JP5026252B2 - Solvent-type re-peeling pressure-sensitive adhesive composition and re-peeling pressure-sensitive adhesive product - Google Patents

Solvent-type re-peeling pressure-sensitive adhesive composition and re-peeling pressure-sensitive adhesive product Download PDF

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Description

本発明は、被着体に貼着した後、再度剥離される再剥離用であって、高速剥離でも優れた剥離性を示す再剥離用粘着製品と、この粘着製品を製造するための溶剤型の粘着剤組成物に関する。より詳細には、光学用偏光板(TAC)、位相差板、EMI(電磁波)シールドフィルム、防眩フィルム、反射防止フィルム等といった光学用部材の表面を保護するための再剥離用粘着製品に関するものである。   The present invention relates to a re-peeling adhesive product that is peeled off again after being attached to an adherend, and exhibits excellent peelability even at high-speed peeling, and a solvent mold for producing this pressure-sensitive adhesive product It is related with the adhesive composition. More specifically, the present invention relates to an adhesive product for re-peeling for protecting the surface of optical members such as an optical polarizing plate (TAC), a retardation plate, an EMI (electromagnetic wave) shield film, an antiglare film, and an antireflection film. It is.

液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等には、種々の機能を有する光学用フィルム、例えば、光学用偏光板(TAC)、位相差板、EMI(電磁波)シールドフィルム、防眩フィルム、反射防止フィルム等が積層されて用いられている。これらの光学用フィルムは、ディスプレイの製造工程中や性能検査段階での表面の損傷を防止するために、その表面に保護フィルムが貼着されており、最終的に機能複合フィルム製造時や液晶パネル組み立て工程で剥離除去される。   Liquid crystal displays, plasma displays, etc. are laminated with optical films having various functions, such as optical polarizing plates (TAC), retardation plates, EMI (electromagnetic wave) shield films, antiglare films, antireflection films, and the like. It is used. These optical films have a protective film affixed to the surface in order to prevent surface damage during the display manufacturing process and performance inspection stage. It is peeled off in the assembly process.

表面保護フィルムとしては、性能検査を妨害しない透明性、気泡等の噛み込みを許さない貼り付け性が必要であると共に、被着体への貼付後の粘着力増加や被着体への被着体汚染がないこと等が必要である。さらに、最近では、ディスプレイの大型化に伴って保護フィルムも大面積化してきたため、剥離工程が機械化され、その結果、機械による高速剥離が可能であることも重要な要求特性となってきた。   As a surface protection film, it is necessary to have transparency that does not interfere with the performance inspection, and a sticking property that does not allow air bubbles and the like, and an increase in adhesive strength after sticking to the adherend and adherence to the adherend. There must be no body contamination. Furthermore, recently, as the size of the display has increased, the protective film has also increased in area, so that the peeling process has been mechanized, and as a result, it has become an important required characteristic that high-speed peeling by a machine is possible.

しかし、剥離速度が高速になればなるほど、剥離力(粘着力)は増大する傾向にあるため、剥離機械に大きな負荷をかけることとなる。また、剥離時に、滑らかに剥離する部分となかなか剥離しない部分とが生じてバリバリという音を立てながら剥離する現象(ジッピング剥離)が起こって、光学用フィルム表面が損傷したり、破断してしまうことがあった。   However, as the peeling speed becomes higher, the peeling force (adhesive force) tends to increase, which places a greater load on the peeling machine. In addition, when peeling off, a part that peels off smoothly and a part that does not peel off easily occur, causing a phenomenon of peeling while making a buzzing sound (zipping peeling), and the optical film surface is damaged or broken. was there.

このため、保護フィルムの高速剥離性を改善する試みが多数行われている。例えば、特許文献1には、常温では粘着性を有しない高Tgの(メタ)アクリル系ポリマーと、十分な粘着力を有する低Tgの(メタ)アクリル系ポリマーとをブレンドすることで、浮きや剥がれがなく(それなりの粘着性を有し)、かつ、高速剥離性が良好な、保護フィルム用の感圧接着剤が開示されている。   For this reason, many attempts have been made to improve the high-speed peelability of the protective film. For example, Patent Document 1 discloses that by blending a high Tg (meth) acrylic polymer having no adhesiveness at room temperature and a low Tg (meth) acrylic polymer having sufficient adhesive strength, A pressure-sensitive adhesive for a protective film that does not peel off (has moderate tackiness) and has good high-speed peelability is disclosed.

上記のような保護フィルム用の粘着製品は、剥離されることが前提のため、一般の粘着製品に比べてかなり低い粘着力(微粘着)に設計されている。しかしながら、高TgポリマーのTgが高すぎると、元々、低レベルの粘着力であるために、低温時の粘着性がほとんどなくなったり、経時的に架橋が進行して被着体に貼り付かなくなるという不都合を起こすことがあった。   The adhesive product for the protective film as described above is designed to have a considerably lower adhesive force (slight adhesion) than a general adhesive product on the premise that it is peeled off. However, if the Tg of the high Tg polymer is too high, the adhesive strength is originally low, so that the adhesiveness at a low temperature is almost lost, or the crosslinking progresses with time and does not stick to the adherend. There was a problem.

そこで、本発明者等は、光学用フィルムの表面保護フィルムに適用することを目的として、高速剥離性に優れた粘着剤層を形成し得る溶剤型再剥離用粘着剤組成物を見出し、既に出願した(特願2006−256312号)。   Therefore, the present inventors have found a solvent-type re-peeling pressure-sensitive adhesive composition capable of forming a pressure-sensitive adhesive layer excellent in high-speed peelability for the purpose of applying to a surface protective film of an optical film, and has already filed an application. (Japanese Patent Application No. 2006-256312).

しかし、上記出願に記載されている技術では、過酷な条件で剥離する場合に、被着体に粘着剤の一部が残存してしまう被着体汚染が起こることがあり、再剥離性の向上が求められていた。また、被着体に対するなじみ性(濡れ性)の点でも改善の余地があった。
特開2005−146151号公報
However, in the technique described in the above application, when peeling off under harsh conditions, adherend contamination in which part of the adhesive remains on the adherend may occur, improving re-peelability. Was demanded. In addition, there is room for improvement in terms of conformability (wetability) to the adherend.
JP 2005-146151 A

そこで、本発明では、光学用フィルムの表面保護フィルムに適用することを目的として、高速剥離性に優れ、被着体汚染などのトラブルを起こしにくい粘着剤層を形成し得る溶剤型再剥離用粘着剤組成物を見出し、良好な特性の再剥離用粘着製品を提供することを課題として掲げた。   Therefore, in the present invention, for the purpose of applying to a surface protective film of an optical film, a solvent-type re-peeling pressure-sensitive adhesive that can form a pressure-sensitive adhesive layer that is excellent in high-speed peelability and hardly causes troubles such as adherend contamination. An agent composition was found, and the problem was to provide an adhesive product for re-peeling with good characteristics.

本発明の溶剤型再剥離用粘着剤組成物は、架橋剤が配合されて使用される溶剤型再剥離用粘着剤組成物であって、ガラス転移温度(Tg)が0℃以上の高Tgポリマー(A)と、この高Tgポリマーよりも低いTgを有し、感圧接着性を示す低Tgポリマー(B)および溶剤を含み、高Tgポリマー(A)と低Tgポリマー(B)はいずれも前記架橋剤と反応し得る官能基を含有しており、かつ、上記粘着剤組成物から得られる粘着剤層は、高Tgポリマー(A)と低Tgポリマー(B)とが相溶することなく、高Tgポリマー(A)が島、低Tgポリマー(B)が海である海島構造を形成しているところに特徴を有する。   The solvent-type re-peeling pressure-sensitive adhesive composition of the present invention is a solvent-type re-peeling pressure-sensitive adhesive composition used by blending a crosslinking agent, and has a high Tg polymer having a glass transition temperature (Tg) of 0 ° C. or higher. (A) and a low Tg polymer (B) having a Tg lower than that of the high Tg polymer and exhibiting pressure-sensitive adhesion, and a solvent, both of the high Tg polymer (A) and the low Tg polymer (B) The pressure-sensitive adhesive layer containing a functional group capable of reacting with the cross-linking agent and obtained from the pressure-sensitive adhesive composition is compatible with the high Tg polymer (A) and the low Tg polymer (B). The high Tg polymer (A) is an island and the low Tg polymer (B) is a sea.

上記高Tgポリマー(A)と低Tgポリマー(B)が有する官能基がヒドロキシル基であることが好ましく、この場合、高Tgポリマー(A)と低Tgポリマー(B)は、それぞれ、ヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートを原料モノマー100質量%中0.1〜10質量%含む原料モノマーから構成されていることが好ましい。   The functional group of the high Tg polymer (A) and the low Tg polymer (B) is preferably a hydroxyl group. In this case, the high Tg polymer (A) and the low Tg polymer (B) each contain a hydroxyl group. It is preferable that it is comprised from the raw material monomer which contains (meth) acrylate 0.1 to 10 mass% in 100 mass% of raw material monomers.

上記高Tgポリマーが、酢酸ビニルまたはメチルアクリレートを70質量%以上含む原料モノマーから合成されたものであることも本発明の好ましい実施態様である。   It is also a preferred embodiment of the present invention that the high Tg polymer is synthesized from a raw material monomer containing 70% by mass or more of vinyl acetate or methyl acrylate.

本発明には、本発明の溶剤型再剥離用粘着剤組成物から得られた粘着剤層が支持基材の少なくとも片面に形成されている再剥離用粘着製品も含まれる。このとき、厚み20μmの粘着剤層が厚み38μmのポリエチレンテレフタレートフィルム基材上に形成された粘着製品を用いてアクリル板に対する180゜粘着力を、23℃、相対湿度65%の雰囲気下で測定した場合に、0.3m/分の低速剥離では0.05〜0.3N/25mm、30m/分の高速剥離では0.2〜3N/25mmであり、かつ高速剥離における粘着力を低速剥離における粘着力で除した値が15.0以下であると、優れた高速剥離性を発現する再剥離用粘着製品となるため、本発明の好ましい実施態様である。   The present invention also includes a re-peeling pressure-sensitive adhesive product in which a pressure-sensitive adhesive layer obtained from the solvent-based re-peeling pressure-sensitive adhesive composition of the present invention is formed on at least one surface of a support substrate. At this time, the 180 ° adhesive strength to the acrylic plate was measured in an atmosphere of 23 ° C. and 65% relative humidity using an adhesive product in which an adhesive layer having a thickness of 20 μm was formed on a polyethylene terephthalate film substrate having a thickness of 38 μm. In this case, 0.05 to 0.3 N / 25 mm for low-speed peeling at 0.3 m / min, 0.2 to 3 N / 25 mm for high-speed peeling at 30 m / min, and adhesive strength at high speed peeling at low speed peeling. When the value divided by the force is 15.0 or less, a re-peeling pressure-sensitive adhesive product that exhibits excellent high-speed peelability is obtained, which is a preferred embodiment of the present invention.

なお、海島構造の光学的確認方法、粘着製品試料の作製方法、粘着力の測定方法の詳細は、後述する。   The details of the optical confirmation method of the sea-island structure, the method of preparing the adhesive product sample, and the method of measuring the adhesive strength will be described later.

本発明では、高Tgポリマー(A)と低Tgポリマー(B)とが海島構造を採っているため、高Tgポリマー(A)の長所と低Tgポリマー(B)の長所を併せ持つ粘着剤とすることができ、その結果、高速剥離性を改善することができた。また、低Tgポリマー(B)に加えて、高Tgポリマー(A)にも架橋剤との反応点となる官能基を導入したため、被着体汚染を起こすことがなくなった。従って、光学用フィルムの表面保護のために好適な再剥離用粘着製品を提供することができた。   In the present invention, since the high Tg polymer (A) and the low Tg polymer (B) have a sea-island structure, the pressure-sensitive adhesive has both the advantages of the high Tg polymer (A) and the advantages of the low Tg polymer (B). As a result, the high-speed peelability could be improved. In addition to the low Tg polymer (B), the functional group serving as a reaction point with the cross-linking agent was also introduced into the high Tg polymer (A), so that adherend contamination was not caused. Therefore, it was possible to provide a re-peeling pressure-sensitive adhesive product suitable for protecting the surface of an optical film.

まず、本発明にかかる溶剤型再剥離用粘着剤組成物について説明するが、本発明の範囲はこれらの説明に拘束されることはなく、以下の例示以外についても、本発明の趣旨を損なわない範囲で適宜変更実施し得る。本発明の溶剤型再剥離用粘着剤組成物は、乾燥させる(溶剤を除去する)ことによって粘着製品となるものであって、後述する条件によって測定されるアクリル板に対する低速剥離における180゜粘着力が10N/25mm以下の場合を指すものとする。また、本発明における「ポリマー」には、ホモポリマーはもとより、コポリマーや三元以上の共重合体も含まれるものとする。本発明の「モノマー」は、いずれも付加重合型モノマーである。   First, the solvent-based re-peeling pressure-sensitive adhesive composition according to the present invention will be described. However, the scope of the present invention is not limited to these descriptions, and the gist of the present invention is not impaired except for the following examples. Changes can be made as appropriate within the range. The solvent-type re-peeling pressure-sensitive adhesive composition of the present invention becomes a pressure-sensitive adhesive product by drying (removing the solvent). Refers to the case of 10 N / 25 mm or less. The “polymer” in the present invention includes not only a homopolymer but also a copolymer or a copolymer of three or more. The “monomer” of the present invention is an addition polymerization type monomer.

まず、本発明の溶剤型再剥離用粘着剤組成物における第1の必須成分は、ガラス転移温度(Tg)が0℃以上の高Tgポリマー(A)である。この高Tgポリマー(A)の存在によって高速剥離力の増大を抑制する。   First, the 1st essential component in the solvent-type re-peeling adhesive composition of this invention is a high Tg polymer (A) whose glass transition temperature (Tg) is 0 degreeC or more. The presence of the high Tg polymer (A) suppresses an increase in high speed peeling force.

ここで、ポリマーのTgは、DSC(示差走査熱量測定装置)、DTA(示差熱分析装置)、TMA(熱機械測定装置)によって求めることができる。また、ホモポリマーのTgは各種文献(例えばポリマーハンドブック等)に記載されているので、コポリマーのTgは、各種ホモポリマーのTg(K)と、モノマーの質量分率(W)とから下記式によって求めることもできる。 Here, the Tg of the polymer can be determined by DSC (differential scanning calorimeter), DTA (differential thermal analyzer), and TMA (thermomechanical analyzer). In addition, since the Tg of the homopolymer is described in various documents (for example, the polymer handbook), the Tg of the copolymer can be calculated from the Tg n (K) of the various homopolymers and the mass fraction (W n ) of the monomer as follows. It can also be obtained by an expression.

ここで W ;各単量体の質量分率
Tg;各単量体のホモポリマーのTg(K)
Where W n ; mass fraction of each monomer
Tg n : Tg (K) of homopolymer of each monomer

主要ホモポリマーのTgを示せば、ポリアクリル酸は105.85℃、ポリメチルアクリレートは9.85℃、ポリエチルアクリレートは−24.15℃、ポリn−ブチルアクリレートは−54.15℃、ポリ2−エチルヘキシルアクリレートは−70.00℃、ポリ2−ヒドロキシエチルアクリレートは−15.00℃、ポリ2−ヒドロキシエチルメタクリレートは84.85℃、ポリ4−ヒドロキシブチルアクリレートは−32.00℃、ポリメチルメタクリレートは104.85℃、ポリ酢酸ビニルは30.00℃、ポリベンジルアクリレートは6.00℃、ポリアクリロニトリルは125℃、ポリスチレンは100℃である。   The Tg of the main homopolymer is 105.85 ° C. for polyacrylic acid, 9.85 ° C. for polymethyl acrylate, −24.15 ° C. for polyethyl acrylate, −54.15 ° C. for poly n-butyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate is -70.00 ° C, poly-2-hydroxyethyl acrylate is -15.00 ° C, poly-2-hydroxyethyl methacrylate is 84.85 ° C, poly-4-hydroxybutyl acrylate is -32.00 ° C, poly Methyl methacrylate is 104.85 ° C., polyvinyl acetate is 30.00 ° C., polybenzyl acrylate is 6.00 ° C., polyacrylonitrile is 125 ° C., and polystyrene is 100 ° C.

