JP4885175B2 - ファブリー・ペロ・レーザーダイオードを基礎とするレーザー装置及びその注入方法 - Google Patents

ファブリー・ペロ・レーザーダイオードを基礎とするレーザー装置及びその注入方法 Download PDF

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Description

本発明はファブリー・ペロ・レーザーダイオード(FP−LD)を基礎とするレーザー装置及びその注入方法に関する。
近年、FTTH(Fiber To The Home)技術によりユーザーにブロードバンドで高品質を保証するデータ伝送サービスが提供可能となり、波長分割多重パッシブ光ネットワーク(WDM−PON)が注目されている。WDM−PONシステムを実際に実行する時に、鍵となる問題は如何に局側(Optical Line Terminal:OLT)と使用者側(Optical Network Unit:ONU)での低コストの光送受信器(Optical Transciever)を実現するかにある。
WDM−PONの多種類の異なる伝送構造中、普及している構造として、例えば図1に示されるものがあり、それはスペクトラムスライスブロードバンド(Spectrum
Sliced Broadband)注入式(Injection Locked)のFP−LDを使用した伝送構造である。この伝送構造中、ダウンストリーム光源はE/Lブロードバンド光源110を選択可能で、アップストリーム光源はC−ブロードバンド光源120とされる。局側140と使用者側150がいずれもFP−LDとホトダイオード(PD)を整合してなる双方向(Bidirectional)送受信器を使用する。そのうち、FP−LDの前端面(Front−End Surface)は低反射率、約0.001であるため、注入光パワー(Optical Power)は低くてすむ。このような伝送構造は、無色光源(Colorless Light Source)のWDM波長を有し且つ低コストの個別のFP−LDを通して、直接変調信号(Modulating Signal)を生成することができる。
反射式半導体光増幅器(Reflective Semiconductor Optical Amplifier:RSOA)を基礎とするWDM−PON技術はその実際のデータ伝送におけるネットワーク性能について研究、試験されている。そのうち一種の構造例として図2に示されるようなものがある。その方式は、レーザー注入式(Laser−Injected)であり、第1種の連続波(Continuous Wave:CW)の波長を各一つのONUに注入する。そのネットワーク構造が提供するのは、一種の独立したCW WDM注入光(Seed Light)を使用するものである。
別の一種は、RSOAを基礎とするWDM−PON技術の構造例は図3に示され、それは再変調(Re−modulation)信号データを利用する方式であり、前述の方式と類似し、ダウンストリーム注入光(Downstream Injection Light)のデータを抑圧(suppress)できるが、ダウンストリームの変調後の光信号を注入光源として重複使用する。この変調後の光信号を各一つのONU内のRSOAに注入した後に、更にそのアップストリーム信号を反射、増幅及び変調する。
前述の二種類の、RSOAを基礎とするWDM−PON技術は、いずれも分布式フィードバックレーザーダイオード(Distributed Feedback LD:DFB−LD)をダウンストリームの伝送データ波長源として及びRSOAに注入するレーザー光源として使用している。FP−LDと比較すると、DFB−LDを基礎とするレーザー光源の製造コストは相当に高く並びにデータ伝送速度が下がり、そのデータ伝送速度は毎秒1.25Gバイト或いは毎秒数十個のメガバイトである。
本発明はFP−LDを基礎とするレーザー装置及びその注入方法を提供する。
