JP5026040B2 - Novel fluorine-containing spirocyclic acetal compound and method for producing the same - Google Patents

Novel fluorine-containing spirocyclic acetal compound and method for producing the same Download PDF

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Description

本発明は、耐薬品性、耐候性、撥水・撥油性、低分子間相互作用性、低屈折率性、高光透過性等の性能を有する含フッ素高分子の原料モノマーとなり得る2官能の含フッ素スピロ環状アセタール化合物およびその製造方法に関する。   The present invention includes a bifunctional compound that can be a raw material monomer for a fluorine-containing polymer having performances such as chemical resistance, weather resistance, water and oil repellency, low molecular interaction, low refractive index, and high light transmittance. The present invention relates to a fluorine spiro cyclic acetal compound and a method for producing the same.

2官能のエステル化合物、酸ハライドおよびアルコール化合物が縮合系ポリマーのモノマー成分として有用であることは周知の事実である。近年、フッ素化合物の耐薬品性、耐候性、撥水・撥油性、低分子間相互作用性、低屈折率性、高光透過性等の性能に注目した含フッ素ポリマーの開発が盛んに行われている。
例えば、光導波路用重縮合系含フッ素ポリマーの例が特許文献1およびそこに引用されている文献に記載されている。また、含フッ素(ω−アルケニルビニルエーテル)類の環化重合により得られるポリマーが光ファイバー等の光学材料に有用であることが特許文献2や特許文献3およびこれらに引用されている文献に記載されている。さらに、特許文献4や特許文献5に記載のペルフルオロジオキソール化合物のホモポリマーおよびテトラフルオロエチレン等との共重合体がアモルファスポリマーを形成し、上記と同様の用途に利用できることが知られている。
一方、含フッ素2官能化合物およびその製造方法については、例えば特許文献6に記載されている。
しかし、以上のいずれの文献にも、本発明の含フッ素スピロ環状アセタール化合物とその製造方法については記載されていない。
WO03/099907A1号明細書 WO03/037838A1号明細書 特開平5−70522号公報 米国特許第3,978,030号明細書 米国特許第4,399,264号明細書 WO02/004397号明細書
It is a well-known fact that bifunctional ester compounds, acid halides and alcohol compounds are useful as monomer components of condensation polymers. In recent years, fluorine-containing polymers have been actively developed focusing on the chemical resistance, weather resistance, water / oil repellency, low-molecular interaction, low refractive index, and high light transmission properties of fluorine compounds. Yes.
For example, an example of a polycondensation type fluorine-containing polymer for an optical waveguide is described in Patent Document 1 and the literature cited therein. In addition, Patent Document 2 and Patent Document 3 and documents cited therein disclose that polymers obtained by cyclopolymerization of fluorine-containing (ω-alkenyl vinyl ethers) are useful for optical materials such as optical fibers. Yes. Furthermore, it is known that homopolymers of perfluorodioxole compounds described in Patent Document 4 and Patent Document 5 and copolymers with tetrafluoroethylene and the like form amorphous polymers and can be used for the same applications as described above. .
On the other hand, a fluorine-containing bifunctional compound and a method for producing the same are described in Patent Document 6, for example.
However, none of the above documents describes the fluorine-containing spirocyclic acetal compound of the present invention and the production method thereof.
WO03 / 099907A1 specification WO03 / 037838A1 specification Japanese Patent Laid-Open No. 5-70522 US Pat. No. 3,978,030 US Pat. No. 4,399,264 WO02 / 004397 specification

本発明の目的は、第1に安価な原料から煩雑な操作を用いずに製造することが可能で、その重合により優れた性能(耐薬品性、耐候性、撥水・撥油性、低分子間相互作用性、低屈折率性、高光透過性等の性能)を示すポリマーを与える新規な2官能の含フッ素スピロ環状アセタール化合物を提供することにある。本発明の目的は、第2に前記の2官能の含フッ素スピロ環状アセタール化合物の製造方法を提供することにある。   The object of the present invention is to be able to manufacture from inexpensive raw materials without using complicated operations, and has superior performance (chemical resistance, weather resistance, water / oil repellency, low molecular weight) by polymerization. It is an object of the present invention to provide a novel bifunctional fluorine-containing spirocyclic acetal compound that gives a polymer exhibiting properties such as interaction properties, low refractive index properties, and high light transmittance. A second object of the present invention is to provide a process for producing the above bifunctional fluorine-containing spirocyclic acetal compound.

本発明者は、従来のポリマーの構造と性質を考察し、ポリマー主鎖に環状構造とエーテル結合を導入することが、アモルファス性や高いガラス転移温度(T)等のポリマー物性を付与していることを見い出し、さらに検討を行った結果、環構成部分にエーテル結合(アセタール結合)を有するスピロ環化合物の開発に到った。
すなわち、本発明の目的は下記の一般式(A)で表される化合物および製造方法によって達成された。
(1)下記一般式(A)で表される含フッ素スピロ環状アセタール化合物。
The present inventor considered the structure and properties of conventional polymers, and introducing a cyclic structure and an ether bond into the polymer main chain imparted polymer physical properties such as amorphousness and high glass transition temperature (T g ). As a result of further investigation, the inventors have developed a spiro ring compound having an ether bond (acetal bond) in the ring component.
That is, the object of the present invention has been achieved by a compound represented by the following general formula (A) and a production method.
(1) A fluorine-containing spiro cyclic acetal compound represented by the following general formula (A).

Figure 0005026040
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式中、Xは、>C(CF)(Y)を表す。ここでYは、−CFOCOR たは−CHORを表し、Rは少なくとも1つのフッ素原子を有するアルキル基またはシクロアルキル基を表し、R は水素原子またはアシル基を表す。Rにおけるアルキル基もしくはシクロアルキル基は、フッ素原子以外に置換基を有してもよく、またRにおけるアシル基は置換基を有してもよい。
(2)前記一般式(A)で表される化合物が、下記一般式(I)または(IV)のいずれかで表される(1)に記載の含フッ素スピロ環状アセタール化合物。
In the formula, X represents> C (CF 3 ) (Y ) . Wherein Y is, -CF 2 OCOR was 1 or represents -CH 2 OR 3, R 1 represents an alkyl group or a cycloalkyl group having at least one fluorine atom, R 3 represents a hydrogen atom or an acyl group . Alkyl group or cycloalkyl group for R 1 may have a substituent other than a fluorine atom, an acyl group at or R 3 may have a substituent.
(2) The fluorine-containing spiro cyclic acetal compound according to (1), wherein the compound represented by the general formula (A) is represented by any one of the following general formulas (I 1 ) or ( IV).

Figure 0005026040
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式中、Rは少なくとも1つのフッ素原子を有するアルキル基またはシクロアルキル基を表す。Rにおけるアルキル基もしくはシクロアルキル基は、フッ素原子以外に置換基を有してもよい
(3)前記R がペルフルオロアルキル基であることを特徴とする(1)または(2)に記載の含フッ素スピロ環状アセタール化合物。
(4)下記一般式(IV)または(VI)のいずれかで表される含フッ素スピロ環状アセタール化合物。
In the formula, R 1 represents an alkyl group or a cycloalkyl group having at least one fluorine atom. The alkyl group or cycloalkyl group in R 1 may have a substituent in addition to the fluorine atom.
(3) before Symbol R 1 is characterized in that it is a perfluoroalkyl group (1) or a fluorine-containing spirocyclic acetal compound according to (2).
(4) A fluorine-containing spiro cyclic acetal compound represented by any one of the following general formulas (IV) and (VI).

Figure 0005026040
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式中、RWhere R 4 は水素原子、フッ素原子、メチル基またはトリフルオロメチル基を表す。Represents a hydrogen atom, a fluorine atom, a methyl group or a trifluoromethyl group.
(5)下記一般式(IV)で表される含フッ素スピロ環状アセタール化合物。(5) A fluorine-containing spiro cyclic acetal compound represented by the following general formula (IV).

Figure 0005026040
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(6)下記一般式(VI)で表される含フッ素ジアクリレート化合物。(6) A fluorine-containing diacrylate compound represented by the following general formula (VI).

Figure 0005026040
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式中、RWhere R 4 は水素原子、フッ素原子、メチル基またはトリフルオロメチル基を表す。Represents a hydrogen atom, a fluorine atom, a methyl group or a trifluoromethyl group.
(7)前記R(7) R 4 が水素原子であることを特徴とする(6)に記載の含フッ素スピロ環状アセタール化合物。Is a hydrogen atom, The fluorine-containing spiro cyclic acetal compound as described in (6) characterized by the above-mentioned.
(8)下記式(I−1)で表されるペルフルオロエステル化合物。(8) A perfluoroester compound represented by the following formula (I-1).

Figure 0005026040
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(9)ヒドロキシアセトンからアシルオキシアセトンを合成する工程、該工程で得られたアシルオキシアセトンをペンタエリスリトールと脱水縮合する工程、該脱水縮合で得られた化合物をフッ素化する工程を含むことを特徴とする下記一般式(A’)で表される含フッ素スピロ環状アセタール化合物の製造方法。(9) It comprises a step of synthesizing acyloxyacetone from hydroxyacetone, a step of dehydrating condensation of acyloxyacetone obtained in this step with pentaerythritol, and a step of fluorinating a compound obtained by the dehydration condensation. The manufacturing method of the fluorine-containing spiro cyclic acetal compound represented by the following general formula (A ').

Figure 0005026040
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式中、Xは、>C(CF)(Y)を表す。ここでYは、−CFOCOR 表し、Rは少なくとも1つのフッ素原子を有する、アルキル基またはシクロアルキル基を表す。R におけるアルキル基もしくはシクロアルキル基は、フッ素原子以外に置換基を有してもよい。
(10)前記(9)に記載の方法で得られた前記一般式(A’)で表される化合物を酸フルオライド化後、またはエステル化後、に還元する工程を含むことを特徴とする下記一般式(A”)表される含フッ素スピロ環状アセタール化合物の製造方法。

Figure 0005026040
式中、Xは、>C(CF )(Y)を表す。ここでYは、−CH OR を表し、R は水素原子またはアシル基を表す。R におけるアシル基は置換基を有してもよい。
In the formula, X represents> C (CF 3 ) (Y ) . Wherein Y represents -CF 2 OCOR 1, R 1 has at least one fluorine atom, to display the alkyl group or a cycloalkyl group. Alkyl group or cycloalkyl group for R 1 is, but it may also have a substituent other than a fluorine atom.
(10) A step of reducing the compound represented by the general formula (A ′) obtained by the method according to (9) to an acid fluoride or an esterification, and A method for producing a fluorine-containing spirocyclic acetal compound represented by the general formula (A ″).
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In the formula, X represents> C (CF 3 ) (Y). Here, Y represents —CH 2 OR 3 , and R 3 represents a hydrogen atom or an acyl group. The acyl group in R 3 may have a substituent.

本発明の化合物は耐薬品性、耐候性、撥水・撥油性、低分子間相互作用性、低屈折率性、高光透過性等の性能を有する含フッ素ポリマーの原料モノマーまたはその前駆体として有用である。
また、本発明の製造方法によれば、スピロ環状アセタール構造を有する含フッ素化合物を収率よく製造することができる。
さらに本発明の製造方法によれば、比較的安価な原料から煩雑な操作を用いることなく、上記のスピロ環状アセタール構造を有する含フッ素化合物を製造できる。
本発明の上記一般式(A)で表される含フッ素スピロ環状アセタール化合物の重合体は、耐薬品性、耐候性、光学性能などが優れ、光導波路用など各種の用途に利用できる。
The compound of the present invention is useful as a raw material monomer or precursor of a fluorine-containing polymer having performances such as chemical resistance, weather resistance, water / oil repellency, low molecular interaction, low refractive index, and high light transmittance. It is.
Moreover, according to the manufacturing method of this invention, the fluorine-containing compound which has a spiro cyclic acetal structure can be manufactured with a sufficient yield.
Furthermore, according to the production method of the present invention, the fluorine-containing compound having the spiro cyclic acetal structure can be produced from a relatively inexpensive raw material without using a complicated operation.
The polymer of the fluorine-containing spiro cyclic acetal compound represented by the general formula (A) of the present invention is excellent in chemical resistance, weather resistance, optical performance and the like and can be used for various applications such as for optical waveguides.

