JP4879040B2 - Solid electrolytic capacitor - Google Patents
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- 239000003990 capacitor Substances 0.000 title claims description 56
- 239000007787 solid Substances 0.000 title claims description 29
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 88
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 88
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 37
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 34
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 33
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 33
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims description 24
- 239000010955 niobium Substances 0.000 claims description 24
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims description 13
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 claims description 9
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 238000007743 anodising Methods 0.000 claims description 6
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 4
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 105
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 14
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 14
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 12
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 11
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 7
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 6
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000004453 electron probe microanalysis Methods 0.000 description 6
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 6
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 5
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 5
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 5
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 5
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 4
- 238000013507 mapping Methods 0.000 description 4
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 4
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 4
- NROKBHXJSPEDAR-UHFFFAOYSA-M potassium fluoride Chemical compound [F-].[K+] NROKBHXJSPEDAR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- FLDCSPABIQBYKP-UHFFFAOYSA-N 5-chloro-1,2-dimethylbenzimidazole Chemical compound ClC1=CC=C2N(C)C(C)=NC2=C1 FLDCSPABIQBYKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000001741 Ammonium adipate Substances 0.000 description 3
- 235000019293 ammonium adipate Nutrition 0.000 description 3
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M Potassium chloride Chemical compound [Cl-].[K+] WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- PYLYNBWPKVWXJC-UHFFFAOYSA-N [Nb].[Pb] Chemical compound [Nb].[Pb] PYLYNBWPKVWXJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 229920001940 conductive polymer Polymers 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- AMWRITDGCCNYAT-UHFFFAOYSA-L hydroxy(oxo)manganese;manganese Chemical compound [Mn].O[Mn]=O.O[Mn]=O AMWRITDGCCNYAT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- NUJOXMJBOLGQSY-UHFFFAOYSA-N manganese dioxide Chemical compound O=[Mn]=O NUJOXMJBOLGQSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000128 polypyrrole Polymers 0.000 description 2
- 235000003270 potassium fluoride Nutrition 0.000 description 2
- 239000011698 potassium fluoride Substances 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- PUZPDOWCWNUUKD-UHFFFAOYSA-M sodium fluoride Chemical compound [F-].[Na+] PUZPDOWCWNUUKD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- DDFHBQSCUXNBSA-UHFFFAOYSA-N 5-(5-carboxythiophen-2-yl)thiophene-2-carboxylic acid Chemical compound S1C(C(=O)O)=CC=C1C1=CC=C(C(O)=O)S1 DDFHBQSCUXNBSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- -1 act as a deoxidizer Substances 0.000 description 1
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 1
- 238000002048 anodisation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 229920000767 polyaniline Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 1
- 229920000123 polythiophene Polymers 0.000 description 1
- 239000001103 potassium chloride Substances 0.000 description 1
- 235000011164 potassium chloride Nutrition 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 235000013024 sodium fluoride Nutrition 0.000 description 1
- 239000011775 sodium fluoride Substances 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
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- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
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- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
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- H01G9/004—Details
- H01G9/04—Electrodes or formation of dielectric layers thereon
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Description
本発明は、弁作用金属または弁作用金属を主成分とする合金を用いた陽極と、前記陽極が陽極酸化されて形成される誘電体層とを備えた固体電解コンデンサに関し、特に、漏れ電流の低減を図った固体電解コンデンサに関するものである。 The present invention relates to a solid electrolytic capacitor including a valve metal or an anode using a valve metal as a main component, and a dielectric layer formed by anodizing the anode. The present invention relates to a solid electrolytic capacitor that is reduced.
固体電解コンデンサは、一般的に、弁作用金属の表面に陽極酸化により誘電体層として酸化物層を形成し、その上に陰極層が形成され、さらに陰極層から陰極引出し用リードが配設された構造となっている。弁作用金属は弁作用を持つ一群の金属をいい、例えば、アルミニウム、タンタル、ニオブ、チタン等があげられる。 In general, a solid electrolytic capacitor is formed by forming an oxide layer as a dielectric layer by anodic oxidation on the surface of a valve action metal, forming a cathode layer thereon, and further providing a cathode lead lead from the cathode layer. It has a structure. The valve metal is a group of metals having a valve action, and examples thereof include aluminum, tantalum, niobium, and titanium.
しかし、これらの固体電解コンデンサは、陽極酸化による誘電体層の形成時工程において、誘電体層中に結晶性酸化物(欠陥)が形成され、誘電体層の結晶粒界においてクラックが生じる。かかる欠陥においては抵抗が小さく、欠陥を介して電流が流れるため、固体電解コンデンサとしての漏れ電流が増大するという問題があった。 However, in these solid electrolytic capacitors, crystalline oxides (defects) are formed in the dielectric layer in the step of forming the dielectric layer by anodic oxidation, and cracks are generated at the crystal grain boundaries of the dielectric layer. Such a defect has a problem that resistance is small and a current flows through the defect, so that a leakage current as a solid electrolytic capacitor increases.
