JP4864789B2 - Planographic printing plate precursor and laminate of planographic printing plate precursor - Google Patents

Planographic printing plate precursor and laminate of planographic printing plate precursor Download PDF

Info

Publication number
JP4864789B2
JP4864789B2 JP2007085765A JP2007085765A JP4864789B2 JP 4864789 B2 JP4864789 B2 JP 4864789B2 JP 2007085765 A JP2007085765 A JP 2007085765A JP 2007085765 A JP2007085765 A JP 2007085765A JP 4864789 B2 JP4864789 B2 JP 4864789B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
printing plate
acid
lithographic printing
plate precursor
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2007085765A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2008139814A (en
Inventor
長生 山本
章浩 遠藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Corp
Original Assignee
Fujifilm Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujifilm Corp filed Critical Fujifilm Corp
Priority to JP2007085765A priority Critical patent/JP4864789B2/en
Priority to US11/934,537 priority patent/US7704675B2/en
Priority to EP07021700A priority patent/EP1921501B1/en
Priority to AT07021700T priority patent/ATE540335T1/en
Publication of JP2008139814A publication Critical patent/JP2008139814A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4864789B2 publication Critical patent/JP4864789B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Description

本発明は、レーザ光で直接描画可能な平版印刷版原版、及びその積層体に関する。   The present invention relates to a lithographic printing plate precursor that can be directly drawn with a laser beam, and a laminate thereof.

従来、平版印刷版原版としては親水性支持体上に親油性の感光性樹脂層を設けた構成を有するPS版が広く用いられ、その製版方法として、通常は、リスフイルムを介してマスク露光(面露光)後、非画像部を溶解除去することにより所望の印刷版を得ていた。
近年、画像情報をコンピューターを用いて電子的に処理、蓄積、出力する、デジタル化技術が広く普及してきている。そして、そのようなデジタル化技術に対応した新しい画像出力方式が種々実用されるようになってきた。その結果レーザ光のような指向性の高い光をデジタル化された画像情報に従って走査し、リスフイルムを介すこと無く、直接印刷版を製造するコンピューター トゥ プレート(CTP)技術が切望されており、これに適応した平版印刷版原版を得ることが重要な技術課題となっている。
Conventionally, as a lithographic printing plate precursor, a PS plate having a configuration in which a lipophilic photosensitive resin layer is provided on a hydrophilic support is widely used. As the plate making method, usually, mask exposure ( After the surface exposure), the desired printing plate was obtained by dissolving and removing the non-image area.
In recent years, digitization techniques that electronically process, store, and output image information using a computer have become widespread. Various new image output methods corresponding to such digitization techniques have come into practical use. As a result, computer-to-plate (CTP) technology that scans highly directional light such as laser light according to digitized image information and directly produces a printing plate without going through a lithographic film is desired. Obtaining a lithographic printing plate precursor adapted to this is an important technical issue.

このような走査露光可能な平版印刷版原版としては、親水性支持体上にレーザ露光によりラジカルやブレンステッド酸などの活性種を発生しうる感光性化合物を含有した親油性感光性樹脂層(以下、記録層ともいう)を設けた構成が提案され、既に上市されている。この平版印刷版原版をデジタル情報に基づきレーザ走査し活性種を発生せしめ、その作用によって記録層に物理的、或いは化学的な変化を起こし不溶化させ、引き続き現像処理することによってネガ型の平版印刷版を得ることができる。
特に、親水性支持体上に、感光スピードに優れる光重合開始剤、付加重合可能なエチレン性不飽和化合物、及びアルカリ現像液に可溶なバインダーポリマーを含有する光重合型の記録層、並びに必要に応じて酸素遮断性の保護層を設けた平版印刷版原版(例えば、特許文献1参照)は、生産性に優れ、更に現像処理が簡便であり、解像度や着肉性もよいといった利点から、望ましい印刷性能を有するものである。
As such a lithographic printing plate precursor capable of scanning exposure, an oleophilic photosensitive resin layer containing a photosensitive compound capable of generating active species such as radicals and Bronsted acids by laser exposure on a hydrophilic support (hereinafter referred to as “lithographic printing plate precursor”) , Also referred to as a recording layer) has been proposed and is already on the market. This lithographic printing plate precursor is laser-scanned based on digital information to generate active species, which causes a physical or chemical change in the recording layer to insolubilize it, followed by development processing, thereby developing a negative lithographic printing plate Can be obtained.
In particular, on a hydrophilic support, a photopolymerization type recording layer containing a photopolymerization initiator excellent in photosensitive speed, an addition-polymerizable ethylenically unsaturated compound, and a binder polymer soluble in an alkali developer, and necessary The lithographic printing plate precursor provided with an oxygen-blocking protective layer according to the above (for example, see Patent Document 1) is excellent in productivity, is easy to develop, and has good resolution and wearability. It has desirable printing performance.

一方、現像処理が簡便である光重合型の平版印刷版原版の製版作業における生産性としては、露光工程にかかる時間短縮が重要となってくる。露光工程には、通常、原版と原版の間に、原版同士の接着防止機能や、比較的軟らかい感光層又は感光層上に設けられた保護層表面がアルミニウム支持体や支持体裏面に設けられたバックコート層と擦れて生じるキズ防止機能を有する合紙が挿入された積層体として供給される。そのため、露光工程での合紙除去時間が非効率の原因となっていた。この露光工程での効率化を図るためには、原版間に合紙を挿入しない積層体を用いることで、合紙除去の工程を省略すればよく、このことから、平版印刷版原版同士の耐接着性と保護層表面がアルミニウム支持体とこすれて生じるキズについての改良が望まれていた。
ここでいうキズとは、平版印刷版原版の表面側(感光層又は保護層)のキズを意味し、非画像部にキズが付いた場合の感光層の硬化による印刷汚れや、画像部にキズが付いた場合の画像抜け(白抜け)などが生じてしまうという大きな問題がある。
このようなキズの改良について、Tgが20℃以上のバックコート層を用いる方法(例えば、特許文献2参照)や、ポジ型の感光層に対してバックコート層としてポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、ポリビニルアセタール樹脂を用いる方法(例えば、特許文献3参照)などが知られているが、更なる改良が求められている。
On the other hand, shortening the time required for the exposure process is important as the productivity in the plate making operation of a photopolymerization type lithographic printing plate precursor that is easy to develop. In the exposure process, an adhesion preventing function between the original plates and a relatively soft photosensitive layer or a protective layer surface provided on the photosensitive layer are usually provided on the aluminum support or the back of the support between the original plates. It is supplied as a laminate in which a slip sheet having a function of preventing scratches caused by rubbing against the backcoat layer is inserted. Therefore, the slip sheet removal time in the exposure process has been a cause of inefficiency. In order to improve the efficiency in this exposure process, it is sufficient to omit the process of removing the slip sheet by using a laminate that does not insert the slip sheet between the master plates. There has been a desire for improvements in adhesion and scratches caused by rubbing the surface of the protective layer with the aluminum support.
The scratch referred to here means a scratch on the surface side (photosensitive layer or protective layer) of the lithographic printing plate precursor. If the non-image area is scratched, printing stains due to curing of the photosensitive layer, and scratches on the image area There is a big problem that image omission (white omission) or the like occurs when.
For improving such scratches, a method using a backcoat layer having a Tg of 20 ° C. or higher (for example, see Patent Document 2), a polyester resin, a phenoxy resin, or a polyvinyl acetal as a backcoat layer for a positive photosensitive layer. A method using a resin (for example, see Patent Document 3) is known, but further improvement is required.

以上のことより、合紙を挟み込まずに積層した場合に、平版印刷版原版同士がこすれて生じるキズが改良され、製版作業における生産性を向上しうる平版印刷版原版が望まれているのが現状である。
特開平10−228109号公報 特開平6−332155号公報 特開2005−62456号公報
From the above, there is a demand for a lithographic printing plate precursor that can improve the productivity in plate making operations by improving scratches caused by rubbing lithographic printing plate precursors when laminated without sandwiching interleaving paper. Currently.
Japanese Patent Laid-Open No. 10-228109 JP-A-6-332155 Japanese Patent Laid-Open No. 2005-62456

そこで、本発明は、前記の問題を鑑みなされたものであり、以下の目的を達成することを課題とする。
即ち、本発明の目的は、レーザ露光による書き込みが可能であり、また、合紙を挟み込むことなく積層した際の印刷版同士による擦れキズを防止しうる平版印刷版原版を提供することにある。
また、本発明の他の目的は、印刷版同士による擦れキズが防止され、製版作業における生産性を向上しうる平版印刷版原版の積層体を提供することにある。
Therefore, the present invention has been made in view of the above problems, and an object thereof is to achieve the following object.
That is, an object of the present invention is to provide a lithographic printing plate precursor that can be written by laser exposure and that can prevent scratches between printing plates when they are laminated without sandwiching a slip sheet.
Another object of the present invention is to provide a laminate of a lithographic printing plate precursor capable of preventing rubbing scratches between printing plates and improving productivity in plate making operations.

本発明者は、上記課題を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、エポキシ樹脂と、フェノール性水酸基を有する樹脂及びロジンからなる群から選ばれる少なくとも1種とを含有するバックコート層を用いることによって上記目的を達成しうることを見出し、本発明を成すに至った。
即ち、本発明の平版印刷版原版は、支持体の一方の面に感光性記録層を有し、前記支持体の他方の面にエポキシ樹脂と、フェノール性水酸基を有する樹脂及びロジンからなる群から選ばれる少なくとも1種とを含有するバックコート層を有することを特徴とする。
As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventor uses a back coat layer containing an epoxy resin and at least one selected from the group consisting of a resin having a phenolic hydroxyl group and rosin . The present inventors have found that the above object can be achieved and have accomplished the present invention.
That is, the lithographic printing plate precursor of the present invention has a photosensitive recording layer on one side of a support, and an epoxy resin , a resin having a phenolic hydroxyl group, and a rosin on the other side of the support. It has the backcoat layer containing at least 1 sort (s) chosen, It is characterized by the above-mentioned.

なお、前記バックコート層に含まれるフェノール性水酸基を有する樹脂がノボラック樹脂又はピロガロール樹脂であることが好ましい態様である。
このように、本発明におけるバックコート層にフェノール性水酸基を有する樹脂を用いる場合、その含有量が、バックコート層の全質量に対して0.1〜50質量%であることが好ましく、0.5〜30質量%であることがより好ましい。
In addition, it is a preferable aspect that the resin having a phenolic hydroxyl group contained in the back coat layer is a novolac resin or a pyrogallol resin.
Thus, when using resin which has a phenolic hydroxyl group for the backcoat layer in this invention, it is preferable that the content is 0.1-50 mass% with respect to the total mass of a backcoat layer. More preferably, it is 5-30 mass%.

また、前記バックコート層に含まれるロジンが、ロジン変性フェノール樹脂又はロジンエステルであることが好ましい態様である。
Moreover, it is a preferable aspect that the rosin contained in the back coat layer is a rosin-modified phenol resin or a rosin ester.

本発明の平版印刷版原版は、感光性記録層が、増感色素、重合開始剤、重合性化合物、及びバインダーポリマーを含有し、且つ、該感光性記録層上に酸素遮断性を有する保護層を有する構成が好ましい。
この保護層は、フィラーを含有することが好ましい。
In the lithographic printing plate precursor according to the invention, the photosensitive recording layer contains a sensitizing dye, a polymerization initiator, a polymerizable compound, and a binder polymer, and a protective layer having an oxygen barrier property on the photosensitive recording layer. The structure having is preferable.
This protective layer preferably contains a filler.

また、本発明において、感光性記録層が、赤外線吸収剤、重合開始剤、分子内にビニル基が置換したフェニル基を2個以上有するモノマー、及びビニル基が置換したフェニル基を側鎖に有する重合体を含有するモノであることが好ましい態様である。
また、感光性記録層が、0.7meq/g〜8.0meq/gのアリル基を含むバインダーポリマーを含有することも別の好ましい態様である。
In the present invention, the photosensitive recording layer has an infrared absorber, a polymerization initiator, a monomer having two or more phenyl groups substituted with vinyl groups in the molecule, and a phenyl group substituted with vinyl groups in the side chain. It is a preferable aspect that it is the thing containing a polymer.
In another preferred embodiment, the photosensitive recording layer contains a binder polymer containing an allyl group of 0.7 meq / g to 8.0 meq / g.

また、本発明の平版印刷原版の積層体は、本発明の平版印刷版原版を、感光性記録層側の最表面とバックコート層側の最表面とを直接接触させて複数枚積層してなることを特徴とする。   The laminate of the lithographic printing plate precursor according to the present invention is formed by laminating a plurality of the lithographic printing plate precursors according to the present invention by directly contacting the outermost surface on the photosensitive recording layer side and the outermost surface on the backcoat layer side. It is characterized by that.

本発明によれば、レーザ露光による書き込みが可能であり、また、合紙を挟み込むことなく積層した際の印刷版同士による擦れキズを防止しうる平版印刷版原版を提供することができる。
また、本発明によれば、本発明の平版印刷版原版を用いることで、印刷版同士による擦れキズが防止され、製版作業における生産性を向上しうる平版印刷版原版の積層体を提供することができる。
According to the present invention, it is possible to provide a lithographic printing plate precursor that can be written by laser exposure and that can prevent scratches between printing plates when they are laminated without sandwiching interleaf paper.
In addition, according to the present invention, by using the planographic printing plate precursor of the present invention, it is possible to provide a laminate of a planographic printing plate precursor that can prevent rubbing scratches between printing plates and improve productivity in plate making operations. Can do.

<平版印刷版原版>
本発明の平版印刷版原版は、支持体の一方の面に感光性記録層を有し、前記支持体の他方の面にエポキシ樹脂と、フェノール性水酸基を有する樹脂及びロジンからなる群から選ばれる少なくとも1種とを含有するバックコート層を設けてなることを特徴とする。
以下、本発明の平版印刷版原版を構成する、支持体、感光性記録層、及びバックコート層の各構成要素について説明する。
<Lithographic printing plate precursor>
The lithographic printing plate precursor according to the invention has a photosensitive recording layer on one side of the support, and is selected from the group consisting of an epoxy resin , a resin having a phenolic hydroxyl group, and rosin on the other side of the support. A back coat layer containing at least one kind is provided.
Hereinafter, the constituent elements of the support, the photosensitive recording layer, and the backcoat layer constituting the lithographic printing plate precursor according to the invention will be described.

〔バックコート層〕
本発明に用いられるバックコート層はエポキシ樹脂と、フェノール性水酸基を有する樹脂及びロジンからなる群から選ばれる少なくとも1種とを含有していることが必須である。また、種々の特性を向上させるために、その他の樹脂や、添加剤を併用してもよい。
以下、本発明におけるバックコート層について詳述する。
[Back coat layer]
The back coat layer used in the present invention must contain an epoxy resin and at least one selected from the group consisting of a resin having a phenolic hydroxyl group and rosin . Moreover, in order to improve various characteristics, you may use together other resin and an additive.
Hereinafter, the backcoat layer in the present invention will be described in detail.