本発明はある実施例において、一種のFP−LDを基礎とするレーザー装置を提供して、WDMレーザー構造の注入光源とする。このレーザー装置は複数のFP−LD、一つの光フィルタ(Optical Filter)、少なくとも一つのファイバミラー(Fiber Mirror:FM)を包含する。各FP−LDはいずれも光スペクトラムを出力し、並びにそれは指定周波数帯域(Band)内に分布する。光フィルタは各FP−LDの出力した光スペクトラムをろ波する。ファイバミラーはろ波された各光スペクトラムを反射してこの複数のFP−LDに進入させる。その後、各FP−LDはそれぞれ連続光波を出力し、並びにそれを注入するレーザー光波源となす。
本発明は別の実施例において、一種のFP−LDを基礎とするレーザー装置を提供しており、それは伝送システム中の局側に応用され、この局側はアップストリームレーザー光源とダウンストリームレーザー光源を具え、このレーザー装置は、それぞれが光スペクトラムを出力する複数のFP−LDと、出力された各該光スペクトラムをろ波する一つの光フィルタ、各該光スペクトラムを反射してこの複数のFP−LDに進入させて連続光シングル縦モード形式でそれぞれが対応する光スペクトラムを出力する少なくとも一つのファイバミラーを包含し、並びにこの局側はそれぞれ異なる周波数帯域を使用し、このレーザー装置がそのアップストリーム及びダウンストリームレーザー光源とされる。
本発明はまた別の実施例において、一種のFP−LDを基礎とするレーザー装置の注入方法を提供している。この注入方法は、複数のFP−LDを準備し並びに一つの光フィルタの対応するフィルタモードに整合させ、各自の光スペクトラムを出力させるステップ、この複数のFP−LDが出力する光スペクトラムを該光フィルタによりろ波するステップ、こうしてろ波された複数の光スペクトラムをこの複数のFP−LDに進入させるステップ、及び、各FP−LDに連続光シングル縦モード形式で各自の光スペクトラムを出力させて、直接注入のレーザー光波源となすステップ、を包含する。
本発明のセルフ注入式のFP−LDを基礎とするレーザー装置はWDM−PONの伝送システム、例えば無色光源の波長分割多重パッシブ光ネットワークの伝送システム、反射式半導体光増幅器を基礎とする波長分割多重パッシブ光ネットワークの伝送システムに応用可能である。このレーザー装置は便宜な連続波光ファイバレーザー装置である。レーザー光注入のほか、ダウンストリームの光信号源とされ得る。実験の測定結果によると、その獲得できるRSOAを基礎とするアップストリーム信号のデータ伝送速度は毎秒2.5Gに達し得る。このレーザー源の調波の範囲は1528nmから1562nmとされ、且つその出力の最小光パワーは−10dBmとされ、その最小のSMSRは40dB以上である。
本発明は実施例により一種のFP−LDを基礎とするレーザー装置とその注入方法を提供する。図4は一種のFP−LDを基礎とするレーザー装置を示し、それはWDMレーザー構造の注入光源(Seeding LIght Source)の一つの実施例とされ、並びに本発明のある実施例と一致する。
図4の実施例中、このレーザー装置300は複数のFP−LD301−30n、一つの光フィルタ320及び少なくとも一つのファイバミラー330を包含する。各FP−LDはいずれも光スペクトラムを出力可能であり、並びにそれは指定周波数帯域内にある。光フィルタ320は各FP−LDの出力する光スペクトラムをろ波する。ファイバミラー330はろ波された各光スペクトラムを反射して複数のFP−LD301−30nに進入させる。その後、各FP−LDはそれぞれ連続光波を出力し、
並びにそれを注入レーザー光波源350となす。
この実施例では、FP−LDはマルチ縦モード(Multi−Longitudinal Mode:MLM)の出力光スペクトラムを採用可能であり、並びにこのFP−LDの前端面の反射率は45%程度であり、このFP−LDは低コストのFP−LD素子である。このほか、そのスレショルド電流(Lthres )とモード間距離(Mode Spacing)△λはそれぞれ9.5mAと1.38nmである。使用するMLM FP−LDは例えばC−周波数帯域内に分布し得る。ファイバミラー330は反射波長が例えば1500〜1600nmの間のものとされ、且つそれは99%の反射率を有する。光フィルタ320は例えば1×4アレイ導波路回折格子(Array Waveguide Grating:AWG)を採用できる。