前記欠陥が形成される要因としては、前記弁作用金属中に含まれる酸素の影響が考えられる。漏れ電流の抑制に対しては、例えば、特許文献1には、固体電解コンデンサの陽極用金属として、ニオブまたはタンタルに窒素を固溶している窒素含有金属が記載されている。
As a factor for forming the defect, an influence of oxygen contained in the valve metal can be considered. For suppression of leakage current, for example,
しかし、固体電解コンデンサの陽極用金属として、特許文献1に記載の窒素含有金属を用いても、依然として漏れ電流低減効果は十分ではなかった。
本発明は、以上の事情に鑑みなされたものであって、漏れ電流の小さい固体電解コンデンサを提供することを目的とする。 This invention is made | formed in view of the above situation, Comprising: It aims at providing the solid electrolytic capacitor with small leakage current.
本発明の固体電解コンデンサは、陽極と、陰極と、該陽極が陽極酸化されて形成される誘電体層とを備えた固体電解コンデンサにおいて、前記陽極は、ニオブ、アルミニウム、タンタルのいずれか又はニオブ、アルミニウム、タンタルのいずれかを主成分とする合金からなる第1金属層と、該第1金属層の表面の一部がチタン、ジルコニウム、ハフニウムのいずれかを含む第2金属層で被覆されていることを特徴とする。 The solid electrolytic capacitor of the present invention is a solid electrolytic capacitor comprising an anode, a cathode, and a dielectric layer formed by anodizing the anode, wherein the anode is any one of niobium, aluminum, tantalum, or niobium. A first metal layer made of an alloy containing aluminum, tantalum as a main component, and a part of the surface of the first metal layer is coated with a second metal layer containing any of titanium, zirconium, and hafnium. It is characterized by being.
本発明の固体電解コンデンサにおいて、好ましくは、前記第2金属層に被覆されている前記第1金属層の領域の面積が、前記第1金属層の表面積の0.5%以上10%以下である。 In the solid electrolytic capacitor of the present invention, preferably, the area of the region of the first metal layer covered with the second metal layer is not less than 0.5% and not more than 10% of the surface area of the first metal layer. .
本発明に係る固体電解コンデンサによれば、陽極酸化による誘電体層の形成時工程において、誘電体層中の欠陥の生成を抑制することができ、固体電解コンデンサの漏れ電流を低減させることができる。 According to the solid electrolytic capacitor according to the present invention, generation of defects in the dielectric layer can be suppressed in the step of forming the dielectric layer by anodic oxidation, and the leakage current of the solid electrolytic capacitor can be reduced. .
次に、本発明の実施形態に係る固体電解コンデンサを添付図面に基づいて具体的に説明する。なお、本発明の固体電解コンデンサは下記の実施形態に示したものに限定されるものではなく、その要旨を変更しない範囲において適宜変更して実施できるものである。 Next, a solid electrolytic capacitor according to an embodiment of the present invention will be specifically described with reference to the accompanying drawings. The solid electrolytic capacitor of the present invention is not limited to those shown in the following embodiments, and can be implemented with appropriate modifications within a range not changing the gist thereof.
図1は、この実施形態における固体電解コンデンサの模式的断面図である。 FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a solid electrolytic capacitor in this embodiment.
この実施形態における固体電解コンデンサにおいては、図1に示すように、陽極1は、ニオブ、アルミニウム、タンタルのいずれか又はニオブ、アルミニウム、タンタルのいずれかを主成分とする合金からなる第1金属層2と、チタン、ジルコニウム、ハフニウムのいずれかを含む第2金属層3とから構成されている。第1金属層2の表面の一部は第2金属層3により被覆されている。さらに、この陽極1から陽極リード11を延出させている。
In the solid electrolytic capacitor in this embodiment, as shown in FIG. 1, the
かかる構成によれば、第2金属層であるチタン、ジルコニウム、ハフニウムが脱酸材として作用し、第1金属層に含まれる酸素を低減することができると考えられる。したがって、陽極酸化による後述の誘電体層4の形成時においても、第1金属層中に欠陥が形成されるのを抑制することができるので、漏れ電流の小さい固体電解コンデンサを得ることができる。 According to such a configuration, it is considered that titanium, zirconium, and hafnium, which are the second metal layer, act as a deoxidizer, and oxygen contained in the first metal layer can be reduced. Therefore, even when a dielectric layer 4 described later is formed by anodic oxidation, it is possible to suppress the formation of defects in the first metal layer, so that a solid electrolytic capacitor with a small leakage current can be obtained.
