JP4940108B2 - Scanning optical device - Google Patents

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Description

本発明は、走査光学装置に関し、特にたとえばレーザプリンタにおける記録エンジン部など、光ビームで感光体上を走査して画像を形成するための走査光学装置に関するものである。   The present invention relates to a scanning optical apparatus, and more particularly to a scanning optical apparatus for forming an image by scanning a photosensitive member with a light beam, such as a recording engine unit in a laser printer.

電子写真方式の画像形成装置における走査光学装置は、入力された画像データに応じて半導体レーザを駆動し、その画像データに応じた静電潜像を感光体上に形成している。   A scanning optical device in an electrophotographic image forming apparatus drives a semiconductor laser in accordance with input image data, and forms an electrostatic latent image in accordance with the image data on a photoreceptor.

走査光学装置の光源として使用される半導体レーザは、出射するレーザ光をコリメートレンズによりほぼ平行な光に変換された後に、所定のビーム径で回転多面鏡(ポリゴンミラー)等の偏向部材で偏向させた後、f−θレンズにより集光作用を受ける。また同時にf−θレンズは走査の時間的な直線性を保証するような歪曲収差の補正を行うので、f−θレンズを通過したレーザ光は、感光体上に主走査方向(感光体の軸方向)に等速で結像走査される。感光体上での集光位置のずれは画像品質を劣化させる要因となるため、走査光学装置においては、感光体上でのレーザ光の集光位置が大きくずれないような工夫がされている。例えば、光学部品や機械部品の部品精度や設置精度を高めるとともに、これらの部品の線膨張係数の最適化を図る等の工夫がされている。   A semiconductor laser used as a light source of a scanning optical device converts emitted laser light into substantially parallel light by a collimating lens, and then deflects it with a deflecting member such as a rotary polygon mirror (polygon mirror) with a predetermined beam diameter. After that, it is focused by the f-θ lens. At the same time, the f-θ lens corrects distortion so as to guarantee the temporal linearity of scanning, so that the laser light that has passed through the f-θ lens is moved onto the photoconductor in the main scanning direction (axis of the photoconductor). Direction) at a constant speed. Since the deviation of the condensing position on the photosensitive member causes deterioration in image quality, the scanning optical device is devised so that the condensing position of the laser beam on the photosensitive member is not greatly displaced. For example, while improving the component accuracy and installation accuracy of optical components and mechanical components, efforts have been made to optimize the linear expansion coefficient of these components.

一方、機械的にコリメートレンズを移動可能に構成することで、感光体上でのレーザ光の集光位置を変更する技術が提案されている(例えば、特許文献1参照)。また、フォーカスを補正する手段として、コリメートレンズのレーザ光の射出側に電気光学結晶を配置してレーザ光の集束性を変更する技術が提案されている(例えば、特許文献2参照)。   On the other hand, there has been proposed a technique for changing the condensing position of laser light on a photosensitive member by mechanically configuring a collimating lens to be movable (see, for example, Patent Document 1). Further, as a means for correcting focus, a technique has been proposed in which an electro-optic crystal is arranged on the laser beam emission side of a collimator lens to change the focusing property of the laser beam (see, for example, Patent Document 2).

また、光センサで光ビームの焦点ずれを検出すると共に、焦点ずれの原因となる環境要素の変化を検出し、検出された焦点ずれ及び環境要素の変化を基に焦点ずれを補正する技術が開示されている(特許文献3等参照)。
特開平2−293877号公報 特開平4−264420号公報 特開平2−93559号公報
Also disclosed is a technique for detecting a defocus of a light beam with an optical sensor, detecting a change in an environmental element that causes the defocus, and correcting the defocus based on the detected defocus and the change in the environmental element. (Refer to patent document 3 etc.).
JP-A-2-293877 JP-A-4-264420 Japanese Patent Laid-Open No. 2-93559

しかし、特許文献1で提案された方法では、機械的にコリメートレンズを移動させるための機構が複雑となる。また、機械的な可動によるため応答速度が遅く、光ビームの集光位置を高速で変化させることが困難である。そのためレーザプリンタ等の高速機器への適用としては適切とはいい難いものである。   However, in the method proposed in Patent Document 1, a mechanism for mechanically moving the collimating lens is complicated. Further, since it is mechanically movable, the response speed is slow, and it is difficult to change the light beam condensing position at high speed. Therefore, it is difficult to say that it is appropriate for application to high-speed equipment such as a laser printer.

また、特許文献2で提案された方法では、光学系中に機械的可動部分を要せず電気光学結晶により電気的制御でおこなうため応答速度が速いものとなる。しかしコリメートレンズに加えて電気光学結晶等の新たな部品が必要となる。そのため、部品点数が増えるとともに、走査光学装置の大型化を招く。   Further, the method proposed in Patent Document 2 does not require a mechanically movable part in the optical system, and the response speed is high because the electro-optic crystal is used for electrical control. However, in addition to the collimating lens, new parts such as an electro-optic crystal are required. As a result, the number of parts increases and the scanning optical device increases in size.

また、レーザ光の集光位置は光学部品の設置精度に大きく依存している。また熱膨張による部品の伸縮に起因して、光学部品の実際の位置と計算上の位置とのずれも生じる。これらの原因により、主走査方向の全走査域でレーザ光の集光位置を高精度化することは困難であった。   Further, the condensing position of the laser light largely depends on the installation accuracy of the optical component. Further, due to the expansion and contraction of the component due to thermal expansion, a deviation between the actual position of the optical component and the calculated position also occurs. For these reasons, it has been difficult to increase the accuracy of the laser beam condensing position in the entire scanning region in the main scanning direction.

本発明は上記従来例に鑑みて成されたもので、少ない部品点数で光ビームの集光位置を高速で変化させることができるコンパクトな走査光学装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above-described conventional example, and an object thereof is to provide a compact scanning optical device capable of changing the light beam condensing position at high speed with a small number of parts.

上記目的を達成するために、本発明の走査光学装置は以下の構成を備える。すなわち、光源からの光ビームを平行光化するコリメートレンズを備えた走査光学装置であって、
前記コリメートレンズを電気光学結晶で形成し、該コリメートレンズの内部と側面とに配置した電極を介して前記電気光学結晶に電気信号を印加することで前記コリメートレンズの焦点距離を変更可能に構成した。
In order to achieve the above object, a scanning optical apparatus of the present invention comprises the following arrangement. That is, a scanning optical device including a collimating lens that collimates a light beam from a light source,
The collimating lens is formed of an electro-optic crystal, and the focal length of the collimating lens can be changed by applying an electric signal to the electro-optic crystal via electrodes arranged on the inside and side surfaces of the collimating lens. .

あるいは、印加電圧に応じて屈折率の変化する電気光学結晶で形成し、対向する2側面と内部とに電極を配置した光学レンズと、
前記光学レンズを透過した走査光のスポットサイズを、予め定めた検出位置において検出する検出手段と、
予め決定された、前記走査光による1回の走査における走査位置に応じた前記電極への印加電圧の分布と、前記検出点において走査光が合焦した状態における前記電極へ印加する基準電圧とを記憶する記憶手段と、
前記電極への印加電圧を変化させて、前記検出位置における前記光学レンズを透過した走査光のスポットサイズが極小となる印加電圧を決定し、該印加電圧と前記基準電圧との差分を、走査位置に応じた前記印加電圧の分布に対するオフセットとして加算した補正済み印加電圧を前記電極に印加して前記光学レンズの集光性を制御するレンズ制御手段とを備える。
Alternatively, an optical lens formed of an electro-optic crystal whose refractive index changes according to an applied voltage, and electrodes are arranged on two opposing side surfaces and inside,
Detection means for detecting a spot size of the scanning light transmitted through the optical lens at a predetermined detection position;
A distribution of a voltage applied to the electrode in accordance with a scanning position in one scan by the scanning light and a reference voltage to be applied to the electrode in a state where the scanning light is focused at the detection point are determined in advance. Storage means for storing;
An applied voltage to the electrode is changed to determine an applied voltage at which a spot size of scanning light transmitted through the optical lens at the detection position is minimized, and a difference between the applied voltage and the reference voltage is determined as a scanning position. And a lens control unit that applies a corrected applied voltage added as an offset to the distribution of the applied voltage according to the above to the electrode to control the light condensing property of the optical lens.

