JP4872296B2 - Silicone rubber-sealed light emitting device and method for manufacturing the light emitting device - Google Patents

Silicone rubber-sealed light emitting device and method for manufacturing the light emitting device Download PDF

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Description

本発明は、シリコーンゴム封止型発光装置、特にシリコーンゴムからなる封止体のタック性が低減されたシリコーンゴム封止型発光装置及び該装置の製造方法に関する。   The present invention relates to a silicone rubber sealed light emitting device, and more particularly to a silicone rubber sealed light emitting device in which tackiness of a sealing body made of silicone rubber is reduced, and a method for manufacturing the device.

シリコーンゴム組成物は、耐候性、耐熱性等の特性や、硬度、伸び等のゴム的性質に優れた硬化物を形成することが知られている。
シリコーン硬化物で発光ダイオードを封止(モールディング)することが行なわれているが、シリコーン硬化物のうち硬質レジンは一般にクラック、ボンディングワイヤの変形を発生しやすく、軟質ゴムは表面タックのために埃の付着、パーツフィーダでの封止樹脂(モールド樹脂)の粘着が頻繁に起こり易い。対策として、内側に軟質のゴムもしくはゲルのタイプを使用し、その外側を硬質ゴムもしくは硬質レジンで被覆する方法が一般的である(特許文献1)。しかし、この方法では、軟質ゴムや軟質ゲルは通常硬化後のポリマー中に微量のビニル基が残存しているので外側の硬質ゴムもしくは硬質レジンの影響を受けて内側の軟質ゴムやゲルが経時的に硬質化し、そのためにボンディングワイヤの断線や変形が発生し易い。
It is known that a silicone rubber composition forms a cured product having excellent properties such as weather resistance and heat resistance, and rubber properties such as hardness and elongation.
Light-emitting diodes are sealed (molded) with cured silicone, but hard resin of silicone cured products is generally susceptible to cracking and bonding wire deformation, and soft rubber is dusty due to surface tack. And adhesion of the sealing resin (mold resin) in the parts feeder are likely to occur frequently. As a countermeasure, a general method is to use a soft rubber or gel type on the inside and coat the outside with a hard rubber or a hard resin (Patent Document 1). However, in this method, since a small amount of vinyl groups remain in the polymer after being cured, the soft rubber or soft gel is affected by the hard rubber or resin outside, and the soft rubber or gel inside the soft rubber over time. Therefore, the bonding wire is easily broken or deformed.

特開平3−178433号公報Japanese Patent Laid-Open No. 3-178433

そこで、本発明の課題は、発光ダイオードの封止体として使用される軟質ゴムタイプのシリコーンゴム硬化物の弾性体としての特性を経時的に安定化しつつ、その表面タック性を低減したシリコーンゴム封止型発光装置及びその製造方法を提供することにある。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a silicone rubber encapsulant that has a reduced surface tack property while stabilizing the characteristics as an elastic body of a cured soft rubber type silicone rubber used as an LED encapsulant. To provide a stationary light emitting device and a method for manufacturing the same.

本発明らは鋭意研究の結果、付加反応硬化型液状シリコーンゴム組成物において、軟質ゴムとして架橋に関与するケイ素原子結合水素原子(Si−H)/ケイ素原子結合アルケニル基のバランスをSiH過剰で、かつ、硬化後に所定のタイプA硬度を有する硬化物を与えるシリコーンゴム組成物を使用し、この軟質ゴム表面を所定のタイプD硬度を有する硬質シリコーンレジンで被覆することにより上記課題を解決できることを見出し、以下の本発明に到達した。   As a result of intensive studies, the present inventors have determined that the balance of silicon atom-bonded hydrogen atoms (Si-H) / silicon atom-bonded alkenyl groups involved in crosslinking as a soft rubber in the addition reaction curable liquid silicone rubber composition is SiH excess, And it discovered that the said subject can be solved by using the silicone rubber composition which gives the hardened | cured material which has a predetermined type A hardness after hardening, and coat | covering this soft rubber surface with the hard silicone resin which has a predetermined type D hardness. The present invention has been reached.

本発明によれば、第一に、
底面と側面を持つ凹部を有するパッケージと、
前記パッケージの凹部の底面に載置された発光ダイオードと、
前記パッケージの凹部内に配置され、前記発光ダイオードを封止する封止体と、
を有してなる発光装置にして、
前記封止体が、前記発光ダイオードを被覆する第1の封止部材と、該第1の封止部材の表面を被覆する第2の封止部材とからなり、
前記第1の封止部材は、組成物中のケイ素原子に結合したアルケニル基に対するケイ素原子に結合した水素原子のモル比が1.0以上で、硬化後のJISK6253に規定のタイプA硬度が20以下である硬化性シリコーンゴム組成物の硬化物からなり、
前記第2の封止部材は、JISK6253に規定のタイプD硬度が30以上であって、厚さ0.5mm以下の硬化シリコーン樹脂層からなる、ことを特徴とするシリコーンゴム封止型発光装置が提供される。
According to the present invention, first,
A package having a recess having a bottom surface and a side surface;
A light emitting diode placed on the bottom surface of the recess of the package;
A sealing body disposed in the recess of the package and sealing the light emitting diode;
A light emitting device comprising
The sealing body includes a first sealing member that covers the light emitting diode, and a second sealing member that covers the surface of the first sealing member,
In the first sealing member, the molar ratio of hydrogen atoms bonded to silicon atoms to alkenyl groups bonded to silicon atoms in the composition is 1.0 or more, and the type A hardness defined in JISK6253 after curing is 20 It consists of a cured product of the following curable silicone rubber composition,
A silicone rubber-sealed light emitting device characterized in that the second sealing member comprises a cured silicone resin layer having a type D hardness specified in JIS K6253 of 30 or more and a thickness of 0.5 mm or less. Provided.

本発明は、第二に、
発光ダイオードを、組成物中のケイ素原子に結合したアルケニル基に対するケイ素原子に結合した水素原子のモル比が1.0以上で、硬化後のJISK6253に規定のタイプA硬度が20以下である硬化性シリコーンゴム組成物の硬化物で封止し、
該封止のために形成された前記硬化物の表面に、硬化後のJISK6253に規定のタイプD硬度が30以上である硬化性シリコーン樹脂を塗布し、
該硬化性シリコーン樹脂の塗布した塗膜を硬化させて厚さ0.5mm以下の硬化シリコーン樹脂層を形成する、
工程を有する、シリコーンゴム封止型発光装置の製造方法を提供する。
The present invention secondly,
Curability of the light emitting diode in which the molar ratio of hydrogen atoms bonded to silicon atoms to alkenyl groups bonded to silicon atoms in the composition is 1.0 or more, and the type A hardness specified in JIS K6253 is 20 or less after curing. Sealed with a cured product of silicone rubber composition,
A curable silicone resin having a specified type D hardness of 30 or more is applied to the cured JISK6253 on the surface of the cured product formed for the sealing,
Curing the coating film coated with the curable silicone resin to form a cured silicone resin layer having a thickness of 0.5 mm or less;
Provided is a method for producing a silicone rubber-sealed light emitting device having a process.

本発明のシリコーンゴム封止型発光装置及びその製造方法によれば、硬質レジン被覆層の剥離やクラック発生が効果的に抑制され、かつ封止体であるシリコーンゴム硬化物表面のタック性が効果的に抑制される。したがって埃の付着などを防止することができるので発光ダイオード封止プロセスにおいて有用である。また、シリコーンゴム硬化物が経時的に安定であるので発光装置の信頼性が高まる。   According to the silicone rubber-sealed light emitting device and the manufacturing method thereof of the present invention, peeling of the hard resin coating layer and generation of cracks are effectively suppressed, and the tackiness of the surface of the cured silicone rubber that is a sealing body is effective. Is suppressed. Therefore, dust adhesion and the like can be prevented, which is useful in a light emitting diode sealing process. Further, since the cured silicone rubber is stable over time, the reliability of the light emitting device is increased.

以下の説明及び特許請求の範囲における説明において、「タイプA硬度」とはJISK6253に規定のデュロメータAタイプを用いて測定された硬さを意味し、「タイプD硬度」とは同規格のデュロメータDタイプを用いて測定された硬さを意味する。   In the following description and claims, “type A hardness” means the hardness measured using the durometer A type specified in JISK6253, and “type D hardness” means the durometer D of the same standard. It means the hardness measured using the type.

[封止体]
本発明の発光装置では発光ダイオードの封止体は二重構造を有するという特徴を有する。即ち、該封止体は、前記発光ダイオードを被覆する第1の封止部材と、該第1の封止部材の表面を被覆する第2の封止部材とから構成される。
前記第1の封止部材は、組成物中のケイ素原子に結合したアルケニル基に対するケイ素原子に結合した水素原子のモル比(以下、「Si−H/Si−アルケニルモル比」という)が1.0以上で、硬化後のJISK6253に規定のタイプA硬度が20以下である硬化性シリコーンゴム組成物の硬化物からなる。
前記第2の封止部材は、JISK6253に規定のタイプD硬度が30以上であって、厚さ0.5mm以下の硬化シリコーン樹脂層からなる。
[Sealed body]
In the light emitting device of the present invention, the sealing body of the light emitting diode has a double structure. That is, the sealing body includes a first sealing member that covers the light-emitting diode and a second sealing member that covers the surface of the first sealing member.
The first sealing member has a molar ratio of hydrogen atoms bonded to silicon atoms to alkenyl groups bonded to silicon atoms in the composition (hereinafter referred to as “Si—H / Si-alkenyl molar ratio”) of 1. It consists of a cured product of a curable silicone rubber composition that is 0 or more and has a type A hardness of 20 or less as defined in JISK6253 after curing.
The second sealing member is formed of a cured silicone resin layer having a type D hardness defined in JIS K6253 of 30 or more and a thickness of 0.5 mm or less.

〈第1の封止部材〉
第1の封止部材の原料である硬化性シリコーンゴム組成物としては、
(i)組成物中のSi−H/Si−アルケニルモル比が1.0以上、好ましくは1.0〜4.0、より好ましくは1.0〜3.0であり、さらに好ましくは1.0〜2.0であり、
(ii)硬化後にタイプA硬度が20以下、好ましくは18以下である硬化物表面を形成する、
付加反応硬化型シリコーンゴム組成物であれば使用することができる。この場合、硬度の下限に特に制限はなく、通常はタイプA硬度が1以上、好ましくは2以上、より好ましくは5以上であればよい。
<First sealing member>
As the curable silicone rubber composition that is the raw material of the first sealing member,
(i) Si—H / Si-alkenyl molar ratio in the composition is 1.0 or more, preferably 1.0 to 4.0, more preferably 1.0 to 3.0, still more preferably 1. 0-2.0,
(ii) forming a cured product surface having a type A hardness of 20 or less, preferably 18 or less after curing;
Any addition reaction curable silicone rubber composition can be used. In this case, the lower limit of the hardness is not particularly limited, and the type A hardness is usually 1 or more, preferably 2 or more, more preferably 5 or more.

付加反応硬化型シリコーンゴム組成物中のSi−H/Si−アルケニルモル比が1.0未満では、該シリコーンゴム組成物の硬化物表面を、硬化性シリコーン樹脂の硬化物(硬質シリコーンレジン)で被覆しても、軟質シリコーンゴム硬化物内部に該硬化性シリコーン樹脂の架橋剤が侵入し、シリコーンゴム硬化物内部に残存するアルケニル基と反応する結果、該軟質シリコーンゴム硬化物の硬度が経時的に上昇してしまう。該組成物のタイプA硬度が20を超えると、ワイヤー変形や基板との剥離が生じる危険性が高い。   When the Si—H / Si-alkenyl molar ratio in the addition reaction curable silicone rubber composition is less than 1.0, the cured product surface of the silicone rubber composition is made of a cured product of a curable silicone resin (hard silicone resin). Even after coating, the crosslinker of the curable silicone resin penetrates into the hardened silicone rubber cured product and reacts with the alkenyl group remaining in the cured silicone rubber, resulting in the hardness of the cured soft silicone rubber over time. Will rise. When the type A hardness of the composition exceeds 20, there is a high risk of wire deformation and peeling from the substrate.

〈好ましい付加反応硬化型液状シリコーンゴム組成物〉
本発明において、第1の封止部材(軟質シリコーンゴム)を形成する付加反応硬化型液状シリコーンゴム組成物として特に好適な一例として次に説明する組成物を挙げることができる。即ち、
(A)一分子中にケイ素原子に結合したアルケニル基を2個含有するオルガノポリシロキサン、
(B)一分子中にケイ素原子に結合したアルケニル基を3個以上含有するオルガノポリシロキサン、
(C)一分子中にケイ素原子に結合した水素原子を2個含むオルガノハイドロジェンポリシロキサン、及び
(D)白金族金属系触媒
を含有してなり、かつ、組成物中のケイ素原子に結合したアルケニル基に対するケイ素原子に結合した水素原子のモル比が1.0以上で、硬化後のJISK6253に規定のタイプA硬度が20以下である付加反応硬化型液状シリコーンゴム組成物である。
<Preferable addition reaction curable liquid silicone rubber composition>
In the present invention, as an example of a particularly preferable addition reaction curable liquid silicone rubber composition for forming the first sealing member (soft silicone rubber), the following composition can be mentioned. That is,
(A) an organopolysiloxane containing two alkenyl groups bonded to silicon atoms in one molecule;
(B) an organopolysiloxane containing three or more alkenyl groups bonded to silicon atoms in one molecule;
(C) An organohydrogenpolysiloxane containing two hydrogen atoms bonded to silicon atoms in one molecule, and (D) a platinum group metal catalyst, and bonded to silicon atoms in the composition This is an addition reaction curable liquid silicone rubber composition having a molar ratio of hydrogen atoms bonded to silicon atoms to alkenyl groups of 1.0 or more and a type A hardness specified in JIS K6253 after curing of 20 or less.

上記の付加反応硬化型液状シリコーンゴム組成物は、硬化物が高い透明性とともにLCP等のパッケージ材料に非常に良好な接着性を示すので発光ダイオード封止材料として有用で、信頼性の高いシリコーンゴム封止型発光装置を得ることが出来る。
本組成物は上記の通り(A)〜(D)の成分を必須成分とする。以下、成分ごとに説明する。
The above addition reaction curable liquid silicone rubber composition is useful as a light-emitting diode encapsulating material because the cured product exhibits high transparency and very good adhesion to packaging materials such as LCP. A sealed light emitting device can be obtained.
As described above, the present composition comprises the components (A) to (D) as essential components. Hereinafter, each component will be described.

・(A)アルケニル基含有オルガノポリシロキサン1
この(A)成分は、一分子中にケイ素原子に結合したアルケニル基を2個含有するオルガノポリシロキサンであり、本シリコーンゴム組成物における主剤(ベースポリマー成分)である。
(A) Alkenyl group-containing organopolysiloxane 1
This component (A) is an organopolysiloxane containing two alkenyl groups bonded to silicon atoms in one molecule, and is the main agent (base polymer component) in the present silicone rubber composition.