以下に本発明の化合物について詳細に説明する。
般式(A)において、Xは、>C(CF)(Y)または>C=CFを表すが、本発明においては、>C(CF )(Y)を表す。ここでYは、−CFOCOR、−COOR、−COFまたは−CHORを表すが、本発明においては、−CF OCOR または−CH OR を表す。
は少なくとも1つのフッ素原子を有するアルキル基またはシクロアルキル基を表し、Rは水素原子、アルカリ金属、アルカリ土類金属またはアルキル基もしくはシクロアルキル基を表し、Rは水素原子またはアシル基を表す。
における上記アルキル基は、炭素数1〜20が好ましく、より好ましくは炭素数2〜10であり、直鎖であっても分岐であってもよく、さらに置換基を有してもよい。
における上記シクロアルキル基は、炭素数3〜20が好ましく、より好ましくは炭素数5〜10であり、さらに置換基を有してもよい。Rは上記のアルキル基が好ましい。
該アルキル基やシクロアルキル基の置換基としては、フッ素原子以外に後述のRで説明する置換基が挙げられる。特に、上記アルキル基はエーテル結合を有してもよく、またシクロアルキル基にアルキル基が置換した場合、該アルキル基はエーテル結合を有してもよい。このようなエーテル結合を有するアルキル基としては、該アルキル基に置換する基が、アルコキシ基、アルケノキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基が挙げられる。
は好ましくはペルフルオロアルキル基またはペルフルオロシクロアルキル基であり、より好ましくはペルフルオロアルキル基である。具体例としては、ペルフルオロメチル、ペルフルオロエチル、ペルフルオロプロピル、ペルフルオロイソプロピル、ペルフルオロブチル、ペルフルオロペンチル、ペルフルオロヘキシル、ペルフルオロ(1−メチル−2−オキサペンチル)、ペルフルオロ(1,4−ジメチル−2,5−ジオキサオクチル)、ペルフルオロシクロヘキシル、ペルフルオロヘプチル、ペルフルオロオクチル、ペルフルオロデシル、ペルフルオロウンデシル、ペルフルオロドデシル等が挙げられるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
The compounds of the present invention are described in detail below.
In one general formula (A), X is,> C (CF 3) ( Y) or> represents a C = CF 2, in the present invention represents a> C (CF 3) (Y ). Here, Y represents —CF 2 OCOR 1 , —COOR 2 , —COF, or —CH 2 OR 3, and in the present invention, Y represents —CF 2 OCOR 1 or —CH 2 OR 3 .
R 1 represents an alkyl group or a cycloalkyl group having at least one fluorine atom, R 2 represents a hydrogen atom, an alkali metal, an alkaline earth metal, an alkyl group or a cycloalkyl group, and R 3 represents a hydrogen atom or an acyl group Represents.
The alkyl group in R 1 preferably has 1 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 10 carbon atoms, may be linear or branched, and may further have a substituent.
The cycloalkyl group in R 1 preferably has 3 to 20 carbon atoms, more preferably 5 to 10 carbon atoms, and may further have a substituent. R 1 is preferably the above alkyl group.
Examples of the substituent for the alkyl group or cycloalkyl group include the substituents described later in R 2 in addition to the fluorine atom. In particular, the alkyl group may have an ether bond, and when an alkyl group is substituted on a cycloalkyl group, the alkyl group may have an ether bond. Examples of the alkyl group having an ether bond include an alkoxy group, an alkenoxy group, a cycloalkoxy group, and an aryloxy group as a group that substitutes for the alkyl group.
R 1 is preferably a perfluoroalkyl group or a perfluorocycloalkyl group, and more preferably a perfluoroalkyl group. Specific examples include perfluoromethyl, perfluoroethyl, perfluoropropyl, perfluoroisopropyl, perfluorobutyl, perfluoropentyl, perfluorohexyl, perfluoro (1-methyl-2-oxapentyl), perfluoro (1,4-dimethyl-2,5- Dioxaoctyl), perfluorocyclohexyl, perfluoroheptyl, perfluorooctyl, perfluorodecyl, perfluoroundecyl, perfluorododecyl, and the like, but the present invention is not limited thereto.

一般式(A)において、Rは、水素原子、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アルキル基またはシクロアルキル基を表す。Rにおけるアルキル基は炭素数1〜20が好ましく、より好ましくは炭素数1〜10のアルキル基であり、直鎖であっても分岐であってもよく、置換基を有してもよい。Rにおけるシクロアルキル基は炭素数3〜20が好ましく、より好ましくは5〜10のシクロアルキル基であり、置換基を有してもよい。Rにおけるアルキル基、シクロアルキル基としては、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ペンチル、シクロペンチル、ヘキシル、シクロヘキシル、オクチル、デシル等が挙げられる。また、これらのアルキル基やシクロアルキル基は置換基を有していてもよい。 In the general formula (A), R 2 represents a hydrogen atom, an alkali metal, an alkaline earth metal, an alkyl group, or a cycloalkyl group. The alkyl group in R 2 preferably has 1 to 20 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, which may be linear or branched and may have a substituent. The cycloalkyl group in R 2 preferably has 3 to 20 carbon atoms, more preferably a cycloalkyl group having 5 to 10 carbon atoms, and may have a substituent. Examples of the alkyl group and cycloalkyl group in R 2 include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, pentyl, cyclopentyl, hexyl, cyclohexyl, octyl, decyl and the like. Moreover, these alkyl groups and cycloalkyl groups may have a substituent.

のアルキル基やシクロアルキル基が有してもよい置換基としては、例えば、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子)、炭素数20以下のアルキル基(例えば、メチル、エチル)、炭素数20以下のアルケニル基(例えば、ビニル、アリル)、炭素数20以下のシクロアルキル基(例えば、シクロペンチル、シクロヘキシル)、炭素数20以下のシクロアルケニル基(例えば、シクロへキセニル)、炭素数30以下のアリール基(例えば、フェニル、ナフチル)、シアノ基、カルボキシル基、炭素数20以下のアルコキシカルボニル基(例えば、メトキシカルボニル)、炭素数30以下のアリールオキシカルボニル基(例えば、フェノキシカルボニル)、カルバモイル基(例えば、カルバモイル、N−フェニルカルバモイル、N,N−ジメチルカルバモイル)、炭素数20以下のアルキルカルボニル基(例えば、アセチル)、炭素数30以下のアリールカルボニル基(例えば、ベンゾイル)、ニトロ基、アミノ基(例えば、アミノ、ジメチルアミノ、アニリノ)、炭素数20以下のアシルアミノ基(例えば、アセトアミド、エトキシカルボニルアミノ)、スルホンアミド基(例えば、メタンスルホンアミド)、イミド基(例えば、スクシンイミド、フタルイミド)、イミノ基(例えば、ベンジリデンアノ)、 Examples of the substituent that the alkyl group or cycloalkyl group of R 2 may have include, for example, a halogen atom (for example, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom), an alkyl group having 20 or less carbon atoms (for example, Methyl, ethyl), an alkenyl group having 20 or less carbon atoms (for example, vinyl, allyl), a cycloalkyl group having 20 or less carbon atoms (for example, cyclopentyl, cyclohexyl), a cycloalkenyl group having 20 or less carbon atoms (for example, cyclohexenyl). ), An aryl group having 30 or less carbon atoms (for example, phenyl, naphthyl), a cyano group, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group having 20 or less carbon atoms (for example, methoxycarbonyl), an aryloxycarbonyl group having 30 or less carbon atoms (for example, Phenoxycarbonyl), a carbamoyl group (eg, carbamoyl, N-phenoxycarbonyl) Nylcarbamoyl, N, N-dimethylcarbamoyl), alkylcarbonyl group having 20 or less carbon atoms (for example, acetyl), arylcarbonyl group having 30 or less carbon atoms (for example, benzoyl), nitro group, amino group (for example, amino, dimethyl) Amino, anilino), acylamino group having 20 or less carbon atoms (for example, acetamido, ethoxycarbonylamino), sulfonamide group (for example, methanesulfonamide), imide group (for example, succinimide, phthalimide), imino group (for example, benzylideneano) ),

ヒドロキシ基、炭素数20以下のアルコキシ基(例えば、メトキシ)、炭素数30以下のアリールオキシ基(例えば、フェノキシ)、炭素数20以下のアシルオキシ基(例えば、アセトキシ)、炭素数20以下のアルキルスルホニルオキシ基(例えばメタンスルホニルオキシ)、炭素数30以下のアリールスルホニルオキシ基(例えばベンゼンスルホニルオキシ)、スルホ基、スルファモイル基(例えばスルファモイル、N−フェニルスルファモイル)、炭素数20以下のアルキルチオ基(例えばメチルチオ)、炭素数30以下のアリールチオ基(例えばフェニルチオ)、炭素数20以下のアルキルスルホニル基(例えばメタンスルホニル)、炭素数30以下のアリールスルホニル基(例えばベンゼンスルホニル)、ヘテロ環基などを挙げる事ができる。置換基は更に置換されていても良く、置換基が複数ある場合は、同じでも異なっても良い。また置換基同士で結合して環を形成しても良い。さらに置換基中のアルキル基は任意の位置に不飽和結合を形成していてもよい。
で表されるアルキル基とシクロアルキル基のうち、好ましくはアルキル基であり、このうち、メチル基およびエチル基がより好ましく、特に好ましくはメチル基である。
で表されるアルカリ金属またはアルカリ土類金属は、例えば、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウムが挙げられ、好ましくはナトリウムおよびカリウムであり、より好ましくはカリウムである。
Hydroxy group, alkoxy group having 20 or less carbon atoms (for example, methoxy), aryloxy group having 30 or less carbon atoms (for example, phenoxy), acyloxy group having 20 or less carbon atoms (for example, acetoxy), alkylsulfonyl having 20 or less carbon atoms An oxy group (for example, methanesulfonyloxy), an arylsulfonyloxy group having 30 or less carbon atoms (for example, benzenesulfonyloxy), a sulfo group, a sulfamoyl group (for example, sulfamoyl, N-phenylsulfamoyl), an alkylthio group having 20 or less carbon atoms ( Examples include methylthio), arylthio groups having 30 or less carbon atoms (for example, phenylthio), alkylsulfonyl groups having 20 or less carbon atoms (for example, methanesulfonyl), arylsulfonyl groups having 30 or less carbon atoms (for example, benzenesulfonyl), heterocyclic groups, and the like. Can. The substituent may be further substituted, and when there are a plurality of substituents, they may be the same or different. Moreover, you may combine with substituents and may form a ring. Furthermore, the alkyl group in the substituent may form an unsaturated bond at an arbitrary position.
Of the alkyl group and cycloalkyl group represented by R 2 , an alkyl group is preferable, and among them, a methyl group and an ethyl group are more preferable, and a methyl group is particularly preferable.
Examples of the alkali metal or alkaline earth metal represented by R 2 include lithium, sodium, potassium, rubidium, cesium, magnesium, calcium, strontium, and barium, preferably sodium and potassium, more preferably potassium. It is.

一般式(A)において、Rは水素原子またはアシル基を表す。アシル基としては、炭素数1〜20のアシル基(例えば、ホルミル、アセチル、ブチリル、ステアロイル、ベンゾイル、シクロヘキサノイル、アクリロイル、メタクリロイル、イソクロトノイル、オレイル)が好ましく、該アシル基は置換基を有してもよい。該置換基としては、上記Rで説明した置換基が挙げられる。ここで、該アシル基はアルケノイル基(末端ビニルのアルケノイル基が好ましい)およびヒドロキシルアルカノイル基が好ましく、末端ビニルを有すアルケノイル基がより好ましく、置換基を有してもよいアクリロイルまたはメタクリロイルがさらに好ましく、−CO(R)=CHが最も好ましい。ここで、Rは水素原子、メチル基またはトリフルオロメチル基を表す。Rは好ましくは水素原子またはメチル基であり、より好ましくは水素原子である。 In the general formula (A), R 3 represents a hydrogen atom or an acyl group. As the acyl group, an acyl group having 1 to 20 carbon atoms (for example, formyl, acetyl, butyryl, stearoyl, benzoyl, cyclohexanoyl, acryloyl, methacryloyl, isocrotonoyl, oleyl) is preferable, and the acyl group has a substituent. May be. Examples of the substituent include the substituents described for R 2 above. Here, the acyl group is preferably an alkenoyl group (preferably an alkenoyl group of a terminal vinyl) and a hydroxyl alkanoyl group, more preferably an alkenoyl group having a terminal vinyl, and further preferably acryloyl or methacryloyl which may have a substituent. , —CO (R 4 ) ═CH 2 is most preferred. Here, R 4 represents a hydrogen atom, a methyl group or a trifluoromethyl group. R 4 is preferably a hydrogen atom or a methyl group, more preferably a hydrogen atom.

