JP4902486B2 - Reflow device - Google Patents
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Description
この発明は、リフロー装置に関する。 The present invention relates to a reflow apparatus.
電子部品またはプリント配線基板に対して、予めはんだ組成物を供給しておき、リフロー炉の中に基板を搬送コンベヤで搬送し、はんだ付けを行ったり、熱硬化性接着剤によって電子部品を基板上に固定するために、リフロー装置が使用されている。 A solder composition is supplied in advance to an electronic component or printed wiring board, and the substrate is transferred to a reflow furnace by a transfer conveyor and soldered, or the electronic component is placed on the substrate by a thermosetting adhesive. A reflow device is used to secure the device.
リフロー装置は、基板を搬送する搬送コンベヤと、この搬送コンベヤによって基板が供給されるリフロー炉本体とを備えている。リフロー炉は、例えば、搬入口から搬出口に至る搬送経路に沿って、複数のゾーンに分割されており、これらの複数のゾーンがインライン状に配列されている。複数のゾーンは、その機能によって、加熱ゾーン、冷却ゾーンなどの役割を有する。 The reflow apparatus includes a transport conveyor for transporting a substrate and a reflow furnace main body to which the substrate is supplied by the transport conveyor. For example, the reflow furnace is divided into a plurality of zones along a transfer path from a carry-in port to a carry-out port, and the plurality of zones are arranged in-line. The plurality of zones have roles such as a heating zone and a cooling zone depending on their functions.
加熱ゾーンのそれぞれは、例えば、それぞれ送風機を含む上部加熱装置および下部加熱装置を有する。例えばゾーンの上部加熱装置から、搬送される基板に対して熱風が吹きつけられ、下部加熱装置から搬送される基板に対して熱風が吹きつけられることによって、はんだ組成物内のはんだを溶融させて基板の電極に付着させるようにする。 Each of the heating zones has, for example, an upper heating device and a lower heating device each including a blower. For example, hot air is blown from the upper heating device of the zone to the substrate to be conveyed, and hot air is blown to the substrate to be conveyed from the lower heating device, thereby melting the solder in the solder composition. It is made to adhere to the electrode of a board | substrate.
はんだ組成物は、粉末はんだ、溶剤、フラックスを含むものである。フラックスは、成分としてロジンなどを含むものであり、はんだ付けされる金属表面の酸化膜を除去し、はんだ付けの際に加熱で再酸化するのを防止し、はんだの表面張力を小さくして濡れを良くする塗布剤の働きをするものである。 The solder composition contains powder solder, a solvent, and a flux. Flux contains rosin as a component, removes the oxide film on the metal surface to be soldered, prevents reoxidation by heating during soldering, reduces the surface tension of the solder and wets it. It acts as a coating agent that improves
このフラックスは、加熱により、気化しリフロー炉内に充満する。気化したフラックスは、温度の低い部位に付着し易く、気化したフラックスが付着すると、付着している部位から滴下し、基板の上面に付着することもあり、基板の性能を損うこととなる。また、炉内において温度が低下する部分に堆積する等によりリフロー工程に大きな影響を与える場合もある。したがって、リフロー炉内の雰囲気ガス中に含まれるフラックス成分を除去または回収する幾つかの方法が提案されている。 This flux is vaporized by heating and fills the reflow furnace. The vaporized flux tends to adhere to a low temperature part, and when the vaporized flux adheres, it may drop from the adhering part and adhere to the upper surface of the substrate, impairing the performance of the substrate. In addition, there is a case where the reflow process is greatly affected by depositing on a portion where the temperature decreases in the furnace. Therefore, several methods for removing or recovering the flux component contained in the atmospheric gas in the reflow furnace have been proposed.
