JP4879040B2 - Solid electrolytic capacitor - Google Patents

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Description

本発明は、弁作用金属または弁作用金属を主成分とする合金を用いた陽極と、前記陽極が陽極酸化されて形成される誘電体層とを備えた固体電解コンデンサに関し、特に、漏れ電流の低減を図った固体電解コンデンサに関するものである。   The present invention relates to a solid electrolytic capacitor including a valve metal or an anode using a valve metal as a main component, and a dielectric layer formed by anodizing the anode. The present invention relates to a solid electrolytic capacitor that is reduced.

固体電解コンデンサは、一般的に、弁作用金属の表面に陽極酸化により誘電体層として酸化物層を形成し、その上に陰極層が形成され、さらに陰極層から陰極引出し用リードが配設された構造となっている。弁作用金属は弁作用を持つ一群の金属をいい、例えば、アルミニウム、タンタル、ニオブ、チタン等があげられる。   In general, a solid electrolytic capacitor is formed by forming an oxide layer as a dielectric layer by anodic oxidation on the surface of a valve action metal, forming a cathode layer thereon, and further providing a cathode lead lead from the cathode layer. It has a structure. The valve metal is a group of metals having a valve action, and examples thereof include aluminum, tantalum, niobium, and titanium.

しかし、これらの固体電解コンデンサは、陽極酸化による誘電体層の形成時工程において、誘電体層中に結晶性酸化物(欠陥)が形成され、誘電体層の結晶粒界においてクラックが生じる。かかる欠陥においては抵抗が小さく、欠陥を介して電流が流れるため、固体電解コンデンサとしての漏れ電流が増大するという問題があった。   However, in these solid electrolytic capacitors, crystalline oxides (defects) are formed in the dielectric layer in the step of forming the dielectric layer by anodic oxidation, and cracks are generated at the crystal grain boundaries of the dielectric layer. Such a defect has a problem that resistance is small and a current flows through the defect, so that a leakage current as a solid electrolytic capacitor increases.

前記欠陥が形成される要因としては、前記弁作用金属中に含まれる酸素の影響が考えられる。漏れ電流の抑制に対しては、例えば、特許文献1には、固体電解コンデンサの陽極用金属として、ニオブまたはタンタルに窒素を固溶している窒素含有金属が記載されている。   As a factor for forming the defect, an influence of oxygen contained in the valve metal can be considered. For suppression of leakage current, for example, Patent Document 1 describes a nitrogen-containing metal in which nitrogen is dissolved in niobium or tantalum as a metal for an anode of a solid electrolytic capacitor.

しかし、固体電解コンデンサの陽極用金属として、特許文献1に記載の窒素含有金属を用いても、依然として漏れ電流低減効果は十分ではなかった。
特開2001―223141号公報
However, even when the nitrogen-containing metal described in Patent Document 1 is used as the anode metal of the solid electrolytic capacitor, the leakage current reduction effect is still not sufficient.
JP 2001-223141 A

本発明は、以上の事情に鑑みなされたものであって、漏れ電流の小さい固体電解コンデンサを提供することを目的とする。   This invention is made | formed in view of the above situation, Comprising: It aims at providing the solid electrolytic capacitor with small leakage current.

本発明の固体電解コンデンサは、陽極と、陰極と、該陽極が陽極酸化されて形成される誘電体層とを備えた固体電解コンデンサにおいて、前記陽極は、ニオブ、アルミニウム、タンタルのいずれか又はニオブ、アルミニウム、タンタルのいずれかを主成分とする合金からなる第1金属層と、該第1金属層の表面の一部がチタン、ジルコニウム、ハフニウムのいずれかを含む第2金属層で被覆されていることを特徴とする。   The solid electrolytic capacitor of the present invention is a solid electrolytic capacitor comprising an anode, a cathode, and a dielectric layer formed by anodizing the anode, wherein the anode is any one of niobium, aluminum, tantalum, or niobium. A first metal layer made of an alloy containing aluminum, tantalum as a main component, and a part of the surface of the first metal layer is coated with a second metal layer containing any of titanium, zirconium, and hafnium. It is characterized by being.

本発明の固体電解コンデンサにおいて、好ましくは、前記第2金属層に被覆されている前記第1金属層の領域の面積が、前記第1金属層の表面積の0.5%以上10%以下である。   In the solid electrolytic capacitor of the present invention, preferably, the area of the region of the first metal layer covered with the second metal layer is not less than 0.5% and not more than 10% of the surface area of the first metal layer. .

本発明に係る固体電解コンデンサによれば、陽極酸化による誘電体層の形成時工程において、誘電体層中の欠陥の生成を抑制することができ、固体電解コンデンサの漏れ電流を低減させることができる。   According to the solid electrolytic capacitor according to the present invention, generation of defects in the dielectric layer can be suppressed in the step of forming the dielectric layer by anodic oxidation, and the leakage current of the solid electrolytic capacitor can be reduced. .