一般式(A)で表される化合物は、記一般式(I)、一般式(II)、(III)または(IV)のいずれかで表される化合物か、または前記式(V)で表される化合物もしくは前記一般式(VI)で表される化合物が好ましく、本発明にいては、下記一般式(I)、(IV)または(VI)で表され、一般式(II)、(III)または(V)で表される化合物は参考例である。これらの各基は前記一般式(A)の対応する基と同義であり、好ましい範囲も同じである。
一般式(I)で表される化合物は、前記一般式(I−1)で表される化合物が好ましく、前記一般式(II)で表される参考例の化合物は前記一般式(II−1)で表される参考例の化合物が好ましい。
Compound represented by the general formula (A), under following general formula (I), the general formula (II), (III) or a compound represented by any one of (IV) or the formula (V) compounds represented or a compound represented by the general formula (VI) is rather preferred, are are in the present invention, the following formula (I), represented by (IV) or (VI), the general formula (II) , (III) or (V) is a reference example . Each of these groups has the same meaning as the corresponding group in the general formula (A), and the preferred range is also the same.
The compound represented by the general formula (I) is preferably a compound represented by the general formula (I-1), and the compound of the reference example represented by the general formula (II) is represented by the general formula (II-1). The compound of the reference example represented by this is preferable.

以下に一般式(A)で表される化合物を示すが、これにより本発明が限定されるものではない。
なお、(II−1)〜(II−5)および(V)で表される化合物は参考例である。
Although the compound represented with general formula (A) below is shown, this invention is not limited by this.
The compounds represented by (II-1) to (II-5) and (V) are reference examples.

Figure 0005026040
Figure 0005026040

(I−1) R=CF(CF)OCFCFCF
(I−2) R=ペルフルオロメチル
(I−3) R=ペルフルオロエチル
(I−4) R=ペルフルオロプロピル
(I−5) R=ペルフルオロイソプロピル
(I−6) R=ペルフルオロブチル
(I−7) R=ペルフルオロペンチル
(I−8) R=ペルフルオロヘキシル
(I−9) R=ペルフルオロ(1−メチル−2−オキサブチル)
(I−10)R=ペルフルオロ(1,4−ジメチル−2,5−ジオキサオクチル)
(I−11)R=ペルフルオロシクロヘキシル
(I−12)R=ペルフルオロヘプチル
(I−13)R=ペルフルオロオクチル
(I−14)R=ペルフルオロデシル
(I−15)R=ペルフルオロウンデシル
(I−16)R=ペルフルオロドデシル
(I−17)R=ペルフルオロ(1−メチル−2−オキサヘキシル)
(I−18)R=ペルフルオロシクロペンチル
(II−1)R=CH
(II−2)R=K
(II−3)R=C
(II−4)R=シクロへキシル
(II−5)R=Na
(I-1) R 1 = CF (CF 3 ) OCF 2 CF 2 CF 3
(I-2) R 1 = perfluoromethyl (I-3) R 1 = perfluoroethyl (I-4) R 1 = perfluoropropyl (I-5) R 1 = perfluoroisopropyl (I-6) R 1 = perfluorobutyl (I-7) R 1 = perfluoropentyl (I-8) R 1 = perfluorohexyl (I-9) R 1 = perfluoro (1-methyl-2-oxabutyl)
(I-10) R 1 = perfluoro (1,4-dimethyl-2,5-dioxaoctyl)
(I-11) R 1 = perfluorocyclohexyl (I-12) R 1 = perfluoroheptyl (I-13) R 1 = perfluorooctyl (I-14) R 1 = perfluorodecyl (I-15) R 1 = perfluoroun Decyl (I-16) R 1 = perfluorododecyl (I-17) R 1 = perfluoro (1-methyl-2-oxahexyl)
(I-18) R 1 = perfluorocyclopentyl (II-1) R 2 = CH 3
(II-2) R 2 = K
(II-3) R 2 = C 2 H 5
(II-4) R 2 = Cyclohexyl (II-5) R 2 = Na

Figure 0005026040
Figure 0005026040

(VI−1) R=H
(VI−2) R=F
(VI−3) R=CH
(VI−4) R=CF
(VI-1) R 4 = H
(VI-2) R 4 = F
(VI-3) R 4 = CH 3
(VI-4) R 4 = CF 3

次に、般式(A)で表される含フッ素スピロ環状アセタール化合物の製造方法を説明する。
前記一般式(A)で表される含フッ素スピロ環状アセタール化合物は、アシルオキシアセトンまたはピルビン酸エステルと、ペンタエリスリトールとの反応で得られるスピロアセタール化合物をフッ素化する工程を含む工程で製造することができる。
ここで、般式(A)で表される含フッ素スピロ環状アセタール化合物は、例えば下記スキーム(I)に示すようにヒドロキシアセトン1またはピルビン酸エステル4を出発原料にして製造することができる。
このうち、一般式(A)で表される含フッ素スピロ環状アセタール化合物の製造方法は、下記スキームの少なくともアシルオキシアセトン2、またはピルビン酸エステル4とペンタエリスリトールとの反応で得られるスピロアセタール3もしくは5をフッ素化し、得られたフッ素化化合物の(I)または6を得る工程を含む。このうち、好ましくは、アシルオキシアセトンとペンタエリスリトールとの反応で得られるスピロアセタール化合物をフッ素化する工程を含む工程である。
Next, a process for producing a fluorinated spirocyclic acetal compound represented by a general formula (A).
The fluorine-containing spirocyclic acetal compound represented by the general formula (A) can be produced by a process including a step of fluorinating a spiroacetal compound obtained by a reaction of acyloxyacetone or pyruvate with pentaerythritol. it can.
Here, the fluorine-containing spirocyclic acetal compound represented by a general formula (A), for example hydroxyacetone 1 or pyruvic acid ester 4 as shown in the following scheme (I) can be prepared as a starting material.
Among these, the method for producing the fluorine-containing spirocyclic acetal compound represented by the general formula (A) is a spiroacetal 3 or 5 obtained by the reaction of at least acyloxyacetone 2 or pyruvate 4 and pentaerythritol in the following scheme. And (I) or 6 of the resulting fluorinated compound is obtained. Among these, Preferably, it is a process including the process of fluorinating the spiro acetal compound obtained by reaction of acyloxyacetone and pentaerythritol.

以下、下記スキーム中に記載の化合物の置換基について説明する。
下記反応スキームにおいて、R11はアルキル基またはシクロアルキル基を表し、フッ素原子またはRで説明した置換基を有してもよい。R12はアルキル基またはシクロアルキル基を表し、フッ素原子またはRで説明した置換基を有してもよい。R12はアルキル基が好ましい。Rf12はR12の1つ以上がフッ素原子に置き換わったアルキル基またはシクロアルキル基を表す。Xはハロゲン原子を表す。
なお、RおよびRは一般式(A)におけるものと同義であり、Rは一般式(VI)におけるものと同義であり、好ましい範囲も同じである。
Hereinafter, substituents of the compounds described in the following scheme will be described.
In the following reaction scheme, R 11 represents an alkyl group or a cycloalkyl group, and may have a fluorine atom or the substituent described for R 2 . R 12 represents an alkyl group or a cycloalkyl group, and may have a fluorine atom or the substituent described in R 2 . R 12 is preferably an alkyl group. Rf 12 represents an alkyl group or a cycloalkyl group in which one or more of R 12 are replaced with a fluorine atom. X 1 represents a halogen atom.
In addition, R < 1 > and R < 2 > is synonymous with the thing in general formula (A), R < 4 > is synonymous with the thing in general formula (VI), and its preferable range is also the same.

上記の各基をさらに説明する。
11におけるアルキル基は、炭素数1〜20、好ましくは2〜10の、直鎖または分岐のアルキル基が好ましく、R11におけるシクロアルキル基は、炭素数3〜20、好ましくは炭素数5〜10のシクロアルキル基が好ましい。これらの基は上述のような置換基を有してもよい。R11におけるアルキル基はアルキル鎖中にエーテル結合を有していてもよく、このような基アルキル基も好ましい。該アルキル基に置換してもよい置換基としてはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子が好ましい。R11におけるシクロアルキル基もシクロアルキル基の置換基としてアルキル鎖中にエーテル結合を有していてもよい置換アルキル基や、ハロゲン原子で置換した置換アルキル基が好ましい。R11はシクロアルキル基より、アルキル基である場合が好ましい。
11はメチル、エチル、プロピル、シクロペンチル、シクロへキシル等のフッ素原子を含まないアルキル基またはシクロアルキル基でもよいが、好ましくはフッ素原子を含有するアルキル基またはシクロアルキル基であり、より好ましくは化合物3中のフッ素含率が30質量%以上となるような含フッ素アルキル基または含フッ素シクロアルキル基である。このようなアルキル基またはシクロアルキル基としては、ペルフルオロエチル、ペルフルオロプロピル、ペルフルオロイソプロピル、ペルフルオロブチル、ペルフルオロペンチル、ペルフルオロヘキシル、ペルフルオロ(1−メチル−2−オキサペンチル)、ペルフルオロ(1,4−ジメチル−2,5−ジオキサオクチル)、ペルフルオロシクロヘキシル、ペルフルオロヘプチル、ペルフルオロオクチル、ペルフルオロデシル、ペルフルオロウンデシル、ペルフルオロドデシル、2H−テトラヒドロエチル、4H−オクタフルオロブチル、6H−ドデカフルオロヘキシル、8H−ヘキサデカフルオロオクチル等が挙げられる。
Each of the above groups will be further described.
The alkyl group in R 11 is preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, preferably 2 to 10 carbon atoms, and the cycloalkyl group in R 11 is 3 to 20 carbon atoms, preferably 5 to 5 carbon atoms. Ten cycloalkyl groups are preferred. These groups may have a substituent as described above. The alkyl group in R 11 may have an ether bond in the alkyl chain, and such a group alkyl group is also preferable. The substituent which may be substituted on the alkyl group is preferably a halogen atom such as a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom. The cycloalkyl group in R 11 is also preferably a substituted alkyl group which may have an ether bond in the alkyl chain as a substituent of the cycloalkyl group, or a substituted alkyl group substituted with a halogen atom. R 11 is preferably an alkyl group rather than a cycloalkyl group.
R 11 may be an alkyl group or cycloalkyl group containing no fluorine atom, such as methyl, ethyl, propyl, cyclopentyl, cyclohexyl, etc., but is preferably an alkyl group or cycloalkyl group containing a fluorine atom, more preferably The fluorine-containing alkyl group or fluorine-containing cycloalkyl group is such that the fluorine content in the compound 3 is 30% by mass or more. Examples of such an alkyl group or cycloalkyl group include perfluoroethyl, perfluoropropyl, perfluoroisopropyl, perfluorobutyl, perfluoropentyl, perfluorohexyl, perfluoro (1-methyl-2-oxapentyl), perfluoro (1,4-dimethyl- 2,5-dioxaoctyl), perfluorocyclohexyl, perfluoroheptyl, perfluorooctyl, perfluorodecyl, perfluoroundecyl, perfluorododecyl, 2H-tetrahydroethyl, 4H-octafluorobutyl, 6H-dodecafluorohexyl, 8H-hexadecafluoro Examples include octyl.

はフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子を表し、好ましくはフッ素原子または塩素原子である。
12は、R11と同じ意味でのアルキル基またはシクロアルキル基が好ましく、好ましい範囲も同じである。
なお、R12はアルキル基が好ましく、フッ素原子を有するアルキル基がさらに好ましく、化合物5中のフッ素含率が30質量%以上となるような含フッ素アルキル基が特に好ましい。このようなアルキル基としては、1H,1H−ペンタフルオロプロピル、1H,1H−ヘプタフルオロブチル、1H,1H,2H,2H−ノナフルオロヘキシル、1H,1H,2H,2H,3H,3H−ノナフルオロヘプチル、1H,1H,2H,2H−トリデカフルオロオクチル、1H,1H,2H,2H,3H,3H−トリデカフルオロノニル、1H,1H,2H,2H−ヘプタデカフルオロデシル、2,5−ジメチル−3,6−ジオキサ−1H,1H−ヘプタデカフルオロノニル、5−メチル−1H,1H,2H,2H−ウンデカフルオロヘキシル、7−メチル−1H,1H,2H,2H−ペンタデカフルオロオクチル、1H,1H,3H−テトラフルオロプロピル、1H,1H,5H−オクタフルオロペンチル、1H,1H,7H−ドデカフルオロヘプチル、1H,1H,9H−ヘキサデカフルオロノニル、2H−ヘキサフルオロ−2−プロピル、1H,1H,3H−ヘキサフルオロブチル等が挙げられる。
X 1 represents a halogen atom such as a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom, preferably a fluorine atom or a chlorine atom.
R 12 is preferably an alkyl group or a cycloalkyl group in the same meaning as R 11, and the preferred range is also the same.
R 12 is preferably an alkyl group, more preferably an alkyl group having a fluorine atom, and particularly preferably a fluorine-containing alkyl group having a fluorine content of 30% by mass or more in the compound 5. Examples of such an alkyl group include 1H, 1H-pentafluoropropyl, 1H, 1H-heptafluorobutyl, 1H, 1H, 2H, 2H-nonafluorohexyl, 1H, 1H, 2H, 2H, 3H, 3H-nonafluoro. Heptyl, 1H, 1H, 2H, 2H-tridecafluorooctyl, 1H, 1H, 2H, 2H, 3H, 3H-tridecafluorononyl, 1H, 1H, 2H, 2H-heptadecafluorodecyl, 2,5-dimethyl -3,6-dioxa-1H, 1H-heptadecafluorononyl, 5-methyl-1H, 1H, 2H, 2H-undecafluorohexyl, 7-methyl-1H, 1H, 2H, 2H-pentadecafluorooctyl, 1H, 1H, 3H-tetrafluoropropyl, 1H, 1H, 5H-octafluoropentyl, 1H, 1H, 7H- Decafluoro heptyl, 1H, 1H, 9H- hexadecafluoro nonyl, 2H- hexafluoro-2-propyl, 1H, 1H, 3H- hexafluoro-butyl and the like.

Rf12は、好ましくはR12中の全ての水素原子がフッ素原子に置き換わったペルフルオロアルキル基である。 Rf 12 is preferably a perfluoroalkyl group in which all hydrogen atoms in R 12 are replaced with fluorine atoms.

Figure 0005026040
Figure 0005026040

以下に上記スキーム(I)を用いて更に説明する。
アシルオキシアセトンは、好ましくは上記化合物2で表され、例えばヒドロキシアセトン1とカルボン酸ハライドとの反応で得られる。一方、ピルビン酸エステルは、好ましくは上記化合物4として表され、市販されているかまたはピルビン酸のエステル化で容易に合成できる。
れらのアシルオキシアセトン(化合物2)またはピルビン酸エステル(化合物4)とペンタエリスリトールとの反応、具体的には脱水縮合反応することによりスピロアセタール化合物(化合物3または5)を合成し、この得られたスピロアセタール化合物(化合物3または5)をフッ素化する工程を含む工程で、前記一般式(A)で表される含フッ素スピロ環状アセタール化合物を製造することができる。
ここで、一般式(I)で表される化合物は、上記反応スキームの化合物2(該化合物2は上記反応スキームでは、化合物1から合成)から化合物3を得、これをフッ素化することで合成できる。
一般式(II)で表される化合物は、このようにして得た一般式(I)で表される化合物を使用するか、化合物6(該化合物6は化合物4から化合物5を得た後、フッ素化して得ることができる)を使用し、これをROHと反応させることにより合成できる。また、一般式(I)で表される化合物または化合物6をFイオンと反応させ、得られた一般式(III)で表される化合物をROHと反応させて合成することもできる。ここで、Rが水素原子、アルカリ金属またはアルカリ土類金属である場合、一般式(II)におけるRがアルキル基またはシクロアルキル基である化合物を加水分解して合成することもでき、また一般式(III)で表される化合物を加水分解することによっても合成できる。
一般式(III)で表される化合物は、上記のように一般式(I)で表される化合物または化合物6をFイオンと反応させて合成することができる。なお、一般式(III)で表される化合物は、上記反応スキームに記載されてはいないが、一般式(I)で表される化合物または化合物6を熱分解して合成する方法も本発明においては好ましい態様である。
式(IV)で表される化合物は、上記のようにして得られた一般式(II)で表される化合物または一般式(III)で表される化合物を還元することにより合成できる。
一般式(V)で表される化合物は、上記のようにして得られた一般式(II)または一般式(III)で表される化合物を熱分解することにより合成できる。
一般式(A)において、Xが>C(CF)(Y)であって、Yが−CHORであり、かつRがアシル基である化合物は、一般式(IV)で表される化合物をアシル化することで合成できる。アシル化剤としては、対応するアシル部のアシルハライド、有機酸無水物が挙げられ、また有機酸も好ましく使用される。上記反応スキームにおいては、該化合物のうち、好ましい化合物である一般式(VI)で表される化合物を代表として記載した。すなわち、一般式(VI)で表される化合物におけるアシル化剤はCl−COC(R)=CHで表されるアクリル酸誘導体が特に好ましい。この点に関しては以後に説明する。
This will be further described using the above scheme (I).
Acyloxyacetone is preferably represented by the above compound 2, and can be obtained, for example, by reaction of hydroxyacetone 1 with a carboxylic acid halide. On the other hand, the pyruvic acid ester is preferably represented as the above compound 4 and is commercially available or can be easily synthesized by esterification of pyruvic acid.
The reaction of these acyloxyalkyl acetone (Compound 2) or pyruvic acid ester (Compound 4) and pentaerythritol, in particular spiroacetal compound (compound 3 or 5) is synthesized by dehydration condensation reaction, the resulting The fluorine-containing spirocyclic acetal compound represented by the general formula (A) can be produced in a step including a step of fluorinating the obtained spiroacetal compound (Compound 3 or 5).
Here, the compound represented by the general formula (I) is synthesized by obtaining the compound 3 from the compound 2 of the above reaction scheme (the compound 2 is synthesized from the compound 1 in the above reaction scheme) and fluorinating the compound 3. it can.
As the compound represented by the general formula (II), the compound represented by the general formula (I) thus obtained is used, or the compound 6 (the compound 6 is obtained after obtaining the compound 5 from the compound 4, Can be synthesized by reacting with R 2 OH. Moreover, the general formula of the compound or compounds 6 are represented by (I) F - is reacted with ions, a compound represented by the obtained formula (III) can be synthesized by reacting with R 2 OH. Here, when R 2 is a hydrogen atom, an alkali metal or an alkaline earth metal, the compound in which R 2 in the general formula (II) is an alkyl group or a cycloalkyl group can be hydrolyzed and synthesized. It can also be synthesized by hydrolyzing the compound represented by the general formula (III).
Compound represented by the general formula (III), a compound or compounds 6 are represented by the general formula (I) as described above F - can be synthesized by reacting an ion. Although the compound represented by the general formula (III) is not described in the above reaction scheme, a method of thermally decomposing the compound represented by the general formula (I) or the compound 6 is also used in the present invention. Is a preferred embodiment.
The compound represented by the formula (IV) can be synthesized by reducing the compound represented by the general formula (II) or the compound represented by the general formula (III) obtained as described above.
The compound represented by the general formula (V) can be synthesized by thermally decomposing the compound represented by the general formula (II) or the general formula (III) obtained as described above.
In the general formula (A), a compound in which X is> C (CF 3 ) (Y), Y is —CH 2 OR 3 , and R 3 is an acyl group is represented by the general formula (IV). Can be synthesized by acylating the compound. Examples of the acylating agent include acyl halides and organic acid anhydrides of the corresponding acyl moiety, and organic acids are also preferably used. In the said reaction scheme, the compound represented with general formula (VI) which is a preferable compound among this compound was described as a representative. That is, the acylating agent in the compound represented by the general formula (VI) is particularly preferably an acrylic acid derivative represented by Cl—COC (R 4 ) ═CH 2 . This point will be described later.

