JP4916566B2 - Dishwasher - Google Patents
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Description
本発明は、洗浄ポンプで加圧された洗浄水を洗浄ノズルから噴射し、洗浄槽内に配置された食器類の洗浄を行う食器洗浄機に関するものである。 TECHNICAL FIELD The present invention relates to a dishwasher that jets washing water pressurized by a washing pump from a washing nozzle to wash dishes arranged in a washing tank.
従来の食器洗浄機として、ノズルから間欠的に洗浄水を噴射して、洗浄槽内の食器類を洗浄するものがある(例えば、特許文献1参照)。 As a conventional tableware washing machine, there is one in which washing water is intermittently jetted from a nozzle to wash tableware in a washing tank (see, for example, Patent Document 1).
前述した従来の食器洗浄機は、ノズルから間欠的に洗浄水を噴射するため、食器類に付着した汚れに対し洗浄水が大きな衝撃力を発揮して洗浄力を向上させるものであるが、このノズルは、噴射される洗浄水の反力で回転するため、洗浄水の噴射停止後もある程度惰性で回転を続けて停止し、再び洗浄水の噴射によって反力で回転をするという動作になるため、間欠噴射する洗浄水が当たらない部分が発生してしまう。この間欠噴射の洗浄水が当たらない食器に付着した汚れに対しては、何ら洗浄力を発揮することはなく食器に洗い残しが発生するということがあった。 In the conventional dishwasher described above, since the washing water is intermittently ejected from the nozzle, the washing water exerts a large impact on the dirt adhering to the tableware and improves the washing power. Since the nozzle rotates with the reaction force of the wash water to be jetted, the nozzle continues to rotate with some inertia after the jetting of the wash water stops, and then rotates again with the reaction force by the jet of wash water. In other words, a portion that is not exposed to the intermittently sprayed cleaning water is generated. The dirt adhered to the tableware that is not exposed to the intermittently sprayed cleaning water does not exert any cleaning power, and the tableware may be left unwashed.
本発明は、前記のような課題を解決するためになされたもので、食器類の設置位置に関係なく洗浄力を向上させて洗い残しを無くし、洗浄に使用する水量の低減を可能にする食器洗浄機を提供することを目的とする。 The present invention has been made to solve the above-described problems, and is a tableware that improves the cleaning power regardless of the installation position of the tableware, eliminates unwashed residue, and reduces the amount of water used for cleaning. The purpose is to provide a washing machine.
本発明に係る食器洗浄機は、食器類を収納する洗浄槽と、回転数に応じて洗浄槽に貯留された水を吸引して加圧する洗浄ポンプと、洗浄槽の中に配設され、洗浄ポンプからの加圧に応じて水を噴射しながら回転する洗浄ノズルと、洗浄ポンプの回転数を制御する制御部とを備え、制御部は、洗浄ポンプが第1の高回転数及び低回転数を第1の周期として繰り返し回転するように制御し、その後、第1の高回転数と異なる第2の高回転数及び前記低回転数を第2の周期として繰り返し回転するように制御し、これらの制御を繰り返すようにしている。 The dishwasher according to the present invention includes a washing tank for storing tableware, a washing pump for sucking and pressurizing water stored in the washing tank according to the number of rotations, and a washing tank. A cleaning nozzle that rotates while jetting water in response to pressurization from the pump, and a control unit that controls the number of rotations of the cleaning pump. The control unit includes a first high rotation number and a low number of rotations. Are controlled to rotate repeatedly as the first cycle, and then controlled to rotate repeatedly as the second cycle with the second high rotation speed and the low rotation speed different from the first high rotation speed, The control is repeated.
本発明においては、洗浄ポンプが第1の高回転数及び低回転数を第1の周期として繰り返し回転するように制御し、その後、第1の高回転数と異なる第2の高回転数及び前記低回転数を第2の周期として繰り返し回転するように制御し、これらの制御を繰り返すようにしている。これにより、汚れが存在する高さによらず洗い残しがなくなり、洗浄力を高めることができる。また、前記のように、異なる回転数のパルス噴射の周期が異なるようにしているので、食器の位置によらず満遍なく洗浄することができる。 In the present invention, the cleaning pump is controlled to rotate repeatedly with the first high rotation speed and the low rotation speed as the first cycle, and then the second high rotation speed different from the first high rotation speed and the above-mentioned Control is performed so as to rotate repeatedly with the low rotation speed as the second period, and these controls are repeated. Thereby, there is no unwashed residue regardless of the height at which dirt is present, and the cleaning power can be increased. In addition, as described above, since the cycle of pulse injection at different rotational speeds is different, cleaning can be performed uniformly regardless of the position of the tableware.