図2は、前記陽極1を、図1の上部側から見た模式的上面図である。第1金属層2の表面の一部は、第2金属層3によって被覆されている。
FIG. 2 is a schematic top view of the
本実施形態においては、第2金属層3の領域は、図1及び図2に示すように、第1金属層2の両面に四角形状の領域が複数点在しているが、これに限らず、ライン状、リブ状他の形状でもよい。また、第1金属層2上の第2金属層3の配置、複数の第2金属層3の位置関係は、適宜調整することができる。さらに、第2金属層3の領域は第1金属層2上に局在させるより、分散させる方が好ましい。
In the present embodiment, as shown in FIGS. 1 and 2, the region of the
前記第2金属層に被覆されている前記第1金属層の領域の面積は、前記第1金属層の表面積の0.5%以上10%以下であるのが好ましい。0.5%未満の場合には、第1金属層中の酸素濃度を低減する効果が比較的小さいと考えられる。また、10%を超えた場合には、第2金属層表面に形成される欠陥を介した漏れ電流が大きくなるため、全体として漏れ電流低減の効果が小さくなると考えられる。しかしながら、第2金属層表面に欠陥が生じたとしても、第1金属層に欠陥が生じるのを抑制することによる漏れ電流低減の効果の方が大きい。したがって、10%を超えた場合であっても、従来技術よりも漏れ電流を低減することができる。 The area of the region of the first metal layer covered by the second metal layer is preferably 0.5% or more and 10% or less of the surface area of the first metal layer. When it is less than 0.5%, it is considered that the effect of reducing the oxygen concentration in the first metal layer is relatively small. Moreover, when it exceeds 10%, since the leakage current through the defect formed in the 2nd metal layer surface becomes large, it is thought that the effect of leakage current reduction becomes small as a whole. However, even if a defect occurs on the surface of the second metal layer, the effect of reducing the leakage current by suppressing the occurrence of the defect on the first metal layer is greater. Therefore, even if it exceeds 10%, the leakage current can be reduced as compared with the prior art.
そして、上記の陽極1を電解液中において陽極酸化させて、この陽極1の表面に酸化物からなる誘電体層4を形成する。
Then, the
以上の陽極1、誘電体層4によってコンデンサ素子10が構成される。
A
またこの誘電体層4の表面を覆うようにして電解質層5を形成している。ここで、電解質層5に使用する材料としては、例えば、ポリピロール,ポリチオフェン,ポリアニリン等の導電性高分子材料や、二酸化マンガン等の導電性酸化物を用いることができる。
An
そして、上記の電解質層5の表面を覆うようにして陰極6を形成するにあたり、上記の電解質層5の上にカーボンペーストを用いてカーボン層6aを形成し、さらにこのカーボン層6aの上に、銀ペーストを用いて銀層6bを形成している。
In forming the
そして、この実施形態における固体電解コンデンサにおいては、上記の陽極1から延出させた陽極リード11に、鉄にニッケルめっきを施したものからなる陽極端子7を溶接により接続させる。上記の陰極6における銀層6bに、鉄にニッケルめっきを施したものからなる陰極端子8を導電性接着剤層12を介して接続させ、この陽極端子7と陰極端子8とを外部に取り出すようにしてエポキシ樹脂等の絶縁性樹脂からなる外装体9によって外装させている。
In the solid electrolytic capacitor in this embodiment, the
なお、図1に示す実施形態の固体電解コンデンサにおいては、上記のように陰極6として、カーボンペーストを用いたカーボン層6aと、銀ペーストを用いた銀層6bとを積層させるようにしたが、上記のカーボン層6aを設けずに、電解質層5の表面を覆うようにして、銀層6bだけを設けることも可能である。また、陽極1は、金属箔、または多孔質焼結体からなる略板状や円柱状などから構成されていてもよい。
In the solid electrolytic capacitor of the embodiment shown in FIG. 1, the carbon layer 6a using the carbon paste and the
次に、この発明の具体的な実施例に係る固体電解コンデンサについて説明すると共に、この発明の実施例に係る固体電解コンデンサにおいては、漏れ電流の増加が抑制されることを、比較例を挙げて明らかにする。なお、この発明の固体電解コンデンサは下記の実施例に示したものに限定されるものではなく、その要旨を変更しない範囲において適宜変更して実施できるものである。 Next, a solid electrolytic capacitor according to a specific embodiment of the present invention will be described, and in the solid electrolytic capacitor according to the embodiment of the present invention, an increase in leakage current is suppressed by giving a comparative example. To clarify. In addition, the solid electrolytic capacitor of this invention is not limited to what was shown in the following Example, In the range which does not change the summary, it can implement suitably.
