JP5007134B2 - Parts polishing method, parts and plastic for polishing - Google Patents
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Description
本発明は、超硬合金を主成分とする部品を研磨する技術に関する。 The present invention relates to a technique for polishing a component whose main component is cemented carbide.
超硬合金は、硬質の金属炭化物などの粉末を焼結した合金で、高温時の硬度低下が少なく非常に摩耗しにくいため、金属加工用の切削工具の材料として多く用いられている。特許文献1や特許文献2には、このような超硬合金を用いた工具の加工方法や製造方法が開示されている。 Cemented carbide is an alloy obtained by sintering powder of hard metal carbide or the like, and is often used as a material for a cutting tool for metal processing because it has a low hardness reduction at high temperatures and is very difficult to wear. Patent Documents 1 and 2 disclose a tool processing method and a manufacturing method using such a cemented carbide.
近年、デジタルカメラや携帯電話に代表されるように使い勝手や移動の便利さから携帯可能な製品の需要が増加する傾向にある。製品の小型化に伴ってこれを構成する部品も微細化が進み、微細部品においても厳しい形状精度が要求されている。一般的にミーリング加工を用いてミリメートルオーダーの小形部品を成形しようとした場合、要求形状以下の小径工具を使用する必要があるため、工具剛性を確保する目的でヤング率の高い上述のような超硬合金材料が用いられている。 In recent years, as represented by digital cameras and mobile phones, demand for portable products tends to increase due to ease of use and convenience of movement. Along with the miniaturization of products, miniaturization of components constituting the products has progressed, and strict shape accuracy is required even for the fine components. In general, when trying to form small parts of the order of millimeters using milling, it is necessary to use a tool with a diameter smaller than the required shape. Hard alloy materials are used.
しかし、工具の直径の小径化に伴い切れ刃の成形は格段に難しくなり、特に工具の成形時に生じるマイクロチッピングや研磨痕が切れ刃稜線に残存してしまうことがある。そのため、部品を微細加工する際の加工精度の向上には工具の切れ刃を鋭利に仕上げる研磨方法の開発が望まれている。
本発明は、上述の事情を鑑みなされたもので、その目的とするところは、工具材料や金型材料などに使用される超硬合金を主成分とする部品の所望の箇所をより平坦にする技術を提供することにある。 The present invention has been made in view of the above-mentioned circumstances, and the object thereof is to make a desired portion of a part mainly composed of cemented carbide used as a tool material or a mold material more flat. To provide technology.
上記課題を解決するために、本発明のある態様の部品研磨方法は、超硬合金を主成分とする部品を、ポリベンズイミダゾール類、ポリカーボネート類、ポリサルフォン類、ポリエーテルサルフォン類、ポリアリレート類、ポリアミドイミド類、ポリエーテルイミド類、ポリフェニレンサルファイド類、ポリエーテルエーテルケトン類、ポリイミド類、ポリテトラフルオロエチレン類、および、共重合体を含むこれらの混合物、からなる群から選択されるブロック状のプラスチックを接触させた状態で研磨する。 In order to solve the above-mentioned problems, a method for polishing a part according to an aspect of the present invention is a method for polishing a part containing a cemented carbide as a main component to polybenzimidazoles, polycarbonates, polysulfones, polyethersulfones, polyarylates. A block selected from the group consisting of polyamideimides, polyetherimides, polyphenylene sulfides, polyether ether ketones, polyimides, polytetrafluoroethylenes, and mixtures thereof including copolymers Polish with plastic in contact .
この態様によると、砥石による研磨やショットブラストなどの方法と比較し、部品の所望の箇所をより平坦にすることができる。例えば、この方法を超硬合金を主成分とする研削工具に適用することで、砥石などにより切れ刃を成形した際に生じる、研削痕や切れ刃の稜線のマイクロチッピングなどの凹凸をより平坦にすることができる。また、この方法を超硬合金を主成分とする金型などに適用することで金型表面をより平坦にすることができる。 According to this aspect, it is possible to make a desired part of the part flatter than a method such as polishing with a grindstone or shot blasting. For example, by applying this method to a grinding tool whose main component is cemented carbide, unevenness such as grinding marks and microchipping of the edge of the cutting edge that occurs when a cutting edge is formed with a grindstone or the like can be made flatter. can do. Further, by applying this method to a mold having cemented carbide as a main component, the mold surface can be made flatter.