実施の形態1.
図1は本発明の実施の形態1に係る食器洗浄機を示す概略構成図、図2は食器洗浄機の洗浄槽及び洗浄ノズルを上部から見た平面図、図3は洗浄ノズルの回転位置と洗浄ポンプの回転数との相関を示す図である。
食器洗浄機の本体1には、食器類の洗浄時及びすすぎ時に使用する水4を貯留するためのタンク2、食器類を載せるための下かご16及び上かご17が配置された洗浄槽6、給湯ポンプ7、モータ19とケーシング部11(羽根内蔵)とからなる洗浄ポンプ9、洗浄ポンプ9に回転自在に取り付けられた導入路10bを有する洗浄ノズル10、排水ポンプ14、及び前述した各ポンプの運転を制御する制御部12が配設されている。
FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing a dishwasher according to
The
前記のタンク2には、水道水を引き込んで内部に注水するための注水口3、及び注水された水4を加熱するためのヒータ5が設けられている。洗浄槽6と洗浄ポンプ9とを結ぶ管路の上流側には、洗浄水或いはすすぎ水に含まれる残菜を集めるフィルタ18が着脱可能に設置されている。また、洗浄ノズル10の下方に回転位置検知部13が設けられている。この回転位置検知部13は、例えばマイクロスイッチからなり、図2に示す位置に配置され、洗浄ノズル10の導入路10bに設けられた突起部10cを検知したときに1パルスの検知信号を制御部12に出力する。
The tank 2 is provided with a
ヒータ5によって暖められたタンク2内の水4は、給湯ポンプ7により吸引され、洗浄時やすすぎ時に必要な分量だけ給湯口8から洗浄槽6内に供給される。洗浄槽6内の水4は、洗浄ポンプ9により吸引されて加圧され、洗浄ノズル10に設けられた複数の噴射口10aから噴射される。この洗浄ノズル10は、水噴射時、その反力によって一方向に回転するようになっている。洗浄槽6内の水4は、洗浄或いはすすぎ終了後、排水ポンプ14によって吸引され、排水口15から外部へ排出される。
The
前述した制御部12は、洗浄ポンプ9を運転するとき、まず、低回転用制御信号を洗浄ポンプ9のモータ19に出力し、回転位置検知部13からの検知信号が入力されたときは高回転用制御信号に切り替えてモータ19に出力する。この時、例えば時間の計測を開始して、所定時間を経過したかどうかを判定する。計測時間が所定時間経過したときは、再び低回転用制御信号を洗浄ポンプ9のモータ19に出力する。前記の低回転用制御信号は、モータ19を低回転で動作させるための電圧であり、高回転用制御信号は、モータ19を高回転で動作させるための電圧であり、高回転用制御信号の方が高い電圧値となっている。この制御部12による洗浄ポンプ9の運転は、洗浄工程とすすぎ工程で行われる。
When the
次に、洗浄ポンプ運転時の動作について図2及び図3を参照しながら説明する。
制御部12から洗浄ポンプ9のモータ19に低回転用制御信号が出力されると、洗浄ポンプ9は、その低回転用制御信号に基づいて低回転し、洗浄槽6内の暖かい水4を吸引して加圧し、洗浄ノズル10に送出する。この時、洗浄ノズル10は、流入された水4を噴射口10aから噴射し、その噴射量の反力で図2に示す矢印方向に回転する。この場合、洗浄ポンプ9の高回転時よりも比較的噴射量が少ないので、洗浄ノズル10の回転速度も比較的遅く、洗浄可能なエリアに配置された小物食器が洗浄される。
Next, the operation during the operation of the cleaning pump will be described with reference to FIGS.
