JP4991830B2 - サンプリング波形測定装置及びサンプリング波形測定方法 - Google Patents
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この場合、前記サンプリング用光パルス発生部は、前記複数の光パルスとして、2つの光パルスを発生する構成を採用することができる。
この場合、前記サンプリング用光パルス発生部は、前記複数の極大点を有する光パルスとして、2つの極大点を有する光パルスを発生する構成を採用することができる。
この場合、前記サンプリング用光パルス発生手順において、前記複数の光パルスとして、2つの光パルスを発生することができる。
この場合、前記サンプリング用光パルス発生手順において、前記複数の極大点を有する光パルスとして、2つの極大点を有する光パルスを発生することができる。
図1に、サンプリング用光パルス発生部11の第1例を示す。サンプリング用光パルス発生部11の第1例は、例えば、光パルス発生器21と、光パルス多重化手段22と、を備える。光パルス発生器21は、1つの光パルスを一定周期で発生する。光パルス多重化手段22は、光パルス発生器21からの1つの光パルスを時間軸上で多重化する。
図12(a)に示す光パルス多重化手段22の第1の構成例は、偏波変更手段22−1と、複屈折媒質22−2と、を備える。偏波変更手段22−1は、光パルスの偏波を変える。複屈折媒質22−2は、偏波変更手段22−1の出力光が入力され偏波によって屈折率が異なる。
12:電界吸収型光変調器
13:逆バイアス電圧発生器
14:光カプラ
15:受光器
21、111:光パルス発生器
21c:チャープを伴った光パルス発生器
21−1:CW光源
21−2:光変調器
22、22d:光パルス多重化手段
22−1、22−7:偏波変更手段
22−2:複屈折媒質
22−3:偏光子
22−4:光分岐部
22−5:光遅延部
22−6:光合波部
23、26:波長分散媒質
24:光非線形媒質
25:光減衰器
91、101:サンプリング波形測定装置
Claims (22)
- サンプリング用光パルスを発生するサンプリング用光パルス発生部(11)と、
被測定光信号および前記サンプリング用光パルスが入力され、前記サンプリング用光パルスが入力された際の相互吸収飽和による光ゲート動作を利用して前記被測定光信号をサンプリングする電界吸収型光変調器(12)と、
前記電界吸収型光変調器から出力された光信号を電気信号に変換する受光器(15)と、
を備え、
等価サンプリング方式で前記被測定光信号の波形を測定するサンプリング波形測定装置(101)において、
前記サンプリング用光パルス発生部は、前記サンプリング用光パルスとして、光パワーの時間波形に複数のピークを有するパルス群を発生し、
前記電界吸収型光変調器は、前記複数のピークのうち少なくとも2番目以降のピークによって前記被測定光信号を1回サンプリングすることを特徴とするサンプリング波形測定装置。 - 前記サンプリング用光パルス発生部は、前記時間波形に複数のピークを有するパルス群として、複数の光パルスを発生し、
前記電界吸収型光変調器は、前記複数の光パルスのうちの少なくとも2番目以降の光パルスによって前記被測定光信号を1回サンプリングすることを特徴とする請求項1に記載のサンプリング波形測定装置。 - 前記サンプリング用光パルス発生部は、前記時間波形に複数のピークを有するパルス群として、複数の極大点を有する光パルスを発生し、
前記電界吸収型光変調器は、前記複数の極大点のうちの少なくとも2番目以降の極大点によって前記被測定光信号を1回サンプリングすることを特徴とする請求項1に記載のサンプリング波形測定装置。 - 前記サンプリング用光パルス発生部は、前記複数の光パルスとして、2つの光パルスを発生することを特徴とする請求項2に記載のサンプリング波形測定装置。
- 前記サンプリング用光パルス発生部は、前記複数の極大点を有する光パルスとして、2つの極大点を有する光パルスを発生することを特徴とする請求項3に記載のサンプリング波形測定装置。
- 前記サンプリング用光パルス発生部は、
1つの光パルスを一定周期で発生する光パルス発生器(21)と、
前記光パルス発生器からの光パルスを時間軸上で多重化する光パルス多重化手段(22)と、
を備えることを特徴とする請求項1から5のいずれかに記載のサンプリング波形測定装置。 - 前記光パルス多重化手段は、
前記光パルスの偏波を変える偏波変更手段(22−1)と、
前記偏波変更手段の出力光が入力され偏波によって屈折率の異なる複屈折媒質(22−2)と、
を備えることを特徴とする請求項6に記載のサンプリング波形測定装置。 - 前記光パルス多重化手段は、
前記光パルスの偏波を変える偏波変更手段(22−1)と、
前記偏波変更手段の出力光が入力され偏波によって屈折率の異なる複屈折媒質(22−2)と、
前記複屈折媒質の出力光の特定方向の偏光成分を抽出する偏光子(22−3)と、
を備えることを特徴とする請求項6に記載のサンプリング波形測定装置。 - 前記光パルス多重化手段は、
前記光パルスを複数の光路に分岐する光分岐部(22−4)と、
前記複数の光路の一部または全部に時間遅延を与える光遅延部(22−5)と、
