JP4911457B2 - Planographic printing plate preparation method and planographic printing plate precursor - Google Patents

Planographic printing plate preparation method and planographic printing plate precursor Download PDF

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Description

本発明は平版印刷版の作製方法およびその方法に用いる平版印刷版原版に関する。   The present invention relates to a method for preparing a lithographic printing plate and a lithographic printing plate precursor used in the method.

一般に平版印刷版は、親油性の画像部と親水性の非画像部からなる表面を有する。平版印刷は、この版表面に湿し水と油性インキとを交互に与え、水と油が互いに反発する性質を利用して、親水性の非画像部を湿し水受容部(インキ非受容部)とし、親油性の画像部のみにインキを受容させた後、紙等の被印刷体にインキを転写して印刷する方法である。
この平版印刷版を作製するため、従来、親水性の支持体上に親油性の感光層(画像記録層)を設けてなる平版印刷版原版(PS版)が広く用いられている。通常は、平版印刷版原版を、リスフィルム等の原画を通した露光を行った後、画像部となる感光層を残存させ、それ以外の不要な感光層をアルカリ性現像液または有機溶剤によって溶解して除去することで親水性の支持体の表面を露出させて非画像部を形成する方法により製版を行って、平版印刷版を得ている。
In general, a lithographic printing plate has a surface composed of an oleophilic image portion and a hydrophilic non-image portion. In lithographic printing, dampening water and oil-based ink are alternately applied to the plate surface, and the hydrophilic non-image area is dampened with a dampening water receiving area (ink non-receiving area) by utilizing the property that water and oil repel each other. ), After the ink is received only in the oleophilic image area, the ink is transferred to a printing medium such as paper and printed.
In order to produce this lithographic printing plate, a lithographic printing plate precursor (PS plate) in which an oleophilic photosensitive layer (image recording layer) is provided on a hydrophilic support has been widely used. Normally, after exposing a lithographic printing plate precursor through an original image such as a lithographic film, the photosensitive layer to be an image portion is left, and other unnecessary photosensitive layers are dissolved with an alkaline developer or an organic solvent. The lithographic printing plate is obtained by carrying out plate making by a method of exposing the surface of the hydrophilic support to form a non-image portion by removing it.

従来の平版印刷版原版の製版工程においては、露光の後、不要な感光層を現像液等によって溶解除去する工程が必要であるが、このような付加的に行われる湿式処理を簡易化することが課題の一つとして挙げられている。簡易化の一つとして、中性に近い水溶液または単なる水で現像できることが望まれている。   In the conventional plate-making process of a lithographic printing plate precursor, a step of dissolving and removing unnecessary photosensitive layers with a developer or the like is necessary after exposure, but simplifies such additional wet processing. Is listed as one of the issues. As one of simplification, it is desired that development can be performed with an aqueous solution close to neutrality or simple water.

一方、近年、画像情報を、コンピュータを用いて電子的に処理し、蓄積し、出力する、デジタル化技術が広く普及してきており、このようなデジタル化技術に対応した新しい画像出力方式が種々実用されるようになってきている。これに伴い、レーザー光のような高収斂性の輻射線にデジタル化された画像情報を担持させて、その光で平版印刷版原版を走査露光し、リスフィルムを介することなく、直接平版印刷版を製造するコンピュータ・トゥ・プレート技術が注目されてきている。従って、このような技術に適応した平版印刷版原版を得ることが重要な技術課題の一つとなっている。   On the other hand, in recent years, digitization technology that electronically processes, stores, and outputs image information using a computer has become widespread, and various new image output methods corresponding to such digitization technology have been put into practical use. It has come to be. Along with this, digitized image information is carried by high-convergence radiation such as laser light, and the lithographic printing plate precursor is scanned and exposed with that light, directly without using a lithographic film. Computer-to-plate technology for manufacturing is attracting attention. Accordingly, obtaining a lithographic printing plate precursor adapted to such a technique is one of the important technical issues.

上述のような背景から、現在、製版作業の簡易化とデジタル化の両面への適合が、従来にも増して、強く望まれるようになってきている。   From the background as described above, it is now more strongly desired than ever to adapt both the simplification of the plate making operation and the digitization.

これに対して、例えば、特許文献1には、親水性支持体上に、疎水性化前駆体、親水性樹脂、光熱変換剤を含有する画像形成層を有する平版印刷版原版の画像形成層中に、さらにエチレンオキシド鎖を有する化合物を含有することによって、機上現像のほかに、露光後、水または適当な水溶液を現像液とする液体現像処理を施して印刷に用いることが可能であると記載されている。   On the other hand, for example, in Patent Document 1, in an image forming layer of a lithographic printing plate precursor having an image forming layer containing a hydrophobizing precursor, a hydrophilic resin, and a photothermal conversion agent on a hydrophilic support. In addition to the on-press development, it can also be used for printing after exposure by liquid development using water or a suitable aqueous solution as a developer by further containing a compound having an ethylene oxide chain. Has been.

また、特許文献2には、(i)親水性支持体、および(ii)ラジカル重合性エチレン状不飽和モノマー、ラジカル重合開始剤および赤外吸収染料を含有し、赤外レーザー露光により硬化し、しかも60質量%以上の水を含有し、pH2.0〜10.0の水性現像液で現像可能な親油性感熱層からなる平版印刷版原版を用意し、赤外レーザーで画像様に露光し、水性現像液で該感熱層の未硬化領域を除くことからなる平版印刷版原版の処理方法が記載されている。
特開2002−365789号公報 米国特許出願公開2004/0013968号明細書
Patent Document 2 contains (i) a hydrophilic support, and (ii) a radical polymerizable ethylenically unsaturated monomer, a radical polymerization initiator and an infrared absorbing dye, and is cured by infrared laser exposure. Moreover, a lithographic printing plate precursor comprising an oleophilic heat-sensitive layer containing 60% by mass or more of water and developable with an aqueous developer having a pH of 2.0 to 10.0 is prepared and exposed imagewise with an infrared laser. A processing method for a lithographic printing plate precursor comprising removing an uncured region of the heat-sensitive layer with an aqueous developer is described.
JP 2002-365789 A US Patent Application Publication No. 2004/0013968

しかしながら、pH2.0〜10.0の水性現像液による現像が可能であるためには、感光層は親水性または高水浸透性であることが必要であり、これらの性能と、露光、硬化後の感光層の耐水性や皮膜強度との両立が問題となっている。
この問題を克服する手段として、高感度化すること、すなわち硬化効率の高い反応系で未露光部と露光部の耐水性のディスクリミネーションを向上させることが考えられるが、高感度とする一方で、セーフライト下での取り扱いでカブリを生じないことも望まれる。
本発明はこのような要求に応えるものであり、本発明の課題は、pH2.0〜10.0の水性現像液を用いて現像し、良好な印刷版を提供できる製版方法、および、この方法に用いる高感度で、セーフライト適性に優れた平版印刷版原版を提供することである。
However, in order to be able to develop with an aqueous developer having a pH of 2.0 to 10.0, the photosensitive layer needs to be hydrophilic or highly water-permeable. The compatibility of the water resistance and film strength of the photosensitive layer is a problem.
As a means to overcome this problem, it is conceivable to increase the sensitivity, that is, to improve the water resistance discrimination between the unexposed part and the exposed part in a reaction system with high curing efficiency. It is also desirable that fog does not occur when handled under safelight.
The present invention meets such a demand, and an object of the present invention is to provide a plate making method capable of developing with an aqueous developer having a pH of 2.0 to 10.0 and providing a good printing plate, and this method. It is intended to provide a lithographic printing plate precursor having high sensitivity and excellent safelight suitability used in the above.

本発明者は、下記構成により、上記課題を解決できることを見出した。
<1> 親水性支持体上に、(A)下記一般式(I)又は(II)で表される350〜450nmに吸収極大を有する増感色素、(B)重合開始剤、(C)重合性化合物、(D)25℃における水及びpH10以上の水溶液に対する溶解度が0.5質量%以下であり、酸価0.3meq/g以下の疎水性バインダーポリマーを含有する感光層と、保護層とをこの順に有する平版印刷版原版を、350〜450nmのレーザー露光した後、擦り部材を備えた自動処理機により、pHが2〜10の現像液の存在下、擦り部材で版面を擦ることにより、保護層および非露光部の感光層を除去することを特徴とする平版印刷版の作製方法。


1 〜R 14 は、各々独立に、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、シアノ基又はハロゲン原子を表す。但し、R 1 〜R 10 の少なくとも一つは、炭素数2以上のアルコキシ基を表す。
15 〜R 32 は、各々独立に、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、シアノ基又はハロゲン原子を表す。但し、R 15 〜R 24 の少なくとも一つは、炭素数2以上のアルコキシ基を表す。
<2> (D)疎水性バインダーポリマーが、(メタ)アクリル樹脂又はポリウレタン樹脂であることを特徴とする上記<1>に記載の平版印刷版の作製方法。
<3> (B)重合開始剤が、ヘキサアリールビイミダゾール系化合物であることを特徴とする上記<1>又は<2>に記載の平版印刷版の作製方法。
<4> 感光層中に、さらに、(E)連鎖移動剤を含有することを特徴とする上記<3>に記載の平版印刷版の作製方法。
<5> (E)連鎖移動剤が、下記一般式で表されるチオール化合物である上記<4>に記載の平版印刷版の作製方法。

ここで、Rは置換基を有してもよいアルキル基、又は置換基を有してもよいアリール基を表し、AはN=C−N部分と共に炭素原子を有する5員環又は6員環のヘテロ環を形成する原子団を表し、Aはさらに置換基を有してもよい。
<6> (D)疎水性バインダーポリマーが、側鎖に架橋性基を有する(メタ)アクリル共重合体および側鎖に架橋性基を有するポリウレタン樹脂からなる群から選択される少なくとも1種であることを特徴とする上記<1>〜<5>のいずれかに記載の平版印刷版の作製方法。
<7> 感光層成分の一部または全てが、マイクロカプセルに内包されていることを特徴とする上記<1>〜6のいずれかに記載の平版印刷版の作製方法。
<8> 擦り部材が少なくとも2本の回転ブラシロールであることを特徴とする上記<1>〜<7>のいずれかに記載の平版印刷版の作製方法。
<9> 現像液のpHが3〜8であることを特徴とする上記<1>〜<8>のいずれかに記載の平版印刷版の作製方法。
<10> 露光から現像までの間に、さらに、露光された平版印刷版原版を加熱処理することを特徴とする上記<1>〜<9>のいずれかに記載の平版印刷版の作製方法。
<11> 親水性支持体上に、(A)下記一般式(I)又は(II)で表される350〜450nmに吸収極大を有する増感色素、(B)重合開始剤、(C)重合性化合物、(D)25℃における水及びpH10以上の水溶液に対する溶解度が0.5質量%以下であり、酸価0.3meq/g以下の疎水性バインダーポリマーを含有する感光層と、保護層とをこの順に有する平版印刷版原版であって、350〜450nmのレーザー露光した後、擦り部材を備えた自動処理機により、pHが2〜10の現像液の存在下、擦り部材で版面を擦ることにより、保護層および非露光部の感光層を除去可能な平版印刷版原版。


1 〜R 14 は、各々独立に、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、シアノ基又はハロゲン原子を表す。但し、R 1 〜R 10 の少なくとも一つは、炭素数2以上のアルコキシ基を表す。
15 〜R 32 は、各々独立に、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、シアノ基又はハロゲン原子を表す。但し、R 15 〜R 24 の少なくとも一つは、炭素数2以上のアルコキシ基を表す。
<12> (D)疎水性バインダーポリマーが、(メタ)アクリル樹脂又はポリウレタン樹脂であることを特徴とする上記<11>に記載の平版印刷版原版。
<13> (D)疎水性バインダーポリマーが、側鎖に架橋性基を有する(メタ)アクリル共重合体および側鎖に架橋性基を有するポリウレタン樹脂からなる群から選択される少なくとも1種であることを特徴とする上記<11>に記載の平版印刷版原版。
<14> (B)重合開始剤が、ヘキサアリールビイミダゾール系化合物であることを特徴とする上記<11>〜<13>のいずれかに記載の平版印刷版原版。
<15> 感光層中に、さらに、(E)連鎖移動剤を含有することを特徴とする上記<14>に記載の平版印刷版原版。
<16> (E)連鎖移動剤が、下記一般式で表されるチオール化合物である上記<15>に記載の平版印刷版原版。

ここで、Rは置換基を有してもよいアルキル基、又は置換基を有してもよいアリール基を表し、AはN=C−N部分と共に炭素原子を有する5員環又は6員環のヘテロ環を形成する原子団を表し、Aはさらに置換基を有してもよい。
<17> 露光から現像までの間に、さらに、露光された平版印刷版原版を加熱処理することを特徴とする上記<11>〜<16>のいずれかに記載の平版印刷版原版。
<18> 現像液中に下記一般式(III)又は(IV)で表される界面活性剤を含有することを特徴とする上記<1>〜<10>のいずれかに記載の平版印刷版の作製方法。

(式中、R 〜R 10 はそれぞれ水素原子またはアルキル基を、lは1〜3の整数を、X 及びX はそれぞれスルホン酸塩、硫酸モノエステル塩、カルボン酸塩または燐酸塩を表し、R 〜R またはR 〜R 10 中の炭素数の総和が3以上である。)
<19> 現像液中に下記一般式(V)又は(VI)で表される界面活性剤を含有することを特徴とする上記<1>〜<10>のいずれかに記載の平版印刷版の作製方法。

(式中、R 〜R 10 はそれぞれ水素原子またはアルキル基を、lは1〜3の整数を、X 及びX はそれぞれスルホン酸塩、硫酸モノエステル塩、カルボン酸塩または燐酸塩を、Y 及びY はそれぞれ−C 2n −、−C n-m 2(n-m) OC 2m −、−O−(CH CH O) −、−O−(CH CH CH O) −または−CO−NH−を表し、n≧1、n≧m≧0であり、R 〜R およびY またはR 〜R 10 およびY 中の炭素数の総和が3以上である。)
<20> 現像液中に下記一般式(VII)〜(IX)のいずれかで表される界面活性剤を含有することを特徴とする上記<1>〜<10>のいずれかに記載の平版印刷版の作製方法。

(式(VII)中、Raは、水素原子またはアルキル基を表し、A及びBは、独立に、エチレンオキサイド基、カルボン酸基、またはカルボン酸塩を含有する基である。
式(VIII)中、Rb及びRcは、独立に水素原子またはアルキル基を表し、Cは、アルキル基またはエチレンオキサイド基を含有する基、Dはカルボン酸アニオンを含有する基である。
式(IX)中、Rd、Re、RfおよびRgはそれぞれ水素原子またはアルキル基を表し、Z は対アニオンである。)
本発明は、上記<1>〜<20>に記載の構成を有するが、以下、他の事項も含めて記載している。
(1)親水性支持体上に、(A)下記一般式(I)又は(II)で表される350〜450nmに吸収極大を有する増感色素、(B)重合開始剤、(C)重合性化合物、(D)酸価0.3meq/g以下の疎水性バインダーポリマーを含有する感光層と、保護層とをこの順に有する平版印刷版原版を、350〜450nmのレーザー露光した後、擦り部材を備えた自動処理機により、pHが2〜10の現像液の存在下、擦り部材で版面を擦ることにより、保護層および非露光部の感光層を除去することを特徴とする平版印刷版の作製方法。
The present inventor has found that the above problem can be solved by the following configuration.
<1> On a hydrophilic support, (A) a sensitizing dye having an absorption maximum at 350 to 450 nm represented by the following general formula (I) or (II), (B) a polymerization initiator, (C) polymerization (D) a photosensitive layer containing a hydrophobic binder polymer having a solubility in water at 25 ° C. and an aqueous solution having a pH of 10 or more of 0.5% by mass or less and an acid value of 0.3 meq / g or less, a protective layer, In this order, the lithographic printing plate precursor is subjected to laser exposure at 350 to 450 nm, and then the plate surface is rubbed with a rubbing member in the presence of a developer having a pH of 2 to 10 by an automatic processor equipped with a rubbing member. A method for preparing a lithographic printing plate, comprising removing a protective layer and a photosensitive layer in an unexposed area.


R 1 to R 14 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, a cyano group, or a halogen atom. However, at least one of R 1 to R 10 represents an alkoxy group having 2 or more carbon atoms.
R 15 to R 32 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, a cyano group or a halogen atom. However, at least one of R 15 to R 24 represents an alkoxy group having 2 or more carbon atoms.
<2> (D) The method for preparing a lithographic printing plate as described in <1> above, wherein the hydrophobic binder polymer is a (meth) acrylic resin or a polyurethane resin.
<3> (B) The method for preparing a lithographic printing plate as described in <1> or <2> above, wherein the polymerization initiator is a hexaarylbiimidazole compound.
<4> The method for preparing a lithographic printing plate as described in <3> above, wherein the photosensitive layer further contains (E) a chain transfer agent.
<5> (E) The method for preparing a lithographic printing plate according to <4>, wherein the chain transfer agent is a thiol compound represented by the following general formula.

Here, R represents an alkyl group which may have a substituent, or an aryl group which may have a substituent, and A represents a 5-membered or 6-membered ring having a carbon atom together with an N = CN moiety. The atomic group which forms the heterocyclic ring of A, and A may further have a substituent.
<6> (D) The hydrophobic binder polymer is at least one selected from the group consisting of a (meth) acrylic copolymer having a crosslinkable group in the side chain and a polyurethane resin having a crosslinkable group in the side chain. The method for producing a lithographic printing plate as described in any one of <1> to <5> above, wherein:
<7> The method for producing a lithographic printing plate as described in any one of <1> to 6 above, wherein a part or all of the photosensitive layer component is encapsulated in a microcapsule.
<8> The method for producing a lithographic printing plate as described in any one of <1> to <7>, wherein the rubbing member is at least two rotating brush rolls.
<9> The method for preparing a lithographic printing plate as described in any one of <1> to <8> above, wherein the pH of the developer is from 3 to 8.
<10> The method for preparing a lithographic printing plate as described in any one of <1> to <9> above, wherein the exposed lithographic printing plate precursor is further subjected to heat treatment between exposure and development.
<11> On a hydrophilic support, (A) a sensitizing dye having an absorption maximum at 350 to 450 nm represented by the following general formula (I) or (II), (B) a polymerization initiator, (C) polymerization (D) a photosensitive layer containing a hydrophobic binder polymer having a solubility in water at 25 ° C. and an aqueous solution having a pH of 10 or more of 0.5% by mass or less and an acid value of 0.3 meq / g or less, a protective layer, In this order, the lithographic printing plate precursor is exposed to a laser beam of 350 to 450 nm, and then the plate surface is rubbed with a rubbing member in the presence of a developer having a pH of 2 to 10 by an automatic processor equipped with a rubbing member. A lithographic printing plate precursor capable of removing the protective layer and the non-exposed photosensitive layer.


R 1 to R 14 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, a cyano group, or a halogen atom. However, at least one of R 1 to R 10 represents an alkoxy group having 2 or more carbon atoms.
R 15 to R 32 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, a cyano group or a halogen atom. However, at least one of R 15 to R 24 represents an alkoxy group having 2 or more carbon atoms.
<12> The lithographic printing plate precursor as described in <11> above, wherein the (D) hydrophobic binder polymer is a (meth) acrylic resin or a polyurethane resin.
<13> (D) The hydrophobic binder polymer is at least one selected from the group consisting of a (meth) acrylic copolymer having a crosslinkable group in the side chain and a polyurethane resin having a crosslinkable group in the side chain. The lithographic printing plate precursor as described in <11> above, wherein
<14> The lithographic printing plate precursor as described in any one of <11> to <13> above, wherein the polymerization initiator (B) is a hexaarylbiimidazole compound.
<15> The lithographic printing plate precursor as described in <14> above, wherein the photosensitive layer further comprises (E) a chain transfer agent.
<16> (E) The lithographic printing plate precursor as described in <15> above, wherein the chain transfer agent is a thiol compound represented by the following general formula.

Here, R represents an alkyl group which may have a substituent, or an aryl group which may have a substituent, and A represents a 5-membered or 6-membered ring having a carbon atom together with an N = CN moiety. The atomic group which forms the heterocyclic ring of A, and A may further have a substituent.
<17> The lithographic printing plate precursor as described in any one of <11> to <16> above, wherein the exposed lithographic printing plate precursor is further subjected to heat treatment between exposure and development.
<18> The lithographic printing plate as described in any one of <1> to <10> above, wherein the developer contains a surfactant represented by the following general formula (III) or (IV): Manufacturing method.

(Wherein R 1 to R 10 each represent a hydrogen atom or an alkyl group, l represents an integer of 1 to 3, and X 1 and X 2 represent a sulfonate, a monoester sulfate, a carboxylate or a phosphate, respectively. And the total number of carbon atoms in R 1 to R 5 or R 6 to R 10 is 3 or more.)
<19> The lithographic printing plate as described in any one of <1> to <10> above, wherein the developer contains a surfactant represented by the following general formula (V) or (VI): Manufacturing method.

(Wherein R 1 to R 10 each represent a hydrogen atom or an alkyl group, l represents an integer of 1 to 3, and X 1 and X 2 represent a sulfonate, a monoester sulfate, a carboxylate or a phosphate, respectively. , Y 1 and Y 2 are —C n H 2n —, —C nm H 2 (nm) OC m H 2m —, —O— (CH 2 CH 2 O) n —, —O— ( CH 2 CH 2 CH 2 O) n - or represents -CO-NH-, is n ≧ 1, n ≧ m ≧ 0, R 1 ~R 5 and Y 1 or R 6 to R 10 and Y 2 in the (The total number of carbon atoms is 3 or more.)
<20> The lithographic plate according to any one of <1> to <10>, wherein the developer contains a surfactant represented by any of the following general formulas (VII) to (IX): A method for preparing a printing plate.

(In the formula (VII), Ra represents a hydrogen atom or an alkyl group, and A and B are independently a group containing an ethylene oxide group, a carboxylic acid group, or a carboxylate.
In formula (VIII), Rb and Rc independently represent a hydrogen atom or an alkyl group, C is a group containing an alkyl group or an ethylene oxide group, and D is a group containing a carboxylate anion.
In formula (IX), Rd, Re, Rf and Rg each represent a hydrogen atom or an alkyl group, and Z is a counter anion. )
Although this invention has the structure as described in said <1>-<20>, it is described below also including another matter.
(1) On a hydrophilic support, (A) a sensitizing dye having an absorption maximum at 350 to 450 nm represented by the following general formula (I) or (II), (B) a polymerization initiator, (C) polymerization A lithographic printing plate precursor having a functional compound, (D) a photosensitive layer containing a hydrophobic binder polymer having an acid value of 0.3 meq / g or less, and a protective layer in this order, after being exposed to laser at 350 to 450 nm, and then a rubbing member A lithographic printing plate characterized by removing the protective layer and the non-exposed portion of the photosensitive layer by rubbing the plate surface with a rubbing member in the presence of a developer having a pH of 2 to 10 by an automatic processor equipped with Manufacturing method.

1〜R14は、各々独立に、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、シアノ基又はハロ
ゲン原子を表す。但し、R1〜R10の少なくとも一つは、炭素数2以上のアルコキシ基を
表す。
15〜R32は、各々独立に、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、シアノ基又はハロゲン原子を表す。但し、R15〜R24の少なくとも一つは、炭素数2以上のアルコキシ基を表す。
R 1 to R 14 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, a cyano group, or a halogen atom. However, at least one of R 1 to R 10 represents an alkoxy group having 2 or more carbon atoms.
R 15 to R 32 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, a cyano group or a halogen atom. However, at least one of R 15 to R 24 represents an alkoxy group having 2 or more carbon atoms.

(2)(B)重合開始剤が、ヘキサアリールビイミダゾール系化合物であることを特徴と
する上記(1)に記載の平版印刷版の作製方法。
(2) The method for preparing a lithographic printing plate as described in (1) above, wherein the polymerization initiator (B) is a hexaarylbiimidazole compound.

(3)感光層中に、さらに、(E)連鎖移動剤を含有することを特徴とする上記(2)に記載の平版印刷版の作製方法。 (3) The method for preparing a lithographic printing plate as described in (2) above, wherein the photosensitive layer further contains (E) a chain transfer agent.

(4)(E)連鎖移動剤が、下記一般式(T )で表されるチオール化合物である上記(3)に記載の平版印刷版の作製方法。 (4) The method for preparing a lithographic printing plate as described in (3) above, wherein the chain transfer agent (E) is a thiol compound represented by the following general formula (T).

ここで、Rは置換基を有してもよいアルキル基、又は置換基を有してもよいアリール基を表し、AはN=C−N部分と共に炭素原子を有する5員環又は6員環のヘテロ環を形成する原子団を表し、Aはさらに置換基を有してもよい。   Here, R represents an alkyl group which may have a substituent, or an aryl group which may have a substituent, and A represents a 5-membered or 6-membered ring having a carbon atom together with an N = CN moiety. The atomic group which forms the heterocyclic ring of A, and A may further have a substituent.

(5)(D)疎水性バインダーポリマーが、側鎖に架橋性基を有する(メタ)アクリル共重合体および側鎖に架橋性基を有するポリウレタン樹脂からなる群から選択される少なくとも1種であることを特徴とする上記(1)〜(4)のいずれかに記載の平版印刷版の作製方法。 (5) (D) The hydrophobic binder polymer is at least one selected from the group consisting of a (meth) acrylic copolymer having a crosslinkable group in the side chain and a polyurethane resin having a crosslinkable group in the side chain. The method for producing a lithographic printing plate as described in any one of (1) to (4) above, wherein:

(6)感光層成分の一部または全てが、マイクロカプセルに内包されていることを特徴とする上記(1)〜(5)のいずれかに記載の平版印刷版の作製方法。 (6) The method for preparing a lithographic printing plate as described in any one of (1) to (5) above, wherein some or all of the photosensitive layer components are encapsulated in microcapsules.

(7)擦り部材が少なくとも2本の回転ブラシロールであることを特徴とする上記(1)〜(6)のいずれかに記載の平版印刷版の作製方法。 (7) The method for preparing a lithographic printing plate as described in any one of (1) to (6) above, wherein the rubbing member is at least two rotating brush rolls.

(8)現像液のpHが3〜8であることを特徴とする上記(1)〜(7)のいずれかに記載の平版印刷版の作製方法。
(9)露光から現像までの間に、さらに、露光された平版印刷版原版を加熱処理することを特徴とする上記(1)〜(8)のいずれかに記載の平版印刷版の作製方法。
(8) The method for preparing a lithographic printing plate as described in any one of (1) to (7) above, wherein the pH of the developer is from 3 to 8.
(9) The method for preparing a lithographic printing plate as described in any one of (1) to (8) above, wherein the exposed lithographic printing plate precursor is further subjected to heat treatment between exposure and development.

(10)親水性支持体上に、(A)上記一般式(I)又は(II)で表される350〜450nmに吸収極大を有する増感色素、(B)重合開始剤、(C)重合性化合物、(D)酸価0.3meq/g以下の疎水性バインダーポリマーを含有する感光層と、保護層とをこの順に有する平版印刷版原版であって、350〜450nmのレーザー露光した後、擦り部材を備えた自動処理機により、pHが2〜10の現像液の存在下、擦り部材で版面を擦ることにより、保護層および非露光部の感光層を除去可能な平版印刷版原版。 (10) On a hydrophilic support, (A) a sensitizing dye having an absorption maximum at 350 to 450 nm represented by the general formula (I) or (II), (B) a polymerization initiator, and (C) polymerization. (D) a lithographic printing plate precursor having a photosensitive layer containing a hydrophobic binder polymer having an acid value of 0.3 meq / g or less, and a protective layer in this order, after laser exposure at 350 to 450 nm, A lithographic printing plate precursor capable of removing a protective layer and a photosensitive layer in an unexposed area by rubbing the plate surface with a rubbing member in the presence of a developer having a pH of 2 to 10 by an automatic processor equipped with a rubbing member.

(11)(B)重合開始剤が、ヘキサアリールビイミダゾール系化合物であることを特徴とする上記(10)に記載の平版印刷版原版。
(12) 感光層中に、さらに、(E)連鎖移動剤を含有することを特徴とする上記(11)に記載の平版印刷版原版。
(13)(E)連鎖移動剤が、上記一般式(T)で表されるチオール化合物である上記(12)に記載の平版印刷版原版。
(14)露光から現像までの間に、さらに、露光された平版印刷版原版を加熱処理することを特徴とする上記(10)〜(13)のいずれかに記載の平版印刷版原版。
(11) The lithographic printing plate precursor as described in (10) above, wherein the polymerization initiator (B) is a hexaarylbiimidazole compound.
(12) The lithographic printing plate precursor as described in (11) above, wherein the photosensitive layer further contains (E) a chain transfer agent.
(13) The lithographic printing plate precursor as described in (12) above, wherein the chain transfer agent (E) is a thiol compound represented by the general formula (T).
(14) The lithographic printing plate precursor as described in any one of (10) to (13) above, wherein the exposed lithographic printing plate precursor is further subjected to heat treatment between exposure and development.

(15)現像液中に下記一般式(III)又は(IV)で表される界面活性剤を含有することを特徴とする上記(1)〜(9)のいずれかに記載の平版印刷版の作製方法。 (15) The lithographic printing plate as described in any one of (1) to (9) above, wherein the developer contains a surfactant represented by the following general formula (III) or (IV): Manufacturing method.

(式中、R〜R10はそれぞれ水素原子またはアルキル基を、lは1〜3の整数を、X及びXはそれぞれスルホン酸塩、硫酸モノエステル塩、カルボン酸塩または燐酸塩を表し、R〜RまたはR〜R10中の炭素数の総和が3以上である。) (Wherein R 1 to R 10 each represent a hydrogen atom or an alkyl group, l represents an integer of 1 to 3, and X 1 and X 2 represent a sulfonate, a monoester sulfate, a carboxylate or a phosphate, respectively. And the total number of carbon atoms in R 1 to R 5 or R 6 to R 10 is 3 or more.)

(16)現像液中に下記一般式(V)又は(VI)で表される界面活性剤を含有することを特徴とする上記(1)〜(9)のいずれかに記載の平版印刷版の作製方法。 (16) The lithographic printing plate as described in any one of (1) to (9) above, wherein the developer contains a surfactant represented by the following general formula (V) or (VI): Manufacturing method.

(式中、R〜R10はそれぞれ水素原子またはアルキル基を、lは1〜3の整数を、X及びXはそれぞれスルホン酸塩、硫酸モノエステル塩、カルボン酸塩または燐酸塩を、Y及びYはそれぞれ−C2n−、−Cn-m2(n-m)OC2m−、−O−(CHCHO)−、−O−(CHCHCHO)−または−CO−NH−を表し、n≧1、n≧m≧0であり、R〜RまたはR〜R10中およびYまたはY中の炭素数の総和が3以上である。) (Wherein R 1 to R 10 each represent a hydrogen atom or an alkyl group, l represents an integer of 1 to 3, and X 1 and X 2 represent a sulfonate, a monoester sulfate, a carboxylate or a phosphate, respectively. , Y 1 and Y 2 are —C n H 2n —, —C nm H 2 (nm) OC m H 2m —, —O— (CH 2 CH 2 O) n —, —O— ( CH 2 CH 2 CH 2 O) n — or —CO—NH—, where n ≧ 1, n ≧ m ≧ 0, in R 1 to R 5 or R 6 to R 10 and in Y 1 or Y 2 The total number of carbon atoms is 3 or more.)

(17)現像液中に下記一般式(VII)〜(IX)のいずれかで表される界面活性剤を含有することを特徴とする上記(1)〜(9)のいずれかに記載の平版印刷版の作製方法。 (17) The lithographic plate as described in any one of (1) to (9) above, wherein the developer contains a surfactant represented by any of the following general formulas (VII) to (IX) A method for preparing a printing plate.

(式(VII)中、Raは、水素原子またはアルキル基を表し、A及びBは、独立に、エチレンオキサイド基、カルボン酸基、またはカルボン酸塩を含有する基である。
式(VIII)中、Rb及びRcは、独立に水素原子またはアルキル基を表し、Cは、アルキル基またはエチレンオキサイド基を含有する基、Dはカルボン酸アニオンを含有する基である。
式(IX)中、Rd、Re、RfおよびRgはそれぞれ水素原子またはアルキル基を表し、Zは対アニオンである。)
(In the formula (VII), Ra represents a hydrogen atom or an alkyl group, and A and B are independently a group containing an ethylene oxide group, a carboxylic acid group, or a carboxylate.
In formula (VIII), Rb and Rc independently represent a hydrogen atom or an alkyl group, C is a group containing an alkyl group or an ethylene oxide group, and D is a group containing a carboxylate anion.
In formula (IX), Rd, Re, Rf and Rg each represent a hydrogen atom or an alkyl group, and Z is a counter anion. )

本発明に従い、高感度でセーフライト適性の良好な平版印刷版原版を用いて、pH2.0〜10.0の水性現像液で現像し、良好な印刷版を作製する製版方法を提供することができる。   According to the present invention, there is provided a plate making method in which a lithographic printing plate precursor having high sensitivity and good safelight suitability is developed with an aqueous developer having a pH of 2.0 to 10.0 to produce a good printing plate. it can.

〔平版印刷版原版〕
最初に本発明に用いる平版印刷版原版について説明する。
[Lithographic printing plate precursor]
First, the planographic printing plate precursor used in the present invention will be described.

<感光層>
本発明の感光層は、(A)一般式(I)または(II)で表される350〜450nmに吸収極大を有する増感色素、(B)重合開始剤、(C)重合性化合物、(D)酸価0.3meq/g以下の疎水性バインダーポリマーを含有する。
<Photosensitive layer>
The photosensitive layer of the present invention comprises (A) a sensitizing dye having an absorption maximum at 350 to 450 nm represented by the general formula (I) or (II), (B) a polymerization initiator, (C) a polymerizable compound, ( D) A hydrophobic binder polymer having an acid value of 0.3 meq / g or less is contained.

上記態様によって、350〜450nmのレーザー露光で、高感度、かつセーフライト適性に優れた平版印刷版原版が得られる。
感光層は、必要に応じて、さらにその他の成分を含有することができる。以下、感光層の構成成分について詳細に説明する。
According to the above aspect, a lithographic printing plate precursor having high sensitivity and excellent safelight suitability can be obtained by laser exposure at 350 to 450 nm.
The photosensitive layer can further contain other components as required. Hereinafter, the components of the photosensitive layer will be described in detail.

(A)増感色素
本発明の感光層が含有する350〜450nmの波長域に極大吸収を有する増感色素は、以下の一般式(I)又は(II)で表される化合物である。
(A) Sensitizing dye The sensitizing dye having the maximum absorption in the wavelength region of 350 to 450 nm contained in the photosensitive layer of the present invention is a compound represented by the following general formula (I) or (II).

1〜R14は、各々独立に、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、シアノ基又はハロ
ゲン原子を表す。但し、R1〜R10の少なくとも一つは、炭素数2以上のアルコキシ基を
表す。
15〜R32は、各々独立に、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、シアノ基又はハロゲン原子を表す。但し、R15〜R24の少なくとも一つは、炭素数2以上のアルコキシ基を表す。
アルキル基及びアルコキシ基は、置換基を有していてもよく、直鎖でも分岐でもよいが、分岐が好ましい。置換基としては、ハロゲン原子、水酸基などが挙げられる。
また、アルキル基及びアルコキシ基におけるアルキレン鎖中には、エステル結合、エーテル結合、またはチオエーテル結合を含んでいてもよい。
R 1 to R 14 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, a cyano group, or a halogen atom. However, at least one of R 1 to R 10 represents an alkoxy group having 2 or more carbon atoms.
R 15 to R 32 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, a cyano group or a halogen atom. However, at least one of R 15 to R 24 represents an alkoxy group having 2 or more carbon atoms.
The alkyl group and the alkoxy group may have a substituent and may be linear or branched, but is preferably branched. Examples of the substituent include a halogen atom and a hydroxyl group.
Further, the alkylene chain in the alkyl group and alkoxy group may contain an ester bond, an ether bond, or a thioether bond.

1、R5、R6、R10、R11、R12、R13及びR14は、好ましくは、各々独立に、水素
原子、フッ素原子又は塩素原子であり、特にR1、R5、R6及びR10が水素原子、R2〜R4、R7〜R9が独立にアルコキシ基であり、少なくとも2つが炭素数3〜15の分岐アル
コキシ基であることが好ましい。
また、R2、4、R7及びR9が、メトキシ基、R3及びR8が炭素数3〜15の分岐アルコキシ基であることが特に好ましい。
R 1 , R 5 , R 6 , R 10 , R 11 , R 12 , R 13 and R 14 are preferably each independently a hydrogen atom, a fluorine atom or a chlorine atom, particularly R 1 , R 5 , R 6 and R 10 are preferably a hydrogen atom, R 2 to R 4 and R 7 to R 9 are independently an alkoxy group, and at least two are preferably branched alkoxy groups having 3 to 15 carbon atoms.
R 2, R 4 , R 7 and R 9 are particularly preferably a methoxy group, and R 3 and R 8 are each a branched alkoxy group having 3 to 15 carbon atoms.

15、R19、R20、R24、R25〜R32は、好ましくは、各々独立に、水素原子、フッ素原子又は塩素原子であり、特にR15、R19、R20及びR24が水素原子、R16〜R18、R21〜R23が独立にアルコキシ基であり、少なくとも2つが炭素数3〜15の分岐アルコキシ基であることが好ましい。
また、R16、R18、R21及びR23が、メトキシ基、R17及びR22が炭素数3〜15の分岐アルコキシ基であることが特に好ましい。
R 15 , R 19 , R 20 , R 24 and R 25 to R 32 are preferably each independently a hydrogen atom, a fluorine atom or a chlorine atom, and in particular, R 15 , R 19 , R 20 and R 24 are It is preferable that a hydrogen atom, R < 16 > -R < 18 >, R < 21 > -R < 23 > is an alkoxy group independently, and at least 2 is a C3-C15 branched alkoxy group.
R 16 , R 18 , R 21 and R 23 are particularly preferably a methoxy group, and R 17 and R 22 are each a branched alkoxy group having 3 to 15 carbon atoms.

上記増感色素は、WO2005/029187に記載の方法など公知の方法にて合成することができる。   The sensitizing dye can be synthesized by a known method such as the method described in WO2005 / 029187.

これらの増感色素のどの構造を用いるか、単独で使用するか2種以上併用するか、添加量はどうか、といった使用法の詳細は、最終的な感材の性能設計にあわせて適宜設定できる。
例えば、増感色素を2種以上併用することで、感光層を構成する組成物中での相溶性を高めることができる。増感色素の選択は、感光性の他、使用する光源の発光波長でのモル吸光係数が重要な因子である。モル吸光係数の大きな色素を使用する事により、色素の添加量は比較的少なくできるので、経済的であり、かつ平版印刷版原版に用いた場合、その感光層の膜物性の点からも有利である。該感光層の感光性、解像度や、露光膜の物性は光源波長での吸光度に大きな影響を受けるので、これらを考慮して増感色素の添加量を適宜選択する。
Details of the usage such as which structure of these sensitizing dyes are used, whether they are used alone or in combination of two or more, and how much is added, can be appropriately set according to the performance design of the final photosensitive material. .
For example, the compatibility in the composition constituting the photosensitive layer can be increased by using two or more sensitizing dyes in combination. In selecting the sensitizing dye, in addition to the photosensitivity, the molar extinction coefficient at the emission wavelength of the light source used is an important factor. By using a dye having a large molar extinction coefficient, the amount of the dye added can be made relatively small, which is economical and advantageous when used for a lithographic printing plate precursor in terms of film physical properties of the photosensitive layer. is there. The photosensitivity of the photosensitive layer, the resolution, and the physical properties of the exposed film are greatly affected by the absorbance at the light source wavelength. Therefore, the addition amount of the sensitizing dye is appropriately selected in consideration of these.