本発明によれば、電気光学結晶で形成されたコリメートレンズ又はシリンダレンズの外部および内部に配置された各電極に電圧を印加することで、レンズ内を透過する光ビームの集光性を各電極間で高速に変化させることができる。これにより、偏向走査する光ビームの集光位置を高速に変位させることができ、全走査域で光ビームの集光位置の高精度化を実現することができる。この結果、感光体等の被走査面への書込み品質の向上を図ることができる。   According to the present invention, by applying a voltage to each electrode arranged outside and inside a collimating lens or cylinder lens formed of an electro-optic crystal, the condensing property of a light beam transmitted through the lens can be changed to each electrode. Can be changed at high speed. Thereby, the condensing position of the light beam to be deflected and scanned can be displaced at high speed, and high accuracy of the condensing position of the light beam can be realized in the entire scanning region. As a result, it is possible to improve the writing quality on the surface to be scanned such as the photoconductor.

また、コリメートレンズ又はシリンダレンズ自体を電気光学結晶で形成しているので、従来のように、新たな部品を追加する必要がない。このため、部品点数が削減されて、装置のコンパクト化および低コスト化を図ることができる。   Further, since the collimating lens or the cylinder lens itself is formed of an electro-optic crystal, it is not necessary to add a new part as in the prior art. For this reason, the number of parts can be reduced, and the apparatus can be made compact and low in cost.

以下に、図面を参照して、この発明の好適な実施の形態を例示的に詳しく説明する。ただし、この実施の形態に記載されている構成要素はあくまで例示であり、この発明の範囲をそれらのみに限定する趣旨のものではない。   Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. However, the constituent elements described in this embodiment are merely examples, and are not intended to limit the scope of the present invention only to them.

<概略構成>
図1は、本発明の一実施形態としての走査光学装置100の概略構成図である。走査光学装置100は、たとえば電子写真式のプリンタや複写機等に内蔵され、画像データに応じた画像を、対象物たとえば感光体等の上で光ビームを走査して光学的に描写するために利用される。このほかにも、たとえば光ビームを副走査方向に変更させるための機構を設けて表示装置として使用するなど、他の応用例も考えられる。
<Outline configuration>
FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a scanning optical device 100 as an embodiment of the present invention. The scanning optical device 100 is built in, for example, an electrophotographic printer or copier, and is used to optically depict an image corresponding to image data by scanning a light beam on an object such as a photoreceptor. Used. In addition to this, other application examples are conceivable, for example, a mechanism for changing the light beam in the sub-scanning direction is used as a display device.

図2は、KTN結晶等の電気光学結晶で形成したコリメートレンズの一例を示す斜視図である。KTNは、たとえばKTaNbO3で表されるタンタル酸ニオブ酸カリウムであり、一般的にはKTa1-xNbxO3)と表される。図3は同じく電気光学結晶で形成した他の形状のコリメートレンズの斜視図である。 FIG. 2 is a perspective view showing an example of a collimating lens formed of an electro-optic crystal such as a KTN crystal. KTN is, for example, potassium tantalate niobate represented by KTaNbO 3 and is generally represented as KTa 1-x Nb x O 3 ). FIG. 3 is a perspective view of a collimating lens of another shape which is also formed of an electro-optic crystal.

概略的には、走査光学装置100は、レーザ光源である半導体レーザ1、コリメートレンズ5、光学絞り10、シリンダレンズ12、ポリゴンミラー等の偏向器13、走査レンズ15a,15bとを順に配設し、感光体18面上を走査するように構成されている。また感光体18からはずれ、しかもレーザ光による走査される位置に、折り返しミラー24を設け、その反射光を検知するBDセンサ25及びビーム集束性センサ26を配設する。BDセンサ25はレーザ光による照射自体を検知できればよい。これに対してビーム集束性センサ26は、照射されたレーザ光のスポット径を測定可能に構成される。コリメートレンズ5の焦点距離すなわち光ビームの集束性を変更しつつスポット径を測定することで、光ビームの集束性を検出する。   Schematically, the scanning optical device 100 includes a semiconductor laser 1 as a laser light source, a collimating lens 5, an optical aperture 10, a cylinder lens 12, a deflector 13 such as a polygon mirror, and scanning lenses 15a and 15b in this order. The photoconductor 18 is scanned on the surface. Further, a folding mirror 24 is provided at a position deviated from the photosensitive member 18 and scanned by a laser beam, and a BD sensor 25 and a beam focusing sensor 26 for detecting the reflected light are provided. The BD sensor 25 only needs to detect the irradiation itself with the laser light. In contrast, the beam focusing sensor 26 is configured to be able to measure the spot diameter of the irradiated laser light. By measuring the spot diameter while changing the focal length of the collimating lens 5, that is, the focusing property of the light beam, the focusing property of the light beam is detected.

次にレーザビーム(より一般的には光ビームである。)の光路を追って装置の構成を説明する。半導体レーザ1からの光ビーム2は、コリメートレンズ5により平行光化されて光学絞り10で整形され、シリンダレンズ12に入射される。偏向器13は、シリンダレンズ12から絞られて出射される光ビームのビームウエスト近傍に配設された回転多面鏡である。ポリゴンミラーが、回転駆動されることにより、この光ビームを主走査方向に偏向走査させるものとなる。ポリゴンミラーの他、たとえば軸周りに一定の角度の範囲で振動する振動ミラーを偏向器13として用いることもできるし、そのほか光ビームにより線走査するための光学系を偏向器13として用いることができる。   Next, the configuration of the apparatus will be described following the optical path of a laser beam (more generally, a light beam). The light beam 2 from the semiconductor laser 1 is collimated by the collimator lens 5, shaped by the optical aperture 10, and incident on the cylinder lens 12. The deflector 13 is a rotating polygon mirror disposed in the vicinity of the beam waist of the light beam that is narrowed and emitted from the cylinder lens 12. The polygon mirror is rotationally driven to deflect and scan the light beam in the main scanning direction. In addition to the polygon mirror, for example, a vibrating mirror that vibrates in a range of a certain angle around the axis can be used as the deflector 13, and an optical system for performing line scanning with a light beam can also be used as the deflector 13. .

走査レンズ15a,15bは主走査方向・副走査方向で焦点距離の異なる構成のもので、偏向器13により偏向される光ビームを感光体18面上に結像させるためのものである。この走査レンズ15a,15bは、副走査方向に関しては、偏向器13の反射面と感光体18面とが幾何光学的にほぼ共役関係となるように配置されており、ポリゴンミラーの面倒れによる走査線の位置ずれを防止できるようにされている。偏向器13として振動ミラーを用いた場合には、反射面はひとつであるので、初期的な調整が正確に行われていれば、面倒れによる走査線の位置ずれを防止するための光学系は不要である。また、画像信号で変調した光ビームにより感光体18上を走査する場合には、感光体18上における走査速度を一定とするための光学系として、f−θレンズが利用される場合もある。   The scanning lenses 15a and 15b have different focal lengths in the main scanning direction and the sub-scanning direction, and are used to form an image of the light beam deflected by the deflector 13 on the surface of the photosensitive member 18. The scanning lenses 15a and 15b are arranged so that the reflecting surface of the deflector 13 and the surface of the photosensitive member 18 are almost conjugate in terms of geometrical optics in the sub-scanning direction. Line misalignment can be prevented. When the oscillating mirror is used as the deflector 13, there is only one reflecting surface. Therefore, if the initial adjustment is accurately performed, the optical system for preventing the positional deviation of the scanning line due to the surface tilt is provided. It is unnecessary. Further, when the photosensitive member 18 is scanned with the light beam modulated by the image signal, an f-θ lens may be used as an optical system for making the scanning speed on the photosensitive member 18 constant.

