JP4883210B2 - 光情報記録媒体 - Google Patents
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記録信号光と参照光とが照射された場合に、照射された記録信号光あるいは参照光と、反
射層により反射された記録信号光あるいは参照光との間の干渉により発生する情報の記録
ノイズを効果的に抑制する光情報記録媒体に関する。
れた光情報を再生する光情報記録再生技術が開発されている。この光情報記録再生技術で
は、レーザ光源から出射された光束が振幅分割あるいは波面分割により2つの光束に分離
される。そして、一方の光束が空間光変調素子により光強度変調あるいは光位相変調され
て記録したい情報を含んだ記録信号光が生成され、他方の光束は参照光として用いられる
。
2つの光束が絞り込まれ、記録媒体上の光束の焦点近傍において2つの光束の回折による
干渉効果により発生した干渉パターンが光情報として記録媒体に記録される。また、情報
の再生時には、参照光が記録媒体に照射され、干渉パターンが読み取られることにより情
報が再生される。
ぞれ独立な光学系を用意する必要があるため装置を小型化することが難しく、また、装置
に振動が与えられると2つの光束の光軸がずれてしまい、情報の記録再生の安定性が低く
なるという欠点があった。
よって記録信号光および参照光を形成し、その記録信号光および参照光を共通の結像光学
系によってフーリエ変換して記録媒体に情報を記録する光記憶方法が開示されている(た
とえば、特許文献1を参照)。
交する記録信号光および参照光を生成し、記録信号光および参照光の偏光状態を相互に逆
周りとなる円偏光に変換し、円偏光に偏光状態が変換された記録信号光および参照光を記
録媒体に照射することにより情報を記憶する光記録装置が開示されている(たとえば、特
許文献2を参照)。
することができるが、情報を正確に記憶することが難しいという問題が依然として残って
いた。
は、記録媒体において情報を記録する記録層を透過した後、反射層により反射され、再度
記録層を透過する。同様に、参照光の反射光も反射層により反射されるので参照光の反射
光どうしの透過型干渉パターンが形成され、記録層にノイズが記録されてしまう。
中心としてみた場合に非対称となるように成形する光情報記録装置が開示されている(た
とえば、特許文献3を参照)。
形成されることを抑制することができるものの、反射層により反射された記録信号光と記
録層に照射された参照光との間や、記録層に照射された記録信号光と反射層により反射さ
れた参照光との間で反射型干渉パターンが形成され、多重記録の原因となり、複雑なノイ
ズが生じてしまうという問題があった。
ように成形しただけでは不十分であり、参照光および記録信号光の両方の光束の干渉につ
いて考慮することが必要となってくる。
された記録信号光あるいは参照光と、反射層により反射された記録信号光あるいは参照光
との間の干渉により発生する情報の記録ノイズをいかに効果的に抑制することができるか
が重要な問題となっている。
合に、照射された記録信号光あるいは参照光と、反射層により反射された記録信号光ある
いは参照光との間の干渉により発生する情報の記録ノイズを効果的に抑制する光情報記録
媒体を提供することを目的とする。
り情報を記録する光情報記録媒体であって、前記情報を記録する記録層と、前記記録層を
透過してきた光束を反射する反射層と、前記記録層と前記反射層との間に設けられ、当該
反射層により反射される前の光束と、当該反射層により反射された後の光束との間の干渉
により形成される干渉パターンが自層内で形成されるように設定された厚みを有する保護
層と、を備えたことを特徴とする。
光束の干渉により情報を記録することを特徴とする。
光束の干渉により情報を記録することを特徴とする。
光された光束であり、前記記録層の厚みは、当該光束が干渉する領域の大きさに基づいて
設定されることを特徴とする。
光された光束であり、前記保護層の厚みは、当該光束の遮光された中央部分の大きさに基
づいて設定されることを特徴とする。
られ、情報の記録あるいは再生を制御する制御情報を記録した凹凸を有することを特徴と
する。
光束の干渉により前記記録層内に形成された干渉パターンの位置に重ならない方向に光束
を反射することを特徴とする。
光束と、当該反射層により反射された後の光束の干渉により前記記録層内に形成される干
渉パターンの位置とが重ならない方向に当該光束を反射し、当該記録層内に干渉パターン
を形成させることを特徴とする。
半透明の材料により複数層形成され、前記記録層には各反射層間の距離を離して複数の干
渉パターンが形成されることを特徴とする。
射面間の間隔が記録層の厚み以下とすることを特徴とする。
定の間隔離れていることを特徴とする。
同一であることを特徴とする。
記記録層との間に光束の一部を透過し、一部を反射する反射層をさらに備えたことを特徴
とする。
光束を反射する反射層と、記録層と反射層との間に設けられ、当該反射層により反射され
る前の光束と、当該反射層により反射された後の光束との間の干渉により形成される干渉
パターンが自層内で形成されるように設定された厚みを有する保護層とを備えることとし
たので、記録信号光あるいは参照光となる光束が照射された場合に、照射された光束と、
反射層により反射された光束との間の干渉により発生する情報の記録ノイズを効果的に抑
制することができるという効果を奏する。
を記録することとしたので、反射層により反射される前の光束により透過型干渉パターン
を形成する光情報記録媒体を構成することができるという効果を奏する。
を記録することとしたので、反射層により反射された後の光束により透過型干渉パターン
を形成する光情報記録媒体を構成することができるという効果を奏する。
り、記録層の厚みは、当該光束が干渉する領域の大きさに基づいて設定されることとした
ので、記録信号光あるいは参照光となる光束が照射された場合に、照射された光束と、反
射層により反射された光束との間の干渉により発生する情報の記録ノイズを効果的に抑制
するとともに、情報が確実に記録層に記録できるよう記録層の厚みを適切に設定すること
ができるという効果を奏する。
り、保護層の厚みは、当該光束の遮光された中央部分の大きさに基づいて設定されること
としたので、記録信号光あるいは参照光となる光束が照射された場合に、照射された光束
と、反射層により反射された光束との間の干渉により発生する情報の記録ノイズを効果的
に抑制するよう保護層の厚みを適切に設定することができるという効果を奏する。
あるいは再生を制御する制御情報を記録した凹凸を有することとしたので、反射層により
光束が反射される際に効率よく制御情報を読み取ることができるという効果を奏する。
記録層内に形成された干渉パターンの位置に重ならない方向に光束を反射することとした
ので、反射層により反射される前の光束により透過型干渉パターンを形成する光情報記録
媒体に対して光束が照射された場合に、照射された光束と、反射層により反射された光束
との間の干渉により発生する情報の記録ノイズを効果的に抑制することができるという効
果を奏する。
層により反射された後の光束の干渉により記録層内に形成される干渉パターンの位置とが
重ならない方向に当該光束を反射し、当該記録層内に干渉パターンを形成させることとし
たので、反射層により反射された後の光束により透過型干渉パターンを形成する光情報記
録媒体に対して光束が照射された場合に、照射された光束と、反射層により反射された光
束との間の干渉により発生する情報の記録ノイズを効果的に抑制することができるという
効果を奏する。