(実施例1)
第1金属層2として、厚さ100μmのニオブ箔を用い、陰極アーク蒸着法により、ニオブ箔表面上に、厚さ0.1μmのチタン膜を形成した。ここで、チタン膜の形成条件は、チャンバー内圧力1×10−5Torr、アーク電流100A、基材がチタン、基材バイアス電圧20V、蒸着時間15秒であった。
Example 1
As the
次に、前記のチタン膜が形成された第1金属層2をアセトンにより洗浄した後、チタン膜表面上にアクリル系樹脂からなるフォトレジストを塗布し、90℃で15分間乾燥させた。
Next, after the
続いて、露光部分がニオブ箔の表面積の3%となるような網目状の露光用フィルムマスクを位置合わせし、前記フォトレジストの露光(露光条件:100mV/cm2、30sec)を行った。 Subsequently, a network-like exposure film mask in which the exposed portion was 3% of the surface area of the niobium foil was aligned, and the photoresist was exposed (exposure conditions: 100 mV / cm 2 , 30 sec).
その後、第1金属層2をキシレン中に浸漬させた後に乾燥させることにより、前記フォトレジストの非感光部を除去し、チタン層を露出させた。
Thereafter, the
これを濃度2mol/lの硫酸水溶液中に浸漬することによって、露出させておいたチタンをウェットエッチングにより除去した。さらに、残ったフォトレジストを除去することによって、四角形状の領域が複数点在する第2金属層3を作製した。
This was immersed in a 2 mol / l sulfuric acid aqueous solution to remove the exposed titanium by wet etching. Further, by removing the remaining photoresist, the
このようにして作製した陽極1について、前記第2金属層に被覆されている前記第1金属層の領域の面積の割合を調べるため、EPMA(Electron Probe Micro−Analysis)を用いて陽極1の表面について、チタンとニオブの元素マッピングにより分析した。その結果、チタンによる被覆部分は、チタンとニオブの総表面積に対して、3%であった。
In order to investigate the area ratio of the region of the first metal layer covered with the second metal layer, the surface of the
前記陽極1を60℃の1wt%リン酸水溶液において10Vの一定電圧で30分間陽極酸化させて、厚さ25nmの誘電体層4を形成した。
The
このようにして、陽極1、誘電体層4から構成されるコンデンサ素子10(サンプル名:A1)を作製した。
In this way, a capacitor element 10 (sample name: A1) composed of the
(実施例2)
露光用フィルムマスクとして、露光部分がニオブ箔の表面積の0.3%、0.5%、1%、5%、10%、13%、15%となるようなものを用いてフォトレジストの露光を行ったことを除いて、実施例1と同様にしてコンデンサ素子10(サンプル名はそれぞれA2、A3、A4、A5、A6、A7、A8)を作製した。
(Example 2)
Photoresist exposure using an exposure film mask whose exposed portion is 0.3%, 0.5%, 1%, 5%, 10%, 13%, 15% of the surface area of the niobium foil. A capacitor element 10 (sample names are A2, A3, A4, A5, A6, A7, and A8, respectively) was produced in the same manner as in Example 1 except that the above steps were performed.
これらのコンデンサ素子について、実施例1と同様に、EPMAを用いて陽極1の表面について、チタンとニオブの元素マッピングにより分析した結果、チタンによる被覆部分は、チタンとニオブの総表面積に対して、それぞれ0.3%、0.5%、1%、5%、10%、13%、15%であった。
For these capacitor elements, as in Example 1, the surface of the
(比較例1)
ニオブ表面の一部をチタンで被覆したニオブ箔を用いる代わりに、チタンで被覆しないニオブ箔を用いたことを除いて、実施例1と同様にしてコンデンサ素子10(サンプル名:X1)を作製した。
(Comparative Example 1)
A capacitor element 10 (sample name: X1) was produced in the same manner as in Example 1 except that a niobium foil that was not coated with titanium was used instead of using a niobium foil that was partially coated with titanium. .
(比較例2)
5Lの反応容器に、フッ化カリウムと塩化カリウムを各1.5kg入れ、850℃まで昇温して融液とした。この融液にノズルを挿入し、窒素ガスを750mL/minの流量でバブリングして、融液中に導入した。この融液中に、厚さ100μmのニオブ箔を挿入し、1分後溶解したナトリウムを5.8g添加して2分間反応させた。そして、この操作を30回繰り返し、窒素を添加したニオブ陽極を作製した。この操作を除いては、実施例1と同様にして、コンデンサ素子10(サンプル名:X2)を作製した。
(Comparative Example 2)
In a 5 L reaction vessel, 1.5 kg each of potassium fluoride and potassium chloride was added, and the temperature was raised to 850 ° C. to obtain a melt. A nozzle was inserted into this melt, and nitrogen gas was bubbled at a flow rate of 750 mL / min and introduced into the melt. A niobium foil having a thickness of 100 μm was inserted into the melt, and after 1 minute, 5.8 g of dissolved sodium was added and reacted for 2 minutes. And this operation was repeated 30 times, and the niobium anode which added nitrogen was produced. A capacitor element 10 (sample name: X2) was produced in the same manner as in Example 1 except for this operation.
