと、コンタクト部４３ｂと、枝状部４３ｃとからなる電極部材である。画素電極４２と同様、基端部４３ａ、コンタクト部４３ｂ及び枝状部４３ｃは、それぞれＩＴＯなどの透明な導電材料からなる。 The common electrode 43 is an electrode member including a base end portion 43a, a contact portion 43b, and a branch portion 43c. Similar to the pixel electrode 42, the base end portion 43a, the contact portion 43b, and the branch portion 43c are each made of a transparent conductive material such as ITO.

基端部４３ａは、サブ画素領域１０内の反射表示領域１０ａ側に設けられており、サブ画素領域１０の短手方向に延在するように設けられている。基端部４３ａの幅（延在方向に直交する方向の寸法）は例えば１０μｍ程度で一定になっており、画素電極４２の基端部４２ａの幅とほぼ同一の幅になっている。この基端部４３ａは、共通電極線４６に近接した位置に配置されている。 The base end portion 43 a is provided on the reflective display region 10 a side in the sub-pixel region 10, and is provided so as to extend in the short direction of the sub-pixel region 10. The width of the base end portion 43a (the dimension in the direction orthogonal to the extending direction) is, for example, about 10 μm, and is constant and substantially the same as the width of the base end portion 42a of the pixel electrode 42. The base end portion 43 a is disposed at a position close to the common electrode line 46.

コンタクト部４３ｂは、基端部４３ａと共通電極線４６とを接続する部分であり、基端部４３ａの短手方向のほぼ中央部に設けられている。コンタクト部４３ｂを介して基端部４３ａと共通電極線４６とが一体的に設けられている。マトリクスの行方向に設けられた各サブ画素領域１０内の共通電極４３は、それぞれコンタクト部４３ｂを介して１本の共通電極線４６に接続されている。 The contact portion 43b is a portion that connects the base end portion 43a and the common electrode line 46, and is provided at a substantially central portion in the short direction of the base end portion 43a. The base end portion 43a and the common electrode line 46 are integrally provided via the contact portion 43b. The common electrode 43 in each subpixel region 10 provided in the row direction of the matrix is connected to one common electrode line 46 through a contact portion 43b.

枝状部４３ｃは、基端部４３ａからサブ画素領域１０の長手方向に延びている部分であり、基端部４３ａと一体的に設けられている。枝状部４３ｃの幅（延在方向に直交する方向の寸法）は例えば１０μｍ程度で一定になっており、画素電極４２の枝状部４２ｃの幅とほぼ同一の幅になっている。この枝状部４３ｃは、隣接する枝状部４２ｃの間の領域を、基端部４３ａの設けられた反射表示領域１０ａ側から透過表示領域１０ｂ側に向けて、両方の領域に跨るように延在している。 The branch portion 43c is a portion extending in the longitudinal direction of the sub-pixel region 10 from the base end portion 43a, and is provided integrally with the base end portion 43a. The width of the branch portion 43c (the dimension in the direction orthogonal to the extending direction) is, for example, about 10 μm, and is constant, and is substantially the same as the width of the branch portion 42c of the pixel electrode 42. The branch part 43c extends from the reflective display area 10a side where the base end part 43a is provided to the transmissive display area 10b side so as to straddle both areas. Exist.

共通電極４３の枝状部４３ｃは、サブ画素領域１０の短手方向に等ピッチで複数配置されており、画素電極４２の隣接する枝状部４２ｃのちょうど中間に配置されている。このように、画素電極４２の枝状部４２ｃと共通電極４３の枝状部４３ｃとが、櫛歯が咬み合うように、サブ画素領域１０の短手方向に例えば１０μｍ程度のピッチで交互に配置されている。 A plurality of branch portions 43 c of the common electrode 43 are arranged at an equal pitch in the short direction of the sub-pixel region 10, and are arranged just in the middle of the adjacent branch portions 42 c of the pixel electrode 42. Thus, the branch portions 42c of the pixel electrode 42 and the branch portions 43c of the common electrode 43 are alternately arranged at a pitch of about 10 μm, for example, in the short direction of the sub-pixel region 10 so that the comb teeth are engaged with each other. Has been.

図３は、図２におけるＡ−Ａ断面に沿った構成を示す図である。図中左側が図２における上側の構成（共通電極線の一部の断面構成）に対応しており、図中右側が図２における下側の構成（走査線の断面構成）に対応している。図２には示されていないが、図３にはカラーフィルタ基板５を含めた断面構成を示している。 FIG. 3 is a diagram showing a configuration along the section AA in FIG. The left side in the drawing corresponds to the upper configuration in FIG. 2 (partial cross-sectional configuration of the common electrode line), and the right side in the drawing corresponds to the lower configuration in FIG. 2 (cross-sectional configuration of the scanning line). . Although not shown in FIG. 2, FIG. 3 shows a cross-sectional configuration including the color filter substrate 5.

同図に示すように、ＴＦＴアレイ基板４は、例えばガラスや石英、プラスチックなどの光透過可能な材料からなる矩形の基材４ａを主体として構成されている。基材４ａ上には図示しない下地層が形成されている。下地層上の一部の領域には上記の走査線４４が形成されている。この下地層上には、ゲート絶縁層４９が設けられている。ゲート絶縁層４９は、例えばＳｉＯ２やＳｉＮなどの絶縁材料からなる層間絶縁膜であり、走査線４４上を含めた下地層のほぼ全面を覆っている。 As shown in the figure, the TFT array substrate 4 is mainly composed of a rectangular base material 4a made of a light transmissive material such as glass, quartz, or plastic. A base layer (not shown) is formed on the base material 4a. The scanning line 44 is formed in a part of the region on the base layer. A gate insulating layer 49 is provided on the base layer. The gate insulating layer 49 is an interlayer insulating film made of an insulating material such as SiO 2 or SiN, and covers almost the entire surface of the base layer including the scanning line 44.

