JP4899291B2 - Coating method - Google Patents

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Description

本発明は、表面凹凸を有する基材を平滑化するためのコーティング方法に関するものである。   The present invention relates to a coating method for smoothing a substrate having surface irregularities.

近年、回路基板分野においては、小型化、高機能化の要求が強くなる一方で表面が平滑なものを安価、高速で製造することが求められている。その傾向が強い商品として表示素子用の回路基板がある。直接目に触れる表示素子、例えば近年使用実績の増えてきている液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、ELディスプレイ等はガラス板等のセラミックやプラスチックシートが使用されている。   In recent years, in the field of circuit boards, there has been a demand for manufacturing a product with a smooth surface at a low cost and at a high speed while demands for miniaturization and high functionality have increased. There is a circuit board for a display element as a product with a strong tendency. Display elements that can be directly touched, such as liquid crystal displays, plasma displays, EL displays and the like, which have been used in recent years, use ceramics such as glass plates and plastic sheets.

従来、平滑表面を形成するために様々な手法が適用されてきた。例えば基材にガラスを用いる場合、特許文献1および特許文献2に示されるように表面を研磨することにより平滑面を形成する作業が一般的に行われる。これら研磨工程においては表面に微細な傷を形成することが避けられず、また研磨粉等により欠陥部を発生する可能性があった。
また、基材にプラスチックシートを用いる場合には高度な平滑面を有する転写材、例えば銅箔等の金属箔、平滑化処理した鋼板や金属製ロール等を用い、その平滑表面を基材表面に転写する加圧成型の作業が行われる。また、特許文献3および特許文献4に記載されているようなコーティングによる平滑化処理も一般的に行われている。コーティング方式は2種類に大別されるが、輪郭塗工方式においてはベース基材の凹凸をなぞるために下地凹凸を反映した表面凹凸を発生し、平滑塗工方式においてはベース基材の凹凸に起因した膜厚バラツキを生じるため硬化過程において収縮量差により表面凹凸を発生する問題があった。これら特許文献3および特許文献4に提案されるような平滑面形成のための塗工方式は、液状塗工膜での平滑面形成に関するシステムの提案であり、硬化後の表面平滑性にまで言及された提案はなされていないのが現状であった。
Conventionally, various techniques have been applied to form a smooth surface. For example, when glass is used for the substrate, an operation of forming a smooth surface by polishing the surface as shown in Patent Document 1 and Patent Document 2 is generally performed. In these polishing processes, it is inevitable that fine scratches are formed on the surface, and there is a possibility that a defective portion is generated by polishing powder or the like.
Moreover, when using a plastic sheet for the base material, a transfer material having a highly smooth surface, for example, a metal foil such as copper foil, a smoothed steel plate or a metal roll, and the smooth surface is used as the base material surface. A pressure molding operation for transferring is performed. Moreover, the smoothing process by coating as described in Patent Document 3 and Patent Document 4 is generally performed. The coating method is roughly divided into two types. In the contour coating method, surface unevenness reflecting the surface unevenness is generated to trace the unevenness of the base substrate, and in the smooth coating method, the unevenness of the base substrate is generated. Due to the resulting film thickness variation, there was a problem that surface irregularities were generated due to the difference in shrinkage during the curing process. The coating method for forming a smooth surface as proposed in Patent Document 3 and Patent Document 4 is a proposal of a system relating to the formation of a smooth surface with a liquid coating film, and refers to the surface smoothness after curing. At present, no proposal has been made.

特開2001−039737JP 2001-039737 A 特開平07−249710JP 07-249710 A 特開2000−349423JP 2000-349423 特開2003−80139JP 2003-80139 A

本発明は以上のような問題を鑑み、表面凹凸を有する基材に平滑表面を形成するためのコーティング方法を提供するものであり、それにより製造された平滑化シート、ガラス、金属板等を提供し、さらにはそれを使用した表示素子用デバイスをも提供するものである。   In view of the above problems, the present invention provides a coating method for forming a smooth surface on a substrate having surface irregularities, and provides a smoothing sheet, glass, metal plate and the like produced thereby. Furthermore, a display element device using the same is also provided.

本発明者らは、表面凹凸を有する基材にコーティング樹脂を塗工するコーティング方法において、コーティング時は流動性が高い低粘度状態にすることでレベリングによる平滑面形成を行い、表面形成後の塗工膜の樹脂粘度を高粘度化することで流動性を抑制し、平滑面を維持した状態で硬化させるコーティング方法を見出した。   In the coating method in which a coating resin is applied to a substrate having surface irregularities, a smooth surface is formed by leveling by applying a low-viscosity state with high fluidity during coating. The present inventors have found a coating method in which fluidity is suppressed by increasing the resin viscosity of the coating film and curing is performed while maintaining a smooth surface.