(評価)
上述したように作製したコンデンサ素子の漏れ電流を測定した。図3は、漏れ電流の測定方法を説明するための模式図である。測定は、図3に示すように、金属製容器21に入れられた1wt%のリン酸水溶液22中に各コンデンサ素子10を浸漬させ、コンデンサ素子10の一端で誘電体層4が形成されていない領域に測定陽極23を接続し、金属製容器21の一端に測定陰極24を接続し、測定陽極23、測定陰極24を電流計25、直流電源26に接続して、直流電源26により3Vの電圧を印加して20秒後の電流値を測定することにより行った。
(Evaluation)
The leakage current of the capacitor element produced as described above was measured. FIG. 3 is a schematic diagram for explaining a method for measuring leakage current. In the measurement, as shown in FIG. 3, each
各コンデンサ素子の漏れ電流を測定した結果を、表1に示す。
表1からわかるように、チタンで被覆しないニオブ箔を用いた比較例1より、窒素を添加したニオブ箔を用いた比較例2の方が漏れ電流が低減されているが、チタンで被覆したニオブ箔を用いた実施例1及び実施例2はさらに漏れ電流が低減されている。また、実施例1と実施例2のサンプルのうち、チタンによる被覆部分がニオブとチタンの総表面積に対して0.5%以上10%以下であるものを陽極に用いたサンプルA1、A3、A4、A5、A6の漏れ電流が著しく低減されていることがわかる。 As can be seen from Table 1, the leakage current of Comparative Example 2 using a niobium foil added with nitrogen is lower than that of Comparative Example 1 using a niobium foil not coated with titanium. In Example 1 and Example 2 using the foil, the leakage current is further reduced. Samples A1, A3, and A4 using the samples of Example 1 and Example 2 whose anodes covered 0.5% or more and 10% or less of the total surface area of niobium and titanium. , A5, A6 leakage current is significantly reduced.
0.5%未満の場合には、ニオブからなる第1金属層中の酸素濃度を低減する効果が比較的小さいと考えられる。また、10%を超えた場合には、チタンからなる第2金属層の表面積が大きくなり、第2金属層表面に形成される欠陥を介した漏れ電流が大きくなる。第1金属層に欠陥が生じるのを抑制できるとともに、第2金属層表面に欠陥が生じるため、全体として漏れ電流低減の効果が小さくなると考えられる。よって、0.5%以上10%以下である場合には、漏れ電流低減の効果をより有効に得ることができる。 If it is less than 0.5%, the effect of reducing the oxygen concentration in the first metal layer made of niobium is considered to be relatively small. On the other hand, if it exceeds 10%, the surface area of the second metal layer made of titanium is increased, and the leakage current through defects formed on the surface of the second metal layer is increased. It is possible to suppress the occurrence of defects in the first metal layer and to cause defects on the surface of the second metal layer, so that the effect of reducing the leakage current as a whole is considered to be small. Therefore, when it is 0.5% or more and 10% or less, the effect of reducing the leakage current can be obtained more effectively.
前記第2金属層に被覆されている前記第1金属層の領域の面積は、前記第1金属層の表面積の0.5%以上10%以下であるのが好ましいことがわかった。 It was found that the area of the first metal layer covered with the second metal layer is preferably 0.5% to 10% of the surface area of the first metal layer.
次に、第2金属層を構成する金属材料と漏れ電流との関係について検討した。 Next, the relationship between the metal material constituting the second metal layer and the leakage current was examined.
(実施例3)
第2金属層を構成する金属材料としてチタンを用いる代わりにジルコニウム、ハフニウムを用いたことを除いて、実施例1と同様にしてコンデンサ素子10(サンプル名は、それぞれ、B1、B2)を作製した。
(Example 3)
A capacitor element 10 (sample names are B1 and B2, respectively) was produced in the same manner as in Example 1 except that zirconium and hafnium were used instead of titanium as the metal material constituting the second metal layer. .
実施例3のコンデンサ素子について、実施例1と同様に、EPMAを用いて陽極1の表面について、ジルコニウム(B1)又はハフニウム(B2)とニオブの元素マッピングにより分析した結果、ジルコニウム(B1)又はハフニウム(B2)による被覆部分は、ジルコニウム(B1)又はハフニウム(B2)とニオブの総表面積に対して、ともに3%であった。
As for the capacitor element of Example 3, as in Example 1, the surface of the
各コンデンサ素子の漏れ電流を測定した結果を、表2に示す。
表2からわかるように、第2金属層材料として、チタンを用いた場合と同様に、ジルコニウム、ハフニウムを用いた場合も、第1金属層が第2金属層により被覆されていない前記比較例1及び比較例2よりも漏れ電流が著しく低減されている。 As can be seen from Table 2, Comparative Example 1 in which the first metal layer is not covered with the second metal layer also when zirconium or hafnium is used as the second metal layer material in the same manner as when titanium is used. And the leakage current is remarkably reduced as compared with Comparative Example 2.