以下、前記スキーム(I)中の各工程について詳細に説明する。
ヒドロキシアセトン1とカルボン酸ハライドとの反応によるアシルオキシアセトン(化合物2)への変換は、例えば丸善株式会社発行、日本化学会編、第4版実験化学講座22、有機合成IV、−酸・アミノ酸・ペプチド−、p.50−51に記載されているような一般的な条件下で行うことができる。化合物2または4とペンタエリスリトールとからスピロ環状アセタール3または5を得るには、例えば、J.Org.Chem.,26,2515(1961)、Tetrahedoron,60,4789(2004)、Chem.Ber.,61,790(1928)等の文献に記載の方法に準じて行なうことができる。
具体的には、化合物2または4とペンタエリスリトールとを脱水縮合反応する。本脱水反応は、反応条件下、生成する水を分離あるいは除去できる方法であればいずれの方法でもよいが、例えば、酸触媒存在下、共沸で水を除去する方法や、脱水剤存在下で反応を行う方法が好ましい。
このとき、ペンタエリスリトールの使用量としては化合物2または4に対して0.1〜5当量が好ましく、0.2〜1当量がより好ましく、0.3〜0.6当量が特に好ましい。
酸触媒としては、塩化水素、臭化水素、硫酸、リン酸、塩化アンモニウム、スルホン酸化合物(例えばメタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸(一水和物)等)、カルボン酸化合物(例えば酢酸、プロピオン酸、ブタン酸、アジピン酸、安息香酸等)各種ルイス酸(例えば三フッ化ホウ素エーテラート、塩化アルミニウム、酸化ジルコニウム等)、各種固体酸触媒[例えば、ナフィオン(Nafion、商品名)、アンバーライト(Amberlite、商品名、酸性のもの)、Montmorillonite K10(商品名)等]等が挙げられる。また、これらを組み合わせて用いてもよい。中でも、p−トルエンスルホン酸一水和物が好ましい。前記酸触媒の使用量としては化合物2または4に対して0.001〜2当量が好ましく、0.01〜0.5当量がより好ましい。
共沸により水を除去する場合は、Dean−Starkトラップを用いるのが好ましい。また、脱水剤により水を除去する場合、脱水剤としては、硫酸マグネシウム、硫酸ナトリウム、ゼオライト、モレキュラー・シーブス等が挙げられる。これらの脱水剤は反応で生成する水を保持することができる量以上の量を用いることが好ましい。脱水剤は反応系に入れて使用してもよいし、還流管中に保持させる等して反応系外で使用してもよい。
反応は無溶媒で行ってもよいし、溶媒中で行ってもよい。用いる溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、石油エーテル、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジエチルアセトアミド、1−メチル−2−ピロリドン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、ジメチルスルホキシド(DMSO)、スルホラン、四塩化炭素、クロロホルム、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン等、およびこれらの混合溶媒が挙げられ、トルエンがより好ましい。溶媒の使用量は化合物2または4の使用量の1〜100質量倍が好ましく、2〜50質量倍がより好ましい。反応温度は好ましくは0〜200℃であり、より好ましくは50〜120℃である。反応時間は使用する酸の種類、量、溶媒および反応温度に依存する。これらを適宜調節し12時間以内、好ましくは6時間以内で反応を行うことが好ましい。
Hereinafter, each step in the scheme (I) will be described in detail.
Conversion to acyloxyacetone (compound 2) by reaction of hydroxyacetone 1 and carboxylic acid halide is, for example, published by Maruzen Co., Ltd., edited by The Chemical Society of Japan, 4th edition Experimental Chemistry Course 22, Organic Synthesis IV, -Acid / Amino Acid / Peptide-, p. It can be carried out under the general conditions as described in 50-51. To obtain spirocyclic acetal 3 or 5 from compound 2 or 4 and pentaerythritol, see, for example, J. Org. Org. Chem. 26, 2515 (1961), Tetrahedron, 60, 4789 (2004), Chem. Ber. 61, 790 (1928) and the like.
Specifically, the compound 2 or 4 and pentaerythritol are subjected to a dehydration condensation reaction. This dehydration reaction may be any method that can separate or remove water produced under the reaction conditions. For example, a method of removing water azeotropically in the presence of an acid catalyst, or in the presence of a dehydrating agent. A method of carrying out the reaction is preferred.
At this time, the amount of pentaerythritol used is preferably 0.1 to 5 equivalents, more preferably 0.2 to 1 equivalent, and particularly preferably 0.3 to 0.6 equivalents relative to Compound 2 or 4.
Examples of the acid catalyst include hydrogen chloride, hydrogen bromide, sulfuric acid, phosphoric acid, ammonium chloride, sulfonic acid compounds (for example, methanesulfonic acid, benzenesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid (monohydrate), etc.), carboxylic acid compounds (e.g. acetic acid, propionic acid, butanoic acid, adipic acid, and benzoic acid) various Lewis acids (eg boron trifluoride etherate, aluminum chloride, zirconium oxide, etc.), various solid acid catalyst [for example, Nafion (Nafion R, trade name ), Amberlite (Amberlite R, tradename, those acidic), Montmorillonite K10 (trade name)] and the like. Moreover, you may use combining these. Of these, p-toluenesulfonic acid monohydrate is preferable. As the usage-amount of the said acid catalyst, 0.001-2 equivalent is preferable with respect to the compound 2 or 4, and 0.01-0.5 equivalent is more preferable.
When removing water by azeotropy, it is preferable to use a Dean-Stark trap. In addition, when water is removed with a dehydrating agent, examples of the dehydrating agent include magnesium sulfate, sodium sulfate, zeolite, and molecular sieves. These dehydrating agents are preferably used in an amount that is greater than or equal to the amount capable of retaining the water produced by the reaction. The dehydrating agent may be used in the reaction system, or may be used outside the reaction system by being retained in the reflux tube.
The reaction may be performed without a solvent or in a solvent. Solvents used include benzene, toluene, xylene, petroleum ether, N, N-dimethylformamide, N, N-diethylacetamide, 1-methyl-2-pyrrolidone, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, dimethyl sulfoxide (DMSO), sulfolane, carbon tetrachloride, chloroform, hexane, heptane, cyclohexane and the like, and mixed solvents thereof are mentioned, and toluene is more preferable. The amount of the solvent used is preferably 1 to 100 times by mass and more preferably 2 to 50 times by mass of the amount of compound 2 or 4. The reaction temperature is preferably 0 to 200 ° C, more preferably 50 to 120 ° C. The reaction time depends on the type, amount, solvent and reaction temperature of the acid used. It is preferable to carry out the reaction within 12 hours, preferably within 6 hours by adjusting these appropriately.

化合物3から一般式(I)で表される化合物、および化合物5から化合物6へのフッ素化反応は三フッ化コバルトを用いる方法、電解フッ素化法および液相中でフッ素ガスを用いて直接フッ素化を行う方法(以下、液相直接フッ素化法という。)等が知られており、本発明においてはこれらの反応を利用することができる。三フッ化コバルトを用いる方法や電解フッ素化法によるフッ素化反応は、異性化反応が起こる問題や、主鎖の切断や再結合反応が起こる問題があり、所望の化合物を純度良く得るのは困難なことから、本発明においては、液相直接フッ素化法を用いるのがより好ましい。
液相直接フッ素化法によるフッ素化反応は米国特許第5,093,432号明細書やWO00/56694号明細書等に記載されているのと同様な方法で実施することができる。
The fluorination reaction from the compound 3 to the compound represented by the general formula (I) and from the compound 5 to the compound 6 is carried out by a method using cobalt trifluoride, an electrolytic fluorination method and direct fluorine using a fluorine gas in the liquid phase. There are known methods for crystallization (hereinafter referred to as liquid phase direct fluorination method), and these reactions can be used in the present invention. The fluorination reaction using cobalt trifluoride or electrolytic fluorination has problems that cause isomerization and main chain cleavage and recombination, making it difficult to obtain the desired compound with high purity. Therefore, in the present invention, it is more preferable to use the liquid phase direct fluorination method.
The fluorination reaction by the liquid phase direct fluorination method can be carried out in the same manner as described in US Pat. No. 5,093,432 and WO 00/56694.

一般式(I)で表される化合物または化合物6から一般式(II)で表される化合物、特にRがアルキル基またはシクロアルキル基である化合物の合成は、一般式(I)で表される化合物または化合物6に対してROHで表されるアルコール(Rはアルキル基またはシクロアルキル基)を作用させることにより行うことができる。反応温度は好ましくは−20〜100℃であり、より好ましくは0〜50℃である。この反応において、溶媒を用いてもよいし、無溶媒で行ってもよい。また、塩基の存在下反応を行ってもよいし、無塩基で行ってもよい。
使用できる溶媒としては、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、アセトン、酢酸エチル、ヘキサン、トルエン、キシレン、アセトニトリル等および上記液相フッ素化反応で使用した溶媒{例えばペルフルオロアルカン化合物[FC−72(商品名、住友スリーエム社製)等]、ペルフルオロエーテル化合物[FC−75、FC−77(共に商品名、住友スリーエム社製)等]、ペルフルオロポリエーテル化合物[商品名:クライトックス(Krytox(登録商標)、DuPont社製)、フォブリン(Fomblin(登録商標)、AUSIMONT社製)、ガルデン(Galden(登録商標)、AUSIMONT社製)、デムナム{ダイキン工業社製}等]、クロロフルオロカーボン化合物(CFC−11,CFC−113等)、クロロフルオロポリエーテル化合物、ペルフルオロトリアルキルアミン化合物、不活性流体(商品名:フロリナート、Fluorinert(登録商標)、住友スリーエム社製)等}およびこれらの混合溶媒を挙げることができる。溶媒の使用量は一般式(I)で表される化合物または化合物6の使用量の1〜100質量倍が好ましく、2〜50質量倍がより好ましい。
The synthesis of the compound represented by the general formula (I) or the compound 6 represented by the general formula (II), particularly the compound in which R 2 is an alkyl group or a cycloalkyl group is represented by the general formula (I). Or an alcohol represented by R 2 OH (R 2 is an alkyl group or a cycloalkyl group). The reaction temperature is preferably -20 to 100 ° C, more preferably 0 to 50 ° C. In this reaction, a solvent may be used or it may be carried out without a solvent. Further, the reaction may be performed in the presence of a base, or may be performed without a base.
Solvents that can be used include dichloromethane, chloroform, carbon tetrachloride, diethyl ether, tetrahydrofuran, acetone, ethyl acetate, hexane, toluene, xylene, acetonitrile and the like used in the liquid phase fluorination reaction {eg, perfluoroalkane compounds [FC -72 (trade name, manufactured by Sumitomo 3M), etc.], perfluoroether compounds [FC-75, FC-77 (both trade names, manufactured by Sumitomo 3M), etc.], perfluoropolyether compounds [trade name: Krytox (Registered trademark), manufactured by DuPont), foblin (formed by Fomblin (registered trademark), manufactured by AUSIMINT), Galden (produced by Galden (registered trademark), manufactured by AUSIMINT), demnum {manufactured by Daikin Industries, Ltd.}, etc.], chlorofluorocarbon Compound (CFC-11, CFC-113, etc.), chlorofluoropolyether compound, perfluorotrialkylamine compound, inert fluid (trade name: Fluorinert, Fluorinert (registered trademark), manufactured by Sumitomo 3M Ltd.) and the like A mixed solvent can be mentioned. The amount of the solvent used is preferably 1 to 100 times by mass and more preferably 2 to 50 times by mass of the amount of the compound represented by formula (I) or compound 6.

使用できる塩基としては、ピリジン、トリエチルアミン、N,N−ジイソプロピルエチルアミン等の有機塩基、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等の無機塩基が挙げられる。また、フッ化水素捕捉剤としてフッ化ナトリウム、フッ化カリウム、フッ化セシウム等のアルカリ金属フッ化物を用いてもよい。
本発明で使用する塩基の使用量としては一般式(I)で表される化合物または化合物6に対して0.5〜10当量が好ましく、1〜3当量がより好ましい。
使用するROHの量は特に制約は無いが、反応を完結するためには一般式(I)で表される化合物または化合物6に対して4当量以上が好ましく、4〜20当量がより好ましい。
一般式(II)において、Rが水素原子、アルカリ金属またはアルカリ土類金属である化合物は、一般式(I)で表される化合物もしくは化合物6、または一般式(II)においてRがアルキル基またはシクロアルキル基である化合物のいずれかを(アルカリ)加水分解することにより容易に得ることができる。
Examples of the base that can be used include organic bases such as pyridine, triethylamine, N, N-diisopropylethylamine, and inorganic bases such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, potassium carbonate, sodium carbonate, sodium hydrogencarbonate, and potassium hydrogencarbonate. Moreover, you may use alkali metal fluorides, such as sodium fluoride, potassium fluoride, and a cesium fluoride, as a hydrogen fluoride scavenger.
As the usage-amount of the base used by this invention, 0.5-10 equivalent is preferable with respect to the compound or compound 6 represented by general formula (I), and 1-3 equivalent is more preferable.
The amount of R 2 OH to be used is not particularly limited, but in order to complete the reaction, it is preferably 4 equivalents or more, more preferably 4 to 20 equivalents, relative to the compound represented by formula (I) or compound 6. .
In the general formula (II), a compound in which R 2 is a hydrogen atom, an alkali metal or an alkaline earth metal is a compound or compound 6 represented by the general formula (I), or R 2 is an alkyl in the general formula (II) It can be easily obtained by (alkali) hydrolysis of either a group or a compound that is a cycloalkyl group.

一般式(I)で表される化合物または化合物6は熱分解により一般式(III)で表される化合物に変換することができる。この際、フッ化ナトリウム、フッ化カリウム、フッ化セシウム等のアルカリ金属フッ化物の存在下で行うのが好ましい。使用するアルカリ金属フッ化物の量は、一般式(I)で表される化合物または化合物6に対して、好ましくは0.01〜5当量であり、より好ましくは0.1〜1当量である。反応温度は好ましくは50〜300℃であり、より好ましくは100〜250℃である。反応は気相で行っても、液相で行ってもよい。液相反応の場合、反応溶媒は一般式(I)で表される化合物または化合物6と相溶性があり、かつ一般式(I)で表される化合物または化合物6および生成物と反応しないものであれば特に制限はなく、例えば、上記で述べたペルフルオロポリエーテル化合物、クロロフルオロポリエーテル化合物等を用いてもよいが、溶媒と生成物との分離を考慮すると無溶媒で行うのが好ましい。
The compound represented by the general formula (I) or the compound 6 can be converted into a compound represented by the general formula (III) by thermal decomposition. At this time, it is preferably carried out in the presence of an alkali metal fluoride such as sodium fluoride, potassium fluoride, or cesium fluoride. The amount of the alkali metal fluoride used is preferably 0.01 to 5 equivalents, more preferably 0.1 to 1 equivalents with respect to the compound represented by the general formula (I) or the compound 6. The reaction temperature is preferably 50 to 300 ° C, more preferably 100 to 250 ° C. The reaction may be performed in the gas phase or in the liquid phase. In the case of a liquid phase reaction, the reaction solvent is compatible with the compound represented by the general formula (I) or the compound 6 and does not react with the compound represented by the general formula (I) or the compound 6 and the product. If there is no particular limitation, for example, the perfluoropolyether compound, the chlorofluoropolyether compound and the like described above may be used. However, in consideration of separation of the solvent and the product, it is preferably performed without a solvent.