該オルガノポリシロキサンは、アルケニル基として、ビニル基、アリル基等の炭素原子数2〜8、特に2〜6の、ケイ素原子に結合したアルケニル基を一分子中に2個有する。粘度は25℃で10〜1,000,000mPa・s、特に100〜100,000mPa・sであることが作業性、硬化性などから望ましい。   The organopolysiloxane has, as an alkenyl group, two alkenyl groups bonded to a silicon atom having 2 to 8 carbon atoms, particularly 2 to 6 carbon atoms such as vinyl group and allyl group, in one molecule. The viscosity is preferably 10 to 1,000,000 mPa · s at 25 ° C., particularly 100 to 100,000 mPa · s from the viewpoint of workability and curability.

具体的には、下記一般式(1)で表される分子鎖両末端のケイ素原子上にそれぞれ1個のアルケニル基を有する主鎖がアルケニル基を有さないジオルガノシロキサン単位の繰り返しからなり、分子鎖両末端がトリオルガノシロキシ基で封鎖された直鎖状オルガノポリシロキサンであって、上記の通り25℃における粘度が10〜1,000,000mPa・sのものが作業性、硬化性などから望ましい。なお、この直鎖状オルガノポリシロキサンは少量の分岐状構造(三官能性シロキサン単位)を分子鎖中に含有するものであってもよい。尚、一般式(1)において分子鎖両末端のケイ素原子に結合したビニル基は、アリル基、プロペニル基等の他のアルケニル基で置換されたものであってもよい。   Specifically, the main chain having one alkenyl group on each silicon atom at both ends of the molecular chain represented by the following general formula (1) consists of repeating diorganosiloxane units having no alkenyl group, A linear organopolysiloxane having both ends of a molecular chain blocked with a triorganosiloxy group and having a viscosity of 10 to 1,000,000 mPa · s at 25 ° C. as described above from the viewpoint of workability and curability. desirable. The linear organopolysiloxane may contain a small amount of a branched structure (trifunctional siloxane unit) in the molecular chain. In the general formula (1), the vinyl group bonded to the silicon atoms at both ends of the molecular chain may be substituted with another alkenyl group such as an allyl group or a propenyl group.

Figure 0004872296
(式中、R1は互いに同一又は異種の脂肪族不飽和結合を有さない非置換又は置換一価炭化水素基であり、Rはアルケニル基であり、kはこのオルガノポリシロキサンの25℃の粘度を10〜1,000,000mPa・sとする0又は正の整数である。)
Figure 0004872296
(Wherein R 1 is an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group that does not have the same or different aliphatic unsaturated bond, R 2 is an alkenyl group, and k is 25 ° C. of the organopolysiloxane. Is 0 or a positive integer with a viscosity of 10 to 1,000,000 mPa · s.)

ここで、R1の脂肪族不飽和結合を有さない非置換又は置換の一価炭化水素基としては、例えば、炭素原子数1〜10、特に1〜6のものが好ましく、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、オクチル基、ノニル基、デシル基等のアルキル基、フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基等のアリール基、ベンジル基、フェニルエチル基、フェニルプロピル基等のアラルキル基、並びに、これらの基の水素原子の一部又は全部をフッ素、臭素、塩素等のハロゲン原子、シアノ基等で置換したもの、例えばクロロメチル基、クロロプロピル基、ブロモエチル基、トリフロロプロピル基等のハロゲン置換アルキル基、シアノエチル基等が挙げられる。Rのアルケニル基としては、例えば炭素原子数2〜6、特に2〜3のものが好ましく、具体的にはビニル基、アリル基、プロペニル基、イソプロペニル基、ブテニル基、イソブテニル基、ヘキセニル基、シクロヘキセニル基等が挙げられ、好ましくはビニル基である。 Here, as the unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group having no aliphatic unsaturated bond of R 1 , for example, those having 1 to 10 carbon atoms, particularly 1 to 6 carbon atoms are preferable, specifically Alkyl group such as methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, tert-butyl group, pentyl group, neopentyl group, hexyl group, cyclohexyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, phenyl Group, tolyl group, xylyl group, aryl group such as naphthyl group, aralkyl group such as benzyl group, phenylethyl group, phenylpropyl group, and part or all of hydrogen atoms of these groups are fluorine, bromine, chlorine, etc. Substituted with a halogen atom, cyano group, etc. Alkyl group, cyanoethyl group and the like. As the alkenyl group for R 2 , for example, those having 2 to 6 carbon atoms, particularly 2 to 3 carbon atoms are preferable, and specifically, vinyl group, allyl group, propenyl group, isopropenyl group, butenyl group, isobutenyl group, hexenyl group. And a cyclohexenyl group, and a vinyl group is preferable.

一般式(1)において、kは、一般的には0≦k≦10,000を満足する0又は正の整数であり、好ましくは5≦k≦2,000、より好ましくは10≦k≦1,200を満足する整数である。   In the general formula (1), k is generally 0 or a positive integer satisfying 0 ≦ k ≦ 10,000, preferably 5 ≦ k ≦ 2,000, more preferably 10 ≦ k ≦ 1. , 200 is an integer that satisfies 200.

(A)成分のオルガノポリシロキサンとして具体的には、下記のものを例示することができる。   Specific examples of the organopolysiloxane (A) include the following.

Figure 0004872296
(上記各式において、tは独立に8〜2,000の整数である。)
Figure 0004872296
(In the above formulas, t is independently an integer of 8 to 2,000.)

Figure 0004872296
Figure 0004872296

・(B)アルケニル基含有オルガノポリシロキサン2
(B)成分のオルガノポリシロキサンは一分子中に例えばビニル基、アリル基等の炭素原子数2〜8、特に2〜6のケイ素原子に結合したアルケニル基を3個以上、通常、3〜30個、好ましくは、3〜20個程度有するオルガノポリシロキサンである。分子構造は直鎖状、環状、分岐状、三次元網状のいずれの分子構造のものであってもよい。好ましくは、主鎖がジオルガノシロキサン単位の繰り返しからなり、分子鎖両末端がトリオルガノシロキシ基で封鎖された、25℃での粘度が10〜1,000,000mPa・s、特に100〜100,000mPa・sの直鎖状オルガノポリシロキサンである。
(B) Alkenyl group-containing organopolysiloxane 2
The organopolysiloxane of the component (B) has 3 or more alkenyl groups bonded to silicon atoms having 2 to 8 carbon atoms, particularly 2 to 6 carbon atoms such as vinyl groups and allyl groups in one molecule, usually 3 to 30. It is an organopolysiloxane having about 3, preferably about 20 pieces. The molecular structure may be any of linear, cyclic, branched, and three-dimensional network structures. Preferably, the main chain is composed of repeating diorganosiloxane units, and both ends of the molecular chain are blocked with triorganosiloxy groups, and the viscosity at 25 ° C. is 10 to 1,000,000 mPa · s, particularly 100 to 100, 000 mPa · s linear organopolysiloxane.

アルケニル基は分子鎖末端のケイ素原子に結合していても、分子鎖非末端(分子鎖途中)のケイ素原子に結合していても、これら両方のタイプのアルケニル基が一分子中に混在していてもよい。なかでも下記一般式(2)で表される分子鎖両末端のケイ素原子上にそれぞれ1〜3個のアルケニル基を有し、(但し、この分子鎖末端のケイ素原子に結合したアルケニル基が、両末端合計で3個未満である場合には、分子鎖非末端(分子鎖途中)のケイ素原子に結合したアルケニル基を、(例えばジオルガノシロキサン単位中の置換基として)少なくとも1個有する直鎖状オルガノポリシロキサンであって、上記でも述べた通り25℃における粘度が10〜1,000,000mPa・sのものが作業性、硬化性などから望ましい。なお、この直鎖状オルガノポリシロキサンは少量の分岐状構造(三官能性シロキサン単位)を分子鎖中に含有するものであってもよい。   Even if the alkenyl group is bonded to the silicon atom at the end of the molecular chain or bonded to the silicon atom at the non-end of the molecular chain (in the middle of the molecular chain), both types of alkenyl groups are mixed in one molecule. May be. Especially, it has 1 to 3 alkenyl groups on the silicon atoms at both ends of the molecular chain represented by the following general formula (2) (provided that the alkenyl group bonded to the silicon atoms at the molecular chain ends is If the total number of both ends is less than 3, a straight chain having at least one alkenyl group bonded to a silicon atom at the non-terminal end of the molecular chain (in the middle of the molecular chain) (for example, as a substituent in the diorganosiloxane unit) As mentioned above, it is preferable that the viscosity is 10 to 1,000,000 mPa · s at 25 ° C. from the viewpoint of workability, curability, etc. The linear organopolysiloxane is a small amount. The branched structure (trifunctional siloxane unit) may be contained in the molecular chain.

Figure 0004872296
Figure 0004872296

(式中、Rは互いに同一又は異種の非置換又は置換一価炭化水素基であって、少なくとも1個がアルケニル基である。Rは互いに同一又は異種の脂肪族不飽和結合を有さない非置換又は置換一価炭化水素基であり、Rはアルケニル基であり、l,mは0又は正の整数であり、l+mがこのオルガノポリシロキサンの25℃の粘度を10〜1,000,000mPa・sとする数である。) (In the formula, R 3 is the same or different unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group, and at least one is an alkenyl group. R 4 has the same or different aliphatic unsaturated bond. Is an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group, R 5 is an alkenyl group, l and m are 0 or a positive integer, and l + m is the viscosity of the organopolysiloxane at 25 ° C. of 10 to 1,000. , 000 mPa · s.)

ここで、Rの一価炭化水素基としては、炭素原子数1〜10、特に1〜6のものが好ましく、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、オクチル基、ノニル基、デシル基等のアルキル基、フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基等のアリール基、ベンジル基、フェニルエチル基、フェニルプロピル基等のアラルキル基、ビニル基、アリル基、プロペニル基、イソプロペニル基、ブテニル基、ヘキセニル基、シクロヘキセニル基、オクテニル基等のアルケニル基や、これらの基の水素原子の一部又は全部をフッ素、臭素、塩素等のハロゲン原子、シアノ基等で置換したもの、例えばクロロメチル基、クロロプロピル基、ブロモエチル基、トリフロロプロピル基等のハロゲン置換アルキル基やシアノエチル基等が挙げられる。 Here, as the monovalent hydrocarbon group of R 3 , those having 1 to 10 carbon atoms, particularly 1 to 6 carbon atoms are preferable, and specifically, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, Alkyl group such as isobutyl group, tert-butyl group, pentyl group, neopentyl group, hexyl group, cyclohexyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, aryl group such as phenyl group, tolyl group, xylyl group, naphthyl group, benzyl Groups, aralkyl groups such as phenylethyl group, phenylpropyl group, etc., alkenyl groups such as vinyl group, allyl group, propenyl group, isopropenyl group, butenyl group, hexenyl group, cyclohexenyl group, octenyl group, etc., and hydrogen of these groups Some or all of the atoms are substituted with halogen atoms such as fluorine, bromine and chlorine, cyano groups, etc., for example, chloromethyl Groups, halogen-substituted alkyl groups such as chloropropyl group, bromoethyl group, trifluoropropyl group, and cyanoethyl group.

また、Rの一価炭化水素基としても、炭素原子数1〜10、特に1〜6のものが好ましく、上記R1の具体例と同様のものが例示できるが、但しアルケニル基は含まない。 Also, as the monovalent hydrocarbon group for R 4 , those having 1 to 10 carbon atoms, particularly 1 to 6 carbon atoms are preferable, and the same examples as the specific examples of R 1 can be exemplified, but an alkenyl group is not included. .

のアルケニル基としては、例えば炭素数2〜6、特に炭素数2〜3のものが好ましく、具体的には前記式(1)のRと同じものが例示され、好ましくはビニル基である。 As the alkenyl group for R 5 , for example, those having 2 to 6 carbon atoms, particularly those having 2 to 3 carbon atoms are preferable, and specifically the same as R 2 in the above formula (1) are exemplified, preferably vinyl group is there.

l,mは、一般的には0<l+m≦10,000を満足する0又は正の整数であり、好ましくは5≦l+m≦2,000、より好ましくは10≦l+m≦1,200で、0<l/(l+m)≦0.2、好ましくは、0.001≦l/(l+m)≦0.1を満足する整数である。   l and m are generally 0 or a positive integer satisfying 0 <l + m ≦ 10,000, preferably 5 ≦ l + m ≦ 2,000, more preferably 10 ≦ l + m ≦ 1,200, <L / (l + m) ≦ 0.2, preferably an integer satisfying 0.001 ≦ l / (l + m) ≦ 0.1.

(B)成分のオルガノポリシロキサンとしては、中でも具体的には下記のものが代表的なものとして例示できる。   Specific examples of the organopolysiloxane of component (B) include the following compounds.

Figure 0004872296
(上記式において、l,mは上述した通りである。)
Figure 0004872296
(In the above formula, l and m are as described above.)

(B)成分としては、上記の直鎖状オルガノポリシロキサンの他にもレジン構造(即ち、三次元網状構造)のオルガノポリシロキサンを使用することができ、また上記の直鎖状オルガノポリシロキサンと併用して使用することも出来る。 As the component (B), in addition to the above linear organopolysiloxane, an organopolysiloxane having a resin structure (that is, a three-dimensional network structure) can be used. Can be used in combination.

上記レジン構造(即ち、三次元網状構造)のオルガノポリシロキサンは、SiO2単位、R30 n4 pSiO0.5単位及びR30 q4 rSiO0.5単位からなるレジン構造のオルガノポリシロキサン(但し、これらの式において、R30はビニル基、アリル基等のアルケニル基、R4は前記の通り脂肪族不飽和結合を含まない一価炭化水素基であり、nは2又は3、pは0又は1で、但しn+p=3である。qは0又は1、rは2又は3で、但しq+r=3である。)である。 The above-mentioned organopolysiloxane having a resin structure (that is, a three-dimensional network structure) is an organopolysiloxane having a resin structure composed of SiO 2 units, R 30 n R 4 p SiO 0.5 units and R 30 q R 4 r SiO 0.5 units (provided that In these formulas, R 30 is an alkenyl group such as a vinyl group or an allyl group, R 4 is a monovalent hydrocarbon group containing no aliphatic unsaturated bond as described above, n is 2 or 3, and p is 0. Or 1, where n + p = 3, q is 0 or 1, r is 2 or 3, where q + r = 3.

