JP4900198B2 - Photosensitive resin composition having flux function - Google Patents
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Description
本発明は、半導体チップを半導体チップ搭載用基板に、フリップチップ半田接合により搭載する際の半田接合に関し、さらには、半導体パッケージをプリント配線板に搭載する際の感光性フラックスに関するものである。 The present invention relates to solder bonding when a semiconductor chip is mounted on a semiconductor chip mounting substrate by flip chip solder bonding, and further relates to a photosensitive flux when mounting a semiconductor package on a printed wiring board.
近年の電子機器の高機能化並びに軽薄短小化の要求に伴い、電子部品の高密度集積化、さらには高密度実装化が進んできており、これらの電子機器に使用される半導体パッケ ジは、従来にも増して益々小型化かつ多ピン化が進んできている。 In recent years, with the demand for higher functionality and lighter, thinner and smaller electronic devices, high-density integration and further high-density mounting of electronic components have been promoted. Semiconductor packages used in these electronic devices are The size and number of pins are increasing more and more than before.
半導体パッケージはその小型化に伴って、従来のようなリードフレームを使用した形態
のパッケージでは、小型化に限界がきているため、最近では回路基板上にチップを実装したものとして、ＢＧＡ（Ｂａｌｌ Ｇｒｉｄ Ａｒｒａｙ）や、ＣＳＰ（Ｃｈｉｐ Ｓｃａ
ｌｅ Ｐａｃｋａｇｅ）といった、エリア実装型の新しいパッケージ方式が提案されてい
る。これらの半導体パッケージにおいて、半導体チップの電極と、従来型半導体パッケージのリードフレームの機能とを有する、半導体搭載用基板と呼ばれるプラスチックやセラミックス等各種絶縁材料と、導体配線で構成される基板の端子との電気的接続方法として、ワイヤーボンディング方式やＴＡＢ（Ｔａｐｅ Ａｕｔｏｍａｔｅｄ Ｂｏｎｄｉｎｇ）方式、さらにはＦＣ（Ｆｌｉｐ Ｃｈｉｐ）方式などが知られているが、最近では、半導
体パッケージの小型化に有利な、ＦＣ接続方式を用いたＢＧＡやＣＳＰの構造が盛んに提案されている。
With the miniaturization of semiconductor packages, the conventional package using a lead frame has a limit on miniaturization. Therefore, recently, it is assumed that a chip is mounted on a circuit board, and BGA (Ball Grid) is used. Array) and CSP (Chip Sca)
le Package), an area-mounting type new packaging method has been proposed. In these semiconductor packages, various insulating materials such as plastics and ceramics called semiconductor mounting substrates, which have the functions of the electrodes of the semiconductor chip and the lead frame of the conventional semiconductor package, and the terminals of the substrate composed of conductor wiring, As an electrical connection method, a wire bonding method, a TAB (Tape Automated Bonding) method, and an FC (Flip Chip) method are known, but recently, an FC connection method that is advantageous for downsizing of a semiconductor package. Structures of BGA and CSP using the above are actively proposed.
ＢＧＡやＣＳＰのプリント配線板への実装には、半田ボールで形成されたバンプによる
、半田接合が採用されている。この半田接合には、フラックスが用いられ、ソルダーペーストが併用されることもある。特に半田ボールが使用される理由は、半田供給量を制御し易く、多量の半田を供給できるので、バンプが高くできるためである。また、ＢＧＡやＣＳＰの作製工程における、半導体チップの電極と半導体搭載用基板の端子との電気的接続方法にも、半田接合が使われる場合が多い。
Solder bonding using bumps formed of solder balls is employed for mounting BGA and CSP on a printed wiring board. For this soldering, a flux is used, and a solder paste may be used in combination. The reason why the solder balls are used in particular is that the amount of solder supply can be easily controlled and a large amount of solder can be supplied, so that the bump can be made high. Also, solder bonding is often used for the electrical connection method between the electrodes of the semiconductor chip and the terminals of the semiconductor mounting substrate in the manufacturing process of the BGA or CSP.
一般に、半田接合のためには、半田表面と対する電極の、金属表面の酸化物などの汚れ
を除去すると共に、半田接合時の金属表面の再酸化を防止して、半田の表面張力を低下させ、金属表面に溶融半田が濡れ易くする、半田付け用フラックスが使用される。このフラックスとしては、ロジンなどの熱可塑性樹脂系フラックスに、酸化膜を除去する活性剤等を加えたフラックスが用いられている。
In general, for solder bonding, dirt on the surface of the electrode against the solder surface such as oxide on the metal surface is removed, and re-oxidation of the metal surface during solder bonding is prevented to reduce the surface tension of the solder. The soldering flux is used to make the molten solder wet easily on the metal surface. As this flux, a flux obtained by adding an activator for removing an oxide film to a thermoplastic resin flux such as rosin is used.
しかしながら、このフラックスが残存していると、高温、多湿時に熱可塑性樹脂が溶融
し、活性剤中の活性イオンも遊離するなど、電気絶縁性の低下やプリント配線の腐食などの問題が生じる。そのため現在は、半田接合後の残存フラックスを洗浄除去し、上記問題を解決しているが、洗浄剤の環境問題や、洗浄工程によるコストアップなどの欠点がある。
However, if this flux remains, problems such as a decrease in electrical insulation and corrosion of printed wiring, such as melting of the thermoplastic resin at high temperature and high humidity, and liberation of active ions in the activator occur. For this reason, currently, the residual flux after soldering is removed by washing to solve the above problems, but there are disadvantages such as environmental problems of the cleaning agent and cost increase due to the cleaning process.
フラックスの機能は、前記の通り、半田と金属表面の酸化物除去、再酸化防止、そして
半田濡れ性向上（表面張力を低下させる）などであり、フラックスが存在し、金属表面が露出していれば、半田は制限なく濡れてしまう。そこで、一般的に半導体パッケージやプリント配線板の回路表面には、半田接合部のみへの半田の導入と、導体配線パターンの保護とのため、ソルダーレジストが使用されている。しかし、このソルダーレジストが半田
接合部に残存すると、接続信頼性が低下したり、半田接合できなかったり、という問題が生じるため、ソルダーレジスト形成には、細心の注意が必要である。
As described above, the flux functions include removal of oxides on the solder and metal surfaces, prevention of re-oxidation, and improvement of solder wettability (reducing surface tension). The flux is present and the metal surface is exposed. If so, the solder gets wet without any restrictions. Therefore, generally, a solder resist is used on the circuit surface of a semiconductor package or a printed wiring board in order to introduce solder only into the solder joint and to protect the conductor wiring pattern. However, if this solder resist remains in the solder joint portion, there arises a problem that connection reliability is lowered or solder joint cannot be performed. Therefore, careful attention is required for forming the solder resist.