本発明で用いられる高Tgポリマー(A)はTgが0℃以上であればよいが、高速剥離性をより一層改善するには、Tgは10℃以上が好ましく、20℃以上がより好ましく、30℃以上がさらに好ましい。ただし、高Tgポリマー(A)のTgが高すぎると、再剥離用の微粘着タイプとはいえ、粘着力不足に陥ることがあるので、80℃未満が好ましく、75℃以下が好ましく、70℃以下がさらに好ましい。   The high Tg polymer (A) used in the present invention may have a Tg of 0 ° C. or higher, but in order to further improve the high-speed peelability, the Tg is preferably 10 ° C. or higher, more preferably 20 ° C. or higher, 30 More preferably, it is not lower than ° C. However, if the Tg of the high Tg polymer (A) is too high, although it may be a slightly adhesive type for re-peeling, the adhesive strength may be insufficient. Therefore, it is preferably less than 80 ° C, preferably 75 ° C or less, and 70 ° C. More preferred are:

高Tgポリマー(A)には、後に配合される架橋剤との反応性を有する官能基が導入されていなければならない。高Tgポリマー(A)を架橋することで、被着体汚染の原因となる比較的低分子量の高Tgポリマー(A)を高分子量化し、被着体汚染を抑制するのである。官能基としては、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アミノ基、アミド基、エポキシ基等が挙げられる。   In the high Tg polymer (A), a functional group having reactivity with a crosslinking agent to be blended later must be introduced. By cross-linking the high Tg polymer (A), the high Tg polymer (A) having a relatively low molecular weight that causes adherend contamination is increased in molecular weight, and adherend contamination is suppressed. Examples of the functional group include a hydroxyl group, a carboxyl group, an amino group, an amide group, and an epoxy group.

上記官能基を高Tgポリマー(A)に導入するには、高Tgポリマー(A)の原料モノマーとして官能基含有モノマーを用いればよい。官能基含有モノマーとしては、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性ヒドロキシ(メタ)アクリレート、α−(ヒドロキシメチル)アクリル酸メチル、α−(ヒドロキシメチル)アクリル酸エチル、フタル酸とプロピレングリコールとから得られるポリエステルジオールのモノ(メタ)アクリレート等のヒドロキシル基含有(メタ)アクリレート類;(メタ)アクリル酸、ケイ皮酸およびクロトン酸等の不飽和モノカルボン酸;マレイン酸、フマル酸、イタコン酸およびシトラコン酸等の不飽和ジカルボン酸;これら不飽和ジカルボン酸のモノエステル等のカルボキシル基含有モノマー;アミノ基、アミド基、エポキシ基等のいずれかを有する(メタ)アクリレート類等が挙げられる。   In order to introduce the functional group into the high Tg polymer (A), a functional group-containing monomer may be used as a raw material monomer of the high Tg polymer (A). As the functional group-containing monomer, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, caprolactone-modified hydroxy (meth) acrylate, α- (hydroxymethyl) methyl acrylate, Hydroxyl group-containing (meth) acrylates such as mono (meth) acrylate of polyester diol obtained from ethyl α- (hydroxymethyl) acrylate, phthalic acid and propylene glycol; (meth) acrylic acid, cinnamic acid and crotonic acid Unsaturated monocarboxylic acids such as maleic acid, fumaric acid, itaconic acid, citraconic acid and other unsaturated dicarboxylic acids; carboxyl group-containing monomers such as monoesters of these unsaturated dicarboxylic acids; amino groups, amide groups, epoxy groups, etc. Or (meth) acrylates having any of the above.

上記の中でも、官能基としてヒドロキシル基を有するヒドロキシル基含有(メタ)アクリレート類が好ましい。特に、ヒドロキシル基が(メタ)アクリロイル基から離間したところにあるモノマーの方が、架橋反応性やなじみ性がよくなるので、架橋剤量を少なくしたい場合や被着体に対するなじみ性が重要視される場合は、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートよりも、炭素数の大きなアルキル基(プロピル基以上)にヒドロキシル基が結合している(メタ)アクリレート(例えば、4-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート等)を用いることが好ましい。   Among the above, hydroxyl group-containing (meth) acrylates having a hydroxyl group as a functional group are preferable. In particular, a monomer having a hydroxyl group separated from a (meth) acryloyl group has better cross-linking reactivity and conformability. Therefore, when the amount of the cross-linking agent is desired to be reduced or the conformability to an adherend is regarded as important. In this case, a (meth) acrylate (for example, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate) in which a hydroxyl group is bonded to an alkyl group (propyl group or higher) having a larger carbon number than 2-hydroxyethyl (meth) acrylate. Is preferably used.

これらの官能基含有モノマーは、高Tgポリマー(A)の原料モノマー100質量%中、0.1〜10質量%とすることが好ましい。官能基含有モノマーの使用量が0.1質量%未満では、高Tgポリマー(A)中の官能基量が少なくなって、被着体汚染を抑制する効果が充分に発現しないため好ましくない。また、10質量%を超えると、被着体へ貼着した後、粘着力が経時で上昇する(粘着昂進)ため好ましくない。官能基含有モノマーの使用量は、0.3〜8質量%がより好ましく、0.5〜6質量%がさらに好ましい。   These functional group-containing monomers are preferably 0.1 to 10% by mass in 100% by mass of the raw material monomer of the high Tg polymer (A). If the amount of the functional group-containing monomer used is less than 0.1% by mass, the amount of the functional group in the high Tg polymer (A) decreases, and the effect of suppressing adherend contamination is not sufficiently exhibited, which is not preferable. On the other hand, if it exceeds 10% by mass, the adhesive strength increases with time after adhesion to an adherend (adhesion progress), which is not preferable. The use amount of the functional group-containing monomer is more preferably 0.3 to 8% by mass, and further preferably 0.5 to 6% by mass.

上記官能基含有モノマーの共重合相手としては、公知のラジカル重合性モノマーがいずれも使用可能であるが、本発明の粘着剤組成物から得られる粘着剤層のヘイズを小さくするには、酢酸ビニルを用いることが好ましい。酢酸ビニル系ポリマーの屈折率と、低Tgポリマー(B)の主体となる(メタ)アクリレート系ポリマー(特に、2−エチルヘキシルアクリレートやブチルアクリレートを含むポリマー)との屈折率が近似しているため、ヘイズが小さくなり、光学用フィルムの表面保護用フィルムとして好適となるからである。従って、高Tgポリマー(A)は、酢酸ビニルと上記官能基含有モノマーを必須的に含む原料モノマーから得られたものであることが好ましい。このとき、酢酸ビニルは70〜99.9質量%が好ましく、80〜99.9質量%がより好ましく、90〜99.9質量%がさらに好ましい。   As the copolymerization partner of the functional group-containing monomer, any known radical polymerizable monomer can be used. To reduce the haze of the pressure-sensitive adhesive layer obtained from the pressure-sensitive adhesive composition of the present invention, vinyl acetate is used. Is preferably used. Since the refractive index of the vinyl acetate polymer is close to the refractive index of the (meth) acrylate polymer (particularly a polymer containing 2-ethylhexyl acrylate or butyl acrylate), which is the main component of the low Tg polymer (B), It is because a haze becomes small and it becomes suitable as a film for surface protection of an optical film. Therefore, the high Tg polymer (A) is preferably obtained from a raw material monomer essentially containing vinyl acetate and the functional group-containing monomer. At this time, 70-99.9 mass% of vinyl acetate is preferable, 80-99.9 mass% is more preferable, 90-99.9 mass% is further more preferable.

上記官能基含有モノマーの共重合相手として、酢酸ビニルではなく、メチルアクリレートを用いてもよい。粘着性やなじみ性が良好となる。メチルアクリレートは、70〜99.9質量%が好ましく、80〜99.9質量%がより好ましく、90〜99.9質量%がさらに好ましい。   Instead of vinyl acetate, methyl acrylate may be used as a copolymerization partner for the functional group-containing monomer. Adhesiveness and familiarity are improved. The methyl acrylate is preferably 70 to 99.9% by mass, more preferably 80 to 99.9% by mass, and still more preferably 90 to 99.9% by mass.

メチルアクリレート系の高Tgポリマー(A)を用いるときは、後述する低Tgポリマー(B)の原料モノマーとして屈折率制御用のモノマーを用いることが好ましい。得られる粘着剤層のヘイズを小さくすることができる。屈折率制御用のモノマーとは、低Tgポリマーの屈折率を高Tgポリマーの屈折率に近づけるために用いられるモノマーであり、例えば、高Tgポリマー(A)をメチルアクリレートとヒドロキシル基含有モノマーから合成した場合、2−エチルヘキシルアクリレート、ブチルアクリレートおよび2−ヒドロキシエチルアクリレートに加え、ベンジルアクリレートを低Tgポリマー(B)の原料モノマーとして選択することで、高Tgポリマー(A)と低Tgポリマー(B)の屈折率を近接させることができ、粘着剤層のヘイズを3%以下に低減させることができる。   When the methyl acrylate-based high Tg polymer (A) is used, it is preferable to use a monomer for controlling the refractive index as a raw material monomer for the low Tg polymer (B) described later. The haze of the obtained pressure-sensitive adhesive layer can be reduced. The monomer for controlling the refractive index is a monomer used to bring the refractive index of the low Tg polymer close to the refractive index of the high Tg polymer. For example, the high Tg polymer (A) is synthesized from methyl acrylate and a hydroxyl group-containing monomer. In this case, in addition to 2-ethylhexyl acrylate, butyl acrylate and 2-hydroxyethyl acrylate, benzyl acrylate is selected as a raw material monomer for the low Tg polymer (B), so that the high Tg polymer (A) and the low Tg polymer (B) are selected. Can be made close to each other, and the haze of the pressure-sensitive adhesive layer can be reduced to 3% or less.

高Tgポリマー(A)合成のために、酢酸ビニル、メチルアクリレート、上記官能基含有モノマー以外に使用できる他のモノマーとしては、ホモポリマーのTgが高い(メタ)アクリル酸、メチルメタクリレート、エチル(メタ)アクリレート、アクリロニトリル、スチレン等が好ましい。また、後述する低Tgポリマーの原料モノマーとして使用できるモノマーも、高Tgポリマー(A)のTgが0℃以上になるように種類と量を選択すれば使用可能である。なお、高Tgポリマー(A)の好ましい実施態様は、酢酸ビニルと、2−ヒドロキシエチルアクリレートおよび/または4−ヒドロキシブチルアクリレートから合成されたポリマーである。被着体汚染を抑制しつつ、ヘイズを3%以下にすることができるからである。また、前記したように、低Tgポリマー(B)の合成時に屈折率制御用モノマーを用いれば、メチルアクリレートと2−ヒドロキシエチルアクリレートおよび/または4−ヒドロキシブチルアクリレートから合成された高Tgポリマー(A)も被着体汚染を抑制しつつ、ヘイズを3%以下にすることができるため、好ましく利用できる。   In addition to vinyl acetate, methyl acrylate and the above functional group-containing monomers, other monomers that can be used for the synthesis of high Tg polymer (A) include (meth) acrylic acid, methyl methacrylate, ethyl (meta) having a high Tg of homopolymer. ) Acrylate, acrylonitrile, styrene and the like are preferable. Moreover, the monomer which can be used as a raw material monomer of the low Tg polymer mentioned later can also be used if a kind and quantity are selected so that Tg of a high Tg polymer (A) may be 0 degreeC or more. A preferred embodiment of the high Tg polymer (A) is a polymer synthesized from vinyl acetate and 2-hydroxyethyl acrylate and / or 4-hydroxybutyl acrylate. This is because haze can be reduced to 3% or less while suppressing adherend contamination. Further, as described above, if a monomer for controlling the refractive index is used in the synthesis of the low Tg polymer (B), the high Tg polymer (A) synthesized from methyl acrylate and 2-hydroxyethyl acrylate and / or 4-hydroxybutyl acrylate. ) Can be preferably used because haze can be reduced to 3% or less while suppressing adherend contamination.

代表的なホモポリマーの屈折率を示せば、ポリアクリル酸は1.5270、ポリメチルアクリレートは1.4720、ポリエチルアクリレートは1.4685、ポリn−ブチルアクリレートは1.4660、ポリメチルメタクリレートは1.4900、ポリ2−エチルヘキシルアクリレートは1.4650、ポリ2−ヒドロキシエチルアクリレートは1.4480、ポリ2−ヒドロキシエチルメタクリレートは1.5119、ポリ4−ヒドロキシブチルアクリレートは1.4520、ポリ酢酸ビニルは1.4665、ポリベンジルアクリレートは1.5132である。   The refractive index of a typical homopolymer is 1.5270 for polyacrylic acid, 1.4720 for polymethyl acrylate, 1.4685 for polyethyl acrylate, 1.4660 for poly n-butyl acrylate, 1.4900, poly-2-ethylhexyl acrylate 1.4650, poly 2-hydroxyethyl acrylate 1.4480, poly 2-hydroxyethyl methacrylate 1.5119, poly 4-hydroxybutyl acrylate 1.4520, polyvinyl acetate Is 1.4665 and polybenzyl acrylate is 1.5132.

なお、ヘイズや被着体汚染を重視しない場合は、ホモポリマーのTgが高い(メタ)アクリル酸、メチルメタクリレート、エチル(メタ)アクリレート、アクリロニトリル、スチレン等を中心に、前記Tg範囲を満足するように高Tgポリマー(A)を構成すればよい。   In addition, when importance is not attached to haze or adherend contamination, the above Tg range is satisfied mainly in (meth) acrylic acid, methyl methacrylate, ethyl (meth) acrylate, acrylonitrile, styrene, etc. having a high homopolymer Tg. The high Tg polymer (A) may be constituted.

高Tgポリマー(A)の分子量は、質量平均分子量(Mw)で2000〜10万程度が好ましい。高Tgポリマー(A)は、後述する通り、海島構造の島となって、高速剥離の際の粘着力の増大やジッピング現象を抑制する作用を有する。Mwが大きすぎると、微細な島を形成しにくくなる傾向があるため、上記範囲が好ましい。より好ましいMwの範囲は、2万〜9万程度である。   The molecular weight of the high Tg polymer (A) is preferably about 2000 to 100,000 in terms of mass average molecular weight (Mw). As will be described later, the high Tg polymer (A) becomes an island having a sea-island structure and has an action of suppressing an increase in adhesive force and a zipping phenomenon during high-speed peeling. If Mw is too large, it is difficult to form fine islands, so the above range is preferable. A more preferable range of Mw is about 20,000 to 90,000.

本発明の溶剤型再剥離用粘着剤組成物に含まれる第2の必須成分は、感圧接着性を示す低Tgポリマー(B)である。この低Tgポリマー(B)は、上記高Tgポリマー(A)のTg(0℃以上)よりも低いことが要件であり、「感圧接着性を示す」と言うためにはTgが0℃未満であることが好ましい。より好ましくは−20℃以下、さらに好ましくは−35℃以下である。ただし、低Tgポリマー(B)のTgが−80℃より低くなると、凝集力が低下して、被着体汚染が起こりやすくなる傾向にあるため好ましくない。   The second essential component contained in the solvent-type re-peeling pressure-sensitive adhesive composition of the present invention is a low Tg polymer (B) exhibiting pressure-sensitive adhesiveness. The low Tg polymer (B) is required to be lower than the Tg (0 ° C. or higher) of the high Tg polymer (A), and in order to say “shows pressure-sensitive adhesiveness”, the Tg is less than 0 ° C. It is preferable that More preferably, it is -20 degrees C or less, More preferably, it is -35 degrees C or less. However, if the Tg of the low Tg polymer (B) is lower than −80 ° C., the cohesive force tends to decrease, and adherend contamination tends to occur, such being undesirable.

