JP4892433B2 - Method for forming surface treatment film - Google Patents
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Description
本発明は、皮膜の防食性及び皮膜形成剤の安定性に優れた表面処理皮膜の形成方法、該方法により形成される皮膜構造及び塗装物品に関する。 The present invention relates to a method for forming a surface-treated film excellent in corrosion resistance of a film and stability of a film forming agent, a film structure formed by the method, and a coated article.
従来、工業用の金属基材には、下地処理として、防食性や付着性の向上を目的にリン酸亜鉛処理が行われている。しかしながら、リン酸亜鉛処理剤による化成処理は、処理剤中にリンや窒素を多量に含んでおり、且つ形成される化成被膜の性能を向上させるためにニッケル、マンガン等の重金属を多量に含有しているため、環境への影響や、処理後にリン酸亜鉛、リン酸鉄等のスラッジが多量に発生し、産業廃棄物処理などに問題がある。 Conventionally, an industrial metal substrate has been subjected to zinc phosphate treatment as a ground treatment for the purpose of improving corrosion resistance and adhesion. However, the chemical conversion treatment with a zinc phosphate treatment agent contains a large amount of phosphorus and nitrogen in the treatment agent, and contains a large amount of heavy metals such as nickel and manganese in order to improve the performance of the formed chemical conversion film. Therefore, there is a problem in the treatment of industrial waste, etc. due to environmental impact and a large amount of sludge such as zinc phosphate and iron phosphate after treatment.
また、工業用の金属基材の防食性向上を目的として、塗装ラインにおいては、「脱脂−表面調整−化成処理−電着塗装」等の処理工程に多くのスペースや時間を要している。 In addition, in order to improve the corrosion resistance of industrial metal substrates, a lot of space and time are required for processing steps such as “degreasing—surface conditioning—chemical conversion treatment—electrodeposition coating” in the coating line.
特許文献1には、実質的にリン酸イオンを含有せず、ジルコニウムイオン及び/又はチタニウムイオン並びにフッ素イオンを含有してなる鉄及び/又は亜鉛系基材用化成処理剤が提案されている。しかし、特許文献1に記載の鉄及び/又は亜鉛系基材用化成処理剤は、処理後に、塗装工程によって塗膜を施さないと、十分な防食性や仕上り性が確保できないという問題がある。 Patent Document 1 proposes a chemical conversion treatment agent for iron and / or zinc-based substrates that contains substantially no phosphate ions and contains zirconium ions and / or titanium ions and fluorine ions. However, the chemical conversion treatment agent for iron and / or zinc-based substrate described in Patent Document 1 has a problem that sufficient anticorrosion and finishing properties cannot be secured unless a coating film is applied by a coating process after the treatment.
特許文献2には、(A)Ti、Zr、Hf及びSiから選ばれる少なくとも1種の金属元素を含む化合物と、(B)フッ素イオンの供給源としてフッ素含有化合物を含有する金属の表面処理用組成物を用いることにより、鉄又は亜鉛の少なくとも1種を含む金属の表面に耐食性に優れる表面処理皮膜を析出させることができ、且つ表面調整(表調)工程を必要としないため、処理工程の短縮、省スペース化を図ることが開示されている。しかし、特許文献2に記載の表面処理用組成物もまた、処理後に、塗装工程によって塗膜を施さないと、十分な防食性や仕上り性が確保できないという問題がある。 Patent Document 2 describes (A) a compound containing at least one metal element selected from Ti, Zr, Hf, and Si, and (B) a surface treatment of a metal containing a fluorine-containing compound as a supply source of fluorine ions. By using the composition, a surface treatment film having excellent corrosion resistance can be deposited on the surface of a metal containing at least one of iron and zinc, and no surface adjustment (surface tone) step is required. It is disclosed to shorten and save space. However, the composition for surface treatment described in Patent Document 2 also has a problem that sufficient anticorrosion properties and finish properties cannot be secured unless a coating film is applied by a coating process after the treatment.
特許文献3及び特許文献4には、(A)アミン変性アクリル樹脂、(B)リン酸系化合物、弗化水素酸、金属弗化水素酸及び金属弗化水素酸塩から選ばれる少なくとも1種の化合物、(C)モリブデン化合物、タングステン化合物及びバナジウム化合物から選ばれる少なくとも1種の化合物を含有する、自動車車体や家電製品等に使用される亜鉛系めっき鋼板に被覆することにより、プレス成形性と耐食性に優れた潤滑鋼板を得ることができる潤滑鋼板用表面処理組成物が開示されている。しかし、特許文献3及び特許文献4に記載の潤滑鋼板用表面処理組成物で表面処理された鋼板には、化成処理後に塗装工程によって塗膜を施さないと、十分な防食性や仕上り性を確保することができないため、工程の短縮、省スペース化を図ることができない。 Patent Document 3 and Patent Document 4 include at least one selected from (A) amine-modified acrylic resin, (B) phosphoric acid compound, hydrofluoric acid, metal hydrofluoric acid, and metal hydrofluoride. Press formability and corrosion resistance by covering a zinc-plated steel sheet used for automobile bodies, home appliances, etc., containing at least one compound selected from a compound, (C) molybdenum compound, tungsten compound and vanadium compound A surface treatment composition for a lubricated steel sheet capable of obtaining an excellent lubricated steel sheet is disclosed. However, steel sheets that have been surface-treated with the surface treatment composition for lubricating steel sheets described in Patent Document 3 and Patent Document 4 ensure sufficient anticorrosion and finish unless a coating film is applied by a coating process after chemical conversion treatment. Therefore, it is impossible to shorten the process and save space.
特許文献5には、サリチリデンアミノ基とアミノ基を有する特定の共重合体からなる金属表面処理剤用ポリマー組成物が開示されている。しかし、特許文献5に記載の金属表面処理剤用ポリマー組成物で処理した鋼板もまた、塗装工程によって塗膜を施さないと、十分な防食性や仕上り性を確保することができず、工程の短縮や省スペース化を図ることができない。 Patent Document 5 discloses a polymer composition for a metal surface treatment agent comprising a specific copolymer having a salicylideneamino group and an amino group. However, the steel sheet treated with the polymer composition for a metal surface treating agent described in Patent Document 5 is also unable to ensure sufficient anticorrosiveness and finish without applying a coating film by a coating process. Shortening and space saving cannot be achieved.
また、特許文献6には、500μm以下の間隙を有する自動車ボディなどの複雑な構造を有する被塗物の間隙部に多段通電法のカチオン電着塗装によって塗膜を形成する方法が開示されている。特許文献6に記載の多段通電法は、500μm以下の間隙を有する被塗
物の隙間部を被覆して防食性の向上を図るのに有効であるが、十分な防食性や仕上り性を確保できるまでには至っていない。
Patent Document 6 discloses a method of forming a coating film by cation electrodeposition coating of a multistage energization method in a gap portion of an object having a complicated structure such as an automobile body having a gap of 500 μm or less. . The multi-stage energization method described in Patent Document 6 is effective to improve the anticorrosion property by covering the gap portion of the object having a gap of 500 μm or less, but can secure sufficient anticorrosion property and finish. It has not yet reached.
さらに、特許文献7(欧州特許出願公開第1342758号明細書)には、析出開始に必要な電気量の差を一定とした複数のエマルションを含有するカチオン電着塗料を多段通電方法によって塗装して複層電着塗膜を形成する方法が開示されているが、この方法によっては、十分な防食性が得られるまでには至っていない。 Further, in Patent Document 7 (European Patent Publication No. 1342758), a cationic electrodeposition coating containing a plurality of emulsions with a constant difference in the amount of electricity required for the start of deposition is applied by a multistage energization method. Although a method for forming a multilayer electrodeposition coating film is disclosed, sufficient corrosion resistance is not achieved by this method.
本発明の目的は、皮膜の防食性及び皮膜形成剤の安定性に優れた表面処理皮膜の形成方法を提供することである。 The objective of this invention is providing the formation method of the surface treatment film | membrane excellent in the corrosion resistance of a film | membrane and the stability of a film formation agent.
本発明者は、鋭意研究を重ねた結果、金属基材に、特定の皮膜形成剤を多段通電方式によって特定の条件下で塗装することにより、上記の目的を達成することができることを見出し、本発明を完成するに至った。 As a result of extensive research, the present inventor has found that the above object can be achieved by applying a specific film-forming agent to a metal substrate under a specific condition by a multi-stage energization method. The invention has been completed.
かくして、本発明は、金属基材に、皮膜形成剤を少なくとも2段階の多段通電方式で塗装することによって皮膜を形成する方法であって、
(i) 皮膜形成剤が、ジルコニウム化合物と、必要に応じて、チタン、コバルト、バナジウム、タングステン、モリブデン、銅、亜鉛、インジウム、アルミニウム、ビスマス、イットリウム、ランタノイド金属、アルカリ金属及びアルカリ土類金属から選ばれる少なくとも1種の金属(a)を含有する化合物とを合計金属量(質量換算)で30〜20,000ppmと、アニオン性基含有樹脂成分1〜40質量%とを含んでなり、
(ii) 金属基材を皮膜形成剤に浸漬した状態で、金属基材を陰極として、1〜50Vの電圧で10〜360秒間通電することにより1段目の塗装を行い、そして
(iii) 金属基材を皮膜形成剤に浸漬した状態で、金属基材を陽極として、50〜400Vの電圧で60〜600秒間通電することにより2段目以降の塗装を行う
ことを特徴とする表面処理皮膜の形成方法を提供するものである。
Thus, the present invention is a method of forming a film on a metal substrate by coating a film forming agent in at least two stages of multi-stage energization methods,
(I) The film forming agent is composed of a zirconium compound and, if necessary, titanium, cobalt, vanadium, tungsten, molybdenum, copper, zinc, indium, aluminum, bismuth, yttrium, lanthanoid metal, alkali metal, and alkaline earth metal. A compound containing at least one selected metal (a) in a total metal amount (in terms of mass) of 30 to 20,000 ppm, and an anionic group-containing resin component 1 to 40% by mass,
(Ii) First stage coating was performed by energizing for 10 to 360 seconds at a voltage of 1 to 50 V with the metal substrate as a cathode in a state where the metal substrate was immersed in the film forming agent, and (iii) metal A surface-treated film characterized by performing the second and subsequent coatings by applying current for 60 to 600 seconds at a voltage of 50 to 400 V using a metal substrate as an anode while the substrate is immersed in a film forming agent. A forming method is provided.
本発明は、また、上記の方法により形成される、皮膜の質量固形分合計を基準にして、ジルコニウム化合物と金属(a)含有化合物を合計金属量(質量換算)で25〜100質量%含有する厚さが0.01〜5μmの皮膜(X)と、該皮膜(X)上の、皮膜の質量固形分合計を基準にして、ジルコニウム化合物と金属(a)含有化合物を合計金属量(質量換算)で25質量%未満含有し且つアニオン性基含有樹脂成分を50〜95質量%含有する厚さが0.1〜30μmの皮膜(Y)を含んでなる皮膜構造を提供するものである。 The present invention also contains a zirconium compound and a metal (a) -containing compound in a total metal amount (in terms of mass) of 25 to 100% by mass based on the total mass solid content of the film formed by the above method. Based on the total mass solid content of the film on the film (X) having a thickness of 0.01 to 5 μm and the film (X), the zirconium compound and the metal (a) -containing compound are converted into a total metal amount (in terms of mass) ) And a coating structure comprising a coating (Y) having a thickness of 0.1 to 30 μm and containing less than 25 mass% and containing 50 to 95 mass% of an anionic group-containing resin component.
本発明の方法によって形成される表面処理皮膜は、防食性に優れている。また、本発明の方法に用いられる皮膜形成剤は、安定性に優れており、長期間工業用ラインにおいて使用しても防食性が変化することがない。 The surface treatment film formed by the method of the present invention is excellent in corrosion resistance. Moreover, the film-forming agent used in the method of the present invention is excellent in stability, and the anticorrosion property does not change even when used in an industrial line for a long time.
本発明の方法によって形成される皮膜構造が防食性に優れている理由は、正確にはわからないが、被塗物側に析出した皮膜(X)が塗膜下腐食の抑制に寄与し、かつ厚さが0.1〜30μmの皮膜(Y)が仕上り性と腐食促進物質(例えば、O2、Cl−、Na+)を遮断するという機能分担が皮膜構造中においてなされているためであろうと考えられる。 The reason why the film structure formed by the method of the present invention is excellent in anticorrosiveness is not exactly known, but the film (X) deposited on the coated side contributes to the suppression of undercoat corrosion and is thick. It is considered that the film (Y) having a thickness of 0.1 to 30 μm has a function sharing in the film structure to block the finish and corrosion promoting substances (for example, O 2 , Cl − , Na + ). It is done.
以下、本発明の表面処理皮膜の形成方法について、さらに詳細に説明する。 Hereinafter, the method for forming the surface treatment film of the present invention will be described in more detail.
本発明は、金属基材に、特定の「皮膜形成剤」を用いて、特定の条件下に「2段階以上の多段階通電方式」によって表面処理皮膜を形成するものである。 In the present invention, a specific “film forming agent” is used on a metal substrate to form a surface-treated film by a “two-stage or more multi-stage energization method” under specific conditions.
皮膜形成剤:
本発明の方法に使用する皮膜形成剤は、ジルコニウム化合物と、必要に応じて、チタン、コバルト、バナジウム、タングステン、モリブデン、銅、亜鉛、インジウム、アルミニウム、ビスマス、イットリウム、ランタノイド金属(ランタン、セリウム、プラセオジウム、ネオジウム、サマリウム、ユウロピウム、ガドリニウム、テルビウム、ジスプロシウム、ホルミウム、エルビウム、ツリウム、イッテルビウム、ルテチウム)、アルカリ金属(リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム、フランシウム)及びアルカリ土類金属(ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、ラジウム)から選ばれる少なくとも1種の金属(a)を含有する化合物とからなる金属化合物成分(A)を合計金属量(質量換算)で30〜20,000ppmと、アニオン性基含有樹脂成分(B)1〜40質量%とを含んでなるものである。
Film forming agent :
The film-forming agent used in the method of the present invention comprises a zirconium compound and, if necessary, titanium, cobalt, vanadium, tungsten, molybdenum, copper, zinc, indium, aluminum, bismuth, yttrium, lanthanoid metals (lanthanum, cerium, Praseodymium, neodymium, samarium, europium, gadolinium, terbium, dysprosium, holmium, erbium, thulium, ytterbium, lutetium), alkali metals (lithium, sodium, potassium, rubidium, cesium, francium) and alkaline earth metals (beryllium, magnesium, A metal compound component (A) composed of a compound containing at least one metal (a) selected from calcium, strontium, barium and radium) And 30~20,000ppm San), those comprising an anionic group-containing resin component (B) 1 to 40 wt%.