ここで、SiO2単位をa単位、
30 n4 pSiO0.5単位をb単位、
30 q4 rSiO0.5単位をc単位
とし、それぞれのモル数もa,b及びcで表すと、各単位の割合は、モル比として、
(b+c)/a=0.3〜3、特に0.7〜1、c/a=0.01〜1、特に0.07〜0.15であることが好ましい。またこの(B)成分のオルガノポリシロキサンは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)によるポリスチレン換算の重量平均分子量が500〜10,000の範囲であるものが好適である。
Here, SiO 2 unit is a unit,
R 30 n R 4 p SiO 0.5 unit is b unit,
When R 30 q R 4 r SiO 0.5 unit is c unit and the number of moles of each unit is also represented by a, b and c, the ratio of each unit is expressed as molar ratio,
It is preferable that (b + c) /a=0.3 to 3, particularly 0.7 to 1, c / a = 0.01 to 1, particularly 0.07 to 0.15. The organopolysiloxane as the component (B) preferably has a polystyrene-equivalent weight average molecular weight in the range of 500 to 10,000 by gel permeation chromatography (GPC).

なお、このレジン構造のオルガノポリシロキサンは、上記a単位、b単位、c単位に加えて、更に、二官能性シロキサン単位や三官能性シロキサン単位(即ち、オルガノシルセスキオキサン単位)を本発明の目的を損なわない範囲で少量含有するものであってもよい。   In addition to the a unit, b unit, and c unit, the resin-structured organopolysiloxane further includes a bifunctional siloxane unit and a trifunctional siloxane unit (that is, an organosilsesquioxane unit). It may be contained in a small amount within a range that does not impair the purpose.

このようなレジン構造のオルガノポリシロキサンは、周知の方法により、各単位源となる化合物を上記所要のモル割合となるように組み合わせ、例えば酸の存在下で共加水分解を行うことによって容易に合成することができる。ここで、前記a単位源としては、ケイ酸ソーダ、アルキルシリケート、ポリアルキルシリケート、四塩化ケイ素等を例示することができる。b単位源としては、下記のものを例示することができる。   Such a resin-structured organopolysiloxane can be easily synthesized by combining each unit source compound at the required molar ratio by a well-known method, for example, by co-hydrolysis in the presence of an acid. can do. Here, examples of the a unit source include sodium silicate, alkyl silicate, polyalkyl silicate, silicon tetrachloride and the like. The following can be illustrated as a b unit source.

Figure 0004872296
Figure 0004872296

更に、c単位源としては、下記のものを例示することができる。   Further, examples of the c unit source include the following.

Figure 0004872296
Figure 0004872296

上記(B)成分のオルガノポリシロキサンは硬化物の硬度を調整するために配合されるものであり、先にも説明した通り、前記(A)成分100質量部当り0.1〜50質量部の割合で配合される。好ましくは1〜30質量部配合される。   The organopolysiloxane of the component (B) is blended to adjust the hardness of the cured product, and as described above, at a ratio of 0.1 to 50 parts by mass per 100 parts by mass of the component (A). Blended. Preferably 1-30 mass parts is mix | blended.

・(C)オルガノハイドロジェンポリシロキサン
(C)成分のオルガノハイドロジェンポリシロキサンは架橋剤として作用するものであり、該成分中のSiH基と(A)成分及び(B)成分中のアルケニル基とが付加反応(ヒドロシリル化)することにより硬化物を形成するものである。かかるオルガノハイドロジェンポリシロキサンは、一分子中にケイ素原子に結合した水素原子(即ち、SiH基)を2個有するものであればいずれのものでもよく、このオルガノハイドロジェンポリシロキサンの分子構造は、直鎖状、環状、分岐状、三次元網状構造のいずれであってもよいが、一分子中のケイ素原子の数(即ち、重合度)は2〜1,000、特に2〜300程度のものを使用することができる。
(C) Organohydrogenpolysiloxane (C) The organohydrogenpolysiloxane of the component acts as a crosslinking agent, and includes an SiH group in the component, an alkenyl group in the component (A), and the component (B). Is subjected to an addition reaction (hydrosilylation) to form a cured product. The organohydrogenpolysiloxane may be any one as long as it has two hydrogen atoms bonded to silicon atoms (that is, SiH groups) in one molecule. The molecular structure of the organohydrogenpolysiloxane is: Any of linear, cyclic, branched, and three-dimensional network structures may be used, but the number of silicon atoms in one molecule (that is, the degree of polymerization) is about 2 to 1,000, particularly about 2 to 300. Can be used.

水素原子が結合するケイ素原子の位置は特に制約はなく、分子鎖の末端でも非末端(途中)でもよい。また、水素原子以外のケイ素原子に結合した有機基としては、前記一般式(1)のRと同様の脂肪族不飽和結合を有さない非置換又は置換一価炭化水素基が挙げられる。 The position of the silicon atom to which the hydrogen atom is bonded is not particularly limited, and may be at the end of the molecular chain or at the non-terminal (midway). The organic groups bonded to silicon atoms other than hydrogen atom, a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group that does not have the same aliphatic unsaturation and R 1 in the general formula (1).

(C)成分のオルガノハイドロジェンポリシロキサンとしては下記構造のハイドロジェンオルガノシロキサンが例示できる。   Examples of the organohydrogenpolysiloxane of component (C) include hydrogenorganosiloxanes having the following structure.

1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン、 1,1,3,3-tetramethyldisiloxane,

Figure 0004872296
Figure 0004872296

Figure 0004872296
Figure 0004872296

Figure 0004872296
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Figure 0004872296
Figure 0004872296

Figure 0004872296
Figure 0004872296

Figure 0004872296
(上記の式中、Rはエポキシ基、アクリロイル基、メタアクリロイル基、アルコキシ基の少なくとも1種を含む有機基である。Lは0〜1,000の整数、特には0〜300の整数であり、Mは1〜200の整数である。)
Figure 0004872296
(In the above formula, R is an organic group containing at least one of an epoxy group, an acryloyl group, a methacryloyl group and an alkoxy group. L is an integer of 0 to 1,000, particularly an integer of 0 to 300; Is an integer from 1 to 200.)

このようなオルガノハイドロジェンポリシロキサンは、周知の方法により、例えば、R5SiHCl2、(R53SiCl、(R52SiCl2、(R52SiHCl
(式中、R5は、メチル基、エチル基等のアルキル基又はフェニル基等のアリール基である)
のようなクロロシランを加水分解縮合するか、加水分解して得られたシロキサンを平衡化することにより得ることができる。
Such organohydrogenpolysiloxanes can be obtained by known methods, for example, R 5 SiHCl 2 , (R 5 ) 3 SiCl, (R 5 ) 2 SiCl 2 , (R 5 ) 2 SiHCl.
(Wherein R 5 is an alkyl group such as a methyl group or an ethyl group or an aryl group such as a phenyl group)
It can be obtained by hydrolytic condensation of chlorosilane as shown above or by equilibrating siloxane obtained by hydrolysis.

なお、このオルガノハイドロジェンポリシロキサンの配合量は、それに含まれるケイ素原子結合水素原子が(A)成分及び(B)成分中のケイ素原子結合アルケニル基の合計量に対するモル比(即ち、Si−H/Si−アルケニルモル比)で1.0以上であることが必要であり、好ましくは1.0〜4.0、特に好ましくは1.0〜3.0、更に好ましくは1.0〜2.0である。このモル比が1.0未満では、該シリコーンゴム組成物の硬化物(軟質シリコーンゴム)表面に、硬化して硬度がタイプD硬度が30以上となる、ヒドロシリル化反応で硬化する硬化性シリコーン樹脂(硬質シリコーンレジン)の硬化剤で被覆しても、硬化シリコーンゴム内部に該硬化性シリコーン樹脂の架橋剤が侵入し、硬化シリコーンゴム内部に残存するアルケニル基と反応する結果、該硬化シリコーンゴムの硬度が経時的に上昇してしまう。なお、このモル比が高すぎると、未反応のSiH基がシリコーンゴム硬化物中に多量に残存するため、硬化したシリコーンゴムの物性が経時的に変化することがある。   The compounding amount of the organohydrogenpolysiloxane is such that the silicon-bonded hydrogen atoms contained in the organohydrogenpolysiloxane are in a molar ratio to the total amount of silicon-bonded alkenyl groups in the component (A) and the component (B) (that is, Si-H / Si-alkenyl molar ratio) of 1.0 or more, preferably 1.0 to 4.0, particularly preferably 1.0 to 3.0, and more preferably 1.0 to 2. 0. When the molar ratio is less than 1.0, a curable silicone resin that is cured by a hydrosilylation reaction is cured on the surface of the cured product (soft silicone rubber) of the silicone rubber composition to have a hardness of type D hardness of 30 or more. Even when coated with a curing agent of (hard silicone resin), the crosslinking agent of the curable silicone resin penetrates into the cured silicone rubber and reacts with the alkenyl group remaining inside the cured silicone rubber. Hardness increases over time. If this molar ratio is too high, a large amount of unreacted SiH groups remain in the cured silicone rubber, and the physical properties of the cured silicone rubber may change over time.

・(D)白金族金属系触媒
(D)成分の白金族金属系触媒は、本組成物に付加硬化反応を生じさせるために配合されるものであり、所謂ヒドロシリル化反応の触媒として公知であるものはいずれも使用することができる。該触媒としては、白金系、パラジウム系、ロジウム系のものがあるが、コスト等の見地から白金、白金黒、塩化白金酸などの白金系のもの、例えば、H2PtCl6・mH2O,K2PtCl6,KHPtCl6・mH2O,K2PtCl4,K2PtCl4・mH2O,PtO2・mH2O(mは、正の整数)等の白金化合物、これらの白金化合物とオレフィン等の炭化水素、アルコール又はビニル基含有オルガノポリシロキサンとの錯体等を例示することができる。これらは一種単独でも2種以上の組み合わせでも使用することができる。
(D) Platinum group metal catalyst The platinum group metal catalyst of component (D) is blended to cause an addition curing reaction in the composition, and is known as a so-called hydrosilylation catalyst. Anything can be used. Examples of the catalyst include platinum-based, palladium-based, and rhodium-based catalysts. From the viewpoint of cost and the like, platinum-based catalysts such as platinum, platinum black, and chloroplatinic acid such as H 2 PtCl 6 · mH 2 O, Platinum compounds such as K 2 PtCl 6 , KHPtCl 6 · mH 2 O, K 2 PtCl 4 , K 2 PtCl 4 · mH 2 O, PtO 2 · mH 2 O (m is a positive integer), and these platinum compounds Examples thereof include hydrocarbons such as olefins, alcohols, and complexes with vinyl group-containing organopolysiloxanes. These can be used alone or in combination of two or more.

(D)成分の触媒の配合量は有効量でよく、通常、前記(A)〜(C)成分の合計量に対して白金族金属換算(質量基準)で0.1〜1,000ppm、好ましくは0.5〜200ppmの範囲で使用される。   The compounding amount of the component (D) catalyst may be an effective amount, and is usually 0.1 to 1,000 ppm, preferably in terms of platinum group metal (on a mass basis) with respect to the total amount of the components (A) to (C). Is used in the range of 0.5 to 200 ppm.

・その他の成分
本組成物には、必要に応じて(A)〜(D)成分以外の成分を配合することができる。これらの任意的な成分は、一種単独で用いても二種以上を併用してもよい。代表的な任意成分について説明する。
-Other components Components other than the components (A) to (D) can be blended in the present composition as necessary. These optional components may be used alone or in combination of two or more. Representative optional components will be described.

・・接着助剤
本組成物の基材への接着性を向上させるために接着助剤を添加することができる。好ましい接着助剤としては、例えば、一分子中にケイ素原子結合アルコキシ基とアルケニル基又はケイ素原子結合水素原子(SiH基)を有する有機ケイ素化合物、並びに、一般式(3)で示されるオルガノオキシシリル変性イソシアヌレート化合物及び/又はその加水分解縮合物(即ち、オルガノシロキサン変性イソシアヌレート化合物)などが挙げられる。
.. Adhesion aid An adhesion aid can be added to improve the adhesion of the composition to the substrate. Preferable adhesion assistants include, for example, organosilicon compounds having a silicon atom-bonded alkoxy group and an alkenyl group or a silicon atom-bonded hydrogen atom (SiH group) in one molecule, and an organooxysilyl represented by the general formula (3) Examples thereof include a modified isocyanurate compound and / or a hydrolysis condensate thereof (that is, an organosiloxane-modified isocyanurate compound).

Figure 0004872296
〔式中、R6は独立に下記式(4):
Figure 0004872296
[Wherein R 6 is independently the following formula (4):

Figure 0004872296
Figure 0004872296

(ここで、Rは水素原子又は炭素原子数1〜6の一価炭化水素基であり、sは1〜6、特に1〜4の整数である。)
で表される有機基、又は脂肪族不飽和結合を含有する一価炭化水素基であり、少なくとも1個は式(4)の有機基である。〕
(Here, R 7 is a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, and s is an integer of 1 to 6, particularly 1 to 4.)
Or a monovalent hydrocarbon group containing an aliphatic unsaturated bond, at least one of which is an organic group of the formula (4). ]

式(3)において、R6で表され得る脂肪族不飽和結合を含有する一価炭化水素基としては、ビニル基、アリル基、プロペニル基、イソプロペニル基、ブテニル基、イソブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、シクロヘキセニル基等の炭素原子数2〜8、特に2〜6のアルケニル基が挙げられる。また、R7の一価炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基等のアルキル基、ビニル基、アリル基、プロペニル基、イソプロペニル基等の上記R6について例示したものと同様のアルケニル基、フェニル基等のアリール基などの炭素原子数1〜8、特に1〜6の一価炭化水素基が挙げられ、好ましくはアルキル基である。 In the formula (3), examples of the monovalent hydrocarbon group containing an aliphatic unsaturated bond represented by R 6 include a vinyl group, an allyl group, a propenyl group, an isopropenyl group, a butenyl group, an isobutenyl group, a pentenyl group, Examples thereof include alkenyl groups having 2 to 8 carbon atoms, particularly 2 to 6 carbon atoms, such as hexenyl group and cyclohexenyl group. Examples of the monovalent hydrocarbon group for R 7 include methyl groups, ethyl groups, propyl groups, isopropyl groups, butyl groups, isobutyl groups, tert-butyl groups, pentyl groups, hexyl groups, cyclohexyl groups, and other alkyl groups, vinyl A monovalent hydrocarbon having 1 to 8 carbon atoms, particularly 1 to 6 carbon atoms such as an aryl group such as an alkenyl group and a phenyl group similar to those exemplified for R 6 such as a group, an allyl group, a propenyl group and an isopropenyl group. Group, and an alkyl group is preferable.

かかる接着助剤として用いられる化合物の具体例として下記の化合物が挙げられる。   Specific examples of the compound used as the adhesion aid include the following compounds.

Figure 0004872296
(式中、m及びnはそれぞれ独立に0〜200の整数であって、但しm+nが2〜50、好ましくは4〜20を満足する整数である。)
Figure 0004872296
(In the formula, m and n are each independently an integer of 0 to 200, provided that m + n is an integer satisfying 2 to 50, preferably 4 to 20.)

Figure 0004872296
Figure 0004872296

このような有機ケイ素化合物の内、得られる硬化物の接着性が特に優れている点で、一分子中にケイ素原子結合アルコキシ基とアルケニル基又はケイ素原子結合水素原子(SiH基)を有する有機ケイ素化合物が好ましい。   Among such organosilicon compounds, organosilicon having a silicon atom-bonded alkoxy group and an alkenyl group or a silicon atom-bonded hydrogen atom (SiH group) in one molecule because the obtained cured product has particularly excellent adhesion. Compounds are preferred.