続いて、第1金属層を構成する金属材料と漏れ電流との関係について検討した。 Subsequently, the relationship between the metal material constituting the first metal layer and the leakage current was examined.
(実施例4)
第1金属層を構成する材料としてニオブを用いる代わりに、タンタルを用いたことを除いて、実施例1と同様にしてコンデンサ素子10(サンプル名:C1)を作製した。
Example 4
A capacitor element 10 (sample name: C1) was produced in the same manner as in Example 1 except that tantalum was used instead of niobium as the material constituting the first metal layer.
(実施例5)
本実施例では、第1金属層を構成する材料としてニオブを用いて1wt%のリン酸水溶液中で陽極酸化した代わりに、アルミニウムを用いて1.5wt%のアジピン酸アンモニウム水溶液で陽極酸化したことを除いては、実施例1と同様にしてコンデンサ素子10(サンプル名:C2)を作製した。
(Example 5)
In this example, niobium was used as a material constituting the first metal layer, and anodization was performed with 1.5 wt% ammonium adipate aqueous solution using aluminum instead of anodizing with 1 wt% phosphoric acid aqueous solution. A capacitor element 10 (sample name: C2) was produced in the same manner as in Example 1 except for.
(比較例3)
陽極1として、チタンで被覆しないニオブ箔を用いる代わりに、チタンで被覆しないタンタル箔を用いたことを除いては、比較例1と同様にコンデンサ素子10(サンプル名:X3)を作製した。
(Comparative Example 3)
A capacitor element 10 (sample name: X3) was prepared in the same manner as in Comparative Example 1 except that a tantalum foil not coated with titanium was used as the
(比較例4)
陽極1としてチタンで被覆しないニオブ箔を用い、1wt%のリン酸水溶液中で陽極酸化した代わりに、陽極としてチタンで被覆しないアルミニウム箔を用いて、1.5wt%のアジピン酸アンモニウム水溶液で陽極酸化したことを除いては、比較例1と同様にしてコンデンサ素子10(サンプル名:X4)を作製した。
(Comparative Example 4)
Instead of using niobium foil not coated with titanium as
実施例4及び5のコンデンサ素子について、実施例1と同様に、EPMAを用いて陽極1の表面について、チタンとタンタル(C1)又はアルミニウム(C2)の元素マッピングにより分析した結果、チタンによる被覆部分は、チタンとタンタル(C1)又はアルミニウム(C2)の総表面積に対して、ともに3%であった。
As in Example 1, the capacitor elements of Examples 4 and 5 were analyzed by element mapping of titanium and tantalum (C1) or aluminum (C2) on the surface of the
各コンデンサ素子の漏れ電流を測定した結果を、表3に示す。
表3からわかるように、第1金属層材料として、ニオブを用いた場合と同様に、タンタル、アルミニウムを用いた場合も、第1金属層が第2金属層により被覆されていない前記比較例3及び比較例4よりも漏れ電流が著しく低減されている。 As can be seen from Table 3, the first metal layer is not covered with the second metal layer in the case of using tantalum or aluminum as in the case of using niobium as the first metal layer material. And the leakage current is remarkably reduced as compared with Comparative Example 4.
次に、第1金属層を構成する形態と漏れ電流との関係について検討した。 Next, the relationship between the form constituting the first metal layer and the leakage current was examined.
(実施例6)
(ステップ1)
第1金属層を構成する金属としてニオブ粉末0.99g、第2金属層を構成する金属としてチタン粉末0.01gをそれぞれ用い、超硬合金製ボールを用いた遊星型ボールミルで4時間混合して、均一に分散させた粉体を得た。得られた粉体とニオブリード線を同時にプレス成型してペレットを作製した。引き続き、作製したペレットを減圧下(3×10−5Torr)、1100℃で焼結させ、ニオブ表面の一部がチタンで被覆された焼結体を得た。
(Example 6)
(Step 1)
Using 0.99 g of niobium powder as the metal constituting the first metal layer and 0.01 g of titanium powder as the metal constituting the second metal layer, the mixture was mixed for 4 hours with a planetary ball mill using cemented carbide balls. A uniformly dispersed powder was obtained. The obtained powder and niobium lead wire were press-molded at the same time to produce pellets. Subsequently, the prepared pellets were sintered at 1100 ° C. under reduced pressure (3 × 10 −5 Torr) to obtain a sintered body in which a part of the niobium surface was coated with titanium.