金属化合物成分(A):
本発明に従う1段目の塗装においては、金属化合物成分(A)から生じる金属イオンが、2段階以上の多段階通電方式によって、金属基材の表面に析出することにより、ジルコニウム化合物と場合によりさらに金属(a)含有化合物を含んでなる皮膜(X)が形成される。なお、ジルコニウム化合物と金属(a)含有化合物とを併用する場合、該併用に代えて、単一の化合物中にジルコニウムと金属(a)とが共存する化合物を使用することができ、また、金属(a)含有化合物として2種もしくはそれ以上の金属(a)含有化合物を併用する場合、該併用に代えて、単一の化合物中に2種もしくはそれ以上の金属(a)が共存する化合物を使用することもできる。
Metal compound component (A) :
In the first-stage coating according to the present invention, the metal ions generated from the metal compound component (A) are precipitated on the surface of the metal substrate by a multi-stage energization method of two or more stages, and in some cases further with the zirconium compound. A film (X) containing the metal (a) -containing compound is formed. In addition, when using together a zirconium compound and a metal (a) containing compound, it can replace with this combination and can use the compound in which a zirconium and a metal (a) coexist in a single compound, and metal (A) When two or more kinds of metal (a) -containing compounds are used in combination as the containing compound, a compound in which two or more kinds of metals (a) coexist in a single compound is used instead of the combination. It can also be used.
金属化合物成分(A)において使用されるジルコニウム化合物は、塗装時の通電により、ジルコニウムイオン、オキシジルコニウムイオン、フルオロジルコニウムイオンなどのジルコニウム含有イオンを生じるジルコニウム含有化合物であり、オキシジルコニウムイオンを生じる化合物としては、例えば、硝酸ジルコニル、酢酸ジルコニル、硫酸ジルコニルなど;フルオロジルコニウムイオンを生じる化合物としては、例えば、ジルコニウムフッ化水素酸、ジルコニウムフッ化水素酸塩(例えば、ナトリウム塩、カリウム塩、リチウム塩、アンモニウム塩等)などが挙げられる。これらのうち、特に、ジルコニウムフッ化アンモニウム、硝酸ジルコニルが好適である。 The zirconium compound used in the metal compound component (A) is a zirconium-containing compound that generates zirconium-containing ions such as zirconium ions, oxyzirconium ions, and fluorozirconium ions when energized during coating, and is a compound that generates oxyzirconium ions. Is, for example, zirconyl nitrate, zirconyl acetate, zirconyl sulfate, etc .; examples of the compound that produces fluorozirconium ion include zirconium hydrofluoric acid, zirconium hydrofluoride (for example, sodium salt, potassium salt, lithium salt, ammonium salt) Salt, etc.). Of these, ammonium zirconium fluoride and zirconyl nitrate are particularly preferred.
一方、金属化合物成分(A)において必要に応じて使用される金属(a)含有化合物は、塗装時の通電により、金属(a)イオン、フルオロ金属(a)イオンなどの金属(a)含有イオンを生じる金属(a)含有化合物であり、具体的には、
チタンイオンを生じる化合物としては、例えば、塩化チタン、硫酸チタン;フルオロチタンイオンを生じる化合物としては、例えば、チタンフッ化水素酸、チタンフッ化水素酸塩(例えば、ナトリウム塩、カリウム塩、リチウム塩、アンモニウム塩等)などが挙げら
れ;
コバルトイオンを生じる化合物としては、例えば、塩化コバルト、臭化コバルト、ヨウ化コバルト、硝酸コバルト、硫酸コバルト、酢酸コバルト、硫酸コバルトアンモニウムなどが挙げられ;
バナジウムイオンを生じる化合物としては、例えば、オルソバナジン酸リチウム、オルソバナジン酸ナトリウム、メタバナジン酸リチウム、メタバナジン酸カリウム、メタバナジン酸ナトリウム、メタバナジン酸アンモニウム、ピロバナジン酸ナトリウム、塩化バナジル、硫酸バナジルなどが挙げられ;
タングステンイオンを生じる化合物としては、例えば、タングステン酸リチウム、タングステン酸ナトリウム、タングステン酸カリウム、タングステン酸アンモニウム、メタタングステン酸ナトリウム、パラタングステン酸ナトリウム、ペンタタングステン酸アンモニウム、ヘプタタングステン酸アンモニウム、リンタングステン酸ナトリウム、ホウタングステン酸バリウムなどが挙げられ;
モリブデンイオンを生じる化合物としては、例えば、モリブデン酸リチウム、モリブデン酸ナトリウム、モリブデン酸カリウム、ヘプタモリブデン酸アンモニウム、モリブデン酸カルシウム、モリブデン酸マグネシウム、モリブデン酸ストロンチウム、モリブデン酸バリウム、リンモリブデン酸、リンモリブデン酸ナトリウム、リンモリブデン酸亜鉛などが挙げられ;
銅イオンを生じる化合物としては、例えば、硫酸銅、硝酸銅(II)三水和物、硫酸銅(II)アンモニウム六水和物、酸化第二銅、リン酸銅などが挙げられ;
亜鉛イオンを生じる化合物としては、例えば、酢酸亜鉛、乳酸亜鉛、酸化亜鉛などが挙げられ;
インジウムイオンを生じる化合物としては、例えば、硫酸インジウムアンモニウムなどが挙げられ;
アルミニウムイオンを生じる化合物としては、例えば、リン酸アルミニウム、アルミン酸三カルシウム、アルミン酸ナトリウムなどが挙げられ;
ビスマスイオンを生じる化合物としては、例えば、塩化ビスマス、オキシ塩化ビスマス、臭化ビスマス、ケイ酸ビスマス、水酸化ビスマス、三酸化ビスマス、硝酸ビスマス、亜硝酸ビスマス、オキシ炭酸ビスマスなどの無機系ビスマス含有化合物;乳酸ビスマス、トリフェニルビスマス、没食子酸ビスマス、安息香酸ビスマス、クエン酸ビスマス、メトキシ酢酸ビスマス、酢酸ビスマス、蟻酸ビスマス、2,2−ジメチロールプロピオン酸ビスマスなど有機系ビスマス含有化合物が挙げられ;
イットリウムイオンを生じる化合物としては、例えば、硝酸イットリウム、酢酸イットリウム、塩化イットリウム、スルファミン酸イットリウム、乳酸イットリウム、蟻酸イットリウムなどが挙げられる。
On the other hand, the metal (a) -containing compound used as necessary in the metal compound component (A) is a metal (a) -containing ion such as a metal (a) ion or a fluoro metal (a) ion when energized during coating. A compound containing metal (a), specifically,
Examples of compounds that generate titanium ions include titanium chloride and titanium sulfate; examples of compounds that generate fluorotitanium ions include titanium hydrofluoric acid and titanium hydrofluoride (for example, sodium salts, potassium salts, lithium salts, and ammonium salts). Salt));
Examples of compounds that generate cobalt ions include cobalt chloride, cobalt bromide, cobalt iodide, cobalt nitrate, cobalt sulfate, cobalt acetate, and cobalt ammonium sulfate;
Examples of compounds that generate vanadium ions include lithium orthovanadate, sodium orthovanadate, lithium metavanadate, potassium metavanadate, sodium metavanadate, ammonium metavanadate, sodium pyrovanadate, vanadyl chloride, vanadyl sulfate;
Examples of compounds that generate tungsten ions include lithium tungstate, sodium tungstate, potassium tungstate, ammonium tungstate, sodium metatungstate, sodium paratungstate, ammonium pentatungstate, ammonium heptungstate, sodium phosphotungstate. , Barium borotungstate and the like;
Examples of compounds that generate molybdenum ions include lithium molybdate, sodium molybdate, potassium molybdate, ammonium heptamolybdate, calcium molybdate, magnesium molybdate, strontium molybdate, barium molybdate, phosphomolybdic acid, and phosphomolybdic acid. Sodium, zinc phosphomolybdate and the like;
Examples of compounds that generate copper ions include copper sulfate, copper (II) nitrate trihydrate, copper (II) ammonium sulfate hexahydrate, cupric oxide, and copper phosphate;
Examples of the compound that generates zinc ions include zinc acetate, zinc lactate, and zinc oxide.
Examples of the compound that generates indium ions include indium ammonium sulfate;
Examples of the compound that generates aluminum ions include aluminum phosphate, tricalcium aluminate, sodium aluminate and the like;
Examples of compounds that generate bismuth ions include inorganic bismuth-containing compounds such as bismuth chloride, bismuth oxychloride, bismuth bromide, bismuth silicate, bismuth hydroxide, bismuth trioxide, bismuth nitrate, bismuth nitrite, and bismuth oxycarbonate. Organic bismuth-containing compounds such as bismuth lactate, triphenyl bismuth, bismuth gallate, bismuth benzoate, bismuth citrate, bismuth methoxyacetate, bismuth acetate, bismuth formate, and bismuth 2,2-dimethylolpropionate;
Examples of the compound that generates yttrium ions include yttrium nitrate, yttrium acetate, yttrium chloride, yttrium sulfamate, yttrium lactate, and yttrium formate.
また、ランタノイド金属化合物において、ランタンイオンを生じる化合物としては、例えば、硝酸ランタン、フッ化ランタン、酢酸ランタン、ホウ化ランタン、リン酸ランタン、炭酸ランタンなど;セリウムイオンを生じる化合物としては、例えば、硝酸セリウム(III)、塩化セリウム(III)、酢酸セリウム(III)、シュウ酸セリウム(III)、硝酸アンモニウムセリウム(III)、硝酸二アンモニウムセリウム(IV)など;プラセオジウムイオンを生じる化合物としては、例えば、硝酸プラセオジウム、硫酸プラセオジウム、シュウ酸プラセオジウムなど;ネオジムイオンを生じる化合物としては、例えば、硝酸ネオジム、酸化ネオジウムなどが挙げられる。 In the lanthanoid metal compound, examples of the compound that generates lanthanum ions include lanthanum nitrate, lanthanum fluoride, lanthanum acetate, lanthanum boride, lanthanum phosphate, and lanthanum carbonate; Cerium (III), cerium chloride (III), cerium acetate (III), cerium oxalate (III), ammonium cerium nitrate (III), diammonium cerium nitrate (IV), etc .; Examples of compounds that produce praseodymium ions include nitric acid Praseodymium, praseodymium sulfate, praseodymium oxalate, etc .; Examples of compounds that generate neodymium ions include neodymium nitrate and neodymium oxide.
アルカリ金属イオンを生じる化合物としては、例えば、硫酸カリウム、硝酸カリウム、硫酸リチウム、硝酸リチウム、硫酸ナトリウム、硝酸ナトリウムなどが挙げられる。 Examples of the compound that generates an alkali metal ion include potassium sulfate, potassium nitrate, lithium sulfate, lithium nitrate, sodium sulfate, and sodium nitrate.
アルカリ土類金属イオンを生じる化合物としては、例えば、炭酸カルシウム、硝酸マグネシウム、酸化マグネシウム、チタン酸マグネシウム、オルト珪酸マグネシウム、ピロリ
ン酸マグネシウムなどが挙げられる。
Examples of the compound that generates alkaline earth metal ions include calcium carbonate, magnesium nitrate, magnesium oxide, magnesium titanate, magnesium orthosilicate, and magnesium pyrophosphate.
これらの金属(a)含有化合物はそれぞれ単独でもしくは2種以上組み合わせて使用することができる。 These metal (a) -containing compounds can be used alone or in combination of two or more.
これら金属(a)含有化合物のうち、金属(a)として、チタン、コバルト、バナジウム、タングステン、亜鉛、アルミニウム、ランタン、プラセオジウム及びマグネシウムから選ばれる金属、特に、チタン、コバルト、バナジウム又はタングステンを含有する化合物が好適である。なかでも、チタンフッ化アンモニウム、硝酸コバルト、メタバナジン酸アンモニウム、タングステン酸アンモニウムなどが好適である。 Among these metal (a) -containing compounds, the metal (a) contains a metal selected from titanium, cobalt, vanadium, tungsten, zinc, aluminum, lanthanum, praseodymium and magnesium, particularly titanium, cobalt, vanadium or tungsten. Compounds are preferred. Of these, ammonium titanium fluoride, cobalt nitrate, ammonium metavanadate, and ammonium tungstate are preferable.
アニオン性基含有樹脂成分(B):
皮膜形成剤に用いられる樹脂成分として、本発明では、耐候性などの観点から、アニオン性樹脂を使用する。
Anionic group-containing resin component (B) :
As the resin component used in the film forming agent, an anionic resin is used in the present invention from the viewpoint of weather resistance and the like.
アニオン性樹脂としては、分子中に、例えば、カルボキシル基、スルホン酸基、リン酸基などの水性媒体中でアニオン化可能な基を有する樹脂が包含され、塗料安定性などの面から、1分子中に少なくとも1個のカルボキシル基、特に、1分子中に少なくとも1個のカルボキシル基と水酸基を有する樹脂が好適である。その樹脂種としては、例えば、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ポリブタジエン樹脂、アルキド樹脂、ポリウレタン樹脂などが挙げられる。これらの樹脂の中でも、耐候性や防食性などの面から、特に、カルボキシル基含有ポリエステル樹脂(B−1)、カルボキシル基含有アクリル樹脂(B−2)及びカルボキシル基含有エポキシ樹脂(B−3)が好適である。 Examples of the anionic resin include a resin having a group that can be anionized in an aqueous medium such as a carboxyl group, a sulfonic acid group, and a phosphoric acid group. A resin having at least one carboxyl group therein, particularly at least one carboxyl group and hydroxyl group in one molecule is preferable. Examples of the resin type include polyester resin, epoxy resin, acrylic resin, polybutadiene resin, alkyd resin, polyurethane resin, and the like. Among these resins, from the viewpoints of weather resistance, corrosion resistance and the like, in particular, a carboxyl group-containing polyester resin (B-1), a carboxyl group-containing acrylic resin (B-2), and a carboxyl group-containing epoxy resin (B-3). Is preferred.