り複数層形成され、記録層には各反射層間の距離を離して複数の干渉パターンが形成され
ることとしたので、光情報記録媒体に対する情報の記録再生をおこなう装置がサーボ機構
を利用して、各反射層および記録層の干渉パターンの記録位置に焦点を容易に合わせるこ
とができ、情報の記録再生を容易におこなうことができるとともに、記録層における情報
の記録密度を向上させることができるという効果を奏する。
が記録層の厚み以下とすることとしたので、光情報記録媒体に対する情報の記録再生をお
こなう装置がサーボ機構を利用して、記録層内に干渉パターンを適切に記録し、また、記
録層内に記録された干渉パターンを適切に再生することができるという効果を奏する。
ることとしたので、記録層に干渉パターンを適切に記録し、また、記録層内に記録された
干渉パターンを適切に再生することができるという効果を奏する。
ので、保護層と記録層との界面における光束の反射を抑制し、光束の不要な干渉を防止す
ることができるという効果を奏する。
の一部を透過し、一部を反射する反射層をさらに備えたこととしたので、制御情報を記録
した凹凸を有する反射層により反射される光束の光強度が弱められ、その光束の影響によ
り発生する記録ノイズを低減することができるという効果を奏する。
記録層、保護層および反射層が積層された構造となっている。記録層は、記録信号光と参
照光との間の干渉効果により発生した干渉パターンを光情報として記録する役割を有する
。保護層は、記録層を傷などから保護する役割を有する。反射層は、光情報記録媒体に照
射された光束を反射する役割を有する。
た記録信号光と記録層に入射してくる参照光、あるいは、記録層に入射してくる記録信号
光と反射層により反射された参照光とが記録層内において反射型干渉パターンを形成して
しまい、記録ノイズが発生する。
生するように保護層の厚みを適切に調整し、上記記録ノイズの発生を抑えるようにする。
以下に、この光情報記録媒体について詳細に説明する。
た光束を2つの光束に分離するのではなく、単一の光源から出射された光束の空間的な光
強度のバイアスレベルを変化させることにより記録信号光および参照光を生成する光情報
記録再生装置を用いて、光情報記録媒体に光情報を記録する場合について説明する。
再生装置に限定されるものではなく、単一の光源から出射された光束を2つの光束に分離
して記録信号光および参照光を生成する装置であってもかまわない。
調素子10について説明する図である。図1に示すように、この空間光変調素子10は、
セグメント11とセグメント境界12とを有する。また、図1には、空間光変調素子10
と、光束を空間光変調素子10に収束させるコリメータレンズのレンズ開口13との間の
関係が示されている。
る遮光板(図示せず)に覆われるため、空間光変調の役割をなさないので、その部分のセ
グメント11は不要となる。この遮光板については後に詳しく説明する。
液晶素子あるいは屈折率異方性が電気的に変化する電気光学素子で形成されているため、
各セグメント11に電圧を印加することにより、各セグメント11は、透過光あるいは反
射光の強度が高いONセグメント14、あるいは、透過光あるいは反射光の強度が低い(
0ではない)OFFセグメント15に状態が変化する。
強度の変調状態を示す図である。また、図2は、記録信号光および参照光の概念について
説明している。
加電圧をB(B>A)とし、各セグメント11に印加電圧AおよびBを交互に印加した場
合が示されている。本実施例においては、光源となるレーザ光が空間光変調素子10を透
過するだけで、記録信号光と参照光とが重ね合わせの状態で生成されることに大きな特徴
がある。
子10を用いて生成される光束は、以下に説明する原理により、光束の全面が参照光であ
り、全面が記録情報に応じて光強度変調が可能な記録信号光となる。そして、その光束は
、光情報記録媒体の記録層内において、光束を収束させる対物レンズの焦点近傍で回折干
渉し、参照光と記録信号光とが3次元的に回折干渉した回折干渉パターンが記録される。
およびh)により生成される干渉パターンが、参照光(光強度成分p)と記録信号光(光強
度成分q, r および s)とから生成される回折干渉パターンと等価であることを示して
いる。
回折が発生する。そして、バビネの原理により、空間光変調素子10の各セグメント11
の光強度成分を、各光強度成分の積分領域で独立にフーリエ変換し、それらを互いに加算
したものは、全体のセグメント11の光強度成分を全体の積分領域でフーリエ変換したも
のに等しいこと、および、フーリエ変換における線形性とから、図3の例における回折干
渉パターンは以下のように表すことができる。
=F(a)+F(b)+F(c)+F(d)+F(e)+F(f)+F(g)+F(h)
=F(a)+F(2q)+F(c)+F(2r)+F(e)+F(f)+F(2s)+F(h)
=F(a)+2F(q)+F(c)+2F(r)+F(e)+F(f)+2F(s)+F(h)
=F(a)+F(1/2 b)+F(q)+F(c)+F(1/2 d)+F(r)+F(e)+F(f)+F(1/2 g)+F(s)+F(h)
=F(a)+F(1/2 b)+F(c)+F(1/2 d)+F(e)+F(f)+F(1/2 g)+F(h)+F(q)+F(r)+F(s)
るため、
q=1/2 b,
r=1/2 d,
s=1/2 g
としている。
p=a+1/2 b+c+1/2 d+e+f+1/2 g+h
とすると、バビネの原理とフーリエ変換の線形性とにより、
F(a)+F(1/2 b)+F(c)+F(1/2 d)+F(e)+F(f)+F(1/2 g)+F(h)=F(p)
であるから、
回折干渉パターン
=F(p)+(F(q)+F(r)+F(s))
=F(p)+F(q+r+s)
となる。
平面を含む焦点近傍の3次元空間において参照光と記録信号光とによる強い回折干渉パタ
ーンが現れる。
折干渉パターンの強度は極めて弱く、記録材料の感度との関係によって収束点近傍でのみ
回折干渉パターンが記録される。
情報記録用の光束の光強度レベルについて説明する。図4−1は、セグメント境界12の
光の透過率がセグメント11の光の透過率よりも大きい場合の光束の光強度プロファイル
を示す図であり、図4−2は、セグメント境界12をマスクした場合の光束の光強度プロ
ファイルを示す図であり、図4−3は、セグメント境界12の光の透過率がセグメント1
1の光の透過率と等しい場合の光束の光強度プロファイルを示す図である。
率よりも大きい場合には、全セグメント11に電圧Bを印加すると、セグメント境界12
の部分の光強度がその他の部分よりも大きくなる。この場合には、セグメント境界12の
部分を透過した境界参照光も、参照光の一部として用いるようにしている。
場合には、光束の光強度プロファイルは、記録信号光レベル、境界参照光レベル、および
、参照光レベルの3つの異なるレベルを有する光強度プロファイルとなる。
ト11に電圧Bを印加すると、セグメント境界12では光を通さないため、セグメント境
界12の部分で光強度が0になる。
場合には、光束の光強度プロファイルは、記録信号光レベル、境界参照光レベル、および
、光強度が0である光強度ゼロレベルの3つの異なるレベルを有する光強度プロファイル
となる。
0を透過した後回折干渉する領域は、収束レンズの焦平面を含む焦点近傍の領域にとどま
るように制御される。
の透過率と等しい場合には、全セグメント11に電圧Bを印加すると、セグメント境界1
2の部分とその他の部分とで光強度が等しくなる。この場合、セグメント11の部分を透
過した光、および、セグメント境界12の部分を透過した光の双方が参照光として用いら
