JP4898751B2 - 排ガス処理装置及び排ガス処理システム - Google Patents

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Description

本発明は、燃焼装置から排出される排ガスの処理を行う排ガス処理装置及び排ガス処理システムに関する。
例えば火力発電所等の燃焼装置である石炭焚ボイラから排出される排ガスには毒性の高い水銀が含まれるため、従来から排ガス中の水銀を除去するためのシステムが種々検討されてきた。
通常、石炭焚ボイラには排ガス中の硫黄分を除去するための湿式の脱硫装置が設けられている。このようなボイラに排ガス処理装置として脱硫装置が付設されてなる排煙処理設備においては、排ガス中の塩素(Cl)分が多くなると、水に可溶な2価の金属水銀(Hg)の割合が多くなり、前記脱硫装置で水銀が捕集しやすくなることが、広く知られている。
そのため、近年、NOxを還元する脱硝装置、および、アルカリ吸収液を硫黄酸化物(SOx)吸収剤とする湿式脱硫装置と組み合わせて、この金属水銀を処理する方法や装置について様々な考案がなされてきた。
排ガス中の金属水銀を処理する方法としては、活性炭やセレンフィルター等の吸着剤による除去方法が知られているが、特殊な吸着除去手段が必要であり、発電所排ガス等の大容量排ガスの処理には適していない。
そこで、大容量排ガス中の金属水銀を処理する方法として、煙道中、高温の脱硝装置の前流工程で塩素化剤をガス供給し、脱硝触媒上で水銀を酸化(塩素化)させ、水溶性の塩化水銀にした後、後流の湿式脱硫装置で吸収させる方法が提案されている(例えば、特許文献1及び特許文献2、参照)。また、煙道にガス供給する装置および技術は脱硝装置のNH3噴霧、塩素化剤のガス供給で実用化されている。
石炭焚きボイラの排ガス処理装置の概略図を図8に示す。図8に示すように、従来の排ガス処理システム100は、燃料Fとして石炭を供給する石炭焚ボイラ11からの排ガス12中の窒素酸化物(NOx)を除去すると共に、排ガス12中に塩酸(HCl)を供給して水銀(Hg)を酸化する脱硝装置13と、窒素酸化物(NOx)除去後の排ガス12中の熱を回収する空気予熱器14と、熱回収後の排ガス12中の煤塵を除去する電気集塵器15と、除塵後の排ガス12中の硫黄酸化物(SOx)、水銀(Hg)を除去する脱硫装置16と、脱硫後の排ガス12を浄化ガス17として外部に排出する煙突18とを具備するものである。
また、脱硝装置13の前流の煙道19には、塩酸(HCl)の注入箇所が設けられており、塩酸(液体HCl)供給部20に貯蔵された塩酸(液体)は、塩化水素供給部21で気化して塩化水素(HCl)供給ノズル22を介して塩化水素として排ガス12に供給されている。
また、脱硝装置13の前流の煙道19には、アンモニア(NH3)の注入箇所が設けられており、NH3供給部23から供給されるアンモニアはアンモニア噴霧ノズル24により排ガス12に噴霧し、窒素酸化物(NOx)の還元を行うようにしている。
なお、図8中、符号25は酸化還元電位測定制御装置(ORPコントローラ)、26は空気を各々図示する。
ここで、石炭焚ボイラ11から排ガス12は、脱硝装置13に供給され、その後空気予熱器14で熱交換により空気27を加熱した後、電気集塵器15に供給され、更に、脱硫装置16に供給された後、浄化ガス17として大気に排出される。
また、塩素化剤による装置への腐食破損等の影響を抑え信頼性を向上させるため、湿式脱硫後の排ガスについて水銀濃度を水銀モニターで測定し、脱硫後の水銀濃度に基づいて塩素化剤の供給量を調整するようにしている(例えば、特許文献2、参照)。
このように、従来においては、排ガス12中に塩化水素とアンモニアとを供給することで、排ガス12中のNOx(窒素酸化物)を除去すると共に、排ガス12中の水銀(Hg)を酸化するようにしている。
即ち、NH3はNOxの還元脱硝用に用い、NH3供給部23から供給されるNH3をアンモニア(NH3)噴霧ノズル24を介して排ガス12中に噴霧し、脱硝触媒層13で、下記式のように還元反応によりNOxを窒素(N2)に置換し、脱硝するようにしている。
4NO + 4NH3 + O2 → 4N2 + 6H2O・・・(1)