カルボキシル基含有ポリエステル樹脂(B−1)は、一般に、多塩基酸と多価アルコールとを、常法に従い、例えば直接エステル化法やエステル交換法などによりエステル化反応させることによって得ることができる。 The carboxyl group-containing polyester resin (B-1) can be generally obtained by subjecting a polybasic acid and a polyhydric alcohol to an esterification reaction according to a conventional method, for example, a direct esterification method or a transesterification method.
上記多塩基酸としては、例えば、無水フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、ヘキサヒドロイソフタル酸、ヘキサヒドロテレフタル酸、テトラヒドロフタル酸、メチルヘキサヒドロフタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、コハク酸、フマル酸、アジピン酸、セバシン酸、無水マレイン酸などの二塩基酸又はその無水物;これら二塩基酸の低級アルキルエステル;トリメリット酸、ヘキサヒドロトリメリット酸、無水トリメリット酸、メチルシクロヘキセントリカルボン酸、無水ピロメリット酸などの3価以上の多塩基酸又はその無水物などが挙げられ、これらの中、1分子中に1もしくは2個の脂環式構造と少なくとも2個のカルボキシル基を有する脂環式多塩基酸、例えば、ヘキサヒドロフタル酸、ヘキサヒドロイソフタル酸、ヘキサヒドロテレフタル酸、ヘキサヒドロトリメリット酸、テトラヒドロフタル酸、メチルヘキサヒドロフタル酸及びそれらの無水物、殊に、ヘキサヒドロテレフタル酸が好適である。また、必要に応じて、分子量調整などの目的で、上記多塩基酸を、例えば、安息香酸、クロトン酸、p−t−ブチル安息香酸などの一塩基酸と併用することができる。更に、ヤシ油脂肪酸、脱水ひまし油脂肪酸等の油脂肪酸を併用することも可能である。 Examples of the polybasic acid include phthalic anhydride, isophthalic acid, terephthalic acid, hexahydrophthalic acid, hexahydroisophthalic acid, hexahydroterephthalic acid, tetrahydrophthalic acid, methylhexahydrophthalic acid, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydro Dibasic acids such as phthalic anhydride, succinic acid, fumaric acid, adipic acid, sebacic acid, maleic anhydride or their anhydrides; lower alkyl esters of these dibasic acids; trimellitic acid, hexahydrotrimellitic acid, trihydric anhydride Examples thereof include tribasic or higher polybasic acids such as meritic acid, methylcyclohexenic carboxylic acid, pyromellitic anhydride, and anhydrides thereof. Among these, one or two alicyclic structures and at least 2 percyclic molecule are included in one molecule. Alicyclic polybasic acid having one carboxyl group, for example, hexa Rofutaru acid, hexahydroisophthalic acid, hexahydroterephthalic acid, hexahydroterephthalic trimellitic acid, tetrahydrophthalic acid, methyl hexahydrophthalic acid and their anhydrides, in particular, hexahydroterephthalic acid are preferred. Moreover, the said polybasic acid can be used together with monobasic acids, such as a benzoic acid, a crotonic acid, pt-butylbenzoic acid, for the purpose of molecular weight adjustment etc. as needed. Further, oil fatty acids such as coconut oil fatty acid and dehydrated castor oil fatty acid can be used in combination.
上記多価アルコールとしては、1分子中に2個の水酸基を有する2価アルコール及び1分子中に3個以上の水酸基を有する多価アルコールを使用することができ、2価アルコールとしては、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、2−ブチル−2−エチル−1,3−プロパンジオール、1,4−ブタンジオール、1,3−ブタンジオール、2,3−ブタンジオール、1,2−ブタンジオール、3−メチル−1,2−ブタンジオール、1,2−ペンタンジオール、1,5−ペンタンジオール、1,4−ペンタンジオール、2,4−ペンタンジオール、2,2,4−トリメチル−1,3−ペン
タンジオール、3−メチル−4,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、1,5−ヘキサンジオール、1,4−ヘキサンジオール、2,5−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールエステルなどのグリコール類;これらのグリコール類にε−カプロラクトンなどのラクトン類を付加したポリラクトンジオール;ビス(ヒドロキシエチル)テレフタレートなどのポリエステルジオール類;1,4−シクロヘキサンジメタノール、水添ビスフェノールA、スピログリコール、ジヒドロキシメチルトリシクロデカン等の脂環式2価アルコールなどが挙げられ、また、1分子中に3個以上の水酸基を有する多価アルコールとしては、例えば、グリセリン、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、ジグリセリン、トリグリセリン、1,2,6−ヘキサントリオール、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、トリペンタエリスリトール、ソルビトール、マンニトールなどが挙げられる。
As the polyhydric alcohol, a dihydric alcohol having two hydroxyl groups in one molecule and a polyhydric alcohol having three or more hydroxyl groups in one molecule can be used. Ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, 2-butyl-2-ethyl-1,3-propanediol, 1,4-butanediol, 1,3-butanediol, 2 , 3-butanediol, 1,2-butanediol, 3-methyl-1,2-butanediol, 1,2-pentanediol, 1,5-pentanediol, 1,4-pentanediol, 2,4-pentane Diol, 2,2,4-trimethyl-1,3-pentanediol, 3-methyl-4 Glycols such as 5-pentanediol, 1,6-hexanediol, 1,5-hexanediol, 1,4-hexanediol, 2,5-hexanediol, neopentyl glycol, and neopentyl glycol ester of hydroxypivalic acid; Polylactone diols obtained by adding lactones such as ε-caprolactone to glycols of the above; polyester diols such as bis (hydroxyethyl) terephthalate; 1,4-cyclohexanedimethanol, hydrogenated bisphenol A, spiroglycol, dihydroxymethyltricyclo Examples thereof include alicyclic dihydric alcohols such as decane. Examples of the polyhydric alcohol having 3 or more hydroxyl groups in one molecule include glycerin, trimethylolpropane, trimethylolethane, and diglyceride. , Triglycerin, 1,2,6-hexanetriol, pentaerythritol, dipentaerythritol, tripentaerythritol, sorbitol, mannitol and the like.
これらの中、1分子中に1もしくは2個の4〜6員環程度の脂環式構造と少なくとも2個の水酸基を有する脂環式多価アルコール、例えば、シクロヘキサン−1,4−ジメチロール、水添ビスフェノールA、スピログリコール、ジヒドロキシメチルトリシクロデカンなど;炭素数4〜9のグリコール類、例えば、ジエチレングリコール、トリメチレングリコール、テトラエチレングリコール、トリエチレングリコール、ジプロピレングリコール、1,4−ブタンジオール、1,3−ブタンジオール、2,3−ブタンジオール、1,2−ブタンジオール、3−メチル−1,2−ブタンジオール、1,2−ペンタンジオール、1,5−ペンタンジオール、1,4−ペンタンジオール、2,4−ペンタンジオール、2,3−ジメチルトリメチレングリコール、テトラメチレングリコール、3−メチル−4,5−ペンタンジオール、2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、1,5−ヘキサンジオール、1,4−ヘキサンジオール、2,5−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコールなどが好適である。 Among these, one or two alicyclic structures having about 4 to 6-membered rings in one molecule and an alicyclic polyhydric alcohol having at least two hydroxyl groups such as cyclohexane-1,4-dimethylol, water Bisphenol A, spiroglycol, dihydroxymethyltricyclodecane, etc .; glycols having 4 to 9 carbon atoms such as diethylene glycol, trimethylene glycol, tetraethylene glycol, triethylene glycol, dipropylene glycol, 1,4-butanediol, 1,3-butanediol, 2,3-butanediol, 1,2-butanediol, 3-methyl-1,2-butanediol, 1,2-pentanediol, 1,5-pentanediol, 1,4- Pentanediol, 2,4-pentanediol, 2,3-dimethyltrimethylene Coal, tetramethylene glycol, 3-methyl-4,5-pentanediol, 2,2,4-trimethyl-1,3-pentanediol, 1,6-hexanediol, 1,5-hexanediol, 1,4- Hexanediol, 2,5-hexanediol, neopentyl glycol and the like are preferable.
多塩基酸などの酸基含有化合物と多価アルコールなどの水酸基含有化合物の反応比率は特に制限されるわけではないが、水酸基含有化合物の水酸基の1モルに対して、酸基含有化合物の酸基が通常0.4〜0.95モル、好ましくは0.45〜0.85モル、さらに好ましくは0.5〜0.8モルの範囲内となるような比率で反応させることができる。 The reaction ratio of the acid group-containing compound such as polybasic acid and the hydroxyl group-containing compound such as polyhydric alcohol is not particularly limited, but the acid group of the acid group-containing compound is 1 mol of the hydroxyl group of the hydroxyl group-containing compound. Is usually 0.4 to 0.95 mol, preferably 0.45 to 0.85 mol, and more preferably 0.5 to 0.8 mol.
このようにして得られるポリエステル樹脂へのカルボキシル基の導入は、例えば、上記多塩基酸の無水物を100〜180℃の温度において、ポリエステル樹脂が有している水酸基の一部にハーフエステル化反応させることにより行うことができ、それによって、カルボキシル基含有ポリエステル樹脂を得ることができる。この時、製造安定性などの観点から、反応系に少量の高沸点極性溶媒を添加して系の粘度を下げるようにすることができる。該高沸点極性溶媒としては、例えば、シクロヘキサノンなどが挙げられる。 The introduction of the carboxyl group into the polyester resin thus obtained is, for example, a half esterification reaction with a part of the hydroxyl group of the polyester resin at the temperature of 100 to 180 ° C. of the polybasic acid anhydride. By doing so, a carboxyl group-containing polyester resin can be obtained. At this time, from the viewpoint of production stability and the like, a small amount of a high-boiling polar solvent can be added to the reaction system to lower the viscosity of the system. Examples of the high boiling polar solvent include cyclohexanone.
カルボキシル基含有ポリエステル樹脂(B−1)は、一般に500〜50,000、好ましくは800〜10,000、より好ましくは1,000〜3,000の範囲内の数平均分子量(注1)、一般に5〜150mgKOH/g、好ましくは8〜120mgKOH/g、さらに好ましくは8〜100mgKOH/gの範囲内の酸価、一般に20〜800mgKOH/g、好ましくは40〜500mgKOH/g、さらに好ましくは60〜200mgKOH/gの範囲内の水酸基価を有することできる。 The carboxyl group-containing polyester resin (B-1) generally has a number average molecular weight (Note 1) in the range of 500 to 50,000, preferably 800 to 10,000, more preferably 1,000 to 3,000. Acid values within the range of 5-150 mgKOH / g, preferably 8-120 mgKOH / g, more preferably 8-100 mgKOH / g, generally 20-800 mgKOH / g, preferably 40-500 mgKOH / g, more preferably 60-200 mgKOH Can have a hydroxyl value in the range of / g.
(注1) 数平均分子量: JISK 0124−83に記載の方法に準じて、分離カラ
ムとしてTSK GEL4000HXL、TSKG3000HXL、TSK G2
500HXL、TSKG2000HXL(東ソー株式会社製、商品名)の4本を
用い且つ溶離液としてGPC用テトラヒドロフランを用いて、温度40℃及び流
速1.0ml/分にて、RI屈折計で得られたクロマトグラムと標準ポリスチレ
ンの検量線から求めた。
(Note 1) Number average molecular weight: In accordance with the method described in JISK 0124-83, TSK GEL4000HXL, TSKG3000HXL, TSK G2 are used as separation columns.
Chromatography obtained with an RI refractometer using 4 pieces of 500HXL and TSKG2000HXL (trade name, manufactured by Tosoh Corporation) and using GPC tetrahydrofuran as an eluent at a temperature of 40 ° C. and a flow rate of 1.0 ml / min. It was obtained from a calibration curve of grams and standard polystyrene.
カルボキシル基含有アクリル樹脂(B−2)は、例えば、カルボキシル基含有ラジカル重合性不飽和単量体、必要に応じて水酸基含有ラジカル重合性不飽和単量体、及びその他のラジカル重合性不飽和単量体を共重合せしめることによって製造することができる。 The carboxyl group-containing acrylic resin (B-2) is, for example, a carboxyl group-containing radical polymerizable unsaturated monomer, a hydroxyl group-containing radical polymerizable unsaturated monomer, if necessary, and other radical polymerizable unsaturated monomers. It can be produced by copolymerizing a monomer.
上記カルボキシル基含有ラジカル重合性不飽和単量体としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸などの単量体が挙げられ、また、水酸基含有ラジカル重合性不飽和単量体としては、例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、及びこれら以外に、プラクセルFM1、プラクセルFM2、プラクセルFM3(以上、ダイセル化学社製、商品名、カプロラクトン変性メタクリル酸ヒドロキシエステル類)、プラクセルFA1、プラクセルFA2、プラクセルFA3(以上、ダイセル化学社製、商品名、カプロラクトン変性アクリル酸ヒドロキシエステル類)などが挙げられる。 Examples of the carboxyl group-containing radical polymerizable unsaturated monomer include monomers such as acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid, and the like. Examples of the unsaturated monomer include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 3-hydroxypropyl (meth) acrylate, hydroxybutyl (meth) acrylate, and other than these, FM1, Plaxel FM2, Plaxel FM3 (above, Daicel Chemical Industries, trade name, caprolactone-modified methacrylic acid hydroxy ester), Plaxel FA1, Plaxel FA2, Plaxel FA3 (above, Daicel Chemical Industries, trade name, caprolactone-modified acrylic acid) Hydro Shiesuteru acids) and the like.