図5に示されるレーザー装置310の実施例中、FP−LD301−30nの各FP−LDは更に偏波コントローラ(Polarizetion Controller:PC)に接続可能である。このn個の偏波コントローラ311−31nの各偏波コントローラは、それに接続されたFP−LDの偏振状態を制御して出力波長の安定性を保持し最大の出力効率を獲得できる。光フィルタ320は各偏波コントローラにより制御された光スペクトラムをろ波する。ただし、各FP−LDを更に偏波コントローラに接続するか否かは任意(Optional)である。
図6はセルフ注入式或いは非セルフ注入式のFP−LDの出力光スペクトラムの例を示し、並びに本発明のある実施例と一致する。左辺の上下の図はスレショルド電流がそれぞれ△λ1 と△λ2 の時の、FP−LDのオリジナル出力光スペクトラムの表示図である。
左辺の上下の図はセルフ注入式のFP−LDの出力光スペクトラムの表示図である。励起された出力波長のサイドモード抑圧比(Side−Mode SuppressionRatio:SMSR)は、図7の点線矢印で示されるようである。図6の右辺の上下に図示されるサイドモード抑圧比から分かるように、本発明のCW WDMレーザー構造によると、OLT中の異なる或いは同じモード間距離(△λ)のFP−LDを選択可能であり、いずれもマルチ波長の連続光の出力を保証できる。
実験操作環境の例は例えば以下のようである:MLM FP−LDをバイアス電流、25mAで、AWG(3−dB周波数幅が0.45nm)が対応するモードが1540.4nmである。図7はこの操作環境で、セルフ注入式でないFP−LDの出力光スペクトラム520とセルフ注入式のFP−LDの出力光スペクトラム510を示す。セルフ注入式操作を使用後に1540.5nmの出力波長を励起し、且つその励起された出力波長のパワーとSMSRはそれぞれ−8dBmと52dBである。
もし光フィルタ320が可変帯域通過フィルタ(Tunable BandpassFilter:TBF)であるなら、前述のFP−LDを唯一の可変式のレーザー出力光源とでき、並びに実験から分かることは、その波長変調の範囲は1528nmから1562nmであり、且つその出力の最小光パワーは−10dBmであり、その最小のSMSRは40dB以上である。
以上を受けて、本発明のレーザー装置のセルフ注入の方法は、その操作過程が図8に示されるようであり、並びにここに記載したある実施例と一致する。図8に示されるように、ステップ610において、複数のFP−LDを準備し並びに一つの光フィルタの対応するろ波モードに整合させ、各自の光スペクトラムを出力させる。この複数のFP−LDがそれぞれ出力する光スペクトラムをこの光フィルタによりろ波し、これはステップ620のようである。この複数のろ波された光スペクトラムをこの複数のFP−LDに反射し進入させ、これはステップ630のようである。各FP−LDは連続光(CW)シングル縦モード(Single Longitudinal Mode:SLM)形式で各自の光スペクトラムを出力し、並びに注入するレーザー光波源となし、これはステップ640のようである。
前述したように、ステップ610で、各FP−LDに対して、接続された偏波コントローラを整合することにより、該偏波コントローラに接続されたFP−LDの偏振状態を制御できる。或いは、異なる或いは同じモード間距離のFP−LDを選択することで、マルチ波長のCW出力を保証できる。ステップ630中、この複数のろ波された光スペクトラムは少なくとも一つのファイバミラーにより反射される。或いは前端面の反射率が約45%の低コストのFP−LD素子を採用できる。ステップ640で、この連続光シングル縦モード形式の光波は直接ONU内のRSOAに注入するレーザー光波源とされ得る。或いは応用環境により、先にこのCW SLM波長を増幅してからONU内のRSOAに注入するか否かを判断する。
レーザー装置300或いは310の実施例は無色光源WDM−PONの伝送システム中に応用可能である。図9と図10はそれぞれ図4と図5の例をRSOAを基礎とするWDM−PONの伝送システムに応用した実施例表示図であり、並びに本発明のある実施例と一致する。