走査レンズ15a,15bにて集束された光ビームあるいはその一部は、走査線上にある折り返しミラー24で反射され、光検知手段の一例であるBDセンサ(ビームディテクトセンサ)25を照射する。BDセンサ25が光ビームを検知したタイミングで、主走査方向の書き込み基準となる水平同期信号(BD信号)が発生される。この水平同期信号を基準にして、画像処理部より1ライン分の画像信号が出力される。また折り返しミラー24で反射された光ビームは、ビーム集束性センサ26にも集光して光ビームの集束性が検知される。集束性は、前述のように特定の検出点(検出位置)、たとえばビーム集束性センサ26上の光ビームのスポットサイズで測定される。ビーム集束性センサ26の検出信号は、補正部52に入力されてビームウエスト位置が判定される。   The light beam focused by the scanning lenses 15a and 15b or a part thereof is reflected by the folding mirror 24 on the scanning line, and irradiates a BD sensor (beam detect sensor) 25 which is an example of a light detection means. At the timing when the BD sensor 25 detects the light beam, a horizontal synchronization signal (BD signal) serving as a writing reference in the main scanning direction is generated. An image signal for one line is output from the image processing unit based on the horizontal synchronization signal. Further, the light beam reflected by the folding mirror 24 is also collected on the beam convergence sensor 26, and the convergence of the light beam is detected. As described above, the focusability is measured by a specific detection point (detection position), for example, the spot size of the light beam on the beam focusability sensor 26. The detection signal of the beam convergence sensor 26 is input to the correction unit 52 to determine the beam waist position.

光ビームは、全ての使用環境条件において感光体18の表面において最も収斂するように感光体18を照射することが望ましい。つまり、光ビームの最も絞られる位置であるビームウエストが、感光体18の表面と略一致するように照射されることが感光体18上に静電潜像を高精度に形成するための条件となる。このことが、プリンタや複写機への走査光学装置の応用においては、画像品質を劣化させずに電子写真の印字品質を確保することにつながる。   It is desirable to irradiate the photoconductor 18 so that the light beam is most converged on the surface of the photoconductor 18 under all use environment conditions. That is, the condition for forming an electrostatic latent image on the photoconductor 18 with high accuracy is that the beam waist, which is the most focused position of the light beam, is irradiated so as to substantially coincide with the surface of the photoconductor 18. Become. This leads to ensuring the print quality of electrophotography without degrading the image quality in the application of the scanning optical device to a printer or a copying machine.

入力部61は、後述する初期組立時の1ライン走査像高毎のビームウエスト位置を補正部52に出力する。入力部61としては、例えば、バーコードを読み取ってデータ入力するバーコードリーダ、或いはユーザにより操作されて各種データを入力する操作部などである。操作者は、初期組立時の1ライン走査像高毎のビームウエスト位置あるいはその指標値を入力部61から入力する。いったん入力された値は保存されて必要に応じて利用される事が望ましい。或いは、初期組立時の1ライン走査像高毎のビームウエスト位置あるいはその指標値をEEPROM等の記憶媒体に記憶させておいても良い。初期組立時の1ライン走査像高毎のビームウエスト位置あるいはその指標値は、たとえば製造時に測定された値が用いられる。   The input unit 61 outputs a beam waist position for each one-line scanning image height at the time of initial assembly, which will be described later, to the correction unit 52. The input unit 61 is, for example, a barcode reader that reads a barcode and inputs data, or an operation unit that is operated by a user to input various data. The operator inputs the beam waist position for each one-line scanning image height at the time of initial assembly or its index value from the input unit 61. It is desirable that the value once entered is saved and used as needed. Alternatively, the beam waist position for each one-line scanning image height at the time of initial assembly or its index value may be stored in a storage medium such as an EEPROM. For example, a value measured at the time of manufacture is used as the beam waist position for each one-line scanning image height at the time of initial assembly or its index value.

補正部52は、BDセンサ25から入力されるBD信号201に同期して、BDマスク信号301を生成し、レーザ駆動制御部54に対して出力する。また、補正部52は感光体18上での光ビームの走査位置(1ライン走査像高)に応じたビームウエスト位置データ203を制御電源32に出力する。なおビームウエスト位置データ203は、ビームウエスト位置を示す指標値となるデータであって後述する変位情報に相当する。変位情報は、走査光学装置の光学系における光ビームの合焦位置の列である。予め測定した変位情報は、メモリ31に保存される。   The correction unit 52 generates a BD mask signal 301 in synchronization with the BD signal 201 input from the BD sensor 25 and outputs the BD mask signal 301 to the laser drive control unit 54. Further, the correction unit 52 outputs beam waist position data 203 corresponding to the light beam scanning position (one-line scanning image height) on the photosensitive member 18 to the control power source 32. The beam waist position data 203 is data serving as an index value indicating the beam waist position, and corresponds to displacement information described later. The displacement information is a row of in-focus positions of the light beam in the optical system of the scanning optical device. The displacement information measured in advance is stored in the memory 31.

レーザ駆動制御部54は、感光体18上で潜像を形成する画像区間で画像信号生成部53から入力された画像信号202に基づいて、半導体レーザ1の駆動(発光)信号204の電流値及び駆動時間を制御する。   The laser drive control unit 54 determines the current value of the drive (light emission) signal 204 of the semiconductor laser 1 based on the image signal 202 input from the image signal generation unit 53 in the image section where a latent image is formed on the photoconductor 18. Control drive time.

制御電源32は、入力されたビームウエスト位置データ203(変位情報)に応じた電圧をコリメートレンズ5に印加すべく、ビームウエスト位置に応じた電気信号を電極6〜8に印加する。なおビームウエスト位置を示すビームウエスト位置データを単にビームウエスト位置と呼ぶ場合がある。また、ビームウエスト位置を感光体18の表面となるよう補正するためのデータであることから、補正データあるいは補正値と呼ぶ場合もある。印加する電気信号は光ビームの走査位置により変化するので、走査位置と印加する信号との同期のために、制御電源32には、不図示ではあるが、BD信号201が補正部52から、画素クロックが画像信号生成部53から入力される。なお、制御電源32は、それ自身の制御によって、あるいは補正部21の制御に従って、ビームウエスト位置が測定されたサンプル走査位置以外の位置については線形補間等でビームウエスト位置を補間することが望ましい。   The control power supply 32 applies an electrical signal corresponding to the beam waist position to the electrodes 6 to 8 in order to apply a voltage corresponding to the input beam waist position data 203 (displacement information) to the collimating lens 5. The beam waist position data indicating the beam waist position may be simply referred to as a beam waist position. Further, since it is data for correcting the beam waist position to be the surface of the photoconductor 18, it may be called correction data or a correction value. Since the applied electrical signal varies depending on the scanning position of the light beam, the BD signal 201 is sent from the correction unit 52 to the pixel for controlling the scanning position and the applied signal. A clock is input from the image signal generator 53. It is desirable that the control power supply 32 interpolates the beam waist position by linear interpolation or the like for positions other than the sample scanning position where the beam waist position is measured under its own control or according to the control of the correction unit 21.

こうして半導体レーザ1から照射された光ビームは、コリメートレンズ5および光学絞り10によりほぼ平行な光に変換された後に所定のビーム径で回転多面鏡13に入射することになる。尚、像高とは、主走査方向についての感光体上での位置であり、感光体中央を像高0とし、0を境に主走査方向に沿って端部へ向かう位置をプラスとマイナスで表現したものである。これは本実施形態では走査位置とも呼んでいる。   The light beam emitted from the semiconductor laser 1 in this manner is converted into substantially parallel light by the collimating lens 5 and the optical aperture 10 and then enters the rotary polygon mirror 13 with a predetermined beam diameter. The image height is the position on the photoconductor in the main scanning direction. The image height is 0 at the center of the photoconductor, and the position toward the end along the main scanning direction from 0 is plus and minus. It is a representation. In this embodiment, this is also called a scanning position.