上記その他のラジカル重合性不飽和単量体としては、例えば、γ−(メタ)アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−(メタ)アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−(メタ)アクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシランなどのアルコキシシリル基含有不飽和単量体;(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸プロピル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸ヘキシル、(メタ)アクリル酸オクチル、(メタ)アクリル酸ラウリル、(メタ)アクリル酸シクロヘキシルなどの(メタ)アクリル酸のC1〜C18アルキルもしくはシクロアルキルエステル類;スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエンなどの芳香族ビニルモノマー類;(メタ)アクリル酸アミド、N−ブトキシメチル(メタ)アクリルアミド、N−メチロ−ル(メタ)アクリルアミドなどの(メタ)アクリルアミド及びその誘導体;(メタ)アクリロニトリル化合物などが挙げられる。 Examples of the other radical polymerizable unsaturated monomer include γ- (meth) acryloyloxypropyltrimethoxysilane, γ- (meth) acryloyloxypropylmethyldimethoxysilane, and γ- (meth) acryloyloxypropyltriethoxy. Alkoxysilyl group-containing unsaturated monomers such as silane and vinyltrimethoxysilane; methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, (meth) acrylic C 1 -C 18 alkyl or cycloalkyl esters of (meth) acrylic acid such as hexyl acid, octyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate; styrene, α-methylstyrene, Aromatic vinyl modules such as vinyl toluene Mer acids; (meth) acrylic acid amide, N- butoxymethyl (meth) acrylamide, N- methylol - Le (meth) acrylamide (meth) acrylamide and derivatives thereof; (meth) acrylonitrile compounds, and the like.
カルボキシル基含有アクリル樹脂(B−2)は、通常、上記のカルボキシル基含有ラジカル重合性不飽和単量体、必要に応じて水酸基含有ラジカル重合性不飽和単量体、及びその他のラジカル重合性不飽和単量体を、溶媒中にて重合開始剤の存在下に、ラジカル重合反応させることにより得ることができる。この重合反応に際し、カルボキシル基含有重合性不飽和単量体は1〜20質量%、特に4〜10質量%、水酸基含有ラジカル重合性不飽和単量体は0〜40質量%、特に5〜30質量%、その他のラジカル重合性不飽和単量体は40〜99質量%、特に60〜91質量%の範囲内で使用するのが好適である。 The carboxyl group-containing acrylic resin (B-2) is usually prepared from the above-mentioned carboxyl group-containing radical polymerizable unsaturated monomer, if necessary, a hydroxyl group-containing radical polymerizable unsaturated monomer, and other radical polymerizable unsaturated monomers. A saturated monomer can be obtained by radical polymerization reaction in a solvent in the presence of a polymerization initiator. In this polymerization reaction, the carboxyl group-containing polymerizable unsaturated monomer is 1 to 20% by mass, particularly 4 to 10% by mass, and the hydroxyl group-containing radical polymerizable unsaturated monomer is 0 to 40% by mass, particularly 5 to 30%. The mass% and other radical polymerizable unsaturated monomers are preferably used in the range of 40 to 99 mass%, particularly 60 to 91 mass%.
重合反応に使用する溶媒としては、例えば、プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、n−ブチルアルコール、t−ブチルアルコール、イソブチルアルコールなどのアルコール類;ジエチレングリコールモノブチルエーテル、メチルカルビトール、2−メトキシエタノール、2−エトキシエタノール、2−イソプロポキシエタノール、2−ブトキシエタノール、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、1−エトキシ−2−プロパノール、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルなどのエーテル類などが挙げられる。 Examples of the solvent used for the polymerization reaction include alcohols such as propyl alcohol, isopropyl alcohol, n-butyl alcohol, t-butyl alcohol, and isobutyl alcohol; diethylene glycol monobutyl ether, methyl carbitol, 2-methoxyethanol, 2-ethoxy Ethanol, 2-isopropoxyethanol, 2-butoxyethanol, diethylene glycol, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, 1-ethoxy-2-propanol, dipropylene glycol monomethyl And ethers such as ether.
これ以外にも、必要に応じて、例えば、キシレン、トルエンなどの芳香族炭化水素類;アセトン、メチルエチルケトン、2−ペンタノン、2−ヘキサノン、メチルイソブチルケトン、イソホロン、シクロヘキサノンなどのケトン類;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ペンチル、3−メトキシブチルアセテート、2−エチルヘキシルアセテート、酢酸ベンジル、酢酸シクロヘキシル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチルなどのエステル類を併用することもできる。 Other than this, for example, aromatic hydrocarbons such as xylene and toluene; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, 2-pentanone, 2-hexanone, methyl isobutyl ketone, isophorone, and cyclohexanone; methyl acetate, Esters such as ethyl acetate, pentyl acetate, 3-methoxybutyl acetate, 2-ethylhexyl acetate, benzyl acetate, cyclohexyl acetate, methyl propionate, and ethyl propionate can be used in combination.
ラジカル共重合に用いるラジカル重合開始剤としては、例えば、過酸化ベンゾイル、ジ−t−ブチルハイドロパーオキサイド、t−ブチルハイドロパーオキサイド、クミルパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンザンハイドロパーオキサイド、t−ブチルパーオキシベンゾエート、ラウリルパーオキサイド、アセチルパーオキサイド、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエートなどの過酸化物;α,α'−アゾビスイソブチロニトリル、アゾビスジメチルバレロニトリル、アゾビスシクロヘキサンカルボニトリルなどのアゾ化合物が挙げられる。 As the radical polymerization initiator used for radical copolymerization, for example, benzoyl peroxide, di-t-butyl hydroperoxide, t-butyl hydroperoxide, cumyl peroxide, cumene hydroperoxide, diisopropyl benzanthane hydroperoxide, Peroxides such as t-butylperoxybenzoate, lauryl peroxide, acetyl peroxide, t-butylperoxy-2-ethylhexanoate; α, α′-azobisisobutyronitrile, azobisdimethylvaleronitrile And azo compounds such as azobiscyclohexanecarbonitrile.
上記のようにして製造されるカルボキシル基含有アクリル樹脂(B−2)は、一般に5,000〜150,000、好ましくは10,000〜125,000、さらに好ましくは20,000〜100,000の範囲の重量平均分子量(注2)有することができ、また、一般に10〜140mgKOH/g、特に20〜130mgKOH/g、さらに特に30〜120mgKOH/gの範囲内の酸価及び一般に20〜170mgKOH/g、特に25〜165mgKOH/g、さらに特に30〜160mgKOH/gの範囲内の水酸基価を有することができる。 The carboxyl group-containing acrylic resin (B-2) produced as described above is generally 5,000 to 150,000, preferably 10,000 to 125,000, more preferably 20,000 to 100,000. In the range of weight average molecular weight (Note 2), and generally in the range of 10-140 mg KOH / g, especially 20-130 mg KOH / g, more particularly 30-120 mg KOH / g and generally 20-170 mg KOH / g In particular, it may have a hydroxyl value in the range of 25 to 165 mg KOH / g, more particularly 30 to 160 mg KOH / g.
(注2) 重量平均分子量: JISK 0124−83に記載の方法に準じて、分離カ
ラムとしてTSK GEL4000HXL、TSKG3000HXL、TSKG
2500HXL、TSKG2000HXL(東ソー株式会社製、商品名)の4本
を用い且つ溶離液としてGPC用テトラヒドロフランを用いて、温度40℃及び
流速1.0ml/分にて、RI屈折計で得られたクロマトグラムと標準ポリスチ
レンの検量線から求めた。
(Note 2) Weight average molecular weight: According to the method described in JISK 0124-83, TSK GEL4000HXL, TSKG3000HXL, TSKG as separation columns
Chromatogram obtained by RI refractometer using 4 pieces of 2500HXL and TSKG2000HXL (trade name, manufactured by Tosoh Corporation) and tetrahydrofuran for GPC as eluent at a temperature of 40 ° C. and a flow rate of 1.0 ml / min. And a standard polystyrene calibration curve.
カルボキシル基含有エポキシ樹脂(B−3)は、例えば、エポキシ樹脂(B−3−1)が有している水酸基の一部に多塩基酸の無水物を約100〜約180℃の温度においてハーフエステル化反応させることにより付加することによって得ることができる。 The carboxyl group-containing epoxy resin (B-3) is, for example, a half of a polybasic acid anhydride at a temperature of about 100 to about 180 ° C. in part of the hydroxyl group of the epoxy resin (B-3-1). It can obtain by adding by making it esterify.
上記エポキシ樹脂(B−3−1)としては、ポリフェノール化合物とエピクロルヒドリンとの反応により得られる1分子中に少なくとも1個のエポキシ基を有するエポキシ樹脂のエポキシ基を活性水素含有化合物(B−3−2)により封鎖してなるエポキシ樹脂を用いることができる。 As said epoxy resin (B-3-1), the epoxy group of the epoxy resin which has at least 1 epoxy group in 1 molecule obtained by reaction of a polyphenol compound and epichlorohydrin is made into the active hydrogen containing compound (B-3- An epoxy resin blocked by 2) can be used.
エポキシ樹脂(B−3−1)の製造に用い得るポリフェノール化合物としては、それ自体既知のものを使用することができ、そのようなポリフェノール化合物の例としては、ビス(4−ヒドロキシフェニル)−2,2−プロパン(ビスフェノールA)、4,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)メタン(ビスフェノールF)、ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1,1−エタン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1,1−イソブタン、ビス(4−ヒドロキシ−tert−ブチル−フェニル)−2,2−プロパン、ビス(2−ヒドロキシナフチル)メタン、テトラ(4−ヒドロキシフェニル)−1,1,2,2−エタン、4,4−ジヒドロキシジフェニルスルホン(ビスフェノールS)、フェノールノボラック、クレゾールノボラックなどを挙げることができる。 As the polyphenol compound that can be used for the production of the epoxy resin (B-3-1), those known per se can be used, and examples of such a polyphenol compound include bis (4-hydroxyphenyl) -2. , 2-propane (bisphenol A), 4,4-dihydroxybenzophenone, bis (4-hydroxyphenyl) methane (bisphenol F), bis (4-hydroxyphenyl) -1,1-ethane, bis (4-hydroxyphenyl) -1,1-isobutane, bis (4-hydroxy-tert-butyl-phenyl) -2,2-propane, bis (2-hydroxynaphthyl) methane, tetra (4-hydroxyphenyl) -1,1,2,2 -Ethane, 4,4-dihydroxydiphenylsulfone (bisphenol S), phenol novolac Such as cresol novolac can be mentioned.
また、ポリフェノール化合物とエピクロルヒドリンとの反応により得られるエポキシ樹脂としては、長期耐食性、例えば耐ばくろ性の観点から、中でも、ビスフェノール型エポキシ樹脂、特にビスフェノールAから誘導される下記式
そのようなエポキシ樹脂(B−3−1)の市販品としては、例えば、ジャパンエポキシレジン株式会社からjER828EL、jER1002、jER1004、jER1007などの商品名で販売されているものが挙げられる。 Examples of such commercially available epoxy resin (B-3-1) include those sold by Japan Epoxy Resins Co., Ltd. under trade names such as jER828EL, jER1002, jER1004, jER1007, and the like.
上記エポキシ樹脂(B−3−1)は、一般に400〜100,000、好ましくは600〜60,000、さらに好ましくは800〜20,000の範囲内の数平均分子量(注1)、一般に180〜70,000、好ましくは240〜40,000、さらに好ましくは300〜15,000の範囲内のエポキシ当量を有することができる。 The epoxy resin (B-3-1) generally has a number average molecular weight (Note 1) in the range of 400 to 100,000, preferably 600 to 60,000, more preferably 800 to 20,000, generally 180 to It can have an epoxy equivalent weight in the range of 70,000, preferably 240-40,000, more preferably 300-15,000.
エポキシ樹脂(B−3−1)のエポキシ基に反応させる活性水素含有化合物(B−3−2)としては、活性水素含有基を1分子中に少なくとも1個有する、フェノール基もしくはカルボキシル基含有化合物を使用することができ、反応の容易さ、樹脂エマルションの貯蔵安定性などの観点から、モノフェノール類、脂肪族モノカルボン酸類及び芳香族モノカルボン酸類よりなる群から選ばれる化合物が好適である。 As the active hydrogen-containing compound (B-3-2) to be reacted with the epoxy group of the epoxy resin (B-3-1), a phenol group or carboxyl group-containing compound having at least one active hydrogen-containing group in one molecule A compound selected from the group consisting of monophenols, aliphatic monocarboxylic acids, and aromatic monocarboxylic acids is preferable from the viewpoint of ease of reaction, storage stability of the resin emulsion, and the like.
上記モノフェノール類の具体例としては、例えば、フェノール、クレゾール、エチルフェノール、パラ−tert−ブチルフェノール、ノニルフェノールなどが挙げられる。 Specific examples of the monophenols include phenol, cresol, ethylphenol, para-tert-butylphenol, and nonylphenol.
上記脂肪族カルボン酸類としては、例えば、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、アクリル酸、乳酸、ジメチロールプロピオン酸、ジメチロール酪酸などが挙げられ、上記芳香族カルボン酸類としては、例えば、安息香酸、没食子酸などが挙げられる。 Examples of the aliphatic carboxylic acids include acetic acid, propionic acid, butyric acid, valeric acid, acrylic acid, lactic acid, dimethylolpropionic acid, and dimethylolbutyric acid. Examples of the aromatic carboxylic acids include benzoic acid, Examples thereof include gallic acid.
エポキシ樹脂(B−3−1)のエポキシ基に対する活性水素含有化合物(B−3−2)の活性水素基の反応比率は、エポキシ基1モルに対して、通常1.5〜0.75モル、好ましくは1.2〜0.8モルの範囲内とすることができる。なお、エポキシ樹脂(B−3−1)のエポキシ基は、活性水素含有化合物(B−3−2)によって封鎖されているため保存安定性に優れる。 The reaction ratio of the active hydrogen group of the active hydrogen-containing compound (B-3-2) to the epoxy group of the epoxy resin (B-3-1) is usually 1.5 to 0.75 mol with respect to 1 mol of the epoxy group. , Preferably it can be in the range of 1.2-0.8 mol. In addition, since the epoxy group of an epoxy resin (B-3-1) is blocked with the active hydrogen containing compound (B-3-2), it is excellent in storage stability.
カルボキシル基含有エポキシ樹脂(B−3)は、エポキシ樹脂(B−3−1)のエポキシ基を活性水素含有化合物(B−3−2)によって封鎖し、さらに酸無水物化合物(B−3−3)を反応させてカルボキシル基を導入することにより製造することができる。 In the carboxyl group-containing epoxy resin (B-3), the epoxy group of the epoxy resin (B-3-1) is blocked with the active hydrogen-containing compound (B-3-2), and the acid anhydride compound (B-3- It can be produced by reacting 3) to introduce a carboxyl group.