図9と図10を共に参照されたい。伝送システム700と710中、それぞれ異なる周波数帯域を使用でき、例えば、C−周波数帯域(1530nm〜1560nm)とL−周波数帯域(1560nm〜1610nm)のレーザー光源をアップストリーム及びダウンストリームの搬送波光源(Carrier Light Source)とすることができ、こうしてアップストリームとダウンストリームの光信号が同じ波長を使用する時の、レイリー後方錯乱(Rayleigh Backscattering:RB)の物性の引き起こす光パルス雑音の形成する信号ひずみの問題を回避できる。無色光源を具備する使用者側(ONU)内の各ユニット、例えば符号760は、WDMカプラー(WDM Coupler:WC)、反射型半導体光増幅器(RSOA)及び光受信器(Optical Receiver)で構成される。このWDMカプラーはアップストリーム及びダウンストリームの信号を分離する。
言い換えると、ある伝送システム中のONU側において、異なる周波数帯域の範囲を使用でき、レーザー装置300或いは310の構造例はアップストリームの光信号用とされ、分布帰還型半導体レーザー(DFB−LD)の構造はダウンストリーム用のレーザー装置720とされ、図9と図10において、その遠端ノードの左側に示される。
レーザー装置300及び310、及びセルフ注入式の操作により、FP−LDは例えばCWシングル縦モード(SLM)形式の光スペクトラムを出力可能で、出力したCW SLM波長はまたエルビウムドープファイバ増幅器(Erbium−Doped Fiber Amplifier:EDFA)で増幅して注入パワーを増強し並びにパッシブ素子の損耗を補償できる。図9と図10のWDM−PONの伝送システム中、エルビウムドープファイバ増幅器750を加えるか否かは任意(Optional)である。
簡単に説明すると、無色光源WDM−PONの伝送システム700と710中、いずれもC−周波数帯域セルフ注入式のFP−LDとL−周波数帯域セルフ注入式のFP−LDを使用してアップストリーム及びダウンストリーム用の光信号を提供できる。ある実験データによると、アップストリーム信号は本発明のレーザー構造を利用してRSOA(この注入の波長は1540.5nm)に注入し、並びにRSOAに対して2.5Gbit/s非ゼロ復帰(Non−Return−To−Zero:NRZ)コード信号の変調を行ない、言い換えると、疑似乱数バイナリビットシーケンス(PRBS)の27 −1字コードバイトの2.5Gbit/sで、直接RSOAの信号を変調する。採用するRSOAの直流(DC)バイアスとRF(Radio Frequency)電圧Vp-p がそれぞれ4Vと5.2Vである。この実験によると、遠端ノードにも一つの1×4AWGを使用してアップストリームとダウンストリームのデータ伝送路線を分離し、並びにCW光源をONUの各ユニットに注入する。
ここに記載されている簡易で低コストのCWマルチ波長レーザー構造によりRSOAを基礎とする無色光源WDM−PONを実現する実行可能性を検証するため、実験測定の実施例中、このWDM−PONのアップストリーム通信のビットエラーレート(BER)と対応するアップストリーム通信のパワーペナルティーを測定した。測定結果から、アップストリーム通信のビットエラーレートが10-9の時、そのアップストリーム通信のパワーペナルティーは0.5dBより低い。本発明の提供するCWマルチ波長レーザー構造の出力の最小光パワーは約−10dBmであり、これによりこのPON構造上で実現可能で並びに2.5Gbit/sのアップストリームデータ伝送速度を保持できる。
図4或いは図5に示されるレーザー装置は使用者側(ONU)にあってCWの注入光源とされるほか、ダウンストリーム光信号源とされ得る。図11と図12はそれぞれ図4と図5の例をWDM−PON伝送システムのダウンストリーム光信号源とした実施例表示図であり、並びに本発明のある実施例と一致する。
図11を参照されたい。このWDM−PONの伝送システム800中、レーザー装置300の構造は、使用者側(ONU)でCWの注入光源とできるほか、ダウンストリーム光信号源とできる。同様に、図12のWDM−PONの伝送システム810中、レーザー装置310の構造は、使用者側(ONU)でCWの注入光源とできるほか、ダウンストリーム光信号源とできる。