次に、本発明の実施形態に係る固体電解コンデンサを添付図面に基づいて具体的に説明する。なお、本発明の固体電解コンデンサは下記の実施形態に示したものに限定されるものではなく、その要旨を変更しない範囲において適宜変更して実施できるものである。   Next, a solid electrolytic capacitor according to an embodiment of the present invention will be specifically described with reference to the accompanying drawings. The solid electrolytic capacitor of the present invention is not limited to those shown in the following embodiments, and can be implemented with appropriate modifications within a range not changing the gist thereof.

図1は、この実施形態における固体電解コンデンサの模式的断面図である。   FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a solid electrolytic capacitor in this embodiment.

この実施形態における固体電解コンデンサにおいては、図1に示すように、陽極1は、ニオブ、アルミニウム、タンタルのいずれか又はニオブ、アルミニウム、タンタルのいずれかを主成分とする合金からなる第1金属層2と、チタン、ジルコニウム、ハフニウムのいずれかを含む第2金属層3とから構成されている。第1金属層2の表面の一部は第2金属層3により被覆されている。さらに、この陽極1から陽極リード11を延出させている。   In the solid electrolytic capacitor in this embodiment, as shown in FIG. 1, the anode 1 is a first metal layer made of niobium, aluminum, tantalum or an alloy containing niobium, aluminum, tantalum as a main component. 2 and a second metal layer 3 containing any one of titanium, zirconium, and hafnium. A part of the surface of the first metal layer 2 is covered with the second metal layer 3. Further, an anode lead 11 is extended from the anode 1.

かかる構成によれば、第2金属層であるチタン、ジルコニウム、ハフニウムが脱酸材として作用し、第1金属層に含まれる酸素を低減することができると考えられる。したがって、陽極酸化による後述の誘電体層4の形成時においても、第1金属層中に欠陥が形成されるのを抑制することができるので、漏れ電流の小さい固体電解コンデンサを得ることができる。   According to such a configuration, it is considered that titanium, zirconium, and hafnium, which are the second metal layer, act as a deoxidizer, and oxygen contained in the first metal layer can be reduced. Therefore, even when a dielectric layer 4 described later is formed by anodic oxidation, it is possible to suppress the formation of defects in the first metal layer, so that a solid electrolytic capacitor with a small leakage current can be obtained.

図2は、前記陽極1を、図1の上部側から見た模式的上面図である。第1金属層2の表面の一部は、第2金属層3によって被覆されている。   FIG. 2 is a schematic top view of the anode 1 as viewed from the upper side of FIG. A part of the surface of the first metal layer 2 is covered with the second metal layer 3.

本実施形態においては、第2金属層3の領域は、図1及び図2に示すように、第1金属層2の両面に四角形状の領域が複数点在しているが、これに限らず、ライン状、リブ状他の形状でもよい。また、第1金属層2上の第2金属層3の配置、複数の第2金属層3の位置関係は、適宜調整することができる。さらに、第2金属層3の領域は第1金属層2上に局在させるより、分散させる方が好ましい。   In the present embodiment, as shown in FIGS. 1 and 2, the region of the second metal layer 3 includes a plurality of rectangular regions on both surfaces of the first metal layer 2, but is not limited thereto. Other shapes such as a line shape and a rib shape may be used. Further, the arrangement of the second metal layer 3 on the first metal layer 2 and the positional relationship of the plurality of second metal layers 3 can be adjusted as appropriate. Furthermore, the region of the second metal layer 3 is preferably dispersed rather than localized on the first metal layer 2.

前記第2金属層に被覆されている前記第1金属層の領域の面積は、前記第1金属層の表面積の0.5%以上10%以下であるのが好ましい。0.5%未満の場合には、第1金属層中の酸素濃度を低減する効果が比較的小さいと考えられる。また、10%を超えた場合には、第2金属層表面に形成される欠陥を介した漏れ電流が大きくなるため、全体として漏れ電流低減の効果が小さくなると考えられる。しかしながら、第2金属層表面に欠陥が生じたとしても、第1金属層に欠陥が生じるのを抑制することによる漏れ電流低減の効果の方が大きい。したがって、10%を超えた場合であっても、従来技術よりも漏れ電流を低減することができる。   The area of the region of the first metal layer covered by the second metal layer is preferably 0.5% or more and 10% or less of the surface area of the first metal layer. When it is less than 0.5%, it is considered that the effect of reducing the oxygen concentration in the first metal layer is relatively small. Moreover, when it exceeds 10%, since the leakage current through the defect formed in the 2nd metal layer surface becomes large, it is thought that the effect of leakage current reduction becomes small as a whole. However, even if a defect occurs on the surface of the second metal layer, the effect of reducing the leakage current by suppressing the occurrence of the defect on the first metal layer is greater. Therefore, even if it exceeds 10%, the leakage current can be reduced as compared with the prior art.

