JP4905659B2 - Method for producing photocatalytic film - Google Patents
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- 230000001699 photocatalysis Effects 0.000 title claims description 88
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 23
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 172
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 claims description 82
- 239000011941 photocatalyst Substances 0.000 claims description 41
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 40
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 33
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 33
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 29
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 24
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 20
- 239000010407 anodic oxide Substances 0.000 claims description 18
- 238000010304 firing Methods 0.000 claims description 13
- 238000007743 anodising Methods 0.000 claims description 11
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 11
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims description 9
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 claims description 8
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 8
- 229910000349 titanium oxysulfate Inorganic materials 0.000 claims description 8
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 7
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 7
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 7
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 6
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 claims description 5
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000008139 complexing agent Substances 0.000 claims description 5
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 5
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 claims description 5
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000010931 gold Substances 0.000 claims description 5
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 5
- 239000011135 tin Substances 0.000 claims description 5
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims description 4
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 3
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 claims description 3
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 claims description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 30
- NUJOXMJBOLGQSY-UHFFFAOYSA-N manganese dioxide Chemical compound O=[Mn]=O NUJOXMJBOLGQSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 19
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 15
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 13
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 9
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 8
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 6
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 5
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 238000001354 calcination Methods 0.000 description 4
- CXKWCBBOMKCUKX-UHFFFAOYSA-M methylene blue Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC2=[S+]C3=CC(N(C)C)=CC=C3N=C21 CXKWCBBOMKCUKX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 229960000907 methylthioninium chloride Drugs 0.000 description 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 4
- 239000012286 potassium permanganate Substances 0.000 description 4
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- DIZPMCHEQGEION-UHFFFAOYSA-H aluminium sulfate (anhydrous) Chemical compound [Al+3].[Al+3].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O DIZPMCHEQGEION-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 3
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 3
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 3
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 3
- 238000005215 recombination Methods 0.000 description 3
- 230000006798 recombination Effects 0.000 description 3
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004833 X-ray photoelectron spectroscopy Methods 0.000 description 2
- 239000002585 base Substances 0.000 description 2
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 2
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 2
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 2
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002203 pretreatment Methods 0.000 description 2
- 238000007613 slurry method Methods 0.000 description 2
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- JYLNVJYYQQXNEK-UHFFFAOYSA-N 3-amino-2-(4-chlorophenyl)-1-propanesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)CC(CN)C1=CC=C(Cl)C=C1 JYLNVJYYQQXNEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical group 0.000 description 1
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Substances O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyrazine-5,7-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 235000011007 phosphoric acid Nutrition 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 230000005476 size effect Effects 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J tin(iv) chloride Chemical compound Cl[Sn](Cl)(Cl)Cl HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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Description
本発明は、光触媒能を有する二酸化チタンからなる光触媒皮膜の製造方法に関するものである。 The present invention relates to a method for producing a photocatalytic film made of titanium dioxide having photocatalytic activity.
近年、光触媒は、環境分野やエネルギー分野で有効に利用できるため、非常に注目されている。具体的には、光触媒は、例えばＮＯｘ等の有害物を分解できるので、環境浄化の手段として利用できる。また、光触媒は、例えばチタニアナノアレイや色素増感太陽電池等に利用できる。 In recent years, photocatalysts have attracted much attention because they can be used effectively in the environmental and energy fields. Specifically, since the photocatalyst can decompose harmful substances such as NOx, it can be used as a means for environmental purification. Moreover, a photocatalyst can be utilized for a titania nanoarray, a dye-sensitized solar cell, etc., for example.
ところで、光触媒の一つとして注目されている二酸化チタンは、粒子として合成される。しかし、粒子の二酸化チタンは、取扱いが不便であり、また、使用後の回収が困難である。そこで、二酸化チタンを基板に固定して光触媒皮膜として使用することが、一般に行われている。その固定法としては、スパッタリング法やスラリー法やゾルゲル法（特許文献１参照）が知られている。 By the way, titanium dioxide attracting attention as one of photocatalysts is synthesized as particles. However, particulate titanium dioxide is inconvenient to handle and difficult to recover after use. Therefore, it is generally performed that titanium dioxide is fixed to a substrate and used as a photocatalytic film. As the fixing method, a sputtering method, a slurry method, and a sol-gel method (see Patent Document 1) are known.
一方、二酸化チタンを光触媒皮膜として使用する場合には、取扱いは便利となるが、二酸化チタンの、光に反応する表面積（以下、「反応表面積」と称する）が、二酸化チタンを粒子のままで使用する場合に比して、減少してしまい、それ故、光触媒能が低くなる。
スラリー法やゾルゲル法では、二酸化チタンと基板との密着性が不十分であり、溶液の管理が困難であり、高コストである等の、問題があった。そこで、二酸化チタンを密着性良く且つ簡単に基板に固定できる方法が、望まれている。 The slurry method and the sol-gel method have problems such as insufficient adhesion between titanium dioxide and the substrate, difficult solution management, and high cost. Therefore, a method that can easily fix titanium dioxide to a substrate with good adhesion is desired.
また、二酸化チタンを基板に固定して光触媒皮膜として使用する場合であっても、基板の単位面積当たりの二酸化チタンの反応表面積を増大させて光触媒能を向上させることが、望まれている。 Even when titanium dioxide is fixed to a substrate and used as a photocatalytic film, it is desired to increase the reaction surface area of titanium dioxide per unit area of the substrate to improve the photocatalytic performance.
本発明は、基板の単位面積当たりの二酸化チタンの反応表面積が大きいために高い光触媒能を発揮できる光触媒皮膜を、密着性良く且つ簡単に基板に形成することができる、光触媒皮膜の製造方法を、提供することを目的とする。 The present invention provides a method for producing a photocatalytic film, in which a photocatalytic film capable of exhibiting high photocatalytic performance due to a large reaction surface area of titanium dioxide per unit area of the substrate can be easily formed on the substrate with good adhesion. The purpose is to provide.
本発明の光触媒皮膜の製造方法は、次の構成（ｉ）〜（iii）の光触媒皮膜を得ることができるものである。
（ｉ）多孔性の陽極酸化皮膜の表面及び孔内面に形成された、光触媒能を有する二酸化チタン、からなることを特徴とする光触媒皮膜である。しかも、二酸化チタンが、金属単体を担持しているものである。金属単体としては、例えば、白金、金、パラジウム、ルテニウム、銀、スズ、マンガン、銅、コバルト、ニッケルがある。
The method for producing a photocatalytic film of the present invention can obtain the photocatalytic film having the following constitutions (i) to (iii) .
(I) A photocatalytic film comprising titanium dioxide having photocatalytic activity, which is formed on the surface of a porous anodic oxide film and the inner surface of a hole. Moreover, titanium dioxide carries a single metal. Examples of the simple metal include platinum, gold, palladium, ruthenium, silver, tin, manganese, copper, cobalt, and nickel.
（ii）上記（ｉ）において、陽極酸化皮膜が、アルミニウム、マグネシウム、チタン、又は各々の合金を、陽極酸化処理することによって、形成されたものである。 (Ii) In the above (i), the anodized film is formed by anodizing aluminum, magnesium, titanium, or an alloy of each.
（iii）上記（ｉ）において、金属単体が、白金、金、パラジウム、ルテニウム、銀、スズ、マンガン、銅、コバルト、又はニッケルであるものである。 (Iii) In the above (i) , the metal simple substance is platinum, gold, palladium, ruthenium, silver, tin, manganese, copper, cobalt, or nickel.