When the control signal for low rotation is output from the
一方、制御部12は、回転位置検知部13により洗浄ノズル10の導入路10bに設けられた突起部10cが検知されたかどうかを判定しており、その突起部10cが検知されていないときは、洗浄ポンプ9の低回転運転を継続する。突起部10cが回転位置検知部13により検知されると、低回転用制御信号から高回転用制御信号に切り替えて洗浄ポンプ9のモータ19に出力し、かつ時間の計測を開始する。この時、洗浄ポンプ9は、図3に示すように回転数が低回転から高回転となり、洗浄槽6内の暖かい水4を多量に吸引して加圧し、洗浄ノズル10に送出する。洗浄ノズル10は、流入量の多い水4を噴射口10aから噴射し、その噴射量の反力で前記と同じ方向に低回転時よりも速く回転する。この洗浄ノズル10から噴射される水量が多く、かつ回転が速くなるタイミングは、突起部10cが回転位置検知部13aによって検知された後の斜線部(図2参照)のエリアに入ったところである。この場合は、前述したように水4の噴射流量が低回転時よりも増えるので、その水4は高い位置まで噴射され、大皿など比較的大きな食器、その反対側のエリアの食器が洗浄される。
On the other hand, the
制御部12は、計測した時間が所定時間を経過したかどうかを判定しており、計測時間が所定時間を経過したときは、高回転用制御信号から再び低回転用制御信号に切り替えて洗浄ポンプ9のモータ19に出力し、洗浄ポンプ9の回転数を高回転から低回転に切り替え、洗浄ノズル10の噴射口10aから比較的水量の少ない水4を噴射させる。洗浄ポンプ9の高回転から低回転への切り替えにより、洗浄ノズル10から噴射される水量の多い期間は、図2に示すように、扇状の斜線部のエリアとなる。そして、洗浄ノズル10の突起部10cが再び回転位置検知部13により検知されたときは、洗浄ポンプ9を高回転させる高回転用制御信号をモータ19に出力し、前述した動作を繰り返し行って、洗浄槽6内の食器類を洗浄させる。
The
以上のように実施の形態1によれば、回転位置検知部13が洗浄ノズル10の突起部10cを検知してから所定時間経過するまで洗浄ポンプ9を高回転させて、洗浄ノズル10から流量の多い水を噴射させ、それ以外のエリアでは洗浄ポンプ9を低回転させて、洗浄ノズル10から比較的水量の少ない水を噴射させ、これを繰り返し行うようにしたので、洗浄槽6内の食器類を満遍なく洗浄することが可能になり、また、水量を一定の間欠運転で噴射する食器洗浄機と比べ、少ない使用水量で食器類を洗浄することができ、節水効果が向上する。さらに、洗浄ポンプ9を構成するモータ19を常に高回転で動作させるものではないため、モータ19にかかる負荷も軽減でき、モータ19の長寿命化を図ることができる。
As described above, according to the first embodiment, the
実施の形態2.
実施の形態1では、洗浄槽6内の特定のエリアだけ洗浄ポンプ9を高回転させて、そのエリア内を洗浄ノズル10から水量の多い水を噴射させるように制御したものであるが、本実施の形態は、実施の形態1の制御に加え、洗浄ノズルが上かごの下方に回転してきたときに再度洗浄ポンプを高回転させるようにしたものであり、以下、図1、図4及び図5を用いて説明する。なお、本実施の形態は、回転位置検知部13に加えてもう一つの回転位置検知部13aを備えた食器洗浄機で、それ以外については、図1で説明した実施の形態1と同じ構成となっている。
図4は実施の形態2における食器洗浄機の洗浄槽及び洗浄ノズルを上部から見た平面図、図5は洗浄ノズルの回転位置と洗浄ポンプの回転数との相関を示す図である。
Embodiment 2. FIG.
In the first embodiment, the
4 is a plan view of the washing tub and the washing nozzle of the dishwasher according to the second embodiment as viewed from above, and FIG. 5 is a diagram showing the correlation between the rotation position of the washing nozzle and the rotation number of the washing pump.
実施の形態2は、回転位置検知部13に加えて、もう一つの回転位置検知部13aが洗浄ノズル10の下方に設けられている。この回転位置検知部13aは、前記と同様にマイクロスイッチからなり、図4に示すように、洗浄ノズル10が上かご17の下方にきたときに、洗浄ノズル10の突起部10cを検知するように導入路10bの近傍に配置されている。また、本実施の形態における制御部12は、洗浄ポンプ9を低回転で運転しているとき、最初の回転位置検知部13が洗浄ノズル10の突起部10cを検知したかどうかを判定し、回転位置検知部13が突起部10cを検知したときは、もう一つの回転位置検知部13aが突起部10cを検知したかどうかを判定する。また、回転位置検知部13の検知に対し洗浄ポンプ9を高回転させる第1の時間が設定され、回転位置検知部13aの検知に対し洗浄ポンプ9を高回転させる第2の時間が設定され、これら時間の関係は、第1の時間>第2の時間となっている。この制御部12による洗浄ポンプ9の運転は、洗浄工程とすすぎ工程で行われる。
In the second embodiment, in addition to the
次に、洗浄ポンプ運転時の動作について図4及び図5を参照しながら説明する。
実施の形態1と同様に、制御部12から洗浄ポンプ9のモータ19に低回転用制御信号が出力されると、洗浄ポンプ9は、その低回転用制御信号に基づいて低回転し、洗浄槽6内の暖かい水4を吸引して加圧し、洗浄ノズル10に送出する。この時、洗浄ノズル10は、流入された水4を噴射口10aから噴射し、その噴射量の反力で図4に示す矢印方向に回転する。この場合は、洗浄ポンプ9の高回転時よりも比較的噴射量が少ないので、洗浄ノズル10の回転速度も比較的遅く、洗浄可能なエリアに配置された小物食器が洗浄される。
Next, the operation during the operation of the cleaning pump will be described with reference to FIGS.