そして、上記の陽極1を電解液中において陽極酸化させて、この陽極1の表面に酸化物からなる誘電体層4を形成する。   Then, the anode 1 is anodized in an electrolytic solution, and a dielectric layer 4 made of an oxide is formed on the surface of the anode 1.

以上の陽極1、誘電体層4によってコンデンサ素子10が構成される。   A capacitor element 10 is constituted by the anode 1 and the dielectric layer 4 described above.

またこの誘電体層4の表面を覆うようにして電解質層5を形成している。ここで、電解質層5に使用する材料としては、例えば、ポリピロール,ポリチオフェン,ポリアニリン等の導電性高分子材料や、二酸化マンガン等の導電性酸化物を用いることができる。   An electrolyte layer 5 is formed so as to cover the surface of the dielectric layer 4. Here, as a material used for the electrolyte layer 5, for example, a conductive polymer material such as polypyrrole, polythiophene, or polyaniline, or a conductive oxide such as manganese dioxide can be used.

そして、上記の電解質層5の表面を覆うようにして陰極6を形成するにあたり、上記の電解質層5の上にカーボンペーストを用いてカーボン層6aを形成し、さらにこのカーボン層6aの上に、銀ペーストを用いて銀層6bを形成している。   In forming the cathode 6 so as to cover the surface of the electrolyte layer 5, a carbon layer 6a is formed on the electrolyte layer 5 using a carbon paste, and further on the carbon layer 6a, The silver layer 6b is formed using a silver paste.

そして、この実施形態における固体電解コンデンサにおいては、上記の陽極1から延出させた陽極リード11に、鉄にニッケルめっきを施したものからなる陽極端子7を溶接により接続させる。上記の陰極6における銀層6bに、鉄にニッケルめっきを施したものからなる陰極端子8を導電性接着剤層12を介して接続させ、この陽極端子7と陰極端子8とを外部に取り出すようにしてエポキシ樹脂等の絶縁性樹脂からなる外装体9によって外装させている。   In the solid electrolytic capacitor in this embodiment, the anode lead 11 made of nickel plated on iron is connected to the anode lead 11 extended from the anode 1 by welding. A cathode terminal 8 made of iron plated with nickel is connected to the silver layer 6b of the cathode 6 via a conductive adhesive layer 12, and the anode terminal 7 and the cathode terminal 8 are taken out to the outside. Thus, the outer package 9 is made of an insulating resin such as an epoxy resin.

なお、図1に示す実施形態の固体電解コンデンサにおいては、上記のように陰極6として、カーボンペーストを用いたカーボン層6aと、銀ペーストを用いた銀層6bとを積層させるようにしたが、上記のカーボン層6aを設けずに、電解質層5の表面を覆うようにして、銀層6bだけを設けることも可能である。また、陽極1は、金属箔、または多孔質焼結体からなる略板状や円柱状などから構成されていてもよい。   In the solid electrolytic capacitor of the embodiment shown in FIG. 1, the carbon layer 6a using the carbon paste and the silver layer 6b using the silver paste are stacked as the cathode 6 as described above. It is also possible to provide only the silver layer 6b so as to cover the surface of the electrolyte layer 5 without providing the carbon layer 6a. Moreover, the anode 1 may be comprised from the substantially plate shape, the column shape, etc. which consist of metal foil or a porous sintered compact.

次に、この発明の具体的な実施例に係る固体電解コンデンサについて説明すると共に、この発明の実施例に係る固体電解コンデンサにおいては、漏れ電流の増加が抑制されることを、比較例を挙げて明らかにする。なお、この発明の固体電解コンデンサは下記の実施例に示したものに限定されるものではなく、その要旨を変更しない範囲において適宜変更して実施できるものである。   Next, a solid electrolytic capacitor according to a specific embodiment of the present invention will be described, and in the solid electrolytic capacitor according to the embodiment of the present invention, an increase in leakage current is suppressed by giving a comparative example. To clarify. In addition, the solid electrolytic capacitor of this invention is not limited to what was shown in the following Example, In the range which does not change the summary, it can implement suitably.

(実施例1)
第1金属層2として、厚さ100μmのニオブ箔を用い、陰極アーク蒸着法により、ニオブ箔表面上に、厚さ0.1μmのチタン膜を形成した。ここで、チタン膜の形成条件は、チャンバー内圧力1×10−5Torr、アーク電流100A、基材がチタン、基材バイアス電圧20V、蒸着時間15秒であった。
Example 1
As the first metal layer 2, a niobium foil having a thickness of 100 μm was used, and a titanium film having a thickness of 0.1 μm was formed on the niobium foil surface by a cathodic arc vapor deposition method. Here, the titanium film was formed under the conditions of a chamber internal pressure of 1 × 10 −5 Torr, an arc current of 100 A, a base material of titanium, a base material bias voltage of 20 V, and a deposition time of 15 seconds.