例えば、特許文献1で提案されているリフロー装置では、リフロー炉から取り出された雰囲気ガスを炉外に取り出して、取り出した雰囲気ガスを、触媒が作用する高温まで加熱した後、酸化触媒中を通過させることによって、雰囲気ガス中に含まれるフラックス成分が酸化処理されて水(蒸気)と炭酸ガスに分解する方法が提案されている。
For example, in the reflow apparatus proposed in
しかしながら、特許文献1では、リフロー炉運転開始当初の低温の雰囲気ガスを触媒温度調整用の加熱手段によって、触媒が作用する高温まで加熱しようとすると、触媒温度調整用の加熱手段に大きな負担が生じてしまう問題があった。
However, in
したがって、この発明の目的は、リフロー炉から取り出した雰囲気ガスを触媒が作用する高温まで効率良く上昇することができる、リフロー装置を提供することにある。 Accordingly, an object of the present invention is to provide a reflow apparatus capable of efficiently raising the atmospheric gas taken out from the reflow furnace to a high temperature at which the catalyst acts.
上述した課題を解決するために、
この発明は、
1または複数のゾーンのリフロー炉内から炉外に取り出された雰囲気ガスが、フラックス回収ユニットを通過してリフロー炉内に再度戻されるリフロー装置において、
フラックス回収ユニットは、雰囲気ガス中のフラックス成分を分解する触媒管と、雰囲気ガスが触媒管を通過する前に、雰囲気ガスを加熱する加熱手段と、を有するガス分解部を備え、
加熱手段の加熱開始を、リフロー炉のメインスイッチがONされてから所定時間経過後に行うようにされたこと
を特徴とするリフロー装置である。
In order to solve the above-mentioned problems,
This invention
In the reflow apparatus in which the atmospheric gas taken out from the inside of the reflow furnace in one or more zones passes through the flux recovery unit and is returned again into the reflow furnace.
The flux recovery unit includes a gas decomposition part having a catalyst tube for decomposing a flux component in the atmospheric gas, and a heating unit for heating the atmospheric gas before the atmospheric gas passes through the catalyst tube,
The reflow apparatus is characterized in that the heating means starts heating after a predetermined time has elapsed since the main switch of the reflow furnace was turned on.
この発明では、加熱手段の加熱開始を、リフロー炉のメインスイッチがONされてから所定時間経過後に行うようにすることで、雰囲気ガスを触媒が作用する高温まで効率良く上昇することができる。 In the present invention, the heating of the heating means is started after a predetermined time has elapsed since the main switch of the reflow furnace is turned on, so that the atmospheric gas can be efficiently raised to a high temperature at which the catalyst acts.
この発明によれば、リフロー炉から取り出した雰囲気ガスを触媒が作用する高温まで効率良く上昇することができる。 According to the present invention, the atmospheric gas taken out from the reflow furnace can be efficiently raised to a high temperature at which the catalyst acts.
以下、この発明の実施の形態について図面を参照して説明する。図1は、この発明の一実施形態によるリフロー装置の外板を除く概略的構成を示す。なお、図1では、説明の便宜上リフロー炉外に配置されるフラックス回収ユニットの図示を省略している。 Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 shows a schematic configuration excluding an outer plate of a reflow apparatus according to an embodiment of the present invention. In FIG. 1, for convenience of explanation, illustration of the flux recovery unit disposed outside the reflow furnace is omitted.
プリント配線基板の両面に表面実装用電子部品が搭載された被加熱物が搬送コンベヤの上に置かれ、搬入口11からリフロー装置内に搬入される。搬送コンベヤが所定速度で矢印方向(図1に向かって左から右方向)へ被加熱物を搬送し、被加熱物が搬出口12から取り出される。 An object to be heated, on which electronic components for surface mounting are mounted on both sides of the printed wiring board, is placed on a transfer conveyor and is carried into the reflow apparatus from the carry-in entrance 11. The conveyor conveys the object to be heated in the direction of the arrow (from left to right as viewed in FIG. 1) at a predetermined speed, and the object to be heated is taken out from the carry-out port 12.