ゲート絶縁層４９上には、上記の半導体薄膜４７と、ソース電極４５ａと、ドレイン電極４７ｄとが形成されている。半導体薄膜４７は、ゲート絶縁層４９を挟んで走査線４４に対向するように配置されている。半導体薄膜４７、ゲート絶縁層４９及び走査線４４によって、バックゲート型のＴＦＴ（Thin Film Transistor）が構成されている。このＴＦＴにおいて、走査線４４のうち半導体薄膜４７に平面視で重なる領域は、ゲート電極として機能している。 On the gate insulating layer 49, the semiconductor thin film 47, the source electrode 45a, and the drain electrode 47d are formed. The semiconductor thin film 47 is disposed so as to face the scanning line 44 with the gate insulating layer 49 interposed therebetween. The semiconductor thin film 47, the gate insulating layer 49, and the scanning line 44 constitute a back gate type TFT (Thin Film Transistor). In this TFT, a region of the scanning line 44 that overlaps the semiconductor thin film 47 in plan view functions as a gate electrode.

ソース電極４５ａは、一部が半導体薄膜４７のソース領域４７ｂ上を覆うように形成されている。ソース電極４５ａと同じ層内には上記のデータ線４５（図３には示していない）も形成されている。ゲート絶縁層４９上には樹脂層５０が設けられている。樹脂層５０は、半導体薄膜４７、ソース電極４５ａ、ドレイン電極４７ｄ及びデータ線４５を含めたゲート絶縁層４９上のほぼ全面を覆っている。 The source electrode 45 a is formed so as to partially cover the source region 47 b of the semiconductor thin film 47. The data line 45 (not shown in FIG. 3) is also formed in the same layer as the source electrode 45a. A resin layer 50 is provided on the gate insulating layer 49. The resin layer 50 covers almost the entire surface of the gate insulating layer 49 including the semiconductor thin film 47, the source electrode 45 a, the drain electrode 47 d, and the data line 45.

樹脂層５０の一部には凹部５０ｂが設けられている。この凹部５０ｂ内には、上記の光反射層４１が設けられている。光反射層４１の上面４１ａと樹脂層５０の上面５０ａとの間は平坦になっている。この上面４１ａと上面５０ａとで一つの基板面を構成している。樹脂層５０のうちドレイン電極４７ｄに平面視で重なる領域には、当該樹脂層５０を貫通するようにコンタクトホール４７ｅが設けられている。 A recess 50 b is provided in a part of the resin layer 50. The light reflecting layer 41 is provided in the recess 50b. The space between the upper surface 41a of the light reflecting layer 41 and the upper surface 50a of the resin layer 50 is flat. The upper surface 41a and the upper surface 50a constitute one substrate surface. A contact hole 47 e is provided in a region of the resin layer 50 that overlaps the drain electrode 47 d in plan view so as to penetrate the resin layer 50.

光反射層４１の上面４１ａ及び樹脂層５０の上面５０ａには、画素電極４２と共通電極４３とがそれぞれ設けられている。樹脂層５０のうちコンタクトホール４７ｅに平面視で重なる領域には、画素電極４２のコンタクト部４２ｂが配置されている。コンタクトホール４７ｅはコンタクト部４２ｂを構成する導電材料によって埋められており、コンタクト部４２ｂとコンタクトホール４７ｅ内に埋められた部分とが一体的になっている。コンタクトホール４７ｅに埋められた部分の先端（図中下側）は、ドレイン電極４７ｄに当接している。当該当接部においてコンタクト部４２ｂとドレイン電極４７ｄとが電気的に接続されている。 A pixel electrode 42 and a common electrode 43 are provided on the upper surface 41a of the light reflecting layer 41 and the upper surface 50a of the resin layer 50, respectively. A contact portion 42b of the pixel electrode 42 is disposed in a region of the resin layer 50 that overlaps the contact hole 47e in plan view. The contact hole 47e is filled with a conductive material constituting the contact portion 42b, and the contact portion 42b and the portion buried in the contact hole 47e are integrated. The tip (lower side in the figure) of the portion buried in the contact hole 47e is in contact with the drain electrode 47d. In the contact portion, the contact portion 42b and the drain electrode 47d are electrically connected.

画素電極４２及び共通電極４３は、ほぼ均一な厚さに形成されており、その値は０．４０μｍ程度になっている。画素電極４２各部位（基端部４２ａ、コンタクト部４２ｂ、枝状部４２ｃ）及び共通電極４３の各部位（基端部４３ａ、コンタクト部４３ｂ、枝状部４３ｃ）は、それぞれ同一の厚さになっている。 The pixel electrode 42 and the common electrode 43 are formed to have a substantially uniform thickness, and the value thereof is about 0.40 μm. Each part of the pixel electrode 42 (base end part 42a, contact part 42b, branch part 42c) and each part of the common electrode 43 (base end part 43a, contact part 43b, branch part 43c) have the same thickness. It has become.

基材４ａの外面上には、位相差板２１が設けられている。位相差板２１は、透過光に対して略１／４波長の位相差を付与するλ／４位相差板である。位相差板２１には所定の方向に遅相軸が形成されている。 A phase difference plate 21 is provided on the outer surface of the substrate 4a. The phase difference plate 21 is a λ / 4 phase difference plate that imparts a phase difference of approximately ¼ wavelength to transmitted light. The retardation plate 21 has a slow axis in a predetermined direction.