As in the first embodiment, when the low rotation control signal is output from the
一方、制御部12は、回転位置検知部13により洗浄ノズル10の突起部10cが検知されたかどうかを判定しており、その突起部10cが検知されていないときは、洗浄ポンプ9の低回転運転を継続する。洗浄ノズル10の突起部10cが回転位置検知部13により検知されると、低回転用制御信号から高回転用制御信号に切り替えて洗浄ポンプ9のモータ19に出力し、かつ時間の計測を開始する。この時、洗浄ポンプ9は、図5に示すように回転数が低回転から高回転となり、洗浄槽6内の暖かい水4を多量に吸引して加圧し、洗浄ノズル10に送出する。洗浄ノズル10は、流入量の多い水4を噴射口10aから噴射し、その噴射量の反力で前記と同じ方向に低回転時よりも速く回転する。この洗浄ノズル10から噴射される水量が多く、かつ回転が速くなるタイミングは、突起部10cが回転位置検知部13によって検知された後の斜線部(図4参照)のエリアに入ったところである。この場合は、前述したように水4の噴射流量が低回転時よりも増えるので、その水4は高い位置まで噴射され、大皿など比較的大きな食器、その反対側のエリアの食器が洗浄される。
On the other hand, the
制御部12は、計測した時間が第1の時間を経過したかどうかを判定しており、計測時間が第1の時間を経過したときは、高回転用制御信号から再び低回転用制御信号に切り替えて洗浄ポンプ9のモータ19に出力し、洗浄ポンプ9の回転数を高回転から低回転に切り替え、洗浄ノズル10の噴射口10aから比較的水量の少ない水4を噴射させる。洗浄ポンプ9の高回転から低回転への切り替えにより、洗浄ノズル10から噴射される水量の多い期間は、実施の形態1と同様に、扇状の斜線部のエリアとなる(図4参照)。
The
その後、制御部12は、洗浄ノズル10の突起部10cが回転位置検知部13aによって検知されたかどうかを判定し、その突起部10cが検知されていないときは、洗浄ポンプ9の低回転運転を継続する。洗浄ノズル10の突起部10cが回転位置検知部13aにより検知されると、洗浄ポンプ9を高回転させる高回転用制御信号をモータ19に出力し、かつ時間の計測を開始すると共に、その時間が第2の時間を経過したかどうかの判定に入る。この時、洗浄ポンプ9は、図5に示すように、再び回転数が低回転から高回転となり、洗浄槽6内の暖かい水4を多量に吸引して加圧し、洗浄ノズル10に送出する。洗浄ノズル10は、再び流入量の多い水4を噴射口10aから噴射し、その噴射量の反力で前記と同じ方向に低回転時よりも速く回転する。この洗浄ノズル10から噴射される水量が多く、かつ回転が速くなるタイミングは、突起部10cが回転位置検知部13aによって検知された後の網掛部(図4参照)のエリアに入ったところである。この場合は、前記と同様に水4の噴射流量が低回転時よりも増えるので、その水4は高い位置まで噴射され、上かご17に設置された食器、その反対側のエリアの食器が洗浄される。
Thereafter, the
一方、制御部12は、計測した時間が第2の時間を経過したかどうかを判定しており、計測時間が第2の時間を経過したときは、高回転用制御信号から低回転用制御信号に切り替えて洗浄ポンプ9のモータ19に出力し、洗浄ポンプ9の回転数を高回転から低回転に切り替え、洗浄ノズル10の噴射口10aから比較的水量の少ない水4を噴射させ、前述した一連の動作を繰り返し行って、洗浄槽6内の食器類を洗浄させる。なお、2度目の洗浄ポンプ9の高回転から低回転への切り替える噴射量の多い期間は、図4に示すように、扇状の網掛部のエリアとなる。
On the other hand, the
以上のように実施の形態2によれば、洗浄ノズルの回転位置を検出し、食器の配置場所に応じて適切に洗浄ノズル10より洗浄水を噴射することが可能になるので、上かご部に配置した食器に対しても適切な洗浄水を与えることが可能になり、洗浄力を向上させる効果がある。
As described above, according to the second embodiment, it is possible to detect the rotational position of the cleaning nozzle and appropriately spray the cleaning water from the cleaning
実施の形態3.