上記酸無水物化合物(B−3−3)としては、例えば、コハク酸、マレイン酸、フタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、テトラヒドロフタル酸、メチルヘキサヒドロフタル酸など2塩基酸の無水物が挙げられ、また、無水トリメリット酸などの3塩基酸1無水物なども使用することができる。 Examples of the acid anhydride compound (B-3-3) include dibasic acid anhydrides such as succinic acid, maleic acid, phthalic acid, hexahydrophthalic acid, tetrahydrophthalic acid, and methylhexahydrophthalic acid. Also, tribasic acid monoanhydrides such as trimellitic anhydride can be used.
このようにして得られるカルボキシル基含有エポキシ樹脂(B−3)は、一般に0.1〜150mgKOH/g、好ましくは0.5〜120mgKOH/g、さらに好ましくは1〜100mgKOH/gの範囲内の酸価を有することができる。 The carboxyl group-containing epoxy resin (B-3) thus obtained is generally an acid within the range of 0.1 to 150 mgKOH / g, preferably 0.5 to 120 mgKOH / g, more preferably 1 to 100 mgKOH / g. Can have a valence.
さらに、アニオン性基含有樹脂成分(B)は、必要に応じて、架橋剤として、ブロック
化ポリイソシアネート化合物及び/又はメラミン樹脂を含有することができる。
Furthermore, the anionic group-containing resin component (B) can contain a blocked polyisocyanate compound and / or a melamine resin as a crosslinking agent, if necessary.
ブロック化ポリイソシアネート化合物としては、芳香族、脂環族又は脂肪族のポリイソシアネート化合物などをブロック剤でブロックしたものが挙げられ、これらはそれぞれ単独でもしくは2種以上組み合わせて使用することができる。 Examples of the blocked polyisocyanate compound include those obtained by blocking an aromatic, alicyclic or aliphatic polyisocyanate compound with a blocking agent, and these can be used alone or in combination of two or more.
芳香族ポリイソシアネートの具体例としては、1,3−もしくは1,4−フェニレンジイソシアネート、2,4−もしくは2,6−トリレンジイソシアネート(TDI)、クルードTDI、2,4’−もしくは4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート(MDI)、4,4’−ジイソシアナトビフェニル、3,3’−ジメチル−4,4’−ジイソシアナトビフェニル、3,3’−ジメチル−4,4’−ジイソシアナトジフェニルメタン、クルードMDI、1,5−ナフチレンジイソシアネート、4,4’,4”−トリフェニルメタントリイソシアネート、m−もしくはp−イソシアナトフェニルスルホニルイソシアネートなどが挙げられる。 Specific examples of the aromatic polyisocyanate include 1,3- or 1,4-phenylene diisocyanate, 2,4- or 2,6-tolylene diisocyanate (TDI), crude TDI, 2,4'- or 4,4. '-Diphenylmethane diisocyanate (MDI), 4,4'-diisocyanatobiphenyl, 3,3'-dimethyl-4,4'-diisocyanatobiphenyl, 3,3'-dimethyl-4,4'-diisocyanato Examples include diphenylmethane, crude MDI, 1,5-naphthylene diisocyanate, 4,4 ′, 4 ″ -triphenylmethane triisocyanate, m- or p-isocyanatophenylsulfonyl isocyanate.
脂肪族ポリイソシアネートとしては、例えば、エチレンジイソシアネート、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート(HDI)、ドデカメチレンジイソシアネート、1,6,11−ウンデカントリイソシアネート、2,2,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、2,6−ジイソシアナトメチルカプロエート、ビス(2−イソシアナトエチル)フマレート、ビス(2−イソシアナトエチル)カーボネート、2−イソシアナトエチル−2,6−ジイソシアナトヘキサノエートなどが挙げられる。 Examples of the aliphatic polyisocyanate include ethylene diisocyanate, tetramethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate (HDI), dodecamethylene diisocyanate, 1,6,11-undecane triisocyanate, 2,2,4-trimethylhexamethylene diisocyanate, and lysine diisocyanate. 2,6-diisocyanatomethylcaproate, bis (2-isocyanatoethyl) fumarate, bis (2-isocyanatoethyl) carbonate, 2-isocyanatoethyl-2,6-diisocyanatohexanoate, etc. Can be mentioned.
脂環式ポリイソシアネートとしては、例えば、イソホロンジイソシアネート(IPDI)、ジシクロヘキシルメタン−4,4’−ジイソシアネート(水添MDI)、p−キシリレンジイソシアネート(XDI)、α,α,α’,α’−テトラメチルキシリレンジイソシアネート(TMXDI)、シクロヘキシレンジイソシアネートなどが挙げられる。 Examples of the alicyclic polyisocyanate include isophorone diisocyanate (IPDI), dicyclohexylmethane-4,4′-diisocyanate (hydrogenated MDI), p-xylylene diisocyanate (XDI), α, α, α ′, α′-. Examples thereof include tetramethylxylylene diisocyanate (TMXDI) and cyclohexylene diisocyanate.
これらのポリイソシアネート化合物の中、耐候性などの観点から、脂肪族ポリイソシアネートや脂環式ポリイソシアネートが好ましい。 Among these polyisocyanate compounds, aliphatic polyisocyanates and alicyclic polyisocyanates are preferable from the viewpoint of weather resistance and the like.
ブロック剤は、ポリイソシアネート化合物のイソシアネート基に付加してブロックするものであり、そしてブロック剤の付加によって生成するブロックポリイソシアネート化合物は常温において安定で、且つ一般的な電着塗膜の焼き付け温度である約100℃ないし約200℃に加熱した際、ブロック剤を解離してイソシアネート基を再生しうるものであることが望ましい。 The blocking agent is to block by adding to the isocyanate group of the polyisocyanate compound, and the blocked polyisocyanate compound produced by the addition of the blocking agent is stable at ordinary temperature and at a general electrodeposition coating baking temperature. It is desirable that the isocyanate group can be regenerated by dissociating the blocking agent when heated to a temperature of about 100 ° C. to about 200 ° C.
このような要件を満たすブロック剤としては、例えば、ε−カプロラクタム、γ−ブチロラクタムなどのラクタム系化合物;メチルエチルケトオキシム、シクロヘキサノンオキシムなどのオキシム化合物;フェノール、パラ−t−ブチルフェノール、クレゾールなどのフェノール系化合物;n−ブタノール、2−エチルヘキサノールなどの脂肪族アルコール類;フェニルカルビノール、メチルフェニルカルビノールなどの芳香族アルキルアルコール類;エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルなどのエーテルアルコール化合物;プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、1,3−ブタンジオール、1,2−ブタンジオール、3−メチル−1,2−ブタンジオール、1,2−ペンタンジオール、1,4−ペンタンジオール、3−メチル−4,3−ペンタンジオール、3−メチル−4,5−ペンタンジオール、2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオール、1,5−ヘキサンジオール、1,4−ヘキサンジオール、2,2−ジメチロールプロピオン酸、2,2−ジメチロールブタン酸、ジメチロール吉草酸、グリセリン酸などの水酸基含有化合物を挙げることができる。 Examples of the blocking agent satisfying such requirements include lactam compounds such as ε-caprolactam and γ-butyrolactam; oxime compounds such as methyl ethyl ketoxime and cyclohexanone oxime; phenol compounds such as phenol, para-t-butylphenol and cresol. Aliphatic alcohols such as n-butanol and 2-ethylhexanol; aromatic alkyl alcohols such as phenyl carbinol and methyl phenyl carbinol; ether alcohol compounds such as ethylene glycol monobutyl ether and diethylene glycol monoethyl ether; propylene glycol; Dipropylene glycol, 1,3-butanediol, 1,2-butanediol, 3-methyl-1,2-butanediol, 1,2-pentanediol 1,4-pentanediol, 3-methyl-4,3-pentanediol, 3-methyl-4,5-pentanediol, 2,2,4-trimethyl-1,3-pentanediol, 1,5-hexane Examples thereof include hydroxyl group-containing compounds such as diol, 1,4-hexanediol, 2,2-dimethylolpropionic acid, 2,2-dimethylolbutanoic acid, dimethylolvaleric acid and glyceric acid.
ブロック化ポリイソシアネート化合物としては、中でも特に、メチルエチルケトオキシムでブロックされたイソホロンジイソシアネートが好ましい。 As the blocked polyisocyanate compound, isophorone diisocyanate blocked with methyl ethyl ketoxime is particularly preferable.
また、メラミン樹脂としては、メラミンをホルムアルデヒドでメチロール化してなるメチロール化メラミン樹脂;該メチロール基をモノアルコールでエーテル化したアルキル化メラミン樹脂;イミノ基を有するメチロール化メラミン樹脂、アルキル化メラミン樹脂などを挙げることができる。また、上記のメチロール基のエーテル化において、2種以上のモノアルコールを用いて混合アルキル化したものも使用することができる。モノアルコールとしては、例えば、メチルアルコール、エチルアルコール、n−プロピルアルコール、i−プロピルアルコール、n−ブチルアルコール、i−ブチルアルコール、t−ブチルアルコール、2−エチルブタノール、2−エチルヘキサノールなどが挙げられる。 The melamine resin includes a methylolated melamine resin obtained by methylolating melamine with formaldehyde; an alkylated melamine resin obtained by etherifying the methylol group with monoalcohol; a methylolated melamine resin having an imino group, an alkylated melamine resin, and the like. Can be mentioned. Further, in the etherification of the methylol group, those obtained by mixed alkylation using two or more kinds of monoalcohols can also be used. Examples of the monoalcohol include methyl alcohol, ethyl alcohol, n-propyl alcohol, i-propyl alcohol, n-butyl alcohol, i-butyl alcohol, t-butyl alcohol, 2-ethylbutanol, and 2-ethylhexanol. It is done.
メラミン樹脂として、具体的には、例えば、メチル化メラミン樹脂、イミノ基含有メチル化メラミン樹脂、メチル化・ブチル化メラミン樹脂、イミノ基含有メチル化・ブチル化メラミン樹脂などが挙げられ、特に、メチル化メラミン樹脂、メチル化・ブチル化メラミン樹脂が好ましい。 Specific examples of the melamine resin include methylated melamine resins, imino group-containing methylated melamine resins, methylated / butylated melamine resins, imino group-containing methylated / butylated melamine resins, and the like. A melamine resin and a methylated / butylated melamine resin are preferred.
メラミン樹脂の市販品としては、例えば、「サイメル202」、「サイメル232」、「サイメル235」、「サイメル236」、「サイメル238」、「サイメル254」、「サイメル266」、「サイメル267」、「サイメル272」、「サイメル285」、「サイメル301」、「サイメル303」、「サイメル325」、「サイメル327」、「サイメル350」、「サイメル370」、「サイメル701」、「サイメル703」、「サイメル736」、「サイメル738」、「サイメル771」、「サイメル1141」、「サイメル1156」、「サイメル1158」など(以上、日本サイテック社製、商品名)、「ユーバン120」、「ユーバン20HS」、「ユーバン2021」、「ユーバン2028」、「ユーバン2061」など(以上、三井化学社製、商品名)、「メラン522」(日立化成社製、商品名)などが挙げられる。 Examples of commercially available melamine resins include “Cymel 202”, “Cymel 232”, “Cymel 235”, “Cymel 236”, “Cymel 238”, “Cymel 254”, “Cymel 266”, “Cymel 267”, “Cymel 272”, “Cymel 285”, “Cymel 301”, “Cymel 303”, “Cymel 325”, “Cymel 327”, “Cymel 350”, “Cymel 370”, “Cymel 701”, “Cymel 703”, “Cymel 736”, “Cymel 738”, “Cymel 771”, “Cymel 1141”, “Cymel 1156”, “Cymel 1158”, etc. (above, trade name, manufactured by Nippon Cytec Co., Ltd.), “Uban 120”, “Uban 20HS ”,“ Uban 2021 ”,“ Uban 2028 ”,“ Uban 206 "Such as (or more, manufactured by Mitsui Chemicals, Inc., trade name)," Melan 522 "(manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd., trade name) and the like.
アニオン性基含有樹脂成分(B)におけるアニオン性樹脂(基体樹脂)と架橋剤の配合割合は、アニオン性樹脂と架橋剤の合計固形分質量を基準にして、アニオン性樹脂は通常50〜90質量%、好ましくは55〜85質量%、さらに好ましくは60〜80質量%、架橋剤は通常10〜50質量%、好ましくは15〜45質量%、さらに好ましくは20〜40質量%の範囲内とすることができる。 The mixing ratio of the anionic resin (base resin) and the crosslinking agent in the anionic group-containing resin component (B) is usually 50 to 90 mass for the anionic resin based on the total solid mass of the anionic resin and the crosslinking agent. %, Preferably 55 to 85% by mass, more preferably 60 to 80% by mass, and the crosslinking agent is usually 10 to 50% by mass, preferably 15 to 45% by mass, more preferably 20 to 40% by mass. be able to.
以上に述べたアニオン性基含有樹脂成分(B)は、塩基性化合物などの中和剤及び脱イオン水を加え、水分散することによって樹脂エマルションとすることができ、皮膜形成剤の製造に用いることができる。 The anionic group-containing resin component (B) described above can be made into a resin emulsion by adding a neutralizing agent such as a basic compound and deionized water and dispersing in water, and is used for production of a film forming agent. be able to.