NO + NO2 + 2NH3 → 2N2 + 3H2O・・・(2)
また、塩化水素は水銀酸化用に用いており、塩素化剤として用いられる塩化水素はHCl供給部20から塩化水素(HCl)供給部21に供給され、ここで塩酸は気化され、塩化水素(HCl)として塩化水素供給ノズル22により排ガス12中に供給することで、脱硝触媒層13において、下記式のように脱硝触媒上で溶解度の低いHgを酸化(塩素化)し、水溶性の高い塩化水銀(HgCl2)に変換させ、後流側に設けられる脱硫装置16で排ガス12中に含有するHgを除去するようにしている。
Hg + 2HCl + 1/2O2 → HgCl2 + H2O・・・(3)
また、燃料として石炭又は重油を使用した場合、燃料中にはClが含まれるため燃焼ガスにはCl分が含まれるが、燃料の種類によりCl分の含有量は異なり、排ガス中のCl濃度を制御するのは困難であるため、排ガス処理装置10の前流に必要量以上のHCl等を添加し、確実にHgを除去するようにするのが好ましい。
また、脱硝触媒層13は、図7に示すように、格子状に配列して四角形状の通路28を有するハニカム形状のものに脱硝触媒を担持したものを用いており、その通路の断面形状は例えば三角形状や四角形状など多角形状からなる通路としている。
特開平10−230137号公報 特開2001−198434号公報
ところで、従来の脱硝装置13に供給される排ガス12の気流は、脱硝装置13の手前で整流化手段(図示せず)により整流化され、層流状態であり、その状態で脱硝装置13のハニカム通路28内に流入されるので、脱硝触媒との接触面積は限られることとなり、この結果、更なる水銀の酸化反応効率の向上を図るのが困難である、という問題がある。
本発明は、前記問題に鑑み、脱硝装置内に供給される排ガスと脱硝触媒との接触面積を増加させ、前記排ガス中の水銀の酸化効率を一層向上させた排ガス処理装置及び排ガス処理システムを提供することを課題とする。
上述した課題を解決するための本発明の第1の発明は、ボイラからの排ガス中の窒素酸化物を除去すると共に、前記排ガスの煙道中に塩化水素を供給して水銀を酸化する脱硝触媒層を少なくとも一つ以上有する排ガス処理装置であって、前記脱硝触媒層の入口側に、旋回流発生部材を設け、煙道中の層流の排ガスを脱硝触媒層内部で旋回流に変化させてなると共に、脱硝触媒層がハニカム触媒であり、前記旋回流発生部材が、前記ハニカム触媒の入口側の各通路に対応して区画されてなる旋回流発生部本体と、該区画された内壁に配設され、乱流を発生させる複数の旋回流発生翼とからなることを特徴とする排ガス処理装置にある。
の発明は、第1の発明において、前記内壁に設けられた複数の前記旋回流発生翼を一組とし、それらがオフセットしつつガス流れ方向に複数配設されていることを特徴とする排ガス処理装置にある。
の発明は、第1又は2の発明において、前記脱硝触媒層が前記排ガスの流れ方向に沿って複数段設けられていると共に、前記旋回流発生部材が、各々の段に配置されることを特徴とする排ガス処理装置にある。
の発明は、前記ボイラと、前記ボイラの下流側の煙道に排出された排ガスに塩素化剤を注入する塩素化剤供給部と、第1乃至の何れか一つの発明の排ガス処理装置と、脱硝後の排ガス中の硫黄酸化物を除去する脱硫装置と、脱硫後のガスを外部に排出する煙突とを有することを特徴とする排ガス処理システムにある。
の発明は、第4の発明において、前記ボイラの下流側の煙道に排出された排ガスにアンモニアを投入するアンモニア供給部が設けられてなることを特徴とする排ガス処理システムにある。
本発明によれば、ボイラからの排ガス中の窒素酸化物を除去する脱硝触媒層の入口側に、旋回流発生部材を設け、煙道中の層流の排ガスを脱硝触媒層内部で旋回流に変化させているため、前記排ガスの脱硝触媒との接触時間を増加させることができる。
このため、前記排ガス中に予めHClを供給しておくことで、前記排ガス中の水銀と脱硝触媒との酸化反応効率を向上させることができる。これにより、排ガス処理装置の後流側に設けられる脱硫装置により前記排ガス中の水銀を高効率で除去することができる。