位相差板２１の外面上には偏光板２２が設けられている。偏光板２２は、位相差板２１の遅相軸に対して約４５°の角度をなす方向に偏光軸が形成されている。位相差板２１及び偏光板２２によって円偏光板２３が構成されている。円偏光板２３としては、位相差板２１及び偏光板２２を組み合わせる構成の他、偏光板とλ／２位相差板とλ／４位相差板とを組み合わせた広帯域円偏光板であっても構わない。 A polarizing plate 22 is provided on the outer surface of the phase difference plate 21. The polarizing plate 22 has a polarizing axis formed in a direction that forms an angle of about 45 ° with respect to the slow axis of the retardation plate 21. A circularly polarizing plate 23 is constituted by the retardation plate 21 and the polarizing plate 22. The circularly polarizing plate 23 may be a broadband circularly polarizing plate in which a polarizing plate, a λ / 2 retardation plate, and a λ / 4 retardation plate are combined in addition to a configuration in which the retardation plate 21 and the polarizing plate 22 are combined. Absent.

一方、カラーフィルタ基板５は、ＴＦＴアレイ基板４と同様、例えばガラスや石英、プラスチックなどの光透過可能な材料からなる矩形の基材５ａを主体として構成されている。基材５ａの内面（ＴＦＴアレイ基板４との対向面）には、カラーフィルタ層５１と、ブラックマトリクス５２と、ギャップ材５３と、配向膜５４とが設けられている。 On the other hand, the color filter substrate 5 is composed mainly of a rectangular base material 5a made of a light transmissive material such as glass, quartz, plastic, etc., like the TFT array substrate 4. A color filter layer 51, a black matrix 52, a gap material 53, and an alignment film 54 are provided on the inner surface of the base material 5a (the surface facing the TFT array substrate 4).

カラーフィルタ層５１は、平面視でサブ画素領域１０に重なる位置に設けられた色層である。カラーフィルタ層５１は、例えば有機材料や無機材料など公知の材料からなる赤色層、緑色層、青色層の３色の色層からなる。上記赤色層は、平面視で赤色サブ画素に重なる領域に設けられている。上記緑色層は、平面視で緑色サブ画素に重なる領域に設けられている。上記青色層は、平面視で青色サブ画素に重なる領域に設けられている。 The color filter layer 51 is a color layer provided at a position overlapping the sub-pixel region 10 in plan view. The color filter layer 51 is composed of three color layers including a red layer, a green layer, and a blue layer made of a known material such as an organic material or an inorganic material. The red layer is provided in a region overlapping the red sub-pixel in plan view. The green layer is provided in a region overlapping the green sub-pixel in plan view. The blue layer is provided in a region overlapping with the blue sub-pixel in plan view.

ブラックマトリクス５２は、画素間領域１１に設けられており、光を吸収する例えばクロムなどの材料からなる。ブラックマトリクス５２の層厚とカラーフィルタ層５１層厚はほぼ等しくなっている。 The black matrix 52 is provided in the inter-pixel region 11 and is made of a material such as chromium that absorbs light. The thickness of the black matrix 52 and the thickness of the color filter layer 51 are substantially equal.

ギャップ材５３は、サブ画素領域１０のうち反射表示領域１０ａに平面視で重なる領域に配置されており、例えば樹脂などの光透過可能な材料からなる。ギャップ材５３は、反射表示領域１０ａ内の液晶層６の厚さ（セルギャップ）を調節する部材である。反射表示領域１０ａ内のセルギャップｄ１が透過表示領域１０ｂ内のセルギャップｄ２の３分の１以下となるようにギャップ材の厚さが規定されている。ここでは、例えば反射表示領域１０ａ内のセルギャップｄ１が２．５μｍであり、透過表示領域１０ｂ内のセルギャップｄ２が１１μｍである。したがって、ｄ１がｄ２の３分の１以下である。配向膜５４は、ギャップ材５３、カラーフィルタ層５１及びブラックマトリクス５２を覆うように設けられており、所定の方向にラビングされている。 The gap material 53 is disposed in a region of the sub-pixel region 10 that overlaps the reflective display region 10a in plan view, and is made of a light transmissive material such as a resin. The gap material 53 is a member that adjusts the thickness (cell gap) of the liquid crystal layer 6 in the reflective display region 10a. The thickness of the gap material is defined so that the cell gap d1 in the reflective display region 10a is equal to or less than one third of the cell gap d2 in the transmissive display region 10b. Here, for example, the cell gap d1 in the reflective display region 10a is 2.5 μm, and the cell gap d2 in the transmissive display region 10b is 11 μm. Therefore, d1 is 1/3 or less of d2. The alignment film 54 is provided so as to cover the gap material 53, the color filter layer 51, and the black matrix 52, and is rubbed in a predetermined direction.

基材５ａの外面上には、位相差板３１が設けられている。位相差板３１は、位相差板２１と同様、透過光に対して略１／４波長の位相差を付与するλ／４位相差板である。位相差板３１には所定の方向に遅相軸が形成されている。 A phase difference plate 31 is provided on the outer surface of the substrate 5a. Similar to the phase difference plate 21, the phase difference plate 31 is a λ / 4 phase difference plate that imparts a phase difference of approximately ¼ wavelength to transmitted light. The retardation plate 31 has a slow axis in a predetermined direction.

位相差板３１の外面上には偏光板３２が設けられている。偏光板３２は、位相差板３１の遅相軸に対して約４５°の角度をなす方向に偏光軸が形成されている。位相差板３１及び偏光板３２によって円偏光板３３が構成されている。円偏光板３３としては、偏光板とλ／２位相差板とλ／４位相差板とを組み合わせた広帯域円偏光板であっても構わない。 A polarizing plate 32 is provided on the outer surface of the phase difference plate 31. The polarization axis of the polarizing plate 32 is formed in a direction that forms an angle of about 45 ° with respect to the slow axis of the retardation plate 31. A circularly polarizing plate 33 is constituted by the retardation plate 31 and the polarizing plate 32. The circularly polarizing plate 33 may be a broadband circularly polarizing plate in which a polarizing plate, a λ / 2 phase difference plate, and a λ / 4 phase difference plate are combined.

