JP4940851B2 - Method for producing retardation film - Google Patents

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Description

本発明は、液晶表示装置等に用いられる位相差フィルムの製造方法に関するものである。   The present invention relates to a method for producing a retardation film used in a liquid crystal display device or the like.

液晶表示装置は、その省電力、軽量、薄型等といった特徴を有することから、従来のC
RTディスプレイに替わり、近年急速に普及している。一般的な液晶表示装置としては、例えば図3に示すように、入射側の偏光板102Aと、出射側の偏光板102Bと、液晶セル104とを有するものを挙げることができる。偏光板102Aおよび102Bは、所定の振動方向の振動面を有する直線偏光(図中、光の振動方向を矢印で模式的に図示)のみを選択的に透過させるように構成されたものであり、それぞれの振動方向が相互に直角の関係になるようにクロスニコル状態で対向して配置されている。また、液晶セル104は画素に対応する多数のセルを含むものであり、偏光板102Aと102Bとの間に配置されている。
Since the liquid crystal display device has features such as power saving, light weight, thinness, etc., the conventional C
Instead of RT display, it has been rapidly spreading in recent years. As a typical liquid crystal display device, for example, as shown in FIG. 3, a liquid crystal display device having an incident side polarizing plate 102 </ b> A, an outgoing side polarizing plate 102 </ b> B, and a liquid crystal cell 104 can be cited. The polarizing plates 102A and 102B are configured to selectively transmit only linearly polarized light having a vibration surface in a predetermined vibration direction (in the drawing, the vibration direction of light is schematically illustrated by an arrow), They are arranged opposite to each other in a crossed nicols state so that the respective vibration directions are perpendicular to each other. The liquid crystal cell 104 includes a large number of cells corresponding to the pixels, and is disposed between the polarizing plates 102A and 102B.

一方、液晶表示装置は上述したような利点を有するが、その特有の問題点として、液晶セルの有する屈折率異方性に起因する視野角依存性の問題点がある。この視野角依存性の問題は、液晶表示装置を正面から見た場合と、斜め方向から見た場合とで、視認される画像の色味やコントラストが変化してしまう問題である。このような視野角特性の問題は、近年の液晶表示装置の大画面化に伴って、さらにその問題の重要性が増している。   On the other hand, the liquid crystal display device has the advantages as described above, but as a particular problem, there is a problem of viewing angle dependency due to the refractive index anisotropy of the liquid crystal cell. This problem of viewing angle dependency is a problem in which the color and contrast of a visually recognized image change between when the liquid crystal display device is viewed from the front and when viewed from an oblique direction. Such a problem of viewing angle characteristics has become more important as the liquid crystal display device has recently been enlarged.

このような視野角依存性の問題を改善するため、現在までに様々な技術が開発されており、その代表的な方法として位相差フィルムを用いる方法がある。この位相差フィルムを用いる方法は、図3に示すように所定の光学特性を有する位相差フィルム30を、液晶セル104と偏光板102Bとの間に配置することにより、視野角依存性の問題を改善する方法である。この方法は位相差フィルム30を液晶表示装置に組み込むことのみで上記視野角依存性の問題点を改善できることから、簡便に視野角特性に優れた液晶表示装置を得ることが可能な方法として広く用いられるに至っている。   In order to improve such a problem of viewing angle dependency, various techniques have been developed so far, and a representative method is a method using a retardation film. In the method using this retardation film, as shown in FIG. 3, the retardation film 30 having predetermined optical characteristics is disposed between the liquid crystal cell 104 and the polarizing plate 102B, thereby causing a problem of viewing angle dependency. It is a way to improve. Since this method can improve the viewing angle dependency only by incorporating the retardation film 30 in the liquid crystal display device, it is widely used as a method for easily obtaining a liquid crystal display device having excellent viewing angle characteristics. Has come to be.

ここで、上記位相差フィルムとしては、例えば、透明基板上に、屈折率異方性を有する光学異方性材料を含有する位相差層が形成された構成を有するものや、延伸フィルムからなるものが一般的に知られている。なかでも、上記光学異方性材料を含有する位相差層が形成された構成を有する位相差フィルムは、位相差性の発現性に優れることから、今日の位相差フィルムの主要な形態となっている。このような構成を有する位相差フィルムについては、例えば特許文献1または特許文献2に、コレステリック規則性の分子構造を有する光学異方性層(複屈折性を示す光学異方性層)が配向膜を有する基材上に形成された位相差フィルムが開示されている。また、特許文献3には、円盤状化合物からなる光学異方性層(複屈折性を示す光学異方性層)が配向膜を有する基材上に形成された位相差フィルムが開示されている。   Here, as the retardation film, for example, one having a configuration in which a retardation layer containing an optically anisotropic material having refractive index anisotropy is formed on a transparent substrate, or a stretched film is used. Is generally known. Among them, a retardation film having a configuration in which a retardation layer containing the optically anisotropic material is formed has excellent retardation, and thus becomes a major form of today's retardation film. Yes. Regarding the retardation film having such a configuration, for example, in Patent Document 1 or Patent Document 2, an optically anisotropic layer having a cholesteric regular molecular structure (an optically anisotropic layer exhibiting birefringence) is an alignment film. There is disclosed a retardation film formed on a substrate having the following. Patent Document 3 discloses a retardation film in which an optically anisotropic layer (an optically anisotropic layer exhibiting birefringence) made of a discotic compound is formed on a substrate having an alignment film. .

ところで、上記透明基板上に位相差層が形成された構成を有する位相差フィルムにおいては、通常、上記光学異方性材料が位相差層内において規則的配列することにより所定の位相差性を発現するように設計されている。このため、上記構成を有する位相差フィルムを製造するに際しては、上記位相差層を上記透明基板とともに延伸することにより、上記光学異方性材料を延伸方向に規則的に配列させる方法が用いられることが多い。
しかしながら、このような方法で上記光学異方性材料を配列させた場合、上記位相差層または、上記透明基板のいずれか一方に亀裂が生じてしまったり、さらにはいずれか一方が破断してしまったりする問題点が指摘されている。
また、上記のような延伸方法を用いて作製した位相差フィルムは、位相差性の経時変化量が大きくなる場合があるという問題点も指摘されている。
By the way, in a retardation film having a configuration in which a retardation layer is formed on the transparent substrate, usually, the optically anisotropic material is regularly arranged in the retardation layer to exhibit a predetermined retardation. Designed to be. For this reason, when manufacturing the retardation film having the above-described configuration, a method is used in which the optically anisotropic material is regularly arranged in the stretching direction by stretching the retardation layer together with the transparent substrate. There are many.
However, when the optically anisotropic material is arranged by such a method, either one of the retardation layer or the transparent substrate is cracked or one of them is broken. Some problems have been pointed out.
In addition, it has been pointed out that a retardation film produced by using the stretching method as described above may have a large amount of retardation change with time.

このようなことから、上記延伸により位相差性を発現させる方法は、簡便に位相差層に位相差性を付与できるという利点を有するものの、必ずしも位相差性の経時安定性に優れた位相差フィルムを高生産性で製造可能なものではなかった。   For this reason, the method of expressing retardation by stretching described above has the advantage that the retardation layer can be easily imparted to the retardation layer, but it is not necessarily excellent in retardation stability over time. It was not possible to manufacture with high productivity.

特開平3−67219号公報JP-A-3-67219 特開平4−322223号公報JP-A-4-322223 特開平10−312166号公報Japanese Patent Laid-Open No. 10-312166

本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、透明基板上に光学異方性材料を含有する位相差層が積層された構成を有する位相差フィルムの製造方法であって、位相差性の経時安定性に優れた位相差フィルムを高生産性で製造可能な、位相差フィルムの製造方法を提供することを主目的とするものである。   The present invention has been made in view of the above problems, and is a method for producing a retardation film having a configuration in which a retardation layer containing an optically anisotropic material is laminated on a transparent substrate, the retardation film comprising: It is a main object of the present invention to provide a method for producing a retardation film, which can produce a retardation film having excellent stability over time with high productivity.

上記課題を解決するために、本発明は、透明基板を用い、上記透明基板上に屈折率異方性を有する光学異方性材料を含有する位相差層形成用塗工液を塗工することにより、透明基板上に位相差層形成用層が積層された光学積層体を形成する光学積層体形成工程と、上記光学積層体形成工程により形成された光学積層体を延伸することにより、上記位相差層形成用層に位相差性を発現させる延伸処理工程と、を有し、上記透明基板上に上記光学異方性材料を含有する位相差層が積層された位相差フィルムを製造する、位相差フィルムの製造方法であって、上記位相差層形成用層の破断引張伸度と、上記透明基板の破断引張伸度との比(位相差層形成用層の破断引張伸度/透明基板の破断引張伸度)が1〜30の範囲内であることを特徴とする位相差フィルムの製造方法を提供する。   In order to solve the above-mentioned problems, the present invention uses a transparent substrate, and coats a coating solution for forming a retardation layer containing an optically anisotropic material having refractive index anisotropy on the transparent substrate. By stretching the optical laminate formed by the optical laminate forming step and the optical laminate forming step of forming the optical laminate in which the retardation layer forming layer is laminated on the transparent substrate. Producing a retardation film in which a retardation layer containing the optically anisotropic material is laminated on the transparent substrate. A method for producing a retardation film, wherein the ratio of the tensile elongation at break of the layer for forming the retardation layer to the tensile elongation at break of the transparent substrate (the tensile elongation at break of the layer for forming the retardation layer / the transparent substrate) The tensile elongation at break) is in the range of 1-30. To provide a method of manufacturing a difference film.

本発明によれば、上記光学積層体を構成する位相差層形成用層および透明基板の破断引張伸度の比が上記範囲内であることにより、上記延伸処理工程において上記光学積層体を延伸する際に、上記透明基板または上記位相差層形成用層のいずれか一方に破断や亀裂が生じることを防止できる。このため、本発明によれば高生産性で位相差フィルムを製造することができる。
また本発明によれば、上記光学積層体を構成する位相差層形成用層および透明基板の破断引張伸度の比が上記範囲内であることにより、本発明により製造される位相差フィルムを経時寸法変化が少ないものとすることができる。このため、本発明によれば位相差性の経時安定性に優れる位相差フィルムを製造することができる。
このようなことから、本発明によれば透明基板上に光学異方性材料を含有する位相差層が積層された構成を有し、位相差性の経時安定性に優れた位相差フィルムを高生産性で製造できる。
According to the present invention, the optical laminate is stretched in the stretching treatment step because the ratio of the tensile elongation at break of the retardation layer forming layer and the transparent substrate constituting the optical laminate is within the above range. In this case, it is possible to prevent breakage or cracks from occurring in either the transparent substrate or the retardation layer forming layer. For this reason, according to the present invention, a retardation film can be produced with high productivity.
Further, according to the present invention, the retardation film produced according to the present invention is aged over time because the ratio of the tensile elongation at break of the retardation layer forming layer and the transparent substrate constituting the optical laminate is within the above range. The dimensional change can be reduced. For this reason, according to the present invention, a retardation film having excellent retardation stability with time can be produced.
For this reason, according to the present invention, a retardation film containing an optically anisotropic material is laminated on a transparent substrate, and a retardation film excellent in retardation stability with time is increased. Can be manufactured with productivity.

本発明においては、上記位相差層形成用層の破断引張伸度が150%〜250%の範囲内であることが好ましい。また、本発明においては、上記透明基板の破断引張伸度が5%〜250%の範囲内であることが好ましい。上記位相差層形成用層および上記透明基板の破断引張伸度がそれぞれ上記範囲内であることにより、本発明によって製造される位相差フィルムの用途等に応じて、上記位相差層形成用層に所定の位相差性を付与できるように、上記延伸処理工程における延伸倍率を調整することが容易になるからである。   In the present invention, the tensile elongation at break of the retardation layer forming layer is preferably in the range of 150% to 250%. Moreover, in this invention, it is preferable that the breaking tensile elongation of the said transparent substrate exists in the range of 5%-250%. Depending on the use of the retardation film produced by the present invention, the retardation layer forming layer and the transparent substrate each have a tensile elongation at break within the above range. This is because it becomes easy to adjust the stretch ratio in the stretching step so that the predetermined retardation can be imparted.