但し、例えば5μm以上の厚い膜を硬化せしめる目的に対しては、低い吸光度の方がかえって硬化度をあげられる場合もある。比較的薄い膜厚で使用する平版印刷版としての使用に際しては、増感色素の添加量は、本発明の感光層の吸光度が0.1から1.5の範囲、好ましくは0.25から1の範囲となるように設定するのが好ましい。通常、感光層の全固形分100質量部に対し、好ましくは0.05〜30質量部、更に好ましくは0.1〜20質量部、最も好ましくは0.2〜10質量部の範囲である。   However, for example, for the purpose of curing a thick film having a thickness of 5 μm or more, the degree of curing may be increased by lower absorbance. When used as a lithographic printing plate used in a relatively thin film thickness, the addition amount of the sensitizing dye is such that the absorbance of the photosensitive layer of the present invention is in the range of 0.1 to 1.5, preferably 0.25 to 1. It is preferable to set so as to be in the range. Usually, the amount is preferably 0.05 to 30 parts by mass, more preferably 0.1 to 20 parts by mass, and most preferably 0.2 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total solid content of the photosensitive layer.

(B)重合開始剤
本発明に使用される重合開始剤としては、トリハロメチル化合物、カルボニル化合物、有機過酸化物、アゾ系化合物、アジド化合物、メタロセン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、有機ホウ素化合物、ジスルホン化合物、オキシムエステル化合物、オニウム塩化合物が挙げられる。なかでも、ヘキサアリールビイミダゾール系化合物、オニウム塩、トリハロメチル化合物およびメタロセン化合物からなる群より選択される少なくとも1種であることが好ましく、特にヘキサアリールビイミダゾール系化合物が好ましい。上記の重合開始剤は、2種以上を適宜併用することもできる。
(B) Polymerization initiator As a polymerization initiator used in the present invention, a trihalomethyl compound, a carbonyl compound, an organic peroxide, an azo compound, an azide compound, a metallocene compound, a hexaarylbiimidazole compound, an organic boron compound, Examples include disulfone compounds, oxime ester compounds, and onium salt compounds. Among these, at least one selected from the group consisting of hexaarylbiimidazole compounds, onium salts, trihalomethyl compounds, and metallocene compounds is preferable, and hexaarylbiimidazole compounds are particularly preferable. Two or more of the above polymerization initiators can be used in combination as appropriate.

ヘキサアリールビイミダゾール重合開始剤としては、特公昭45−37377号、特公昭44−86516号の各公報記載のロフィンダイマー類、例えば2,2′−ビス(o−クロロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o−ブロモフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o,p−ジクロロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o−クロロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラ(m−メトキシフェニル)ビイミダゾール、2,2′−ビス(o,o′−ジクロロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o−ニトロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o−メチルフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o−トリフルオロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール等が挙げられる。   Examples of the hexaarylbiimidazole polymerization initiator include lophine dimers described in JP-B Nos. 45-37377 and 44-86516, such as 2,2′-bis (o-chlorophenyl) -4,4 ′, 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o-bromophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o, p-dichlorophenyl) ) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o-chlorophenyl) -4,4', 5,5'-tetra (m-methoxyphenyl) biimidazole, 2 , 2'-bis (o, o'-dichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o-nitrophenyl) -4,4', 5,5 ′ − Traphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o-methylphenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o-trifluorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole and the like.

トリハロメチル化合物としてはトリハロメチル-s-トリアジンが好ましく、2,4,6−トリス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−メトキシ−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−アミノ−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(P−メトキシスチリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン等の特開昭58−29803号記載のトリハロゲン置換メチル基を有するs−トリアジン誘導体等が挙げられる。   The trihalomethyl compound is preferably trihalomethyl-s-triazine, 2,4,6-tris (trichloromethyl) -s-triazine, 2-methoxy-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- Trimethyl compounds described in JP-A-58-29803 such as amino-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (P-methoxystyryl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine and the like. Examples thereof include s-triazine derivatives having a halogen-substituted methyl group.

オニウム塩としては、下記一般式(III)で表されるオニウム塩が挙げられる。   Examples of the onium salt include onium salts represented by the following general formula (III).

一般式(III)中、R11、R12およびR13は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、
置換基を有していてもよい炭素原子数20個以下の炭化水素基を示す。好ましい置換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素原子数12個以下のアルキル基、炭素原子数12個以下のアルコキシ基、または炭素原子数12個以下のアリールオキシ基が挙げられる。
-はハロゲンイオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフル
オロホスフェートイオン、カルボキシレートイオン、およびスルホン酸イオンからなる群より選択される対イオンを表し、好ましくは、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、カルボキシレートイオン、およびアリールスルホン酸イオンである。
In general formula (III), R 11 , R 12 and R 13 may be the same or different,
A hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent is shown. Preferable substituents include a halogen atom, a nitro group, an alkyl group having 12 or less carbon atoms, an alkoxy group having 12 or less carbon atoms, or an aryloxy group having 12 or less carbon atoms.
Z represents a counter ion selected from the group consisting of halogen ion, perchlorate ion, tetrafluoroborate ion, hexafluorophosphate ion, carboxylate ion, and sulfonate ion, preferably perchlorate ion, hexa Fluorophosphate ions, carboxylate ions, and aryl sulfonate ions.

チタノセン化合物としては、例えば、特開昭59−152396号、特開昭61−151197号各公報に記載されている公知の化合物を適宜に選択して用いることができる。
具体的には、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ジ−クロライド、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−フェニル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,5,6−テトラフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,4,6−トリフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,6−ジフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,4−ジフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,5,6−テトラフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,4−ジフルオロフェニ−1−イル、ビス(シクロペンタジエニル)−ビス[2,6−ジフルオロ−3−(ピリ−1−イル)フェニル]チタニウム等を挙げることができる。
As the titanocene compound, for example, known compounds described in JP-A Nos. 59-152396 and 61-151197 can be appropriately selected and used.
Specifically, di-cyclopentadienyl-Ti-di-chloride, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-phenyl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,4,5, 6-pentafluorophen-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,5,6-tetrafluorophen-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2, 4,6-trifluorophen-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,6-difluorophen-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,4-difluoro Phen-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,4,5,6-pentafluorophen-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2, 3, 5, 6 Tetrafluorophen-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,4-difluorophen-1-yl, bis (cyclopentadienyl) -bis [2,6-difluoro-3- ( Pyr-1-yl) phenyl] titanium and the like.

上記カルボニル化合物としては、ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、2−メチルベンゾフェノン、3−メチルベンゾフェノン、4−メチルベンゾフェノン、2−クロロベンゾフェノン、4−ブロモベンゾフェノン、2−カルボキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン誘導体、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、α−ヒドトキシ−2−メチルフェニルプロパノン、1−ヒドロキシ−1−メチルエチル−(p−イソプロピルフェニル)ケトン、1−ヒドロキシ−1−(p−ドデシルフェニル)ケトン、2−メチルー(4'
−(メチルチオ)フェニル)−2−モルホリノ−1−プロパノン、1,1,1−トリクロロメチル−(p−ブチルフェニル)ケトン等のアセトフェノン誘導体、チオキサントン、2−エチルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2,4−ジメチルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2,4−ジイソプロピルチオキサントン等のチオキサントン誘導体、p−ジメチルアミノ安息香酸エチル、p−ジエチルアミノ安息香酸エチル等の安息香酸エステル誘導体等を挙げることができる。
Examples of the carbonyl compound include benzophenone, Michler ketone, 2-methylbenzophenone, 3-methylbenzophenone, 4-methylbenzophenone, 2-chlorobenzophenone, 4-bromobenzophenone, 2-carboxybenzophenone and other benzophenone derivatives, 2,2-dimethoxy- 2-phenylacetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, α-hydroxy-2-methylphenylpropanone, 1-hydroxy-1-methylethyl- (p-isopropylphenyl) ketone, 1- Hydroxy-1- (p-dodecylphenyl) ketone, 2-methyl- (4 ′
-(Methylthio) phenyl) -2-morpholino-1-propanone, acetophenone derivatives such as 1,1,1-trichloromethyl- (p-butylphenyl) ketone, thioxanthone, 2-ethylthioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, 2- Thioxanthone derivatives such as chlorothioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-diisopropylthioxanthone, benzoic acid ester derivatives such as ethyl p-dimethylaminobenzoate, ethyl p-diethylaminobenzoate, etc. Can be mentioned.

上記オキシムエステル化合物としては、J.C.S. Perkin II (1979 )1653-1660)、J.C.S.Perkin II (1979)156-162、Journal of Photopolymer Science and Technology(1995)202-232、特開2000−66385号公報記載の化合物、特開2000−80068号公報記載の化合物が挙げられる。   Examples of the oxime ester compound include JCS Perkin II (1979) 1653-1660), JCSPerkin II (1979) 156-162, Journal of Photopolymer Science and Technology (1995) 202-232, and JP-A 2000-66385. And compounds described in JP 2000-80068 A.

本発明における重合開始剤は単独もしくは2種以上の併用によって好適に用いられる。
本発明における感光層中の重合開始剤の使用量は感光層全固形分の質量に対し、好ましくは0.01〜20質量%、より好ましくは0.1〜15質量%である。さらに好ましくは1.0質量%〜10質量%である。
The polymerization initiator in the present invention is suitably used alone or in combination of two or more.
The amount of the polymerization initiator used in the photosensitive layer in the present invention is preferably 0.01 to 20% by mass, more preferably 0.1 to 15% by mass, based on the total solid content of the photosensitive layer. More preferably, it is 1.0 mass%-10 mass%.

(C)重合性化合物
本発明における感光層に用いる重合性化合物は、少なくとも一個のエチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物であり、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも1個、好ましくは2個以上有する化合物から選ばれる。このような化合物群は当該産業分野において広く知られるものであり、本発明においてはこれらを特に限定無く用いることができる。これらは、例えばモノマー、プレポリマー、すなわち2量体、3量体およびオリゴマー、またはそれらの混合物ならびにそれらの共重合体などの化学的形態をもつ。モノマーおよびその共重合体の例としては、不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など)や、そのエステル類、アミド類が挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド類が用いられる。また、ヒドロキシル基やアミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と単官能もしくは多官能イソシアネート類或いはエポキシ類との付加反応物、および単官能もしくは、多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。また、イソシアネート基や、エポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と単官能もしくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との付加反応物、更にハロゲン基や、トシルオキシ基等の脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と単官能もしくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との置換反応物も好適である。また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン、ビニルエーテル等に置き換えた化合物群を使用することも可能である。
(C) Polymerizable compound The polymerizable compound used in the photosensitive layer in the invention is an addition polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated double bond, and preferably has at least one terminal ethylenically unsaturated bond, preferably It is selected from compounds having two or more. Such a compound group is widely known in the industrial field, and can be used without any particular limitation in the present invention. These have chemical forms such as monomers, prepolymers, i.e. dimers, trimers and oligomers, or mixtures thereof and copolymers thereof. Examples of monomers and copolymers thereof include unsaturated carboxylic acids (for example, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.), and esters and amides thereof. In this case, an ester of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyhydric alcohol compound, or an amide of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyvalent amine compound is used. In addition, an addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having a nucleophilic substituent such as a hydroxyl group, amino group or mercapto group with a monofunctional or polyfunctional isocyanate or epoxy, and monofunctional or polyfunctional A dehydration condensation reaction product with a functional carboxylic acid is also preferably used. Further, an addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having an electrophilic substituent such as an epoxy group or an epoxy group with a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol, a halogen group or In addition, a substitution reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having a leaving substituent such as a tosyloxy group and a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol is also suitable. As another example, it is also possible to use a group of compounds substituted with unsaturated phosphonic acid, styrene, vinyl ether or the like instead of the unsaturated carboxylic acid.

脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、1,3−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ(アクリロイルオキシプロピル)エーテル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、1,4−シクロヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、トリ(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、イソシアヌール酸エチレンオキシド(EO)変性トリアクリレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー等がある。   Specific examples of the monomer of an ester of an aliphatic polyhydric alcohol compound and an unsaturated carboxylic acid include acrylic acid esters such as ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, 1,3-butanediol diacrylate, and tetramethylene glycol. Diacrylate, propylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane tri (acryloyloxypropyl) ether, trimethylolethane triacrylate, hexanediol diacrylate, 1,4-cyclohexanediol diacrylate , Tetraethylene glycol diacrylate, pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol triacrylate , Pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol diacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, sorbitol triacrylate, sorbitol tetraacrylate, sorbitol pentaacrylate, sorbitol hexaacrylate, tri (acryloyloxyethyl) isocyanurate, isocyanuric acid ethylene oxide (EO) Examples include modified triacrylates and polyester acrylate oligomers.

メタクリル酸エステルとしては、テトラメチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、1,3−ブタンジオールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビトールテトラメタクリレート、ビス〔p−(3−メタクリルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル〕ジメチルメタン、ビス−〔p−(メタクリルオキシエトキシ)フェニル〕ジメチルメタン等がある。   Methacrylic acid esters include tetramethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolethane trimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, 1,3-butanediol dimethacrylate, Hexanediol dimethacrylate, pentaerythritol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol dimethacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, sorbitol trimethacrylate, sorbitol tetramethacrylate, bis [p- (3-methacryloxy- 2-hydroxypro ) Phenyl] dimethyl methane, bis - [p- (methacryloxyethoxy) phenyl] dimethyl methane.

イタコン酸エステルとしては、エチレングリコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタコネート、1,3−ブタンジオールジイタコネート、1,4−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジイタコネート、ソルビトールテトライタコネート等がある。クロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビトールテトラジクロトネート等がある。イソクロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロトネート等がある。マレイン酸エステルとしては、エチレングリコールジマレート、トリエチレングリコールジマレート、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテトラマレート等がある。   Itaconic acid esters include ethylene glycol diitaconate, propylene glycol diitaconate, 1,3-butanediol diitaconate, 1,4-butanediol diitaconate, tetramethylene glycol diitaconate, pentaerythritol diitaconate And sorbitol tetritaconate. Examples of crotonic acid esters include ethylene glycol dicrotonate, tetramethylene glycol dicrotonate, pentaerythritol dicrotonate, and sorbitol tetradicrotonate. Examples of isocrotonic acid esters include ethylene glycol diisocrotonate, pentaerythritol diisocrotonate, and sorbitol tetraisocrotonate. Examples of maleic acid esters include ethylene glycol dimaleate, triethylene glycol dimaleate, pentaerythritol dimaleate, and sorbitol tetramaleate.

その他のエステルの例として、例えば、特公昭51−47334号、特開昭57−196231号の各公報に記載の脂肪族アルコール系エステル類や、特開昭59−5240号、特開昭59−5241号、特開平2−226149号の各公報に記載の芳香族系骨格を有するもの、特開平1−165613号公報記載のアミノ基を含有するもの等も好適に用いられる。更に、前述のエステルモノマーは混合物としても使用することができる。   Examples of other esters include aliphatic alcohol esters described in JP-B-51-47334 and JP-A-57-196231, JP-A-59-5240, JP-A-59- Those having an aromatic skeleton described in JP-A No. 5241 and JP-A-2-226149 and those containing an amino group described in JP-A-1-165613 are also preferably used. Furthermore, the ester monomers described above can also be used as a mixture.

また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチレンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−アクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミド等がある。その他の好ましいアミド系モノマーの例としては、特公昭54−21726号公報記載のシクロへキシレン構造を有すものを挙げることができる。   Specific examples of amide monomers of aliphatic polyvalent amine compounds and unsaturated carboxylic acids include methylene bis-acrylamide, methylene bis-methacrylamide, 1,6-hexamethylene bis-acrylamide, 1,6-hexamethylene bis. -Methacrylamide, diethylenetriamine trisacrylamide, xylylene bisacrylamide, xylylene bismethacrylamide and the like. Examples of other preferable amide monomers include those having a cyclohexylene structure described in JP-B No. 54-21726.

また、イソシアネートと水酸基の付加反応を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭48−41708号公報に記載されている1分子に2個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下記一般式(A)で示される水酸基を含有するビニルモノマーを付加させた1分子中に2個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられる。   Further, urethane-based addition polymerizable compounds produced by using an addition reaction of isocyanate and hydroxyl group are also suitable. Specific examples thereof include, for example, one molecule described in JP-B-48-41708. A vinylurethane compound containing two or more polymerizable vinyl groups in one molecule obtained by adding a vinyl monomer containing a hydroxyl group represented by the following general formula (A) to a polyisocyanate compound having two or more isocyanate groups Etc.

CH2=C(R4)COOCH2CH(R5)OH (A)
(ただし、R4およびR5は、HまたはCH3を示す。)
CH 2 = C (R 4) COOCH 2 CH (R 5) OH (A)
(However, R 4 and R 5 represent H or CH 3. )

また、特開昭51−37193号公報、特公平2−32293号公報、特公平2−16765号公報に記載されているようなウレタンアクリレート類や、特公昭58−49860号公報、特公昭56−17654号公報、特公昭62−39417号公報、特公昭62−39418号公報記載のエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適である。更に、特開昭63−277653号公報、特開昭63−260909号公報、特開平1−105238号公報に記載される、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有する付加重合性化合物類を用いることによっては、非常に感光スピードに優れた光重合性組成物を得ることができる。   Also, urethane acrylates such as those described in JP-A-51-37193, JP-B-2-32293, JP-B-2-16765, JP-B-58-49860, JP-B-56- Urethane compounds having an ethylene oxide skeleton described in Japanese Patent No. 17654, Japanese Patent Publication No. 62-39417, and Japanese Patent Publication No. 62-39418 are also suitable. Furthermore, addition polymerizable compounds having an amino structure or a sulfide structure in the molecule described in JP-A-63-277653, JP-A-63-260909, and JP-A-1-105238 are used. Depending on the case, it is possible to obtain a photopolymerizable composition excellent in the photosensitive speed.

その他の例としては、特開昭48−64183号、特公昭49−43191号、特公昭52−30490号、各公報に記載されているようなポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸を反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタクリレートを挙げることができる。また、特公昭46−43946号、特公平1−40337号、特公平1−40336号各公報に記載の特定の不飽和化合物や、特開平2−25493号公報記載のビニルホスホン酸系化合物等も挙げることができる。また、ある場合には、特開昭61−22048号公報記載のペルフルオロアルキル基を含有する構造が好適に使用される。更に日本接着協会誌vol.20、No.7、300〜308ページ(1984年)に光硬化性モノマーおよびオリゴマーとして紹介されているものも使用することができる。   Other examples include polyester acrylates, epoxy resins and (meth) acrylic acid as described in JP-A-48-64183, JP-B-49-43191, JP-B-52-30490, and JP-A-52-30490. Mention may be made of polyfunctional acrylates and methacrylates such as reacted epoxy acrylates. Further, specific unsaturated compounds described in JP-B-46-43946, JP-B-1-40337, JP-B-1-40336, and vinylphosphonic acid compounds described in JP-A-2-25493 are also included. Can be mentioned. In some cases, a structure containing a perfluoroalkyl group described in JP-A-61-22048 is preferably used. Furthermore, Journal of Japan Adhesion Association vol. 20, no. 7, pages 300 to 308 (1984), which are introduced as photocurable monomers and oligomers, can also be used.

これらの重合性化合物について、その構造、単独使用か併用か、添加量等の使用方法の詳細は、最終的な平版印刷版原版の性能設計にあわせて任意に設定できる。例えば、次のような観点から選択される。
感度の点では1分子あたりの不飽和基含量が多い構造が好ましく、多くの場合、2官能以上が好ましい。また、画像部すなわち硬化膜の強度を高くするためには、3官能以上のものがよく、更に、異なる官能数・異なる重合性基(例えばアクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、スチレン系化合物、ビニルエーテル系化合物)のものを併用することで
、感度と強度の両方を調節する方法も有効である。
また、感光層中の他の成分(例えばバインダーポリマー、重合開始剤、着色剤等)との相溶性、分散性に対しても、重合性化合物の選択・使用法は重要な要因であり、例えば、低純度化合物の使用や、2種以上の併用により相溶性を向上させうることがある。また、支持体や後述の保護層等との密着性を向上せしめる目的で特定の構造を選択することもあり得る。
About these polymerizable compounds, the details of usage such as the structure, single use or combination, addition amount, etc. can be arbitrarily set according to the performance design of the final lithographic printing plate precursor. For example, it is selected from the following viewpoints.
From the viewpoint of sensitivity, a structure having a large unsaturated group content per molecule is preferable, and in many cases, a bifunctional or higher functionality is preferable. Further, in order to increase the strength of the image area, that is, the cured film, those having three or more functionalities are preferable. A method of adjusting both sensitivity and strength by using a compound) is also effective.
In addition, the compatibility and dispersibility with other components in the photosensitive layer (for example, binder polymer, polymerization initiator, colorant, etc.), the selection and use method of the polymerizable compound is an important factor. In some cases, the compatibility can be improved by using a low-purity compound or by using two or more kinds in combination. In addition, a specific structure may be selected for the purpose of improving adhesion to a support or a protective layer described later.

上記の重合性化合物は、感光層の全固形分に対して、好ましくは5〜80質量%、更に好ましくは25〜75質量%の範囲で使用される。また、これらは単独で用いても2種以上併用してもよい。そのほか、重合性化合物の使用法は、酸素に対する重合阻害の大小、解像度、かぶり性、屈折率変化、表面粘着性等の観点から適切な構造、配合、添加量を任意に選択でき、更に場合によっては下塗り、上塗りといった層構成・塗布方法も実施しうる。   The polymerizable compound is preferably used in the range of 5 to 80% by mass, more preferably 25 to 75% by mass, based on the total solid content of the photosensitive layer. These may be used alone or in combination of two or more. In addition, the usage of the polymerizable compound can be arbitrarily selected from the viewpoint of polymerization inhibition with respect to oxygen, resolution, fogging, refractive index change, surface adhesiveness, etc. The layer construction and coating method such as undercoating and overcoating can also be carried out.

(D)疎水性バインダーポリマー
本発明の感光層に使用可能な疎水性バインダーポリマーとしては、非水溶性ポリマーが好ましく用いられる。さらに、本発明に使用可能な疎水性バインダーポリマーは、カルボキシル基、スルホン基、リン酸基などの酸基を実質的に含有しないものが好ましく、バインダーポリマーの酸価(ポリマー1gあたりの酸含率を化学当量数で表したもの)は、0.3meq/g以下であることが好ましく、さらに好ましくは、0.1meq/g以下である。この範囲内で、感光層の膜強度、耐水性および着肉性が向上して、耐刷性の向上が得られる。
すなわち、本発明に使用可能な疎水性バインダーポリマーは、水およびpH10以上の水溶液に対し不溶であることが好ましく、疎水性バインダーポリマーの水およびpH10以上の水溶液に対する溶解度(飽和溶解時のポリマー濃度)が、0.5質量%以下であることが好ましく、さらに好ましくは、0.1質量%以下である。なお、上記溶解度の測定温度は、製版現像時の温度であり、ここでは25℃である。
(D) Hydrophobic binder polymer As the hydrophobic binder polymer that can be used in the photosensitive layer of the invention, a water-insoluble polymer is preferably used. Furthermore, the hydrophobic binder polymer that can be used in the present invention preferably contains substantially no acid group such as a carboxyl group, a sulfone group, and a phosphoric acid group. The acid value of the binder polymer (the acid content per gram of polymer) In terms of the number of chemical equivalents) is preferably 0.3 meq / g or less, and more preferably 0.1 meq / g or less. Within this range, the film strength, water resistance and fillability of the photosensitive layer are improved, and printing durability is improved.
That is, the hydrophobic binder polymer that can be used in the present invention is preferably insoluble in water and an aqueous solution of pH 10 or higher, and the solubility of the hydrophobic binder polymer in water and an aqueous solution of pH 10 or higher (polymer concentration at the time of saturated dissolution). However, it is preferable that it is 0.5 mass% or less, More preferably, it is 0.1 mass% or less. The solubility measuring temperature is a temperature during plate-making development, and is 25 ° C. here.

疎水性バインダーポリマーとしては、本発明の平版印刷版の性能を損なわない限り、好ましくは、上記範囲であれば、従来公知のものを制限なく使用でき、皮膜性を有する線状有機ポリマーが好ましい。
このような疎水性バインダーポリマーの例としては、アクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂、メタクリル樹脂、スチレン系樹脂、ポリエステル樹脂から選ばれる高分子が好ましい。なかでも、アクリル樹脂が好ましく、(メタ)アクリル酸エステル共重合体が好ましい。より具体的には、(メタ)アクリル酸アルキルまたはアラルキルエステルと(メタ)アクリル酸エステルのエステル残基(−COOR)のRに−CH2CH2O−単位または−CH2CH2NH−単位を含む(メタ)アクリル酸エステルとの共重合体が特に好ましい。上記(メタ)アクリル酸アルキルエステルの好ましいアルキル基は、炭素数1〜5のアルキル基であり、メチル基がより好ましい。好ましい(メタ)アクリル酸アラルキルエステルとしては、(メタ)アクリル酸ベンジルが挙げられる。
As the hydrophobic binder polymer, as long as the performance of the lithographic printing plate of the present invention is not impaired, a conventionally known one can be used without limitation within the above range, and a linear organic polymer having a film property is preferable.
As an example of such a hydrophobic binder polymer, a polymer selected from acrylic resin, polyvinyl acetal resin, polyurethane resin, polyamide resin, epoxy resin, methacrylic resin, styrene resin, and polyester resin is preferable. Especially, an acrylic resin is preferable and a (meth) acrylic acid ester copolymer is preferable. More specifically, an alkyl (meth) acrylate or an aralkyl ester and an ester residue (—COOR) of (meth) acrylate ester may have —CH 2 CH 2 O— unit or —CH 2 CH 2 NH— unit as R. A copolymer with a (meth) acrylic acid ester containing is particularly preferred. The preferable alkyl group of the said (meth) acrylic-acid alkylester is a C1-C5 alkyl group, and a methyl group is more preferable. Preferable (meth) acrylic acid aralkyl esters include benzyl (meth) acrylate.

さらに、疎水性バインダーポリマーは、画像部の皮膜強度を向上するために、架橋性をもたせることができる。
バインダーポリマーに架橋性を持たせるためには、エチレン性不飽和結合等の架橋性官能基を高分子の主鎖中または側鎖中に導入すればよい。架橋性官能基は、共重合により導入してもよいし、高分子反応によって導入してもよい。
Furthermore, the hydrophobic binder polymer can be provided with a crosslinking property in order to improve the film strength of the image area.
In order to impart crosslinkability to the binder polymer, a crosslinkable functional group such as an ethylenically unsaturated bond may be introduced into the main chain or side chain of the polymer. The crosslinkable functional group may be introduced by copolymerization or may be introduced by a polymer reaction.

ここで架橋性基とは、平版印刷版原版を露光した際に感光層中で起こるラジカル重合反応の過程で高分子バインダーを架橋させる基のことである。このような機能の基であれば
特に限定されないが、例えば、付加重合反応し得る官能基としてエチレン性不飽和結合基、アミノ基、エポキシ基等が挙げられる。また光照射によりラジカルになり得る官能基であってもよく、そのような架橋性基としては、例えば、チオール基、ハロゲン基、オニウム塩構造等が挙げられる。なかでも、エチレン性不飽和結合基が好ましく、下記一般式(1)〜(3)で表される官能基が特に好ましい。
Here, the crosslinkable group is a group that crosslinks the polymer binder in the process of radical polymerization reaction that occurs in the photosensitive layer when the lithographic printing plate precursor is exposed. Although it will not specifically limit if it is a group of such a function, For example, an ethylenically unsaturated bond group, an amino group, an epoxy group etc. are mentioned as a functional group which can be addition-polymerized. Moreover, the functional group which can become a radical by light irradiation may be sufficient, and as such a crosslinkable group, a thiol group, a halogen group, an onium salt structure etc. are mentioned, for example. Especially, an ethylenically unsaturated bond group is preferable and the functional group represented by the following general formula (1)-(3) is especially preferable.

上記一般式(1)において、Rl〜R3はそれぞれ独立に、水素原子または1価の有機基を表すが、R1としては、好ましくは、水素原子または置換基を有してもよいアルキル基
などが挙げられ、なかでも、水素原子、メチル基がラジカル反応性が高いことから好ましい。また、R2、R3は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルアミノ基、置換基を有してもよいアリールアミノ基、置換基を有してもよいアルキルスルホニル基、置換基を有してもよいアリールスルホニル基などが挙げられ、なかでも、水素原子、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基がラジカル反応性が高いことから好ましい。
In the general formula (1), R 1 to R 3 each independently represents a hydrogen atom or a monovalent organic group, and R 1 is preferably a hydrogen atom or an alkyl which may have a substituent. A hydrogen atom or a methyl group is preferable because of high radical reactivity. R 2 and R 3 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, an amino group, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, a sulfo group, a nitro group, a cyano group, an optionally substituted alkyl group, or a substituted group. An aryl group that may have a group, an alkoxy group that may have a substituent, an aryloxy group that may have a substituent, an alkylamino group that may have a substituent, and a substituent An arylamino group which may have a substituent, an alkylsulfonyl group which may have a substituent, an arylsulfonyl group which may have a substituent, and the like. Among them, a hydrogen atom, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, a substituent An alkyl group which may have a substituent and an aryl group which may have a substituent are preferable because of high radical reactivity.

Xは、酸素原子、硫黄原子、またはN(R12)−を表し、R12は、水素原子、または1価の有機基を表す。ここで、R12は、置換基を有してもよいアルキル基などが挙げられ、なかでも、水素原子、メチル基、エチル基、イソプロピル基がラジカル反応性が高いことから好ましい。 X represents an oxygen atom, a sulfur atom, or N (R 12 ) —, and R 12 represents a hydrogen atom or a monovalent organic group. Here, examples of R 12 include an alkyl group which may have a substituent. Among them, a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, and an isopropyl group are preferable because of high radical reactivity.

ここで、導入し得る置換基としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アルコキシ基、アリーロキシ基、ハロゲン原子、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、アミド基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基などが挙げられる。   Here, examples of the substituent that can be introduced include an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, a halogen atom, an amino group, an alkylamino group, an arylamino group, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, A sulfo group, a nitro group, a cyano group, an amide group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group and the like can be mentioned.

上記一般式(2)において、R4〜R8は、それぞれ独立に水素原子または1価の有機基を表すが、R4〜R8は、好ましくは、水素原子、ハロゲン原子、アミノ基、ジアルキルアミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルアミノ基、置換基を有してもよいアリールアミノ基、置換基を有してもよいアルキルスルホニル基、置換基を有してもよいアリールスルホニル基などが挙げられ、なかでも、水素原子、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいアルキル基、
置換基を有してもよいアリール基が好ましい。
In the general formula (2), R 4 to R 8 each independently represents a hydrogen atom or a monovalent organic group, and R 4 to R 8 are preferably a hydrogen atom, a halogen atom, an amino group, or a dialkyl. Amino group, carboxyl group, alkoxycarbonyl group, sulfo group, nitro group, cyano group, alkyl group which may have a substituent, aryl group which may have a substituent, alkoxy which may have a substituent A group, an aryloxy group which may have a substituent, an alkylamino group which may have a substituent, an arylamino group which may have a substituent, an alkylsulfonyl group which may have a substituent, An arylsulfonyl group which may have a substituent, etc. are mentioned, among them, a hydrogen atom, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, an alkyl group which may have a substituent,
An aryl group which may have a substituent is preferable.

導入し得る置換基としては、一般式(1)と同様のものが例示される。また、Yは、酸素原子、硫黄原子、またはN(R12)−を表す。R12は、一般式(1)のR12の場合と同義であり、好ましい例も同様である。 Examples of the substituent that can be introduced are the same as those in the general formula (1). Y represents an oxygen atom, a sulfur atom, or N (R 12 ) —. R 12 has the same meaning as R 12 in general formula (1), and preferred examples are also the same.

上記一般式(3)において、R9としては、好ましくは、水素原子または置換基を有し
てもよいアルキル基などが挙げられ、なかでも、水素原子、メチル基がラジカル反応性が高いことから好ましい。R10、R11は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アミノ基、ジアルキルアミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルアミノ基、置換基を有してもよいアリールアミノ基、置換基を有してもよいアルキルスルホニル基、置換基を有してもよいアリールスルホニル基などが挙げられ、なかでも、水素原子、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基がラジカル反応性が高いことから好ましい。
In the general formula (3), R 9 preferably includes a hydrogen atom or an alkyl group which may have a substituent. Among them, a hydrogen atom or a methyl group has high radical reactivity. preferable. R 10 and R 11 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, an amino group, a dialkylamino group, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, a sulfo group, a nitro group, a cyano group, or an alkyl group which may have a substituent. An aryl group which may have a substituent, an alkoxy group which may have a substituent, an aryloxy group which may have a substituent, an alkylamino group which may have a substituent, a substituent An arylamino group that may have, an alkylsulfonyl group that may have a substituent, an arylsulfonyl group that may have a substituent, and the like, among them, a hydrogen atom, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, An alkyl group which may have a substituent and an aryl group which may have a substituent are preferable because of high radical reactivity.

ここで、導入し得る置換基としては、一般式(1)と同様のものが例示される。また、Zは、酸素原子、硫黄原子、−N(R13)−、または置換基を有してもよいフェニレン基を表す。R13としては、置換基を有してもよいアルキル基などが挙げられ、なかでも、メチル基、エチル基、イソプロピル基がラジカル反応性が高いことから好ましい。
上記の中でも、側鎖に架橋性基を有する(メタ)アクリル酸共重合体およびポリウレタンがより好ましい。
Here, examples of the substituent that can be introduced are the same as those in the general formula (1). Further, Z is an oxygen atom, a sulfur atom, -N (R 13) -, or a phenylene group which may have a substituent. Examples of R 13 include an alkyl group which may have a substituent. Among them, a methyl group, an ethyl group, and an isopropyl group are preferable because of high radical reactivity.
Among these, (meth) acrylic acid copolymers having a crosslinkable group in the side chain and polyurethane are more preferable.

架橋性を有する疎水性バインダーポリマーは、例えば、その架橋性官能基にフリーラジカル(重合開始ラジカルまたは重合性化合物の重合過程の生長ラジカル)が付加し、ポリマー間で直接にまたは重合性化合物の重合連鎖を介して付加重合して、ポリマー分子間に架橋が形成されて硬化する。または、ポリマー中の原子(例えば、官能性架橋基に隣接する炭素原子上の水素原子)がフリーラジカルにより引き抜かれてポリマーラジカルが生成し、それが互いに結合することによって、ポリマー分子間に架橋が形成されて硬化する。   Hydrophobic binder polymers having crosslinkability include, for example, free radicals (polymerization initiation radicals or growth radicals in the polymerization process of a polymerizable compound) added to the crosslinkable functional group, and polymerization of polymerizable compounds directly between polymers. Addition polymerization through a chain forms a cross-link between polymer molecules and cures. Alternatively, atoms in the polymer (eg, hydrogen atoms on carbon atoms adjacent to the functional bridging group) are abstracted by free radicals to form polymer radicals that are bonded to each other so that crosslinking between the polymer molecules occurs. Forms and cures.

疎水性バインダーポリマー中の架橋性基の含有量(ヨウ素滴定によるラジカル重合可能な不飽和二重結合の含有量)は、疎水性バインダーポリマー1g当たり、好ましくは0.1〜10.0mmol、より好ましくは1.0〜7.0mmol、最も好ましくは2.0〜5.5mmolである。   The content of the crosslinkable group in the hydrophobic binder polymer (content of unsaturated double bond capable of radical polymerization by iodine titration) is preferably 0.1 to 10.0 mmol, more preferably 1 g per 1 g of the hydrophobic binder polymer. Is 1.0 to 7.0 mmol, most preferably 2.0 to 5.5 mmol.

また、水溶液に対する現像性向上という観点からバインダーポリマーは親水的であることが好ましく、さらに耐刷性向上という観点からバインダーポリマーは感光層中に含まれる重合性化合物と相溶性が良いことが重要であり、すなわち親油的であることが好ましい。このような見地から本発明では、現像性と耐刷性を向上させるため疎水性バインダーポリマー中に親水性基と親油性基とを共重合させることも有効である。親水性基としては、例えば、ヒドロキシ基、カルボキシレート基、ヒドロキシエチル基、エチレンオキシ基、
ヒドロキシプロピル基、ポリオキシエチル基、ポリオキシプロピル基、アミノ基、アミノエチル基、アミノプロピル基、アンモニウム基、アミド基、カルボキシメチル基等の親水性基を有するものが好適に挙げられる。
Further, it is preferable that the binder polymer is hydrophilic from the viewpoint of improving developability with respect to an aqueous solution, and it is important that the binder polymer is compatible with the polymerizable compound contained in the photosensitive layer from the viewpoint of improving printing durability. Yes, ie lipophilic. From such a viewpoint, in the present invention, it is also effective to copolymerize a hydrophilic group and a lipophilic group in a hydrophobic binder polymer in order to improve developability and printing durability. Examples of the hydrophilic group include a hydroxy group, a carboxylate group, a hydroxyethyl group, an ethyleneoxy group,
Preferred examples include those having a hydrophilic group such as hydroxypropyl group, polyoxyethyl group, polyoxypropyl group, amino group, aminoethyl group, aminopropyl group, ammonium group, amide group, carboxymethyl group.

疎水性バインダーポリマーは、質量平均分子量が5000以上であるのが好ましく、1万〜30万であるのがより好ましく、また、数平均分子量が1000以上であるのが好ましく、2000〜25万であるのがより好ましい。多分散度(質量平均分子量/数平均分子量)は、1.1〜10であるのが好ましい。
疎水性バインダーポリマーは、ランダムポリマー、ブロックポリマー、グラフトポリマー等のいずれでもよいが、ランダムポリマーであるのが好ましい。
The hydrophobic binder polymer preferably has a mass average molecular weight of 5,000 or more, more preferably 10,000 to 300,000, and a number average molecular weight of 1,000 or more, preferably 2000 to 250,000. Is more preferable. The polydispersity (mass average molecular weight / number average molecular weight) is preferably 1.1 to 10.
The hydrophobic binder polymer may be any of a random polymer, a block polymer, a graft polymer, and the like, but is preferably a random polymer.

疎水性バインダーポリマーは単独で用いても2種以上を混合して用いてもよい。
疎水性バインダーポリマーの含有量は、良好な画像部の強度と画像形成性の点で、感光層の全固形分に対して、一般的には5〜90質量%であり、10〜70質量%であるのが好ましく、10〜60質量%であるのがより好ましい。
The hydrophobic binder polymer may be used alone or in combination of two or more.
The content of the hydrophobic binder polymer is generally 5 to 90% by mass and 10 to 70% by mass with respect to the total solid content of the photosensitive layer in terms of good image area strength and image forming property. It is preferable that it is 10-60 mass%.