また、前記排ガス中のNOxの還元性能及び水銀の酸化性能を向上させることができるため、前記脱硝触媒層において用いる脱硝触媒量を低減することができると共に、前記排ガスに供給する塩素化剤の供給量を低減することができる。
以下、この発明につき図面を参照しつつ詳細に説明する。なお、この実施例によりこの発明が限定されるものではない。また、下記実施例における構成要素には、当業者が容易に想定できるもの、あるいは実質的に同一のものが含まれる。
本発明による実施例に係る排ガス処理装置について、図面を参照して説明する。
図1は、実施例に係る排ガス処理装置を有する排ガス処理システムを示す概略図であり、図2は、旋回流発生部材の斜視図であり、図3は、旋回流発生部材を軸方向から見たときの図である。
なお、図1の構成は、図8に示す排ガス処理システムの一部であるので、従来の構成と同一部材には同一符号を付して重複した説明は省略する。
図1に示すように、本実施例に係る排ガス処理装置10は、ボイラ11からの排ガス12中の窒素酸化物を除去すると共に、前記排ガス12の煙道19中に塩化水素を供給して水銀を酸化する脱硝触媒層13を少なくとも一つ以上有する排ガス処理装置であって、前記脱硝触媒層13の入口側に、旋回流発生部材30Aを設け、煙道19中の層流の排ガスを脱硝触媒層13内部で旋回流に変化させてなるものである。
前記旋回流発生部材30Aは、図2及び図3に示すように、前記ハニカム触媒の入口側の各通路に対応して区画されてなる旋回流発生部本体31と、該区画された内壁32に配設され、乱流を発生させる複数の旋回流発生翼33Aとから構成されている。
ここで、この旋回流発生翼33Aは本実施例では三角形状の板状部材であり、旋回流発生翼33Aの一辺を内壁32に沿うように同一方向に傾斜して配置されている。
なお、図中、各通路には旋回流発生翼33Aが各々設けているが、図中は省略する。
本実施例では、旋回流発生翼33Aを設ける数は、内壁32に対応して四つとしているが、本発明はこれに限定されるものではなく、二つ又は三つでもよく、又は五つ以上設けるようにしてもよい。また、ハニカム触媒の通路の形状に応じて旋回流発生翼33Aを設ける数を適宜変更するようにする。
本実施例では、脱硝触媒層13の入口13a側に、脱硝触媒層13の入口側の各通路に対応して区画されてなる旋回流発生部本体31と、該区画された内壁32に配設され、乱流を発生させる複数の旋回流発生翼33Aとから構成されている旋回流発生部材30Aを設けているため、煙道19中の層流の排ガス12を脱硝触媒層13内部で旋回流に変化させ、排ガス12の脱硝触媒との接触時間を増加させることができる。よって、排ガス12中には予めHClを供給しているため、排ガス12中のHgと脱硝触媒との酸化反応効率を向上させることができる。
これにより、排ガス処理装置10の後流側に設けられる脱硫装置(図示しない)により排ガス12中のHgを高効率で除去することができる。
また、排ガス12中のNOxの還元性能及びHgの酸化性能を向上させることができるため、脱硝触媒層13において用いる脱硝触媒量を低減することができると共に、排ガス12に供給するHCl量を低減することができる。
なお、従来においては、図7に示すように、脱硝触媒層13のハニカム触媒の通路28の断面の大きさは、排ガス12と脱硝触媒との接触効率を向上させると共に、排ガス12の圧損を低くする観点から、通常5mm四方と狭くしている。
これに対して、本発明では、旋回流発生部材30Aをハニカム通路に対応するように設け、排ガス12と脱硝触媒との接触効率を向上させつつ、排ガス12の圧損を低くするため、脱硝触媒層13の各通路28の1辺の長さを、5mm以上大きくすることができ、例えばその目開きを6〜10mm四方とすることができる。
また、旋回流発生翼33Aの内壁32に沿って傾斜させている傾斜の角度は、排ガス12の流量などに応じ、排ガス12を乱流とすることができる角度であればよい。
また、内部に配設される四つの旋回流発生翼33Aを一組として、この一組の前記旋回流発生翼をそのガス流れ沿って所定間隔を空けて複数組設けるようにしてもよい。