また、半導体パッケージの小型化かつ多ピン化は、バンプの微細化を促し、接合強度、
信頼性の低下が懸念されている。そこで、バンプ接続部分の信頼性を得るため、チップと基板との間隙に、アンダーフィルと呼ばれる絶縁樹脂を充填して、バンプ接続部分を封止、補強する検討も盛んである。しかし、これには技術的難易度の高いアンダーフィルを充填し、硬化させる工程が必要となるため、製造工程が複雑で製造コストが高くなる問題がある。
In addition, the miniaturization of semiconductor packages and the increase in the number of pins promotes the miniaturization of bumps, bonding strength,
There is concern about a decline in reliability. Therefore, in order to obtain the reliability of the bump connection portion, it is also actively studied to seal and reinforce the bump connection portion by filling the gap between the chip and the substrate with an insulating resin called underfill. However, this requires a process of filling and curing an underfill with a high technical difficulty, and thus has a problem that the manufacturing process is complicated and the manufacturing cost is increased.
本発明は、半導体パッケージの実装時における、半田接合の現状のこのような問題点に鑑みなされたものであって、半田接合後の残存フラックスの洗浄除去、そして、アンダーフィルの充填などが必要なく、高温、多湿雰囲気でも電気絶縁性を保持し、接合強度、信頼性の高い半田接合を可能とする、フラックス機能を有する感光性樹脂組成物を提供することにある。
The present invention has been made in view of such problems in the current state of solder bonding at the time of mounting a semiconductor package, and does not require cleaning and removal of residual flux after solder bonding and filling of underfill. Another object of the present invention is to provide a photosensitive resin composition having a flux function that maintains electrical insulation even in a high temperature and high humidity atmosphere and enables solder bonding with high bonding strength and reliability.
即ち本発明は、露光、現像により、所定の位置に半田接合用のビアホール形成し、その後の加熱により軟化して、接着性が発現すると共に、該半田接合用のビアホール内部に充填するフラックス機能を有する感光性樹脂組成物であって、
That is, the present invention forms a via hole for solder bonding at a predetermined position by exposure and development, softens by subsequent heating, exhibits adhesiveness, and has a flux function of filling the via hole for solder bonding. A photosensitive resin composition comprising:
少なくとも１個のアクリロイル基又はメタクリロイル基を有するフェノールノボラック樹脂（Ａ）、少なくとも１個のフェノール性水酸基を有する化合物（Ｂ）、それらの硬化剤として作用する樹脂（Ｃ）、及び光重合開始剤（Ｄ）を必須成分とすることを特徴とするフラックス機能を有する感光性樹脂組成物である。A phenol novolak resin (A) having at least one acryloyl group or methacryloyl group, a compound (B) having at least one phenolic hydroxyl group, a resin (C) acting as a curing agent thereof, and a photopolymerization initiator ( A photosensitive resin composition having a flux function, characterized in that D) is an essential component.
本発明の感光性フラックスは、半田接合用ビアホールが形成でき、従来の半田接合後の
洗浄除去工程や、アンダーフィル工程を必要としないため、低コストで高精度な半導体チップ実装と、高温、多湿雰囲気での電気絶縁や接合の高い信頼性を有する半導体パッケージの実現のために極めて有用である。
The photosensitive flux of the present invention can form via holes for solder bonding and does not require a conventional cleaning and removing process after solder bonding or an underfill process. Therefore, the semiconductor chip mounting with low cost and high temperature and high humidity can be achieved. This is extremely useful for realizing a semiconductor package having high electrical insulation in the atmosphere and high reliability of bonding.
本発明の感光性フラックスは、露光、現像により、所定の位置に半田接合用のビアホール形成し、その後の加熱により軟化して、接着性が発現すると共に該半田接合用のビア ール内部に充填することを可能とする。さらには、機械的、電気的に接続するための半田バンプを有する半導体チップが搭載される半導体チップ搭載用基板において、該半導体 ップと半導体チップ搭載用基板とを、半田接合する際に半田フラックスとして作用し、更には、半導体チップの接着封止をするものである。 The photosensitive flux of the present invention forms a via hole for solder bonding at a predetermined position by exposure and development, and then softens by heating to exhibit adhesiveness and fill the inside of the via hole for solder bonding. It is possible to do. Further, in a semiconductor chip mounting substrate on which a semiconductor chip having solder bumps for mechanical and electrical connection is mounted, a solder flux is applied when the semiconductor chip and the semiconductor chip mounting substrate are soldered together. In addition, the semiconductor chip is adhesively sealed.
本発明の感光性フラックスの具体例としては、少なくとも１個のアクリロイル基又はメ
タクリロイル基を有するフェノールノボラック樹脂（Ａ）、少なくとも１個のフェノール性水酸基を有する化合物（Ｂ）、それらの硬化剤として作用する樹脂（Ｃ）、及び光重合開始剤（Ｄ）を必須成分とする組成物が挙げられる。
Specific examples of the photosensitive flux of the present invention include a phenol novolac resin (A) having at least one acryloyl group or methacryloyl group, a compound (B) having at least one phenolic hydroxyl group, and acting as a curing agent thereof. And a composition containing a resin (C) and a photopolymerization initiator (D) as essential components.
本発明の感光性フラックスは、高い解像性を有し、アルカリ水溶液による現像が可能で
ある。特に、前記組成物中におけるアルカリ水溶液に対する溶解性については、少なくとも１個のアクリロイル基又はメタクリロイル基を有するフェノールノボラック樹脂（Ａ）と、少なくとも１個のフェノール性水酸基を有する化合物（Ｂ）とが有するフェノール性水酸基により得られる。
The photosensitive flux of the present invention has high resolution and can be developed with an aqueous alkaline solution. In particular, with respect to the solubility in an aqueous alkaline solution in the composition, the phenol novolac resin (A) having at least one acryloyl group or methacryloyl group and the compound (B) having at least one phenolic hydroxyl group have. Obtained by phenolic hydroxyl group.