れる。
場合には、光束の光強度プロファイルは、平坦な光強度プロファイルの参照光に記録信号
光が重畳されるので、記録信号光レベル、および、参照光レベルの2つの異なるレベルを
有する光強度プロファイルとなる。この場合は、参照光が単純な光強度プロファイルとな
るので、記録ノイズの発生を抑制することができる。
る。図5は、図1に示した空間光変調素子10の構成について説明する図である。図5に
示すように、互いに張り合わされた空間光強度変調素子20、および、光学位相補正素子
21に光束を透過させることにより、記録信号光と参照光とが生成される。
。また、光学位相補正素子21は、TFT(Thin Film Transistor)型の液晶素子によ
り構成される。本実施例では、空間光強度変調素子20と光学位相補正素子21とを液晶
素子により構成する場合について説明するが、電気光学素子を用いる場合においても、本
実施例と同様の考え方を適用することができる。
うにセグメント境界12により各セグメント11に分けられており、空間光強度変調素子
20および光学位相補正素子21の各セグメント11は、光束が透過する領域を互いに共
有するように配置されている。
強度変調素子20が光束の光強度のみを変調する場合は問題はないが、物質の屈折率の異
方性を利用する液晶素子のような光学素子の場合、光学位相が必ず変化してしまう。
変化してしまうため、参照光の光学位相がセグメントのON・OFFの組み合わせで常時
変化することになり、参照光として機能しなくなる。
の周りに参照光を生成するセグメントを配置するなどして、記録信号光を生成するセグメ
ントと参照光を生成するセグメントとを完全に独立させた場合には、光強度を変調する場
合に光学位相に変化が生じても問題はないが、記録信号光を生成するセグメント領域が減
少するため、情報の記録密度が低下することになる。
ことにより生じた光学位相の変化を補正する。具体的には、光学位相は空間光強度変調素
子20に印加された電圧に応じて変化するので、光学位相補正素子21は、情報記録時に
空間光強度変調素子20に照射されるレーザーのレーザーパワーが変更される場合などに
、空間光強度変調素子20の光学位相特性に合わせて光学位相を補正する。
圧に対する光学位相特性を光情報記録再生装置に組み込む前にあらかじめ調べておき、そ
の光学位相特性の情報を光情報記録再生装置に備えられたメモリに記憶させ、それを読み
出して利用することにより容易におこなうことができる。
いては、一般的なTN型の液晶素子を用いるため、構成の詳しい説明は省略する。図6は
、光学位相補正素子21の構成について説明する図である。
、ガラス基板33および偏光板34を有する。ここで、空間光強度変調素子20であるT
N型の液晶素子を透過した光束の偏光状態は直線偏光であり、この直線偏光の偏光方向に
ガラス基板31に貼り合わされた偏光板30の光束の透過軸は一致している。
スTFTセグメント31aが形成されている。さらに、ガラス基板33には、偏光板34
が貼り合わされており、偏光板34の光束の透過軸の方向は、偏光板30の光束の透過軸
の方向と一致している。
31aの対極であるTFT対極33aが形成されている。さらに、ガラス基板31および
ガラス基板33の内側表面には、ポリイミドなどの配向剤をラビング処理した配向膜処理
がなされており、液晶分子は偏光板30および偏光板34の光束の透過軸に一致するよう
に配向している。
ト単位でTFT駆動することにより、一方向に液晶分子の向きが揃った状態で液晶分子の
傾きを制御することができ、屈折率異方性と光学位相との間の関係から、光学位相補正素
子21を透過する光束の光学位相を自在に調整でき、空間光強度変調素子20が光束の光
強度を変調することにより生じた光学位相のずれを補正することが可能になる。
であり、図7−2は、光学位相補正素子21がON状態にある場合の液晶分子の状態を示
す図である。
素子21のセグメントに電圧が印加されていない場合には、液晶分子35はラビング処理
および配向膜処理により決定された方向に配向している。
相補正素子21のセグメントに電圧が印加された場合には、液晶分子35の配向方向が変
化し、それに伴って屈折率異方性が変化する。このようにして、屈折率異方性を変化させ
ることにより光束の光学位相のずれを補正することができる。
とは、1対1に対応するよう上下に配置されている。そして、記録情報に応じて光強度変
調をおこなうため、空間光強度変調素子20の各セグメントがONまたはOFF状態にさ
れるのに同期させて、各セグメントに対応する光学位相補正素子21のセグメントがON
またはOFF状態にされ、光学位相補正素子21を透過する光束の光学位相が全面にわた
って一定になるように制御される。
のセグメントに対応する光学位相補正素子21のセグメントのみを駆動させ、記録信号光
の光学位相を参照光の光学位相に合わせる方法や、空間光強度変調素子20の最大あるい
は最小の透過率レベルにおける光学位相を基準とし、その光学位相に記録信号光および参
照光の光学位相を合わせる方法などがある。
いて説明する。図8は、空間光強度変調素子20に印加する印加電圧と光束の透過率との
間の関係を示す図である。
するセグメントの光束の透過率が、参照光を生成するセグメントの光束の透過率よりも大
きくなるよう、参照光を生成するセグメントに印加する電圧Bよりも小さな電圧Aを記録
信号光を生成するセグメントに印加する。
例に係る光情報記録再生装置の構成を示す図である。図9に示すように、この光情報記録
再生装置は、エンコーダ40、記録信号発生器41、空間光変調素子駆動装置42、コン
トローラ43、レーザ駆動装置44、短波長レーザ光源45、コリメータレンズ46、空
間光強度変調素子20、光学位相補正素子21、ダイクロイックキューブ47、ハーフミ
ラーキューブ48、対物レンズ49、長波長レーザ光源51、コリメータレンズ52、ハ
ーフミラーキューブ53、検出レンズ54、フォトディテクタ55、CMOS(Compleme
ntary Metal Oxide Semiconductor)センサ56、増幅器57、デコーダ58、再生出
力器59を有する。
出射する。この光強度の調整は、コントローラ43により制御されるレーザ駆動装置44
によりなされる。
に伝播する平行光に変換され、空間光強度変調素子20と光学位相補正素子21とから構
成される空間光変調素子10に入射する。
ローラ43の制御のもと、受け付けた記録情報をデジタルデータとしてコード化する。記
録信号発生器41は、エンコーダ40によりコード化された記録信号を、コントローラ4
3の制御のもと、ページデータに変換し、空間光変調素子駆動装置42に順次送信する。
の各セグメントに電圧を独立に印加することにより各セグメントを同期を取って駆動させ
、空間光強度変調素子20を制御して光束の光強度変調をおこなわせるとともに、光学位
相補正素子21を制御して光強度変調がなされた光束の光学位相補正をおこなわせること
により、光軸を共有する光学位相の揃った記録信号光および参照光を生成させる。
び参照光は、長波長レーザ光を反射するダイクロイックキューブ47を透過し、さらにハ
ーフミラーキューブ48を透過して対物レンズ49に入射し、光情報を記録する光情報記
録媒体50の記録層に到達する。
の回折干渉により干渉パターンが形成され、情報が記録層に記録される。この光情報記録
媒体50については後に詳しく説明する。
ォーカス方向およびトラック方向の制御に用いられる。また、この長波長レーザ光は、ス
ピンドルモータ(図示せず)により面内で回転する光情報記録媒体50にあらかじめエン
