JP5013578B2 - Multi-beam light source unit, optical scanning device, and image forming apparatus - Google Patents
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Description
本発明は、マルチビーム光源ユニット、光走査装置及び画像形成装置に係り、更に詳しくは、複数のビームを出射するマルチビーム光源ユニット、該マルチビーム光源ユニットからの光を用いて被走査面上を走査する光走査装置及び該光走査装置を備えた画像形成装置に関する。 The present invention relates to a multi-beam light source unit, an optical scanning device, and an image forming apparatus. More specifically, the present invention relates to a multi-beam light source unit that emits a plurality of beams and a surface to be scanned using light from the multi-beam light source unit. The present invention relates to an optical scanning device that scans and an image forming apparatus including the optical scanning device.
レーザプリンタやデジタル複写機などの画像形成装置では、画像情報に応じて変調された光源からの光を光偏向器及び走査レンズなどを介して感光体上に集光させるとともに、感光体上を所定の方向(主走査方向)に走査させ、感光体上に潜像(静電潜像)を形成している。そして、その潜像にトナーを付着させることにより、画像情報を顕像化させている。 In an image forming apparatus such as a laser printer or a digital copying machine, light from a light source modulated in accordance with image information is condensed on a photoconductor via an optical deflector, a scanning lens, and the like, and the photoconductor is predetermined on the photoconductor. And a latent image (electrostatic latent image) is formed on the photosensitive member. Then, the image information is visualized by attaching toner to the latent image.
近年、画像形成装置の印字速度の向上、及び書込密度の向上が望まれている。それらの要求を達成する1つの方法として、画像形成装置の一部を構成する光走査装置の光偏向器における偏向速度の高速化がある。しかしながら、この方法には、高速回転に伴う騒音や熱等の問題があり、偏向速度の高速化には限界がある。そこで、1度に複数の光ビームを出射できるマルチビーム光源ユニットを利用して、1度に複数の光ビームを走査させる方法が考案された。 In recent years, it has been desired to improve the printing speed and writing density of image forming apparatuses. One way to achieve these requirements is to increase the deflection speed of the optical deflector of the optical scanning device that forms part of the image forming apparatus. However, this method has problems such as noise and heat accompanying high-speed rotation, and there is a limit to increasing the deflection speed. Therefore, a method of scanning a plurality of light beams at a time using a multi-beam light source unit capable of emitting a plurality of light beams at a time has been devised.
上記マルチビーム光源ユニットは、複数の光ビームを発生するレーザアレイ光源(1つのパッケージ内に複数の発光点を持つレーザアレイを用いた光源)を用いることで実現できる。しかしながら、レーザアレイ光源は、製造プロセス上、発光点数を4,8,・・・と増やしていくにつれて技術的難易度が高くなり、非常に高価となる。 The multi-beam light source unit can be realized by using a laser array light source (a light source using a laser array having a plurality of light emitting points in one package) that generates a plurality of light beams. However, the laser array light source increases in technical difficulty and becomes very expensive as the number of light emitting points is increased to 4, 8,.
一方、従来のシングルビーム光源(1つのパッケージ内に1つの発光点を持つレーザを用いた光源)を複数個用いて、マルチビーム光源ユニットとすることが多数提案されている。シングルビーム光源は低コストで大量生産されており、例えば4個のシングルビーム光源と、4つの発光点を持つレーザアレイ光源とでは、前者の方がコスト的に優位である。 On the other hand, many proposals have been made for a multi-beam light source unit using a plurality of conventional single beam light sources (light sources using a laser having one light emitting point in one package). Single beam light sources are mass-produced at a low cost. For example, in the case of four single beam light sources and a laser array light source having four light emitting points, the former is superior in cost.
ところで、マルチビーム光源ユニットを複数のシングルビーム光源を用いて構成するためには、各光源からの光ビームを同一方向の光軸に合わせることが必要となり、そのための光学素子(いわゆるビーム合成素子)が種々提案されている(例えば、特許文献1及び特許文献2参照)。特許文献1には、ビーム合成素子としてハーフミラーを用いたマルチビーム走査装置が開示されている。特許文献2には、ビーム合成素子として偏光ビームスプリッタを用いたマルチ光ビーム走査光学装置が開示されている。
By the way, in order to construct a multi-beam light source unit using a plurality of single beam light sources, it is necessary to align the light beam from each light source with the optical axis in the same direction, and an optical element for that purpose (so-called beam synthesis element) Have been proposed (see, for example,
しかしながら、特許文献1及び特許文献2に開示されている装置では、ハーフミラー及び偏光ビームスプリッタの特性上、これらに入射する2つの光ビームの入射方向は互いに90度異なることが必要とされるため、マルチビーム光源ユニットの設計が制限され、小型化に悪影響を及ぼすおそれがあった。また、偏光ビームスプリッタでは、三角プリズムが薄膜を介して接合されており、この薄膜は設計された波長及び入射角において用いられる場合には高い特性を示すが、設計値からずれたときの特性劣化が大きいという欠点を持っている。また、偏光ビームスプリッタはその形が示すように製造工程も多く高価な光学素子である。
However, in the apparatuses disclosed in
本発明は、かかる事情の下になされたもので、その第1の目的は、大型化及び高コスト化を招くことなく、複数の光ビームを安定して出射することができるマルチビーム光源ユニットを提供することにある。 The present invention has been made under such circumstances, and a first object of the present invention is to provide a multi-beam light source unit capable of stably emitting a plurality of light beams without causing an increase in size and cost. It is to provide.
また、本発明の第2の目的は、大型化及び高コスト化を招くことなく、精度良く、複数の光を用いて被走査面上を走査することができる光走査装置を提供することにある。 A second object of the present invention is to provide an optical scanning device capable of scanning a surface to be scanned with a plurality of lights with high accuracy without causing an increase in size and cost. .
また、本発明の第3の目的は、大型化及び高コスト化を招くことなく、高品質の画像を高速で形成することができる画像形成装置を提供することにある。 A third object of the present invention is to provide an image forming apparatus capable of forming a high-quality image at high speed without causing an increase in size and cost.