<コリメートレンズ>
図2は、本実施形態に係る発明の特徴であるコリメートレンズ5の斜視図である。コリメートレンズ5は電気光学結晶で形成されており、内部及び側面に設けた電極に印加する電圧に応じてその焦点距離を変更可能に構成される。コリメートレンズ5は、四角柱状の本体5aと、本体5aの先端側(光学絞り10側)に配置された球面部5bとを有している。コリメートレンズ5は、例えば、KTN晶等の電気光学結晶で形成されている。KTN結晶は、通常の光学ガラス同様に扱うことが可能であり、良好な加工性を有していて切削や研磨加工での表面精度の確保が容易である。また、KTN結晶の光線の透過率については、レーザの波長である赤外から可視光全域に至るまで1mあたり95%以上の内部透過率を示し、複屈折も小さい。さらに、KTN結晶の吸水率は、通常のガラス以下であって、樹脂などに対して極端に小さい。また、KTN結晶は、内部に電界を作用させることで内部の屈折率が変化することが知られている。KTN結晶の両端に電極を設置(一方に電圧=V、他方に電圧=0)して内部に電界を発生させた場合には、内部に電界が傾斜して分布することにより屈折率もその影響で傾斜して分布することになり、光が方向を変えながら進むことが判っている。
<Collimating lens>
FIG. 2 is a perspective view of the collimating lens 5 which is a feature of the invention according to this embodiment. The collimating lens 5 is formed of an electro-optic crystal, and is configured so that its focal length can be changed according to the voltage applied to the electrodes provided inside and on the side. The collimating lens 5 has a quadrangular columnar main body 5a and a spherical surface portion 5b disposed on the distal end side (optical diaphragm 10 side) of the main body 5a. The collimating lens 5 is made of, for example, an electro-optic crystal such as a KTN crystal. KTN crystals can be handled in the same manner as ordinary optical glass, have good workability, and can easily ensure surface accuracy in cutting and polishing. The light transmittance of the KTN crystal shows an internal transmittance of 95% or more per meter from the laser wavelength of infrared to the entire visible light range, and birefringence is also small. Furthermore, the water absorption rate of the KTN crystal is less than that of ordinary glass, and is extremely small compared to a resin or the like. In addition, it is known that the internal refractive index of a KTN crystal changes when an electric field is applied to the inside. When electrodes are installed at both ends of the KTN crystal (voltage = V on one side and voltage = 0 on the other side) to generate an electric field inside, the refractive index is also affected by the distribution of the electric field inside It is known that the light travels while changing its direction.

本実施形態は、この現象を利用して光ビームを透過させる際に集光性を変化させるものである。本実施形態の特徴であるコリメートレンズ5の電極は、KTN結晶で形成したコリメートレンズ5の内部と外部(本例では側面)とにそれぞれレンズと一体的に配置される。具体的には、図1および図2に示すように、コリメートレンズ5の四角柱状の本体5aの互いに対向する2つの側面に板状の外部電極6,8を配置し、本体5aの内部に板状の内部電極7を外部電極6,8と平行に配置する。そして、内部電極7と外部電極6,8とに電圧を印加して電界を発生させ、内部を透過する光ビームの屈折率を変化させる。外部電極6,8には共通の電気信号が印加されることが望ましい。こうすることでKTN結晶の内部電界の分布が内部電極7を対称面として面対称となるためである。   The present embodiment uses this phenomenon to change the light condensing property when transmitting a light beam. The electrodes of the collimating lens 5, which is a feature of the present embodiment, are disposed integrally with the lens inside and outside (side surface in this example) of the collimating lens 5 formed of a KTN crystal. Specifically, as shown in FIGS. 1 and 2, plate-like external electrodes 6 and 8 are arranged on two opposite sides of a quadrangular columnar body 5a of the collimator lens 5, and the plate is placed inside the body 5a. The internal electrode 7 is arranged in parallel with the external electrodes 6 and 8. A voltage is applied to the internal electrode 7 and the external electrodes 6 and 8 to generate an electric field, thereby changing the refractive index of the light beam transmitted through the inside. It is desirable that a common electrical signal is applied to the external electrodes 6 and 8. This is because the internal electric field distribution of the KTN crystal becomes plane symmetric with the internal electrode 7 as a plane of symmetry.

尚、光ビームの集光性を変化させる方向は、外部電極6,8と内部電極7との間の方向であり、図1および図2に示す板状電極の配置では、主走査方向の光ビームの集光性のみを変化させることができる。ここで、直線偏光で発光する光ビームの中で、直線偏光の電気ベクトルの方向は、結晶内に発生させた電界方向と一致すべきであり、それらの変化で光ビームの集光性の変化が起きる。これにより、KTN結晶で形成したコリメートレンズ5で光ビームの集光性を変化させるだけで、感光体18上の光ビームの集光性を変化させ、所望の位置に光ビームを集光させることが可能となる。   Note that the direction in which the light beam condensing property is changed is the direction between the external electrodes 6 and 8 and the internal electrode 7. In the arrangement of the plate electrodes shown in FIGS. Only the beam condensing property can be changed. Here, among the light beams emitted by linearly polarized light, the direction of the electric vector of linearly polarized light should coincide with the direction of the electric field generated in the crystal, and the change in the light beam condensing property due to these changes. Happens. As a result, the light beam condensing property is changed by simply changing the light beam condensing property with the collimator lens 5 formed of the KTN crystal, and the light beam is condensed at a desired position. Is possible.

なお、コリメートレンズの形状は、特に限定されず、例えば、図3に示すように、円柱状の本体50aの軸方向両側にそれぞれ球面部50bを配置したコリメートレンズ50を採用してもよい。この場合、コリメートレンズ50の中心部に配置される内部電極16は棒状電極とされ、本体50aの外周面に配置される外部電極17a,17bは板状電極とされている。外部電極17a,17bは、それぞれ本体50aの径方向に対向して一対ずつ配置されている。そして、内部電極16と外部電極17a,17bに電圧を印加して電界を発生させ、内部を透過する光ビームの屈折率を変化させる。   The shape of the collimating lens is not particularly limited, and for example, as shown in FIG. 3, a collimating lens 50 in which spherical portions 50b are disposed on both sides in the axial direction of a cylindrical main body 50a may be employed. In this case, the internal electrode 16 disposed at the center of the collimating lens 50 is a rod-shaped electrode, and the external electrodes 17a and 17b disposed on the outer peripheral surface of the main body 50a are plate-shaped electrodes. A pair of external electrodes 17a and 17b are arranged facing each other in the radial direction of the main body 50a. A voltage is applied to the internal electrode 16 and the external electrodes 17a and 17b to generate an electric field, and the refractive index of the light beam transmitted through the inside is changed.

また、光ビームの副走査方向の集光性を変化させたい場合は、図1において、板状電極6,7,8の配置を紙面に対して垂直ではなく水平に配置(90°位相をずらして配置)し、光ビームの電気ベクトルの方向が水平になるようにすればよいことになる。但し、この場合、ポリゴンミラーである偏向器13に副走査側の集光作用が生じ、かつ偏向器13と感光体18とが共役関係となって面倒れ補正を維持するように作用する。このため、光ビームの副走査方向の集光性を変えると、面倒れ補正を維持する作用と、感光体18上の光ビームの副走査方向の集光性を変える作用との両方を行なうこととなる。従って、実際には、これらの作用の両方を考慮する必要があり、目的や重要性で優先順位を決めて使用すればよい。   In order to change the light beam condensing property in the sub-scanning direction, in FIG. 1, the plate electrodes 6, 7, and 8 are arranged not horizontally with respect to the paper surface but with a 90 ° phase shift. And the direction of the electric vector of the light beam should be horizontal. However, in this case, a condensing action on the sub-scanning side is generated in the deflector 13 which is a polygon mirror, and the deflector 13 and the photosensitive member 18 are in a conjugate relationship and act to maintain surface tilt correction. For this reason, changing the light condensing property of the light beam in the sub-scanning direction performs both the function of maintaining surface tilt correction and the effect of changing the light condensing property of the light beam on the photoconductor 18 in the sub-scanning direction. It becomes. Therefore, in actuality, it is necessary to consider both of these actions, and the order of priority may be determined according to purpose and importance.

また、走査光学装置における実際の動作では、感光体18上の光ビームのスポットサイズ(あるいはスポットサイズ)の測定結果に応じてピントずれ(ビームウエスト位置のずれ)の判断がされる。この際、スポットサイズが比較的大きく、かつ十分な書き込み深度がある場合には、KTN結晶の電極には電気信号はあまり付与しないですむこともある。このように、通常は電気信号の付与によるピント補正作用はほとんど行なわず、温度変化が大きいとき等などに、温度が設定したしきい値に達してから電気信号を付与するようにしてもよい。このようにすることで、不必要な電気エネルギーの消費を回避することができる。   Further, in the actual operation of the scanning optical apparatus, the determination of the focus shift (beam waist position shift) is made according to the measurement result of the spot size (or spot size) of the light beam on the photoconductor 18. At this time, if the spot size is relatively large and there is a sufficient writing depth, an electric signal may not be applied to the electrode of the KTN crystal. As described above, usually, the focus correction action by applying the electric signal is hardly performed, and the electric signal may be applied after the temperature reaches the set threshold value when the temperature change is large. In this way, unnecessary electric energy consumption can be avoided.