(エポキシ樹脂)
本発明におけるバックコート層に用いるエポキシ樹脂としては、多価アルコールや多価フェノールなどとエピクロロヒドリンとの反応によって得られるグリシジルエーテル化合物若しくはそのプレポリマー、更に、アクリル酸又はメタクリ酸グリシジルの重合体又は共重合体等を挙げることができる。
(Epoxy resin)
Examples of the epoxy resin used for the back coat layer in the present invention include a glycidyl ether compound obtained by a reaction of polyhydric alcohol, polyhydric phenol, etc. with epichlorohydrin or a prepolymer thereof, and further a polymer of acrylic acid or glycidyl methacrylate. Examples thereof include a polymer or a copolymer.

好適な化合物の具体例としては、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、トリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、水添ビスフェノールAのジグリシジルエーテル、ヒドロキノンジグリシジルエーテル、レソルシノールジグリシジルエーテル、ビスフェノールAのジグリシジルエーテル若しくはエピクロロヒドリン重付加物、ビスフェノールFのジグリシジルエーテル若しくはエピクロロヒドリン重付加物、ハロゲン化ビスフェノールAのジグリシジルエーテル若しくはエピクロロヒドリン重付加物、ビフェニル型ビスフェノールのジグリシジルエーテル若しくはエピクロロヒドリン重付加物、ノボラック樹脂のグリシジルエーテル化物等、更に、メタクリ酸メチル/メタクリ酸グリシジル共重合体、メタクリ酸エチル/メタクリ酸グリシジル共重合体等が挙げられる。   Specific examples of suitable compounds include propylene glycol diglycidyl ether, tripropylene glycol diglycidyl ether, polypropylene glycol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, diglycidyl ether of hydrogenated bisphenol A , Hydroquinone diglycidyl ether, resorcinol diglycidyl ether, diglycidyl ether or epichlorohydrin polyadduct of bisphenol A, diglycidyl ether or epichlorohydrin polyadduct of bisphenol F, diglycidyl ether of halogenated bisphenol A Or epichlorohydrin polyadduct, diglycidyl ether of biphenyl type bisphenol or epichloro Dorin polyadducts, glycidyl ethers of novolac resins, further, methyl methacrylate / glycidyl methacrylate copolymer, methacrylic acid ethyl / glycidyl methacrylate copolymer, and the like.

上記の化合物の市販品としては、例えば、ジャパンエポキシレジン(株)製のjER1001(分子量約900、エポキシ当量450〜500)、jER1002(分子量約1600、エポキシ当量600〜700)、jER1004(分子量約1060、エポキシ当量875〜975)、jER1007(分子量約2900、エポキシ当量2000)、jER1009(分子量約3750、エポキシ当量3000)、jER1010(分子量約5500、エポキシ当量4000)、jER1100L(エポキシ当量4000)、jERYX31575(エポキシ当量1200)、住友化学(株)製のスミエポキシESCN−195XHN、ESCN−195Xl、ESCN−195XF等を挙げることができる。   Commercially available products of the above compounds include, for example, jER1001 (molecular weight of about 900, epoxy equivalent of 450 to 500), jER1002 (molecular weight of about 1600, epoxy equivalent of 600 to 700), and jER1004 (molecular weight of about 1060) manufactured by Japan Epoxy Resins Co., Ltd. , Epoxy equivalent 875-975), jER1007 (molecular weight about 2900, epoxy equivalent 2000), jER1009 (molecular weight about 3750, epoxy equivalent 3000), jER1010 (molecular weight about 5500, epoxy equivalent 4000), jER1100L (epoxy equivalent 4000), jERYX31575 ( Epoxy equivalent 1200), Sumitomo Chemical Co., Ltd. Sumiepoxy ESCN-195XHN, ESCN-195X1, ESCN-195XF, etc. can be mentioned.

本発明におけるエポキシ樹脂の重量平均分子量は、ポリスチレン換算で、1000以上であることが好ましい。より好ましくは、重量平均分子量が1,000〜500,000で、更に好ましくは1,000〜200,000、特に好ましくは1,000〜100,000である。   The weight average molecular weight of the epoxy resin in the present invention is preferably 1000 or more in terms of polystyrene. More preferably, the weight average molecular weight is 1,000 to 500,000, still more preferably 1,000 to 200,000, and particularly preferably 1,000 to 100,000.

本発明におけるエポキシ樹脂のバックコート層中の含有量は、合紙を挟み込むことなく積層した場合の、擦りキズ防止、及び各版間でのスベリ防止の観点から、バックコート層の全質量に対して、50〜100質量%の範囲であることが好ましく、65〜99質量%の範囲であることがより好ましく、70〜97.5質量%の範囲であることが更に好ましい。   The content of the epoxy resin in the backcoat layer in the present invention is the same as that when laminated without sandwiching the interleaf, from the viewpoint of preventing scratches and preventing slippage between the plates, with respect to the total mass of the backcoat layer. Thus, the range is preferably 50 to 100% by mass, more preferably 65 to 99% by mass, and still more preferably 70 to 97.5% by mass.

(他の樹脂)
本発明におけるバックコート層には、エポキシ樹脂以外に、フェノール性水酸基を有する樹脂及びロジンからなる群から選ばれる少なくとも1種を用いる。
以下、本発明におけるバックコート層に好適に用いられるフェノール性水酸基を有する樹脂、及びロジンについて説明する。なお、フェノール性水酸基を有する樹脂とロジンとの両方をバックコート層に含有させてもよい。
(Other resins)
The backcoat layer in the invention, in addition to epoxy resin, Ru using at least one selected from the group consisting of resin and rosin having a phenolic hydroxyl group.
Hereinafter, a resin having a phenolic hydroxyl group and a rosin that are suitably used for the backcoat layer in the present invention will be described. Note that both the resin having a phenolic hydroxyl group and rosin may be contained in the back coat layer.

−フェノール性水酸基を有する樹脂−
本発明に用いうるフェノール性水酸基を有する樹脂としては、例えば、フェノールとホルムアルデヒドとの縮重合体、m−クレゾールとホルムアルデヒドとの縮重合体、p−クレゾールとホルムアルデヒドとの縮重合体、m−/p−混合クレゾールとホルムアルデヒドとの縮重合体、フェノールとクレゾール(m−、p−、又はm−/p−混合のいずれでもよい)とホルムアルデヒドとの縮重合体等のノボラック樹脂や、ピロガロールとアセトンとの縮重合体であるピロガロール樹脂を挙げることができる。
-Resin having phenolic hydroxyl group-
Examples of the resin having a phenolic hydroxyl group that can be used in the present invention include a condensation polymer of phenol and formaldehyde, a condensation polymer of m-cresol and formaldehyde, a condensation polymer of p-cresol and formaldehyde, m− / Novolak resin such as polycondensation polymer of p-mixed cresol and formaldehyde, phenol and cresol (any of m-, p-, or m- / p-mixed) and formaldehyde, pyrogallol and acetone The pyrogallol resin which is a condensation polymer with can be mentioned.

また、フェノール性水酸基を有する樹脂として、フェノール性水酸基を有する化合物を共重合させた共重合体を用いることもできる。
ここで、フェノール性水酸基を有する化合物としては、フェノール性水酸基を有するアクリルアミド、メタクリルアミド、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、又はヒドロキシスチレン等が挙げられる。
Moreover, the copolymer which copolymerized the compound which has a phenolic hydroxyl group can also be used as resin which has a phenolic hydroxyl group.
Here, examples of the compound having a phenolic hydroxyl group include acrylamide, methacrylamide, acrylic acid ester, methacrylic acid ester, and hydroxystyrene having a phenolic hydroxyl group.

本発明におけるフェノール性水酸基を有する樹脂の重量平均分子量は、皮膜性の観点から、ポリスチレン換算で、1000以上であることが好ましい。より好ましくは、重量平均分子量が1,000〜500,000で、更に好ましくは1,000〜200,000、特に好ましくは1,000〜100,000である。   The weight average molecular weight of the resin having a phenolic hydroxyl group in the present invention is preferably 1000 or more in terms of polystyrene from the viewpoint of film properties. More preferably, the weight average molecular weight is 1,000 to 500,000, still more preferably 1,000 to 200,000, and particularly preferably 1,000 to 100,000.

本発明におけるフェノール性水酸基を有する樹脂のバックコート層中の含有量は、皮膜性、感光性記録層側の最表面との耐接着性の観点から、バックコート層の全質量に対して、0.1〜90質量%の範囲であることが好ましく、0.1〜50質量%の範囲であることがより好ましく、0.5〜30質量%の範囲であることが更に好ましい。   The content of the resin having a phenolic hydroxyl group in the present invention in the back coat layer is 0 with respect to the total mass of the back coat layer from the viewpoint of film property and adhesion resistance to the outermost surface on the photosensitive recording layer side. 0.1 to 90% by mass is preferable, 0.1 to 50% by mass is more preferable, and 0.5 to 30% by mass is even more preferable.

−ロジン−
本発明で用いられるロジンとしては、例えば、ガムロジン、トール油ロジン、ウッドロジンなどの天然ロジン;該天然ロジンから誘導される重合ロジン;前記天然ロジンや重合ロジンを不均化又は水素添加して得られる安定化ロジン;前記天然ロジンや重合ロジンに不飽和カルボン酸類を付加して得られる不飽和酸変性ロジンなどが挙げられる。なお、前記不飽和酸変性ロジンとは、例えば、マレイン酸変性ロジン、無水マレイン酸変性ロジン、フマル酸変性ロジン、イタコン酸変性ロジン、クロトン酸変性ロジン、ケイ皮酸変性ロジン、アクリル酸変性ロジン、メタクリル酸変性ロジンなど、或いはこれらに対応する酸変性重合ロジンが挙げられる。
このようなロジンの中でも、ロジン変性フェノール樹脂又はロジンエステルが好ましく用いられる。
-Rosin-
Examples of the rosin used in the present invention include natural rosins such as gum rosin, tall oil rosin and wood rosin; polymerized rosin derived from the natural rosin; obtained by disproportionating or hydrogenating the natural rosin or polymerized rosin. Stabilized rosin; and unsaturated acid-modified rosin obtained by adding unsaturated carboxylic acids to the natural rosin or polymerized rosin. The unsaturated acid-modified rosin includes, for example, maleic acid-modified rosin, maleic anhydride-modified rosin, fumaric acid-modified rosin, itaconic acid-modified rosin, crotonic acid-modified rosin, cinnamic acid-modified rosin, acrylic acid-modified rosin, Examples thereof include methacrylic acid-modified rosin and acid-modified polymerized rosin corresponding thereto.
Among such rosins, rosin-modified phenolic resins or rosin esters are preferably used.

前記ロジンエステルとしては、スーパーエステルE−720、スーパーエステルE−730−55、スーパーエステルE−650、スーパーエステルE−786−60、タマノルE−100、エマルジョンAM−1002、エマルジョンSE−50(以上全て商品名、特殊ロジンエステルエマルジョン、荒川化学工業(株)製)、スーパーエステルL、スーパーエステルA−18、スーパーエステルA−75、スーパーエステルA−100、スーパーエステルA−115、スーパーエステルA−125、スーパーエステルT−125(以上全て商品名、特殊ロジンエステル、荒川化学工業(株)製)等を好ましく用いることができる。
また、ロジンエステルとして、エステルガムAAG、エステルガムAAL、エステルガムA、エステルガムAAV、エステルガム105、エステルガムHS、エステルガムAT、エステルガムH、エステルガムHP、エステルガムHD、ペンセルA、ペンセルAD、ペンセルAZ、ペンセルC、ペンセルD−125、ペンセルD−135、ペンセルD−160、ペンセルKK(以上全て商品名、ロジンエステル系樹脂、荒川化学工業(株)製)、も好ましく用いることができる。
Examples of the rosin ester include super ester E-720, super ester E-730-55, super ester E-650, super ester E-786-60, tamanol E-100, emulsion AM-1002, emulsion SE-50 (and above). All trade names, special rosin ester emulsion, manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd.), Super Ester L, Super Ester A-18, Super Ester A-75, Super Ester A-100, Super Ester A-115, Super Ester A- 125, Superester T-125 (all trade names, special rosin esters, manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd.) and the like can be preferably used.
As rosin esters, ester gum AAG, ester gum AAL, ester gum A, ester gum AAV, ester gum 105, ester gum HS, ester gum AT, ester gum H, ester gum HP, ester gum HD, Pencel A, Pencel AD, Pencel AZ, Pencel C, Pencel D-125, Pencel D-135, Pencel D-160, Pencel KK (all trade names, rosin ester resins, manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd.) are also preferably used. it can.

また、前記ロジン変性フェノール樹脂としては、タマノル135、タマノル145、タマノル340、タマノル350、タマノル351、タマノル352、タマノル353、タマノル354、タマノル359、タマノル361、タマノル362、タマノル366、タマノル374、タマノル379、タマノル380、タマノル381、タマノル384、タマノル386、タマノル387、タマノル388、タマノル392、タマノル394、タマノル395、タマノル396、タマノル405、タマノル406、タマノル409、タマノル410、タマノル414、タマノル415(以上全て商品名、ロジン変性フェノール樹脂、荒川化学工業(株)製)、を好ましく用いることができる。   Examples of the rosin-modified phenolic resin include Tamanol 135, Tamanol 145, Tamanol 340, Tamanol 350, Tamanol 351, Tamanol 352, Tamanol 353, Tamanol 354, Tamanol 359, Tamanol 361, Tamanol 362, Tamanol 366, Tamanol 374, and Tamanol. 379, Tamanoru 380, Tamanoru 381, Tamanoru 384, Tamanoru 386, Tamanoru 387, Tamanoru 388, Tamanoru 392, Tamanoru 394, Tamanoru 395, Tamanoru 396, Tamanoru 405, Tamanoru 406, Tamanoru 409, Tamanoru 410, Tamanoru 414, Tamanoru 415 All of the above can be preferably used as trade names, rosin-modified phenolic resins, manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd.

更に、その他のロジンとしては、ロンヂスR、ロンヂスK−25、ロンヂスK−80、ロンヂスK−18(以上全て商品名、ロジン誘導体、荒川化学工業(株)製)パインクリスタルKR−85、パインクリスタルKR−612、パインクリスタルKR−614、パインクリスタルKE−100、パインクリスタルKE−311、パインクリスタルKE−359、パインクリスタルKE−604、パインクリスタル30PX、パインクリスタルD−6011、パインクリスタルD−6154、パインクリスタルD−6240、パインクリスタルKM−1500、パインクリスタルKM−1550(以上全て商品名、超淡色系ロジン誘導体、荒川化学工業(株)製)等が挙げられる。   Furthermore, other rosins include Longis R, Longes K-25, Longis K-80, Longes K-18 (all trade names, rosin derivatives, manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd.) Pine Crystal KR-85, Pine Crystal KR-612, Pine Crystal KR-614, Pine Crystal KE-100, Pine Crystal KE-311, Pine Crystal KE-359, Pine Crystal KE-604, Pine Crystal 30PX, Pine Crystal D-6011, Pine Crystal D-6154, Pine Crystal D-6240, Pine Crystal KM-1500, Pine Crystal KM-1550 (all trade names, ultra-light color rosin derivatives, manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd.) and the like.

本発明におけるロジンの重量平均分子量は、ポリスチレン換算で、1000以上であることが好ましい。より好ましくは、重量平均分子量が1,000〜500,000で、更に好ましくは1,000〜200,000、特に好ましくは1,000〜100,000である。   The weight average molecular weight of rosin in the present invention is preferably 1000 or more in terms of polystyrene. More preferably, the weight average molecular weight is 1,000 to 500,000, still more preferably 1,000 to 200,000, and particularly preferably 1,000 to 100,000.