伝送システムの実施例(符号800或いは810)中、使用者側(ONU)へのアップストリームのレーザー源とダウンストリーム光信号源にはそれぞれ異なる周波数帯域のもの、例えば、C−周波数帯域とL−周波数帯域のものを使用できる。アップストリーム用に出力されるレーザー源とダウンストリーム用に出力されるレーザー源はWDMカプラーにより分離される。同様に、図11或いは図12のWDM−PONの伝送システム中、EDFAを加えるか否かは任意である。
図11或いは図12のWDM−PONの伝送システム中、レーザー装置300或いは310をダウンストリーム光信号源とするほか、伝送データを直接1Gbpsに変調してもよい。
スペクトラムスライスブロードバンド(Spectrum SlicedBroadband)注入式(Injection Locked)のFP−LDを使用した伝送システムの実施例表示図である。 反射式半導体光増幅器(Reflective Semiconductor Optical Amplifier:RSOA)を基礎とするWDM−PON技術の構造実施例表示図である。 もう一種類の反射式半導体光増幅器(Reflective Semiconductor Optical Amplifier:RSOA)を基礎とするWDM−PON技術の構造実施例表示図である。 一種のFP−LDを基礎とするレーザー装置を示し、それはWDMレーザー構造の注入光源(Seeding LIght Source)の一つの実施例とされ、並びに本発明のある実施例と一致する。 図4中の、各FP−LDに更に偏波コントローラ(Polarizetion Controller:PC)を接続した実施例表示図であり、本発明のある実施例と一致する。 セルフ注入式或いは非セルフ注入式のFP−LDの出力光スペクトラムの例を示し、並びに本発明のある実施例と一致する。 ある操作環境での、セルフ注入式でないFP−LDの出力光スペクトラムとセルフ注入式のFP−LDの出力光スペクトラム表示図であり、本発明のある実施例と一致する。 レーザー装置のセルフ注入の方法の操作過程表示図であり、並びに本発明のある実施例と一致する。 図4の実施例をRSOAを基礎とするWDM−PONの伝送システムに応用した実施例表示図であり、並びに本発明のある実施例と一致する。 図5の実施例をRSOAを基礎とするWDM−PONの伝送システムに応用した実施例表示図であり、並びに本発明のある実施例と一致する。 図4の実施例をWDM−PON伝送システムのダウンストリーム光信号源とした実施例表示図であり、並びに本発明のある実施例と一致する。 図5の実施例をWDM−PON伝送システムのダウンストリーム光信号源とした実施例表示図であり、並びに本発明のある実施例と一致する。
110 E/Lブロードバンド光源 120 C−ブロードバンド光源
140 局側 150 使用者側
300、310 レーザー装置 301−30n FP−LD
311−31n 偏波コントローラ 320 光フィルタ
330 ファイバミラー 350 注入レーザー光波源
510 セルフ注入式のFP−LDの出力光スペクトラム
520 非セルフ注入式のFP−LDの出力光スペクトラム
610 複数のFP−LDを準備し並びに光フィルタの対応するろ波モードに整合させ、各自に光スペクトラムを出力させる
620 各FP−LDの出力する光スペクトラムをろ波する
630 ろ波した複数の該光スペクトラムを反射して該複数のFP−LDに進入させる
640 各FP−LDに連続光シングル縦モード形式で各自の光スペクトラムを出力させそれを注入レーザー光波源となす
700、710 伝送システム
720 ダウンストリームレーザー光源
750 エルビウムドープファイバ増幅器
760 使用者側のユニット
800、810 WDM−PONの伝送システム

Claims (21)

  1. ファブリー・ペロ・レーザーダイオードを基礎とするレーザー装置において、該レーザー装置は、
    指定周波数帯内にある光スペクトラムをそれぞれが出力する、複数のFP−LDと、