請求項１記載の発明は、多孔性の陽極酸化皮膜を、チタニル酸塩と、チタニルと陽イオン錯体を形成する錯化剤と、を含む混合浴中で、電解処理して、陽極酸化皮膜の表面及び孔内面に、二酸化チタンを析出させて二酸化チタン皮膜を形成する、チタニル電解処理工程と、二酸化チタン皮膜を、焼成して、光触媒能を有する二酸化チタンからなる光触媒皮膜に変化させる、焼成処理工程と、を有し、更に、上記チタニル電解処理工程の前に、多孔性の陽極酸化皮膜を、金属塩の浴中で、電解処理して、陽極酸化皮膜の孔中に、金属単体を析出させる、金属電解処理工程、を有しており、上記焼成処理工程が、更に、熱拡散によって、金属単体を二酸化チタンに担持させるものである、ことを特徴とする光触媒皮膜の製造方法である。 According to a first aspect of the present invention, a porous anodic oxide film is subjected to an electrolytic treatment in a mixed bath containing titanylate and a complexing agent that forms a cationic complex with titanyl. A titanyl electrolytic treatment process in which titanium dioxide is deposited on the surface and the inner surface of the hole to form a titanium dioxide film, and the titanium dioxide film is baked to change to a photocatalyst film made of titanium dioxide having photocatalytic activity. a step, was closed, and further, before the titanyl electrolytic treatment step, the porosity of the anodized film, in a bath of the metal salt, and electrolysis, in the pores of the anodic oxide film, depositing a metal simple substance A method for producing a photocatalytic film, characterized in that the step of firing further comprises supporting a metal simple substance on titanium dioxide by thermal diffusion .
請求項２記載の発明は、請求項１記載の発明において、陽極酸化皮膜として、アルミニウム、マグネシウム、チタン、又は各々の合金を、陽極酸化処理することによって、形成されたものを、用いるものである。
Invention of
請求項３記載の発明は、請求項１又は２に記載の発明において、チタニル酸塩として、硫酸チタニルを用いるものである。
The invention described in
請求項４記載の発明は、請求項１〜３のいずれか一つに記載の発明において、錯化剤として、シュウ酸を用いるものである。
The invention according to
請求項５記載の発明は、請求項１〜４のいずれか一つに記載の発明において、金属塩として、白金、金、パラジウム、ルテニウム、銀、スズ、マンガン、銅、コバルト、又はニッケルの、塩を用いるものである。
The invention according to claim 5 is the invention according to any one of
上記構成（ｉ）によれば、光触媒皮膜が陽極酸化皮膜の表面だけでなく孔内面にも形成されているので、基板の単位面積当たりの、光触媒皮膜の面積すなわち二酸化チタンの反応表面積が非常に大きく、したがって、高い光触媒能を発揮できる。 According to the configuration (i), since the photocatalytic film is formed not only on the surface of the anodized film but also on the inner surface of the hole, the area of the photocatalytic film, that is, the reaction surface area of titanium dioxide per unit area of the substrate is very high. Therefore, high photocatalytic ability can be exhibited.
しかも、二酸化チタンが金属単体を担持しているので、可視光を吸収して低い光エネルギーで励起電子を発生させ、しかも、その励起電子の再結合を抑制でき、したがって、更に高い光触媒能を発揮できる。 Moreover, since titanium dioxide carries a single metal, it absorbs visible light to generate excited electrons with a low light energy, yet, can be suppressed recombination of the excited electrons, follow, further high photocatalytic activity Can be demonstrated.
上記構成（ii）によれば、種々の陽極酸化皮膜を利用できるので、光触媒皮膜の用途範囲を拡大できる。 According to the configuration (ii) , since various anodic oxide films can be used, the application range of the photocatalyst film can be expanded.
上記構成（iii）によれば、上記構成（ｉ）の光触媒皮膜を確実に実現できる。 According to the said structure (iii) , the photocatalyst membrane | film | coat of the said structure (i) is realizable reliably.
請求項１記載の発明では、チタニル電解処理工程において、チタニル錯体が生成して、それが陽極酸化皮膜の表面に付着するとともに孔内に入って孔内面にも付着し、二酸化チタンが析出し、これにより、二酸化チタン皮膜が陽極酸化皮膜の表面及び孔内面に形成される。そして、焼成処理工程において、二酸化チタンの結晶構造がアナタース型に変化し、これにより、陽極酸化皮膜の表面及び孔内面に、光触媒皮膜が得られる。
In the invention according to
しかも、金属電解処理工程において、陽極酸化皮膜の孔中に金属単体又は金属化合物のコロイド粒子が析出する。そして、焼成処理工程において、熱拡散によって、金属単体が二酸化チタンに担持される。したがって、請求項１記載の発明によれば、上記構成（ｉ）の光触媒皮膜を密着性良く且つ簡単に基板に形成することができる。 In addition , in the metal electrolytic treatment process, colloidal particles of a single metal or a metal compound are deposited in the pores of the anodized film. And in a baking treatment process, a metal simple substance is carry | supported by titanium dioxide by thermal diffusion. Therefore, according to the first aspect of the present invention, the photocatalytic film having the structure (i) can be easily formed on the substrate with good adhesion.
請求項２記載の発明によれば、上記構成（ii）の光触媒皮膜を得ることができる。
According to invention of
請求項３記載の発明によれば、硫酸チタニルが比較的安価な材料であるので、上記構成（ｉ）の光触媒皮膜を安価に得ることができる。
According to the invention described in
請求項４記載の発明によれば、２価の陰イオンの錯体を安定して生成させることができ、したがって、チタニル電解処理工程を安定して実施することができる。例えば、チタニル酸塩として硫酸チタニルを用い、錯化剤としてシュウ酸を用いた場合には、硫酸チタニルとシュウ酸とが２：１のモル比で反応して、［（ＴｉＯ）２Ｃ２Ｏ４］２＋の陽イオン錯体が生成する。
According to invention of
請求項５記載の発明によれば、上記構成（ｉ）の光触媒皮膜を種々得ることができる。 According to invention of Claim 5 , various photocatalyst films | membranes of the said structure (i) can be obtained.
（基本形態）
本基本形態の光触媒皮膜は、次の工程（Ａ）、（Ｂ）、及び（Ｃ）を経て形成される。
( Basic form)
The photocatalyst film of this basic form is formed through the following steps (A), (B), and (C).
（Ａ）陽極酸化皮膜の形成工程
（ａ）前処理工程
純アルミニウム材からなる基板を、まず、希アルカリによって脱脂処理及びエッチング処理し、そして、希酸によってデスマット処理する。
(A) Anodic oxide film forming step (a) Pretreatment step A substrate made of a pure aluminum material is first degreased and etched with a dilute alkali, and then desmutted with dilute acid.
（ｂ）陽極酸化処理工程
前処理された基板を、硫酸の浴中で、対極として白金板又はチタン板を用いて、電解処理する。これにより、基板表面に、多孔性の陽極酸化皮膜が形成される。
(B) Anodizing treatment step The pretreated substrate is subjected to electrolytic treatment in a sulfuric acid bath using a platinum plate or a titanium plate as a counter electrode. Thereby, a porous anodic oxide film is formed on the substrate surface.