本発明におけるロジンのバックコート層中の含有量は、合紙を挟み込むことなく積層した場合の、擦りキズ防止、及び各版間でのスベリ防止の観点から、バックコート層の全質量に対して、0〜50質量%の範囲であることが好ましく、1〜35質量%の範囲であることがより好ましく、2.5〜30質量%の範囲であることが更に好ましい。   The content of the rosin in the back coat layer in the present invention, when laminated without sandwiching the interleaving paper, from the viewpoint of preventing scratches and preventing slippage between the plates, relative to the total mass of the back coat layer 0 to 50% by mass, more preferably 1 to 35% by mass, and even more preferably 2.5 to 30% by mass.

(その他の成分)
更に、バックコート層には、皮膜性向上のために有機、無機の高分子化合物を添加したり、また、可とう性を持たせたり、すべり性を調整する目的で、可塑剤、界面活性剤、その他の添加物を必要により添加できる。
(Other ingredients)
Furthermore, for the purpose of improving the film properties, the back coat layer may be added with an organic or inorganic polymer compound, or may have flexibility or adjust slip properties, and may be a plasticizer or a surfactant. Other additives can be added as necessary.

好ましい高分子化合物としては、例えば、ポリブテン、ポリブタジエン、ポリアミド、不飽和共重合ポリエステル樹脂、ポリウレタン、ポリウレア、ポリイミド、ポリシロキサン、ポリカーボネート、塩素化ポリエチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、アクリル系樹脂及びこれらの共重合樹脂、ヒドロキシセルロース、ポリビニルアルコール、セルロースアセテート、カルボキシメチルセルロース等が適している。   Preferred polymer compounds include, for example, polybutene, polybutadiene, polyamide, unsaturated copolymerized polyester resin, polyurethane, polyurea, polyimide, polysiloxane, polycarbonate, chlorinated polyethylene, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polystyrene, acrylic resin These copolymer resins, hydroxycellulose, polyvinyl alcohol, cellulose acetate, carboxymethylcellulose and the like are suitable.

これらの高分子化合物としては、ポリスチレン換算で、重量平均分子量が500以上のものが好ましく用いられる。より好ましくは、重量平均分子量が1,000〜500,000であり、更に好ましくは1,000〜200,000であり、特に好ましくは1,000〜100,000である。   As these polymer compounds, those having a weight average molecular weight of 500 or more in terms of polystyrene are preferably used. More preferably, the weight average molecular weight is 1,000 to 500,000, still more preferably 1,000 to 200,000, and particularly preferably 1,000 to 100,000.

本発明におけるバックコート層に用いられる好ましい可塑剤としては、例えば、ジメチルフタレート、ジエチルフタレート、ジブチルフタレート、ジイソブチルフタレート、ジオクチルフタレート、オクチルカプリルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート、ジトリデシルフタレート、ブチルベンジルフタレート、ジイソデシルフタレート、ジアリルフタレートなどのフタル酸エステル類、ジメチルグリコールフタレート、エチルフタリールエチルグリコレート、メチルフタリールエチルグリコレート、ブチルフタリールブチルグリコレート、トリエチレングリコールジカプリル酸エステルなどのグリコールエステル類、トリクレジールホスフェート、トリフェニルホスフェートなどのリン酸エステル類、ジイソブチルアジペート、ジオクチルアジペート、ジメチルセバケート、ジブチルセバケート、ジオクチルアゼレート、ジブチルマレエートなどの脂肪族二塩基酸エステル類、ポリグリシジルメタクリレート、クエン酸トリエチル、グリセリントリアセチルエステル、ラウリン酸ブチルなどが有効である。
これらの可塑剤はバックコート層がべとつかない範囲で加えられる。
Preferred plasticizers used in the backcoat layer in the present invention include, for example, dimethyl phthalate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, diisobutyl phthalate, dioctyl phthalate, octyl capryl phthalate, dicyclohexyl phthalate, ditridecyl phthalate, butyl benzyl phthalate, diisodecyl phthalate, Phthalic acid esters such as diallyl phthalate, dimethyl glycol phthalate, ethyl phthalyl ethyl glycolate, methyl phthalyl ethyl glycolate, butyl phthalyl butyl glycolate, glycol esters such as triethylene glycol dicaprylate, tricresyl phosphate , Phosphate esters such as triphenyl phosphate, diisobutyl adipate, Ruajipeto, dimethyl sebacate, dibutyl sebacate, dioctyl azelate, aliphatic dibasic acid esters such as dibutyl maleate, polyglycidyl methacrylate, triethyl citrate, glycerin triacetyl ester, and butyl laurate is effective.
These plasticizers are added as long as the back coat layer is not sticky.

本発明におけるバックコート層に用いられる界面活性剤の好ましい例としては、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリスチリルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンアルキルエーテル類、グリセリン脂肪酸部分エステル類、ソルビタン脂肪酸部分エステル類、ペンタエリスリトール脂肪酸部分エステル類、プロピレングリコールモノ脂肪酸エステル類、しょ糖脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸部分エステル類、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル類、ポリグリセリン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレン化ひまし油類、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸部分エステル類、脂肪酸ジエタノールアミド類、N,N−ビス−2−ヒドロキシアルキルアミン類、ポリオキシエチレンアルキルアミン、トリエタノールアミン脂肪酸エステル、トリアルキルアミンオキシドなどの非イオン性界面活性剤、脂肪酸塩類、アビエチン酸塩類、ヒドロキシアルカンスルホン酸塩類、アルカンスルホン酸塩類、ジアルキルスルホ琥珀酸エステル塩類、直鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、分岐鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、アルキルフェノキシポリオキシエチレンプロピルスルホン酸塩類、ポリオキシエチレンアルキルスルホフェニルエーテル塩類、N−メチル−N−オレイルタウリンナトリウム塩、N−アルキルスルホ琥珀酸モノアミド二ナトリウム塩、石油スルホン酸塩類、硫酸化牛脂油、脂肪酸アルキルエステルの硫酸エステル塩類、アルキル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩類、脂肪酸モノグリセリド硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、アルキルリン酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテルリン酸エステル塩類、スチレン/無水マレイン酸共重合物の部分鹸化物類、オレフィン/無水マレイン酸共重合物の部分鹸化物類、ナフタレンスルホン酸塩ホルマリン縮合物類などのアニオン界面活性剤、アルキルアミン塩類、第四級アンモニウム塩類、ポリオキシエチレンアルキルアミン塩類、ポリエチレンポリアミン誘導体などのカチオン性界面活性剤、カルボキシベタイン類、アミノカルボン酸類、スルホベタイン類、アミノ硫酸エステル類、イミタゾリン類などの両性界面活性剤が挙げられる。
以上挙げた界面活性剤の中でポリオキシエチレンとあるものは、ポリオキシメチレン、ポリオキシプロピレン、ポリオキシブチレンなどのポリオキシアルキレンに読み替えることもでき、それらの界面活性剤もまた包含される。
Preferred examples of the surfactant used in the back coat layer in the present invention include polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene alkyl phenyl ethers, polyoxyethylene polystyryl phenyl ethers, polyoxyethylene polyoxypropylene alkyl ethers Glycerin fatty acid partial ester, sorbitan fatty acid partial ester, pentaerythritol fatty acid partial ester, propylene glycol mono fatty acid ester, sucrose fatty acid partial ester, polyoxyethylene sorbitan fatty acid partial ester, polyoxyethylene sorbitol fatty acid partial ester , Polyethylene glycol fatty acid esters, polyglycerin fatty acid partial esters, polyoxyethylenated castor oil, polyoxyethylene Nonionic surfactants such as glycerin fatty acid partial esters, fatty acid diethanolamides, N, N-bis-2-hydroxyalkylamines, polyoxyethylene alkylamines, triethanolamine fatty acid esters, trialkylamine oxides, fatty acids Salts, abietates, hydroxyalkanesulfonates, alkanesulfonates, dialkylsulfosuccinates, linear alkylbenzenesulfonates, branched alkylbenzenesulfonates, alkylnaphthalenesulfonates, alkylphenoxypolyoxyethylenepropyl Sulfonates, polyoxyethylene alkylsulfophenyl ether salts, N-methyl-N-oleyl taurine sodium salt, N-alkylsulfosuccinic acid monoamide dinatri Salts, petroleum sulfonates, sulfated beef oil, sulfates of fatty acid alkyl esters, alkyl sulfates, polyoxyethylene alkyl ether sulfates, fatty acid monoglyceride sulfates, polyoxyethylene alkylphenyl ether sulfates , Polyoxyethylene styryl phenyl ether sulfate ester salts, alkyl phosphate ester salts, polyoxyethylene alkyl ether phosphate ester salts, polyoxyethylene alkyl phenyl ether phosphate ester salts, partially saponified products of styrene / maleic anhydride copolymer , Partially saponified products of olefin / maleic anhydride copolymer, naphthalenesulfonate formalin condensates, alkylamine salts, quaternary ammonium salts , Cationic surfactants such as polyoxyethylene alkylamine salts and polyethylene polyamine derivatives, and amphoteric surfactants such as carboxybetaines, aminocarboxylic acids, sulfobetaines, aminosulfates, and imidazolines.
Among the surfactants listed above, those having polyoxyethylene can be read as polyoxyalkylenes such as polyoxymethylene, polyoxypropylene and polyoxybutylene, and these surfactants are also included.

更に好ましい界面活性剤は、分子内にパーフルオロアルキル基を含有するフッ素系の界面活性剤である。かかるフッ素系界面活性剤としては、パーフルオロアルキルカルボン酸塩、パーフルオロアルキルスルホン酸塩、パーフルオロアルキルリン酸エステルなどのアニオン型、パーフルオロアルキルベタインなどの両性型、パーフルオロアルキルトリメチルアンモニウム塩などのカチオン型及びパーフルオロアルキルアミンオキサイド、パーフルオロアルキルエチレンオキシド付加物、パーフルオロアルキル基及び親水性基含有オリゴマー、パーフルオロアルキル基及び親油性基含有オリゴマー、パーフルオロアルキル基、親水性基及び親油性基含有オリゴマー、パーフルオロアルキル基及び親油性基含有ウレタンなどの非イオン型が挙げられる。   A more preferred surfactant is a fluorosurfactant containing a perfluoroalkyl group in the molecule. Such fluorosurfactants include perfluoroalkyl carboxylates, perfluoroalkyl sulfonates, anionic types such as perfluoroalkyl phosphates, amphoteric types such as perfluoroalkyl betaines, and perfluoroalkyltrimethylammonium salts. Cationic and perfluoroalkyl amine oxides, perfluoroalkyl ethylene oxide adducts, perfluoroalkyl group and hydrophilic group-containing oligomers, perfluoroalkyl group and lipophilic group-containing oligomers, perfluoroalkyl groups, hydrophilic groups and lipophilic groups Nonionic types such as group-containing oligomers, perfluoroalkyl groups, and lipophilic group-containing urethanes can be mentioned.

上記の界面活性剤は、単独若しくは2種以上を組み合わせて使用することができ、バックコート層の全質量に対して0.001〜10質量%、より好ましくは0.001〜5質量%の範囲で添加される。   Said surfactant can be used individually or in combination of 2 or more types, 0.001-10 mass% with respect to the total mass of a backcoat layer, More preferably, the range of 0.001-5 mass% Is added.

本発明におけるバックコート層には、更に、o−ナフトキノンジアジド化合物、感光性アジド化合物、不飽和二重結合含有モノマーを主成分とする光重合性組成物、桂皮酸やジメチルマレイミド基を含む光架橋性化合物、及びジアゾニウム塩モノマーや芳香族ジアゾニウム塩と反応性カルボニル基含有有機縮合剤(特に、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒドなどのアルデヒド類又はアセタール類)とを酸性媒体中で縮合したジアゾ樹脂を耐薬品性の向上などのために添加することができる。このうちポジ型の感光性化合物として知られるo−ナフトキノンジアジド化合物類が好適に用いられる。   The backcoat layer in the present invention further includes an o-naphthoquinone diazide compound, a photosensitive azide compound, a photopolymerizable composition containing an unsaturated double bond-containing monomer as a main component, and a photocrosslinking containing cinnamic acid or a dimethylmaleimide group. Chemical compounds and diazo resins obtained by condensing diazonium salt monomers and aromatic diazonium salts with reactive carbonyl group-containing organic condensing agents (especially aldehydes or acetals such as formaldehyde and acetaldehyde) in an acidic medium. It can be added for improvement. Of these, o-naphthoquinonediazide compounds known as positive photosensitive compounds are preferably used.

本発明におけるバックコート層は、フイルムの熱圧着や溶融ラミネーション法、塗布法によって設けることができるが、溶液からの塗布が薄層を効率よく設ける上でより好ましい。
従って、本発明において、バックコート層に用いられる樹脂としては非結晶性で、工業用各種有機溶剤に溶け易いものが好ましい。
バックコート層を形成する際に用いられる溶剤としては、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサン、酢酸エチル、エチレンジクロライド、テトラヒドロフラン、トルエン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、アセチルアセトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、3−メトキシプロパノール、メトキシメトキシエタノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、3−メトキシプロピルアセテート、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ−ブチロラクトン、乳酸メチル、乳酸エチル等が挙げられる。
これらの溶媒は、単独或いは混合して使用することができる。そして、バックコート層形成用塗布液中の固形分の濃度は、0.5〜50質量%が適当である。
The back coat layer in the present invention can be provided by thermocompression bonding of a film, a melt lamination method, or a coating method, but coating from a solution is more preferable for efficiently providing a thin layer.
Therefore, in the present invention, the resin used for the back coat layer is preferably non-crystalline and easily soluble in various industrial organic solvents.
Solvents used in forming the backcoat layer include acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexane, ethyl acetate, ethylene dichloride, tetrahydrofuran, toluene, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, Propylene glycol monoethyl ether, acetylacetone, cyclohexanone, diacetone alcohol, ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol ethyl ether acetate, ethylene glycol monoisopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether acetate, 3-methoxypropanol, methoxymethoxyethanol, diethyleneglycol Monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, 3-methoxypropyl acetate, N, N-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, γ-butyrolactone, lactic acid Examples include methyl and ethyl lactate.
These solvents can be used alone or in combination. The concentration of the solid content in the backcoat layer forming coating solution is suitably 0.5 to 50% by mass.

本発明において、バックコート層の被覆量は、主に、静摩擦係数、擦りキズの発生に影響し得るもので、用途に応じ、適宜、選択することが望ましい。被覆量が少なすぎる場合には、バックコート層の静摩擦係数、擦りキズの発生の効果が十分でなくなる。一方、多すぎる場合には、膜の支持体に対する密着が悪化し、取り扱い時に剥離してしまうため好ましくない。
バックコート層の被覆量は、乾燥後の質量で、0.01〜10g/mの範囲が好ましく、0.05〜7g/mの範囲がより好ましく、0.1〜5g/mの範囲が更に好ましい。
In the present invention, the coating amount of the backcoat layer mainly affects the static friction coefficient and the generation of scratches, and it is desirable to select appropriately according to the application. If the coating amount is too small, the effect of generating a static friction coefficient and scratches on the backcoat layer becomes insufficient. On the other hand, when the amount is too large, the adhesion of the membrane to the support deteriorates and is not preferred because it peels off during handling.
The coverage of the backcoat layer, the mass after drying is preferably in the range of 0.01 to 10 g / m 2, more preferably in the range of 0.05~7g / m 2, of 0.1-5 g / m 2 A range is more preferred.