このようにして作製した陽極1について、第2金属層に被覆されている第1金属層上の領域の面積の割合を調べるため、陽極1における任意の1点を通り、図4に示すa、bおよびcの各面に対してそれぞれ平行な断面を、走査型電子顕微鏡(SEM)により観察した。これにより、チタンによる被覆部分を算出した結果、チタンとニオブの総表面積に対して3%であった。
In order to examine the ratio of the area of the region on the first metal layer covered with the second metal layer for the
(ステップ2)
陽極1を60℃の1wt%リン酸水溶液において10Vの一定電圧で10時間陽極酸化させて、厚さ25nmの誘電体層4を形成した。
(Step 2)
The
このようにして、陽極1、誘電体層4から構成されるコンデンサ素子10(サンプル名:D1)を作製した。
In this way, a capacitor element 10 (sample name: D1) composed of the
(比較例5)
実施例6の(ステップ1)において、ニオブ表面にチタンを被覆した焼結体を用いる代わりに、ニオブ粉末とニオブリード線を同時にプレス成型してペレットを作製し、真空中(3×10−5Torr)、1100℃で焼結させたニオブ焼結体を陽極1とした以外は同様にして、コンデンサ素子10(サンプル名:X5)を作製した。
(Comparative Example 5)
In Example 6 (Step 1), instead of using a sintered body in which the niobium surface is coated with titanium, niobium powder and niobium lead wire are press-molded at the same time to produce pellets, and in vacuum (3 × 10 −5 Torr) ) A capacitor element 10 (sample name: X5) was produced in the same manner except that the niobium sintered body sintered at 1100 ° C. was used as the
各コンデンサ素子の漏れ電流を測定した結果を表4に示す。
表4からわかるように、第1金属層として金属箔を用いた場合と同様に、焼結体を用いた場合も、第1金属層が第2金属層により被覆されていない比較例5よりも漏れ電流が著しく低減されている。 As can be seen from Table 4, as in the case of using the metal foil as the first metal layer, when the sintered body is used, the first metal layer is more than the comparative example 5 that is not covered with the second metal layer. Leakage current is significantly reduced.
上述したように、上記実施例にかかるコンデンサ素子によれば、コンデンサの漏れ電流を低減することができる。 As described above, according to the capacitor element according to the above embodiment, the leakage current of the capacitor can be reduced.
よって、上記実施例にかかるコンデンサ素子を用いた、本発明にかかる固体電解コンデンサによれば、漏れ電流を低減することができる。 Therefore, according to the solid electrolytic capacitor according to the present invention using the capacitor element according to the above embodiment, the leakage current can be reduced.
なお、今回開示された実施例は、すべての点で例示であって、制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は、上記した実施例の説明ではなく特許請求の範囲によって示され、さらに特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれる。 In addition, it should be thought that the Example disclosed this time is an illustration and restrictive at no points. The scope of the present invention is shown not by the above description of the embodiments but by the scope of claims for patent, and further includes meanings equivalent to the scope of claims for patent and all modifications within the scope.
たとえば、上記実施形態では、電解質層5は、ポリピロールから構成されていたが、本発明はこれに限らず、他の導電性高分子を主成分としてもよく、あるいは、酸化マンガンを主成分としてもよい。
For example, in the above embodiment, the
また、上記実施例では、第1金属層は、ニオブ、タンタル又はアルミニウムから構成されていたが、本発明はこれに限らず、これらの弁作用金属を主成分とする合金などであってもよい。 Moreover, in the said Example, although the 1st metal layer was comprised from niobium, a tantalum, or aluminum, this invention is not restricted to this, The alloy etc. which have these valve action metals as a main component may be sufficient. .
また、上記実施例では、陽極1の陽極酸化にはリン酸水溶液やアジピン酸アンモニウム水溶液を用いたが、本発明はこれに限らず、例えば、フッ化アンモニウム水溶液、フッ化カリウム水溶液、フッ化ナトリウム水溶液およびフッ酸水溶液などのフッ素を含む水溶液や硫酸などを用いてもよい。
In the above embodiment, phosphoric acid aqueous solution or ammonium adipate aqueous solution was used for anodic oxidation of
1 陽極
2 第1金属層
3 第2金属層
4 誘電体層
5 電解質層
6 陰極
6a 第1導電層
6b 第2導電層
7 陽極端子
8 陰極端子
9 外装体
10 コンデンサ素子
11 陽極リード
12 導電性接着剤層
DESCRIPTION OF
Claims (1)
前記第2金属層に被覆されている前記第1金属層の領域の面積が、前記第1金属層の表面積の0.5%以上10%以下であることを特徴とする固体電解コンデンサ。
In a solid electrolytic capacitor including an anode, a cathode, and a dielectric layer formed by anodizing the anode, the anode is made of niobium, aluminum, or tantalum, or niobium, aluminum, or tantalum. A first metal layer made of an alloy as a main component, and a part of the surface of the first metal layer is coated with a second metal layer containing any of titanium, zirconium, and hafnium ;
The area of the area | region of the said 1st metal layer coat | covered with the said 2nd metal layer is 0.5 to 10% of the surface area of the said 1st metal layer, The solid electrolytic capacitor characterized by the above-mentioned.