上記接着助剤の配合量は、(A)、(B)成分と(C)成分との合計100質量部に対して、通常10質量部以下(即ち、0〜10質量部)、好ましくは0.01〜5質量部、より好ましくは0.1〜1質量部程度である。接着助剤の配合量が多すぎると硬化物の硬度や表面タック性に悪影響を及ぼす場合がある。   The amount of the above-mentioned adhesion assistant is usually 10 parts by mass or less (that is, 0 to 10 parts by mass), preferably 0 with respect to 100 parts by mass in total of the components (A), (B) and (C). 0.01 to 5 parts by mass, more preferably about 0.1 to 1 part by mass. If the amount of the adhesion aid is too large, the hardness and surface tackiness of the cured product may be adversely affected.

・・硬化抑制剤
本組成物には必要に応じて硬化抑制剤を添加することができる。硬化抑制剤としてはヒドロシリル化反応の抑制剤として公知の化合物はいずれも使用することができ、例えば、アセチレンアルコール等が挙げられる。本組成物にこのような硬化抑制剤を少量添加して該組成物を1液型として調製することもできる。
-Curing inhibitor A curing inhibitor can be added to this composition as needed. As the curing inhibitor, any compound known as a hydrosilylation reaction inhibitor can be used, and examples thereof include acetylene alcohol. A small amount of such a curing inhibitor may be added to the present composition to prepare the composition as a one-pack type.

・・無機フィラー
無機フィラーを配合すると、得られる硬化物の光の散乱や組成物の流動性が適切な範囲となったり、該組成物を利用した材料が高強度化されたりする等の効果がある。無機フィラーとしては、特に限定されないが、光学特性を低下させない微粒子状のものが好ましく、例えば、アルミナ、水酸化アルミニウム、溶融シリカ、結晶性シリカ、超微粉無定型シリカ、疎水性超微粉シリカ、タルク、炭酸カルシウム、硫酸バリウム等が挙げられる。
・ ・ Inorganic fillers When blended with inorganic fillers, there are effects such as light scattering of the cured product and fluidity of the composition within an appropriate range, and the use of the composition to increase the strength. is there. The inorganic filler is not particularly limited, but is preferably in the form of fine particles that do not deteriorate the optical properties, such as alumina, aluminum hydroxide, fused silica, crystalline silica, ultrafine amorphous silica, hydrophobic ultrafine silica, talc. , Calcium carbonate, barium sulfate and the like.

・・蛍光体
蛍光体としては、例えば、LEDに広く利用されている、イットリウム、アルミニウム、ガーネット系のYAG系蛍光体、ZnS系蛍光体、YS系蛍光体、赤色発光蛍光体、青色発光蛍光体、緑色発光蛍光体等が挙げられる。以下、代表的な蛍光体をさらに詳細に説明する。
まず、発光ダイオードから発光された光を励起させて発光できるセリウムで付活されたイットリウム・アルミニウム酸化物系蛍光体をベースとした蛍光体が挙げられる。
具体的なイットリウム・アルミニウム酸化物系蛍光体としては、YAlO:Ce、YAl12:Ce(YAG:Ce)やYAl:Ce、更にはこれらの混合物などが挙げられる。イットリウム・アルミニウム酸化物系蛍光体にBa、Sr、Mg、Ca、Znの少なくとも一種が含有されていてもよい。また、Siを含有させることによって、結晶成長の反応を抑制し蛍光体の粒子を揃えることができる。
..Phosphors As phosphors, for example, yttrium, aluminum, garnet-based YAG phosphors, ZnS phosphors, Y 2 O 2 S phosphors, red light emitting phosphors widely used in LEDs, A blue light emitting phosphor, a green light emitting phosphor and the like can be mentioned. Hereinafter, typical phosphors will be described in more detail.
First, phosphors based on yttrium-aluminum oxide phosphors activated with cerium that can emit light by exciting light emitted from the light-emitting diodes.
Specific examples of the yttrium / aluminum oxide phosphor include YAlO 3 : Ce, Y 3 Al 5 O 12 : Ce (YAG: Ce), Y 4 Al 2 O 9 : Ce, and a mixture thereof. It is done. The yttrium / aluminum oxide phosphor may contain at least one of Ba, Sr, Mg, Ca, and Zn. Moreover, by containing Si, the reaction of crystal growth can be suppressed and phosphor particles can be aligned.

本明細書においては、Ceで付活されたイットリウム・アルミニウム酸化物系蛍光体は特に広義に解釈するものとし、イットリウムの一部あるいは全体を、Lu、Sc、La、Gd及びSmからなる群から選ばれる少なくとも1つの元素に置換され、あるいは、アルミニウムの一部あるいは全体をBa、Tl、Ga、Inの何れが又は両方で置換され蛍光作用を有する蛍光体を含む広い意味に使用する。   In this specification, the yttrium-aluminum oxide phosphor activated with Ce is to be interpreted in a broad sense, and a part or the whole of yttrium is derived from the group consisting of Lu, Sc, La, Gd and Sm. It is substituted by at least one selected element, or a part or all of aluminum is used in a broad sense including a phosphor having a fluorescent action in which any one or both of Ba, Tl, Ga, and In are substituted.

更に詳しくは、一般式(YGd1−zAl12:Ce(但し、0<z≦1)で示されるフォトルミネッセンス蛍光体や一般式(Re1−aSmRe‘12:Ce(但し、0≦a<1、0≦b≦1、Reは、Y、Gd、La、Scから選択される少なくとも一種、Re’は、Al、Ga、Inから選択される少なくとも一種である。)で示されるフォトルミネッセンス蛍光体である。 More specifically, the general formula (Y z Gd 1-z) 3 Al 5 O 12: Ce ( where, 0 <z ≦ 1) photoluminescence phosphor and the general formula represented by (Re 1-a Sm a) 3 Re ' 5 O 12 : Ce (where 0 ≦ a <1, 0 ≦ b ≦ 1, Re is at least one selected from Y, Gd, La, and Sc, and Re ′ is selected from Al, Ga, and In. At least one kind of photoluminescent phosphor.

この蛍光体は、ガーネット構造(ざくろ石型構造)のため、熱、光及び水分に強く、励起スペクトルのピークを450nm付近にさせることができる。また、発光ピークも、580nm付近にあり700nmまで裾を引くブロードな発光スペクトルを持つ。   Since this phosphor has a garnet structure (garnet-type structure), it is resistant to heat, light, and moisture, and the peak of the excitation spectrum can be made around 450 nm. The emission peak is also in the vicinity of 580 nm and has a broad emission spectrum that extends to 700 nm.

またフォトルミネセンス蛍光体は、結晶中にGd(ガドリニウム)を含有することにより、460nm以上の長波長域の励起発光効率を高くすることができる。Gdの含有量の増加により、発光ピーク波長が長波長に移動し全体の発光波長も長波長側にシフトする。すなわち、赤みの強い発光色が必要な場合、Gdの置換量を多くすることで達成できる。一方、Gdが増加すると共に、青色光によるフォトルミネセンスの発光輝度は低下する傾向にある。さらに、所望に応じてCeに加えTb、Cu、Ag、Au、Fe、Cr、Nd、Dy、Co、Ni、Ti、Euらを含有させることもできる。   Further, the photoluminescence phosphor can increase the excitation light emission efficiency in a long wavelength region of 460 nm or more by containing Gd (gadolinium) in the crystal. As the Gd content increases, the emission peak wavelength shifts to a longer wavelength, and the entire emission wavelength also shifts to the longer wavelength side. That is, when a strong reddish emission color is required, it can be achieved by increasing the amount of Gd substitution. On the other hand, as Gd increases, the emission luminance of photoluminescence by blue light tends to decrease. Furthermore, in addition to Ce, Tb, Cu, Ag, Au, Fe, Cr, Nd, Dy, Co, Ni, Ti, Eu, and the like can be contained as desired.

しかも、ガーネット構造を持ったイットリウム・アルミニウム・ガーネット(ざくろ石型)系蛍光体の組成のうち、Alの一部をGaで置換することで発光波長が短波長側にシフトする。また、組成のYの一部をGdで置換することで、発光波長が長波長側にシフトする。   Moreover, in the composition of the yttrium / aluminum / garnet (garnet) phosphor having a garnet structure, the emission wavelength is shifted to the short wavelength side by substituting part of Al with Ga. Further, by substituting part of Y in the composition with Gd, the emission wavelength is shifted to the longer wavelength side.

Yの一部をGdで置換する場合、Gdへの置換を1割未満にし、且つCeの含有(置換)を0.03から1.0にすることが好ましい。Gdへの置換が2割未満では緑色成分が大きく赤色成分が少なくなるが、Ceの含有量を増やすことで赤色成分を補え、輝度を低下させることなく所望の色調を得ることができる。このような組成にすると温度特性が良好となり発光ダイオードの信頼性を向上させることができる。また、赤色成分を多く有するように調整されたフォトルミネセンス蛍光体を使用すると、ピンク等の中間色を発光することが可能な発光装置を形成することができる。   When substituting a part of Y with Gd, it is preferable that the substitution with Gd is less than 10%, and the Ce content (substitution) is 0.03 to 1.0. If the substitution with Gd is less than 20%, the green component is large and the red component is small. However, by increasing the Ce content, the red component can be supplemented and a desired color tone can be obtained without lowering the luminance. With such a composition, the temperature characteristics are good and the reliability of the light emitting diode can be improved. In addition, when a photoluminescent phosphor adjusted to have a large amount of red component is used, a light emitting device capable of emitting an intermediate color such as pink can be formed.

このようなフォトルミネセンス蛍光体は、Y、Gd、Al、及びCeの原料として酸化物、又は高温で容易に酸化物になる化合物を使用し、それらを化学量論比で十分に混合して原料を得る。又は、Y、Gd、Ceの希土類元素を化学量論比で酸に溶解した溶解液を蓚酸で共沈したものを焼成して得られる共沈酸化物と、酸化アルミニウムとを混合して混合原料を得る。これにフラックスとしてフッ化バリウムやフッ化アンモニウム等のフッ化物を適量混合して坩堝に詰め、空気中1350℃〜1450℃の温度範囲で2〜5時間焼成して焼成品を得、つぎに焼成品を水中でボールミルして、洗浄、分離、乾燥、最後に篩を通すことで得ることができる。   Such photoluminescent phosphors use oxides or compounds that easily become oxides at high temperatures as raw materials for Y, Gd, Al, and Ce, and mix them well in a stoichiometric ratio. Get raw materials. Alternatively, a mixed raw material obtained by mixing a coprecipitation oxide obtained by firing a solution obtained by coprecipitation of a solution obtained by dissolving a rare earth element of Y, Gd, and Ce in an acid in a stoichiometric ratio with oxalic acid and aluminum oxide. Get. An appropriate amount of fluoride such as barium fluoride or ammonium fluoride is mixed as a flux and packed in a crucible, and baked in air at a temperature range of 1350 ° C. to 1450 ° C. for 2 to 5 hours to obtain a fired product, and then fired. The product can be obtained by ball milling in water, washing, separating, drying and finally passing through a sieve.

このようなフォトルミネセンス蛍光体は、2種類以上のセリウムで付活されたイットリウム・アルミニウム・ガーネット(ざくろ石型)蛍光体や他の蛍光体を混合させてもよい。   Such a photoluminescent phosphor may be a mixture of yttrium, aluminum, garnet (garnet) phosphor activated by two or more kinds of cerium, and other phosphors.

また、蛍光体の粒径は1μm〜50μmの範囲が好ましく、より好ましくは3μm〜30μmである。3μmより小さい粒径を有する蛍光体は、比較的凝集体を形成しやすく、液状樹脂中において密になって沈降し易いため、光の透過効率を減少させてしまう。前記の好ましい範囲の粒径では、このような蛍光体による光の隠蔽を抑制でき発光装置の出力を向上させる。また同粒径範囲にある蛍光体は光の吸収率及び変換効率が高く且つ励起波長の幅が広い。このように、光学的に優れた特徴を有する大粒径蛍光体を含有させることにより、発光ダイオードの主波長周辺の光をも良好に変換し発光することができる。   The particle size of the phosphor is preferably in the range of 1 μm to 50 μm, more preferably 3 μm to 30 μm. A phosphor having a particle size of less than 3 μm is relatively easy to form an aggregate, and is likely to become dense and settle in the liquid resin, thus reducing the light transmission efficiency. When the particle diameter is in the above preferred range, the light concealment by such a phosphor can be suppressed and the output of the light emitting device is improved. In addition, phosphors in the same particle size range have high light absorptivity and conversion efficiency and a wide excitation wavelength range. Thus, by including a large particle size phosphor having optically excellent characteristics, light around the main wavelength of the light emitting diode can be converted well and emitted.

ここで、粒径とは、体積基準粒度分布曲線により得られる値である。前記体積基準粒度分布曲線は、レーザ回折・散乱法により粒度分布を測定し得られるもので、具体的には、気温25℃、湿度70%の環境下において、濃度が0.05%であるヘキサメタリン酸ナトリウム水溶液に各物質を分散させ、レーザ回折式粒度分布測定装置(SALD−2000A)により、粒径範囲0.03μm〜700μmにて測定し得られたものである。この体積基準粒度分布曲線において積算値が50%のときの粒径値であり、前記組成物に用いられる蛍光体の中心粒径は3μm〜30μmの範囲であることが好ましい。また、この中心粒径値を有する蛍光体が頻度高く含有されていることが好ましく、頻度値は20%〜50%が好ましい。このように粒径のバラツキが小さい蛍光体を用いることにより製品毎の色度バラツキが低減され良好な色調を有する発光装置が得られる。   Here, the particle size is a value obtained from a volume-based particle size distribution curve. The volume-based particle size distribution curve is obtained by measuring the particle size distribution by a laser diffraction / scattering method. Specifically, in an environment of an air temperature of 25 ° C. and a humidity of 70%, hexametalin having a concentration of 0.05%. Each substance was dispersed in an aqueous sodium acid solution and measured with a laser diffraction particle size distribution analyzer (SALD-2000A) in a particle size range of 0.03 μm to 700 μm. In this volume-based particle size distribution curve, it is a particle size value when the integrated value is 50%, and the center particle size of the phosphor used in the composition is preferably in the range of 3 μm to 30 μm. Moreover, it is preferable that the fluorescent substance which has this center particle size value is contained with high frequency, and the frequency value is preferably 20% to 50%. By using a phosphor having a small variation in particle size in this way, a light emitting device having a good color tone can be obtained with reduced chromaticity variation for each product.

蛍光体は、樹脂層中に均一に分散されていることが好ましいが、樹脂層中に沈降させてもよい。   The phosphor is preferably dispersed uniformly in the resin layer, but may be precipitated in the resin layer.