前述した実施の形態1、2では、制御部12による洗浄ポンプ9の回転数をパルス的に変化させるようにしたものであるが、本実施の形態は、洗浄ポンプの回転数をリニアに変化させるようにしたものであり、以下、図1及び図2、図6を用いて説明する。なお、本実施の形態は、2つの回転位置検知部13,13aが設けられた食器洗浄機で、それ以外は、図1及び図2で説明した実施の形態1と同じ構成となっている。
図6は実施の形態3における洗浄ノズルの回転位置と洗浄ポンプの回転数との相関を示す図である。
In the first and second embodiments described above, the rotation speed of the
FIG. 6 is a diagram showing the correlation between the rotational position of the cleaning nozzle and the rotational speed of the cleaning pump in the third embodiment.
実施の形態3は、例えば図2において、洗浄ノズル10が左側に回転したときに、即時に導入路10bに設けられた突起部10cを検知するように回転位置検知部13を配置し、さらに、導入路10bを軸心として回転位置検知部13からほぼ180度回転した位置(斜線部のエリア内)に回転位置検知部13aを配置している。また、本実施の形態3における制御部12は、洗浄ポンプ9を低回転で運転を開始し、回転位置検知部13により洗浄ノズル10の突起部10cが検知されたとき、洗浄ポンプ9の回転数を低回転から徐々に高くなるように制御し、この制御をもう一つの回転位置検知部13aが突起部10cを検知するまで継続する。そして、回転位置検知部13aにより突起部10cが検知されたときは、回転位置検知部13が突起部10cを検知するまで洗浄ポンプ9の回転数を高回転から徐々に低くなるように制御し、前述した制御を繰り返し行うようになっている。この制御部12による洗浄ポンプ9の運転は、洗浄工程とすすぎ工程で行われる。
In the third embodiment, for example, in FIG. 2, when the cleaning
次に、洗浄ポンプ運転時の動作について図2及び図6を参照しながら説明する。
制御部12は、洗浄ポンプ9を運転するとき、まず、洗浄ポンプ9が低回転で運転するようにそのモータ19の回転数を制御し、次いで、回転位置検知部13により突起部10cが検知されたかどうかを判定する。回転位置検知部13が突起部10cを検知していないときは、前述した制御を継続し、回転位置検知部13により突起部10cが検知されたときは、図6に示すようにモータ19の回転数が徐々に高くなるように制御し、もう一つの回転位置検知部13aにより突起部10cが検知されたかどうかを判定する。回転位置検知部13aにより突起部10cが検知されていないときは、モータ19の回転数をさらに高くしていき、突起部10cが検知されたときは、高回転から徐々に低くなるようにモータ19の回転数を制御し(図6参照)、再び回転位置検知部13によって突起部10cが検知されたかどうかを判定する。そして、モータ19の回転数を徐々に低くしているときに、回転位置検知部13によって突起部10cが検知されると、低回転から徐々に高くなるようにモータ19の回転数を制御し、前述した一連の動作を繰り返し行う。
Next, the operation during the operation of the cleaning pump will be described with reference to FIGS.
When operating the
一方、洗浄ノズル10は、洗浄ポンプ9の低回転による水量が流入されると、水4を噴射口10aから噴射し、その噴射量の反力で図2に示す矢印方向に回転を始める。そして、回転位置検知部13によって突起部10cが検知されると、これをタイミングとして、水4の噴射量が徐々に増加しながら回転し、図2に示す斜線部のエリアに近づくに連れて噴射量が多くなり、斜線部のエリア内においてはさらに噴射量が多くなる。この場合、洗浄ノズル10の回転速度は、噴射量が多くなるに連れて速くなっていく。そして、もう一つの回転位置検知部13aによって突起部10cが検知されると、これをタイミングとして、水4の噴射量が徐々に少なくなり、斜線部のエリアから離れていくに連れてさらに噴射量が減少していく。この場合、洗浄ノズル10の回転速度は、噴射量が少なくなるに連れて遅くなっていく。また、再び回転位置検知部13によって突起部10cが検知されると、前記と同様に洗浄ノズル10からの噴射量が徐々に増加していき、洗浄ポンプ9の回転数に応じた動作を繰り返し行う。
On the other hand, when the amount of water due to low rotation of the
以上のように実施の形態3によれば、洗浄ポンプ3の回転数をリニアに増減させるようにしているので、実施の形態1、2の効果に加え、モータ19の回転数が急峻に変化することがなくなり、モータ19への負荷をさらに軽減することができる。また、洗浄ノズル10からの噴射量が徐々に増加したり減少したりするので、水4が食器や洗浄槽6の内壁に当たる際の衝撃音がパルス駆動時のように断続音ではなく、連続して徐々に変化するため、騒音低減の効果がある。
As described above, according to the third embodiment, since the rotational speed of the
実施の形態4.