搬入口11から搬出口12に至る搬送経路に沿って、リフロー炉が例えば9個のゾーンZ1からZ9に順次分割され、これらのゾーンZ1〜Z9がインライン状に配列されている。入り口側から7個のゾーンZ1〜Z7が加熱ゾーンであり、出口側の2個のゾーンZ8およびZ9が冷却ゾーンである。冷却ゾーンZ8およびZ9に関連して強制冷却ユニット14が設けられている。
A reflow furnace is sequentially divided into, for example, nine zones Z1 to Z9 along the conveyance path from the carry-in port 11 to the carry-out port 12, and these zones Z1 to Z9 are arranged in-line. Seven zones Z1 to Z7 from the inlet side are heating zones, and two zones Z8 and Z9 on the outlet side are cooling zones. A forced
上述した複数のゾーンZ1〜Z9がリフロー時の温度プロファイルにしたがって被加熱物の温度を制御する。図2に温度プロファイルの例の概略を示す。横軸が時間であり、縦軸が被加熱物例えば電子部品が実装されたプリント配線基板の表面温度である。最初の区間が加熱によって温度が上昇する昇温部R1であり、次の区間が温度がほぼ一定のプリヒート(予熱)部R2であり、次の区間が本加熱部R3であり、最後の区間が冷却部R4である。 The plurality of zones Z1 to Z9 described above controls the temperature of the object to be heated according to the temperature profile during reflow. FIG. 2 shows an outline of an example of a temperature profile. The horizontal axis represents time, and the vertical axis represents the surface temperature of a printed wiring board on which an object to be heated, such as an electronic component, is mounted. The first section is the temperature raising portion R1 where the temperature rises due to heating, the next section is the preheating (preheating) portion R2 where the temperature is substantially constant, the next section is the main heating portion R3, and the last section is This is the cooling unit R4.
昇温部R1は、常温からプリヒート部R2(例えば150°C〜170°C)まで基板を加熱する期間である。プリヒート部R2は、等温加熱を行い、フラックスを活性化し、電極、はんだ粉の表面の酸化膜を除去し、また、プリント配線基板の加熱ムラをなくすための期間である。本加熱部R3(例えばピーク温度で220°C〜240°C)は、はんだが溶融し、接合が完成する期間である。本加熱部R3では、はんだの溶融温度を超える温度まで昇温が必要とされる。本加熱部R3は、プリヒート部R2を経過していても、温度上昇のムラが存在するので、はんだの溶融温度を超える温度までの加熱が必要とされる。最後の冷却部R4は、急速にプリント配線基板を冷却し、はんだ組成を形成する期間である。 The temperature raising portion R1 is a period in which the substrate is heated from room temperature to a preheating portion R2 (for example, 150 ° C. to 170 ° C.). The preheating portion R2 is a period for performing isothermal heating, activating the flux, removing the oxide film on the surface of the electrodes and solder powder, and eliminating the heating unevenness of the printed wiring board. The main heating portion R3 (for example, 220 ° C. to 240 ° C. at the peak temperature) is a period in which the solder is melted and the joining is completed. In the main heating part R3, the temperature needs to be raised to a temperature exceeding the melting temperature of the solder. Even when the preheating portion R2 has passed, the main heating portion R3 needs to be heated to a temperature exceeding the melting temperature of the solder because there is uneven temperature rise. The last cooling part R4 is a period in which the printed wiring board is rapidly cooled to form a solder composition.
図2において、曲線1は、鉛フリーはんだの温度プロファイルを示す。共晶はんだの場合の温度プロファイルは、曲線2で示すものとなる。鉛フリーはんだの融点は、共晶はんだの融点より高いので、プリヒート部R2における設定温度が共晶はんだに比して高いものとされている。
In FIG. 2,
リフロー装置では、図2における昇温部R1の温度制御を、主としてゾーンZ1およびZ2が受け持つ。プリヒート部R2の温度制御は、主としてゾーンZ3、Z4およびZ5が受け持つ。本加熱部R3の温度制御は、ゾーンZ6およびZ7が受け持つ。冷却部R4の温度制御は、ゾーン8およびゾーン9が受け持つ。 In the reflow apparatus, the zones Z1 and Z2 are mainly responsible for the temperature control of the temperature raising portion R1 in FIG. The zones Z3, Z4 and Z5 are mainly responsible for the temperature control of the preheating part R2. The zones Z6 and Z7 are responsible for temperature control of the main heating unit R3. Zone 8 and zone 9 are responsible for temperature control of cooling section R4.