この低Tgポリマー(B)を得るには、アルキル(メタ)アクリレートと、上記した官能基含有モノマーを組み合わせて用いることが好ましい。上記アルキル(メタ)アクリレートは粘着力の確保に必要であり、官能基含有モノマーは、後述する架橋剤と反応させるための官能基を低Tgポリマー(B)に導入するためのモノマーである。なお、官能基含有モノマーは、高Tgポリマー(A)のところで例示したモノマーがいずれも使用可能であり、高Tgポリマー(A)のときと同様に、ヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートが好適である。また、その使用量も高Tgポリマー(A)のときと同様に、0.1〜10質量%が好ましい。官能基含有モノマーの使用量が0.1質量%未満では、低Tgポリマー(B)中の官能基量が少なくなって、架橋反応の速度が遅くなったり、高速粘着力が大きくなり過ぎるが、10質量%を超えて使用すると、被着体へ貼着した後、粘着力が経時で上昇する(粘着昂進)ため好ましくない。官能基含有モノマーの使用量は、0.3〜8質量%がより好ましく、0.5〜6質量%がさらに好ましい。   In order to obtain this low Tg polymer (B), it is preferable to use a combination of an alkyl (meth) acrylate and the above functional group-containing monomer. The alkyl (meth) acrylate is necessary for ensuring adhesive strength, and the functional group-containing monomer is a monomer for introducing a functional group for reacting with a crosslinking agent described later into the low Tg polymer (B). As the functional group-containing monomer, any of the monomers exemplified for the high Tg polymer (A) can be used, and the hydroxyl group-containing (meth) acrylate is suitable as in the case of the high Tg polymer (A). . Moreover, the usage-amount is preferable 0.1-10 mass% similarly to the time of the high Tg polymer (A). When the amount of the functional group-containing monomer used is less than 0.1% by mass, the amount of the functional group in the low Tg polymer (B) decreases, the speed of the crosslinking reaction becomes slow, or the high-speed adhesive force becomes too large. If the content exceeds 10% by mass, the adhesive strength increases with time after adhesion to the adherend (adhesion progress), which is not preferable. The use amount of the functional group-containing monomer is more preferably 0.3 to 8% by mass, and further preferably 0.5 to 6% by mass.

上記低Tgポリマー(B)の主たる構成成分であるアルキル(メタ)アクリレートは、粘着特性の観点から、アルキル基の炭素数が4〜12であることが好ましい。この炭素数は、好ましくは4〜10、より好ましくは4〜8である。上記炭素数が4未満(3以下)であるか、または、12を超える(13以上)と、粘着力が低下するおそれがある。具体的には、n−ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、sec−ブチル(メタ)アクリレート、tert−ブチル(メタ)アクリレート、アミル(メタ)アクリレート、イソアミル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ヘプチル(メタ)アクリレート、オクチル(メタ)アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ノニル(メタ)アクリレート、イソノニル(メタ)アクリレート、デシル(メタ)アクリレート、ドデシル(メタ)アクリレート等が挙げられ、なかでもブチルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、オクチルアクリレートおよびイソオクチルアクリレートがより好ましい。これらは、1種のみ用いてもよいし2種以上を併用してもよく、限定はされない。   The alkyl (meth) acrylate that is the main constituent of the low Tg polymer (B) preferably has 4 to 12 carbon atoms in the alkyl group from the viewpoint of adhesive properties. This carbon number is preferably 4 to 10, more preferably 4 to 8. If the carbon number is less than 4 (3 or less) or more than 12 (13 or more), the adhesive strength may be reduced. Specifically, n-butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, sec-butyl (meth) acrylate, tert-butyl (meth) acrylate, amyl (meth) acrylate, isoamyl (meth) acrylate, hexyl (meth) ) Acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, heptyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, nonyl (meth) acrylate, isononyl (meth) acrylate, decyl (meth) ) Acrylate, dodecyl (meth) acrylate, etc., among which butyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, octyl acrylate and isooctyl acrylate are more preferable. These may be used alone or in combination of two or more, and is not limited.

低Tgポリマー(B)の原料モノマー100質量%中、上記の炭素数4〜12のアルキル(メタ)アクリレートは、50〜99.9質量%の範囲で用いることが好ましい。より好ましくは60〜99.7質量%、さらにより好ましくは70〜99.5質量%である。アルキル(メタ)アクリレートの使用量が上記範囲内であれば、得られる粘着剤は、充分な粘着力およびタックを示すものとなるが、50質量%より少ないと、粘着力や被着体への濡れ性が不足するおそれがあり、99.9質量%を超えると架橋点となる官能基含有モノマーの量が少な過ぎて、高速粘着力が大きくなり過ぎるおそれがある。   In 100% by mass of the raw material monomer of the low Tg polymer (B), the alkyl (meth) acrylate having 4 to 12 carbon atoms is preferably used in the range of 50 to 99.9% by mass. More preferably, it is 60-99.7 mass%, More preferably, it is 70-99.5 mass%. If the amount of alkyl (meth) acrylate used is within the above range, the resulting pressure-sensitive adhesive will exhibit sufficient adhesive strength and tackiness, but if it is less than 50% by mass, the adhesive strength and adhesion to the adherend will be shown. The wettability may be insufficient, and if it exceeds 99.9% by mass, the amount of the functional group-containing monomer serving as a crosslinking point is too small, and the high-speed adhesive force may be excessively increased.

低Tgポリマー(B)の合成に当たっては、その他のモノマーを共重合させても良い。その他のモノマーとは、上記アルキル(メタ)アクリレートおよび官能基含有モノマーと共重合することができ、かつこれら以外のモノマーである。例えば、前記アルキル(メタ)アクリレート以外のアルキル(メタ)アクリレート;ベンジル(メタ)アクリレート等の芳香環含有(メタ)アクリレート;エチレンおよびブタジエン等の脂肪族不飽和炭化水素類ならびに塩化ビニル等の脂肪族不飽和炭化水素類のハロゲン置換体;スチレンおよびα−メチルスチレン等の芳香族不飽和炭化水素類;酢酸ビニル等のビニルエステル類;ビニルエーテル類;アリルアルコールと各種有機酸とのエステル類;アリルアルコールと各種アルコールとのエーテル類;アクリロニトリル等の不飽和シアン化化合物;等が挙げられる。これらは、1種のみ用いてもよいし2種以上を併用してもよく、限定はされない。上記その他のモノマーは、原料モノマー混合物100質量%中、0〜49.9質量%が好ましい。49.9質量%を超えると、結果的に、アルキル(メタ)アクリレートか官能基含有モノマーの量が少なくなるため、所望の粘着特性が得られない。より好ましい上限は40質量%、さらに好ましい上限は30質量%である。   In synthesizing the low Tg polymer (B), other monomers may be copolymerized. The other monomer is a monomer that can be copolymerized with the alkyl (meth) acrylate and the functional group-containing monomer, and is other than these. For example, alkyl (meth) acrylates other than the alkyl (meth) acrylates; aromatic ring-containing (meth) acrylates such as benzyl (meth) acrylate; aliphatic unsaturated hydrocarbons such as ethylene and butadiene; and aliphatics such as vinyl chloride Halogen substitution products of unsaturated hydrocarbons; aromatic unsaturated hydrocarbons such as styrene and α-methylstyrene; vinyl esters such as vinyl acetate; vinyl ethers; esters of allyl alcohol and various organic acids; And ethers of various alcohols; unsaturated cyanide compounds such as acrylonitrile; and the like. These may be used alone or in combination of two or more, and is not limited. The other monomer is preferably 0 to 49.9% by mass in 100% by mass of the raw material monomer mixture. If it exceeds 49.9% by mass, the amount of the alkyl (meth) acrylate or the functional group-containing monomer will be reduced as a result, so that desired adhesive properties cannot be obtained. A more preferred upper limit is 40% by mass, and a still more preferred upper limit is 30% by mass.

低Tgポリマー(B)の最も好ましい実施態様は、高Tgポリマー(A)が酢酸ビニルユニットを主成分(70質量%以上)として含む場合には、2−エチルヘキシルアクリレートと、ブチルアクリレートと、2−ヒドロキシエチルアクリレートおよび/または4−ヒドロキシブチルアクリレートを含む原料モノマー混合物から得られたポリマーである。このポリマーは粘着特性が良好である上に、主成分が酢酸ビニルユニットである高Tgポリマー(A)の屈折率と近似しているため、得られる粘着剤層のヘイズを小さくすることができるからである。2−エチルヘキシルアクリレート、ブチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレートおよび4−ヒドロキシブチルアクリレートの合計を100質量%としたときに、2−エチルヘキシルアクリレートは20〜80質量%、ブチルアクリレートは20〜80質量%、2−ヒドロキシエチルアクリレートと4−ヒドロキシブチルアクリレートは0.5〜6質量%が好ましい。もちろん、これら以外のモノマーも上述したとおり併用可能であるが、ヘイズが重視される用途に適用する場合には、2−エチルヘキシルアクリレート、ブチルアクリレート、ヒドロキシエチルアクリレートおよび4−ヒドロキシブチルアクリレート以外のモノマーは、10質量%以下とすることが好ましい。   In the most preferable embodiment of the low Tg polymer (B), when the high Tg polymer (A) contains a vinyl acetate unit as a main component (70% by mass or more), 2-ethylhexyl acrylate, butyl acrylate, 2- It is a polymer obtained from a raw material monomer mixture containing hydroxyethyl acrylate and / or 4-hydroxybutyl acrylate. This polymer has good adhesive properties, and since it approximates the refractive index of the high Tg polymer (A) whose main component is vinyl acetate units, the haze of the resulting adhesive layer can be reduced. It is. When the total of 2-ethylhexyl acrylate, butyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate and 4-hydroxybutyl acrylate is 100% by mass, 2-ethylhexyl acrylate is 20-80% by mass, butyl acrylate is 20-80% by mass, The amount of 2-hydroxyethyl acrylate and 4-hydroxybutyl acrylate is preferably 0.5 to 6% by mass. Of course, monomers other than these can also be used in combination as described above, but when applied to applications in which haze is important, monomers other than 2-ethylhexyl acrylate, butyl acrylate, hydroxyethyl acrylate, and 4-hydroxybutyl acrylate are used. It is preferable to set it as 10 mass% or less.

一方、高Tgポリマー(A)が、例えば、メチルアクリレートユニットを主成分とする場合には、低Tgポリマー(B)の最も好ましい実施態様は、2−エチルヘキシルアクリレートと、ブチルアクリレートと、2−ヒドロキシエチルアクリレートおよび/または4−ヒドロキシブチルアクリレートと、ベンジルアクリレートの共重合体である。前記したように、ベンジルアクリレートの併用によって、粘着剤層のヘイズを3%以下にすることができる。これらのモノマーの合計を100質量%としたときに、2−エチルヘキシルアクリレートは20〜80質量%、ブチルアクリレートは20〜80質量%、ヒドロキシエチルアクリレートおよび4−ヒドロキシブチルアクリレートは合計で0.5〜6質量%、ベンジルアクリレートは5〜20質量%が好ましい。   On the other hand, when the high Tg polymer (A) has, for example, a methyl acrylate unit as a main component, the most preferable embodiment of the low Tg polymer (B) is 2-ethylhexyl acrylate, butyl acrylate, 2-hydroxy A copolymer of ethyl acrylate and / or 4-hydroxybutyl acrylate and benzyl acrylate. As described above, the haze of the pressure-sensitive adhesive layer can be reduced to 3% or less by the combined use of benzyl acrylate. When the total of these monomers is 100% by mass, 2-ethylhexyl acrylate is 20 to 80% by mass, butyl acrylate is 20 to 80% by mass, and hydroxyethyl acrylate and 4-hydroxybutyl acrylate are 0.5 to 6 mass% and benzyl acrylate are preferably 5 to 20 mass%.

上記低Tgポリマー(B)は、粘着特性を良好にする点から、Mwが20万以上であることが好ましい。なお、後述する二段重合法を採用した場合、低Tgポリマー(B)のみの分子量は測定できないが、高Tgポリマー(A)と低Tgポリマー(B)との混合物(グラフト物も含まれる)全体でのMwは、10万〜70万が好ましい。より好ましいMwの範囲は15万〜65万であり、さらに好ましいMwの範囲は20万〜60万である。   The low Tg polymer (B) preferably has an Mw of 200,000 or more from the viewpoint of improving the adhesive properties. In addition, when the two-stage polymerization method described later is adopted, the molecular weight of only the low Tg polymer (B) cannot be measured, but a mixture of the high Tg polymer (A) and the low Tg polymer (B) (including graft products). The total Mw is preferably 100,000 to 700,000. A more preferable range of Mw is 150,000 to 650,000, and a more preferable range of Mw is 200,000 to 600,000.

高Tgポリマー(A)と低Tgポリマー(B)は、Tgが異なり組成も異なるため、相溶しない。本発明では、高Tgポリマー(A)と低Tgポリマー(B)は海島構造を形成していなければならない。海島構造はミクロな相分離状態であって、量の多い方が海(連続相)となる。本発明では、低Tgポリマー(B)の量を多くして、低Tgポリマー(B)を海(連続相)とし、高Tgポリマー(A)を島として分散させている。島状に分散している高Tgポリマー(A)の作用によって、高速剥離の際の粘着力の増大やジッピング現象を抑制することができる。この効果を発揮させるには、高Tgポリマー(A)は1質量%以上(より好ましくは4質量%以上)は必要であり、少ないと上記効果が不充分となる。ただし、多すぎると、粘着力や被着体への濡れ性が不足することがある。   The high Tg polymer (A) and the low Tg polymer (B) are incompatible because of different Tg and different compositions. In the present invention, the high Tg polymer (A) and the low Tg polymer (B) must form a sea-island structure. The sea-island structure is in a microphase-separated state, and the larger one becomes the sea (continuous phase). In the present invention, the amount of the low Tg polymer (B) is increased to disperse the low Tg polymer (B) as sea (continuous phase) and the high Tg polymer (A) as islands. Due to the action of the high Tg polymer (A) dispersed in islands, an increase in adhesive force and a zipping phenomenon during high-speed peeling can be suppressed. In order to exert this effect, the high Tg polymer (A) needs to be 1% by mass or more (more preferably 4% by mass or more), and if it is small, the above effect becomes insufficient. However, if the amount is too large, adhesive strength and wettability to the adherend may be insufficient.

海島構造が発現しているか否かについては、粘着剤組成物を塗工・乾燥して得られた粘着剤層を、光学顕微鏡、透過型電子顕微鏡、走査型電子顕微鏡、位相差顕微鏡、偏光顕微鏡、走査型トンネル顕微鏡、顕微ラマン等で観察することにより、海島構造の有無を判断することができる。好ましい海島構造の形態は、島状部分がほぼ球状で連続相(海)の中に分散しており、個々の島状物の平均直径が0.1〜10μm程度のものである。光学顕微鏡、位相差顕微鏡および偏光顕微鏡を用いても、このような海島構造の有無が観察可能である。   Whether or not the sea-island structure is manifested is determined by applying an adhesive layer obtained by applying and drying the adhesive composition to an optical microscope, a transmission electron microscope, a scanning electron microscope, a phase contrast microscope, a polarizing microscope. The presence or absence of the sea-island structure can be determined by observing with a scanning tunneling microscope, microscopic Raman, or the like. The preferred form of the sea-island structure is such that the island-like portions are almost spherical and dispersed in the continuous phase (sea), and the average diameter of each island-like substance is about 0.1 to 10 μm. The presence or absence of such a sea-island structure can also be observed using an optical microscope, a phase contrast microscope, and a polarizing microscope.

また、2種類のポリマーが含まれている粘着剤組成物から得られた粘着剤層であることを確認するには、例えば、動的粘弾性のtanδの測定で、Tgが2つ観察されるかどうかをチェックすればよい。動的粘弾性のtanδは、例えば、レオメーター(ティー・エイ・インスツルメント社製;「ARES」)を用い、ずりモード、パラプレート法(8mmφ)によって、角振動周波数6.28rad/s、測定温度範囲−50〜150℃で測定するとよい。   In order to confirm that the pressure-sensitive adhesive layer is obtained from a pressure-sensitive adhesive composition containing two types of polymers, for example, two Tg values are observed by measuring tan δ of dynamic viscoelasticity. You can check whether or not. The tan δ of the dynamic viscoelasticity is, for example, an angular vibration frequency of 6.28 rad / s by using a rheometer (manufactured by T.A. Instruments; “ARES”) by a shear mode, a paraplate method (8 mmφ), It may be measured at a measurement temperature range of −50 to 150 ° C.