本発明の別の態様は、上述のブロック状のプラスチックを接触させた状態で研磨した、超硬合金を主成分とする部品である。この態様によると、例えば、研削工具としてこの部品を用いることで、被研削材の加工精度を向上させることができる。また、例えば、高い平坦性が要求されるレンズの金型部品としてこの部品を用いることで、高品質のレンズを量産することができる。 Another aspect of the present invention is a component mainly composed of a cemented carbide , polished in a state where the above-mentioned block-shaped plastic is brought into contact therewith. According to this aspect, for example, by using this part as a grinding tool, the processing accuracy of the material to be ground can be improved. Further, for example, by using this part as a mold part of a lens requiring high flatness, a high quality lens can be mass-produced.
本発明のさらに別の態様は、超硬合金を主成分とする部品を研磨するために用いる、ポリベンズイミダゾール類、ポリカーボネート類、ポリサルフォン類、ポリエーテルサルフォン類、ポリアリレート類、ポリアミドイミド類、ポリエーテルイミド類、ポリフェニレンサルファイド類、ポリエーテルエーテルケトン類、ポリイミド類、ポリテトラフルオロエチレン類、および、共重合体を含むこれらの混合物、からなる群から選択されるブロック状の研磨用プラスチックである。 Yet another aspect of the present invention provides polybenzimidazoles, polycarbonates, polysulfones, polyethersulfones, polyarylates, polyamideimides, which are used for polishing a cemented carbide-based component. A block-like abrasive plastic selected from the group consisting of polyetherimides, polyphenylene sulfides, polyether ether ketones, polyimides, polytetrafluoroethylenes, and mixtures thereof including copolymers. .
この態様によると、砥石や炭化珪素の粒子などの研磨材料と比較して、超硬合金を主成分とする部品の所望の箇所をより平坦にすることができる。 According to this aspect, it is possible to flatten a desired portion of a component mainly composed of a cemented carbide as compared with an abrasive material such as a grindstone or silicon carbide particles.
本発明によれば、工具材料や金型材料として使用される超硬合金を主成分とする部品の所望の箇所をより平坦にすることができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the desired location of the components which have as a main component the cemented carbide used as a tool material or metal mold | die material can be made flatter.
以下、図面を参照しながら、本発明を実施するための形態について詳細に説明する。本実施の形態に係る部品研磨方法の好適な対象は、超硬合金を主成分とする切削用部品である。以下では、切削用部品としてエンドミルを一例にその研磨方法について説明する。 Hereinafter, embodiments for carrying out the present invention will be described in detail with reference to the drawings. A suitable object of the component polishing method according to the present embodiment is a cutting component mainly composed of cemented carbide. Below, the grinding | polishing method is demonstrated to an example for an end mill as cutting parts.
なお、本実施の形態に係る研磨方法の対象となる超硬合金とは、周期律表IVa、Va、VIa族金属などの炭化物をFe、Co、Niなどの鉄系金属で焼結した複合材料であり、高温時の硬度低下が少なく、非常に摩耗しにくい。代表的には、炭化タングステン(WC)と結合剤(バインダ)であるコバルト(Co)を混合して焼結したものが、主に切削加工や金型などの耐磨耗性を要求される分野で使用されている。以下の説明では、WC-Co系合金の場合について説明する。 In addition, the cemented carbide which is the object of the polishing method according to the present embodiment is a composite material obtained by sintering carbides such as periodic table IVa, Va and VIa metals with iron-based metals such as Fe, Co and Ni. There is little decrease in hardness at high temperature, and it is very difficult to wear. Typically, tungsten carbide (WC) and binder (binder) cobalt (Co) mixed and sintered mainly in fields where wear resistance such as cutting and molds is required. Used in. In the following description, the case of a WC—Co alloy will be described.