次に、ビーム集束性センサ26について説明する。ビーム集束性センサ26として、光センサであるフォトダイオードの前にスリット状の絞りを並べる構成を例示できる。絞りを光ビームが通過したときにはスポットサイズの大小によってフォトダイオードの出力信号の振幅が変わり、スポットサイズが小さいほど振幅は大きくなる。このようなビーム集束性センサ26とすると、ビームウエスト位置の確認がしやすくなる。   Next, the beam convergence sensor 26 will be described. An example of the beam focusing sensor 26 is a configuration in which slit-shaped diaphragms are arranged in front of a photodiode that is an optical sensor. When the light beam passes through the stop, the amplitude of the output signal of the photodiode changes depending on the size of the spot, and the amplitude increases as the spot size decreases. With such a beam focusing sensor 26, it is easy to confirm the beam waist position.

一方、感光体18上の光ビームのスポットサイズが比較的小さく、かつ高品位の画像を達成するために1ラインの走査線内でのスポットサイズの大小を気にするような場合がある。この場合は、走査に対する同期検知信号に基づいて、KTN結晶で形成したコリメートレンズ5の電極への電気信号を高速に変化させ、結果として感光体18上の光ビームのピント位置を小刻みに変化させることが可能である。本実施形態では、後者のように走査線内で感光体18上の光ビームのピント位置を小刻みに変化させる制御を行う場合について説明する。前者の制御も後者の制御も、本願発明に関しては相違はない。なお同期検知信号としては、たとえばBD信号に基づいて生成される水平同期信号や、画像データの同期信号である画素クロックなどが用いられる。   On the other hand, the spot size of the light beam on the photosensitive member 18 is relatively small, and in order to achieve a high quality image, there are cases where the size of the spot size within one scanning line is concerned. In this case, the electrical signal to the electrode of the collimator lens 5 formed of the KTN crystal is changed at high speed based on the synchronization detection signal for scanning, and as a result, the focus position of the light beam on the photoconductor 18 is changed in small increments. It is possible. In the present embodiment, a case will be described in which control is performed to change the focus position of the light beam on the photoconductor 18 within the scanning line in small increments as in the latter case. There is no difference between the former control and the latter control with respect to the present invention. As the synchronization detection signal, for example, a horizontal synchronization signal generated based on the BD signal, a pixel clock that is a synchronization signal of image data, or the like is used.

KTN結晶で形成したコリメートレンズ5の集光性の変化は、KTN結晶の応答速度が高速なために短時間で行える。従って、まず、走査レンズ15a,15bなどの光学系の影響で変化する像高について、サンプル点となる像高毎の像面湾曲を、組み立て時等に治具を使用して予め取得して補正部52のメモリ31に格納しておく。像面湾曲は、ある基準位置におけるピント位置を基準とした場合の、その基準に対する感光体の各位置でのピント位置のずれを示す変位情報で示される。変位情報は、たとえば装置の製造時等に、コリメートレンズ5への印加電圧は0とした状態で、サンプリング位置においたセンサを感光体表面に直交する方向に移動させ、スポットサイズが極小となるビームウエスト位置を検出することで得られる。この場合には、ビームウエスト位置そのものを検出できる。この方法で作成された変位情報はメモリ31に保存される。   The change of the light condensing property of the collimating lens 5 formed of the KTN crystal can be performed in a short time because the response speed of the KTN crystal is high. Therefore, first, with respect to the image height that changes due to the influence of the optical system such as the scanning lenses 15a and 15b, the field curvature for each image height as the sample point is acquired in advance using a jig at the time of assembling or the like. Stored in the memory 31 of the unit 52. The curvature of field is indicated by displacement information indicating a shift of the focus position at each position of the photoconductor with respect to the reference when the focus position at a certain reference position is used as a reference. For example, when the apparatus is manufactured, a beam in which the spot size is minimized by moving the sensor at the sampling position in a direction perpendicular to the surface of the photoconductor with the voltage applied to the collimating lens 5 being zero. It is obtained by detecting the waist position. In this case, the beam waist position itself can be detected. The displacement information created by this method is stored in the memory 31.

あるいは、コリメートレンズ5への印加電圧を変化させてその焦点距離を変化させつつ、感光体表面に相当する位置に設けたビーム集束性センサで光ビームのスポットサイズを測定してビームウエスト位置を決定することもできる。この方法では、ある走査位置(像高)で測定したスポットサイズが極小となったときの印加電圧値が、その走査位置においてビームウエスト位置を感光体表面に移動させるための電圧値(すなわち補正値)となる。従って変位情報を測定したサンプル点毎のこの補正値が、上述した変位情報そのものであってもよい。ただし本実施形態では、これメートレンズへの印加電圧を示す補正値を、一旦感光体18表面からビームウエスト位置までの距離に換算して、メモリ31に保存する。これは、コリメートレンズ5への印加電圧とコリメートレンズ5の焦点距離との関係が線形であるとは限らないためである。もしもこの関係が線形であるか、あるいは線形とみなせるのであれば、補正値を変位情報そのものとして保存した方が、処理の簡略化に役立つ。なおビーム集束性センサ26の位置における補正値を本実施形態では特に基準値と呼ぶことにする。   Alternatively, the beam waist position is determined by measuring the spot size of the light beam with a beam focusing sensor provided at a position corresponding to the surface of the photosensitive member while changing the focal length by changing the applied voltage to the collimating lens 5. You can also In this method, the applied voltage value when the spot size measured at a certain scanning position (image height) is minimized is a voltage value (ie, correction value) for moving the beam waist position to the photosensitive member surface at the scanning position. ) Accordingly, the correction value for each sample point at which the displacement information is measured may be the displacement information itself. However, in the present embodiment, the correction value indicating the voltage applied to the mate lens is temporarily converted into the distance from the surface of the photoconductor 18 to the beam waist position and stored in the memory 31. This is because the relationship between the voltage applied to the collimating lens 5 and the focal length of the collimating lens 5 is not always linear. If this relationship is linear or can be regarded as linear, storing the correction value as the displacement information itself helps to simplify the process. In the present embodiment, the correction value at the position of the beam convergence sensor 26 is particularly referred to as a reference value.

なお集光性とは、ビームウエスト位置やピント、焦点距離など、本実施形態においては他の用語で表されることもある。しかしながら、本実施形態に関する限りこれら用語は本質的に同じものを指している。   The light condensing property may be expressed by other terms in the present embodiment, such as a beam waist position, a focus, and a focal length. However, as far as this embodiment is concerned, these terms refer to essentially the same thing.

そして、BDセンサ25から出力されるBD信号201及び不図示の画素クロックに同期して、感光体上での走査位置に応じて前記変位情報に応じてピントずれを補正するようにコリメートレンズ5の電極に印加する電圧を制御する。こうすることで、走査全域での細かなピント合わせが可能となる。変位情報がビームウエスト位置を示す場合、そのビームウエスト位置に基づいて、感光体18表面に移動させるためにコリメートレンズ5の電極に印加する電圧が求められ、それがコリメートレンズ5の電極に印加される。そしてその電圧は、1走査線中において、走査位置に応じて変化させられ、像面湾曲が補正されてビームウエスト位置が感光体18上の直線上に補正される。   Then, in synchronization with the BD signal 201 output from the BD sensor 25 and a pixel clock (not shown), the collimating lens 5 is adapted to correct the focus shift according to the displacement information according to the scanning position on the photosensitive member. Control the voltage applied to the electrode. In this way, fine focusing can be performed over the entire scanning area. When the displacement information indicates the beam waist position, a voltage to be applied to the electrode of the collimating lens 5 to be moved to the surface of the photoconductor 18 is obtained based on the beam waist position, and this is applied to the electrode of the collimating lens 5. The The voltage is changed in accordance with the scanning position in one scanning line, the field curvature is corrected, and the beam waist position is corrected on a straight line on the photoconductor 18.

<ピント調整動作>
次に、図1及び図4を参照して、ピント調整動作について詳しく説明する。図4はピント調整動作を説明するためのフローチャート図である。このフローチャートはたとえば補正部52に内蔵されたプロセッサ等により実行される。
<Focus adjustment operation>
Next, the focus adjustment operation will be described in detail with reference to FIGS. FIG. 4 is a flowchart for explaining the focus adjustment operation. This flowchart is executed by, for example, a processor incorporated in the correction unit 52.