本発明では、屈折率の近似した高Tgポリマー(A)と低Tgポリマー(B)を用い、両者をミクロに相分離させた海島構造とすることにより、ヘイズが3%以下の透明性に優れた粘着製品を得ることができる。ヘイズは小さいほど好ましく、高Tgポリマー(A−1)を用いるか、低Tgポリマー(B)の合成時に屈折率制御用モノマーを用いれば、ヘイズを2.5%以下に低減できる。ヘイズは、例えば、濁度計等で測定可能である。なお、本発明のヘイズは、例えばポリエチレンテレフタレート等の透明フィルム(支持基材)に粘着剤層を設けた粘着製品の状態での測定値を採用する。   In the present invention, a high-Tg polymer (A) and a low-Tg polymer (B) having an approximate refractive index are used, and a sea-island structure in which both are phase-separated microscopically provides excellent transparency with a haze of 3% or less. A sticky product can be obtained. The haze is preferably as small as possible. If the high Tg polymer (A-1) is used or the refractive index controlling monomer is used during the synthesis of the low Tg polymer (B), the haze can be reduced to 2.5% or less. The haze can be measured, for example, with a turbidimeter. In addition, the haze of this invention employ | adopts the measured value in the state of the adhesive product which provided the adhesive layer in transparent films (support base material), such as a polyethylene terephthalate, for example.

次に、本発明の溶剤型再剥離用粘着剤組成物の製造方法について説明する。好適な製造方法は、3種類ある。まず、ブレンド法は、高Tgポリマー(A)と、低Tgポリマー(B)とを別々に重合し、その後、両者を混合(ブレンド)する方法である。重合方法は特に限定されないが、溶液重合が簡便である。高Tgポリマー(A)と低Tgポリマー(B)とを、同一もしくは相溶し得る溶媒で重合すれば、溶液状態のままブレンドすることができ、ブレンド時に脱溶剤工程が不要となるため、さらに簡便である。なお、ブレンドする際には、海島構造を形成するために、ディスパー等で高速撹拌することが好ましい。本発明の粘着剤組成物をブレンド法で作成する場合、高Tgポリマー(A)と低Tgポリマー(B)との不揮発分の合計量を100質量%とするとき、高Tgポリマー(A)の量を4〜20質量%とすることが好ましい。この方法では、高Tgポリマー(A)が低Tgポリマーに分散したとき、はっきりとした海島構造を採るため、高Tgポリマー(A)の量を少なくすることが可能である。   Next, the method for producing the solvent-type re-peeling pressure-sensitive adhesive composition of the present invention will be described. There are three types of suitable manufacturing methods. First, the blending method is a method in which a high Tg polymer (A) and a low Tg polymer (B) are separately polymerized, and then both are mixed (blended). The polymerization method is not particularly limited, but solution polymerization is simple. If the high Tg polymer (A) and the low Tg polymer (B) are polymerized with the same or compatible solvent, they can be blended in a solution state, and a solvent removal step is not required during blending. Convenient. In addition, when blending, in order to form a sea-island structure, it is preferable to stir at high speed with a disper or the like. When the pressure-sensitive adhesive composition of the present invention is prepared by a blend method, when the total nonvolatile content of the high Tg polymer (A) and the low Tg polymer (B) is 100% by mass, the high Tg polymer (A) The amount is preferably 4 to 20% by mass. In this method, when the high Tg polymer (A) is dispersed in the low Tg polymer, a clear sea-island structure is adopted, so that the amount of the high Tg polymer (A) can be reduced.

2番目の方法は、二段重合法である。この二段重合法は、まず、高Tgポリマー(A)のためのモノマー(以下、「モノマー(A)」という。)の全てを溶液重合で重合した後、この高Tgポリマー(A)溶液の存在下で、低Tgポリマー(B)用のモノマー(以下、「モノマー(B)」という。)の重合を行う方法である。この二段重合法で得られる粘着剤組成物は、ブレンド法で得られる粘着剤組成物に比べ、保存安定性(高Tgポリマー(A)と低Tgポリマー(B)とが分離しにくい)に優れている。これは、モノマー(B)の重合時に、高Tgポリマー(A)に低Tgポリマー(B)がグラフトしたようなポリマーが一部生成し、これが、海と島の両方に対して親和性を有する界面活性剤的作用を発揮して、島を安定化させるためではないかと考えられる。なお、二段重合法で形成した粘着剤組成物からなる粘着剤層では、島の直径は0.3〜10μm程度となる。粘着剤組成物を二段重合法で作成する場合、高Tgポリマー(A)と低Tgポリマー(B)の不揮発分の合計量を100質量%とするとき、高Tgポリマー(A)の量(グラフト分も含む)は4〜35質量%とすることが好ましい。   The second method is a two-stage polymerization method. In this two-stage polymerization method, first, all the monomers for the high Tg polymer (A) (hereinafter referred to as “monomer (A)”) are polymerized by solution polymerization, and then the high Tg polymer (A) solution. In this method, a monomer for low Tg polymer (B) (hereinafter referred to as “monomer (B)”) is polymerized in the presence. The pressure-sensitive adhesive composition obtained by this two-stage polymerization method has storage stability (high Tg polymer (A) and low Tg polymer (B) are difficult to separate) compared to the pressure-sensitive adhesive composition obtained by the blend method. Are better. This is because a part of a polymer in which a low Tg polymer (B) is grafted to a high Tg polymer (A) is produced during the polymerization of the monomer (B), and this has an affinity for both the sea and the island. It is thought that this is to stabilize the island by exerting a surfactant-like action. In addition, in the adhesive layer which consists of an adhesive composition formed by the two-stage polymerization method, the diameter of an island will be about 0.3-10 micrometers. When the pressure-sensitive adhesive composition is prepared by a two-stage polymerization method, when the total amount of nonvolatile components of the high Tg polymer (A) and the low Tg polymer (B) is 100% by mass, the amount of the high Tg polymer (A) ( It is preferable that the content (including graft content) is 4 to 35% by mass.

二段重合法では、モノマー(A)の重合率が70〜95質量%程度になってから、モノマー(B)を反応容器へ添加し始めることが好ましい。この方法だと、組成物の保存中に分離を起こしにくくなる。重合率(質量%)は、反応容器内のモノマーがポリマー(不揮発分)に転化した質量の割合であり、不揮発分測定で簡単に求められる。低Tgモノマー(B)は、重合開始剤と共に反応器へ滴下することが好ましい。分子量を大きくすることができる。   In the two-stage polymerization method, it is preferable to start adding the monomer (B) to the reaction vessel after the polymerization rate of the monomer (A) reaches about 70 to 95% by mass. This method makes it difficult to cause separation during storage of the composition. The polymerization rate (mass%) is a ratio of the mass of the monomer in the reaction vessel converted into a polymer (nonvolatile content), and can be easily obtained by measuring the nonvolatile content. The low Tg monomer (B) is preferably added dropwise to the reactor together with the polymerization initiator. The molecular weight can be increased.

別途重合した高Tgポリマー(A)を、高Tgポリマー(A)と低Tgポリマー(B)の二段重合が終わった後に加えてもよい。後添加される高Tgポリマー(A)の組成は、分散安定性の点からは最初に重合した高Tgポリマー(A)と同じであることが好ましいが、分子量は異なっていてもよく、これにより、一層、高速剥離の粘着力低減効果が現れる。   The separately polymerized high Tg polymer (A) may be added after the two-stage polymerization of the high Tg polymer (A) and the low Tg polymer (B) is completed. The composition of the post-added high Tg polymer (A) is preferably the same as the initially polymerized high Tg polymer (A) from the viewpoint of dispersion stability, but the molecular weight may be different. Furthermore, the effect of reducing the adhesive strength of high-speed peeling appears.

3番目の方法は、二段重合法と、高Tgポリマー(A)の後添加を組み合わせた方法であり、二段重合で仕込むための高Tgポリマー(A)と後添加用高Tgポリマー(A)を一緒に重合してしまう方法である。そして、得られた高Tgポリマー(A)の一部を、低Tgポリマー(B)合成用の反応容器へ仕込んだ後に、モノマー(B)の重合を行う。広義の二段重合である。この場合も、高Tgポリマー(A)に低Tgポリマー(B)がグラフトしたグラフト物が形成されていると考えられる。この方法では、低Tgポリマー(B)を重合する際に予め反応容器に仕込むための高Tgポリマー(A)と、後添加する高Tgポリマー(A)を同時に重合できるというメリットがある。   The third method is a method in which a two-stage polymerization method and a post-addition of a high Tg polymer (A) are combined, and a high Tg polymer (A) and a high Tg polymer for post-addition (A ) Are polymerized together. And after charging a part of obtained high Tg polymer (A) to the reaction container for low Tg polymer (B) synthesis | combination, a monomer (B) is superposed | polymerized. It is a two-stage polymerization in a broad sense. Also in this case, it is considered that a graft product in which the low Tg polymer (B) is grafted to the high Tg polymer (A) is formed. This method has an advantage that the high Tg polymer (A) to be charged in the reaction vessel in advance when polymerizing the low Tg polymer (B) and the high Tg polymer (A) to be added later can be polymerized simultaneously.

この方法では、低Tgポリマー(B)の重合の際の高Tgポリマー(A)の仕込み量は、高Tgポリマー(A)とモノマー(B)の合計量100質量%に対し、1〜10質量%とすることが好ましい。保存安定性が良好となる。そして、モノマー(B)の重合が終了した後、高Tgポリマー(A)と低Tgポリマー(B)の不揮発分の合計量100質量%のうち、高Tgポリマー(A)(グラフト分も含む)が4〜35質量%となるように、高Tgポリマー(A)を後添加することが好ましい。後添加の時期は、低Tgポリマー(B)の重合の後すぐでもよいが、実際に架橋剤を配合して塗工するまでなら、いつでも構わない。前記した2番目の方法の二段重合法で後添加する場合においても同様である。   In this method, the amount of the high Tg polymer (A) charged during the polymerization of the low Tg polymer (B) is 1 to 10 mass with respect to 100 mass% of the total amount of the high Tg polymer (A) and the monomer (B). % Is preferable. Storage stability is improved. Then, after the polymerization of the monomer (B) is completed, the high Tg polymer (A) (including the graft) is included in 100% by mass of the total nonvolatile content of the high Tg polymer (A) and the low Tg polymer (B). It is preferable to post-add the high Tg polymer (A) so that the amount becomes 4 to 35% by mass. The timing of post-addition may be immediately after the polymerization of the low Tg polymer (B), but may be any time as long as the crosslinking agent is actually blended and applied. The same applies when post-added by the second-stage polymerization method of the second method described above.

上記製法のいずれにおいても、溶液重合で用いられる溶媒としては、具体的には、例えば、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;酢酸エチル、酢酸ブチル等の脂肪族エステル類;シクロヘキサン等の脂環族炭化水素類;ヘキサン、ペンタン等の脂肪族炭化水素類等が挙げられるが、上記重合反応を阻害しなければ、特に限定されない。これらの溶媒は、1種類のみを用いてもよく、2種類以上を適宜混合して用いることもできる。溶媒の使用量は、適宜決定すればよい。本発明の溶剤型再剥離用粘着剤組成物は、溶剤を必須成分とするが、重合溶媒と同じ溶剤を用いることが好ましい。重合終了によって得られたものをそのまま溶剤型再剥離用粘着剤組成物原料として使用することができるからである。   In any of the above production methods, specific examples of the solvent used in the solution polymerization include aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; aliphatic esters such as ethyl acetate and butyl acetate; and fats such as cyclohexane. Cyclic hydrocarbons; aliphatic hydrocarbons such as hexane and pentane, and the like can be mentioned, but are not particularly limited as long as the polymerization reaction is not inhibited. These solvents may be used alone or in combination of two or more. What is necessary is just to determine the usage-amount of a solvent suitably. Although the solvent type re-peeling pressure-sensitive adhesive composition of the present invention contains a solvent as an essential component, it is preferable to use the same solvent as the polymerization solvent. This is because the product obtained upon completion of the polymerization can be used as it is as a raw material for the solvent-type re-peeling pressure-sensitive adhesive composition.

重合反応温度や反応時間等の反応条件は、例えば、モノマーの組成や量等に応じて、適宜設定すればよく、特に限定されない。また、反応圧力も特に限定されるものではなく、常圧(大気圧)、減圧、加圧のいずれであってもよい。なお、重合反応は、窒素ガス等の不活性ガス雰囲気下で行うことが望ましい。   Reaction conditions such as polymerization reaction temperature and reaction time may be appropriately set according to, for example, the composition and amount of the monomer, and are not particularly limited. Further, the reaction pressure is not particularly limited, and may be any of normal pressure (atmospheric pressure), reduced pressure, and increased pressure. The polymerization reaction is desirably performed in an inert gas atmosphere such as nitrogen gas.

重合触媒(重合開始剤)としては、限定はされないが、例えば、メチルエチルケトンパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、t−ブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、t−ブチルパーオキシオクトエート、t−ブチルパーオキシベンゾエート、ラウロイルパーオキサイド、商品名「ナイパーBMT−K40」(日本油脂社製;m−トルオイルパーオキサイドとベンゾイルパーオキサイドの混合物)等の有機過酸化物や、アゾビスイソブチロニトリル、商品名「ABN−E」[日本ヒドラジン工業;2,2’−アゾビス(2−メチルブチロニトリル)]等のアゾ系化合物等の公知のものを利用することができる。また、例えば、ドデシルメルカプタン等のメルカプタン類に代表される公知の分子量調節剤を用いてもよい。   The polymerization catalyst (polymerization initiator) is not limited, but for example, methyl ethyl ketone peroxide, benzoyl peroxide, dicumyl peroxide, t-butyl hydroperoxide, cumene hydroperoxide, lauroyl peroxide, t-butyl peroxide. Organic peroxides such as oxyoctoate, t-butylperoxybenzoate, lauroyl peroxide, trade name “Nyper BMT-K40” (manufactured by NOF Corporation; mixture of m-toluoyl peroxide and benzoyl peroxide), Known compounds such as azo compounds such as azobisisobutyronitrile, trade name “ABN-E” [Nippon Hydrazine Kogyo; 2,2′-azobis (2-methylbutyronitrile)] and the like can be used. . Further, for example, a known molecular weight regulator represented by mercaptans such as dodecyl mercaptan may be used.

本発明の粘着剤組成物には、架橋剤を配合することが好ましい。架橋剤としては、高Tgポリマー(A)および低Tgポリマー(B)の有する官能基と反応し得る官能基を1分子中に2個以上有する化合物を用いる。   It is preferable to mix | blend a crosslinking agent with the adhesive composition of this invention. As the crosslinking agent, a compound having two or more functional groups capable of reacting with the functional groups of the high Tg polymer (A) and the low Tg polymer (B) is used.

例えば、高Tgポリマー(A)および低Tgポリマー(B)がヒドロキシル基を有しているなら、イソシアネート化合物が好ましく、カルボキシル基を有しているなら、イソシアネート化合物やエポキシ化合物等が好ましい。反応性の点では、ヒドロキシル基とイソシアネート化合物の組合せが最も好ましい。   For example, if the high Tg polymer (A) and the low Tg polymer (B) have a hydroxyl group, an isocyanate compound is preferable, and if it has a carboxyl group, an isocyanate compound or an epoxy compound is preferable. In terms of reactivity, a combination of a hydroxyl group and an isocyanate compound is most preferable.