本発明は、第1の観点からすると、偏光方向が互いに異なる光ビームを出射する第1の光源及び第2の光源を含む複数の光源と;前記第1の光源から出射された光ビームを整形する第1の光学系と;前記第2の光源から出射された光ビームを偏向する偏向光学素子と;前記偏向光学素子で偏向された光ビームを整形する第2の光学系と;前記第1の光学系を介した光ビームと第2の光学系を介した光ビームとが入射され、前記第1の光学系を介した光ビームの少なくとも一部及び前記第2の光学系を介した光ビームの少なくとも一部を互いに同一方向に出射する偏光回折素子と;を備え、前記偏向光学素子は、回折光学素子であり、前記偏光回折素子から出射される前記第2の光学系を介した光ビームの少なくとも一部の出射方向は、該光ビームの波長に依存しないマルチビーム光源ユニットである。 The present invention is, to a first aspect, the plurality of light sources and including a first light source and second light source polarization direction for emitting different light beams; a light beam emitted from the first light source A first optical system for shaping; a deflection optical element for deflecting a light beam emitted from the second light source; a second optical system for shaping a light beam deflected by the deflection optical element; The light beam that has passed through the first optical system and the light beam that has passed through the second optical system are incident, and at least a part of the light beam that has passed through the first optical system and the second optical system. A polarization diffractive element that emits at least part of the light beam in the same direction, and the deflection optical element is a diffractive optical element via the second optical system that is emitted from the polarization diffractive element The emission direction of at least part of the light beam A multi-beam light source unit that is independent of the wavelength of the beam.
これによれば、大型化及び高コスト化を招くことなく、複数の光ビームを安定して出射することが可能となる。 According to this, without causing large-scale and high cost, it is possible to stably emitting a plurality of light beams.
本発明は、第2の観点からすると、偏光方向が互いに等しい光ビームを出射する第1の光源及び第2の光源を含む複数の光源と;前記第1の光源から出射された光ビームを整形する第1の光学系と;前記第2の光源から出射された光ビームを偏向する偏向光学素子と;前記偏向光学素子で偏向された光ビームを整形する第2の光学系と;前記第1の光学系を介した光ビームと第2の光学系を介した光ビームとが入射され、前記第1の光学系を介した光ビームの少なくとも一部及び前記第2の光学系を介した光ビームの少なくとも一部を互いに同一方向に出射する偏光回折素子と;前記第1の光源と前記偏光回折素子との間の光路上、あるいは前記第2の光源と前記偏光回折素子との間の光路上に配置され、前記偏光回折素子に入射する2つの光ビームの偏光方向が互いに異なるように、入射光の偏光方向を変更する第3の光学系と;を備え、前記偏向光学素子は、回折光学素子であり、前記偏光回折素子から出射される前記第2の光学系を介した光ビームの少なくとも一部の出射方向は、該光ビームの波長に依存しないマルチビーム光源ユニットである。 The present invention is, to a second aspect, the plurality of light sources and including a first light source and second light source whose polarization direction is emitted mutually equal light beam; an optical beam emitted from the first light source A first optical system for shaping; a deflection optical element for deflecting a light beam emitted from the second light source; a second optical system for shaping a light beam deflected by the deflection optical element; The light beam that has passed through the first optical system and the light beam that has passed through the second optical system are incident, and at least a part of the light beam that has passed through the first optical system and the second optical system. A polarization diffraction element that emits at least a part of the light beam in the same direction; on an optical path between the first light source and the polarization diffraction element, or between the second light source and the polarization diffraction element Two light incident on the polarization diffraction element are disposed on the optical path. Beam polarization direction different from each other, and a third optical system for changing the polarization direction of the incident light; wherein the deflecting optical element is a diffractive optical element, said first emitted from the polarization diffraction element The emission direction of at least a part of the light beam via the second optical system is a multi-beam light source unit that does not depend on the wavelength of the light beam .
これによれば、大型化及び高コスト化を招くことなく、複数の光ビームを安定して出射することが可能となる。 According to this, without causing large-scale and high cost, it is possible to stably emitting a plurality of light beams.
本発明は、第3の観点からすると、画像情報が含まれる複数の光ビームを偏向器で偏向しつつ被走査面上を走査する光走査装置において、前記複数の光ビームは、少なくとも1つの本発明のマルチビーム光源ユニットから出射される複数の光ビームであることを特徴とする光走査装置である。 According to a third aspect of the present invention, in the optical scanning apparatus that scans a surface to be scanned while deflecting a plurality of light beams including image information by a deflector, the plurality of light beams includes at least one book. An optical scanning device comprising a plurality of light beams emitted from the multi-beam light source unit of the invention.
これによれば、少なくとも1つの本発明のマルチビーム光源ユニットを備えているため、結果として、大型化及び高コスト化を招くことなく、精度良く、複数の光を用いて被走査面上を走査することが可能となる。 According to this, since at least one multi-beam light source unit of the present invention is provided, as a result, the surface to be scanned is scanned with a plurality of lights with high accuracy without causing an increase in size and cost. It becomes possible to do.
本発明は、第4の観点からすると、少なくとも1つの走査対象物と;前記少なくとも1つの走査対象物に対して複数の光ビームを走査する少なくとも1つの本発明の光走査装置と;前記少なくとも1つの走査対象物に形成された像を転写対象物に転写する転写装置と;を備える画像形成装置である。 According to a fourth aspect of the present invention, at least one scanning object; at least one optical scanning device of the present invention that scans a plurality of light beams with respect to the at least one scanning object; And a transfer device that transfers an image formed on one scanning object to the transfer object.
これによれば、少なくとも1つの本発明の光走査装置を備えているため、結果として、大型化及び高コスト化を招くことなく、高品質の画像を高速で形成することが可能となる。 According to this, since at least one optical scanning device of the present invention is provided, as a result, it is possible to form a high-quality image at a high speed without causing an increase in size and cost.