すなわち本発明は、
(1)表面凹凸を有するベース基材に紫外線硬化性の樹脂組成物をコーティングする方法であって、コーティング時は液の温度制御によりレベリング性を向上させた状態で平滑塗工面を形成し、コーティング後は塗工面形状を維持して硬化させる冷却工程を含むコーティング方法。
(2)コーティング時の前記樹脂組成物の粘度が50cPs以下である(1)記載のコーティング方法。
(3)前記冷却処理後の前記樹脂組成物の粘度が3000cPs以上である(1)または(2)記載のコーティング方法。
(4)前記ベース基材として樹脂組成物からなるプラスチックシートもしくは無機充填材と樹脂組成物からなる複合基材を用い、(1)〜(3)記載のコーティング方法によりコーティングされた平滑化シート。
(5)表面凹凸が最大表面粗さで200nm以下である(4)記載の平滑化シート。
(6)透明である(4)または(5)記載の平滑化シート。
(7)前記ベース基材としてガラスを用い、(1)〜(3)記載のコーティング方法によりコーティングされた平滑化ガラス。
(8)表面凹凸が最大表面粗さで200nm以下である(7)記載の平滑化ガラス (9)透明である(7)または(8)記載の平滑化ガラス。
(10)前記ベース基材として金属板を用い、(1)〜(3)記載のコーティング方法によりコーティングされた平滑化金属板。
(11)表面凹凸が最大表面粗さで200nm以下である(10)記載の平滑化金属箔、平滑化金属シートもしくは平滑化金属板。
である。
That is, the present invention
(1) A method of coating an ultraviolet curable resin composition on a base substrate having surface irregularities, and at the time of coating, a smooth coating surface is formed with the leveling property improved by controlling the temperature of the liquid, After that, a coating method including a cooling step of maintaining the shape of the coated surface and curing.
(2) The coating method according to (1), wherein the viscosity of the resin composition during coating is 50 cPs or less.
(3) The coating method according to (1) or (2), wherein the resin composition after the cooling treatment has a viscosity of 3000 cPs or more.
(4) A smoothing sheet coated by the coating method described in (1) to (3), using a plastic sheet made of a resin composition or a composite base made of an inorganic filler and a resin composition as the base substrate.
(5) The smoothing sheet according to (4), wherein the surface irregularities are 200 nm or less in terms of maximum surface roughness.
(6) The smoothing sheet according to (4) or (5), which is transparent.
(7) Smoothed glass coated by the coating method described in (1) to (3) using glass as the base substrate.
(8) The smoothed glass according to (7), wherein the surface roughness is 200 nm or less in terms of the maximum surface roughness. (9) The smoothed glass according to (7) or (8), which is transparent.
(10) A smoothed metal plate coated with the coating method described in (1) to (3) using a metal plate as the base substrate.
(11) The smoothed metal foil, smoothed metal sheet or smoothed metal plate according to (10), wherein the surface roughness is 200 nm or less in terms of maximum surface roughness.
It is.

本発明の方法により得られる製造プロセスは、高い平滑面形成を可能とするコーティング方法の関するものである。更にその平滑基板を利用することにより、高い表示性能と低いコストの回路基材および表示素子用デバイスを得ることができる。   The manufacturing process obtained by the method of the present invention relates to a coating method that enables high smooth surface formation. Furthermore, by using the smooth substrate, a circuit substrate and a display element device having high display performance and low cost can be obtained.

以下に本発明のコーティング方法について説明する。
本発明のコーティング方法において、その対象となるベース基材は熱硬化性もしくは紫外線硬化性の樹脂を使用した樹脂シートおよび無機充填材と樹脂からなる複合シートもしくはガラス板、金属板である。これらの材料は回路基板、特に各種表示素子用の透明/不透明の基板における要求と合致しているものの、表面凹凸を有するために、高機能化に対応しきれなかったものである。
以下にベース基材としてプラスチックシートを用いる場合を主に記載するが特に限定されるものではなく、それ以外のガラス板、金属板等にも同様に適用される。また、用途についても回路基板を主に対象としているがそれ以外に適用しても問題はない。
The coating method of the present invention will be described below.
In the coating method of the present invention, the target base substrate is a resin sheet using a thermosetting or ultraviolet curable resin, a composite sheet or glass plate made of an inorganic filler and a resin, and a metal plate. Although these materials meet the requirements for circuit boards, particularly transparent / opaque substrates for various display elements, they have surface irregularities and have not been able to cope with high functionality.
Although the case where a plastic sheet is used as the base substrate is mainly described below, it is not particularly limited, and the same applies to other glass plates, metal plates, and the like. In addition, the circuit board is mainly targeted for use, but there is no problem even if it is applied to other purposes.