イソシアネート化合物としては、例えば、トリレンジイソシアネート(TDI)、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート(MDI)、ヘキサメチレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、メタキシリレンジイソシアネート、1,5−ナフタレンジイソシアネート、水素化ジフェニルメタンジイソシアネート、水素化トリレンジイソシアネート、水素化キシリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート等のジイソシアネート化合物;「スミジュールN」(住友バイエルウレタン社製;スミジュールは登録商標)等のビュレットポリイソシアネート化合物;「デスモジュールIL」、「デスモジュールHL」(いずれもバイエルA.G.社製;デスモジュールは登録商標)、「コロネートEH」(日本ポリウレタン工業社製;コロネートは登録商標)等として知られるイソシアヌレート環を有するポリイソシアネート化合物;「スミジュールL」(住友バイエルウレタン社製)等のアダクトポリイソシアネート化合物;「コロネートL」(日本ポリウレタン社製)等のアダクトポリイソシアネート化合物;「デュラネートD201」(旭化成社製;デュラネートは登録商標)等のポリイソシアネート化合物等を挙げることができる。これらは、単独で使用し得るほか、2種以上を併用することもできる。また、これらの化合物のイソシアネート基を活性水素を有するマスク剤と反応させて不活性化したいわゆるブロックイソシアネートも使用可能である。   Examples of the isocyanate compound include tolylene diisocyanate (TDI), 4,4′-diphenylmethane diisocyanate (MDI), hexamethylene diisocyanate, xylylene diisocyanate, metaxylylene diisocyanate, 1,5-naphthalene diisocyanate, hydrogenated diphenylmethane diisocyanate, Diisocyanate compounds such as hydrogenated tolylene diisocyanate, hydrogenated xylylene diisocyanate, and isophorone diisocyanate; Burette polyisocyanate compounds such as “Sumijour N” (manufactured by Sumitomo Bayer Urethane Co., Ltd .; Sumijoule is a registered trademark); "Death Module HL" (both manufactured by Bayer AG; Death Module is a registered trademark), "Coronate EH" (Nippon Polyureta Manufactured by Kogyo Co., Ltd .; a polyisocyanate compound having an isocyanurate ring known as Coronate is a registered trademark; an adduct polyisocyanate compound such as “Sumijour L” (manufactured by Sumitomo Bayer Urethane Co., Ltd.); “Coronate L” (manufactured by Nippon Polyurethane Co., Ltd.) And polyisocyanate compounds such as “Duranate D201” (manufactured by Asahi Kasei Corporation; Duranate is a registered trademark). These can be used alone or in combination of two or more. In addition, so-called blocked isocyanates in which the isocyanate groups of these compounds are inactivated by reacting with a masking agent having active hydrogen can also be used.

エポキシ化合物としては、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、N,N,N’,N’−テトラグリシジル−m−キシレンジアミン、1,3−ビス(N,N−ジグリシジルアミノメチル)シクロヘキサン、N,N−ジグリシジルアニリン、N,N−ジグリシジルトルイジン等が挙げられる。   Examples of the epoxy compound include ethylene glycol diglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, bisphenol A type epoxy resin, N, N, N ′, N′-tetraglycidyl-m-xylenediamine. 1,3-bis (N, N-diglycidylaminomethyl) cyclohexane, N, N-diglycidylaniline, N, N-diglycidyltoluidine and the like.

これらの架橋剤は、高Tgポリマー(A)および低Tgポリマー(B)が有する官能基の合計を1当量としたときに、0.1〜5当量となるように添加することが好ましい。架橋剤量が少なすぎると、得られる粘着剤の凝集力が不足して被着体汚染を起こすことがあるが、多すぎると粘着力が不足したり、粗面に対する濡れ性が低下する。より好ましい架橋剤量は0.2〜4当量であり、さらに好ましくは0.3〜2当量である。   These crosslinking agents are preferably added so as to be 0.1 to 5 equivalents when the total of the functional groups of the high Tg polymer (A) and the low Tg polymer (B) is 1 equivalent. When the amount of the crosslinking agent is too small, the cohesive force of the resulting pressure-sensitive adhesive may be insufficient and the adherend may be contaminated. However, when the amount is too large, the adhesive force is insufficient or the wettability with respect to the rough surface decreases. A more preferable amount of the crosslinking agent is 0.2 to 4 equivalents, and further preferably 0.3 to 2 equivalents.

本発明の溶剤型再剥離用粘着剤組成物の不揮発分は、特に限定はされないが、例えば、10〜80質量%であることが好ましく、より好ましくは20〜70質量%、さらに好ましくは25〜60質量%である。なお、架橋剤を配合する前の粘着剤組成物の保存安定性を高めるには、不揮発分が40質量%以上である方がよいが、粘着剤組成物調製後すぐ塗布する場合のように、保存安定性を考慮する必要がないときには、塗布に適した粘度になるように不揮発分を調製すればよい。上記不揮発分が10質量%未満であると、塗布した後等の乾燥が長時間となり、生産性が低下するおそれがある。また、80質量%を超えると、組成物全体の粘度が高くなり、ハンドリング性および塗布性に欠け、実用性に乏しくなるおそれがある。粘着剤組成物の溶剤は、前記した重合溶媒がいずれも使用可能であり、前記したように重合溶媒と同じ溶剤が好ましい。   The non-volatile content of the pressure-sensitive adhesive composition for solvent-type re-peeling of the present invention is not particularly limited, but is preferably, for example, 10 to 80% by mass, more preferably 20 to 70% by mass, and still more preferably 25 to 25%. 60% by mass. In order to increase the storage stability of the pressure-sensitive adhesive composition before blending the cross-linking agent, it is better that the non-volatile content is 40% by mass or more, as in the case of applying immediately after preparing the pressure-sensitive adhesive composition, When it is not necessary to consider storage stability, the non-volatile content may be prepared so as to have a viscosity suitable for coating. When the non-volatile content is less than 10% by mass, drying after application or the like takes a long time, which may reduce productivity. Moreover, when it exceeds 80 mass%, the viscosity of the whole composition will become high, handling property and applicability | paintability may lack, and there exists a possibility that it may become impractical. As the solvent for the pressure-sensitive adhesive composition, any of the polymerization solvents described above can be used, and as described above, the same solvent as the polymerization solvent is preferable.

本発明の粘着剤組成物には、公知の架橋促進剤、粘着付与剤、改質剤、顔料、着色剤、充填剤、老化防止剤、紫外線吸収剤、紫外線安定剤、帯電防止剤等の添加剤を、本発明の目的を阻害しない範囲で加えてもよい。帯電性能の点からは、例えば、「エリーク(登録商標)SEI−52」(吉村油化学社製;カチオン系帯電防止剤)が好ましい。   Addition of known crosslinking accelerators, tackifiers, modifiers, pigments, colorants, fillers, anti-aging agents, UV absorbers, UV stabilizers, antistatic agents, etc. to the pressure-sensitive adhesive composition of the present invention An agent may be added as long as the object of the present invention is not impaired. From the viewpoint of charging performance, for example, “Eleique (registered trademark) SEI-52” (manufactured by Yoshimura Oil Chemical Co., Ltd .; cationic antistatic agent) is preferable.

また、海島構造を破壊しない程度であれば相溶化剤を添加してもよい。相溶化剤としては特に限定されないが、例えば(メタ)アクリレートと酢酸ビニルのブロックコポリマーやグラフトコポリマー等や、イオン的相互作用による相溶化剤(特定の官能基を有する化合物やポリマー等)等を用いることができる。相溶化剤の添加量は、溶剤型再剥離用粘着剤組成物中の樹脂成分(ポリマー(A)とポリマー(B)との合計量)100質量部当たり、0〜20質量部程度が好ましい。   Further, a compatibilizing agent may be added as long as it does not destroy the sea-island structure. The compatibilizer is not particularly limited. For example, a block copolymer or graft copolymer of (meth) acrylate and vinyl acetate, or a compatibilizer (a compound or polymer having a specific functional group) by ionic interaction is used. be able to. The addition amount of the compatibilizer is preferably about 0 to 20 parts by mass per 100 parts by mass of the resin component (total amount of the polymer (A) and the polymer (B)) in the solvent-type re-peeling pressure-sensitive adhesive composition.

本発明の粘着剤組成物は、再剥離用粘着製品の製造に用いられる。基材あるいは離型紙の上に粘着剤組成物を塗布し、その乾燥塗膜を形成することによって、基材の片面に粘着剤層が形成されている粘着製品(粘着テープまたはシート)、基材の両面に粘着剤層が形成されている粘着製品、基材を有しない粘着剤層のみの粘着製品を得ることができる。紙基材の粘着製品を製造する場合は、離型紙の上に粘着剤組成物を塗布し、粘着剤層を形成した後、紙基材に転写する方法も、採用できる。粘着剤層の形成にあたっては、溶剤が飛散する条件(例えば50〜120℃で30〜180秒程度)での加熱乾燥を行うことが望ましい。   The pressure-sensitive adhesive composition of the present invention is used for production of a re-peeling pressure-sensitive adhesive product. An adhesive product (adhesive tape or sheet) in which an adhesive layer is formed on one side of a substrate by applying the adhesive composition on the substrate or release paper and forming a dry coating film thereof, the substrate A pressure-sensitive adhesive product having a pressure-sensitive adhesive layer formed on both sides thereof, or a pressure-sensitive adhesive product having only a pressure-sensitive adhesive layer having no substrate can be obtained. In the case of producing a paper base adhesive product, it is also possible to employ a method in which an adhesive composition is applied on a release paper to form an adhesive layer and then transferred to a paper base material. In forming the pressure-sensitive adhesive layer, it is desirable to perform heat drying under conditions where the solvent scatters (for example, at about 50 to 120 ° C. for about 30 to 180 seconds).

基材としては、上質紙、クラフト紙、クレープ紙、グラシン紙等の従来公知の紙類;ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエステル、ポリスチレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリ塩化ビニル、セロファン等のプラスチック;織布、不織布等の繊維製品;これらの積層体等が利用できる。光学用フィルムの表面保護に用いる場合には、基材は、ポリエチレンテレフタレート等の透明フィルムが好ましい。   As the base material, conventionally known papers such as fine paper, kraft paper, crepe paper, glassine paper; plastics such as polyethylene, polypropylene, polyester, polystyrene, polyethylene terephthalate, polyvinyl chloride, cellophane; woven fabric, non-woven fabric, etc. Textile products: These laminates can be used. When used for protecting the surface of an optical film, the substrate is preferably a transparent film such as polyethylene terephthalate.

粘着剤組成物を基材に塗布する方法は、特に限定されるものではなく、ロールコーティング法、スプレーコーティング法、ディッピング法等の公知の方法を採用することができる。この場合、粘着剤組成物を基材に直接塗布する方法、離型紙等に粘着剤組成物を塗布した後、この塗布物を基材上に転写する方法等いずれも採用可能である。粘着剤組成物を塗布した後、乾燥させることにより、基材上に粘着剤層が形成される。   The method for applying the pressure-sensitive adhesive composition to the substrate is not particularly limited, and a known method such as a roll coating method, a spray coating method, or a dipping method can be employed. In this case, any of a method for directly applying the pressure-sensitive adhesive composition to the substrate, a method for applying the pressure-sensitive adhesive composition to a release paper, and then transferring the coated material onto the substrate can be employed. After apply | coating an adhesive composition, an adhesive layer is formed on a base material by making it dry.

基材上に形成された粘着剤の表面には、例えば、離型紙を貼着してもよい。粘着剤表面を好適に保護・保存することができる。剥離紙は、粘着製品を使用する際に、粘着剤表面から引き剥がされる。なお、シート状やテープ状等の基材の片面に粘着剤面が形成されている場合は、この基材の背面に公知の離型剤を塗布して離型剤層を形成しておけば、粘着剤層を内側にして、粘着シート(テープ)をロール状に巻くことにより、粘着剤層は、基材背面の離型材層と当接することとなるので、粘着剤表面が保護・保存される。   For example, release paper may be attached to the surface of the pressure-sensitive adhesive formed on the substrate. The pressure-sensitive adhesive surface can be suitably protected and preserved. The release paper is peeled off from the pressure-sensitive adhesive surface when the pressure-sensitive adhesive product is used. In addition, when the pressure-sensitive adhesive surface is formed on one side of a base material such as a sheet or tape, a release agent layer may be formed by applying a known release agent to the back surface of the base material. By winding the pressure-sensitive adhesive sheet (tape) in a roll shape with the pressure-sensitive adhesive layer on the inside, the pressure-sensitive adhesive layer comes into contact with the release material layer on the back of the substrate, so that the pressure-sensitive adhesive surface is protected and preserved. The

本発明の粘着剤組成物から得られる再剥離用粘着製品は、180゜粘着力が、0.3m/分の低速剥離では0.05〜0.3N/25mm、30m/分の高速剥離では0.2〜3N/25mmであることが好ましい。低速剥離粘着力が上記範囲であれば、光学部材の表面保護シートとして充分であり、高速剥離粘着力が上記範囲であれば、ジッピング等の不都合を起こすことなく、滑らかに剥離が可能だからである。より好ましい低速剥離粘着力は0.06〜0.2N/25mmであり、さらに好ましくは0.07〜0.15N/25mmである。また、より好ましい高速剥離粘着力は、0.3〜2N/25mmであり、さらに好ましくは0.5〜1.5N/25mmである。また、高速剥離粘着力を低速剥離粘着力で除した値が15.0以下であると、高速剥離の際の粘着力の増大が抑制できたということができる。この180゜粘着力は、厚み20μmの粘着剤層が厚み38μmのポリエチレンテレフタレートフィルム基材上に形成された粘着製品を用いて、23℃で、アクリル板に対する180゜粘着力を測定した場合の値を採用する。なお、上記単位「N/25mm」において、「/25mm」の部分は、被着体に圧着させた粘着シートの幅を意味する。   The adhesive product for re-peeling obtained from the pressure-sensitive adhesive composition of the present invention has a 180 ° adhesive strength of 0.05 to 0.3 N / 25 mm for low-speed peeling at 0.3 m / min and 0 for high-speed peeling at 30 m / min. It is preferable that it is 2-3N / 25mm. If the low-speed peel adhesive strength is in the above range, it is sufficient as a surface protective sheet for an optical member, and if the high-speed peel adhesive strength is in the above range, it can be smoothly peeled without causing inconvenience such as zipping. . A more preferable low-speed peel adhesive strength is 0.06 to 0.2 N / 25 mm, and further preferably 0.07 to 0.15 N / 25 mm. Moreover, a more preferable high-speed peeling adhesive force is 0.3 to 2 N / 25 mm, and more preferably 0.5 to 1.5 N / 25 mm. Moreover, it can be said that the increase in the adhesive force at the time of high speed peeling was able to be suppressed as the value which remove | divided high speed peeling adhesive force by the low speed peeling adhesive force is 15.0 or less. This 180 ° adhesive strength is a value obtained by measuring 180 ° adhesive strength against an acrylic plate at 23 ° C. using an adhesive product in which an adhesive layer having a thickness of 20 μm is formed on a polyethylene terephthalate film substrate having a thickness of 38 μm. Is adopted. In the unit “N / 25 mm”, the portion “/ 25 mm” means the width of the pressure-sensitive adhesive sheet bonded to the adherend.

また、本発明の粘着剤組成物から得られる再剥離用粘着製品は、アクリル板に対する180゜剥離試験を行ったとき、0.3m/分の低速剥離であっても被着体汚染は起こらない(実施例参照)。   Further, the adhesive product for re-peeling obtained from the pressure-sensitive adhesive composition of the present invention does not cause adherend contamination even when it is peeled at a low speed of 0.3 m / min when a 180 ° peel test is performed on an acrylic plate. (See Examples).

以下実施例によって本発明を詳細に説明するが、本発明の範囲はこれら実施例のみに限定されるものではない。なお以下特にことわりのない場合、「%」は「質量%」を、「部」は「質量部」をそれぞれ示すものとする。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to examples, but the scope of the present invention is not limited only to these examples. Unless otherwise specified, “%” indicates “mass%” and “part” indicates “part by mass”.

合成例1(二段重合+後添加)
酢酸ビニル(VAC)112.8部と、溶媒として酢酸エチル263部を、温度計、撹拌機、不活性ガス導入管、還流冷却器および滴下ロートを備えたフラスコに添加した。撹拌下、窒素ガスを流通させながら、フラスコの内温を75℃まで上昇させ、重合開始剤として酢酸エチル1.1部で希釈した「ラウロックス」(化薬アクゾ社製;ラウロイルパーオキサイド)0.12部をフラスコに投入して、重合を開始させた。
Synthesis Example 1 (two-stage polymerization + post-addition)
112.8 parts of vinyl acetate (VAC) and 263 parts of ethyl acetate as a solvent were added to a flask equipped with a thermometer, stirrer, inert gas introduction tube, reflux condenser and dropping funnel. While flowing nitrogen gas under stirring, the internal temperature of the flask was raised to 75 ° C. and diluted with 1.1 parts of ethyl acetate as a polymerization initiator (“Laurox” manufactured by Kayaku Akzo; Lauroyl peroxide). 12 parts were charged into the flask to initiate the polymerization.