また本発明においては、上記延伸処理工程における上記光学積層体の延伸倍率が1.01倍〜2倍の範囲内であることが好ましい。上記延伸倍率がこのような範囲内であることにより、上記延伸処理工程において、上記位相差層形成用層または上記透明基板のいずれか一方に亀裂や破断が生じることをさらに防止できるため、本発明の位相差フィルムの製造方法をより生産性の高いものにできるからである。   Moreover, in this invention, it is preferable that the draw ratio of the said optical laminated body in the said extending process process exists in the range of 1.01 times-2 times. Since the stretching ratio is within such a range, it is possible to further prevent cracks and breaks from occurring in either the retardation layer forming layer or the transparent substrate in the stretching treatment step. This is because the method for producing the retardation film can be made more productive.

本発明は、透明基板上に光学異方性材料を含有する位相差層が積層された構成を有し、位相差性の経時安定性に優れた位相差フィルムを、高生産性で製造できるという効果を奏する。   The present invention has a configuration in which a retardation layer containing an optically anisotropic material is laminated on a transparent substrate, and a retardation film excellent in retardation stability over time can be produced with high productivity. There is an effect.

以下、本発明の位相差フィルムの製造方法について説明する。   Hereinafter, the manufacturing method of the retardation film of this invention is demonstrated.

本発明の位相差フィルムの製造方法は、透明基板を用い、上記透明基板上に屈折率異方性を有する光学異方性材料を含有する位相差層形成用塗工液を塗工することにより、透明基板に位相差層形成用層が積層された光学積層体を形成する光学積層体形成工程と、上記光学積層体形成工程により形成された光学積層体を延伸することにより、上記位相差層形成用層に位相差性を発現させる延伸処理工程と、を有し、上記透明基板上に上記光学異方性材料を含有する位相差層が積層された位相差フィルムを製造するものであって、上記位相差層形成用層の破断引張伸度と、上記透明基板の破断引張伸度との比(位相差層形成用層の破断引張伸度/透明基板の破断引張伸度)が1〜30の範囲内であることを特徴とするものである。   The method for producing a retardation film of the present invention comprises using a transparent substrate, and coating a coating solution for forming a retardation layer containing an optically anisotropic material having refractive index anisotropy on the transparent substrate. An optical laminate forming step of forming an optical laminate in which a retardation layer forming layer is laminated on a transparent substrate; and the retardation layer is formed by stretching the optical laminate formed by the optical laminate forming step. And a stretching treatment step for expressing retardation in the forming layer, and producing a retardation film in which a retardation layer containing the optically anisotropic material is laminated on the transparent substrate. The ratio of the breaking tensile elongation of the retardation layer forming layer to the breaking tensile elongation of the transparent substrate (breaking tensile elongation of the retardation layer forming layer / breaking tensile elongation of the transparent substrate) is 1 to 1. It is within the range of 30.

このような本発明の位相差フィルムの製造方法について、図を参照しながら説明する。図1は本発明の位相差フィルムの製造方法の一例を示す概略図である。図1に例示するように、本発明の位相差フィルムの製造方法は、透明基板1を用い(図1(a))、上記透明基板1上に屈折率異方性を有する光学異方性材料を含有する位相差層形成用塗工液を塗工することにより、透明基板1上に位相差層形成用層2’が積層された光学積層体10’を形成する光学積層体形成工程(図1(b))と、上記光学積層体形成工程により形成された光学積層体10’を延伸することにより、上記位相差層形成用層2’に位相差性を発現させる延伸処理工程(図1(c))と、を有し、上記透明基板1上に上記光学異方性材料を含有する位相差層2が積層された位相差フィルム10を製造するものである(図1(d))。
このような例において、本発明の位相差フィルムの製造方法は、上記光学積層体10’における上記位相差層形成用層2’の破断引張伸度と、上記透明基板1の破断引張伸度との比(位相差層形成用層の破断引張伸度/透明基板の破断引張伸度)が1〜30の範囲内であることを特徴とするものである。
The method for producing the retardation film of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic view showing an example of a method for producing a retardation film of the present invention. As illustrated in FIG. 1, the method for producing a retardation film of the present invention uses a transparent substrate 1 (FIG. 1A), and an optically anisotropic material having refractive index anisotropy on the transparent substrate 1. An optical laminate forming step for forming an optical laminate 10 ′ in which a retardation layer forming layer 2 ′ is laminated on the transparent substrate 1 by applying a retardation layer forming coating solution containing 1 (b)) and an optical laminate 10 ′ formed by the optical laminate forming process, thereby stretching the retardation layer forming layer 2 ′ to develop retardation (FIG. 1). (C)), and a retardation film 10 in which a retardation layer 2 containing the optically anisotropic material is laminated on the transparent substrate 1 is manufactured (FIG. 1D). .
In such an example, the method for producing a retardation film of the present invention includes the breaking tensile elongation of the retardation layer forming layer 2 ′ in the optical laminate 10 ′ and the breaking tensile elongation of the transparent substrate 1. The ratio (breaking tensile elongation of the retardation layer forming layer / breaking tensile elongation of the transparent substrate) is in the range of 1 to 30.

本発明によれば、上記光学積層体を構成する位相差層形成用層および透明基板の破断引張伸度の比が上記範囲内であることにより、上記位相差層形成用層および上記透明基板の破断引張伸度を互いに近いものとすることができる。このため、上記延伸処理工程において上記光学積層体を延伸する際に、上記透明基板または上記位相差層形成用層のいずれか一方に破断や亀裂が生じることを防止できる。このようなことから、本発明によれば高生産性で位相差フィルムを製造することができる。
また本発明によれば、上記光学積層体を構成する位相差層形成用層および透明基板の破断引張伸度の比が上記範囲内であることにより、本発明により製造される位相差フィルムを経時寸法変化が少ないものとすることができる。このため、本発明によれば位相差性の経時安定性に優れる位相差フィルムを製造することができる。
このようなことから、本発明によれば透明基板上に光学異方性材料を含有する位相差層が積層された構成を有し、位相差性の経時安定性に優れた位相差フィルムを高生産性で製造できる。
According to the present invention, when the ratio of the tensile elongation at break of the retardation layer forming layer and the transparent substrate constituting the optical laminate is within the above range, the retardation layer forming layer and the transparent substrate The tensile elongation at break can be close to each other. For this reason, when extending | stretching the said optical laminated body in the said extending | stretching process process, it can prevent that a fracture | rupture or a crack arises in either one of the said transparent substrate or the said phase difference layer formation layer. Therefore, according to the present invention, a retardation film can be produced with high productivity.
Further, according to the present invention, the retardation film produced according to the present invention is aged over time because the ratio of the tensile elongation at break of the retardation layer forming layer and the transparent substrate constituting the optical laminate is within the above range. The dimensional change can be reduced. For this reason, according to the present invention, a retardation film having excellent retardation stability with time can be produced.
For this reason, according to the present invention, a retardation film containing an optically anisotropic material is laminated on a transparent substrate, and a retardation film excellent in retardation stability with time is increased. Can be manufactured with productivity.

本発明の位相差フィルムの製造方法は、少なくとも上記光学積層体形成工程と、上記延伸処理工程とを有するものである。
以下、本発明の位相差フィルムの製造方法に用いられる各工程について順に説明する。
The manufacturing method of the retardation film of this invention has at least the said optical laminated body formation process and the said extending | stretching process process.
Hereinafter, each process used for the manufacturing method of the retardation film of this invention is demonstrated in order.

1.光学積層体形成工程
まず、本発明に用いられる光学積層体形成工程について説明する。本工程は、透明基板を用い、上記透明基板上に屈折率異方性を有する光学異方性材料を含有する位相差層形成用塗工液を塗工することにより、透明基板に位相差層形成用層が積層された光学積層体であって、上記位相差層形成用層の破断引張伸度と、上記透明基板の破断引張伸度との比(位相差層形成用層の破断引張伸度/透明基板の破断引張伸度)が1〜30の範囲内である光学積層体を製造する工程である。
以下、このような光学積層体形成工程について詳細に説明する。
1. Optical Laminate Forming Process First, the optical laminate forming process used in the present invention will be described. This step uses a transparent substrate and coats the transparent substrate with a retardation layer forming coating solution containing an optically anisotropic material having refractive index anisotropy on the transparent substrate. An optical laminate in which a forming layer is laminated, wherein a ratio of a breaking tensile elongation of the retardation layer forming layer to a breaking tensile elongation of the transparent substrate (a breaking tensile elongation of the retardation layer forming layer) Degree / breaking tensile elongation of the transparent substrate) is a step of producing an optical laminate having a range of 1 to 30.
Hereinafter, such an optical layered body forming step will be described in detail.

(1)光学積層体
まず、本工程において形成される光学積層体について説明する。本工程において形成される光学積層体は、透明基板と、位相差層形成用層とが積層された構成を有するものであり、かつ、上記位相差層形成用層の破断引張伸度と、上記透明基板の破断引張伸度との比(位相差層形成用層の破断引張伸度/透明基板の破断引張伸度)(以下、単に「破断引張伸度比」と称する場合がある。)が1〜30の範囲内のものである。
(1) Optical laminated body First, the optical laminated body formed in this process is demonstrated. The optical laminate formed in this step has a configuration in which a transparent substrate and a retardation layer forming layer are laminated, and the tensile elongation at break of the retardation layer forming layer is as described above. The ratio of the tensile elongation at break of the transparent substrate (the tensile elongation at break of the layer for forming the retardation layer / the tensile elongation at break of the transparent substrate) (hereinafter sometimes simply referred to as “the ratio of the tensile elongation at break”). It is within the range of 1-30.

本工程において形成される光学積層体の上記破断引張伸度比を上記範囲内とするのは、破断引張伸度比が上記範囲外であると、後述する延伸処理工程において本工程により形成された光学積層体を延伸する際に、上記透明基板または上記位相差層形成用層のいずれか一方に亀裂や破断が生じやすくなってしまうからである。また、上記破断引張伸度比が上記範囲外であると、本発明により製造される位相差フィルムが経時で寸法変化が生じやすいものとなってしまうため、経時での位相差性の変化が大きくなってしまうからである。   The above-mentioned fracture tensile elongation ratio of the optical laminate formed in this step is within the above range because the fracture tensile elongation ratio is out of the above range and is formed by this step in the stretching treatment step described later. This is because, when the optical laminate is stretched, cracks or breaks are likely to occur in either the transparent substrate or the retardation layer forming layer. In addition, when the breaking tensile elongation ratio is out of the above range, the retardation film produced according to the present invention is likely to undergo dimensional change over time, so that the change in retardation over time is large. Because it becomes.

本工程において形成される光学積層体の上記破断引張伸度比は1〜30の範囲内であれば特に限定されるものではなく、後述する延伸処理工程における延伸倍率等に応じて任意に決定すればよい。なかでも本工程において形成される光学積層体は、上記破断引張伸度比が1〜20の範囲内であることが好ましい。
ここで、上記破断引張伸度比は、例えば、JIS−K−6781に準拠し、引張試験機(島津オートグラフ:AGS−D)を用いて上記透明基板および位相差層形成用層の破断引張伸度を測定した後、その測定値から算出することができる。ここで、上記位相差層形成用層の破断引張伸度は、上記光学積層体の破断引張伸度を上記方法によって測定した後、当該測定値から上記透明基板の破断引張伸度の測定値を差し引くことによって求めることができる。
The above-mentioned breaking tensile elongation ratio of the optical laminate formed in this step is not particularly limited as long as it is within the range of 1 to 30, and can be arbitrarily determined according to the stretching ratio in the stretching treatment step described later. That's fine. In particular, the optical laminate formed in this step preferably has a breaking tensile elongation ratio in the range of 1-20.
Here, the breaking tensile elongation ratio is, for example, based on JIS-K-6781, and using a tensile testing machine (Shimadzu Autograph: AGS-D), the breaking tension of the transparent substrate and the retardation layer forming layer. After measuring the elongation, it can be calculated from the measured value. Here, the tensile elongation at break of the retardation layer forming layer is obtained by measuring the tensile elongation at break of the optical laminate by the method described above, and then calculating the measured value of the tensile elongation at break of the transparent substrate from the measured value. It can be determined by subtracting.