ボスピットとして形成されたアドレス情報の再生に用いられ、このアドレス情報に基づい
て情報の記録または再生におけるアクセス制御がなされる。
ンズ52によりほぼ平行に伝播する平行光に変換される。そして、長波長レーザ光は、ハ
ーフミラーキューブ53を透過し、ダイクロイックキューブ47により反射されてハーフ
ミラーキューブ48を透過し、対物レンズ49に入射する。
させる。そして、アドレス情報やトラックエラー、フォーカスエラー信号などのサーボ情
報を含んだ長波長レーザ光は、光情報記録媒体50の反射層により反射され、対物レンズ
49、ハーフミラーキューブ48、ダイクロイックキューブ47、ハーフミラーキューブ
53、検出レンズ54を経て、サーボ情報やアドレス情報を検出するフォトディテクタ5
5に到達する。
ーラ43にアドレス情報、トラックエラー、フォーカスエラー信号が伝達される。コント
ローラ43は、フォトディテクタ55により伝達された情報に基づいて、対物レンズ49
の位置の制御をおこない、光情報記録媒体50の所定の領域に光束を収束させる。
に照射することにより再生される。この参照光は、空間光強度変調素子20および光学位
相補正素子21の各セグメントに印加する電圧を等しくすることにより生成することがで
きる。
記録信号光の波面を再生しながら、光情報記録媒体50の反射層により反射され、ハーフ
ミラーキューブ48によりCMOSセンサ56に入射する。
て、その電気信号は、増幅器57を経て、デコーダ58により復号され、再生出力器59
により再生される。
10−1は、光情報記録媒体の反射層により反射された記録信号光および参照光が記録層
において透過型干渉パターンを形成する場合の例であり、図10−2は、光情報記録媒体
の記録層に入射した記録信号光および参照光が記録層において透過型干渉パターンを形成
する場合の例である。
61、保護層62、記録層63、保護層64、反射層65、保護層66、反射層67、ポ
リカーボネート基板68から構成される。
短波長の記録信号光・参照光とが、対物レンズ49を透過して光情報記録媒体に同一の光
路で入射した場合に、ダイクロイックフィルターである反射層65により短波長の記録信
号光・参照光が反射される。
し、制御用レーザ光は、アドレス情報を保持する反射層67に収束する。実際には、記録
信号光・参照光は、反射層65により反射されるため、記録信号光・参照光は反射側の共
役な位置に収束する。
保護層64との界面における光束の反射を抑制し、光束の不要な干渉を防止するようにし
ている。
で収束・発散する場合について説明している。この場合、記録信号光および参照光が反射
層65により反射される前に記録層63にて干渉パターンを形成する。
た際、および、反射層65により反射された後再度記録層63に入射した際に透過型干渉
パターンを形成するが、記録層63に入射した記録信号光・参照光と反射層65により反
射された後再度記録層63に入射した記録信号光・参照光とが重なると反射型干渉パター
ンを形成してしまい、この反射型干渉パターンが記録ノイズとなってしまう問題がある。
過して光情報記録媒体に入射してくる記録信号光・参照光の入射光が存在するためである
。すなわち、この入射光と記録信号光・参照光が反射層65により反射された反射光とが
回折干渉し、あるいは、この入射光が反射層65により反射された反射光と記録信号光・
参照光の入射光とが回折干渉してしまうからである。
により、入射光と反射光とにより形成される反射型干渉パターンを抑制することができる
。以下では、この遮光板を配置する場合について説明する。
再生装置は、図9に示した光情報記録再生装置と、遮光板70、収束レンズ71、ピンホ
ール72、拡大レンズ73を新たに配置した点が異なる。
こととし、詳しい説明は省略する。また、図11に示した光情報記録媒体74の構造が、
図10−1あるいは図10−2に示した光情報記録媒体50の構造とは異なる。これにつ
いては後に詳しく説明する。
光束の中央部分を遮光する円形の遮光板70が配置され、空間光強度変調素子20および
光学位相補正素子21からなる空間光変調素子10の有効領域が制限される。これにより
、輪帯状の記録信号光および参照光が生成される。
変調素子10の有効領域を制限することとしてもよい。図12は、空間光変調素子80に
形成された遮光膜について説明する図である。
同様に、セグメント81とセグメント境界82とを有する。そして、各セグメント81に
電圧を印加することにより、各セグメント81は、透過光あるいは反射光の強度が高いO
Nセグメント84、あるいは、透過光あるいは反射光の強度が低い(0ではない)OFF
セグメント85に状態が変化する。
位相補正素子21のTFTを形成する際に、マスク処理をおこなうことにより容易に形成
することができる。また、遮光膜86と重なり合う部分があるセグメント81は、非変調
領域87として参照光のみを生成するものとする。
が、必ずしも円形である必要はなく、加工精度を確保できる形状であればどのような形で
もかまわない。同様に、レンズ開口83も空間光変調素子80の形状と同様に、正方形で
あってもよい。
成された記録信号光および参照光は、遮光板70により輪帯状の光束に変換され、ダイク
ロイックキューブ47、ハーフミラーキューブ48、対物レンズ49を透過して光情報記
録媒体74に入射する。
報記録媒体74の構造を示す図である。この光情報記録媒体74は、保護層90、ポリカ
ーボネート基板91、保護層92、記録層93、保護層94、反射層95、ポリカーボネ
ート基板96により構成される。
の保護層64と反射層67とを直接積層し、反射層65および保護層66を不要としてい
る。すなわち、光情報記録媒体50の保護層64は、光情報記録媒体74の保護層94と
対応しており、光情報記録媒体50の反射層67は、光情報記録媒体74の反射層95と
対応している。このように光情報記録媒体74の構成は単純なものとなっているので、生
産コストが低くなる。また、反射層95には、ポリカーボネート基板96に形成されたア
ドレス情報およびガイドトラックのプロファイルが反映されている。
された光束は、対物レンズ49、ハーフミラーキューブ48、収束レンズ71、ピンホー
ル72および拡大レンズ73を介してCMOSセンサ56に入射する。
層95は高次の回折光を発生させるため、その回折光をピンホール72を用いて遮光し、
再生時のノイズを除去するようにする。
と光情報記録媒体74の各層との間の関係について説明する。図14は、入射時に記録層
93に干渉パターンを形成する光束の光路と光情報記録媒体74の各層との間の関係を示
す図である。なお、図14においては、光情報記録媒体74の保護層90、ポリカーボネ
ート基板91、保護層92およびポリカーボネート基板96は省略している。
光100a,101aは、反射層95により反射されて、それぞれ反射光100b,10
1bとなる。実際には、入射光100a,101aの光束は、図11で説明した遮光板7
0により中央部分が遮光された輪帯状の光束となっている。
に形成された記録層93内において対物レンズ49の共役焦点近傍の3次元領域で回折干
渉し、透過型干渉パターンを形成する。ここで、共役焦点とは、記録層93内における記
録信号光および参照光の収束点のことである。
00a,101aと反射光100b,101bとの干渉により記録層93に反射型干渉パ
ターンが記録されることを防止することができる。
ターンを形成する領域が保護層94内となるように、共役焦点の位置および保護層94の
厚さを設定する。
した領域P1およびP2において反射型干渉パターンが形成されることになるが、領域P
1およびP2が保護層94内となるように保護層94の厚さを決定することにより記録層