該塩基性化合物としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、水酸化カルシウム、水酸化バリウムなどのアルカリ金属又はアルカリ土類金属の水酸化物;アンモニア;エチルアミン、プロピルアミン、ブチルアミン、ベンジルアミン、モノエタノールアミン、ネオペンタノールアミン、2−アミノプロパノール、3−アミノプロパノールなどの第1級モノアミン;ジエチルアミン、ジエタノールアミン、ジ−n−もしくはジ−iso−プロパノールアミン、N−メチルエタノールアミン、N−エチルエタノールアミンなどの第2級モノアミン;ジメチルエタノールアミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリイソプロピルアミン、メチルジエタノールアミン、ジメチルアミノエタノールなどの第3級モノアミン;ジエチレントリアミン、ヒドロキシエチルアミノエチルアミン、エチルアミノエチルアミン、メチルアミノプロピルアミンなどのポリアミンを挙げることができる。 Examples of the basic compound include hydroxides of alkali metals or alkaline earth metals such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, calcium hydroxide, barium hydroxide; ammonia; ethylamine, propylamine, butylamine , Primary amines such as benzylamine, monoethanolamine, neopentanolamine, 2-aminopropanol, 3-aminopropanol; diethylamine, diethanolamine, di-n- or di-iso-propanolamine, N-methylethanolamine Secondary monoamines such as N-ethylethanolamine; tertiary monoamines such as dimethylethanolamine, trimethylamine, triethylamine, triisopropylamine, methyldiethanolamine, dimethylaminoethanol, etc. ; Diethylenetriamine, hydroxyethylaminoethylamine, ethylamino ethylamine, may be mentioned polyamines such as methylamino propylamine.
塩基性化合物は、アニオン性基含有樹脂成分(B)のカルボキシル基に対して、通常0.1〜1当量、特に0.3〜0.9当量の範囲内で使用することが好ましい。 It is preferable to use a basic compound within the range of 0.1-1 equivalent normally with respect to the carboxyl group of an anionic group containing resin component (B), especially 0.3-0.9 equivalent.
皮膜形成剤は、ジルコニウム化合物と、必要に応じて、チタン、コバルト、バナジウム、タングステン、モリブデン、銅、亜鉛、インジウム、アルミニウム、ビスマス、イットリウム、ランタノイド金属、アルカリ金属及びアルカリ土類金属から選ばれる少なくとも1種の金属(a)を含有する化合物からなる金属化合物成分(A)を、合計金属量(質量換算)で、30〜20,000ppm、好ましくは50〜10,000ppm、さらに好ましくは100〜5,000ppm含有し、また、アニオン性基含有樹脂成分(B)を1〜40質量%、好ましくは5〜35質量%、さらに好ましくは10〜30質量%含有することができ、それによって、防食性に優れた皮膜構造を形成せしめることができる。 The film-forming agent is selected from a zirconium compound and, if necessary, at least selected from titanium, cobalt, vanadium, tungsten, molybdenum, copper, zinc, indium, aluminum, bismuth, yttrium, lanthanoid metal, alkali metal and alkaline earth metal The metal compound component (A) composed of a compound containing one kind of metal (a) is 30 to 20,000 ppm, preferably 50 to 10,000 ppm, more preferably 100 to 5 in terms of total metal amount (in terms of mass). And anionic group-containing resin component (B) can be contained in an amount of 1 to 40% by mass, preferably 5 to 35% by mass, more preferably 10 to 30% by mass, thereby preventing corrosion. An excellent film structure can be formed.
金属化合物成分(A)が金属(a)含有化合物を含む場合、その含有量は、本発明の方法により形成される塗装物品の用途などに応じて変えることができるが、金属化合物成分(A)の質量を基準にして、一般には90質量%以下、好ましくは5〜80質量%、さらに好ましくは10〜75質量%の範囲内とすることができる。 When the metal compound component (A) contains a metal (a) -containing compound, the content can be changed depending on the use of the coated article formed by the method of the present invention, but the metal compound component (A) In general, it is 90% by mass or less, preferably 5 to 80% by mass, and more preferably 10 to 75% by mass.
皮膜形成剤は、さらに必要に応じて、その他の添加剤、例えば、顔料、触媒、有機溶剤、顔料分散剤、表面調整剤、界面活性剤などを塗料分野で通常使用されている配合量で含有することができる。なお、上記の顔料や触媒としては、例えば、チタン白、カーボンブラックなどの着色顔料;クレー、タルク、バリタなどの体質顔料;トリポリリン酸二水素アルミニウム、リンモリブデン酸アルミニウムなどの防錆顔料;ジブチル錫オキサイド、ジオクチル錫オキサイドなどの有機錫化合物;ジブチル錫ジラウレート、ジオクチル錫ジラウレート、ジブチル錫ジアセテート、ジオクチル錫ジベンゾエート、ジブチル錫ジベンゾエートなどのジアルキル錫の脂肪族もしくは芳香族カルボン酸塩などの錫化合物が挙げられる。 The film-forming agent further contains other additives such as pigments, catalysts, organic solvents, pigment dispersants, surface conditioners, surfactants, etc., if necessary, in a blending amount usually used in the paint field. can do. Examples of the pigments and catalysts include coloring pigments such as titanium white and carbon black; extender pigments such as clay, talc and barita; rust preventive pigments such as aluminum dihydrogen phosphate and aluminum phosphomolybdate; dibutyl tin Organic tin compounds such as oxide and dioctyltin oxide; tin compounds such as dialkyltin aliphatic or aromatic carboxylates such as dibutyltin dilaurate, dioctyltin dilaurate, dibutyltin diacetate, dioctyltin dibenzoate, and dibutyltin dibenzoate Is mentioned.
皮膜形成剤の調製は、例えば、以下に述べる(1)〜(3)の方法により行うことができる:
(1) アニオン性基含有樹脂成分(B)及び場合によりその他の添加剤を一緒にし、十分に混ぜ合わせて溶解ワニスを作製し、それに水性媒体中で、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、水酸化カルシウム、水酸化バリウムなどのアルカリ金属又はアルカリ土類金属の水酸化物;アンモニア;エチルアミン、プロピルアミン、ブチルアミン、ベンジルアミン、モノエタノールアミン、ネオペンタノールアミン、2−アミノプロパノール、3−アミノプロパノールなどの第1級モノアミン;ジエチルアミン、ジエタノールアミン、ジ−n−もしくはジ−iso−プロパノールアミン、N−メチルエタノールアミン、N−エチルエタノールアミンなどの第2級モノアミン;ジメチルエタノールアミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリイソプロピルアミン、メチルジエタノールアミン、ジメチルアミノエタノールなどの第3級モノアミン;ジエチレントリアミン、ヒドロキシエチルアミノエチルアミン、エチルアミノエチルアミン、メチルアミノプロピルアミンなどのポリアミン及びこれらの2種もしくはそれ以上の混合物などから選ばれる中和剤を添加して水分散化してなるエマルション中に、金属化合物成分(A)を配合する方法。
(2) 金属化合物成分(A)に、顔料や触媒、その他の添加剤、水を加え分散せしめて予め顔料分散ペーストを調製し、その顔料分散ペーストをアニオン性基含有樹脂成分(B)のエマルションに添加する方法。
(3) あらかじめ作製した電着塗料の浴に、金属化合物成分(A)を水で希釈して配合する方法。
The film-forming agent can be prepared, for example, by the methods (1) to (3) described below:
(1) The anionic group-containing resin component (B) and optionally other additives are combined together and mixed thoroughly to form a dissolved varnish, which is then mixed with an aqueous medium such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, Alkali metal or alkaline earth metal hydroxides such as lithium hydroxide, calcium hydroxide and barium hydroxide; ammonia; ethylamine, propylamine, butylamine, benzylamine, monoethanolamine, neopentanolamine, 2-aminopropanol , Primary monoamines such as 3-aminopropanol; secondary monoamines such as diethylamine, diethanolamine, di-n- or di-iso-propanolamine, N-methylethanolamine, N-ethylethanolamine; dimethylethanolamine, Trimethylamine, Tertiary monoamines such as reethylamine, triisopropylamine, methyldiethanolamine, dimethylaminoethanol; polyamines such as diethylenetriamine, hydroxyethylaminoethylamine, ethylaminoethylamine, methylaminopropylamine, and mixtures of two or more thereof A method of blending the metal compound component (A) in an emulsion obtained by adding a selected neutralizing agent and dispersing in water.
(2) A pigment, paste, catalyst, other additives, and water are added to the metal compound component (A) and dispersed in advance to prepare a pigment dispersion paste. The pigment dispersion paste is then used as an anionic group-containing resin component (B) emulsion. How to add to.
(3) A method in which the metal compound component (A) is diluted with water and mixed in a bath of an electrodeposition paint prepared in advance.
皮膜形成剤は、脱イオン水などで希釈して、浴固形分濃度が通常5〜40質量%、好ま
しくは8〜20質量%、pHが通常4〜9、好ましくは5〜8の範囲内となるように調整し使用することができる。
The film forming agent is diluted with deionized water or the like, and the bath solid concentration is usually 5 to 40% by mass, preferably 8 to 20% by mass, and the pH is usually 4 to 9, preferably 5 to 8. Can be adjusted and used.
以上の如くして調製される皮膜形成剤は、以下に述べる少なくとも2段階の多段階通電方式によって、金属基材上に本発明が目的とする皮膜構造を形成せしめることができる。 The film forming agent prepared as described above can form the target film structure of the present invention on a metal substrate by at least two-stage multi-stage energization method described below.
多段階通電方式による塗装:
本発明に従う皮膜形成剤の塗装は、多段階通電方式により行うことができ、具体的には、以上に述べた皮膜形成剤を浴として用い、1段目の塗装を、金属基材を陰極として皮膜形成剤に浸漬した状態で、一般に1〜100V、好ましくは1〜50V、さらに好ましくは5〜40Vの電圧(V1)で、通常10〜360秒間、好ましくは30〜180秒間通電することにより行い、次いで、2段目以降の塗装を、金属基材を皮膜形成剤に浸漬した状態で、金属基材を陽極として、一般に50〜400V、好ましくは75〜370V、さらに好ましくは100〜350Vの電圧(V2)で、通常60〜600秒間、好ましくは75〜400秒間、さらに好ましくは90〜240秒間通電することによって行うことができる。
Multi-stage energization painting :
The coating of the film-forming agent according to the present invention can be performed by a multi-stage energization method. Specifically, the above-described film-forming agent is used as a bath, and the first-stage coating is performed using the metal substrate as a cathode. By being energized with a voltage (V 1 ) of generally 1 to 100 V, preferably 1 to 50 V, more preferably 5 to 40 V, usually 10 to 360 seconds, preferably 30 to 180 seconds, while immersed in a film forming agent. Next, the second and subsequent coatings are generally 50 to 400 V, preferably 75 to 370 V, more preferably 100 to 350 V, with the metal substrate as the anode in a state where the metal substrate is immersed in the film forming agent. voltage (V 2), usually 60 to 600 seconds, preferably 75 to 400 seconds, more preferably can be carried out by passing 90-240 seconds.
かくして、金属基材を陰極とした1段目の塗装によって、金属化合物成分(A)を選択的に金属基材上に析出させて皮膜(X)を形成することができ、次いで、金属基材を陽極とした2段目以降の塗装によって、電気抵抗を有する皮膜(X)上に、アニオン性基含有樹脂成分(B)を選択的に析出させて皮膜(Y)を形成することができる。 Thus, the coating (X) can be formed by selectively depositing the metal compound component (A) on the metal substrate by the first-stage coating using the metal substrate as the cathode. The coating (Y) can be formed by selectively precipitating the anionic group-containing resin component (B) on the coating (X) having electrical resistance by coating in the second and subsequent stages using as the anode.
本発明に従い、皮膜形成剤に浸漬した状態で金属基材を陰極とした状態から被塗物を陽極とする状態へ逆転することによって、1層目の皮膜(X)上に、組成が大きく異なる2層目の皮膜(Y)を連続的に形成することができ、それによって、いっそう防食性が良好な複層皮膜構造を形成せしめることができる。 According to the present invention, the composition on the first layer (X) is greatly different by reversing from the state in which the metal substrate is used as the cathode in the state of being immersed in the film forming agent to the state in which the object is the anode. The second-layer coating (Y) can be formed continuously, whereby a multilayer coating structure with better anticorrosion properties can be formed.
特に、皮膜(X)上に皮膜(Y)を十分に形成させるためには、1段目の塗装を一般に0.1〜1.5mA/cm2、好ましくは0.15〜1.2mA/cm2、さらに好ましくは0.2〜1.0mA/cm2の電流密度で行うことが望ましい。 In particular, in order to sufficiently form the film (Y) on the film (X), the first coating is generally 0.1 to 1.5 mA / cm 2 , preferably 0.15 to 1.2 mA / cm. 2 , more preferably 0.2 to 1.0 mA / cm 2 .
上記複層皮膜の析出機構としては、まず、金属基材を陰極とした1段目の通電条件によって、金属基材近傍のpH上昇により、皮膜形成剤中のジルコニウムイオン種(例えば、ジルコニウムとフッ素との錯体イオン)が加水分解反応を受けて、難溶性の皮膜(X)(主に、酸化ジルコニウム)として金属基材上に析出する。次に、2段目の通電によって、金属基材が陽極に切り替わるため、2段目の通電時に金属基材近傍のpHが低下し、それによって、難溶性の酸化ジルコニウムが金属基材に析出されず、アニオン性基含有樹脂成分(B)や顔料を主成分とする皮膜(Y)が形成されて、本発明の皮膜構造を得ることができる。 As the deposition mechanism of the multilayer coating, first, the zirconium ion species (for example, zirconium and fluorine) in the film forming agent are caused by the pH increase in the vicinity of the metal substrate under the first-stage energization condition using the metal substrate as the cathode. Complex ions) undergo a hydrolysis reaction and deposit on the metal substrate as a hardly soluble coating (X) (mainly zirconium oxide). Next, since the metal substrate is switched to the anode by the second-stage energization, the pH in the vicinity of the metal substrate is lowered during the second-stage energization, and thereby hardly soluble zirconium oxide is deposited on the metal substrate. First, a film (Y) containing an anionic group-containing resin component (B) or a pigment as a main component is formed, and the film structure of the present invention can be obtained.
なお、通電条件によっては、1段目の通電時において、1段目の通電における対極である陽極にアニオン性基含有樹脂成分(B)や顔料を主成分とする皮膜が析出することがある。そのため、金属基材を陽極とする2段目以降の通電において、連続的な塗装を容易にするために、電極として隔膜で覆われた電極(隔膜電極)を用いて、電極の表面にアニオン性基含有樹脂成分(B)が付着しないようにしすることが望ましい。 Depending on the energization conditions, a film mainly composed of an anionic group-containing resin component (B) or a pigment may be deposited on the anode that is the counter electrode in the first stage energization during the first stage energization. Therefore, in order to facilitate continuous coating in the second and subsequent energization using a metal substrate as an anode, an electrode covered with a diaphragm (diaphragm electrode) is used as an electrode, and the surface of the electrode is anionic. It is desirable to prevent the group-containing resin component (B) from adhering.