反応開始から30分経過した後、VAC24部と、2-ヒドロキシエチルアクリレート(HEA)4.2部と、「ラウロックス」0.14部と、酢酸エチル52部からなる混合物を1時間に亘ってフラスコに滴下した。滴下終了後、酢酸エチル14部で滴下ロートを洗浄し、フラスコに添加した。その後直ちに、ブースター(後添加開始剤)として、酢酸エチル6.3部で希釈した「ラウロックス」0.7部を添加した後、さらに76℃で2時間熟成し、VACとHEAとから合成された不揮発分30%の高Tgポリマーの酢酸エチル溶液を得た。この高TgポリマーのTgは28℃、Mwは6.9万であった。Mwの測定方法は後述する。   After 30 minutes from the start of the reaction, a mixture of 24 parts of VAC, 4.2 parts of 2-hydroxyethyl acrylate (HEA), 0.14 part of “Laurox” and 52 parts of ethyl acetate was added to the flask over 1 hour. It was dripped in. After completion of dropping, the dropping funnel was washed with 14 parts of ethyl acetate and added to the flask. Immediately after that, 0.7 part of “Laurox” diluted with 6.3 parts of ethyl acetate was added as a booster (post-addition initiator), and further aged at 76 ° C. for 2 hours, and synthesized from VAC and HEA. An ethyl acetate solution of a high Tg polymer having a nonvolatile content of 30% was obtained. The high Tg polymer had a Tg of 28 ° C. and an Mw of 69,000. A method for measuring Mw will be described later.

次に、高Tgポリマーの存在下で、低Tgポリマー用モノマーの重合を行い、グラフトポリマーを合成した。温度計、撹拌機、不活性ガス導入管、還流冷却器および滴下ロートを備えたフラスコに、上記高Tgポリマーを15部(不揮発分)、低Tgポリマー用モノマーとして、n−ブチルアクリレート(BA)27部、2−エチルヘキシルアクリレート(2EHA)60.3部、HEA2.7部と、酢酸エチル120部を仕込み、よく混合した。撹拌下、窒素ガスを流通させながら、フラスコの内温を82℃まで上昇させ、重合開始剤である「ナイパー(登録商標)BMT−K40」(日本油脂社製;m−トルオイルパーオキサイドとベンゾイルパーオキサイドとの混合物)0.12部をフラスコに投入し、重合を開始させた。   Next, in the presence of the high Tg polymer, the monomer for the low Tg polymer was polymerized to synthesize a graft polymer. In a flask equipped with a thermometer, stirrer, inert gas introduction tube, reflux condenser and dropping funnel, 15 parts of the above-mentioned high Tg polymer (non-volatile content), n-butyl acrylate (BA) as a monomer for the low Tg polymer 27 parts, 6ethyl parts of 2-ethylhexyl acrylate (2EHA), 2.7 parts of HEA and 120 parts of ethyl acetate were charged and mixed well. While flowing nitrogen gas under stirring, the internal temperature of the flask was raised to 82 ° C., and “Niper (registered trademark) BMT-K40” (manufactured by NOF Corporation; m-toluoyl peroxide and benzoyl) as a polymerization initiator. 0.12 parts of a mixture with peroxide) was put into a flask to initiate polymerization.

反応開始から15分経過した後、BA63部、2EHA140.7部、HEA6.3部と、「ナイパーBMT−K40」0.26部と、酢酸エチル152.4部との混合物を1時間に亘ってフラスコ内に滴下した。滴下終了後、1.5時間経過後から2.5時間経過後にかけて、ブースターとして「ABN−E」(日本ヒドラジン工業社製;2,2’−アゾビス(2−メチルブチロニトリル))1.1部と酢酸エチル54.9部を3度に分割して添加した。その後、さらに78℃で1.5時間熟成した。   After 15 minutes from the start of the reaction, a mixture of 63 parts of BA, 140.7 parts of 2EHA, 6.3 parts of HEA, 0.26 parts of “Nyper BMT-K40” and 152.4 parts of ethyl acetate was added over 1 hour. It was dripped in the flask. 1. After the completion of dropping, 1.5 hours to 2.5 hours later, "ABN-E" (manufactured by Nippon Hydrazine Kogyo; 2,2'-azobis (2-methylbutyronitrile)) as a booster 1 part and 54.9 parts of ethyl acetate were added in 3 portions. Thereafter, the mixture was further aged at 78 ° C. for 1.5 hours.

得られたグラフトポリマー溶液の不揮発分100部に対し、前記高Tgポリマーの酢酸エチル溶液を不揮発分で20部加えた。この粘着剤ポリマー溶液から得られた粘着剤層について、SEMを用いて観察した結果、海島構造であることが確認できた(図1)。なお、図1中、上側が基材フィルムのポリエチレンテレフタレート(PET)である。下側が粘着剤層である。   20 parts of the ethyl acetate solution of the high Tg polymer was added in a nonvolatile content to 100 parts of the nonvolatile content in the obtained graft polymer solution. About the adhesive layer obtained from this adhesive polymer solution, as a result of observing using SEM, it has confirmed that it was a sea-island structure (FIG. 1). In addition, in FIG. 1, the upper side is a polyethylene terephthalate (PET) of a base film. The lower side is an adhesive layer.

合成例2(二段重合+後添加)
高Tgポリマー用モノマー組成を表1に示したように変更した以外は合成例1と同様にして、高Tgポリマーを合成した。
Synthesis example 2 (two-stage polymerization + post-addition)
A high Tg polymer was synthesized in the same manner as in Synthesis Example 1 except that the monomer composition for the high Tg polymer was changed as shown in Table 1.

次に、高Tgポリマーの存在下で、低Tgポリマー用モノマーの重合を行い、グラフトポリマーを合成した。温度計、撹拌機、不活性ガス導入管、還流冷却器および滴下ロートを備えたフラスコに、上記高Tgポリマーを15部(不揮発分)、低Tgポリマー用モノマーとして、BA27部、2EHA61.3部、4−ヒドロキシブチルアクリレート(4HBA;ホモポリマーのTg=241K)1.7部と、連鎖移動剤としてドデシルメルカプタン(DM)0.09部と、酢酸エチル105部を仕込み、よく混合した。撹拌下、窒素ガスを流通させながら、フラスコの内温を82℃まで上昇させ、前記「ナイパーBMT−K40」0.12部をフラスコに投入し、重合を開始させた。   Next, in the presence of the high Tg polymer, the monomer for the low Tg polymer was polymerized to synthesize a graft polymer. In a flask equipped with a thermometer, stirrer, inert gas introduction tube, reflux condenser and dropping funnel, 15 parts of the above-mentioned high Tg polymer (non-volatile content), and 27 parts of BA, 2EHA 61.3 parts as a monomer for the low Tg polymer 4-hydroxybutyl acrylate (4HBA; homopolymer Tg = 241K), 1.7 parts of dodecyl mercaptan (DM) as a chain transfer agent and 105 parts of ethyl acetate were charged and mixed well. While the nitrogen gas was circulated under stirring, the internal temperature of the flask was raised to 82 ° C., and 0.12 part of the “Nyper BMT-K40” was charged into the flask to initiate polymerization.

反応開始から15分経過した後、BA63部、2EHA143.1部、4HBA3.9部と、DM0.21部、「ナイパーBMT−K40」0.26部、酢酸エチル62.4部の混合物を1時間に亘ってフラスコ内に滴下した。滴下終了後、酢酸エチル30部で滴下ロートを洗浄し、フラスコ内に添加した。滴下終了後1.5時間経過後から2.5時間経過後にかけて、ブースターとして「ABN−E」1.1部と酢酸エチル9.9部を3度に分割して添加した。その後、さらに78℃で1.5時間熟成し、グラフトポリマー溶液を得た。   After 15 minutes from the start of the reaction, a mixture of 63 parts of BA, 23.1 parts of EHA14, 3.9 parts of 4HBA, 0.21 part of DM, 0.26 part of “Nyper BMT-K40” and 62.4 parts of ethyl acetate was added for 1 hour. Over a period of time. After completion of dropping, the dropping funnel was washed with 30 parts of ethyl acetate and added to the flask. From 1.5 hours to 2.5 hours after the completion of dropping, 1.1 parts of “ABN-E” and 9.9 parts of ethyl acetate were added in 3 portions as a booster. Thereafter, the mixture was further aged at 78 ° C. for 1.5 hours to obtain a graft polymer solution.

グラフトポリマーと高Tgポリマーの比率を不揮発分で100:20として両者を混合し、粘着剤ポリマー溶液を得た。この溶液を用いて、プレパラート上に塗膜を作り、光学顕微鏡を用いて観察した結果、海島構造であることが確認できた。   Both ratios of the graft polymer and the high Tg polymer were mixed at a nonvolatile content of 100: 20 to obtain an adhesive polymer solution. Using this solution, a coating film was formed on the slide and observed with an optical microscope. As a result, it was confirmed that the structure was a sea-island structure.

合成例3、4(二段重合+後添加)
合成例3と合成例4は、合成例2で得られた高Tgポリマーとグラフトポリマーの混合比率を変えた例である。各例において得られた粘着剤ポリマー溶液を用いて、プレパラート上に塗膜を作り、光学顕微鏡を用いて観察した結果、海島構造であることが確認できた。
Synthesis Examples 3 and 4 (two-stage polymerization + post-addition)
Synthesis Example 3 and Synthesis Example 4 are examples in which the mixing ratio of the high Tg polymer obtained in Synthesis Example 2 and the graft polymer was changed. Using the pressure-sensitive adhesive polymer solution obtained in each example, a coating film was formed on a preparation and observed with an optical microscope. As a result, it was confirmed that the structure was a sea-island structure.

合成例5(二段重合+後添加)
グラフトポリマーを合成する際のDMの使用量を0.15部に減らした以外は合成例2と同様にして、高Tgポリマー溶液と、グラフトポリマー溶液を得た。グラフトポリマーと高Tgポリマーとの比率を不揮発分で100:20として両者を混合し、粘着剤ポリマー溶液を得た。この溶液を用いて、プレパラート上に塗膜を作り、光学顕微鏡を用いて観察した結果、海島構造であることが確認できた。
Synthesis Example 5 (two-stage polymerization + post-addition)
A high Tg polymer solution and a graft polymer solution were obtained in the same manner as in Synthesis Example 2 except that the amount of DM used for synthesizing the graft polymer was reduced to 0.15 part. Both ratios of the graft polymer and the high Tg polymer were mixed at a nonvolatile content of 100: 20 to obtain an adhesive polymer solution. Using this solution, a coating film was formed on the slide and observed with an optical microscope. As a result, it was confirmed that the structure was a sea-island structure.

合成例6(二段重合+後添加)
グラフトポリマーを合成する際に、高Tgポリマー(A)の仕込み量を6部に減らした以外は合成例2と同様にして、高Tgポリマー溶液と、グラフトポリマー溶液を得た。グラフトポリマーと高Tgポリマーとの比率を不揮発分で100:20として両者を混合し、粘着剤ポリマー溶液を得た。この溶液を用いて、プレパラート上に塗膜を作り、光学顕微鏡を用いて観察した結果、海島構造であることが確認できた。
Synthesis Example 6 (two-stage polymerization + post-addition)
When synthesizing the graft polymer, a high Tg polymer solution and a graft polymer solution were obtained in the same manner as in Synthesis Example 2 except that the amount of the high Tg polymer (A) charged was reduced to 6 parts. Both ratios of the graft polymer and the high Tg polymer were mixed at a nonvolatile content of 100: 20 to obtain an adhesive polymer solution. Using this solution, a coating film was formed on the slide and observed with an optical microscope. As a result, it was confirmed that the structure was a sea-island structure.

合成例7(ブレンド)
合成例2と同様にして高Tgポリマー溶液を調製した。次に、別途、低Tgポリマー用モノマーの重合を行った。温度計、撹拌機、不活性ガス導入管、還流冷却器および滴下ロートを備えたフラスコに、低Tgポリマー用モノマーとして、BA36部、2EHA82.2部、HEA1.8部と、酢酸エチル144部を仕込み、よく混合した。撹拌下、窒素ガスを流通させながら、フラスコの内温を82℃まで上昇させ、前記「ナイパー(登録商標)BMT−K40」0.15部をフラスコに投入し、重合を開始させた。
Synthesis example 7 (blend)
A high Tg polymer solution was prepared in the same manner as in Synthesis Example 2. Next, the monomer for the low Tg polymer was separately polymerized. In a flask equipped with a thermometer, stirrer, inert gas introduction tube, reflux condenser and dropping funnel, 36 parts of BA, 2EHA 82.2 parts, HEA 1.8 parts, and 144 parts of ethyl acetate were added as monomers for the low Tg polymer. Charged and mixed well. While the nitrogen gas was circulated under stirring, the internal temperature of the flask was raised to 82 ° C., and 0.15 part of “Nyper (registered trademark) BMT-K40” was charged into the flask to initiate polymerization.

反応開始から15分経過した後、BA54部、2EHA123.3部、HEA2.7部と、「ナイパーBMT−K40」0.23部、酢酸エチル92部の混合物を1時間に亘ってフラスコ内に滴下した。滴下終了後、酢酸エチル60部で滴下ロートを洗浄し、フラスコ内に添加した。滴下終了後1.5時間経過後から2.5時間経過後にかけて、ブースターとして「ABN−E」1.1部と酢酸エチル69.9部を3度に分割して添加した。その後、さらに78℃で1.5時間熟成し、低Tgポリマー溶液を得た。低Tgポリマー溶液と高Tgポリマー溶液とを、不揮発分の比率が100:20となるように混合して粘着剤ポリマー溶液とした。この溶液を用いて、プレパラート上に塗膜を作り、光学顕微鏡を用いて観察した結果、海島構造であることが確認できた。   After 15 minutes from the start of the reaction, a mixture of 54 parts of BA, 23.3 parts of EHA, 2.7 parts of HEA, 0.23 parts of “Nyper BMT-K40” and 92 parts of ethyl acetate was dropped into the flask over 1 hour. did. After completion of dropping, the dropping funnel was washed with 60 parts of ethyl acetate and added to the flask. From 1.5 hours to 2.5 hours after the completion of dropping, 1.1 parts of “ABN-E” and 69.9 parts of ethyl acetate were added in 3 portions as a booster. Thereafter, the mixture was further aged at 78 ° C. for 1.5 hours to obtain a low Tg polymer solution. The low Tg polymer solution and the high Tg polymer solution were mixed so that the nonvolatile content ratio was 100: 20 to obtain an adhesive polymer solution. Using this solution, a coating film was formed on the slide and observed with an optical microscope. As a result, it was confirmed that the structure was a sea-island structure.

合成例8(二段重合;比較用)
一段目の高Tgポリマー用モノマーとしてVAC70部を、溶媒として酢酸エチル210部を用い、よく混合し、温度計、撹拌機、不活性ガス導入管、還流冷却器および滴下ロートを備えたフラスコに添加した。窒素ガスを流通させながら、フラスコの内温を75℃まで上昇させ、「ナイパーBMT−K40」0.09部をフラスコに投入して、重合を開始させた。
Synthesis Example 8 (two-stage polymerization; for comparison)
Use 70 parts of VAC as the monomer for the first stage high Tg polymer and 210 parts of ethyl acetate as the solvent, mix well, and add to a flask equipped with a thermometer, stirrer, inert gas inlet tube, reflux condenser and dropping funnel did. While circulating nitrogen gas, the internal temperature of the flask was raised to 75 ° C., 0.09 part of “Niper BMT-K40” was charged into the flask, and polymerization was started.

反応開始後1.5時間経過後から2.5時間経過後にかけて、ブースターとして「ABN−E」0.25部と酢酸エチル2.3部を3度に分割して添加した。その後、さらに76℃で1.5時間熟成し、ポリ酢酸ビニル溶液を得た。この時点での酢酸ビニルの重合率は73%であった。   From 1.5 hours to 2.5 hours after the start of the reaction, 0.25 part of “ABN-E” and 2.3 parts of ethyl acetate were added in three portions as a booster. Thereafter, the mixture was further aged at 76 ° C. for 1.5 hours to obtain a polyvinyl acetate solution. At this time, the polymerization rate of vinyl acetate was 73%.