(E)連鎖移動剤
本発明の感光層には、連鎖移動剤を含有させることが好ましい。連鎖移動剤は感度および保存安定性向上に寄与する。連鎖移動剤として作用する化合物としては、例えば、分子内にSH、PH、SiH、GeHを有する化合物群が用いられる。これらは、低活性のラジカル種に水素供与して、ラジカルを生成するか、もしくは、酸化された後、脱プロトンすることによりラジカルを生成しうる。
(E) Chain transfer agent The photosensitive layer of the invention preferably contains a chain transfer agent. Chain transfer agents contribute to improved sensitivity and storage stability. As the compound that acts as a chain transfer agent, for example, a compound group having SH, PH, SiH, and GeH in the molecule is used. These can generate hydrogen by donating hydrogen to a low-activity radical species to generate a radical, or after being oxidized and deprotonated.

本発明の感光層には、特に、チオール化合物(例えば、2−メルカプトベンズイミダゾール類等)を連鎖移動剤として好ましく用いることができる。
なかでも、下記一般式(T)で表されるチオール化合物が特に好適に使用される。連鎖移動剤としてこのチオール化合物を用いることによって、臭気の問題、および感光層から蒸発や他の層への拡散による感度減少を回避し、保存安定性に優れ、さらには高感度で高耐刷の平版印刷版原版が得られる。
In the photosensitive layer of the present invention, in particular, a thiol compound (for example, 2-mercaptobenzimidazoles) can be preferably used as a chain transfer agent.
Especially, the thiol compound represented by the following general formula (T) is used especially suitably. By using this thiol compound as a chain transfer agent, the problem of odor and sensitivity reduction due to evaporation from the photosensitive layer and diffusion to other layers are avoided, and it has excellent storage stability and high sensitivity and high printing durability. A lithographic printing plate precursor is obtained.

一般式(T)中、Rは置換基を有してもよいアルキル基、または置換基を有してもよいアリール基を表し、AはN=C−N部分と共に炭素原子を有する5員環または6員環のヘテロ環を形成する原子団を表し、Aはさらに置換基を有してもよい。   In general formula (T), R represents an alkyl group which may have a substituent or an aryl group which may have a substituent, and A represents a 5-membered ring having a carbon atom together with an N = CN moiety. Alternatively, it represents an atomic group that forms a 6-membered heterocycle, and A may further have a substituent.

さらに好ましくは下記一般式(T−1)または一般式(T−2)で表されるものが使用される。   More preferably, those represented by the following general formula (T-1) or general formula (T-2) are used.

一般式(T−1)および式(T−2)中、Rは置換基を有してもよいアルキル基、または置換基を有してもよいアリール基を表し、Xはハロゲン原子、アルコキシル基、置換基を有してもよいアルキル基、または置換基を有してもよいアリール基を表す。   In general formulas (T-1) and (T-2), R represents an alkyl group which may have a substituent, or an aryl group which may have a substituent, and X represents a halogen atom or an alkoxyl group. Represents an alkyl group which may have a substituent, or an aryl group which may have a substituent.

以下に、一般式(T)で表される化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Specific examples of the compound represented by the general formula (T) are shown below, but the present invention is not limited thereto.

これら連鎖移動剤(チオール化合物)の使用量は感光層の全固形分の質量に対し、好ましくは0.01〜20質量%、より好ましくは0.1〜15質量%である。さらに好ましくは1.0〜10質量%である。   The amount of these chain transfer agents (thiol compounds) used is preferably 0.01 to 20% by mass, more preferably 0.1 to 15% by mass, based on the total solid content of the photosensitive layer. More preferably, it is 1.0-10 mass%.

(F)共増感剤
本発明においては、共増感剤を用いることができる。共増感剤とは、感光層に添加したときに、感光層の感度をさらに向上させることができる添加剤である。その作用機構は、明確ではないが、多くは次のような化学プロセスに基づくものと考えられる。すなわち、先述の光重合開始系の光吸収により開始される光反応、と、それに引き続く付加重合反応の過程で生じる様々な中間活性種(ラジカル、過酸化物、酸化剤、還元剤等)と、共増感剤が反応し、新たな活性ラジカルを生成するものと推定される。共増感剤は、大きくは、(a)還元されて活性ラジカルを生成しうるもの、(b)酸化されて活性ラジカルを生成しうるもの、(c)活性の低いラジカルと反応し、より活性の高いラジカルに変換するか、もしくは連鎖移動剤として作用するもの、に分類できるが、個々の化合物がこれらのどれに属するかに関しては、通説がない場合も多い。
(F) Co-sensitizer In the present invention, a co-sensitizer can be used. The co-sensitizer is an additive that can further improve the sensitivity of the photosensitive layer when added to the photosensitive layer. The mechanism of action is not clear, but many are thought to be based on the following chemical process. That is, a photoreaction initiated by light absorption of the above-described photopolymerization initiation system, and various intermediate active species (radicals, peroxides, oxidizing agents, reducing agents, etc.) generated in the course of the subsequent addition polymerization reaction, It is presumed that the co-sensitizer reacts to generate a new active radical. The co-sensitizers are roughly classified into (a) those that can be reduced to generate active radicals, (b) those that can be oxidized to generate active radicals, and (c) more active by reacting with less active radicals. However, there are many cases where there is no general rule as to which individual compounds belong to them.

(a)還元されて活性ラジカルを生成する化合物
炭素−ハロゲン結合を有する化合物:還元的に炭素−ハロゲン結合が解裂し、活性ラジカルを発生すると考えられる。具体的には、例えば、トリハロメチル−s−トリアジン類や、トリハロメチルオキサジアゾール類等が好適に使用できる。
窒素−窒素結合を有する化合物:還元的に窒素−窒素結合が解裂し、活性ラジカルを発生すると考えられる。具体的にはヘキサアリールビイミダゾール類等が好適に使用される。
酸素−酸素結合を有する化合物:還元的に酸素−酸素結合が解裂し、活性ラジカルを発生すると考えられる。具体的には、例えば、有機過酸化物類等が好適に使用される。
オニウム化合物:還元的に炭素−ヘテロ結合や、酸素−窒素結合が解裂し、活性ラジカルを発生すると考えられる。具体的には例えば、ジアリールヨードニウム塩類、トリアリールスルホニウム塩類、N−アルコキシピリジニウム(アジニウム)塩類等が好適に使用される。
(A) Compound that is reduced to produce an active radical Compound having a carbon-halogen bond: It is considered that the carbon-halogen bond is reductively cleaved to generate an active radical. Specifically, for example, trihalomethyl-s-triazines and trihalomethyloxadiazoles can be preferably used.
Compound having nitrogen-nitrogen bond: It is considered that the nitrogen-nitrogen bond is reductively cleaved to generate an active radical. Specifically, hexaarylbiimidazoles and the like are preferably used.
Compound having oxygen-oxygen bond: It is considered that the oxygen-oxygen bond is reductively cleaved to generate an active radical. Specifically, for example, organic peroxides are preferably used.
Onium compounds: It is considered that carbon-hetero bonds and oxygen-nitrogen bonds are reductively cleaved to generate active radicals. Specifically, for example, diaryliodonium salts, triarylsulfonium salts, N-alkoxypyridinium (azinium) salts and the like are preferably used.

(b)酸化されて活性ラジカルを生成する化合物
アルキルアート錯体:酸化的に炭素−ヘテロ結合が解裂し、活性ラジカルを生成すると考えられる。具体的には例えば、トリアリールアルキルボレート類が好適に使用される。
アルキルアミン化合物:酸化により窒素に隣接した炭素上のC−X結合が解裂し、活性ラジカルを生成するものと考えられる。Xとしては、水素原子、カルボキシル基、トリメチルシリル基、ベンジル基等が好適である。具体的には、例えば、エタノールアミン類、N−フェニルグリシン類、N−トリメチルシリルメチルアニリン類等が挙げられる。
含硫黄、含錫化合物:上述のアミン類の窒素原子を硫黄原子、錫原子に置き換えたものが、同様の作用により活性ラジカルを生成しうる。また、S−S結合を有する化合物もS−S解裂による増感が知られる。
α−置換メチルカルボニル化合物:酸化により、カルボニル−α炭素間の結合解裂により、活性ラジカルを生成しうる。また、カルボニルをオキシムエーテルに変換したものも同様の作用を示す。具体的には、2−アルキル−1−[4−(アルキルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパノン−1類、並びに、これらと、ヒドロキシアミン類とを反応したのち、N−OHをエーテル化したオキシムエーテル類、およびN−OHをエステル化したオキシムエステル類をあげることができる。
スルフィン酸塩類:還元的に活性ラジカルを生成しうる。具体的は、アリールスルフィン酸ナトリウム等を挙げることができる。
(B) Compound which is oxidized to generate an active radical Alkylate complex: It is considered that a carbon-hetero bond is oxidatively cleaved to generate an active radical. Specifically, for example, triarylalkyl borates are preferably used.
Alkylamine compound: It is considered that the C—X bond on carbon adjacent to nitrogen is cleaved by oxidation to generate an active radical. X is preferably a hydrogen atom, a carboxyl group, a trimethylsilyl group, a benzyl group or the like. Specific examples include ethanolamines, N-phenylglycines, N-trimethylsilylmethylanilines, and the like.
Sulfur-containing and tin-containing compounds: Compounds in which the nitrogen atoms of the above-described amines are replaced with sulfur atoms and tin atoms can generate active radicals by the same action. Further, a compound having an SS bond is also known to be sensitized by SS cleavage.
α-Substituted methylcarbonyl compound: An active radical can be generated by oxidative cleavage of the carbonyl-α carbon bond. Moreover, what converted carbonyl into the oxime ether also shows the same effect | action. Specifically, 2-alkyl-1- [4- (alkylthio) phenyl] -2-morpholinopropanone-1 and these and hydroxyamines were reacted, and then N-OH was etherified. Examples include oxime ethers and N-OH esterified oxime esters.
Sulfinic acid salts: An active radical can be reductively generated. Specific examples include sodium arylsulfinate.

(c)ラジカルと反応し高活性ラジカルに変換、もしくは連鎖移動剤として作用する化合物
ラジカルと反応し高活性ラジカルに変換、もしくは連鎖移動剤として作用する化合物としては、例えば、分子内にSH、PH、SiH、GeHを有する化合物群が用いられる。これらは、低活性のラジカル種に水素供与して、ラジカルを生成するか、もしくは、酸化
された後、脱プロトンする事によりラジカルを生成しうる。具体的には、例えば、2−メルカプトベンズイミダゾール類等が挙げられる。
(C) Compounds that react with radicals to convert to highly active radicals or act as chain transfer agents Compounds that react with radicals to convert to highly active radicals or act as chain transfer agents include, for example, SH, PH in the molecule , SiH, and GeH are used. These can generate hydrogen by donating hydrogen to a low-activity radical species to generate radicals, or after being oxidized and deprotonated. Specifically, 2-mercaptobenzimidazoles etc. are mentioned, for example.

これらの共増感剤のより具体的な例としては、特開平9−236913号公報中に感度向上を目的とした添加剤として記載されている化合物を挙げることができる。
以下に、その一部を例示するが、本発明はこれらに限定されるものはない。
More specific examples of these co-sensitizers include compounds described as additives for the purpose of improving sensitivity in JP-A-9-236913.
Some examples are shown below, but the present invention is not limited thereto.

これらの共増感剤に関しても、先の増感色素と同様、さらに、平版印刷版原版の感光層の特性を改良するための様々な化学修飾を行うことも可能である。例えば、増感色素や重合開始剤、付加重合性不飽和化合物その他のラジカル発生パートとの結合、親水性部位の導入、相溶性向上、結晶析出抑制のための置換基導入、密着性を向上させる置換基導入、ポリマー化等の方法が利用できる。これらの共増感剤は、単独でまたは2種以上併用して用いることができる。使用量はエチレン性不飽和二重結合を有する化合物100質量部に対し0.05〜100質量部、好ましくは1〜80質量部、さらに好ましくは3〜50質量部の範囲が適当である。   These co-sensitizers can also be subjected to various chemical modifications for improving the characteristics of the photosensitive layer of the lithographic printing plate precursor as in the case of the sensitizing dye. For example, bonding with sensitizing dyes, polymerization initiators, addition polymerizable unsaturated compounds and other radical generating parts, introduction of hydrophilic sites, compatibility improvement, introduction of substituents for suppressing crystal precipitation, and improved adhesion Methods such as introduction of substituents and polymerization can be used. These co-sensitizers can be used alone or in combination of two or more. The amount used is 0.05 to 100 parts by mass, preferably 1 to 80 parts by mass, and more preferably 3 to 50 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the compound having an ethylenically unsaturated double bond.

<マイクロカプセル>
本発明においては、上記の感光層構成成分および後述のその他の構成成分を感光層に含有させる方法として、例えば、特開2001−277740号公報、特開2001−277742号公報に記載のごとく該構成成分の一部、あるいは全部をマイクロカプセルに内包させて感光層に添加することができる。その場合、各構成成分はマイクロカプセル内および外に、任意の比率で含有させることが可能である。
<Microcapsule>
In the present invention, as a method for incorporating the above-mentioned photosensitive layer constituents and other constituents described later into the photosensitive layer, for example, as described in JP-A Nos. 2001-277740 and 2001-277742, the constituents are described. Part or all of the components can be encapsulated in microcapsules and added to the photosensitive layer. In that case, each component can be contained in any ratio in and out of the microcapsule.

感光層構成成分をマイクロカプセル化する方法としては、公知の方法が適用できる。例えばマイクロカプセルの製造方法としては、米国特許第2800457号、同第2800458号明細書にみられるコアセルベーションを利用した方法、米国特許第3287154号の各明細書、特公昭38−19574号、同42−446号の各公報にみられる界面重合法による方法、米国特許第3418250号、同第3660304号明細書にみられるポリマーの析出による方法、米国特許第3796669号明細書に見られるイソシアナートポリオール壁材料を用いる方法、米国特許第3914511号明細書に見られるイソシアナート壁材料を用いる方法、米国特許第4001140号、同第4087376号、同第4089802号の各明細書にみられる尿素―ホルムアルデヒド系または尿素ホルムアルデヒド−レゾルシノール系壁形成材料を用いる方法、米国特許第4025445号明細書にみられるメラミン−ホルムアルデヒド樹脂、ヒドロキシセルロース等の壁材を用い
る方法、特公昭36−9163号、同51−9079号の各公報にみられるモノマー重合によるin situ法、英国特許第930422号、米国特許第3111407号明細書にみられるスプレードライング法、英国特許第952807号、同第967074号の各明細書にみられる電解分散冷却法などがあるが、これらに限定されるものではない。
As a method for microencapsulating the photosensitive layer constituent components, known methods can be applied. For example, as a method for producing microcapsules, a method using coacervation found in U.S. Pat. Nos. 2,800,547 and 2,800,498, U.S. Pat. No. 3,287,154, JP-B-38-19574, 42-446 by the interfacial polymerization method, US Pat. No. 3,418,250, US Pat. No. 3,660,304 by polymer precipitation method, US Pat. No. 3,796,669, isocyanate polyol A method using a wall material, a method using an isocyanate wall material found in US Pat. No. 3,914,511, and a urea-formaldehyde system found in US Pat. Nos. 4,001,140, 4,087,376 and 4,089,802. Or urea formaldehyde-resorcino A method using a wall forming material, a method using a wall material such as melamine-formaldehyde resin and hydroxycellulose, as shown in US Pat. No. 4,025,445, and Japanese Patent Publication Nos. 36-9163 and 51-9079. In situ method using monomer polymerization, spray drying method found in British Patent No. 930422, US Pat. No. 3,111,407, electrolytic dispersion cooling method seen in British Patent Nos. 952807 and 967074, etc. However, it is not limited to these.

本発明に用いられる好ましいマイクロカプセル壁は、3次元架橋を有し、溶剤によって膨潤する性質を有するものである。このような観点から、マイクロカプセルの壁材は、ポリウレア、ポリウレタン、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリアミド、およびこれらの混合物が好ましく、特に、ポリウレアおよびポリウレタンが好ましい。また、マイクロカプセル壁に、上記の非水溶性高分子に導入可能なエチレン性不飽和結合等の架橋性官能基を有する化合物を導入してもよい。   A preferable microcapsule wall used in the present invention has a three-dimensional cross-linking and has a property of swelling with a solvent. From such a viewpoint, the wall material of the microcapsule is preferably polyurea, polyurethane, polyester, polycarbonate, polyamide, and a mixture thereof, and particularly preferably polyurea and polyurethane. Moreover, you may introduce | transduce into the microcapsule wall the compound which has crosslinkable functional groups, such as an ethylenically unsaturated bond which can be introduce | transduced into said water-insoluble polymer.

上記のマイクロカプセルの平均粒径は、0.01〜3.0μmが好ましい。0.05〜2.0μmがさらに好ましく、0.10〜1.0μmが特に好ましい。この範囲内で良好な解像度と経時安定性が得られる。   The average particle size of the microcapsules is preferably 0.01 to 3.0 μm. 0.05-2.0 micrometers is further more preferable, and 0.10-1.0 micrometer is especially preferable. Within this range, good resolution and stability over time can be obtained.

<その他の感光層成分>
本発明の感光層には、さらに、必要に応じて種々の添加剤を含有させることができる。以下、それらについて説明する。
<Other photosensitive layer components>
The photosensitive layer of the present invention can further contain various additives as required. These will be described below.

<界面活性剤>
本発明において、感光層には、現像性の促進および塗布面状を向上させるために界面活性剤を用いるのが好ましい。界面活性剤としては、ノニオン界面活性剤、アニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、両性界面活性剤、フッ素系界面活性剤等が挙げられる。界面活性剤は、単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
<Surfactant>
In the present invention, it is preferable to use a surfactant in the photosensitive layer in order to promote developability and improve the coated surface state. Examples of the surfactant include nonionic surfactants, anionic surfactants, cationic surfactants, amphoteric surfactants, and fluorosurfactants. Surfactant may be used independently and may be used in combination of 2 or more type.

本発明に用いられるノニオン界面活性剤は、特に限定されず、従来公知のものを用いることができる。例えば、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリスチリルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンアルキルエーテル類、グリセリン脂肪酸部分エステル類、ソルビタン脂肪酸部分エステル類、ペンタエリスリトール脂肪酸部分エステル類、プロピレングリコールモノ脂肪酸エステル類、ショ糖脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸部分エステル類、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル類、ポリグリセリン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレン化ひまし油類、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸部分エステル類、脂肪酸ジエタノールアミド類、N,N−ビス−2−ヒドロキシアルキルアミン類、ポリオキシエチレンアルキルアミン、トリエタノールアミン脂肪酸エステル、トリアルキルアミンオキシド、ポリエチレングリコール、ポリエチレングリコールとポリプロピレングリコールの共重合体が挙げられる。   The nonionic surfactant used for this invention is not specifically limited, A conventionally well-known thing can be used. For example, polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene alkyl phenyl ethers, polyoxyethylene polystyryl phenyl ethers, polyoxyethylene polyoxypropylene alkyl ethers, glycerin fatty acid partial esters, sorbitan fatty acid partial esters, pentaerythritol Fatty acid partial esters, propylene glycol mono fatty acid esters, sucrose fatty acid partial esters, polyoxyethylene sorbitan fatty acid partial esters, polyoxyethylene sorbitol fatty acid partial esters, polyethylene glycol fatty acid esters, polyglycerin fatty acid partial esters, Polyoxyethylenated castor oil, polyoxyethylene glycerin fatty acid partial esters, fatty acid diethanolamides, N N- bis-2-hydroxyalkylamines, polyoxyethylene alkylamines, triethanolamine fatty acid ester, trialkylamine oxide, polyethylene glycol, copolymers of polyethylene glycol and polypropylene glycol.

本発明に用いられるアニオン界面活性剤は、特に限定されず、従来公知のものを用いることができる。例えば、脂肪酸塩類、アビエチン酸塩類、ヒドロキシアルカンスルホン酸塩類、アルカンスルホン酸塩類、ジアルキルスルホ琥珀酸エステル塩類、直鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、分岐鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、アルキルフェノキシポリオキシエチレンプロピルスルホン酸塩類、ポリオキシエチレンアルキルスルホフェニルエーテル塩類、N−メチル−N−オレイルタウリンナトリウム塩、N−アルキルスルホコハク酸モノアミド二ナトリウム塩、石油スルホン酸塩類、硫酸化牛脂油、脂肪酸アルキルエステルの硫酸エステル塩類、アルキル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩類、脂肪酸モノグリセリド硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、ポ
リオキシエチレンスチリルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、アルキルリン酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテルリン酸エステル塩類、スチレン/無水マレイン酸共重合物の部分けん化物類、オレフィン/無水マレイン酸共重合物の部分けん化物類、ナフタレンスルホン酸塩ホルマリン縮合物類が挙げられる。
The anionic surfactant used in the present invention is not particularly limited, and conventionally known anionic surfactants can be used. For example, fatty acid salts, abietic acid salts, hydroxyalkane sulfonates, alkane sulfonates, dialkyl sulfosuccinate esters, linear alkyl benzene sulfonates, branched alkyl benzene sulfonates, alkyl naphthalene sulfonates, alkyl phenoxy poly Oxyethylene propyl sulfonates, polyoxyethylene alkyl sulfophenyl ether salts, N-methyl-N-oleyl taurine sodium salt, N-alkyl sulfosuccinic acid monoamide disodium salt, petroleum sulfonates, sulfated beef oil, fatty acid alkyl esters Sulfates, alkyl sulfates, polyoxyethylene alkyl ether sulfates, fatty acid monoglyceride sulfates, polyoxyethylene alcohol Ruphenyl ether sulfates, polyoxyethylene styryl phenyl ether sulfates, alkyl phosphates, polyoxyethylene alkyl ether phosphates, polyoxyethylene alkyl phenyl ether phosphates, styrene / maleic anhydride Examples thereof include partial saponification products of polymers, partial saponification products of olefin / maleic anhydride copolymers, and naphthalene sulfonate formalin condensates.

本発明に用いられるカチオン界面活性剤は、特に限定されず、従来公知のものを用いることができる。例えば、アルキルアミン塩類、第四級アンモニウム塩類、ポリオキシエチレンアルキルアミン塩類、ポリエチレンポリアミン誘導体が挙げられる。
本発明に用いられる両性界面活性剤は、特に限定されず、従来公知のものを用いることができる。例えば、カルボキシベタイン類、アミノカルボン酸類、スルホベタイン類、アミノ硫酸エステル類、イミタゾリン類が挙げられる。
The cationic surfactant used in the present invention is not particularly limited, and conventionally known cationic surfactants can be used. Examples thereof include alkylamine salts, quaternary ammonium salts, polyoxyethylene alkylamine salts, and polyethylene polyamine derivatives.
The amphoteric surfactant used in the present invention is not particularly limited, and conventionally known amphoteric surfactants can be used. Examples thereof include carboxybetaines, aminocarboxylic acids, sulfobetaines, aminosulfuric esters, and imidazolines.

なお、上記界面活性剤の中で、「ポリオキシエチレン」とあるものは、ポリオキシメチレン、ポリオキシプロピレン、ポリオキシブチレン等の「ポリオキシアルキレン」に読み替えることもでき、本発明においては、それらの界面活性剤も用いることができる。   Of the above surfactants, the term “polyoxyethylene” can be read as “polyoxyalkylene” such as polyoxymethylene, polyoxypropylene, polyoxybutylene, etc. These surfactants can also be used.

更に好ましい界面活性剤としては、分子内にパーフルオロアルキル基を含有するフッ素系界面活性剤が挙げられる。このようなフッ素系界面活性剤としては、例えば、パーフルオロアルキルカルボン酸塩、パーフルオロアルキルスルホン酸塩、パーフルオロアルキルリン酸エステル等のアニオン型;パーフルオロアルキルベタイン等の両性型;パーフルオロアルキルトリメチルアンモニウム塩等のカチオン型;パーフルオロアルキルアミンオキサイド、パーフルオロアルキルエチレンオキシド付加物、パーフルオロアルキル基および親水性基を含有するオリゴマー、パーフルオロアルキル基および親油性基を含有するオリゴマー、パーフルオロアルキル基、親水性基および親油性基を含有するオリゴマー、パーフルオロアルキル基および親油性基を含有するウレタン等のノニオン型が挙げられる。また、特開昭62−170950号、同62−226143号および同60−168144号の公報に記載されているフッ素系界面活性剤も好適に挙げられる。   More preferable surfactants include fluorine-based surfactants containing a perfluoroalkyl group in the molecule. Examples of such fluorosurfactants include anionic types such as perfluoroalkyl carboxylates, perfluoroalkyl sulfonates, and perfluoroalkyl phosphates; amphoteric types such as perfluoroalkyl betaines; Cation type such as trimethylammonium salt; perfluoroalkylamine oxide, perfluoroalkylethylene oxide adduct, oligomer containing perfluoroalkyl group and hydrophilic group, oligomer containing perfluoroalkyl group and lipophilic group, perfluoroalkyl Nonionic types such as an oligomer containing a group, a hydrophilic group and a lipophilic group, and a urethane containing a perfluoroalkyl group and a lipophilic group. Also preferred are the fluorosurfactants described in JP-A-62-170950, JP-A-62-226143 and JP-A-60-168144.

界面活性剤は、単独でまたは2種以上を組み合わせて用いることができる。
界面活性剤の含有量は、感光層の全固形分に対して、0.001〜10質量%であるのが好ましく、0.01〜7質量%であるのがより好ましい。
Surfactant can be used individually or in combination of 2 or more types.
The content of the surfactant is preferably 0.001 to 10% by mass and more preferably 0.01 to 7% by mass with respect to the total solid content of the photosensitive layer.

<親水性ポリマー>
本発明においては、現像性の向上、マイクロカプセルの分散安定性向上などのため、親水性ポリマーを含有させることができる。
親水性ポリマーとしては、例えば、ヒドロキシ基、カルボキシル基、カルボキシレート基、ヒドロキシエチル基、ポリオキシエチル基、ヒドロキシプロピル基、ポリオキシプロピル基、アミノ基、アミノエチル基、アミノプロピル基、アンモニウム基、アミド基、カルボキシメチル基、スルホン酸基、リン酸基等の親水性基を有するものが好適に挙げられる。
<Hydrophilic polymer>
In the present invention, a hydrophilic polymer can be contained in order to improve the developability and the microcapsule dispersion stability.
Examples of the hydrophilic polymer include hydroxy group, carboxyl group, carboxylate group, hydroxyethyl group, polyoxyethyl group, hydroxypropyl group, polyoxypropyl group, amino group, aminoethyl group, aminopropyl group, ammonium group, Preferred examples include those having a hydrophilic group such as an amide group, carboxymethyl group, sulfonic acid group, and phosphoric acid group.

具体例として、アラビアゴム、カゼイン、ゼラチン、デンプン誘導体、カルボキシメチルセルロースおよびそのナトリウム塩、セルロースアセテート、アルギン酸ナトリウム、酢酸ビニル−マレイン酸コポリマー類、スチレン−マレイン酸コポリマー類、ポリアクリル酸類およびそれらの塩、ポリメタクリル酸類およびそれらの塩、ヒドロキシエチルメタクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシエチルアクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシピロピルメタクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシプロピルアクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシブチルメタクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシブチルアクリレートの
ホモポリマーおよびコポリマー、ポリエチレングリコール類、ヒドロキシプロピレンポリマー類、ポリビニルアルコール類、加水分解度が60モル%以上、好ましくは80モル%以上である加水分解ポリビニルアセテート、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール、ポリビニルピロリドン、アクリルアミドのホモポリマーおよびコポリマー、メタクリルアミドのホモポリマーおよびポリマー、N−メチロールアクリルアミドのホモポリマーおよびコポリマー、ポリビニルピロリドン、アルコール可溶性ナイロン、2,2−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−プロパンとエピクロロヒドリンとのポリエーテル等が挙げられる。
Specific examples include gum arabic, casein, gelatin, starch derivatives, carboxymethylcellulose and its sodium salt, cellulose acetate, sodium alginate, vinyl acetate-maleic acid copolymers, styrene-maleic acid copolymers, polyacrylic acids and their salts, Polymethacrylic acids and their salts, homopolymers and copolymers of hydroxyethyl methacrylate, homopolymers and copolymers of hydroxyethyl acrylate, homopolymers and copolymers of hydroxypropyl methacrylate, homopolymers and copolymers of hydroxypropyl acrylate, homopolymers of hydroxybutyl methacrylate Polymers and copolymers, homopolymers and copolymers of hydroxybutyl acrylate Polyethylene glycols, hydroxypropylene polymers, polyvinyl alcohols, hydrolyzed polyvinyl acetate, polyvinyl formal, polyvinyl butyral, polyvinyl pyrrolidone, acrylamide homopolymers and copolymers having a hydrolysis degree of 60 mol% or more, preferably 80 mol% or more , Homopolymers and polymers of methacrylamide, homopolymers and copolymers of N-methylolacrylamide, polyvinylpyrrolidone, alcohol-soluble nylon, polyether of 2,2-bis- (4-hydroxyphenyl) -propane and epichlorohydrin, etc. Is mentioned.

親水性ポリマーは、質量平均分子量が5000以上であるのが好ましく、1万〜30万であるのがより好ましい。親水性ポリマーは、ランダムポリマー、ブロックポリマー、グラフトポリマー等のいずれでもよい。
親水性ポリマーの感光層への含有量は、感光層全固形分の20質量%以下が好ましく、10質量%以下がより好ましい。
The hydrophilic polymer preferably has a mass average molecular weight of 5000 or more, more preferably 10,000 to 300,000. The hydrophilic polymer may be any of a random polymer, a block polymer, a graft polymer, and the like.
The content of the hydrophilic polymer in the photosensitive layer is preferably 20% by mass or less, more preferably 10% by mass or less, based on the total solid content of the photosensitive layer.

<着色剤>
本発明では、可視光域に大きな吸収を持つ染料を画像の着色剤として使用することができる。具体的には、オイルイエロー#101、オイルイエロー#103、オイルピンク#312、オイルグリーンBG、オイルブルーBOS、オイルブルー#603、オイルブラックBY、オイルブラックBS、オイルブラックT−505(以上オリエント化学工業(株)製)、ビクトリアピュアブルー、クリスタルバイオレット(CI42555)、メチルバイオレット(CI42535)、エチルバイオレット、ローダミンB(CI145170B)、マラカイトグリーン(CI42000)、メチレンブルー(CI52015)等、および特開昭62−293247号公報に記載されている染料を挙げることができる。また、フタロシアニン系顔料、アゾ系顔料、カーボンブラック、酸化チタン等の顔料も好適に用いることができる。
<Colorant>
In the present invention, a dye having a large absorption in the visible light region can be used as an image colorant. Specifically, Oil Yellow # 101, Oil Yellow # 103, Oil Pink # 312, Oil Green BG, Oil Blue BOS, Oil Blue # 603, Oil Black BY, Oil Black BS, Oil Black T-505 (orientated chemistry) Kogyo Co., Ltd.), Victoria Pure Blue, Crystal Violet (CI42555), Methyl Violet (CI42535), Ethyl Violet, Rhodamine B (CI145170B), Malachite Green (CI42000), Methylene Blue (CI522015), etc. And dyes described in Japanese Patent No. 293247. Also, pigments such as phthalocyanine pigments, azo pigments, carbon black, titanium oxide, etc. can be suitably used.

これらの着色剤は、画像形成後、画像部と非画像部の区別がつきやすいので、添加する方が好ましい。なお、添加量は、画像記録材料全固形分に対し、0.01〜10質量%の割合が好ましい。   These colorants are preferably added since it is easy to distinguish an image area from a non-image area after image formation. The amount added is preferably 0.01 to 10% by mass with respect to the total solid content of the image recording material.

<焼き出し剤>
本発明の感光層には、焼き出し画像生成のため、酸またはラジカルによって変色する化合物を添加することができる。このような化合物としては、例えばジフェニルメタン系、トリフェニルメタン系、チアジン系、オキサジン系、キサンテン系、アンスラキノン系、イミノキノン系、アゾ系、アゾメチン系等の各種色素が有効に用いられる。
<Bakeout agent>
In the photosensitive layer of the present invention, a compound that changes color by an acid or a radical can be added in order to produce a printout image. As such a compound, for example, various dyes such as diphenylmethane, triphenylmethane, thiazine, oxazine, xanthene, anthraquinone, iminoquinone, azo, and azomethine are effectively used.

具体例としては、ブリリアントグリーン、エチルバイオレット、メチルグリーン、クリスタルバイオレット、ベイシックフクシン、メチルバイオレット2B、キナルジンレッド、ローズベンガル、メタニルイエロー、チモールスルホフタレイン、キシレノールブルー、メチルオレンジ、パラメチルレッド、コンゴーフレッド、ベンゾプルプリン4B、α−ナフチルレッド、ナイルブルー2B、ナイルブルーA、メチルバイオレット、マラカイドグリーン、パラフクシン、ビクトリアピュアブルーBOH[保土ケ谷化学(株)製]、オイルブルー#603[オリエント化学工業(株)製]、オイルピンク#312[オリエント化学工業(株)製]、オイルレッド5B[オリエント化学工業(株)製]、オイルスカーレット#308[オリエント化学工業(株)製]、オイルレッドOG[オリエント化学工業(株)製]、オイルレッドRR[オリエント化学工業(株)製]、オイルグリーン#502[オリエント化学工業(株)製]、スピロンレッドBEHスペシャル[保土ケ谷化学工業(株)製]、m−クレゾールパープル、クレゾールレッド、ローダミンB、ローダミン6G、スルホローダミンB、オーラミン、4−p−ジエチルアミノフェニルイミノナフトキノン、2−カルボキシアニリノ−4−p−ジエチルアミノフェニルイミノナフトキノン、2−カルボキシステアリルアミノ−4−p−N,N−ビス(ヒドロキシエチル)アミノ−フェニルイミノナフトキノン、1−フェニル−3−メチル−4−p−ジエチルアミノフェニルイミノ−5−ピラゾロン、1−β−ナフチル−4−p−ジエチルアミノフェニルイミノ−5−ピラゾロン等の染料やp,p',p"−ヘキサメチルトリアミノトリフェニルメタン(ロイコクリスタルバイオレット)、Pergascript Blue SRB(チバガイギー社製)等のロイコ染料が挙げられる。   Specific examples include brilliant green, ethyl violet, methyl green, crystal violet, basic fuchsin, methyl violet 2B, quinaldine red, rose bengal, methanyl yellow, thymol sulfophthalein, xylenol blue, methyl orange, paramethyl red, Congo Fred, Benzopurpurin 4B, α-Naphthyl Red, Nile Blue 2B, Nile Blue A, Methyl Violet, Malachide Green, Parafuchsin, Victoria Pure Blue BOH [manufactured by Hodogaya Chemical Co., Ltd.], Oil Blue # 603 [Orient Chemical Kogyo Co., Ltd.], Oil Pink # 312 [Orient Chemical Co., Ltd.], Oil Red 5B [Orient Chemical Co., Ltd.], Oil Scarlet # 308 [Orient Gaku Kogyo Co., Ltd.], Oil Red OG [Orient Chemical Co., Ltd.], Oil Red RR [Orient Chemical Co., Ltd.], Oil Green # 502 [Orient Chemical Co., Ltd.], Spiron Red BEH Special [made by Hodogaya Chemical Co., Ltd.], m-cresol purple, cresol red, rhodamine B, rhodamine 6G, sulforhodamine B, auramine, 4-p-diethylaminophenyliminonaphthoquinone, 2-carboxyanilino-4-p- Diethylaminophenyliminonaphthoquinone, 2-carboxystearylamino-4-pN, N-bis (hydroxyethyl) amino-phenyliminonaphthoquinone, 1-phenyl-3-methyl-4-p-diethylaminophenylimino-5-pyrazolone, 1-β-naphthyl-4- - dyes and p of diethylamino phenyl imino-5-pyrazolone, p ', p "- hexamethyl triamnotriphenylmethane (leuco crystal violet), and a leuco dye such as Pergascript Blue SRB (manufactured by Ciba-Geigy).

上記の他に、感熱紙や感圧紙用の素材として知られているロイコ染料も好適なものとして挙げられる。具体例としては、クリスタルバイオレットラクトン、マラカイトグリーンラクトン、ベンゾイルロイコメチレンブルー、2−(N−フェニル−N−メチルアミノ)−6−(N−p−トリル−N−エチル)アミノ−フルオラン、2−アニリノ−3−メチル−6−(N−エチル−p−トルイジノ)フルオラン、3,6−ジメトキシフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−5−メチル−7−(N,N−ジベンジルアミノ)−フルオラン、3−(N−シクロヘキシル−N−メチルアミノ)−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−6−メチル−7−キシリジノフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−6−メチルー7−クロロフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−6−メトキシ−7−アミノフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−7−(4−クロロアニリノ)フルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−7−クロロフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−7−ベンジルアミノフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−7,8−ベンゾフルオラン、3−(N,N−ジブチルアミノ)−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−(N,N−ジブチルアミノ)−6−メチル−7−キシリジノフルオラン、3−ピペリジノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−ピロリジノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3,3−ビス(1−エチル−2−メチルインドール−3−イル)フタリド、3,3−ビス(1−n−ブチル−2−メチルインドール−3−イル)フタリド、3,3−ビス(p−ジメチルアミノフェニル)−6−ジメチルアミノフタリド、3−(4−ジエチルアミノ−2−エトキシフェニル)−3−(1−エチル−2−メチルインドール−3−イル)−4−ザフタリド、3−(4−ジエチルアミノフェニル)−3−(1−エチル−2−メチルインドール−3−イル)フタリド、などが挙げられる。   In addition to the above, a leuco dye known as a material for thermal paper or pressure-sensitive paper is also suitable. Specific examples include crystal violet lactone, malachite green lactone, benzoylleucomethylene blue, 2- (N-phenyl-N-methylamino) -6- (Np-tolyl-N-ethyl) amino-fluorane, 2-anilino. -3-methyl-6- (N-ethyl-p-toluidino) fluorane, 3,6-dimethoxyfluorane, 3- (N, N-diethylamino) -5-methyl-7- (N, N-dibenzylamino) ) -Fluorane, 3- (N-cyclohexyl-N-methylamino) -6-methyl-7-anilinofluorane, 3- (N, N-diethylamino) -6-methyl-7-anilinofluorane, 3 -(N, N-diethylamino) -6-methyl-7-xylidinofluorane, 3- (N, N-diethylamino) -6-methyl-7-chloro Fluorane, 3- (N, N-diethylamino) -6-methoxy-7-aminofluorane, 3- (N, N-diethylamino) -7- (4-chloroanilino) fluorane, 3- (N, N-diethylamino) -7-chlorofluorane, 3- (N, N-diethylamino) -7-benzylaminofluorane, 3- (N, N-diethylamino) -7,8-benzofluorane, 3- (N, N-dibutyl) Amino) -6-methyl-7-anilinofluorane, 3- (N, N-dibutylamino) -6-methyl-7-xylidinofluorane, 3-piperidino-6-methyl-7-anilinofluorane 3-pyrrolidino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3,3-bis (1-ethyl-2-methylindol-3-yl) phthalide, 3,3-bis (1-n-butyl- -Methylindol-3-yl) phthalide, 3,3-bis (p-dimethylaminophenyl) -6-dimethylaminophthalide, 3- (4-diethylamino-2-ethoxyphenyl) -3- (1-ethyl- 2-methylindol-3-yl) -4-zaphthalide, 3- (4-diethylaminophenyl) -3- (1-ethyl-2-methylindol-3-yl) phthalide, and the like.