図7は本発明の実施の形態4における洗浄ポンプの運転時間と回転数との相関を示す図である。なお、本実施の形態の食器洗浄機は、図1に示す突起部10cと回転位置検知部13とがない構成となっており、それ以外については、図1で説明した実施の形態1と同じである。
FIG. 7 is a diagram showing the correlation between the operation time and the rotational speed of the cleaning pump in the fourth embodiment of the present invention. In addition, the dishwasher of this Embodiment becomes a structure without the
本実施の形態における洗浄ポンプ9は、図7に示すように、高回転数A1(第1の高回転数)と低回転数を周期T1(第1の周期)としてm回(例えば3回)繰り返し、その後、高回転数A2(第2の高回転数)と低回転数を周期T2(第2の周期)としてn回(例えば5回)繰り返し、これを交互に繰り返し行うようになっている。それぞれの周期はT1≠T2の関係となっており、周期T1での高回転時の回転数A1と周期T2での高回転時の回転数A2の関係は、A1>A2となっている。前述した洗浄ポンプ9の運転パターンは、洗浄工程及びすすぎ工程で行われ、制御部12の制御によって実行されている。
As shown in FIG. 7, the
次に、洗浄ポンプ運転時の動作について図7を参照しながら説明する。
制御部12が、図7に示すパターンで洗浄ポンプ9が運転されるようにそのモータ19の回転を制御すると、洗浄ノズル10は、周期T1においては、洗浄ポンプ9の高回転時(回転数A1)に噴射量の多い水4を噴射し、低回転時に噴射量の少ない水4を噴射し、これを回転しながら3回繰り返していく。その後、周期T2においては、洗浄ポンプ9の高回転時(回転数A2)に周期T1の高回転時よりも比較的噴射量の少ない水4を噴射し、低回転時に周期T1と同じ噴射量の水4を噴射し、これを回転しながら5回繰り返していく。そして、前述した動作を交互に繰り返しながら洗浄槽6内の食器を洗浄する。周期T1での高回転時(回転数A1)は、洗浄ノズル10からの噴射量が最も多く、洗浄槽6の高い位置まで噴射され、周期T2での高回転時(回転数A2)は、回転数がA1時よりも低いので、洗浄ノズル10からの噴射量が比較的少なくなり、洗浄槽6の中程の位置まで噴射され、さらに、周期T1、T2での低回転時は、噴射量が最も少なく、洗浄槽6の低い位置に噴射される。
Next, the operation during the operation of the cleaning pump will be described with reference to FIG.
When the
以上のように実施の形態4によれば、周期T1毎に高回転(回転数A)を3回、周期T2毎に高回転(回転数A2)を5回それぞれ繰り返し、かつ、これを交互に繰り返すように洗浄ポンプ9を運転するようにしたので、汚れが存在する高さによらず洗い残しがなくなり、洗浄力を高めることができる。また、前記のように、異なる回転数(A1>A2)のパルス噴射の周期が異なるようしているので、食器の位置によらず満遍なく洗浄することができる。
As described above, according to the fourth embodiment, high rotation (rotation speed A) is repeated 3 times for each cycle T1, and high rotation (rotation speed A2) is repeated 5 times for each cycle T2, and this is alternately performed. Since the
実施の形態5.
実施の形態4では、周期T1毎に高回転(回転数A)を3回、周期T2毎に高回転(回転数A2)を5回それぞれ繰り返し、これを交互に繰り返すようにしたものであるが、本実施の形態は、図8に示すように、洗浄ポンプ9を高回転(回転数A1、A2)させる周期T1、T2の回数をランダムに切り替えて、洗浄ノズル10から噴射される噴射量を変化させるようにしたものである。周期T1、T2の回数をランダムに決めるには擬似乱数を用いればよく、その擬似乱数を発生する擬似乱数発生装置を設けることで可能になる。これに代えて、制御部12に設定されたプログラムで擬似乱数を発生させて周期T1、T2の回数を決めるようにしても良い。この場合、前記の擬似乱数発生装置が不要になる。
In the fourth embodiment, the high rotation (rotation speed A) is repeated 3 times for each cycle T1, and the high rotation (rotation speed A2) is repeated 5 times for each cycle T2, and this is alternately repeated. In the present embodiment, as shown in FIG. 8, the number of cycles T1 and T2 for rotating the
以上のように、洗浄ポンプ9を運転する周期T1、T2毎の高回転時の回数をランダムに行うようにしたので、汚れが存在する高さによらず洗い残しをなくすことが可能になり洗浄力を高めることができる。また、前述の如く、異なる回転数のパルス噴射をランダムな順番で行うので、パルス噴射のタイミングの周期と洗浄ノズル10の回転の周期が同期するのを防ぐことができ、パルス噴射の位置が特定の位置に固定されるということがなくなり、食器の位置によらず満遍なく洗浄することができる。
As described above, since the number of times of high rotation for each of the cycles T1 and T2 for operating the
実施の形態6.