液晶層６は、ＴＦＴアレイ基板４とカラーフィルタ基板５との双方に接するように挟持されている。この液晶層６は、電界の非印加時に光学的に等方性を示すと共に、電界の印加時には電界強度の２乗に比例する光学異方性を示す（Ｋｅｒｒ効果）液晶材料からなる。このような液晶材料として、例えばブルー相の液晶材料が挙げられる。液晶層６の液晶分子の誘電率は正（ε＞０）になっている。 The liquid crystal layer 6 is sandwiched so as to be in contact with both the TFT array substrate 4 and the color filter substrate 5. The liquid crystal layer 6 is made of a liquid crystal material that exhibits optical isotropy when no electric field is applied and also exhibits optical anisotropy proportional to the square of the electric field strength when the electric field is applied (Kerr effect). An example of such a liquid crystal material is a blue phase liquid crystal material. The dielectric constant of the liquid crystal molecules of the liquid crystal layer 6 is positive (ε> 0).

ブルー相は、キラルネマチック相と等方相の間の狭い温度範囲に現れる、光学的に等方性の液晶相である。ブルー相の液晶材料には、例えばＫｅｒｒ効果の発現温度範囲の狭い（１Ｋ程度）液晶分子と少量の高分子とが含まれている（高分子安定化ブルー相）。液晶分子と共に高分子を含ませることにより、当該発現温度範囲が１００Ｋ程度になっている。 The blue phase is an optically isotropic liquid crystal phase that appears in a narrow temperature range between the chiral nematic phase and the isotropic phase. The liquid crystal material of the blue phase contains, for example, a liquid crystal molecule having a narrow Kerr effect temperature range (about 1K) and a small amount of polymer (polymer-stabilized blue phase). By including a polymer together with liquid crystal molecules, the expression temperature range is about 100K.

高分子安定化ブルー相は、［数１］に示されるように、リタデーションの大きさ（Δｎ）が電界の２乗に比例する。［数１］において、ＫはＫｅｒｒ係数、λは光の波長、Ｅは電極間に生じる電界を示している。高分子安定化ブルー相のＫｅｒｒ係数は３．７×１０−１０（ｍＶ−２）であり、ニトロベンゼンの約１７０倍の大きさとなっている。 In the polymer-stabilized blue phase, as shown in [Equation 1], the magnitude of retardation (Δn) is proportional to the square of the electric field. In [Equation 1], K is the Kerr coefficient, λ is the wavelength of light, and E is the electric field generated between the electrodes. The Kerr coefficient of the polymer-stabilized blue phase is 3.7 × 10 −10 (mV−2), which is about 170 times that of nitrobenzene.

Δｎ＝ＫλＥ^２

Δn = KλE ²

高分子安定化ブルー相の立ち上り（Ｋｅｒｒ効果の発現）の応答時間及び立ち下り（Ｋｅｒｒ効果の消滅）の応答時間は、いずれも１０〜１００μｓ程度である。一般的なネマチック液晶の応答時間は１０ｍｓ程度である。高分子安定化ブルー相の応答は、一般的なネマチック液晶の応答に比べて格段に速くなっている。 The response time for the rise (expression of the Kerr effect) and the response time for the fall (disappearance of the Kerr effect) of the polymer-stabilized blue phase are both about 10 to 100 μs. A typical nematic liquid crystal has a response time of about 10 ms. The response of the polymer-stabilized blue phase is much faster than that of a general nematic liquid crystal.

バックライト３は、公知の構成となっている。具体的には、ＬＥＤなどの光源部と、アクリル樹脂などの透明な材料からなる導光板と、当該導光板に対して液晶パネル２側に設けられた拡散板と、拡散板の液晶パネル側２に設けられた集光板とを主体として構成されている。 The backlight 3 has a known configuration. Specifically, a light source unit such as an LED, a light guide plate made of a transparent material such as acrylic resin, a diffusion plate provided on the liquid crystal panel 2 side with respect to the light guide plate, and a liquid crystal panel side 2 of the diffusion plate It is comprised mainly by the light-condensing plate provided in.

（液晶表示装置の動作）
本実施形態の液晶表示装置１の動作について説明する。
まず、透過表示（透過モード）について説明する。
バックライト３から射出された光は、偏光板２２および位相差板２１を透過する過程で円偏光に変換される。円偏光に変換された光は、ＴＦＴアレイ基板４を透過して液晶層６に入射する。ブルー相が電圧無印加時に光学的に等方性を示すことから、液晶層６に入射した光は、光学異方性の影響を受けることなく円偏光のまま液晶層６を透過する。液晶層６を透過した光は、カラーフィルタ基板５を透過し、位相差板３１に入射する。この光は、位相差板３１を透過する過程で偏光板３２の透過軸と直交する直線偏光に変換される。この直線偏光は偏光板３２を透過しないので、電圧無印加時には黒表示となる（ノーマリーブラック表示）。 (Operation of liquid crystal display)
The operation of the liquid crystal display device 1 of the present embodiment will be described.
First, transmissive display (transmission mode) will be described.
Light emitted from the backlight 3 is converted into circularly polarized light in the process of passing through the polarizing plate 22 and the phase difference plate 21. The light converted into circularly polarized light passes through the TFT array substrate 4 and enters the liquid crystal layer 6. Since the blue phase is optically isotropic when no voltage is applied, the light incident on the liquid crystal layer 6 passes through the liquid crystal layer 6 as circularly polarized light without being affected by optical anisotropy. The light that has passed through the liquid crystal layer 6 passes through the color filter substrate 5 and enters the phase difference plate 31. This light is converted into linearly polarized light orthogonal to the transmission axis of the polarizing plate 32 in the process of passing through the phase difference plate 31. Since this linearly polarized light does not pass through the polarizing plate 32, black display is obtained when no voltage is applied (normally black display).