また、超硬合金として、前述のWC-Co系合金以外に、耐酸化性を向上させたWC-TiC-Co系合金、WC-TaC-Co系合金、WC-TiC-TaC-Co系合金も研磨方法の対象とすることができる。また、超硬合金として、結合相をNiとするWC-Ni系合金や、Crの添加によりさらに耐食性が向上されたWC-Ni-Cr系合金も研磨方法の対象とすることができる。 In addition to the aforementioned WC-Co alloys, WC-TiC-Co alloys, WC-TaC-Co alloys, and WC-TiC-TaC-Co alloys with improved oxidation resistance are also available as cemented carbides. It can be an object of a polishing method. Further, as a cemented carbide alloy, a WC—Ni alloy having a binder phase of Ni, or a WC—Ni—Cr alloy whose corrosion resistance is further improved by the addition of Cr can be used as a target for the polishing method.
図1は、本実施の形態に係る研磨方法を示した模式図である。本実施の形態に係る研磨用プラスチックは、一般式(1)に示すような化学組成からなるポリベンズイミダゾール(polybenzimidazole:以下、PBIという)である。 FIG. 1 is a schematic view showing a polishing method according to the present embodiment. The polishing plastic according to the present embodiment is polybenzimidazole (hereinafter referred to as PBI) having a chemical composition represented by the general formula (1).
図1に示すPBI10は、原料紛をホットプレスで圧縮成形し板形状としたものである。ただし、金型に接する部分は変質層が残ることから、この部分を除去し、20×10×30mmの形状として使用した。PBI10の特徴的な性質としては、硬度がHRA50と高く、特に引張強度は純アルミニウムと同等の160MPaを有している。また、PBI10は、その熱変形温度が708Kと熱可塑性樹脂の中で最も高い値を示す。 The PBI 10 shown in FIG. 1 is obtained by compressing a raw material powder by hot pressing into a plate shape. However, since the deteriorated layer remains in the portion in contact with the mold, this portion was removed and used as a 20 × 10 × 30 mm shape. As a characteristic property of PBI10, the hardness is as high as HRA50, and in particular, the tensile strength is 160 MPa equivalent to that of pure aluminum. PBI10 has the highest heat deformation temperature of 708K among the thermoplastic resins.
研磨の対象となる研削用工具は、直径1.6mmの2枚刃のスクエアエンドミル12であり、材質は超微粒子超硬合金である。研磨装置としては、研磨対象となるスクエアエンドミルを装着することができる3軸リニアモータ駆動方式の小型高速研磨機を用いた。図1に示すように、研磨条件は、スクエアエンドミル12の外周の回転速度(V)16.7m/s、一刃当りの送り量(Sz):4.3μm/tooth、軸方向切り込み(Aa):50μm、半径方向切り込み(Ar):30μm、とし、0.5MPaのドライエアをノズル14から供給しながら研磨した。なお、回転速度(V)は、10m/s〜40m/s程度の範囲で適宜選択すればよい。 A grinding tool to be polished is a two-blade square end mill 12 having a diameter of 1.6 mm, and a material thereof is an ultrafine particle cemented carbide. As a polishing apparatus, a small high-speed polishing machine of a three-axis linear motor drive system capable of mounting a square end mill to be polished was used. As shown in FIG. 1, the polishing conditions are as follows: the rotational speed (V) of the outer periphery of the square end mill 12 is 16.7 m / s, the feed amount per blade (Sz) is 4.3 μm / tooth, and the axial cut (Aa). : 50 μm, radial cut (Ar): 30 μm, and polishing was performed while supplying 0.5 MPa of dry air from the nozzle 14. In addition, what is necessary is just to select a rotational speed (V) suitably in the range of about 10 m / s-40 m / s.