以上の実施の形態4、5では、周期T1、T2毎の高回転時(A1、A2)における洗浄ポンプ9の回転数あるいはそれにより決まるパルス噴射の噴射量とパルス噴射の噴射時間の関係について特に指定していなかったが、本実施の形態は、洗浄工程時及びすすぎ工程時の各単位時間当たりの洗浄水の使用量が常に一定になるように噴射量と噴射時間を決めるようにしたものである。図9に示すように、2つの高回転時での噴射総量が一定になるように、周期T1での高回転時の噴射時間及び噴射量と周期T2での高回転時の噴射時間及び噴射量とを決める。具体的には、それぞれの高速回時において、噴射時間と噴射量の積が等しくなるようにすればよい(図9に示すように同一面積にする)。
In the fourth and fifth embodiments described above, the relationship between the number of rotations of the
以上のように実施の形態6においては、洗浄ポンプ9を運転する周期T1での高回転時の噴射総量と周期T2での高回転時の噴射総量とが等しくなるようにしたので、単位時間当たりの洗浄水の使用量が一定となり、このため、必要最小限の水量を用いて安定した洗浄を行うことができる。
As described above, in the sixth embodiment, the total injection amount at the time of high rotation in the cycle T1 in which the
実施の形態7.
図10は実施の形態7における洗浄ポンプの動作を説明するための洗浄槽と洗浄ノズルを上部から見た平面図で、かごに設置された皿も図示してある。
洗浄槽6内のかごに設置される皿は、一般的に、図10に示すように平行に設置される。この皿の配列から、洗浄ノズル10が皿の設置位置に対してほぼ直角の位置まで回転したときに、洗浄ノズル10から噴射される洗浄水が皿の洗浄に最も効果的である。
FIG. 10 is a plan view of the cleaning tank and the cleaning nozzle for explaining the operation of the cleaning pump according to the seventh embodiment as seen from above, and the dish installed in the basket is also illustrated.
The dishes installed in the basket in the
本実施の形態においては、洗浄ポンプ9の高回転時のタイミングの周期と洗浄ノズル10の回転周期とを同期させ、洗浄ノズル10が皿とほぼ直角の位置まで回転したときに、洗浄ポンプ9の回転数を高回転させるようにする。高回転時のタイミングの周期をTpとし、洗浄ノズル10が1回転する時間をTnとすると、kを整数として、
k x Tn =Tp …(1)
の関係が成り立てば、洗浄ノズル10は常に同一の角度の位置でパルス噴射することになる。洗浄ポンプ9のモータ19の回転を制御することにより、TnとTpを変化させることができるので、適当な整数kに対して式(1)を実現することができる。
In the present embodiment, the timing cycle of the
k x Tn = Tp (1)
If this relationship is established, the cleaning
このようにすれば洗浄ノズル10の回転とパルス噴射のタイミングを同期させることができるので、常に洗浄ノズル10が皿とほぼ直角の位置まで回転したときにパルス噴射を行うようにするには、一度、洗浄ノズル10が皿とほぼ直角の位置まで回転したときにパルス噴射を行うようにし、その後は、前記の式(1)を満たすようにパルス噴射を続ければよい。一度、洗浄ノズル10が皿とほぼ直角の位置まで回ったときにパルス噴射を行うようにするには、洗浄ノズル10の初期状態を常に皿の設置方向とほぼ直角の位置に固定するようにするか、位置センサ(図示せず)を用いて洗浄ノズル10が皿とほぼ直角の位置に来たことを一度検出し、その時にパルス噴射を行うようにすればよい。
In this way, since the rotation of the cleaning
以上のように実施の形態7の食器洗浄機では、洗浄ノズル10が皿とほぼ直角の位置まで回転したときに洗浄ポンプ9を高速回転状態にするので、皿の汚れを落とすのに最も有効な角度でパルス噴射の洗浄水を皿に当てることができ、洗浄時間を短くすることができるという効果がある。
As described above, in the dishwasher according to the seventh embodiment, the
この実施の形態7の変形例として、常に洗浄ノズル10が皿とほぼ直角の位置まで回転したときにのみパルス噴射するのではなく、洗浄ノズル10が皿に接近したときにパルス噴射する洗浄方法がある。これを実現するには、同期の条件を示す前記の式(1)におけるパルス噴射のタイミングの周期Tpに小さい揺らぎを与えてやればよい。この揺らぎの平均が0であれば、パルス噴射する位置は、洗浄ノズル10が皿と直角になる位置を中心とした近傍に限られることになる。具体的には、洗浄ノズル10がX度回転するのに要する時間をtとすると、パルス噴射のタイミングを例えば次のように周期的に変化させる。
Tp、Tp+0.5t、Tp+t、Tp+0.5t、Tp、Tp−0.5t、Tp−t、Tp−0.5t、Tp、…
このようにパルス噴射のタイミング周期に小さい揺らぎを与えることにより、洗浄ノズル10が皿と直角の位置のプラスマイナスX度(図10参照)の範囲内でパルス噴射を行うことができる。