続いて同じフラスコに、二段目の低Tgポリマー用モノマーとして、BA120部、2EHA268部およびHEA12部と、「ナイパーBMT−K40」0.5部、酢酸エチル110部をよく混合してモノマー溶液を調製し、滴下ロートから1時間かけて均等に滴下した。滴下終了後1.5時間経過後から2.5時間経過後にかけて、ブースターとして「ABN−E」1.4部と酢酸エチル212.6部を3度に分割して添加し、さらに78℃で1.5時間熟成後、酢酸エチル200部を添加した。得られた粘着剤溶液を用いてプレパラート上に塗膜を作り、光学顕微鏡を用いて観察した結果、海島構造であることが確認できた。   Subsequently, in the same flask, as a monomer for the second stage low Tg polymer, 120 parts of BA, 2EHA 268 parts and 12 parts of HEA, 0.5 parts of “Nyper BMT-K40”, and 110 parts of ethyl acetate were mixed well to prepare a monomer solution. It was prepared and dropped evenly over 1 hour from the dropping funnel. From 1.5 hours to 2.5 hours after the completion of the dropwise addition, 1.4 parts of “ABN-E” and 212.6 parts of ethyl acetate were added in 3 portions as a booster, and further at 78 ° C. After aging for 1.5 hours, 200 parts of ethyl acetate was added. As a result of making a coating film on the preparation using the obtained pressure-sensitive adhesive solution and observing it using an optical microscope, it was confirmed that the structure was a sea-island structure.

合成例9(二段重合+後添加)
高Tgポリマー用モノマー組成を表1に示したように変更した以外は合成例1と同様にして、高Tgポリマーを合成した。次に、高Tgポリマーの存在下で、低Tgポリマー用モノマーの重合を行い、グラフトポリマーを合成した。温度計、撹拌機、不活性ガス導入管、還流冷却器および滴下ロートを備えたフラスコに、上記高Tgポリマーを15部(不揮発分)、低Tgポリマー用モノマーとして、BA27部、2EHA60.3部、HEA2.7部と、酢酸エチル120部を仕込み、よく混合した。撹拌下、窒素ガスを流通させながら、フラスコの内温を82℃まで上昇させ、「ナイパーBMT−K40」0.12部をフラスコに投入し、重合を開始させた。
Synthesis Example 9 (two-stage polymerization + post-addition)
A high Tg polymer was synthesized in the same manner as in Synthesis Example 1 except that the monomer composition for the high Tg polymer was changed as shown in Table 1. Next, in the presence of the high Tg polymer, the monomer for the low Tg polymer was polymerized to synthesize a graft polymer. In a flask equipped with a thermometer, stirrer, inert gas introduction tube, reflux condenser and dropping funnel, 15 parts of the above-mentioned high Tg polymer (non-volatile content), and 27 parts of BA, 2EHA 60.3 parts as a monomer for low Tg polymer , HEA 2.7 parts and ethyl acetate 120 parts were charged and mixed well. While the nitrogen gas was circulated under stirring, the internal temperature of the flask was raised to 82 ° C., and 0.12 part of “Niper BMT-K40” was charged into the flask to initiate polymerization.

反応開始から15分経過した後、BA63部、2EHA140.7部、HEA6.3部と、「ナイパーBMT−K40」0.26部、酢酸エチル152.4部の混合物を1時間に亘ってフラスコ内に滴下した。滴下終了後、酢酸エチル120部で滴下ロートを洗浄し、フラスコ内に添加した。滴下終了後1.5時間経過後から2.5時間経過後にかけて、ブースターとして「ABN−E」1.1部と酢酸エチル9.9部を3度に分割して添加した。その後、さらに78℃で1.5時間熟成し、グラフトポリマー溶液を得た。グラフトポリマーと高Tgポリマーの比率を不揮発分で100:20として両者を混合し、粘着剤ポリマー溶液を得た。この溶液を用いて、プレパラート上に塗膜を作り、光学顕微鏡を用いて観察した結果、海島構造であることが確認できた。   After 15 minutes from the start of the reaction, a mixture of 63 parts of BA, 140.7 parts of 2EHA, 6.3 parts of HEA, 0.26 parts of “Nyper BMT-K40” and 152.4 parts of ethyl acetate was added to the flask over 1 hour. It was dripped in. After completion of dropping, the dropping funnel was washed with 120 parts of ethyl acetate and added to the flask. From 1.5 hours to 2.5 hours after the completion of dropping, 1.1 parts of “ABN-E” and 9.9 parts of ethyl acetate were added in 3 portions as a booster. Thereafter, the mixture was further aged at 78 ° C. for 1.5 hours to obtain a graft polymer solution. Both ratios of the graft polymer and the high Tg polymer were mixed at a nonvolatile content of 100: 20 to obtain an adhesive polymer solution. Using this solution, a coating film was formed on the slide and observed with an optical microscope. As a result, it was confirmed that the structure was a sea-island structure.

実験例1
各合成例における合成方法と、得られた粘着剤ポリマー溶液を用いて特性評価を行った結果を表1に併記した。なお、特性評価方法は以下の通りである。
Experimental example 1
The synthesis method in each synthesis example and the results of the property evaluation using the obtained pressure-sensitive adhesive polymer solution are also shown in Table 1. The characteristic evaluation method is as follows.

[Tg]
前記計算式で計算したTgである。
[Tg]
It is Tg calculated by the above formula.

[質量平均分子量(Mw)]
GPC測定装置:Liquid Chromatography Model 510 (Waters社製)を用いて、下記条件で行った。
検出器:M410示差屈折計
カラム:Ultra Styragel Linear(7.8mm×30cm)
Ultra Styragel 100Å (7.8mm×30cm)
Ultra Styragel 500Å (7.8mm×30cm)
溶媒:テトラヒドロフラン
[Mass average molecular weight (Mw)]
GPC measuring apparatus: Liquid Chromatography Model 510 (manufactured by Waters) was used under the following conditions.
Detector: M410 differential refractometer Column: Ultra Styragel Linear (7.8 mm × 30 cm)
Ultra Styragel 100Å (7.8mm × 30cm)
Ultra Styragel 500Å (7.8mm × 30cm)
Solvent: Tetrahydrofuran

試料濃度は0.2%、注入量は200μl/回で、ポリスチレン標準試料換算値をMwとした。なお、後添加ありの二段重合の場合は、後添加する前のグラフトポリマーのMwを測定した。また、後添加なしの二段重合の場合(合成例8)は、Mwの測定は行わなかった。   The sample concentration was 0.2%, the injection amount was 200 μl / time, and the polystyrene standard sample conversion value was Mw. In the case of two-stage polymerization with post-addition, the Mw of the graft polymer before post-addition was measured. In the case of two-stage polymerization without post-addition (Synthesis Example 8), Mw was not measured.

[粘着剤組成物の調製および粘着製品(試験テープ)の作製]
各合成例で得られた粘着剤ポリマー溶液について、酢酸エチルで不揮発分を34%に調製した。ポリマー100部当たり、架橋促進剤としてジブチルチンジラウリレート250ppm(質量基準)と、架橋剤として「デュラネート(登録商標)D−201」(ヘキサメチレンジイソシアネート系;2官能;旭化成社製)が10部に相当する量を加えてよく撹拌し、粘着剤組成物を得た。
[Preparation of adhesive composition and production of adhesive product (test tape)]
About the adhesive polymer solution obtained by each synthesis example, the non volatile matter was prepared to 34% with ethyl acetate. For 100 parts of polymer, 250 parts by weight of dibutyltin dilaurate as a crosslinking accelerator and 10 parts of “Duranate (registered trademark) D-201” (hexamethylene diisocyanate; bifunctional; manufactured by Asahi Kasei Co., Ltd.) as a crosslinking agent The corresponding amount was added and stirred well to obtain an adhesive composition.

支持基材としてポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(東レ株式会社製;厚さ38μm)を用い、粘着剤組成物を乾燥後の厚さが20μmとなるように塗布した後、100℃で2分間乾燥させることにより、粘着フィルムを作成した。粘着剤表面に離型処理を施したPETフィルムを貼着して保護した後、40℃の雰囲気下で3日間養生した。養生後の粘着フィルムは、23℃、相対湿度65%の雰囲気で24時間調湿した後、25mm幅で適当な長さに切断して、試験テープを作製した。なお、離型フィルムは試験を実施する際に引き剥がした。   A polyethylene terephthalate (PET) film (manufactured by Toray Industries, Inc .; thickness 38 μm) is used as a supporting substrate, and the pressure-sensitive adhesive composition is applied so that the thickness after drying is 20 μm, and then dried at 100 ° C. for 2 minutes. Thus, an adhesive film was prepared. After sticking and protecting the PET film which gave the mold release process on the adhesive surface, it was cured in an atmosphere of 40 ° C. for 3 days. The pressure-sensitive adhesive film after curing was conditioned for 24 hours in an atmosphere of 23 ° C. and a relative humidity of 65%, and then cut into an appropriate length with a width of 25 mm to prepare a test tape. The release film was peeled off during the test.

[被着体汚染]
厚さ3mmのアクリル板(日本テストパネル株式会社製の標準試験板)を被着体とし、23℃、相対湿度65%の雰囲気下でアクリル板に上記試験テープを2kgのゴムローラで1往復させて圧着する。圧着後、70℃のオーブン中に72時間放置した後、23℃、相対湿度65%の雰囲気下で24時間調温した。剥離速度0.3m/minで試験テープを剥離し、剥離後のアクリル板の表面状態を目視で観察した。全く汚染されていないもの(糊残りなし)を○、わずかに糊残りがあり汚染されていたものを×として評価した。
[Adherent contamination]
Using a 3 mm thick acrylic plate (standard test plate made by Nippon Test Panel Co., Ltd.) as an adherend, the test tape was reciprocated once with a 2 kg rubber roller in an atmosphere of 23 ° C. and 65% relative humidity. Crimp. After pressure bonding, the sample was left in an oven at 70 ° C. for 72 hours, and then temperature-controlled for 24 hours in an atmosphere at 23 ° C. and a relative humidity of 65%. The test tape was peeled off at a peeling speed of 0.3 m / min, and the surface state of the acrylic plate after peeling was visually observed. The case where no contamination was observed (no adhesive residue) was evaluated as ◯, and the case where there was a slight adhesive residue and was contaminated was evaluated as ×.

[剥離粘着力]
上記被着体汚染の際の被着体と同じ厚さ3mmのアクリル板に、23℃、相対湿度65%の雰囲気下で、上記試験テープを2kgのゴムローラで1往復させて圧着する。圧着後25分放置した後、剥離速度を、低速剥離では0.3m/min、高速剥離では30m/minとし、23℃の雰囲気下で、JIS K 6854に準じて180゜剥離粘着力を測定した。表1,2には、低速剥離粘着力、高速剥離粘着力、および、高速剥離粘着力を低速剥離粘着力で除した値(「高速/低速」として示した)を併記した。
[Peeling adhesive strength]
The test tape is reciprocated once by a 2 kg rubber roller on a 3 mm thick acrylic plate having the same thickness as the adherend when the adherend is contaminated in an atmosphere of 23 ° C. and a relative humidity of 65%. After leaving for 25 minutes after pressure bonding, the peeling speed was 0.3 m / min for low speed peeling and 30 m / min for high speed peeling, and 180 ° peeling adhesive strength was measured in an atmosphere of 23 ° C. according to JIS K 6854. . In Tables 1 and 2, the low speed peel adhesive strength, the high speed peel adhesive strength, and the value obtained by dividing the high speed peel adhesive strength by the low speed peel adhesive strength (shown as “high speed / low speed”) are also shown.

[ヘイズ(%)]
濁度計(日本電子工業社製;「NDH−2000」)を用い、JIS K 7105に準じて、上記試験テープのヘイズ(%)を測定した。
[Haze (%)]
The haze (%) of the test tape was measured according to JIS K 7105 using a turbidimeter (manufactured by JEOL Ltd .; “NDH-2000”).

[なじみ性]
上記試験テープから、4cm×4cmのサイズの試験片を切り出す。市販の液晶保護フィルム(アンチグレア)(BUFFALO社製;BOF−H141S)の粗面を被着体として用い、粗面が上に来るようにアンチグレアフィルムを平らな面の上に水平に置く。23℃、65%の相対湿度の雰囲気下で、試験片をアンチグレアフィルムの上に静かに置く。試験片がフィルムに濡れ始めてから、試験片全体がフィルムに完全になじむまでの時間を測定する。120秒未満を◎、120秒〜180秒未満を○、180秒以上か、完全に濡れる状態とならない場合を×として評価した。
[Familiarity]
A test piece having a size of 4 cm × 4 cm is cut out from the test tape. A rough surface of a commercially available liquid crystal protective film (anti-glare) (manufactured by BUFFALO; BOF-H141S) is used as an adherend, and the anti-glare film is placed horizontally on a flat surface so that the rough surface is on top. The specimen is gently placed on the antiglare film in an atmosphere of 23 ° C. and 65% relative humidity. The time from when the test piece begins to get wet to the film until the entire test piece is fully adapted to the film is measured. The case where less than 120 seconds was evaluated as “◎”, the case where 120 seconds to less than 180 seconds were evaluated as “◯”, 180 seconds or more, or the case where the film was not completely wetted was evaluated as “x”.

なお、表1においては、各モノマーと分子量調整剤を次のように略記した。右の数字は、ポリマーハンドブックに掲載されているホモポリマーのTg(K)の値である。
VAC :酢酸ビニル 305K
HEA :2−ヒドロキシエチルアクリレート 241K
4HBA:4−ヒドロキシブチルアクリレート 241K
2EHA:2−エチルヘキシルアクリレート 203K
BA :n−ブチルアクリレート 219K
DM :ドデシルメルカプタン(分子量調整剤)
In Table 1, each monomer and molecular weight modifier are abbreviated as follows. The numbers on the right are the Tg (K) values of homopolymers listed in the polymer handbook.
VAC: Vinyl acetate 305K
HEA: 2-hydroxyethyl acrylate 241K
4HBA: 4-hydroxybutyl acrylate 241K
2EHA: 2-ethylhexyl acrylate 203K
BA: n-butyl acrylate 219K
DM: Dodecyl mercaptan (molecular weight regulator)

表1から明らかな通り、高Tgポリマー(A)と低Tgポリマー(B)のいずれにもヒドロキシル基を導入した合成例1〜7の粘着剤組成物は、被着体汚染が全くなく、再剥離用粘着剤として有用であることが明らかとなった。また、HEAより4HBAを用いると、なじみ性が非常に良好になることがわかった。一方、合成例8と9は、高Tgポリマー(A)にヒドロキシル基を導入しておらず、架橋反応が起こらなかったため、若干の被着体汚染が認められた。なお、いずれの例も、高Tgポリマー(A)と低Tgポリマー(B)とがバランスよく配合されて、かつ、海島構造を採っているため、高速剥離粘着力が小さく、高速/低速の値も15.0以下であった。   As is clear from Table 1, the pressure-sensitive adhesive compositions of Synthesis Examples 1 to 7 in which hydroxyl groups were introduced into both the high Tg polymer (A) and the low Tg polymer (B) had no adherend adherence at all. It became clear that it was useful as an adhesive for peeling. Also, it was found that the compatibility is very good when 4HBA is used rather than HEA. On the other hand, in Synthesis Examples 8 and 9, since no hydroxyl group was introduced into the high Tg polymer (A) and no crosslinking reaction occurred, some adherend contamination was observed. In each example, the high Tg polymer (A) and the low Tg polymer (B) are blended in a well-balanced manner and have a sea-island structure. Was 15.0 or less.

合成例10(ブレンド)
[高Tgポリマー]
メチルアクリレート(MA:ホモポリマーのTg=283.00K)155部と、HEA4.8部と、DM0.64部と、溶媒として酢酸エチル298.3部を、温度計、撹拌機、不活性ガス導入管、還流冷却器および滴下ロートを備えたフラスコに添加した。撹拌下、窒素ガスを流通させながら、フラスコの内温を78℃まで上昇させ、重合開始剤として、酢酸エチル3.6部で希釈した前記「ナイパーBMT−K40」0.4部をフラスコに投入して、重合を開始させた。
Synthesis Example 10 (blend)
[High Tg polymer]
155 parts of methyl acrylate (MA: homopolymer Tg = 283.00 K), 4.8 parts of HEA, 0.64 part of DM, 298.3 parts of ethyl acetate as a solvent, thermometer, stirrer, introduction of inert gas To a flask equipped with a tube, reflux condenser and dropping funnel. While flowing nitrogen gas under stirring, the internal temperature of the flask was raised to 78 ° C., and 0.4 parts of “Nyper BMT-K40” diluted with 3.6 parts of ethyl acetate was added to the flask as a polymerization initiator. Then, the polymerization was started.