画素電極４２と共通電極４３との間に電圧を印加すると、液晶層６は光学異方性を呈する。バックライト３から射出された光は、偏光板３２及び位相差板３１を透過して円偏光に変換される。この光は、液晶層６に入射し、液晶層６を透過する過程で回転方向が反転した楕円偏光に変換される。液晶層６を透過した後、この光は位相差板３１に入射し、偏光板３２の透過軸と略平行の直線偏光に変換され、位相差板３１を透過する。位相差板３１を透過した光は、その全部または一部が偏光板３２を透過する。このように、電圧印加時には白表示となる。 When a voltage is applied between the pixel electrode 42 and the common electrode 43, the liquid crystal layer 6 exhibits optical anisotropy. The light emitted from the backlight 3 passes through the polarizing plate 32 and the phase difference plate 31 and is converted into circularly polarized light. This light enters the liquid crystal layer 6 and is converted into elliptically polarized light whose rotation direction is reversed in the process of passing through the liquid crystal layer 6. After passing through the liquid crystal layer 6, this light enters the retardation plate 31, is converted into linearly polarized light substantially parallel to the transmission axis of the polarizing plate 32, and passes through the retardation plate 31. All or part of the light transmitted through the phase difference plate 31 is transmitted through the polarizing plate 32. Thus, white display is obtained when a voltage is applied.

次に、反射表示（反射モード）について説明する。
偏光板３２の外面に入射した外光は、当該偏光板３２及び位相差板３１を透過する過程で円偏光に変換される。円偏光に変換された光は、カラーフィルタ基板５を透過して液晶層６に入射する。ブルー相が電圧無印加時に光学的に等方性を示すことから、液晶層６に入射した光は、光学異方性の影響を受けることなく円偏光のまま液晶層６を透過する。液晶層６を透過した光は、光反射層４１により反射され、反射時に回転方向が反転する。反射光は、回転方向が反転した状態で、光学異方性の影響を受けることなく円偏光のままカラーフィルタ基板５へ向けて液晶層６を透過する。この光はカラーフィルタ基板５を透過して、位相差板３１に入射する。位相差板３１を透過する際、偏光板３２の透過軸と直交する直線偏光に変換される。この直線偏光は偏光板３２を透過できないので、電圧無印加時には黒表示となる（ノーマリーブラック表示）。 Next, reflection display (reflection mode) will be described.
External light incident on the outer surface of the polarizing plate 32 is converted into circularly polarized light in the process of passing through the polarizing plate 32 and the phase difference plate 31. The light converted into circularly polarized light passes through the color filter substrate 5 and enters the liquid crystal layer 6. Since the blue phase is optically isotropic when no voltage is applied, the light incident on the liquid crystal layer 6 passes through the liquid crystal layer 6 as circularly polarized light without being affected by optical anisotropy. The light transmitted through the liquid crystal layer 6 is reflected by the light reflecting layer 41, and the rotation direction is reversed at the time of reflection. The reflected light is transmitted through the liquid crystal layer 6 toward the color filter substrate 5 as circularly polarized light without being affected by optical anisotropy in a state where the rotation direction is reversed. This light passes through the color filter substrate 5 and enters the phase difference plate 31. When transmitted through the phase difference plate 31, it is converted into linearly polarized light orthogonal to the transmission axis of the polarizing plate 32. Since this linearly polarized light cannot be transmitted through the polarizing plate 32, black display is obtained when no voltage is applied (normally black display).

画素電極４２と共通電極４３との間に電圧を印加すると、液晶層６は光学異方性を呈する。偏光板３２の外面に入射した外光は、当該偏光板３２及び位相差板３１を透過する過程で円偏光に変換される。円偏光に変換された光は、カラーフィルタ基板５を透過して液晶層６に入射する。この光は、液晶層６を透過する過程で所定の位相差（λ／４）が付与されて光反射層４１で反射される。光反射層４１で反射された後、液晶層６をカラーフィルタ基板５へ向けて透過する際に、再度所定の位相差（λ／４）が付与される。液晶層６を透過した光は、カラーフィルタ基板５を透過し、位相差板３１に入射する。光は位相差板３１を透過する過程で、偏光板３２の透過軸と平行な直線偏光に変換される。位相差板３１を透過した光は、その全部または一部が偏光板３２を透過する。このように、電圧印加時には白表示となる。 When a voltage is applied between the pixel electrode 42 and the common electrode 43, the liquid crystal layer 6 exhibits optical anisotropy. External light incident on the outer surface of the polarizing plate 32 is converted into circularly polarized light in the process of passing through the polarizing plate 32 and the phase difference plate 31. The light converted into circularly polarized light passes through the color filter substrate 5 and enters the liquid crystal layer 6. This light is reflected by the light reflection layer 41 with a predetermined phase difference (λ / 4) given in the process of passing through the liquid crystal layer 6. After being reflected by the light reflection layer 41, a predetermined phase difference (λ / 4) is given again when the liquid crystal layer 6 is transmitted toward the color filter substrate 5. The light that has passed through the liquid crystal layer 6 passes through the color filter substrate 5 and enters the phase difference plate 31. In the process of passing through the phase difference plate 31, the light is converted into linearly polarized light parallel to the transmission axis of the polarizing plate 32. All or part of the light transmitted through the phase difference plate 31 is transmitted through the polarizing plate 32. Thus, white display is obtained when a voltage is applied.