なお、本発明の平版印刷版原版を合紙を挟み込むことなく積層した場合、各版間のスベリ性を制御することが好ましい。
各版材間におけるスベリ性は、バックコート層の静摩擦係数をその指標とすることができる。具体的には、本発明の平版印刷版原版において、感光性記録層側の最表面に対するバックコート層の静摩擦係数が0.35〜1.00の範囲であることが好ましく、0.40〜1.00の範囲であることがより好ましい。静摩擦係数がこの範囲にあることで、版材間で滑りが起こらず、安定な積層体を形成することができる。
また、静摩擦係数が上記の範囲にあることで、版材間の摩擦を低減することもできるため、擦りキズの発生を更に抑制することができる。
In addition, when the planographic printing plate precursor of the present invention is laminated without interposing the interleaving paper, it is preferable to control the smoothness between the plates.
The sliding property between the plate materials can be determined by using the coefficient of static friction of the backcoat layer as an index. Specifically, in the lithographic printing plate precursor according to the invention, the static friction coefficient of the backcoat layer with respect to the outermost surface on the photosensitive recording layer side is preferably in the range of 0.35 to 1.00, and 0.40 to 1 More preferably, the range is 0.00. When the static friction coefficient is within this range, no slip occurs between the plate materials, and a stable laminate can be formed.
Moreover, since the friction between the plate materials can be reduced when the static friction coefficient is in the above range, the generation of scratches can be further suppressed.

〔感光性記録層〕
本発明の平版印刷版原版は、支持体のバックコート層を有する面とは反対側の面に、感光性記録層を有する。
本発明における感光性記録層は、ポジ型であってもよく、ネガ型であってもよい。
ポジ型の感光性記録層としては、露光部が現像されて、未露光部が記録部(画像部)となる記録層であれば特に限定されないが、o−キノンジアジドを用いた記録層や、化学増幅機構を用いた記録層等が挙げられる。
また、ネガ型の感光性記録層としては、露光部が硬化して記録部(画像部)となる記録層であれば特に限定されないが、ラジカル重合性化合物を有する重合性感光層、酸架橋性物質を有する酸架橋性感光層等が挙げられる。
なお、平版印刷版原版表面がキズを受けることによって特に問題となるのは、キズ部分が硬化することによって印刷物の汚れの原因となるネガ型であり、本発明におけるバックコート層の効果がより顕著に現れる点から、特に、本発明における感光性記録層は、重合性ネガ型感光層であることが好ましい。
以下、本発明の感光性記録層として好適な重合性ネガ型感光層について詳述する。
(Photosensitive recording layer)
The lithographic printing plate precursor according to the invention has a photosensitive recording layer on the surface of the support opposite to the surface having the backcoat layer.
The photosensitive recording layer in the present invention may be a positive type or a negative type.
The positive photosensitive recording layer is not particularly limited as long as the exposed portion is developed and the unexposed portion becomes the recording portion (image portion). However, the recording layer using o-quinonediazide, Examples thereof include a recording layer using an amplification mechanism.
The negative photosensitive recording layer is not particularly limited as long as the exposed portion is cured to form a recording portion (image portion), but the polymerizable photosensitive layer having a radical polymerizable compound, acid crosslinkability Examples thereof include an acid-crosslinkable photosensitive layer having a substance.
In particular, the problem that the surface of the lithographic printing plate precursor is scratched is a negative type that causes stains on the printed matter by curing the scratched part, and the effect of the backcoat layer in the present invention is more remarkable. In particular, it is preferable that the photosensitive recording layer in the invention is a polymerizable negative photosensitive layer.
Hereinafter, a polymerizable negative photosensitive layer suitable as the photosensitive recording layer of the present invention will be described in detail.

〔重合性ネガ型感光層〕
本発明に係る重合性ネガ型感光層(以下、単に「感光層」と称する場合がある。)は、増感色素、重合開始剤、重合性化合物、及びバインダーポリマーを含有し、更に必要に応じて、着色剤や他の任意成分を含むことが好ましい。
(Polymerizable negative photosensitive layer)
The polymerizable negative photosensitive layer according to the present invention (hereinafter sometimes simply referred to as “photosensitive layer”) contains a sensitizing dye, a polymerization initiator, a polymerizable compound, and a binder polymer, and further if necessary. It is preferable that a colorant and other optional components are included.

本発明における重合性ネガ型感光層は、増感色素に応じたレーザに感応するため、CTPに有用な種々のレーザに感光することができる。例えば、増感色素として赤外線吸収剤を用いた場合について述べれば、重合性ネガ型感光層中に含まれる赤外線吸収剤は、赤外線レーザの照射(露光)に対し高感度で電子励起状態となり、かかる電子励起状態に係る電子移動、エネルギー移動、発熱(光熱変換機能)などが、感光層中に併存する重合開始剤に作用して、該重合開始剤に化学変化を生起させてラジカルを生成させる。
この場合のラジカルの生成機構としては、1.赤外線吸収剤の光熱変換機能により発生した熱が、後述する重合開始剤(例えば、スルホニウム塩)を熱分解しラジカルを発生させる、2.赤外線吸収剤が発生した励起電子が、重合開始剤(例えば、活性ハロゲン化合物)に移動しラジカルをさせる、3.励起した赤外線吸収剤に重合開始剤(例えば、ボレート化合物)から電子移動してラジカルが発生する、等が挙げられる。そして、生成したラジカルにより重合性化合物が重合反応を起こし、露光部が硬化して画像部となる。
Since the polymerizable negative photosensitive layer in the present invention is sensitive to a laser corresponding to a sensitizing dye, it can be exposed to various lasers useful for CTP. For example, in the case of using an infrared absorber as a sensitizing dye, the infrared absorber contained in the polymerizable negative photosensitive layer is highly sensitive to the irradiation (exposure) of an infrared laser and is in an electronically excited state. Electron transfer, energy transfer, heat generation (photothermal conversion function), and the like related to the electronically excited state act on the polymerization initiator coexisting in the photosensitive layer to cause a chemical change in the polymerization initiator to generate radicals.
In this case, the radical generation mechanism is as follows: 1. Heat generated by the photothermal conversion function of the infrared absorber thermally decomposes a polymerization initiator (for example, sulfonium salt) described later to generate radicals. 2. Excited electrons generated by the infrared absorber move to a polymerization initiator (for example, an active halogen compound) to cause radicals. For example, radicals are generated by electron transfer from a polymerization initiator (for example, a borate compound) to an excited infrared absorber. Then, the polymerizable compound causes a polymerization reaction by the generated radical, and the exposed portion is cured to become an image portion.

上記態様の平版印刷版原版は、重合性ネガ型感光層が増感色素として赤外線吸収剤を含有することにより、750nm〜1400nmの波長を有する赤外線レーザ光での直接描画される製版に特に好適であり、従来の平版印刷版原版に比べ、高い画像形成性を発現することができる。   The lithographic printing plate precursor of the above embodiment is particularly suitable for plate making directly drawn with an infrared laser beam having a wavelength of 750 nm to 1400 nm because the polymerizable negative photosensitive layer contains an infrared absorber as a sensitizing dye. In addition, it can exhibit high image-forming properties as compared with conventional lithographic printing plate precursors.

本発明においては、赤外線吸収剤、重合開始剤(光又は熱によりラジカルを発生する化合物)、分子内にビニル基が置換したフェニル基を2個以上有するモノマー、及びビニル基が置換したフェニル基を側鎖に有する重合体を含有する重合性ネガ型感光層が、高感度である点から、好ましい態様である。
以下に、本発明に係る重合性ネガ型感光層を構成する各成分について説明する。
In the present invention, an infrared absorber, a polymerization initiator (a compound that generates radicals by light or heat), a monomer having two or more phenyl groups substituted with vinyl groups in the molecule, and a phenyl group substituted with vinyl groups A polymerizable negative photosensitive layer containing a polymer having a side chain is a preferred embodiment because of its high sensitivity.
Below, each component which comprises the polymeric negative photosensitive layer concerning this invention is demonstrated.

(増感色素)
本発明に係る感光層は、感度の観点から、レーザ露光における露光波長に適合する所定の波長の光を吸収する増感色素を含有する。
この増感色素が吸収し得る波長の露光により後述する重合開始剤のラジカル発生反応や、それによる重合性化合物の重合反応が促進されるものである。このような増感色素としては、公知の分光増感色素又は染料、又は光を吸収して光重合開始剤と相互作用する染料又は顔料が挙げられる。この増感色素が適合する波長のレーザ露光により高感度で電子励起状態となり、かかる電子励起状態に係る電子移動、エネルギー移動などが、後述する重合開始剤に作用して、該重合開始剤に高感度で化学変化を生起させてラジカルを生成させるのに有用である。
(Sensitizing dye)
The photosensitive layer according to the present invention contains a sensitizing dye that absorbs light having a predetermined wavelength that matches the exposure wavelength in laser exposure from the viewpoint of sensitivity.
The exposure of the wavelength that can be absorbed by the sensitizing dye accelerates the radical generation reaction of the polymerization initiator described later and the polymerization reaction of the polymerizable compound thereby. Examples of such a sensitizing dye include a known spectral sensitizing dye or dye, or a dye or pigment that absorbs light and interacts with a photopolymerization initiator. This sensitizing dye becomes a highly sensitive electron excited state by laser exposure at a wavelength suitable for the sensitizing dye, and electron transfer, energy transfer, etc. related to the electron excited state act on the polymerization initiator described later, and the polymerization initiator has a high level. It is useful for generating radicals by causing chemical changes with sensitivity.

増感色素の吸収する光の波長により、本発明における感光層は、紫外線から可視光線及び赤外線まで種々の波長に感応することができる。例えば、増感色素として赤外線吸収剤を用いる場合には、波長760nmから1200nmの赤外光に対して感応することになる。また、波長350nmから450nmに極大吸収波長を有する色素を用いることで、青色〜紫の可視光に対して感応することになる。   Depending on the wavelength of light absorbed by the sensitizing dye, the photosensitive layer in the present invention can be sensitive to various wavelengths from ultraviolet rays to visible rays and infrared rays. For example, when an infrared absorber is used as the sensitizing dye, it is sensitive to infrared light having a wavelength of 760 nm to 1200 nm. Further, by using a dye having a maximum absorption wavelength from 350 nm to 450 nm, it is sensitive to blue to purple visible light.

本発明に用いられる増感色素として好ましい分光増感色素又は染料は、多核芳香族類(例えば、ピレン、ペリレン、トリフェニレン)、キサンテン類(例えば、フルオレッセイン、エオシン、エリスロシン、ローダミンB、ローズベンガル)、シアニン類(例えば、チアカルボシアニン、オキサカルボシアニン)、メロシアニン類(例えば、メロシアニン、カルボメロシアニン)、チアジン類(例えば、チオニン、メチレンブルー、トルイジンブルー)、アクリジン類(例えば、アクリジンオレンジ、クロロフラビン、アクリフラビン)、フタロシアニン類(例えば、フタロシアニン、メタルフタロシアニン)、ポルフィリン類(例えば、テトラフェニルポルフィリン、中心金属置換ポルフィリン)、クロロフィル類(例えば、クロロフィル、クロロフィリン、中心金属置換クロロフィル)、金属錯体、アントラキノン類(例えば、アントラキノン)、スクアリウム類(例えば、スクアリウム)等が挙げられ、これらは、例えば、特開2005−250438公報の段落番号〔0188〕〜〔0258〕に詳細に記載され、ここに記載の化合物を適宜選択して本発明における増感色素として使用することができる。   Spectral sensitizing dyes or dyes preferred as sensitizing dyes used in the present invention are polynuclear aromatics (eg, pyrene, perylene, triphenylene), xanthenes (eg, fluorescein, eosin, erythrosine, rhodamine B, rose bengal). ), Cyanines (eg thiacarbocyanine, oxacarbocyanine), merocyanines (eg merocyanine, carbomerocyanine), thiazines (eg thionine, methylene blue, toluidine blue), acridines (eg acridine orange, chloroflavin) , Acriflavine), phthalocyanines (eg, phthalocyanine, metal phthalocyanine), porphyrins (eg, tetraphenylporphyrin, central metal-substituted porphyrin), chlorophylls (eg, chlorophyll) Chlorophyllin, central metal-substituted chlorophyll), metal complexes, anthraquinones (for example, anthraquinone), squalium (for example, squalium), and the like, for example, paragraph numbers [0188] to [0188] to [ [0258] can be selected as appropriate and used as a sensitizing dye in the present invention.

中でも、本発明における感光層には、増感色素として、以下に詳述する赤外線吸収剤を含有することが好ましい。
赤外線吸収剤は、赤外線レーザの照射(露光)に対し高感度で電子励起状態となり、先にのべた電子励起状態に係る電子移動、エネルギー移動に加え、光熱変換機能により熱エネルギーが生成されるため、重合開始剤により高感度で化学変化を生起させるのに有用である。
本発明において使用される特に好ましい増感色素である赤外線吸収剤としては、750nm〜1400nmの波長に吸収極大を有する染料又は顔料が好ましく挙げられる。
Among these, the photosensitive layer in the present invention preferably contains an infrared absorber described in detail below as a sensitizing dye.
Infrared absorbers are in an electronically excited state with high sensitivity to infrared laser irradiation (exposure), and heat energy is generated by the photothermal conversion function in addition to the electron transfer and energy transfer related to the previous electron excited state. It is useful for causing a chemical change with high sensitivity by a polymerization initiator.
As an infrared absorber which is a particularly preferable sensitizing dye used in the present invention, a dye or pigment having an absorption maximum at a wavelength of 750 nm to 1400 nm is preferably exemplified.

染料としては、市販の染料及び例えば、「染料便覧」(有機合成化学協会編集、昭和45年刊)等の文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、金属チオレート錯体等の染料が挙げられる。
好ましい染料としては、例えば、特開昭58−125246号、特開昭59−84356号、特開昭60−78787号等に記載されているシアニン染料、特開昭58−173696号、特開昭58−181690号、特開昭58−194595号等に記載されているメチン染料、特開昭58−112793号、特開昭58−224793号、特開昭59−48187号、特開昭59−73996号、特開昭60−52940号、特開昭60−63744号等に記載されているナフトキノン染料、特開昭58−112792号等に記載されているスクワリリウム色素、英国特許434,875号記載のシアニン染料等を挙げることができる。
As the dye, commercially available dyes and known dyes described in documents such as “Dye Handbook” (edited by the Society for Synthetic Organic Chemistry, published in 1970) can be used. Specifically, dyes such as azo dyes, metal complex azo dyes, pyrazolone azo dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinoneimine dyes, methine dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, metal thiolate complexes, etc. Is mentioned.
Examples of preferable dyes include cyanine dyes described in JP-A-58-125246, JP-A-59-84356, JP-A-60-78787, JP-A-58-173696, 58-181690, JP-A-58-194595, etc., methine dyes, JP-A-58-112793, JP-A-58-224793, JP-A-59-48187, JP-A-59- No. 73996, JP-A-60-52940, JP-A-60-63744 and the like, Naphthoquinone dyes described in JP-A-58-112792, etc., British Patent 434,875 And cyanine dyes.