また、通常、光硬化物中にフェノール性水酸基が残存する場合は、耐薬品性、耐熱性、
電気特性などが劣る硬化物になるが、本発明の感光性フラックスの前記組成物中においては、露光、現像後に加熱処理することにより、少なくとも１個のアクリロイル基又はメタクリロイル基を有するフェノールノボラック樹脂（Ａ）と、少なくとも１個のフェノール性水酸基を有する化合物（Ｂ）の硬化剤として作用する樹脂（Ｃ）が、前記成分中のフェノール性水酸基と熱硬化反応し、要求諸特性に優れた感光性フラックス硬化物となる。
Also, usually when phenolic hydroxyl groups remain in the photocured product, chemical resistance, heat resistance,
In the composition of the photosensitive flux of the present invention, a phenol novolac resin having at least one acryloyl group or methacryloyl group (by heating treatment after exposure and development) is obtained. Resin (C) that acts as a curing agent for A) and at least one compound having a phenolic hydroxyl group (B) undergoes a thermosetting reaction with the phenolic hydroxyl group in the component, and has excellent photosensitivity. It becomes a flux cured product.
さらに、前述のように加熱処理による熱硬化反応により、露光、現像によりビアホール
を形成した後の加熱で軟化し、接着性を発現することが可能である。また、少なくとも１個のアクリロイル基又はメタクリロイル基を有するフェノールノボラック樹脂（Ａ）と、少なくとも１個のフェノール性水酸基を有する化合物（Ｂ）とが有するフェノール性水酸基は、その還元作用により、半田及び金属表面の酸化物などの汚れを除去し、半田接合のフラックスとして作用する。特に、少なくとも１個のフェノール性水酸基を有する化合物（Ｂ）は、光硬化に関与しないため、形成されたビアホール形状を維持したまま、ビアホールを充填するように滲み出し、効果的に半田接合のフラックスとして作用できる。従って、機械的、電気的に接続するための半田バンプを有する半導体チップを、位置ずれなく搭載でき、該半導体チップと半導体チップ搭載用基板とを半田接合し、同時に接着封止もできるため、従来の半田接合後の洗浄除去工程や、アンダーフィル工程を必要としない、低コストで高精度な半導体チップ実装と、高温、多湿雰囲気での電気絶縁や接合の高い信頼性を有する半導体パッケージが実現可能となる。
Furthermore, as described above, it is possible to develop adhesiveness by softening by heating after forming a via hole by exposure and development by a thermosetting reaction by heat treatment. In addition, the phenolic hydroxyl group possessed by the phenol novolac resin (A) having at least one acryloyl group or methacryloyl group and the compound (B) having at least one phenolic hydroxyl group is reduced by solder and metal It removes dirt such as oxides on the surface and acts as a solder joint flux. In particular, since the compound (B) having at least one phenolic hydroxyl group does not participate in photocuring, it exudes to fill the via hole while maintaining the formed via hole shape, and effectively solders the flux. Can act as. Therefore, a semiconductor chip having solder bumps for mechanical and electrical connection can be mounted without displacement, and the semiconductor chip and the semiconductor chip mounting substrate can be soldered together and simultaneously bonded and sealed. Low-cost, high-accuracy semiconductor chip mounting that does not require cleaning and removal processes after solder bonding and underfill processes, and semiconductor packages with high electrical insulation and bonding reliability in high-temperature, high-humidity atmospheres It becomes.
本発明に用いる少なくとも１個のアクリロイル基又はメタクリロイル基を有するフェノ
ールノボラック樹脂（Ａ）は、フェノールノボラック樹脂とグリシジル基を有するアクリ
レート又はメタクリレートとを反応させて得られるが、フェノールノボラック樹脂としては、分子中に１個又は２個のフェノール性水酸基を有するフェノール化合物とホルムアルデヒドとを、酸性触媒下で縮合して得られる多官能フェノールを用いるのが好ましい。露光による十分な光感度を得るためには、フェノールノボラックのフェノール性水酸基の３０％以上、８０％以下をグリシジル基を有するアクリレート又はメタクリレートと反応させた変性フェノールノボラックが適当である。より好ましくは、４０％以上、７０％以下である。３０％より小さいと露光部の光硬化が不十分になり、現像時に露光部が溶解し始め、ビアホールの形成ができないことがある。このことは特に、高密度半導体チップ（狭ピッチの半田バンプが形成されている場合）の実装時の実装不良につながる可能性がある。また、８０％より多いと還元作用を示すフェノール性水酸基が不足し、現像できなかったり、半田および金属表面の酸化物などの汚れを除去できなかったり、露光、現像後の加熱で軟化し難く、半導体チップを接着、封止できなかったりする場合がある。
The phenol novolak resin (A) having at least one acryloyl group or methacryloyl group used in the present invention is obtained by reacting a phenol novolac resin with an acrylate or methacrylate having a glycidyl group. It is preferable to use a polyfunctional phenol obtained by condensing a phenol compound having one or two phenolic hydroxyl groups and formaldehyde in the presence of an acidic catalyst. In order to obtain sufficient photosensitivity by exposure, a modified phenol novolak obtained by reacting 30% to 80% of the phenolic hydroxyl group of the phenol novolak with an acrylate or methacrylate having a glycidyl group is suitable. More preferably, it is 40% or more and 70% or less. If it is less than 30%, photocuring of the exposed portion becomes insufficient, and the exposed portion begins to dissolve during development, and a via hole may not be formed. In particular, this may lead to a mounting failure when mounting a high-density semiconductor chip (when a narrow-pitch solder bump is formed). On the other hand, if it exceeds 80%, the phenolic hydroxyl group showing a reducing action is insufficient, and development cannot be performed, dirt such as oxides on the solder and metal surface cannot be removed, and it is difficult to soften by heating after exposure and development. The semiconductor chip may not be bonded or sealed.