本特許の発明原理について説明する。
流動性の高い低粘度の樹脂においてレベリング効果を期待し、平滑塗工面を形成する手法は比較的公知とされている。上述の特許文献3および特許文献4に記載されているように、平滑塗工面の形成法は塗工方式の特徴として記述されることが多いが、これらの評価基準は液状塗工表面に留まり、最終的な硬化後まで考慮に入れた提案はされていない。
コーティング液表面がレベリングするための推進力は液の表面張力と静水圧勾配であり、レベリング時に塗工膜内において発生する剪断応力が、式(1)に示される最大剪断応力を超えた場合には樹脂流動が停止するため、それ以降のレベリング効果は期待できない。低粘度の塗工液を用いた場合には発生する剪断応力が小さいため最大剪断応力に達することが少なく、それにより得られる高いレベリング性から平滑面を形成することが可能となる。一方、式(2)に示されるOrchardの理論により下地凹凸、コーティング液粘度、
塗工膜厚における塗工膜表面凹凸の経時変化挙動を把握することができる。塗工膜内において発生する剪断応力が最大剪断応力に達しない場合においても、高粘度になるに従いレベリング時間が必要であることがこの理論より容易に推測され、平滑面形成における低粘度の優位性が証明されている。
The inventive principle of this patent will be described.
A technique for forming a smooth coating surface in view of a leveling effect in a low-viscosity resin having high fluidity is relatively known. As described in Patent Document 3 and Patent Document 4 described above, the method of forming a smooth coating surface is often described as a feature of the coating method, but these evaluation criteria remain on the liquid coating surface, No proposals have been taken into account until after final cure.
The driving force for leveling the coating liquid surface is the surface tension of the liquid and the hydrostatic pressure gradient. When the shearing stress generated in the coating film during leveling exceeds the maximum shearing stress shown in equation (1) Since the resin flow stops, the leveling effect after that cannot be expected. When a low-viscosity coating liquid is used, the generated shear stress is small, so that the maximum shear stress is rarely reached, and a smooth surface can be formed from the high leveling properties obtained thereby. On the other hand, according to the Orchard theory shown in Equation (2), the surface roughness of the substrate, the viscosity of the coating solution,
The temporal change behavior of the coating film surface unevenness in the coating film thickness can be grasped. Even when the shear stress generated in the coating film does not reach the maximum shear stress, it is easily estimated from this theory that leveling time is required as the viscosity increases, and the advantage of low viscosity in smooth surface formation Has been proven.

低粘度の流動性の高さは高いレベリング性を与える一方で、形成した平滑面を崩しやすいという欠点をもつ。塗工された膜表面が固化するまでには、搬送時に生じる振動や風圧等の様々な外乱を受ける。そのため、流動性が高い状態では一時的に平滑面を形成するが、最終的に平滑面を維持することが困難であった。またレベリング効果により凹凸を有する表面に平滑塗工膜を形成した場合は、その塗工膜厚は必然的にベース表面凹凸に起因した厚みバラツキを有することとなる。この膜厚バラツキは硬化速度のバラツキの発生要因となるために、硬化過程において収縮量が異なるため凹凸を形成することになる。
これらの事象を鑑みて、コーティング後に冷却処理を行うことにより生じる塗工膜の増粘効果を利用し、これを適切なタイミングで行うことによりレベリング速度と増粘速度のバランスを制御することによって、低粘度における高いレベリング性と高粘度における表面形状保持性を両立し、さらには温度影響のない紫外線照射により硬化を行うことで平坦な塗膜表面を形成し、且つ硬化後まで平滑面を保持することが可能となった。
The high fluidity of the low viscosity has a disadvantage that it easily breaks the formed smooth surface while providing high leveling properties. Until the coated film surface is solidified, it is subject to various disturbances such as vibration and wind pressure generated during conveyance. Therefore, a smooth surface is temporarily formed in a state where the fluidity is high, but it is difficult to finally maintain the smooth surface. In addition, when a smooth coating film is formed on a surface having unevenness due to the leveling effect, the coating film thickness necessarily has a thickness variation due to the base surface unevenness. Since the film thickness variation causes a variation in the curing speed, the amount of shrinkage differs during the curing process, so that irregularities are formed.
In view of these events, by utilizing the thickening effect of the coating film generated by performing a cooling treatment after coating, by controlling the balance between the leveling speed and the thickening speed by performing this at an appropriate timing, High leveling at low viscosity and surface shape retention at high viscosity are compatible, and furthermore, a flat coating film surface is formed by curing by UV irradiation without temperature influence, and a smooth surface is maintained until after curing. It became possible.