以下、本発明の一実施形態を図1〜図12に基づいて説明する。図1には、本発明の一実施形態に係る画像形成装置としてのレーザプリンタ100の概略構成が示されている。
Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 1 shows a schematic configuration of a
図1に示されるレーザプリンタ100は、光走査装置900、走査対象物としての感光体ドラム901、帯電チャージャ902、現像ローラ903、トナーカートリッジ904、クリーニングブレード905、給紙トレイ906、給紙コロ907、レジストローラ対908、転写チャージャ911、定着ローラ909、排紙ローラ912、及び排紙トレイ910などを備えている。
A
帯電チャージャ902、現像ローラ903、転写チャージャ911及びクリーニングブレード905は、それぞれ感光体ドラム901の表面近傍に配置されている。そして、感光体ドラム901の回転方向に関して、帯電チャージャ902→現像ローラ903→転写チャージャ911→クリーニングブレード905の順に配置されている。
The
感光体ドラム901の表面には、感光層が形成されている。ここでは、感光体ドラム901は、図1における面内で時計回り(矢印方向)に回転するようになっている。
A photosensitive layer is formed on the surface of the
帯電チャージャ902は、感光体ドラム901の表面を均一に帯電させる。
The
光走査装置900は、帯電チャージャ902で帯電された感光体ドラム901の表面に、上位装置(例えばパソコン)からの画像情報に基づいて変調された光を照射する。これにより、感光体ドラム901の表面では、光が照射された部分だけ電荷が消失し、画像情報に対応した潜像が感光体ドラム901の表面に形成される。ここで形成された潜像は、感光体ドラム901の回転に伴って現像ローラ903の方向に移動する。ところで、感光体ドラム901の長手方向(回転軸に沿った方向)は「主走査方向」と呼ばれ、感光体ドラム901の回転方向は「副走査方向」と呼ばれている。また、感光体ドラム901における走査開始位置から走査終了位置までの主走査方向の走査領域のうち、潜像が形成される領域を「有効画像形成領域」ともいう。なお、この光走査装置900の構成については後述する。
The
トナーカートリッジ904にはトナーが格納されており、該トナーは現像ローラ903に供給される。このトナーカートリッジ904内のトナー量は、電源投入時や印刷終了時などにチェックされ、残量が少ないときには不図示の表示部に交換を促すメッセージが表示される。
The
現像ローラ903は、回転に伴ってその表面にトナーカートリッジ904から供給されたトナーが帯電されて薄く均一に付着される。また、この現像ローラ903には、感光体ドラム901における帯電している部分(光が照射されなかった部分)と帯電していない部分(光が照射された部分)とで互いに逆方向の電界が生じるような電圧が印加されている。そして、この電圧によって、現像ローラ903の表面に付着しているトナーは、感光体ドラム901の表面の光が照射された部分にだけ付着する。すなわち、現像ローラ903は、感光体ドラム901の表面に形成された潜像にトナーを付着させて画像情報を顕像化させる。ここでトナーが付着された潜像は、感光体ドラム901の回転に伴って転写チャージャ911の方向に移動する。
As the developing
給紙トレイ906には転写対象物としての記録紙913が格納されている。この給紙トレイ906の近傍には給紙コロ907が配置されており、該給紙コロ907は、記録紙913を給紙トレイ906から1枚づつ取り出し、レジストローラ対908に搬送する。該レジストローラ対908は、転写ローラ911の近傍に配置され、給紙コロ907によって取り出された記録紙913を一旦保持するとともに、該記録紙913を感光体ドラム901の回転に合わせて感光体ドラム901と転写チャージャ911との間隙に向けて送り出す。
A
転写チャージャ911には、感光体ドラム901の表面上のトナーを電気的に記録紙913に引きつけるために、トナーとは逆極性の電圧が印加されている。この電圧により、感光体ドラム901の表面の潜像が記録紙913に転写される。ここで転写された記録紙913は、定着ローラ909に送られる。
A voltage having a polarity opposite to that of the toner is applied to the
この定着ローラ909では、熱と圧力とが記録紙913に加えられ、これによってトナーが記録紙913上に定着される。ここで定着された記録紙913は、排紙ローラ912を介して排紙トレイ910に送られ、排紙トレイ910上に順次スタックされる。
In the fixing
クリーニングブレード905は、感光体ドラム901の表面に残ったトナー(残留トナー)を除去する。なお、除去された残留トナーは、再度利用されるようになっている。残留トナーが除去された感光体ドラム901の表面は、再度帯電チャージャ902の位置に戻る。
The
次に、前記光走査装置900の構成及び作用について図2を用いて説明する。
Next, the configuration and operation of the
この光走査装置900は、光源ユニットLU、シリンドリカルレンズ14、光偏向器15、2枚の走査結像レンズ17、同期センサ18、反射ミラー19、及び処理装置(図2では図示省略)などを備えている。
The
光源ユニットLUは、一例として図3に示されるように、2つのシングルビーム光源(LD1、LD2)、2つのレンズ(1、4)、偏光光学素子2、回折光学素子3、及びλ/2板5などを有している。ここでは、一例として各シングルビーム光源は、いずれもTM偏光の光を出射するものとする(図4参照)。
As shown in FIG. 3 as an example, the light source unit LU includes two single beam light sources (LD1, LD2), two lenses (1, 4), a polarizing
レンズ1は、シングルビーム光源LD1から出射された光を略平行光に整形する。λ/2板5は、レンズ1からの光に1/2波長の光学的位相差を付与する。従って、λ/2板5を通過した光はTE偏光となる。回折光学素子3は、シングルビーム光源LD2から出射された光を偏向する。レンズ2は、回折光学素子3からの光を略平行光に整形する。偏光光学素子2は、λ/2板5からの光及びレンズ2からの光を互いに同一方向の光軸に合わせる。なお、偏光光学素子2によって合成されない不要な光は、感光体ドラム901上に光スポットを形成しないように、光走査装置内及び光走査装置外の少なくとも一方において遮光されている。
The
すなわち、シングルビーム光源LD1から出射され、レンズ1、λ/2板5、及び偏光光学素子2を介した光(以下、便宜上「第1光ビーム」ともいう)と、シングルビーム光源LD2から出射され、回折光学素子3、レンズ4、及び偏光光学素子2を介した光(以下、便宜上「第2光ビーム」ともいう)とが、光源ユニットLUから出射される。なお、第1光ビーム及び第2光ビームは、感光体ドラム901の表面において副走査方向に所定の間隔で集光されるように、略同一方向に出射される。
That is, the light emitted from the single beam light source LD1 and emitted from the
偏光光学素子2は、一例として図5に示されるように、構造複屈折を発現する回折格子を有している。構造複屈折は、屈折率の異なる2つの媒質(例えば、一方が空気で、他方が等方性媒質)が、SWS(Subwavelength Structure;サブ波長構造)とも呼ばれる、入射光の波長よりも小さい周期構造をなしている回折格子で発現する。また、構造複屈折は、上記2つの媒質が、入射光の波長程度からその数倍以下の周期構造、いわゆる共鳴領域の周期構造(共鳴構造)をなしている回折格子においても発現することが知られている。
As an example, the polarizing
そこで、偏光光学素子2の回折格子は、サブ波長構造又は共鳴構造の回折格子である。
Therefore, the diffraction grating of the polarizing
そして、回折効率は、回折格子のフィルファクタfや深さDで制御することが可能である。なお、実際上では、ミリオーダーの厚さDsの基板(例えば、ガラス基板)に対して、回折格子の周期Λ及び深さDはマイクロメートルオーダーであり、図5では回折格子が誇張して図示されている。 The diffraction efficiency can be controlled by the fill factor f and depth D of the diffraction grating. In practice, the period Λ and the depth D of the diffraction grating are on the order of micrometers with respect to a substrate having a thickness Ds of millimeter order (for example, a glass substrate), and the diffraction grating is exaggerated in FIG. Has been.