図4においては、まず、ピント位置として、ビーム集束性センサ26の出力信号振幅が最大を示す位置(すなわちスポットサイズが最小となるビームウエスト位置)を探る。このため、走査光学装置により感光体18の走査に先立ってピントの状態を調べる。つまり、感光体18を露光する前に、BDセンサ25およびビーム集束性センサ26上をレーザビームで走査し、1回の走査毎にコリメートレンズ5の電極6,7,8に対する印加電圧を段階的に変化させるように制御し、焦点位置を変化させる。こうすることで、現時点での特定の像高(本例ではビーム集束センサ26の位置)において、現在のビームウエスト位置を測定する。具体的には、ビーム集束性センサ26の出力信号振幅が最大を示した際における電極5,6,7へ印加した電圧を、ビームウエスト位置を示す値に変換する。これはビーム集束センサ26の出力から決定する(ステップS1)。このために、コリメートレンズ5の電極への印加電圧と焦点距離の変化との対応表を予め測定して作成し、装置作成時においてメモリ31等に保存しておく。そして、測定された電圧に対応する焦点距離の変化の大きさを、測定時点におけるビームウエスト位置を示す測定情報として保存する。なおステップS1の実現のためには、ビーム集束性センサ26は、感光体18を主走査方向に延長した場合の感光体表面となる位置に設けられる。反射ミラー24を用いた場合には、延長した感光体表面となる位置と、光路上の距離が等しくなる位置に設けられる。   In FIG. 4, first, as the focus position, a position where the output signal amplitude of the beam focusing sensor 26 is maximum (that is, a beam waist position where the spot size is minimum) is searched. Therefore, the focus state is examined prior to scanning of the photosensitive member 18 by the scanning optical device. That is, before exposing the photoreceptor 18, the BD sensor 25 and the beam focusing sensor 26 are scanned with the laser beam, and the applied voltage to the electrodes 6, 7, and 8 of the collimator lens 5 is stepwise for each scanning. To change the focal position. In this way, the current beam waist position is measured at a specific image height at the present time (in this example, the position of the beam focusing sensor 26). Specifically, the voltage applied to the electrodes 5, 6 and 7 when the output signal amplitude of the beam focusing sensor 26 shows the maximum value is converted into a value indicating the beam waist position. This is determined from the output of the beam focusing sensor 26 (step S1). For this purpose, a correspondence table between the applied voltage to the electrode of the collimating lens 5 and the change in focal length is prepared in advance and stored in the memory 31 or the like when the apparatus is created. And the magnitude | size of the change of the focal distance corresponding to the measured voltage is preserve | saved as measurement information which shows the beam waist position in a measurement time. In order to realize Step S1, the beam convergence sensor 26 is provided at a position on the surface of the photoconductor when the photoconductor 18 is extended in the main scanning direction. When the reflection mirror 24 is used, the reflection mirror 24 is provided at a position where the surface of the extended photoreceptor is equal to a distance on the optical path.

次に、走査光学装置の組立調整時に採取した、変位情報すなわち1ライン走査内で(複数の像高)のビームウエスト位置データを、補正部52の有するメモリ31から取り出す。取り出したビームウエスト位置データに含まれる、ステップS1で確認した特定の像高(すなわちビーム集束センサ位置)に対応するビームウエスト位置と、ステップS1で測定したビームウエスト位置との差が計算される。その差がオフセット値(オフセット量)とされる。計算されたオフセット値は、一時的に記憶される(ステップS2)。   Next, the displacement information, that is, the beam waist position data (a plurality of image heights) within one line scanning, which is collected during the assembly adjustment of the scanning optical device, is taken out from the memory 31 included in the correction unit 52. A difference between the beam waist position corresponding to the specific image height (that is, the beam focusing sensor position) confirmed in step S1 and the beam waist position measured in step S1 included in the extracted beam waist position data is calculated. The difference is set as an offset value (offset amount). The calculated offset value is temporarily stored (step S2).

尚、メモリ31には、変位情報として走査光学装置の組立調整時に採取した、1ライン走査内で(複数の像高)のビームウエスト位置データ(変位情報)が保存されている。それらのデータは、走査ビームの像高別と深度別にビーム径を測り、それらの結果からデータを補間して算出したものである。これらは光学系(構成系)のみに起因して起こるものである。このデータは組立調整冶工具によって採取するがこれは前述の通りである。   The memory 31 stores beam waist position data (displacement information) of (a plurality of image heights) within one line scan, which is collected as displacement information when the scanning optical apparatus is assembled and adjusted. These data are calculated by measuring the beam diameter for each image height and depth of the scanning beam and interpolating the data from the results. These occur only due to the optical system (component system). This data is collected by an assembly adjustment tool as described above.

メモリ31に記憶されたオフセット値を、前述の1ライン走査内で各走査位置(複数の像高)におけるビームウエスト位置データに対して加算した値が、補正後の新たな変位情報となる。すなわち補正後の新たな変位情報は、電子写真装置内における1ライン内のビームウエスト位置の最新の値である。これを修正データと呼ぶ(ステップS3)。この修正データすなわち補正後の変位情報は、本例では補正前の変位情報に上書き保存される。なお補正前の変位情報とオフセット値とを別々に保存しても良い。   A value obtained by adding the offset value stored in the memory 31 to the beam waist position data at each scanning position (a plurality of image heights) in the above-described one-line scanning becomes new displacement information after correction. That is, the new displacement information after correction is the latest value of the beam waist position in one line in the electrophotographic apparatus. This is called correction data (step S3). The corrected data, that is, the corrected displacement information is overwritten and stored in the corrected displacement information in this example. The displacement information before correction and the offset value may be stored separately.

ステップS4では、変位情報を、各走査位置においてコリメートレンズに印加する電圧を求める。感光体上の走査全域にわたり、ビームウエスト位置を感光面と一致させることができる。変位情報がビームウエスト位置のずれを示す指標値である場合には、その指標値をコリメートレンズに印加する電圧に変換する必要がある。ここでは、コリメートレンズ5の電極6,7,8への印加電圧と感光体表面位置付近におけるピント変化量との対応関係を予め測ってその関係を示すテーブルを作成しておく。そのテーブルに基づいて、上述の像高毎の修正データ(補正後の変位情報)に対応した印加電圧をコリメートレンズ5に加えて、実際の画像形成動作を行なう(印加電圧は像高毎に変化する)(ステップS4)。このように、画像形成時には、コリメートレンズの電極には補正済み印加電圧が印加される。   In step S4, displacement information is obtained as a voltage to be applied to the collimating lens at each scanning position. The beam waist position can be made coincident with the photosensitive surface over the entire scanning area on the photosensitive member. When the displacement information is an index value indicating the deviation of the beam waist position, it is necessary to convert the index value into a voltage applied to the collimating lens. Here, a correspondence relationship between the voltage applied to the electrodes 6, 7 and 8 of the collimating lens 5 and the focus change amount in the vicinity of the photosensitive member surface position is measured in advance, and a table showing the relationship is created. Based on the table, an applied voltage corresponding to the above-described correction data for each image height (displacement information after correction) is applied to the collimator lens 5 to perform an actual image forming operation (the applied voltage changes for each image height). (Step S4). Thus, at the time of image formation, the corrected applied voltage is applied to the electrode of the collimating lens.

なお、これらの処理はすべて電子写真装置内で行っているが、画像データを感光体18に露光書き込みする際、BDセンサ25の信号を基準に感光体18の表面全域でほぼ最適なスポットを一様にすることができる。   All of these processes are performed in the electrophotographic apparatus. However, when image data is exposed and written on the photoconductor 18, an almost optimum spot is found on the entire surface of the photoconductor 18 based on the signal of the BD sensor 25. Can be done.