本特許のコーティング樹脂として用いる紫外線硬化性樹脂組成物とは、アクリレート樹脂、エポキシアクリレート樹脂等の紫外線により三次元架橋し硬化する樹脂一般を含む組成物を示す。これらは単独でも混合して使用してもよい。このとき硬化促進剤として紫外線照射によりラジカルを発生させうる物質、例えばアリールアルキルケトンや、紫外線照射によりカチオンを発生させうる物質、例えばアリールジアゾニウム塩等を配合しても良い。また、前記紫外線硬化性樹脂組成物に無機充填材を配合した複合材をコーティング樹脂として使用しても良い。   The ultraviolet curable resin composition used as the coating resin of this patent refers to a composition containing a general resin that is three-dimensionally crosslinked and cured by ultraviolet rays, such as an acrylate resin or an epoxy acrylate resin. These may be used alone or in combination. At this time, a substance capable of generating radicals upon irradiation with ultraviolet rays, such as an aryl alkyl ketone, or a substance capable of generating cations upon irradiation with ultraviolet rays, such as an aryldiazonium salt, may be blended as a curing accelerator. Moreover, you may use the composite material which mix | blended the inorganic filler with the said ultraviolet curable resin composition as coating resin.

本特許はレベリング性の高い状態でコーティング樹脂を塗工することにより平滑面を形成すること、レベリング後の冷却処理により塗工膜を高粘度化し硬化するまでの流動を抑制することにより平滑面を維持することを特徴としている。コーティング方式はダイ塗工、コンマナイフ、ディッピング、グラビア塗工等があげられるが特に限定するものではない。ただし、常温で高粘度なコーティング液を加温処理により低粘度化して用いるような場合にはダイ塗工など温調制御の比較的安定する塗工方式が望ましく、スプレー方式のように液吐出口から被塗工物までの間に粘度が急変するような方式は望ましくない。レベリング後の冷却方式は塗工膜が薄膜の場合には自然放冷においても冷却現象を発現するが強制冷却により冷却速度をコントロールできる手法を選択するのが望ましい。強制冷却の方法としては、冷却ロールにベース基材に巻かせる直接冷却法や、冷却エアーを利用した冷却環境による非接触法等があげられるが特に限定するものではない。   This patent forms a smooth surface by coating the coating resin in a highly leveled state, and suppresses the flow until the coating film is made highly viscous and cured by cooling treatment after leveling, thereby smoothing the surface. It is characterized by maintaining. Examples of the coating method include die coating, comma knife, dipping, and gravure coating, but are not particularly limited. However, when using a coating solution that is highly viscous at room temperature with a low viscosity by heating, a coating method with relatively stable temperature control, such as die coating, is desirable. It is not desirable to have a system in which the viscosity changes abruptly from to the workpiece. As the cooling method after leveling, when the coating film is a thin film, a cooling phenomenon is exhibited even in natural cooling, but it is desirable to select a method capable of controlling the cooling rate by forced cooling. Examples of the forced cooling method include, but are not limited to, a direct cooling method in which a cooling roll is wound around a base substrate, a non-contact method in a cooling environment using cooling air, and the like.

最大表面粗さとは、測定平面内における最大の凹凸高低差を示す数値である。特に高機能表示素子用基板に要求される200nmという表面粗さに関しては、測定器による方式の違いにより示す数値が大きく異なることが知られている。そのため、今回規定する表面粗さの数値に関しては光学原理に基づく非接触表面粗さ測定による数値と規定する。   The maximum surface roughness is a numerical value indicating the maximum uneven height difference in the measurement plane. In particular, regarding the surface roughness of 200 nm required for a high-performance display element substrate, it is known that the numerical values shown differ greatly depending on the difference in the method depending on the measuring instrument. Therefore, the numerical value of the surface roughness specified this time is specified as a numerical value by non-contact surface roughness measurement based on the optical principle.