加熱ゾーンZ1〜Z7のそれぞれは、それぞれ送風機を含む上部加熱装置15および下部加熱装置35を有する。例えばゾーンZ1の上部加熱装置15から搬送される被加熱物に対して熱風が吹きつけられ、下部加熱装置35から搬送される被加熱物に対して熱風が吹きつけられる。
Each of the heating zones Z1 to Z7 has an
図3を参照して加熱装置の一例について説明する。例えばゾーンZ6の構成が図3に示されている。上部加熱装置15と下部加熱装置35との対向間隙内で、プリント配線基板の両面に表面実装用電子部品が搭載された被加熱物Wが搬送コンベヤ31上に置かれて搬送される。上部加熱装置15内および下部加熱装置35内は、雰囲気ガスである例えば窒素(N2)ガスが充満している。上部加熱装置15および下部加熱装置35は、被加熱物Wに対して熱風(熱せられた雰囲気ガス)を噴出して被加熱物Wを加熱する。なお、熱風と共に赤外線を照射しても良い。
An example of the heating device will be described with reference to FIG. For example, the configuration of the zone Z6 is shown in FIG. In the facing gap between the
下部加熱装置35は、主加熱源16、副加熱源17、送風機例えば軸流ブロワ18、蓄熱部材19、熱風循環ダクト20、開口部21等からなる。なお、上部加熱装置15は、例えば、上述した下部加熱装置35とほぼ同様の構成とされているので、対応する部分の説明を省略する。
The
開口部21を通じて熱風が被加熱物Wに対して吹きつけられる。主加熱源16、副加熱源17は、例えば電熱ヒータで構成される。蓄熱部材19は、例えばアルミニウムからなり、多数の孔が形成され、その孔を通じて熱風が通過して被加熱物Wに吹きつけられる。
Hot air is blown against the object to be heated W through the opening 21. The
熱風は、軸流ブロワ18によって循環される。すなわち、(主加熱源16→蓄熱部材19→開口部21→被加熱物W→熱風循環ダクト20→副加熱源17→熱風循環ダクト20→軸流ブロワ18→主加熱源16)の経路を介して熱風が循環する。
Hot air is circulated by the
軸流ブロワ18の近傍には、リフロー炉内の雰囲気ガスをフラックス回収ユニットに導くための配管32aおよび配管32bの管口が設けられている。雰囲気ガスは、これらの管口より導出され、配管32aおよび配管32bを介してフラックス回収ユニットに導入され、フラックス回収ユニットを通過して、再度リフロー炉内に導入される。フラックス回収ユニットでは、雰囲気ガスを冷却し、雰囲気ガスに含まれるフラックス成分を凝縮回収する。
In the vicinity of the
図4は、リフロー装置の底面図である。フラックス回収ユニット41は、図4に示すように、例えば、ゾーンZ6およびゾーンZ7の側方に配置されている。フラックス回収ユニットは、ガス分解部38と、ラジエータ部39と、を有し、ゾーンZ6およびゾーンZ7に連通する配管32a〜32dおよび配管40を介して、リフロー炉から導出された雰囲気ガスがフラックス回収ユニット41に導入される。
FIG. 4 is a bottom view of the reflow apparatus. As shown in FIG. 4, the
図5は、フラックス回収ユニット41の正面図である。フラックス回収ユニット41は、ガス分解部38と、ガス分解部38から断熱材56を介して隔離されたラジエータ部39と、を有する。リフロー炉から導出された雰囲気ガスは、まずガス分解部38を通過し、次に、配管50、ラジエータ部39を通過し、配管61を介して、再度リフロー炉内に導入される。
FIG. 5 is a front view of the
ガス分解部38は、触媒管42と、通過する雰囲気ガスを加熱する加熱部43とから構成される。加熱部43は、例えばヒータなどであり、ヒータをONすることによって、リフロー炉内から取り出された雰囲気ガスを触媒の効果が十分に作用する温度、例えば300℃〜400℃程度の高温に加熱する。
The
加熱部43のONは、リフロー炉を制御するメインスイッチONのタイミングから所定時間遅らせて行うことが好ましい。リフロー炉のメインスイッチをONして、炉内の加熱が開始された後、所定時間経過し、雰囲気ガスが所定温度(例えば、200℃程度)に加熱された時点で、加熱部43をONするようにすると、加熱部43が雰囲気ガスを加熱する負担を低減できるからである。
It is preferable to turn on the