酸またはラジカルによって変色する染料の好適な添加量は、それぞれ、感光層固形分に対して0.01〜15質量%の割合である。   A suitable addition amount of the dye that changes color by acid or radical is 0.01 to 15% by mass relative to the solid content of the photosensitive layer.

<重合禁止剤>
本発明の感光層には、感光層の製造中または保存中において、ラジカル重合性化合物の不要な熱重合を防止するために、少量の熱重合防止剤を添加するのが好ましい。
熱重合防止剤としては、例えば、ハイドロキノン、p−メトキシフェノール、ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ピロガロール、t−ブチルカテコール、ベンゾキノン、4,4′−チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2′−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、N−ニトロソ−N−フェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩が好適に挙げられる。
熱重合防止剤の添加量は、感光層の全固形分に対して、約0.01〜約5質量%であるのが好ましい。
<Polymerization inhibitor>
In order to prevent unnecessary thermal polymerization of the radical polymerizable compound during the production or storage of the photosensitive layer, it is preferable to add a small amount of a thermal polymerization inhibitor to the photosensitive layer of the present invention.
Examples of the thermal polymerization inhibitor include hydroquinone, p-methoxyphenol, di-t-butyl-p-cresol, pyrogallol, t-butylcatechol, benzoquinone, 4,4'-thiobis (3-methyl-6-t- (Butylphenol), 2,2'-methylenebis (4-methyl-6-tert-butylphenol), N-nitroso-N-phenylhydroxylamine aluminum salt are preferred.
The addition amount of the thermal polymerization inhibitor is preferably about 0.01 to about 5% by mass with respect to the total solid content of the photosensitive layer.

<高級脂肪酸誘導体等>
本発明の感光層には、酸素による重合阻害を防止するために、ベヘン酸やベヘン酸アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加して、塗布後の乾燥の過程で感光層の表面に偏在させてもよい。高級脂肪酸誘導体の添加量は、感光層の全固形分に対して、約0.1〜約1
0質量%であるのが好ましい。
<Higher fatty acid derivatives, etc.>
In order to prevent polymerization inhibition by oxygen, a higher fatty acid derivative such as behenic acid or behenamide is added to the photosensitive layer of the present invention so that it is unevenly distributed on the surface of the photosensitive layer during the drying process after coating. May be. The amount of the higher fatty acid derivative added is about 0.1 to about 1 with respect to the total solid content of the photosensitive layer.
It is preferably 0% by mass.

<可塑剤>
本発明の感光層は可塑剤を含有してもよい。可塑剤としては、例えば、ジメチルフタレート、ジエチルフタレート、ジブチルフタレート、ジイソブチルフタレート、ジオクチルフタレート、オクチルカプリルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート、ジトリデシルフタレート、ブチルベンジルフタレート、ジイソデシルフタレート、ジアリルフタレート等のフタル酸エステル類;ジメチルグリコールフタレート、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、トリエチレングリコールジカプリル酸エステル等のグリコールエステル類;トリクレジルホスフェート、トリフェニルホスフェート等のリン酸エステル類;ジイソブチルアジペート、ジオクチルアジペート、ジメチルセバケート、ジブチルセバケート、ジオクチルアゼレート、ジブチルマレエート等の脂肪族二塩基酸エステル類;ポリグリシジルメタクリレート、クエン酸トリエチル、グリセリントリアセチルエステル、ラウリン酸ブチル等が好適に挙げられる。可塑剤の含有量は、感光層の全固形分に対して、約30質量%以下であるのが好ましい。
<Plasticizer>
The photosensitive layer of the present invention may contain a plasticizer. Examples of the plasticizer include phthalates such as dimethyl phthalate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, diisobutyl phthalate, dioctyl phthalate, octyl capryl phthalate, dicyclohexyl phthalate, ditridecyl phthalate, butyl benzyl phthalate, diisodecyl phthalate, diallyl phthalate; Glycol esters such as glycol phthalate, ethyl phthalyl ethyl glycolate, methyl phthalyl ethyl glycolate, butyl phthalyl butyl glycolate, triethylene glycol dicaprylate; Phosphate esters such as tricresyl phosphate and triphenyl phosphate Diisobutyl adipate, dioctyl adipate, dimethyl sebacate, dibutyl sebacate, dioct Ruazereto, aliphatic dibasic acid esters such as dibutyl maleate; polyglycidyl methacrylate, triethyl citrate, glycerin triacetyl ester, butyl laurate in. The plasticizer content is preferably about 30% by mass or less based on the total solid content of the photosensitive layer.

<無機微粒子>
本発明の感光層は、画像部の硬化皮膜強度向上のために、無機微粒子を含有してもよい。無機微粒子としては、例えば、シリカ、アルミナ、酸化マグネシウム、酸化チタン、炭酸マグネシウム、アルギン酸カルシウムまたはこれらの混合物が好適に挙げられる。これらは光熱変換性でなくても、皮膜の強化、表面粗面化による界面接着性の強化等に用いることができる。無機微粒子は、平均粒径が5nm〜10μmであるのが好ましく、0.5〜3μmであるのがより好ましい。上記範囲内であると、感光層中に安定に分散して、感光層の膜強度を十分に保持し、印刷時の汚れを生じにくい親水性に優れる非画像部を形成することができる。
上述したような無機微粒子は、コロイダルシリカ分散物等の市販品として容易に入手することができる。
無機微粒子の含有量は、感光層の全固形分に対して、20質量%以下であるのが好ましく、10質量%以下であるのがより好ましい。
<Inorganic fine particles>
The photosensitive layer of the present invention may contain inorganic fine particles in order to improve the cured film strength of the image area. As the inorganic fine particles, for example, silica, alumina, magnesium oxide, titanium oxide, magnesium carbonate, calcium alginate or a mixture thereof can be preferably mentioned. Even if they are not photothermally convertible, they can be used for strengthening the film, enhancing interfacial adhesion by surface roughening, and the like. The inorganic fine particles preferably have an average particle size of 5 nm to 10 μm, and more preferably 0.5 to 3 μm. Within the above range, it is possible to form a non-image portion excellent in hydrophilicity that is stably dispersed in the photosensitive layer, sufficiently retains the film strength of the photosensitive layer, and does not easily cause stains during printing.
The inorganic fine particles as described above can be easily obtained as a commercial product such as a colloidal silica dispersion.
The content of the inorganic fine particles is preferably 20% by mass or less, and more preferably 10% by mass or less, based on the total solid content of the photosensitive layer.

<低分子親水性化合物>
本発明の感光層は、現像性向上のため、親水性低分子化合物を含有することができる。親水性低分子化合物としては、例えば、水溶性有機化合物としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール等のグリコール類およびそのエーテルまたはエステル誘導体類、グリセリン、ペンタエリスリトール等のポリヒドロキシ類、トリエタノールアミン、ジエタノールアミンモノエタノールアミン等の有機アミン類およびその塩、トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸等の有機スルホン酸類およびその塩、フェニルホスホン酸等の有機ホスホン酸類およびその塩、酒石酸、シュウ酸、クエン酸、リンゴ酸、乳酸、グルコン酸、アミノ酸類等の有機カルボン酸類およびその塩や、テトラエチルアミン塩酸塩等の有機4級アンモニウム塩等が挙げられる。
<Low molecular hydrophilic compound>
The photosensitive layer of the present invention can contain a hydrophilic low molecular weight compound for improving developability. Examples of the hydrophilic low-molecular compound include water-soluble organic compounds such as ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol and the like, and ether or ester derivatives thereof, glycerin, Polyhydroxys such as pentaerythritol, organic amines such as triethanolamine and diethanolamine monoethanolamine and salts thereof, organic sulfonic acids such as toluenesulfonic acid and benzenesulfonic acid and salts thereof, organic phosphonic acids such as phenylphosphonic acid and the like Organic carboxylic acids such as salts, tartaric acid, oxalic acid, citric acid, malic acid, lactic acid, gluconic acid, amino acids and their salts, and organic quaternary amines such as tetraethylamine hydrochloride Salt, and the like.

<感光層の形成>
本発明の感光層は、必要な上記各成分を溶剤に分散または溶解して塗布液を調製し、塗布して形成される。ここで使用する溶剤としては、エチレンジクロリド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、2−メトキシエチルアセテート、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、テトラメチルウレア、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチルラクトン、トルエン、水等を挙げることができるが、これに限定されるものではない。これらの溶剤は、単独または混合して使用される。塗布液の固形分濃度は、好ましくは1〜50質量%である。
本発明の感光層は、同一または異なる上記各成分を同一または異なる溶剤に分散、または溶かした塗布液を複数調製し、複数回の塗布、乾燥を繰り返して形成することも可能である。
<Formation of photosensitive layer>
The photosensitive layer of the present invention is formed by preparing or applying a coating solution by dispersing or dissolving the necessary components described above in a solvent. Solvents used here include ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol monomethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, 2-methoxyethyl acetate, 1-methoxy-2-propyl acetate, dimethoxy Examples include ethane, methyl lactate, ethyl lactate, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, tetramethylurea, N-methylpyrrolidone, dimethyl sulfoxide, sulfolane, γ-butyllactone, toluene, water, and the like. However, the present invention is not limited to this. These solvents are used alone or in combination. The solid content concentration of the coating solution is preferably 1 to 50% by mass.
The photosensitive layer of the present invention can be formed by preparing a plurality of coating solutions in which the same or different components are dispersed or dissolved in the same or different solvents, and repeatedly applying and drying a plurality of times.

また塗布、乾燥後に得られる支持体上の感光層塗布量(固形分)は、用途によって異なるが、一般的に0.3〜3.0g/m2が好ましい。この範囲内で、良好な感度と感光層
の良好な皮膜特性が得られる。
塗布する方法としては、種々の方法を用いることができる。例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げられる。
The coating, the photosensitive layer coating amount on the support obtained after drying (solid content) may be varied according to the intended purpose, generally 0.3 to 3.0 g / m 2 is preferred. Within this range, good sensitivity and good film properties of the photosensitive layer can be obtained.
Various methods can be used as a coating method. Examples thereof include bar coater coating, spin coating, spray coating, curtain coating, dip coating, air knife coating, blade coating, and roll coating.

(保護層)
本発明の平版印刷版原版には、露光時の重合反応を妨害する酸素の拡散侵入を遮断するため、感光層上に保護層(酸素遮断層)を設けることが好ましい。本発明に用いられる保護層は25℃、1気圧下における酸素透過性Aが1.0≦A≦20(mL/m2・day
)であることが好ましい。酸素透過性Aが1.0(mL/m2・day)未満で極端に低
い場合は、製造時・生保存時に不要な重合反応が生じたり、また画像露光時に、不要なカブリ、画線の太りが生じたりという問題を生じる。逆に、酸素透過性Aが20(mL/m2・day)を超えて高すぎる場合は感度の低下を招く。酸素透過性Aは、より好ましく
は1.5≦A≦12 (mL/m2・day)、更に好ましくは2.0≦A≦10.0(
mL/m2・day)の範囲である。また、保護層に望まれる特性としては、上記酸素
透過性以外に、さらに、露光に用いる光の透過は実質阻害せず、感光層との密着性に優れ、かつ、露光後の現像工程で容易に除去できる事が望ましい。この様な保護層に関する工夫が従来なされており、米国特許第3,458,311号明細書、特公昭55−49729号公報に詳しく記載されている。
(Protective layer)
The lithographic printing plate precursor according to the invention is preferably provided with a protective layer (oxygen blocking layer) on the photosensitive layer in order to block diffusion and penetration of oxygen that hinders the polymerization reaction during exposure. The protective layer used in the present invention has an oxygen permeability A at 25 ° C. and 1 atmosphere of 1.0 ≦ A ≦ 20 (mL / m 2 · day
) Is preferable. When the oxygen permeability A is extremely low at less than 1.0 (mL / m 2 · day), unnecessary polymerization reaction occurs at the time of production and raw storage, and unnecessary fogging and image streaking occur during image exposure. This causes the problem of overweight. Conversely, when the oxygen permeability A exceeds 20 (mL / m 2 · day) and is too high, the sensitivity is lowered. The oxygen permeability A is more preferably 1.5 ≦ A ≦ 12 (mL / m 2 · day), and further preferably 2.0 ≦ A ≦ 10.0 (
mL / m 2 · day). In addition to the oxygen permeability described above, the properties desired for the protective layer further do not substantially inhibit the transmission of light used for exposure, have excellent adhesion to the photosensitive layer, and are easy in the development process after exposure. It is desirable that it can be removed. The device concerning such a protective layer has been conventionally made, and is described in detail in US Pat. No. 3,458,311 and JP-B-55-49729.

保護層に使用できる材料としては例えば、比較的結晶性に優れた水溶性高分子化合物を用いることが好ましく、具体的には、ポリビニルアルコール、ビニルアルコール/フタル酸ビニル共重合体、酢酸ビニル/ビニルアルコール/フタル酸ビニル共重合体、酢酸ビニル/クロトン酸共重合体、ポリビニルピロリドン、酸性セルロース類、ゼラチン、アラビアゴム、ポリアクリル酸、ポリアクリルアミドなどのような水溶性ポリマーが挙げられ、これらは単独または混合して使用できる。これらの内、ポリビニルアルコールを主成分として用いる事が、酸素遮断性、現像除去性といった基本特性的にもっとも良好な結果を与える。   As a material that can be used for the protective layer, for example, a water-soluble polymer compound having relatively excellent crystallinity is preferably used. Specifically, polyvinyl alcohol, vinyl alcohol / vinyl phthalate copolymer, vinyl acetate / vinyl are used. Examples include water-soluble polymers such as alcohol / vinyl phthalate copolymer, vinyl acetate / crotonic acid copolymer, polyvinyl pyrrolidone, acidic celluloses, gelatin, gum arabic, polyacrylic acid, and polyacrylamide. Or they can be mixed. Of these, the use of polyvinyl alcohol as the main component gives the best results in terms of basic properties such as oxygen barrier properties and development removability.

保護層に使用するポリビニルアルコールは、必要な酸素遮断性と水溶性を有するための、未置換ビニルアルコール単位を含有する限り、一部がエステル、エーテル、およびアセタールで置換されていても良い。また、同様に一部が他の共重合成分を有していても良い。ポリビニルアルコールの具体例としては71〜100モル%加水分解され、重合繰り返し単位が300から2400の範囲のものをあげる事ができる。具体的には、株式会社クラレ製のPVA−105、PVA−110、PVA−117、PVA−117H、PVA−120、PVA−124、PVA−124H、PVA−CS、PVA−CST、PVA−HC、PVA−203、PVA−204、PVA−205、PVA−210、PVA−217、PVA−220、PVA−224、PVA−217EE、PVA−217E、PVA−220E、PVA−224E、PVA−405、PVA−420、PVA−613、L−8等が挙げられ、これらは単独または混合して使用できる。好ましい態様としてはポリビニルアルコールの保護層中の含有率が20〜95質量%、より好ましくは、30〜90質量%である。   The polyvinyl alcohol used for the protective layer may be partially substituted with an ester, an ether, and an acetal as long as it contains an unsubstituted vinyl alcohol unit for having necessary oxygen barrier properties and water solubility. Similarly, some of them may have other copolymer components. Specific examples of polyvinyl alcohol include those that are hydrolyzed by 71 to 100 mol% and have a polymerization repeating unit in the range of 300 to 2400. Specifically, Kuraray Co., Ltd. PVA-105, PVA-110, PVA-117, PVA-117H, PVA-120, PVA-124, PVA-124H, PVA-CS, PVA-CST, PVA-HC, PVA-203, PVA-204, PVA-205, PVA-210, PVA-217, PVA-220, PVA-224, PVA-217EE, PVA-217E, PVA-220E, PVA-224E, PVA-405, PVA- 420, PVA-613, L-8 and the like, and these can be used alone or in combination. In a preferred embodiment, the content of polyvinyl alcohol in the protective layer is 20 to 95% by mass, and more preferably 30 to 90% by mass.

また、公知の変性ポリビニルアルコールも好ましく用いることができる。例えば、カルボキシル基、スルホ基等のアニオンで変性されたアニオン変性部位、アミノ基、アンモニウム基等のカチオンで変性されたカチオン変性部位、シラノール変性部位、チオール変性部位等種々の親水性変性部位をランダムに有す各種重合度のポリビニルアルコール、前記のアニオン変性部位、前記のカチオン変性部位、シラノール変性部位、チオール変性部位、更にはアルコキシル変性部位、スルフィド変性部位、ビニルアルコールと各種有機酸とのエステル変性部位、前記アニオン変性部位とアルコール類等とのエステル変性部位、エポキシ変性部位等種々の変性部位をポリマー鎖末端に有す各種重合度のポリビニルアルコール等が挙げられる。   Moreover, well-known modified polyvinyl alcohol can also be used preferably. For example, various hydrophilic modification sites such as anion modification sites modified with anions such as carboxyl groups and sulfo groups, cation modification sites modified with cations such as amino groups and ammonium groups, silanol modification sites, and thiol modification sites are randomly selected. Polyvinyl alcohol having various degrees of polymerization, the anion-modified site, the cation-modified site, the silanol-modified site, the thiol-modified site, the alkoxyl-modified site, the sulfide-modified site, and the ester modification of vinyl alcohol with various organic acids Examples thereof include polyvinyl alcohol having various polymerization degrees having various modified sites such as a site, an ester-modified site of the anion-modified site and alcohols, an epoxy-modified site, and the like.

ポリビニルアルコールと混合して使用する成分としてはポリビニルピロリドンまたはその変性物が酸素遮断性、現像除去性といった観点から好ましく、保護層中の含有率が3.5〜80質量%、好ましくは10〜60質量%、さらに好ましくは15〜30質量%である。   As a component used by mixing with polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone or a modified product thereof is preferable from the viewpoint of oxygen barrier properties and development removability, and the content in the protective layer is 3.5 to 80% by mass, preferably 10 to 60%. It is 15 mass%, More preferably, it is 15-30 mass%.

保護層の成分(PVAの選択、添加剤の使用)、塗布量等は、酸素遮断性・現像除去性の他、カブリ性や密着性・耐傷性を考慮して選択される。一般には使用するPVAの加水分解率が高い程(保護層中の未置換ビニルアルコール単位含率が高い程)、膜厚が厚い程酸素遮断性が高くなり、感度の点で有利である。上記ポリビニルアルコール(PVA)等の(共)重合体の分子量は、2000〜1000万の範囲のものが使用でき、好ましくは2万〜300万範囲のものが適当である。   Components of the protective layer (selection of PVA, use of additives), coating amount, and the like are selected in consideration of fogging, adhesion, and scratch resistance in addition to oxygen barrier properties and development removability. In general, the higher the hydrolysis rate of the PVA used (the higher the content of the unsubstituted vinyl alcohol unit in the protective layer), the thicker the film thickness, the higher the oxygen barrier property, which is advantageous in terms of sensitivity. The molecular weight of the (co) polymer such as polyvinyl alcohol (PVA) can be in the range of 2000 to 10 million, preferably in the range of 20,000 to 3 million.

保護層への他の添加剤として、グリセリン、ジプロピレングリコール等を(共)重合体に対して数質量%相当量添加して可撓性を付与することができ、また、アルキル硫酸ナトリウム、アルキルスルホン酸ナトリウム等のアニオン界面活性剤;アルキルアミノカルボン酸塩、アルキルアミノジカルボン酸塩等の両性界面活性剤;ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル等の非イオン界面活性剤を(共)重合体に対して数質量%添加することができる。   As other additives to the protective layer, glycerin, dipropylene glycol and the like can be added in an amount corresponding to several mass% with respect to the (co) polymer to provide flexibility, and sodium alkyl sulfate, alkyl Anionic surfactants such as sodium sulfonate; amphoteric surfactants such as alkylaminocarboxylates and alkylaminodicarboxylates; nonionic surfactants such as polyoxyethylene alkylphenyl ethers to (co) polymers Several mass% can be added.

また、画像部との密着性や、耐傷性も版の取り扱い上極めて重要である。すなわち、水溶性ポリマーからなる親水性の層を親油性の感光層に積層すると、接着力不足による膜剥離が発生しやすく、剥離部分が酸素の重合阻害により膜硬化不良などの欠陥を引き起こす。これに対し、これら2層間の接着性を改良すべく種々の提案がなされている。例えば米国特許出願番号第292,501号、米国特許出願番号第44,563号には、主にポリビニルアルコールからなる親水性ポリマー中に、アクリル系エマルジョンまたは水不溶性ビニルピロリドン−ビニルアセテート共重合体などを20〜60質量%混合し、感光層の上に積層することにより、十分な接着性が得られることが記載されている。本発明における保護層に対しては、これらの公知の技術をいずれも適用することができる。このような保護層の塗布方法については、例えば米国特許第3,458,311号明細書、特公昭55−49729号公報に詳しく記載されている。   In addition, adhesion to the image area and scratch resistance are extremely important in handling the plate. That is, when a hydrophilic layer made of a water-soluble polymer is laminated on an oleophilic photosensitive layer, film peeling due to insufficient adhesion tends to occur, and the peeled part causes defects such as poor film hardening due to inhibition of oxygen polymerization. On the other hand, various proposals have been made to improve the adhesion between these two layers. For example, in U.S. Patent Application No. 292,501 and U.S. Patent Application No. 44,563, an acrylic emulsion or a water-insoluble vinyl pyrrolidone-vinyl acetate copolymer is contained in a hydrophilic polymer mainly composed of polyvinyl alcohol. It is described that sufficient adhesiveness can be obtained by mixing 20 to 60% by mass and laminating on a photosensitive layer. Any of these known techniques can be applied to the protective layer in the present invention. Such a coating method for the protective layer is described in detail in, for example, US Pat. No. 3,458,311 and Japanese Patent Publication No. 55-49729.

さらに、本発明の平版印刷版原版における保護層には、酸素遮断性や感光層表面保護性を向上させる目的で、無機質の層状化合物を含有させることも好ましい。
ここで無機質の層状化合物とは、薄い平板状の形状を有する粒子であり、例えば、下記一般式
A(B,C)2-5410(OH,F,O)2
〔ただし、AはK,Na,Caの何れか、BおよびCはFe(II),Fe(III),
Mn,Al,Mg,Vの何れかであり、DはSiまたはAlである。〕で表される天然雲母、合成雲母等の雲母群、式3MgO・4SiO・H2Oで表されるタルク、テニオライ
ト、モンモリロナイト、サポナイト、ヘクトライト、りん酸ジルコニウムなどが挙げられる。
Furthermore, the protective layer in the lithographic printing plate precursor according to the invention preferably contains an inorganic stratiform compound for the purpose of improving oxygen barrier properties and photosensitive layer surface protection.
Here, the inorganic layered compound is a particle having a thin flat plate shape. For example, the following general formula A (B, C) 2-5 D 4 O 10 (OH, F, O) 2
[However, A is any of K, Na, and Ca, B and C are Fe (II), Fe (III),
One of Mn, Al, Mg, and V, and D is Si or Al. And mica groups such as natural mica and synthetic mica, talc, teniolite, montmorillonite, saponite, hectorite, zirconium phosphate and the like represented by the formula 3MgO.4SiO.H 2 O.

上記雲母群においては、天然雲母としては白雲母、ソーダ雲母、金雲母、黒雲母および鱗雲母が挙げられる。また、合成雲母としては、フッ素金雲母KMg3 (AlSi310
)F2、カリ四ケイ素雲母KMg2.5 Si410)F2等の非膨潤性雲母、およびNaテトラシリリックマイカNaMg2.5 (Si410)F2、NaまたはLiテニオライト(N
a,Li)Mg2 Li(Si4 10)F2、モンモリロナイト系のNaまたはLiヘクト
ライト(Na,Li)1/8 Mg2 /5Li1/8 (Si410)F2等の膨潤性雲母等が挙げられる。更に合成スメクタイトも有用である。
In the mica group, examples of natural mica include muscovite, soda mica, phlogopite, biotite and sericite. As the synthetic mica, fluorine phlogopite KMg 3 (AlSi 3 O 10
) F 2 , Potassium tetrasilicon mica KMg 2.5 Si 4 O 10 ) Non-swelling mica such as F 2 , and Na tetrasilicic mica NaMg 2.5 (Si 4 O 10 ) F 2 , Na or Li teniolite (N
a, Li) Mg 2 Li ( Si 4 O 10) F 2, montmorillonite of Na or Li hectorite (Na, Li) 1/8 Mg 2 /5 Li 1/8 (Si 4 O 10) F 2 , etc. Examples include swelling mica. Synthetic smectite is also useful.

本発明においては、上記の無機質の層状化合物の中でも、合成の無機質の層状化合物であるフッ素系の膨潤性雲母が特に有用である。すなわち、この膨潤性合成雲母や、モンモリロナイト、サポナイト、ヘクトライト、ベントナイト等の膨潤性粘度鉱物類等は、10〜15Å程度の厚さの単位結晶格子層からなる積層構造を有し、格子内金属原子置換が他の粘度鉱物より著しく大きい。その結果、格子層は正電荷不足を生じ、それを補償するために層間にNa+、Ca2+、Mg2+等の陽イオンを吸着している。これらの層間に介在し
ている陽イオンは交換性陽イオンと呼ばれ、いろいろな陽イオンと交換する。特に層間の陽イオンがLi+ 、Na+ の場合、イオン半径が小さいため層状結晶格子間の結合が弱く、水により大きく膨潤する。その状態でシェアーをかけると容易に劈開し、水中で安定したゾルを形成する。ベントナイトおよび膨潤性合成雲母はこの傾向が強く、本発明において有用であり、特に膨潤性合成雲母が好ましく用いられる。
In the present invention, among the inorganic layered compounds described above, fluorine-based swellable mica, which is a synthetic inorganic layered compound, is particularly useful. That is, this swellable synthetic mica and swellable viscosity minerals such as montmorillonite, saponite, hectorite, bentonite, etc. have a laminated structure composed of unit crystal lattice layers with a thickness of about 10 to 15 mm, Atomic substitution is significantly greater than other viscous minerals. As a result, the lattice layer is deficient in positive charges, and cations such as Na + , Ca 2+ and Mg 2+ are adsorbed between the layers in order to compensate for this. The cations present between these layers are called exchangeable cations and exchange with various cations. In particular, when the cation between the layers is Li + or Na + , since the ionic radius is small, the bond between the layered crystal lattices is weak, and the layer swells greatly with water. If shear is applied in this state, it will easily cleave and form a stable sol in water. Bentonite and swellable synthetic mica have this tendency and are useful in the present invention, and swellable synthetic mica is particularly preferably used.

本発明で使用する無機質の層状化合物の形状としては、拡散制御の観点からは、厚さは薄ければ薄いほどよく、平面サイズは塗布面の平滑性や活性光線の透過性を阻害しない限りにおいて大きいほどよい。従って、アスペクト比は20以上であり、好ましくは100以上、特に好ましくは200以上である。なお、アスペクト比は粒子の長径に対する厚さの比であり、たとえば、粒子の顕微鏡写真による投影図から測定することができる。アスペクト比が大きい程、得られる効果が大きい。   As the shape of the inorganic layered compound used in the present invention, from the viewpoint of diffusion control, the smaller the thickness, the better. The plane size is as long as it does not hinder the smoothness of the coated surface or the transmittance of actinic rays. Larger is better. Accordingly, the aspect ratio is 20 or more, preferably 100 or more, particularly preferably 200 or more. The aspect ratio is the ratio of the thickness to the major axis of the particle, and can be measured, for example, from a projected view of the particle by a micrograph. The larger the aspect ratio, the greater the effect that can be obtained.

本発明で使用する無機質の層状化合物の粒子径は、その平均長径が0.3〜20μm、好ましくは0.5〜10μm、特に好ましくは1〜5μmである。また、該粒子の平均の厚さは、0.1μm以下、好ましくは、0.05μm以下、特に好ましくは、0.01μm以下である。例えば、無機質の層状化合物のうち、代表的化合物である膨潤性合成雲母のサイズは厚さが1〜50nm、面サイズが1〜20μm程度である。   As for the particle diameter of the inorganic stratiform compound used in the present invention, the average major axis is 0.3 to 20 μm, preferably 0.5 to 10 μm, particularly preferably 1 to 5 μm. The average thickness of the particles is 0.1 μm or less, preferably 0.05 μm or less, particularly preferably 0.01 μm or less. For example, among inorganic layered compounds, the size of the swellable synthetic mica that is a representative compound is about 1 to 50 nm in thickness and about 1 to 20 μm in surface size.

このようにアスペクト比が大きい無機質の層状化合物の粒子を保護層に含有させると、塗膜強度が向上し、また、酸素や水分の透過を効果的に防止しうるため、変形などによる保護層の劣化を防止し、高湿条件下において長期間保存しても、湿度の変化による平版印刷版原版における画像形成性の低下もなく保存安定性に優れる。   When the inorganic layered compound particles having such a large aspect ratio are contained in the protective layer, the coating film strength is improved, and the permeation of oxygen and moisture can be effectively prevented. Deterioration is prevented, and even when stored for a long time under high-humidity conditions, the storage stability of the planographic printing plate precursor does not deteriorate due to changes in humidity, and the storage stability is excellent.

保護層中の無機質層状化合物の含有量は、保護層に使用されるバインダーの量に対し、質量比で5/1〜1/100であることが好ましい。複数種の無機質の層状化合物を併用した場合でも、これら無機質の層状化合物の合計量が上記の質量比であることが好ましい。   It is preferable that content of the inorganic stratiform compound in a protective layer is 5/1-1/100 by mass ratio with respect to the quantity of the binder used for a protective layer. Even when a plurality of types of inorganic layered compounds are used in combination, the total amount of these inorganic layered compounds is preferably the above-described mass ratio.

次に、保護層に用いる無機質層状化合物の一般的な分散方法の例について述べる。まず、水100質量部に先に無機質層状化合物の好ましいものとして挙げた膨潤性の層状化合物を5〜10質量部添加し、充分水になじませ、膨潤させた後、分散機にかけて分散する。ここで用いる分散機としては、機械的に直接力を加えて分散する各種ミル、大きな剪断力を有する高速攪拌型分散機、高強度の超音波エネルギーを与える分散機等が挙げられる。具体的には、ボールミル、サンドグラインダーミル、ビスコミル、コロイドミル、ホモジナイザー、ティゾルバー、ポリトロン、ホモミキサー、ホモブレンダー、ケディミル、ジェットアジター、毛細管式乳化装置、液体サイレン、電磁歪式超音波発生機、ポールマン笛を有する乳化装置等が挙げられる。上記の方法で分散した無機質層状化合物の5〜10質量%の分散物は高粘度あるいはゲル状であり、保存安定性は極めて良好である。この分散物を用いて保護層塗布液を調製する際には、水で希釈し、充分攪拌した後、バインダー溶液と配合して調製するのが好ましい。   Next, an example of a general dispersion method of the inorganic stratiform compound used for the protective layer will be described. First, 5 to 10 parts by mass of the swellable layered compound mentioned above as a preferred inorganic layered compound is added to 100 parts by mass of water, and the mixture is thoroughly swelled and swollen, and then dispersed by a disperser. Examples of the disperser used here include various mills that disperse mechanically by applying a direct force, a high-speed stirring disperser having a large shearing force, and a disperser that provides high-intensity ultrasonic energy. Specifically, ball mill, sand grinder mill, visco mill, colloid mill, homogenizer, tisol bar, polytron, homomixer, homo blender, ketdy mill, jet agitator, capillary emulsifier, liquid siren, electrostrictive ultrasonic generator, An emulsifying device having a Paulman whistle can be used. A dispersion of 5 to 10% by mass of the inorganic stratiform compound dispersed by the above method is highly viscous or gelled and has very good storage stability. When preparing a protective layer coating solution using this dispersion, it is preferably prepared by diluting with water and stirring sufficiently, and then blending with a binder solution.

この保護層塗布液には、上記無機質層状化合物の他に、塗布性を向上させための界面活性剤や皮膜の物性改良のための水溶性可塑剤など公知の添加剤を加えることができる。水溶性の可塑剤としては、例えば、プロピオンアミド、シクロヘキサンジオール、グリセリン、ソルビトール等が挙げられる。また、水溶性の(メタ)アクリル系ポリマーを加えることもできる。さらに、この塗布液には、感光層との密着性、塗布液の経時安定性を向上するための公知の添加剤を加えてもよい。   In addition to the inorganic layered compound, known additives such as a surfactant for improving the coating property and a water-soluble plasticizer for improving the physical properties of the film can be added to the protective layer coating solution. Examples of the water-soluble plasticizer include propionamide, cyclohexanediol, glycerin, sorbitol and the like. A water-soluble (meth) acrylic polymer can also be added. Furthermore, known additives for improving the adhesion to the photosensitive layer and the temporal stability of the coating solution may be added to the coating solution.

このように調製された保護層塗布液を、支持体上に備えられた感光層の上に塗布し、乾燥して保護層を形成する。塗布溶剤はバインダーとの関連において適宜選択することができるが、水溶性ポリマーを用いる場合には、蒸留水、精製水を用いることが好ましい。保護層の塗布方法は、特に制限されるものではなく、米国特許第3,458,311号明細書または特公昭55−49729号公報に記載されている方法など公知の方法を適用することができる。具体的には、例えば、保護層は、ブレード塗布法、エアナイフ塗布法、グラビア塗布法、ロールコーティング塗布法、スプレー塗布法、ディップ塗布法、バー塗布法等が挙げられる。   The protective layer coating solution thus prepared is applied onto the photosensitive layer provided on the support and dried to form a protective layer. The coating solvent can be appropriately selected in relation to the binder, but when a water-soluble polymer is used, it is preferable to use distilled water or purified water. The method for applying the protective layer is not particularly limited, and a known method such as the method described in US Pat. No. 3,458,311 or Japanese Patent Publication No. 55-49729 can be applied. . Specific examples of the protective layer include blade coating, air knife coating, gravure coating, roll coating coating, spray coating, dip coating, and bar coating.

保護層の塗布量としては、乾燥後の塗布量で、0.05〜10g/m2 の範囲であることが好ましく、無機質の層状化合物を含有する場合には、0.1〜0.5g/m2の範囲
であることがさらに好ましく、無機質の層状化合物を含有しない場合には、0.5〜5g/m2の範囲であることがさらに好ましい。
The coating amount of the protective layer is preferably in the range of 0.05 to 10 g / m 2 in terms of the coating amount after drying. When the inorganic layered compound is contained, 0.1 to 0.5 g / The range of m 2 is more preferable, and when the inorganic layered compound is not contained, the range of 0.5 to 5 g / m 2 is more preferable.

(支持体)
本発明の平版印刷版原版に用いられる支持体は、特に限定されず、寸度的に安定な板状な親水性支持体であればよい。例えば、紙、プラスチック(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等)がラミネートされた紙、金属板(例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等)、プラスチックフィルム(例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等)、上述した金属がラミネートされまたは蒸着された紙またはプラスチックフィルム等が挙げられる。好ましい支持体としては、ポリエステルフィルムおよびアルミニウム板が挙げられる。中でも、寸法安定性がよく、比較的安価であるアルミニウム板が好ましい。
(Support)
The support used in the lithographic printing plate precursor according to the invention is not particularly limited as long as it is a dimensionally stable plate-like hydrophilic support. For example, paper, paper laminated with plastic (eg, polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.), metal plate (eg, aluminum, zinc, copper, etc.), plastic film (eg, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate) Cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate, cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc.), and paper or plastic films on which the above-mentioned metals are laminated or deposited. Preferable supports include a polyester film and an aluminum plate. Among these, an aluminum plate that has good dimensional stability and is relatively inexpensive is preferable.

アルミニウム板は、純アルミニウム板、アルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合金板、または、アルミニウムもしくはアルミニウム合金の薄膜にプラスチックがラミネートされているものである。アルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタン等がある。合金中の異元素の含有量は10質量%以下であるのが好ましい。本発明においては、純アルミニウム板が好ましいが、完全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、
わずかに異元素を含有するものでもよい。アルミニウム板は、その組成が特定されるものではなく、公知公用の素材のものを適宜利用することができる。
The aluminum plate is a pure aluminum plate, an alloy plate containing aluminum as a main component and containing a trace amount of different elements, or a plastic laminated on a thin film of aluminum or an aluminum alloy. Examples of foreign elements contained in the aluminum alloy include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, and titanium. The content of foreign elements in the alloy is preferably 10% by mass or less. In the present invention, a pure aluminum plate is preferable, but completely pure aluminum is difficult to manufacture in terms of refining technology.
It may contain a slightly different element. The composition of the aluminum plate is not specified, and a publicly known material can be used as appropriate.

支持体の厚さは0.1〜0.6mmであるのが好ましく、0.15〜0.4mmであるのがより好ましく、0.2〜0.3mmであるのが更に好ましい。   The thickness of the support is preferably from 0.1 to 0.6 mm, more preferably from 0.15 to 0.4 mm, and even more preferably from 0.2 to 0.3 mm.

アルミニウム板を使用するに先立ち、粗面化処理、陽極酸化処理等の表面処理を施すのが好ましい。表面処理により、親水性の向上および感光層と支持体との密着性の確保が容易になる。アルミニウム板を粗面化処理するに先立ち、所望により、表面の圧延油を除去するための界面活性剤、有機溶剤、アルカリ性水溶液等による脱脂処理が行われる。   Prior to using the aluminum plate, it is preferable to perform a surface treatment such as roughening treatment or anodizing treatment. By the surface treatment, it becomes easy to improve hydrophilicity and secure adhesion between the photosensitive layer and the support. Prior to roughening the aluminum plate, a degreasing treatment with a surfactant, an organic solvent, an alkaline aqueous solution or the like for removing rolling oil on the surface is performed as desired.

アルミニウム板表面の粗面化処理は、種々の方法により行われるが、例えば、機械的粗面化処理、電気化学的粗面化処理(電気化学的に表面を溶解させる粗面化処理)、化学的粗面化処理(化学的に表面を選択溶解させる粗面化処理)が挙げられる。
機械的粗面化処理の方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、バフ研磨法等の公知の方法を用いることができる。
電気化学的粗面化処理の方法としては、例えば、塩酸、硝酸等の酸を含有する電解液中で交流または直流により行う方法が挙げられる。また、特開昭54−63902号公報に記載されているような混合酸を用いる方法も挙げられる。
The surface roughening treatment of the aluminum plate is performed by various methods. For example, mechanical surface roughening treatment, electrochemical surface roughening treatment (surface roughening treatment for dissolving the surface electrochemically), chemical treatment, etc. Surface roughening treatment (roughening treatment that chemically selectively dissolves the surface).
As a method for the mechanical surface roughening treatment, a known method such as a ball polishing method, a brush polishing method, a blast polishing method, or a buff polishing method can be used.
Examples of the electrochemical surface roughening treatment include a method in which an alternating current or a direct current is used in an electrolytic solution containing an acid such as hydrochloric acid or nitric acid. Another example is a method using a mixed acid as described in JP-A-54-63902.