また、本工程により形成される光学積層体は、上記位相差層形成用層の破断引張伸度が150%〜250%の範囲内であることがましく、なかでも150%〜220%の範囲内であることが好ましく、特に150%〜200%の範囲内であることが好ましい。
また、本工程により形成される光学積層体は、上記透明基板の破断引張伸度が5%〜50%の範囲内であること好ましく、なかでも5%〜45%の範囲内であることが好ましく、特に5%〜40%の範囲内であることが好ましい。上記位相差層形成用層および上記透明基板の破断引張伸度がそれぞれ上記範囲内であることにより、本発明によって製造される位相差フィルムの用途等に応じて、上記位相差層に所定の位相差性を付与できるように、上記延伸処理工程における延伸倍率を調整することが容易になるからである。
The optical layered product formed by this step preferably has a tensile elongation at break of the retardation layer forming layer in the range of 150% to 250%, and more preferably in the range of 150% to 220%. It is preferable that it is in the range of 150% to 200%.
The optical laminate formed by this step preferably has a breaking tensile elongation of the transparent substrate in the range of 5% to 50%, and more preferably in the range of 5% to 45%. In particular, it is preferably in the range of 5% to 40%. When the breaking tensile elongation of the retardation layer forming layer and the transparent substrate is within the above range, the retardation layer has a predetermined position depending on the use of the retardation film produced by the present invention. It is because it becomes easy to adjust the draw ratio in the said extending process process so that phase difference can be provided.

また、本工程により形成される光学積層体は、透明基板上に位相差層形成用層が積層された構成を有するものであるが、上記透明基板上に位相差層形成用層が積層された態様としては、上記透明基板と上記位相差層形成用層とが独立した層として積層された態様であってもよく、または、上記透明基板と位相差層形成用層との間に明確な界面がなく、両者の間において上記光学異方性材料の含有量が連続的に変化するように積層された態様であってもよい。   Further, the optical laminate formed by this step has a configuration in which a retardation layer forming layer is laminated on a transparent substrate, but the retardation layer forming layer is laminated on the transparent substrate. The aspect may be an aspect in which the transparent substrate and the retardation layer forming layer are laminated as independent layers, or a clear interface between the transparent substrate and the retardation layer forming layer. There may be a mode in which the layers are laminated so that the content of the optically anisotropic material continuously changes between them.

このような、上記透明基板と上記位相差層形成用層とが積層された態様について図を参照しながら説明する。図2は本工程により形成される光学積層体において、上記透明基板と上記位相差層形成用層とが積層された態様の一例を示す概略図である。図2に例示するように、本工程により形成される光学積層体10’は、上記透明基板1と上記位相差層形成用層2’とが独立した層として積層された態様であってもよく(図2(a))、または、上記透明基板1と位相差層形成用層2’との間に明確な界面がなく、両者の間において上記光学異方性材料の含有量が連続的に変化するように積層された態様であってもよい(図2(b))。   Such an aspect in which the transparent substrate and the retardation layer forming layer are laminated will be described with reference to the drawings. FIG. 2 is a schematic view showing an example of an aspect in which the transparent substrate and the retardation layer forming layer are laminated in the optical laminate formed by this step. As illustrated in FIG. 2, the optical layered body 10 ′ formed by this step may have a mode in which the transparent substrate 1 and the retardation layer forming layer 2 ′ are stacked as independent layers. (FIG. 2 (a)), or there is no clear interface between the transparent substrate 1 and the retardation layer forming layer 2 ′, and the content of the optically anisotropic material is continuously between the two. The layers may be stacked so as to change (FIG. 2B).

(2)光学積層体の製造方法
次に、本工程において、上記透明基板上に屈折率異方性を有する光学異方性材料を含有する位相差層形成用塗工液を塗工することにより、光学積層体を形成する方法について説明する。
(2) Manufacturing method of optical laminated body Next, in this step, by applying a retardation layer forming coating solution containing an optically anisotropic material having refractive index anisotropy on the transparent substrate. A method for forming the optical laminate will be described.

a.位相差層形成用塗工液
本工程に用いられる位相差層形成用塗工液は、屈折率異方性を有する光学異方性材料を含有するものであり、通常、上記光学異方性材料が溶媒に溶解されてなるものである。
a. Retardation layer forming coating solution The retardation layer forming coating solution used in this step contains an optically anisotropic material having refractive index anisotropy, and is usually the above optically anisotropic material. Is dissolved in a solvent.

(光学異方性材料)
本工程に用いられる光学異方性材料としては、屈折率異方性を有し、上記破断引張伸度比を本発明で規定する範囲内にできる位相差層形成用層を形成できるものであれば特に限定されるものではない。このような光学異方性材料としては、重合性官能基を有する重合性光学異方性材料、または、光学異方性高分子材料等を挙げることができる。なかでも本工程においては、上記重合性光学異方性材料を用いることが好ましい。上記重合性光学異方性材料は、上記重合性官能基を介して互いに重合させることにより、位相差層形成用層の破断引張伸度を本発明で規定する範囲にすることが容易になるという利点を有するからである。また、上記重合性光学異方性材料は、例えば、後述する延伸処理工程において、光学異方性材料を延伸方向に配列した後に重合することにより、光学異方性材料を配列した状態で固定化することができるため、経時で光学異方性材料の配列状態が変化することを防止できるという利点も有するからである。
ここで、上記「屈折率異方性」とは、屈折率が光の入射方向によって異なることを意味するものである。
(Optically anisotropic material)
The optically anisotropic material used in this step is capable of forming a retardation layer forming layer having refractive index anisotropy and capable of setting the above-described breaking tensile elongation ratio within the range specified in the present invention. There is no particular limitation. Examples of such an optically anisotropic material include a polymerizable optically anisotropic material having a polymerizable functional group, an optically anisotropic polymer material, and the like. Among these, in the present step, it is preferable to use the polymerizable optically anisotropic material. The polymerizable optically anisotropic material can be easily polymerized with each other via the polymerizable functional group, so that the tensile elongation at break of the phase difference layer forming layer can be easily controlled within the range specified in the present invention. This is because it has advantages. In addition, the polymerizable optically anisotropic material is fixed in a state where the optically anisotropic material is arranged by, for example, polymerizing after the optically anisotropic material is arranged in the stretching direction in a stretching process described later. This is because there is an advantage that the arrangement state of the optically anisotropic material can be prevented from changing over time.
Here, the above-mentioned “refractive index anisotropy” means that the refractive index varies depending on the incident direction of light.

上記重合性光学異方性材料としては、重合性官能基を有し、本発明により製造される位相差フィルムに所望の位相差性を付与できるものであれば特に限定されるものではない。なかでも本工程に好適に用いられる重合性光学異方性材料としては、重合性液晶材料と、ウレタンアクリレートモノマーとを挙げることができる。
ここで、上記重合性液晶材料は屈折率異方性が大きいことから、膜厚が薄い位相差層形成用層であっても、位相差性の発現性に優れた位相差層形成用層を形成することができるという利点を有する。また、上記ウレタンアクリレートモノマーは、レターデーション値の波長依存性が逆分散型を示すウレタン結合部(−O−CO−N<)を有することから、レターデーション値の波長依存性が逆分散型である位相差層形成用層を形成することができるという利点を有する。
The polymerizable optically anisotropic material is not particularly limited as long as it has a polymerizable functional group and can impart desired retardation to the retardation film produced according to the present invention. Among these, examples of the polymerizable optically anisotropic material suitably used in this step include a polymerizable liquid crystal material and a urethane acrylate monomer.
Here, since the polymerizable liquid crystal material has a large refractive index anisotropy, a retardation layer forming layer having excellent retardation can be obtained even if the retardation layer forming layer is thin. It has the advantage that it can be formed. In addition, the urethane acrylate monomer has a urethane bond part (—O—CO—N <) in which the wavelength dependency of the retardation value indicates a reverse dispersion type, and therefore the wavelength dependency of the retardation value is a reverse dispersion type. There is an advantage that a certain phase difference layer forming layer can be formed.

上記重合性液晶材料としては、分子内に3次元架橋可能な重合性官能基を有するものがより好適に用いられる。上記重合性官能基としては、例えば、紫外線、電子線等の電離放射線、或いは熱の作用によって重合する重合性官能基を挙げることができる。これら重合性官能基の代表例としては、ラジカル重合性官能基、或いはカチオン重合性官能基等が挙げられる。さらにラジカル重合性官能基の代表例としては、少なくとも一つの付加重合可能なエチレン性不飽和二重結合を持つ官能基が挙げられ、具体例としては、置換基を有するもしくは有さないビニル基、アクリレート基(アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基を包含する総称)等が挙げられる。また、上記カチオン重合性官能基の具体例としては、エポキシ基等が挙げられる。その他、重合性官能基としては、例えば、イソシアネート基、不飽和三重結合等が挙げられる。これらの中でもプロセス上の点から、エチレン性不飽和二重結合を持つ官能基が好適に用いられる。   As the polymerizable liquid crystal material, those having a polymerizable functional group capable of three-dimensional crosslinking in the molecule are more preferably used. Examples of the polymerizable functional group include polymerizable functional groups that are polymerized by the action of ionizing radiation such as ultraviolet rays and electron beams, or heat. Representative examples of these polymerizable functional groups include radically polymerizable functional groups or cationic polymerizable functional groups. Further, representative examples of radically polymerizable functional groups include functional groups having at least one addition-polymerizable ethylenically unsaturated double bond, and specific examples include vinyl groups having or not having substituents, An acrylate group (generic name including an acryloyl group, a methacryloyl group, an acryloyloxy group, and a methacryloyloxy group) and the like can be given. Moreover, an epoxy group etc. are mentioned as a specific example of the said cation polymerizable functional group. In addition, examples of the polymerizable functional group include an isocyanate group and an unsaturated triple bond. Among these, from the viewpoint of the process, a functional group having an ethylenically unsaturated double bond is preferably used.

また、本工程に用いられる重合性液晶材料が示す液晶相は、特に限定されるものではなく、例えば、ネマチック相、コレステリック相、および、スメクチック相等の液晶相を示す重合性液晶材料のいずれであっても好適に用いることができる。なかでも本工程においては、ネマチック相を示す重合性液晶材料を用いることが好ましい。ネマチック相を示す重合性液晶材料は、他の液晶相を示す重合性液晶材料と比較して規則的に配列させることが容易であるからである。   Further, the liquid crystal phase exhibited by the polymerizable liquid crystal material used in this step is not particularly limited, and may be any of the polymerizable liquid crystal materials exhibiting a liquid crystal phase such as a nematic phase, a cholesteric phase, and a smectic phase. However, it can be suitably used. In particular, in this step, it is preferable to use a polymerizable liquid crystal material exhibiting a nematic phase. This is because a polymerizable liquid crystal material exhibiting a nematic phase is easily arranged regularly as compared with polymerizable liquid crystal materials exhibiting other liquid crystal phases.

また、上記ネマチック相を示す重合性液晶材料としては、メソゲン両端にスペーサを有する材料を用いることが好ましい。メソゲン両端にスペーサを有する重合性液晶材料は柔軟性に優れるため、このような重合性液晶材料を用いることにより、本発明により製造される位相差フィルムを透明性に優れたものにできるからである。   Further, as the polymerizable liquid crystal material exhibiting the nematic phase, it is preferable to use a material having spacers at both ends of the mesogen. This is because the polymerizable liquid crystal material having spacers at both ends of the mesogen is excellent in flexibility, and the retardation film produced according to the present invention can be made excellent in transparency by using such a polymerizable liquid crystal material. .

このような重合性液晶材料の具体例としては、下記式(1)〜(6)で表される化合物を例示することができる。   Specific examples of such polymerizable liquid crystal materials include compounds represented by the following formulas (1) to (6).

Figure 0004940851
Figure 0004940851

ここで、化学式(1)、(2)、(5)および(6)で示される重合性液晶材料は、D.J.Broerら、Makromol.Chem.190,3201−3215(1989)、またはD.J.Broerら、Makromol.Chem.190,2250(1989)に開示された方法に従い、あるいはそれに類似して調製することができる。また、化学式(3)および(4)で示される重合性液晶材料の調製は、DE195,04,224に開示されている。   Here, the polymerizable liquid crystal materials represented by the chemical formulas (1), (2), (5) and (6) are disclosed in DJ Broer et al., Makromol. Chem. 190, 3201-3215 (1989), or DJ Broer et al., Makromol. Chem. 190, 2250 (1989), or can be prepared similarly. The preparation of polymerizable liquid crystal materials represented by the chemical formulas (3) and (4) is disclosed in DE 195,04,224.

また、末端にアクリレート基を有するネマチック重合性液晶材料の具体例としては、下記化学式(7)〜(17)に示すものも挙げられる。   Specific examples of the nematic polymerizable liquid crystal material having an acrylate group at the terminal include those represented by the following chemical formulas (7) to (17).