また、加熱部43のOFFは、リフロー炉のメインスイッチOFFのタイミングから所定時間遅らせて行うことが好ましい。リフロー炉のメインスイッチが、OFFされても所定時間リフロー炉内の軸流ファン18が、回転するように設定されており、この間も炉内の雰囲気ガスが流動して、ガス分解部38に流入する。したがって、リフロー炉のメインスイッチがOFFされても、ガス分解部38に流入する雰囲気ガス中のフラックス成分を分解するために、加熱部43で、雰囲気ガスを触媒が作用する高温まで加熱する必要があるからである。
Moreover, it is preferable to turn off the
触媒管42は、例えば、白金、ランタン、パラジウムまたはロジウムなどの触媒よりなり、ハニカム構造を有する。触媒管42では、雰囲気ガスが通過する際に、酸素を加え、触媒により、雰囲気ガス中のフラックスの有機成分を二酸化炭素(CO2)、水(H2O)などに分解する。
The
ラジエータ部39は、チャンバ51と、チャンバ51内に設けられる内部チャンバ52と、チャンバ同士を連通するU字状配管53と、軸流ファン54と、回収ボックス55と、から構成される。ラジエータ部39では、雰囲気ガスを冷却し、触媒管42を通過した後の雰囲気ガス中のフラックス成分などを凝縮回収する。
The
チャンバ51は、触媒管42を通過した雰囲気ガスが最初に流入する空間である。内部チャンバ52は、チャンバ51内に設けられ、チャンバ51の空間を仕切って形成される空間である。U字状配管53は、チャンバ同士を連通する。軸流ファン54は、冷却用のファンであり、ラジエータ部39を冷却する。回収ボックス55は、U字状配管53の下方に配置されており、冷却によって凝縮したフラックス成分などを回収する。
The
図6は、フラックス回収ユニット41の左側面図である。図6に示すように、U字状配管53aは、2つの開口端を有し、一方の開口端がチャンバ51の底面、他方の開口端が内部チャンバ52aの底面に連結しており、チャンバ51と内部チャンバ52aとが、U字状配管53aを介して連通している。
FIG. 6 is a left side view of the
U字状配管53bの2つの開口端のうち、一方の開口端が内部チャンバ52aの底面、他方の開口端が内部チャンバ52bの底面に連結しており、内部チャンバ52aと内部チャンバ52bとが、U字状配管53bを介して連通している。内部チャンバ52bの底面には、リフロー炉内に連通する配管61の一開口端が連結している。
Of the two open ends of the
バルブ57は、開閉することによって雰囲気ガスの流出を制御する。ヒータ部62は、ラジエータ部39を通過した雰囲気ガスが配管61を介してリフロー炉内に戻る前に、雰囲気ガスをリフロー炉内の温度環境に影響を与えない程度の温度、例えばリフロー炉内温度と同程度まで加熱する加熱手段である。
The
図7は、フラックス回収ユニット41の上面図である。図7に示すように、ラジエータ部39では、チャンバ51と内部チャンバ52aと、内部チャンバ52aと内部チャンバ52bと、を連通するために、複数のU字状配管53の開口端が、それぞれ、チャンバ51、内部チャンバ52a〜52bに連結し、チャンバ51と内部チャンバ52a、内部チャンバ52aと内部チャンバ52bとを、複数のU字状配管53それぞれを介して連通するようにしている。
FIG. 7 is a top view of the
図8は、ラジエータ部39の斜視図である。ラジエータ部39では、図8に示すように、雰囲気ガスが、配管50→チャンバ51→配管53a→内部チャンバ52a→配管53b→内部チャンバ52b→配管61→(リフロー炉内へ)の経路で流通する。なお、
図8中の矢印Lは、雰囲気ガスの流れを示すものである。また、説明の便宜上、図8では4つのU字状の配管53の図示を省略している。
FIG. 8 is a perspective view of the
An arrow L in FIG. 8 indicates the flow of the atmospheric gas. For convenience of explanation, the illustration of the four
雰囲気ガスの流通経路において、配管50では、ガス分解部38で加熱された400℃程度の高熱のガスが流通している。チャンバ51では、流入した雰囲気ガスが徐々に冷却され、配管53aに流入する。配管53aでは、チャンバ51から流入する雰囲気ガスが、さらに冷却される。
In the circulation path of the atmospheric gas, a high-heat gas of about 400 ° C. heated by the