偏光光学素子2の光学特性について図5及び図6を用いて説明する。一例として、波長λ=0.633μm、基板の屈折率N=1.456、周期Λ=1.5λ、フィルファクタf=0.2、深さD=2.2μm、入射光の入射角θ=19.5°、とし、平面波が入射されたときの、回折角を格子方程式に基づいて求めると、θ0=13.2°、θ−1=−13.2°となる。そして、基板裏面での屈折を考慮すると、0次透過光(0T)の出射角θ´=19.5°となり、−1次回折光(−1T)の出射角θ"=−19.5°となる。次に、ベクトル回折理論に基づくフーリエモード法を用いて透過光の回折効率を計算した結果、0次透過光(0T)に対して、TE偏光(紙面に垂直)が入射したときの回折効率は76.1%、TM偏光(紙面に平行)が入射したときの回折効率は0.4%となり、消光比は76.1/0.4=190である。また、−1次回折光(−1T)に対して、TM偏光が入射したときの回折効率は89.7%、TE偏光が入射したときの回折効率は1.2%となり、消光比は75である。なお、実際には、各シングルビーム光源から出射される光はガウシアン分布を持ち、本実施形態では発散光束中に偏光光学素子2が配置されるため、上記の回折効率とは若干異なるが、それほど大きな差はない。
The optical characteristics of the polarizing
すなわち、偏光光学素子2は、TE偏光が入射した場合には、そのほとんどを0次光(0T)として透過させ、TM偏光が入射した場合には、そのほとんどを−1次光(−1T)として回折する偏光依存性の回折素子として振る舞うことが分かる。従って、図7に示されるように、この偏光光学素子2に、入射角θa=19.5°でTE偏光を入射し、入射角θb=−19.5°でTM偏光を入射すれば、TE偏光及びTM偏光は、いずれも出射角θc=19.5°で偏光光学素子2から出射されることになる。
That is, when TE polarized light is incident, the polarization
ところで、シングルビーム光源LD2から出射される光ビームの波長が変化すると、回折光学素子3での回折角が変化する(図8参照)。この回折光学素子3での回折角の変化は、光源ユニットLUから出射される第2光ビームの出射方向の変化を招来する。そこで、本実施形態では、偏光光学素子2と回折光学素子3と適切に組み合わせることによって、光源ユニットLUから出射される第2光ビームの出射方向が、シングルビーム光源LD2から出射される光ビームの波長に依存しないようにしている。これについて、図9を用いて以下に説明する。なお、ここでは、わかりやすくするために、回折光学素子3を薄肉の回折格子とし、入射側及び出射側の屈折率は1とする。また、偏光光学素子2と回折光学素子3とは、互いに平行となるように配置されている。
By the way, when the wavelength of the light beam emitted from the single beam light source LD2 changes, the diffraction angle in the diffractive
先ず、偏光光学素子2と回折光学素子3との間にレンズ4がない場合を考える。回折光学素子3に入射するシングルビーム光源LD2からの光の入射角をθ2、出射角をθ2´、回折光学素子3での回折次数をm2、回折格子の格子周期をΛ2、偏光光学素子2に入射する回折光学素子3からの光の入射角をθ1、出射角をθ1´、偏光光学素子2での回折次数をm1、回折格子の格子周期をΛ1、とする。シングルビーム光源LD2から出射される光の波長をλとしたときの格子方程式は、次の(1)式及び(2)式で示される。
First, consider a case where there is no
sinθ1+m1λ/Λ1=sinθ1´ ……(1)
sinθ2+m2λ/Λ2=sinθ2´ ……(2)
sinθ1 + m1λ / Λ1 = sinθ1 '(1)
sinθ2 + m2λ / Λ2 = sinθ2 '(2)
光源LD2から出射される光の波長がλ"に変化すると、回折光学素子3における出射角はθ2"に変化し、偏光光学素子2への入射角もθ1"に変化する。この場合であっても、偏光光学素子2における出射角を変化させないためには、次の(3)式及び(4)式の格子方程式が満足するように、m1、m2、Λ1、及びΛ2を設定すれば良い。
When the wavelength of the light emitted from the light source LD2 changes to λ ″, the emission angle at the diffractive
sinθ1"+m1λ"/Λ1=sinθ1´ ……(3)
sinθ2+m2λ"/Λ2=sinθ2" ……(4)
sinθ1 "+ m1λ" / Λ1 = sinθ1 '(3)
sinθ2 + m2λ "/ Λ2 = sinθ2" (4)
ここでは、偏光光学素子2と回折光学素子3とが互いに平行であり、θ1=θ2´であるので、上記(1)式と(2)式から、次の(5)式が得られる。
Here, since the polarizing
sinθ2+λ(m1/Λ1+m2/Λ2)=sinθ1´ ……(5) sinθ2 + λ (m1 / Λ1 + m2 / Λ2) = sinθ1 '(5)
同様に、θ1"=θ2"であるので、上記(3)式と(4)式から、次の(6)式が得られる。 Similarly, since θ1 ″ = θ2 ″, the following equation (6) is obtained from the above equations (3) and (4).
sinθ2+λ"(m1/Λ1+m2/Λ2)=sinθ1´ ……(6) sinθ2 + λ "(m1 / Λ1 + m2 / Λ2) = sinθ1 '(6)
上記(5)式と(6)式から、次の(7)式が満たされると、光源LD2から出射される光の波長に関係なく、θ1´=θ2となる。すなわち、光源LD2から出射される光の波長が変化しても、偏光光学素子2における第2光ビームの出射方向が変化しないようにすることができる。
From the above formulas (5) and (6), when the following formula (7) is satisfied, θ1 ′ = θ2 regardless of the wavelength of the light emitted from the light source LD2. That is, even if the wavelength of the light emitted from the light source LD2 changes, the emission direction of the second light beam in the polarizing
m1/Λ1+m2/Λ2=0 ……(7) m1 / Λ1 + m2 / Λ2 = 0 (7)
次に、偏光光学素子2と回折光学素子3との間にレンズ4がある場合を考える。主光線を考えれば、上記(1)式及び(2)式はレンズ4の焦点距離に関わらず成り立つ。なお、発散光中にあるので、主光線以外については厳密には成立しないが、レンズ4によって光線方向や収差が補正されるので大きな違いはない。光源LD2から出射される光の波長がλからλ"に変化すると、上記(4)式はそのまま成り立つ。そして、レンズ4に依存して、偏光光学素子2への入射角がθ1からψに変化しても、偏光光学素子2における第2光ビームの出射方向を変化させないためには、上記(4)式と次の(8)の格子方程式が満足されるように、m1、m2、Λ1、及びΛ2を設定すれば良い。
Next, consider a case where the
sinψ+m1λ"/Λ1=sinθ1´ ……(8) sinψ + m1λ "/ Λ1 = sinθ1 '(8)
ここでは、偏光光学素子2と回折光学素子3とが互いに平行であり、θ1=θ2´であるので、上記(5)式が得られ、これと、上記(4)式及び(8)式とから、次の(9)式が得られる。
Here, since the polarizing
(sinθ2" −m2λ"/Λ2)+λ(m1/Λ1+m2/Λ2)=sinψ+m1λ"/Λ1 ……(9) (Sinθ2 "-m2λ" / Λ2) + λ (m1 / Λ1 + m2 / Λ2) = sinψ + m1λ "/ Λ1 (9)
上記(9)式を変形すると、次の(10)式となる。 When the above equation (9) is modified, the following equation (10) is obtained.