より具体的には、硫酸濃度は１．５ｍｏｌ／ｌ、電解処理は直流定電流電解処理又は交流定電圧電解処理又は交直重畳電解処理、電流密度は１〜２Ａ／ｄｍ２、浴温度は０〜２５℃、電解時間は３０〜６０分である。これにより、形成される陽極酸化皮膜の膜厚は１０〜３０μｍであった。なお、浴は、硫酸、シュウ酸、リン酸、ギ酸、クロム酸の、単独浴又は混合浴でもよい。また、硫酸と硫酸アルミニウムとの混合浴でもよく、具体的には、硫酸濃度は１．５ｍｏｌ／ｌ、硫酸アルミニウム濃度は０．０５ｍｏｌ／ｌである。 More specifically, the sulfuric acid concentration is 1.5 mol / l, the electrolytic treatment is direct current constant current electrolytic treatment or alternating current constant voltage electrolytic treatment or AC / DC superposition electrolytic treatment, the current density is 1 to 2 A / dm 2 , and the bath temperature is 0 to 0. 25 degreeC and electrolysis time are 30 to 60 minutes. Thereby, the film thickness of the formed anodic oxide film was 10-30 micrometers. The bath may be a single bath or a mixed bath of sulfuric acid, oxalic acid, phosphoric acid, formic acid, and chromic acid. Further, a mixed bath of sulfuric acid and aluminum sulfate may be used. Specifically, the sulfuric acid concentration is 1.5 mol / l, and the aluminum sulfate concentration is 0.05 mol / l.
（Ｂ）チタニル電解処理工程
陽極酸化皮膜を、硫酸チタニルとシュウ酸との混合浴中で、対極として白金板を用いて、電解処理する。これにより、陽極酸化皮膜の表面及び孔内面に、二酸化チタンからなる皮膜が形成される。
(B) Titanyl Electrolytic Treatment Step The anodized film is subjected to electrolytic treatment using a platinum plate as a counter electrode in a mixed bath of titanyl sulfate and oxalic acid. Thereby, a film made of titanium dioxide is formed on the surface of the anodized film and the inner surface of the hole.
より具体的には、硫酸チタニル濃度は０．０１〜０．１ｍｏｌ／ｌ、シュウ酸濃度は０．１〜０．５ｍｏｌ／ｌ、浴ｐＨは４〜６、浴温度は０〜２５℃、電解時間は１〜１０分、電解処理は直流電解処理又は交流電解処理又は交直ハイブリッド電解処理である。直流電解処理又は交流電解処理の場合、電圧は５〜３０Ｖ、電解時間は１〜１０分であり、交直ハイブリッド電解処理の場合、基底電圧は５〜１０Ｖ、振幅は５〜２０Ｖ、周波数は１〜１０ｋＨｚ、電解時間は１〜１０分である。 More specifically, titanyl sulfate concentration is 0.01 to 0.1 mol / l, oxalic acid concentration is 0.1 to 0.5 mol / l, bath pH is 4 to 6, bath temperature is 0 to 25 ° C., electrolysis The time is 1 to 10 minutes, and the electrolytic treatment is direct current electrolytic treatment, alternating current electrolytic treatment, or AC / DC hybrid electrolytic treatment. In the case of direct current electrolytic treatment or alternating current electrolytic treatment, the voltage is 5 to 30 V, and the electrolysis time is 1 to 10 minutes. In the case of AC / DC hybrid electrolytic treatment, the base voltage is 5 to 10 V, the amplitude is 5 to 20 V, and the frequency is 1 to 10. 10 kHz, electrolysis time is 1 to 10 minutes.
（Ｃ）焼成処理工程
二酸化チタン皮膜が形成された陽極酸化皮膜を、焼成する。これにより、二酸化チタンが、アナタース型結晶構造を有する二酸化チタンに変化し、したがって、二酸化チタン皮膜が、光触媒能を有する二酸化チタンからなる光触媒皮膜となる。焼成温度は、０〜５００℃、好ましくは３５０〜５００℃、より好ましくは４５０℃である。
(C) Firing treatment step The anodized film on which the titanium dioxide film is formed is fired. Thereby, titanium dioxide changes to titanium dioxide having an anatase type crystal structure, and thus the titanium dioxide film becomes a photocatalytic film made of titanium dioxide having photocatalytic ability. A calcination temperature is 0-500 degreeC, Preferably it is 350-500 degreeC, More preferably, it is 450 degreeC.
上記工程（Ａ）、（Ｂ）、及び（Ｃ）を経て得られる本基本形態の光触媒皮膜は、陽極酸化皮膜の表面だけでなく孔内面にも形成されているので、非常に大きな表面積を有している。すなわち、基板の単位面積当たりの、本基本形態の光触媒皮膜の面積すなわち二酸化チタンの反応表面積は、非常に大きい。したがって、本基本形態の光触媒皮膜は、高い光触媒能を有している。すなわち、本基本形態の光触媒皮膜によれば、高い光触媒能を発揮できる。また、吸収端の波長が短い方へシフトするので、この点からも高い光触媒能を発揮できる。 The photocatalyst film of this basic form obtained through the above steps (A), (B), and (C) is formed not only on the surface of the anodized film but also on the inner surface of the hole, and thus has a very large surface area. is doing. That is, the area of the photocatalytic film of this basic form, that is, the reaction surface area of titanium dioxide per unit area of the substrate is very large. Therefore, the photocatalytic film of this basic form has a high photocatalytic ability. That is, according to the photocatalytic film of this basic form, high photocatalytic ability can be exhibited. Moreover, since the wavelength of the absorption edge is shifted to a shorter one, high photocatalytic ability can be exhibited from this point.
また、本基本形態の製造方法は、通常の前処理及び陽極酸化処理に加えて、チタニル電解処理及び焼成処理を行うだけであるので、極めて簡単に実施することができる。すなわち、本基本形態の製造方法によれば、光触媒皮膜を極めて簡単に基板に形成することができる。 Further, the manufacturing method of the present basic embodiment can be carried out very simply because only the titanyl electrolytic treatment and the firing treatment are performed in addition to the normal pretreatment and anodizing treatment. That is, according to the manufacturing method of the present basic embodiment, the photocatalytic film can be formed on the substrate very easily.
しかも、本基本形態の製造方法は、電解処理によって、陽極酸化皮膜の表面及び孔内面に、二酸化チタンを析出させているので、二酸化チタンと陽極酸化皮膜との密着性が良好である。したがって、本基本形態の製造方法によれば、光触媒皮膜を密着性良く基板に形成することができる。 Moreover, in the manufacturing method of this basic form, since titanium dioxide is deposited on the surface of the anodized film and the inner surface of the hole by electrolytic treatment, the adhesion between the titanium dioxide and the anodized film is good. Therefore, according to the manufacturing method of this basic form, the photocatalytic film can be formed on the substrate with good adhesion.
（第１参考形態）
本参考形態の光触媒皮膜は、次の工程（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）、及び（Ｄ）を経て形成される。
( First reference form)
The photocatalytic film of this reference form is formed through the following steps (A), (B), (C), and (D).
（Ａ）陽極酸化皮膜の形成工程
基本形態と同様に処理する。
(A) Anodized film formation process
Process in the same way as the basic form.
（Ｂ）チタニル電解処理工程
基本形態と同様に処理する。
(B) Titanyl electrolytic treatment process
Process in the same way as the basic form.
（Ｃ）焼成処理工程
基本形態と同様に処理する。
(C) Firing process
Process in the same way as the basic form.
（Ｄ）酸化物担持処理工程
光触媒皮膜が形成された陽極酸化皮膜を、過マンガン酸塩の水溶液中にて、光照射に晒す。これにより、マンガンが光還元されて、二酸化マンガンが光触媒皮膜の二酸化チタンに担持される。
(D) Oxide support treatment step The anodized film on which the photocatalytic film is formed is exposed to light irradiation in an aqueous solution of permanganate. Thereby, manganese is photoreduced and manganese dioxide is supported on titanium dioxide of the photocatalytic film.