内部チャンバ52aでは、配管53aから流入するガスが加熱される。内部チャンバ52aは、チャンバ51内に設けられているので、チャンバ51内に流入する高熱のガスにより、配管53a内の温度環境より、高い温度環境となっている。
In the
配管53bでは、内部チャンバ52aから流入するガスが冷却される。内部チャンバ52bでは、配管53bから流入するガスが加熱される。内部チャンバ52bは、チャンバ51内に設けられているので、チャンバ51内に流入する高熱のガスにより、配管53b内の温度環境より、高い温度環境となっている。
In the
雰囲気ガスの流通経路では、上述した加熱および冷却の繰り返しにより、ガス温度が、配管50→チャンバ51(温度下降)→配管53a(温度下降)→内部チャンバ52a(温度上昇)→配管53b(温度下降)→内部チャンバ52b(温度上昇)→配管61→(リフロー炉内へ)のように変化する。
In the circulation path of the atmospheric gas, the gas temperature is changed from the
すなわち、雰囲気ガスの流通経路では、ガス温度が上昇および下降のサイクルを少なくとも2回以上行いながら、雰囲気ガスを冷却して、雰囲気ガス中のフラック成分などを凝縮回収する。このように、ガス温度が上昇および下降のサイクルを複数回行うことで、フラックス成分を効率よく凝縮回収できる。 That is, in the atmosphere gas flow path, the atmosphere gas is cooled and condensed to collect the flack components and the like in the atmosphere gas while performing at least two cycles of raising and lowering the gas temperature. Thus, the flux component can be efficiently condensed and recovered by performing the cycle of raising and lowering the gas temperature a plurality of times.
図9は、ラジエータ部39におけるガス温度の挙動を示すグラフである。なお、測定ポイントは、図5および図7に示すT1〜T7の位置である。すなわち、T1は、配管50の温度を示す。T2は、チャンバ51とU字状配管53aの一方の開口端とが接合している位置の温度を示す。T3は、U字状配管53aの他方の開口端と内部チャンバ52aとが接合している位置の温度を示す。T4は、内部チャンバ52aとU字状配管53bの一方の開口端とが接合している位置の温度を示す。T5は、U字状配管53bの他方の開口端と内部チャンバ52bとが接合している位置の温度を示す。T6は、内部チャンバ52bと配管61の一開口端とが接合している位置の温度を示す。T7は、配管61のリフロー炉内に戻る前の位置の温度を示す。
FIG. 9 is a graph showing the behavior of the gas temperature in the
図9に示すように、T1〜T2、T2〜T3では、雰囲気ガス温度が下降している。T3〜T4では、雰囲気ガス温度が上昇している。T4〜T5では、雰囲気ガス温度が下降している。T5〜T6では、雰囲気ガス温度が上昇している。T6〜T7では、雰囲気ガス温度が下降している。すなわち、ガス流通経路では、以下のようにガス温度が変化することが確認できる。
配管50〜チャンバ51(T1〜T2)・・・温度下降
配管53a(T2〜T3)・・・温度下降
内部チャンバ52a(T3〜T4)・・・温度上昇
配管53b(T4〜T5)・・・温度下降
内部チャンバ52b内(T5〜T6)・・・温度上昇
配管61(T6〜T7)・・・温度下降
As shown in FIG. 9, the ambient gas temperature is lowered at T1 to T2 and T2 to T3. At T3 to T4, the ambient gas temperature is rising. In T4 to T5, the ambient gas temperature is decreasing. At T5 to T6, the ambient gas temperature is rising. In T6 to T7, the atmospheric gas temperature is decreasing. That is, it can be confirmed that the gas temperature changes in the gas flow path as follows.