また、上記YAG蛍光体に限られず、種々の蛍光体を用いることができる。例えば、MSi:Eu(Mは、Ca、Sr、Baなどのアルカリ土類金属である。)やMSi:Eu(Mは、Ca、Sr、Baなどのアルカリ土類金属である。)、LaS:Eu、SrAl:R、M(POX:R(Mは、Sr、Ca、Ba、Mg、Znから選ばれる少なくとも1種以上である。Xは、F、Cl、Br、Iから選ばれる少なくとも1種以上である。Rは、Eu、Mn、EuとMn、のいずれか1以上である。)などを用いることができる。
その他の蛍光体として、ユウロピウムで付活されたアルカリ土類金属珪酸塩を含有することもできる。該アルカリ土類金属珪酸塩は、以下のような一般式で表されるアルカリ土類金属オルト珪酸塩が好ましい。
Moreover, it is not restricted to the said YAG fluorescent substance, Various fluorescent substance can be used. For example, M 2 Si 5 N 8 : Eu (M is an alkaline earth metal such as Ca, Sr and Ba) and MSi 2 O 2 N 2 : Eu (M is an alkali such as Ca, Sr and Ba). An earth metal), La 2 O 2 S: Eu, SrAl 2 O 4 : R, M 5 (PO 4 ) 3 X: R (M is at least selected from Sr, Ca, Ba, Mg, Zn) X is at least one selected from F, Cl, Br, and I. R is Eu, Mn, or any one of Eu and Mn. Can do.
As other phosphors, alkaline earth metal silicates activated with europium can also be contained. The alkaline earth metal silicate is preferably an alkaline earth metal orthosilicate represented by the following general formula.

(2−x−y)SrO・x(Ba,Ca)O・(1−a−b−c−d)SiO・aPbAlcBdGeO:yEu2+(式中、0<x<1.6、0.005<y<0.5、0<a、b、c、d<0.5である。)
(2−x−y)BaO・x(Sr,Ca)O・(1−a−b−c−d)SiO・aPbAlcBdGeO:yEu2+(式中、0.01<x<1.6、0.005<y<0.5、0<a、b、c、d<0.5である。)
ここで、好ましくは、a、b、cおよびdの値のうち、少なくとも一つが0.01より大きい。
(2-x-y) SrO · x (Ba, Ca) O · (1-a-b-c-d) SiO 2 · aP 2 O 5 bAl 2 O 3 cB 2 O 3 dGeO 2: yEu 2+ ( Equation Medium, 0 <x <1.6, 0.005 <y <0.5, 0 <a, b, c, d <0.5.)
(2-x-y) BaO · x (Sr, Ca) O · (1-a-b-c-d) SiO 2 · aP 2 O 5 bAl 2 O 3 cB 2 O 3 dGeO 2: yEu 2+ ( Equation (Inside, 0.01 <x <1.6, 0.005 <y <0.5, 0 <a, b, c, d <0.5.)
Here, preferably, at least one of the values of a, b, c and d is greater than 0.01.

アルカリ土類金属塩からなる蛍光体として、上述したアルカリ土類金属珪酸塩の他、ユウロピウムおよび/またはマンガンで付活されたアルカリ土類金属アルミン酸塩やY(V,P,Si)O:Eu、または次式で示されるアルカリ土類金属−マグネシウム−二珪酸塩を含有することもできる。 As a phosphor composed of an alkaline earth metal salt, in addition to the alkaline earth metal silicate described above, an alkaline earth metal aluminate or Y (V, P, Si) O 4 activated with europium and / or manganese is used. : Eu or an alkaline earth metal-magnesium-disilicate represented by the following formula can also be contained.

Me(3−x−y)MgSi:xEu,yMn(式中、0.005<x<0.5、0.005<y<0.5、Meは、Baおよび/またはSrおよび/またはCaを示す。)
上記のアルカリ土類金属珪酸塩からなる蛍光体は次のようにして製造される。目的とする所要組成のアルカリ土類金属珪酸塩に応じて出発物質アルカリ土類金属炭酸塩、二酸化珪素ならびに酸化ユウロピウムの化学量論的量を密に混合し、かつ、蛍光体の製造に常用の固体反応で、還元性雰囲気のもと、温度1100℃および1400℃で所望の蛍光体に変換する。この際、0.2モル未満の塩化アンモニウムまたは他のハロゲン化物を添加することが好ましい。また、必要に応じて珪素の一部をゲルマニウム、ホウ素、アルミニウム、リンで置換することもできるし、ユウロピウムの一部をマンガンで置換することもできる。
Me (3-xy) MgSi 2 O 3 : xEu, yMn (wherein 0.005 <x <0.5, 0.005 <y <0.5, Me represents Ba and / or Sr and / or Or Ca.)
The phosphor made of the above alkaline earth metal silicate is manufactured as follows. Depending on the alkaline earth metal silicate of the desired composition of interest, the stoichiometric amounts of the starting alkaline earth metal carbonate, silicon dioxide and europium oxide are intimately mixed and used routinely for the production of phosphors. It is a solid reaction and is converted to the desired phosphor at temperatures of 1100 ° C. and 1400 ° C. under a reducing atmosphere. At this time, it is preferable to add less than 0.2 mol of ammonium chloride or other halide. If necessary, part of silicon can be replaced with germanium, boron, aluminum, and phosphorus, and part of europium can be replaced with manganese.

上述したような蛍光体、即ち、ユウロピウムおよび/またはマンガンで付活されたアルカリ土類金属アルミン酸塩やY(V,P,Si)O:Eu、YS:Eu3+の一つまたはこれらの蛍光体を組み合わせることによって、所望の色温度を有する発光色および高い色再現性を得ることができる。 One of the phosphors as described above, ie, alkaline earth metal aluminates activated with europium and / or manganese, Y (V, P, Si) O 4 : Eu, Y 2 O 2 S: Eu 3+ By combining one or these phosphors, an emission color having a desired color temperature and high color reproducibility can be obtained.

蛍光体の配合量は、所要の色調にあわせて適切に調整する。   The blending amount of the phosphor is appropriately adjusted according to the required color tone.

・・拡散剤
前記硬化性シリコーン樹脂に添加してもよい別の任意成分として、拡散剤が挙げられる。拡散剤を含有することにより、光の拡散効果と、増粘性と、応力拡散効果などが得られる。具体的な拡散剤としては、チタン酸バリウム、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化珪素等が好適に用いられる。これによって良好な指向特性を有する発光装置が得られる。
拡散剤は、中心粒径が1nm以上5μm未満であることが好ましい。中心粒径がおよそ400nm以上の拡散剤は、発光ダイオード及び蛍光体からの光を良好に乱反射させ、大きな粒径の蛍光体を用いることにより生じやすい色ムラを抑制することができる。一方、中心粒径がおよそ400nm未満の拡散剤は、発光ダイオードからの光波長に対する干渉効果が低いことから、透明度が高く、光度を低下させることなく樹脂粘度を高めることができる。これにより、ポッティング等により色変換部材を配置させる場合、シリンジ内において樹脂組成物中の蛍光体をほぼ均一に分散させその状態を維持することが可能となり、比較的取り扱いが困難である粒径の大きい蛍光体を用いた場合でも歩留まり良く生産することが可能となる。このように拡散剤は粒径範囲により作用が異なるので使用方法に合わせて選択若しくは組み合わせて用いることが望ましい。
.. Diffusing agent Another optional component that may be added to the curable silicone resin is a diffusing agent. By containing a diffusing agent, a light diffusing effect, a thickening effect, a stress diffusing effect, and the like can be obtained. As a specific diffusing agent, barium titanate, titanium oxide, aluminum oxide, silicon oxide or the like is preferably used. As a result, a light emitting device having good directivity can be obtained.
The diffusing agent preferably has a center particle size of 1 nm or more and less than 5 μm. A diffusing agent having a center particle diameter of about 400 nm or more can diffuse irregularly the light from the light-emitting diode and the phosphor, and suppress color unevenness that tends to occur when a phosphor having a large particle diameter is used. On the other hand, a diffusing agent having a center particle diameter of less than about 400 nm has a low interference effect on the light wavelength from the light emitting diode, and thus has high transparency and can increase the resin viscosity without lowering the light intensity. Thus, when the color conversion member is arranged by potting or the like, it becomes possible to disperse the phosphor in the resin composition almost uniformly in the syringe and maintain the state, and the particle size is relatively difficult to handle. Even when a large phosphor is used, it is possible to produce with high yield. Thus, since the action of the diffusing agent varies depending on the particle size range, it is desirable to select or use it in combination with the method of use.

・・その他の任意成分
その他の任意成分としては、例えば、老化防止剤、ラジカル禁止剤、紫外線吸収剤、接着性改良剤、難燃剤、界面活性剤、保存安定改良剤、オゾン劣化防止剤、光安定剤、増粘剤、可塑剤、カップリング剤、酸化防止剤、熱安定剤、導電性付与剤、帯電防止剤、放射線遮断剤、核剤、リン系過酸化物分解剤、滑剤、顔料、金属不活性化剤、物性調整剤、有機溶媒等が挙げられる。
・・組成物の調製・硬化
前記の組成物は、前記(A)〜(D)成分、および場合により含有される任意成分を任意の方法により混合して調製することができる。該組成物は当業者には周知の方法で適宜一液型としても二液型としても調製することができる。該組成物はパッケージの所定の箇所に配置後、通常、室温(23℃)〜200℃、好ましくは60〜180℃、より好ましくは、80〜160℃程度に加熱することにより硬化させることができる。
..Other optional components Other optional components include, for example, anti-aging agents, radical inhibitors, UV absorbers, adhesion improvers, flame retardants, surfactants, storage stability improvers, ozone degradation inhibitors, light Stabilizer, thickener, plasticizer, coupling agent, antioxidant, heat stabilizer, conductivity imparting agent, antistatic agent, radiation blocking agent, nucleating agent, phosphorus peroxide decomposing agent, lubricant, pigment, Examples thereof include metal deactivators, physical property modifiers, and organic solvents.
.. Preparation and curing of composition The above composition can be prepared by mixing the components (A) to (D) and optional components optionally contained by any method. The composition can be appropriately prepared as a one-component type or a two-component type by a method well known to those skilled in the art. The composition can be cured by heating to room temperature (23 ° C.) to 200 ° C., preferably 60 to 180 ° C., more preferably about 80 to 160 ° C. after being placed at a predetermined location of the package. .

・第2の封止部材:
第2の封止部材の原料である硬化性シリコーン樹脂としては、硬化後の表面のタイプD硬度が30以上、好ましくは40以上、より好ましくは50以上である硬化性シリコーン樹脂であればいずれも使用することができる。該タイプD硬度が30未満では、モールド樹脂の表面タック性が高くなってしまう。この場合、硬度の上限に特に制限はないが、通常はタイプD硬度で90以下、特に80以下であればよい。
Second sealing member:
The curable silicone resin that is the raw material of the second sealing member is any curable silicone resin that has a type D hardness of 30 or more, preferably 40 or more, more preferably 50 or more after curing. Can be used. When the type D hardness is less than 30, the surface tackiness of the mold resin is increased. In this case, the upper limit of the hardness is not particularly limited, but is usually 90 or less, particularly 80 or less in type D hardness.

第1の封止部材を前記硬化性シリコーンゴム組成物の硬化物(軟質シリコーンゴム)で形成したのみではその表面はタック性が著しいが、第2の封止部材により該タックを著しく低減でき、発光装置製造プロセスで生じていた封止材料表面への埃の付着、パーツフィーダでのモールド樹脂の粘着を効果的に防止することができ、それでいて第2の封止部材は経時的に高い安定性を有する。   The surface is remarkably tacky only by forming the first sealing member with a cured product (soft silicone rubber) of the curable silicone rubber composition, but the tack can be significantly reduced by the second sealing member, It is possible to effectively prevent dust from adhering to the surface of the sealing material produced in the light emitting device manufacturing process and the mold resin from adhering to the parts feeder, and the second sealing member has high stability over time. Have

シリコーンゴム硬化物の表面タック性を低減するために被覆に用いられる硬化後のタイプD硬度が30以上である硬化性シリコーン樹脂としては、かかる硬度要件を満たすヒドロシリル化反応で硬化するシリコーン樹脂であればいかなるものでも使用可能である。なかでもアルケニル基(好ましくは、ビニル基)含有シリコーン樹脂が望ましい。アルケニル含有シリコーン樹脂としては三次元構造を有するシリコーン樹脂を主成分とするものが使用可能である。 The curable silicone resin having a cured type D hardness of 30 or more used for coating to reduce the surface tackiness of the cured silicone rubber may be a silicone resin that cures by a hydrosilylation reaction that satisfies the hardness requirement. Anything can be used. Among these, alkenyl group (preferably vinyl group) -containing silicone resins are desirable. As the alkenyl group- containing silicone resin, a silicone resin having a three-dimensional structure as a main component can be used.

なかでも代表例としては、少なくとも、式:
(R SiO1/2(R SiO)(R SiO3/2
〔式中、Rはそれぞれ同種もしくは異種の置換もしくは非置換一価炭化水素基を示し、その全一価炭化水素基数の2.0〜45.0モル%はアルケニル基(好ましくはビニル基)であり、かつ25〜60モル%はフェニル基であって、d、e、及びfは各シロキサン単位の相対モル数を示し、d/d+e+f=0.65〜0.95、e/d+e+f=0.05〜0.35、f/d+e+f=0〜0.05である〕
で表されるアルケニル基含有オルガノポリシロキサンである。
Among them, as a representative example, at least the formula:
(R 8 3 SiO 1/2 ) d (R 8 2 SiO) e (R 8 1 SiO 3/2 ) f
[Wherein R 8 represents the same or different substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group, and 2.0 to 45.0 mol% of the total number of monovalent hydrocarbon groups is an alkenyl group (preferably a vinyl group). And 25-60 mol% is a phenyl group, d, e, and f represent the relative number of moles of each siloxane unit, d / d + e + f = 0.65-0.95, e / d + e + f = 0 0.05 to 0.35, f / d + e + f = 0 to 0.05]
It is an alkenyl group containing organopolysiloxane represented by these.