図2は、成形されたスクエアエンドミル12をPBI10によって研磨加工する前の代表的な切れ刃の様子を示した図である。図3は、スクエアエンドミル12を、PBI10によって研磨速度16.7m/sで研磨加工した後の代表的な切れ刃の様子を示した図である。 FIG. 2 is a view showing a state of a typical cutting edge before the molded square end mill 12 is polished by the PBI 10. FIG. 3 is a view showing a state of a typical cutting edge after the square end mill 12 is polished by the PBI 10 at a polishing rate of 16.7 m / s.
図2より、加工前の切れ刃16には成形研磨時に生じた多数の研削痕17が観察される。さらに、切れ刃稜線(図の明暗境界領域)にはWC粒子が抜け落ちたマイクロチッピング18が生じている様子が確認できる。一方、図3は、研磨距離400m加工後の切れ刃16を示す。図3に示すように、切れ刃16は、逃げ面部分のWC粒子の角張った形状が明確に確認でき、極めて平坦化した状態である。また、切れ刃16は、その切れ刃稜線においてもマイクロチッピングは観察されず、摩耗により極めて鋭利な切れ刃稜線が形成されている。そのため、PBI10により研磨されたスクエアエンドミル12を用いることで、被研削材の加工精度を向上させることができる。 From FIG. 2, a large number of grinding marks 17 generated during molding and polishing are observed on the cutting edge 16 before processing. Further, it can be confirmed that the microchipping 18 in which the WC particles have fallen off is generated on the cutting edge ridge line (bright and dark boundary region in the figure). On the other hand, FIG. 3 shows the cutting edge 16 after processing with a polishing distance of 400 m. As shown in FIG. 3, the cutting edge 16 is in an extremely flat state where the angular shape of the WC particles in the flank portion can be clearly confirmed. Further, the cutting edge 16 is not observed even at the cutting edge ridge line, and an extremely sharp cutting edge ridge line is formed by wear. Therefore, using the square end mill 12 polished by the PBI 10 can improve the processing accuracy of the material to be ground.
次に、PBI10による研磨による部品の平坦化のメカニズムについて説明する。スクエアエンドミル12の切れ刃が摩耗され平坦化される要因としては、磨耗温度の上昇による反応とPBI材料の分解による摩耗粉の生成による2つの要因が考えられる。前者が摩耗の主因として働くためには、超硬合金内のWCとPBI材料の反応が生じる必要があるが、WCが化学反応するためには少なくとも1273K以上の温度が必要と考えられる。しかし、PBI材料はガラス転移温度が710K付近であり、融点も1273K以下である。そのため、磨耗温度の上昇による反応の可能性は少ない。 Next, a mechanism for flattening the component by polishing with the PBI 10 will be described. There are two possible causes for the wear and flattening of the cutting edge of the square end mill 12 due to a reaction due to an increase in wear temperature and generation of wear powder due to decomposition of the PBI material. In order for the former to work as a main cause of wear, it is necessary to cause a reaction between WC and PBI material in the cemented carbide, but it is considered that a temperature of at least 1273 K or more is necessary for WC to chemically react. However, the PBI material has a glass transition temperature of around 710K and a melting point of 1273K or less. Therefore, there is little possibility of reaction due to an increase in wear temperature.
そこで、研磨用プラスチックとして用いたPBI材料に起因する磨耗粉が生成している可能性を検証するために、フーリエ変換赤外分光法(FT−IR−ATR)によるPBI材料の磨耗表面における分子構造解析を行い、組成変化について調べた。図4は、FT−IR−ATRスペクトル解析をPBI材料の磨耗面、未磨耗面および切りくずについて実施し、これらの値を基に磨耗面と未磨耗面との差スペクトル(1445cm−1付近ベンゼン環のC=C面内骨格振動を基準)を整理したグラフである。 Therefore, in order to verify the possibility of generation of wear powder due to the PBI material used as the polishing plastic, the molecular structure on the wear surface of the PBI material by Fourier transform infrared spectroscopy (FT-IR-ATR) Analysis was conducted to examine composition changes. FIG. 4 shows that the FT-IR-ATR spectrum analysis was performed on the worn surface, the unworn surface, and the chips of the PBI material, and based on these values, the difference spectrum between the worn surface and the unworn surface (1445 cm −1 near benzene). It is a graph in which the C = C in-plane skeleton vibration of the ring is organized).