図7及び図8に本実施形態における補正の模式図を示す。図7は、感光体表面702を走査する光ビームのビームウエスト位置の軌跡701を示す模式図である。変位情報は軌跡701を表す情報である。図7において、図の上方が感光体18の外部であり、下方が感光体18の内部である。光ビームは感光体18を透過することはないので、感光体18内部に入り込んでいる軌跡701は実際に光ビームが合焦する位置ではなく、感光体18がなければ合焦するはずの位置の並びを示している。図7に示す例のように、ビームウエスト位置が丁度感光体18の表面にある走査位置はごく限られており、走査域の殆どでビームウエスト位置は感光体表面の前後にずれている。そこで、複写機等、本実施形態に係る走査光学装置の製造時に、感光体18の表面の位置でビームウエスト位置のずれを測定しておき、その変位情報を決定しておく。測定は感光体18表面のサンプル位置711〜716およびビーム集束性センサ位置710で行う。ピントずれの補正は、コリメートレンズ5に印加する電圧を変化させ、光ビームのスポット径が極小となるような電圧を補正値とする。その補正値1〜補正値6を含む補正値を各サンプル点に対応づけて変位情報として保存し、またビーム集束性センサ位置710に関連づけて、基準値としてメモリ31に保存する。光ビームによる走査時には、メモリ31に保存した補正値を主走査位置に同期して読み出し、補正値に応じた電圧をコリメートレンズ716の電極に印加する。ただし、補正値の線形補間を行う場合には、ある走査位置を挟む2つのサンプル点における補正値が必要なので、主走査に同期して、それを挟む2つの補正値を読み、補正を行う。この結果、1回の主走査を通してビームウエスト位置はほぼ感光体18の表面となる。   7 and 8 are schematic diagrams of correction in the present embodiment. FIG. 7 is a schematic diagram showing a locus 701 of the beam waist position of the light beam that scans the photosensitive member surface 702. The displacement information is information representing the locus 701. In FIG. 7, the upper side of the drawing is the outside of the photoconductor 18, and the lower side is the inside of the photoconductor 18. Since the light beam does not pass through the photoreceptor 18, the locus 701 entering the interior of the photoreceptor 18 is not the position where the light beam is actually focused, but the position where the light beam 18 should be focused without the photoreceptor 18. Shows the line. As in the example shown in FIG. 7, the scanning position where the beam waist position is just on the surface of the photoconductor 18 is very limited, and the beam waist position is shifted to the front and back of the surface of the photoconductor in most of the scanning area. Therefore, when manufacturing the scanning optical apparatus according to this embodiment such as a copying machine, the deviation of the beam waist position is measured at the position of the surface of the photoconductor 18 and the displacement information is determined. The measurement is performed at the sample positions 711 to 716 and the beam focusing sensor position 710 on the surface of the photoconductor 18. To correct the focus shift, the voltage applied to the collimating lens 5 is changed, and a voltage that minimizes the spot diameter of the light beam is used as a correction value. The correction values including the correction values 1 to 6 are stored as displacement information in association with each sample point, and stored in the memory 31 as a reference value in association with the beam convergence sensor position 710. At the time of scanning with the light beam, the correction value stored in the memory 31 is read in synchronization with the main scanning position, and a voltage corresponding to the correction value is applied to the electrode of the collimating lens 716. However, when linear interpolation of correction values is performed, correction values at two sample points sandwiching a certain scanning position are necessary, and therefore, two correction values sandwiching them are read and corrected in synchronization with main scanning. As a result, the beam waist position substantially becomes the surface of the photoconductor 18 through one main scanning.

図8は、図7のようにして得た補正値をさらに修正する様子を示す図である。図7のように装置の製造時に得た補正値も、経時的に適切ではなくなるおそれがある。そこで、所定時間間隔など、適宜補正値自体を補正する必要がある。図8の点線の軌跡801が、たとえば経時変化によりずれたビームウエスト位置の軌跡を示す。すなわち。図4の手順で得られる変位情報の修正データが軌跡801を表しているはずである。この場合には、ビーム集束性センサ位置710において、コリメートレンズ5に印加する電圧を変化させ、感光体18表面で光ビームのスポット径が極小となるような電圧がコリメートレンズに印加される。修正の結果、ビームウエスト位置の軌跡701が経時的にビームウエスト位置の軌跡801にずれていたため、感光体18の表面からずれた位置に補正されていたビームウエスト位置が、感光体18の表面に補正される。   FIG. 8 is a diagram showing how the correction values obtained as shown in FIG. 7 are further corrected. The correction value obtained at the time of manufacturing the device as shown in FIG. 7 may not be appropriate over time. Therefore, it is necessary to correct the correction value itself, such as a predetermined time interval. A dotted line locus 801 in FIG. 8 indicates a locus of the beam waist position which is shifted due to a change with time, for example. That is. The correction data of the displacement information obtained by the procedure of FIG. 4 should represent the locus 801. In this case, the voltage applied to the collimating lens 5 is changed at the beam focusing sensor position 710, and a voltage that minimizes the spot diameter of the light beam on the surface of the photoconductor 18 is applied to the collimating lens. As a result of the correction, since the beam waist position locus 701 has shifted to the beam waist position locus 801 with time, the beam waist position that has been corrected to the position shifted from the surface of the photoreceptor 18 is changed to the surface of the photoreceptor 18. It is corrected.

以上説明したように、この実施の形態では、KTN結晶で形成されたコリメートレンズ5の外部電極6,8および内部電極7に電圧を印加することで、コリメートレンズ5内を透過する光ビームの集光性を各電極間で高速で変化させることができる。これにより、偏向走査する光ビームの集光位置を高速に変位させることができ、全走査域で光ビームの集光位置の高精度化を実現することができる。この結果、感光体18の被走査面への書込み品質の向上を図ることができる。   As described above, in this embodiment, by applying a voltage to the external electrodes 6 and 8 and the internal electrode 7 of the collimator lens 5 formed of a KTN crystal, a collection of light beams transmitted through the collimator lens 5 is performed. The light property can be changed between the electrodes at high speed. Thereby, the condensing position of the light beam to be deflected and scanned can be displaced at high speed, and high accuracy of the condensing position of the light beam can be realized in the entire scanning region. As a result, it is possible to improve the writing quality of the photosensitive member 18 on the surface to be scanned.

また、コリメートレンズ5自体をKTN結晶で形成しているので、従来のように、新たな部品を追加する必要がない。このため、部品点数が削減されて、装置のコンパクト化および低コスト化を図ることができる。   Further, since the collimating lens 5 itself is formed of a KTN crystal, it is not necessary to add new parts as in the conventional case. For this reason, the number of parts can be reduced, and the apparatus can be made compact and low in cost.

またビーム集束性センサ26はひとつで良いので、その点においても部品点数および処理手順が簡略化できる。   Since only one beam focusing sensor 26 is required, the number of parts and the processing procedure can be simplified in this respect.

[変形例]
なお、コリメートレンズ5の電極に印加する電圧を変化させて感光体表面に相当する位置においたビーム集束性センサによりビームウエスト位置を移動させつつ、センサ位置で合焦したときの印加電圧を変位情報として測定することもできる。この場合には、変位情報は、サンプル位置において、ビームウエスト位置を感光体表面に移動させるためにコリメートレンズに印加する電圧そのものを表している。したがって、画像形成時には、変位情報を読み出し、主走査の走査位置に応じた電圧をコリメートレンズに印加することで、ビームウエスト位置を補正することができる。
[Modification]
The voltage applied to the electrode of the collimator lens 5 is changed and the beam waist position is moved by the beam convergence sensor located at the position corresponding to the surface of the photosensitive member, and the applied voltage when focused at the sensor position is changed as displacement information. Can also be measured. In this case, the displacement information represents the voltage itself applied to the collimating lens in order to move the beam waist position to the photosensitive member surface at the sample position. Therefore, at the time of image formation, the beam waist position can be corrected by reading the displacement information and applying a voltage corresponding to the scanning position of the main scanning to the collimating lens.

[第2実施形態]
次に、図6を参照して、本発明の第2の態様の実施の形態である走査光学装置について説明する。なお、上記第1の態様の実施の形態と重複する部分については、その説明を省略する。本発明の第2の態様の実施の形態である走査光学装置は、図1のシリンダレンズ12を図6のシリンダレンズ27に代え、かつ上記第1の態様の実施の形態のように、コリメートレンズ5ではなく、シリンダレンズ27をKTN結晶で形成している。
[Second Embodiment]
Next, with reference to FIG. 6, a scanning optical apparatus according to an embodiment of the second aspect of the present invention will be described. Note that the description of the same parts as those in the first embodiment is omitted. A scanning optical apparatus according to an embodiment of the second aspect of the present invention replaces the cylinder lens 12 of FIG. 1 with the cylinder lens 27 of FIG. 6 and, like the embodiment of the first aspect, a collimating lens. Instead of 5, the cylinder lens 27 is formed of a KTN crystal.