より具体的には、過マンガン酸塩は、過マンガン酸カリウム、過マンガン酸ナトリウムであり、好ましくは、過マンガン酸カリウムである。過マンガン酸塩水溶液の濃度は、１×１０−４〜２ｍｏｌ／ｌ、好ましくは、０．００１〜０．１ｍｏｌ／ｌである。何故なら、１×１０−４ｍｏｌ／ｌ未満の場合には、マンガンの還元速度すなわち反応速度が遅く、２ｍｏｌ／ｌを越える場合には、反応速度が速すぎ、いずれの場合も、二酸化マンガンの担持量を制御するのが困難だからである。過マンガン酸塩水溶液の温度は、０〜９５℃、好ましくは、２０〜５５℃である。何故なら、０℃未満の場合には、反応速度が遅く、９５℃を越える場合には、反応速度が速すぎ、いずれの場合も、二酸化マンガンの担持量を制御するのが困難だからである。光照射における光の波長は、２２０〜４００ｎｍ、好ましくは、２５０〜３８０ｎｍである。何故なら、２２０ｎｍ未満の場合には、空気中の酸素が光エネルギーを吸収してしまい、４００ｎｍを越える場合には、二酸化マンガンが二酸化チタン上に担持されないからである。光照射の時間は、１〜７２００分、好ましくは、３０〜１２０分である。１分未満の場合には、二酸化マンガンの担持量が少なく、７２００分を越える場合には、二酸化マンガンが二酸化チタンの全面を覆って光を吸収してしまい、いずれの場合も、高い光触媒能を発揮できないからである。 More specifically, the permanganate is potassium permanganate or sodium permanganate, preferably potassium permanganate. The concentration of the permanganate aqueous solution is 1 × 10 −4 to 2 mol / l, preferably 0.001 to 0.1 mol / l. This is because if the concentration is less than 1 × 10 −4 mol / l, the reduction rate of manganese, that is, the reaction rate is slow, and if it exceeds 2 mol / l, the reaction rate is too high. This is because it is difficult to control the loading amount. The temperature of the permanganate aqueous solution is 0 to 95 ° C, preferably 20 to 55 ° C. This is because when the temperature is lower than 0 ° C., the reaction rate is low, and when it exceeds 95 ° C., the reaction rate is too high, and in any case, it is difficult to control the amount of manganese dioxide supported. The wavelength of light in the light irradiation is 220 to 400 nm, preferably 250 to 380 nm. This is because oxygen in the air absorbs light energy when it is less than 220 nm, and manganese dioxide is not supported on titanium dioxide when it exceeds 400 nm. The light irradiation time is 1 to 7200 minutes, preferably 30 to 120 minutes. If it is less than 1 minute, the amount of manganese dioxide supported is small, and if it exceeds 7200 minutes, manganese dioxide covers the entire surface of titanium dioxide and absorbs light. In either case, high photocatalytic activity is achieved. It is because it cannot be demonstrated.
上記工程（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）、及び（Ｄ）を経て得られる本参考形態の光触媒皮膜は、基本形態と同様に、陽極酸化皮膜の表面だけでなく孔内面にも形成されているので、非常に大きな反応表面積を有している。したがって、本参考形態の光触媒皮膜によれば、基本形態と同様に、高い光触媒能を発揮できる。 The step (A), (B), (C), and photocatalytic coating of the present reference embodiment obtained through (D), as well as the basic form, also formed in the hole inner surface as well as the surface of the anodized film Therefore, it has a very large reaction surface area. Therefore, according to the photocatalyst film of this preferred embodiment, similarly to the basic mode, it can exhibit high photocatalytic activity.
しかも、本参考形態の光触媒皮膜は、二酸化チタンが二酸化マンガンを担持しているので、得られた皮膜は灰色を呈し、可視光を吸収して低い光エネルギーで励起電子を発生させ、しかも、その励起電子の再結合を抑制でき、したがって、基本形態の光触媒皮膜に比して、高い光触媒能を発揮できる。 Moreover, the photocatalyst film of this reference embodiment, since titanium dioxide carries a manganese dioxide, the resulting coating exhibits a gray, to generate excited electrons with a low light energy by absorbing visible light, moreover, the The recombination of excited electrons can be suppressed, and therefore high photocatalytic ability can be exhibited as compared with the photocatalytic film of the basic form.
また、本参考形態の製造方法は、通常の前処理及び陽極酸化処理に加えて、チタニル電解処理、焼成処理、及び酸化物担持処理を行うだけであるので、極めて簡単に実施することができる。すなわち、本参考形態の製造方法によれば、光触媒皮膜を極めて簡単に基板に形成することができる。 The manufacturing method of this preferred embodiment, in addition to the usual pre-treatment and anodic oxidation treatment, titanyl electrolytic treatment, calcination treatment, and since only performs oxide carrier treatment can be carried out very easily. That is, according to the manufacturing method of this preferred embodiment, it is possible to form the photocatalytic coating very simply to the substrate.
しかも、本参考形態の製造方法は、電解処理によって、陽極酸化皮膜の表面及び孔内面に、二酸化チタンを析出させているので、基本形態と同様に、光触媒皮膜を密着性良く基板に形成することができる。 Moreover, the production method of the present reference embodiment, the electrolytic treatment, the surface and the hole inner surface of the anodic oxide film, since the precipitate of titanium dioxide, like the basic configuration, forming a photocatalyst film on good adhesion substrate Can do.
（第１実施形態）
本実施形態の光触媒皮膜は、次の工程（Ａ）、（Ｅ）、（Ｂ）、及び（Ｃ）を経て形成される。
( First embodiment)
The photocatalytic film of this embodiment is formed through the following steps (A), (E), (B), and (C).
（Ａ）陽極酸化皮膜の形成工程
基本形態と同様に処理する。
(A) Anodized film formation process
Process in the same way as the basic form.
（Ｅ）金属電解処理工程
陽極酸化皮膜を、金属塩の水溶液中で、対極として白金板を用いて、電解処理する。これにより、陽極酸化皮膜の孔中に、金属単体又は金属化合物のコロイド粒子が析出する。
(E) Metal Electrolytic Treatment Step The anodized film is electrolytically treated in an aqueous solution of metal salt using a platinum plate as a counter electrode. Thereby, the colloidal particle of a metal simple substance or a metal compound precipitates in the hole of an anodized film.
より具体的には、金属塩は、白金、金、パラジウム、ルテニウム、銀、スズ、マンガン、銅、コバルト、又はニッケルの、塩化物、硫化物等である。金属塩水溶液の濃度は０．００１〜０．０１ｍｏｌ／ｌ、水溶液ｐＨは１〜９、水溶液温度は０〜２５℃、電解時間は１〜１５分、電解処理は直流電解処理又は交流電解処理又は交直ハイブリッド電解処理である。直流電解処理又は交流電解処理の場合、電圧は５〜３０Ｖ、電解時間は１〜１０分であり、交直ハイブリッド電解処理の場合、基底電圧は５〜１０Ｖ、振幅は５〜２０Ｖ、周波数は１〜１０ｋＨｚ、電解時間は１〜１０分である。 More specifically, the metal salt is a chloride, sulfide, or the like of platinum, gold, palladium, ruthenium, silver, tin, manganese, copper, cobalt, or nickel. The concentration of the metal salt aqueous solution is 0.001 to 0.01 mol / l, the aqueous solution pH is 1 to 9, the aqueous solution temperature is 0 to 25 ° C., the electrolysis time is 1 to 15 minutes, and the electrolytic treatment is DC electrolytic treatment or AC electrolytic treatment or AC / DC hybrid electrolytic treatment. In the case of direct current electrolytic treatment or alternating current electrolytic treatment, the voltage is 5 to 30 V, and the electrolysis time is 1 to 10 minutes. In the case of AC / DC hybrid electrolytic treatment, the base voltage is 5 to 10 V, the amplitude is 5 to 20 V, and the frequency is 1 to 10. 10 kHz, electrolysis time is 1 to 10 minutes.