粗面化処理されたアルミニウム板は、必要に応じて、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム等の水溶液を用いてアルカリエッチング処理を施され、更に、中和処理された後、所望により、耐摩耗性を高めるために陽極酸化処理を施される。   The surface-roughened aluminum plate is subjected to an alkali etching treatment using an aqueous solution of potassium hydroxide, sodium hydroxide or the like, if necessary, further neutralized, and if desired, wear resistant. In order to increase the anodic oxidation treatment.

アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられる電解質としては、多孔質酸化皮膜を形成させる種々の電解質の使用が可能である。一般的には、硫酸、塩酸、シュウ酸、クロム酸またはそれらの混酸が用いられる。それらの電解質の濃度は電解質の種類によって適宜決められる。
陽極酸化処理の条件は、用いられる電解質により種々変わるので一概に特定することはできないが、一般的には、電解質濃度1〜80質量%溶液、液温度5〜70℃、電流密度5〜60A/d m2 、電圧1〜100V、電解時間10秒〜5分であるのが好ましい。形成される陽極酸化皮膜の量は、1.0〜5.0g/m2 であるのが好ましく、1.5〜4.0g/m2 であるのがより好ましい。この範囲内で、良好な耐刷性と平版印刷版の非画像部の良好な耐傷性が得られる。
As the electrolyte used for the anodizing treatment of the aluminum plate, various electrolytes that form a porous oxide film can be used. In general, sulfuric acid, hydrochloric acid, oxalic acid, chromic acid or a mixed acid thereof is used. The concentration of these electrolytes is appropriately determined depending on the type of electrolyte.
The conditions for anodizing treatment vary depending on the electrolyte used, and thus cannot be specified in general. In general, however, an electrolyte concentration of 1 to 80% by mass solution, a liquid temperature of 5 to 70 ° C., a current density of 5 to 60 A / d m 2 , voltage 1 to 100 V, and electrolysis time 10 seconds to 5 minutes are preferable. The amount of the anodized film formed is preferably from 1.0 to 5.0 g / m 2, and more preferably 1.5 to 4.0 g / m 2. Within this range, good printing durability and good scratch resistance of the non-image area of the lithographic printing plate can be obtained.

本発明で用いられる支持体としては、上記のような表面処理をされ陽極酸化皮膜を有する基板そのままでもよいが、上層との接着性、親水性、汚れ難さ、断熱性などの一層改良のため、必要に応じて、特開2001−253181号や特開2001−322365号の公報に記載されている陽極酸化皮膜のマイクロポアの拡大処理、マイクロポアの封孔処理、および親水性化合物を含有する水溶液に浸漬する表面親水化処理などを適宜選択して行うことができる。もちろんこれら拡大処理、封孔処理は、これらに記載のものに限られたものではなく従来公知の何れも方法も行うことができる。   As the support used in the present invention, the substrate having the above-mentioned surface treatment and having an anodized film may be used as it is, but for further improvement in adhesion to the upper layer, hydrophilicity, resistance to contamination, heat insulation and the like. If necessary, it contains a micropore enlargement treatment, a micropore sealing treatment, and a hydrophilic compound described in Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 2001-253181 and 2001-322365. A surface hydrophilization treatment immersed in an aqueous solution can be selected as appropriate. Of course, these enlargement processing and sealing processing are not limited to those described above, and any conventionally known method can be performed.

封孔処理としては、蒸気封孔のほかフッ化ジルコン酸の単独処理、フッ化ナトリウムによる処理など無機フッ素化合物を含有する水溶液による封孔処理、塩化リチウムを添加した蒸気封孔、熱水による封孔処理でも可能である。
なかでも、無機フッ素化合物を含有する水溶液による封孔処理、水蒸気による封孔処理および熱水による封孔処理が好ましい。
Sealing treatment includes vapor sealing, single treatment with zirconic fluoride, treatment with an aqueous solution containing an inorganic fluorine compound such as treatment with sodium fluoride, vapor sealing with addition of lithium chloride, sealing with hot water. Hole processing is also possible.
Of these, sealing treatment with an aqueous solution containing an inorganic fluorine compound, sealing treatment with water vapor, and sealing treatment with hot water are preferable.

親水化処理としては、米国特許第2,714,066号、同第3,181,461号、
同第3,280,734号および同第3,902,734号の明細書に記載されているようなアルカリ金属シリケート法がある。この方法においては、支持体をケイ酸ナトリウム等の水溶液で浸漬処理し、または電解処理する。そのほかに、特公昭36−22063号公報に記載されているフッ化ジルコン酸カリウムで処理する方法、米国特許第3,276,868号、同第4,153,461号および同第4,689,272号の明細書に記載されているようなポリビニルホスホン酸で処理する方法等が挙げられる。
As hydrophilization treatment, U.S. Pat. Nos. 2,714,066, 3,181,461,
There are alkali metal silicate methods as described in the specifications of US Pat. Nos. 3,280,734 and 3,902,734. In this method, the support is immersed in an aqueous solution such as sodium silicate or electrolytically treated. In addition, the treatment with potassium zirconate fluoride described in JP-B 36-22063, U.S. Pat. Nos. 3,276,868, 4,153,461 and 4,689, And a method of treating with polyvinylphosphonic acid as described in the specification of No. 272.

本発明の支持体としてポリエステルフィルムなど表面の親水性が不十分な支持体を用いる場合は、親水層を塗布して表面を親水性にすることが望ましい。親水層としては、特開2001−199175号公報に記載の、ベリリウム、マグネシウム、アルミニウム、珪素、チタン、硼素、ゲルマニウム、スズ、ジルコニウム、鉄、バナジウム、アンチモンおよび遷移金属から選択される少なくとも一つの元素の酸化物または水酸化物のコロイドを含有する塗布液を塗布してなる親水層や、特開2002−79772号公報に記載の、有機親水性ポリマーを架橋あるいは疑似架橋することにより得られる有機親水性マトリックスを有する親水層や、ポリアルコキシシラン、チタネート、ジルコネートまたはアルミネートの加水分解、縮合反応からなるゾル−ゲル変換により得られる無機親水性マトリックスを有する親水層、あるいは、金属酸化物を含有する表面を有する無機薄膜からなる親水層が好ましい。中でも、珪素の酸化物または水酸化物のコロイドを含有する塗布液を塗布してなる親水層が好ましい。   When using a support with insufficient surface hydrophilicity such as a polyester film as the support of the present invention, it is desirable to apply a hydrophilic layer to make the surface hydrophilic. As the hydrophilic layer, at least one element selected from beryllium, magnesium, aluminum, silicon, titanium, boron, germanium, tin, zirconium, iron, vanadium, antimony, and a transition metal described in JP-A-2001-199175 A hydrophilic layer formed by coating a coating solution containing a colloid of oxide or hydroxide, or organic hydrophilicity obtained by crosslinking or pseudo-crosslinking an organic hydrophilic polymer described in JP-A-2002-79772 A hydrophilic layer having a hydrophilic matrix, a hydrophilic layer having an inorganic hydrophilic matrix obtained by sol-gel conversion comprising hydrolysis, condensation reaction of polyalkoxysilane, titanate, zirconate or aluminate, or a metal oxide A hydrophilic layer made of an inorganic thin film having a surface is preferred. Arbitrariness. Among these, a hydrophilic layer formed by applying a coating solution containing a silicon oxide or a hydroxide colloid is preferable.

また、本発明の支持体としてポリエステルフィルム等を用いる場合には、支持体の親水性層側または反対側、あるいは両側に、帯電防止層を設けるのが好ましい。帯電防止層を支持体と親水性層との間に設けた場合には、親水性層との密着性向上にも寄与する。帯電防止層としては、特開2002−79772号公報に記載の、金属酸化物微粒子やマット剤を分散したポリマー層等が使用できる。   Moreover, when using a polyester film etc. as a support body of this invention, it is preferable to provide an antistatic layer in the hydrophilic layer side of a support body, the opposite side, or both sides. In the case where the antistatic layer is provided between the support and the hydrophilic layer, it also contributes to improving the adhesion with the hydrophilic layer. As the antistatic layer, a polymer layer in which metal oxide fine particles or a matting agent are dispersed as described in JP-A-2002-79772 can be used.

支持体は、中心線平均粗さが0.10〜1.2μmであるのが好ましい。この範囲内で、感光層との良好な密着性、良好な耐刷性と良好な汚れ難さが得られる。
また、支持体の色濃度としては、反射濃度値として0.15〜0.65であるのが好ましい。この範囲内で、画像露光時のハレーション防止による良好な画像形成性と現像後の良好な検版性が得られる。
The support preferably has a center line average roughness of 0.10 to 1.2 μm. Within this range, good adhesion with the photosensitive layer, good printing durability and good stain resistance can be obtained.
The color density of the support is preferably 0.15 to 0.65 as the reflection density value. Within this range, good image formability by preventing halation during image exposure and good plate inspection after development can be obtained.

(下塗り層)
本発明の平版印刷方法に用いられる本発明の平版印刷版原版においては、必要に応じて、感光層と支持体との間に下塗り層を設けることができる。下塗り層が断熱層として機能することにより、赤外レーザーによる露光により発生した熱が支持体に拡散せず、効率よく利用されるようになるため、高感度化が図れるという利点がある。また、未露光部においては、感光層の支持体からの剥離を生じやすくさせるため、機上現像性が向上する。
下塗り層としては、具体的には、特開平10−282679号公報に記載されている付加重合可能なエチレン性二重結合反応基を有しているシランカップリング剤、特開平2−304441号公報記載のエチレン性二重結合反応基を有しているリン化合物等が好適に挙げられる。
最も好ましい下塗り層としては、吸着性基を有するモノマー/親水性基を有するモノマー/架橋性基を有するモノマーを共重合した高分子樹脂が挙げられる。
(Undercoat layer)
In the planographic printing plate precursor of the invention used in the planographic printing method of the invention, an undercoat layer can be provided between the photosensitive layer and the support, if necessary. Since the undercoat layer functions as a heat insulating layer, heat generated by exposure with an infrared laser does not diffuse to the support and can be used efficiently, so that there is an advantage that high sensitivity can be achieved. In the unexposed area, the on-press developability is improved because the photosensitive layer is easily peeled off from the support.
As the undercoat layer, specifically, a silane coupling agent having an addition-polymerizable ethylenic double bond reactive group described in JP-A-10-282679, JP-A-2-304441. The phosphorus compound etc. which have the ethylenic double bond reactive group of description are mentioned suitably.
The most preferable undercoat layer includes a polymer resin obtained by copolymerization of a monomer having an adsorptive group / a monomer having a hydrophilic group / a monomer having a crosslinkable group.

高分子下塗りの必須成分は、親水性支持体表面への吸着性基である。親水性支持体表面への吸着性の有無に関しては、例えば以下のような方法で判断できる。
試験化合物を易溶性の溶媒に溶解させた塗布夜を作製し、その塗布夜を乾燥後の塗布量が30mg/m2となるように支持体上に塗布・乾燥させる。次に試験化合物を塗布した
支持体を、易溶性溶媒を用いて十分に洗浄した後、洗浄除去されなかった試験化合物の残
存量を測定して支持体吸着量を算出する。ここで残存量の測定は、残存化合物量を直接定量してもよいし、洗浄液中に溶解した試験化合物量を定量して算出してもよい。化合物の定量は、例えば蛍光X線測定、反射分光吸光度測定、液体クロマトグラフィー測定などで実施できる。支持体吸着性がある化合物は、上記のような洗浄処理を行っても1mg/m2以上残存する化合物である。
An essential component of the polymer undercoat is an adsorptive group on the surface of the hydrophilic support. The presence or absence of adsorptivity on the surface of the hydrophilic support can be determined by the following method, for example.
A coating night is prepared by dissolving the test compound in a readily soluble solvent, and the coating night is coated and dried on the support so that the coating amount after drying is 30 mg / m 2 . Next, the support coated with the test compound is sufficiently washed with a readily soluble solvent, and then the residual amount of the test compound that has not been removed by washing is measured to calculate the adsorbed amount of the support. Here, the measurement of the remaining amount may be performed by directly quantifying the amount of the remaining compound or by quantifying the amount of the test compound dissolved in the cleaning liquid. The compound can be quantified by, for example, fluorescent X-ray measurement, reflection spectral absorbance measurement, liquid chromatography measurement and the like. The compound having support adsorptivity is a compound that remains at 1 mg / m 2 or more even after the above-described washing treatment.

親水性支持体表面への吸着性基は、親水性支持体表面に存在する物質(例えば、金属、金属酸化物)あるいは官能基(例えば、水酸基)と、化学結合(例えば、イオン結合、水素
結合、配位結合、分子間力による結合)を引き起こすことができる官能基である。吸着性
基は、酸基またはカチオン性基が好ましい。
酸基は、酸解離定数(pKa)が7以下であることが好ましい。酸基の例は、フェノール性水酸基、カルボキシル基、−SOH、−OSOH、−PO、−OPO、−CONHSO−、−SONHSO−および−COCHCOCHを含む。リン酸基(−OPO、―PO)が特に好ましい。またこれら酸基は、金属塩であっても構わない。
カチオン性基は、オニウム基であることが好ましい。オニウム基の例は、アンモニウム基、ホスホニウム基、アルソニウム基、スチボニウム基、オキソニウム基、スルホニウム基、セレノニウム基、スタンノニウム基、ヨードニウム基を含む。アンモニウム基、ホスホニウム基およびスルホニウム基が好ましく、アンモニウム基およびホスホニウム基がさらに好ましく、アンモニウム基が最も好ましい。
The adsorptive group on the surface of the hydrophilic support is a substance (for example, metal, metal oxide) or a functional group (for example, hydroxyl group) existing on the surface of the hydrophilic support and a chemical bond (for example, ionic bond, hydrogen bond). , Coordination bond, bond by intermolecular force). The adsorptive group is preferably an acid group or a cationic group.
The acid group preferably has an acid dissociation constant (pKa) of 7 or less. Examples of the acid group include a phenolic hydroxyl group, a carboxyl group, -SO 3 H, -OSO 3 H , -PO 3 H 2, -OPO 3 H 2, -CONHSO 2 -, - SO 2 NHSO 2 - and -COCH 2 COCH 3 is included. Particularly preferred are phosphoric acid groups (—OPO 3 H 2 , —PO 3 H 2 ). These acid groups may be metal salts.
The cationic group is preferably an onium group. Examples of the onium group include an ammonium group, a phosphonium group, an arsonium group, a stibonium group, an oxonium group, a sulfonium group, a selenonium group, a stannonium group, and an iodonium group. An ammonium group, a phosphonium group and a sulfonium group are preferred, an ammonium group and a phosphonium group are more preferred, and an ammonium group is most preferred.

吸着性基を有するモノマーの特に好ましい例としては、下記式(VII)または(VIII)
で表される化合物が挙げられる。
Particularly preferred examples of the monomer having an adsorptive group include the following formula (VII) or (VIII)
The compound represented by these is mentioned.

式(VII)において、R、RおよびRは、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン
原子または炭素原子数が1乃至6のアルキル基である。R、RおよびRは、それぞれ独立に、水素原子または炭素原子数が1乃至6のアルキル基であることが好ましく、水
素原子または炭素原子数が1乃至3のアルキル基であることがさらに好ましく、水素原子
またはメチル基であることが最も好ましい。RおよびRは、水素原子であることが特に好ましい。
式(VII)において、Xは、酸素原子(−O−)またはイミノ(−NH−)である。X
は、酸素原子であることがさらに好ましい。式(VII)において、Lは、2価の連結基で
ある。Lは、2価の脂肪族基(アルキレン基、置換アルキレン基、アルケニレン基、置換
アルケニレン基、アルキニレン基、置換アルキニレン基)、2価の芳香族基(アリレン基、置換アリレン基)または2価の複素環基であるか、あるいはそれらと、酸素原子(−O−)、硫黄原子(―S―)、イミノ(−NH−)、置換イミノ(−NR−、Rは脂肪族基、芳香族基または複素環基)またはカルボニル(−CO−)との組み合わせであることが好ましい。
In the formula (VII), R 1 , R 2 and R 3 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. R 1 , R 2 and R 3 are each independently preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms. More preferred is a hydrogen atom or a methyl group. R 2 and R 3 are particularly preferably a hydrogen atom.
In the formula (VII), X is an oxygen atom (—O—) or imino (—NH—). X
Is more preferably an oxygen atom. In the formula (VII), L is a divalent linking group. L is a divalent aliphatic group (alkylene group, substituted alkylene group, alkenylene group, substituted alkenylene group, alkynylene group, substituted alkynylene group), divalent aromatic group (arylene group, substituted arylene group) or divalent Or an oxygen atom (—O—), a sulfur atom (—S—), an imino (—NH—), a substituted imino (—NR—, where R is an aliphatic group, an aromatic group. Or a combination with a heterocyclic group) or carbonyl (—CO—).

脂肪族基は、環状構造または分岐構造を有していてもよい。脂肪族基の炭素原子数は、1乃至20が好ましく、1乃至15がさらに好ましく、1乃至10が最も好ましい。脂肪
族基は、不飽和脂肪族基よりも飽和脂肪族基の方が好ましい。脂肪族基は、置換基を有していてもよい。置換基の例は、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、芳香族基および複素環基を含む。
芳香族基の炭素原子数は、6乃至20が好ましく、6乃至15がさらに好ましく、6乃至10が最も好ましい。芳香族基は、置換基を有していてもよい。置換基の例は、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、脂肪族基、芳香族基および複素環基を含む。
複素環基は、複素環として5員環または6員環を有することが好ましい。複素環に他の複素環、脂肪族環または芳香族環が縮合していてもよい。複素環基は、置換基を有していてもよい。置換基の例は、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、オキソ基(=O)、チオキソ基(=S)、イミノ基(=NH)、置換イミノ基(=N−R、Rは脂肪族基、芳香族基または複素環基)、脂肪族基、芳香族基および複素環基を含む。
Lは、複数のポリオキシアルキレン構造を含む二価の連結基であることが好ましい。ポリオキシアルキレン構造は、ポリオキシエチレン構造であることがさらに好ましい。言い換えると、Lは、−(OCHCH)−(nは2以上の整数)を含むことが好ましい。
式(VII)において、Zは、親水性支持体表面に吸着する官能基である。また、Yは、
炭素原子または窒素原子である。Y=窒素原子でY上にLが連結し四級ピリジニウム基になった場合、それ自体が吸着性を示すことからZは必須ではない。吸着性の官能基については、前述した通りである。
以下に、式(VII)または(VIII)で表される代表的なモノマーの例を示す。
The aliphatic group may have a cyclic structure or a branched structure. The number of carbon atoms in the aliphatic group is preferably 1 to 20, more preferably 1 to 15, and most preferably 1 to 10. The aliphatic group is preferably a saturated aliphatic group rather than an unsaturated aliphatic group. The aliphatic group may have a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom, a hydroxyl group, an aromatic group, and a heterocyclic group.
The number of carbon atoms in the aromatic group is preferably 6 to 20, more preferably 6 to 15, and most preferably 6 to 10. The aromatic group may have a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom, a hydroxyl group, an aliphatic group, an aromatic group, and a heterocyclic group.
The heterocyclic group preferably has a 5-membered or 6-membered ring as the heterocycle. The heterocycle may be condensed with another heterocycle, aliphatic ring or aromatic ring. The heterocyclic group may have a substituent. Examples of substituents include halogen atoms, hydroxyl groups, oxo groups (═O), thioxo groups (═S), imino groups (═NH), substituted imino groups (═N—R, R is an aliphatic group, aromatic Group or heterocyclic group), aliphatic group, aromatic group and heterocyclic group.
L is preferably a divalent linking group containing a plurality of polyoxyalkylene structures. The polyoxyalkylene structure is more preferably a polyoxyethylene structure. In other words, L preferably contains — (OCH 2 CH 2 ) n — (n is an integer of 2 or more).
In the formula (VII), Z is a functional group that adsorbs to the surface of the hydrophilic support. Y is
A carbon atom or a nitrogen atom. When Y is a nitrogen atom and L is connected to Y to form a quaternary pyridinium group, Z is not essential because it exhibits adsorptivity itself. The adsorptive functional group is as described above.
Examples of typical monomers represented by formula (VII) or (VIII) are shown below.

本発明に用いることができる下塗り用高分子樹脂の親水性基としては、例えば、ヒドロキシ基、カルボキシル基、カルボキシレート基、ヒドロキシエチル基、ポリオキシエチル基、ヒドロキシプロピル基、ポリオキシプロピル基、アミノ基、アミノエチル基、アミノプロピル基、アンモニウム基、アミド基、カルボキシメチル基、スルホン酸基、リン酸基等が好適に挙げられる。これらの親水性基と重合性基を有するモノマーが上記高分子樹脂の共重合成分として用いられる。   Examples of the hydrophilic group of the undercoat polymer resin that can be used in the present invention include a hydroxy group, a carboxyl group, a carboxylate group, a hydroxyethyl group, a polyoxyethyl group, a hydroxypropyl group, a polyoxypropyl group, and an amino group. Preferred examples include a group, an aminoethyl group, an aminopropyl group, an ammonium group, an amide group, a carboxymethyl group, a sulfonic acid group, and a phosphoric acid group. A monomer having these hydrophilic group and polymerizable group is used as a copolymerization component of the polymer resin.

本発明で用いられる下塗り用高分子樹脂は、架橋性基を有すことが好ましい。架橋性基によって画像部との密着の向上が得られる。下塗り用高分子樹脂に架橋性を持たせるためには、エチレン性不飽和結合等の架橋性官能基を高分子の側鎖中に導入したり、高分子樹脂の極性置換基と対荷電を有する置換基とエチレン性不飽和結合を有する化合物で塩構造を形成させたりして導入することができる。   The undercoat polymer resin used in the present invention preferably has a crosslinkable group. The crosslinkable group can improve the adhesion with the image area. In order to impart crosslinkability to the polymer resin for the undercoat, a crosslinkable functional group such as an ethylenically unsaturated bond is introduced into the side chain of the polymer or has a counter charge with the polar substituent of the polymer resin. It can be introduced by forming a salt structure with a compound having a substituent and an ethylenically unsaturated bond.

分子の側鎖中にエチレン性不飽和結合を有するポリマーの例としては、アクリル酸また
はメタクリル酸のエステルまたはアミドのポリマーであって、エステルまたはアミドの残基(−COORまたは−CONHRのR)がエチレン性不飽和結合を有するポリマーを挙げることができる。
Examples of polymers having an ethylenically unsaturated bond in the side chain of the molecule are polymers of esters or amides of acrylic acid or methacrylic acid where the ester or amide residue (R of -COOR or -CONHR) is A polymer having an ethylenically unsaturated bond can be mentioned.

エチレン性不飽和結合を有する残基(上記R)の例としては、−(CH)CR=CR、−(CHO)CHCR=CR、−(CHCHO)CHCR=CR、−(CH)NH−CO−O−CHCR=CR、−(CH)−O−CO−CR=CR、および−(CHCHO)−X(式中、R〜Rはそれぞれ、水素原子、ハロゲン原子または炭素数1〜20のアルキル基、アリール基、アルコキシ基もしくはアリールオキシ基を表し、RとRまたはRとは互いに結合して環を形成してもよい。nは、1〜10の整数を表す。Xは、ジシクロペンタジエニル残
基を表す。)を挙げることができる。
エステル残基の具体例としては、−CHCH=CH(特公平7−21633号公報に記載されている。)、−CHCHO−CHCH=CH、−CHC(CH)=CH、−CHCH=CH−C、−CHCHOCOCH=CH−C、−CHCHNHCOO−CHCH=CH、および−CHCHO−X(式中、Xはジシクロペンタジエニル残基を表す。)が挙げられる。
アミド残基の具体例としては、−CHCH=CH、−CHCHO−Y(式中、Yはシクロヘキセン残基を表す。)、−CHCHOCO−CH=CHが挙げられる。
下塗り用高分子樹脂の架橋性基を有するモノマーとしては、上記架橋性基を有するアクリル酸またはメタクリル酸のエステルまたはアミドが好適である。
Examples of the residue (the R) having an ethylenically unsaturated bond, - (CH 2) n CR 1 = CR 2 R 3, - (CH 2 O) n CH 2 CR 1 = CR 2 R 3, - (CH 2 CH 2 O) n CH 2 CR 1 = CR 2 R 3, - (CH 2) n NH-CO-O-CH 2 CR 1 = CR 2 R 3, - (CH 2) n -O-CO —CR 1 ═CR 2 R 3 and — (CH 2 CH 2 O) 2 —X (wherein R 1 to R 3 are each a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or an aryl group. Represents an alkoxy group or an aryloxy group, and R 1 and R 2 or R 3 may be bonded to each other to form a ring, n represents an integer of 1 to 10. X represents dicyclopentadi An enyl residue).
Specific examples of the ester residue include —CH 2 CH═CH 2 (described in JP-B-7-21633), —CH 2 CH 2 O—CH 2 CH═CH 2 , —CH 2 C. (CH 3) = CH 2, -CH 2 CH = CH-C 6 H 5, -CH 2 CH 2 OCOCH = CH-C 6 H 5, -CH 2 CH 2 NHCOO-CH 2 CH = CH 2, and - CH 2 CH 2 O—X (wherein X represents a dicyclopentadienyl residue).
Specific examples of the amide residue include —CH 2 CH═CH 2 , —CH 2 CH 2 O—Y (wherein Y represents a cyclohexene residue), —CH 2 CH 2 OCO—CH═CH 2. Is mentioned.
As the monomer having a crosslinkable group of the polymer resin for undercoating, an ester or amide of acrylic acid or methacrylic acid having the crosslinkable group is preferable.

下塗り用高分子樹脂中の架橋性基の含有量(ヨウ素滴定によるラジカル重合可能な不飽和二重結合の含有量)は、高分子樹脂1g当たり、好ましくは0.1〜10.0mmol、より好ましくは1.0〜7.0mmol、最も好ましくは2.0〜5.5mmolである。この範囲で、良好な感度と汚れ性の両立、および良好な保存安定性が得られる。   The content of the crosslinkable group in the polymer resin for undercoat (content of unsaturated double bond capable of radical polymerization by iodine titration) is preferably 0.1 to 10.0 mmol, more preferably 1 g per 1 g of the polymer resin. Is 1.0 to 7.0 mmol, most preferably 2.0 to 5.5 mmol. Within this range, both good sensitivity and dirtiness and good storage stability can be obtained.

下塗り用の高分子樹脂は、質量平均分子量が5000以上であるのが好ましく、1万〜
30万であるのがより好ましく、また、数平均分子量が1000以上であるのが好ましく、2000〜25万であるのがより好ましい。多分散度(質量平均分子量/数平均分子量)は、1.1〜10であるのが好ましい。
下塗り用の高分子樹脂は、ランダムポリマー、ブロックポリマー、グラフトポリマー等のいずれでもよいが、ランダムポリマーであるのが好ましい。
The polymer resin for the undercoat preferably has a mass average molecular weight of 5000 or more, and is 10,000 to
The number average molecular weight is preferably 1000 or more, more preferably 2000 to 250,000, more preferably 300,000. The polydispersity (mass average molecular weight / number average molecular weight) is preferably 1.1 to 10.
The undercoat polymer resin may be any of a random polymer, a block polymer, a graft polymer, and the like, but is preferably a random polymer.

本発明の下塗り用高分子樹脂としては、親水性基を有する公知の樹脂を用いることもできる。そのような樹脂の具体例として、アラビアゴム、カゼイン、ゼラチン、デンプン誘導体、カルボキシメチルセルロースおよびそのナトリウム塩、セルロースアセテート、アルギン酸ナトリウム、酢酸ビニルマレイン酸コポリマー類、スチレンーマレイン酸コポリマー類、ポリアクリル酸類およびそれらの塩、ポリメタクリル酸類およびそれらの塩、ヒドロキシエチルメタクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシエチルアクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシプロピルメタクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシプロピルアクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシブチルメタクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシブチルアクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ポリエチレングリコール類、ヒドロキシプロピレンポリマー類、ポリビニルアルコール類、加水分解度が60モル%以上、好ましくは80モル%以上である加水分解ポリビニルアセテート、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール、ポリビニルピロリドン、アクリルアミドのホモポリマーおよびコポリマー、メタクリルアミドのホモポリマーおよびポリマー、N−メチロールアクリルアミドのホモポリマーおよびコポリマー、ポリビニルピロリドン、アルコール可溶性ナイロ
ン、2,2−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−プロパンとエピクロロヒドリンとのポリエーテル等が挙げられる。
As the undercoat polymer resin of the present invention, a known resin having a hydrophilic group can be used. Specific examples of such resins include gum arabic, casein, gelatin, starch derivatives, carboxymethylcellulose and its sodium salt, cellulose acetate, sodium alginate, vinyl maleic acid copolymers, styrene-maleic acid copolymers, polyacrylic acids and Salts thereof, polymethacrylic acids and their salts, homopolymers and copolymers of hydroxyethyl methacrylate, homopolymers and copolymers of hydroxyethyl acrylate, homopolymers and copolymers of hydroxypropyl methacrylate, homopolymers and copolymers of hydroxypropyl acrylate, hydroxybutyl Homopolymers and copolymers of methacrylates, homopolymers of hydroxybutyl acrylate Copolymers, polyethylene glycols, hydroxypropylene polymers, polyvinyl alcohols, hydrolyzed polyvinyl acetate, polyvinyl formal, polyvinyl butyral, polyvinyl pyrrolidone, acrylamide homopolymers having a hydrolysis degree of 60 mol% or more, preferably 80 mol% or more. Polymers and copolymers, homopolymers and polymers of methacrylamide, homopolymers and copolymers of N-methylolacrylamide, polyvinylpyrrolidone, alcohol-soluble nylon, 2,2-bis- (4-hydroxyphenyl) -propane and epichlorohydrin A polyether etc. are mentioned.

下塗り用高分子樹脂は単独で用いても2種以上を混合して用いてもよい。
下塗り層の塗布量(固形分)は、0.1〜100mg/mであるのが好ましく、1〜30mg/mであるのがより好ましい。
The undercoat polymer resin may be used alone or in combination of two or more.
The coating amount (solid content) of the undercoat layer is preferably from 0.1-100 mg / m 2, and more preferably 1 to 30 mg / m 2.

(バックコート層)
支持体に表面処理を施した後または下塗り層を形成させた後、必要に応じて、支持体の裏面にバックコートを設けることができる。
バックコートとしては、例えば、特開平5−45885号公報に記載されている有機高分子化合物、特開平6−35174号公報に記載されている有機金属化合物または無機金属化合物を加水分解および重縮合させて得られる金属酸化物からなる被覆層が好適に挙げられる。中でも、Si(OCH3 4 、Si(OC2 5 4 、Si(OC3 7 4 、Si(OC4 9 4 等のケイ素のアルコキシ化合物を用いるのが、原料が安価で入手しやすい点で好ましい。
(Back coat layer)
After the surface treatment is performed on the support or after the undercoat layer is formed, a back coat can be provided on the back surface of the support, if necessary.
Examples of the back coat include hydrolysis and polycondensation of organic polymer compounds described in JP-A-5-45885, organometallic compounds or inorganic metal compounds described in JP-A-6-35174. A coating layer made of a metal oxide obtained in this manner is preferred. Among them, it is inexpensive to use a silicon alkoxy compound such as Si (OCH 3 ) 4 , Si (OC 2 H 5 ) 4 , Si (OC 3 H 7 ) 4 , Si (OC 4 H 9 ) 4. It is preferable in terms of easy availability.

〔製版方法〕
本発明における平版印刷版原版を、350nm〜450nmの光源で画像露光した後、自動現像機により、pHが2〜10の現像液の存在下、擦り部材で版面を擦ることにより、保護層および非露光部の感光層を一括除去し、アルミニウム板支持体表面に画像を形成することができる。
すなわち、保護層および非露光部の感光層を一括除去した後、直ちに印刷機にセットして印刷することができる。
また、このような自動現像機での処理は、機上現像の場合に生ずる保護層/感光層の由来の現像カスへの対応から開放されるという優位性がある。
[Plate making method]
The lithographic printing plate precursor in the present invention is image-exposed with a light source of 350 nm to 450 nm, and then rubbed on the plate surface with a rubbing member in the presence of a developer having a pH of 2 to 10 by an automatic developing machine. The photosensitive layer in the exposed area can be removed at once to form an image on the surface of the aluminum plate support.
That is, after removing the protective layer and the non-exposed portion of the photosensitive layer at once, it can be set on a printing machine and printed immediately.
In addition, such processing in an automatic developing machine has an advantage that it is free from dealing with the development residue derived from the protective layer / photosensitive layer that occurs in the case of on-press development.

本発明において用いられる現像液は、pHが2〜10の水溶液である。例えば、水単独または水を主成分(水を60質量%以上含有)とする水溶液が好ましく、特に、一般的に公知な湿し水と同様組成の水溶液、界面活性剤(アニオン系、ノニオン系、カチオン系等)を含有する水溶液や、水溶性高分子化合物を含有する水溶液が好ましい。特に、界面活性剤と水溶性高分子化合物の両方を含有する水溶液が好ましい。該現像液のpHは、より好ましくは3〜8、さらに好ましくは4〜7である。   The developer used in the present invention is an aqueous solution having a pH of 2 to 10. For example, water alone or an aqueous solution containing water as a main component (containing 60% by mass or more of water) is preferable. In particular, an aqueous solution having the same composition as that of a generally known fountain solution, a surfactant (anionic, nonionic, An aqueous solution containing a cationic system or the like, or an aqueous solution containing a water-soluble polymer compound is preferable. In particular, an aqueous solution containing both a surfactant and a water-soluble polymer compound is preferable. The pH of the developer is more preferably 3-8, and even more preferably 4-7.

現像液中での界面活性剤の濃度は、一般的に1質量%以上、好ましくは2質量%以上、より好ましくは5〜20質量%である。
本発明に用いられるアニオン系界面活性剤としては、脂肪酸塩類、アビエチン酸塩類、ヒドロキシアルカンスルホン酸塩類、アルカンスルホン酸塩類、ジアルキルスルホコハク酸塩類、直鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、分岐鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、アルキルフェノキシポリオキシエチレンプロピルスルホン酸塩類、ポリオキシエチレンアルキルスルホフェニルエーテル塩類、N−メチル−N−オレイルタウリンナトリウム類、N−アルキルスルホコハク酸モノアミド二ナトリウム塩類、石油スルホン酸塩類、硫酸化ヒマシ油、硫酸化牛脂油、脂肪酸アルキルエステルの硫酸エステル塩類、アルキル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩類、脂肪酸モノグリセリド硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、アルキル燐酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル燐酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル燐酸エステル塩類、スチレン−無水マレイン酸共重合物の部分ケン化物類、オレフィン−無水マレイン酸共重合物の部分ケン化物類、ナフタレンスルホン酸塩ホルマリン縮合物類等が挙げられる。これらの中でもジアルキルスルホコハク酸塩類、アルキル硫酸エステル塩類およびアルキルナフタレンスルホン酸塩類が特に好ましく用いられる。
The concentration of the surfactant in the developer is generally 1% by mass or more, preferably 2% by mass or more, and more preferably 5 to 20% by mass.
Examples of the anionic surfactant used in the present invention include fatty acid salts, abietic acid salts, hydroxyalkane sulfonic acid salts, alkane sulfonic acid salts, dialkyl sulfosuccinic acid salts, linear alkyl benzene sulfonic acid salts, branched alkyl benzene sulfonic acid salts, Alkylnaphthalene sulfonates, alkylphenoxy polyoxyethylene propyl sulfonates, polyoxyethylene alkyl sulfophenyl ether salts, N-methyl-N-oleyl taurine sodium, N-alkyl sulfosuccinic acid monoamide disodium salts, petroleum sulfonates , Sulfated castor oil, sulfated beef tallow oil, fatty acid alkyl ester sulfates, alkyl sulfates, polyoxyethylene alkyl ether sulfates, fatty acid compounds Glyceryl sulfate ester salt, polyoxyethylene alkylphenyl ether sulfate ester salt, polyoxyethylene styryl phenyl ether sulfate ester salt, alkyl phosphate ester salt, polyoxyethylene alkyl ether phosphate ester salt, polyoxyethylene alkylphenyl ether phosphate ester salt, styrene -Partial saponifications of maleic anhydride copolymer, partial saponifications of olefin-maleic anhydride copolymer, naphthalene sulfonate formalin condensate and the like. Among these, dialkyl sulfosuccinates, alkyl sulfate esters and alkyl naphthalene sulfonates are particularly preferably used.

本発明に用いられるカチオン系界面活性剤としては、特に限定されず、従来公知のものを用いることができる。例えば、アルキルアミン塩類、第四級アンモニウム塩類、ポリオキシエチレンアルキルアミン塩類、ポリエチレンポリアミン誘導体が挙げられる。   It does not specifically limit as a cationic surfactant used for this invention, A conventionally well-known thing can be used. Examples thereof include alkylamine salts, quaternary ammonium salts, polyoxyethylene alkylamine salts, and polyethylene polyamine derivatives.

本発明に用いられるノニオン系界面活性剤としては、ポリエチレングリコール型の高級アルコールエチレンオキサイド付加物、アルキルフェノールエチレンオキサイド付加物、脂肪酸エチレンオキサイド付加物、多価アルコール脂肪酸エステルエチレンオキサイド付加物、高級アルキルアミンエチレンオキサイド付加物、脂肪酸アミドエチレンオキサイド付加物、油脂のエチレンオキサイド付加物、ポリプロピレングリコールエチレンオキサイド付加物、ジメチルシロキサン−エチレンオキサイドブロックコポリマー、ジメチルシロキサン−(プロピレンオキサイド−エチレンオキサイド)ブロックコポリマー等や、多価アルコール型のグリセロールの脂肪酸エステル、ペンタエリスリトールの脂肪酸エステル、ソルビトールおよびソルビタンの脂肪酸エステル、ショ糖の脂肪酸エステル、多価アルコールのアルキルエーテル、アルカノールアミン類の脂肪酸アミド等が挙げられる。
これらノニオン性界面活系剤は、単独でも、2種以上を混合して用いても良い。本発明においては、ソルビトールおよび/またはソルビタン脂肪酸エステルのエチレンオキサイド付加物、ポリプロピレングリコールエチレンオキサイド付加物、ジメチルシロキサン−エチレンオキサイドブロックコポリマー、ジメチルシロキサン−(プロピレンオキサイド−エチレンオキサイド)ブロックコポリマー、多価アルコールの脂肪酸エステルがより好ましい。
Nonionic surfactants used in the present invention include polyethylene glycol type higher alcohol ethylene oxide adduct, alkylphenol ethylene oxide adduct, fatty acid ethylene oxide adduct, polyhydric alcohol fatty acid ester ethylene oxide adduct, higher alkylamine ethylene. Oxide adduct, fatty acid amide ethylene oxide adduct, fat and oil ethylene oxide adduct, polypropylene glycol ethylene oxide adduct, dimethylsiloxane-ethylene oxide block copolymer, dimethylsiloxane- (propylene oxide-ethylene oxide) block copolymer, etc. Alcohol-type glycerol fatty acid ester, pentaerythritol fatty acid ester, sorbitol and sorbita Fatty acid esters of fatty acid esters of sucrose, alkyl ethers of polyhydric alcohols, fatty acid amides of alkanolamines.
These nonionic surfactants may be used alone or in admixture of two or more. In the present invention, ethylene oxide adduct of sorbitol and / or sorbitan fatty acid ester, polypropylene glycol ethylene oxide adduct, dimethylsiloxane-ethylene oxide block copolymer, dimethylsiloxane- (propylene oxide-ethylene oxide) block copolymer, polyhydric alcohol Fatty acid esters are more preferred.