前記フェノールノボラック樹脂（Ａ）に用いる分子中に１個又は２個のフェノール性水
酸基を有するフェノール化合物としては、フェノール、アルキルフェノール、ナフトール、ビスフェノールＡ型、ビスフェノールＦ型、ビスフェノールＳ型などが挙げられる。また、アルキルフェノールノボラックからのノボラックも使用することができる。前記アルキルフェノールのアルキル基としては、炭素数が１〜４程度が好ましく、例えばメチル基、エチル基，ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、さらにはアリル基等であり、炭素数がそれ以上の場合は、体積当たりのフェノール性水酸基量が低下し、現像性や半田接合性を低下させる恐れがある。これらの重量平均分子量としては、１００００以下のものが良い。分子量が大きすぎると、加熱時の軟化や半田接合を阻害することがあるため好ましくないことがある。但し、その他の配合剤の使用により、半田接合時における溶融粘度を、５０Ｐａ・ｓ以下に制御できれば何ら問題はない。この目的のために、液状の硬化剤を配合しても良い。
Examples of the phenol compound having one or two phenolic hydroxyl groups in the molecule used for the phenol novolak resin (A) include phenol, alkylphenol, naphthol, bisphenol A type, bisphenol F type, and bisphenol S type. Also novolaks from alkylphenol novolacs can be used. The alkyl group of the alkylphenol preferably has about 1 to 4 carbon atoms, such as a methyl group, an ethyl group, an n-butyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, and an allyl group. However, if it is more than that, the amount of phenolic hydroxyl group per volume is lowered, and there is a possibility that developability and solderability are lowered. The weight average molecular weight is preferably 10,000 or less. If the molecular weight is too large, it may be unfavorable because it may inhibit softening or solder bonding during heating. However, there is no problem if the melt viscosity at the time of soldering can be controlled to 50 Pa · s or less by using other compounding agents. For this purpose, a liquid curing agent may be blended.
前記フェノールノボラック樹脂（Ａ）に用いるグリシジル基を有するアクリレート又は
メタクリレートとしては、反応性、入手の容易さ等の理由で、例えば、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレートがより好ましい。
As the acrylate or methacrylate having a glycidyl group used in the phenol novolac resin (A), for example, glycidyl acrylate and glycidyl methacrylate are more preferable because of reactivity, availability, and the like.
少なくとも１個のアクリロイル基又はメタクリロイル基を有するフェノールノボラック
（Ａ）の配合量としては、感光性フラックス全体の２０重量％以上、７０重量％以下が好ましい。より好ましくは、２５重量％以上、６０重量％以下である。２０重量％未満であると、露光部の光硬化が不十分になり、現像時に露光部が溶解し始め、ビアホールの形成ができないことがある。また、少なくとも１個のフェノール性水酸基を有する化合物（Ｂ）の配合との兼ね合いもあるが、半田および金属表面の酸化物などの汚れを除去する作用が低下し、半田接合できない場合もある。７０重量％より多いと、現像できなかったり、十分な硬化物が得られず、接合強度や信頼性が低下する恐れがある。
As a compounding quantity of the phenol novolak (A) which has at least 1 acryloyl group or a methacryloyl group, 20 to 70 weight% of the whole photosensitive flux is preferable. More preferably, it is 25 wt% or more and 60 wt% or less. If it is less than 20% by weight, photocuring of the exposed portion becomes insufficient, and the exposed portion starts to dissolve during development, and a via hole may not be formed. In addition, there is a balance with the blending of the compound (B) having at least one phenolic hydroxyl group, but the action of removing dirt such as solder and oxide on the metal surface is lowered, and solder joining may not be possible. When it is more than 70% by weight, development cannot be performed or a sufficient cured product cannot be obtained, and the bonding strength and reliability may be lowered.
本発明に用いる少なくとも１個のフェノール性水酸基を有する化合物（Ｂ）は、フェノ
ール、アルキルフェノール、ビフェノール、ナフトール、ハイドロキノン、レゾルシノール、カテコール、ヒドロキシベンゾイックアシッド、ジヒドロキシベンゾイックアシッド、フェノールフタリン、及び、これらのノボラック、さらには、レゾール、ポリビニルフェノールからなる群より選ばれる、少なくとも１種からなることが好ましい。更に好ましくは、重量平均分子量１００００以下のものが良い。分子量が大きすぎると、半田接合時における感光性フラックスの流動性が低下し、半田接合を阻害することがある。但し、その他の配合剤の使用により、半田接合時における滲み出した感光性フラックスの溶融粘度を、１００ｍＰａ・ｓ以下に制御できれば何ら問題はない。前述のように、この目的のためにも、液状の硬化剤を配合しても良い。
The compound (B) having at least one phenolic hydroxyl group used in the present invention is phenol, alkylphenol, biphenol, naphthol, hydroquinone, resorcinol, catechol, hydroxybenzoic acid, dihydroxybenzoic acid, phenolphthaline, and these It is preferable that it consists of at least 1 sort (s) chosen from the group which consists of a novolak, resol, and polyvinylphenol. More preferably, the weight average molecular weight is 10,000 or less. If the molecular weight is too large, the flowability of the photosensitive flux at the time of soldering may be reduced, which may hinder soldering. However, there is no problem as long as the melt viscosity of the photosensitive flux that has oozed out during solder bonding can be controlled to 100 mPa · s or less by using other compounding agents. As described above, a liquid curing agent may be blended for this purpose.
少なくとも１個のフェノール性水酸基を有する化合物（Ｂ）の配合量は、感光性フラッ
クス全体の０．５重量％以上、３０重量％以下が好ましい。より好ましくは、１重量％以上、２０重量％以下である。０．５重量％未満であると、露光、現像後の加熱時に、感光性フラックスの軟化、または、フラックスとして作用する成分の滲み出しが不足し、接着性が発現しなかったり、半田および金属表面の酸化物などの汚れを除去する作用が低下し、半田接合できなかったりする場合もある。また、少なくとも１個のアクリロイル基又はメタクリロイル基を有するフェノールノボラック樹脂（Ａ）の配合との兼ね合いもあるが、３０重量％より多いと、十分な硬化物が得られず、接合強度や信頼性が低下することがある。
The blending amount of the compound (B) having at least one phenolic hydroxyl group is preferably 0.5% by weight or more and 30% by weight or less of the entire photosensitive flux. More preferably, it is 1 to 20% by weight. When the amount is less than 0.5% by weight, the photosensitive flux is not softened or exuded from the component acting as a flux at the time of heating after exposure and development. In some cases, the effect of removing dirt such as oxides is reduced, and solder bonding cannot be performed. Moreover, although there is a balance with the blending of the phenol novolac resin (A) having at least one acryloyl group or methacryloyl group, if it exceeds 30% by weight, a sufficient cured product cannot be obtained, and the bonding strength and reliability are high. May decrease.