また、図4に示すように、ガス流れ方向に沿って下流側に設けられている一組の前記旋回流発生翼33A−2の一部が、排ガス12の上流側に設けられている一組の旋回流発生翼33A−1と重ならないようにオフセットして複数設けるようにしてもよい。これにより、更に効率良く排ガス12に旋回流を発生させることができる。
また、旋回流発生部本体31の軸方向から見たときに排ガス12の下流側に設けられている一組の旋回流発生翼33Aは、排ガス12の上流側に設けられている一組の旋回流発生翼33Aと重なるようにして旋回流発生部本体31の内壁32に複数設けるようにしてもよい。
また、本実施例に係る排ガス処理装置10においては、脱硝触媒層13を一つのみ配設しているが、本発明はこれに限定されるものでなく、図5に示すように、脱硝触媒層13は煙道19に排ガス12の流れ方向に沿って複数(本実施例では3ヶ)13−1〜13−3配設してもよい。この際、旋回流発生部材も各々の入口側に30A−1〜30A−3を設けて、更に効率良く排ガス12に旋回流を発生させるようにしてもよい。
また、本実施例では、旋回流発生部材14の旋回流発生翼33Aの断面形状を三角形状としているが、本発明はこれに限定されるものではなく、図6に示すように、四角形状の旋回流発生翼33Bとし、その一辺を内壁32に沿うように同一方向に傾斜して配置した旋回流発生部材14Bを用いてもよい。
ここで、本実施例に係る排ガス処理装置10においては、還元脱硝用に脱硝触媒層13で用いる脱硝触媒として、V、W、Mo、Ni、Co、Fe、Cr、Mn、Cu等の金属酸化物又は硫酸塩あるいは、Pt、Ru、Rh、Pd、Irなどの貴金属、又はこれらの混合物を担体であるチタニア、シリカ、ジルコニア及びこれらの複合酸化物、又はゼオライトに担持したものを用いることができる。
また、本実施例において、用いるHClについて、特に濃度の制限はないが、例えば濃塩酸から5%程度の希塩酸を用いることができる。また、本実施例において、使用する塩素化剤として塩化水素(HCl)を用いて説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、塩素化剤としては、排ガス中のHgが脱硝触媒の存在下で反応してHgCl及び/又はHgCl2を生成するものであればよく、塩化アンモニウム、塩素、次亜塩素酸、次亜塩素酸アンモニウム、亜塩素酸、亜塩素酸アンモニウム、塩素酸、塩素酸アンモニウム、過塩素酸、過塩素酸アンモニウム、その他上記酸のアミン塩類、その他の塩類などが例示される。
また、排ガス12中に添加する塩素化剤の量は、水難溶性のHgに対して化学量論量かそれよりも過剰であればよい。排ガス12中のHgを効率よく除去すると共に、後流側で排出される排水中の塩素濃度を考慮して、煙道19内における排ガス12の塩素化剤の濃度としては、排ガス12に対して1000ppm以下となるよう供給するようにすればよい。
また、煙道19内における排ガス12へのHClの添加位置は、NH3の添加位置よりも上流側としているが、NH3の添加位置よりも下流側としてもよい。
また、本実施例において、ボイラ11から排出される排ガス12にHClとNH3の両方を添加しているが、煙道19内における排ガス12にNH3を添加しなくてもよい。排ガス処理装置10の脱硝触媒層13では、排ガス12中のNOx(窒素酸化物)を除去すると共に、排ガス12中のHgを酸化し、後流側に設けられる脱硫装置(図示しない)でHgを除去するものであるため、煙道19内で排ガス12にNH3を添加しなくても、脱硝触媒層13の脱硝触媒の存在下でHClでHgを塩化物に転換し、脱硫装置(図示しない)でHgを除去できるのに変わりないからである。
このように、本実施例に係る排ガス処理装置10によれば、ボイラ11からの排ガス12中のNOx(窒素酸化物)を除去すると共に、排ガス12中にHClを供給してHgを酸化する脱硝触媒層13を有する排ガス処理装置であって、脱硝触媒層13の入口13a側に、脱硝触媒層13の入口側の各通路に対応して区画されてなる旋回流発生部本体31と、該区画された内壁32に配設され、乱流を発生させる複数の旋回流発生翼33Aとから構成されている旋回流発生部材30Aを設けている。これにより、煙道19中の層流の排ガス12を脱硝触媒層13内部で旋回流に変化させ、排ガス12の脱硝触媒との接触時間を増加させることができる。よって、排ガス12中には予めHClを供給しているため、排ガス12中のHgと脱硝触媒との酸化反応効率を向上させることができる。この結果、排ガス処理装置10の後流側に設けられる脱硫装置(図示しない)によりHgを高効率で除去することができる。