sinθ2"−sinψ=(λ"−λ)(m1/Λ1+m2/Λ2) ……(10) sinθ2 "-sinψ = (λ" -λ) (m1 / Λ1 + m2 / Λ2) (10)
すなわち、上記(10)式が満足されるように、m1、m2、Λ1、及びΛ2を設定すれば良い。ところで、m2/Λ2が与えられれば、λからλ"への波長変動に対してθ2"が求まる。レンズ4は固定されているので、θ2"に対するψが求まる。よって、m1/Λ1も決まることになる。なお、ここでθ1=θ2´であるが、偏光光学素子2と回折光学素子3とが平行でなくても、偏光光学素子2における第2光ビームの出射方向を変化させないための条件を求めることは可能である。
That is, m1, m2, Λ1, and Λ2 may be set so that the above expression (10) is satisfied. By the way, if m2 / Λ2 is given, θ2 ″ can be obtained with respect to the wavelength variation from λ to λ ″. Since the
一般的に、(λ"−λ)に対して(sinθ2"−sinψ)は比例的に変化しないが、実際の波長変動(数nm程度の波長変動)領域では、(λ"−λ)と(sinθ2"−sinψ)との間に比例関係が成り立つとみなすことができる。 In general, (sinθ2 "-sinψ) does not change proportionally with respect to (λ" -λ), but in the actual wavelength fluctuation (wavelength fluctuation of about several nm) region, (λ "-λ) and ( It can be considered that a proportional relationship is established with sinθ2 "-sinψ).
また、偏光光学素子2及び回折光学素子3が、いずれも1次回折光を用いるならば、Λ1=Λ2+β(βは0でない定数)と変形できるので、偏光光学素子2及び回折光学素子3における回折格子の周期を互いに異ならせれば良い。
Further, if both the polarizing
なお、ここでは、偏光光学素子2がTM偏光の光を回折する場合について説明したが、TE偏光の光ビームを回折する場合であっても、同様に、波長変化に対して偏光光学素子2における第2光ビームの出射方向を変化させないようにすることは可能である。
Here, the case where the polarizing
図2に戻り、光源ユニットLUから出射された各光ビームは、シリンドリカルレンズ14に入射する。このシリンドリカルレンズ14は、各光ビームに対して、主走査方向に対応する方向に細長い線像を、光偏向器15の偏向反射面(ポリゴンミラー面)近傍にそれぞれ結像する。
Returning to FIG. 2, each light beam emitted from the light source unit LU is incident on the cylindrical lens 14. The cylindrical lens 14 forms an elongated line image in the direction corresponding to the main scanning direction for each light beam in the vicinity of the deflection reflection surface (polygon mirror surface) of the
光偏向器15で偏向された各光ビームは、それぞれ走査結像レンズ17によって結像され、感光体ドラム901表面上の、副走査方向に互いに所定の間隔だけ離れた位置に、光スポットとして集光される。
Each light beam deflected by the
なお、光偏向器15は、ポリゴンモータ(不図示)によって一定の速度で回転しており、その回転に伴って偏向反射面近傍に結像された各光ビームは等角速度的に偏向され、感光体ドラム901上の各光スポットは、主走査方向に等速移動する。すなわち、感光体ドラム901上を主走査方向に2ライン同時に走査する。
The
また、走査結像レンズ17を透過して有効画像領域外に向かう光の一部は、反射ミラー19を介して同期センサ18で受光される。同期センサ18は、受光量に応じた信号(光電変換信号)を出力する。
Further, a part of the light that passes through the
前記処理回路は、図10に示されるように、信号調整回路60、変調データ生成回路30、シリアル信号生成回路35、画像データ生成回路40、及びレーザ駆動回路50などを有している。
As shown in FIG. 10, the processing circuit includes a
信号調整回路60は、同期センサ18の出力信号を増幅、反転及び2値化する。
The
画像データ生成回路40は、上位装置からの画像情報に基づいて、画像データを生成する。
The image
変調データ生成回路30は、信号調整回路60からの信号及び画像データ生成回路40からの画像データに基づいて変調データを生成する。
The modulation
シリアル信号生成回路35は、変調データ生成回路30からの変調データをシリアル信号に変換する。
The serial
レーザ駆動回路50は、シリアル信号生成回路35からのシリアル信号に基づいて、シングルビーム光源LD1及びLD2の駆動信号を生成する。ここで生成された各駆動信号は光源ユニットLUに出力される。
The
ここで、サブ波長構造又は共鳴構造の格子(以下、「微細構造格子」ともいう)の作製方法について説明する。 Here, a method for manufacturing a grating having a sub-wavelength structure or a resonance structure (hereinafter also referred to as “fine structure grating”) will be described.
微細構造格子は、可視光の波長領域に対して、サブμm〜数μm程度の周期を持つことになる。この微細構造格子を作製する方法はそれほど多いわけではなく、一般的にはレーザ(干渉)露光法や電子ビーム露光法が広く用いられている。 The fine-structure grating has a period of about sub μm to several μm with respect to the wavelength region of visible light. There are not so many methods for manufacturing this fine-structured grating, and generally, a laser (interference) exposure method and an electron beam exposure method are widely used.
レーザ干渉露光法では、通常、青〜紫外領域の波長を持つレーザ光を干渉させて感光性の高分子材料(レジスト)に照射し、その干渉パターンを利用して微細構造格子を作製する。この場合、基板上に形成されるレジストに微細構造格子が形成されることになる。一方、電子ビーム露光法では、電子ビームを集光し、レジスト上を走査することによって微細構造格子を作製する。この場合も同様に、基板上に塗布されたレジストに微細構造格子が形成されることになる。 In the laser interference exposure method, a laser beam having a wavelength in a blue to ultraviolet region is usually interfered and irradiated to a photosensitive polymer material (resist), and a microstructure lattice is produced using the interference pattern. In this case, a microstructure lattice is formed in the resist formed on the substrate. On the other hand, in the electron beam exposure method, a fine structure grating is produced by condensing an electron beam and scanning the resist. In this case as well, a fine lattice is formed in the resist applied on the substrate.