少なくとも１個のアクリロイル基又はメタクリロイル基を有するフェノールノボラック
樹脂（Ａ）と少なくとも１個のフェノール性水酸基を有する化合物（Ｂ）の硬化剤として作用する樹脂（Ｃ）としては、エポキシ樹脂やイソシアネート樹脂などが用いられる。具体的にはいずれも、ビスフェノール系、フェノールノボラック系、アルキルフェノールノボラック系、ビフェノール系、ナフトール系やレソルシノール系などのフェノールベースのものや、脂肪族、環状脂肪族や不飽和脂肪族などの骨格をベースとして変性されたエポキシ化合物やイソシアネート化合物が挙げられる。また、本発明の感光性フラックスの硬化を促進するため、公知の硬化触媒を用いても良い。
Examples of the resin (C) that acts as a curing agent for the phenol novolak resin (A) having at least one acryloyl group or methacryloyl group and the compound (B) having at least one phenolic hydroxyl group include epoxy resins and isocyanate resins. Is used. Specifically, all are based on phenol-based ones such as bisphenol, phenol novolac, alkylphenol novolac, biphenol, naphthol and resorcinol, and skeletons such as aliphatic, cycloaliphatic and unsaturated aliphatic And modified epoxy compounds and isocyanate compounds. Moreover, in order to accelerate | stimulate hardening of the photosensitive flux of this invention, you may use a well-known curing catalyst.
本発明の硬化性フラックスにおいて、硬化剤として作用する化合物（Ｂ）の配合量は、
エポキシ基当量またはイソシアネート基当量が、少なくとも１個のアクリロイル基又はメタクリロイル基を有するフェノールノボラック樹脂（Ａ）と少なくとも１個のフェノール性水酸基を有する化合物（Ｂ）のＯＨ基当量の０．５倍以上、１．５倍以下が好ましい。０．５倍未満であると、十分な硬化物が得られず、補強効果が小さくなり接合強度と信頼性が低下する恐れがある。また、１．５倍より多いと、半田および金属表面の酸化物などの汚れを除去する作用が低下し、半田接合できなくなってしまう恐れがある。
In the curable flux of the present invention, the compounding amount of the compound (B) acting as a curing agent is
The epoxy group equivalent or the isocyanate group equivalent is 0.5 times or more of the OH group equivalent of the phenol novolac resin (A) having at least one acryloyl group or methacryloyl group and the compound (B) having at least one phenolic hydroxyl group. 1.5 times or less is preferable. If it is less than 0.5 times, a sufficient cured product cannot be obtained, the reinforcing effect is reduced, and the bonding strength and reliability may be reduced. On the other hand, if the ratio is more than 1.5 times, the action of removing dirt such as solder and oxides on the metal surface is lowered, and there is a possibility that solder bonding cannot be performed.
本発明に用いる光重合開始剤（Ｄ）としては、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、
４−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノンなどのベンゾフェノン類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインジメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテルなどのベンゾインアルキルエーテル類、４―フェノキシジクロロアセトフェノン、４−ｔ−ブチル−ジクロロアセトフェノン、４−ｔ−ブチル−トリクロロアセトフェノン、ジエトキシアセトフェノンなどのアセトフェノン類、チオキサンソン、２−クロルチオキサンソン、２−メチルチオキサンソン、２，４−ジメチルチオキサンソンなどのチオキサンソン類、エチルアントラキノン、ブチルアントラキノンなどのアルキルアントラキノン類などを挙げることができる。これらは単独、あるいは２種以上の混合物として用いられる。この光重合開始剤の添加量は、通常、本発明の感光性フラックス中、０．１〜１０重量％の範囲が好ましい。
Examples of the photopolymerization initiator (D) used in the present invention include benzophenone, benzoylbenzoic acid,
Benzophenones such as 4-phenylbenzophenone and hydroxybenzophenone, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin dimethyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin butyl ether, benzoin alkyl ethers such as benzoin isobutyl ether, 4-phenoxydichloroacetophenone, 4- Acetophenones such as t-butyl-dichloroacetophenone, 4-t-butyl-trichloroacetophenone, diethoxyacetophenone, thioxanthones such as thioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2-methylthioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone And alkylanthraquinones such as ethyl anthraquinone and butylanthraquinone Can. These are used alone or as a mixture of two or more. The addition amount of the photopolymerization initiator is usually preferably in the range of 0.1 to 10% by weight in the photosensitive flux of the present invention.
その他、本発明の樹脂組成物には必要に応じて、露光感度を上げるために感光性モノマ
ー、保存安定性のために紫外線防止剤や熱重合防止剤、作業性向上のために可塑剤や硬化促進剤などが添加できる。
In addition, the resin composition of the present invention includes a photosensitive monomer for increasing exposure sensitivity, an ultraviolet ray inhibitor and a thermal polymerization inhibitor for storage stability, and a plasticizer and a curing agent for improving workability, as necessary. Accelerators can be added.
本発明の感光性フラックスの製造方法としては、前記成分をアルコール類、エーテル類
、ケトン類などの有機溶媒で溶解し、感光性フラックスのワニスとして得ることができる。
As a method for producing a photosensitive flux of the present invention, the above components can be dissolved in an organic solvent such as alcohols, ethers, and ketones to obtain a photosensitive flux varnish.
この感光性フラックスワニスを、機械的、電気的に接続するための半田バンプを有する
半導体チップが搭載される、半導体チップ搭載用基板の半田接合用ランドを有する回路パ
ターン上に、スクリーン印刷やスピンコートなどの方法により塗布し、乾燥しフラックス塗布層を形成した後、高圧水銀灯等により露光し、アルカリ水溶液により現像し、洗浄することにより、所定の位置に半田接合用のビアホール形成して、半導体チップ封止接着剤層と半田接合用ビアホールが形成された半導体チップ搭載用基板とすることができる。また、フラックス層の形成においては、半田バンプ上に所定量の感光性フラックスを塗布又は、転写しても良い。
This photosensitive flux varnish is screen-printed or spin-coated on a circuit pattern having solder bonding lands on a semiconductor chip mounting substrate on which a semiconductor chip having solder bumps for mechanically and electrically connecting is mounted. After forming a flux coating layer by applying a method such as the above, it is exposed with a high-pressure mercury lamp etc., developed with an alkaline aqueous solution, and washed to form a via hole for solder bonding at a predetermined position, thereby forming a semiconductor chip. A semiconductor chip mounting substrate on which a sealing adhesive layer and solder bonding via holes are formed can be obtained. In forming the flux layer, a predetermined amount of photosensitive flux may be applied or transferred onto the solder bumps.