（Ｂ）チタニル電解処理工程
金属単体が析出した陽極酸化皮膜を、基本形態と同様に、電解処理する。これにより、陽極酸化皮膜の表面及び孔内面に、二酸化チタンからなる皮膜が形成される。
(B) Titanyl electrolytic treatment step The anodized film on which the metal simple substance is deposited is subjected to electrolytic treatment in the same manner as in the basic form. Thereby, a film made of titanium dioxide is formed on the surface of the anodized film and the inner surface of the hole.
（Ｃ）焼成処理工程
金属単体が析出し且つ二酸化チタン皮膜が形成された陽極酸化皮膜を、焼成する。これにより、二酸化チタンが、アナタース型結晶構造を有する二酸化チタンに変化し、したがって、二酸化チタン皮膜が、光触媒能を有する二酸化チタンからなる光触媒皮膜となり、また、熱拡散によって、金属単体が二酸化チタンに担持される。焼成温度は、０〜５００℃、好ましくは３５０〜５００℃、より好ましくは４５０℃である。
(C) Firing treatment step An anodized film on which a metal simple substance is deposited and a titanium dioxide film is formed is fired. As a result, the titanium dioxide is changed to titanium dioxide having an anatase type crystal structure, so that the titanium dioxide film becomes a photocatalytic film made of titanium dioxide having photocatalytic activity, and the metal simple substance becomes titanium dioxide by thermal diffusion. Supported. A calcination temperature is 0-500 degreeC, Preferably it is 350-500 degreeC, More preferably, it is 450 degreeC.
上記工程（Ａ）、（Ｅ）、（Ｂ）、及び（Ｃ）を経て得られる本実施形態の光触媒皮膜は、基本形態と同様に、陽極酸化皮膜の表面だけでなく孔内面にも形成されているので、非常に大きな反応表面積を有している。したがって、本実施形態の光触媒皮膜によれば、基本形態と同様に、高い光触媒能を発揮できる。 The photocatalytic film of this embodiment obtained through the above steps (A), (E), (B), and (C) is formed not only on the surface of the anodized film but also on the inner surface of the hole, as in the basic mode. Therefore, it has a very large reaction surface area. Therefore, according to the photocatalyst film of the present embodiment, high photocatalytic ability can be exhibited as in the basic form.
しかも、本実施形態の光触媒皮膜は、二酸化チタンが金属単体を担持しているので、可視光を吸収して低い光エネルギーで励起電子を発生させ、しかも、その励起電子の再結合を抑制でき、したがって、基本形態の光触媒皮膜に比して、高い光触媒能を発揮できる。 Moreover, since the photocatalytic film of the present embodiment has titanium dioxide supporting a single metal, it absorbs visible light and generates excited electrons with low light energy, and can suppress recombination of the excited electrons, Therefore, a high photocatalytic ability can be exhibited as compared with the photocatalytic film of the basic form.
また、本実施形態の製造方法は、通常の前処理及び陽極酸化処理に加えて、金属電解処理、チタニル電解処理、及び焼成処理を行うだけであるので、極めて簡単に実施することができる。すなわち、本実施形態の製造方法によれば、光触媒皮膜を極めて簡単に基板に形成することができる。 Further, the manufacturing method of the present embodiment can be carried out very simply because only the metal electrolytic treatment, the titanyl electrolytic treatment, and the firing treatment are performed in addition to the normal pretreatment and anodizing treatment. That is, according to the manufacturing method of the present embodiment, the photocatalytic film can be formed on the substrate very easily.
しかも、本実施形態の製造方法は、電解処理によって、陽極酸化皮膜の表面及び孔内面に、二酸化チタンを析出させているので、基本形態と同様に、光触媒皮膜を密着性良く基板に形成することができる。 Moreover, since the manufacturing method of the present embodiment deposits titanium dioxide on the surface of the anodized film and the inner surface of the hole by electrolytic treatment, the photocatalytic film is formed on the substrate with good adhesion as in the basic mode. Can do.
（第２参考形態）
本参考形態の光触媒皮膜は、次の工程（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）、及び（Ｆ）を経て形成される。
( Second reference form)
The photocatalyst film of this reference form is formed through the following steps (A), (B), (C), and (F).
（Ａ）陽極酸化皮膜の形成工程
基本形態と同様に処理する。
(A) Anodized film formation process
Process in the same way as the basic form.
（Ｂ）チタニル電解処理工程
基本形態と同様に処理する。
(B) Titanyl electrolytic treatment process
Process in the same way as the basic form.
（Ｃ）焼成処理工程
基本形態と同様に処理する。
(C) Firing process
Process in the same way as the basic form.
（Ｆ）酸化物・金属担持処理工程
光触媒皮膜が形成された陽極酸化皮膜を、過マンガン酸塩及び金属塩の水溶液中にて、光照射に晒す。これにより、マンガン及び金属が光還元されて、二酸化マンガン及び金属が光触媒皮膜の二酸化チタンに担持される。
(F) Oxide / metal supporting treatment step The anodized film on which the photocatalytic film is formed is exposed to light irradiation in an aqueous solution of a permanganate and a metal salt. Thereby, manganese and a metal are photoreduced and manganese dioxide and a metal are carry | supported by the titanium dioxide of a photocatalyst membrane | film | coat.
より具体的には、過マンガン酸塩の種類は、第１参考形態と同じであり、金属塩の種類は、第１実施形態と同じであり、光照射の条件は、第１参考形態の酸化物担持処理工程と同じである。 More specifically, the type of permanganate is the same as in the first reference embodiment, the type of metal salt is the same as in the first embodiment, and the light irradiation conditions are the oxidation of the first reference embodiment. This is the same as the object carrying process step.
上記工程（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）、及び（Ｆ）を経て得られた本参考形態の光触媒皮膜は、基本形態と同様に、陽極酸化皮膜の表面だけでなく孔内面にも形成されているので、非常に大きな反応表面積を有している。したがって、本参考形態の光触媒皮膜によれば、基本形態と同様に、高い光触媒能を発揮できる。 The step (A), (B), (C), and (F) a photocatalyst film of this preferred embodiment obtained through the, like the basic configuration, also formed on the hole inner surface as well as the surface of the anodized film Therefore, it has a very large reaction surface area. Therefore, according to the photocatalyst film of this preferred embodiment, similarly to the basic mode, it can exhibit high photocatalytic activity.
しかも、本参考形態の光触媒皮膜は、二酸化チタンが二酸化マンガン及び金属単体を担持しているので、基本形態の光触媒皮膜に比して、高い光触媒能を発揮できる。 Moreover, the photocatalyst film of this reference embodiment, since titanium dioxide carries a manganese dioxide and metal alone, in comparison with the photocatalytic coating of the basic form, can exhibit high photocatalytic activity.
また、本参考形態の製造方法は、通常の前処理及び陽極酸化処理に加えて、チタニル電解処理、焼成処理、及び酸化物・金属担持処理を行うだけであるので、極めて簡単に実施することができる。すなわち、本参考形態の製造方法によれば、光触媒皮膜を極めて簡単に基板に形成することができる。 The manufacturing method of this preferred embodiment, in addition to the usual pre-treatment and anodic oxidation treatment, titanyl electrolytic treatment, calcination treatment, and since only performs oxide-metal-supported treatment be carried out very easily it can. That is, according to the manufacturing method of this preferred embodiment, it is possible to form the photocatalytic coating very simply to the substrate.