これらの方法では、レジスト以外(石英ガラスなどの光学素子材料等)に微細構造格子を作製する場合には、このレジストに形成された微細構造格子を基にして、さらに反応性ドライエッチングやリフトオフなどを用いる必要がある。前記偏光光学素子2は、上記一般的な方法を用いて作製することが可能である。
In these methods, when a fine structure lattice is produced other than a resist (such as an optical element material such as quartz glass), reactive dry etching or lift-off is further performed based on the fine structure lattice formed in the resist. Must be used. The polarizing
また、レジストにではなく、直接光学素子材料上に微細構造格子を形成することもできる。この方法について図11及び図12を用いて説明する。 It is also possible to form a microstructure lattice directly on the optical element material instead of the resist. This method will be described with reference to FIGS.
図11には、光硬化法を用いた例が示されている。光硬化法とは、レーザ光を光硬化性材料中に集光し、多光子吸収過程によってその集光点近傍においてその材料を硬化させ、レーザ光を3次元的に走査することにより微細構造格子を作製する方法である。Nd:YAGレーザやTi:Sapphireレーザなどのレーザ装置から出射されたレーザ光は、1/2波長板とグラントムソンプリズムによってその光強度が調整された後、空間フィルタによって波形整形される。そして、ガルバノミラーによって光路を変えながら、リレーレンズ、結像レンズ、及び対物レンズを介して基板上の光硬化性材料中に集光される。また、集光点はピエゾステージによって基板垂直方向にも移動可能である。このように、ガルバノミラーとピエゾステージの組み合わせにより、3次元的に凹凸の微細構造を作製することが可能である。このとき光硬化性材料としては、光硬化性樹脂や、光硬化性の有機・無機ハイブリッド材料などがあり、この光硬化性材料がそのまま光学素子として機能できる。なお、この図11に示される加工装置は1例であって、この限りではない。 FIG. 11 shows an example using a photocuring method. The photo-curing method condenses laser light into a photo-curable material, cures the material in the vicinity of the condensing point by a multiphoton absorption process, and scans the laser light three-dimensionally to form a fine structure lattice. It is a method of producing. Laser light emitted from a laser device such as an Nd: YAG laser or a Ti: Sapphire laser is adjusted in waveform by a spatial filter after its light intensity is adjusted by a half-wave plate and a Glan-Thompson prism. Then, while changing the optical path by the galvanometer mirror, the light is condensed into the photocurable material on the substrate through the relay lens, the imaging lens, and the objective lens. Further, the condensing point can be moved in the direction perpendicular to the substrate by a piezo stage. Thus, it is possible to produce a three-dimensionally uneven microstructure by combining a galvanometer mirror and a piezo stage. At this time, the photocurable material includes a photocurable resin, a photocurable organic / inorganic hybrid material, and the like, and this photocurable material can function as an optical element as it is. Note that the processing apparatus shown in FIG. 11 is an example and is not limited to this.
また、レーザアブレーション法を用いた加工法もある。レーザアブレーション法としては、加工に用いるレーザ光を干渉させて、その干渉パターンによって光学素子材料を直接加工する方法や、図12に示されるように、レーザ光を直接加工対象である光学素子材料に照射して、その一部を選択的に除去する方法がある。以下、図12を用いて説明する。 There is also a processing method using a laser ablation method. As the laser ablation method, a laser beam used for processing is made to interfere and an optical element material is directly processed by the interference pattern, or laser light is directly applied to an optical element material to be processed as shown in FIG. There is a method of selectively removing a part of the irradiation. Hereinafter, a description will be given with reference to FIG.
レーザ装置から出射されたレーザ光は、フォトマスクによってレーザ光の一部が透過され、そのレーザ光パターンはミラーを介して集光レンズによって縮小投影され、光学素子材料に照射される。また、光学素子材料はXYZステージ上に設置され、3次元的に移動可能である。もちろん、ミラーの代わりにガルバノミラー等を設けて、レーザ光を走査しても良い。また、フォトマスクには複数のパターン(図12では2種類)が用意され、加工したいパターンや加工対象である光学素子材料などに応じて選択することができる。これらXYZステージの移動やパターンの選択はPC(パソコン)によって制御されている。なお、この図12に示される加工装置は1例であることは言うまでもない。 A part of the laser light emitted from the laser device is transmitted through the photomask, and the laser light pattern is reduced and projected by the condenser lens through the mirror and irradiated onto the optical element material. The optical element material is installed on an XYZ stage and can be moved three-dimensionally. Of course, a galvanometer mirror or the like may be provided instead of the mirror, and the laser beam may be scanned. Further, a plurality of patterns (two types in FIG. 12) are prepared for the photomask, and can be selected according to the pattern to be processed, the optical element material to be processed, or the like. The movement of these XYZ stages and the selection of patterns are controlled by a PC (personal computer). Needless to say, the processing apparatus shown in FIG. 12 is an example.
また、上記いずれの加工法においても、レーザ光のパルス幅が10ピコ秒以下である極短パルスレーザを使用することができる。極短パルスレーザの利用により、熱伝播による溶融、ダメージ層の低減、多光子吸収断面積の増加が可能であるといった利点があり、近年用いられるようになってきている。また多光子吸収断面積を増加させることが可能であることから、光硬化法において、より効果的に、低エネルギーで加工を行うことが可能となる。 In any of the above processing methods, an ultrashort pulse laser having a laser beam pulse width of 10 picoseconds or less can be used. The use of an ultrashort pulse laser has advantages such as melting by heat propagation, reduction of damaged layer, and increase of multiphoton absorption cross section, and it has been used in recent years. In addition, since the multiphoton absorption cross-sectional area can be increased, the photocuring method can be more effectively processed with low energy.