次に、前記のチタン膜が形成された第1金属層2をアセトンにより洗浄した後、チタン膜表面上にアクリル系樹脂からなるフォトレジストを塗布し、90℃で15分間乾燥させた。   Next, after the first metal layer 2 on which the titanium film was formed was washed with acetone, a photoresist made of an acrylic resin was applied on the surface of the titanium film and dried at 90 ° C. for 15 minutes.

続いて、露光部分がニオブ箔の表面積の3%となるような網目状の露光用フィルムマスクを位置合わせし、前記フォトレジストの露光(露光条件:100mV/cm、30sec)を行った。 Subsequently, a network-like exposure film mask in which the exposed portion was 3% of the surface area of the niobium foil was aligned, and the photoresist was exposed (exposure conditions: 100 mV / cm 2 , 30 sec).

その後、第1金属層2をキシレン中に浸漬させた後に乾燥させることにより、前記フォトレジストの非感光部を除去し、チタン層を露出させた。   Thereafter, the first metal layer 2 was dipped in xylene and then dried, thereby removing the non-photosensitive portion of the photoresist and exposing the titanium layer.

これを濃度2mol/lの硫酸水溶液中に浸漬することによって、露出させておいたチタンをウェットエッチングにより除去した。さらに、残ったフォトレジストを除去することによって、四角形状の領域が複数点在する第2金属層3を作製した。   This was immersed in a 2 mol / l sulfuric acid aqueous solution to remove the exposed titanium by wet etching. Further, by removing the remaining photoresist, the second metal layer 3 having a plurality of quadrangular regions was produced.

このようにして作製した陽極1について、前記第2金属層に被覆されている前記第1金属層の領域の面積の割合を調べるため、EPMA(Electron Probe Micro−Analysis)を用いて陽極1の表面について、チタンとニオブの元素マッピングにより分析した。その結果、チタンによる被覆部分は、チタンとニオブの総表面積に対して、3%であった。   In order to investigate the area ratio of the region of the first metal layer covered with the second metal layer, the surface of the anode 1 was fabricated using EPMA (Electron Probe Micro-Analysis). Were analyzed by elemental mapping of titanium and niobium. As a result, the portion covered with titanium was 3% with respect to the total surface area of titanium and niobium.

前記陽極1を60℃の1wt%リン酸水溶液において10Vの一定電圧で30分間陽極酸化させて、厚さ25nmの誘電体層4を形成した。   The anode 1 was anodized in a 1 wt% phosphoric acid aqueous solution at 60 ° C. for 30 minutes at a constant voltage of 10 V to form a dielectric layer 4 having a thickness of 25 nm.

このようにして、陽極1、誘電体層4から構成されるコンデンサ素子10(サンプル名:A1)を作製した。   In this way, a capacitor element 10 (sample name: A1) composed of the anode 1 and the dielectric layer 4 was produced.

(実施例2)
露光用フィルムマスクとして、露光部分がニオブ箔の表面積の0.3%、0.5%、1%、5%、10%、13%、15%となるようなものを用いてフォトレジストの露光を行ったことを除いて、実施例1と同様にしてコンデンサ素子10(サンプル名はそれぞれA2、A3、A4、A5、A6、A7、A8)を作製した。
(Example 2)
Photoresist exposure using an exposure film mask whose exposed portion is 0.3%, 0.5%, 1%, 5%, 10%, 13%, 15% of the surface area of the niobium foil. A capacitor element 10 (sample names are A2, A3, A4, A5, A6, A7, and A8, respectively) was produced in the same manner as in Example 1 except that the above steps were performed.

これらのコンデンサ素子について、実施例1と同様に、EPMAを用いて陽極1の表面について、チタンとニオブの元素マッピングにより分析した結果、チタンによる被覆部分は、チタンとニオブの総表面積に対して、それぞれ0.3%、0.5%、1%、5%、10%、13%、15%であった。   For these capacitor elements, as in Example 1, the surface of the anode 1 was analyzed using EPMA by elemental mapping of titanium and niobium using EPMA. They were 0.3%, 0.5%, 1%, 5%, 10%, 13%, and 15%, respectively.

(比較例1)
ニオブ表面の一部をチタンで被覆したニオブ箔を用いる代わりに、チタンで被覆しないニオブ箔を用いたことを除いて、実施例1と同様にしてコンデンサ素子10(サンプル名:X1)を作製した。
(Comparative Example 1)
A capacitor element 10 (sample name: X1) was produced in the same manner as in Example 1 except that a niobium foil that was not coated with titanium was used instead of using a niobium foil that was partially coated with titanium. .