93に反射型干渉パターンが記録されることを防止する。
録層93に記録される透過型干渉パターンの形成位置と、反射層95により反射された反
射光100b,101bの光路とを離間させることにより不要な多重干渉を抑制する。さ
らに、透過型干渉パターンは、記録層93内にのみ発生し、情報が記録層93に記録され
るので、回折効率の改善が可能となる。
により形成される透過型干渉パターンとの間の関係を示す図である。この場合には、反射
層95に到達する前の入射光が保持する記録信号光と参照光とが共役焦点近傍において回
折し、回折光が保持する記録信号光と参照光とが干渉し、透過型干渉パターンを形成する
。
せることにより、記録層93の深さ方向に複数の透過型干渉パターンを形成することも可
能であり、記録層93のトラック方向や周方向に多重化する面内多重記録と組み合わせる
とさらに数倍の記録容量を実現することができるようになる。
光学系を構成するコリメータレンズ52を前後に移動させる装置を備え、コントローラ4
3の指示によりコリメータレンズ52が移動するとともに、サーボ機構により対物レンズ
49が移動するようにする。
く、共役焦点の位置を変化させることができる。また、コリメータレンズ52を移動させ
る代わりに、コリメータレンズ46を前後に移動して共役焦点の位置を変化させることと
してもよい。
複数の透過型干渉パターンが形成された記録層93について説明する図である。図16の
例では、制御用レーザ光を用いたサーボ制御により記録層93の深さ方向に2つの透過型
干渉パターンが形成されている。
様に、制御用レーザ光を用いたサーボ制御により、透過型干渉パターンの共役焦点位置に
参照光が一致するようフォーカスオフセットを調整し、低出力の参照光を照射する。この
場合、2つの透過型干渉パターンの間では、共役焦点位置が異なり、また、回折効果によ
る参照光の位相および強度パターンが異なるため、干渉ノイズは小さい。
な保護層94の厚みを算出する算出式について説明する。図14において対物レンズ49
の半径をa、遮光板70(円形の場合)の半径をm、反射層95から共役焦点までの距離を
sとすると、図15に透過型干渉パターンとして示した、反射層95に到達する前の光束
と反射層95により反射された光束とが干渉する領域の深さdは、
d=s (a-m)/(a+m)
となる。たとえば、aが2.5mm、mが1.5mm、sが0.5mmである場合には、d=125μmとなる。
遮光板70によりマスクされたマスク部の開口数はm/fとなるので、
d=s (NA1-NA2)/(NA1+NA2),
NA1=a/f,
NA2=m/f
と表現することもできる。
4内で形成されるようにし、記録層93に反射型干渉パターンが記録されることを防止す
ることができるようになる。
、分離して記録される場合について示したが、光情報記録媒体74のトラック方向や周方
向に多重化する面内多重記録と同様に、深さ方向に透過型干渉パターンの一部が重なるよ
うに多重化して記録することもできる。
光路と光情報記録媒体74の各層との間の関係を示す図である。なお、図17においては
、光情報記録媒体74の保護層90、ポリカーボネート基板91、保護層92およびポリ
カーボネート基板96は省略している。
光110a,111aは、反射層95により反射されて反射光110b,111bとなる
。実際には、入射光110a,111aの光束は、図11で説明した遮光板70により中
央部分が遮光された輪帯状の光束となっている。
な厚さに形成された記録層93内において対物レンズ49の共役焦点近傍の3次元領域で
回折干渉し、透過型干渉パターンを形成する。ここで、共役焦点とは、記録層93内にお
ける記録信号光および参照光の収束点のことである。
を適切に選ぶことにより、入射光110a,111aと反射光110b,111bとの間
の干渉の結果、記録層93に反射型干渉パターンが記録されることを防止することができ
る。
ターンを形成する領域が保護層94内となるように、共役焦点の位置および保護層94の
厚さを設定する。
した領域P3およびP4において反射型干渉パターンが形成されることになるが、領域P
3およびP4が保護層94内となるように保護層94の厚さを決定することにより記録層
93に反射型干渉パターンが記録されることを防止する。
録層93に記録される透過型干渉パターンの形成位置と、反射層95に到達する前の入射
光110a,111aの光路とを離間させることにより不要な多重干渉を抑制する。さら
に、透過型干渉パターンは、記録層93内にのみ発生し、情報が記録層93に記録される
ので、回折効率の改善が可能となる。
光束の光路と当該光束により形成される透過型干渉パターンとの間の関係を示す図である
。この場合には、反射層95により反射された後の反射光が保持する記録信号光と参照光
とが共役焦点近傍において回折し、回折光が保持する記録信号光と参照光とが干渉し、透
過型干渉パターンを形成する。
せることにより、記録層93の深さ方向に複数の透過型干渉パターンを形成することも可
能であり、記録層93の面内多重記録と組み合わせるとさらに数倍の記録容量を実現する
ことができるようになる。
光学系を構成するコリメータレンズ52を前後に移動させる装置を備え、コントローラ4
3の指示によりコリメータレンズ52が移動するとともに、サーボ機構により対物レンズ
49が移動するようにする。
く、共役焦点の位置を変化させることができる。また、コリメータレンズ52を移動させ
る代わりに、コリメータレンズ46を前後に移動して共役焦点の位置を変化させることと
してもよい。
複数の透過型干渉パターンが形成された記録層93について説明する図である。図19の
例では、制御用レーザ光を用いたサーボ制御により記録層93の深さ方向に2つの透過型
干渉パターンが形成されている。
様に制御用レーザ光を用いたサーボ制御により、透過型干渉パターンの共役焦点位置に参
照光が一致するようフォーカスオフセットを調整し、低出力の参照光を照射する。この場
合、2つの透過型干渉パターンの間では、共役焦点位置が異なり、また、回折効果による
参照光の位相および強度パターンが異なるため、干渉ノイズは小さい。
射光を用いて情報を記録する場合の保護層94の厚みの算出式と同様である。すなわち、
図17〜図19の場合にも、保護層94の厚さをd以上にすることにより、反射型干渉パ
ターンが保護層94内で形成されるようにし、記録層93に反射型干渉パターンが記録さ
れることを防止することができるようになる。
、分離して記録される場合について示したが、光情報記録媒体74のトラック方向や周方
向に多重化する面内多重記録と同様に、深さ方向に透過型干渉パターンの一部が重なるよ
うに多重化して記録することもできる。
0a,101aのみ、あるいは、反射光110b,111bのみで透過型干渉パターンを
形成することができるので、複雑な多重記録の影響が無く、低ノイズの記録再生が可能で
ある。
れている場合でも、参照光の方向は常に一定であるので、反射層95の凹凸により参照光
のパターンが変調されたとしても、その変調されたパターンは常に安定しており、多重干
渉せず、干渉パターンを安定的に形成することができる。
て、従来の光情報記録媒体のように、制御用レーザ光を透過し、記録信号光および参照光
は反射するような特別な光学膜を備える必要をなくすことができる。
および参照光とを同一の光源から生成する場合について説明する。図20は、制御用レー
ザ光と記録信号光および参照光とを同一の光源から生成する光情報記録再生装置の光学系
の構成を示す図である。
/2波長板122、偏光ビームスプリッタ123、空間光強度変調素子20、光学位相補