前記の半導体チップ搭載用基板上に、機械的、電気的に接続するための半田バンプを有
する半導体チップを位置合わせして、搭載後、１００〜１５０℃の加熱処理によって感光性フラックスを、軟化させ、接着性を発現させると共に、ビアホール内部にフラックスとして作用する硬化性成分を滲み出させる。その後、半導体チップあるいは半導体チップ搭載用基板の温度を半田接合温度まで上昇させ、半導体チップと半導体チップ搭載用基板を半田接合、接着封止させる。加熱処理については、真空中、０〜５Ｎ/ｃｍ2加圧下で実施するとより好ましい。場合により、さらに加熱して半導体パッケージとする。
A semiconductor chip having solder bumps for mechanical and electrical connection is aligned on the semiconductor chip mounting substrate, and after mounting, the photosensitive flux is softened by heat treatment at 100 to 150 ° C. In addition to exhibiting adhesiveness, a curable component acting as a flux is oozed out into the via hole. Thereafter, the temperature of the semiconductor chip or the semiconductor chip mounting substrate is raised to the solder bonding temperature, and the semiconductor chip and the semiconductor chip mounting substrate are solder bonded and adhesively sealed. About heat processing, it is more preferable to implement in 0-5N / cm < 2 > pressurization in a vacuum. In some cases, the semiconductor package is further heated.
また、本発明のプリント配線板は、感光性フラックスが、機械的、電気的に接続するた
めの半田バンプを有する実装部品が搭載されるプリント配線板で、半田接合用ランドを有する回路パターン上に塗布され、前記塗布層の所定の位置に半田接合用のビアホールが形成されてなるものであり、半導体パッケージが搭載される。このプリント配線板において、感光性フラックスの用い方としては、前記半導体チップ搭載用基板と同じ方法が、適用できる。
The printed wiring board of the present invention is a printed wiring board on which mounting components having solder bumps for mechanically and electrically connecting a photosensitive flux are mounted on a circuit pattern having soldering lands. The semiconductor package is mounted with a via hole for solder bonding formed at a predetermined position of the coating layer. In this printed wiring board, as the method of using the photosensitive flux, the same method as that for the semiconductor chip mounting substrate can be applied.
以下、実施例により更に具体的に説明するが、本発明はこれによって何ら限定されるも
のではない。
Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples, but the present invention is not limited thereto.
まず、少なくとも１個のアクリロイル基又はメタクリロイル基を有するフェノールノボ
ラック樹脂（Ａ）、少なくとも１個のフェノール性水酸基を有する化合物（Ｂ）、それらの硬化剤として作用する樹脂（Ｃ）、及び光重合開始剤（Ｄ）を配合して、感光性フラックスワニスを調整し、その特性評価のため、前記半導体パッケージの温度サイクル試験、および絶縁抵抗試験を行った。実施例および比較例の評価結果は、まとめて表１に示した。
First, a phenol novolak resin (A) having at least one acryloyl group or methacryloyl group, a compound (B) having at least one phenolic hydroxyl group, a resin (C) acting as a curing agent thereof, and photopolymerization initiation A photosensitive flux varnish was prepared by blending the agent (D), and a temperature cycle test and an insulation resistance test of the semiconductor package were performed for evaluating the characteristics. The evaluation results of the examples and comparative examples are collectively shown in Table 1.
合成例１．フェノールノボラック（大日本インキ化学工業（株）製、フェノライトＴＤ
−２０９０−６０Ｍ）の不揮発分７０％メチルエチルケトン（ＭＥＫ）溶液６００ｇ（ＯＨ基約４当量）を、２ｌのフラスコ中に投入し、これにトリブチルアミン１ｇ、およびハイドロキノン０．２ｇを添加し、１１０℃に加温した。その中へ、グリシジルメタクリレート２８４ｇ（２モル）を３０分間で滴下した後、１１０℃で５時間攪拌反応させることにより、不揮発分約８０％メタクリロイル基含有フェノールノボラックａ（メタクリロイル基変性率５０％）を得た。
Synthesis Example 1 Phenol novolak (Dainippon Ink & Chemicals, Phenolite TD)
-2090-60M) in a 70% non-volatile content methyl ethyl ketone (MEK) solution (600 g, about 4 equivalents of OH groups) was put into a 2 liter flask, to which 1 g of tributylamine and 0.2 g of hydroquinone were added. Warmed to. Into this, 284 g (2 mol) of glycidyl methacrylate was added dropwise over 30 minutes, and then stirred and reacted at 110 ° C. for 5 hours to obtain a phenol novolak a having a non-volatile content of about 80% (methacryloyl group modification rate of 50%). Obtained.
合成例２．ビスフェノ−ルＡ型ノボラック（大日本インキ化学工業（株）製、フェノラ
イトＬＦ−４８７１）の不揮発分約７０％ＭＥＫ溶液６８５ｇ（ＯＨ基約４当量）を、２ｌのフラスコ中に投入し、これにハイドロキノン０．２ｇとグリシジルメタクリレート２８４ｇ（２モル）加え、１１０℃に加温した。その中へ、トリブチルアミン１ｇを添加した後、１１０℃で５時間攪拌反応させることにより、不揮発分約８０％メタクリロイル基含有フェノールノボラックｂ（メタクリロイル基変性率５０％）を得た。
Synthesis Example 2 A 685 g MEK solution (approximately 4 equivalents of OH group) of bisphenol A type novolak (Phenolite LF-4871 manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) was put into a 2 l flask. 0.2 g of hydroquinone and 284 g (2 mol) of glycidyl methacrylate were added and heated to 110 ° C. Into this, 1 g of tributylamine was added, followed by stirring reaction at 110 ° C. for 5 hours to obtain about 80% methacryloyl group-containing phenol novolak b (methacryloyl group modification rate of 50%) at 110 ° C.