また、水に対する安定な溶解性あるいは混濁性の観点から、本発明の現像液に使用するノニオン系界面活性剤としては、HLB(Hydorophile−Lipophile
Balance)値が、6以上であることが好ましく、8以上であることがより好ましい。さらに、現像液中に含有するノニオン性界面活性剤の比率は、0.01〜10質量%が好ましく、0.01〜5質量%がより好ましい。
またアセチレングリコール系とアセチレンアルコール系のオキシエチレン付加物、フッ素系、シリコーン系等の界面活性剤も同様に使用することができる。
本発明の現像液に使用する界面活性剤としては、抑泡性の観点から、ノニオン性界面活性剤が特に好適である。
Further, from the viewpoint of stable solubility or turbidity in water, the nonionic surfactant used in the developer of the present invention is HLB (Hydrophile-Lipophile).
The (Balance) value is preferably 6 or more, and more preferably 8 or more. Furthermore, the ratio of the nonionic surfactant contained in the developer is preferably 0.01 to 10% by mass, and more preferably 0.01 to 5% by mass.
Further, acetylene glycol-based and acetylene alcohol-based oxyethylene adducts, fluorine-based and silicone-based surfactants can also be used in the same manner.
As the surfactant used in the developer of the present invention, a nonionic surfactant is particularly suitable from the viewpoint of foam suppression.

本発明の現像液に使用する界面活性剤としては、アニオン型面活性剤として、下記式(III)〜(VI)のいずれかで表される化合物、窒素原子含有のノニオン型又はカチオン型界面活性剤として、下記式(VII)〜(IX)のいずれかで表される化合物が、特に好適である。
下記式(III)〜(IX)のいずれかで表される界面活性剤は公知の方法で合成することができ、当該界面活性剤の分子量は、一般的に2000以下であり、好ましくは100〜1500である。
As the surfactant used in the developer of the present invention, as an anionic surfactant, a compound represented by any one of the following formulas (III) to (VI), a nitrogen atom-containing nonionic or cationic surfactant As the agent, a compound represented by any one of the following formulas (VII) to (IX) is particularly suitable.
The surfactant represented by any of the following formulas (III) to (IX) can be synthesized by a known method, and the molecular weight of the surfactant is generally 2000 or less, preferably 100 to 1500.

(式中、R〜R10はそれぞれ水素原子またはアルキル基を、lは1〜3の整数を、X及びXはそれぞれスルホン酸塩、硫酸モノエステル塩、カルボン酸塩または燐酸塩を表し、R〜RまたはR〜R10中の炭素数の総和が3以上である。) (Wherein R 1 to R 10 each represent a hydrogen atom or an alkyl group, l represents an integer of 1 to 3, and X 1 and X 2 represent a sulfonate, a monoester sulfate, a carboxylate or a phosphate, respectively. And the total number of carbon atoms in R 1 to R 5 or R 6 to R 10 is 3 or more.)

上記式(III)に該当する化合物において、式中のR〜Rの総炭素数が3以上で効果が見られるが、R〜Rの総炭素数値が大きくなると疎水部分が大きくなり、水系の現像液への溶解が困難となる。この場合は、溶解を助ける有機溶剤等の溶解助剤を水に混合しても、適正混合範囲内で界面活性剤を溶解することはできない。一般的には、R〜Rの炭素の総数は24以下である。より好ましいR〜Rの総炭素数は3〜20である。ここで、上述したR〜Rがアルキル基である場合、その構造は直鎖であってもよく、分枝であっても構わない。
この化合物(界面活性剤)中のR〜Rの炭素の総数は、感光層に用いる材料、とりわけバインダの影響をうける。親水性の高いバインダの場合、R〜Rの炭素の総数は比較的小さくてよいが、用いるバインダの親水度の低いものは、R〜Rの炭素の総数を大きくする必要がある。
更に、上記化合物中Xは、特に、スルホン酸塩、硫酸モノエステル塩、カルボン酸塩、または燐酸塩である。この中で、とりわけ、スルホン酸塩、カルボン酸塩の効果が大きい。これらの塩において、アルカリ金属塩が特に水系溶媒への溶解性が良好であり、好ましい。中でも、ナトリウム塩、カリウム塩が特に好ましい。より具体的に化合物を例示すると、以下のようになる。
以下には、R〜Rが酸素原子を含有しないアルキル基の場合について記載する。
In the compound corresponding to the above formula (III), the effect is seen when the total carbon number of R 1 to R 5 in the formula is 3 or more, but when the total carbon number of R 1 to R 5 is increased, the hydrophobic portion is increased. , It becomes difficult to dissolve in an aqueous developer. In this case, even if a dissolution aid such as an organic solvent that helps dissolution is mixed with water, the surfactant cannot be dissolved within the proper mixing range. Generally, the total number of carbons R 1 to R 5 is 24 or less. More preferably, the total carbon number of R 1 to R 5 is 3 to 20. Here, when R < 1 > -R < 5 > mentioned above is an alkyl group, the structure may be linear and may be branched.
The total number of carbons R 1 to R 5 in this compound (surfactant) is influenced by the material used for the photosensitive layer, particularly the binder. In the case of a binder having high hydrophilicity, the total number of carbons of R 1 to R 5 may be relatively small, but when the binder used has low hydrophilicity, the total number of carbons of R 1 to R 5 needs to be increased. .
Furthermore, X 1 in the above compounds is in particular a sulfonate, a monoester sulfate, a carboxylate or a phosphate. Among these, sulfonate and carboxylate are particularly effective. Among these salts, alkali metal salts are particularly preferable because of their good solubility in aqueous solvents. Of these, sodium salts and potassium salts are particularly preferable. More specific examples of the compound are as follows.
The following describes the case of alkyl groups R 1 to R 5 does not contain oxygen atoms.

一般式(III)について、R〜Rが酸素原子を含有するアルキル基を少なくとも1つ含有する場合、すなわち、−Cm2mOCn-m2(n-m)+1 (n≧2、n≧m≧0)について記載する。
ここで、−Cm2mOCn-m2(n-m)+1以外の置換基はH、もしくはアルキル基であり、R〜Rの炭素数の総和が3以上24以下である。ここで、O原子が入る事で、水系溶媒に溶解し易くなっており、現像液に好ましく用いられる事が多い。
In the general formula (III), when R 1 to R 5 contain at least one alkyl group containing an oxygen atom, that is, —C m H 2m OC nm H 2 (nm) +1 (n ≧ 2, n ≧ m ≧ 0).
Here, -C m H 2m OC nm H 2 (nm) +1 other substituents is H or alkyl group, the total number of the carbon atoms of R 1 to R 5 is 3 or more 24 or less. Here, since O atoms enter, it is easy to dissolve in an aqueous solvent and is often used preferably in a developer.

上記式(IV)に該当する化合物において、式中のR6〜R10の総炭素数が3以上で効果が見られるが、R6〜R10の総炭素数値が大きくなると疎水部分が大きくなり、水系の
現像液への溶解が困難となる。この場合は、溶解を助ける有機溶剤等の溶解助剤を水に混合しても、適正混合範囲内で界面活性剤を溶解することはできない。一般的には、R6〜R10の炭素の総数は24以下である。より好ましいR〜R10の総炭素数は3〜20である。ここで、上述したR〜R10がアルキル基である場合、その構造は直鎖であってもよく、分枝であっても構わない。
この化合物(界面活性剤)中のR6〜R10の炭素の総数は、感光層に用いる材料、とり
わけバインダの影響をうける。親水性の高いバインダの場合、R6〜R10の炭素の総数は
比較的小さくてよいが、用いるバインダの親水度の低いものは、R6〜R10の炭素の総数
を大きくする必要がある。
更に、上記化合物中X2は、スルホン酸塩、硫酸モノエステル塩、カルボン酸塩、また
は燐酸塩である。この中で、とりわけ、スルホン酸塩、カルボン酸塩の効果が大きい。これらの塩において、アルカリ金属塩が特に水系溶媒への溶解性が良好であり、好ましい。中でも、ナトリウム塩、カリウム塩が特に好ましい。
より具体的に化合物を例示すると、以下のようになる。
先ず、R〜R10が酸素原子を含有しないアルキル基の場合について記載する。
In the compound corresponding to the above formula (IV), the effect is seen when the total carbon number of R 6 to R 10 in the formula is 3 or more, but the hydrophobic part increases as the total carbon number of R 6 to R 10 increases. , It becomes difficult to dissolve in an aqueous developer. In this case, even if a dissolution aid such as an organic solvent that helps dissolution is mixed with water, the surfactant cannot be dissolved within the proper mixing range. Generally, the total number of carbons R 6 to R 10 is 24 or less. More preferably, the total carbon number of R 6 to R 10 is 3 to 20. Here, when R < 6 > -R < 10 > mentioned above is an alkyl group, the structure may be linear and may be branched.
The total number of carbons R 6 to R 10 in this compound (surfactant) is affected by the material used for the photosensitive layer, particularly the binder. In the case of a binder having high hydrophilicity, the total number of carbons of R 6 to R 10 may be relatively small, but when the binder used has low hydrophilicity, the total number of carbons of R 6 to R 10 needs to be increased. .
Further, X 2 in the above compound is a sulfonate, a monoester sulfate, a carboxylate, or a phosphate. Among these, sulfonate and carboxylate are particularly effective. Among these salts, alkali metal salts are particularly preferable because of their good solubility in aqueous solvents. Of these, sodium salts and potassium salts are particularly preferable.
More specific examples of the compound are as follows.
First, it describes about the case where R < 6 > -R < 10 > is an alkyl group which does not contain an oxygen atom.

以下には、R〜R10が酸素原子を含有するアルキル基を少なくとも1つ含有する場合、すなわち、−Cm2mOCn-m2(n-m)+1 (n≧2、n≧m≧0)について記載する
。ここで、−Cm2mOCn-m2(n-m)+1以外の置換基はH、もしくはアルキル基であり、炭素数の総和が3以上24以下である。ここで、O原子が入る事で、水系溶媒に溶解し易くなっており、現像液に好ましく用いられる事が多い。
Hereinafter, when R 6 to R 10 contain at least one alkyl group containing an oxygen atom, that is, —C m H 2m OC nm H 2 (nm) +1 (n ≧ 2, n ≧ m ≧ It describes about 0). Here, -C m H 2m OC nm H 2 (nm) +1 other substituents is H or alkyl group, the total number of carbon atoms is 3 or more 24 or less. Here, since O atoms enter, it is easy to dissolve in an aqueous solvent and is often used preferably in a developer.

(式中、R〜R10はそれぞれ水素原子またはアルキル基を、lは1〜3の整数を、X及びXはそれぞれスルホン酸塩、硫酸モノエステル塩、カルボン酸塩または燐酸塩を、Y及びYはそれぞれ−Cn2n−、−Cn-m2(n-m)OCm2m−、−O−(CHCH
O)−、−O−(CHCHCHO)− または−CO−NH−を表し、n≧1、
n≧m≧0であり、R〜RおよびYまたはR〜R10およびY中の炭素数の総和が3以上である。)
(Wherein R 1 to R 10 each represent a hydrogen atom or an alkyl group, l represents an integer of 1 to 3, and X 1 and X 2 represent a sulfonate, a monoester sulfate, a carboxylate or a phosphate, respectively. , Y 1 and Y 2 are —C n H 2n —, —C nm H 2 (nm), OC m H 2m —, —O— (CH 2 CH
2 O) n -, - O- (CH 2 CH 2 CH 2 O) n - or represents -CO-NH-, n ≧ 1,
n ≧ m ≧ 0, and the total number of carbon atoms in R 1 to R 5 and Y 1 or R 6 to R 10 and Y 2 is 3 or more. )

上記式(V)に該当する化合物において、式中のR〜RおよびYの総炭素数が3以上で効果が見られるが、総炭素数値が大きくなると疎水部分が大きくなり、水系の現像液への溶解が困難となる。この場合は、溶解を助ける有機溶剤等の溶解助剤を水に混合しても、適正混合範囲内で界面活性剤を溶解することはできない。一般的には、総炭素数は25以下である。より好ましい総炭素数は4〜20である。ここで、上述したアルキル基の構造は直鎖であってもよく、分枝であっても構わない。
この化合物(界面活性剤)中のR〜RおよびYの炭素の総数は、感光層に用いる材料、とりわけバインダーの影響をうける。親水性の高いバインダーの場合、R〜RおよびYの炭素の総数は比較的小さくてよいが、用いるバインダーの親水度の低いものは、炭素の総数を大きくする必要がある。
更に、上記化合物中Xは、スルホン酸塩、硫酸モノエステル塩、カルボン酸塩、または燐酸塩である。この中で、とりわけ、スルホン酸塩、カルボン酸塩の効果が大きい。これらの塩において、アルカリ金属塩が特に水系溶媒への溶解性が良好であり、好ましい。中でも、ナトリウム塩、カリウム塩が特に好ましい。より具体的に化合物を例示すると、以下のようになる。
以下には、Yが酸素原子を含有しないアルキル基の場合について記載する。
In the compound corresponding to the above formula (V), the effect can be seen when the total carbon number of R 1 to R 5 and Y 1 in the formula is 3 or more. However, when the total carbon number increases, the hydrophobic portion increases, Dissolution in the developer becomes difficult. In this case, even if a dissolution aid such as an organic solvent that helps dissolution is mixed with water, the surfactant cannot be dissolved within the proper mixing range. Generally, the total carbon number is 25 or less. A more preferable total carbon number is 4-20. Here, the structure of the alkyl group described above may be linear or branched.
The total number of carbons R 1 to R 5 and Y 1 in this compound (surfactant) is influenced by the material used for the photosensitive layer, particularly the binder. In the case of a binder having high hydrophilicity, the total number of carbons of R 1 to R 5 and Y 1 may be relatively small. However, if the binder used has low hydrophilicity, the total number of carbons needs to be increased.
Further, in the above compound, X 1 is a sulfonate, a monoester sulfate, a carboxylate, or a phosphate. Among these, sulfonate and carboxylate are particularly effective. Among these salts, alkali metal salts are particularly preferable because of their good solubility in aqueous solvents. Of these, sodium salts and potassium salts are particularly preferable. More specific examples of the compound are as follows.
The case where Y 1 is an alkyl group containing no oxygen atom will be described below.

以下には、Yが酸素原子を含有する場合、すなわち、−Cn-m2(n-m)OCm2m−(n≧1、n≧m≧0)について記載する。ここで、−Cn-m2(n-m)OCm2m−以外の置換基(R〜R)は水素原子、もしくはアルキル基であり、炭素数の総和が3以上25以下である。ここで、O原子が入る事で、水系溶媒に溶解し易くなっており、現像液に好んで用いられる事が多い。 The following describes the case where Y 1 contains an oxygen atom, that is, —C nm H 2 (nm) OC m H 2m — (n ≧ 1, n ≧ m ≧ 0). Here, the substituents (R 1 to R 5 ) other than —C nm H 2 (nm) OC m H 2m — are hydrogen atoms or alkyl groups, and the total number of carbon atoms is 3 or more and 25 or less. Here, since O atoms enter, it is easy to dissolve in an aqueous solvent, and is often used favorably in a developer.

上記式(VI)に該当する化合物において、式中のR6〜R10およびY2の総炭素数が3以上で効果が見られるが、この総炭素数値が大きくなると疎水部分が大きくなり、水系の現像液への溶解が困難となる。この場合は、溶解を助ける有機溶剤等の溶解助剤を水に混合しても、適正混合範囲内で界面活性剤を溶解することはできない。一般的には、総炭素数は25以下である。より好ましい総炭素数は3〜20である。ここで、上述したアルキル基の構造は直鎖であってもよく、分枝であっても構わない。
この化合物(界面活性剤)中のR6〜R10およびY2の炭素の総数は、感光層に用いる材料、とりわけバインダーの影響をうける。親水性の高いバインダーの場合、R6〜R10およびY2の炭素の総数は比較的小さくてよいが、用いるバインダーの親水度の低いものは、総炭素数を大きくする必要がある。
更に、上記化合物中X2は、スルホン酸塩、硫酸モノエステル塩、カルボン酸塩、また
は燐酸塩である。この中で、とりわけ、スルホン酸塩、カルボン酸塩の効果が大きい。これらの塩において、アルカリ金属塩が特に水系溶媒への溶解性が良好であり、好ましい。中でも、ナトリウム塩、カリウム塩が特に好ましい。
より具体的に化合物を例示すると、以下のようになる。
In the compound corresponding to the above formula (VI), the effect can be seen when the total carbon number of R 6 to R 10 and Y 2 in the formula is 3 or more. Is difficult to dissolve in a developer. In this case, even if a dissolution aid such as an organic solvent that helps dissolution is mixed with water, the surfactant cannot be dissolved within the proper mixing range. Generally, the total carbon number is 25 or less. A more preferable total carbon number is 3-20. Here, the structure of the alkyl group described above may be linear or branched.
The total number of carbons R 6 to R 10 and Y 2 in this compound (surfactant) is influenced by the material used for the photosensitive layer, particularly the binder. In the case of a binder having high hydrophilicity, the total number of carbons of R 6 to R 10 and Y 2 may be relatively small. However, if the binder used has low hydrophilicity, the total number of carbons needs to be increased.
Further, X 2 in the above compound is a sulfonate, a monoester sulfate, a carboxylate, or a phosphate. Among these, sulfonate and carboxylate are particularly effective. Among these salts, alkali metal salts are particularly preferable because of their good solubility in aqueous solvents. Of these, sodium salts and potassium salts are particularly preferable.
More specific examples of the compound are as follows.

以下には、Yが酸素原子を含有する場合、すなわち、Cn-m2(n-m)OCm2m(n≧1、n≧m≧0)について記載する。ここで、Cn-m2(n-m)OCm2m以外の置換基(R6〜R10)は水素原子、もしくはアルキル基であり、炭素数の総和が3以上25以下である。ここで、O原子が入る事で、水系溶媒に溶解し易くなっており、現像液に好んで用いられる事が多い。 Hereinafter, the case where Y 2 contains an oxygen atom, that is, C nm H 2 (nm) OC m H 2m (n ≧ 1, n ≧ m ≧ 0) will be described. Here, substituents (R 6 to R 10 ) other than C nm H 2 (nm) OC m H 2m are hydrogen atoms or alkyl groups, and the total number of carbon atoms is 3 or more and 25 or less. Here, since O atoms enter, it is easy to dissolve in an aqueous solvent, and is often used favorably in a developer.

(式(VII)中、Raは、水素原子またはアルキル基を表し、A及びBは、エチレンオキサイド基、カルボン酸基、またはカルボン酸塩を含有する基である。
式(VIII)中、Rb、Rcは、水素原子またはアルキル基を表し、Cは、アルキル基、またはエチレンオキサイド基を含有する基、Dはカルボン酸アニオンを含有する基である。
式(IX)中、Rd、Re、RfおよびRgはそれぞれ水素原子またはアルキル基を表し、Zは対アニオンである。上記Ra〜Rgのアルキル基は、置換基を有していても良い。)
(In the formula (VII), Ra represents a hydrogen atom or an alkyl group, and A and B are groups containing an ethylene oxide group, a carboxylic acid group, or a carboxylate.
In the formula (VIII), Rb and Rc represent a hydrogen atom or an alkyl group, C represents an alkyl group or a group containing an ethylene oxide group, and D represents a group containing a carboxylate anion.
In formula (IX), Rd, Re, Rf and Rg each represent a hydrogen atom or an alkyl group, and Z is a counter anion. The alkyl group of Ra to Rg may have a substituent. )

上記式(VII)、(VIII)または(IX)で表される化合物(以下、界面活性剤とも称する)としては、特に限定されないが、下記に代表的なものを示す。   Although it does not specifically limit as a compound (henceforth a surfactant) represented by the said formula (VII), (VIII) or (IX), A typical thing is shown below.

(式中、R11〜R13、R15、R16、R18、R21、R24〜R27はそれぞれ水素原子またはアルキル基を表す。R14、R17、R19、R20、R22、R23 はアルキレン基または単結合を表す) (In the formula, R11 to R13, R15, R16, R18, R21, and R24 to R27 each represent a hydrogen atom or an alkyl group. R14, R17, R19, R20, R22, and R23 each represent an alkylene group or a single bond)

上記式(10)に該当する化合物において、式中のR11〜R13は、水素原子、またはアルキル基で、R14はアルキレン基である。但し、直接Nとカルボキシル基が連結されていても良く、この場合は、R14は単結合である。
化合物(10)において、総炭素数値が大きくなると疎水部分が大きくなり、水系の現像液への溶解が困難となる。この場合、溶解を助ける有機溶剤、アルコール等の溶解助剤を水に混合することにより、良化はするが、総炭素数値が大きくなりすぎた場合、適正混合範囲内で界面活性剤を溶解することはできない。ここで、R11〜R14の炭素数の総和は好ましくは、10〜40であり、より好ましくは12〜30である。
ここで、上述したR11〜R13がアルキル基である場合、その構造は直鎖であってもよく、分枝であっても構わない。
これらの化合物(界面活性剤)中のR11〜R14の炭素数は、感光層に用いる材料、とりわけバインダの影響をうける。親水度の高いバインダの場合、R11〜R14の炭素数は比較的小さいものが好ましい傾向にあり、用いるバインダの親水度の低いものは、R11〜R14の炭素数の大きいものが好ましい。
代表的な化合物としては、以下に示すものが挙げられる。
In the compound corresponding to the above formula (10), R11 to R13 in the formula are a hydrogen atom or an alkyl group, and R14 is an alkylene group. However, N and a carboxyl group may be directly connected, and in this case, R14 is a single bond.
In the compound (10), when the total carbon number is increased, the hydrophobic portion is increased and it is difficult to dissolve in an aqueous developer. In this case, mixing with a water-soluble dissolution aid such as an organic solvent or alcohol that aids dissolution will improve, but if the total carbon number becomes too large, the surfactant will be dissolved within the proper mixing range. It is not possible. Here, the total carbon number of R11 to R14 is preferably 10 to 40, more preferably 12 to 30.
Here, when R11 to R13 described above are alkyl groups, the structure may be linear or branched.
The carbon number of R11 to R14 in these compounds (surfactants) is influenced by the material used for the photosensitive layer, particularly the binder. In the case of a binder having a high hydrophilicity, those having a relatively small carbon number of R11 to R14 tend to be preferable, and those having a low hydrophilicity are preferably those having a large carbon number of R11 to R14.
Typical compounds include those shown below.

上記式(11)に該当する化合物において、式中のR15〜R16は、水素原子、またはアルキル基であり、R17はアルキレン基である。但し、直接Nとカルボキシル基が連結されていても良く、この場合は、R17は存在しない。化合物(10)と同様に、化合物(11)においても、総炭素数値が大きくなると疎水部分が大きくなり、水系の現像液への溶解が困難となる。この場合、溶解を助ける有機溶剤、アルコール等の溶解助剤を水に混合することにより、良化はするが、総炭素数値が大きくなりすぎた場合、適正混合範囲内で界面活性剤を溶解することはできない。ここで、R15〜R17の炭素数の総和は好ましくは、10〜30であり、より好ましくは12〜25である。
ここで、上述したR11〜R14がアルキル基である場合、その構造は直鎖であってもよく、分枝であっても構わない。
これらの化合物(界面活性剤)中のR15〜R17の炭素数は、感光層に用いる材料、とりわけバインダの影響をうける。親水度の高いバインダの場合、R15〜R17の炭素数は比較的小さいものが好ましい傾向にあり、用いるバインダの親水度の低いものは、R15〜R17
の炭素数の大きいものが好ましい。
更に、上記化合物中、X+にはカリウムイオン、ナトリウムイオン等の1価の金属イオンの他、カルシウムイオン、マグネシウムイオン等の2価の金属イオンや、アンモニウムイオン、水素イオン等が用いられる。化合物(11)中でも、この中では、特にナトリムイオン、カリウムが好んで用いられる。代表的な化合物としては、以下に示すものが挙げられる。
In the compound corresponding to the above formula (11), R15 to R16 in the formula are a hydrogen atom or an alkyl group, and R17 is an alkylene group. However, N and a carboxyl group may be directly connected, and in this case, R17 does not exist. Similarly to the compound (10), in the compound (11), when the total carbon number is increased, the hydrophobic portion is increased and it is difficult to dissolve in the aqueous developer. In this case, mixing with a water-soluble dissolution aid such as an organic solvent or alcohol that aids dissolution will improve, but if the total carbon number becomes too large, the surfactant will be dissolved within the proper mixing range. It is not possible. Here, the total number of carbon atoms of R15 to R17 is preferably 10 to 30, and more preferably 12 to 25.
Here, when R11 to R14 described above are alkyl groups, the structure may be linear or branched.
The carbon number of R15 to R17 in these compounds (surfactants) is influenced by the material used for the photosensitive layer, particularly the binder. In the case of a binder having a high degree of hydrophilicity, the carbon number of R15 to R17 tends to be relatively small, and the binder having a low degree of hydrophilicity is preferably R15 to R17.
Those having a large carbon number are preferred.
Further, in the above compounds, X + includes monovalent metal ions such as potassium ion and sodium ion, divalent metal ions such as calcium ion and magnesium ion, ammonium ion and hydrogen ion. Among the compounds (11), sodium ion and potassium are particularly preferably used. Typical compounds include those shown below.

上記式(12)に該当する化合物において、式中のR18は、水素原子、またはアルキル基であり、R19、R20はアルキレン基である。但し、直接Nとカルボキシル基が連結されていても良く、この場合は、R19、20は存在しない。化合物(10)、(11)と同様に、化合物(12)においても、総炭素数値が大きくなると疎水部分が大きくなり、水系の現像液への溶解が困難となる。この場合、溶解を助ける有機溶剤、アルコール等の溶解助剤を水に混合することにより、良化はするが、総炭素数値が大きくなりすぎた場合、適正混合範囲内で界面活性剤を溶解することはできない。ここで、R18〜R20の炭素数の総和は好ましくは、10〜30であり、より好ましくは12〜28である。
ここで、上述したR18がアルキル基である場合、その構造は直鎖であってもよく、分枝であっても構わない。
これらの化合物(界面活性剤)中のR18〜R20の炭素数は、感光層に用いる材料、とり
わけバインダの影響をうける。親水度の高いバインダの場合、R18〜R20の炭素数は比較的小さいものが好ましい傾向にあり、用いるバインダの親水度の低いものは、R18〜R20の炭素数の大きいものが好ましい。
更に、上記化合物中、X・Yにはカリウムイオン、ナトリウムイオン等の1価の金属イオンの他、カルシウムイオン、マグネシウムイオン等の2価の金属イオンや、アンモニウムイオン、水素イオン等が用いられる。化合物(12)中でも、この中では、特にナトリムイオン、カリウムが好んで用いられる。代表的な化合物としては、以下に示すものが挙げられる。
In the compound corresponding to the formula (12), R18 in the formula is a hydrogen atom or an alkyl group, and R19 and R20 are alkylene groups. However, N and a carboxyl group may be directly connected, and in this case, R19 and 20 do not exist. Similarly to the compounds (10) and (11), in the compound (12), when the total carbon number is increased, the hydrophobic portion is increased and it is difficult to dissolve in the aqueous developer. In this case, mixing with a water-soluble dissolution aid such as an organic solvent or alcohol that aids dissolution will improve, but if the total carbon number becomes too large, the surfactant will be dissolved within the proper mixing range. It is not possible. Here, the total number of carbon atoms of R18 to R20 is preferably 10 to 30, more preferably 12 to 28.
Here, when R18 described above is an alkyl group, the structure may be linear or branched.
The carbon number of R18 to R20 in these compounds (surfactants) is influenced by the material used for the photosensitive layer, particularly the binder. In the case of a binder having a high hydrophilicity, those having a relatively small carbon number of R18 to R20 tend to be preferable, and those having a low hydrophilicity are preferably those having a large carbon number of R18 to R20.
Further, in the above compounds, for X + and Y + , in addition to monovalent metal ions such as potassium ion and sodium ion, divalent metal ions such as calcium ion and magnesium ion, ammonium ion and hydrogen ion are used. It is done. Among the compounds (12), sodium ion and potassium are particularly preferably used. Typical compounds include those shown below.

上記式(13)に該当する化合物において、式中のR21は、水素原子、またはアルキル基であり、R22、R23はアルキレン基である。但し、直接Nとエチレンオキサイドが連結されていても良く、この場合は、R22、23は存在しない。化合物(13)においても、総炭素数値が大きくなると疎水部分が大きくなり、水系の現像液への溶解が困難となる。この場合、溶解を助ける有機溶剤、アルコール等の溶解助剤を水に混合することにより、良化はするが、総炭素数値が大きくなりすぎた場合、適正混合範囲内で界面活性剤を溶解することはできない。ここで、R21〜R23の炭素数の総和は好ましくは、8〜50であり、より好ましくは12〜40である。
ここで、上述したR21がアルキル基である場合、その構造は直鎖であってもよく、分枝であっても構わない。
これらの化合物(界面活性剤)中のR21〜R23の炭素数は、感光層に用いる材料、とりわけバインダの影響をうける。親水度の高いバインダの場合、R21〜R23の炭素数は比較的小さいものが好ましい傾向にあり、用いるバインダの親水度の低いものは、R21〜R23
の炭素数の大きいものが好ましい。
エチレンオキサイドの数を表すm、nについては、大きくなると親水度が高まり、水中での安定性が高まる。m、nは同数でも良いし、異なる数でも構わない。代表的な化合物としては、以下に示すものが挙げられる。mは一般的に1〜20、nは一般的に1〜20である。
In the compound corresponding to the above formula (13), R21 in the formula is a hydrogen atom or an alkyl group, and R22 and R23 are alkylene groups. However, N and ethylene oxide may be directly connected, and in this case, R22 and 23 do not exist. Also in the compound (13), when the total carbon number is increased, the hydrophobic portion is increased and it is difficult to dissolve in the aqueous developer. In this case, mixing with a water-soluble dissolution aid such as an organic solvent or alcohol that aids dissolution will improve, but if the total carbon number becomes too large, the surfactant will be dissolved within the proper mixing range. It is not possible. Here, the total number of carbon atoms of R21 to R23 is preferably 8 to 50, and more preferably 12 to 40.
Here, when R21 described above is an alkyl group, the structure thereof may be linear or branched.
The carbon number of R21 to R23 in these compounds (surfactants) is influenced by the material used for the photosensitive layer, particularly the binder. In the case of a binder having a high hydrophilicity, those having a relatively small number of carbon atoms in R21 to R23 tend to be preferable, and those having a low hydrophilicity are used in R21 to R23.
Those having a large carbon number are preferred.
About m and n showing the number of ethylene oxide, if it becomes large, a hydrophilic degree will increase and stability in water will increase. m and n may be the same number or different numbers. Typical compounds include those shown below. m is generally 1-20, and n is generally 1-20.

上記式(14)に該当する化合物において、式中のR24〜R27は、水素原子、またはアルキル基である。
化合物(14)においても、総炭素数値が大きくなると疎水部分が大きくなり、水系の現像液への溶解が困難となる。この場合、溶解を助ける有機溶剤、アルコール等の溶解助剤を水に混合することにより、良化はするが、総炭素数値が大きくなりすぎた場合、適正混合範囲内で界面活性剤を溶解することはできない。ここで、R24〜R27の炭素数の総和は好ましくは、10〜30であり、より好ましくは12〜28である。
ここで、上述したR24〜R27がアルキル基である場合、その構造は直鎖であってもよく、分枝であっても構わない。
これらの化合物(界面活性剤)中のR24〜R27の炭素数は、感光層に用いる材料、とりわけバインダの影響をうける。親水度の高いバインダの場合、R24〜R27の炭素数は比較的小さいものが好ましい傾向にあり、用いるバインダの親水度の低いものは、R24〜R27の炭素数の大きいものが好ましい。
また、Z-は、カウンターアニオンを示す。これらは、限定するものではないが、Cl-、Br-、I-等を用いる事が多い。代表的な化合物としては、以下に示すものが挙げられる。
In the compound corresponding to the above formula (14), R24 to R27 in the formula are a hydrogen atom or an alkyl group.
Also in the compound (14), when the total carbon number is increased, the hydrophobic portion is increased and it is difficult to dissolve in the aqueous developer. In this case, mixing with a water-soluble dissolution aid such as an organic solvent or alcohol that aids dissolution will improve, but if the total carbon number becomes too large, the surfactant will be dissolved within the proper mixing range. It is not possible. Here, the total number of carbon atoms of R24 to R27 is preferably 10 to 30, and more preferably 12 to 28.
Here, when R24 to R27 described above are alkyl groups, the structure thereof may be linear or branched.
The carbon number of R24 to R27 in these compounds (surfactants) is influenced by the material used for the photosensitive layer, particularly the binder. In the case of a binder having a high hydrophilicity, those having a relatively small carbon number of R24 to R27 tend to be preferable, and those having a low hydrophilicity are preferably those having a large carbon number of R24 to R27.
Z represents a counter anion. Although these are not limited, Cl , Br , I − and the like are often used. Typical compounds include those shown below.

また、本発明の現像液に用いられる水溶性高分子化合物としては、大豆多糖類、変性澱粉、アラビアガム、デキストリン、繊維素誘導体(例えばカルボキシメチルセルロース、カルボキシエチルセルロース、メチルセルロース等)およびその変性体、プルラン、ポリビニルアルコールおよびその誘導体、ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミドおよびアクリルアミド共重合体、ビニルメチルエーテル/無水マレイン酸共重合体、酢酸ビニル/無水マレイン酸共重合体、スチレン/無水マレイン酸共重合体などが挙げられる。   Examples of the water-soluble polymer compound used in the developer of the present invention include soybean polysaccharide, modified starch, gum arabic, dextrin, fibrin derivatives (eg, carboxymethylcellulose, carboxyethylcellulose, methylcellulose, etc.) and modified products thereof, pullulan. , Polyvinyl alcohol and its derivatives, polyvinyl pyrrolidone, polyacrylamide and acrylamide copolymer, vinyl methyl ether / maleic anhydride copolymer, vinyl acetate / maleic anhydride copolymer, styrene / maleic anhydride copolymer, etc. It is done.

上記大豆多糖類は、公知ものが使用でき、例えば市販品として商品名ソヤファイブ(不二製油(株)製)があり、各種グレードのものを使用することができる。好ましく使用できるものは、10質量%水溶液の粘度が10〜100mPa/secの範囲にあるものである。   A well-known thing can be used for the said soybean polysaccharide, for example, there exists a brand name Soya Five (made by Fuji Oil Co., Ltd.) as a commercial item, and the thing of various grades can be used. What can be preferably used is one in which the viscosity of a 10% by mass aqueous solution is in the range of 10 to 100 mPa / sec.

上記変性澱粉も、公知のものが使用でき、トウモロコシ、じゃがいも、タピオカ、米、小麦等の澱粉を酸または酵素等で1分子当たりグルコース残基数5〜30の範囲で分解し、更にアルカリ中でオキシプロピレンを付加する方法等で作ることができる。   As the modified starch, known ones can be used, and starch such as corn, potato, tapioca, rice and wheat is decomposed with acid or enzyme in the range of 5 to 30 glucose residues per molecule, and further in an alkali. It can be made by a method of adding oxypropylene or the like.

水溶性高分子化合物は2種以上を併用することもできる。水溶性高分子化合物の現像液中における含有量は、0.1〜20質量%が好ましく、より好ましくは0.5〜10質量
%である。
Two or more water-soluble polymer compounds can be used in combination. The content of the water-soluble polymer compound in the developer is preferably from 0.1 to 20% by mass, and more preferably from 0.5 to 10% by mass.

また、本発明の現像液には、有機溶剤を含有しても良い。含有可能な有機溶剤としては、例えば、脂肪族炭化水素類(ヘキサン、ヘプタン、”アイソパーE、H、G”(エッソ化学(株)製)あるいはガソリン、灯油等)、芳香族炭化水素類(トルエン、キシレン等)、あるいはハロゲン化炭化水素(メチレンジクロライド、エチレンジクロライド、トリクレン、モノクロルベンゼン等)や、極性溶剤が挙げられる。   Further, the developer of the present invention may contain an organic solvent. Examples of the organic solvent that can be contained include aliphatic hydrocarbons (hexane, heptane, “Isopar E, H, G” (manufactured by Esso Chemical Co., Ltd.) or gasoline, kerosene, etc.), and aromatic hydrocarbons (toluene). And xylene), halogenated hydrocarbons (methylene dichloride, ethylene dichloride, trichlene, monochlorobenzene, etc.), and polar solvents.

極性溶剤としては、アルコール類(メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ベンジルアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、2−エトキシエタノール、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ポリエチレングリコールモノメチルエーテル、ポリプロピレングリコール、テトラエチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノベンジルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、メチルフェニルカルビノール、n−アミルアルコール、メチルアミルアルコール等)、ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン、エチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等)、エステル類(酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、酢酸アミル、酢酸ベンジル、乳酸メチル、乳酸ブチル、エチレングリコールモノブチルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールアセテート、ジエチルフタレート、レブリン酸ブチル等)、その他(トリエチルフォスフェート、トリクレジルホスフェート、N−フェニルエタノールアミン、N−フェニルジエタノールアミン等)等が挙げられる。   Polar solvents include alcohols (methanol, ethanol, propanol, isopropanol, benzyl alcohol, ethylene glycol monomethyl ether, 2-ethoxyethanol, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monohexyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether , Propylene glycol monomethyl ether, polyethylene glycol monomethyl ether, polypropylene glycol, tetraethylene glycol, ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monobenzyl ether, ethylene glycol monophenyl ether, methylphenyl carbinol, n-amyl alcohol, methyl amyl alcohol, etc.) , (Acetone, methyl ethyl ketone, ethyl butyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, etc.), esters (ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, amyl acetate, benzyl acetate, methyl lactate, butyl lactate, ethylene glycol monobutyl acetate, propylene Glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol acetate, diethyl phthalate, butyl levulinate, etc.) and others (triethyl phosphate, tricresyl phosphate, N-phenylethanolamine, N-phenyldiethanolamine, etc.).

また、上記有機溶剤が水に不溶な場合は、界面活性剤等を用いて水に可溶化して使用することも可能であり、現像液に、有機溶剤を含有する場合は、安全性、引火性の観点から、溶剤の濃度は40質量%未満が望ましい。   If the organic solvent is insoluble in water, it can be used after being solubilized in water using a surfactant or the like. If the developer contains an organic solvent, safety, ignition, From the viewpoint of property, the concentration of the solvent is preferably less than 40% by mass.

本発明の現像液には上記の他に、防腐剤、キレート化合物、消泡剤、有機酸、無機酸、無機塩などを含有することができる。   In addition to the above, the developer of the present invention may contain a preservative, a chelate compound, an antifoaming agent, an organic acid, an inorganic acid, an inorganic salt, and the like.