リタデーションの大きさは、液晶層６の厚さ（ｄ）と光学異方性（Δｎ）との積（Δｎｄ）で規定される。反射表示領域１０ａと透過表示領域１０ｂとが設けられたいわゆる半透過反射型の液晶表示装置１において、光は反射表示領域１０ａ内の液晶層６を２回通過する。このことは、反射表示領域１０ａの液晶層６の実質的なリタデーションが透過表示領域１０ｂの液晶層６の実質的なリタデーションの２倍であることを意味する。反射表示領域１０ａのリタデーションを低くすることによって、反射表示領域１０ａの実質的なリタデーションを透過表示領域１０ｂの実質的なリタデーションと同等にすることができる。 The magnitude of the retardation is defined by the product (Δnd) of the thickness (d) of the liquid crystal layer 6 and the optical anisotropy (Δn). In the so-called transflective liquid crystal display device 1 provided with the reflective display region 10a and the transmissive display region 10b, light passes through the liquid crystal layer 6 in the reflective display region 10a twice. This means that the substantial retardation of the liquid crystal layer 6 in the reflective display region 10a is twice the substantial retardation of the liquid crystal layer 6 in the transmissive display region 10b. By making the retardation of the reflective display area 10a low, the substantial retardation of the reflective display area 10a can be made equal to the substantial retardation of the transmissive display area 10b.

本発明によれば、反射表示を行う反射表示領域１０ａと透過表示を行う透過表示領域１０ｂとが設けられたサブ画素領域１０内の液晶層６について、反射表示領域１０ａにおける液晶層６の層厚（セルギャップ）が、透過表示領域１０ｂにおけるセルギャップよりも薄いこととした。このような構成にすることで、セル厚に対する反射領域の実質的なリタデーションを透過の実質的なリタデーションと同じにすることができる。つまりＫerr効果を用いる表示装置の場合、セル厚に対して得られる実質的なリタデーションは線形的でなく、曲線的に変化する。。このため、反射表示領域１０ａの実質的なリタデーションを透過表示領域１０ｂの実質的なリタデーションと同等にすることができ、反射表示領域１０ａと透過表示領域１０ｂとの間の光透過率の差を解消することができる。これにより、反射表示領域１０ａと透過表示領域１０ｂとの間の階調差及びコントラストの差を解消することができ、表示特性の高い液晶表示装置１を得ることができる。 According to the present invention, for the liquid crystal layer 6 in the sub-pixel region 10 provided with the reflective display region 10a for performing reflective display and the transmissive display region 10b for performing transmissive display, the layer thickness of the liquid crystal layer 6 in the reflective display region 10a. (Cell gap) is thinner than the cell gap in the transmissive display region 10b. With such a configuration, the substantial retardation of the reflective region with respect to the cell thickness can be made the same as the substantial retardation of the transmission. That is, in the case of a display device using the Kerr effect, the substantial retardation obtained with respect to the cell thickness is not linear but changes in a curved manner. . For this reason, the substantial retardation of the reflective display area 10a can be made equivalent to the substantial retardation of the transmissive display area 10b, and the difference in light transmittance between the reflective display area 10a and the transmissive display area 10b is eliminated. can do. Thereby, the difference in gradation and contrast between the reflective display region 10a and the transmissive display region 10b can be eliminated, and the liquid crystal display device 1 having high display characteristics can be obtained.

図４は、本実施形態の液晶表示装置１についてセルギャップとリタデーションとの関係を示すグラフである。グラフの縦軸がリタデーションの大きさを示している。グラフの横軸がセルギャップの大きさを示している。グラフ中のリタデーションの大きさは相対値である。同グラフ中では、Ｋｅｒｒ効果を示さない液晶層のリタデーションを実線で示しており（グラフ（１））、本実施形態のようにＫｅｒｒ効果を示す液晶層６の光透過率を破線で示している（グラフ（２））。 FIG. 4 is a graph showing the relationship between the cell gap and retardation for the liquid crystal display device 1 of the present embodiment. The vertical axis of the graph indicates the size of retardation. The horizontal axis of the graph indicates the size of the cell gap. The size of retardation in the graph is a relative value. In the graph, the retardation of the liquid crystal layer not showing the Kerr effect is shown by a solid line (graph (1)), and the light transmittance of the liquid crystal layer 6 showing the Kerr effect is shown by a broken line as in this embodiment. (Graph (2)).

グラフ（１）に示すように、Ｋｅｒｒ効果を示さない液晶層のリタデーションは、セルギャップが大きくなるにつれて、当該セルギャップに比例して大きくなっている。 As shown in the graph (1), the retardation of the liquid crystal layer that does not exhibit the Kerr effect increases in proportion to the cell gap as the cell gap increases.

一方、グラフ（２）に示すように、Ｋｅｒｒ効果を示す液晶層のリタデーションについては、セルギャップが大きくなるにつれてリタデーションの増加傾向が小さくなっている。グラフ（２）において、セルギャップが約４μｍ以下の範囲では、リタデーションの増加傾向はグラフ（１）の場合よりも大きくなっている。セルギャップが約４μｍ以上の範囲では、リタデーションの増加傾向がグラフ（１）の場合よりも小さくなっている。特にセルギャップが約８μｍ以上の範囲では、セルギャップが大きくなるにつれてリタデーションの大きさが飽和しはじめている。セルギャップが１１μｍを超える範囲では、リタデーションの大きさがほぼ一定になっている。 On the other hand, as shown in the graph (2), regarding the retardation of the liquid crystal layer exhibiting the Kerr effect, the increasing tendency of the retardation decreases as the cell gap increases. In the graph (2), in the range where the cell gap is about 4 μm or less, the increasing tendency of retardation is larger than that in the graph (1). In the range where the cell gap is about 4 μm or more, the increasing tendency of retardation is smaller than that in the graph (1). In particular, in the range where the cell gap is about 8 μm or more, the size of retardation begins to saturate as the cell gap increases. In the range where the cell gap exceeds 11 μm, the size of the retardation is almost constant.