(比較例2)
5Lの反応容器に、フッ化カリウムと塩化カリウムを各1.5kg入れ、850℃まで昇温して融液とした。この融液にノズルを挿入し、窒素ガスを750mL/minの流量でバブリングして、融液中に導入した。この融液中に、厚さ100μmのニオブ箔を挿入し、1分後溶解したナトリウムを5.8g添加して2分間反応させた。そして、この操作を30回繰り返し、窒素を添加したニオブ陽極を作製した。この操作を除いては、実施例1と同様にして、コンデンサ素子10(サンプル名:X2)を作製した。
(Comparative Example 2)
In a 5 L reaction vessel, 1.5 kg each of potassium fluoride and potassium chloride was added, and the temperature was raised to 850 ° C. to obtain a melt. A nozzle was inserted into this melt, and nitrogen gas was bubbled at a flow rate of 750 mL / min and introduced into the melt. A niobium foil having a thickness of 100 μm was inserted into the melt, and after 1 minute, 5.8 g of dissolved sodium was added and reacted for 2 minutes. And this operation was repeated 30 times, and the niobium anode which added nitrogen was produced. A capacitor element 10 (sample name: X2) was produced in the same manner as in Example 1 except for this operation.

(評価)
上述したように作製したコンデンサ素子の漏れ電流を測定した。図3は、漏れ電流の測定方法を説明するための模式図である。測定は、図3に示すように、金属製容器21に入れられた1wt%のリン酸水溶液22中に各コンデンサ素子10を浸漬させ、コンデンサ素子10の一端で誘電体層4が形成されていない領域に測定陽極23を接続し、金属製容器21の一端に測定陰極24を接続し、測定陽極23、測定陰極24を電流計25、直流電源26に接続して、直流電源26により3Vの電圧を印加して20秒後の電流値を測定することにより行った。
(Evaluation)
The leakage current of the capacitor element produced as described above was measured. FIG. 3 is a schematic diagram for explaining a method for measuring leakage current. In the measurement, as shown in FIG. 3, each capacitor element 10 is immersed in a 1 wt% phosphoric acid aqueous solution 22 placed in a metal container 21, and the dielectric layer 4 is not formed at one end of the capacitor element 10. The measurement anode 23 is connected to the region, the measurement cathode 24 is connected to one end of the metal container 21, the measurement anode 23 and the measurement cathode 24 are connected to an ammeter 25 and a DC power supply 26, and a voltage of 3 V is supplied by the DC power supply 26. Was measured by measuring the current value after 20 seconds.

各コンデンサ素子の漏れ電流を測定した結果を、表1に示す。

Figure 0004879040
Table 1 shows the results of measuring the leakage current of each capacitor element.
Figure 0004879040

表1からわかるように、チタンで被覆しないニオブ箔を用いた比較例1より、窒素を添加したニオブ箔を用いた比較例2の方が漏れ電流が低減されているが、チタンで被覆したニオブ箔を用いた実施例1及び実施例2はさらに漏れ電流が低減されている。また、実施例1と実施例2のサンプルのうち、チタンによる被覆部分がニオブとチタンの総表面積に対して0.5%以上10%以下であるものを陽極に用いたサンプルA1、A3、A4、A5、A6の漏れ電流が著しく低減されていることがわかる。   As can be seen from Table 1, the leakage current of Comparative Example 2 using a niobium foil added with nitrogen is lower than that of Comparative Example 1 using a niobium foil not coated with titanium. In Example 1 and Example 2 using the foil, the leakage current is further reduced. Samples A1, A3, and A4 using the samples of Example 1 and Example 2 whose anodes covered 0.5% or more and 10% or less of the total surface area of niobium and titanium. , A5, A6 leakage current is significantly reduced.

0.5%未満の場合には、ニオブからなる第1金属層中の酸素濃度を低減する効果が比較的小さいと考えられる。また、10%を超えた場合には、チタンからなる第2金属層の表面積が大きくなり、第2金属層表面に形成される欠陥を介した漏れ電流が大きくなる。第1金属層に欠陥が生じるのを抑制できるとともに、第2金属層表面に欠陥が生じるため、全体として漏れ電流低減の効果が小さくなると考えられる。よって、0.5%以上10%以下である場合には、漏れ電流低減の効果をより有効に得ることができる。   If it is less than 0.5%, the effect of reducing the oxygen concentration in the first metal layer made of niobium is considered to be relatively small. On the other hand, if it exceeds 10%, the surface area of the second metal layer made of titanium is increased, and the leakage current through defects formed on the surface of the second metal layer is increased. It is possible to suppress the occurrence of defects in the first metal layer and to cause defects on the surface of the second metal layer, so that the effect of reducing the leakage current as a whole is considered to be small. Therefore, when it is 0.5% or more and 10% or less, the effect of reducing the leakage current can be obtained more effectively.

前記第2金属層に被覆されている前記第1金属層の領域の面積は、前記第1金属層の表面積の0.5%以上10%以下であるのが好ましいことがわかった。   It was found that the area of the first metal layer covered with the second metal layer is preferably 0.5% to 10% of the surface area of the first metal layer.

次に、第2金属層を構成する金属材料と漏れ電流との関係について検討した。   Next, the relationship between the metal material constituting the second metal layer and the leakage current was examined.