また、米国特許第5,156,938号記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特許第3,881,924号記載の置換されたアリールベンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−142645号(米国特許第4,327,169号)記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭58−181051号、同58−220143号、同59−41363号、同59−84248号、同59−84249号、同59−146063号、同59−146061号に記載されているピリリウム系化合物、特開昭59−216146号記載のシアニン色素、米国特許第4,283,475号に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平5−13514号、同5−19702号に開示されているピリリウム化合物も好ましく用いられる。また、染料として好ましい別の例として、米国特許第4,756,993号明細書中に式(I)、(II)として記載されている近赤外吸収染料を挙げることができる。
また、本発明における赤外線吸収色素の好ましい他の例としては、以下に例示するような特開2002−278057号公報に記載の特定インドレニンシアニン色素が挙げられる。
Also, a near infrared absorption sensitizer described in US Pat. No. 5,156,938 is preferably used, and a substituted arylbenzo (thio) pyrylium salt described in US Pat. No. 3,881,924, Trimethine thiapyrylium salts described in JP-A-57-142645 (US Pat. No. 4,327,169), JP-A-58-181051, 58-220143, 59-41363, 59-84248 Nos. 59-84249, 59-146063, 59-146061, pyranlium compounds, cyanine dyes described in JP-A-59-216146, US Pat. No. 4,283,475 The pentamethine thiopyrylium salts described above and the pyrylium compounds disclosed in Japanese Patent Publication Nos. 5-13514 and 5-19702 are also preferably used. . Moreover, as another example preferable as a dye, the near-infrared absorptive dye described as the formula (I) and (II) in US Patent 4,756,993 can be mentioned.
Other preferable examples of the infrared absorbing dye in the present invention include specific indolenine cyanine dyes described in JP-A-2002-278057 as exemplified below.

これらの染料のうち特に好ましいものとしては、シアニン色素、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、ニッケルチオレート錯体、インドレニンシアニン色素が挙げられる。更に、シアニン色素やインドレニンシアニン色素が好ましく、特に好ましい例として下記一般式(a)で示されるシアニン色素が挙げられる。   Particularly preferred among these dyes are cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, nickel thiolate complexes, and indolenine cyanine dyes. Further, cyanine dyes and indolenine cyanine dyes are preferred, and particularly preferred examples include cyanine dyes represented by the following general formula (a).

一般式(a)中、Xは、水素原子、ハロゲン原子、−NPh、X−L又は以下に示す基を表す。ここで、Xは酸素原子、窒素原子、又は硫黄原子を示し、Lは、炭素原子数1〜12の炭化水素基、ヘテロ原子を有する芳香族環、ヘテロ原子を含む炭素原子数1〜12の炭化水素基を示す。なお、ここでヘテロ原子とは、N、S、O、ハロゲン原子、Seを示す。
以下に示す基において、X は後述するZ と同様に定義され、Rは、水素原子、アルキル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、ハロゲン原子より選択される置換基を表す。
In general formula (a), X 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom, —NPh 2 , X 2 -L 1 or a group shown below. Here, X 2 represents an oxygen atom, a nitrogen atom, or a sulfur atom, and L 1 represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, an aromatic ring having a hetero atom, or 1 to 1 carbon atom including a hetero atom. 12 hydrocarbon groups are shown. In addition, a hetero atom here shows N, S, O, a halogen atom, and Se.
In the group shown below, X a - is Z a which will be described below - has the same definition as, R a represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a substituted or unsubstituted amino group, substituted or unsubstituted amino group and a halogen atom Represents.

及びRは、それぞれ独立に、炭素原子数1〜12の炭化水素基を示す。感光層形成用塗布液の保存安定性から、R及びRは、炭素原子数2個以上の炭化水素基であることが好ましく、更に、RとRとは互いに結合し、5員環又は6員環を形成していることが特に好ましい。 R 1 and R 2 each independently represent a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms. In view of the storage stability of the coating solution for forming a photosensitive layer, R 1 and R 2 are preferably hydrocarbon groups having 2 or more carbon atoms, and R 1 and R 2 are bonded to each other to form a 5-membered It is particularly preferable that a ring or a 6-membered ring is formed.

Ar、Arは、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基を示す。好ましい芳香族炭化水素基としては、ベンゼン環及びナフタレン環が挙げられる。また、好ましい置換基としては、炭素原子数12個以下の炭化水素基、ハロゲン原子、炭素原子数12個以下のアルコキシ基が挙げられる。Y、Yは、それぞれ同じでも異なっていてもよく、硫黄原子又は炭素原子数12個以下のジアルキルメチレン基を示す。R、Rは、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい炭素原子数20個以下の炭化水素基を示す。好ましい置換基としては、炭素原子数12個以下のアルコキシ基、カルボキシル基、スルホ基が挙げられる。R、R、R及びRは、それぞれ同じでも異なっていてもよく、水素原子又は炭素原子数12個以下の炭化水素基を示す。原料の入手性から、好ましくは水素原子である。また、Z は、対アニオンを示す。ただし、一般式(a)で示されるシアニン色素が、その構造内にアニオン性の置換基を有し、電荷の中和が必要ない場合にはZ は必要ない。好ましいZ は、感光層形成用塗布液の保存安定性から、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、及びスルホン酸イオンであり、特に好ましくは、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロフォスフェートイオン、及びアリールスルホン酸イオンである。 Ar 1 and Ar 2 may be the same or different and each represents an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent. Preferred aromatic hydrocarbon groups include a benzene ring and a naphthalene ring. Moreover, as a preferable substituent, a C12 or less hydrocarbon group, a halogen atom, and a C12 or less alkoxy group are mentioned. Y 1 and Y 2 may be the same or different and each represents a sulfur atom or a dialkylmethylene group having 12 or less carbon atoms. R 3 and R 4 may be the same or different and each represents a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. Preferred substituents include alkoxy groups having 12 or less carbon atoms, carboxyl groups, and sulfo groups. R 5 , R 6 , R 7 and R 8 may be the same or different and each represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms. From the availability of raw materials, a hydrogen atom is preferred. Z a represents a counter anion. However, when the cyanine dye represented by formula (a) has an anionic substituent in the structure thereof, Z a is does not require charge neutralization - is not necessary. Preferred Z a is a halogen ion, a perchlorate ion, a tetrafluoroborate ion, a hexafluorophosphate ion, and a sulfonate ion, particularly preferably perchloric acid, from the storage stability of the coating solution for forming a photosensitive layer. Ions, hexafluorophosphate ions, and aryl sulfonate ions.

本発明において、好適に用いることのできる一般式(a)で示されるシアニン色素の具体例としては、特開2001−133969公報の段落番号[0017]から[0019]に記載されたものを挙げることができる。
また、特に好ましい他の例として更に、前記した特開2002−278057号公報に記載の特定インドレニンシアニン色素が挙げられる。
但し、対イオンとして、ハロゲンイオンを含有してないものが特に好ましい。
Specific examples of the cyanine dye represented by formula (a) that can be suitably used in the present invention include those described in paragraph numbers [0017] to [0019] of JP-A No. 2001-133969. Can do.
Further, other particularly preferable examples include specific indolenine cyanine dyes described in JP-A-2002-278057 described above.
However, a counter ion that does not contain a halogen ion is particularly preferable.

本発明において使用される顔料としては、市販の顔料及びカラーインデックス(C.I.)便覧、「最新顔料便覧」(日本顔料技術協会編、1977年刊)、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)、「印刷インキ技術」CMC出版、1984年刊)に記載されている顔料が利用できる。   Examples of the pigment used in the present invention include commercially available pigments and color index (CI) manual, “Latest Pigment Handbook” (edited by Japan Pigment Technology Association, published in 1977), “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1986), “Printing Ink Technology”, CMC Publishing, 1984) can be used.

顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレン及びペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用できる。これらの顔料のうち好ましいものはカーボンブラックである。   Examples of the pigment include black pigments, yellow pigments, orange pigments, brown pigments, red pigments, purple pigments, blue pigments, green pigments, fluorescent pigments, metal powder pigments, and other polymer-bonded dyes. Specifically, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensed azo pigments, chelate azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, perylene and perinone pigments, thioindigo pigments, quinacridone pigments, dioxazine pigments, isoindolinone pigments In addition, quinophthalone pigments, dyed lake pigments, azine pigments, nitroso pigments, nitro pigments, natural pigments, fluorescent pigments, inorganic pigments, carbon black, and the like can be used. Among these pigments, carbon black is preferable.

これら顔料は表面処理をせずに用いてもよく、表面処理を施して用いてもよい。表面処理の方法には、樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性剤を付着させる方法、反応性物質(例えば、シランカップリング剤、エポキシ化合物、ポリイソシアネート等)を顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表面処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」(幸書房)、「印刷インキ技術」(CMC出版、1984年刊)及び「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に記載されている。   These pigments may be used without surface treatment, or may be used after surface treatment. The surface treatment method includes a method of surface coating with a resin or wax, a method of attaching a surfactant, a method of bonding a reactive substance (eg, silane coupling agent, epoxy compound, polyisocyanate, etc.) to the pigment surface, etc. Can be considered. The above-mentioned surface treatment methods are described in “Characteristics and Applications of Metal Soap” (Shobobo), “Printing Ink Technology” (CMC Publishing, 1984) and “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1986). Yes.

顔料の粒径は0.01μm〜10μmの範囲にあることが好ましく、0.05μm〜1μmの範囲にあることが更に好ましく、特に0.1μm〜1μmの範囲にあることが好ましい。この好ましい粒径の範囲において、感光層中における顔料の優れた分散安定性が得られ、均一な感光層が得られる。   The particle size of the pigment is preferably in the range of 0.01 μm to 10 μm, more preferably in the range of 0.05 μm to 1 μm, and particularly preferably in the range of 0.1 μm to 1 μm. Within this preferred particle size range, excellent dispersion stability of the pigment in the photosensitive layer can be obtained, and a uniform photosensitive layer can be obtained.

顔料を分散する方法としては、インク製造やトナー製造等に用いられる公知の分散技術が使用できる。分散機としては、超音波分散器、サンドミル、アトライター、パールミル、スーパーミル、ボールミル、インペラー、デスパーザー、KDミル、コロイドミル、ダイナトロン、3本ロールミル、加圧ニーダー等が挙げられる。詳細は、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に記載されている。   As a method for dispersing the pigment, a known dispersion technique used in ink production, toner production, or the like can be used. Examples of the disperser include an ultrasonic disperser, a sand mill, an attritor, a pearl mill, a super mill, a ball mill, an impeller, a disperser, a KD mill, a colloid mill, a dynatron, a three-roll mill, and a pressure kneader. Details are described in "Latest Pigment Applied Technology" (CMC Publishing, 1986).

これらの赤外線吸収剤は、本発明に係る感光層に用いる場合、他の成分と同一の層に添加してもよいし、別の層を設けそこへ添加してもよい。   When these infrared absorbers are used in the photosensitive layer according to the present invention, they may be added to the same layer as other components, or another layer may be provided and added thereto.

これらの増感色素、好ましくは赤外線吸収剤の添加量は、感光層中における均一性や感光層の耐久性の観点から、感光層を構成する全固形分に対し0.01〜50質量%であることが好ましく、より好ましくは0.1〜10質量%の範囲であり、増感色素として染料を用いる場合には、特に好ましくは0.5〜10質量%、顔料を用いる場合には、特に好ましくは0.1〜10質量%の割合で添加することができる。   The addition amount of these sensitizing dyes, preferably infrared absorbers, is 0.01 to 50% by mass with respect to the total solid content constituting the photosensitive layer from the viewpoint of uniformity in the photosensitive layer and durability of the photosensitive layer. It is preferably in the range of 0.1 to 10% by mass, particularly preferably 0.5 to 10% by mass when a dye is used as a sensitizing dye, and particularly when a pigment is used. Preferably it can add in the ratio of 0.1-10 mass%.

(重合開始剤)
本発明に用いられる重合開始剤は、後述する重合性化合物の硬化反応を開始、進行させる機能を有し、熱により分解してラジカルを発生する熱分解型のラジカル発生剤、赤外線吸収剤の励起電子を受容してラジカルを発生する電子移動型のラジカル発生剤、又は、励起した赤外線吸収剤に電子移動してラジカルを発生する電子移動型のラジカル発生剤など、エネルギー(例えば、熱又は光)を付与することでラジカルを生成させるものであればいかなる化合物を用いてもよい。例えば、オニウム塩、活性ハロゲン化合物、オキシムエステル化合物、ボレート化合物などが挙げられる。これらは併用してもよい。本発明ではオニウム塩が好ましく、中でも、スルホニウム塩が特に好ましい。
本発明において好適に用いられるスルホニウム塩重合開始剤としては、下記一般式(I)で表されるオニウム塩が挙げられる。
(Polymerization initiator)
The polymerization initiator used in the present invention has a function of initiating and advancing the curing reaction of a polymerizable compound described later, and is a thermal decomposition type radical generator that decomposes by heat to generate radicals, and excitation of an infrared absorber. Energy (for example, heat or light) such as an electron transfer type radical generator that accepts electrons to generate radicals, or an electron transfer type radical generator that generates electrons by transferring electrons to an excited infrared absorber. Any compound may be used as long as it generates radicals by imparting. For example, onium salts, active halogen compounds, oxime ester compounds, borate compounds and the like can be mentioned. These may be used in combination. In the present invention, an onium salt is preferable, and a sulfonium salt is particularly preferable.
Examples of the sulfonium salt polymerization initiator suitably used in the present invention include onium salts represented by the following general formula (I).

一般式(I)中、R11、R12及びR13は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい炭素原子数20個以下の炭化水素基を示す。好ましい置換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素原子数12個以下のアルキル基、炭素原子数12個以下のアルコキシ基、又は炭素原子数12個以下のアリールオキシ基が挙げられる。(Z11は有機又は無機の対イオンを表し、例えば、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、カルボキシレートイオン、及びスルホン酸イオンからなる群より選択される対イオンや該対イオンを構造内に有するものが好ましく、好ましくは、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、カルボキシレートイオン、及びアリールスルホン酸イオンや、該対イオンを構造内に有するものである。 In general formula (I), R 11 , R 12 and R 13 may be the same or different and each represents a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. Preferable substituents include a halogen atom, a nitro group, an alkyl group having 12 or less carbon atoms, an alkoxy group having 12 or less carbon atoms, or an aryloxy group having 12 or less carbon atoms. (Z 11 ) represents an organic or inorganic counter ion, for example, selected from the group consisting of halogen ions, perchlorate ions, tetrafluoroborate ions, hexafluorophosphate ions, carboxylate ions, and sulfonate ions. Those having a counter ion or the counter ion in the structure are preferable, and preferably a perchlorate ion, a hexafluorophosphate ion, a carboxylate ion, an aryl sulfonate ion, or the counter ion in the structure. .

以下に、一般式(I)で表されるオニウム塩の具体例([OS−1]〜[OS−13])を挙げるが、これらに限定されるものではない。   Specific examples ([OS-1] to [OS-13]) of the onium salt represented by the general formula (I) are shown below, but are not limited thereto.