正素子21、遮光板70、ハーフミラーキューブ124、偏光ビームスプリッタ125、
対物レンズ126、収束レンズ127、ピンホール128、拡大レンズ129、CMOS
センサ130、反射ミラー131、光強度調整素子132、1/2波長板133、収束レ
ンズ134、拡大レンズ135、ハーフミラーキューブ136、検出レンズ137、フォ
トディテクタ138を有する。
は、コリメータレンズ121を透過し、1/2波長板122の結晶光軸に対して傾いた状
態で1/2波長板122に入射する。
で偏光ビームスプリッタ123に入射し、P偏光成分の光束とS偏光成分の光束とに分離
される。ここで、P偏光成分の光束およびS偏光成分の光束の光強度は、1/2波長板1
22の傾きを調整することにより自由に調整できる。
子20、光学位相補正素子21、遮光板70、ハーフミラーキューブ124、偏光ビーム
スプリッタ125および対物レンズ126を透過して光情報記録媒体74に入射し、干渉
パターンを形成することにより光情報記録媒体74に情報を記録する。
光であるP偏光の光束を照射し、光情報記録媒体74により反射された光束は、対物レン
ズ126、偏光ビームスプリッタ125、ハーフミラーキューブ124、収束レンズ12
7、ピンホール128および拡大レンズ129を介してCMOSセンサ130に入射する
。その後、CMOSセンサ130に入射した光束は電気信号に変換されて、増幅処理およ
びデコード処理がなされ、光情報記録媒体74に記憶された情報が再生される。
る。このS偏光成分の光束は、偏光ビームスプリッタ123から出射された後、反射ミラ
ー131により反射され、記録時あるいは再生時におけるS偏光成分の光束の光強度を最
適化する光強度調整素子132に入射する。
調整素子132の光束の入射側に備えられた偏光板の偏光透過軸と、S偏光成分の光束の
偏光面とを一致させる。さらに、光強度調整素子132から光束が出射する際にP偏光に
偏光状態が変換された光束の偏光状態をS偏光に戻すため、1/2波長板133等の偏光
面回転素子を光学系に備えることとする。
35を透過して、ハーフミラーキューブ136により反射され、偏光ビームスプリッタ1
25に入射する。
5により反射され、対物レンズ126を透過して光情報記録媒体74に入射する。その後
、S偏光成分の光束は、図13に示したような光情報記録媒体74の反射層95により反
射され、対物レンズ126、偏光ビームスプリッタ125、ハーフミラーキューブ136
、検出レンズ137を透過し、アドレス情報やトラックエラー、フォーカスエラー信号な
どのサーボ情報を検出するフォトディテクタ138により電気信号に変換される。
なうコントローラに伝達される。対物レンズ126の位置の制御は、その情報に基づいて
おこなわれ、このような制御により光情報記録媒体74の所定の領域に光束を収束させる
ことができるようになる。
御用に用いられるS偏光成分の光束の偏光面とは直交している。すなわち、P偏光成分の
光束とS偏光成分の光束とでは干渉が起こらないので、光情報記録媒体74の記録層に不
要な干渉パターンを記録することがないという利点がある。
より、P偏光成分の光束が収束する位置とS偏光成分の光束が収束する位置とを自由に決
めることができるようになる。
る反射層95が1つだけ設けられた場合について説明したが、このような反射層95は複
数あってもよい。
を有する光情報記録媒体について説明する図である。この光情報記録媒体は、保護層14
0、ポリカーボネート基板141、保護層142、記録層143、保護層144、反射層
145、透明樹脂146、反射層147、ポリカーボネート基板148により構成される
。
半透明であり、照射されるサーボ制御用のレーザ光の一部を透過し、また、一部を反射す
る。
り、反射層145と同様にアドレス情報およびガイドトラックのプロファイルを保持して
いる。
報と連続しており、たとえば、反射層145が1〜50,000のアドレス情報を保持し
ている場合は、反射層147は、50,001〜100,000のアドレス情報を保持す
るようにする。
ーザ光の焦点位置が反射層145または反射層147の表面にくるよう制御することによ
り、記録信号光および参照光の共役焦点の位置も変わり、図16および図19に示したよ
うな2つの透過型干渉パターンを、記録層143の異なる位置に透明樹脂146の厚さ分
だけ離して形成することができるようになる。
145,147の数はそれ以上であってもかまわない。この場合には、記録層143に透
過型干渉パターンを深さ方向に反射層145,147の数だけ形成することができる。
透過型干渉パターンの深さ方向の長さをwとすると、記録層143に最低必要とされる厚
さtは、透過型干渉パターンの多重化ができる(重なりが存在可能である)ものとして、
t=(n-1) k+w
と表される。たとえば、kが50μm、nが2、wが100〜150μmである場合には、t=150μm〜20
0μmとなり、記録層133は150μm〜200μm以上の厚さにする必要があることがわかる。
報記録再生装置を用いておこなうことができる。この光情報記録再生装置では、サーボ制
御用のレーザ光の波長と、透過型干渉パターンを形成するレーザ光の波長とは同じである
が、レーザ光の偏光面は互いに直交しているため、干渉することがない。
互いに干渉し、干渉パターンを形成するが、このレーザ光の光強度は、図20に示した光
強度調整素子132により光情報記録媒体の記録層143に用いられる記録材料の感度以
下に制御されるため、記録層143に干渉パターンは記録されない。
ドトラックのプロファイルを保持した反射層145,146が複数あるので、図20に示
した収束レンズ134および拡大レンズ135を移動して記録層143内の共役焦点を調
整する必要がないため、収束レンズ134および拡大レンズ135は省くこととしてもよ
い。
図16に示したような入射光を用いて情報を記録する方法と、図19に示したような反射
光を用いて情報を記憶する方法とを説明したが、図21に示すような光情報記録媒体を用
いる場合には、図16に示した方法の方がより好ましいといえる。なぜなら、反射層14
5または反射層147に到達する前のレーザ光を用いて情報を記録する場合には、反射層
145および反射層147の光反射の影響を受けないからである。
光の影響を受け、再生ノイズが発生するため、反射層147の影響が小さくなるよう、反
射層145の反射率を大きくし、反射層147の反射率は小さくし、反射層145の反射
強度に対する反射層147の反射強度の比を小さくするようにする。
ため、記録層143と反射層145,147との間にさらに反射層を設けることとしても
よい。
える反射層149を有する光情報記録媒体の構成を示す図である。図22に示した光情報
記録媒体が、図21に示した光情報記録媒体と異なる点は、保護層144の代わりに、保
護層144a、半透明の平らな反射層145、および、保護層144bを備えた点である
。
光束を、回折効果を利用して生成する反射層145,147により反射される記録信号光
および参照光は、光強度が光情報記録媒体の記録層143に用いられる記録材料の記録感
度に到達しない強度にまで低減され、それらの反射光により発生する記録ノイズの影響を
大幅に削減することができるようになる。
層144bの厚みの分だけ、反射層149から反射される再生に必要な参照光とは幾何光
学的に分離されるので、両者は異なる光束となり、再生ノイズの発生は抑制される。
層145および透明樹脂146の厚みの分だけ、反射層149から反射される再生に必要
な参照光とは幾何光学的に分離されるので、両者は異なる光束となり、再生ノイズの発生