本特許のベース基材に用いるプラスチックシートは例えば前記紫外線硬化性樹脂または熱硬化性樹脂からなるプラスチックシートを用いることができる。熱硬化性樹脂は、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ポリエステル樹脂等、熱によって三次元架橋し硬化する樹脂一般を示す。これら樹脂は単独でも混合してもよい。また用いる硬化剤及び硬化促進剤を必要とする場合はそれを併用することができる。熱硬化性樹脂として最も好適に使用されるものはエポキシ樹脂である。このとき硬化剤としてアミン系、特にジシアンジアミドと芳香族アミン、テトラメチレンヘキサミン及びフェノールノボラック系硬化剤や酸無水物系硬化剤が使用される。硬化促進剤としてはトリフェニルホスフィン等の有機燐系や、イミダゾール系の窒素系の硬化促進剤が好適に使用される。ベース基材に無機充填材と樹脂組成物との複合シートを用いる際の無機充填材は、粉体状、シート状の形態のものを示す。ここで用いられる粉体状の無機充填材とは、例えば球状、破砕状、鱗片状、棒状等があげられ、シート状の無機充填材とは、例えばガラス繊維、カーボン繊維、金属繊維、鉱物繊維、等々による織布、不織布、マット類等や、あるいは紙があげられる。これらの無機充填材はは単独もしくは混合して使用してもよい。ベース基材に用いる金属板は銅、アルミ等の各種金属からなり、形態として数μm厚みの金属箔から数mm厚みの
金属プレートを対象としている。電解、圧延等、その製造方法については特に限定しない。ベース基材として最も好適に使用されるものとしてはガラスクロス、ガラス不織布、紙があげられる。
As the plastic sheet used for the base substrate of this patent, for example, a plastic sheet made of the ultraviolet curable resin or the thermosetting resin can be used. Thermosetting resins generally indicate resins that are three-dimensionally crosslinked and cured by heat, such as epoxy resins, phenol resins, melamine resins, and polyester resins. These resins may be used alone or in combination. Moreover, when the hardening | curing agent and hardening accelerator to be used are required, it can be used together. An epoxy resin is most preferably used as the thermosetting resin. In this case, amine-based, particularly dicyandiamide and aromatic amine, tetramethylenehexamine, phenol novolac-based curing agent and acid anhydride-based curing agent are used as the curing agent. As the curing accelerator, organic phosphorus-based curing accelerators such as triphenylphosphine and imidazole-based nitrogen-based curing accelerators are preferably used. The inorganic filler used when the composite sheet of the inorganic filler and the resin composition is used for the base substrate is in the form of powder or sheet. Examples of the powdery inorganic filler used here include a spherical shape, a crushed shape, a scale shape, and a rod shape. Examples of the sheet-like inorganic filler include a glass fiber, a carbon fiber, a metal fiber, and a mineral fiber. Woven fabrics, non-woven fabrics, mats, etc., and paper. These inorganic fillers may be used alone or in combination. The metal plate used for the base substrate is made of various metals such as copper and aluminum, and forms from a metal foil having a thickness of several μm to a metal plate having a thickness of several mm. There is no particular limitation on the production method such as electrolysis and rolling. Glass cloth, glass nonwoven fabric, and paper are most preferably used as the base substrate.