上記したものの他、特開2002−148790公報、特開2002−148790公報、特開2002−350207公報、特開2002−6482公報に記載の特定の芳香族スルホニウム塩も好適に用いられる。   In addition to the above, specific aromatic sulfonium salts described in JP-A Nos. 2002-148790, 2002-148790, 2002-350207, and 2002-6482 are also preferably used.

本発明においては、上記スルホニウム塩重合開始剤の他にも、他の重合開始剤(他のラジカル発生剤)を用いることができる。他のラジカル発生剤としては、スルホニウム塩以外の他のオニウム塩、トリハロメチル基を有するトリアジン化合物、過酸化物、アゾ系重合開始剤、アジド化合物、キノンジアジド、活性ハロゲン化合物、オキシムエステル化合物、トリアリールモノアルキルボレート化合物などが挙げられ、中でも、高感度であることから、オニウム塩が好ましい。また、上記のスルホニウム塩重合開始剤を必須成分として、これらの重合開始剤(ラジカル発生剤)を併用することもできる。   In the present invention, in addition to the sulfonium salt polymerization initiator, other polymerization initiators (other radical generators) can be used. Other radical generators include onium salts other than sulfonium salts, triazine compounds having a trihalomethyl group, peroxides, azo polymerization initiators, azide compounds, quinonediazides, active halogen compounds, oxime ester compounds, triaryls. Examples thereof include monoalkyl borate compounds. Among them, onium salts are preferable because of their high sensitivity. Moreover, these polymerization initiators (radical generators) can be used in combination with the sulfonium salt polymerization initiator as an essential component.

本発明において好適に用い得る他のオニウム塩としては、ヨードニウム塩及びジアゾニウム塩が挙げられる。本発明において、これらのオニウム塩は酸発生剤ではなく、ラジカル重合の開始剤として機能する。
本発明における他のオニウム塩としては、下記一般式(II)及び(III)で表されるオニウム塩が挙げられる。
Other onium salts that can be suitably used in the present invention include iodonium salts and diazonium salts. In the present invention, these onium salts function not as acid generators but as radical polymerization initiators.
Other onium salts in the present invention include onium salts represented by the following general formulas (II) and (III).

一般式(II)中、Ar21とAr22は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素原子数20個以下のアリール基を示す。このアリール基が置換基を有する場合の好ましい置換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素原子数12個以下のアルキル基、炭素原子数12個以下のアルコキシ基、又は炭素原子数12個以下のアリールオキシ基が挙げられる。(Z21は(Z11と同義の対イオンを表す。 In the general formula (II), Ar 21 and Ar 22 each independently represent an aryl group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. Preferred substituents when this aryl group has a substituent include a halogen atom, a nitro group, an alkyl group having 12 or less carbon atoms, an alkoxy group having 12 or less carbon atoms, or a carbon atom having 12 or less carbon atoms. An aryloxy group is mentioned. (Z 21 ) represents a counter ion having the same meaning as (Z 11 ) .

一般式(III)中、Ar31は、置換基を有していてもよい炭素原子数20個以下のアリール基を示す。好ましい置換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素原子数12個以下のアルキル基、炭素原子数12個以下のアルコキシ基、炭素原子数12個以下のアリールオキシ基、炭素原子数12個以下のアルキルアミノ基、炭素原子数12個以下のジアルキルアミノ基、炭素原子数12個以下のアリールアミノ基又は、炭素原子数12個以下のジアリールアミノ基が挙げられる。(Z31は(Z11と同義の対イオンを表す。 In the general formula (III), Ar 31 represents an aryl group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. Preferred examples of the substituent include a halogen atom, a nitro group, an alkyl group having 12 or less carbon atoms, an alkoxy group having 12 or less carbon atoms, an aryloxy group having 12 or less carbon atoms, and 12 or less carbon atoms. Examples thereof include an alkylamino group, a dialkylamino group having 12 or less carbon atoms, an arylamino group having 12 or less carbon atoms, or a diarylamino group having 12 or less carbon atoms. (Z 31 ) represents a counter ion having the same meaning as (Z 11 ) .

以下に、本発明において、好適に用いることのできる一般式(II)で示されるオニウム塩([OI−1]〜[OI−11])、及び一般式(III)で示されるオニウム塩([ON−1]〜[ON−5])の具体例を挙げるが、これらに限定されるものではない。   In the present invention, an onium salt represented by the general formula (II) ([OI-1] to [OI-11]) and an onium salt represented by the general formula (III) ([ Specific examples of ON-1] to [ON-5] are given below, but are not limited thereto.

本発明において重合開始剤(ラジカル発生剤)として好適に用いることのできるオニウム塩の具体例としては、特開2001−133696号公報に記載されたもの等を挙げることができる。   Specific examples of onium salts that can be suitably used as a polymerization initiator (radical generator) in the present invention include those described in JP-A No. 2001-133696.

本発明においては、重合開始剤として、有機ホウ素塩や、トリハロアルキル置換化合物が好ましく用いられる。より好ましくは、有機ホウ素塩とトリハロアルキル置換化合物とを組み合わせて用いることである。また、有機ホウ素塩とオニウム塩の組み合わせも好ましく用いられる。   In the present invention, an organic boron salt or a trihaloalkyl-substituted compound is preferably used as the polymerization initiator. More preferably, an organic boron salt and a trihaloalkyl-substituted compound are used in combination. A combination of an organic boron salt and an onium salt is also preferably used.

有機ホウ素塩を構成する有機ホウ素アニオンは、下記一般式(1)で表される。   The organoboron anion constituting the organoboron salt is represented by the following general formula (1).

一般式(1)中、R11、R12、R13及びR14は、各々同じであっても異なっていてもよく、アルキル基、アリール基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、複素環基を表す。これらの内で、R11、R12、R13及びR14の内の一つがアルキル基であり、他の置換基がアリール基である場合が特に好ましい。 In the general formula (1), R 11 , R 12 , R 13 and R 14 may be the same or different, and may be an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, or a cycloalkyl group. Represents a heterocyclic group. Of these, it is particularly preferred that one of R 11 , R 12 , R 13 and R 14 is an alkyl group and the other substituent is an aryl group.

上記の有機ホウ素アニオンは、これと塩を形成するカチオンと同時に存在する。この場合のカチオンとしては、アルカリ金属イオン、オニウムイオン及びカチオン性増感色素が挙げられる。
オニウムイオンとしては、アンモニウムイオン、スルホニウムイオン、ヨードニウムイオン及びホスホニウムイオンが挙げられる。
有機ホウ素塩として、有機ホウ素アニオンとアルカリ金属イオン又はオニウムイオンとの塩を用いる場合には、別に増感色素を添加することで、色素が吸収する光の波長範囲での感光性を付与することが行われる。また、有機ホウ素塩として、カチオン性増感色素の対アニオンを有機ホウ素アニオンとした塩を用いる場合には、該カチオン性増感色素の吸収波長に応じて感光性が付与される。しかし、後者の場合は、更に、アルカリ金属イオン又はオニウムイオンと有機ホウ素アニオンとの塩を併せて含有するのが好ましい。
The above-mentioned organoboron anion is present simultaneously with the cation forming a salt with the anion. Examples of the cation in this case include alkali metal ions, onium ions, and cationic sensitizing dyes.
Examples of the onium ions include ammonium ions, sulfonium ions, iodonium ions, and phosphonium ions.
When using a salt of an organic boron anion and an alkali metal ion or onium ion as the organic boron salt, adding a sensitizing dye separately to impart photosensitivity in the wavelength range of light absorbed by the dye. Is done. Further, when a salt having an organic boron anion as a counter anion of a cationic sensitizing dye is used as the organic boron salt, photosensitivity is imparted according to the absorption wavelength of the cationic sensitizing dye. However, in the latter case, it is preferable to further contain a salt of an alkali metal ion or onium ion and an organic boron anion.

本発明に用いられる有機ホウ素塩としては、前記一般式(1)で表される有機ホウ素アニオンを含む塩であり、塩を形成するカチオンとしてはアルカリ金属イオン及びオニウムイオンが好ましく使用される。特に好ましい例は、有機ホウ素アニオンとオニウムイオンとの塩であり、具体的には、テトラアルキルアンモニウム塩等のアンモニウム塩、トリアリールスルホニウム塩等のスルホニウム塩、トリアリールアルキルホスホニウム塩等のホスホニウム塩が挙げられる。
特に好ましい有機ホウ素塩の具体例(BC−1)〜(BC−6)を下記に示す。
The organic boron salt used in the present invention is a salt containing an organic boron anion represented by the general formula (1), and alkali metal ions and onium ions are preferably used as cations forming the salt. Particularly preferred examples are salts of organic boron anions and onium ions, specifically, ammonium salts such as tetraalkylammonium salts, sulfonium salts such as triarylsulfonium salts, and phosphonium salts such as triarylalkylphosphonium salts. Can be mentioned.
Specific examples (BC-1) to (BC-6) of particularly preferred organic boron salts are shown below.





本発明において用いられるトリハロアルキル置換化合物とは、具体的には、トリクロロメチル基、トリブロモメチル基等のトリハロアルキル基を分子内に少なくとも一個以上有する化合物であり、好ましい例としては、該トリハロアルキル基が含窒素複素環基に結合した化合物として、s−トリアジン誘導体及びオキサジアゾール誘導体が挙げられ、或いは、該トリハロアルキル基がスルホニル基を介して芳香族環或いは含窒素複素環に結合したトリハロアルキルスルホニル化合物が挙げられる。   The trihaloalkyl-substituted compound used in the present invention is specifically a compound having at least one trihaloalkyl group such as a trichloromethyl group or tribromomethyl group in the molecule. Examples of the compound in which the group is bonded to the nitrogen-containing heterocyclic group include s-triazine derivatives and oxadiazole derivatives, or the trihaloalkyl group is bonded to an aromatic ring or a nitrogen-containing heterocyclic ring via a sulfonyl group. And haloalkylsulfonyl compounds.

トリハロアルキル基が含窒素複素環基に結合した化合物の特に好ましい具体例(T−1)〜(T−15)、及び、トリハロアルキルスルホニル化合物の特に好ましい具体例(BS−1)〜(BS−10)を下記に示す。   Particularly preferred specific examples (T-1) to (T-15) of compounds in which a trihaloalkyl group is bonded to a nitrogen-containing heterocyclic group, and particularly preferred specific examples (BS-1) to (BS-) of trihaloalkylsulfonyl compounds. 10) is shown below.



本発明においては、重合開始剤として、有機過酸化物を用いることもできる。有機過酸化物としては、例えば、クメンヒドロペルオキシド、第3ブチルヒドロペルオキシド、ジクロルペルオキシド、ジ第3ブチルペルオキシド、過酸化ベンゾイル、過酸化アセチル、過酸化ラウロイル、及び下記に示す構造を有する化合物等が挙げられる。   In the present invention, an organic peroxide can also be used as a polymerization initiator. Examples of the organic peroxide include cumene hydroperoxide, tert-butyl hydroperoxide, dichloroperoxide, di-tert-butyl peroxide, benzoyl peroxide, acetyl peroxide, lauroyl peroxide, and compounds having the structure shown below. Is mentioned.


なお、本発明において用いられる重合開始剤(ラジカル発生剤)は、極大吸収波長が400nm以下であることが好ましく、更に360nm以下であることが好ましい。このように吸収波長を紫外線領域にすることにより、平版印刷版原版の取り扱いを白灯下で実施することができる。   The polymerization initiator (radical generator) used in the present invention preferably has a maximum absorption wavelength of 400 nm or less, and more preferably 360 nm or less. By making the absorption wavelength in the ultraviolet region in this way, the lithographic printing plate precursor can be handled under white light.

本発明における重合開始剤の総含有量は、感度及び印刷時の非画像部に汚れの発生の観点から、感光層を構成する全固形分に対し0.1〜50質量%、好ましくは0.5〜30質量%、特に好ましくは1〜20質量%である。   The total content of the polymerization initiator in the present invention is 0.1 to 50% by mass, preferably 0. 0% by mass with respect to the total solid content constituting the photosensitive layer, from the viewpoint of sensitivity and generation of stains in the non-image area during printing. It is 5-30 mass%, Most preferably, it is 1-20 mass%.

本発明における重合開始剤としては、1種のみを用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。2種以上の重合開始剤を併用する場合は、例えば、好適に用いられるスルホニウム塩重合開始剤のみを複数種用いてもよいし、スルホニウム塩重合開始剤と他の重合開始剤とを併用してもよい。
スルホニウム塩重合開始剤と他の重合開始剤とを併用する場合、その含有比(質量比)としては、100/1〜100/50が好ましく、100/5〜100/25がより好ましい。
また、重合開始剤は、他の成分と同一の層に添加してもよいし、別の層を設けそこへ添加してもよい。
As a polymerization initiator in this invention, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together. When two or more polymerization initiators are used in combination, for example, a plurality of suitably used sulfonium salt polymerization initiators may be used, or a sulfonium salt polymerization initiator and another polymerization initiator may be used in combination. Also good.
When the sulfonium salt polymerization initiator and another polymerization initiator are used in combination, the content ratio (mass ratio) is preferably 100/1 to 100/50, more preferably 100/5 to 100/25.
Moreover, a polymerization initiator may be added to the same layer as other components, or another layer may be provided and added thereto.

本発明における感光層に、重合開始剤として好ましい、高感度のスルホニウム塩重合開始剤を用いる場合、ラジカル重合反応が効果的に進行し、形成された画像部の強度が非常に高いものとなる。従って、後述する保護層の高い酸素遮断機能とあいまって、高い画像部強度を有する平版印刷版を作製することができ、その結果、耐刷性が一層向上する。また、スルホニウム塩重合開始剤はそれ自体が経時安定性に優れていることから、作製された平版印刷版原版を保存した際にも、所望されない重合反応の発生が効果的に抑制されるという利点をも有することになる。   When a highly sensitive sulfonium salt polymerization initiator, which is preferable as a polymerization initiator, is used for the photosensitive layer in the present invention, the radical polymerization reaction proceeds effectively, and the strength of the formed image portion becomes very high. Therefore, combined with the high oxygen blocking function of the protective layer described later, a lithographic printing plate having high image area strength can be produced, and as a result, printing durability is further improved. In addition, since the sulfonium salt polymerization initiator itself is excellent in stability over time, even when the produced lithographic printing plate precursor is stored, the occurrence of an undesirable polymerization reaction is effectively suppressed. Will also have.