この発明は、上述したこの発明の実施形態に限定されるものでは無く、この発明の要旨を逸脱しない範囲内で様々な変形や応用が可能である。例えば、上述した一実施形態では、雰囲気ガスは、窒素ガスを用いたが、これに限定されるものではない。例えば、雰囲気ガスとして、大気を用いてもよく、大気を用いた場合には、雰囲気ガスをフラックス回収ユニット通過後、再度リフロー炉内に戻さなくてもよい。また、例えば、チャンバ内に設ける内部チャンバを3つ以上にしてもよい。 The present invention is not limited to the above-described embodiments of the present invention, and various modifications and applications are possible without departing from the spirit of the present invention. For example, in the above-described embodiment, nitrogen gas is used as the atmospheric gas, but the present invention is not limited to this. For example, air may be used as the atmospheric gas. When air is used, the atmospheric gas may not be returned to the reflow furnace again after passing through the flux recovery unit. For example, three or more internal chambers may be provided in the chamber.
11・・・搬入口
12・・・搬出口
14・・・強制冷却ユニット
15・・・上部加熱装置
16・・・主加熱源
17・・・副加熱源
18・・・軸流ブロワ
19・・・蓄熱部材
20・・・熱風循環ダクト
21・・・開口部
31・・・搬送コンベヤ
32a〜32d・・・配管
35・・・下部加熱装置
38・・・ガス分解部
39・・・ラジエータ部
40・・・配管
41・・・フラックス回収ユニット
42・・・触媒管
43・・・加熱部
50・・・配管
51・・・チャンバ
52、52a、52b・・・内部チャンバ
53、53a、53b・・・U字状配管
54・・・軸流ファン
55・・・回収ボックス
61・・・配管
62・・・ヒータ部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 ... Carrying in port 12 ... Carrying out
Claims (3)
上記フラックス回収ユニットは、上記雰囲気ガス中のフラックス成分を分解する触媒管と、上記雰囲気ガスが上記触媒管を通過する前に、上記雰囲気ガスを加熱する加熱手段と、を有するガス分解部を備え、
上記加熱手段の加熱開始を、上記リフロー炉のメインスイッチがONされてから所定時間経過後に行うようにされたこと
を特徴とするリフロー装置。 In the reflow apparatus in which the atmospheric gas taken out from the inside of the reflow furnace in one or more zones passes through the flux recovery unit and is returned again into the reflow furnace.
The flux recovery unit includes a gas decomposition unit having a catalyst tube for decomposing a flux component in the atmosphere gas, and a heating unit for heating the atmosphere gas before the atmosphere gas passes through the catalyst tube. ,
A reflow apparatus characterized in that the heating means starts heating after a predetermined time has elapsed since the main switch of the reflow furnace was turned on.
を特徴とする請求項1記載のリフロー装置。 The reflow apparatus according to claim 1, wherein the heating of the heating means is finished after a predetermined time has elapsed since the main switch of the reflow furnace was turned off.
上記ガス分解部を通過した上記雰囲気ガスを冷却してフラックス成分を凝縮回収するラジエータ部をさらに備えること
を特徴とする請求項1記載のリフロー装置。 The flux recovery unit is
The reflow apparatus according to claim 1, further comprising a radiator section that cools the atmospheric gas that has passed through the gas decomposition section and condenses and collects a flux component.
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