以上の説明から明らかなように、本実施形態に係る光走査装置900では、光源ユニットLUによってマルチビーム光源ユニットが実現されている。そして、シングルビーム光源LD1によって第1の光源が実現され、シングルビーム光源LD2によって第2の光源が実現され、レンズ1によって第1の光学系が実現され、レンズ4によって第2の光学系が実現され、回折光学素子3によって偏向光学素子が実現され、偏光光学素子2によって偏光回折素子が実現され、λ/2板5によって第3の光学系が実現されている。
As is clear from the above description, in the
また、本実施形態に係るレーザプリンタ100では、帯電チャージャ902と現像ローラ903とトナーカートリッジ904と転写チャージャ911とによって転写装置が構成されている。
In the
以上説明したように、本実施形態に係る光源ユニットLUによると、シングルビーム光源LD1から出射されたTM偏光の光ビームはレンズ1で整形された後、λ/2板5でTE偏光とされて、偏光光学素子2に入射する。一方、シングルビーム光源LD2から出射されたTM偏光の光ビームは回折光学素子3で偏向された後、レンズ4で整形されて、偏光光学素子2に入射する。偏光光学素子2に入射した各光ビームは、互いに同一方向に出射される。従って、偏光光学素子2に入射する各光ビームの入射方向を任意に設定することができ、大型化及び高コスト化を招くことなく、複数の光ビームを安定して出射することが可能となる。
As described above, according to the light source unit LU according to the present embodiment, the TM-polarized light beam emitted from the single beam light source LD1 is shaped by the
また、本実施形態に係る光走査装置900によると、光源ユニットLUを用いているため、結果として、大型化及び高コスト化を招くことなく、精度良く、複数の光を用いて被走査面上を走査することが可能となる。
Further, according to the
また、本実施形態に係るレーザプリンタ100によると、光走査装置900を備えているため、結果として、大型化及び高コスト化を招くことなく、高品質の画像を高速で形成することが可能となる。
Further, according to the
なお、上記実施形態において、一例として図13に示されるように、前記シングルビーム光源LD2と前記回折光学素子3とを一体化しても良い。半導体レーザは、通常、その発光部を防塵する等の目的からパッケージングされ、カバーガラスで封止されている。そこで、このカバーガラスに前記回折光学素子3と同等の機能を付加しても良い。これにより、部品点数を削減することができるとともに、シングルビーム光源LD2とレンズ4との間のスペースに自由度を持たせることができ、素子レイアウト上のメリットも生み出すことができる。この場合に、一例として図14に示されるように、回折光学素子3を斜めに配置しても良い。
In the above embodiment, as shown in FIG. 13 as an example, the single beam light source LD2 and the diffractive
また、上記実施形態では、前記λ/2板5を用いて光ビームの偏光状態を変換しているが、これに限定されるものではない。要するに光ビームの偏光方向が90°変更されれば良い。
In the above embodiment, the polarization state of the light beam is converted using the λ / 2
また、上記実施形態では、前記各シングルビーム光源からTM偏光の光が出射される場合について説明したが、これに限らず、前記各シングルビーム光源からTE偏光の光が出射されても良い。但し、この場合には、前記偏光光学素子2に代えて、TM偏光が入射した場合に、そのほとんどを0次光(0T)として透過させ、TE偏光が入射した場合に、そのほとんどを−1次光(−1T)として回折する偏光光学素子が用いられることとなる。
In the above-described embodiment, the case where TM polarized light is emitted from each single beam light source is described. However, the present invention is not limited to this, and TE polarized light may be emitted from each single beam light source. However, in this case, instead of the polarizing
また、上記実施形態において、一例として図15に示されるように、シングルビーム光源LD1からTE偏光の光を出射しても良い。これにより、前記λ/2板5が不要となる。
Moreover, in the said embodiment, as FIG. 15 shows as an example, you may radiate | emit TE polarized light from single beam light source LD1. As a result, the λ / 2
また、上記実施形態では、第1の光学系としてレンズ1が用いられる場合について説明したが、これに限らず、例えばミラーが用いられても良い。更に、第1の光学系が複数の光学素子で構成されても良い。
Moreover, although the case where the
また、上記実施形態では、第2の光学系としてレンズ4が用いられる場合について説明したが、これに限らず、例えばミラーが用いられても良い。更に、第2の光学系が複数の光学素子で構成されても良い。
Moreover, although the case where the
また、上記実施形態では、前記光源ユニットLUは、第1光ビームと第2光ビームとが、略同一方向に出射される場合について説明したが、これに限定されるものではなく、第1光ビームと第2光ビームとが互いに異なる方向に出射されるようにしても良い。 Moreover, although the said light source unit LU demonstrated the case where the 1st light beam and the 2nd light beam were radiate | emitted in the substantially the same direction in the said embodiment, it is not limited to this, 1st light The beam and the second light beam may be emitted in different directions.
また、上記実施形態では、画像形成装置がレーザプリンタ100の場合について説明したが、これに限定されるものではない。要するに、光走査装置900を備えた画像形成装置であれば、大型化及び高コスト化を招くことなく、高品質の画像を高速で形成することが可能となる。
In the above embodiment, the case where the image forming apparatus is the
また、カラー画像を形成する画像形成装置であっても、カラー画像に対応した光走査装置を用いることにより、大型化及び高コスト化を招くことなく、高品質の画像を高速で形成することが可能となる。 Further, even in an image forming apparatus that forms a color image, a high-quality image can be formed at high speed without causing an increase in size and cost by using an optical scanning device corresponding to the color image. It becomes possible.