    可変帯域通過フィルタ或いはアレイ導波路回折格子のいずれかとされて各FP−LDの出力する光スペクトラムをろ波する、光フィルタと、
    ろ波された各該光スペクトラムを反射して複数の該FP−LDに進入させる、少なくとも一つのファイバミラーと、
    を包含し、該複数のFP−LDが該光フィルタの対応するろ波モードに整合されて各自の該光スペクトラムを出力し、該ファイバミラーからの反射光を受けて、各該FP−LDがそれぞれに連続光波を出力して注入レーザー光波源とすることを特徴とする、ファブリー・ペロ・レーザーダイオードを基礎とするレーザー装置。
  2. 請求項1記載のファブリー・ペロ・レーザーダイオードを基礎とするレーザー装置において、該連続光波はシングル縦モード形式の光波であることを特徴とする、ファブリー・ペロ・レーザーダイオードを基礎とするレーザー装置。
  3. 請求項1記載のファブリー・ペロ・レーザーダイオードを基礎とするレーザー装置において、該レーザー装置はセルフ注入式のレーザー装置であることを特徴とする、ファブリー・ペロ・レーザーダイオードを基礎とするレーザー装置。
  4. 請求項1記載のファブリー・ペロ・レーザーダイオードを基礎とするレーザー装置において、該レーザー装置は波長分割多重パッシブ光ネットワークの伝送システムに応用されることを特徴とする、ファブリー・ペロ・レーザーダイオードを基礎とするレーザー装置。
  5. 請求項1記載のファブリー・ペロ・レーザーダイオードを基礎とするレーザー装置において、各該FP−LDの前端面の反射率が略45%であることを特徴とする、ファブリー・ペロ・レーザーダイオードを基礎とするレーザー装置。
  6. 請求項1記載のファブリー・ペロ・レーザーダイオードを基礎とするレーザー装置において、該レーザー装置が更に複数の偏波コントローラを具え、各該偏波コントローラが該FP−LDに接続され、各該偏波コントローラがそれに接続された該FP−LDの偏振状態を制御することを特徴とする、ファブリー・ペロ・レーザーダイオードを基礎とするレーザー装置。
  7. 請求項4記載のファブリー・ペロ・レーザーダイオードを基礎とするレーザー装置において、該波長分割多重パッシブ光ネットワークの伝送システムが該レーザー装置をその注入光源として採用することを特徴とする、ファブリー・ペロ・レーザーダイオードを基礎とするレーザー装置。
  8. 請求項4記載のファブリー・ペロ・レーザーダイオードを基礎とするレーザー装置において、該波長分割多重パッシブ光ネットワークの伝送システムが該レーザー装置をそのダウンストリーム光信号源として採用することを特徴とする、ファブリー・ペロ・レーザーダイオードを基礎とするレーザー装置。
  9. 請求項4記載のファブリー・ペロ・レーザーダイオードを基礎とするレーザー装置において、該波長分割多重パッシブ光ネットワークの伝送システムが該レーザー装置をそのアップストリームレーザー源及びダウンストリーム光信号源として採用し、並びにそれぞれ異なる周波数帯域を使用することを特徴とする、ファブリー・ペロ・レーザーダイオードを基礎とするレーザー装置。
  10. 請求項6記載のファブリー・ペロ・レーザーダイオードを基礎とするレーザー装置において、該偏波コントローラがそれに接続されたFP−LDに整合されたことを特徴とする、ファブリー・ペロ・レーザーダイオードを基礎とするレーザー装置。
  11. 請求項4記載のファブリー・ペロ・レーザーダイオードを基礎とするレーザー装置において、該波長分割多重パッシブ光ネットワークの伝送システムが無色光源の波長分割多重パッシブ光ネットワークの伝送システムであることを特徴とする、ファブリー・ペロ・レーザーダイオードを基礎とするレーザー装置。
  12. 請求項4記載のファブリー・ペロ・レーザーダイオードを基礎とするレーザー装置において、該波長分割多重パッシブ光ネットワークの伝送システムが反射式半導体光増幅器を基礎とする波長分割多重パッシブ光ネットワークの伝送システムであることを特徴とする、ファブリー・ペロ・レーザーダイオードを基礎とするレーザー装置。