しかも、本参考形態の製造方法は、電解処理によって、陽極酸化皮膜の表面及び孔内面に、二酸化チタンを析出させているので、基本形態と同様に、光触媒皮膜を密着性良く基板に形成することができる。 Moreover, the production method of the present reference embodiment, the electrolytic treatment, the surface and the hole inner surface of the anodic oxide film, since the precipitate of titanium dioxide, like the basic configuration, forming a photocatalyst film on good adhesion substrate Can do.
（基本例）
基本形態に該当する例である。
( Basic example)
Examples appropriate for the current basic mode.
（Ａ）陽極酸化皮膜の形成工程
（ａ）前処理工程
純アルミニウム材からなる基板を、まず、１０％水酸化ナトリウム水溶液によって脱脂処理及びエッチング処理し、そして、１０％硝酸によってデスマット処理した。
(A) Anodized film forming step (a) Pretreatment step A substrate made of a pure aluminum material was first degreased and etched with a 10% aqueous sodium hydroxide solution and desmutted with 10% nitric acid.
（ｂ）陽極酸化処理工程
前処理された基板を、１．５ｍｏｌ／ｌ硫酸の浴中で、対極として白金板を用いて、電解処理した。電解処理は直流定電流電解処理、電流密度は２Ａ／ｄｍ２、浴温度は１０℃、電解時間は３０分とした。これにより、図１の（ａ）に示すように、基板１表面に、多数の孔２１を有する、すなわち、多孔性の、陽極酸化皮膜２が形成された。陽極酸化皮膜２の膜厚は５０μｍ、孔２１の径（Ｌ１）は１０ｎｍ、孔２１の深さ（Ｌ２）は５０μｍであった。
(B) Anodizing treatment step The pretreated substrate was subjected to electrolytic treatment in a bath of 1.5 mol / l sulfuric acid using a platinum plate as a counter electrode. The electrolytic treatment was DC constant current electrolytic treatment, the current density was 2 A / dm 2 , the bath temperature was 10 ° C., and the electrolysis time was 30 minutes. As a result, as shown in FIG. 1A, a large number of
（Ｂ）チタニル電解処理工程
陽極酸化皮膜を、０．０２ｍｏｌ／ｌ硫酸チタニルと０．３ｍｏｌ／ｌシュウ酸との混合浴中で、対極として白金板を用いて、電解処理した。浴は、２８％ＮＨ４ＯＨによってｐＨ５に調整した。浴温度は１０℃、電解時間は５分、電解処理は交流電解処理、電圧は９Ｖとした。これにより、図１の（ｂ）に示すように、陽極酸化皮膜２の表面及び孔２１の内面に、二酸化チタンからなる皮膜３が形成された。
(B) Titanyl Electrolytic Treatment Step The anodized film was subjected to electrolytic treatment using a platinum plate as a counter electrode in a mixed bath of 0.02 mol / l titanyl sulfate and 0.3 mol / l oxalic acid. The bath was adjusted to pH 5 with 28% NH 4 OH. The bath temperature was 10 ° C., the electrolysis time was 5 minutes, the electrolysis was AC electrolysis, and the voltage was 9V. Thereby, as shown in FIG. 1B, a
（Ｃ）焼成処理工程
二酸化チタン皮膜が形成された陽極酸化皮膜を、４５０℃で焼成した。これにより、二酸化チタンが、アナタース型結晶構造を有する二酸化チタンに変化し、したがって、二酸化チタン皮膜が、光触媒能を有する二酸化チタンからなる光触媒皮膜となった。すなわち、陽極酸化皮膜の表面及び孔内面に、光触媒皮膜３を得た。
(C) Firing treatment step The anodized film on which the titanium dioxide film was formed was baked at 450 ° C. Thereby, the titanium dioxide was changed to titanium dioxide having an anatase type crystal structure, and thus the titanium dioxide film was a photocatalytic film made of titanium dioxide having photocatalytic ability. That is, the
［光触媒皮膜の同定］
Ｘ線光電子分光法により、基本例の光触媒皮膜の二酸化チタンの結合エネルギーを調べた。その結果を図２に示す。図２は、二酸化チタンがアナタース型結晶構造を有していることを示している。したがって、基本例の光触媒皮膜は、光触媒能を有する二酸化チタンからできている。
[Identification of photocatalytic film]
The binding energy of titanium dioxide in the photocatalyst film of the basic example was examined by X-ray photoelectron spectroscopy. The result is shown in FIG. FIG. 2 shows that titanium dioxide has an anatase type crystal structure. Accordingly, the basic photocatalytic film is made of titanium dioxide having photocatalytic activity.
［光触媒皮膜の形成状態］
基本例の光触媒皮膜の深さ方向分析をＳＩＭＳによって行った。なお、分析試料としては膜厚４μｍの陽極酸化皮膜を用い、深さ方向で４μｍまで分析した。その結果を図３に示す。図３において、ａ１はチタンの同位体の一方である４８Ｔｉ、ａ２はチタンの同位体の他方である４６Ｔｉを示す。図３からわかるように、いずれのＴｉも分析試料の孔の全深さに存在している。したがって、光触媒皮膜は、陽極酸化皮膜の表面だけでなく孔内面にも形成されている。
[Photocatalytic film formation state]
The depth direction analysis of the photocatalyst film of the basic example was performed by SIMS. As an analysis sample, an anodic oxide film having a film thickness of 4 μm was used, and analysis was performed up to 4 μm in the depth direction. The result is shown in FIG. In FIG. 3, a1 represents 48Ti which is one of titanium isotopes, and a2 represents 46Ti which is the other isotope of titanium. As can be seen from FIG. 3, all Ti is present at the entire depth of the hole in the analysis sample. Therefore, the photocatalytic film is formed not only on the surface of the anodized film but also on the inner surface of the hole.
［光触媒皮膜の反応表面積］
陽極酸化皮膜１ｇ当たり、１０ｍ２以上であった。
[Reaction surface area of photocatalytic coating]
It was 10 m 2 or more per 1 g of the anodized film.
［光触媒能の評価］
基本例の光触媒皮膜の光触媒能を、次のようにして評価した。すなわち、所定濃度のメチレンブルー水溶液中に光触媒皮膜を浸漬し、光触媒皮膜に紫外光を照射して、メチレンブルーの吸光度及び濃度の変化を３０分毎に調べた。その結果を図４の（ａ）及び（ｂ）に示す。（ａ）は吸光度の経時変化、（ｂ）は濃度の経時変化を示す。（ａ）において、ｂ１、ｂ２、ｂ３、ｂ４は、それぞれ、光照射時間が０分、３０分、６０分、９０分の場合の、メチレンブルーの特定波長の吸光度を示し、（ｂ）において、ｃ１はブランクの場合、ｃ２は基本例の光触媒皮膜の場合を示している。図４からわかるように、メチレンブルーは極めて短時間で分解されている。したがって、基本例の光触媒皮膜の光触媒能は、極めて高い。
[Evaluation of photocatalytic activity]
The photocatalytic ability of the photocatalytic film of the basic example was evaluated as follows. That is, the photocatalyst film was immersed in an aqueous solution of methylene blue having a predetermined concentration, the photocatalyst film was irradiated with ultraviolet light, and changes in absorbance and concentration of methylene blue were examined every 30 minutes. The results are shown in FIGS. 4 (a) and (b). (A) shows the change with time of absorbance, and (b) shows the change with time of concentration. In (a), b1, b2, b3, and b4 indicate the absorbance at a specific wavelength of methylene blue when the light irradiation time is 0 minutes, 30 minutes, 60 minutes, and 90 minutes, respectively. In (b), c1 In the case of a blank, c2 shows the case of the photocatalyst film of the basic example. As can be seen from FIG. 4, methylene blue is decomposed in a very short time. Therefore, the photocatalytic ability of the photocatalytic film of the basic example is extremely high.