なお、皮膜形成剤の浴温としては、通常5〜45℃、好ましくは10〜40℃、さらに好ましくは20〜35℃の範囲内が適している。 The bath temperature of the film-forming agent is usually 5 to 45 ° C., preferably 10 to 40 ° C., more preferably 20 to 35 ° C.
析出した皮膜は焼付けて硬化させることができる。皮膜の焼付け温度は、被塗物表面で
約100〜約200℃、好ましくは約120〜約180℃の範囲内の温度が適しており、焼き付け時間は5〜90分、好ましくは10〜50分程度とすることができる。
The deposited film can be baked and cured. The baking temperature of the film is suitably about 100 to about 200 ° C., preferably about 120 to about 180 ° C. on the surface of the coating, and the baking time is 5 to 90 minutes, preferably 10 to 50 minutes. Can be about.
上記の多段階通電方式による本発明に従う皮膜形成剤の塗装によって、金属基材上に、皮膜の質量固形分合計を基準にして、ジルコニウム化合物と金属(a)含有化合物を、合計金属量(質量換算)で、25〜100質量%、特に30〜99質量%、さらに特に35〜95質量%含有する厚さが0.01〜5μm、特に0.03〜5μmの皮膜(X)と、該皮膜(X)上の、皮膜の質量固形分合計を基準にして、ジルコニウム化合物と金属(a)含有化合物を合計金属量(質量換算)で25質量%未満、特に0.5〜20質量%、さらに特に1〜10質量%含有し且つアニオン性基含有樹脂成分を50〜95質量%、特に60〜92.5質量%、さらに特に70〜90質量%含有する厚さが0.1〜30μm、特に0.5〜25μmの皮膜(Y)を含んでなる皮膜構造を形成せしめることができる。 By coating the film forming agent according to the present invention by the above-described multistage energization method, the zirconium compound and the metal (a) -containing compound are combined on the metal base material based on the total mass solid content of the film, and the total metal amount (mass The film (X) having a thickness of 25 to 100% by mass, particularly 30 to 99% by mass, more particularly 35 to 95% by mass, with a thickness of 0.01 to 5 μm, particularly 0.03 to 5 μm, and the film On the basis of the total mass solid content of the film on (X), the zirconium compound and the metal (a) -containing compound are less than 25% by mass, particularly 0.5 to 20% by mass, in terms of the total metal amount (in terms of mass). In particular, it contains 1 to 10% by weight and contains an anionic group-containing resin component in an amount of 50 to 95% by weight, particularly 60 to 92.5% by weight, more particularly 70 to 90% by weight. 0.5-25 μm film (Y It can be allowed to form comprising at film structure.
以下、実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されるものではない。なお、「部」及び「%」は「質量部」及び「質量%」である。 EXAMPLES Hereinafter, although an Example is given and this invention is demonstrated further more concretely, this invention is not limited only to these Examples. “Parts” and “%” are “parts by mass” and “% by mass”.
製造例1:カルボキシル基含有ポリエステル樹脂の製造
加熱装置、攪拌機、窒素導入管及び分離器を有する反応装置に、無水ヘキサヒドロフタル酸550部、アジピン酸160部、トリメチロールプロパン220部、ネオペンチルグリコール170部及び2−ブチル−2−エチル−1,3−プロパンジオール350部を仕込み、乾燥窒素下で加熱を開始し、230℃まで徐々に昇温してエステル化反応を行った。
Production Example 1: Production of carboxyl group-containing polyester resin In a reactor having a heating device, a stirrer, a nitrogen introduction tube and a separator, 550 parts of hexahydrophthalic anhydride, 160 parts of adipic acid, 220 parts of trimethylolpropane, neopentyl glycol 170 parts and 350 parts of 2-butyl-2-ethyl-1,3-propanediol were charged, heating was started under dry nitrogen, and the temperature was gradually raised to 230 ° C. to conduct an esterification reaction.
さらに230℃を保持し、酸価1mgKOH/g以下までエステル化を行った後、170℃まで冷却し、無水トリメリット酸160部を加え、さらにエチレングリコールモノブチルエーテル380部を加えて、固形分80%のカルボキシ基含有ポリエステル樹脂溶液を得た。該カルボキシ基含有ポリエステル樹脂は、酸価が60mgKOH/g、水酸基価が90mgKOH/g、数平均分子量が1,500であった。 Further, the temperature was maintained at 230 ° C., esterification was carried out to an acid value of 1 mg KOH / g or less, then cooled to 170 ° C., 160 parts of trimellitic anhydride was added, 380 parts of ethylene glycol monobutyl ether was further added, and the solid content was 80 % Carboxy group-containing polyester resin solution. The carboxy group-containing polyester resin had an acid value of 60 mgKOH / g, a hydroxyl value of 90 mgKOH / g, and a number average molecular weight of 1,500.
製造例2:カルボキシル基含有アクリル樹脂の製造
攪拌機、温度計、窒素導入管及び還流冷却器を取りつけたフラスコに、プロピレングリコールモノメチルエーテルを290部を仕込み、120℃に保持した中へ、下記の「混合物」を3時間かけて滴下し、次いでアゾビスジメチルバレロニトリル3部を添加し、120℃で1時間保持して反応を行って、樹脂固形分65%のカルボキシル基含有アクリル樹脂溶液を得た。該カルボキシル基含有アクリル樹脂は、酸価が78mgKOH/g、水酸基価が145mgKOH/g、重量平均分子量が16,000であった。
Production Example 2: Production of carboxyl group-containing acrylic resin Into a flask equipped with a stirrer, thermometer, nitrogen introduction tube and reflux condenser, 290 parts of propylene glycol monomethyl ether was charged and maintained at 120 ° C. The mixture was added dropwise over 3 hours, then 3 parts of azobisdimethylvaleronitrile was added, and the reaction was carried out while maintaining at 120 ° C. for 1 hour to obtain a carboxyl group-containing acrylic resin solution having a resin solid content of 65%. . The carboxyl group-containing acrylic resin had an acid value of 78 mgKOH / g, a hydroxyl value of 145 mgKOH / g, and a weight average molecular weight of 16,000.
「混合物」
スチレン 60部
アクリル酸n−ブチル 300部
アクリル酸2−ヒドロキシエチル 180部
アクリル酸 60部
アゾビスジイソブチロニトリル 36部
"blend"
Styrene 60 parts n-butyl acrylate 300 parts 2-hydroxyethyl acrylate 180 parts Acrylic acid 60 parts Azobisdiisobutyronitrile 36 parts
製造例3:カルボキシル基含有エポキシ樹脂の製造
攪拌機、温度計、窒素導入管及び還流冷却器を取り付けたフラスコに、jER828EL(ジャパンエポキシレジン(株)製、商品名、エポキシ樹脂エポキシ当量190分子量350)500部にビスフェノールA 200部及びジメチルベンジルアミン0.1部を
加え、130℃でエポキシ当量が750になるまで反応させた。そこにジメチロール酪酸135部を加え、130℃で4時間反応させた。続いて、無水トリメリット酸77部を加えた後、エチレングリコールモノブチルエーテル228部を加え、固形分80%のカルボキシ基含有エポキシ樹脂溶液を得た。該カルボキシ基含有エポキシ樹脂は、酸価が78mgKOH/g、水酸基価が140mgKOH/g、数平均分子量が約1800であった。
Production Example 3: Production of carboxyl group-containing epoxy resin To a flask equipped with a stirrer, thermometer, nitrogen introduction tube and reflux condenser, jER828EL (manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd., trade name, epoxy resin epoxy equivalent 190 molecular weight 350) To 500 parts, 200 parts of bisphenol A and 0.1 part of dimethylbenzylamine were added and reacted at 130 ° C. until the epoxy equivalent reached 750. Thereto, 135 parts of dimethylol butyric acid was added and reacted at 130 ° C. for 4 hours. Subsequently, after adding 77 parts of trimellitic anhydride, 228 parts of ethylene glycol monobutyl ether was added to obtain a carboxy group-containing epoxy resin solution having a solid content of 80%. The carboxy group-containing epoxy resin had an acid value of 78 mgKOH / g, a hydroxyl value of 140 mgKOH / g, and a number average molecular weight of about 1800.
製造例4:硬化剤No.1の製造
イソホロンジイソシアネート222部にメチルイソブチルケトン44部を加え、70℃に昇温した。その後、メチルエチルケトキシム174部を2時間かけて滴下して、この温度を保ちながら経時でサンプリングして赤外吸収スペクトル測定にて未反応のイソシアネートの吸収がなくなったことを確認し、固形分90%のブロックポリイソシアネート化合物の硬化剤No.1を得た。
Production Example 4: Curing agent No. Production of 1 44 parts of methyl isobutyl ketone was added to 222 parts of isophorone diisocyanate, and the temperature was raised to 70 ° C. Thereafter, 174 parts of methyl ethyl ketoxime was added dropwise over 2 hours, and sampling was performed over time while maintaining this temperature, and it was confirmed by infrared absorption spectrum measurement that there was no absorption of unreacted isocyanate. Curing agent No. of block polyisocyanate compound 1 was obtained.
製造例5:エマルションNo.1の製造
上記製造例1で得た固形分80%のカルボキシル基含有ポリエステル樹脂87.5部(固形分70部)に、硬化剤No.1 33.3部(固形分30部)、トリエチルアミン3部(0.4当量中和分)及び脱イオン水188.7部を加えて水分散化し、固形分32%のエマルションNo.1を得た。
Production Example 5: Emulsion No. Production of Curing Agent No. 1 to 87.5 parts (solid content 70 parts) of a carboxyl group-containing polyester resin 80% solid content obtained in Production Example 1 above. 1 33.3 parts (solid content 30 parts), triethylamine 3 parts (0.4 equivalent neutralized content) and deionized water 188.7 parts were added to disperse in water, and emulsion No. 1 having a solid content of 32% was added. 1 was obtained.
製造例6〜8:エマルションNo.2〜No.4の製造
製造例5と同様に操作して、下記表1に示す配合内容のエマルションNo.2〜No.4を得た。
Production Examples 6 to 8: Emulsion No. 2-No. Production of Emulsion No. 4 with the same composition as shown in Table 1 below. 2-No. 4 was obtained.
(注3) ニカラックMX−430: 三和ケミカル社製、商品名、メラミン樹脂、固形
分100%。
(Note 3) Nicalak MX-430: Sanwa Chemical Co., Ltd., trade name, melamine resin, solid content 100%.
製造例9:顔料分散用のアクリル樹脂溶液
撹拌機、温度計及び還流冷却管の備えた通常のアクリル樹脂反応槽にエチレングリコールモノブチルエーテル37部を仕込み、加熱撹拌して110℃に保持した。
Production Example 9: Acrylic Resin Solution for Dispersing Pigment In an ordinary acrylic resin reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer and a reflux condenser, 37 parts of ethylene glycol monobutyl ether was charged and stirred at a temperature of 110 ° C.
その中に下記の「混合物」を3時間かけて滴下した。滴下終了後、110℃で30分間熟成し、次にエチレングリコールモノブチルエーテル20部及びアゾビスイソブチロニトリル0.5部からなる追加触媒混合液を1時間かけて滴下した。次いで110℃で1時間熟成した後冷却し、固形分55%の顔料分散用アクリル樹脂溶液を得た。 The following “mixture” was dropped therein over 3 hours. After completion of the dropwise addition, the mixture was aged at 110 ° C. for 30 minutes, and then an additional catalyst mixture composed of 20 parts of ethylene glycol monobutyl ether and 0.5 part of azobisisobutyronitrile was added dropwise over 1 hour. Next, the mixture was aged at 110 ° C. for 1 hour and then cooled to obtain an acrylic resin solution for pigment dispersion having a solid content of 55%.
「混合物」
スチレン 10部
メチルメタクリレート 35部
2−エチルヘキシルメタクリレート 20部
2−ヒドロキシエチルメタクリレート 10部
NFバイソマーS20W(注4) 40部
アゾビスイソブチロニトリル 1部
イソブチルアルコール 5部
"blend"
10 parts of styrene
Methyl methacrylate 35 parts
20 parts of 2-ethylhexyl methacrylate
2-hydroxyethyl methacrylate 10 parts
NF biisomer S20W (Note 4) 40 parts
Azobisisobutyronitrile 1 part
5 parts isobutyl alcohol
(注4) NFバイソマーS20W: 第一工業製薬株式会社製、商品名、メトキシポリ
エチレングリコールモノメタクリレートの50%水希釈品、分子量約2,080
。
(Note 4) NF biisomer S20W: manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd., trade name, 50% water-diluted product of methoxypolyethylene glycol monomethacrylate, molecular weight about 2,080
.
製造例10:顔料分散ペーストNo.1の製造
製造例9で得た固形分55%の顔料分散用のアクリル樹脂溶液6.3部(固形分5部)、JR−600E(注5)14部、カーボンMA−7(注6)0.3部、ハイドライトPXN(注7)9.7部、ジオクチル錫オキサイド1部及び脱イオン水23.2部をボールミルにて20時間分散して、固形分55%の顔料分散ペーストNo.1を得た。
Production Example 10: Pigment dispersion paste No. Production of 1 Acrylic resin solution for pigment dispersion having a solid content of 55% obtained in Production Example 9 (5 parts solids), 14 parts JR-600E (Note 5), Carbon MA-7 (Note 6) 0.3 parts, 9.7 parts of hydrite PXN (Note 7), 1 part of dioctyltin oxide and 23.2 parts of deionized water were dispersed for 20 hours in a ball mill, and pigment dispersion paste No. 5 having a solid content of 55% was dispersed. 1 was obtained.
製造例11:顔料分散ペーストNo.2の製造例
下記表2に示す成分を用いる以外は製造例10と同様に操作して、顔料分散ペーストNo.2を得た。
Production Example 11: Pigment dispersion paste No. Production Example 2 The same procedure as in Production Example 10 was carried out except that the components shown in Table 2 below were used. 2 was obtained.