は抑制される。
制御用のS偏光の光束とを偏光ビームスプリッタ123を用いて分離して利用することと
したが、図11に示した遮光板70の遮光部材を偏光変換素子に置き換えてP偏光の光束
とS偏光の光束とを生成し、利用することとしてもよい。
再生装置の光学系の構成を示す図である。図23に示すように、この光学系は、レーザ光
源150、コリメータレンズ151、1/2波長板152、空間光強度変調素子20、光
学位相補正素子21、偏光変換素子153、共役焦点変換レンズ154、ハーフミラーキ
ューブ155、偏光ビームスプリッタ156、対物レンズ157、偏光子158、収束レ
ンズ159、ピンホール160、拡大レンズ161、CMOSセンサ162、検出レンズ
163、フォトディテクタ164を有する。
レンズ151を透過し、1/2波長板152によりP偏光の光束に変換される。そして、
P偏光の光束は、空間光強度変調素子20および光学位相補正素子21に入射して、空間
光強度変調素子20および光学位相補正素子21によりP偏光の記録信号光および参照光
に変換される。
補正素子21の中央部分は、透明な光学部材だけで構成されており、セグメントごとに光
強度や光学位相を変調する機能はもたない。
1/2波長板や旋光板などの偏光変換素子に置き換えたものであり、光束の偏光方向が偏
光変換素子153を透過する前後で直交するように変換される。
であり、偏光変換素子153の部分を透過する光束の偏光状態はS偏光に変換される。こ
のS偏光の光束は、サーボ制御用の光束として用いられ、透過型干渉パターンを形成する
P偏光の光束とは偏光方向が直交するため相互作用は全くない。
物レンズ157を透過して光情報記録媒体74に入射し、干渉パターンを形成することに
より光情報記録媒体74に情報を記録する。たとえば、偏光ビームスプリッタ156には
、P偏光の光束の透過率が100%であり、S偏光の光束の透過率および反射率がそれぞ
れ50%であるものを用いることとする。
光であるP偏光の光束を照射し、光情報記録媒体74により反射された光束は、対物レン
ズ157、偏光ビームスプリッタ156、ハーフミラーキューブ155、偏光子158、
収束レンズ159、ピンホール160および拡大レンズ161を介してCMOSセンサ1
62に入射する。その後、CMOSセンサ162に入射した光束は電気信号に変換されて
、増幅処理およびデコード処理がなされ、光情報記録媒体74に記憶された情報が再生さ
れる。
は発散光に変換される。この共役焦点変換レンズ154については、後に詳しく説明する
。
タ156を透過し、対物レンズ157の働きにより、図14または図17に示したような
P偏光の光束の焦点位置とは異なる光情報記録媒体74上の位置に収束する。
り反射され、対物レンズ157、偏光ビームスプリッタ156、検出レンズ163を透過
し、アドレス情報やトラックエラー、フォーカスエラー信号などのサーボ情報を検出する
フォトディテクタ164により電気信号に変換される。
なうコントローラに伝達される。対物レンズ157の位置の制御は、その情報に基づいて
おこなわれ、このような制御により光情報記録媒体74の所定の領域に光束を収束させる
ことができるようになる。
7の制御に用いるS偏光の光束の光軸と、記録信号光および参照光であるP偏光の光束の
光軸とを同一にすることができ、装置の組み立てや調整が極めて容易になり、温度その他
の環境変化による光軸変化を解消することができ、装置の安定性を格段に向上させること
ができる。
媒体74の記録層93の記録感度以下となるように調整することにより、不要な干渉パタ
ーンが記録層93に記録されることを防止する。具体的には、偏光変換素子153の位置
に相当する偏光変換素子153と同形状(たとえば、円形状)の空間光強度変調素子20
の光束の透過部分を一体型のTFTとして形成し、その光束の透過部分を光束の透過強度
を調整する透過光強度調整領域とし、コントローラ43による制御により光束の光強度を
制御する。
示すように、この共役焦点変換レンズ154は、複数の共役焦点変換レンズ、すなわち、
図24の場合は、第1の共役焦点変換レンズ170および第2の共役焦点変換レンズ17
1を備えている。
ンズ171を一体型モールド成型により透明基板173に埋め込んで共役焦点変換レンズ
154を作成している。
ズ170および第2の共役焦点変換レンズ171がない透明基板173の部分を含めて3
段階に共役焦点の位置を変更することができる。
レンズ154を左右に移動させることにより、S偏光の光束が通過する光路上に、透明基
板173の部分、第1の共役焦点変換レンズ170または第2の共役焦点変換レンズ17
1を配置する。
い透明基板173の部分、第1の共役焦点変換レンズ170とその周りの透明基板173
の部分、第2の共役焦点変換レンズ171とその周りの透明基板173の部分の幅は、図
23に示したコリメータレンズ151の光束幅以上となるように設定する。
が移動することにより、S偏光の光束は、図13に示したような、アドレス情報やガイド
トラックのプロファイルが反映された光情報記録媒体74の反射層95に収束するように
制御され、P偏光の光束は、光情報記録媒体74の記録層93の深さ方向に3つの透過型
干渉パターンを形成するように制御される。
ファイルが反映された反射層95が1つであり、記録層93の深さ方向に3つの透過型干
渉パターンを形成する場合に極めて有効な手段となる。
トラックのプロファイルが反映された反射層145,147が複数あり、サーボ制御用の
S偏光の光束の焦点位置を反射層145または反射層147の表面にくるよう制御すると
、サーボ機構の働きによりP偏光の光束の共役焦点の位置が自動的に変化するため、共役
焦点変換レンズ154は基本的には不要となる。
束の共役焦点の位置を自由に選択することができるようになり、その結果、光情報記録媒
体の記録層143の深さ方向における透過型干渉パターンの記録位置を制御することが可
能となる。
層93と、記録層93を透過してきた光束を反射する反射層95と、記録層93と反射層
95との間に設けられ、当該反射層95により反射される前の光束と、当該反射層95に
より反射された後の光束との間の干渉により形成される干渉パターンが自層内で形成され
るように設定された厚みを有する保護層94とを備えることとしたので、記録信号光ある
いは参照光となる光束が照射された場合に、照射された光束と、反射層95により反射さ
れた光束との間の干渉により発生する情報の記録ノイズを効果的に抑制することができる
。
により情報を記録することとしたので、反射層95により反射される前の光束により透過
型干渉パターンを形成する光情報記録媒体74を構成することができる。
により情報を記録することとしたので、反射層95により反射された後の光束により透過
型干渉パターンを形成する光情報記録媒体74を構成することができる。
部分が遮光された光束であり、記録層93の厚みは、当該光束が干渉する領域の大きさに
基づいて設定されることとしたので、記録信号光あるいは参照光となる光束が照射された
場合に、照射された光束と、反射層95により反射された光束との間の干渉により発生す
る情報の記録ノイズを効果的に抑制するとともに、情報が確実に記録層93に記録できる
よう記録層93の厚みを適切に設定することができる。
部分が遮光された光束であり、保護層94の厚みは、当該光束の遮光された中央部分の大
きさに基づいて設定されることとしたので、記録信号光あるいは参照光となる光束が照射
された場合に、照射された光束と、反射層95により反射された光束との間の干渉により