  13. ファブリー・ペロ・レーザーダイオードを基礎とするレーザー装置において、伝送システム中の局側に応用され、該局側にアップストリームレーザー光源とダウンストリームレーザー光源が設けられ、このレーザー装置は、
    光スペクトラムをそれぞれが出力する、複数のFP−LDと、
    可変帯域通過フィルタ或いはアレイ導波路回折格子のいずれかとされて各FP−LDの出力する光スペクトラムをろ波する、光フィルタと、
    ろ波された各該光スペクトラムを反射して複数の該FP−LDに進入させる、少なくとも一つのファイバミラーと、
    を包含し、該複数のFP−LDが該光フィルタの対応するろ波モードに整合されて各自の該光スペクトラムを出力し、該ファイバミラーからの反射光を受けて、各該FP−LDが連続光シングル縦モード形式でそれぞれの対応する光スペクトラムを出力し、並びに該局側が異なる周波数帯域を使用することで該レーザー装置をアップストリーム用及びダウンストリーム用レーザー装置とすることを特徴とする、ファブリー・ペロ・レーザーダイオードを基礎とするレーザー装置。
  14. 請求項13記載のファブリー・ペロ・レーザーダイオードを基礎とするレーザー装置において、該レーザー装置は波長分割多重パッシブ光ネットワークの伝送システムであることを特徴とする、ファブリー・ペロ・レーザーダイオードを基礎とするレーザー装置。
  15. 請求項13記載のファブリー・ペロ・レーザーダイオードを基礎とするレーザー装置において、各該FP−LDの前端面の反射率が略45%であることを特徴とする、ファブリー・ペロ・レーザーダイオードを基礎とするレーザー装置。
  16. 請求項13記載のファブリー・ペロ・レーザーダイオードを基礎とするレーザー装置において、各FP−LDが対応する偏波コントローラに接続され、該偏波コントローラにより該FP−LDの偏振状態が制御されることを特徴とする、ファブリー・ペロ・レーザーダイオードを基礎とするレーザー装置。
  17. 請求項14記載のファブリー・ペロ・レーザーダイオードを基礎とするレーザー装置において、該局側がWDMカプラーでアップストリームとダウンストリームのレーザー光源を分離することを特徴とする、ファブリー・ペロ・レーザーダイオードを基礎とするレーザー装置。
  18. ファブリー・ペロ・レーザーダイオードを基礎とするレーザー装置のセルフ注入方法において、この方法は、
    複数のFP−LDを準備し並びに可変帯域通過フィルタ或いはアレイ導波路回折格子のいずれかとされる一つの光フィルタの対応するろ波モードに整合させ、各自の光スペクトラムを出力させるステップと、
    この複数のFP−LDがそれぞれ出力する光スペクトラムをこの光フィルタによりろ波するステップと、
    この複数のろ波された光スペクトラムをこの複数の該FP−LDに反射し進入させるステップと、
    各該FP−LDに連続光シングル縦モード形式で光スペクトラムを出力させて、注入レーザー光波源となすステップ、
    を包含することを特徴とする、ファブリー・ペロ・レーザーダイオードを基礎とするレーザー装置のセルフ注入方法。
  19. 請求項18記載のファブリー・ペロ・レーザーダイオードを基礎とするレーザー装置のセルフ注入方法において、各FP−LDに、偏波コントローラを整合して該FP−LDの偏振状態を制御することを特徴とする、ファブリー・ペロ・レーザーダイオードを基礎とするレーザー装置のセルフ注入方法。
  20. 請求項18記載のファブリー・ペロ・レーザーダイオードを基礎とするレーザー装置のセルフ注入方法において、異なる或いは同じモード間距離のFP−LDを選択することで、マルチ波長のCW出力を保証することを特徴とする、ファブリー・ペロ・レーザーダイオードを基礎とするレーザー装置のセルフ注入方法。
  21. 請求項18記載のファブリー・ペロ・レーザーダイオードを基礎とするレーザー装置のセルフ注入方法において、該連続光シングル縦モード形式で出力される光スペクトラムを増幅するか否かを判断してから、注入するレーザー光波源となすことを特徴とする、ファブリー・ペロ・レーザーダイオードを基礎とするレーザー装置のセルフ注入方法。
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