以下に本発明の一実施例を説明するが、本発明はこれらの例によって何ら限定されるものではない。
(実施例1)
(1)ワニスの調製
脂環式エポキシ樹脂(ダイセル化学工業製 EHPE3150)100重量部、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸(新日本理化製リッカシドMH-700)75重量部、テトラフェニルホスホニウムブロマイド(北興化学工業製TPP-PB)0.5重量部を、アセトン120重量部と混合してワニスAとした。
(2)ベース基材作製
以下の要領で複合シートを作製した。
厚さ80μmのEガラス系ガラスクロス(日東紡績製 WEA2319)にワニスAをディッピングにて含浸させた。ガラスクロス内にワニスが含浸するのに十分な時間浸漬した後、表面に
2〜3μmの樹脂厚が乗るよう引き上げ速度を調整しながら両面に樹脂を塗布した。含浸/
塗布完了後にオーブン内につるした状態で、120℃で5分間処理し、更に200℃で2時間処理することにより樹脂を硬化させた。その時の最大表面粗さは3240nmであった。
(3)コーティング樹脂の調製
以下の要領でコーティング樹脂を調製した。
ジシクロペンタジエニルアクリレート(東亞合成(株)製M-203)50重量部、ビス〔4-(アクリロイロキシエトキシ)フェニル〕スルフィド(東亞合成(株)製 TO-2066)50重量部、1-ヒドロキシ-シクロヘキシル−フェニル−ケトン(チバスペシャリティケミ
カル製 イルガキュア184)0.5重量部を、80℃で溶融混合してコーティング用樹脂
とした。
コーティング液の粘性係数はパラレルプレート型の粘度計で昇温しながら計測を行った。室温25℃において3600cpsであったが、温度80℃においては30cpsに低下した。(4)コーティング処理
以下の条件にてコーティング処理を行った。
ダイレクトリバースグラビアコーターを利用して上記ベース基材表面にコーティング樹脂を塗工した。120メッシュのピラミッド形状を持つグラビアロールを使用し、グラビアロールおよび液槽バットは80℃に温度制御した。バックアップロールにはロータリージョイントで設置された水冷ロールを使用し、塗工直後の基材をバックアップロールに巻かせることで冷却処理を行った。バックアップロールは5℃のチラー水を流して温調制御し、グラビアロールの周速度とライン速度の比は1:1.5とした。ベース基材の片面を塗工した後、水銀ランプを用いて紫外線(500mJ/cm2)を照射してコーティング樹脂を硬化させた。
(5)測定結果
zygo社製光干渉式粗さ計を用いて塗工膜表面の最大表面粗さを測定した。最大表面粗さは127nmであった。
Examples of the present invention will be described below, but the present invention is not limited to these examples.
Example 1
(1) Preparation of varnish 100 parts by weight of an alicyclic epoxy resin (EHPE3150 manufactured by Daicel Chemical Industries), 75 parts by weight of methylhexahydrophthalic anhydride (Riccaside MH-700 manufactured by Shin Nippon Chemical Co., Ltd.), tetraphenylphosphonium bromide (Hokuko Chemical Industries) Varnish A was prepared by mixing 0.5 parts by weight of TPP-PB) with 120 parts by weight of acetone.
(2) Preparation of base substrate A composite sheet was prepared in the following manner.
An 80-μm thick E glass-based glass cloth (Nittobo WEA2319) was impregnated with varnish A by dipping. After immersing the varnish in the glass cloth for a sufficient amount of time,
The resin was applied to both sides while adjusting the pulling speed so that a resin thickness of 2 to 3 μm was applied. Impregnation /
The resin was cured by treatment at 120 ° C. for 5 minutes and further treatment at 200 ° C. for 2 hours in a state where it was suspended in the oven after the application was completed. The maximum surface roughness at that time was 3240 nm.
(3) Preparation of coating resin Coating resin was prepared in the following manner.
50 parts by weight dicyclopentadienyl acrylate (M-203 manufactured by Toagosei Co., Ltd.), 50 parts by weight of bis [4- (acryloyloxyethoxy) phenyl] sulfide (TO-2066 manufactured by Toagosei Co., Ltd.), 1 0.5 part by weight of hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone (Irgacure 184 manufactured by Ciba Specialty Chemicals) was melt-mixed at 80 ° C. to obtain a coating resin.
The viscosity coefficient of the coating solution was measured while raising the temperature with a parallel plate viscometer. Although it was 3600 cps at room temperature of 25 ° C., it decreased to 30 cps at a temperature of 80 ° C. (4) Coating treatment The coating treatment was performed under the following conditions.
A coating resin was applied to the surface of the base substrate using a direct reverse gravure coater. A gravure roll having a 120 mesh pyramid shape was used, and the temperature of the gravure roll and the bath bat was controlled at 80 ° C. A water-cooled roll installed with a rotary joint was used as a backup roll, and a cooling treatment was performed by winding the substrate immediately after coating around the backup roll. The temperature of the backup roll was controlled by flowing 5 ° C. chiller water, and the ratio between the peripheral speed and the line speed of the gravure roll was 1: 1.5. After coating one side of the base substrate, the coating resin was cured by irradiating with ultraviolet rays (500 mJ / cm 2) using a mercury lamp.
(5) Measurement results
The maximum surface roughness of the coating film surface was measured using a light interference type roughness meter manufactured by zygo. The maximum surface roughness was 127 nm.