(重合性化合物)
本発明に用いられる重合性化合物は、少なくとも一個のエチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物であり、エチレン性不飽和結合を少なくとも1個、好ましくは2個以上有する化合物から選ばれる。このような化合物群は当該産業分野において広く知られるものであり、本発明においてはこれらを特に限定無く用いることができる。これらは、例えば、モノマー、プレポリマー、即ち2量体、3量体及びオリゴマー、又はそれらの混合物並びにそれらの共重合体などの化学的形態をもつ。モノマー及びその共重合体の例としては、不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など)や、そのエステル類、アミド類が挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド類が用いられる。また、ヒドロキシル基やアミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と単官能若しくは多官能イソシアネート類或いはエポキシ類との付加反応物、及び単官能若しくは、多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。また、イソシアネート基や、エポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と単官能若しくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との付加反応物、更にハロゲン基や、トシルオキシ基等の脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と単官能若しくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との置換反応物も好適である。また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン、ビニルエーテル等に置き換えた化合物群を使用することも可能である。
(Polymerizable compound)
The polymerizable compound used in the present invention is an addition polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated double bond, and is selected from compounds having at least one, preferably two or more ethylenically unsaturated bonds. Such a compound group is widely known in the industrial field, and can be used without any particular limitation in the present invention. These have chemical forms such as monomers, prepolymers, that is, dimers, trimers and oligomers, or mixtures thereof and copolymers thereof. Examples of monomers and copolymers thereof include unsaturated carboxylic acids (for example, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.), and esters and amides thereof. In this case, an ester of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyhydric alcohol compound, or an amide of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyvalent amine compound is used. In addition, an addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having a nucleophilic substituent such as a hydroxyl group, amino group or mercapto group with a monofunctional or polyfunctional isocyanate or epoxy, and monofunctional or polyfunctional A dehydration condensation reaction product with a functional carboxylic acid is also preferably used. Further, an addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having an electrophilic substituent such as an epoxy group or an epoxy group with a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol, a halogen group or In addition, a substitution reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having a leaving substituent such as a tosyloxy group and a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol is also suitable. As another example, it is also possible to use a group of compounds substituted with unsaturated phosphonic acid, styrene, vinyl ether or the like instead of the unsaturated carboxylic acid.

脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、1,3−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ(アクリロイルオキシプロピル)エーテル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、1,4−シクロヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、トリ(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー等がある。   Specific examples of the monomer of an ester of an aliphatic polyhydric alcohol compound and an unsaturated carboxylic acid include acrylic acid esters such as ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, 1,3-butanediol diacrylate, and tetramethylene glycol. Diacrylate, propylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane tri (acryloyloxypropyl) ether, trimethylolethane triacrylate, hexanediol diacrylate, 1,4-cyclohexanediol diacrylate , Tetraethylene glycol diacrylate, pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol triacrylate , Pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol diacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, sorbitol triacrylate, sorbitol tetraacrylate, sorbitol pentaacrylate, sorbitol hexaacrylate, tri (acryloyloxyethyl) isocyanurate, polyester acrylate oligomer.

メタクリル酸エステルとしては、テトラメチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、1,3−ブタンジオールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビトールテトラメタクリレート、ビス〔p−(3−メタクリルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル〕ジメチルメタン、ビス−〔p−(メタクリルオキシエトキシ)フェニル〕ジメチルメタン等がある。   Methacrylic acid esters include tetramethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolethane trimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, 1,3-butanediol dimethacrylate, Hexanediol dimethacrylate, pentaerythritol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol dimethacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, sorbitol trimethacrylate, sorbitol tetramethacrylate, bis [p- (3-methacryloxy- 2-hydroxypro ) Phenyl] dimethyl methane, bis - [p- (methacryloxyethoxy) phenyl] dimethyl methane.

イタコン酸エステルとしては、エチレングリコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタコネート、1,3−ブタンジオールジイタコネート、1,4−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジイタコネート、ソルビトールテトライタコネート等がある。
クロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビトールテトラジクロトネート等がある。
イソクロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロトネート等がある。
マレイン酸エステルとしては、エチレングリコールジマレート、トリエチレングリコールジマレート、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテトラマレート等がある。
Itaconic acid esters include ethylene glycol diitaconate, propylene glycol diitaconate, 1,3-butanediol diitaconate, 1,4-butanediol diitaconate, tetramethylene glycol diitaconate, pentaerythritol diitaconate And sorbitol tetritaconate.
Examples of crotonic acid esters include ethylene glycol dicrotonate, tetramethylene glycol dicrotonate, pentaerythritol dicrotonate, and sorbitol tetradicrotonate.
Examples of isocrotonic acid esters include ethylene glycol diisocrotonate, pentaerythritol diisocrotonate, and sorbitol tetraisocrotonate.
Examples of maleic acid esters include ethylene glycol dimaleate, triethylene glycol dimaleate, pentaerythritol dimaleate, and sorbitol tetramaleate.

その他のエステルの例として、例えば、特公昭46−27926、特公昭51−47334、特開昭57−196231記載の脂肪族アルコール系エステル類や、特開昭59−5240、特開昭59−5241、特開平2−226149記載の芳香族系骨格を有するもの、特開平1−165613記載のアミノ基を含有するもの等も好適に用いられる。更に、前述のエステルモノマーは混合物としても使用することができる。   Examples of other esters include aliphatic alcohol esters described in JP-B-46-27926, JP-B-51-47334, JP-A-57-196231, JP-A-59-5240, JP-A-59-5241. Those having an aromatic skeleton described in JP-A-2-226149 and those containing an amino group described in JP-A-1-165613 are also preferably used. Furthermore, the ester monomers described above can also be used as a mixture.

また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチレンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−アクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミド等がある。その他の好ましいアミド系モノマーの例としては、特公昭54−21726記載のシクロへキシレン構造を有すものを挙げることができる。   Specific examples of amide monomers of aliphatic polyvalent amine compounds and unsaturated carboxylic acids include methylene bis-acrylamide, methylene bis-methacrylamide, 1,6-hexamethylene bis-acrylamide, 1,6-hexamethylene bis. -Methacrylamide, diethylenetriamine trisacrylamide, xylylene bisacrylamide, xylylene bismethacrylamide and the like. Examples of other preferable amide monomers include those having a cyclohexylene structure described in JP-B-54-21726.

また、イソシアネートと水酸基の付加反応を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭48−41708号公報中に記載されている1分子に2個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下記一般式(IV)で示される水酸基を含有するビニルモノマーを付加させた1分子中に2個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられる。   In addition, urethane-based addition polymerizable compounds produced by using an addition reaction of isocyanate and hydroxyl group are also suitable, and specific examples thereof include, for example, one molecule described in JP-B-48-41708. A vinyl urethane containing two or more polymerizable vinyl groups in one molecule obtained by adding a vinyl monomer containing a hydroxyl group represented by the following general formula (IV) to a polyisocyanate compound having two or more isocyanate groups. Compounds and the like.

CH=C(R)COOCHCH(R)OH・・・一般式(IV)
(ただし、R及びRは、H又はCHを示す。)
CH 2 = C (R a) COOCH 2 CH (R b) OH ··· formula (IV)
(However, R a and R b represent H or CH 3. )

また、特開昭51−37193号、特公平2−32293号、特公平2−16765号に記載されているようなウレタンアクリレート類や、特公昭58−49860号、特公昭56−17654号、特公昭62−39417号、特公昭62−39418号記載のエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適である。更に、特開昭63−277653号、特開昭63−260909号、特開平1−105238号に記載される、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有する付加重合性化合物類を用いることによっては、非常に感光スピードに優れた光重合性組成物を得ることができる。   Also, urethane acrylates such as those described in JP-A-51-37193, JP-B-2-32293, and JP-B-2-16765, JP-B-58-49860, JP-B-56-17654, Urethane compounds having an ethylene oxide skeleton described in JP-B-62-39417 and JP-B-62-39418 are also suitable. Further, by using addition polymerizable compounds having an amino structure or a sulfide structure in the molecule described in JP-A-63-277653, JP-A-63-260909, and JP-A-1-105238, It is possible to obtain a photopolymerizable composition excellent in the photosensitive speed.

その他の例としては、特開昭48−64183号、特公昭49−43191号、特公昭52−30490号、各公報に記載されているようなポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸を反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタクリレートを挙げることができる。また、特公昭46−43946号、特公平1−40337号、特公平1−40336号記載の特定の不飽和化合物や、特開平2−25493号記載のビニルホスホン酸系化合物等も挙げることができる。また、ある場合には、特開昭61−22048号記載のペルフルオロアルキル基を含有する構造が好適に使用される。更に日本接着協会誌vol.20、No.7、300〜308ページ(1984年)に光硬化性モノマー及びオリゴマーとして紹介されているものも使用することができる。   Other examples include polyester acrylates, epoxy resins and (meth) acrylic acid as described in JP-A-48-64183, JP-B-49-43191, JP-B-52-30490, and JP-A-52-30490. Mention may be made of polyfunctional acrylates and methacrylates such as reacted epoxy acrylates. Further, specific unsaturated compounds described in JP-B-46-43946, JP-B-1-40337 and JP-B-1-40336, vinylphosphonic acid compounds described in JP-A-2-25493, and the like can also be mentioned. . In some cases, a structure containing a perfluoroalkyl group described in JP-A-61-22048 is preferably used. Furthermore, Journal of Japan Adhesion Association vol. 20, no. 7, pages 300 to 308 (1984), which are introduced as photocurable monomers and oligomers, can also be used.

本発明における重合性化合物としては、ビニル基が置換したフェニル基を2個以上有するモノマー(以下、適宜、特定モノマーと称する。)も好ましく用いることができる。
前述した重合開始剤(ラジカル発生剤)より発生するラジカルにより生成するスチリルラジカル同士の再結合により効果的に架橋を行うため、この成分を含むことで、高感度で、加熱処理を必要としないネガ型の感光層とすることができる。
本発明における特定モノマーは、代表的には、下記一般式(3)で表される化合物である。
As the polymerizable compound in the present invention, a monomer having two or more phenyl groups substituted with vinyl groups (hereinafter, appropriately referred to as a specific monomer) can also be preferably used.
In order to effectively perform crosslinking by recombination of styryl radicals generated by radicals generated from the above-described polymerization initiator (radical generator), the inclusion of this component makes it highly sensitive and does not require heat treatment. Type photosensitive layer.
The specific monomer in the present invention is typically a compound represented by the following general formula (3).


一般式(3)中、Zは連結基を表し、R21、R22、及びR23は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシ基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、アミド基、アミノ基、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基等であり、更にこれらの基は、アルキル基、アミノ基、アリール基、アルケニル基、カルボキシ基、スルホ基、ヒドロキシ基等で置換されていてもよい。R24は置換可能な基又は原子を表す。mは0〜4の整数を表し、kは2以上の整数を表す。 In General Formula (3), Z 2 represents a linking group, and R 21 , R 22 , and R 23 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a carboxy group, a sulfo group, a nitro group, a cyano group, or an amide group. An amino group, an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, and the like, and these groups are substituted with an alkyl group, an amino group, an aryl group, an alkenyl group, a carboxy group, a sulfo group, a hydroxy group, and the like. It may be. R 24 represents a substitutable group or atom. m 2 represents an integer of 0 to 4, and k 2 represents an integer of 2 or more.

一般式(3)で表される化合物について更に詳細に説明する。Zの連結基としては、酸素原子、硫黄原子、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、−N(R)−、−C(O)−O−、−C(R)=N−、−C(O)−、スルホニル基、複素環構造、及びベンゼン環構造等の単独若しくは2以上が複合した基が挙げられる。ここでR及びRは、水素原子、アルキル基、アリール基等を表す。更に、上記した連結基には、アルキル基、アリール基、ハロゲン原子等の置換基を有していてもよい。 The compound represented by the general formula (3) will be described in more detail. As the linking group for Z 2 , an oxygen atom, a sulfur atom, an alkylene group, an alkenylene group, an arylene group, —N (R 5 ) —, —C (O) —O—, —C (R 6 ) ═N—, Examples include —C (O) —, a sulfonyl group, a heterocyclic structure, a benzene ring structure, or a group in which two or more are combined. Here, R 5 and R 6 represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or the like. Furthermore, the above-described linking group may have a substituent such as an alkyl group, an aryl group, or a halogen atom.

で表される連結基を構成する複素環構造としては、ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、テトラゾール環、イソオキサゾール環、オキサゾール環、オキサジアゾール環、イソチアゾール環、チアゾール環、チアジアゾール環、チアトリアゾール環、インドール環、インダゾール環、ベンズイミダゾール環、ベンゾトリアゾール環、ベンズオキサゾール環、ベンズチアゾール環、ベンズセレナゾール環、ベンゾチアジアゾール環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、トリアジン環、キノリン環、キノキサリン環等の含窒素複素環、フラン環、チオフェン環等が挙げられ、これらの複素環構造は更に、アルキル基、アミノ基、アリール基、アルケニル基、カルボキシ基、スルホ基、ヒドロキシ基等の置換基を有していてもよい。 The heterocyclic structure constituting the linking group represented by Z 2 includes pyrrole ring, pyrazole ring, imidazole ring, triazole ring, tetrazole ring, isoxazole ring, oxazole ring, oxadiazole ring, isothiazole ring, thiazole ring , Thiadiazole ring, thiatriazole ring, indole ring, indazole ring, benzimidazole ring, benzotriazole ring, benzoxazole ring, benzthiazole ring, benzselenazole ring, benzothiadiazole ring, pyridine ring, pyridazine ring, pyrimidine ring, pyrazine ring , Triazine ring, quinoline ring, quinoxaline ring and the like nitrogen-containing heterocycle, furan ring, thiophene ring, etc., and these heterocyclic structures further include alkyl groups, amino groups, aryl groups, alkenyl groups, carboxy groups, sulfo groups. Group, hydroxy It may have a substituent such as a group.

また、R24で表される置換可能な基又は原子としては、ハロゲン原子、カルボキシ基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、アミド基、アミノ基、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基が挙げられ、更に、これらの基又は原子は、アルキル基、アミノ基、アリール基、アルケニル基、カルボキシ基、スルホ基、ヒドロキシ基等の置換基を有していてもよい。 The substitutable group or atom represented by R 24 includes a halogen atom, a carboxy group, a sulfo group, a nitro group, a cyano group, an amide group, an amino group, an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, and an aryloxy group. Furthermore, these groups or atoms may have a substituent such as an alkyl group, an amino group, an aryl group, an alkenyl group, a carboxy group, a sulfo group, or a hydroxy group.

上記一般式(3)で表される化合物の中でも、下記に示す構造を有するものが好ましい。即ち、一般式(3)におけるR21及びR22は水素原子で、R23は水素原子若しくは炭素数4以下の低級アルキル基(メチル基、エチル基等)で、kは2〜10の整数である化合物が好ましい。 Among the compounds represented by the general formula (3), those having the structure shown below are preferable. That is, in the general formula (3), R 21 and R 22 are hydrogen atoms, R 23 is a hydrogen atom or a lower alkyl group having 4 or less carbon atoms (methyl group, ethyl group, etc.), and k 2 is an integer of 2-10. Is preferred.

以下に、一般式(3)で表される化合物の具体例(C−1)〜(C−11)を示すが、これらの具体例に限定されるものではない。   Specific examples (C-1) to (C-11) of the compound represented by the general formula (3) are shown below, but are not limited to these specific examples.