このアルケニル基含有オルガノポリシロキサンの架橋剤としては、(C)成分として説明したオルガノハイドロジェンシロキサン、及び(D)成分として説明した硬化触媒を使用することが出来る。
〔発光ダイオード〕
本発明において発光ダイオードは、発光色の点は特に限定されず、赤色系、緑色系に発光する発光ダイオードに限られず、青色系に発光する発光ダイオードも使用することができる。また、これらの可視光に発光する発光ダイオードだけでなく、可視光の短波長領域から紫外線領域で発光する発光ダイオード、例えば360nm近傍の紫外線領域で発光する発光ダイオードも使用することができる。但し、発光装置に、蛍光体を用いる場合、該蛍光体を励起可能な発光波長を発光できる発光層を有する半導体発光ダイオードが好ましい。このような半導体発光ダイオードとしてZnSeやGaNなど種々の半導体を挙げることができるが、蛍光体を効率良く励起できる短波長が発光可能な窒化物半導体(InAlGa1−X−YN、0≦X、0≦Y、X+Y≦1)が好適に挙げられる。また所望に応じて、前記窒化物半導体にボロンやリンを含有させることも可能である。半導体の構造としては、MIS接合、PIN接合やpn接合などを有するホモ構造、ヘテロ構造あるいはダブルへテロ構成のものが挙げられる。半導体層の材料やその混晶度によって発光波長を種々選択することができる。また、半導体活性層を量子効果が生ずる薄膜に形成させた単一量子井戸構造や多重量子井戸構造とすることもできる。
As the crosslinking agent for the alkenyl group-containing organopolysiloxane, the organohydrogensiloxane described as the component (C) and the curing catalyst described as the component (D) can be used.
[Light emitting diode]
In the present invention, the light emitting diode is not particularly limited in terms of light emission color, and is not limited to a light emitting diode that emits red or green light, and a light emitting diode that emits blue light can also be used. In addition to these light emitting diodes that emit visible light, a light emitting diode that emits light in the ultraviolet region from the short wavelength region of visible light, for example, a light emitting diode that emits light in the ultraviolet region near 360 nm can be used. However, when a phosphor is used for the light emitting device, a semiconductor light emitting diode having a light emitting layer capable of emitting a light emission wavelength capable of exciting the phosphor is preferable. Examples of such semiconductor light emitting diodes include various semiconductors such as ZnSe and GaN, but nitride semiconductors capable of emitting short wavelengths that can excite phosphors efficiently (In X Al Y Ga 1- XYN, Preferred examples include 0 ≦ X, 0 ≦ Y, and X + Y ≦ 1). If desired, the nitride semiconductor may contain boron or phosphorus. Examples of the semiconductor structure include a homostructure having a MIS junction, a PIN junction, and a pn junction, a heterostructure, and a double heterostructure. Various emission wavelengths can be selected depending on the material of the semiconductor layer and the degree of mixed crystal. In addition, a single quantum well structure or a multiple quantum well structure in which the semiconductor active layer is formed in a thin film in which a quantum effect is generated can be used.

窒化物半導体を使用した場合、半導体用基板にはサファイア、スピネル、SiC、Si、ZnO、およびGaN等の材料が好適に用いられる。結晶性の良い窒化物半導体を量産性よく形成させるためにはサファイア基板を用いることが好ましい。このサファイア基板上にMOCVD法などを用いて窒化物半導体を形成させることができる。サファイア基板上にGaN、AlN、GaAIN等のバッファー層を形成しその上にpn接合を有する窒化物半導体を形成させる。   When a nitride semiconductor is used, materials such as sapphire, spinel, SiC, Si, ZnO, and GaN are preferably used for the semiconductor substrate. In order to form a nitride semiconductor with good crystallinity with high productivity, it is preferable to use a sapphire substrate. A nitride semiconductor can be formed on the sapphire substrate by MOCVD or the like. A buffer layer made of GaN, AlN, GaAIN or the like is formed on the sapphire substrate, and a nitride semiconductor having a pn junction is formed thereon.

窒化物半導体を使用したpn接合を有する発光ダイオード例として、バッファー層上に、n型窒化ガリウムで形成した第1のコンタクト層、n型窒化アルミニウム・ガリウムで形成させた第1のクラッド層、窒化インジウム・ガリウムで形成した活性層、p型窒化アルミニウム・ガリウムで形成した第2のクラッド層、p型窒化ガリウムで形成した第2のコンタクト層を順に積層させたダブルへテロ構成などが挙げられる。   As an example of a light emitting diode having a pn junction using a nitride semiconductor, a first contact layer formed of n-type gallium nitride, a first cladding layer formed of n-type aluminum nitride / gallium on a buffer layer, nitrided Examples include a double hetero structure in which an active layer formed of indium gallium, a second cladding layer formed of p-type aluminum nitride / gallium, and a second contact layer formed of p-type gallium nitride are sequentially stacked.

窒化物半導体は、不純物をドープしない状態でn型導電性を示す。発光効率を向上させるなど所望のn型窒化物半導体を形成させる場合は、n型ドーパントとしてSi、Ge、Se、Te、C等を適宜導入することが好ましい。一方、p型窒化物半導体を形成させる場合は、p型ドーパントであるZn、Mg、Be、Ca、Sr、Ba等をドープさせる。窒化物半導体は、p型ドーパントをドープしただけではp型化しにくいためp型ドーパント導入後に、炉による加熱やプラズマ照射等により低抵抗化させることが好ましい。電極形成後、半導体ウエハーからチップ状にカットさせることで窒化物半導体からなる発光ダイオードを形成させることができる。   Nitride semiconductors exhibit n-type conductivity without being doped with impurities. When forming a desired n-type nitride semiconductor, for example, to improve luminous efficiency, it is preferable to appropriately introduce Si, Ge, Se, Te, C, etc. as an n-type dopant. On the other hand, when forming a p-type nitride semiconductor, the p-type dopants such as Zn, Mg, Be, Ca, Sr, and Ba are doped. Since nitride semiconductors are not easily converted to p-type by simply doping with a p-type dopant, it is preferable to reduce resistance by heating in a furnace or plasma irradiation after introducing the p-type dopant. After the electrodes are formed, a light emitting diode made of a nitride semiconductor can be formed by cutting the semiconductor wafer into chips.

発光装置において、白色系を発光させるには、蛍光体からの発光波長との補色関係や透光性樹脂の劣化等を考慮して、発光ダイオードの発光波長は400nm以上530nm以下が好ましく、420nm以上490nm以下がより好ましい。発光ダイオードと蛍光体との励起、発光効率をそれぞれより向上させるためには、450nm以上475nm以下がさらに好ましい。   In the light emitting device, in order to emit white light, the emission wavelength of the light emitting diode is preferably 400 nm or more and 530 nm or less, and 420 nm or more in consideration of the complementary color relationship with the emission wavelength from the phosphor and the deterioration of the translucent resin. 490 nm or less is more preferable. In order to further improve the excitation and light emission efficiency of the light emitting diode and the phosphor, 450 nm or more and 475 nm or less are more preferable.

〔パッケージ〕
本発明に用いられるパッケージは、底面と側面を持つ凹部を有するパッケージである。パッケージ全体が金属でできていてもよいし、金属部分と非金属部分(例、合成樹脂やセラミック)とから構成されていてもよい。用いられる金属材料としては、例えば、コバルト・ニッケル・銀合金、銅等が挙げられる。合成樹脂としては、例えばポリアミド系樹脂、エポキシ樹脂、ナイロン等が挙げられる。金属材料、合成樹脂もしくはセラミック又はこれら二種以上の組合せからなる基体に銀メッキなどが施されていてもよい。パッケージとして表面に例えば銀メッキ等が施されたものを使用すると、可視光領域、特に青色光を発するGaN系化合物半導体から放出される光を反射して、効率よく外部に光を放出することができる。加えて金及びスズのダイボンド部材を用いると同様の効果に寄与させることができる。
〔package〕
The package used in the present invention is a package having a recess having a bottom surface and a side surface. The entire package may be made of metal, or may be composed of a metal part and a non-metal part (eg, synthetic resin or ceramic). Examples of the metal material used include cobalt, nickel, silver alloy, and copper. Examples of the synthetic resin include polyamide resin, epoxy resin, and nylon. Silver plating or the like may be applied to a substrate made of a metal material, synthetic resin, ceramic, or a combination of two or more thereof. If the surface of the package is silver-plated, for example, the light emitted from the GaN-based compound semiconductor that emits blue light can be reflected and efficiently emitted to the outside. it can. In addition, the use of gold and tin die bond members can contribute to the same effect.

〔シリコーンゴム封止型発光装置の製造方法]
本発明の発光装置の製造方法によれば、まず、前記パッケージの凹部底面に載置した発光ダイオードを、上述した硬化性シリコーンゴム組成物の硬化物(第1の封止部材)で封止する。この封止は、液状の硬化性シリコーンゴム組成物をパッケージの凹部に適用したのち、該組成物を所定の温度で硬化させることにより行なう。該組成物のパッケージ凹部への適用は、例えば、スクリーン印刷、メタルマスク印刷、ポッティング、スプレー塗布、インクジェット吐出等の方法により行なうことができる。組成物の性状は塗布方法に応じて無溶媒でもよいし、有機溶媒で希釈してワニスとして用いてもよい。こうして形成される第1の封止部材層の厚さは、典型的には10μm〜3mm、より典型的には100μm〜3mmである。
次に、該ゴム硬化物の表面に、前述した硬化性シリコーン樹脂を塗布する。
次に、該硬化性シリコーン樹脂の塗膜を硬化させて厚さ0.5mm以下の硬化シリコーン樹脂層(第2の封止部材)を形成する。
[Method of Manufacturing Silicone Rubber Sealed Light Emitting Device]
According to the method for manufacturing a light-emitting device of the present invention, first, the light-emitting diode placed on the bottom surface of the recess of the package is sealed with the cured product (first sealing member) of the curable silicone rubber composition described above. . This sealing is performed by applying a liquid curable silicone rubber composition to the recess of the package and then curing the composition at a predetermined temperature. The composition can be applied to the package recess by, for example, a method such as screen printing, metal mask printing, potting, spray coating, or ink jet discharge. The composition may have no solvent depending on the coating method, or may be diluted with an organic solvent and used as a varnish. The thickness of the first sealing member layer formed in this way is typically 10 μm to 3 mm, more typically 100 μm to 3 mm.
Next, the aforementioned curable silicone resin is applied to the surface of the rubber cured product.
Next, the coating film of the curable silicone resin is cured to form a cured silicone resin layer (second sealing member) having a thickness of 0.5 mm or less.

硬質シリコーンレジン層は厚さ0.5mm以下で第1の封止部材表面を被覆する必要があることから、通常は沸点が150℃以下の有機溶剤に上記硬化性シリコーン樹脂組成物を溶解させた状態で使用する。溶剤としてはシリコーンゴム硬化物表面に塗布しても均一に濡れるようなものであればいかなるものでも使用可能である。なかでも溶剤としてはトルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素系、トリメチルジシロキサンなどのケイ素系溶剤などが望ましい。シリコーン樹脂組成物溶液の濃度は、10〜90質量%の範囲が被覆厚みを制御するのに望ましい。   Since the hard silicone resin layer has a thickness of 0.5 mm or less and needs to cover the surface of the first sealing member, the curable silicone resin composition is usually dissolved in an organic solvent having a boiling point of 150 ° C. or less. Use in state. Any solvent can be used as long as it can be wetted even when applied to the surface of the cured silicone rubber. Among these solvents, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, and silicon solvents such as trimethyldisiloxane are preferable. The concentration of the silicone resin composition solution is desirably in the range of 10 to 90% by mass for controlling the coating thickness.

被覆の膜厚としては50μm以上、0.5mm以下が好ましく、より好ましくは50μm以上、300μm以下である。更に好ましくは50μm以上、200μm以下である。   The film thickness of the coating is preferably 50 μm or more and 0.5 mm or less, more preferably 50 μm or more and 300 μm or less. More preferably, it is 50 μm or more and 200 μm or less.

基材となるシリコーンゴム硬化物の硬度が低い場合、被覆の厚さが0.5mmを超えると、被覆したシリコーン樹脂に容易にクラックが入り易い。また、薄すぎると被覆が容易に破断し易い。   When the hardness of the cured silicone rubber used as the substrate is low, if the coating thickness exceeds 0.5 mm, the coated silicone resin is easily cracked. On the other hand, if it is too thin, the coating is easily broken.

上記のように溶剤に希釈した硬化性シリコーン樹脂組成物の溶液を、硬化したシリコーンゴム硬化物(第1封止部材)表面に塗布する方法は制限されず、例えば、ポッティング(滴下)、スプレー噴霧、インクジェット方式による吐出、ハケ塗り等により塗布することで均一に塗布することが出来る。塗布後、所定の温度条件で硬化性シリコーン樹脂を硬化させることで表面タック性を低減した封止体(即ち、特定の厚さと特定の硬度を有するシリコーン樹脂層で表面が被覆された、特定組成からなる架橋構造を有するシリコーンゴム硬化物)を得ることが出来る。   The method of applying the solution of the curable silicone resin composition diluted in the solvent as described above to the surface of the cured silicone rubber cured product (first sealing member) is not limited. For example, potting (dropping), spray spraying It can be applied uniformly by applying by ink jetting, brushing or the like. After coating, a sealing body in which surface tackiness is reduced by curing a curable silicone resin under a predetermined temperature condition (that is, a specific composition whose surface is coated with a silicone resin layer having a specific thickness and a specific hardness) A cured silicone rubber having a cross-linked structure consisting of

以下、本発明を実施例により具体的に説明する。以下の記載において、部は質量部を意味し、粘度は23℃での測定値を示す。
−実施例1−
・組成物の調製
分子鎖両末端をビニルジメチルシロキシ基で封止された粘度1Pa.sのジメチルポリシロキサン(VF1)80部に、分子鎖両末端をビニルジメチルシロキシ基で封止された粘度5Pa.sのジメチルポリシロキサン(VF2)15部、SiO2単位50モル%、(CH33SiO0.5単位42.5モル%及びVi3SiO0.5単位7.5モル%からなるレジン構造のビニルメチルシロキサン(VMQ)5部、SiH基量が前記VF1、VF2及びVMQ成分中のビニル基の合計量当り1.5倍モルとなる量の下記式(5):
Hereinafter, the present invention will be specifically described by way of examples. In the following description, “part” means “part by mass”, and the viscosity indicates a value measured at 23 ° C.
Example 1
Preparation of composition 80 parts of dimethylpolysiloxane (VF1) having a viscosity of 1 Pa.s with both ends of a molecular chain sealed with vinyldimethylsiloxy groups, and a viscosity of 5 Pa with both ends of a molecular chain sealed with vinyldimethylsiloxy groups .s of 15 parts of dimethylpolysiloxane (VF2), 50 mol% of SiO 2 units, 42.5 mol% of (CH 3 ) 3 SiO 0.5 units and 7.5 mol% of Vi 3 SiO 0.5 units 5 parts of siloxane (VMQ), and the following formula (5) in which the amount of SiH groups is 1.5 times mol per the total amount of vinyl groups in the VF1, VF2 and VMQ components:

Figure 0004872296
で示されるオルガノハイドロジェンポリシロキサン12.8部、並びに塩化白金酸のオクチルアルコール変性溶液0.05部を配合して組成物を調製した。
該組成物を以下のようにして評価した。
Figure 0004872296
A composition was prepared by blending 12.8 parts of the organohydrogenpolysiloxane represented by the above formula and 0.05 part of an octyl alcohol-modified solution of chloroplatinic acid.
The composition was evaluated as follows.