(実施例3)
第2金属層を構成する金属材料としてチタンを用いる代わりにジルコニウム、ハフニウムを用いたことを除いて、実施例1と同様にしてコンデンサ素子10(サンプル名は、それぞれ、B1、B2)を作製した。
(Example 3)
A capacitor element 10 (sample names are B1 and B2, respectively) was produced in the same manner as in Example 1 except that zirconium and hafnium were used instead of titanium as the metal material constituting the second metal layer. .

実施例3のコンデンサ素子について、実施例1と同様に、EPMAを用いて陽極1の表面について、ジルコニウム(B1)又はハフニウム(B2)とニオブの元素マッピングにより分析した結果、ジルコニウム(B1)又はハフニウム(B2)による被覆部分は、ジルコニウム(B1)又はハフニウム(B2)とニオブの総表面積に対して、ともに3%であった。   As for the capacitor element of Example 3, as in Example 1, the surface of the anode 1 was analyzed by EPMA and analyzed by elemental mapping of zirconium (B1) or hafnium (B2) and niobium. As a result, zirconium (B1) or hafnium was analyzed. The coating part by (B2) was 3% with respect to the total surface area of zirconium (B1) or hafnium (B2) and niobium.

各コンデンサ素子の漏れ電流を測定した結果を、表2に示す。

Figure 0004879040
Table 2 shows the results of measuring the leakage current of each capacitor element.
Figure 0004879040

表2からわかるように、第2金属層材料として、チタンを用いた場合と同様に、ジルコニウム、ハフニウムを用いた場合も、第1金属層が第2金属層により被覆されていない前記比較例1及び比較例2よりも漏れ電流が著しく低減されている。   As can be seen from Table 2, Comparative Example 1 in which the first metal layer is not covered with the second metal layer also when zirconium or hafnium is used as the second metal layer material in the same manner as when titanium is used. And the leakage current is remarkably reduced as compared with Comparative Example 2.

続いて、第1金属層を構成する金属材料と漏れ電流との関係について検討した。   Subsequently, the relationship between the metal material constituting the first metal layer and the leakage current was examined.

(実施例4)
第1金属層を構成する材料としてニオブを用いる代わりに、タンタルを用いたことを除いて、実施例1と同様にしてコンデンサ素子10(サンプル名:C1)を作製した。
Example 4
A capacitor element 10 (sample name: C1) was produced in the same manner as in Example 1 except that tantalum was used instead of niobium as the material constituting the first metal layer.

(実施例5)
本実施例では、第1金属層を構成する材料としてニオブを用いて1wt%のリン酸水溶液中で陽極酸化した代わりに、アルミニウムを用いて1.5wt%のアジピン酸アンモニウム水溶液で陽極酸化したことを除いては、実施例1と同様にしてコンデンサ素子10(サンプル名:C2)を作製した。
(Example 5)
In this example, niobium was used as a material constituting the first metal layer, and anodization was performed with 1.5 wt% ammonium adipate aqueous solution using aluminum instead of anodizing with 1 wt% phosphoric acid aqueous solution. A capacitor element 10 (sample name: C2) was produced in the same manner as in Example 1 except for.

(比較例3)
陽極1として、チタンで被覆しないニオブ箔を用いる代わりに、チタンで被覆しないタンタル箔を用いたことを除いては、比較例1と同様にコンデンサ素子10(サンプル名:X3)を作製した。
(Comparative Example 3)
A capacitor element 10 (sample name: X3) was prepared in the same manner as in Comparative Example 1 except that a tantalum foil not coated with titanium was used as the anode 1 instead of using a niobium foil not coated with titanium.

(比較例4)
陽極1としてチタンで被覆しないニオブ箔を用い、1wt%のリン酸水溶液中で陽極酸化した代わりに、陽極としてチタンで被覆しないアルミニウム箔を用いて、1.5wt%のアジピン酸アンモニウム水溶液で陽極酸化したことを除いては、比較例1と同様にしてコンデンサ素子10(サンプル名:X4)を作製した。
(Comparative Example 4)
Instead of using niobium foil not coated with titanium as anode 1 and anodizing in 1 wt% phosphoric acid aqueous solution, anodizing with 1.5 wt% ammonium adipate aqueous solution using aluminum foil not coated with titanium as anode Except for this, a capacitor element 10 (sample name: X4) was produced in the same manner as in Comparative Example 1.

実施例4及び5のコンデンサ素子について、実施例1と同様に、EPMAを用いて陽極1の表面について、チタンとタンタル(C1)又はアルミニウム(C2)の元素マッピングにより分析した結果、チタンによる被覆部分は、チタンとタンタル(C1)又はアルミニウム(C2)の総表面積に対して、ともに3%であった。   As in Example 1, the capacitor elements of Examples 4 and 5 were analyzed by element mapping of titanium and tantalum (C1) or aluminum (C2) on the surface of the anode 1 using EPMA. Both were 3% of the total surface area of titanium and tantalum (C1) or aluminum (C2).