発生する情報の記録ノイズを効果的に抑制するよう保護層94の厚みを適切に設定するこ
とができる。
の記録あるいは再生を制御するアドレス情報やガイドトラック情報を記録した凹凸を有す
ることとしたので、反射層95により光束が反射される際に効率よく制御情報を読み取る
ことができる。
干渉により記録層93内に形成された干渉パターンの位置に重ならない方向に光束を反射
することとしたので、反射層95により反射される前の光束により透過型干渉パターンを
形成する光情報記録媒体74に対して光束が照射された場合に、照射された光束と、反射
層95により反射された光束との間の干渉により発生する情報の記録ノイズを効果的に抑
制することができる。
、当該反射層95により反射された後の光束の干渉により記録層93内に形成される干渉
パターンの位置とが重ならない方向に当該光束を反射し、当該記録層93内に干渉パター
ンを形成させることとしたので、反射層95により反射された後の光束により透過型干渉
パターンを形成する光情報記録媒体74に対して光束が照射された場合に、照射された光
束と、反射層95により反射された光束との間の干渉により発生する情報の記録ノイズを
効果的に抑制することができる。
半透明の材料により複数層形成され、記録層143には各反射層145,147間の距離
を離して複数の干渉パターンが形成されることとしたので、光情報記録媒体に対する情報
の記録再生をおこなう装置がサーボ機構を利用して、各反射層145,147および記録
層143の干渉パターンの記録位置に焦点を容易に合わせることができ、情報の記録再生
を容易におこなうことができるとともに、記録層143における情報の記録密度を向上さ
せることができる。
145,147の反射面間の間隔が記録層143の厚み以下とすることとしたので、光情
報記録媒体に対する情報の記録再生をおこなう装置がサーボ機構を利用して、記録層14
3内に干渉パターンを適切に記録し、また、記録層143内に記録された干渉パターンを
適切に再生することができる。
から所定の間隔離れていることとしたので、記録層143に干渉パターンを適切に記録し
、また、記録層143内に記録された干渉パターンを適切に再生することができる。
こととしたので、保護層93と記録層92との界面における光束の反射を抑制し、光束の
不要な干渉を防止することができる。
録層143との間に光束の一部を透過し、一部を反射する反射層149をさらに備えたこ
ととしたので、制御情報を記録した凹凸を有する反射層145,147により反射される
光束の光強度が弱められ、その光束の影響により発生する記録ノイズを低減することがで
きる。
透過率を変化させていたが、例えば、予め定められた一つ以上のセグメントの役割を、記
録信号光を形成する役割から、様々な光強度を有する参照光を生成する役割に変更するこ
とによって、当該参照光にパスワード機能をもたせ、記録媒体50に体積記録された情報
に対する信頼性を向上させることができる。
照光でなければ、この記録媒体50、74に体積記録された光情報を読み出すことができ
ないため、複数存在する各セグメントのうち、役割を変更したセグメントの位置が判別不
能な第三者は、記録媒体50、74に記録された光情報を読み出すことができないからで
ある。
、特許請求の範囲に記載した技術的思想の範囲内において種々の異なる実施例にて実施さ
れてもよいものである。
した処理の全部または一部を手動的におこなうこともでき、あるいは、手動的におこなわ
れるものとして説明した処理の全部または一部を公知の方法で自動的におこなうこともで
きる。
やパラメータを含む情報については、特記する場合を除いて任意に変更することができる
。
のように構成されていることを要しない。すなわち、各装置の分散・統合の具体的形態は
図示のものに限られず、その全部または一部を、各種の負荷や使用状況などに応じて、任
意の単位で機能的または物理的に分散・統合して構成することができる。
合に、照射された記録信号光あるいは参照光と、反射層により反射された記録信号光ある
いは参照光との間の干渉により発生する情報の記録ノイズを効果的に抑制することが必要
な光情報記録媒体に有用である。
11,81 セグメント
12,82 セグメント境界
13,83 レンズ開口
14,84 ONセグメント
15,85 OFFセグメント
20 空間光強度変調素子
21 光学位相補正素子
30,34 偏光板
31,33 ガラス基板
31a マトリクス状TFTセグメント
32 液晶
33a TFT対極
40 エンコーダ
41 記録信号発生器
42 空間光変調素子駆動装置
43 コントローラ
44 レーザ駆動装置
45 短波長レーザ光源
46,52,121,151 コリメータレンズ
47 ダイクロイックキューブ
48,53,124,136,155 ハーフミラーキューブ
49,126,157 対物レンズ
50,74 光情報記録媒体
51 長波長レーザ光源
54,137,163 検出レンズ
55,138,164 フォトディテクタ
56,130,162 CMOSセンサ
57 増幅器
58 デコーダ
59 再生出力器
60,62,64,66,90,92,94,140,142,144,144a,1
44b 保護層
61,68,91,96,141,148 ポリカーボネート基板
63,93,143 記録層
65,67,95,145,147,149 反射層
70 遮光板
71,127,134,159 収束レンズ
72,128,160 ピンホール
73,129,135,161 拡大レンズ
86 遮光膜
87 非変調領域
100a,101a,110a,111a 入射光
100b,101b,110b,111b 反射光
120,150 レーザ光源
122,133,152 1/2波長板
123,125,156 偏光ビームスプリッタ
131 反射ミラー
132 光強度調整素子
146 透明樹脂
153 偏光変換素子
154 共役焦点変換レンズ
158 偏光子
170 第1の共役焦点変換レンズ
171 第2の共役焦点変換レンズ
172 プッシュプル機構
173 透明基板
Claims (3)
- 光束を干渉させることにより情報を記録する光情報記録媒体であって、
前記情報を記録する記録層と、
前記記録層を透過してきた光束を反射する、半透明の材料によりなる、複数層形成された反射層と、
前記記録層と前記反射層との間に設けられた保護層とを有し、
前記反射層には、光束を照射することにより読み取られ、情報の記録あるいは再生を制御するための制御情報が記録され、
前記記録層には、各反射層間の各層間の距離を離して複数の干渉パターンが形成されることを特徴とする光情報記録媒体。 - 複数の反射層のうち外側にある2つの反射層の反射面間の間隔が記録層の厚み以下とす
ることを特徴とする請求項1に記載の光情報記録媒体。 - 前記記録層は単一の層からなり、各反射層から所定の間隔離れていることを特徴とする
請求項1に記載の光情報記録媒体。
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JP2010204862A JP4883210B2 (ja) | 2010-09-13 | 2010-09-13 | 光情報記録媒体 |
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- 2010-09-13 JP JP2010204862A patent/JP4883210B2/ja not_active Expired - Fee Related
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