半透過反射型の液晶表示装置において反射表示領域の実質的なリタデーションと透過表示領域の実質的なリタデーションとを同等にするには、反射表示領域のリタデーションの実際の大きさが透過表示領域の実際のリタデーションの実際の大きさのほぼ半分程度になるように設計すれば良い。
本実施形態では、反射表示領域１０ａのセルギャップｄ１は２．５μｍである。図４のグラフから、このときのリタデーションの相対値は０．５５程度になっている。透過表示領域１０ｂのセルギャップｄ２は１１μｍである。図４のグラフから、このときのリタデーションの相対値は１．００程度である。このように、反射表示領域１０ａのリタデーションが透過表示領域１０ｂのリタデーションの約半分程度になっている。したがって、反射表示領域１０ａの実質的なリタデーションと透過表示領域１０ｂの実質的なリタデーションとがほぼ同等になる。 In order to make the substantial retardation of the reflective display region and the substantial retardation of the transmissive display region equal in a transflective liquid crystal display device, the actual size of the retardation of the reflective display region is the actual size of the transmissive display region. What is necessary is just to design so that it may become about a half of the actual size of retardation.
In the present embodiment, the cell gap d1 of the reflective display region 10a is 2.5 μm. From the graph of FIG. 4, the relative value of the retardation at this time is about 0.55. The cell gap d2 of the transmissive display region 10b is 11 μm. From the graph of FIG. 4, the relative value of the retardation at this time is about 1.00. Thus, the retardation of the reflective display area 10a is about half that of the transmissive display area 10b. Therefore, the substantial retardation of the reflective display area 10a and the substantial retardation of the transmissive display area 10b are substantially equal.

［第２実施形態］
次に、本発明の第２実施形態を説明する。
図５は、本実施形態に係る液晶表示装置１０１の構成を示す断面図である。本実施形態の液晶表示装置１０１は、カラーフィルタ基板の構成が第１実施形態とは異なっている。 [Second Embodiment]
Next, a second embodiment of the present invention will be described.
FIG. 5 is a cross-sectional view showing the configuration of the liquid crystal display device 101 according to the present embodiment. The liquid crystal display device 101 of this embodiment is different from the first embodiment in the configuration of the color filter substrate.

図５に示すように、ギャップ材１５３は、サブ画素領域の反射表示領域１１０ａに平面視で重なる領域に設けられている。このギャップ材１５３は、赤色カラーフィルタ層１５１Ｒが設けられた赤色サブ画素１１０Ｒと、緑色カラーフィルタ層１５１Ｇが設けられた緑色サブ画素１１０Ｇと、青色カラーフィルタ層１５１Ｂが設けられた青色サブ画素１１０Ｂとにおいて、それぞれ厚さが異なっている。 As shown in FIG. 5, the gap member 153 is provided in a region overlapping the reflective display region 110a of the sub-pixel region in plan view. The gap material 153 includes a red sub-pixel 110R provided with a red color filter layer 151R, a green sub-pixel 110G provided with a green color filter layer 151G, and a blue sub-pixel 110B provided with a blue color filter layer 151B. , Each has a different thickness.

具体的には、赤色サブ画素１１０Ｒでの厚さをｄ３、緑色サブ画素５１０Ｇでの厚さをｄ４、青色サブ画素５１０Ｂでの厚さをｄ５とすると、ｄ３＞ｄ４＞ｄ５となっており、赤色サブ画素１１０Ｒ、緑色サブ画素１１０Ｇ、青色サブ画素１１０Ｂの順にギャップ材１５３の厚さが小さくなっている。 Specifically, d3> d4> d5, where d3 is the thickness of the red subpixel 110R, d4 is the thickness of the green subpixel 510G, and d5 is the thickness of the blue subpixel 510B. The thickness of the gap material 153 decreases in the order of the red sub-pixel 110R, the green sub-pixel 110G, and the blue sub-pixel 110B.

このように、本実施形態によれば、赤色サブ画素１１０Ｒ、緑色サブ画素１１０Ｇ、青色サブ画素１１０Ｂの順にセルギャップが小さくなっているので、色光の種類に応じて最適な光透過率を得ることができる。これにより、表示特性の高い液晶表示装置１０１を得ることができる。 As described above, according to the present embodiment, since the cell gap becomes smaller in the order of the red sub-pixel 110R, the green sub-pixel 110G, and the blue sub-pixel 110B, an optimal light transmittance can be obtained according to the type of color light. Can do. Thereby, the liquid crystal display device 101 with high display characteristics can be obtained.

［第３実施形態］
次に、本発明の第３実施形態を説明する。
図６は、本実施形態に係る電子機器（携帯電話）の全体構成を示す斜視図である。
携帯電話３００は、筺体３０１、複数の操作ボタンが設けられた操作部３０２、画像や動画、文字等を表示する表示部３０３を有する。上記の表示部３０３には、本実施形態に係る液晶表示装置１、１０１が搭載されている。
このように、透過表示領域及び反射表示領域にて同等の光透過率が得られ、コントラストの高い表示が可能な液晶表示装置１、１０１を搭載したので、表示品位が高く、信頼性の高い携帯電話３００を得ることができる。 [Third Embodiment]
Next, a third embodiment of the present invention will be described.
FIG. 6 is a perspective view showing the overall configuration of the electronic apparatus (mobile phone) according to the present embodiment.
The cellular phone 300 includes a housing 301, an operation unit 302 provided with a plurality of operation buttons, and a display unit 303 that displays images, moving images, characters, and the like. The display unit 303 includes the liquid crystal display devices 1 and 101 according to the present embodiment.
As described above, since the liquid crystal display devices 1 and 101 capable of obtaining the same light transmittance in the transmissive display area and the reflective display area and capable of displaying with high contrast are mounted, the display quality is high and the mobile phone is highly reliable. The phone 300 can be obtained.