Figure 0004940851
Figure 0004940851

なお、本工程に用いられる重合性液晶材料は、1種類のみであってもよく、または、2種以上であってもよい。例えば、上記重合性液晶材料として、両末端に重合性官能基を1つ以上有する重合性液晶材料と、片末端に重合性官能基を1つ以上有する重合性液晶材料とを混合して用いると、両者の配合比の調整により重合密度(架橋密度)及び光学特性を任意に調整できる点から好ましい。   In addition, the polymeric liquid crystal material used for this process may be only 1 type, or 2 or more types. For example, when the polymerizable liquid crystal material is a mixture of a polymerizable liquid crystal material having one or more polymerizable functional groups at both ends and a polymerizable liquid crystal material having one or more polymerizable functional groups at one end. The polymerization density (crosslinking density) and optical characteristics can be arbitrarily adjusted by adjusting the blending ratio of the two, which is preferable.

なお、上記光学異方性材料として、上記重合性液晶材料を用いた場合、本発明により製造される位相差フィルムの位相差層中には、上記重合性液晶材料の重合物が含有されることになる。   When the polymerizable liquid crystal material is used as the optically anisotropic material, the retardation layer of the retardation film produced according to the present invention contains a polymer of the polymerizable liquid crystal material. become.

本工程に用いられる上記ウレタンアクリレートとしては、ウレタン結合部とアクリロイル基とを有するものであれば特に限定されるものではない。
ここで、上記ウレタンアクリレートモノマーに含まれるアクリロイル基の数は、1つであってもよく、または、複数であってもよい。
また、上記ウレタンアクリレートモノマーに含まれるウレタン結合部の数は、1つであってもよく、または、複数であってもよい。
The urethane acrylate used in this step is not particularly limited as long as it has a urethane bond and an acryloyl group.
Here, the number of acryloyl groups contained in the urethane acrylate monomer may be one or plural.
Further, the number of urethane bond portions contained in the urethane acrylate monomer may be one or plural.

本工程に用いられるウレタンアクリレートモノマーは、ウレタン結合部と、アクリロイル基との間に、屈折率異方性を備える原子団を有するものであることが好ましい。このようなウレタンアクリレートモノマーが重合してなるウレタンアクリレートは、延伸することにより上記屈折率異方性を備える原子団を一方向に配列させることができるため、位相差性の発現性に優れるからである。   The urethane acrylate monomer used in this step preferably has an atomic group having refractive index anisotropy between the urethane bond and the acryloyl group. The urethane acrylate obtained by polymerizing such a urethane acrylate monomer can be arranged in one direction by stretching the atomic group having the above refractive index anisotropy, and thus has excellent retardation. is there.

また、上記屈折率異方性を備える原子団を有するウレタンアクリレートモノマーとしては、上記屈折率異方性を備える原子団を構成する元素の原子量の総和が100〜1000の範囲内であること好ましく、なかでも200〜600の範囲内であることが好ましく、特に400〜600の範囲内であることが好ましい。上記原子量の総和が上記範囲よりも少ないと、位相差性の発現に寄与する原子団が少なくなる結果、本発明により製造される位相差フィルムに所望の位相差性を付与することが困難となる可能性があるからである。また、上記範囲より多いと上記ウレタンアクリレートモノマーが重合してなるウレタンアクリレート中に存在するウレタン結合部が少なくなる結果、本発明により製造される位相差フィルムのレターデーション値の波長依存性を所望の型にすることが困難となる可能性があるからである。   In addition, as the urethane acrylate monomer having an atomic group having the refractive index anisotropy, the total atomic weight of the elements constituting the atomic group having the refractive index anisotropy is preferably in the range of 100 to 1000, Especially, it is preferable to be in the range of 200 to 600, and it is particularly preferable to be in the range of 400 to 600. If the sum of the atomic weights is less than the above range, the number of atomic groups contributing to the development of retardation will be reduced, and as a result, it will be difficult to impart the desired retardation to the retardation film produced according to the present invention. Because there is a possibility. Further, if the amount is larger than the above range, the number of urethane bond portions present in the urethane acrylate obtained by polymerization of the urethane acrylate monomer is reduced, so that the wavelength dependency of the retardation value of the retardation film produced according to the present invention is desired. This is because it may be difficult to mold.

上記屈折率異方性を備える原子団の種類としては、本発明により製造される位相差フィルムの用途等に応じて、所望の位相差性を付与できるものであれば特に限定されるものではない。このような屈折率異方性を備える原子団としては、例えば、エステル結合を含むエステル系原子団、エーテル結合を含むエーテル系原子団等を挙げることができる。本工程においては上記のいずれの原子団であっても好適に用いることができるが、なかでもエステル系原子団を用いることが好ましい。上記エステル系原子団を用いることにより、本工程において形成される位相差層形成用層をさらに位相差性の発現性に優れたものにできるからである。また、上記エステル系原子団を有するウレタンアクリレートモノマーは比較的容易に合成することができるため、本発明の位相差フィルムの製造方法の生産性をより向上することができるからである。   The type of atomic group having the refractive index anisotropy is not particularly limited as long as a desired retardation can be imparted depending on the use of the retardation film produced according to the present invention. . Examples of the atomic group having such refractive index anisotropy include an ester atomic group including an ester bond, an ether atomic group including an ether bond, and the like. In this step, any of the above-mentioned atomic groups can be suitably used, but it is particularly preferable to use an ester-based atomic group. This is because by using the ester group, the retardation layer forming layer formed in this step can be made more excellent in retardation. Moreover, since the urethane acrylate monomer which has the said ester system atomic group can be synthesize | combined comparatively easily, it is because the productivity of the manufacturing method of the retardation film of this invention can be improved more.

本工程に用いられる上記エステル系原子団としては、ラクトンの構成単位を含有するラクトン系原子団、ポリカーボネートの構成単位を含有するポリカーボネート系原子団、および、アジペートの構成単位を含有するアジペート系原子団を挙げることができる。本工程においてはこれらのいずれの原子団であっても好適に用いることができるが、なかでもラクトン系原子団を用いることが好ましい。ラクトン系原子団は屈折率異方性が高く、位相差性の発現性に優れているからである。   The ester group used in this step includes a lactone group containing a lactone constituent unit, a polycarbonate group containing a polycarbonate constituent unit, and an adipate group containing an adipate constituent unit. Can be mentioned. Any of these atomic groups can be suitably used in this step, but among them, a lactone group is preferably used. This is because the lactone-based atomic group has a high refractive index anisotropy and an excellent retardation property.

さらに、本工程においては、上記ラクトン系原子団のなかでもカプロラクトンの構成単位を含むカプロラクトン変性原子団を用いることが好ましい。カプロラクトン変性原子団は屈折率異方性がより大きいため、位相差層形成用層の位相差の発現性をさらに向上することができるからである。
ここで、上記カプロラクトン変性原子団は、単一のカプロラクトンの構成単位を含むものであってもよく、または、複数のカプロラクトンの構成単位を含むものであってもよい。また、上記カプロラクトン変性原子団が複数のカプロラクトンの構成単位を含むものである場合、当該カプロラクトン変性原子団に含有されるカプロラクトンの構成単位の数は、2〜5の範囲内であることが好ましい。
Furthermore, in this step, it is preferable to use a caprolactone-modified atomic group containing a caprolactone constituent unit among the above lactone group. This is because the caprolactone-modified atomic group has a larger refractive index anisotropy, so that the retardation of the retardation layer forming layer can be further improved.
Here, the caprolactone-modified atomic group may include a single caprolactone constituent unit or may include a plurality of caprolactone constituent units. When the caprolactone-modified atomic group includes a plurality of caprolactone structural units, the number of caprolactone structural units contained in the caprolactone-modified atomic group is preferably in the range of 2 to 5.

なお、上記光学異方性材料として、上記ウレタンアクリレートモノマーを用いた場合、本発明により製造される位相差フィルムの位相差層中には、上記ウレタンアクリレートモノマーが重合してなるウレタンアクリレートが含有されることになる。   When the urethane acrylate monomer is used as the optically anisotropic material, the retardation layer of the retardation film produced according to the present invention contains urethane acrylate obtained by polymerizing the urethane acrylate monomer. Will be.

一方、本工程に用いられる上記光学異方性高分子材料としては、上記重合性液晶材料の重合物等の液晶性樹脂、または、上記ウレタンアクリレートモノマーが重合してなるウレタンアクリレートや、ポリウレタン等のウレタン系樹脂を挙げることができる。   On the other hand, as the optically anisotropic polymer material used in this step, a liquid crystalline resin such as a polymer of the polymerizable liquid crystal material, a urethane acrylate obtained by polymerizing the urethane acrylate monomer, a polyurethane, or the like. Mention may be made of urethane resins.

また、本工程に用いられる光学異方性材料としては、上述した材料以外に、炭酸ストロンチウム、ベーマイトアルミナ等の針状結晶や、スメクタイトや雲母等の有機粘土複合体を用いることもできる。   Further, as the optically anisotropic material used in this step, in addition to the materials described above, acicular crystals such as strontium carbonate and boehmite alumina, and organic clay composites such as smectite and mica can also be used.

(溶媒)
上記位相差層形成用塗工液に用いられる溶媒としては、上記光学異方性材料等を所望の濃度で溶解できるものであれば特に限定されるものではない。このような溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、ブタノールおよびジアセトンアルコール等のアルコール系溶媒;ベンゼン、ヘキサン等の炭化水素系溶媒;メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、メチルシクロヘキサノン等のケトン系溶媒;テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒;クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化アルキル系溶媒;酢酸メチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のエステル系溶媒;N,N−ジメチルホルムアミド等のアミド系溶媒、およびジメチルスルホキシド等のスルホキシド系溶媒を挙げることができる。なかでも本工程においては、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、および、シクロペンタノンを用いることが好ましい。
(solvent)
The solvent used for the retardation layer forming coating solution is not particularly limited as long as it can dissolve the optically anisotropic material or the like at a desired concentration. Examples of such solvents include alcohol solvents such as methanol, ethanol, butanol and diacetone alcohol; hydrocarbon solvents such as benzene and hexane; methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, cyclopentanone, methylcyclohexanone, and the like. Ketone solvents; ether solvents such as tetrahydrofuran and 1,2-dimethoxyethane; alkyl halide solvents such as chloroform and dichloromethane; ester solvents such as methyl acetate, butyl acetate and propylene glycol monomethyl ether acetate; N, N- Examples thereof include amide solvents such as dimethylformamide, and sulfoxide solvents such as dimethyl sulfoxide. Among these, in this step, it is preferable to use methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, and cyclopentanone.

なお、本工程に用いられる溶媒は、単一溶媒からなるものであってもよく、複数の溶媒の混合溶媒であってもよい。   The solvent used in this step may be a single solvent or a mixed solvent of a plurality of solvents.

(その他)
本工程に用いられる位相差層形成用塗工液は、本発明の目的を損なわない範囲であれば、上記光学異方性材料および溶媒以外の他の化合物が含有されるものであってもよい。このような他の化合物としては、本発明により製造される位相差フィルムの用途等に応じて所望の機能を有する化合物を用いることができる。このような他の化合物としては、例えば、本発明により製造される位相差フィルムにおいて位相差性の発現性に寄与する屈折率異方性を有する化合物を挙げることができる。このような化合物を用いることにより、例えば、上記光学異方性材料のみでは所望の位相差性を発現することが困難である場合に、位相差性を増加させることができるという利点を有する。
(Other)
The retardation layer forming coating solution used in this step may contain other compounds than the optically anisotropic material and the solvent as long as the object of the present invention is not impaired. . As such another compound, a compound having a desired function can be used according to the use of the retardation film produced according to the present invention. Examples of such other compounds include compounds having a refractive index anisotropy that contributes to the development of retardation in the retardation film produced according to the present invention. By using such a compound, for example, when it is difficult to express a desired retardation with only the optically anisotropic material, there is an advantage that the retardation can be increased.

本工程に用いられる上記屈折率異方性を有する化合物としては、例えば、液晶化合物や、屈折率異方性を備える無機化合物等を挙げることができる。   Examples of the compound having refractive index anisotropy used in this step include liquid crystal compounds and inorganic compounds having refractive index anisotropy.