各コンデンサ素子の漏れ電流を測定した結果を、表3に示す。

Figure 0004879040
Table 3 shows the results of measuring the leakage current of each capacitor element.
Figure 0004879040

表3からわかるように、第1金属層材料として、ニオブを用いた場合と同様に、タンタル、アルミニウムを用いた場合も、第1金属層が第2金属層により被覆されていない前記比較例3及び比較例4よりも漏れ電流が著しく低減されている。   As can be seen from Table 3, the first metal layer is not covered with the second metal layer in the case of using tantalum or aluminum as in the case of using niobium as the first metal layer material. And the leakage current is remarkably reduced as compared with Comparative Example 4.

次に、第1金属層を構成する形態と漏れ電流との関係について検討した。   Next, the relationship between the form constituting the first metal layer and the leakage current was examined.

(実施例6)
(ステップ1)
第1金属層を構成する金属としてニオブ粉末0.99g、第2金属層を構成する金属としてチタン粉末0.01gをそれぞれ用い、超硬合金製ボールを用いた遊星型ボールミルで4時間混合して、均一に分散させた粉体を得た。得られた粉体とニオブリード線を同時にプレス成型してペレットを作製した。引き続き、作製したペレットを減圧下(3×10−5Torr)、1100℃で焼結させ、ニオブ表面の一部がチタンで被覆された焼結体を得た。
(Example 6)
(Step 1)
Using 0.99 g of niobium powder as the metal constituting the first metal layer and 0.01 g of titanium powder as the metal constituting the second metal layer, the mixture was mixed for 4 hours with a planetary ball mill using cemented carbide balls. A uniformly dispersed powder was obtained. The obtained powder and niobium lead wire were press-molded at the same time to produce pellets. Subsequently, the prepared pellets were sintered at 1100 ° C. under reduced pressure (3 × 10 −5 Torr) to obtain a sintered body in which a part of the niobium surface was coated with titanium.

このようにして作製した陽極1について、第2金属層に被覆されている第1金属層上の領域の面積の割合を調べるため、陽極1における任意の1点を通り、図4に示すa、bおよびcの各面に対してそれぞれ平行な断面を、走査型電子顕微鏡(SEM)により観察した。これにより、チタンによる被覆部分を算出した結果、チタンとニオブの総表面積に対して3%であった。   In order to examine the ratio of the area of the region on the first metal layer covered with the second metal layer for the anode 1 thus manufactured, the anode 1 passes through one arbitrary point on the anode 1 and a shown in FIG. Cross sections parallel to the respective surfaces b and c were observed with a scanning electron microscope (SEM). Thereby, as a result of calculating the coating | coated part with titanium, it was 3% with respect to the total surface area of titanium and niobium.

(ステップ2)
陽極1を60℃の1wt%リン酸水溶液において10Vの一定電圧で10時間陽極酸化させて、厚さ25nmの誘電体層4を形成した。
(Step 2)
The anode 1 was anodized in a 1 wt% phosphoric acid aqueous solution at 60 ° C. at a constant voltage of 10 V for 10 hours to form a dielectric layer 4 having a thickness of 25 nm.

このようにして、陽極1、誘電体層4から構成されるコンデンサ素子10(サンプル名:D1)を作製した。   In this way, a capacitor element 10 (sample name: D1) composed of the anode 1 and the dielectric layer 4 was produced.

(比較例5)
実施例6の(ステップ1)において、ニオブ表面にチタンを被覆した焼結体を用いる代わりに、ニオブ粉末とニオブリード線を同時にプレス成型してペレットを作製し、真空中(3×10−5Torr)、1100℃で焼結させたニオブ焼結体を陽極1とした以外は同様にして、コンデンサ素子10(サンプル名:X5)を作製した。
(Comparative Example 5)
In Example 6 (Step 1), instead of using a sintered body in which the niobium surface is coated with titanium, niobium powder and niobium lead wire are press-molded at the same time to produce pellets, and in vacuum (3 × 10 −5 Torr) ) A capacitor element 10 (sample name: X5) was produced in the same manner except that the niobium sintered body sintered at 1100 ° C. was used as the anode 1.

各コンデンサ素子の漏れ電流を測定した結果を表4に示す。

Figure 0004879040
Table 4 shows the results of measuring the leakage current of each capacitor element.
Figure 0004879040

表4からわかるように、第1金属層として金属箔を用いた場合と同様に、焼結体を用いた場合も、第1金属層が第2金属層により被覆されていない比較例5よりも漏れ電流が著しく低減されている。   As can be seen from Table 4, as in the case of using the metal foil as the first metal layer, when the sintered body is used, the first metal layer is more than the comparative example 5 that is not covered with the second metal layer. Leakage current is significantly reduced.