図4より、磨耗面においては、802cm−1(図4に示すP1)付近の3置換ベンゼン、700cm−1(P2)付近の2置換ベンゼン、1280cm−1(P3)付近のイミダゾール環、1650cm−1(P4)付近のN−H変角振動もしくはC=N伸縮振動に由来する吸収帯が減少し、3400cm−1(P5)付近のNH伸縮振動、2924〜2853cm−1(P6〜P7)のCH伸縮振動に由来する吸収帯が増加している。なお、3050cm−1(P5)付近のピークはベンゼン環のC=H伸縮振動に由来するものである。 From FIG. 4, in the wear surface, 802cm -1 3-substituted benzene in the vicinity (P1 shown in FIG. 4), 700cm -1 (P2) 2 -substituted benzene in the vicinity, 1280 cm -1 (P3) near the imidazole ring, 1650 cm - 1 Absorption band derived from N-H bending vibration or C = N stretching vibration near (P4) decreases, NH stretching vibration near 3400 cm −1 (P5), 2924 to 2853 cm −1 (P6 to P7) Absorption bands derived from CH stretching vibration are increasing. The peak near 3050 cm −1 (P5) is derived from the C═H stretching vibration of the benzene ring.
また、3400cm−1付近のNH伸縮振動に由来する吸収帯が出現しており、アミン成分が増加している。このため、1650cm−1付近はアミンの増加に伴うC=N伸縮振動と考えられ、これが減少しているのでイミダゾール環のC=N結合形態が変化しているものと推定できる。この結果は切りくずの解析結果においても同様である。これらの分析結果より、イミダゾール環部分での結合が切断されている可能性が高い。以上のことから、分子レベルのカーボン摩耗粉やベンゼン環単位での摩耗粉が生成されており、上述の超硬合金の平滑摩耗にはこれらの微細な摩耗粉が寄与していることが明らかである。 In addition, an absorption band derived from NH stretching vibration near 3400 cm −1 has appeared, and the amine component has increased. For this reason, the vicinity of 1650 cm −1 is considered to be C═N stretching vibration accompanying an increase in amine, and since this is decreased, it can be estimated that the C═N bond form of the imidazole ring is changed. This result is the same in the analysis result of chips. From these analysis results, there is a high possibility that the bond at the imidazole ring moiety is cleaved. From the above, molecular-level carbon wear powder and wear powder in units of benzene rings are generated, and it is clear that these fine wear powders contribute to the smooth wear of the above-mentioned cemented carbide. is there.
そのため、PBI材料をはじめとするベンゼン環やイミダゾール環を有するエンジニアリングブラスチックを研磨用プラスチックとして用いることで、砥石や炭化珪素の粒子などの研磨材料と比較して、超硬合金を主成分とする部品の所望の箇所をより平坦にすることができる。 Therefore, by using engineering plastics having a benzene ring and an imidazole ring, including PBI materials, as a polishing plastic, cemented carbide is the main component compared to abrasive materials such as grinding stones and silicon carbide particles. The desired part of the part can be made flatter.
芳香族環の一種であるベンゼン環を有する研磨用プラスチックとして、上述のPBIを含むポリベンズイミダゾール類、ポリカーボネート類、ポリサルフォン類、ポリエーテルサルフォン類、ポリアリレート類、ポリアミドイミド類、ポリエーテルイミド類、ポリフェニレンサルファイド類、ポリエーテルエーテルケトン類、ポリイミド類、および、共重合体を含むこれらの混合物などを用いることができる。ここで、「類」とは、前述の各プラスチックの代表的な化合物の構造に加えて、研磨用プラスチックに用いることができる物性の範囲でその一部の構造が変形された構造も含む。例えば、前述の各プラスチックの芳香族環や置換基など化合物の一部を他の原子や官能基で置換した誘導体であってもよい。 As polishing plastics having a benzene ring which is a kind of aromatic ring, polybenzimidazoles, polycarbonates, polysulfones, polyethersulfones, polyarylates, polyamideimides, polyetherimides containing the above-mentioned PBI Polyphenylene sulfides, polyether ether ketones, polyimides, and a mixture thereof including a copolymer can be used. Here, the “class” includes, in addition to the structure of the representative compound of each plastic described above, a structure in which a part of the structure is modified within the range of physical properties that can be used for the polishing plastic. For example, a derivative obtained by substituting a part of a compound such as an aromatic ring or a substituent of each plastic with another atom or a functional group may be used.