一般式(III)で表される化合物は、一般式(I)で表される化合物から一般式(II)で表される化合物への変換条件と同様の条件で、一般式(II)で表される化合物に変換することができる。
一般式(II)で表される化合物および一般式(III)で表される化合物は還元反応により式(IV)で表される化合物へと変換することができる。還元反応としては例えば丸善株式会社発行、日本化学会編、第4版実験化学講座26、有機合成VIII、−不斉合成・還元・糖・標識化合物−、p.159−266に記載されているような種々の還元方法を用いることができる。好ましい還元方法としては、水素化ホウ素ナトリウム、水素化アルミニウムリチウム、水素化ビス(2−メトキシエトキシ)アルミニウムナトリウム(商品名Red−Al、Vitride)等の金属水素錯化合物による方法[例えば、J.Am.Chem.Soc.,116,4135(1994)、J.Org.Chem.,26,2943(1961)、J.Org.Chem.,41,1470(1976)、J.Am.Chem.Soc.,115,8954(1993)等の文献参照。]または、水素/遷移金属触媒を用いた接触還元による方法(例えば、米国特許第2,666,797号明細書参照。)等が挙げられる。
一般式(V)で表される化合物は、一般式(II)(Rは好ましくはアルカリ金属またはアルカリ土類金属であり、より好ましくはナトリウム、カリウム)または式(III)で表される化合物の熱分解により得ることができる。熱分解の条件としては、例えばMethods of Organic Chemistry,4,Vol.10b,Part 1,p.703、J.Fluorine Chem.,94,65(1999)、J.Fluorine Chem.,123,43(2003)、J.Org.Chem.,34,1841(1969)、J.Org.Chem.,51,326(1986)等の方法を参考にすることができる。
一般式(IV)で表される化合物はアクリル酸誘導体とのエステル化反応により一般式(VI)で表される化合物へと変換することができる。アクリル酸誘導体としては、CH=CH(R)COHで表されるカルボン酸、CH=CH(R)COX(Xはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子であり、好ましくは塩素原子)で表される酸ハライド、[(CH=CH(R)CO)]Oで表される酸無水物(ここでRはいずれも一般式(VI)と同義である)等を利用することができ、一般式(IV)で表される化合物とのエステル化反応は、例えば丸善株式会社発行、日本化学会編、第4版実験化学講座22、有機合成IV、−酸・アミノ酸・ペプチド−、p.43−53に記載されているような一般的は条件下で行うことができる。
The compound represented by the general formula (III) is represented by the general formula (II) under the same conditions as those for converting the compound represented by the general formula (I) to the compound represented by the general formula (II). Can be converted to
The compound represented by the general formula (II) and the compound represented by the general formula (III) can be converted into a compound represented by the formula (IV) by a reduction reaction. As the reduction reaction, for example, published by Maruzen Co., Ltd., edited by The Chemical Society of Japan, 4th edition, Experimental Chemistry Course 26, Organic Synthesis VIII, -Asymmetric Synthesis / Reduction / Sugar / Labeled Compound- Various reduction methods such as those described in 159-266 can be used. As a preferable reduction method, a method using a metal hydride complex compound such as sodium borohydride, lithium aluminum hydride, sodium bis (2-methoxyethoxy) aluminum hydride (trade name Red-Al, Vitride) [for example, J. Org. Am. Chem. Soc. 116, 4135 (1994); Org. Chem. 26, 2943 (1961), J. Am. Org. Chem. 41, 1470 (1976); Am. Chem. Soc. 115, 8954 (1993). Or a method by catalytic reduction using a hydrogen / transition metal catalyst (for example, see US Pat. No. 2,666,797).
The compound represented by the general formula (V) is a compound represented by the general formula (II) (R 2 is preferably an alkali metal or an alkaline earth metal, more preferably sodium or potassium) or a compound represented by the formula (III) Can be obtained by thermal decomposition. As the conditions for the thermal decomposition, for example, Methods of Organic Chemistry, 4, Vol. 10b, Part 1, p. 703, J. et al. Fluorine Chem. 94, 65 (1999), J. Am. Fluorine Chem. 123, 43 (2003), J.A. Org. Chem. , 34, 1841 (1969), J. Am. Org. Chem. , 51, 326 (1986) and the like.
The compound represented by the general formula (IV) can be converted into a compound represented by the general formula (VI) by an esterification reaction with an acrylic acid derivative. Examples of acrylic acid derivatives include carboxylic acids represented by CH 2 ═CH (R 4 ) CO 2 H, CH 2 ═CH (R 4 ) COX 1 (X 1 is a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom, etc. An acid halide represented by a halogen atom, preferably a chlorine atom), an acid anhydride represented by [(CH 2 ═CH (R 4 ) CO) 2 ] O (wherein R 4 is a general formula) Esterification reaction with the compound represented by the general formula (IV) is, for example, published by Maruzen Co., Ltd., edited by The Chemical Society of Japan, 4th edition, Experimental Chemistry Course. 22, Organic Synthesis IV, -Acid / Amino Acid / Peptide-, p. General methods such as those described in 43-53 can be performed under conditions.

一般式(II)で表される本発明の2官能エステルまたは一般式(III)で表される酸フルオリドと多官能のアルコールまたはフェノール(例えば、一般式(IV)で表される本発明の2官能アルコール、エチレングリコール、1,3−プロパンジオール、ビスフェノール、ハイドロキノン等)を縮重合することにより、ポリエステルを製造することができる。ポリエステルの製造法としては、例えば丸善株式会社発行、日本化学会編、第4版実験化学講座28、高分子合成、p.217−231に記載の方法等に準じて行なうことができる。
また、一般式(II)で表される本発明の2官能のエステルまたは一般式(III)で表される酸フルオリドは多官能のアミンまたはアニリン(例えばエチレンジアミン、1,3−ジアミノプロパン、ビス(4−アミノフェニル)エーテル、4,4’−ジアミノジフェニルメタン等)と縮重合することにより、ポリアミドを製造することができる。ポリアミドの製造法としては、例えば丸善株式会社発行、日本化学会編、第4版実験化学講座28、高分子合成、p.260−277に記載の方法等に準じて行なうことができる。
さらに、一般式(IV)で表される本発明の2官能アルコールは、多官能の求電子剤(例えば、1,2−ジブロモエタン、1,3−ジブロモプロパン、4,4’−ジクロロベンゾフェノン、4,4’−ジフルオロベンゾフェノン、ビス(4−クロロフェニル)スルホン等)と縮重合することによりポリエーテルを製造することができる。ポリエーテルの製造法としては例えば丸善株式会社発行、日本化学会編、第4版実験化学講座28、高分子合成、p.185に記載されている芳香族求核置換重合の条件に準じて行うことができる。
このようにして得られるポリエステル、ポリアミド、ポリエーテル等は高いフッ素含率を有し、高光透過性や低屈折率、撥水・撥油性等、含フッ素化合物ポリマー特有の性能を有する。
Bifunctional ester of the present invention represented by general formula (II) or acid fluoride represented by general formula (III) and polyfunctional alcohol or phenol (for example, 2 of the present invention represented by general formula (IV)) A polyester can be produced by condensation polymerization of a functional alcohol, ethylene glycol, 1,3-propanediol, bisphenol, hydroquinone, or the like. Examples of the polyester production method include Maruzen Co., Ltd., edited by The Chemical Society of Japan, 4th edition, Experimental Chemistry Course 28, Polymer Synthesis, p. It can be performed according to the method described in 217-231.
The bifunctional ester of the present invention represented by the general formula (II) or the acid fluoride represented by the general formula (III) is a polyfunctional amine or aniline (for example, ethylenediamine, 1,3-diaminopropane, bis ( 4-aminophenyl) ether, 4,4′-diaminodiphenylmethane, etc.) can be subjected to polycondensation to produce polyamide. As a method for producing polyamide, for example, published by Maruzen Co., Ltd., edited by The Chemical Society of Japan, 4th edition, Experimental Chemistry Course 28, Polymer Synthesis, p. 260-277 and the like.
Furthermore, the bifunctional alcohol of the present invention represented by the general formula (IV) is a polyfunctional electrophile (for example, 1,2-dibromoethane, 1,3-dibromopropane, 4,4′-dichlorobenzophenone, 4,4′-difluorobenzophenone, bis (4-chlorophenyl) sulfone, etc.) can be subjected to polycondensation to produce a polyether. As a method for producing polyether, for example, published by Maruzen Co., Ltd., edited by The Chemical Society of Japan, 4th edition, Experimental Chemistry Course 28, Polymer Synthesis, p. 185, and can be carried out according to the conditions of aromatic nucleophilic substitution polymerization.
Polyesters, polyamides, polyethers, and the like thus obtained have a high fluorine content, and have properties specific to the fluorine-containing compound polymer such as high light transmittance, low refractive index, water repellency and oil repellency.

実施例1 Example 1

以下、本発明を実施例に基づいてさらに詳細に説明する。本発明はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail based on examples. The present invention is not limited to these examples.

以下に一般式(A)で表される化合物の具体的な製造例について説明する。
下記ルートに従い、一般式(I−1)、(II−1)、(III)、(IV)および(V)で表される化合物ならびに化合物(II−2)および化合物(VI−1)を製造した。
このうち、一般式(II−1)、(III)、(V)で表される化合物、化合物(II−2)は参考例である。
Hereinafter, specific production examples of the compound represented by the general formula (A) will be described.
According to the following route, the compounds represented by the general formulas (I-1), (II-1), (III), (IV) and (V) and the compounds (II-2) and (VI-1) are produced. did.
Among these, the compounds represented by the general formulas (II-1), (III), and (V), and the compound (II-2) are reference examples.

Figure 0005026040
Figure 0005026040

化合物2−1の製造
ヒドロキシアセトン(7.4g)およびピリジン(8.1ml)の酢酸エチル(100ml)溶液に室温(25℃)にてウンデカフルオロ(2−メチル−3−オキサヘキサン酸)フルオリド(10g)を滴下した。室温にて2時間攪拌後、反応液を希塩酸水に注加した。分液後、有機層を水および飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。濃縮残留物をカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:酢酸エチル/ヘキサン)にて精製することにより化合2−1(10.2g,収率88%)を得た。
H NMR(CDCl) δ 2.22(s,3H),4.85(d,J=16.2Hz,1H),4.96(d, J=16.2Hz,1H)
19F NMR(CDCl) δ −80.3(1F),−81.8(3F),−82.5(3F),−86.7(1F),−130.2(2F),−132.8(1F)
Preparation of Compound 2-1 Undecafluoro (2-methyl-3-oxahexanoic acid) fluoride in a solution of hydroxyacetone (7.4 g) and pyridine (8.1 ml) in ethyl acetate (100 ml) at room temperature (25 ° C.) (10 g) was added dropwise. After stirring at room temperature for 2 hours, the reaction solution was poured into dilute hydrochloric acid water. After liquid separation, the organic layer was washed with water and saturated brine, and dried over magnesium sulfate. The concentrated residue was purified by column chromatography (developing solvent: ethyl acetate / hexane) to give Compound 2-1 (10.2 g, yield 88%).
1 H NMR (CDCl 3 ) δ 2.22 (s, 3H), 4.85 (d, J = 16.2 Hz, 1H), 4.96 (d, J = 16.2 Hz, 1H)
19 F NMR (CDCl 3 ) δ-80.3 (1F), -81.8 (3F), -82.5 (3F), -86.7 (1F), -130.2 (2F), -132 .8 (1F)