シリンダレンズ27は、四角柱状の本体27aと、本体27aの先端側(光学絞り10側)に配置された凸曲面部27bとを有している。また、シリンダトレンズ27の四角柱状の本体27aの互いに対向する2つの面に板状の外部電極28a,28cを配置し、本体27aの内部に板状の内部電極28bを外部電極28a,28cと平行に配置する。そして、内部電極28bと外部電極28a,28cに電圧を印加して電界を発生させ、内部を透過する光ビームの屈折率を変化させる。その他の構成及び作用効果については、上記第1の態様の実施の形態と同様である。   The cylinder lens 27 has a quadrangular columnar main body 27a and a convex curved surface portion 27b disposed on the distal end side (optical diaphragm 10 side) of the main body 27a. Further, plate-like external electrodes 28a and 28c are arranged on two mutually opposing surfaces of the quadrangular columnar main body 27a of the cylindrical lens 27, and the plate-like internal electrode 28b is parallel to the external electrodes 28a and 28c inside the main body 27a. To place. Then, a voltage is applied to the internal electrode 28b and the external electrodes 28a and 28c to generate an electric field, and the refractive index of the light beam transmitted through the inside is changed. About another structure and an effect, it is the same as that of embodiment of the said 1st aspect.

本発明の第1の態様の実施の形態である走査光学装置を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the scanning optical apparatus which is embodiment of the 1st aspect of this invention. KTN結晶で形成したコリメートレンズを説明するための斜視図である。It is a perspective view for demonstrating the collimating lens formed with the KTN crystal | crystallization. KTN結晶で形成した他の形状のコリメートレンズを説明するための斜視図である。It is a perspective view for demonstrating the collimating lens of the other shape formed with the KTN crystal | crystallization. ピント調整動作を説明するためのフローチャート図である。FIG. 9 is a flowchart for explaining a focus adjustment operation. 本発明の第2の態様の実施の形態である走査光学装置を説明するための斜視図である。It is a perspective view for demonstrating the scanning optical apparatus which is embodiment of the 2nd aspect of this invention. 従来の走査光学装置を説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the conventional scanning optical apparatus. 実施形態に係る走査光学装置によりビームウエスト位置を補正する様子を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows a mode that a beam waist position is correct | amended with the scanning optical apparatus which concerns on embodiment. 実施形態に係る走査光学装置によりビームウエスト位置の補正値をさらに修正する様子を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows a mode that the correction value of a beam waist position is further corrected with the scanning optical apparatus which concerns on embodiment.

符号の説明Explanation of symbols

1 半導体レーザ
2 光ビーム
5 コリメートレンズ
6 外部電極
7 内部電極
8 外部電極
10 光学絞り
12 シリンダレンズ
13 偏向器
15a 走査レンズ
15b 走査レンズ
16 内部電極
17 外部電極
18 感光体
24 折り曲げミラー
25 BDセンサ
26 ビーム集束性センサ
27 シリンダレンズ
28a 外部電極
28b 内部電極
28c 外部電極
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Semiconductor laser 2 Light beam 5 Collimating lens 6 External electrode 7 Internal electrode 8 External electrode 10 Optical aperture 12 Cylinder lens 13 Deflector 15a Scan lens 15b Scan lens 16 Internal electrode 17 External electrode 18 Photoconductor 24 Bending mirror 25 BD sensor 26 Beam Convergence sensor 27 Cylinder lens 28a External electrode 28b Internal electrode 28c External electrode

Claims (8)

光源からの光ビームを平行光化するコリメートレンズを備えた走査光学装置であって、
前記コリメートレンズを電気光学結晶で形成し、該コリメートレンズの内部と側面とに配置した電極を介して前記電気光学結晶に電気信号を印加することで前記コリメートレンズの焦点距離を変更可能に構成したことを特徴とする走査光学装置。
A scanning optical device including a collimating lens that collimates a light beam from a light source,
The collimating lens is formed of an electro-optic crystal, and the focal length of the collimating lens can be changed by applying an electric signal to the electro-optic crystal via electrodes arranged on the inside and side surfaces of the collimating lens. A scanning optical device.
偏向器に光ビームを入射させるシリンダレンズを備えた走査光学装置であって、
前記シリンダレンズを電気光学結晶で形成し、該シリンダレンズの内部と側面とに配置した電極を介して前記電気光学結晶に電気信号を印加することで前記シリンダレンズの焦点距離を変更可能に構成したことを特徴とする走査光学装置。
A scanning optical device including a cylinder lens that makes a light beam incident on a deflector,
The cylinder lens is formed of an electro-optic crystal, and the focal length of the cylinder lens can be changed by applying an electric signal to the electro-optic crystal via electrodes disposed on the inside and side surfaces of the cylinder lens. A scanning optical device.
前記電気光学結晶がKTN(タンタル酸ニオブ酸カリウム)結晶であることを特徴とする請求項1又は2に記載の走査光学装置。   3. The scanning optical apparatus according to claim 1, wherein the electro-optic crystal is a KTN (potassium tantalate niobate) crystal. 前記側面に配置した電極が板状電極であり、前記内部に配置した電極が板状電極又は棒状電極であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の走査光学装置。   4. The scanning optical device according to claim 1, wherein the electrode disposed on the side surface is a plate-like electrode, and the electrode disposed inside is a plate-like electrode or a rod-like electrode. 5. 被走査面での光ビームの集束性を検出する検出手段と、
前記検出手段による検出信号に基づいて前記電極に印加する電気信号の電圧を制御する制御手段と
を更に備えることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一項に記載の走査光学装置。
Detection means for detecting the convergence of the light beam on the scanned surface;
The scanning optical apparatus according to claim 1, further comprising a control unit that controls a voltage of an electric signal applied to the electrode based on a detection signal from the detection unit.
前記制御手段は、走査に対する同期検知信号に基づいて前記電極に印加する電気信号を変化させることを特徴とする請求項5に記載の走査光学装置。   The scanning optical apparatus according to claim 5, wherein the control unit changes an electric signal applied to the electrode based on a synchronization detection signal for scanning. 前記光ビームの集光性が少なくとも主走査方向又は副走査方向に変化するように前記電極を配置したことを特徴とする請求項1乃至6のいずれか一項に記載の走査光学装置。   The scanning optical apparatus according to claim 1, wherein the electrodes are arranged so that the light beam condensing property changes at least in a main scanning direction or a sub-scanning direction. 前記電極に電圧を印加していない状態における、前記走査光による1回の走査における走査位置に応じた合焦位置の分布と、前記検出点における走査光の合焦位置とを示すデータを記憶する記憶手段をさらに備え、
前記検出手段は、前記コリメートレンズ又はシリンダレンズを透過した走査光のスポットサイズを予め定めた検出位置において検出し、
前記制御手段は、前記電極への印加電圧を変化させて前記検出位置における前記コリメートレンズ又はシリンダレンズを透過した走査光のスポットサイズが極小となる印加電圧を決定し、該印加電圧に基づいて、前記電極に電圧を印加していない状態における前記検出点における走査光の現在の合焦位置を決定し、該合焦位置と前記記憶手段に記憶された合焦位置との差を、前記記憶手段に記憶された合焦位置の分布に含まれる各合焦位置に加算して前記合焦位置の分布を補正する補正手段と、
前記補正手段により補正された前記合焦位置の分布に基づいた電圧を前記電極に印加し、光ビームの合焦位置を感光体表面に移動させる段とを含むことを特徴とする請求項5に記載の走査光学装置。
Data indicating the distribution of the focus position according to the scan position in one scan by the scan light and the focus position of the scan light at the detection point in a state where no voltage is applied to the electrode is stored. A storage means,
The detection means detects a spot size of scanning light transmitted through the collimating lens or cylinder lens at a predetermined detection position,
The control means determines the applied voltage at which the spot size of the scanning light transmitted through the collimating lens or the cylinder lens at the detection position is minimized by changing the applied voltage to the electrode, and based on the applied voltage, A current focusing position of scanning light at the detection point in a state where no voltage is applied to the electrode is determined, and the difference between the focusing position and the focusing position stored in the storage means is determined as the storage means. Correction means for correcting the distribution of the focus position by adding to each focus position included in the distribution of the focus position stored in
Wherein a voltage based on the distribution of corrected said focus position is applied to the electrode by the correction means, according to claim, characterized in that it comprises a manual step of moving the focus position of the light beam on the photoreceptor surface 5 The scanning optical device according to 1.
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