また、画像形成装置として、カラー画像に対応し、画像情報毎に感光ドラムを備えるタンデムカラー機であっても良い。図16には、前記光源ユニットLUを、光偏向器15に対向して2つ配置した光走査装置が示されている。このように構成することによって、1つの光源ユニットLUから2つの光ビームが出射されているので、計4つの光ビームが光偏向器15に向けて出射され、各光ビームが、YMCK各色毎に設けられた感光ドラム上を走査することができる。なお、実際の画像形成装置内では、前記走査結像レンズ17と被走査面との間に折り返しミラーを挿入して、各光ビームを対応する感光体ドラムへ導いているが、ここでは折り返しミラーを省略して図示している。
The image forming apparatus may be a tandem color machine that corresponds to a color image and includes a photosensitive drum for each piece of image information. FIG. 16 shows an optical scanning device in which two light source units LU are arranged facing the
図17には、前記光源ユニットLUを2個、光偏向器15の1つの反射面に対して、角度をつけて配置した光走査装置が示されている。この場合も同様に、計4本の光ビームが光偏向器15に向けて出射され、各光ビームが対応する色の感光ドラム上を走査することができる。
FIG. 17 shows an optical scanning device in which two light source units LU are arranged at an angle with respect to one reflecting surface of the
なお、前記各シングルビーム光源に代えて、1つのパッケージに2つの発光点を持つレーザアレイ光源を用いることにより、計8本の光ビームが光偏向器15に向けて出射され、各色の感光体ドラムに2本ずつ走査することができる。また、1つのパーケージに4つの発光点を持つレーザアレイ光源を用いることにより、計16本の光ビームが光偏向器15に向けて出射され、各色の感光体ドラムに4本ずつ走査することができる。これにより、更に高速な画像形成装置を実現することができる。
By using a laser array light source having two light emitting points in one package in place of each single beam light source, a total of eight light beams are emitted toward the
1…レンズ(第1の光学系)、2…偏光光学素子(偏光回折素子)、3…回折光学素子(偏向光学素子)、4…レンズ(第2の光学系)、5…λ/2板(第3の光学系)、100…レーザプリンタ(画像形成装置)、900…光走査装置、901…感光体ドラム(走査対象物)、902…帯電チャージャ(転写装置の一部)、903…現像ローラ(転写装置の一部)、904…トナーカートリッジ(転写装置の一部)、909…定着ローラ(転写装置の一部)、911…転写チャージャ(転写装置の一部)、913…記録紙(転写対象物)、LD1…シングルビーム光源(第1の光源)、LD2…シングルビーム光源(第2の光源)、LU…光源ユニット(マルチビーム光源ユニット)。
DESCRIPTION OF
Claims (10)
前記第1の光源から出射された光ビームを整形する第1の光学系と;
前記第2の光源から出射された光ビームを偏向する偏向光学素子と;
前記偏向光学素子で偏向された光ビームを整形する第2の光学系と;
前記第1の光学系を介した光ビームと第2の光学系を介した光ビームとが入射され、前記第1の光学系を介した光ビームの少なくとも一部及び前記第2の光学系を介した光ビームの少なくとも一部を互いに同一方向に出射する偏光回折素子と;を備え、
前記偏向光学素子は、回折光学素子であり、
前記偏光回折素子から出射される前記第2の光学系を介した光ビームの少なくとも一部の出射方向は、該光ビームの波長に依存しないマルチビーム光源ユニット。 A plurality of light sources including a first light source and a second light source that emit light beams having different polarization directions;
A first optical system for shaping a light beam emitted from the first light source;
A deflecting optical element for deflecting a light beam emitted from the second light source;
A second optical system for shaping the light beam deflected by the deflecting optical element;
A light beam that has passed through the first optical system and a light beam that has passed through the second optical system are incident, and at least part of the light beam that has passed through the first optical system and the second optical system a polarization diffraction element for emitting at least a portion of the through light beam in the same direction; equipped with,
The deflection optical element is a diffractive optical element;
A multi-beam light source unit in which the emission direction of at least a part of the light beam emitted from the polarization diffraction element via the second optical system does not depend on the wavelength of the light beam .
前記第1の光源から出射された光ビームを整形する第1の光学系と;
前記第2の光源から出射された光ビームを偏向する偏向光学素子と;
前記偏向光学素子で偏向された光ビームを整形する第2の光学系と;
前記第1の光学系を介した光ビームと第2の光学系を介した光ビームとが入射され、前記第1の光学系を介した光ビームの少なくとも一部及び前記第2の光学系を介した光ビームの少なくとも一部を互いに同一方向に出射する偏光回折素子と;
前記第1の光源と前記偏光回折素子との間の光路上、あるいは前記第2の光源と前記偏光回折素子との間の光路上に配置され、前記偏光回折素子に入射する2つの光ビームの偏光方向が互いに異なるように、入射光の偏光方向を変更する第3の光学系と;を備え、
前記偏向光学素子は、回折光学素子であり、
前記偏光回折素子から出射される前記第2の光学系を介した光ビームの少なくとも一部の出射方向は、該光ビームの波長に依存しないマルチビーム光源ユニット。 A plurality of light sources including a first light source and a second light source that emit light beams having the same polarization direction;
A first optical system for shaping a light beam emitted from the first light source;
A deflecting optical element for deflecting a light beam emitted from the second light source;
A second optical system for shaping the light beam deflected by the deflecting optical element;
A light beam that has passed through the first optical system and a light beam that has passed through the second optical system are incident, and at least part of the light beam that has passed through the first optical system and the second optical system A polarization diffraction element that emits at least a part of the light beam through the same direction in the same direction;
Two light beams that are arranged on an optical path between the first light source and the polarization diffraction element or on an optical path between the second light source and the polarization diffraction element and are incident on the polarization diffraction element. as the polarization directions are different from each other, a third optical system for changing the polarization direction of the incident light and, with a
The deflection optical element is a diffractive optical element;
A multi-beam light source unit in which the emission direction of at least a part of the light beam emitted from the polarization diffraction element via the second optical system does not depend on the wavelength of the light beam .
前記複数の光ビームは、少なくとも1つの請求項1〜7のいずれか一項に記載のマルチビーム光源ユニットから出射される複数の光ビームであることを特徴とする光走査装置。 In an optical scanning device that scans a surface to be scanned while deflecting a plurality of light beams including image information by a deflector,
Wherein the plurality of light beams, an optical scanning device which is a plurality of light beams emitted from the multi-beam light source unit according to any one of the at least one of claims 1 to 7.
前記少なくとも1つの走査対象物に対して複数の光ビームを走査する少なくとも1つの請求項8に記載の光走査装置と;
前記少なくとも1つの走査対象物に形成された像を転写対象物に転写する転写装置と;を備える画像形成装置。 At least one scan object;
9. The optical scanning device according to claim 8 , wherein the optical scanning device scans a plurality of light beams with respect to the at least one scanning object;
An image forming apparatus comprising: a transfer device that transfers an image formed on the at least one scanning object to the transfer object.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006029102A JP5013578B2 (en) | 2006-02-07 | 2006-02-07 | Multi-beam light source unit, optical scanning device, and image forming apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006029102A JP5013578B2 (en) | 2006-02-07 | 2006-02-07 | Multi-beam light source unit, optical scanning device, and image forming apparatus |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007214153A JP2007214153A (en) | 2007-08-23 |
JP5013578B2 true JP5013578B2 (en) | 2012-08-29 |
Family
ID=38492349
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
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Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5013578B2 (en) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN115437162A (en) * | 2022-08-19 | 2022-12-06 | 北京驭光科技发展有限公司 | Laser projector, camera assembly and electronic device |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02141942A (en) * | 1988-11-21 | 1990-05-31 | Ricoh Co Ltd | Optical pickup device |
JPH09127442A (en) * | 1995-10-30 | 1997-05-16 | Canon Inc | Multibeam scanning optical device |
JPH11174226A (en) * | 1997-12-09 | 1999-07-02 | Ricoh Co Ltd | Polarizing hologram and optical head using the same |
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A621 | Written request for application examination |
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A977 | Report on retrieval |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Written amendment |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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