As a modified example of the seventh embodiment, there is a cleaning method in which pulse injection is not performed only when the cleaning
Tp, Tp + 0.5t, Tp + t, Tp + 0.5t, Tp, Tp-0.5t, Tp-t, Tp-0.5t, Tp,.
Thus, by giving a small fluctuation to the timing period of the pulse injection, it is possible to perform the pulse injection within the range of plus or minus X degrees (see FIG. 10) where the cleaning
以上のように実施の形態7の変形例では、洗浄ノズルの位置が皿の設置方向に対し直角方向だけでなくその近傍に来たときにもパルス噴射を行うので、効率的な洗浄を行いながらも、洗浄水が特定の位置に限定されることによる洗い残しを防ぐことができる。 As described above, in the modified example of the seventh embodiment, pulse injection is performed not only when the position of the cleaning nozzle is in a direction perpendicular to the installation direction of the dish but also in the vicinity thereof, so that efficient cleaning is performed. In addition, it is possible to prevent unwashed residue due to the wash water being limited to a specific position.
なお、前記の各実施の形態では、食器洗浄機の構成として、水4を一旦タンク4に貯水して加熱し、その後に洗浄槽6へ給湯する構成として説明したが、これに限るものではなく、洗浄槽6に直接水4を注水して洗浄槽6内に設置されたヒータ5で加熱しながら、洗浄する方式の食器洗浄機においても適用できることは言うまでもない。
In each of the above-described embodiments, the configuration of the dishwasher has been described as a configuration in which the
1 食器洗浄機の本体、2 タンク、5 ヒータ、6 洗浄槽、7 給湯ポンプ、
9 洗浄ポンプ、10 洗浄ノズル、10c 突起部、11 ケーシング部、12 制御部、13,13a 回転位置検知部、14 排水ポンプ、19 モータ。
1 Main body of dishwasher, 2 tank, 5 heater, 6 washing tank, 7 hot water pump,
9 Washing pump, 10 Washing nozzle, 10c Protruding part, 11 Casing part, 12 Control part, 13, 13a Rotation position detecting part, 14 Drain pump, 19 Motor.
Claims (5)
回転数に応じて前記洗浄槽に貯留された水を吸引して加圧する洗浄ポンプと、
前記洗浄槽の中に配設され、前記洗浄ポンプからの加圧に応じて水を噴射しながら回転する洗浄ノズルと、
前記洗浄ポンプの回転数を制御する制御部とを備え、
前記制御部は、前記洗浄ポンプが第1の高回転数及び低回転数を第1の周期として繰り返し回転するように制御し、その後、第1の高回転数と異なる第2の高回転数及び前記低回転数を第2の周期として繰り返し回転するように制御し、これらの制御を繰り返すことを特徴とする食器洗浄機。 A washing tank for storing tableware,
A cleaning pump that sucks and pressurizes water stored in the cleaning tank according to the number of rotations;
A cleaning nozzle disposed in the cleaning tank and rotating while spraying water in response to pressurization from the cleaning pump;
A control unit for controlling the number of rotations of the washing pump,
The control unit controls the cleaning pump to repeatedly rotate with a first high rotation speed and a low rotation speed as a first cycle, and then a second high rotation speed different from the first high rotation speed and A dishwasher characterized in that the low rotation speed is controlled to rotate repeatedly as a second period, and these controls are repeated.
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