また、排ガス12中のNOxの還元性能及びHgの酸化性能を向上させることができるため、脱硝触媒層13において用いる脱硝触媒量を低減することができると共に、排ガス12に供給するHCl量を低減することができる。
また、本実施例では、石炭や重油などの硫黄、Hg等を含む化石燃料を燃焼する火力発電所のボイラから排出される排ガスを用いて説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、NOx濃度が低く、二酸化炭素、酸素、SOx、煤塵、あるいは水分を含む排ガス、硫黄、Hg等を含む燃料を燃焼する工場などから排出されるボイラ排ガス、金属工場、石油精製工場、石油化学工場等から排出される加熱炉排ガス等にも適用できる。
以上のように、本発明に係る排ガス処理装置は、脱硝触媒層の入口側に、旋回流発生部材を設け、煙道中の層流の排ガスを脱硝触媒層内部で旋回流に変化させることで、前記排ガスの脱硝触媒との接触時間が増加し、水銀と脱硝触媒との酸化反応効率が向上するので、火力発電所等のHgを含有する石炭や重油などの化石燃料を燃焼する装置から排出される排ガスの処理に用いるのに適している。
本発明の実施例に係る排ガス処理装置を有する排ガス処理システムを示す概略図である。 旋回流発生部材の斜視図である。 旋回流発生部材を軸方向から見たときの図である。 他の旋回流発生部材を軸方向から見たときの図である。 本発明の実施例に係る排ガス処理装置他の構成を有する排ガス処理システムを示す概略図である。 他の旋回流発生部材を軸方向から見たときの図である。 ハニカム触媒の斜視図である。 石炭焚きボイラの排ガス処理装置の概略図である。
10 排ガス処理装置
11 ボイラ
12 排ガス
13 脱硝触媒層
13a 入口
19 煙道
20 塩酸(液体HCl)供給部
21 塩素化剤(HCl)供給
22 塩素化剤(HCl)供給ノズル
23 アンモニア(NH3)供給部
24 アンモニア(NH3)噴霧ノズル
28 通路
22 旋回流発生部本体
23 内壁
30A,30A−1〜30A−3,30B 旋回流発生部材
31 本体
32 内壁
33A,33B 旋回流発生翼

Claims (5)

  1. ボイラからの排ガス中の窒素酸化物を除去すると共に、前記排ガスの煙道中に塩化水素を供給して水銀を酸化する脱硝触媒層を少なくとも一つ以上有する排ガス処理装置であって、
    前記脱硝触媒層の入口側に、旋回流発生部材を設け、煙道中の層流の排ガスを脱硝触媒層内部で旋回流に変化させてなると共に、
    脱硝触媒層がハニカム触媒であり、
    前記旋回流発生部材が、前記ハニカム触媒の入口側の各通路に対応して区画されてなる旋回流発生部本体と、該区画された内壁に配設され、乱流を発生させる複数の旋回流発生翼とからなることを特徴とする排ガス処理装置。
  2. 請求項において、
    前記内壁に設けられた複数の前記旋回流発生翼を一組とし、それらがオフセットしつつガス流れ方向に複数配設されていることを特徴とする排ガス処理装置。
  3. 請求項1又は2において、
    前記脱硝触媒層が前記排ガスの流れ方向に沿って複数段設けられていると共に、
    前記旋回流発生部材が、各々の段に配置されることを特徴とする排ガス処理装置。
  4. 前記ボイラと、
    前記ボイラの下流側の煙道に排出された排ガスに塩素化剤を注入する塩素化剤供給部と、
    請求項1乃至の何れか一つの排ガス処理装置と、
    脱硝後の排ガス中の硫黄酸化物を除去する脱硫装置と、
    脱硫後のガスを外部に排出する煙突とを有することを特徴とする排ガス処理システム。
  5. 請求項において、
    前記ボイラの下流側の煙道に排出された排ガスにアンモニアを投入するアンモニア供給部が設けられてなることを特徴とする排ガス処理システム。
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