・未被覆硬化ゴムの物性測定
上で得られた組成物を、150℃/1hrにて加熱成型して10mm×50mm×2mm(厚さ)のシリコーンゴム硬化物を得た。JIS K 6301に準拠して、この硬化物の引張強度、及び伸びを測定した。タイプA硬度は、JISK6253に準拠して測定した。
Measurement of physical properties of uncoated cured rubber The composition obtained above was heat-molded at 150 ° C./1 hr to obtain a cured silicone rubber of 10 mm × 50 mm × 2 mm (thickness). In accordance with JIS K 6301, the tensile strength and elongation of the cured product were measured. Type A hardness was measured in accordance with JISK6253.

・硬質レジン被覆の形成
さらに上記硬化物を、透明硬質レジンを生成する硬化性シリコーン樹脂であるKJR-632(商品名、信越化学工業(株)製、硬化後のタイプD硬度:70)をトルエンに溶解した20質量%の溶液中に浸せきし硬化物表面に塗布した。その後、塗膜を室温で1時間乾繰したのち、120℃で1時間で加熱し硬化させた。得られた硬質レジンからなる被覆の厚みは200μmであった。
・ Formation of hard resin coating Further, the above cured product is treated with KJR-632 (trade name, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., type D hardness after curing: 70), which is a curable silicone resin that produces a transparent hard resin. It was immersed in a 20% by mass solution dissolved in 1 and applied to the surface of the cured product. Thereafter, the coating film was dried at room temperature for 1 hour and then heated at 120 ° C. for 1 hour to be cured. The resulting hard resin coating had a thickness of 200 μm.

・被覆硬化ゴムの物性測定
硬質レジンで被覆後24時間経過後のシリコーンゴム硬化物のタイプA硬度についても上記と同様にして測定した。
Measurement of physical properties of coated cured rubber The type A hardness of the cured silicone rubber after 24 hours from coating with a hard resin was also measured in the same manner as described above.

・耐折曲げ試験
表面を硬質レジンで被覆した上記形状の硬化物を90度折り曲げても被覆した硬質レジン層にはクラックが入らなかった。
-Bending resistance test Even if the cured product having the above-mentioned shape whose surface was coated with a hard resin was bent by 90 degrees, the hard resin layer coated did not crack.

・タック性試験
硬質レジンで被覆した硬化物と被覆していない硬化物表面に銀粉を撒布した後、エアーを吹き付けて銀粉の除去を試みたところ、硬質レジンで被覆したものは完全に銀粉を除去することが出来たが、被覆していないものは銀粉の多くが表面に付着したまま残存した。
・ Tack property test After spraying silver powder on the surface of hardened resin coated with hard resin and uncovered hardened material, we tried to remove the silver powder by blowing air. However, most of the silver powder remained unattached on the surface.

−実施例2−
実施例1において、VF1(1Pa.s)の量を87.5部に、VMQの添加量を2.5部に、式(5)で表されるオルガノハイドロジェンポリシロキサンの量を8部に変更し、そして下記構造式(6):
-Example 2-
In Example 1, the amount of VF1 (1 Pa.s) was changed to 87.5 parts, the addition amount of VMQ was changed to 2.5 parts, the amount of organohydrogenpolysiloxane represented by formula (5) was changed to 8 parts, and The following structural formula (6):

Figure 0004872296
(式中、R
Figure 0004872296
(Where R 8 is

Figure 0004872296
)で示されるエポキシ基含有オルガノハイドロジェンポリシロキサンを1部添加した以外は、実施例1と同様にして組成物を調製した。
Figure 0004872296
The composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that 1 part of the epoxy group-containing organohydrogenpolysiloxane represented by (1) was added.

・未被覆硬化ゴムの物性測定
得られた組成物について実施例1と同様にしてシリコーンゴム硬化物を得、引張り強度、伸び及びタイプA硬度を測定した。結果を表1に示す。
Measurement of physical properties of uncoated cured rubber A silicone rubber cured product was obtained in the same manner as in Example 1 for the obtained composition, and the tensile strength, elongation and type A hardness were measured. The results are shown in Table 1.

・硬質レジン被覆の形成
硬化物表面への硬質レジン被覆の形成は、KJR632の20%溶液を浸漬ではなくスプレーで噴霧することにより行なった以外は実施例1と同様にして行なった。硬質レジンの被覆厚みは150μmであった。
-Formation of hard resin coating The hard resin coating was formed on the surface of the cured product in the same manner as in Example 1 except that a 20% solution of KJR632 was sprayed instead of dipping. The coating thickness of the hard resin was 150 μm.

硬質レジン被覆後24時間経過後のシリコーンゴム硬化物のタイプA硬度についても実施例1と同様にして測定した。結果を表1に示す。   The type A hardness of the cured silicone rubber 24 hours after the hard resin coating was measured in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.

また、硬質レジン被覆した硬化ゴムについて耐折曲げ試験を行なったところ、硬質レジン層にはクラックが入らなかった。   Moreover, when the bending resistance test was done about the hard rubber coated hard resin, the hard resin layer did not crack.

また、硬質レジン被覆した硬化ゴムと被覆していない硬化ゴム表面についてタック性試験を実施例1と同様に行なったところ、硬質レジンで被覆したものは完全に銀粉を除去することが出来たが、被覆していないものは銀粉が表面に多く残存した。   Further, when the tack property test was performed in the same manner as in Example 1 for the hard rubber coated hard rubber and the uncovered hard rubber surface, the silver powder was completely removed from the hard resin coated one. A large amount of silver powder remained on the uncoated surface.

−実施例3−
実施例2で用いた式(5)で表されるエポキシ含有シロキサンの代わりに下記構造式(7):
Example 3
Instead of the epoxy-containing siloxane represented by the formula (5) used in Example 2, the following structural formula (7):

Figure 0004872296

(式中、R
Figure 0004872296

(Wherein R 9 :

Figure 0004872296
)で示されるエポキシ基含有オルガノハイドロジェンポリシロキサン1部を使用した以外は、実施例2と同様にして組成物を調製した。
Figure 0004872296
A composition was prepared in the same manner as in Example 2 except that 1 part of the epoxy group-containing organohydrogenpolysiloxane represented by formula (1) was used.

・未被覆硬化ゴムの物性測定
得られた組成物について実施例1と同様にしてシリコーンゴム硬化物を得、引張り強度、伸び及びタイプA硬度を測定した。結果を表1に示す。
Measurement of physical properties of uncoated cured rubber A silicone rubber cured product was obtained in the same manner as in Example 1 for the obtained composition, and the tensile strength, elongation and type A hardness were measured. The results are shown in Table 1.

・硬質レジン被覆の形成
硬化物表面への硬質レジン被覆の形成は、KJR632の20%溶液を浸漬ではなくスプレーで噴霧することにより行なった以外は実施例1と同様にして行なった。硬質レジンの被覆厚みは150μmであった。
-Formation of hard resin coating The hard resin coating was formed on the surface of the cured product in the same manner as in Example 1 except that a 20% solution of KJR632 was sprayed instead of dipping. The coating thickness of the hard resin was 150 μm.

硬質レジン被覆後24時間経過後のシリコーンゴム硬化物のタイプA硬度についても実施例1と同様にして測定した。結果を表1に示す。   The type A hardness of the cured silicone rubber 24 hours after the hard resin coating was measured in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.

また、硬質レジン被覆した硬化ゴムについて耐折曲げ試験を行なったところ、硬質レジン層にはクラックが入らなかった。   Moreover, when the bending resistance test was done about the hard rubber coated hard resin, the hard resin layer did not crack.

また、硬質レジン被覆した硬化ゴムと被覆していない硬化ゴム表面についてタック性試験を実施例1と同様に行なったところ、硬質レジンで被覆したものは完全に銀粉を除去することが出来たが、被覆していないものは銀粉が表面に多く残存した。   Further, when the tack property test was performed in the same manner as in Example 1 for the hard rubber coated hard rubber and the uncovered hard rubber surface, the silver powder was completely removed from the hard resin coated one. A large amount of silver powder remained on the uncoated surface.

−実施例4−
実施例1において、さらに下記式(8):
-Example 4-
In Example 1, the following formula (8):

Figure 0004872296
(8)
Figure 0004872296
(8)

で表される化合物からなる接着付与剤0.5質量部を添加した以外は、実施例1と同様にして組成物を調製した。 A composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that 0.5 part by mass of the adhesion-imparting agent composed of the compound represented by

・未被覆硬化ゴムの物性測定
得られた組成物について実施例1と同様にしてシリコーンゴム硬化物を得、引張り強度、伸び及びタイプA硬度を測定した。結果を表1に示す。
Measurement of physical properties of uncoated cured rubber A silicone rubber cured product was obtained in the same manner as in Example 1 for the obtained composition, and the tensile strength, elongation and type A hardness were measured. The results are shown in Table 1.

・硬質レジン被覆の形成
硬化物表面への硬質レジン被覆の形成は、KJR632の20%溶液を浸漬ではなくスプレーで噴霧することにより行なった以外は実施例1と同様にして行なった。硬質レジンの被覆厚みは150μmであった。
-Formation of hard resin coating The hard resin coating was formed on the surface of the cured product in the same manner as in Example 1 except that a 20% solution of KJR632 was sprayed instead of dipping. The coating thickness of the hard resin was 150 μm.

硬質レジン被覆後24時間経過後のシリコーンゴム硬化物のタイプA硬度についても実施例1と同様にして測定した。結果を表1に示す。   The type A hardness of the cured silicone rubber 24 hours after the hard resin coating was measured in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.

また、硬質レジン被覆した硬化ゴムについて耐折曲げ試験を行なったところ、硬質レジン層にはクラックが入らなかった。   Moreover, when the bending resistance test was done about the hard rubber coated hard resin, the hard resin layer did not crack.

また、硬質レジン被覆した硬化ゴムと被覆していない硬化ゴム表面についてタック性試験を実施例1と同様に行なったところ、硬質レジンで被覆したものは完全に銀粉を除去することが出来たが、被覆していないものは銀粉が表面に多く残存した。   Further, when the tack property test was performed in the same manner as in Example 1 for the hard rubber coated hard rubber and the uncovered hard rubber surface, the silver powder was completely removed from the hard resin coated one. A large amount of silver powder remained on the uncoated surface.

−実施例5−
実施例2において、さらに、下記式(9):
-Example 5-
In Example 2, the following formula (9):

Figure 0004872296
(9)
で表される化合物からなる接着付与剤1.0質量部を添加した以外は、実施例2と同様にして組成物を調製した。
Figure 0004872296
(9)
A composition was prepared in the same manner as in Example 2 except that 1.0 part by mass of an adhesion-imparting agent composed of the compound represented by

得られた組成物について実施例1と同様にしてシリコーンゴム硬化物を得、引張り強度、伸び及びタイプA硬度を測定した。結果を表1に示す。   About the obtained composition, the silicone rubber hardened | cured material was obtained like Example 1, and tensile strength, elongation, and type A hardness were measured. The results are shown in Table 1.

・硬質レジン被覆の形成
硬化物表面への硬質レジン被覆の形成は、KJR632の20%溶液を浸漬ではなくスプレーで噴霧することにより行なった以外は実施例1と同様にして行なった。硬質レジンの被覆厚みは150μmであった。
-Formation of hard resin coating The hard resin coating was formed on the surface of the cured product in the same manner as in Example 1 except that a 20% solution of KJR632 was sprayed instead of dipping. The coating thickness of the hard resin was 150 μm.

硬質レジン被覆後24時間経過後のシリコーンゴム硬化物のタイプA硬度についても実施例1と同様にして測定した。結果を表1に示す。   The type A hardness of the cured silicone rubber 24 hours after the hard resin coating was measured in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.

また、硬質レジン被覆した硬化ゴムについて耐折曲げ試験を行なったところ、硬質レジン層にはクラックが入らなかった。   Moreover, when the bending resistance test was done about the hard rubber coated hard resin, the hard resin layer did not crack.

また、硬質レジン被覆した硬化ゴムと被覆していない硬化ゴム表面についてタック性試験を実施例1と同様に行なったところ、硬質レジンで被覆したものは完全に銀粉を除去することが出来たが、被覆していないものは銀粉が表面に多く残存した。   Further, when the tack property test was performed in the same manner as in Example 1 for the hard rubber coated hard rubber and the uncovered hard rubber surface, the silver powder was completely removed from the hard resin coated one. A large amount of silver powder remained on the uncoated surface.

−比較例1−
実施例1において、式(5)で表されるオルガノハイドロジェンポリシロキサンの量を2.7部に変えて、組成物中のケイ素原子結合水素原子(SiH)の量がVF1、VF2及びVMQに含まれるビニル基の合計量に対して0.8倍モルとなるようにした以外は、実施例1と同様にして組成物を調製した。
−Comparative Example 1−
In Example 1, the amount of the organohydrogenpolysiloxane represented by the formula (5) is changed to 2.7 parts, and the amount of silicon-bonded hydrogen atoms (SiH) in the composition is included in VF1, VF2, and VMQ. A composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that the molar amount was 0.8 times the total amount of vinyl groups.

・未被覆硬化ゴムの物性測定
得られた組成物について実施例1と同様にしてシリコーンゴム硬化物を得、引張り強度、伸び及びタイプA硬度を測定した。結果を表2に示す。
Measurement of physical properties of uncoated cured rubber A silicone rubber cured product was obtained in the same manner as in Example 1 for the obtained composition, and the tensile strength, elongation and type A hardness were measured. The results are shown in Table 2.

・硬質レジン被覆の形成
硬化物表面への硬質レジン被覆の形成は、KJR632の20%溶液を浸漬ではなくスプレーで噴霧することにより行なった以外は実施例1と同様にして行なった。硬質レジンの被覆厚みは150μmであった。
-Formation of hard resin coating The hard resin coating was formed on the surface of the cured product in the same manner as in Example 1 except that a 20% solution of KJR632 was sprayed instead of dipping. The coating thickness of the hard resin was 150 μm.

硬質レジン被覆後24時間経過後のシリコーンゴム硬化物のタイプA硬度についても実施例1と同様にして測定した。結果を表2に示す。   The type A hardness of the cured silicone rubber 24 hours after the hard resin coating was measured in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 2.

また、硬質レジン被覆した硬化ゴムについて耐折曲げ試験を行なったところ、硬質レジン層にはクラックが入らなかった。   Moreover, when the bending resistance test was done about the hard rubber coated hard resin, the hard resin layer did not crack.

また、硬質レジン被覆した硬化ゴムと被覆していない硬化ゴム表面についてタック性試験を実施例1と同様に行なったところ、硬質レジンで被覆したものは完全に銀粉を除去することが出来たが、被覆していないものは銀粉が表面に多く残存した。   Further, when the tack property test was performed in the same manner as in Example 1 for the hard rubber coated hard rubber and the uncovered hard rubber surface, the silver powder was completely removed from the hard resin coated one. A large amount of silver powder remained on the uncoated surface.