また、本工程に用いられる光学異方性材料として重合性光学異方性材料を用いる場合、上記他の化合物として光重合開始剤を用いることが好ましい。本工程に用いられる光重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン、o−ベンゾイル安息香酸メチル、4,4−ビス(ジメチルアミン)ベンゾフェノン、4,4−ビス(ジエチルアミン)ベンゾフェノン、α−アミノ・アセトフェノン、4,4−ジクロロベンゾフェノン、4−ベンゾイル−4−メチルジフェニルケトン、ジベンジルケトン、フルオレノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオフェノン、p−tert−ブチルジクロロアセトフェノン、チオキサントン、2−メチルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、ベンジルジメチルケタール、ベンジルメトキシエチルアセタール、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、アントラキノン、2−tert−ブチルアントラキノン、2−アミルアントラキノン、β−クロルアントラキノン、アントロン、ベンズアントロン、ジベンズスベロン、メチレンアントロン、4−アジドベンジルアセトフェノン、2,6−ビス(p−アジドベンジリデン)シクロヘキサン、2,6−ビス(p−アジドベンジリデン)−4−メチルシクロヘキサノン、2−フェニル−1,2−ブタジオン−2−(o−メトキシカルボニル)オキシム、1−フェニル−プロパンジオン−2−(o−エトキシカルボニル)オキシム、1,3−ジフェニル−プロパントリオン−2−(o−エトキシカルボニル)オキシム、1−フェニル−3−エトキシ−プロパントリオン−2−(o−ベンゾイル)オキシム、ミヒラーケトン、2−メチル−1[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン、ナフタレンスルホニルクロライド、キノリンスルホニルクロライド、n−フェニルチオアクリドン、4,4−アゾビスイソブチロニトリル、ジフェニルジスルフィド、ベンズチアゾールジスルフィド、トリフェニルホスフィン、カンファーキノン、アデカ社製N1717、四臭化炭素、トリブロモフェニルスルホン、過酸化ベンゾイン、エオシン、メチレンブルー等の光還元性色素とアスコルビン酸やトリエタノールアミンのような還元剤との組み合わせ等を例示できる。本工程においては、これらの光重合開始剤を1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。   Moreover, when using a polymerizable optically anisotropic material as the optically anisotropic material used in this step, it is preferable to use a photopolymerization initiator as the other compound. Examples of the photopolymerization initiator used in this step include benzophenone, methyl o-benzoylbenzoate, 4,4-bis (dimethylamine) benzophenone, 4,4-bis (diethylamine) benzophenone, α-amino acetophenone, 4,4-dichlorobenzophenone, 4-benzoyl-4-methyldiphenyl ketone, dibenzyl ketone, fluorenone, 2,2-diethoxyacetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2-hydroxy-2-methylpro Piophenone, p-tert-butyldichloroacetophenone, thioxanthone, 2-methylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, diethylthioxanthone, benzyldimethyl ketal, benzylmethoxyethyla Tar, benzoin methyl ether, benzoin butyl ether, anthraquinone, 2-tert-butylanthraquinone, 2-amylanthraquinone, β-chloroanthraquinone, anthrone, benzanthrone, dibenzsuberon, methyleneanthrone, 4-azidobenzylacetophenone, 2,6-bis ( p-azidobenzylidene) cyclohexane, 2,6-bis (p-azidobenzylidene) -4-methylcyclohexanone, 2-phenyl-1,2-butadion-2- (o-methoxycarbonyl) oxime, 1-phenyl-propanedione 2- (o-ethoxycarbonyl) oxime, 1,3-diphenyl-propanetrione-2- (o-ethoxycarbonyl) oxime, 1-phenyl-3-ethoxy-propanetrione-2- (o- Nzoyl) oxime, Michler's ketone, 2-methyl-1 [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone , Naphthalene sulfonyl chloride, quinoline sulfonyl chloride, n-phenylthioacridone, 4,4-azobisisobutyronitrile, diphenyl disulfide, benzthiazole disulfide, triphenylphosphine, camphorquinone, Adeca N1717, carbon tetrabromide And a combination of a photoreductive dye such as tribromophenylsulfone, benzoin peroxide, eosin, and methylene blue with a reducing agent such as ascorbic acid and triethanolamine. In this step, these photopolymerization initiators can be used alone or in combination of two or more.

上記光重合開始剤を用いる場合には、光重合開始助剤を併用することが好ましい。このような光重合開始助剤としては、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン等の3級アミン類や、2−ジメチルアミノエチル安息香酸、4−ジメチルアミド安息香酸エチル等の安息香酸誘導体を例示することができるが、これらに限られるものではない。   When using the said photoinitiator, it is preferable to use a photoinitiator adjuvant together. Examples of such photopolymerization initiation assistants include tertiary amines such as triethanolamine and methyldiethanolamine, and benzoic acid derivatives such as ethyl 2-dimethylaminoethylbenzoate and ethyl 4-dimethylamidebenzoate. Yes, but not limited to these.

なお、本工程に用いられる位相差層形成用塗工液中に含有される光学異方性材料の量は、上記光学異方性材料の種類等に応じて、本発明により製造される位相差フィルムに所望の位相差性を付与できる範囲内で任意に調整することができる。   In addition, the amount of the optically anisotropic material contained in the retardation layer forming coating solution used in this step depends on the type of the optically anisotropic material, etc., and the retardation produced by the present invention. It can adjust arbitrarily within the range which can provide desired retardation property to a film.

b.透明基板
次に、本工程に用いられる透明基板について説明する。本工程に用いられる透明基板としては、上記光学異方性材料の種類等に応じて、上記破断引張伸度比を本発明で規定する範囲内にできるものであれば特に限定されるものではない。このような透明基板としては、例えば、セルロース誘導体、ポリメチルメタクリレート、ポリビニルアルコール、ポリイミド、ポリアリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、アモルファスポリオレフィン、変性アクリル系ポリマー、ポリスチレン、エポキシ樹脂、ポリカーボネート、ポリエステル類、および、ノルボルネン系ポリマー等のシクロオレフィン系ポリマー等からなる基板を挙げることができる。なかでも本工程においては、セルロース誘導体、または、シクロオレフィン系樹脂からなる透明基板を用いることが好ましい。上記セルロース誘導体は光学的等方性に優れるため、このようなセルロース誘導体からなる透明基板を用いることにより、本発明により製造される位相差フィルムの光学特性の設計が容易になるという利点を有するからである。また、上記シクロオレフィン系樹脂は、ガスバリア性および耐湿熱性に優れるため、本発明により製造される位相差フィルムを、高温高湿雰囲気下における光学特性の経時安定性に優れたものにできるという利点を有するからである。
b. Transparent substrate Next, the transparent substrate used for this process is demonstrated. The transparent substrate used in this step is not particularly limited as long as the ratio of the tensile elongation at break can be within the range defined by the present invention, depending on the type of the optically anisotropic material. . Examples of such transparent substrates include cellulose derivatives, polymethyl methacrylate, polyvinyl alcohol, polyimide, polyarylate, polyethylene terephthalate, polysulfone, polyethersulfone, amorphous polyolefin, modified acrylic polymer, polystyrene, epoxy resin, polycarbonate, and polyester. And substrates made of cycloolefin polymers such as norbornene polymers. In particular, in this step, it is preferable to use a transparent substrate made of a cellulose derivative or a cycloolefin resin. Since the cellulose derivative is excellent in optical isotropy, the use of a transparent substrate made of such a cellulose derivative has the advantage that the optical properties of the retardation film produced according to the present invention can be easily designed. It is. In addition, since the cycloolefin-based resin is excellent in gas barrier properties and heat-and-moisture resistance, the retardation film produced according to the present invention has an advantage that it can have excellent temporal stability of optical properties in a high-temperature and high-humidity atmosphere. It is because it has.

上記セルロース誘導体としては、セルロースエステル類を用いることが好ましく、さらに、セルロースエステル類の中では、セルロースアシレート類を用いることが好ましい。セルロースアシレート類は工業的に広く用いられていることから、入手容易性の点において有利だからである。   As the cellulose derivative, cellulose esters are preferably used, and among the cellulose esters, cellulose acylates are preferably used. This is because cellulose acylates are advantageous in terms of availability because they are widely used industrially.

また、上記セルロースアシレート類としては、炭素数2〜4の低級脂肪酸エステルが好ましい。低級脂肪酸エステルとしては、例えばセルロースアセテートのように、単一の低級脂肪酸エステルのみを含むものでもよく、また、例えばセルロースアセテートブチレートやセルロースアセテートプロピオネートのような複数の脂肪酸エステルを含むものであってもよい。   Moreover, as said cellulose acylates, C2-C4 lower fatty acid ester is preferable. The lower fatty acid ester may include only a single lower fatty acid ester such as cellulose acetate, and may include a plurality of fatty acid esters such as cellulose acetate butyrate and cellulose acetate propionate. There may be.

本工程においては、上記低級脂肪酸エステルの中でもセルロースアセテートを特に好適に用いることができる。セルロースアセテートとしては、平均酢化度が57.5〜62.5%(置換度:2.6〜3.0)のトリアセチルセルロースを用いることが最も好ましい。トリアセチルセルロースは光学的等方性に優れるため、本発明により製造される位相差フィルムの光学特性の設計がさらに容易になるからである。また、トリアセチルセルロースは、比較的嵩高い側鎖を有する分子構造を有することから、このようなトリアセチルセルロースからなる透明基板を用いることにより、本発明により製造される位相差フィルムにおいて、透明基板と位相差層との密着性を向上することできるからである。
なお、上記酢化度とは、セルロース単位質量当りの結合酢酸量を意味するものであり、ASTM:D−817−91(セルロースアセテート等の試験方法)におけるアセチル化度の測定および計算により求めることができる。トリアセチルセルロースフィルムを構成するトリアセチルセルロースの酢化度は、フィルム中に含まれる可塑剤等の不純物を除去した後、上記の方法により求めることができる。
In this step, cellulose acetate can be particularly preferably used among the above lower fatty acid esters. As the cellulose acetate, it is most preferable to use triacetyl cellulose having an average acetylation degree of 57.5 to 62.5% (substitution degree: 2.6 to 3.0). This is because triacetylcellulose is excellent in optical isotropy, so that the design of the optical properties of the retardation film produced according to the present invention becomes easier. In addition, since triacetyl cellulose has a molecular structure having a relatively bulky side chain, in the retardation film produced according to the present invention, a transparent substrate can be obtained by using such a transparent substrate made of triacetyl cellulose. This is because the adhesion between the film and the retardation layer can be improved.
The degree of acetylation means the amount of bound acetic acid per unit mass of cellulose, and is determined by measurement and calculation of the degree of acetylation in ASTM: D-817-91 (testing method for cellulose acetate, etc.). Can do. The degree of acetylation of the triacetyl cellulose constituting the triacetyl cellulose film can be determined by the above method after removing impurities such as a plasticizer contained in the film.

一方、上記シクロオレフィン系樹脂は、環状オレフィン(シクロオレフィン)からなるモノマーのユニットを有する樹脂を意味するものであり、上記環状オレフィンからなるモノマーとしては、例えば、ノルボルネンや多環ノルボルネン系モノマー等を挙げることができる。本工程に用いられるシクロオレフィン系樹脂は上記環状オレフィンからなるモノマーの単独重合体であってもよく、または、共重合体であってもよい。   On the other hand, the cycloolefin-based resin means a resin having a monomer unit composed of a cyclic olefin (cycloolefin). Examples of the monomer composed of the cyclic olefin include norbornene and polycyclic norbornene-based monomers. Can be mentioned. The cycloolefin resin used in this step may be a homopolymer of a monomer comprising the above cyclic olefin, or may be a copolymer.

本工程に用いられるシクロオレフィン系樹脂としては、所望の透明性を備える透明基板を得ることができるものであれば特に限定されるものではない。なかでも本工程に用いられるシクロオレフィン系樹脂は、23℃における飽和吸水率が1質量%以下であるもの好ましく、特に0.1質量%〜0.7質量%の範囲内であるものが好ましい。このようなシクロオレフィン系樹脂を用いることにより、本発明により製造される位相差フィルムを、吸水による光学特性の変化や寸法の変化がより生じにくいものとすることができるからである。
ここで、上記飽和吸水率は、上記吸水率は、ASTMD570に準拠し23℃の水中で1週間浸漬して増加重量を測定することにより求められる。
The cycloolefin resin used in this step is not particularly limited as long as it can obtain a transparent substrate having desired transparency. Among them, the cycloolefin resin used in this step preferably has a saturated water absorption at 23 ° C. of 1% by mass or less, and particularly preferably in the range of 0.1% by mass to 0.7% by mass. This is because by using such a cycloolefin-based resin, the retardation film produced according to the present invention can be made less susceptible to changes in optical properties and dimensions due to water absorption.
Here, the saturated water absorption is obtained by immersing in 23 ° C. water for 1 week according to ASTM D570 and measuring the increased weight.