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007038653A JP4879040B2 (en) | 2006-03-31 | 2007-02-19 | Solid electrolytic capacitor |
US11/730,091 US7362561B2 (en) | 2006-03-31 | 2007-03-29 | Solid electrolytic capacitor |
CN2007100917311A CN101047068B (en) | 2006-03-31 | 2007-03-30 | Solid electrolytic capacitor |
US11/944,924 US7471504B2 (en) | 2006-03-31 | 2007-11-26 | Solid electrolytic capacitor |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006098904 | 2006-03-31 | ||
JP2006098904 | 2006-03-31 | ||
JP2007038653A JP4879040B2 (en) | 2006-03-31 | 2007-02-19 | Solid electrolytic capacitor |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007294875A JP2007294875A (en) | 2007-11-08 |
JP4879040B2 true JP4879040B2 (en) | 2012-02-15 |
Family
ID=38559688
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007038653A Expired - Fee Related JP4879040B2 (en) | 2006-03-31 | 2007-02-19 | Solid electrolytic capacitor |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US7362561B2 (en) |
JP (1) | JP4879040B2 (en) |
CN (1) | CN101047068B (en) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2008070724A2 (en) * | 2006-12-05 | 2008-06-12 | Adapx, Inc. | Carrier for a digital pen |
US8213158B2 (en) * | 2007-09-28 | 2012-07-03 | Sanyo Electric Co., Ltd. | Solid electrolytic capacitor and its production method |
CN101404213B (en) * | 2008-11-13 | 2011-05-18 | 北京七一八友益电子有限责任公司 | Solid sheet type tantalum electrolyte capacitor and its manufacturing method |
US9023186B1 (en) | 2009-06-26 | 2015-05-05 | Applied Materials, Inc. | High performance titania capacitor with a scalable processing method |
US8896986B2 (en) * | 2010-05-26 | 2014-11-25 | Kemet Electronics Corporation | Method of improving electromechanical integrity of cathode coating to cathode termination interfaces in solid electrolytic capacitors |
US9748043B2 (en) | 2010-05-26 | 2017-08-29 | Kemet Electronics Corporation | Method of improving electromechanical integrity of cathode coating to cathode termination interfaces in solid electrolytic capacitors |
JP5716163B2 (en) * | 2011-03-29 | 2015-05-13 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | Solid electrolytic capacitor and manufacturing method thereof |
JP2022152802A (en) * | 2021-03-29 | 2022-10-12 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | Electrolytic capacitor and manufacturing method thereof |
US11676769B2 (en) * | 2021-09-14 | 2023-06-13 | Kemet Electronics Corporation | Multi-directional and multi-channel anode for enhancement of capacitor performance |
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JPH061751B2 (en) * | 1985-07-12 | 1994-01-05 | 昭和アルミニウム株式会社 | Anode material for electrolytic capacitors |
JPS6433915A (en) * | 1987-07-30 | 1989-02-03 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Aluminum electrolytic capacitor |
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JP4049964B2 (en) | 2000-02-08 | 2008-02-20 | キャボットスーパーメタル株式会社 | Nitrogen-containing metal powder, production method thereof, porous sintered body and solid electrolytic capacitor using the same |
JP2002367867A (en) * | 2001-06-06 | 2002-12-20 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Electrode member for solid electrolytic capacitor, method of manufacturing it and solid electrolytic capacitor using this |
CN1761007B (en) * | 2004-10-15 | 2010-05-05 | 三洋电机株式会社 | Solid electrolytic capacitor and method of manufacturing the same |
CN100587869C (en) * | 2004-10-15 | 2010-02-03 | 三洋电机株式会社 | Solid electrolytic capacitor and method of manufacturing the same |
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-
2007
- 2007-02-19 JP JP2007038653A patent/JP4879040B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2007-03-29 US US11/730,091 patent/US7362561B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2007-03-30 CN CN2007100917311A patent/CN101047068B/en not_active Expired - Fee Related
- 2007-11-26 US US11/944,924 patent/US7471504B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US7362561B2 (en) | 2008-04-22 |
US20070232012A1 (en) | 2007-10-04 |
US20080084652A1 (en) | 2008-04-10 |
JP2007294875A (en) | 2007-11-08 |
CN101047068A (en) | 2007-10-03 |
CN101047068B (en) | 2011-11-09 |
US7471504B2 (en) | 2008-12-30 |
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Date | Code | Title | Description |
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RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
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RD13 | Notification of appointment of power of sub attorney |
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A977 | Report on retrieval |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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