実施例１．合成例１で得たメタクリロイル基含有フェノールノボラックａ（メタクリロ
イル基変性率５０％、ＯＨ基当量３５０）を１００ｇ、カテコールノボラック（日本化薬
(株)製、Ａ−１４６８、ＯＨ当量５８）２０ｇ、ビスフェノールＦ型エポキシ（日本化薬(株)製、ＲＥ−４０４Ｓ、エポキシ当量１６５）１０５ｇと、光重合開始剤としてベンゾインジメチルエーテル（チバ・ガイギー社製、イルガキュア６５１）５ｇを、シクロヘキサノン６０ｇに溶解し、光硬化助剤としてトリエチレングリコールジメタクイレート（三洋化成製、ＰＭ２０１）２０ｇと、硬化触媒として２−フェニル−４，５−ジヒドロキシメチルイミダゾール０．２ｇを添加し、感光性フラックスワニスを作製した。
Example 1. 100 g of methacryloyl group-containing phenol novolak a (methacryloyl group modification rate 50%, OH group equivalent 350) obtained in Synthesis Example 1, catechol novolak (Nippon Kayaku)
20 g of A-1468, OH equivalent 58) manufactured by Co., Ltd., 105 g of bisphenol F type epoxy (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., RE-404S, epoxy equivalent 165), and benzoin dimethyl ether (Ciba-Geigy) as a photopolymerization initiator 5 g of Irgacure 651) manufactured by the company is dissolved in 60 g of cyclohexanone, 20 g of triethylene glycol dimethaquirate (manufactured by Sanyo Kasei, PM201) as a photocuring aid, and 2-phenyl-4,5-dihydroxymethylimidazole as a curing catalyst. 0.2g was added and the photosensitive flux varnish was produced.
上記で得られた感光性フラックスワニスを、フリップチップテストボード（(株)テンリ
ュウテクニクス製、ＦＢ５００−ＰＣＢ）全面に、塗布し、８０℃で３０分乾燥して、厚さ１５０μｍの感光性フラックス層を形成した。この上に所定のパターンを載置して、高圧水銀灯露光装置を用い照射量３００ｍＪ／ｃｍ2で露光した。次いで、１．５％の水酸
化ナトリウム水溶液により、２Ｋｇ／ｍ2のスプレー圧で、現像、水洗、乾燥し、所定の
位置に半田接合用ビアホールが形成した。このフリップチップテストボードに、バンプ径１９０μｍ、バンプ高さ１４０μｍのフリップチップテストダイ（ＦＢＴ５００、フリップチップテクノロジー社製）を搭載して、真空乾燥機中で、５Ｎ/ｃｍ2の荷重をかけて、１０℃／分で昇温し、１２０℃まで加熱処理した。ピーク温度２４０℃に設定されたリフロー炉を通し半田接合を行った後、１６０℃で６０分熱処理して感光性フラックスを硬化させ、評価用フリップチップ実装テストボードをそれぞれ１０個ずつ作製した。
The photosensitive flux varnish obtained above was applied to the entire surface of a flip chip test board (manufactured by Tenryu Technics Co., Ltd., FB500-PCB), dried at 80 ° C. for 30 minutes, and a photosensitive flux layer having a thickness of 150 μm. Formed. A predetermined pattern was placed thereon and exposed using a high pressure mercury lamp exposure apparatus at an irradiation dose of 300 mJ / cm 2 . Next, development, washing and drying were performed with a 1.5% sodium hydroxide aqueous solution at a spray pressure of 2 kg / m 2 , and a solder joint via hole was formed at a predetermined position. A flip chip test die (FBT500, manufactured by Flip Chip Technology) with a bump diameter of 190 μm and a bump height of 140 μm is mounted on this flip chip test board, and a load of 5 N / cm 2 is applied in a vacuum dryer. The temperature was raised at 10 ° C./min, and heat treatment was performed up to 120 ° C. After solder bonding through a reflow oven set at a peak temperature of 240 ° C., heat treatment was performed at 160 ° C. for 60 minutes to cure the photosensitive flux, and 10 flip chip mounting test boards for evaluation were produced.
得られた評価用フリップチップ実装テストボードの導通を確認後、−５０℃で１０分、
１２５℃で１０分を１サイクルとする温度サイクル（ＴＣ）試験を実施した。ＴＣ試験１０００サイクル後の断線不良数の結果をまとめて表１に示した。
After confirming the continuity of the obtained flip chip mounting test board for evaluation, it is 10 minutes at −50 ° C.,
A temperature cycle (TC) test was performed with one cycle of 10 minutes at 125 ° C. The results of the number of disconnection failures after 1000 cycles of the TC test are summarized in Table 1.
半田メッキが施された導体間隔１５０μｍのくし形パターンを有する、試験用プリント
配線板に上記で得られた感光性フラックスワニスを、塗布し、８０℃で１０分乾燥して厚さ２０μｍの半田接合接着剤層を形成した。ピーク温度２４０℃に設定されたリフロー炉を通した後、１６０℃で６０分熱処理して感光性フラックスを硬化させ、絶縁信頼性試験用プリント配線板とした。
The photosensitive flux varnish obtained above is applied to a test printed wiring board having a comb-shaped pattern with a conductor spacing of 150 μm plated with solder, dried at 80 ° C. for 10 minutes, and solder-bonded to a thickness of 20 μm An adhesive layer was formed. After passing through a reflow furnace set at a peak temperature of 240 ° C., the photosensitive flux was cured by heat treatment at 160 ° C. for 60 minutes to obtain a printed wiring board for an insulation reliability test.
このプリント配線板の絶縁抵抗を測定した後、８５℃／８５％の雰囲気中で、直流電圧
５０Ｖを印加し、１０００時間経過後の絶縁抵抗を測定した。測定時の印加電圧は１００Ｖで１分とし、絶縁抵抗をまとめて表１にした。
After measuring the insulation resistance of this printed wiring board, a DC voltage of 50 V was applied in an atmosphere of 85 ° C./85%, and the insulation resistance after 1000 hours was measured. The applied voltage at the time of measurement was 100 V for 1 minute, and the insulation resistance was summarized in Table 1.
実施例２．実施例１で用いた合成例１のメタクリロイル基含有フェノールノボラックａ
１００ｇに代えて、合成例２で得たメタクリロイル基含有フェノールノボラックｂ（メタクリロイル基変性率５０％，ＯＨ基当量３８０）１００ｇを用いた以外は、実施例１と同様にして、感光性フラックスワニスを作製した。
Example 2 Methacryloyl group-containing phenol novolac a of Synthesis Example 1 used in Example 1
A photosensitive flux varnish was prepared in the same manner as in Example 1 except that 100 g of the methacryloyl group-containing phenol novolak b (methacryloyl group modification rate 50%, OH group equivalent 380) obtained in Synthesis Example 2 was used instead of 100 g. Produced.
上記で得られた感光性フラックスワニスを用い、実施例１と同様にして、評価用フリッ
プチップ実装テストボードをそれぞれ１０個ずつ作製し、ＴＣ試験を行い、１０００サイクル後の断線不良数の結果をまとめて表１に示した。また、実施例１と同様にして試験用プリント配線板作製し、絶縁抵抗試験を行い、まとめて表１にした。
Using the photosensitive flux varnish obtained above, in the same manner as in Example 1, 10 evaluation flip-chip mounting test boards were prepared, TC tests were performed, and the results of the number of defective disconnections after 1000 cycles were obtained. The results are shown in Table 1. Moreover, the printed wiring board for a test was produced similarly to Example 1, the insulation resistance test was done, and it was collectively shown in Table 1.