また、芳香族環としては、ベンゼンなどの単環式芳香族環の他に、ポリカーボネートなどの多環式芳香族環、ベンズイミダゾールなどの多環複素環式芳香族環等が挙げられる。また、芳香族環を有していない研磨用プラスチックとしては、ポリテトラフルオロエチレン類なども用いることができる。また、イミダゾール環のかわりに、または、イミダゾール環に加えてイミド結合を有する研磨用プラスチックでもよい。 Examples of the aromatic ring include a monocyclic aromatic ring such as benzene, a polycyclic aromatic ring such as polycarbonate, and a polycyclic heterocyclic aromatic ring such as benzimidazole. Moreover, polytetrafluoroethylenes etc. can also be used as a polishing plastic which does not have an aromatic ring. Further, instead of the imidazole ring, or a polishing plastic having an imide bond in addition to the imidazole ring may be used.
前述のように、各プラスチックにおける芳香族環は、置換基を有していてもよく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数1〜6のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基等の炭素数1〜6のアルコキシ基、ベンジル基などの炭素数7〜12のアラルキル基、フェニル基、ナフチル基等のアリール基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲンなどの置換基が挙げられる。置換基は複数有していても良く、その場合は、置換基同士は異なる種類であってもよい。これらの置換基はさらに置換基を有していてもよい。 As described above, the aromatic ring in each plastic may have a substituent, for example, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, and a propyl group, a methoxy group, an ethoxy group, and the like. Substituents such as halogens such as fluorine groups, chlorine atoms, bromine atoms, aryl groups such as phenyl groups and naphthyl groups, aralkyl groups having 7 to 12 carbon atoms such as alkoxy groups having 1 to 6 carbon atoms, benzyl groups, and the like. It is done. There may be a plurality of substituents, in which case the substituents may be of different types. These substituents may further have a substituent.
本発明は、上述の実施の形態に限定されるものではなく、当業者の知識に基づいて各種の設計変更等の変形を加えることも可能であり、そのような変形が加えられた実施の形態も本発明の範囲に含まれうるものである。 The present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications such as design changes can be added based on the knowledge of those skilled in the art. Embodiments to which such modifications are added Can also be included in the scope of the present invention.
例えば、上述の実施の形態に係る研磨方法は、固定されたPBI材料に対してエンドミルを高速回転させているが、エンドミルに対してPBI材料を回転させてもよい。 For example, in the polishing method according to the above-described embodiment, the end mill is rotated at a high speed with respect to the fixed PBI material, but the PBI material may be rotated with respect to the end mill.
上述のようにプラスチックで磨く超硬合金を主成分とする部品は、エンドミルのような切削工具だけでなく、レンズ金型の表面仕上げや微小径工具の切れ刃稜線の鋭利化など多くの使用用途への応用が期待できる。 As mentioned above, parts made mainly of cemented carbide polished with plastic are not only used for cutting tools such as end mills, but also for many uses such as surface finishing of lens molds and sharpening of cutting edge ridges of small diameter tools. Application to can be expected.
10 PBI、 12 スクエアエンドミル、 14 ノズル。 10 PBI, 12 square end mill, 14 nozzles.
Claims (4)
前記プラスチックに対して前記エンドミル工具を相対的に回転させながら研磨することを特徴とする請求項1に記載の部品研磨方法。 The part is an end mill tool;
The component polishing method according to claim 1, wherein polishing is performed while rotating the end mill tool relative to the plastic.
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