化合物3−1の製造
化合物2−1(9.9g)、ペンタエリスリトール(1.74g)、p−トルエンスルホン酸一水和物(0.25g)およびトルエン(50ml)を脱水しながら4時間還流した。反応液を炭酸水素ナトリウム水溶液、水および飽和食塩水で洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥した。濃縮残留物をカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:酢酸エチル/ヘキサン)にて精製することにより化合物3−1(5.9g,収率53%)を得た。
H NMR(CDCl) δ 1.41(s, 3H),3.64〜3.85(m,4H),4.31(d,J=11.1Hz,1H),4.48(d,J=11.1Hz,1H)
19F NMR(CDCl) δ −80.2(1F),−81.7(3F),−82.5(3F),−86.8(1F),−130.1(2F),−132.3(1F)
Production of Compound 3-1 Compound 2-1 (9.9 g), pentaerythritol (1.74 g), p-toluenesulfonic acid monohydrate (0.25 g) and toluene (50 ml) were refluxed for 4 hours while dehydrating. did. The reaction mixture was washed with aqueous sodium hydrogen carbonate solution, water and saturated brine, and dried over sodium sulfate. The concentrated residue was purified by column chromatography (developing solvent: ethyl acetate / hexane) to obtain Compound 3-1 (5.9 g, yield 53%).
1 H NMR (CDCl 3 ) δ 1.41 (s, 3H), 3.64 to 3.85 (m, 4H), 4.31 (d, J = 11.1 Hz, 1H), 4.48 (d , J = 11.1Hz, 1H)
19 F NMR (CDCl 3 ) δ-80.2 (1F), -81.7 (3F), -82.5 (3F), -86.8 (1F), -130.1 (2F), -132 .3 (1F)

式(I−1)で表される化合物の製造
原料供給口、フッ素供給口、へリウムガス供給口およびドライアイスで冷却した還流装置を経由してフッ素トラップに接続されている排気口を備えた300mlテフロン(登録商標)製容器に、FC−72 180mlを入れて、内温20℃にてヘリウムガスを流速50ml/minで30分間吹き込んだ。引き続き20%F/Nガスを100ml/minで30分間吹き込んだ後、フッ素流量はそのままで、化合物3−1(4.25g)のFC−72(13.5ml)溶液およびヘキサフルオロベンゼン(1g)のFC−72(5ml)溶液をそれぞれ6.2ml/hの速度で添加した。さらに、20%F/Nガスを100ml/minで30分間およびヘリウムガスを200ml/minで30分間吹き込んだ。FC−72を常圧にて濃縮後、さらに減圧にて濃縮することにより、式(I−1)で表される化合物(5.1g,粗収率88%)がほぼ単一生成物(油状物)として得られた。
19F NMR(CDCl) δ −60.6〜64.4(m,8F), −76.7(s,6F), −79.8〜−80.0(m,1F), −80.3〜−80.6(m,1F), 82.0(m,6F), 82.1(s,6F), −83.4〜−83.8(m,4F), −86.7(bs,1F), −86.9(bs,1F), −130.2(s,4F), −132.0 (s,1F), −132.1 (s,1F)
Production of Compound Represented by Formula (I-1) 300 ml provided with a raw material supply port, a fluorine supply port, a helium gas supply port, and an exhaust port connected to a fluorine trap via a reflux device cooled with dry ice 180-ml FC-72 was put into a Teflon (registered trademark) container, and helium gas was blown at an internal temperature of 20 ° C. at a flow rate of 50 ml / min for 30 minutes. Subsequently, 20% F 2 / N 2 gas was blown at 100 ml / min for 30 minutes, and the fluorine flow rate was kept as it was, and a solution of compound 3-1 (4.25 g) in FC-72 (13.5 ml) and hexafluorobenzene ( 1 g) of FC-72 (5 ml) was added at a rate of 6.2 ml / h each. Further, 20% F 2 / N 2 gas was blown at 100 ml / min for 30 minutes and helium gas was blown at 200 ml / min for 30 minutes. After concentration of FC-72 at normal pressure and further under reduced pressure, the compound represented by the formula (I-1) (5.1 g, crude yield 88%) was almost a single product (oil Product).
19 F NMR (CDCl 3 ) δ −60.6 to 64.4 (m, 8F), −76.7 (s, 6F), −79.8 to −80.0 (m, 1F), −80. 3 to -80.6 (m, 1F), 82.0 (m, 6F), 82.1 (s, 6F), -83.4 to -83.8 (m, 4F), -86.7 ( bs, 1F), -86.9 (bs, 1F), -130.2 (s, 4F), -132.0 (s, 1F), -132.1 (s, 1F)

一般式(III)および(II−1)で表される参考例の化合物の製造
上記で得られた一般式(I−1)(5.1g)およびフッ化ナトリウム(0.06g)を100〜120℃で24時間攪拌した。この際、反応容器には水冷式冷却器を装着し、低沸点生成物は還流させた。減圧蒸留にて一般式(III)で表される化合物(0.5g,収率22%)を得た。
また、蒸留残留物にメタノール(20ml)を加え、室温にて3時間攪拌した。反応液を酢酸エチル/炭酸水素ナトリウム溶液に注加した。有機層を水および飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。濃縮残留物をカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:酢酸エチル/ヘキサン)にて精製することにより一般式(II−1)で表される化合物(1.2g,収率51%)を得た。
一般式(III): 19F NMR(CDCl) δ 30.2〜30.3(m,2F), −62.8〜−64.2(m,4F), −70.6〜−71.8(m,4F), −80.9〜−81.0(m,6F) 融点26〜28℃、沸点135℃
一般式(II−1): H NMR(CDCl) δ 3.99(s, 3H)
19F NMR(CDCl) δ −62.5〜−63.8(m,4F), −69.9〜−71.3(m,4F), −81.2(s,3F), −81.4(s,3F) 融点48〜55℃
Preparation of compounds of reference examples represented by general formulas (III) and (II-1) General formula (I-1) (5.1 g) and sodium fluoride (0.06 g) obtained above The mixture was stirred at 120 ° C. for 24 hours. At this time, a water-cooled cooler was attached to the reaction vessel, and the low boiling point product was refluxed. The compound represented by the general formula (III) (0.5 g, yield 22%) was obtained by distillation under reduced pressure.
Further, methanol (20 ml) was added to the distillation residue, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours. The reaction was poured into an ethyl acetate / sodium bicarbonate solution. The organic layer was washed with water and saturated brine, and dried over magnesium sulfate. The concentrated residue was purified by column chromatography (developing solvent: ethyl acetate / hexane) to obtain the compound represented by the general formula (II-1) (1.2 g, yield 51%).
General formula (III): 19 F NMR (CDCl 3 ) δ 30.2 to 30.3 (m, 2F), −62.8 to −64.2 (m, 4F), −70.6 to −71. 8 (m, 4F), -80.9 to -81.0 (m, 6F) Melting point: 26-28 ° C, boiling point: 135 ° C
General formula (II-1): 1 H NMR (CDCl 3 ) δ 3.99 (s, 3H)
19 F NMR (CDCl 3 ) δ −62.5 to −63.8 (m, 4F), −69.9 to −71.3 (m, 4F), −81.2 (s, 3F), −81 .4 (s, 3F) Melting point 48-55 ° C

一般式(IV)で表される化合物の製造
一般式(II−1)で表される化合物(0.28g)のジエチルエーテル(10ml)溶液にリチウムアルミニウムヒドリド(0.038g)を5℃にて添加した。室温にて4時間攪拌後、反応液に希塩酸水をゆっくり加えた。酢酸エチルで抽出後、有機層を水および飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。濃縮残留物をカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:酢酸エチル/ヘキサン)にて精製することにより式(IV)で表される化合物(0.2g,収率80%)を得た。
H NMR(CDCl) δ 2.20(bs,1H),4.21(bs,2H),
19F NMR(CDCl) δ −56.2〜−58.6(m,4F), −66.0〜−67.3(m,4F), 80.9〜81.0(m,6F) 融点106〜108℃
Manufacturing of the compound represented by the general formula (IV)
Lithium aluminum hydride (0.038 g) was added at 5 ° C. to a solution of the compound represented by the general formula (II-1) (0.28 g) in diethyl ether (10 ml). After stirring at room temperature for 4 hours, dilute aqueous hydrochloric acid was slowly added to the reaction solution. After extraction with ethyl acetate, the organic layer was washed with water and saturated brine, and dried over magnesium sulfate. The concentrated residue was purified by column chromatography (developing solvent: ethyl acetate / hexane) to obtain the compound represented by the formula (IV) (0.2 g, yield 80%).
1 H NMR (CDCl 3 ) δ 2.20 (bs, 1H), 4.21 (bs, 2H),
19 F NMR (CDCl 3 ) δ −56.2 to −58.6 (m, 4F), −66.0 to −67.3 (m, 4F), 80.9 to 81.0 (m, 6F) Melting point: 106-108 ° C

化合物(VI−1)の製造
一般式(IV)で表される化合物(3.7g)の1−メチル−2−ピロリドン(30ml)溶液に炭酸カリウム(4.8g)を加え、さらにアクリル酸クロリド(2.4ml)をゆっくり滴下した。反応液を室温にて3時間攪拌後、酢酸エチル(150ml)/希塩酸(150ml)に注加した。有機層を炭酸水素ナトリウム水溶液、水および飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。濃縮残留物をカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:酢酸エチル/ヘキサン=1/5)にて精製することにより化合物(VI−1)(3.5g,収率78%)を得た。
H NMR(CDCl) δ 4.75(s, 4H), 5.98(dd,J=10.5Hz,1.2Hz,2H), 6.16(dd,J=17.1Hz,10.5Hz,2H), 6.51(dd,J=17.1Hz,1.2Hz,2H)
19F NMR(CDCl) δ −57.0〜−58.3(m,4F), −66.1〜−67.0(m,4F), −81.2(s,3F), −81.3(s,3F) 融点34〜35℃
Production of Compound (VI-1)
Potassium carbonate (4.8 g) is added to a solution of the compound represented by the general formula (IV) (3.7 g) in 1-methyl-2-pyrrolidone (30 ml), and acrylic acid chloride (2.4 ml) is slowly added dropwise. did. The reaction solution was stirred at room temperature for 3 hours and then poured into ethyl acetate (150 ml) / dilute hydrochloric acid (150 ml). The organic layer was washed with aqueous sodium hydrogen carbonate solution, water and saturated brine, and dried over magnesium sulfate. The concentrated residue was purified by column chromatography (developing solvent: ethyl acetate / hexane = 1/5) to obtain Compound (VI-1) (3.5 g, yield 78%).
1 H NMR (CDCl 3 ) δ 4.75 (s, 4H), 5.98 (dd, J = 10.5 Hz, 1.2 Hz, 2H), 6.16 (dd, J = 17.1 Hz, 10. 5Hz, 2H), 6.51 (dd, J = 17.1 Hz, 1.2 Hz, 2H)
19 F NMR (CDCl 3 ) δ −57.0 to −58.3 (m, 4F), −66.1 to −67.0 (m, 4F), −81.2 (s, 3F), −81 .3 (s, 3F) Melting point 34-35 ° C

一般式(V)で表される参考例の化合物の製造
一般式(II−1)で表される化合物(16.2g)のメタノール(200ml)/水(40ml)溶液に室温にて8N水酸化カリウム水溶液を10ml滴下した。反応液を室温にて2時間攪拌した後、減圧にて溶媒を留去した。濃縮残渣に水30mlを加え、さらに濃塩酸水をpH試験紙で酸性を示すまで滴下した。析出した白色結晶をろ過後、水(30ml)に分散し、1N水酸化カリウム水溶液を滴下し、pH=8に調整した。反応液を減圧にて濃縮し、残渣を100℃にて真空ポンプで十分に乾燥することにより化合物(II−2)(16.5g,収率93%)を得た。得られた化合物(II−2)を減圧下(4mmHg)280℃にて熱分解し、揮発成分を−78℃のトラップで捕集した。得られた液体を減圧蒸留することにより式(V)で表される化合物(0.98g,収率74%)を得た。
19F NMR(CDCl) δ −70.7(s,8F), −111.2(s,4F)、b.p.55℃(20mmHg)
Production of compound of reference example represented by general formula (V)
To a methanol (200 ml) / water (40 ml) solution of the compound (16.2 g) represented by the general formula (II-1), 10 ml of an 8N potassium hydroxide aqueous solution was added dropwise at room temperature. The reaction solution was stirred at room temperature for 2 hours, and then the solvent was distilled off under reduced pressure. 30 ml of water was added to the concentrated residue, and further concentrated hydrochloric acid was added dropwise with a pH test paper until it showed acidity. The precipitated white crystals were filtered, dispersed in water (30 ml), and 1N aqueous potassium hydroxide solution was added dropwise to adjust pH = 8. The reaction solution was concentrated under reduced pressure, and the residue was sufficiently dried with a vacuum pump at 100 ° C. to obtain compound (II-2) (16.5 g, yield 93%). The obtained compound (II-2) was thermally decomposed at 280 ° C. under reduced pressure (4 mmHg), and volatile components were collected by a trap at −78 ° C. The obtained liquid was distilled under reduced pressure to obtain a compound represented by the formula (V) (0.98 g, yield 74%).
19 F NMR (CDCl 3 ) δ-70.7 (s, 8F), -111.2 (s, 4F), b. p. 55 ° C (20mmHg)