上述したように、上記実施例にかかるコンデンサ素子によれば、コンデンサの漏れ電流を低減することができる。   As described above, according to the capacitor element according to the above embodiment, the leakage current of the capacitor can be reduced.

よって、上記実施例にかかるコンデンサ素子を用いた、本発明にかかる固体電解コンデンサによれば、漏れ電流を低減することができる。   Therefore, according to the solid electrolytic capacitor according to the present invention using the capacitor element according to the above embodiment, the leakage current can be reduced.

なお、今回開示された実施例は、すべての点で例示であって、制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は、上記した実施例の説明ではなく特許請求の範囲によって示され、さらに特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれる。   In addition, it should be thought that the Example disclosed this time is an illustration and restrictive at no points. The scope of the present invention is shown not by the above description of the embodiments but by the scope of claims for patent, and further includes meanings equivalent to the scope of claims for patent and all modifications within the scope.

たとえば、上記実施形態では、電解質層5は、ポリピロールから構成されていたが、本発明はこれに限らず、他の導電性高分子を主成分としてもよく、あるいは、酸化マンガンを主成分としてもよい。   For example, in the above embodiment, the electrolyte layer 5 is made of polypyrrole, but the present invention is not limited to this, and other conductive polymers may be the main component, or manganese oxide may be the main component. Good.

また、上記実施例では、第1金属層は、ニオブ、タンタル又はアルミニウムから構成されていたが、本発明はこれに限らず、これらの弁作用金属を主成分とする合金などであってもよい。   Moreover, in the said Example, although the 1st metal layer was comprised from niobium, a tantalum, or aluminum, this invention is not restricted to this, The alloy etc. which have these valve action metals as a main component may be sufficient. .

また、上記実施例では、陽極1の陽極酸化にはリン酸水溶液やアジピン酸アンモニウム水溶液を用いたが、本発明はこれに限らず、例えば、フッ化アンモニウム水溶液、フッ化カリウム水溶液、フッ化ナトリウム水溶液およびフッ酸水溶液などのフッ素を含む水溶液や硫酸などを用いてもよい。   In the above embodiment, phosphoric acid aqueous solution or ammonium adipate aqueous solution was used for anodic oxidation of anode 1, but the present invention is not limited to this. For example, ammonium fluoride aqueous solution, potassium fluoride aqueous solution, sodium fluoride An aqueous solution containing fluorine such as an aqueous solution and a hydrofluoric acid solution, sulfuric acid, or the like may be used.

本発明の実施形態による固体電解コンデンサの断面図である。It is sectional drawing of the solid electrolytic capacitor by embodiment of this invention. 本発明の実施形態による固体電解コンデンサの陽極の構造を説明するための上面図である。It is a top view for demonstrating the structure of the anode of the solid electrolytic capacitor by embodiment of this invention. コンデンサ素子の漏れ電流を測定するための系を説明するための模式図である。It is a schematic diagram for demonstrating the system for measuring the leakage current of a capacitor | condenser element. 走査型電子顕微鏡(SEM)による陽極1の観察方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the observation method of the anode 1 by a scanning electron microscope (SEM).

符号の説明Explanation of symbols

1 陽極
2 第1金属層
3 第2金属層
4 誘電体層
5 電解質層
6 陰極
6a 第1導電層
6b 第2導電層
7 陽極端子
8 陰極端子
9 外装体
10 コンデンサ素子
11 陽極リード
12 導電性接着剤層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Anode 2 1st metal layer 3 2nd metal layer 4 Dielectric layer 5 Electrolyte layer 6 Cathode 6a 1st conductive layer 6b 2nd conductive layer 7 Anode terminal 8 Cathode terminal 9 Exterior body 10 Capacitor element 11 Anode lead 12 Conductive adhesion Agent layer

Claims (1)

陽極と、陰極と、該陽極が陽極酸化されて形成される誘電体層とを備えた固体電解コンデンサにおいて、前記陽極は、ニオブ、アルミニウム、タンタルのいずれか又はニオブ、アルミニウム、タンタルのいずれかを主成分とする合金からなる第1金属層と、該第1金属層の表面の一部がチタン、ジルコニウム、ハフニウムのいずれかを含む第2金属層で被覆され
前記第2金属層に被覆されている前記第1金属層の領域の面積が、前記第1金属層の表面積の0.5%以上10%以下であることを特徴とする固体電解コンデンサ。
In a solid electrolytic capacitor including an anode, a cathode, and a dielectric layer formed by anodizing the anode, the anode is made of niobium, aluminum, or tantalum, or niobium, aluminum, or tantalum. A first metal layer made of an alloy as a main component, and a part of the surface of the first metal layer is coated with a second metal layer containing any of titanium, zirconium, and hafnium ;
The area of the area | region of the said 1st metal layer coat | covered with the said 2nd metal layer is 0.5 to 10% of the surface area of the said 1st metal layer, The solid electrolytic capacitor characterized by the above-mentioned.
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