(注5) JR−600E:テイカ社製、商品名、チタン白。
(注6) カーボンMA−7:三菱化成社製、商品名、カーボンブラック。
(注7) ハイドライトPXN:ジョージアカオリン社製、商品名、カオリン。
(Note 5) JR-600E: Product name, titanium white, manufactured by Teika.
(Note 6) Carbon MA-7: trade name, carbon black, manufactured by Mitsubishi Kasei.
(Note 7) Hydrite PXN: Product name, Kaolin, manufactured by Georgia Kaolin.
製造例12
エマルションNo.1 219部(固形分70部)、製造例10で得た55%顔料分散ペーストNo.1 54.5部(固形分30部)及び脱イオン水726.5部を混合して固形分10%の浴とし、次いでジルコニウムフッ化水素アンモニウム1.3部を加えて皮膜形成剤No.1を得た。
Production Example 12
Emulsion No. 1 219 parts (solid content 70 parts), 55% pigment dispersion paste No. obtained in Production Example 10 No. 1 54.5 parts (solid content 30 parts) and deionized water 726.5 parts were mixed to form a 10% solids bath, and then 1.3 parts of zirconium hydrogen fluoride ammonium was added to form the film forming agent No. 1 1 was obtained.
製造例13〜26
下記表3及び表4に示す配合とする以外は、製造例13と同様にして皮膜形成剤No.2〜No.15を得た。
Production Examples 13 to 26
Except for the formulations shown in Tables 3 and 4 below, film-forming agent No. 2-No. 15 was obtained.
実施例1
皮膜形成剤No.1の浴を28℃に調整し、被塗物としての冷延鋼板(70mm×150mm×0.8mm)を陰極(極間距離15cm)として浸漬して、第1段目の塗装を5Vで60秒間通電することにより行った。
Example 1
Film forming agent No. 1 bath was adjusted to 28 ° C., and a cold-rolled steel sheet (70 mm × 150 mm × 0.8 mm) as an object to be coated was immersed as a cathode (distance between electrodes 15 cm), and the first-stage coating was performed at 5V at 60V. It was performed by energizing for 2 seconds.
次いで連続的に、冷延鋼板(70mm×150mm×0.8mm)を陽極(極間距離15cm)として、第2段目の塗装を260Vで120秒間通電することにより行った。得られた皮膜を電気乾燥機によって170℃で20分間焼付けし、試験板No.1を得た。
なお、第1段目通電時の電流密度は0.2mA/cm2であった。
Subsequently, the second-stage coating was performed by applying current at 260 V for 120 seconds using a cold-rolled steel plate (70 mm × 150 mm × 0.8 mm) as an anode (distance between electrodes 15 cm). The obtained film was baked with an electric dryer at 170 ° C. for 20 minutes. 1 was obtained.
The current density during the first stage energization was 0.2 mA / cm 2 .
実施例2〜14
表5及び表6に示す皮膜形成剤及び塗装条件を用いる以外は、実施例1と同様にして、皮膜No.2〜No.14を得た。
Examples 2-14
Except for using the film forming agent and the coating conditions shown in Table 5 and Table 6, the film No. 2-No. 14 was obtained.
比較例1〜14
表7及び表8に示す皮膜形成剤及び塗装条件を用いる以外は、実施例1と同様にして、試験板No.15〜No.28を得た。
Comparative Examples 1-14
In the same manner as in Example 1 except that the film forming agent and the coating conditions shown in Tables 7 and 8 were used, the test plate No. 15-No. 28 was obtained.
(注8) 電流密度:
被塗物の冷延鋼板(70mm×150mm×0.8mm)を陰極(極間距離15cm)として皮膜形成剤に浸漬して、第1段目の電圧印加時の電流密度を求めた。
(Note 8) Current density:
A cold-rolled steel sheet (70 mm × 150 mm × 0.8 mm) as the object to be coated was immersed in a film forming agent as a cathode (distance between electrodes 15 cm), and the current density at the time of voltage application in the first stage was determined.
(注9) 皮膜状態:
試験板を切断して皮膜(X)と皮膜(Y)の皮膜状態を、HF−2000(日立製作所製、電界放出型透過型電子顕微鏡)を用いて観察した。皮膜状態の評価は下記の基準に従って行った。
○は層分離がはっきり認められる。
△は皮膜(X)と皮膜(Y)の境界がはっきりしないが、層分離が多少認められる
。
×は層分離は認められない。
(Note 9) Film state:
The test plate was cut and the film states of the film (X) and film (Y) were observed using HF-2000 (manufactured by Hitachi, Ltd., field emission type transmission electron microscope). The film state was evaluated according to the following criteria.
○ indicates that layer separation is clearly observed.
Δ indicates that the boundary between the film (X) and the film (Y) is not clear, but some layer separation is observed.
X indicates no layer separation.
(注10) Zrと金属(a)の金属量(%):
皮膜(X)における金属量(質量%)を、IX−3100RF(株式会社リガク製、商品名、蛍光X線分析装置)を用いて測定した。
(Note 10) Zr and metal amount of metal (a) (%):
The amount of metal (mass%) in the film (X) was measured using IX-3100RF (Rigaku Corporation, trade name, X-ray fluorescence analyzer).
(注11) 樹脂成分(B)の含有量:
焼付け前の皮膜(Y)を掻き取り、下記式(2)に従って求めた。
皮膜(Y)を105℃3時間乾燥した後の質量・・・b1
800℃のるつぼに入れて5時間焼付けた後の残分質量・・・b2
樹脂成分(B)の含有量(%)
=[(b1−b2)/b1]×100・・・式(2)
(Note 11) Content of resin component (B):
The film (Y) before baking was scraped off and determined according to the following formula (2).
Mass after drying coating (Y) at 105 ° C. for 3 hours: b1
Residual mass after baking in 800 ° C crucible for 5 hours ... b2
Resin component (B) content (%)
= [(B1-b2) / b1] × 100 Formula (2)
(注12) 防食性:
試験板の素地に達するように電着塗膜にナイフでクロスカット傷を入れ、これを用いJISZ−2371に準じて480時間耐塩水噴霧試験を行った。評価はナイフ傷からの錆、フクレ幅によって以下の基準で評価した。
◎は錆、フクレの最大幅がカット部より2mm未満(片側)である。
○は錆、フクレの最大幅がカット部より2mm以上で且つ3mm未満(片側)であ
る。
△は錆、フクレの最大幅がカット部より3mm以上で且つ4mm未満(片側)であ
る。
×は錆、フクレの最大幅がカット部より4mm以上(片側)である。
(Note 12) Anticorrosion:
A cross-cut wound was made in the electrodeposition coating film with a knife so as to reach the base of the test plate, and a salt spray resistance test was conducted for 480 hours according to JISZ-2371. The evaluation was made according to the following criteria based on the rust and blister width from the knife scratch.
A: The maximum width of rust and blisters is less than 2 mm (one side) from the cut part.
○: The maximum width of rust and blisters is 2 mm or more and less than 3 mm (one side) from the cut part.
Δ indicates that the maximum width of rust and blisters is 3 mm or more and less than 4 mm (one side) from the cut part.
X indicates that the maximum width of rust and swelling is 4 mm or more (one side) from the cut portion.
(注13) 耐ばくろ性:
試験板に、スプレー塗装方法で、WP−300(関西ペイント株式会社製、商品名、水性中塗り塗料)を硬化膜厚が25μmとなるように塗装した後、電気熱風乾燥器で140℃×30分焼き付けを行なった。さらに、その中塗塗膜上にスプレー塗装方法で、ネオアミラック6000(関西ペイント株式会社製、商品名、上塗り塗料)を硬化膜厚が35μmとなるように塗装した後、電気熱風乾燥器で140℃×30分焼き付けを行ない、ばくろ試験板を作製した。
得られたばくろ試験板上の塗膜に、素地に達するようにナイフでクロスカットキズを入れ、これを千葉県千倉町で、水平にて1年間暴露した後、ナイフ傷からの錆、フクレ幅によって以下の基準で評価した。
◎は錆またはフクレの最大幅がカット部より2mm未満(片側)。
○は錆またはフクレの最大幅がカット部より2mm以上で且つ3mm未満(片側)
。
△は錆またはフクレの最大幅がカット部より3mm以上で且つ4mm未満(片側)
。
×は錆またはフクレの最大幅がカット部より4mm以上(片側)である。
(Note 13) Exposure resistance:
After spraying the test plate with WP-300 (trade name, waterborne intermediate coating) manufactured by Kansai Paint Co., Ltd. so that the cured film thickness is 25 μm, it is 140 ° C. × 30 with an electric hot air dryer. Partial baking was performed. Furthermore, after spraying neoamylac 6000 (manufactured by Kansai Paint Co., Ltd., trade name, top coat) on the intermediate coating film so as to have a cured film thickness of 35 μm, it is 140 ° C. in an electric hot air dryer. Baking was performed for 30 minutes to prepare a blue test plate.
The resulting paint film on the test plate is cross-cut with a knife so that it reaches the substrate, and this is exposed horizontally in Chikura Town, Chiba Prefecture for one year. Evaluation was made according to the following criteria according to the width.
A: The maximum width of rust or swelling is less than 2 mm from the cut part (one side).
○: The maximum width of rust or blister is 2mm or more and less than 3mm (one side) from the cut part
.
△ indicates that the maximum width of rust or blister is 3 mm or more from the cut part and less than 4 mm (one side)
.
X indicates that the maximum width of rust or swelling is 4 mm or more (one side) from the cut portion.
(注14) 仕上り性:
試験板の塗面をサーフテスト301(株式会社ミツトヨ社製、商品名、表面粗度計)を用いて、表面粗度値(Ra)をカットオフ0.8mmにて測定した。
○は表面粗度値(Ra)が0.2μm未満。
△は表面粗度値(Ra)が0.2μm以上でかつ0.3μm未満。
×は表面粗度値(Ra)が0.3μm以上。
(Note 14) Finish:
The surface roughness value (Ra) of the coated surface of the test plate was measured at a cutoff of 0.8 mm using a surf test 301 (manufactured by Mitutoyo Corporation, trade name, surface roughness meter).
○ has a surface roughness value (Ra) of less than 0.2 μm.
Δ has a surface roughness value (Ra) of 0.2 μm or more and less than 0.3 μm.
X has a surface roughness value (Ra) of 0.3 μm or more.
(注15) 耐侯性:
乾燥膜厚20μmの各試験板を、JIS K−5600−7−7に規定する促進耐候性試験を行い、JIS K−5600−4−7(1999)に準じて塗面の60度鏡面反射率(%)が80%を割る時間を測定した。
◎は60度鏡面反射率(%)が80%を割る時間が200時間以上。
○は60度鏡面反射率(%)が80%を割る時間が150時間以上かつ200時間
未満。
△は60度鏡面反射率(%)が80%を割る時間が50時間以上かつ150時間未
満。
×は60度鏡面反射率(%)が80%を割る時間が50時間未満。
(Note 15) Weather resistance:
Each test plate having a dry film thickness of 20 μm is subjected to an accelerated weather resistance test as defined in JIS K-5600-7-7, and the 60-degree specular reflectance of the coated surface according to JIS K-5600-4-7 (1999). The time for (%) to divide 80% was measured.
◎ indicates that the time when the 60-degree specular reflectance (%) divides 80% is 200 hours or more.
○ indicates that the time when the 60-degree specular reflectance (%) divides 80% is 150 hours or more and less than 200 hours.
Δ indicates that the time when the 60-degree specular reflectance (%) divides 80% is 50 hours or more and less than 150 hours.
X indicates that the time when the 60-degree specular reflectance (%) divides 80% is less than 50 hours.
(注16) 皮膜形成剤安定性:
各々の皮膜形成剤を30℃にて30日間容器を密閉して攪拌した。その後、皮膜形成剤を400メッシュ濾過網を用いて全量濾過し、残さ量(mg/L)を測定した。
◎は5mg/L未満。
○は5mg/L以上で、かつ10mg/L未満。
△は10mg/L以上で、かつ15mg/L未満。
×は15mg/L以上。
(Note 16) Film former stability:
Each film-forming agent was stirred at 30 ° C. with the container sealed for 30 days. Thereafter, the entire amount of the film-forming agent was filtered using a 400 mesh filter screen, and the remaining amount (mg / L) was measured.
A is less than 5 mg / L.
○ is 5 mg / L or more and less than 10 mg / L.
Δ is 10 mg / L or more and less than 15 mg / L.
X is 15 mg / L or more.
Claims (10)
(i) 皮膜形成剤が、ジルコニウム化合物と、必要に応じて、チタン、コバルト、バナジウム、タングステン、モリブデン、銅、亜鉛、インジウム、アルミニウム、ビスマス、イットリウム、ランタノイド金属、アルカリ金属及びアルカリ土類金属から選ばれる少なくとも1種の金属(a)を含有する化合物とを合計金属量(質量換算)で30〜20,000ppmと、アニオン性基含有樹脂成分1〜40質量%とを含んでなり、
(ii) 金属基材を皮膜形成剤に浸漬した状態で、金属基材を陰極として、1〜50Vの電圧で10〜360秒間通電することにより1段目の塗装を行い、そして
(iii) 金属基材を皮膜形成剤に浸漬した状態で、金属基材を陽極として、50〜400Vの電圧で60〜600秒間通電することにより2段目以降の塗装を行う
ことを特徴とする表面処理皮膜の形成方法。 A method of forming a film by coating a metal base material with a film forming agent in a multi-stage energization method of at least two stages,
(I) The film forming agent is composed of a zirconium compound and, if necessary, titanium, cobalt, vanadium, tungsten, molybdenum, copper, zinc, indium, aluminum, bismuth, yttrium, lanthanoid metal, alkali metal, and alkaline earth metal. A compound containing at least one selected metal (a) in a total metal amount (in terms of mass) of 30 to 20,000 ppm, and an anionic group-containing resin component 1 to 40% by mass,
(Ii) First stage coating was performed by energizing for 10 to 360 seconds at a voltage of 1 to 50 V with the metal substrate as a cathode in a state where the metal substrate was immersed in the film forming agent, and (iii) metal A surface-treated film characterized by performing the second and subsequent coatings by applying current for 60 to 600 seconds at a voltage of 50 to 400 V using a metal substrate as an anode while the substrate is immersed in a film forming agent. Forming method.
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