(実施例2)
(1)ベース基材の作製
フロート製法で製造された非研磨ソーダライムガラス板をベース基材として用いた。ガラス板の最大表面粗さは425nmであった。
(2)コーティング処理
以下の条件にてコーティング処理を行った。
ダイレクトリバースグラビアコーターを利用して上記ベース基材表面に実施例1と同様のコーティング樹脂を塗工した。120メッシュのピラミッド形状を持つグラビアロールを使用し、グラビアロールおよび液槽バットは80℃に温度制御した。バックアップロールにはロータリージョイントで設置された水冷ロールを使用し、また塗工直後の基材は温度制御した金属プレート上にのるようにラインをコントロールした。バックアップロールおよび金属プレートは5℃のチラー水を流して温調制御し、グラビアロールの周速度とライン速度の比は1:1.5とした。ベース基材の片面を塗工した後、水銀ランプを用いて紫外線(500mJ/cm2)を照射してコーティング樹脂を硬化させた。
(3)測定結果
zygo社製光干渉式粗さ計を用いて塗工膜表面の最大表面粗さを測定した。最大表面粗さは27nmであった。
(Example 2)
(1) Production of base substrate An unpolished soda lime glass plate produced by a float manufacturing method was used as a base substrate. The maximum surface roughness of the glass plate was 425 nm.
(2) Coating treatment The coating treatment was performed under the following conditions.
Using the direct reverse gravure coater, the same coating resin as in Example 1 was applied to the surface of the base substrate. A gravure roll having a 120 mesh pyramid shape was used, and the temperature of the gravure roll and the bath bat was controlled at 80 ° C. A water-cooled roll installed with a rotary joint was used as a backup roll, and the line was controlled so that the substrate immediately after coating was placed on a temperature-controlled metal plate. The temperature of the backup roll and the metal plate was controlled by flowing chiller water at 5 ° C., and the ratio between the peripheral speed and the line speed of the gravure roll was 1: 1.5. After coating one side of the base substrate, the coating resin was cured by irradiating with ultraviolet rays (500 mJ / cm 2) using a mercury lamp.
(3) Measurement results
The maximum surface roughness of the coating film surface was measured using a light interference type roughness meter manufactured by zygo. The maximum surface roughness was 27 nm.

(実施例3)
(1)ベース基材の作製
厚み18μmの電解銅箔をベース基材として用いた。銅箔の最大表面粗さは2389nmで
あった。
(2)コーティング処理
以下の条件にてコーティング処理を行った。
ダイレクトリバースグラビアコーターを利用して上記ベース基材表面にコーティング樹脂を塗工した。120メッシュのピラミッド形状を持つグラビアロールを使用し、グラビアロールおよび液槽バットは80℃に温度制御した。バックアップロールにはロータリージョイントで設置された水冷ロールを使用し、塗工直後の基材をバックアップロールに巻かせることで冷却処理を行った。バックアップロールは5℃のチラー水を流して温調制御し、グラビアロールの周速度とライン速度の比は1:1.5とした。ベース基材の片面を塗工した後、水銀ランプを用いて紫外線(500mJ/cm2)を照射してコーティング樹脂を硬化させた。
(3)測定結果
zygo社製光干渉式粗さ計を用いて塗工膜表面の最大表面粗さを測定した。最大表面粗さは89nmであった。
Example 3
(1) Production of base substrate An electrolytic copper foil having a thickness of 18 μm was used as the base substrate. The maximum surface roughness of the copper foil was 2389 nm.
(2) Coating treatment The coating treatment was performed under the following conditions.
A coating resin was applied to the surface of the base substrate using a direct reverse gravure coater. A gravure roll having a 120 mesh pyramid shape was used, and the temperature of the gravure roll and the bath bat was controlled at 80 ° C. A water-cooled roll installed with a rotary joint was used as a backup roll, and a cooling treatment was performed by winding the substrate immediately after coating around the backup roll. The temperature of the backup roll was controlled by flowing 5 ° C. chiller water, and the ratio between the peripheral speed and the line speed of the gravure roll was 1: 1.5. After coating one side of the base substrate, the coating resin was cured by irradiating with ultraviolet rays (500 mJ / cm 2) using a mercury lamp.
(3) Measurement results
The maximum surface roughness of the coating film surface was measured using a light interference type roughness meter manufactured by zygo. The maximum surface roughness was 89 nm.