−比較例2−
実施例1において、式(5)で表されるオルガノハイドロジェンポリシロキサンの代りに式(10):
-Comparative Example 2-
In Example 1, instead of the organohydrogenpolysiloxane represented by the formula (5), the formula (10):

Figure 0004872296
で表される化合物を4.6部使用した以外は、実施例1と同様にして組成物を調製した。
Figure 0004872296
A composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that 4.6 parts of the compound represented by formula (1) was used.

・未被覆硬化ゴムの物性測定
得られた組成物について実施例1と同様にしてシリコーンゴム硬化物を得、引張り強度、伸び及びタイプA硬度を測定した。結果を表2に示す。
・硬質レジン被覆の形成
硬化物表面への硬質レジン被覆の形成は、KJR632の20%溶液を浸漬ではなくスプレーで噴霧することにより行なった以外は実施例1と同様にして行なった。硬質レジンの被覆厚みは150μmであった。
Measurement of physical properties of uncoated cured rubber A silicone rubber cured product was obtained in the same manner as in Example 1 for the obtained composition, and the tensile strength, elongation and type A hardness were measured. The results are shown in Table 2.
-Formation of hard resin coating The hard resin coating was formed on the surface of the cured product in the same manner as in Example 1 except that a 20% solution of KJR632 was sprayed instead of dipping. The coating thickness of the hard resin was 150 μm.

硬質レジン被覆後24時間経過後のシリコーンゴム硬化物のタイプA硬度についても実施例1と同様にして測定した。結果を表2に示す。   The type A hardness of the cured silicone rubber 24 hours after the hard resin coating was measured in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 2.

また、硬質レジン被覆した硬化ゴムについて耐折曲げ試験を行なったところ、硬質レジン層にはクラックが入らなかった。   Moreover, when the bending resistance test was done about the hard rubber coated hard resin, the hard resin layer did not crack.

また、硬質レジン被覆した硬化ゴムと被覆していない硬化ゴム表面についてタック性試験を実施例1と同様に行なったところ、硬質レジンで被覆したものは完全に銀粉を除去することが出来たが、被覆していないものは銀粉が表面に多く残存した。   Further, when the tack property test was performed in the same manner as in Example 1 for the hard rubber coated hard rubber and the uncovered hard rubber surface, the silver powder was completely removed from the hard resin coated one. A large amount of silver powder remained on the uncoated surface.

−比較例3−
実施例1において、得られた組成物の硬化物を硬質レジンで被覆する際に、KJR-632のトルエン溶液として濃度20質量%ではなく75質量%のトルエン溶液を使用し、それにより厚み550μmの硬質レジン被覆を形成した以外は実施例1と同様にして硬質レジン被覆を形成した。こうして硬質レジンで被覆したゴム硬化物の耐クラック性を実施例1と同様にして測定したところ、硬質レジン層にクラックが入った。
-Comparative Example 3-
In Example 1, when the cured product of the obtained composition was coated with a hard resin, a 75% by weight toluene solution was used as a KJR-632 toluene solution instead of 20% by weight, whereby a thickness of 550 μm was used. A hard resin coating was formed in the same manner as in Example 1 except that a hard resin coating was formed. Thus, when the crack resistance of the hardened | cured rubber material coat | covered with the hard resin was measured like Example 1, the hard resin layer cracked.

Figure 0004872296

(注)*1:硬化性シリコーンゴム組成物中のケイ素原子結合水素原子/ケイ素原子結合ビニル基のモル比
*2:硬化性シリコーンゴム組成物の硬化物(硬質レジン被覆前)の外観
Figure 0004872296

(Note) * 1: Molar ratio of silicon atom-bonded hydrogen atom / silicon atom-bonded vinyl group in curable silicone rubber composition * 2: Appearance of cured product of curable silicone rubber composition (before hard resin coating)

Figure 0004872296

(注)*1及び*2については表1と同じ。
Figure 0004872296

(Note) * 1 and * 2 are the same as in Table 1.

−実施例6−
図1はパッケージ1(1aと1bとからなる)にLEDチップ2を封止した状態を示す縦断面図である。パッケージ1は上側の中央部に凹部を有し、該凹部は底面とそれを囲むように形成され上方に向かってすり鉢状に広がる側面を有する形状である。該パッケージ1は中央部の銀めっきを施した銅系材料からなり上側に凹部を有しヒートシンクとしても働く部材1aと、該部材1aの周囲に一体的に形成されたナイロン樹脂製部材1bとから構成されている。パッケージ1の凹部にLEDチップ2を載置し、ワイヤ3をカソード電極5に、ワイヤ4をアノード電極6にボンディングした後、付加硬化型液状シリコーンゴム組成物を凹部に注入して充填し、硬化させ、シリコーンゴム硬化物(第1の封止部材)7を形成する。このシリコーンゴム硬化物7の上に硬化性シリコーン樹脂溶液を塗布し、硬化させることにより硬質レジン層(第2の封止部材)8を形成する。こうして、本発明のシリコーンゴム封止型発光装置が作製される。
-Example 6-
FIG. 1 is a longitudinal sectional view showing a state in which an LED chip 2 is sealed in a package 1 (consisting of 1a and 1b). The package 1 has a concave portion in the upper central portion, and the concave portion has a shape having a bottom surface and a side surface which is formed so as to surround the bottom surface and spreads upward in a mortar shape. The package 1 is composed of a member 1a made of a copper-based material plated with silver at the center and having a concave portion on the upper side and also serving as a heat sink, and a nylon resin member 1b integrally formed around the member 1a. It is configured. The LED chip 2 is placed in the recess of the package 1, the wire 3 is bonded to the cathode electrode 5, and the wire 4 is bonded to the anode electrode 6, and then an addition-curable liquid silicone rubber composition is injected into the recess and filled and cured. Thus, a cured silicone rubber (first sealing member) 7 is formed. A hard resin layer (second sealing member) 8 is formed by applying and curing a curable silicone resin solution on the silicone rubber cured product 7. Thus, the silicone rubber-sealed light emitting device of the present invention is produced.

硬化性シリコーンゴム組成物として実施例1〜5、比較例1〜2で調製したシリコーンゴム組成物を使用し、硬化性シリコーン樹脂溶液としてKJR-632のトルエン溶液をスプレーで噴霧することで約200μmの薄膜状に塗布し硬化させた。このパッケージをMSLレベル2に順ずる加湿リフロー試験を実施した。
封止硬化物にクラックが発生したもの、封止硬化物がパッケージやチップ面からの剥離したものを不良と評価した。また、ワイヤが変形したものも不良と評価した。結果を表3に示す。
Using the silicone rubber composition prepared in Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 and 2 as the curable silicone rubber composition, spraying a toluene solution of KJR-632 as the curable silicone resin solution by spraying about 200 μm The thin film was applied and cured. The package was subjected to a humidified reflow test in accordance with MSL level 2.
Those in which cracks occurred in the cured cured product and those in which the cured cured product was peeled off from the package or chip surface were evaluated as defective. Moreover, what deformed the wire was also evaluated as bad. The results are shown in Table 3.

Figure 0004872296
Figure 0004872296

不良数/n=20 Number of defects / n = 20

パッケージにLEDチップを封止した状態を示す縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view which shows the state which sealed the LED chip in the package.

符号の説明Explanation of symbols

1a.パッケージを構成する一部材
1b.パッケージを構成する別の部材
2.LEDチップ
5.カソード電極
6.アノード電極
7.第1の封止部材であるシリコーンゴム硬化物
8.第2の封止部材であるシリコーンレジン硬化物からなる被覆
1a. One member constituting the package 1b. 1. another member constituting the package LED chip 5. Cathode electrode 6. Anode electrode 7. 7. Silicone rubber cured product as the first sealing member Coating made of cured silicone resin as second sealing member

Claims (2)

底面と側面を持つ凹部を有するパッケージと、
前記パッケージの凹部の底面に載置された発光ダイオードと、
前記パッケージの凹部内に配置され、前記発光ダイオードを封止する封止体と、
を有してなる発光装置にして、
前記封止体が、前記発光ダイオードを被覆する第1の封止部材と、該第1の封止部材の表面を被覆する第2の封止部材とからなり、
前記第1の封止部材は、
(A)下記式(1)
Figure 0004872296

(式中、R 1 は互いに同一又は異種の脂肪族不飽和結合を有さない非置換又は置換一価炭化水素基であり、R はアルケニル基であり、kはこのオルガノポリシロキサンの25℃の粘度を10〜1,000,000mPa・sとする0又は正の整数である。)
で表される、一分子中にケイ素原子に結合したアルケニル基を2個含有するオルガノポリシロキサン、
(B)下記式(2):
Figure 0004872296

(式中、R は互いに同一又は異種の非置換又は置換一価炭化水素基であって、少なくとも1個がアルケニル基である。R は互いに同一又は異種の脂肪族不飽和結合を有さない非置換又は置換一価炭化水素基であり、R はアルケニル基であり、l,mは0又は正の整数であり、l+mがこのオルガノポリシロキサンの25℃の粘度を10〜1,000,000mPa・sとする数である。)
で表される、一分子中にケイ素原子に結合したアルケニル基を3個以上含有するオルガノポリシロキサン、
(C)一分子中にケイ素原子に結合した水素原子を2個含むオルガノハイドロジェンポリシロキサン、及び
(D)白金族金属系触媒
を含有してなり、組成物中のケイ素原子に結合したアルケニル基に対するケイ素原子に結合した水素原子のモル比が1.0以上で、硬化後のJISK6253に規定のタイプA硬度が20以下である硬化性シリコーンゴム組成物の硬化物からなり、
前記第2の封止部材は、JISK6253に規定のタイプD硬度が30以上であって、厚さ0.5mm以下の硬化シリコーン樹脂層からなる、ことを特徴とするシリコーンゴム封止型発光装置。
A package having a recess having a bottom surface and a side surface;
A light emitting diode placed on the bottom surface of the recess of the package;
A sealing body disposed in the recess of the package and sealing the light emitting diode;
A light emitting device comprising
The sealing body includes a first sealing member that covers the light emitting diode, and a second sealing member that covers the surface of the first sealing member,
The first sealing member is
(A) The following formula (1)
Figure 0004872296

(Wherein R 1 is an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group that does not have the same or different aliphatic unsaturated bond, R 2 is an alkenyl group, and k is 25 ° C. of the organopolysiloxane. Is 0 or a positive integer with a viscosity of 10 to 1,000,000 mPa · s.)
An organopolysiloxane containing two alkenyl groups bonded to a silicon atom in one molecule,
(B) The following formula (2):
Figure 0004872296

(In the formula, R 3 is the same or different unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group, and at least one is an alkenyl group. R 4 has the same or different aliphatic unsaturated bond. Is an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group, R 5 is an alkenyl group, l and m are 0 or a positive integer, and l + m is the viscosity of the organopolysiloxane at 25 ° C. of 10 to 1,000. , 000 mPa · s.)
An organopolysiloxane containing 3 or more alkenyl groups bonded to silicon atoms in one molecule,
(C) an organohydrogenpolysiloxane containing two hydrogen atoms bonded to silicon atoms in one molecule; and
(D) a platinum group metal-based catalyst , wherein the molar ratio of hydrogen atoms bonded to silicon atoms to alkenyl groups bonded to silicon atoms in the composition is 1.0 or more; It consists of a cured product of a curable silicone rubber composition whose type A hardness specified in JIS K6253 is 20 or less,
The second sealing member is a silicone rubber-sealed light emitting device characterized by comprising a cured silicone resin layer having a type D hardness of 30 or more as defined in JIS K6253 and a thickness of 0.5 mm or less.
底面と側面を持つ凹部を有するパッケージの前記凹部の底面に配置された発光ダイオードを、
(A)下記式(1)
Figure 0004872296

(式中、R 1 は互いに同一又は異種の脂肪族不飽和結合を有さない非置換又は置換一価炭化水素基であり、R はアルケニル基であり、kはこのオルガノポリシロキサンの25℃の粘度を10〜1,000,000mPa・sとする0又は正の整数である。)
で表される、一分子中にケイ素原子に結合したアルケニル基を2個含有するオルガノポリシロキサン、
(B)下記式(2):
Figure 0004872296

(式中、R は互いに同一又は異種の非置換又は置換一価炭化水素基であって、少なくとも1個がアルケニル基である。R は互いに同一又は異種の脂肪族不飽和結合を有さない非置換又は置換一価炭化水素基であり、R はアルケニル基であり、l,mは0又は正の整数であり、l+mがこのオルガノポリシロキサンの25℃の粘度を10〜1,000,000mPa・sとする数である。)
で表される、一分子中にケイ素原子に結合したアルケニル基を3個以上含有するオルガノポリシロキサン、
(C)一分子中にケイ素原子に結合した水素原子を2個含むオルガノハイドロジェンポリシロキサン、及び
(D)白金族金属系触媒
を含有してなり、組成物中のケイ素原子に結合したアルケニル基に対するケイ素原子に結合した水素原子のモル比が1.0以上で、硬化後のJISK6253に規定のタイプA硬度が20以下である硬化性シリコーンゴム組成物の硬化物で封止し、
該封止のために形成された前記硬化物の表面に、硬化後のJISK6253に規定のタイプD硬度が30以上である硬化性シリコーン樹脂を塗布し、
該硬化性シリコーン樹脂の塗布した塗膜を硬化させて厚さ0.5mm以下の硬化シリコーン樹脂層を形成する、
工程を有する、シリコーンゴム封止型発光装置の製造方法。
A light emitting diode disposed on the bottom surface of the recess of the package having a recess having a bottom surface and a side surface;
(A) The following formula (1)
Figure 0004872296

(Wherein R 1 is an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group that does not have the same or different aliphatic unsaturated bond, R 2 is an alkenyl group, and k is 25 ° C. of the organopolysiloxane. Is 0 or a positive integer with a viscosity of 10 to 1,000,000 mPa · s.)
An organopolysiloxane containing two alkenyl groups bonded to a silicon atom in one molecule,
(B) The following formula (2):
Figure 0004872296

(In the formula, R 3 is the same or different unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group, and at least one is an alkenyl group. R 4 has the same or different aliphatic unsaturated bond. Is an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group, R 5 is an alkenyl group, l and m are 0 or a positive integer, and l + m is the viscosity of the organopolysiloxane at 25 ° C. of 10 to 1,000. , 000 mPa · s.)
An organopolysiloxane containing 3 or more alkenyl groups bonded to silicon atoms in one molecule,
(C) an organohydrogenpolysiloxane containing two hydrogen atoms bonded to silicon atoms in one molecule; and
(D) a platinum group metal-based catalyst , wherein the molar ratio of hydrogen atoms bonded to silicon atoms to alkenyl groups bonded to silicon atoms in the composition is 1.0 or more; Sealed with a cured product of a curable silicone rubber composition whose type A hardness specified in JIS K6253 is 20 or less,
A curable silicone resin having a specified type D hardness of 30 or more is applied to the cured JISK6253 on the surface of the cured product formed for the sealing,
Curing the coating film coated with the curable silicone resin to form a cured silicone resin layer having a thickness of 0.5 mm or less;
A method for producing a silicone rubber-sealed light emitting device, comprising a step.
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