また、本工程に用いられるシクロオレフィン系樹脂は、ガラス転移点が100℃〜200℃の範囲内であるものが好ましく、なかでも100℃〜180℃の範囲内であるものが好ましく、さらに100℃〜150℃の範囲内であるものが好ましい。このようなシクロオレフィン系樹脂を用いることにより、本発明により製造される位相差フィルムを、耐熱性および加工適性により優れたものにできるからである。   Moreover, as for the cycloolefin type resin used for this process, what has a glass transition point in the range of 100 to 200 degreeC is preferable, and what is in the range of 100 to 180 degreeC is preferable especially, and also 100 degreeC What is in the range of -150 degreeC is preferable. This is because by using such a cycloolefin-based resin, the retardation film produced according to the present invention can be made more excellent in heat resistance and processability.

このようなシクロオレフィン系樹脂としては、例えば、下記式(a)、または、下記式(b)で表される構成単位を有するものを挙げることができる。   Examples of such a cycloolefin resin include those having a structural unit represented by the following formula (a) or the following formula (b).

Figure 0004940851
Figure 0004940851

Figure 0004940851
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ここで、上記式(a)において、tおよびuはそれぞれ独立に0または正の整数を表すが、tおよびuが同時に0である場合は除く。また、Aはエチレン基またはビニレン基を示し、R11〜R14は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数が1〜30の炭化水素基、または、−(CH)n−COOR(nは0〜5、Rは炭素数1〜12のアルキル基を示す。)を示す。
ここで、上記R11またはR12と、R13またはR14とは相互に結合して炭素環または複素環を形成してもよい。さらに、上記炭素環または複素環は単環構造であってもよく、または、多環構造であってもよい。
Here, in the above formula (a), t and u each independently represent 0 or a positive integer, except when t and u are 0 at the same time. A represents an ethylene group or a vinylene group, and R 11 to R 14 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms, or — (CH 2 ) n—COOR ( n represents 0 to 5, and R represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms.
Here, R 11 or R 12 and R 13 or R 14 may be bonded to each other to form a carbocyclic or heterocyclic ring. Furthermore, the carbocycle or heterocycle may be a monocyclic structure or a polycyclic structure.

また、上記式(b)において、Bはエチレン基またはビニレン基を示す。R15〜R18は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数が1〜30の炭化水素基を示す。さらに、R15およびR16、または、R17およびR18は一体化して2価の炭化水素基を形成してもよい。 In the above formula (b), B represents an ethylene group or a vinylene group. R 15 to R 18 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, or a hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms. Further, R 15 and R 16 , or R 17 and R 18 may be integrated to form a divalent hydrocarbon group.

本工程に用いられるシクロオレフィン系樹脂からなる透明基板の具体例としては、例えば、Ticona社製 Topas、ジェイエスアール社製 アートン、日本ゼオン社製 ZEONOR、日本ゼオン社製 ZEONEX、三井化学社製 アペル等を挙げることができる。   Specific examples of the transparent substrate made of cycloolefin-based resin used in this step include, for example, Ticona Topas, JSR Arton, ZEON Corporation ZEONOR, ZEON Corporation ZEONEX, Mitsui Chemicals Appel, etc. Can be mentioned.

本工程に用いられる透明基板は、可視光領域における透過率が80%以上であるものが好ましく、90%以上であるものがより好ましい。可視光領域における透過率がこのよう範囲内であることにより、例えば、本発明により製造される位相差フィルムを液晶表示装置用の光学補償フィルムとして用いた場合に、画像の視認性が低下することを防止できるからである。
ここで、上記透明基板の透過率は、JIS K7361−1(プラスチックー透明材料の全光透過率の試験方法)により測定することができる。
The transparent substrate used in this step preferably has a transmittance in the visible light region of 80% or more, more preferably 90% or more. When the transmittance in the visible light region is within such a range, for example, when the retardation film produced according to the present invention is used as an optical compensation film for a liquid crystal display device, the visibility of the image is reduced. It is because it can prevent.
Here, the transmittance of the transparent substrate can be measured by JIS K7361-1 (Testing method for total light transmittance of plastic-transparent material).

また、本工程に用いられる透明基板のレターデーション値は、本発明により製造される位相差フィルムに所望のレターデーション値を付与できる範囲内であれば特に限定されるものではない。なかでも本工程に用いられる透明基板は、波長550nmにおけるレターデーション値が0nm〜50nmの範囲内であるものが好ましく、特に0nm〜40nmの範囲内であるものが好ましい。
ここで、上記レターデーション値(Re)は、面内における遅相軸方向の屈折率nxと、面内の進相軸方向の屈折率nyと、透明基板の厚みd(nm)とにより、Re=(nx−ny)×dの式で表される値であり、例えば、王子計測機器株式会社製 KOBRA−WRを用い、平行ニコル回転法によって測定することができる。
The retardation value of the transparent substrate used in this step is not particularly limited as long as it is within a range in which a desired retardation value can be imparted to the retardation film produced according to the present invention. In particular, the transparent substrate used in this step preferably has a retardation value at a wavelength of 550 nm in the range of 0 nm to 50 nm, particularly preferably in the range of 0 nm to 40 nm.
Here, the retardation value (Re) depends on the refractive index nx in the slow axis direction in the plane, the refractive index ny in the fast axis direction in the plane, and the thickness d (nm) of the transparent substrate. = (Nx−ny) × d is a value represented by the formula, and can be measured by, for example, the parallel Nicol rotation method using KOBRA-WR manufactured by Oji Scientific Instruments.

また、透明基板の上記レターデーション値の波長依存性としては、逆分散型であってもよく、または、正分散型であってもよく、さらにはフラット型であってもよい。
ここで、一般的に、レターデーション値が長波長側よりも短波長側のほうが小さい波長分散(即ち、レタデーション値が波長の増加関数である)の類型を「逆分散型」と称するが、本発明における「逆分散型」とは、波長450nmにおけるレターデーション値(Re450)と、波長550nmにおけるレターデーション値(Re550)との比(Re450/Re550)(以下、単に「Re比」と称する場合がある。)が1より小さいことを意味するものとする。
また、一般的にレターデーション値が長波長側よりも短波長側のほうが大きい波長分散(即ち、レターデーション値が波長の減少関数である)の類型を「正分散型」と称するが、本発明における「正分散型」とは、上記Re比が1より大きいことを意味するものとする。
さらに、一般的にレターデーション値に波長依存性を有さない波長分散の類型を「フラット型」と称するが、本発明における「フラット型」とは、上記Re比がほぼ1であること意味するものとする。
The wavelength dependency of the retardation value of the transparent substrate may be a reverse dispersion type, a normal dispersion type, or a flat type.
Here, in general, a type of chromatic dispersion in which the retardation value is smaller on the short wavelength side than on the long wavelength side (that is, the retardation value is an increasing function of the wavelength) is referred to as “reverse dispersion type”. The “reverse dispersion type” in the invention is a ratio (Re 450 / Re 550 ) of a retardation value (Re 450 ) at a wavelength of 450 nm and a retardation value (Re 550 ) at a wavelength of 550 nm (hereinafter simply referred to as “Re ratio”). ) Is less than 1.
A type of chromatic dispersion in which the retardation value is generally larger on the short wavelength side than on the long wavelength side (that is, the retardation value is a decreasing function of the wavelength) is referred to as “positive dispersion type”. “Positive dispersion type” means that the Re ratio is greater than 1.
Furthermore, a type of chromatic dispersion in which the retardation value does not have wavelength dependency is generally referred to as a “flat type”. In the present invention, the “flat type” means that the Re ratio is approximately 1. Shall.

さらに、本工程に用いられる透明基板は、波長550nmにおける厚み方向のレターデーション(Rth)が、0nm〜100nmの範囲内であることが好ましく、なかでも0nm〜60nmの範囲内であることが好ましい。上記Rthがこのような範囲内であることにより、本発明により製造される位相差フィルムを液晶表示装置用の光学補償フィルムとして好適なものにすることができるからである。
ここで、上記厚み方向のレターデーション(Rth)は、面内における遅相軸方向の屈折率nxと、面内の進相軸方向の屈折率nyと、厚み方向の屈折率nzと、透明基板の厚みd(nm)とにより、Rth={(nx+ny)/2−nz}×dの式で表される値であり、例えば、王子計測機器(株)製 KOBRA−WRにより測定することができる。
Further, the transparent substrate used in this step preferably has a thickness direction retardation (Rth) at a wavelength of 550 nm in the range of 0 nm to 100 nm, and more preferably in the range of 0 nm to 60 nm. This is because when the Rth is in such a range, the retardation film produced according to the present invention can be made suitable as an optical compensation film for a liquid crystal display device.
Here, the retardation in the thickness direction (Rth) is the in-plane slow axis direction refractive index nx, the in-plane fast axis direction refractive index ny, the thickness direction refractive index nz, and the transparent substrate. It is a value represented by the formula of Rth = {(nx + ny) / 2−nz} × d by the thickness d (nm) of, and can be measured by, for example, KOBRA-WR manufactured by Oji Scientific Instruments Co., Ltd. .

本工程に用いられる透明基板の構成は、単一の層からなる構成に限られるものではなく、複数の層が積層された構成を有するものであってもよい。
また、複数の層が積層された構成を有する場合は、同一組成の層が積層されたものであってもよく、または、異なる組成を有する複数の層が積層されたものであってもよい。
The configuration of the transparent substrate used in this step is not limited to a configuration composed of a single layer, and may have a configuration in which a plurality of layers are stacked.
Moreover, when it has the structure by which the several layer was laminated | stacked, the layer of the same composition may be laminated | stacked, or the several layer which has a different composition may be laminated | stacked.

また、本工程に用いられる透明基板の厚みは、本発明により製造される位相差フィルムの用途等に応じて、必要な自己支持性が得られる範囲内であれば特に限定されるものではない。なかでも本工程に用いられる透明基板の厚みは10μm〜188μmの範囲内であることが好ましく、特に20μm〜125μmの範囲内であることが好ましく、さらには30μm〜100μmの範囲内であることが好ましい。透明基板の厚みが上記の範囲よりも薄いと、本発明により製造される位相差フィルムに必要な自己支持性を付与できない場合があるからである。また、厚みが上記の範囲よりも厚いと、例えば、本発明により製造される位相差フィルムを裁断加工する際に、加工屑が増加したり、裁断刃の磨耗が早くなってしまう場合があるからである。
ここで、本工程に用いられる透明基板が複数の層が積層された構成を有するものである場合、上記厚みは各層の厚みの総和を意味するものとする。
The thickness of the transparent substrate used in this step is not particularly limited as long as necessary self-supporting properties can be obtained according to the use of the retardation film produced according to the present invention. In particular, the thickness of the transparent substrate used in this step is preferably in the range of 10 μm to 188 μm, particularly preferably in the range of 20 μm to 125 μm, and more preferably in the range of 30 μm to 100 μm. . This is because if the thickness of the transparent substrate is thinner than the above range, the necessary self-supporting property may not be imparted to the retardation film produced according to the present invention. Further, if the thickness is thicker than the above range, for example, when cutting the retardation film produced according to the present invention, the processing waste may increase or the cutting blade may be worn quickly. It is.
Here, when the transparent substrate used in this step has a configuration in which a plurality of layers are laminated, the above thickness means the sum of the thicknesses of the respective layers.

c.位相差層形成用塗工液の塗布方法
次に、上記位相差層形成用塗工液を上記透明基板上に塗布する方法について説明する。本工程において上記透明基板上に上記位相差層形成用塗工液を塗工する方法としては、所定量の位相差層形成用塗工液を塗工できる方法であれば特に限定されるものではない。このような塗工方法としては、例えば、グラビアコート法、リバースコート法、ナイフコート法、ディップコート法、スプレーコート法、エアーナイフコート法、スピンコート法、ロールコート法、プリント法、浸漬引き上げ法、カーテンコート法、ダイコート法、キャスティング法、バーコート法、エクストルージョンコート法、E型塗布方法など挙げることができる。
c. Method for Applying Retardation Layer Forming Coating Liquid Next, a method for applying the retardation layer forming coating liquid on the transparent substrate will be described. In this step, the method of coating the retardation layer forming coating solution on the transparent substrate is not particularly limited as long as it is a method capable of coating a predetermined amount of the retardation layer forming coating solution. Absent. As such a coating method, for example, gravure coating method, reverse coating method, knife coating method, dip coating method, spray coating method, air knife coating method, spin coating method, roll coating method, printing method, immersion pulling method , Curtain coating method, die coating method, casting method, bar coating method, extrusion coating method, E-type coating method, and the like.