防腐剤としては、フェノールまたはその誘導体、ホルマリン、イミダゾール誘導体、デヒドロ酢酸ナトリウム、4−イソチアゾリン−3−オン誘導体、ベンゾイソチアゾリン−3−オン、ベンズトリアゾール誘導体、アミジングアニジン誘導体、四級アンモニウム塩類、ピリジン、キノリン、グアニジン等の誘導体、ダイアジン、トリアゾール誘導体、オキサゾール、オキサジン誘導体、ニトロブロモアルコール系の2−ブロモ−2−ニトロプロパン−1,3ジオール、1,1−ジブロモ−1−ニトロ−2−エタノール、1,1−ジブロモ−1−ニトロ−2−プロパノール等が好ましく使用できる。   Preservatives include phenol or derivatives thereof, formalin, imidazole derivatives, sodium dehydroacetate, 4-isothiazolin-3-one derivatives, benzisothiazolin-3-one, benztriazole derivatives, amiding anidine derivatives, quaternary ammonium salts, pyridine, Derivatives such as quinoline and guanidine, diazine, triazole derivatives, oxazole, oxazine derivatives, nitrobromoalcohol-based 2-bromo-2-nitropropane-1,3diol, 1,1-dibromo-1-nitro-2-ethanol, 1,1-dibromo-1-nitro-2-propanol and the like can be preferably used.

キレート化合物としては、例えば、エチレンジアミンテトラ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;ジエチレントリアミンペンタ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;トリエチレンテトラミンヘキサ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩、ヒドロキシエチルエチレンジアミントリ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;ニトリロトリ酢酸、そのナトリウム塩;1−ヒドロキシエタン−1,1−ジホスホン酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;アミノトリ(メチレンホスホン酸)、そのカリウム塩、そのナトリウム塩などのような有機ホスホン酸類あるいはホスホノアルカントリカルボン酸類を挙げることができる。上記キレート剤のナトリウム塩、カリウム塩の代りに有機アミンの塩も有効である。   Examples of the chelate compound include ethylenediaminetetraacetic acid, potassium salt thereof, sodium salt thereof; diethylenetriaminepentaacetic acid, potassium salt thereof, sodium salt thereof; triethylenetetraminehexaacetic acid, potassium salt thereof, sodium salt thereof, hydroxyethylethylenediaminetriacetic acid Nitrilotriacetic acid, sodium salt; 1-hydroxyethane-1,1-diphosphonic acid, potassium salt, sodium salt; aminotri (methylenephosphonic acid), potassium salt, sodium salt And organic phosphonic acids and phosphonoalkanetricarboxylic acids. Organic amine salts are also effective in place of the sodium and potassium salts of the chelating agents.

消泡剤としては一般的なシリコーン系の自己乳化タイプ、乳化タイプ、ノニオン系界面活性剤のHLBが5以下等の化合物を使用することができる。シリコーン消泡剤が好ましい。
その中で乳化分散型および可溶化等がいずれも使用できる。
As the antifoaming agent, a general silicone-based self-emulsifying type, emulsifying type, nonionic surfactant having a HLB of 5 or less can be used. Silicone defoamers are preferred.
Among them, emulsification dispersion type and solubilization can be used.

有機酸としては、クエン酸、酢酸、蓚酸、マロン酸、サリチル酸、カプリル酸、酒石酸、リンゴ酸、乳酸、レブリン酸、p−トルエンスルホン酸、キシレンスルホン酸、フィチン酸、有機ホスホン酸などが挙げられる。有機酸は、そのアルカリ金属塩またはアンモニウム塩の形で用いることもできる。   Examples of organic acids include citric acid, acetic acid, succinic acid, malonic acid, salicylic acid, caprylic acid, tartaric acid, malic acid, lactic acid, levulinic acid, p-toluenesulfonic acid, xylenesulfonic acid, phytic acid, and organic phosphonic acid. . The organic acid can also be used in the form of its alkali metal salt or ammonium salt.

無機酸および無機塩としては、リン酸、メタリン酸、第一リン酸アンモニウム、第二リン酸アンモニウム、第一リン酸ナトリウム、第二リン酸ナトリウム、第一リン酸カリウム、第二リン酸カリウム、トリポリリン酸ナトリウム、ピロリン酸カリウム、ヘキサメタリン酸ナトリウム、硝酸マグネシウム、硝酸ナトリウム、硝酸カリウム、硝酸アンモニウム、硫酸ナトリウム、硫酸カリウム、硫酸アンモニウム、亜硫酸ナトリウム、亜硫酸アンモニウム、硫酸水素ナトリウム、硫酸ニッケルなどが挙げられる。   Examples of inorganic acids and inorganic salts include phosphoric acid, metaphosphoric acid, primary ammonium phosphate, secondary ammonium phosphate, primary sodium phosphate, secondary sodium phosphate, primary potassium phosphate, secondary potassium phosphate, Examples thereof include sodium tripolyphosphate, potassium pyrophosphate, sodium hexametaphosphate, magnesium nitrate, sodium nitrate, potassium nitrate, ammonium nitrate, sodium sulfate, potassium sulfate, ammonium sulfate, sodium sulfite, ammonium sulfite, sodium hydrogen sulfate, nickel sulfate and the like.

上記の現像液は、露光されたネガ型平版印刷版原版の現像液および現像補充液として用いることができ、後述の自動処理機に適用することが好ましい。自動処理機を用いて現像する場合、処理量に応じて現像液が疲労してくるので、補充液または新鮮な現像液を用いて処理能力を回復させてもよい。本発明の平版印刷版の製版方法においてもこの補充方式が好ましく適用される。   The developer described above can be used as a developer and developer replenisher for the exposed negative lithographic printing plate precursor, and is preferably applied to an automatic processor described later. When developing using an automatic processor, the developing solution becomes fatigued according to the amount of processing, so the processing capability may be restored using a replenisher or a fresh developer. This replenishing method is also preferably applied to the lithographic printing plate making method of the present invention.

本発明におけるpH2〜10の水溶液による現像処理は、現像液の供給手段および擦り部材を備えた自動処理機により好適に実施することができる。自動処理機としては、例えば、画像記録後の平版印刷版原版を搬送しながら擦り処理を行う、特開平2−220061号、特開昭60−59351号各公報に記載の自動処理機や、シリンダー上にセットされた画像記録後の平版印刷版原版をシリンダーを回転させながら擦り処理を行う、米国特許5148746号、同5568768号、英国特許2297719号に記載の自動処理機等が挙げられる。なかでも、擦り部材として、回転ブラシロールを用いる自動処理機が特に好ましい。   The development treatment with an aqueous solution having a pH of 2 to 10 in the present invention can be preferably carried out by an automatic processor equipped with a developer supply means and a rubbing member. As an automatic processor, for example, an automatic processor described in JP-A-2-220061 and JP-A-60-59351, which performs a rubbing process while transporting a lithographic printing plate precursor after image recording, or a cylinder Examples thereof include an automatic processor described in US Pat. Nos. 5,148,746, 5,568,768 and British Patent 2,297,719, which rub the lithographic printing plate precursor after image recording set thereon while rotating a cylinder. Among these, an automatic processor using a rotating brush roll as the rubbing member is particularly preferable.

本発明に好ましく使用できる回転ブラシロールは、画像部の傷つき難さ、さらには、平版印刷版原版の支持体の腰の強さ等を考慮して適宜選択することができる。上記回転ブラシロールとしては、ブラシ素材をプラスチックまたは金属のロールに植え付けて形成された公知のものが使用できる。例えば、特開昭58−159533号公報や、特開平3−100554号公報記載のものや、実公昭62−167253号公報に記載されているような、ブラシ素材を列状に植え込んだ金属またはプラスチックの溝型材を芯となるプラスチックまたは金属のロールに隙間なく放射状に巻き付けたブラシロールが使用できる。
また、ブラシ素材としては、プラスチック繊維(例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等のポリエステル系、ナイロン6.6、ナイロン6.10等のポリアミド系、ポリアクリロニトリル、ポリ(メタ)アクリル酸アルキル等のポリアクリル系、および、ポリプロピレン、ポリスチレン等のポリオレフィン系の合成繊維)を使用することができ、例えば、繊維の毛の直径は、20〜400μm、毛の長さは、5〜30mmのものが好適に使用できる。
さらに、回転ブラシロールの外径は、30〜200mmが好ましく、版面を擦るブラシの先端の周速は、0.1〜5m/secが好ましい。
また、回転ブラシロールは、2本以上の複数本用いることが好ましい。
The rotating brush roll that can be preferably used in the present invention can be appropriately selected in consideration of the difficulty of scratching the image area and the stiffness of the support of the lithographic printing plate precursor. As the rotating brush roll, a known one formed by planting a brush material on a plastic or metal roll can be used. For example, as described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 58-159533, Japanese Patent Application Laid-Open No. 3-100554, or Japanese Utility Model Publication No. 62-167253, metal or plastic in which brush materials are implanted in rows. A brush roll can be used in which the groove mold material is radially wound around a plastic or metal roll as a core without a gap.
The brush material includes plastic fibers (for example, polyesters such as polyethylene terephthalate and polybutylene terephthalate, polyamides such as nylon 6.6 and nylon 6.10, polyacrylonitrile, poly (meth) acrylate, etc. Acrylic and polyolefin synthetic fibers such as polypropylene and polystyrene) can be used. For example, the fiber has a hair diameter of 20 to 400 μm and a hair length of 5 to 30 mm. Can be used.
Furthermore, the outer diameter of the rotating brush roll is preferably 30 to 200 mm, and the peripheral speed at the tip of the brush rubbing the plate surface is preferably 0.1 to 5 m / sec.
Moreover, it is preferable to use two or more rotating brush rolls.

本発明に用いる回転ブラシロールの回転方向は、本発明の平版印刷版原版の搬送方向に対し、同一方向であっても、逆方向であってもよいが、図1に例示した自動処理機のように、2本以上の回転ブラシロールを使用する場合は、少なくとも1本の回転ブラシロールが、同一方向に回転し、少なくとも1本の回転ブラシロールが、逆方向に回転することが好ましい。これにより、非画像部の感熱層の除去が、さらに確実となる。さらに、回転ブラシロールを、ブラシロールの回転軸方向に揺動させることも効果的である。   The rotating direction of the rotating brush roll used in the present invention may be the same or opposite to the conveying direction of the planographic printing plate precursor of the present invention. Thus, when two or more rotating brush rolls are used, it is preferable that at least one rotating brush roll rotates in the same direction and at least one rotating brush roll rotates in the opposite direction. This further ensures the removal of the heat sensitive layer in the non-image area. Furthermore, it is also effective to swing the rotating brush roll in the direction of the rotation axis of the brush roll.

上記現像液の温度は、任意の温度で使用できるが、好ましくは10℃〜50℃である。   Although the temperature of the developer can be used at any temperature, it is preferably 10 ° C to 50 ° C.

なお、本発明において、擦り処理後の平版印刷版を、引き続いて、水洗、乾燥処理、不感脂化処理することも任意に可能である。不感脂化処理では、公知の不感脂化液を用いることができる。   In the present invention, the lithographic printing plate after the rubbing treatment can be optionally washed with water, dried and desensitized. In the desensitizing treatment, a known desensitizing solution can be used.

その他、本発明の平版印刷版原版からの平版印刷版の製版プロセスとしては、必要に応じ、露光前、露光中、露光から現像までの間に、全面を加熱してもよい。この様な加熱により、該感光層中の画像形成反応が促進され、感度や耐刷性の向上や感度の安定化といった利点が生じ得る。さらに、画像強度・耐刷性の向上を目的として、現像後の画像に対し、全面後加熱もしくは全面露光を行う事も有効である。通常現像前の加熱は150℃以下の穏和な条件で行う事が好ましい。温度が高すぎると、非画像部迄がかぶってしまう等の問題を生じる。現像後の加熱には非常に強い条件を利用する。通常は200〜500℃の範囲である。温度が低いと十分な画像強化作用が得られず、高すぎる場合には支持体の劣化、画像部の熱分解といった問題を生じる。   In addition, as the plate-making process of the lithographic printing plate from the lithographic printing plate precursor according to the present invention, the entire surface may be heated before exposure, during exposure, and between exposure and development, if necessary. By such heating, the image forming reaction in the photosensitive layer is promoted, and advantages such as improvement in sensitivity and printing durability and stabilization of sensitivity may occur. Further, for the purpose of improving the image strength and printing durability, it is also effective to subject the developed image to full post heating or full exposure. Usually, the heating before development is preferably performed under a mild condition of 150 ° C. or less. If the temperature is too high, problems such as covering up to the non-image area occur. Very strong conditions are used for heating after development. Usually, it is the range of 200-500 degreeC. If the temperature is low, sufficient image strengthening action cannot be obtained. If the temperature is too high, problems such as deterioration of the support and thermal decomposition of the image area occur.

上記製版プロセスについて、さらに詳述する。
本発明においては、上記の通り、露光工程の後、直ちに現像処理を行ってもよいが、露光工程と現像工程との間に加熱処理工程を設けることもできる。この加熱処理は、耐刷性を向上させ、さらに画像硬化度の版面内での均一性を高める効果があり、その条件はそれら効果のある範囲で適宜設定することができる。加熱手段としては、慣用の対流オーブン、IR照射装置、IRレーザー、マイクロ波装置、ウィスコンシンオーブン等を挙げることができる。例えば、版面到達温度が70〜150℃の範囲で、1秒〜5分間の間で保持することにより行なうことができる。好ましくは80℃〜140℃で5〜1分間、より好ましくは90℃〜130℃で10〜30秒間である。この範囲であると上記の効果を効率よく得られ、また熱による印刷版の変形などの悪影響が無い点で好ましい。
また、本発明においては上述の露光工程および、好ましくは加熱処理工程の後に、現像処理工程が施され、平版印刷版を得る。露光工程に用いられるプレートセッタ、加熱処理に用いられる加熱処理手段および現像処理工程に使用される現像装置はお互いに接続されて、自動的に連続処理されることが好ましい。具体的にはプレートセッタと、現像装置がコンベアなどの運搬手段によって結合されている製版ラインである。プレートセッタと現像装置の間に加熱処理手段が入っていても良く、加熱手段と現像装置は一体の装置となっていても良い。
The plate making process will be further described in detail.
In the present invention, as described above, the development treatment may be performed immediately after the exposure step, but a heat treatment step may be provided between the exposure step and the development step. This heat treatment has the effect of improving the printing durability and further improving the uniformity of the image curing degree within the plate surface, and the conditions can be appropriately set within the range where these effects are present. Examples of the heating means include a conventional convection oven, an IR irradiation device, an IR laser, a microwave device, a Wisconsin oven, and the like. For example, it can be carried out by holding the plate surface temperature in the range of 70 to 150 ° C. for 1 second to 5 minutes. Preferably, the temperature is 80 ° C to 140 ° C for 5 to 1 minute, more preferably 90 ° C to 130 ° C for 10 to 30 seconds. This range is preferable in that the above effect can be obtained efficiently and there is no adverse effect such as deformation of the printing plate due to heat.
In the present invention, a development processing step is performed after the above-described exposure step and preferably the heat treatment step to obtain a lithographic printing plate. The plate setter used in the exposure process, the heat treatment means used in the heat treatment, and the developing device used in the development process are preferably connected to each other and automatically continuously processed. Specifically, it is a plate making line in which a plate setter and a developing device are coupled by a conveying means such as a conveyor. A heat treatment unit may be provided between the plate setter and the developing device, and the heating unit and the developing device may be integrated.

使用する印刷版が作業環境における周囲の光の影響を受け易い場合は、上記の製版ラインがフィルタまたはカバーなどで遮光されていることが好ましい。
上記のように画像形成した後、紫外線光などの活性光線で全面露光を行い、画像部の硬化促進を行っても良い。該全面露光時の光源としては、例えば、カーボンアーク灯、水銀灯、ガリウム灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、タングステンランプ、各種レーザー光などが挙げられる。さらに、十分な耐刷性を得るためには全面露光量としては少なくとも10mJ/cm2以上が好ましく、より好ましくは100mJ/cm2以上である。
上記全面露光時に同時に加熱を行ってもよく、加熱を行うことによりさらに耐刷性の向
上が認められる。加熱装置としては、慣用の対流オーブン、IR照射装置、IRレーザー、マイクロ波装置、ウィスコンシンオーブン等を挙げることができる。このとき版面温度は30℃〜150℃であることが好ましく、より好ましくは、35〜130℃であり、更に好ましくは、40〜120℃である。
When the printing plate to be used is easily affected by ambient light in the work environment, it is preferable that the plate making line is shielded by a filter or a cover.
After the image is formed as described above, the entire surface may be exposed with an actinic ray such as ultraviolet light to accelerate the curing of the image area. Examples of the light source for the entire surface exposure include a carbon arc lamp, a mercury lamp, a gallium lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, a tungsten lamp, and various laser lights. Furthermore, in order to obtain sufficient printing durability, the overall exposure amount is preferably at least 10 mJ / cm 2 or more, more preferably 100 mJ / cm 2 or more.
Heating may be performed simultaneously with the entire surface exposure, and further improvement in printing durability is recognized by heating. Examples of the heating device include a conventional convection oven, an IR irradiation device, an IR laser, a microwave device, a Wisconsin oven, and the like. At this time, the plate surface temperature is preferably 30 ° C to 150 ° C, more preferably 35 ° C to 130 ° C, and still more preferably 40 ° C to 120 ° C.

上記の現像処理に先立って、平版印刷版原版は、線画像、網点画像等を有する透明原画を通して露光するかデジタルデータによるレーザー光走査等で画像様に露光される。
望ましい光源の波長は350nmから450nmであり、具体的にはInGaN系半導体レーザーが好適である。露光機構は、内面ドラム方式、外面ドラム方式、フラットベッド方式等の何れでもよい。
Prior to the above development processing, the lithographic printing plate precursor is exposed through a transparent original image having a line image, a halftone dot image or the like, or imagewise exposed by laser beam scanning or the like using digital data.
A desirable wavelength of the light source is 350 nm to 450 nm, and specifically, an InGaN semiconductor laser is suitable. The exposure mechanism may be any of an internal drum system, an external drum system, a flat bed system, and the like.

また、本発明に使用可能な他の露光光線としては、超高圧、高圧、中圧、低圧の各水銀灯、ケミカルランプ、カーボンアーク灯、キセノン灯、メタルハライド灯、可視および紫外の各種レーザーランプ、蛍光灯、タングステン灯、太陽光等も使用できる。
350nm〜450nmの入手可能なレーザー光源としては以下のものを利用することができる。
ガスレーザとして、Arイオンレーザ(364nm、351nm、10mW〜1W)、Krイオンレーザ(356nm、351nm、10mW〜1W)、He−Cdレーザー(441nm、325nm、1mW〜100mW)、固体レーザーとして、Nd:YAG(YVO4)とSHG結晶×2回の組み合わせ(355nm、5mW〜1W)、Cr:LiSAFとSHG結晶の組み合わせ(430nm、10mW)、半導体レーザー系として、KNbO3リング共振器(430nm、30mW)、導波型波長変換素子とAlGaAs
、InGaAs半導体の組み合わせ(380nm〜450nm、5mW〜100mW)、導波型波長変換素子とAlGaInP、AlGaAs半導体の組み合わせ(300nm〜350nm、5mW〜100mW)、AlGaInN(350nm〜450nm、5mW〜30mW)、その他、パルスレーザとしてN2レーザ(337nm、パルス0.1〜1
0mJ)、XeF(351nm、パルス10〜250mJ)。特にこの中でAlGaInN半導体レーザー(市販InGaN系半導体レーザー400〜410nm、5〜30mW)が波長特性、コストの面で好適である。
Other exposure light beams that can be used in the present invention include ultrahigh pressure, high pressure, medium pressure, and low pressure mercury lamps, chemical lamps, carbon arc lamps, xenon lamps, metal halide lamps, various visible and ultraviolet laser lamps, fluorescent lamps, and the like. A lamp, a tungsten lamp, sunlight, etc. can also be used.
As available laser light sources of 350 nm to 450 nm, the following can be used.
As a gas laser, an Ar ion laser (364 nm, 351 nm, 10 mW to 1 W), a Kr ion laser (356 nm, 351 nm, 10 mW to 1 W), a He-Cd laser (441 nm, 325 nm, 1 mW to 100 mW), and a solid laser as Nd: YAG (YVO 4 ) and SHG crystal × 2 combinations (355 nm, 5 mW to 1 W), Cr: LiSAF and SHG crystal combination (430 nm, 10 mW), as a semiconductor laser system, KNbO 3 ring resonator (430 nm, 30 mW), Waveguide type wavelength conversion element and AlGaAs
, InGaAs semiconductor combinations (380 nm to 450 nm, 5 mW to 100 mW), waveguide wavelength conversion elements and AlGaInP, AlGaAs semiconductor combinations (300 nm to 350 nm, 5 mW to 100 mW), AlGaInN (350 nm to 450 nm, 5 mW to 30 mW), others , N 2 laser (337 nm, pulse 0.1-1 as the pulse laser
0 mJ), XeF (351 nm, pulse 10-250 mJ). In particular, an AlGaInN semiconductor laser (commercially available InGaN-based semiconductor laser 400 to 410 nm, 5 to 30 mW) is preferable in terms of wavelength characteristics and cost.

また走査露光方式の平版印刷版露光装置としては、露光機構として内面ドラム方式、外面ドラム方式、フラットベッド方式があり、光源としては上記光源の中で連続発振可能なものが好ましく利用することができる。現実的には感材感度と製版時間の関係で、以下の露光装置が特に好ましい。
・内面ドラム方式で総出力20mW以上の半導体レーザーとなる様に、ガスレーザあるいは固体レーザー光源を1個以上使用するシングルビーム〜トリプルビームの露光装置
・フラットベッド方式で総出力20mW以上となる様に、半導体レーザー、ガスレーザあるいは固体レーザーを1個以上使用したマルチビーム(1〜10本)の露光装置
・外面ドラム方式で総出力20mW以上となる様に、半導体レーザー、ガスレーザあるいは固体レーザーを1個以上使用したマルチビーム(1〜9本)の露光装置
・外面ドラム方式で総出力20mW以上となる様に、半導体レーザーあるいは固体レーザーを1個以上使用したマルチビーム(10本以上)の露光装置
Further, as the lithographic printing plate exposure apparatus of the scanning exposure method, there are an inner drum method, an outer drum method, and a flat bed method as an exposure mechanism, and a light source that can continuously oscillate among the light sources can be preferably used. . Practically, the following exposure apparatus is particularly preferable in terms of the relationship between the photosensitive material sensitivity and the plate making time.
・ Single beam to triple beam exposure equipment that uses one or more gas lasers or solid-state laser light sources so that it becomes a semiconductor laser with a total output of 20 mW or more with an internal drum system. ・ A total output of 20 mW or more with a flat bed system. Multi-beam (1 to 10) exposure equipment that uses one or more semiconductor lasers, gas lasers, or solid-state lasers • Use one or more semiconductor lasers, gas lasers, or solid-state lasers to achieve a total output of 20 mW or more with the external drum system Multi-beam (1 to 9) exposure apparatus ・ Multi-beam (10 or more) exposure apparatus using one or more semiconductor lasers or solid-state lasers so that the total output is 20 mW or more by the external drum system.

以上のようなレーザー直描型の平版印刷版においては、一般に感材感度X(J/cm2
)、感材の露光面積S(cm2)、レーザー光源1個のパワーq(W)、レーザー本数n
、全露光時間t(s)との間に式(eq1)が成立する。
In the laser direct-drawing lithographic printing plate as described above, the photosensitive material sensitivity X (J / cm 2) is generally used.
), Exposure area S (cm 2 ) of photosensitive material, power q (W) of one laser light source, number of lasers n
The equation (eq1) is established between the total exposure time t (s).

X・S=n・q・t (eq 1)   X · S = n · q · t (eq 1)

i)内面ドラム(シングルビーム)方式の場合
レーザー回転数f(ラジアン/s)、感材の副走査長Lx(cm)、解像度Z(ドット/cm)、全露光時間t(s)の間には一般的に式(eq 2)が成立する。
i) In the case of the internal drum (single beam) system, the laser rotation speed f (radians / s), the sub-scanning length Lx (cm) of the photosensitive material, the resolution Z (dots / cm), and the total exposure time t (s) In general, equation (eq 2) holds.

f・Z・t=Lx (eq 2)   f · Z · t = Lx (eq 2)

ii)外面ドラム(マルチビーム)方式の場合
ドラム回転数F(ラジアン/s)、感材の副走査長Lx(cm)、解像度Z(ドット/cm)、全露光時間t(s)、ビーム数(n)の間には一般的に式(eq 3)が成立する。
ii) External drum (multi-beam) system Drum rotation speed F (radians / s), photosensitive material sub-scanning length Lx (cm), resolution Z (dots / cm), total exposure time t (s), number of beams In general, formula (eq 3) is established during (n).

F・Z・n・t=Lx (eq 3)   F.Z.n.t = Lx (eq 3)

iii)フラットヘッド(マルチビーム)方式の場合
ポリゴンミラーの回転数H(ラジアン/s)、感材の副走査長Lx(cm)、解像度Z(ドット/cm)、全露光時間t(s)、ビーム数(n)の間には一般的に式(eq 4)が成立する。
iii) Flat head (multi-beam) system Polygon mirror rotation speed H (radians / s), photosensitive material sub-scanning length Lx (cm), resolution Z (dots / cm), total exposure time t (s), Equation (eq 4) is generally established between the number of beams (n).

F・Z・n・t=Lx (eq 4)   F.Z.n.t = Lx (eq 4)

実際の印刷版に要求される解像度(2560dpi)、版サイズ(A1/B1、副走査長42inch)、20枚/1時間程度の露光条件と本発明の平版印刷版原版の感光特性(感光波長、感度:約0.1mJ/cm2)を上記式に代入することで、本発明の平版印
刷版原版においては総出力20mW以上のレーザーを用いたマルチビーム露光方式との組み合わせが特に好ましいことが理解できる。さらに操作性、コスト等を掛け合わせることにより外面ドラム方式の半導体レーザーマルチビーム(10本以上)露光装置との組み合わせが最も好ましいことになる。
Resolution (2560 dpi) required for the actual printing plate, plate size (A1 / B1, sub-scan length 42 inch), exposure conditions of about 20 sheets / hour and photosensitive characteristics of the planographic printing plate precursor of the present invention (photosensitive wavelength, By substituting (sensitivity: about 0.1 mJ / cm 2 ) into the above formula, it is understood that a combination with a multi-beam exposure method using a laser having a total output of 20 mW or more is particularly preferable in the planographic printing plate precursor of the present invention. it can. Further, by combining operability, cost, etc., a combination with an external drum type semiconductor laser multi-beam (10 or more) exposure apparatus is most preferable.

以下、実施例により本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention in detail, this invention is not limited to these.

〔支持体1の作製〕
厚さ0.3mmのアルミニウム板(材質JIS A1050)を10質量%水酸化ナトリウムに60℃で25秒間浸漬してエッチングし、流水で水洗後、20質量%硝酸で中和洗浄し、次いで水洗した。これを正弦波の交番波形電流を用いて1質量%硝酸水溶液中で300クーロン/dm2の陽極時電気量で電解粗面化処理を行った。引き続いて1質量%
水酸化ナトリウム水溶液中に40℃で5秒間浸漬後30質量%の硫酸水溶液中に浸漬し、60℃で40秒間デスマット処理した後、20質量%硫酸水溶液中、電流密度2A/dm2の条件で陽極酸化皮膜の厚さが2.7g/m2になるように、2分間陽極酸化処理した。
その後、珪酸ナトリウム1質量%水溶液にて20℃で10秒処理した。
このようにして得た支持体の中心線平均粗さ(Ra)を直径2μmの針を用いて測定したところ、0.25μm(JIS B0601によるRa表示)であった。
[Preparation of Support 1]
An aluminum plate (material JIS A1050) having a thickness of 0.3 mm was etched by being immersed in 10% by weight sodium hydroxide at 60 ° C. for 25 seconds, washed with running water, neutralized with 20% by weight nitric acid, and then washed with water. . This was subjected to an electrolytic surface roughening treatment in a 1% by mass nitric acid aqueous solution using a sinusoidal alternating waveform current at an anode time electricity of 300 coulomb / dm 2 . Subsequently 1% by mass
After dipping in an aqueous solution of sodium hydroxide at 40 ° C. for 5 seconds and then in a 30% by weight sulfuric acid aqueous solution and desmutting at 60 ° C. for 40 seconds, in a 20% by weight aqueous sulfuric acid solution at a current density of 2 A / dm 2 . Anodization was performed for 2 minutes so that the thickness of the anodized film was 2.7 g / m 2 .
Then, it processed at 20 degreeC for 10 second with 1 mass% of sodium silicate aqueous solution.
The center line average roughness (Ra) of the support thus obtained was measured using a needle having a diameter of 2 μm and found to be 0.25 μm (Ra indication according to JIS B0601).

更に、下記下塗り液(1)をバー塗布した後、80℃、10秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量が10mg/m2になるよう塗布し、以下の実験に用いる下塗り層を有する支持体を作製した。 Furthermore, after applying the following undercoat liquid (1) with a bar, it was oven-dried at 80 ° C. for 10 seconds to apply a dry coating amount of 10 mg / m 2 , and a support having an undercoat layer used in the following experiments Produced.

<下塗り液(1)>
・下塗り化合物(1) 0.017g
・メタノール 9.00g
・水 1.00g
<Undercoat liquid (1)>
・ Undercoat compound (1) 0.017 g
・ Methanol 9.00 g
・ Water 1.00g

〔平版印刷版原版(1)の作製〕
上記の下塗り層を付与した支持体上に、下記組成の感光層塗布液(1)をバー塗布した後、70℃、60秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量1.1g/m2の感光層を形成し、この上に下記組成よりなる保護層塗布液(1)を、乾燥塗布量が0.75g/m2となるよう
にバーを用いて塗布した後、125℃、70秒で間乾燥して平版印刷版原版(1)を得た。
[Preparation of lithographic printing plate precursor (1)]
A photosensitive layer coating solution (1) having the following composition was bar coated on the support provided with the undercoat layer, followed by oven drying at 70 ° C. for 60 seconds, and a photosensitive layer having a dry coating amount of 1.1 g / m 2 . A protective layer coating solution (1) having the following composition is applied on the substrate using a bar so that the dry coating amount is 0.75 g / m 2, and then dried at 125 ° C. for 70 seconds. Thus, a lithographic printing plate precursor (1) was obtained.

<感光層塗布液(1)>
・下記バインダーポリマー(1)(酸価0meq/g、重量平均分子量8万)
0.54g
・重合性化合物 0.48g
(ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、日本化薬(株)製、SR399E)
・下記増感色素(1)(吸収極大波長:364nm) 0.06g
・下記重合開始剤 0.18g
・下記共増感剤(1) 0.02g
・ε―フタロシアニン顔料の分散物 0.40g
(顔料:15質量部、分散剤 バインダーポリマー(1):10質量部、溶剤 シクロヘキサノン/メトキシプロピルアセテート/1−メトキシ−2−プロパノール=15質量部/20質量部/40質量部)
・熱重合禁止剤 0.01g
N−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩
・下記水溶性フッ素系界面活性剤(1) 0.001g
・ポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレン縮合物 0.04g
(旭電化工業(株)製、プルロニックL44)
・テトラエチルアミン塩酸塩 0.01g
・1−メトキシ−2−プロパノール 3.5g
・メチルエチルケトン 8.0g
<Photosensitive layer coating solution (1)>
-The following binder polymer (1) (acid value 0 meq / g, weight average molecular weight 80,000)
0.54g
・ Polymerizable compound 0.48g
(Dipentaerythritol pentaacrylate, Nippon Kayaku Co., Ltd., SR399E)
-The following sensitizing dye (1) (absorption maximum wavelength: 364 nm) 0.06 g
・ The following polymerization initiator 0.18 g
・ The following co-sensitizer (1) 0.02 g
・ 0.40 g of ε-phthalocyanine pigment dispersion
(Pigment: 15 parts by mass, dispersant Binder polymer (1): 10 parts by mass, solvent cyclohexanone / methoxypropyl acetate / 1-methoxy-2-propanol = 15 parts by mass / 20 parts by mass / 40 parts by mass)
・ Thermal polymerization inhibitor 0.01g
N-nitrosophenylhydroxylamine aluminum salt ・ The following water-soluble fluorosurfactant (1) 0.001 g
・ Polyoxyethylene-polyoxypropylene condensate 0.04g
(Asahi Denka Kogyo Co., Ltd., Pluronic L44)
・ Tetraethylamine hydrochloride 0.01g
・ 3.5 g of 1-methoxy-2-propanol
・ Methyl ethyl ketone 8.0g

保護層塗布液(1)
ポリビニルアルコール(ケン化度98モル%、重合度500) 40g
ポリビニルピロリドン(分子量5万) 5g
ポリ(ビニルピロリドン/酢酸ビニル(1/1))分子量7万 0.5g
界面活性剤 0.5g
(ポリオキシエチレンラウリルエーテル、エマレックス710、日本エマルジョン(株)製)
水 950g
Protective layer coating solution (1)
Polyvinyl alcohol (saponification degree 98 mol%, polymerization degree 500) 40 g
Polyvinylpyrrolidone (molecular weight 50,000) 5g
Poly (vinyl pyrrolidone / vinyl acetate (1/1)) molecular weight 70,000 0.5g
Surfactant 0.5g
(Polyoxyethylene lauryl ether, Emarex 710, manufactured by Nippon Emulsion Co., Ltd.)
950g of water

〔平版印刷版原版(2)の作製〕
上記感光層塗布液(1)のバインダーポリマー(1)を下記バインダーポリマー(5)(酸価1.9meq/g、重量平均分子量8万)に変更した以外は、平版印刷版原版(1)の作製と同様にして、平版印刷版原版(2)を得た。
[Preparation of lithographic printing plate precursor (2)]
The lithographic printing plate precursor (1) except that the binder polymer (1) in the photosensitive layer coating solution (1) was changed to the following binder polymer (5) (acid value 1.9 meq / g, weight average molecular weight 80,000). A lithographic printing plate precursor (2) was obtained in the same manner as in the preparation.

〔平版印刷版原版(3)の作製〕
上記感光層塗布液(1)を下記組成の感光層塗布液(2)に変更した以外は、平版印刷版原版(1)の作製と同様にして、平版印刷版原版(3)を得た。
[Preparation of lithographic printing plate precursor (3)]
A lithographic printing plate precursor (3) was obtained in the same manner as the production of the lithographic printing plate precursor (1) except that the photosensitive layer coating solution (1) was changed to a photosensitive layer coating solution (2) having the following composition.

<感光層塗布液(2)>
・上記の重合開始剤(1) 0.2g
・上記の増感色素(1) 0.1g
・上記のバインダーポリマー(1)(平均分子量8万) 3.0g
・重合性化合物 6.2g
イソシアヌール酸EO変性ジアクリレート
(東亜合成(株)製アロニックスM−215)
・ロイコクリスタルバイオレット 0.2g
・上記のフッ素系界面活性剤(1) 0.1g
・下記のマイクロカプセル(1)分散液 25.0g
・メチルエチルケトン 35.0g
・1−メトキシー2−プロパノール 35.0g
<Photosensitive layer coating solution (2)>
・ 0.2 g of the above polymerization initiator (1)
-0.1 g of the above sensitizing dye (1)
・ Binder polymer (1) (average molecular weight 80,000) 3.0 g
-Polymerizable compound 6.2g
Isocyanuric acid EO-modified diacrylate (Aronix M-215 manufactured by Toa Gosei Co., Ltd.)
・ Royco Crystal Violet 0.2g
・ 0.1 g of the above-mentioned fluorosurfactant (1)
・ The following microcapsule (1) dispersion 25.0 g
・ Methyl ethyl ketone 35.0g
・ 3-methoxy-2-propanol 35.0 g

(マイクロカプセル(1)の合成)
油相成分として、トリメチロールプロパンとキシレンジイソシアナート付加体(三井武田ケミカル(株)製、タケネートD−110N)10g、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート(日本化薬(株)製、SR399E)4.15g、およびパイオニンA−41C(竹本油脂(株)製)0.1gを酢酸エチル17gに溶解した。水相成分としてPVA−205の4質量%水溶液40gを調製した。油相成分および水相成分を混合し、ホモジナイザーを用いて12000rpmで10分間乳化した。得られた乳化物を、蒸留水25gに添加し、室温で30分攪拌後、40℃で3時間攪拌した。このようにして得られたマイクロカプセル液(1)の固形分濃度を、20質量%になるように蒸留水を用いて希釈した。平均粒径は0.25μmであった。
(Synthesis of microcapsule (1))
As an oil phase component, trimethylolpropane and xylene diisocyanate adduct (manufactured by Mitsui Takeda Chemical Co., Ltd., Takenate D-110N) 10 g, dipentaerythritol pentaacrylate (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., SR399E) 4.15 g And 0.1 g of Pionein A-41C (manufactured by Takemoto Oil & Fat Co., Ltd.) were dissolved in 17 g of ethyl acetate. As an aqueous phase component, 40 g of a 4% by mass aqueous solution of PVA-205 was prepared. The oil phase component and the aqueous phase component were mixed and emulsified for 10 minutes at 12000 rpm using a homogenizer. The obtained emulsion was added to 25 g of distilled water, stirred at room temperature for 30 minutes, and then stirred at 40 ° C. for 3 hours. The microcapsule liquid (1) thus obtained was diluted with distilled water so that the solid content concentration became 20% by mass. The average particle size was 0.25 μm.

〔平版印刷版原版(4)の作製〕
感光層塗布液(1)のバインダーポリマー(1)を下記バインダーポリマー(2)(酸価0meq/g、重量平均分子量7万)に変える以外は、平版印刷版原版(1)と同様にして、平版印刷版原版(4)を得た。
[Preparation of lithographic printing plate precursor (4)]
Except for changing the binder polymer (1) of the photosensitive layer coating solution (1) to the following binder polymer (2) (acid value 0 meq / g, weight average molecular weight 70,000), the same as the lithographic printing plate precursor (1), A lithographic printing plate precursor (4) was obtained.

〔平版印刷版原版(5)の作製〕
感光層塗布液(1)のバインダーポリマー(1)を下記バインダーポリマー(3)(酸価0meq/g、重量平均分子量10万)に変
える以外は、平版印刷版原版(1)と同様にして、平版印刷版原版(5)を得た。
[Preparation of lithographic printing plate precursor (5)]
Except for changing the binder polymer (1) of the photosensitive layer coating solution (1) to the following binder polymer (3) (acid value 0 meq / g, weight average molecular weight 100,000), the same as the lithographic printing plate precursor (1), A lithographic printing plate precursor (5) was obtained.

〔平版印刷版原版(6)の作製〕
感光層塗布液(1)のバインダーポリマー(1)を下記バインダーポリマー(4)(酸価0meq/g、重量平均分子量9万)に変える以外は、平版印刷版原版(1)と同様にして、平版印刷版原版(6)を得た。
[Preparation of lithographic printing plate precursor (6)]
Except for changing the binder polymer (1) of the photosensitive layer coating solution (1) to the following binder polymer (4) (acid value 0 meq / g, weight average molecular weight 90,000), the same as the lithographic printing plate precursor (1), A lithographic printing plate precursor (6) was obtained.

〔平版印刷版原版(7)の作製〕
感光層塗布液(1)の共増感剤(1)を下記の共増感剤(2)に変える以外は、平版印刷版原版(1)と同様にして、平版印刷版原版(7)を得た。
[Preparation of lithographic printing plate precursor (7)]
The lithographic printing plate precursor (7) was prepared in the same manner as the lithographic printing plate precursor (1) except that the cosensitizer (1) in the photosensitive layer coating solution (1) was changed to the following cosensitizer (2). Obtained.