前記複数の光路を合波する光合波部(22−6)と、
を備えることを特徴とする請求項6に記載のサンプリング波形測定装置。 - 前記サンプリング用光パルス発生部は、
周波数チャープを伴った1つの光パルスを一定周期で発生する光パルス発生器(21c)と、
前記光パルスが入力され波長分散を持つ波長分散媒質(23)と、
を備えることを特徴とする請求項1から5のいずれかに記載のサンプリング波形測定装置。 - 前記サンプリング用光パルス発生部は、
1つの光パルスを一定周期で発生する光パルス発生器(21)と、
前記光パルスが入力され自己位相変調を生じる光非線形媒質(24)と、
前記光非線形媒質の出力光が入力され波長分散を持つ波長分散媒質(23)と、
を備えることを特徴とする請求項1から5のいずれかに記載のサンプリング波形測定装置。 - サンプリング用光パルスを発生するサンプリング用光パルス発生手順(S111)と、
被測定光信号および前記サンプリング用光パルスが電界吸収型光変調器(12)に入力され、前記サンプリング用光パルスが入力された際の前記電界吸収型光変調器における相互吸収飽和による光ゲート動作を利用して前記被測定光信号をサンプリングして光信号を出力するサンプリング手順(S112)と、
前記サンプリング手順で出力した光信号を電気信号に変換する受光手順(S113)と、
を順に有し、
等価サンプリング方式で前記被測定光信号の波形を測定するサンプリング波形測定方法であって、
前記サンプリング用光パルス発生手順において、前記サンプリング用光パルスとして、光パワーの時間波形に複数のピークを有するパルス群を発生し、
前記サンプリング手順において、前記複数のピークのうち少なくとも2番目以降のピークによって前記被測定光信号を1回サンプリングすることを特徴とするサンプリング波形測定方法。 - 前記サンプリング用光パルス発生手順において、前記時間波形に複数のピークを有するパルス群として、複数の光パルスを発生し、
前記サンプリング手順において、前記複数の光パルスのうちの少なくとも2番目以降の光パルスによって前記被測定光信号を1回サンプリングすることを特徴とする請求項12に記載のサンプリング波形測定方法。 - 前記サンプリング用光パルス発生手順において、前記時間波形に複数のピークを有するパルス群として、複数の極大点を有する光パルスを発生し、
前記サンプリング手順において、前記複数の極大点のうちの少なくとも2番目以降の極大点によって前記被測定光信号を1回サンプリングすることを特徴とする請求項12に記載のサンプリング波形測定方法。 - 前記サンプリング用光パルス発生手順において、前記複数の光パルスとして、2つの光パルスを発生することを特徴とする請求項13に記載のサンプリング波形測定方法。
- 前記サンプリング用光パルス発生手順において、前記複数の極大点を有する光パルスとして、2つの極大点を有する光パルスを発生することを特徴とする請求項14に記載のサンプリング波形測定方法。
- 前記サンプリング用光パルス発生手順において、
1つの光パルスを一定周期で発生する光パルス発生手順と、
前記光パルス発生手順で発生した光パルスを時間軸上で多重化する光パルス多重化手順と、
を順に有することを特徴とする請求項12から16のいずれかに記載のサンプリング波形測定方法。 - 前記光パルス多重化手順において、
前記光パルスの偏波を変える偏波変更手順と、
前記偏波変更手順で偏波を変えた出力光が入力され偏波によって屈折率の異なる複屈折媒質(22−2)を通過させる複屈折手順と、
を順に有することを特徴とする請求項17に記載のサンプリング波形測定方法。 - 前記光パルス多重化手順において、
前記光パルスの偏波を変える偏波変更手順と、
前記偏波変更手順で偏波を変えた出力光が入力され偏波によって屈折率の異なる複屈折媒質(22−2)を通過させる複屈折手順と、
前記複屈折媒質の出力光の特定方向の偏光成分を抽出する偏光成分抽出手順と、
を順に有することを特徴とする請求項17に記載のサンプリング波形測定方法。 - 前記光パルス多重化手順において、
前記光パルスを複数の光路に分岐する光分岐手順と、
前記複数の光路の一部または全部に時間遅延を与える光遅延手順と、
前記複数の光路を合波する光合波手順と、
を順に有することを特徴とする請求項17に記載のサンプリング波形測定方法。 - 前記サンプリング用光パルス発生手順において、
周波数チャープを伴った1つの光パルスを一定周期で発生する光パルス発生手順と、
前記光パルスが入力され波長分散を持つ波長分散媒質(23)を通過させる波長分散手順と、
を順に有することを特徴とする請求項12から16のいずれかに記載のサンプリング波形測定方法。 - 前記サンプリング用光パルス発生手順において、
1つの光パルスを一定周期で発生する光パルス発生手順と、
前記光パルスが入力され自己位相変調を生じる光非線形媒質(24)を通過させる位相変調手順と、
前記光非線形媒質の出力光が入力され波長分散を持つ波長分散媒質(23)を通過させる波長分散手順と、
を順に有することを特徴とする請求項12から16のいずれかに記載のサンプリング波形測定方法。
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