試験例1
化合物(VI−1)(2g)およびイルガキュア907(商品名、チバガイギ−社製の光重合開始剤)(0.1g)をメチルエチルケトンに溶解し、30質量%溶液を調製した後、孔径0.25μmのポリテトラフルオロエチレン製フィルターでろ過した。このようにして調製した硬化性樹脂組成物を、バーコーターを用いてPET基板上に塗布した。溶媒を乾燥(室温30分+120 ℃, 2分)後、窒素雰囲気下で紫外線を照射(500mJ×2回)し、さらに120 ℃で2分間加熱することにより透明な硬化樹脂塗膜を得た。
また、化合物(VI−1)を等モルの化合物(VII)、化合物(VIII)にそれぞれ置き換えた以外は全く同様にして硬化樹脂膜を作成した。
以上のようにして作成した化合物(VI−1)、(VII)又は(VIII)の硬化樹脂膜は、いずれもアモルファスポリマーからなる。
Test example 1
Compound (VI-1) (2 g) and Irgacure 907 (trade name, photopolymerization initiator manufactured by Ciba-Geigy Co., Ltd.) (0.1 g) were dissolved in methyl ethyl ketone to prepare a 30% by mass solution, and then the pore size was 0.25 μm. The solution was filtered through a polytetrafluoroethylene filter. The curable resin composition thus prepared was applied onto a PET substrate using a bar coater. The solvent was dried (room temperature 30 minutes + 120 ° C., 2 minutes), then irradiated with ultraviolet rays (500 mJ × 2 times) in a nitrogen atmosphere, and further heated at 120 ° C. for 2 minutes to obtain a transparent cured resin coating film.
A cured resin film was prepared in exactly the same manner except that the compound (VI-1) was replaced with equimolar amounts of the compound (VII) and the compound (VIII).
The cured resin films of the compound (VI-1), (VII) or (VIII) prepared as described above are all made of an amorphous polymer.

Figure 0005026040
Figure 0005026040

これらの膜の鉛筆硬度、屈折率、密着性、接触角を評価した結果を下記表1にまとめた。
なお、それぞれの評価は以下の方法に従った。
鉛筆硬度:JIS K5400に従って測定した。
屈折率:アッベ屈折計(アタゴ株式会社製)を用いて測定した。
密着性:剥離試験をJIS K5400に従って行った。(○:剥離なし、△:5%未満の剥離、×:5%以上の剥離)
接触角:純水に対する接触角を接触角計(協和界面科学株式会社製)により測定した。
耐薬品性:5%水酸化ナトリウム水溶液を0.5ml垂らし、12時間放置して拭き取った後の膜面の様子を観察した。(○:変化なし、△:やや変化が認められた、×:大きな変化が認められた。)
The results of evaluating the pencil hardness, refractive index, adhesion, and contact angle of these films are summarized in Table 1 below.
In addition, each evaluation followed the following method.
Pencil hardness: Measured according to JIS K5400.
Refractive index: Measured using an Abbe refractometer (manufactured by Atago Co., Ltd.).
Adhesion: A peel test was performed according to JIS K5400. (○: no peeling, Δ: peeling less than 5%, x: peeling more than 5%)
Contact angle: The contact angle with respect to pure water was measured with a contact angle meter (manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.).
Chemical resistance: 0.5 ml of 5% aqueous sodium hydroxide solution was dropped, and the state of the film surface after wiping for 12 hours was observed. (○: No change, Δ: Some change was observed, ×: Large change was observed.)

Figure 0005026040
Figure 0005026040

上記表1の結果から、比較例の化合物(VII)を用いたポリマーは屈折率が大きく、接触角が著しく小さく撥水性が劣り、耐薬品性が十分でない。また比較例の化合物(VIII)を用いたポリマーは、密着性が十分でない。これに対し本発明の化合物(VI−1)を用いたポリマーは鉛筆硬度、屈折率、密着性、接触角、耐薬品性のいずれも優れる。   From the results of Table 1, the polymer using the compound (VII) of Comparative Example has a large refractive index, a remarkably small contact angle, inferior water repellency, and insufficient chemical resistance. Moreover, the polymer using the compound (VIII) of the comparative example does not have sufficient adhesion. On the other hand, the polymer using the compound (VI-1) of the present invention is excellent in pencil hardness, refractive index, adhesion, contact angle, and chemical resistance.

参考例1
一般式(V)で表される化合物0.5gおよびパーフルオロベンゾイルパーオキサイド6mgの混合物を窒素バブリングにより十分に脱酸素し、密閉下30℃にて3日間放置した。得られた固体をろ過し、アセトンにて洗浄後、乾燥することにより白色のポリマー(0.2g,m.p.300℃以上)を得た。この白色ポリマーをエステル油に1質量%添加して、Falex Corporation製のFALEX摩擦試験機(条件:80℃、250lb、1時間)によりピン摩耗量の測定を行うと、本ポリマー無添加の場合と比べて大幅な摩耗量の低減が認められる。
Reference example 1
A mixture of 0.5 g of the compound represented by the general formula (V) and 6 mg of perfluorobenzoyl peroxide was sufficiently deoxygenated by nitrogen bubbling and allowed to stand at 30 ° C. for 3 days under sealing. The obtained solid was filtered, washed with acetone, and dried to obtain a white polymer (0.2 g, mp 300 ° C. or higher). When 1% by mass of this white polymer was added to ester oil, and the pin wear amount was measured with a FALEX friction tester (conditions: 80 ° C., 250 lb, 1 hour) manufactured by Falex Corporation, In comparison with this, a significant reduction in the amount of wear is observed.

Claims (10)

下記一般式(A)で表される含フッ素スピロ環状アセタール化合物。
Figure 0005026040
式中、Xは、>C(CF)(Y)を表す。ここでYは、−CFOCOR たは−CHORを表し、Rは少なくとも1つのフッ素原子を有する、アルキル基またはシクロアルキル基を表し、R は水素原子またはアシル基を表す。Rにおけるアルキル基もしくはシクロアルキル基は、フッ素原子以外に置換基を有してもよく、またRにおけるアシル基は置換基を有してもよい。
The fluorine-containing spiro cyclic acetal compound represented by the following general formula (A).
Figure 0005026040
In the formula, X represents> C (CF 3 ) (Y ) . Wherein Y is, -CF 2 OCOR was 1 or represents -CH 2 OR 3, R 1 has at least one fluorine atom, an alkyl group or a cycloalkyl group, an R 3 is a hydrogen atom or an acyl group To express. Alkyl group or cycloalkyl group for R 1 may have a substituent other than a fluorine atom, an acyl group at or R 3 may have a substituent.
前記一般式(A)で表される化合物が、下記一般式(I)または(IV)のいずれかで表される請求項1に記載の含フッ素スピロ環状アセタール化合物。
Figure 0005026040
式中、Rは少なくとも1つのフッ素原子を有する、アルキル基またはシクロアルキル基を表す。Rにおけるアルキル基もしくはシクロアルキル基は、フッ素原子以外に置換基を有してもよい
The fluorine-containing spiro cyclic acetal compound of Claim 1 by which the compound represented by the said general formula (A) is represented by either the following general formula (I ) or ( IV).
Figure 0005026040
In the formula, R 1 represents an alkyl group or a cycloalkyl group having at least one fluorine atom. The alkyl group or cycloalkyl group in R 1 may have a substituent in addition to the fluorine atom.
記R がペルフルオロアルキル基であることを特徴とする請求項1または2に記載の含フッ素スピロ環状アセタール化合物。 Fluorinated spirocyclic acetal compound according to claim 1 or 2 before Symbol R 1 is characterized in that it is a perfluoroalkyl group. 下記一般式(IV)または(VI)のいずれかで表される含フッ素スピロ環状アセタール化合物。The fluorine-containing spiro cyclic acetal compound represented by either the following general formula (IV) or (VI).
Figure 0005026040
Figure 0005026040
式中、RWhere R 4 は水素原子、フッ素原子、メチル基またはトリフルオロメチル基を表す。Represents a hydrogen atom, a fluorine atom, a methyl group or a trifluoromethyl group.
下記一般式(IV)で表される含フッ素スピロ環状アセタール化合物。A fluorine-containing spiro cyclic acetal compound represented by the following general formula (IV).
Figure 0005026040
Figure 0005026040
下記一般式(VI)で表される含フッ素ジアクリレート化合物。
Figure 0005026040
式中、Rは水素原子、フッ素原子、メチル基またはトリフルオロメチル基を表す。
A fluorine-containing diacrylate compound represented by the following general formula (VI).
Figure 0005026040
In the formula, R 4 represents a hydrogen atom, a fluorine atom, a methyl group or a trifluoromethyl group.
前記RR 4 が水素原子であることを特徴とする請求項6に記載の含フッ素スピロ環状アセタール化合物。Is a hydrogen atom, The fluorine-containing spiro cyclic acetal compound of Claim 6 characterized by the above-mentioned. 下記式(I−1)で表されるペルフルオロエステル化合物。
Figure 0005026040
A perfluoroester compound represented by the following formula (I-1).
Figure 0005026040
ヒドロキシアセトンからアシルオキシアセトンを合成する工程、該工程で得られたアシルオキシアセトンペンタエリスリトールと脱水縮合する工程、該脱水縮合で得られた化合物をフッ素化する工程を含むことを特徴とする下記一般式(A’)で表される含フッ素スピロ環状アセタール化合物の製造方法。
Figure 0005026040
式中、Xは、>C(CF)(Y)を表す。ここでYは、−CFOCOR 表し、Rは少なくとも1つのフッ素原子を有する、アルキル基またはシクロアルキル基を表す。R におけるアルキル基もしくはシクロアルキル基は、フッ素原子以外に置換基を有してもよい。
The following general formula, which comprises a step of the fluorination step, the acyloxyalkyl acetone obtained in about該工 pentaerythritol step of dehydration condensation, a compound obtained by dehydration condensation of synthesizing acyloxyalkyl acetone hydroxyacetone The manufacturing method of the fluorine-containing spiro cyclic acetal compound represented by (A ') .
Figure 0005026040
In the formula, X represents> C (CF 3 ) (Y ) . Wherein Y represents -CF 2 OCOR 1, R 1 has at least one fluorine atom, to display the alkyl group or a cycloalkyl group. Alkyl group or cycloalkyl group for R 1 is, but it may also have a substituent other than a fluorine atom.
請求項9に記載の方法で得られた前記一般式(A’)で表される化合物を酸フルオライド化後、またはエステル化後、に還元する工程を含むことを特徴とする下記一般式(A”)表される含フッ素スピロ環状アセタール化合物の製造方法。The compound represented by the general formula (A ′) obtained by the method according to claim 9 is reduced to an acid fluoride or esterified, and then the following general formula (A ") The manufacturing method of the fluorine-containing spiro cyclic acetal compound represented.
Figure 0005026040
Figure 0005026040
式中、Xは、>C(CFWhere X is> C (CF 3 )(Y)を表す。ここでYは、−CH) (Y). Where Y is -CH 2 OROR 3 を表し、RRepresents R 3 は水素原子またはアシル基を表す。RRepresents a hydrogen atom or an acyl group. R 3 におけるアシル基は置換基を有してもよい。The acyl group in may have a substituent.
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