〔平版印刷版原版(8)の作製〕
感光層塗布液(1)の共増感剤(1)を下記の共増感剤(3)に変える以外は、平版印刷版原版(1)と同様にして、平版印刷版原版(8)を得た。
[Preparation of lithographic printing plate precursor (8)]
The lithographic printing plate precursor (8) was prepared in the same manner as the lithographic printing plate precursor (1) except that the cosensitizer (1) in the photosensitive layer coating solution (1) was changed to the following cosensitizer (3). Obtained.

〔平版印刷版原版(9)の作製〕
上記保護層塗布液(1)を下記組成の保護層塗布液(2)に変更し、乾燥塗布量が0.2g/m2となるようにバーを用いて塗布した以外は、平版印刷版原版(1)の作製と同
様にして、平版印刷版原版(9)を得た。
[Preparation of lithographic printing plate precursor (9)]
The lithographic printing plate precursor except that the protective layer coating solution (1) is changed to a protective layer coating solution (2) having the following composition and coated using a bar so that the dry coating amount is 0.2 g / m 2. A lithographic printing plate precursor (9) was obtained in the same manner as in the preparation of (1).

保護層塗布液(2)
・下記雲母分散液(1) 13.0g
・ポリビニルアルコール(ケン化度98モル%、重合度500) 1.3g
・2−エチルヘキシルスルホコハク酸ソーダ 0.2g
・ポリ(ビニルピロリドン/酢酸ビニル(1/1))分子量7万 0.05g
・界面活性剤(エマレックス710、日本エマルジョン(株)製) 0.05g
・水 133g
Protective layer coating solution (2)
・ The following mica dispersion (1) 13.0 g
Polyvinyl alcohol (saponification degree 98 mol%, polymerization degree 500) 1.3 g
-Sodium 2-ethylhexyl sulfosuccinate 0.2g
・ Poly (vinyl pyrrolidone / vinyl acetate (1/1)) molecular weight 70,000 g
・ Surfactant (Emalex 710, manufactured by Nippon Emulsion Co., Ltd.) 0.05g
・ 133g of water

(雲母分散液(1)の調製)
水368gに合成雲母(「ソマシフME−100」:コープケミカル社製、アスペクト比:1000以上)の32gを添加し、ホモジナイザーを用いて平均粒径(レーザー散乱法)0.5μmになる迄分散し、雲母分散液(1)を得た。
(Preparation of mica dispersion (1))
To 368 g of water, 32 g of synthetic mica (“Somasif ME-100”: manufactured by Co-op Chemical Co., Ltd., aspect ratio: 1000 or more) is added and dispersed using an homogenizer until the average particle size (laser scattering method) becomes 0.5 μm. A mica dispersion (1) was obtained.

〔平版印刷版原版(10)の作製〕
支持体を下記支持体2に変更した以外は、平版印刷版原版(1)の作製と同様にして、平版印刷版原版(10)を得た。
[Preparation of lithographic printing plate precursor (10)]
A lithographic printing plate precursor (10) was obtained in the same manner as the production of the lithographic printing plate precursor (1) except that the support was changed to the following support 2.

(支持体2の作製)
厚み0.3mmのアルミニウム板(材質JIS A1050)の表面の圧延油を除去す
るため、10質量%アルミン酸ソーダ水溶液を用いて50℃で30秒間、脱脂処理を施した後、毛径0.3mmの束植ナイロンブラシ3本とメジアン径25μmのパミス−水懸濁液(比重1.1g/cm3)を用いアルミニウム表面を砂目立てして、水でよく洗浄した
。この板を45℃の25質量%水酸化ナトリウム水溶液に9秒間浸漬してエッチングを行い、水洗後、さらに60℃で20質量%硝酸に20秒間浸漬し、水洗した。この時の砂目立て表面のエッチング量は約3g/m2であった。
(Preparation of support 2)
In order to remove rolling oil on the surface of an aluminum plate (material JIS A1050) having a thickness of 0.3 mm, a degreasing treatment is performed at 50 ° C. for 30 seconds using a 10 mass% sodium aluminate aqueous solution, and then the hair diameter is 0.3 mm. The aluminum surface was grained using 3 bundle-planted nylon brushes and a pumice-water suspension (specific gravity 1.1 g / cm 3 ) having a median diameter of 25 μm and washed well with water. This plate was etched by being immersed in a 25 mass% sodium hydroxide aqueous solution at 45 ° C for 9 seconds, washed with water, further immersed in 20 mass% nitric acid at 60 ° C for 20 seconds, and washed with water. The etching amount of the grained surface at this time was about 3 g / m 2 .

次に、60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、硝酸1質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)、液温50℃であった。交流電源波形は、電流値がゼロからピークに達するまでの時間TPが0.8msec、duty比1:1、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電流密度は電流のピーク値で30A/dm2、補助陽極には電源から流れる電流の5%を分流させた。
硝酸電解における電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量175C/dm2であった

その後、スプレーによる水洗を行った。
Next, an electrochemical roughening treatment was performed continuously using an alternating voltage of 60 Hz. The electrolytic solution at this time was a 1% by mass nitric acid aqueous solution (containing 0.5% by mass of aluminum ions) and a liquid temperature of 50 ° C. The AC power source waveform is electrochemical roughening treatment using a trapezoidal rectangular wave alternating current with a time ratio TP of 0.8 msec until the current value reaches a peak from zero, a duty ratio of 1: 1, and a trapezoidal rectangular wave alternating current. Went. Ferrite was used for the auxiliary anode. The current density was 30 A / dm 2 at the peak current value, and 5% of the current flowing from the power source was shunted to the auxiliary anode.
The amount of electricity in the nitric acid electrolysis was 175 C / dm 2 when the aluminum plate was the anode.
Then, water washing by spraying was performed.

次に、塩酸0.5質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)、液温50℃の電解液にて、アルミニウム板が陽極時の電気量50C/dm2の条件で、硝酸電解と同様の方法で、電気化学的な粗面化処理を行い、その後、スプレーによる水洗を行った。この板を15質量%硫酸(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)を電解液として電流密度15A/dm2で2.5g/m2の直流陽極酸化皮膜を設けた後、水洗、乾燥した。その後、珪酸ナトリウム1質量%水溶液にて20℃で10秒処理した。
このようにして得た支持体の中心線平均粗さ(Ra)を直径2μmの針を用いて測定したところ、0.51μm(JIS B0601によるRa表示)であった。
Next, a 0.5% by mass hydrochloric acid aqueous solution (containing 0.5% by mass of aluminum ions) and an electrolytic solution having a liquid temperature of 50 ° C. and nitric acid electrolysis under the condition of an electric quantity of 50 C / dm 2 when the aluminum plate is an anode. In the same manner as above, an electrochemical surface roughening treatment was performed, followed by washing with water by spraying. The plate was provided with a DC anodized film of 2.5 g / m 2 at a current density of 15 A / dm 2 using 15% by mass sulfuric acid (containing 0.5% by mass of aluminum ions) as an electrolytic solution, then washed with water and dried. Then, it processed at 20 degreeC for 10 second with 1 mass% of sodium silicate aqueous solution.
The center line average roughness (Ra) of the support thus obtained was measured using a needle having a diameter of 2 μm and found to be 0.51 μm (Ra indication according to JIS B0601).

このように処理されたアルミニウム板に、下記下塗り液(2)をバー塗布した後、80℃、20秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量が10mg/m2になるよう塗布し、支持体を作製した。 After applying the following undercoat liquid (2) to the thus treated aluminum plate with a bar, it was oven dried at 80 ° C. for 20 seconds to apply a dry coating amount of 10 mg / m 2 to prepare a support. did.

下塗り液(2)
・下記ゾル液 100g
・メタノール 900g
Undercoat liquid (2)
・ 100g of the following sol solution
・ Methanol 900g

ゾル液
・ホスマーPE(ユニケミカル(株)製) 5g
・メタノール 45g
・水 10g
・85質量%リン酸 5g
・テトラエトキシシラン 20g
・3−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン 15g
Sol solution ・ Phosmer PE (Unichemical Co., Ltd.) 5g
・ Methanol 45g
・ Water 10g
・ 85% phosphoric acid 5g
・ Tetraethoxysilane 20g
・ 3-Methacryloxypropyltrimethoxysilane 15g

〔平版印刷版原版(11)の作製〕
上記感光層塗布液(1)の増感色素(1)を下記増感色素(2)に変更した以外は、平版印刷版原版(1)の作製と同様にして、平版印刷版原版(11)を得た。
[Preparation of lithographic printing plate precursor (11)]
The lithographic printing plate precursor (11) is prepared in the same manner as in the production of the lithographic printing plate precursor (1) except that the sensitizing dye (1) in the photosensitive layer coating solution (1) is changed to the following sensitizing dye (2). Got.

〔平版印刷版原版(12)の作製〕
上記感光層塗布液(1)の増感色素(1)を下記増感色素(3)に変更した以外は、平版印刷版原版(1)の作製と同様にして、平版印刷版原版(12)を得た。なお、増感色素(3)の吸収極大波長は387nmである。
[Preparation of lithographic printing plate precursor (12)]
The lithographic printing plate precursor (12) is prepared in the same manner as in the production of the lithographic printing plate precursor (1) except that the sensitizing dye (1) in the photosensitive layer coating solution (1) is changed to the following sensitizing dye (3). Got. The absorption maximum wavelength of the sensitizing dye (3) is 387 nm.

〔実施例1〜9、13及び比較例1〜2〕
(1)露光、現像および印刷
上記平版印刷版原版(1)〜(10)各々について、出力100mWの405nm半導体レーザーを用いて、エネルギー密度を変えて画像様露光を行った。
その後、下記組成の現像液(1)を用い、図1に示す構造の自動現像処理機にて、現像処理を実施した。現像液のpHは5であった。自動現像処理機は、回転ブラシロール
を2本有する自動処理機であり、回転ブラシロールとしては、1本目のブラシロールには、ポリブチレンテレフタレート製の繊維(毛の直径200μm、毛の長さ17mm)を植え込んだ外径50mmのブラシロールを用い、搬送方向と同一方向に毎分200回転(ブラシの先端の周速0.52m/sec)させ、2本目のブラシロールには、ポリブチレンテレフタレート製の繊維(毛の直径200μm、毛の長さ17mm)を植え込んだ外径50mmのブラシロールを用い、搬送方向と反対方向に毎分200回転(ブラシの先端の周速0.52m/sec)させた。平版印刷版原版の搬送は、搬送速度100cm/minで行った。
現像液は、循環ポンプによりスプレーパイプからシャワーリングして、版面に供給した。現像液のタンク容量は、10リットルであった。
[Examples 1-9, 13 and Comparative Examples 1-2]
(1) Exposure, development and printing For each of the above lithographic printing plate precursors (1) to (10), imagewise exposure was performed using a 405 nm semiconductor laser with an output of 100 mW while changing the energy density.
Thereafter, the developing solution (1) having the following composition was used, and development processing was carried out with an automatic developing processor having a structure shown in FIG. The pH of the developer was 5. The automatic processor is an automatic processor having two rotating brush rolls. As the rotating brush roll, the first brush roll has a polybutylene terephthalate fiber (hair diameter 200 μm, hair length 17 mm). ) Is used, and the second brush roll is made of polybutylene terephthalate at a speed of 200 revolutions per minute (peripheral speed of the brush tip of 0.52 m / sec) in the same direction as the conveying direction. Using a brush roll with an outer diameter of 50 mm in which fibers (hair diameter 200 μm, hair length 17 mm) are implanted, rotate 200 times per minute in the direction opposite to the conveying direction (peripheral speed of brush tip 0.52 m / sec) It was. The planographic printing plate precursor was transported at a transport speed of 100 cm / min.
The developer was showered from the spray pipe with a circulation pump and supplied to the plate surface. The tank capacity of the developer was 10 liters.

現像液(1)
・水 100g
・ベンジルアルコール 1g
・ポリオキシエチレンナフチルエーテル(オキシエチレン平均数n=13)
(日本乳化剤(株)製ニューコールB13) 1g
・ジオクチルスルホコハク酸エステルのナトリウム塩 0.5g
・アラビアガム 1g
・エチレングリコール 0.5g
・第1リン酸アンモニウム 0.05g
・クエン酸 0.05g
・エチレンジアミンテトラアセテート4ナトリウム塩 0.05g
Developer (1)
・ Water 100g
・ Benzyl alcohol 1g
・ Polyoxyethylene naphthyl ether (average number of oxyethylene n = 13)
(Nippon Emulsifier Co., Ltd. New Coal B13) 1g
・ Dioctyl sulfosuccinate sodium salt 0.5g
・ 1g gum arabic
・ Ethylene glycol 0.5g
・ Primary ammonium phosphate 0.05g
・ Citric acid 0.05g
・ Ethylenediaminetetraacetate tetrasodium salt 0.05g

次いで、現像後の平版印刷版を、ハイデルベルグ社製印刷機SOR−Mに取り付け、湿し水(EU−3(富士写真フイルム(株)製エッチ液)/水/イソプロピルアルコール=1/89/10(容量比))とTRANS−G(N)墨インキ(大日本インキ化学工業(株)製)とを用い、毎時6000枚の印刷速度で印刷を行った。   Subsequently, the developed lithographic printing plate is attached to a printing machine SOR-M manufactured by Heidelberg, and dampening water (EU-3 (Etchi solution manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) / Water / isopropyl alcohol = 1/89/10. (Capacity ratio)) and TRANS-G (N) black ink (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) were used for printing at a printing speed of 6000 sheets per hour.

(2)評価
先に作製した平版印刷版原版を用いて、感度、セーフライト適性を下記のように評価した。
(2) Evaluation Using the lithographic printing plate precursor prepared earlier, sensitivity and safelight suitability were evaluated as follows.

<感度>
上記の通り、100枚印刷を行って、非画像部にインキ汚れがない印刷物が得られたことを確認した後、続けて500枚の印刷を行った。合計600枚目の印刷物において、画像部のインキ濃度にムラがない露光量を感度として計測した。
<Sensitivity>
As described above, 100 sheets were printed, and after confirming that a printed matter having no ink stains in the non-image area was obtained, 500 sheets were continuously printed. In the total 600th printed matter, the exposure amount with no unevenness in the ink density in the image area was measured as sensitivity.

<現像性>
得られた平版印刷版原版を上記の通り露光、現像を行った。現像処理後に、平版印刷版の非画像部を目視確認し、感光層の残存の有無を評価した。
<セーフライト適性>
得られた平版印刷版原版を画像露光前に10分、20分、30分間黄灯下(500nm以下の波長をカット蛍光灯、照度250lux)にさらした後、上記の通り露光、現像を行った。現像処理後に、平版印刷版の非画像部を目視確認を行い、カブリ発生(感光層の残存)の有無を評価した。
以上の結果を表1に示す。
<Developability>
The obtained lithographic printing plate precursor was exposed and developed as described above. After the development processing, the non-image area of the lithographic printing plate was visually confirmed to evaluate the presence or absence of the remaining photosensitive layer.
<Safelight suitability>
The obtained lithographic printing plate precursor was exposed to yellow light (wavelength of 500 nm or less, cut fluorescent light, illuminance of 250 lux) for 10, 20, and 30 minutes before image exposure, and then exposed and developed as described above. . After the development process, the non-image area of the lithographic printing plate was visually confirmed to evaluate the presence or absence of fogging (remaining photosensitive layer).
The results are shown in Table 1.

〔実施例10〕
前記自動現像処理機の2本目のブラシロールを取り外して現像を行った以外は実施例1と同様にして、画像露光、現像処理および印刷を実施したところ、表1に示すように、セーフライト適性が若干悪くなった。
Example 10
Image exposure, development processing and printing were carried out in the same manner as in Example 1 except that the second brush roll of the automatic processor was removed and development was performed. Became a little worse.

〔実施例11〕
現像液(1)のポリオキシエチレンナフチルエーテルを下記構造式のアニオン界面活性剤(ポリオキシエチレンナフチルエーテル硫酸エステル塩、日本乳化剤(株)製ニューコールB4SN)に変え、消泡剤FSアンチホームDR110N(ダウコーニング社製、シリコーン系エマルジョン)を0.1g添加する以外は、実施例1と同様にして、画像露光、現像処理および印刷を実施したところ、実施例1と同じ評価結果を得た。この現像液のpHは5であった。
Example 11
The polyoxyethylene naphthyl ether in the developer (1) is changed to an anionic surfactant (polyoxyethylene naphthyl ether sulfate ester, New Coal B4SN manufactured by Nippon Emulsifier Co., Ltd.) having the following structural formula, and the antifoaming agent FS Antihome DR110N Image exposure, development treatment and printing were carried out in the same manner as in Example 1 except that 0.1 g of (Dow Corning, silicone emulsion) was added, and the same evaluation results as in Example 1 were obtained. The pH of this developer was 5.

〔実施例12〕
現像液(1)を下記現像液(2)に変える以外は、実施例1と同様にして、画像露光、現像処理および印刷を実施したところ、実施例1と同じ評価結果を得た。なお、現像液(
2)のpHは4.5であった。
Example 12
Image exposure, development treatment and printing were carried out in the same manner as in Example 1 except that the developer (1) was changed to the developer (2) shown below. The same evaluation results as in Example 1 were obtained. Developer (
The pH of 2) was 4.5.

現像液(2)
・水 100g
・アルキルナフタレンスルホン酸ナトリウム 5g
(花王(株)製ペレックスNB−L)
・アラビアガム 1g
・第1リン酸アンモニウム 0.05g
・クエン酸 0.05g
・エチレンジアミンテトラアセテート4ナトリウム塩 0.05g
Developer (2)
・ Water 100g
・ Sodium alkylnaphthalenesulfonate 5g
(Perox NB-L manufactured by Kao Corporation)
・ 1g gum arabic
・ Primary ammonium phosphate 0.05g
・ Citric acid 0.05g
・ Ethylenediaminetetraacetate tetrasodium salt 0.05g

〔実施例14〕
画像露光を行った後、30秒以内に、平版印刷版原版をオーブンに入れ、熱風を吹き付けて平版印刷版原版の全面を加熱し、110℃に、15秒間保持した。その後、30秒以内に、実施例12と同様の現像処理を行う以外は、実施例12と同様に、画像露光、現像処理及び印刷を実施した。
感度は、加熱処理することで、0.09mJ/cm2となり、現像性及びセーフライト
適性は、非画像部の感光層の残存なく良好であった。
Example 14
Within 30 seconds after the image exposure, the lithographic printing plate precursor was placed in an oven, hot air was blown to heat the entire surface of the lithographic printing plate precursor, and held at 110 ° C. for 15 seconds. Thereafter, image exposure, development processing and printing were performed in the same manner as in Example 12 except that the same development processing as in Example 12 was performed within 30 seconds.
The sensitivity was 0.09 mJ / cm 2 by the heat treatment, and the developability and the safelight suitability were good without remaining the photosensitive layer in the non-image area.

〔実施例15〕
平版印刷版原版(1)をFUJIFILM Electronic Imaging Ltd 製Violet半導体レーザープレートセッターVx9600(InGaN系半導体レーザー405nm±10nm発光/出力30mWを搭載)により画像露光を実施した。画像は、解像度2438dpiで、富士写真フイルム(株)製FMスクリーン(TAFFETA 20)を用い、35%の平網を、版面露光量0.09mJ/cm2で描画し
た。露光後の平版印刷版原版を画像露光後、30秒以内に、富士写真フイルム(株)製自動現像機LP1250PLXを用いて、現像処理を実施した。前記自動現像機は、加熱ユニット/水洗ユニット/現像ユニット/リンスユニット/フィニッシングユニットの順番に構成されており、加熱ユニットの加熱条件は、100℃、10秒間で行い、水洗ユニット、現像ユニット、リンスユニット/フィニッシングユニットの全ての浴には、前記現像液(2)を仕込んで実施した。現像液の温度は、28℃であり、平版印刷版の搬送は、搬送速度110cm/minで行った。
現像処理後に、平版印刷版の非画像部および画像を目視で確認したところ、非画像部での感光層の残存はなく、ムラのない均一な平網画像が形成された。さらに、この平版印刷版を上記の印刷条件で印刷したところ、非画像部の汚れなく、ムラのない均一な平網画像の良好な印刷物が得られた。
Example 15
The lithographic printing plate precursor (1) was subjected to image exposure using a violet semiconductor laser plate setter Vx9600 (equipped with InGaN semiconductor laser 405 nm ± 10 nm emission / output 30 mW) manufactured by FUJIFILM Electronic Imaging Ltd. The image was drawn using a FM screen (TAFFETA 20) manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. with a resolution of 2438 dpi, and a 35% flat screen was drawn with a plate exposure of 0.09 mJ / cm 2 . Within 30 seconds after image exposure of the exposed lithographic printing plate precursor, development processing was carried out using an automatic processor LP1250PLX manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. The automatic processor is configured in the order of heating unit / washing unit / developing unit / rinsing unit / finishing unit. The heating condition of the heating unit is 100 ° C. for 10 seconds, and the washing unit, developing unit, rinsing unit All the baths in the unit / finishing unit were charged with the developer (2). The temperature of the developer was 28 ° C., and the planographic printing plate was transported at a transport speed of 110 cm / min.
After development, the non-image area and the image of the lithographic printing plate were visually confirmed. As a result, the photosensitive layer did not remain in the non-image area, and a uniform flat net image without unevenness was formed. Further, when this lithographic printing plate was printed under the above-mentioned printing conditions, a good printed product with a uniform flat net image having no non-image area stains and no unevenness was obtained.

〔実施例16〕
現像液(1)を下記現像液(3)に変える以外は、実施例1と同様にして、画像露光、現像処理および印刷を実施したところ、実施例1と同じ評価結果を得た。なお、現像液(3)のpHは4.0であった。
Example 16
Image exposure, development treatment and printing were carried out in the same manner as in Example 1 except that the developer (1) was changed to the developer (3) below. The same evaluation results as in Example 1 were obtained. The pH of the developer (3) was 4.0.

現像液(3)
・水 100g
・ポリオキシエチレンラウリルアミノエーテル 10g
(竹本油脂(株)製パイオニンD3110)
・ポリスチレンスルホン酸 1g
・第1リン酸アンモニウム 0.05g
・クエン酸 0.05g
・エチレンジアミンテトラアセテート4ナトリウム塩 0.05g
Developer (3)
・ Water 100g
・ Polyoxyethylene lauryl amino ether 10g
(Pionein D3110 manufactured by Takemoto Yushi Co., Ltd.)
・ Polystyrenesulfonic acid 1g
・ Primary ammonium phosphate 0.05g
・ Citric acid 0.05g
・ Ethylenediaminetetraacetate tetrasodium salt 0.05g

〔実施例17〕
現像液(3)のポリオキシエチレンラウリルアミノエーテル(竹本油脂(株)製パイオニンD3110)をN−ラウリルジメチルベタイン(竹本油脂(株)製パイオニンC157K)に変える以外は、実施例16と同様にして、画像露光、現像処理および印刷を実施したところ、実施例16と同じ評価結果を得た。この現像液のpHは4.0であった。
Example 17
The same procedure as in Example 16 was conducted except that polyoxyethylene lauryl amino ether (Pionine D3110, Takemoto Yushi Co., Ltd.) in the developer (3) was changed to N-lauryl dimethyl betaine (Pionine C157K, Takemoto Yushi Co., Ltd.). When image exposure, development processing and printing were performed, the same evaluation results as in Example 16 were obtained. The pH of this developer was 4.0.

〔実施例18〕
現像液(2)に代えて、現像ユニットおよびフィニッシングユニットの浴に現像液(3)を、水洗ユニットおよびリンスユニットの浴に、水を仕込んだ以外は、実施例15と同様にして、平版印刷版原版(1)を画像露光および現像処理を実施した。
現像処理後に、平版印刷版の非画像部および画像を目視で確認したところ、非画像部での感光層の残存はなく、ムラのない均一な平網画像が形成された。さらに、この平版印刷版を上記の印刷条件で印刷したところ、非画像部の汚れなく、ムラのない均一な平網画像の良好な印刷物が得られた。
Example 18
Lithographic printing was carried out in the same manner as in Example 15 except that instead of the developer (2), the developer (3) was charged in the bath of the developing unit and the finishing unit, and water was charged in the bath of the washing unit and the rinse unit. The plate precursor (1) was subjected to image exposure and development processing.
After development, the non-image area and the image of the lithographic printing plate were visually confirmed. As a result, the photosensitive layer did not remain in the non-image area, and a uniform flat net image without unevenness was formed. Further, when this lithographic printing plate was printed under the above-mentioned printing conditions, a good printed product with a uniform flat net image having no non-image area stains and no unevenness was obtained.

〔実施例19〜23〕
表2に示した各界面活性剤の8質量%水溶液を調整し、平版印刷版原版(1)を各水溶液に浸漬時間を5秒刻みで変えて浸漬した。浸漬後、スポンジで版面を擦り、水洗し、感光層が除去されるまでの時間を現像時間として評価した。(時間が短いほど、現像性が良いことを表す。)
[Examples 19 to 23]
An 8% by mass aqueous solution of each surfactant shown in Table 2 was prepared, and the lithographic printing plate precursor (1) was immersed in each aqueous solution while changing the immersion time in steps of 5 seconds. After immersion, the plate surface was rubbed with a sponge, washed with water, and the time until the photosensitive layer was removed was evaluated as the development time. (The shorter the time, the better the developability.)

特定の好ましい界面活性剤を含有する現像液を用いることでより良好な現像が可能であることがわかる。   It can be seen that better development is possible by using a developer containing a specific preferred surfactant.

自動現像処理機の構造Structure of automatic processor

符号の説明Explanation of symbols

1:回転ブラシロール
2:受けロール
3:搬送ロール
4:搬送ガイド板
5:スプレーパイプ
6:管路
7:フィルター
8:給版台
9:排版台
10:現像液タンク
11:循環ポンプ
12:版
1: rotating brush roll 2: receiving roll 3: transport roll 4: transport guide plate 5: spray pipe 6: pipeline 7: filter 8: plate supply table 9: plate discharge table 10: developer tank 11: circulation pump 12: plate

Claims (20)

親水性支持体上に、(A)下記一般式(I)又は(II)で表される350〜450nmに吸収極大を有する増感色素、(B)重合開始剤、(C)重合性化合物、(D)25℃における水及びpH10以上の水溶液に対する溶解度が0.5質量%以下であり、酸価0.3meq/g以下の疎水性バインダーポリマーを含有する感光層と、保護層とをこの順に有する平版印刷版原版を、350〜450nmのレーザー露光した後、擦り部材を備えた自動処理機により、pHが2〜10の現像液の存在下、擦り部材で版面を擦ることにより、保護層および非露光部の感光層を除去することを特徴とする平版印刷版の作製方法。


1〜R14は、各々独立に、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、シアノ基又はハロゲン原子を表す。但し、R1〜R10の少なくとも一つは、炭素数2以上のアルコキシ基を表す。
15〜R32は、各々独立に、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、シアノ基又はハロゲン原子を表す。但し、R15〜R24の少なくとも一つは、炭素数2以上のアルコキシ基を表す。
On the hydrophilic support, (A) a sensitizing dye having an absorption maximum at 350 to 450 nm represented by the following general formula (I) or (II), (B) a polymerization initiator, (C) a polymerizable compound, (D) A photosensitive layer containing a hydrophobic binder polymer having a solubility in water at 25 ° C. and an aqueous solution having a pH of 10 or higher of 0.5% by mass or less and an acid value of 0.3 meq / g or less, and a protective layer After the lithographic printing plate precursor having laser exposure at 350 to 450 nm, the protective layer and rubbing member are rubbed by an automatic processor equipped with a rubbing member in the presence of a developer having a pH of 2 to 10 A method for preparing a lithographic printing plate, comprising removing a photosensitive layer in a non-exposed portion.


R 1 to R 14 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, a cyano group, or a halogen atom. However, at least one of R 1 to R 10 represents an alkoxy group having 2 or more carbon atoms.
R 15 to R 32 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, a cyano group or a halogen atom. However, at least one of R 15 to R 24 represents an alkoxy group having 2 or more carbon atoms.
(D)疎水性バインダーポリマーが、(メタ)アクリル樹脂又はポリウレタン樹脂であることを特徴とする請求項1に記載の平版印刷版の作製方法。(D) The method for producing a lithographic printing plate according to claim 1, wherein the hydrophobic binder polymer is a (meth) acrylic resin or a polyurethane resin. (B)重合開始剤が、ヘキサアリールビイミダゾール系化合物であることを特徴とする請求項1又は2に記載の平版印刷版の作製方法。 (B) a polymerization initiator, a method of preparing a lithographic printing plate according to claim 1 or 2 characterized in that it is a hexaarylbiimidazole compound. 感光層中に、さらに、(E)連鎖移動剤を含有することを特徴とする請求項3に記載の平版印刷版の作製方法。 The method for preparing a lithographic printing plate according to claim 3 , wherein the photosensitive layer further comprises (E) a chain transfer agent. (E)連鎖移動剤が、下記一般式で表されるチオール化合物である請求項4に記載の平版印刷版の作製方法。

ここで、Rは置換基を有してもよいアルキル基、又は置換基を有してもよいアリール基を表し、AはN=C−N部分と共に炭素原子を有する5員環又は6員環のヘテロ環を形成する原子団を表し、Aはさらに置換基を有してもよい。
(E) The method for producing a lithographic printing plate according to claim 4 , wherein the chain transfer agent is a thiol compound represented by the following general formula.

Here, R represents an alkyl group which may have a substituent, or an aryl group which may have a substituent, and A represents a 5-membered or 6-membered ring having a carbon atom together with an N = CN moiety. The atomic group which forms the heterocyclic ring of A, and A may further have a substituent.
(D)疎水性バインダーポリマーが、側鎖に架橋性基を有する(メタ)アクリル共重合体および側鎖に架橋性基を有するポリウレタン樹脂からなる群から選択される少なくとも1種であることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の平版印刷版の作製方法。 (D) The hydrophobic binder polymer is at least one selected from the group consisting of a (meth) acrylic copolymer having a crosslinkable group in the side chain and a polyurethane resin having a crosslinkable group in the side chain. A method for producing a lithographic printing plate according to any one of claims 1 to 5 . 感光層成分の一部または全てが、マイクロカプセルに内包されていることを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の平版印刷版の作製方法。 The method for preparing a lithographic printing plate according to any one of claims 1 to 6 , wherein a part or all of the photosensitive layer component is encapsulated in a microcapsule. 擦り部材が少なくとも2本の回転ブラシロールであることを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載の平版印刷版の作製方法。 The method of preparing a lithographic printing plate according to any one of claims 1 to 7 , wherein the rubbing member is at least two rotating brush rolls. 現像液のpHが3〜8であることを特徴とする請求項1〜8のいずれかに記載の平版印刷版の作製方法。 The method of preparing a lithographic printing plate according to any one of claims 1 to 8, wherein the pH of the developer is from 3 to 8. 露光から現像までの間に、さらに、露光された平版印刷版原版を加熱処理することを特徴とする請求項1〜9のいずれかに記載の平版印刷版の作製方法。 The method for producing a lithographic printing plate according to any one of claims 1 to 9 , further comprising heat-treating the exposed lithographic printing plate precursor between exposure and development. 親水性支持体上に、(A)下記一般式(I)又は(II)で表される350〜450nmに吸収極大を有する増感色素、(B)重合開始剤、(C)重合性化合物、(D)25℃における水及びpH10以上の水溶液に対する溶解度が0.5質量%以下であり、酸価0.3meq/g以下の疎水性バインダーポリマーを含有する感光層と、保護層とをこの順に有する平版印刷版原版であって、350〜450nmのレーザー露光した後、擦り部材を備えた自動処理機により、pHが2〜10の現像液の存在下、擦り部材で版面を擦ることにより、保護層および非露光部の感光層を除去可能な平版印刷版原版。


1〜R14は、各々独立に、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、シアノ基又はハロゲン原子を表す。但し、R1〜R10の少なくとも一つは、炭素数2以上のアルコキシ基を表す。
15〜R32は、各々独立に、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、シアノ基又はハロゲン原子を表す。但し、R15〜R24の少なくとも一つは、炭素数2以上のアルコキシ基を表す。
On the hydrophilic support, (A) a sensitizing dye having an absorption maximum at 350 to 450 nm represented by the following general formula (I) or (II), (B) a polymerization initiator, (C) a polymerizable compound, (D) A photosensitive layer containing a hydrophobic binder polymer having a solubility in water at 25 ° C. and an aqueous solution having a pH of 10 or higher of 0.5% by mass or less and an acid value of 0.3 meq / g or less, and a protective layer A lithographic printing plate precursor having a laser exposure at 350 to 450 nm, and then protected by rubbing the plate surface with a rubbing member in the presence of a developer having a pH of 2 to 10 by an automatic processor equipped with a rubbing member. A lithographic printing plate precursor capable of removing the photosensitive layer in the unexposed area.


R 1 to R 14 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, a cyano group, or a halogen atom. However, at least one of R 1 to R 10 represents an alkoxy group having 2 or more carbon atoms.
R 15 to R 32 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, a cyano group or a halogen atom. However, at least one of R 15 to R 24 represents an alkoxy group having 2 or more carbon atoms.
(D)疎水性バインダーポリマーが、(メタ)アクリル樹脂又はポリウレタン樹脂であることを特徴とする請求項11に記載の平版印刷版原版。The lithographic printing plate precursor as claimed in claim 11, wherein the hydrophobic binder polymer (D) is a (meth) acrylic resin or a polyurethane resin. (D)疎水性バインダーポリマーが、側鎖に架橋性基を有する(メタ)アクリル共重合体および側鎖に架橋性基を有するポリウレタン樹脂からなる群から選択される少なくとも1種であることを特徴とする請求項11に記載の平版印刷版原版 (D) The hydrophobic binder polymer is at least one selected from the group consisting of a (meth) acrylic copolymer having a crosslinkable group in the side chain and a polyurethane resin having a crosslinkable group in the side chain. The lithographic printing plate precursor as claimed in claim 11 . (B)重合開始剤が、ヘキサアリールビイミダゾール系化合物であることを特徴とする請求項11〜13のいずれかに記載の平版印刷版原版。 The lithographic printing plate precursor as claimed in any one of claims 11 to 13 , wherein (B) the polymerization initiator is a hexaarylbiimidazole compound. 感光層中に、さらに、(E)連鎖移動剤を含有することを特徴とする請求項14に記載の平版印刷版原版。 The lithographic printing plate precursor as claimed in claim 14 , further comprising (E) a chain transfer agent in the photosensitive layer. (E)連鎖移動剤が、下記一般式で表されるチオール化合物である請求項15に記載の平版印刷版原版。

ここで、Rは置換基を有してもよいアルキル基、又は置換基を有してもよいアリール基を表し、AはN=C−N部分と共に炭素原子を有する5員環又は6員環のヘテロ環を形成する原子団を表し、Aはさらに置換基を有してもよい。
The lithographic printing plate precursor as claimed in claim 15 , wherein the chain transfer agent is a thiol compound represented by the following general formula.

Here, R represents an alkyl group which may have a substituent, or an aryl group which may have a substituent, and A represents a 5-membered or 6-membered ring having a carbon atom together with an N = CN moiety. The atomic group which forms the heterocyclic ring of A, and A may further have a substituent.
露光から現像までの間に、さらに、露光された平版印刷版原版を加熱処理することを特徴とする請求項11〜16のいずれかに記載の平版印刷版原版。 The lithographic printing plate precursor as claimed in any one of claims 11 to 16 , wherein the exposed lithographic printing plate precursor is further subjected to heat treatment between exposure and development. 現像液中に下記一般式(III)又は(IV)で表される界面活性剤を含有することを特徴とする請求項1〜10のいずれかに記載の平版印刷版の作製方法。

(式中、R〜R10はそれぞれ水素原子またはアルキル基を、lは1〜3の整数を、X及びXはそれぞれスルホン酸塩、硫酸モノエステル塩、カルボン酸塩または燐酸塩を表し、R〜RまたはR〜R10中の炭素数の総和が3以上である。)
The method for preparing a lithographic printing plate according to any one of claims 1 to 10 , wherein the developer contains a surfactant represented by the following general formula (III) or (IV).

(Wherein R 1 to R 10 each represent a hydrogen atom or an alkyl group, l represents an integer of 1 to 3, and X 1 and X 2 represent a sulfonate, a monoester sulfate, a carboxylate or a phosphate, respectively. And the total number of carbon atoms in R 1 to R 5 or R 6 to R 10 is 3 or more.)
現像液中に下記一般式(V)又は(VI)で表される界面活性剤を含有することを特徴とする請求項1〜10のいずれかに記載の平版印刷版の作製方法。

(式中、R〜R10はそれぞれ水素原子またはアルキル基を、lは1〜3の整数を、X及びXはそれぞれスルホン酸塩、硫酸モノエステル塩、カルボン酸塩または燐酸塩を、Y及びYはそれぞれ−C2n−、−Cn-m2(n-m)OC2m−、−O−(CHCHO)−、−O−(CHCHCHO)−または−CO−NH−を表し、n≧1、n≧m≧0であり、R〜RおよびYまたはR〜R10およびY中の炭素数の総和が3以上である。)
The method for preparing a lithographic printing plate according to any one of claims 1 to 10 , wherein the developer contains a surfactant represented by the following general formula (V) or (VI).

(Wherein R 1 to R 10 each represent a hydrogen atom or an alkyl group, l represents an integer of 1 to 3, and X 1 and X 2 represent a sulfonate, a monoester sulfate, a carboxylate or a phosphate, respectively. , Y 1 and Y 2 are —C n H 2n —, —C nm H 2 (nm) OC m H 2m —, —O— (CH 2 CH 2 O) n —, —O— ( CH 2 CH 2 CH 2 O) n — or —CO—NH—, where n ≧ 1, n ≧ m ≧ 0, in R 1 to R 5 and Y 1 or R 6 to R 10 and Y 2 (The total number of carbon atoms is 3 or more.)
現像液中に下記一般式(VII)〜(IX)のいずれかで表される界面活性剤を含有することを特徴とする請求項1〜10のいずれかに記載の平版印刷版の作製方法。

(式(VII)中、Raは、水素原子またはアルキル基を表し、A及びBは、独立に、エチレンオキサイド基、カルボン酸基、またはカルボン酸塩を含有する基である。
式(VIII)中、Rb及びRcは、独立に水素原子またはアルキル基を表し、Cは、アルキル基またはエチレンオキサイド基を含有する基、Dはカルボン酸アニオンを含有する基である。
式(IX)中、Rd、Re、RfおよびRgはそれぞれ水素原子またはアルキル基を表し、Zは対アニオンである。)
The method for preparing a lithographic printing plate according to any one of claims 1 to 10 , wherein the developer contains a surfactant represented by any one of the following formulas (VII) to (IX).

(In the formula (VII), Ra represents a hydrogen atom or an alkyl group, and A and B are independently a group containing an ethylene oxide group, a carboxylic acid group, or a carboxylate.
In formula (VIII), Rb and Rc independently represent a hydrogen atom or an alkyl group, C is a group containing an alkyl group or an ethylene oxide group, and D is a group containing a carboxylate anion.
In formula (IX), Rd, Re, Rf and Rg each represent a hydrogen atom or an alkyl group, and Z is a counter anion. )
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