(比較例1)
(1)ベース基材の作製
実施例1と同じ要領でベース基材を作製した。
(2)コーティング処理
以下の条件にてコーティング処理を行った。
ダイレクトリバースグラビアコーターを利用して上記ベース基材表面に実施例と同様のコーティング樹脂を塗工した。120メッシュのピラミッド形状を持つグラビアロールを使用し、グラビアロールおよび液槽バットは80℃に温度制御した。バックアップロールにはロータリージョイントで設置された水冷ロールを使用し、塗工直後の基材をバックアップロールに巻かせることで温度制御を行った。バックアップロールは80℃の温水を流して温調制御し、グラビアロールの周速度とライン速度の比は1:1.5とした。ベース基材の片面を塗工した後、水銀ランプを用いて紫外線(500mJ/cm2)を照射してコーティング樹脂を硬化させた。
(3)測定結果
zygo社製光干渉式粗さ計を用いて塗工膜表面の最大表面粗さを測定した。最大表面粗さは538nmであった。
(Comparative Example 1)
(1) Production of base substrate A base substrate was produced in the same manner as in Example 1.
(2) Coating treatment The coating treatment was performed under the following conditions.
Using the direct reverse gravure coater, the same coating resin as in the example was applied to the surface of the base substrate. A gravure roll having a 120 mesh pyramid shape was used, and the temperature of the gravure roll and the bath bat was controlled at 80 ° C. A water-cooled roll installed with a rotary joint was used as the backup roll, and the temperature was controlled by winding the substrate immediately after coating around the backup roll. The temperature of the backup roll was controlled by flowing hot water at 80 ° C., and the ratio of the peripheral speed and the line speed of the gravure roll was 1: 1.5. After coating one side of the base substrate, the coating resin was cured by irradiating with ultraviolet rays (500 mJ / cm 2) using a mercury lamp.
(3) Measurement results
The maximum surface roughness of the coating film surface was measured using a light interference type roughness meter manufactured by zygo. The maximum surface roughness was 538 nm.

(比較例2)
(1)ベース基材の作製
実施例1と同じ要領でベース基材を作製した。
(2)コーティング処理
以下の条件にてコーティング処理を行った。
ダイレクトリバースグラビアコーターを利用して上記ベース基材表面に実施例と同様のコーティング樹脂を塗工した。120メッシュのピラミッド形状を持つグラビアロールを使用し、グラビアロールおよび液槽バットは80℃に温度制御した。グラビアロールの周速度とライン速度の比は1:1.5とし、塗工後の温度制御は特に行わなかった。ベース基板の片面を塗工した後、水銀ランプを用いて紫外線(500mJ/cm2)を照射してコーティング樹脂を硬化させた。
(3)測定結果
zygo社製光干渉式粗さ計を用いて塗工膜表面の最大表面粗さを測定した。最大表面粗さは399nmであった。
(Comparative Example 2)
(1) Production of base substrate A base substrate was produced in the same manner as in Example 1.
(2) Coating treatment The coating treatment was performed under the following conditions.
Using the direct reverse gravure coater, the same coating resin as in the example was applied to the surface of the base substrate. A gravure roll having a 120 mesh pyramid shape was used, and the temperature of the gravure roll and the bath bat was controlled at 80 ° C. The ratio between the peripheral speed and the line speed of the gravure roll was 1: 1.5, and temperature control after coating was not particularly performed. After coating one side of the base substrate, the coating resin was cured by irradiating with ultraviolet rays (500 mJ / cm 2) using a mercury lamp.
(3) Measurement results
The maximum surface roughness of the coating film surface was measured using a light interference type roughness meter manufactured by zygo. The maximum surface roughness was 399 nm.

Claims (4)

表面凹凸を有するベース基材表面に、所定の温度Aにより加熱した紫外線硬化性樹脂組成物を塗工する工程1と
前記工程1により樹脂組成物が塗工された基材表面を所定の温度Bにより冷却する工程2とを有する表示用デバイス用基板の製造方法であって、
前記紫外線硬化性樹脂組成物の粘度が、前記温度Aにおいて50cPs以下であり、かつ
前記温度Bにおいて3000cPs以上であることを特徴とする表示用デバイス用基板の製造方法。
The base substrate surface having surface irregularities, and step 1 of applying a UV-curable resins composition was heated by a predetermined temperature A
A method for producing a substrate for a display device, comprising: a step 2 of cooling the surface of the base material coated with the resin composition by the step 1 at a predetermined temperature B;
The ultraviolet curable resin composition has a viscosity of 50 cPs or less at the temperature A; and
The method for manufacturing a substrate for a display device, wherein the temperature B is 3000 cPs or more.
前記ベース基材が樹脂組成物からなるプラスチックシートである請求項1記載の表示用デバイス用基板の製造方法。  2. The method for producing a display device substrate according to claim 1, wherein the base substrate is a plastic sheet made of a resin composition. 前記樹脂組成物が樹脂と無機充填材とを含むものである請求項2記載の表示用デバイス用基板の製造方法。  The method for producing a substrate for a display device according to claim 2, wherein the resin composition contains a resin and an inorganic filler. 前記ベース基材がガラス板である請求項1記載の表示用デバイス用基板の製造方法。  2. The method for producing a substrate for a display device according to claim 1, wherein the base substrate is a glass plate.
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