［光触媒皮膜の吸収端］
紫外・可視吸収スペクトルを調べて、基本例の光触媒皮膜の吸収端を求めた。その結果を図５に示す。図５において、ｄ１は基本例の光触媒皮膜の吸収スペクトル、ｄ２はアナタース型結晶構造を有する市販の二酸化チタン粉末の吸収スペクトル、ｄ３は陽極酸化皮膜の吸収スペクトルである。図５からわかるように、基本例の光触媒皮膜の吸収端は３５０ｎｍ、市販の二酸化チタン粉末の吸収端は３８８ｎｍ、陽極酸化皮膜の吸収端は２８０ｎｍであった。また、基本例の光触媒皮膜の吸収領域は、市販の二酸化チタン粉末の吸収領域から、矢印Ｓだけ短波長側へシフトしている。これは、所謂、「量子サイズ効果」と称する。したがって、この点からも、基本例の光触媒皮膜の光触媒能は、極めて高い。
[Absorption edge of photocatalytic film]
The absorption edge of the photocatalyst film of the basic example was determined by examining the ultraviolet / visible absorption spectrum. The result is shown in FIG. In FIG. 5, d1 is an absorption spectrum of the photocatalyst film of the basic example, d2 is an absorption spectrum of a commercially available titanium dioxide powder having an anatase type crystal structure, and d3 is an absorption spectrum of the anodized film. As can be seen from FIG. 5, the absorption edge of the photocatalyst film of the basic example was 350 nm, the absorption edge of the commercially available titanium dioxide powder was 388 nm, and the absorption edge of the anodized film was 280 nm. Further, the absorption region of the photocatalyst film of the basic example is shifted to the short wavelength side by the arrow S from the absorption region of commercially available titanium dioxide powder. This is called the so-called “quantum size effect”. Therefore, also from this point, the photocatalytic ability of the photocatalytic film of the basic example is extremely high.
（第１参考例）
第１参考形態に該当する実施例である。
( First Reference Example)
It is an Example applicable to a 1st reference form.
（Ａ）陽極酸化皮膜の形成工程
（ａ）前処理工程
基本例と同様に処理した。
(A) Anodized film forming step (a) Pretreatment step
Processed as in the basic example.
（ｂ）陽極酸化処理工程
前処理された基板を、１．５ｍｏｌ／ｌ硫酸と０．０１５ｍｏｌ／ｌ硫酸アルミニウムとの混合浴中で、対極として白金板を用いて、電解処理した。電解処理は直流定電流電解処理、電流密度は２Ａ／ｄｍ２、浴温度は１０℃、電解時間は３０分とした。これにより、基板表面に、多孔性の陽極酸化皮膜が形成された。
(B) Anodizing treatment step The pretreated substrate was subjected to electrolytic treatment using a platinum plate as a counter electrode in a mixed bath of 1.5 mol / l sulfuric acid and 0.015 mol / l aluminum sulfate. The electrolytic treatment was DC constant current electrolytic treatment, the current density was 2 A / dm 2 , the bath temperature was 10 ° C., and the electrolysis time was 30 minutes. As a result, a porous anodic oxide film was formed on the substrate surface.
（Ｂ）チタニル電解処理工程
基本例と同様に処理した。これにより、陽極酸化皮膜の表面及び孔内面に、二酸化チタンからなる皮膜が形成された。
(B) Titanyl electrolytic treatment process
Processed as in the basic example. As a result, a film made of titanium dioxide was formed on the surface of the anodized film and the inner surface of the hole.
（Ｃ）焼成処理工程
基本例と同様に処理した。これにより、陽極酸化皮膜の表面及び孔内面に、光触媒皮膜を得た。
(C) Firing process
Processed as in the basic example. As a result, a photocatalytic film was obtained on the surface of the anodized film and the inner surface of the hole.
（Ｄ）酸化物担持処理工程
光触媒皮膜が形成された陽極酸化皮膜を、０．０１ｍｏｌ／ｌ過マンガン酸カリウムの水溶液中にて、光照射に晒した。水溶液の温度は２５℃とした。照射する光の波長は２２０〜４００ｎｍとした。照射時間は３０分とした。これにより、二酸化マンガンが光触媒皮膜の二酸化チタンに担持された。
(D) Oxide support treatment step The anodized film on which the photocatalyst film was formed was exposed to light irradiation in an aqueous solution of 0.01 mol / l potassium permanganate. The temperature of the aqueous solution was 25 ° C. The wavelength of the irradiated light was 220 to 400 nm. The irradiation time was 30 minutes. As a result, manganese dioxide was supported on titanium dioxide of the photocatalytic film.
（第１実施例）
第１実施形態に該当する実施例である。
( First embodiment)
It is an Example applicable to 1st Embodiment.
（Ａ）陽極酸化皮膜の形成工程
（ａ）前処理工程
基本例と同様に処理した。
(A) Anodized film forming step (a) Pretreatment step
Processed as in the basic example.
（ｂ）陽極酸化処理工程
第１参考例と同様に処理した。これにより、基板表面に、多孔性の陽極酸化皮膜が形成された。
(B) Anodizing process
The same treatment as in the first reference example was performed. As a result, a porous anodic oxide film was formed on the substrate surface.
（Ｅ）金属電解処理工程
陽極酸化皮膜を、０．００１ｍｏｌ／ｌ塩化白金酸水溶液中で、対極として白金板を用いて、電解処理した。水溶液ｐＨは２、水溶液温度は１０℃、電解処理は直流定電流電解処理、電圧は９Ｖ、電解時間は５分とした。これにより、陽極酸化皮膜の孔中に、白金が析出した。
(E) Metal electrolytic treatment step The anodized film was subjected to electrolytic treatment in a 0.001 mol / l chloroplatinic acid aqueous solution using a platinum plate as a counter electrode. The aqueous solution pH was 2, the aqueous solution temperature was 10 ° C., the electrolytic treatment was direct current constant current electrolytic treatment, the voltage was 9 V, and the electrolysis time was 5 minutes. Thereby, platinum precipitated in the holes of the anodized film.
次いで、陽極酸化皮膜を、０．００５ｍｏｌ／ｌ塩化スズ水溶液中で、対極として白金板を用いて、電解処理した。水溶液ｐＨは２、水溶液温度は１０℃、電解処理は直流定電流電解処理、電圧は９Ｖ、電解時間は５分とした。これにより、陽極酸化皮膜の孔中に、スズが析出した。 Next, the anodized film was subjected to electrolytic treatment in a 0.005 mol / l tin chloride aqueous solution using a platinum plate as a counter electrode. The aqueous solution pH was 2, the aqueous solution temperature was 10 ° C., the electrolytic treatment was direct current constant current electrolytic treatment, the voltage was 9 V, and the electrolysis time was 5 minutes. Thereby, tin precipitated in the holes of the anodized film.