本発明の技術範囲は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更を加えることができる。
上記実施形態においては、液晶層の構成をコレステリックブルー相を含んだ構成として説明したが、これに限られることは無い。例えば、スメクティックブルー相やキュービック相、スメクティックＤ相、ミセル相などの材料を含んだ構成としても構わない。 The technical scope of the present invention is not limited to the above-described embodiment, and appropriate modifications can be made without departing from the spirit of the present invention.
In the above embodiment, the configuration of the liquid crystal layer has been described as a configuration including a cholesteric blue phase, but the configuration is not limited thereto. For example, it may be configured to include materials such as a smectic blue phase, a cubic phase, a smectic D phase, and a micelle phase.

また、例えばＴＦＴアレイ基板と液晶層との界面に配向膜を形成しても構わない。この場合、電界によって液晶分子の配向が変化する方向にラビング処理を施すのが好ましい。これにより、液晶分子の配向の変化を促進させることができる。 Further, for example, an alignment film may be formed at the interface between the TFT array substrate and the liquid crystal layer. In this case, it is preferable to perform a rubbing process in a direction in which the orientation of liquid crystal molecules changes due to an electric field. Thereby, the change in the alignment of the liquid crystal molecules can be promoted.

上記実施形態においては、液晶層の液晶分子の誘電率が正（ε＞０）になっているものを用いたが、この誘電率が負（ε＜０）になっているものを用いても構わない。 In the above embodiment, a liquid crystal layer having a positive dielectric constant (ε> 0) is used, but a liquid crystal layer having a negative dielectric constant (ε <0) may be used. I do not care.

また、上記実施形態においては、画素電極及び共通電極としてＩＴＯなどの光透過性を有する材料からなる構成であったが、例えばＡｌ／Ｃｒなどの金属材料からなる構成にしても良い。 In the above embodiment, the pixel electrode and the common electrode are made of a material having optical transparency such as ITO, but may be made of a metal material such as Al / Cr.

上記の液晶表示装置を搭載する電子機器としては、携帯電話に限られることは無い。例えば、カーナビ、ＨＵＤなどの車載用ディスプレイや、モバイルディスプレイなど、種々の電子機器に搭載することができる。 The electronic device equipped with the liquid crystal display device is not limited to a mobile phone. For example, it can be mounted on various electronic devices such as an in-vehicle display such as a car navigation system and a HUD, and a mobile display.

本発明の第１実施形態に係る液晶表示装置の構成を示す平面図。1 is a plan view showing a configuration of a liquid crystal display device according to a first embodiment of the present invention. 本実施形態に係る液晶表示装置のサブ画素領域の構成を平面図。FIG. 3 is a plan view illustrating a configuration of a sub-pixel region of the liquid crystal display device according to the embodiment. 本実施形態に係る液晶表示装置の構成を示す断面図。FIG. 3 is a cross-sectional view illustrating a configuration of a liquid crystal display device according to the embodiment. セルギャップとリタデーションとの関係を示すグラフ。The graph which shows the relationship between a cell gap and retardation. 本発明の第２実施形態に係る液晶表示装置の構成を示す断面図。Sectional drawing which shows the structure of the liquid crystal display device which concerns on 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第３実施形態に係る携帯電話の構成を示す斜視図。The perspective view which shows the structure of the mobile telephone which concerns on 3rd Embodiment of this invention.

Explanation of symbols

１、１０１…液晶表示装置２…液晶パネル４…ＴＦＴアレイ基板５…カラーフィルタ基板６…液晶層１０…サブ画素領域１０ａ…反射表示領域１０ｂ…透過表示領域１１…画素間領域２１、３１…位相差板２２、３２…偏光板２３、３３…円偏光板４１…光反射層４２…画素電極４３…共通電極５３…ギャップ材６００…携帯電話６０３…表示部 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1,101 ... Liquid crystal display device 2 ... Liquid crystal panel 4 ... TFT array substrate 5 ... Color filter substrate 6 ... Liquid crystal layer 10 ... Subpixel area 10a ... Reflection display area 10b ... Transmission display area 11 ... Interpixel area 21, 31 ... Phase difference plate 22, 32 ... Polarizing plate 23, 33 ... Circularly polarizing plate 41 ... Light reflecting layer 42 ... Pixel electrode 43 ... Common electrode 53 ... Gap material 600 ... Mobile phone 603 ... Display unit

Claims

A pair of opposed substrates;
An electro-optic material layer sandwiched between the pair of substrates and having an electro-optic material that is optically isotropic when an electric field is not applied and exhibits an optical anisotropy proportional to the square of the electric field strength when an electric field is applied; An electro-optical device comprising:
A plurality of sub-pixel regions having a reflective display region for performing reflective display and a transmissive display region for performing transmissive display;
A layer thickness of the electro-optical material layer in the reflective display region is equal to or less than one third of a layer thickness of the electro-optical material layer in the transmissive display region ;
Electro-optic device.

The plurality of sub-pixel regions include a first sub-pixel region that displays first color light, and a second sub-pixel region that displays second color light,
A layer thickness of the electro-optic material layer in the first sub-pixel region is larger than a layer thickness of the electro-optic material layer in the second sub-pixel region;
The electro-optical device according to claim 1.

The electro-optic material includes a cholesteric blue phase;
The electro-optical device according to claim 1.

The electro-optical material includes any one of a smectic blue phase, a cubic phase, a smectic D phase, and a micelle phase;
The electro-optical device according to claim 1.

An alignment film is provided at an interface with at least one of the electro-optic material layers of the pair of substrates.
The electro-optical device according to claim 1.

The alignment film is rubbed in a direction parallel to a direction of an electric field applied to the electro-optic material layer;
The electro-optical device according to claim 5.

A circularly polarizing plate is provided on each of the surfaces opposite to the electro-optic material layer in the pair of substrates,
The electro-optical device according to claim 1.

An electronic apparatus equipped with the electro-optical device according to claim 1.