反応開始から15分経過した後、MA233部と、HEA7.2部と、DM0.96部と、前記「ナイパーBMT−K40」0.3部と、酢酸エチル279部からなる混合物を1時間に亘ってフラスコに滴下した。滴下終了後、酢酸エチル20部で滴下ロートを洗浄し、フラスコに添加した。滴下が終了してから1.5時間後から2.5時間後にかけて、ブースターとして、前記「ABN−E」0.8部と酢酸エチル7.2部の混合物を三度に分割して添加した。その後、さらに78℃で1.5時間熟成した。得られた高Tgポリマー溶液の不揮発分は38.6%であった。この高TgポリマーのTgは9℃、Mwは6.9万であった。   After 15 minutes from the start of the reaction, a mixture consisting of 233 parts of MA, 7.2 parts of HEA, 0.96 parts of DM, 0.3 part of the “Nyper BMT-K40” and 279 parts of ethyl acetate was added over 1 hour. Was added dropwise to the flask. After completion of the dropping, the dropping funnel was washed with 20 parts of ethyl acetate and added to the flask. From 1.5 hours to 2.5 hours after the completion of the dropwise addition, a mixture of 0.8 part of the above-mentioned “ABN-E” and 7.2 parts of ethyl acetate was added in three portions as a booster. . Thereafter, the mixture was further aged at 78 ° C. for 1.5 hours. The non-volatile content of the obtained high Tg polymer solution was 38.6%. The high Tg polymer had a Tg of 9 ° C. and an Mw of 69,000.

[低Tgポリマー]
BA60部と、2EHA134部と、HEA6部と、溶媒として酢酸エチル240部を、温度計、撹拌機、不活性ガス導入管、還流冷却器および滴下ロートを備えたフラスコに添加した。撹拌下、窒素ガスを流通させながら、フラスコの内温を87℃まで上昇させ、重合開始剤として、酢酸エチル2.3部で希釈した前記「ナイパーBMT−K40」0.25部をフラスコに投入して、重合を開始させた。
[Low Tg polymer]
60 parts of BA, 134 parts of 2EHA, 6 parts of HEA, and 240 parts of ethyl acetate as a solvent were added to a flask equipped with a thermometer, a stirrer, an inert gas introduction tube, a reflux condenser and a dropping funnel. While flowing nitrogen gas under stirring, the internal temperature of the flask was raised to 87 ° C., and 0.25 part of “Nyper BMT-K40” diluted with 2.3 parts of ethyl acetate was added to the flask as a polymerization initiator. Then, the polymerization was started.

反応開始から15分経過した後、BA90部と、2EHA201部と、HEA9部と、前記「ナイパーBMT−K40」0.38部と、酢酸エチル153.4部からなる混合物を1時間に亘ってフラスコに滴下した。滴下終了後、酢酸エチル100部で滴下ロートを洗浄し、フラスコに添加した。滴下が終了してから1.5時間後から2.5時間後にかけて、ブースターとして、前記「ABN−E」1.75部と酢酸エチル22部の混合物を三度に分割して添加した。また、ブースター添加中に適時酢酸エチル100部を添加した。その後、さらに78℃で1.5時間熟成した。得られた低Tgポリマー溶液の不揮発分は45.5%であった。また、Tgは−64℃、Mwは58.1万であった。   After 15 minutes from the start of the reaction, a mixture of 90 parts of BA, 201 parts of 2EHA, 9 parts of HEA, 0.38 parts of the above-mentioned “Nyper BMT-K40”, and 153.4 parts of ethyl acetate was added to a flask over 1 hour. It was dripped in. After completion of the dropping, the dropping funnel was washed with 100 parts of ethyl acetate and added to the flask. From 1.5 hours to 2.5 hours after the completion of the dropwise addition, a mixture of 1.75 parts of “ABN-E” and 22 parts of ethyl acetate was added in three portions as a booster. In addition, 100 parts of ethyl acetate was added in a timely manner during the addition of the booster. Thereafter, the mixture was further aged at 78 ° C. for 1.5 hours. The non-volatile content of the obtained low Tg polymer solution was 45.5%. Moreover, Tg was -64 degreeC and Mw was 581,000.

低Tgポリマー溶液の不揮発分100部に対し、高Tgポリマー溶液の不揮発分が20部となるように両者を混合し、よく撹拌して、粘着剤ポリマー溶液を得た。この粘着剤ポリマー溶液から得られた粘着剤層を光学顕微鏡を用いて観察した結果、海島構造であることを確認した。   Both were mixed so that the non-volatile content of the high Tg polymer solution was 20 parts with respect to 100 parts of the non-volatile content of the low Tg polymer solution, and stirred well to obtain an adhesive polymer solution. As a result of observing the pressure-sensitive adhesive layer obtained from this pressure-sensitive adhesive polymer solution using an optical microscope, it was confirmed to have a sea-island structure.

合成例11(ブレンド)
[高Tgポリマー]
合成例10と同様にして、高Tgポリマーを合成した。
Synthesis Example 11 (Blend)
[High Tg polymer]
A high Tg polymer was synthesized in the same manner as in Synthesis Example 10.

[低Tgポリマー]
初期仕込みのモノマー組成を、BA60部、2EHA114部、HEA9部、ベンジルアクリレート(BZA:ホモポリマーのTg=279.15K)20部に変更し、滴下モノマー組成を、BA90部、2EHA171部、HEA9部、BZA30部に変更した以外は、合成例10と同様にして、低Tgポリマーを合成した。得られた低Tgポリマー溶液の不揮発分は45.5%であった。また、Tgは−58℃、Mwは64.7万であった。
[Low Tg polymer]
The monomer composition of the initial charge was changed to 60 parts BA, 2EHA 114 parts, HEA 9 parts, benzyl acrylate (BZA: homopolymer Tg = 279.15K) 20 parts, and the dropping monomer composition was changed to BA 90 parts, 2EHA 171 parts, HEA 9 parts, A low Tg polymer was synthesized in the same manner as in Synthesis Example 10 except that BZA was changed to 30 parts. The non-volatile content of the obtained low Tg polymer solution was 45.5%. Moreover, Tg was -58 degreeC and Mw was 647,000.

低Tgポリマー溶液の不揮発分100部に対し、高Tgポリマー溶液の不揮発分が20部となるように両者を混合し、よく撹拌して、粘着剤ポリマー溶液を得た。この粘着剤ポリマー溶液から得られた粘着剤層を光学顕微鏡を用いて観察した結果、海島構造であることを確認した。   Both were mixed so that the non-volatile content of the high Tg polymer solution was 20 parts with respect to 100 parts of the non-volatile content of the low Tg polymer solution, and stirred well to obtain an adhesive polymer solution. As a result of observing the pressure-sensitive adhesive layer obtained from this pressure-sensitive adhesive polymer solution using an optical microscope, it was confirmed to have a sea-island structure.

実験例2
合成例10と11で得られた粘着剤ポリマー溶液について、前記した方法で、Tg、Mw、低速剥離粘着力、高速剥離粘着力、高速剥離粘着力を低速剥離粘着力で除した値(「高速/低速」)、ヘイズ、被着体汚染、なじみ性を測定し、表2に示した。
Experimental example 2
For the pressure-sensitive adhesive polymer solutions obtained in Synthesis Examples 10 and 11, the values obtained by dividing Tg, Mw, low-speed peel adhesive strength, high-speed peel adhesive strength, and high-speed peel adhesive strength by the low-speed peel adhesive strength by the above-described methods (“high speed / Low speed "), haze, adherend contamination and conformability were measured and are shown in Table 2.

表2から明らかなとおり、酢酸ビニルに変えてメチルアクリレートを用いて高Tgポリマーを合成した場合であっても、被着体汚染が見られず、粘着特性も良好であった。合成例10ではヘイズが5.7%と、目標としている3%よりも大きくなった。これは、高Tgポリマーの屈折率1.4728と、低Tgポリマーの屈折率1.4664とに差があったためであると考えられる。合成例11では、ホモポリマーが高屈折率であるベンジルアクリレートを低Tgポリマーの共重合成分に加えたため、低Tgポリマーの屈折率が1.4712まで上がり、ヘイズも2.1と大幅に低下した。   As is clear from Table 2, even when a high Tg polymer was synthesized using methyl acrylate instead of vinyl acetate, adherend contamination was not observed and the adhesive properties were good. In Synthesis Example 10, the haze was 5.7%, which was larger than the target of 3%. This is considered to be because there was a difference between the refractive index of 1.4728 for the high Tg polymer and the refractive index of 1.4664 for the low Tg polymer. In Synthesis Example 11, benzyl acrylate, whose homopolymer has a high refractive index, was added to the copolymer component of the low Tg polymer, so the refractive index of the low Tg polymer increased to 1.4712, and the haze was significantly reduced to 2.1. .

本発明の溶剤型再剥離用粘着剤組成物は、高Tgポリマー(A)と低Tgポリマー(B)とが海島構造を採っているため、高Tgポリマー(A)の長所と低Tgポリマー(B)の長所を併せ持つ粘着剤とすることができ、その結果、高速剥離性を改善することができた。また、低Tgポリマー(B)に加えて、高Tgポリマー(A)にも架橋剤との反応点となる官能基を導入したため、被着体汚染を起こすことがなくなった。   In the solvent-type re-peeling pressure-sensitive adhesive composition of the present invention, since the high Tg polymer (A) and the low Tg polymer (B) have a sea-island structure, the advantages of the high Tg polymer (A) and the low Tg polymer ( It was possible to obtain a pressure-sensitive adhesive having the advantages of B), and as a result, high-speed peelability could be improved. In addition to the low Tg polymer (B), the functional group serving as a reaction point with the cross-linking agent was also introduced into the high Tg polymer (A), so that adherend contamination was not caused.

従って、上記粘着剤組成物を用いて得られる粘着製品は、光学用偏光板(TAC)、位相差板、EMI(電磁波)シールドフィルム、防眩フィルム、反射防止フィルム等といった光学用部材の表面を保護するための再剥離用粘着製品として利用可能である。また、その他のプラスチックや金属板の表面の保護フィルムとしても利用可能である。   Accordingly, the pressure-sensitive adhesive product obtained using the pressure-sensitive adhesive composition has a surface of an optical member such as an optical polarizing plate (TAC), a retardation plate, an EMI (electromagnetic wave) shield film, an antiglare film, an antireflection film, or the like. It can be used as an adhesive product for re-peeling to protect. It can also be used as a protective film for the surface of other plastics and metal plates.

合成例1で得られた粘着剤ポリマー溶液の塗膜のSEM写真(海島構造)である。It is a SEM photograph (sea-island structure) of the coating film of the pressure-sensitive adhesive polymer solution obtained in Synthesis Example 1.

Claims (6)

架橋剤が配合されて使用される溶剤型再剥離用粘着剤組成物であって、酢酸ビニルまたはメチルアクリレートを70質量%以上含む原料モノマーから合成されたガラス転移温度(Tg)が0℃以上70℃以下の高Tgポリマー(A)と、この高Tgポリマーよりも低いTgを有し、感圧接着性を示す低Tgポリマー(B)および溶剤を含み、
上記粘着剤組成物は、高Tgポリマー(A)を別途重合すると共に、高Tgポリマー(A)と低Tgポリマー(B)用のモノマー(B)合計量100質量%中、高Tgポリマー(A)が1〜10質量%となるように高Tgポリマー(A)を反応容器に仕込んでからこの反応容器中で上記モノマー(B)を重合し、得られたポリマー溶液に高Tgポリマー(A)を後添加してなるものであり、
高Tgポリマー(A)と低Tgポリマー(B)はいずれも前記架橋剤と反応し得る官能基を含有しており、
かつ、上記粘着剤組成物から得られる粘着剤層は、高Tgポリマー(A)と低Tgポリマー(B)とが相溶することなく、高Tgポリマー(A)が島、低Tgポリマー(B)が海である海島構造を形成していることを特徴とする溶剤型再剥離用粘着剤組成物。
A solvent-type re-peeling pressure-sensitive adhesive composition used by blending a cross-linking agent, wherein a glass transition temperature (Tg) synthesized from a raw material monomer containing 70% by mass or more of vinyl acetate or methyl acrylate is 0 ° C. or more and 70 A low Tg polymer (A) having a Tg lower than that of the high Tg polymer and a low Tg polymer (B) having a Tg lower than that of the high Tg polymer and exhibiting pressure-sensitive adhesiveness, and a solvent;
The pressure-sensitive adhesive composition separately polymerizes the high Tg polymer (A), and in the total amount of 100% by mass of the monomer (B) for the high Tg polymer (A) and the low Tg polymer (B), the high Tg polymer (A ) Is charged into the reaction vessel so that the content of the polymer becomes 1 to 10% by mass, the monomer (B) is polymerized in the reaction vessel, and the resulting polymer solution is mixed with the high Tg polymer (A). Is added later,
Both high Tg polymer (A) and low Tg polymer (B) contain a functional group capable of reacting with the crosslinking agent,
In addition, the pressure-sensitive adhesive layer obtained from the pressure-sensitive adhesive composition has a high Tg polymer (A) and a low Tg polymer (B) without compatibility between the high Tg polymer (A) and the low Tg polymer (B). ) Forms a sea-island structure, which is the sea.
上記高Tgポリマー(A)と低Tgポリマー(B)の不揮発分100質量%のうち、高Tgポリマー(A)が4〜35質量%である請求項1に記載の溶剤型再剥離用粘着剤組成物。   2. The solvent-type re-peeling pressure-sensitive adhesive according to claim 1, wherein the high Tg polymer (A) is 4 to 35% by mass out of 100% by mass of the nonvolatile content of the high Tg polymer (A) and the low Tg polymer (B). Composition. 上記高Tgポリマー(A)と低Tgポリマー(B)が有する官能基がヒドロキシル基である請求項1または2に記載の溶剤型再剥離用粘着剤組成物。   The pressure-sensitive adhesive composition for solvent-type re-peeling according to claim 1 or 2, wherein the functional group of the high Tg polymer (A) and the low Tg polymer (B) is a hydroxyl group. 上記高Tgポリマー(A)と低Tgポリマー(B)は、それぞれ、ヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートを原料モノマー100質量%中0.1〜10質量%含む原料モノマーから構成されている請求項3に記載の溶剤型再剥離用粘着剤組成物。   The high Tg polymer (A) and the low Tg polymer (B) are each composed of a raw material monomer containing 0.1 to 10% by mass of hydroxyl group-containing (meth) acrylate in 100% by mass of the raw material monomer. 2. The solvent-type re-peeling pressure-sensitive adhesive composition according to 1. 請求項1〜のいずれかに記載の溶剤型再剥離用粘着剤組成物から得られた粘着剤層が支持基材の少なくとも片面に形成されていることを特徴とする再剥離用粘着製品。 A pressure-sensitive adhesive product for re-peeling, wherein a pressure-sensitive adhesive layer obtained from the solvent-type re-peelable pressure-sensitive adhesive composition according to any one of claims 1 to 4 is formed on at least one surface of a support substrate. 厚み20μmの粘着剤層が厚み38μmのポリエチレンテレフタレートフィルム基材上に形成された粘着製品を用いてアクリル板に対する180゜粘着力を、23℃、相対湿度65%の雰囲気下で測定した場合に、0.3m/分の低速剥離では0.05〜0.3N/25mm、30m/分の高速剥離では0.2〜3N/25mmであり、かつ高速剥離における粘着力を低速剥離における粘着力で除した値が15.0以下である請求項に記載の再剥離用粘着製品。
When an adhesive product in which an adhesive layer having a thickness of 20 μm was formed on a polyethylene terephthalate film substrate having a thickness of 38 μm was used to measure 180 ° adhesive strength on an acrylic plate in an atmosphere of 23 ° C. and 65% relative humidity, It is 0.05 to 0.3 N / 25 mm for low speed peeling at 0.3 m / min, 0.2 to 3 N / 25 mm for high speed peeling at 30 m / min, and the adhesive force at high speed peeling is divided by the adhesive strength at low speed peeling. The peelable pressure-sensitive adhesive product according to claim 5 , wherein the measured value is 15.0 or less.
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