（Ｂ）チタニル電解処理工程
白金及びスズが析出した陽極酸化皮膜を、基本例と同様に処理した。これにより、陽極酸化皮膜の表面及び孔内面に、二酸化チタンからなる皮膜が形成された。
(B) Titanyl electrolytic treatment step The anodized film on which platinum and tin were deposited was treated in the same manner as in the basic example. As a result, a film made of titanium dioxide was formed on the surface of the anodized film and the inner surface of the hole.
（Ｃ）焼成処理工程
白金及びスズが析出し且つ二酸化チタン皮膜が形成された陽極酸化皮膜を、基本例と同様に処理した。これにより、二酸化チタン皮膜が、光触媒能を有する二酸化チタンからなる光触媒皮膜となり、また、熱拡散によって、白金及びスズが二酸化チタンに担持された。したがって、二酸化チタンが白金及びスズを担持してなる光触媒皮膜が得られた。
(C) Firing treatment step An anodized film on which platinum and tin were deposited and a titanium dioxide film was formed was treated in the same manner as in the basic example. Thereby, the titanium dioxide film became a photocatalytic film made of titanium dioxide having photocatalytic activity, and platinum and tin were supported on titanium dioxide by thermal diffusion. Therefore, a photocatalytic film in which titanium dioxide supported platinum and tin was obtained.
（第２参考例）
第２参考形態に該当する実施例である。
( Second reference example)
This is an example corresponding to the second reference mode.
（Ａ）陽極酸化皮膜の形成工程
（ａ）前処理工程
基本例と同様に処理した。
(A) Anodized film forming step (a) Pretreatment step
Processed as in the basic example.
（ｂ）陽極酸化処理工程
第１参考例と同様に処理した。これにより、基板表面に、多孔性の陽極酸化皮膜が形成された。
(B) Anodizing process
The same treatment as in the first reference example was performed. As a result, a porous anodic oxide film was formed on the substrate surface.
（Ｂ）チタニル電解処理工程
基本例と同様に処理した。
(B) Titanyl electrolytic treatment process
Processed as in the basic example.
（Ｃ）焼成処理工程
基本例と同様に処理した。
(C) Firing process
Processed as in the basic example.
（Ｆ）酸化物・金属担持処理工程
光触媒皮膜が形成された陽極酸化皮膜を、０．０１ｍｏｌ／ｌ過マンガン酸カリウム及び０．０１ｍｏｌ／ｌ塩化白金酸の水溶液中にて、光照射に晒した。水溶液の温度は２５℃とした。照射する光の波長は２２０〜４００ｎｍとした。照射時間は３０分とした。これにより、二酸化マンガン及び白金が光触媒皮膜の二酸化チタンに担持された。すなわち、二酸化チタンが二酸化マンガン及び白金を担持してなる光触媒皮膜が得られた。
(F) Oxide / metal supporting treatment step The anodized film on which the photocatalytic film was formed was exposed to light irradiation in an aqueous solution of 0.01 mol / l potassium permanganate and 0.01 mol / l chloroplatinic acid. . The temperature of the aqueous solution was 25 ° C. The wavelength of the irradiated light was 220 to 400 nm. The irradiation time was 30 minutes. As a result, manganese dioxide and platinum were supported on the titanium dioxide of the photocatalytic film. That is, a photocatalytic film in which titanium dioxide supported manganese dioxide and platinum was obtained.
本発明は、基板の単位面積当たりの二酸化チタンの反応表面積が大きいために高い光触媒能を発揮できる光触媒皮膜を提供できるので、産業上の利用価値が大である。 INDUSTRIAL APPLICABILITY Since the present invention can provide a photocatalytic film capable of exhibiting high photocatalytic performance because of the large reaction surface area of titanium dioxide per unit area of the substrate, the industrial utility value is great.
１ 基板 ２ 陽極酸化皮膜 ２１ 孔 ３ 二酸化チタン皮膜（光触媒皮膜）
1
Claims (5)
二酸化チタン皮膜を、焼成して、光触媒能を有する二酸化チタンからなる光触媒皮膜に変化させる、焼成処理工程と、を有し、
更に、上記チタニル電解処理工程の前に、
多孔性の陽極酸化皮膜を、金属塩の浴中で、電解処理して、陽極酸化皮膜の孔中に、金属単体を析出させる、金属電解処理工程、を有しており、
上記焼成処理工程が、更に、熱拡散によって、金属単体を二酸化チタンに担持させるものである、ことを特徴とする光触媒皮膜の製造方法。 The porous anodic oxide film is subjected to electrolytic treatment in a mixed bath containing titanylate and a complexing agent that forms a cationic complex with titanyl, and titanium dioxide is formed on the surface of the anodized film and the inner surface of the pores. Forming a titanium dioxide film by depositing a titanium dioxide film,
Titanium dioxide coating, and fired, changing the photocatalyst film comprising titanium dioxide having photocatalytic activity, possess a baking process, and
Furthermore, before the titanyl electrolytic treatment step,
A metal anodizing step in which a porous anodic oxide film is electrolytically treated in a metal salt bath to deposit a single metal in the pores of the anodized film;
The method for producing a photocatalyst film, wherein the firing treatment step further comprises supporting titanium on titanium dioxide by thermal diffusion .
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2006157564A JP4905659B2 (en) | 2006-06-06 | 2006-06-06 | Method for producing photocatalytic film |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP2006157564A JP4905659B2 (en) | 2006-06-06 | 2006-06-06 | Method for producing photocatalytic film |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2007325995A JP2007325995A (en) | 2007-12-20 |
| JP4905659B2 true JP4905659B2 (en) | 2012-03-28 |
Family
ID=38926858
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2006157564A Expired - Fee Related JP4905659B2 (en) | 2006-06-06 | 2006-06-06 | Method for producing photocatalytic film |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4905659B2 (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN107680813A (en) * | 2017-08-14 | 2018-02-09 | 北京化工大学 | A kind of large-area dye-sensitized solar battery optoelectronic pole cascaded structure photoelectrocatalysidevice device |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9512536B2 (en) * | 2013-09-27 | 2016-12-06 | Apple Inc. | Methods for forming white anodized films by metal complex infusion |
| CN103788722B (en) * | 2014-02-17 | 2015-05-06 | 浙江瑞成珠光颜料有限公司 | Pearlescent pigment with bactericidal power |
| CN105803507B (en) * | 2014-12-31 | 2017-10-20 | 技嘉科技股份有限公司 | The surface treatment method of metal base |
| US20170121837A1 (en) | 2015-10-30 | 2017-05-04 | Apple Inc. | Anodic films for high performance aluminum alloys |
| CN109794237B (en) * | 2019-01-10 | 2021-08-13 | 北京工业大学 | Preparation method of silver-loaded titanium dioxide nanorod array photocatalyst |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09294933A (en) * | 1996-05-01 | 1997-11-18 | Taido Matsumoto | Material for building or interior equipment and its manufacture |
| JP2003306729A (en) * | 2002-04-15 | 2003-10-31 | Tokai Univ | Method for depositing manganese or manganese oxide |
| JP2005103505A (en) * | 2003-10-02 | 2005-04-21 | Denka Himaku Kogyo Kk | Method for manufacturing magnesium metallic material having photocatalytically active surface |
| EP1548157A1 (en) * | 2003-12-22 | 2005-06-29 | Henkel KGaA | Corrosion-protection by electrochemical deposition of metal oxide layers on metal substrates |
-
2006
- 2006-06-06 JP JP2006157564A patent/JP4905659B2/en not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN107680813A (en) * | 2017-08-14 | 2018-02-09 | 北京化工大学 | A kind of large-area dye-sensitized solar battery optoelectronic pole cascaded structure photoelectrocatalysidevice device |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2007325995A (en) | 2007-12-20 |
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