実施例３．実施例１で用いたカテコールノボラック２０ｇに代えて、フェノールフタリ
ン（ALDRICH製）２０ｇを用いた以外は、実施例１と同様にして、感光性フラックスワニ
スを作製した。
Example 3 A photosensitive flux varnish was produced in the same manner as in Example 1 except that 20 g of phenolphthalin (manufactured by ALDRICH) was used instead of 20 g of catechol novolak used in Example 1.
上記で得られた感光性フラックスワニスを用い、実施例１と同様にして、評価用フリッ
プチップ実装テストボードをそれぞれ１０個ずつ作製し、ＴＣ試験を行い、１０００サイクル後の断線不良数の結果をまとめて表１に示した。また、実施例１と同様にして試験用
プリント配線板作製し、絶縁抵抗試験を行い、まとめて表１にした。
Using the photosensitive flux varnish obtained above, in the same manner as in Example 1, 10 evaluation flip-chip mounting test boards were prepared, TC tests were performed, and the results of the number of defective disconnections after 1000 cycles were obtained. The results are shown in Table 1. Moreover, the printed wiring board for a test was produced similarly to Example 1, the insulation resistance test was done, and it was collectively shown in Table 1.
比較例１市販のフラックス（九州松下電器株式会社製、ＭＳＰ５１１）を用いて、半田
接合後イソプロピルアルコールで洗浄した以外は、実施例１と同様にして、評価用フリップチップ実装テストボードをそれぞれ１０個ずつ作製し、ＴＣ試験評価を行った。
Comparative Example 1 Ten evaluation flip-chip mounting test boards were used in the same manner as in Example 1 except that a commercially available flux (MSP511, manufactured by Kyushu Matsushita Electric Co., Ltd.) was used and soldered and then washed with isopropyl alcohol. Each was manufactured and TC test evaluation was performed.
比較例２市販のフラックス（九州松下電器株式会社製、ＭＳＰ５１１）を用いて、更に
半田接合によりフリップチップテストダイを評価用フリップチップ実装テストボードに実装した後、アンダーフィルを充填し、半田接合後イソプロピルアルコールで洗浄した以外は、実施例１と同様にして、評価用フリップチップ実装テストボードをそれぞれ１０個ずつ作製し、ＴＣ試験評価を行った。実施例１において、市販のフラックスを用いて、更にアンダーフィルを塗布した以外は、実施例１と同様にして、絶縁信頼性試験用プリント配線板を作製し、絶縁抵抗を測定した。
Comparative Example 2 Using a commercially available flux (MSP511, manufactured by Kyushu Matsushita Electric Co., Ltd.), after further mounting the flip chip test die on the evaluation flip chip mounting test board by solder bonding, filling with underfill, and after solder bonding Except for washing with isopropyl alcohol, ten flip chip mounting test boards for evaluation were produced in the same manner as in Example 1, and TC test evaluation was performed. In Example 1, a printed wiring board for an insulation reliability test was produced in the same manner as in Example 1 except that an underfill was further applied using a commercially available flux, and the insulation resistance was measured.
比較例３市販のフラックスを用いて、実施例１と同じ絶縁信頼性試験用プリント配線板
を作製したが、リフロー炉を通した後の熱処理は行わずに、絶縁抵抗試験を行った。
Comparative Example 3 A commercially available flux was used to produce the same insulation reliability test printed wiring board as in Example 1, but an insulation resistance test was conducted without performing heat treatment after passing through a reflow furnace.
表１に示した評価結果から分かるように、本発明の感光性フラックスを用いた場合、ＴＣ試験では、断線不良の発生がなく、従来のアンダーフィル工法同等以上の実装信頼性を有し、また、絶縁抵抗試験でもほとんど絶縁性の低下が認められず、本発明の感光性フラックスの効果は明白である。 As can be seen from the evaluation results shown in Table 1, when the photosensitive flux of the present invention is used, in the TC test, there is no occurrence of disconnection failure, and the mounting reliability is equal to or higher than that of the conventional underfill method. In the insulation resistance test, almost no decrease in insulation is observed, and the effect of the photosensitive flux of the present invention is clear.
Claims (2)
少なくとも１個のアクリロイル基又はメタクリロイル基を有するフェノールノボラック樹脂（Ａ）、少なくとも１個のフェノール性水酸基を有する化合物（Ｂ）、それらの硬化剤として作用する樹脂（Ｃ）、及び光重合開始剤（Ｄ）を必須成分とし、
前記少なくとも１個のフェノール性水酸基を有する化合物（Ｂ）が、フェノール、アルキルフェノール、ビフェノール、ナフトール、ハイドロキノン、レゾルシノール、カテコール、ヒドロキシベンゾイックアシッド、ジヒドロキシベンゾイックアシッド、フェノールフタリン、及び、これらのノボラック、さらには、レゾール、ポリビニルフェノールからなる群より選ばれる、少なくとも１種であることを特徴とするフラックス機能を有する感光性樹脂組成物。 A photosensitive resin composition having a flux function of forming a via hole for solder bonding at a predetermined position by exposure and development and softening by subsequent heating to exhibit adhesiveness and filling the via hole for solder bonding A thing,
A phenol novolak resin (A) having at least one acryloyl group or methacryloyl group, a compound (B) having at least one phenolic hydroxyl group, a resin (C) acting as a curing agent thereof, and a photopolymerization initiator ( D) as an essential component,
The compound (B) having at least one phenolic hydroxyl group is phenol, alkylphenol, biphenol, naphthol, hydroquinone, resorcinol, catechol, hydroxybenzoic acid, dihydroxybenzoic acid, phenolphthaline, and their novolaks, Furthermore, the photosensitive resin composition which has a flux function characterized by being at least 1 sort (s) chosen from the group which consists of a resole and polyvinylphenol .
The phenol novolak resin (A) having at least one acryloyl group or methacryloyl group is obtained by condensing a phenol compound having one or two phenolic hydroxyl groups in the molecule with formaldehyde under an acidic catalyst. The photosensitive resin composition which has a flux function of Claim 1 which is polyfunctional phenol.
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