また、上記位相差層形成用塗工液の塗膜の乾燥方法は、加熱乾燥方法、減圧乾燥方法、ギャップ乾燥方法等、一般的に用いられる乾燥方法を用いることができる。また、本工程に用いられる乾燥方法は、単一の方法に限られず、例えば塗膜中に残留する溶媒量に応じて順次乾燥方式を変化させる等の態様により、複数の乾燥方式を採用してもよい。   Moreover, generally used drying methods, such as a heat drying method, a reduced pressure drying method, a gap drying method, can be used for the drying method of the coating film of the said retardation layer forming coating liquid. Also, the drying method used in this step is not limited to a single method, and adopts a plurality of drying methods, for example, by sequentially changing the drying method according to the amount of solvent remaining in the coating film. Also good.

d.その他
上記光学異方性材料として上記重合性光学異方性材料を用いた場合、通常、本工程において上記透明基板上に上記位相差層形成用塗工液の塗膜を形成した後、上記重合性官能基を重合する重合処理工程が行われる。上記重合処理としては、上記光学異方性材料が有する重合性官能基の種類に応じて任意に決定すればよい。このような重合処理としては、例えば、紫外線等の活性放射線を照射する処理や、加熱処理等を挙げることができる。
d. Others When the polymerizable optically anisotropic material is used as the optically anisotropic material, usually, after forming a coating film of the retardation layer forming coating solution on the transparent substrate in this step, the polymerization is performed. A polymerization treatment step for polymerizing the functional group is performed. What is necessary is just to determine arbitrarily as said polymerization process according to the kind of polymeric functional group which the said optically anisotropic material has. Examples of such a polymerization process include a process of irradiating active radiation such as ultraviolet rays, a heat treatment, and the like.

2.延伸処理工程
次に、本発明に用いられる延伸処理工程について説明する。本工程は、上記光学積層体形成工程により形成された光学積層体を延伸することにより、上記位相差層形成用層に位相差性を発現させる工程である。また、本工程は、上記光学積層体を延伸し、上記位相差層形成用層中に含有される光学異方性材料を延伸方向に沿って配列させることにより、上記位相差層形成用層に位相差性を付与する工程であるということもできる。
ここで、本工程により延伸される光学積層体は、上記破断引張伸度比が本発明で規定する範囲内になっているものあるため、本工程において上記位相差層形成用層または上記透明基板のいずれか一方に、亀裂や破断が生じることなく、上記光学積層体を延伸することができる。
なお、本工程において延伸された光学積層体は、上記位相差層形成用層が延伸されて位相差性が付与されることにより、透明基板上に位相差層が積層された構成を有する位相差フィルムとなる。
以下、このような延伸処理工程について詳細に説明する。
2. Stretching process Next, the stretching process used in the present invention will be described. This step is a step of causing the retardation layer forming layer to exhibit retardation by stretching the optical laminate formed by the optical laminate formation step. Further, in this step, the optical layered body is stretched, and the optically anisotropic material contained in the retardation layer forming layer is arranged along the stretching direction, whereby the retardation layer forming layer is formed. It can also be said that this is a step of imparting phase difference.
Here, since the optical laminate that is stretched in this step has the above-described breaking tensile elongation ratio within the range specified in the present invention, the retardation layer forming layer or the transparent substrate in this step The optical layered body can be stretched without any crack or breakage in either one of the above.
In addition, the optical laminated body stretched in this step is a retardation having a configuration in which a retardation layer is laminated on a transparent substrate by stretching the retardation layer forming layer to impart retardation. Become a film.
Hereinafter, such a stretching process will be described in detail.

本工程において上記光学積層体を延伸する態様としては、本発明により製造される位相差フィルムに所望の位相差性を付与できる範囲内であれば特に限定されるものではない。したがって、本工程における延伸態様は、一軸延伸であってもよく、または、二軸延伸であってもよい。   The aspect of stretching the optical layered body in this step is not particularly limited as long as it is within a range in which a desired retardation can be imparted to the retardation film produced according to the present invention. Therefore, the stretching mode in this step may be uniaxial stretching or biaxial stretching.

また、本工程において光学積層体を延伸する延伸倍率としては、本発明により製造される位相差フィルムに所望の位相差性を付与できる範囲内であれば特に限定されるものではない。なかでも本工程における延伸倍率は、1.01倍〜2倍の範囲内であることが好ましい。上記延伸倍率がこのような範囲内であることにより、本工程において、上記位相差層形成用層または上記透明基板のいずれか一方に亀裂が破断が生じることをさらに防止できるため、本発明の位相差フィルムの製造方法をより生産性の高いものにできるからである。   Moreover, it does not specifically limit as a draw ratio which extends | stretches an optical laminated body in this process, if it exists in the range which can provide desired phase difference to the phase difference film manufactured by this invention. Especially, it is preferable that the draw ratio in this process exists in the range of 1.01 times-2 times. Since the stretching ratio is within such a range, in this step, it is possible to further prevent cracks from occurring in either the retardation layer forming layer or the transparent substrate. This is because the method for producing the retardation film can be made more productive.

本工程において、上記位相差層を延伸する方法としては本発明により製造される位相差フィルムに所望の位相差性を付与できる方法であれば特に限定されるものではない。なかでも本工程においては、面内方向における遅相軸方向の屈折率nxと、面内方向における進相軸方向の屈折率nyと、厚み方向の屈折率nzとの間に、nx>ny≧nzの関係が成立するように延伸することが好ましい。このように延伸することにより、本発明により製造される位相差フィルムを液晶表示装置用の視野角補償フィルムとして好適なものにできるからである。   In this step, the method for stretching the retardation layer is not particularly limited as long as it can impart desired retardation to the retardation film produced according to the present invention. In particular, in this step, nx> ny ≧ between the refractive index nx in the slow axis direction in the in-plane direction, the refractive index ny in the fast axis direction in the in-plane direction, and the refractive index nz in the thickness direction. It is preferable to stretch so that the nz relationship is established. By stretching in this way, the retardation film produced according to the present invention can be made suitable as a viewing angle compensation film for a liquid crystal display device.

本工程において、上記nx、nyおよびnzにnx>ny≧nzの関係が成立するように位相差層を延伸する態様としては、一軸延伸することにより、上記nx、ny、および、nzの間にnx>ny=nzの関係が成立するように延伸する態様(第1態様)と、二軸延伸することにより、上記nx、ny、および、nzの間にnx>ny>nzの関係が成立するように延伸する態様(第2態様)と、を挙げることができる。   In this step, as a mode of stretching the retardation layer so that the relationship of nx> ny ≧ nz is established between nx, ny, and nz, uniaxial stretching can be performed between nx, ny, and nz. A mode (first mode) of stretching so that a relationship of nx> ny = nz is established and a relationship of nx> ny> nz is established between nx, ny, and nz by biaxial stretching. Thus, an aspect (second aspect) of stretching can be mentioned.

上記第1態様および上記第2態様において上記位相差層を延伸する方法としては、上記位相差層を所望の延伸倍率に延伸できる方法であれば特に限定されるものではない。このような方法としては、例えば、ロール延伸法、長間隙沿延伸法、テンター延伸法、チューブラー延伸法等を挙げることができる。   The method for stretching the retardation layer in the first aspect and the second aspect is not particularly limited as long as the retardation layer can be stretched to a desired stretching ratio. Examples of such a method include a roll stretching method, a long gap stretching method, a tenter stretching method, and a tubular stretching method.

なお、本工程においては、通常、上記位相差層が加熱された状態で延伸されるが、このときの加熱温度としては、上記位相差層を所望の倍率で延伸できる範囲内であれば特に限定されない。なかでも本発明においては、通常、ガラス転移温度以上、かつ、融点温度以下とされる。   In this step, the retardation layer is usually stretched in a heated state, but the heating temperature at this time is particularly limited as long as the retardation layer can be stretched at a desired magnification. Not. In particular, in the present invention, it is usually not lower than the glass transition temperature and not higher than the melting point temperature.

3.その他の工程
本発明の位相差フィルムの製造方法は、上記位相差層形成工程および上記延伸処理工程以外に他の工程を有するものであってもよい。このような他の工程としては、本発明により製造される位相差フィルムの用途等に応じて、所望の機能を有する位相差フィルムを製造できるものを適宜選択して用いることができる。
3. Other Steps The method for producing a retardation film of the present invention may have other steps in addition to the retardation layer forming step and the stretching treatment step. As such other steps, those capable of producing a retardation film having a desired function can be appropriately selected and used according to the use of the retardation film produced according to the present invention.

また、本発明の位相差フィルムの製造方法が実施される態様としては、上記位相差層形成工程および上記延伸処理工程が実施される態様であれば特に限定されるものではない。このような態様としては、例えば、上記透明基板として長尺に形成されたものを用い、Roll to Rollプロセス(巻取状で供給される帯状フィルムを巻出し、走行させて連続加工し、而かる後に巻取る加工法)により連続的に上記位相差層形成工程および上記延伸処理工程が実施される態様であってもよく、または、所定のサイズ(枚葉)にシート加工された透明基板を用い、当該透明基板を順次移動させながら、上記位相差層形成工程および上記延伸処理工程を実施する態様であってもよい。   Moreover, if the manufacturing method of the retardation film of this invention is implemented, if the said retardation layer forming process and the said extending | stretching process process are implemented, it will not specifically limit. As such an embodiment, for example, a long-formed transparent substrate is used, and a roll-to-roll process (a belt-shaped film supplied in a winding form is unwound and traveled to be continuously processed. The phase difference layer forming step and the stretching treatment step may be continuously carried out by a later winding method), or a transparent substrate processed into a predetermined size (sheet) is used. The phase difference layer forming step and the stretching step may be performed while sequentially moving the transparent substrate.

4.位相差フィルム
本発明により製造される位相差フィルムは、透明基板と、上記透明基板上に形成され、屈折率異方性を有する光学異方性材料を含有する位相差層とを有するものとなる。
4). Retardation Film The retardation film produced according to the present invention has a transparent substrate and a retardation layer formed on the transparent substrate and containing an optically anisotropic material having refractive index anisotropy. .

本発明により製造される位相差フィルムのレターデーション値の波長依存性は、正分散型であってもよく、または、逆分散型であってもよく、さらにはフラット型であってもよい。   The wavelength dependency of the retardation value of the retardation film produced according to the present invention may be a normal dispersion type, a reverse dispersion type, or a flat type.

また、本発明により製造される位相差フィルムのNzファクターは特に限定されるものではなく、位相差フィルムの用途に応じて任意に調整することができる。例えば、本発明により製造される位相差フィルムをIPS方式の液晶表示装置の視野角補償フィルムとして用いる場合、Nzファクターは0.5〜1.0の範囲内であることが好ましく、一方、本発明により製造される位相差フィルムをVA方式の液晶表示装置の視野角補償フィルム(Aプレート)として用いる場合、Nzファクターは、1.0〜2.0の範囲内であることが好ましい。
ここで、上記Nzファクターは屈折率楕円体の形状を規定するパラメーターであり、面内方向における遅相軸方向の屈折率nxと、面内方向における進相軸方向の屈折率nyと、厚み方向の屈折率nzとにより、以下の式で表されるものである。
Nz=(nx−ny)/(nx−nz)
Moreover, the Nz factor of the retardation film manufactured by this invention is not specifically limited, It can adjust arbitrarily according to the use of retardation film. For example, when the retardation film produced according to the present invention is used as a viewing angle compensation film for an IPS liquid crystal display device, the Nz factor is preferably in the range of 0.5 to 1.0, while the present invention is When the retardation film produced by the above is used as a viewing angle compensation film (A plate) of a VA liquid crystal display device, the Nz factor is preferably in the range of 1.0 to 2.0.
Here, the Nz factor is a parameter that defines the shape of the refractive index ellipsoid, and the refractive index nx in the slow axis direction in the in-plane direction, the refractive index ny in the fast axis direction in the in-plane direction, and the thickness direction. And the refractive index nz are represented by the following formula.
Nz = (nx-ny) / (nx-nz)

さらに、本発明により製造される位相差フィルムを液晶表示装置の視野角補償フィルムとして用いる場合、面内方向における遅相軸方向の屈折率nxと、面内方向における進相軸方向の屈折率nyと、厚み方向の屈折率nzとの間に、nx>ny≧nzの関係が成立することが好ましい。上記nx、nyおよびnzの間にこのような関係が成立することにより、液晶表示装置の視野角補償フィルムとして好適に用いられるものにできるからである。   Further, when the retardation film produced according to the present invention is used as a viewing angle compensation film for a liquid crystal display device, the refractive index nx in the slow axis direction in the in-plane direction and the refractive index ny in the fast axis direction in the in-plane direction. And the refractive index nz in the thickness direction, it is preferable that a relationship of nx> ny ≧ nz holds. This is because when such a relationship is established among the above nx, ny and nz, the film can be suitably used as a viewing angle compensation film of a liquid crystal display device.

上記nx、nyおよびnzに上記nx>ny≧nzの関係が成立する態様としては、nx>ny=nzの関係が成立する一軸性の位相差フィルムと、nx>ny>nzの関係が成立する二軸性の位相差フィルムとを挙げることができる。   As an aspect in which the relationship of nx> ny ≧ nz is established in nx, ny and nz, a uniaxial retardation film in which the relationship of nx> ny = nz is established and the relationship of nx> ny> nz is established. Biaxial retardation film can be mentioned.

本発明により製造される位相差フィルムが上記一軸性の位相差フィルムである場合は、波長550nmにおけるレターデーション(Re)が0nm<Re550<300nmの範囲内であることが好ましい。
また、波長550nmにおける厚み方向のレターデーション(Rth)が0nm〜150nmの範囲内であることが好ましい。
When the retardation film produced according to the present invention is the uniaxial retardation film, the retardation (Re) at a wavelength of 550 nm is preferably in the range of 0 nm <Re 550 <300 nm.
Further, the thickness direction retardation (Rth) at a wavelength of 550 nm is preferably in the range of 0 nm to 150 nm.

一方、本発明により製造される位相差フィルムが上記二軸性の位相差フィルムである場合は、波長550nmにおけるレターデーション(Re)が0nm<Re550<300nmの範囲内であることが好ましい。
また、波長550nmにおける厚み方向のレターデーション(Rth)が0nm〜300nmの範囲内であることが好ましい。
On the other hand, when the retardation film produced by the present invention is the biaxial retardation film, the retardation (Re) at a wavelength of 550 nm is preferably in the range of 0 nm <Re 550 <300 nm.
Further, the thickness direction retardation (Rth) at a wavelength of 550 nm is preferably in the range of 0 nm to 300 nm.

なお、本発明により製造される位相差フィルムの形態は、位相差フィルムの用途等に応じて所望の形態とすることができる。したがって、例えば、長尺に形成され、ロール状に巻き取られた形態であってもよく、所定のサイズに切断加工されたシート状の形態であってもよい。   In addition, the form of the retardation film manufactured by this invention can be made into a desired form according to the use etc. of retardation film. Therefore, for example, it may be formed in a long shape and wound into a roll shape, or may be in a sheet shape cut into a predetermined size.

なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と、実質的に同一の構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなる場合であっても本発明の技術的範囲に包含される。   The present invention is not limited to the above embodiment. The above-described embodiment is an exemplification, and the technical idea described in the claims of the present invention has substantially the same configuration and exhibits the same function and effect regardless of the case. It is included in the technical scope of the invention.

以下に実施例を示し、本発明についてさらに具体的に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples.

1.実施例1
(1)光学積層体形成工程
光学異方性材料としてカプロラクトン変性ウレタンアクリレートを用い、これをメチルエチルケトンに40質量%になるように溶解させ、さらに重合開始剤を固形分に対して4質量%加えることにより位相差層形成用塗工液を調整した。
1. Example 1
(1) Optical layered product forming step Caprolactone-modified urethane acrylate is used as an optically anisotropic material, dissolved in methyl ethyl ketone so as to be 40% by mass, and further a polymerization initiator is added by 4% by mass with respect to the solid content. Thus, a coating solution for forming a retardation layer was prepared.

透明基板として、破断引張伸度が30%であるTAC(トリアセチルセルロース)フィルムを用い、上記位相差層形成用塗工液を当該TACフィルムの表面にバーコーティングにより塗工した。次いで、90℃で4分間加熱して溶剤を乾燥除去し、塗工面に紫外線を照射して上記光学異方性材料を固定化することにより、上記TACフィルム上に厚み6μmの位相差層形成用層が積層された光学積層体を作製した。
なお、本実施例において形成された位相差層形成用層の破断引張伸度は160%であり、上記光学積層体の破断引張伸度比は5.3であった。
As the transparent substrate, a TAC (triacetylcellulose) film having a breaking tensile elongation of 30% was used, and the retardation layer forming coating solution was applied to the surface of the TAC film by bar coating. Subsequently, the solvent is removed by heating at 90 ° C. for 4 minutes, and the optically anisotropic material is fixed by irradiating the coated surface with ultraviolet rays, thereby forming a 6 μm thick retardation layer on the TAC film. An optical laminate in which layers were laminated was produced.
In addition, the breaking tensile elongation of the phase difference layer forming layer formed in the present example was 160%, and the breaking tensile elongation ratio of the optical laminate was 5.3.

(2)延伸処理工程
次に、延伸実験機により上記光学積層体を、延伸倍率が1.3倍になるように165℃で加熱しながら面内方向に一軸延伸することにより、位相差フィルムを作製した。このとき、上記光学積層体は、上記位相差層形成用層が上記TACフィルムから剥離することなく延伸可能であった。
(2) Stretching treatment step Next, the optical film is uniaxially stretched in the in-plane direction while being heated at 165 ° C. so that the stretching ratio is 1.3 times by a stretching experiment machine, thereby forming a retardation film. Produced. At this time, the optical layered product was stretchable without the retardation layer forming layer being peeled off from the TAC film.

2.実施例2
光学異方性材料としてウレタンアクリレートを用いたこと以外は、実施例1と同様にして位相差フィルムを作製した。
その結果、光学積層体は、上記位相差層形成用層が上記TACフィルムから剥離することなく延伸可能であった。
なお、本実施例において形成された位相差層形成用層の破断引張伸度は350%であり、上記光学積層体の破断引張伸度比は8であった。
2. Example 2
A retardation film was produced in the same manner as in Example 1 except that urethane acrylate was used as the optically anisotropic material.
As a result, the optical laminate was stretchable without the retardation layer forming layer being peeled off from the TAC film.
In addition, the breaking tensile elongation of the phase difference layer forming layer formed in this example was 350%, and the breaking tensile elongation ratio of the optical laminate was 8.

3.実施例3
透明基板として、基材として破断引張伸度が10%のPMMAフィルムを用いたこと以外は、実施例1と同様にして位相差フィルムを作製した。
その結果、光学積層体は、上記位相差層形成用層が上記PMMAフィルムから剥離することなく延伸可能であった。
なお、本実施例において形成された光学積層体の破断引張伸度比は16であった。
3. Example 3
A retardation film was produced in the same manner as in Example 1 except that a PMMA film having a breaking tensile elongation of 10% was used as the base material as the transparent substrate.
As a result, the optical laminate was stretchable without the retardation layer forming layer being peeled off from the PMMA film.
In addition, the fracture tensile elongation ratio of the optical layered body formed in this example was 16.

4.実施例4
透明基板として、破断引張伸度が13%のノルボルネン系樹脂フィルム(商品名 アートン JSR社製)を用いたこと以外は、実施例1と同様にして位相差フィルムを作製した。
その結果、光学積層体は、上記位相差層形成用層が上記ノルボルネン系樹脂フィルムから剥離することなく延伸可能であった。
なお、本実施例において形成された光学積層体の破断引張伸度比は12.3であった。
4). Example 4
A retardation film was produced in the same manner as in Example 1 except that a norbornene-based resin film (trade name: Arton JSR) having a breaking tensile elongation of 13% was used as the transparent substrate.
As a result, the optical laminate was stretchable without the retardation layer forming layer being peeled off from the norbornene-based resin film.
In addition, the breaking tensile elongation ratio of the optical laminated body formed in the present Example was 12.3.

5.比較例1
光学異方性材料としてイソシアヌル酸EO変性ジアクリレートを用いたこと以外は、実施例1と同様にして位相差フィルムを作製した。
その結果、上記光学積層体を延伸した際に、上記TACフィルムと上記位相差層形成用層との界面で剥離が生じた。
なお、比較例において形成された位相差層形成用層の破断引張伸度は2%であり、光学積層体の破断引張伸度比は0.06であった。
5. Comparative Example 1
A retardation film was produced in the same manner as in Example 1 except that isocyanuric acid EO-modified diacrylate was used as the optically anisotropic material.
As a result, when the optical laminate was stretched, peeling occurred at the interface between the TAC film and the retardation layer forming layer.
In addition, the fracture tensile elongation of the phase difference layer forming layer formed in the comparative example was 2%, and the fracture tensile elongation ratio of the optical laminate was 0.06.

6.比較例2
光学異方性材料としてウレタンアクリレートを用い、透明基板として破断引張伸度10%のPMMAフィルムを用いたこと以外は、実施例1と同様にして位相差フィルムを作製した。
その結果、上記光学積層体を延伸した際に、上記位相差層形成用層にひび割れが生じた。
なお、本実施例において形成された位相差層形成用層の破断引張伸度は350%であり、光学積層体の破断引張伸度比は35であった。
6). Comparative Example 2
A retardation film was produced in the same manner as in Example 1 except that urethane acrylate was used as the optically anisotropic material and a PMMA film having a tensile elongation at break of 10% was used as the transparent substrate.
As a result, when the optical layered body was stretched, cracks occurred in the retardation layer forming layer.
In addition, the breaking tensile elongation of the phase difference layer forming layer formed in this example was 350%, and the breaking tensile elongation ratio of the optical laminate was 35.

本発明の位相差フィルムの製造方法の一例を示す概略図である。It is the schematic which shows an example of the manufacturing method of the retardation film of this invention. 本発明における光学積層体の一例を示す概略図である。It is the schematic which shows an example of the optical laminated body in this invention. 一般的な液晶表示装置の一例を示す概略図である。It is the schematic which shows an example of a common liquid crystal display device.

符号の説明Explanation of symbols

1 … 透明基板
2 … 位相差層
2’ … 位相差層形成用層
10 … 位相差フィルム
10’ … 光学積層体
30 … 位相差フィルム
100 … 液晶表示装置
102A、102B … 偏光板
104 … 液晶セル
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Transparent substrate 2 ... Phase difference layer 2 '... Phase difference layer formation layer 10 ... Phase difference film 10' ... Optical laminated body 30 ... Phase difference film 100 ... Liquid crystal display device 102A, 102B ... Polarizing plate 104 ... Liquid crystal cell

Claims (3)

透明基板を用い、前記透明基板上に屈折率異方性を有する光学異方性材料を含有する位相差層形成用塗工液を塗工することにより、透明基板上に位相差層形成用層が積層された光学積層体を形成する光学積層体形成工程と、
前記光学積層体形成工程により形成された光学積層体を延伸することにより、前記位相差層形成用層に位相差性を発現させる延伸処理工程と、を有し、前記透明基板上に前記光学異方性材料を含有する位相差層が積層された位相差フィルムを製造する、位相差フィルムの製造方法であって、
前記位相差層形成用層の破断引張伸度と、前記透明基板の破断引張伸度との比(位相差層形成用層の破断引張伸度/透明基板の破断引張伸度)が1〜30の範囲内であり、
前記位相差層形成用層の破断引張伸度が150%〜250%の範囲内であることを特徴とする、位相差フィルムの製造方法。
Using a transparent substrate, a retardation layer forming layer is formed on the transparent substrate by coating a retardation layer forming coating solution containing an optically anisotropic material having refractive index anisotropy on the transparent substrate. An optical laminate forming step of forming an optical laminate in which is laminated,
A stretching treatment step of causing the retardation layer forming layer to exhibit retardation by stretching the optical layered body formed by the optical layered body forming step, and forming the optical difference on the transparent substrate. A method for producing a retardation film, comprising producing a retardation film in which a retardation layer containing an anisotropic material is laminated,
The ratio of the breaking tensile elongation of the retardation layer forming layer to the breaking tensile elongation of the transparent substrate (breaking tensile elongation of the retardation layer forming layer / breaking tensile elongation of the transparent substrate) is 1 to 30. range der of is,
The break tensile elongation of the retardation layer forming layer, characterized in der Rukoto the range of 150% to 250%, method for producing a retardation film.
前記透明基板の破断引張伸度が5%〜50%の範囲内であることを特徴とする、請求項1に記載の位相差フィルムの製造方法。 The method for producing a retardation film according to claim 1, wherein the tensile elongation at break of the transparent substrate is in the range of 5% to 50%. 前記延伸処理工程における前記光学積層体の延伸倍率が1.01倍〜2倍の範囲内であり、
前記光学異方性材料が重合性光学異方性材料であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の位相差フィルムの製造方法。
The stretching ratio of the optical laminate in the stretching treatment step is in the range of 1.01 times to 2 times,
Method for producing a retardation film according to claim 1 or claim 2, wherein the optically anisotropic material is polymerizable optically anisotropic material.
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