これらの付加重合性化合物について、その構造、単独使用か併用か、添加量等の使用方法の詳細は、最終的な性能設計にあわせて任意に設定できる。例えば、次のような観点から選択される。感光スピードの点では1分子あたりの不飽和基含量が多い構造が好ましく、多くの場合、2官能以上が好ましい。また、画像部、即ち硬化膜の強度を高くするためには、3官能以上のものがよく、更に、異なる官能数・異なる重合性基(例えば、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、スチレン系化合物、ビニルエーテル系化合物)のものを併用することで、感光性と強度の両方を調節する方法も有効である。大きな分子量の化合物や疎水性の高い化合物は、感光スピードや膜強度に優れる反面、現像スピードや現像液中での析出といった点で好ましく無い場合がある。また、感光層を構成する他の成分(例えば、バインダーポリマー、重合開始剤、着色剤等)との相溶性、分散性に対しても、付加重合化合物の選択・使用法は重要な要因であり、例えば、低純度化合物の使用や、2種以上の併用により相溶性を向上させ得ることがある。
また、本発明の平版印刷版原版では、後述の支持体や保護層等との密着性を向上せしめる目的で特定の構造を選択することもあり得る。
About these addition polymerizable compounds, the details of usage, such as the structure, single use or combined use, and addition amount can be arbitrarily set according to the final performance design. For example, it is selected from the following viewpoints. From the viewpoint of photosensitive speed, a structure having a high unsaturated group content per molecule is preferable, and in many cases, a bifunctional or higher functionality is preferable. Further, in order to increase the strength of the image portion, that is, the cured film, those having three or more functionalities are preferable, and furthermore, different functional numbers and different polymerizable groups (for example, acrylic ester, methacrylic ester, styrenic compound, A method of adjusting both photosensitivity and strength by using a vinyl ether compound) is also effective. A compound having a large molecular weight or a compound having high hydrophobicity is excellent in photosensitive speed and film strength, but is not preferable in terms of development speed and precipitation in a developer. In addition, the selection and use method of the addition polymerization compound is also an important factor for the compatibility and dispersibility with other components constituting the photosensitive layer (for example, binder polymer, polymerization initiator, colorant, etc.). For example, the compatibility may be improved by using a low-purity compound or using two or more kinds in combination.
In the lithographic printing plate precursor according to the invention, a specific structure may be selected for the purpose of improving adhesion to a support or a protective layer described later.

感光層中の付加重合性化合物の含有量に関しては、感度、相分離の発生、感光層の粘着性、更には、現像液からの析出性の観点から、感光層中の固形分に対して、好ましくは5〜80質量%、更に好ましくは40〜75質量%の範囲で使用される。
また、付加重合性化合物は単独で用いても2種以上併用してもよい。その他、付加重合性化合物の使用法は、酸素に対する重合阻害の大小、解像度、かぶり性、屈折率変化、表面粘着性等の観点から適切な構造、配合、添加量を任意に選択できる。更に、本発明の平版印刷版原版では、下塗り、上塗りといった層構成・塗布方法も実施し得る。
With respect to the content of the addition polymerizable compound in the photosensitive layer, the sensitivity, the occurrence of phase separation, the adhesiveness of the photosensitive layer, and the solid content in the photosensitive layer from the viewpoint of precipitation from the developer, Preferably it is 5-80 mass%, More preferably, it is used in 40-75 mass%.
The addition polymerizable compounds may be used alone or in combination of two or more. In addition, as for the method of using the addition polymerizable compound, an appropriate structure, blending, and addition amount can be arbitrarily selected from the viewpoints of polymerization inhibition with respect to oxygen, resolution, fogging property, refractive index change, surface tackiness, and the like. Furthermore, in the lithographic printing plate precursor according to the invention, a layer constitution / coating method such as undercoating or overcoating can be carried out.

(バインダーポリマー)
本発明に用いられるバインダーポリマーは、膜性向上の観点から含有されるものであって、膜性を向上させる機能を有していれば、種々のものを使用することがすることができる。
(Binder polymer)
The binder polymer used in the present invention is contained from the viewpoint of improving the film property, and various types can be used as long as it has a function of improving the film property.

−特定バインダーポリマー(1)−
本発明において好適なバインダーポリマーとしては、下記一般式(i)で表される繰り返し単位を有するバインダーポリマーが挙げられる。
以下、一般式(i)で表される繰り返し単位を有するバインダーポリマーを、適宜、特定バインダーポリマー(1)と称し、詳細に説明する。
-Specific binder polymer (1)-
Examples of the binder polymer suitable in the present invention include binder polymers having a repeating unit represented by the following general formula (i).
Hereinafter, the binder polymer having the repeating unit represented by the general formula (i) is appropriately referred to as a specific binder polymer (1) and will be described in detail.

(一般式(i)中、Rは水素原子又はメチル基を表し、Rは炭素原子、水素原子、酸素原子、窒素原子、及び硫黄原子からなる群より選択される2以上の原子を含み構成され、その総原子数が2〜82である連結基を表す。Aは酸素原子又は−NR−を表し、Rは水素原子又は炭素数1〜10の一価の炭化水素基を表す。nは1〜5の整数を表す。) (In the general formula (i), R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, and R 2 contains two or more atoms selected from the group consisting of a carbon atom, a hydrogen atom, an oxygen atom, a nitrogen atom, and a sulfur atom. And represents a linking group having a total atom number of 2 to 82. A represents an oxygen atom or —NR 3 —, and R 3 represents a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms. N represents an integer of 1 to 5.)

まず、一般式(i)におけるRは、水素原子又はメチル基を表し、特にメチル基が好ましい。 First, R 1 in the general formula (i) represents a hydrogen atom or a methyl group, and a methyl group is particularly preferable.

一般式(i)におけるRで表される連結基は、炭素原子、水素原子、酸素原子、窒素原子、及び硫黄原子からなる群より選択される2以上の原子を含み構成され、その総原子数が2〜82であり、好ましくは2〜50であり、より好ましくは2〜30である。ここで示す総原子数は、当該連結基が置換基を有する場合には、その置換基を含めた原子数を指す。より具体的には、Rで表される連結基の主骨格を構成する原子数が、1〜30であることが好ましく、3〜25であることがより好ましく、4〜20であることが更に好ましく、5〜10であることが最も好ましい。なお、本発明における「連結基の主骨格」とは、一般式(i)におけるAと末端COOHとを連結するためのみに使用される原子又は原子団を指し、特に、連結経路が複数ある場合には、使用される原子数が最も少ない経路を構成する原子又は原子団を指す。したがって、連結基内に環構造を有する場合、その連結部位(例えば、o−、m−、p−など)により算入されるべき原子数が異なる。 The linking group represented by R 2 in the general formula (i) includes two or more atoms selected from the group consisting of a carbon atom, a hydrogen atom, an oxygen atom, a nitrogen atom, and a sulfur atom. The number is 2 to 82, preferably 2 to 50, and more preferably 2 to 30. The total number of atoms shown here refers to the number of atoms including the substituent when the linking group has a substituent. More specifically, the number of atoms constituting the main skeleton of the linking group represented by R 2 is preferably 1-30, more preferably 3-25, and 4-20. More preferred is 5-10. The “main skeleton of the linking group” in the present invention refers to an atom or an atomic group used only for linking A and the terminal COOH in the general formula (i), and particularly when there are a plurality of linking paths. Refers to an atom or atomic group that constitutes a path with the least number of atoms used. Therefore, when a linking group has a ring structure, the number of atoms to be included differs depending on the linking site (for example, o-, m-, p-, etc.).

また、より具体的には、アルキレン、置換アルキレン、アリーレン、置換アリーレンなどが挙げられ、これらの2価の基がアミド結合やエステル結合で複数連結された構造を有していてもよい。
鎖状構造の連結基としては、エチレン、プロピレン等が挙げられる。また、これらのアルキレンがエステル結合を介して連結されている構造もまた好ましいものとして例示することができる。
More specific examples include alkylene, substituted alkylene, arylene, substituted arylene, and the like, and a structure in which a plurality of these divalent groups are linked by an amide bond or an ester bond may be used.
Examples of the linking group having a chain structure include ethylene and propylene. A structure in which these alkylenes are linked via an ester bond can also be exemplified as a preferable example.

この中でも、一般式(i)におけるRで表される連結基は、炭素原子数3から30までの脂肪族環状構造を有する(n+1)価の炭化水素基であることが好ましい。より具体的には、任意の置換基によって一個以上置換されていてもよいシクロプロパン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン、シクロデカン、ジシクロヘキシル、ターシクロヘキシル、ノルボルナン等の脂肪族環状構造を有する化合物を構成する任意の炭素原子上の水素原子を(n+1)個除き、(n+1)価の炭化水素基としたものを挙げることができる。また、Rは、置換基を含めて炭素数3から30であることが好ましい。 Among these, the linking group represented by R 2 in the general formula (i) is preferably an (n + 1) -valent hydrocarbon group having an aliphatic cyclic structure having 3 to 30 carbon atoms. More specifically, a compound having an aliphatic cyclic structure such as cyclopropane, cyclopentane, cyclohexane, cycloheptane, cyclooctane, cyclodecane, dicyclohexyl, tercyclohexyl, norbornane and the like, which may be substituted by one or more arbitrary substituents And (n + 1) valent hydrocarbon groups by removing (n + 1) hydrogen atoms on an arbitrary carbon atom constituting. R 2 preferably has 3 to 30 carbon atoms including a substituent.

脂肪族環状構造を構成する化合物の任意の炭素原子は、窒素原子、酸素原子、又は硫黄原子から選ばれるヘテロ原子で、一個以上置き換えられていてもよい。耐刷性の点で、Rは縮合多環脂肪族炭化水素、橋架け環脂肪族炭化水素、スピロ脂肪族炭化水素、脂肪族炭化水素環集合(複数の環が結合又は連結基でつながったもの)等、2個以上の環を含有してなる炭素原子数5から30までの置換基を有していてもよい脂肪族環状構造を有する(n+1)価の炭化水素基であることが好ましい。この場合も炭素数は置換基が有する炭素原子を含めてのものである。 One or more arbitrary carbon atoms of the compound constituting the aliphatic cyclic structure may be replaced with a heteroatom selected from a nitrogen atom, an oxygen atom, or a sulfur atom. In terms of printing durability, R 2 is a condensed polycyclic aliphatic hydrocarbon, a bridged cyclic aliphatic hydrocarbon, a spiro aliphatic hydrocarbon, an aliphatic hydrocarbon ring assembly (a plurality of rings are connected by a bond or a linking group). A (n + 1) valent hydrocarbon group having an aliphatic cyclic structure which may have a substituent of 5 to 30 carbon atoms containing two or more rings. . Also in this case, the carbon number includes the carbon atom of the substituent.

で表される連結基としては、特に、連結基の主骨格を構成する原子数が5〜10のものが好ましく、構造的には、鎖状構造であって、その構造中にエステル結合を有するものや、前記の如き環状構造を有するものが好ましい。 As the linking group represented by R 2 , those having 5 to 10 atoms constituting the main skeleton of the linking group are particularly preferable, and are structurally a chain structure, and an ester bond in the structure. And those having a cyclic structure as described above are preferred.

で表される連結基に導入可能な置換基としては、水素を除く1価の非金属原子団を挙げることができ、ハロゲン原子(−F、−Br、−Cl、−I)、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルジチオ基、アリールジチオ基、アミノ基、N−アルキルアミノ基、N,N−ジアルキルアミノ基、N−アリールアミノ基、N,N−ジアリールアミノ基、N−アルキル−N−アリールアミノ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、N−アルキルカルバモイルオキシ基、N−アリールカルバモイルオキシ基、N,N−ジアルキルカルバモイルオキシ基、N,N−ジアリールカルバモイルオキシ基、N−アルキル−N−アリールカルバモイルオキシ基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、アシルチオ基、アシルアミノ基、N−アルキルアシルアミノ基、N−アリールアシルアミノ基、ウレイド基、N’−アルキルウレイド基、N’,N’−ジアルキルウレイド基、N’−アリールウレイド基、N’,N’−ジアリールウレイド基、N’−アルキル−N’−アリールウレイド基、N−アルキルウレイド基、N−アリールウレイド基、N’−アルキル−N−アルキルウレイド基、N’−アルキル−N−アリールウレイド基、N’,N’−ジアルキル−N−アルキルウレイド基、N’,N’−ジアルキル−N−アリールウレイド基、N’−アリール−N−アルキルウレイド基、N’−アリール−N−アリールウレイド基、N’,N’−ジアリール−N−アルキルウレイド基、N’,N’−ジアリール−N−アリールウレイド基、N’−アルキル−N’−アリール−N−アルキルウレイド基、N’−アルキル−N’−アリール−N−アリールウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリーロキシカルボニルアミノ基、N−アルキル−N−アルコキシカルボニルアミノ基、N−アルキル−N−アリーロキシカルボニルアミノ基、N−アリール−N−アルコキシカルボニルアミノ基、N−アリール−N−アリーロキシカルボニルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基及びその共役塩基基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、N−アルキルカルバモイル基、N,N−ジアルキルカルバモイル基、N−アリールカルバモイル基、N,N−ジアリールカルバモイル基、N−アルキル−N−アリールカルバモイル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホ基(−SOH)及びその共役塩基基、アルコキシスルホニル基、アリーロキシスルホニル基、スルフィナモイル基、N−アルキルスルフィナモイル基、N,N−ジアルキルスルフィナモイル基、N−アリールスルフィナモイル基、N,N−ジアリールスルフィナモイル基、N−アルキル−N−アリールスルフィナモイル基、スルファモイル基、N−アルキルスルファモイル基、N,N−ジアルキルスルファモイル基、N−アリールスルファモイル基、N,N−ジアリールスルファモイル基、N−アルキル−N−アリールスルファモイル基、N−アシルスルファモイル基及びその共役塩基基、N−アルキルスルホニルスルファモイル基(−SONHSO(alkyl))及びその共役塩基基、N−アリールスルホニルスルファモイル基(−SONHSO(aryl))及びその共役塩基基、N−アルキルスルホニルカルバモイル基(−CONHSO(alkyl))及びその共役塩基基、N−アリールスルホニルカルバモイル基(−CONHSO(aryl))及びその共役塩基基、アルコキシシリル基(−Si(Oalkyl))、アリーロキシシリル基(−Si(Oaryl))、ヒドロキシシリル基(−Si(OH))及びその共役塩基基、ホスホノ基(−PO)及びその共役塩基基、ジアルキルホスホノ基(−PO(alkyl))、ジアリールホスホノ基(−PO(aryl))、アルキルアリールホスホノ基(−PO(alkyl)(aryl))、モノアルキルホスホノ基(−POH(alkyl))及びその共役塩基基、モノアリールホスホノ基(−POH(aryl))及びその共役塩基基、ホスホノオキシ基(−OPO)及びその共役塩基基、ジアルキルホスホノオキシ基(−OPO(alkyl))、ジアリールホスホノオキシ基(−OPO(aryl))、アルキルアリールホスホノオキシ基(−OPO(alkyl)(aryl))、モノアルキルホスホノオキシ基(−OPOH(alkyl))及びその共役塩基基、モノアリールホスホノオキシ基(−OPOH(aryl))及びその共役塩基基、シアノ基、ニトロ基、ジアルキルボリル基(−B(alkyl))、ジアリールボリル基(−B(aryl))、アルキルアリールボリル基(−B(alkyl)(aryl))、ジヒドロキシボリル基(−B(OH))及びその共役塩基基、アルキルヒドロキシボリル基(−B(alkyl)(OH))及びその共役塩基基、アリールヒドロキシボリル基(−B(aryl)(OH))及びその共役塩基基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基が挙げられる。 Examples of the substituent that can be introduced into the linking group represented by R 2 include monovalent nonmetallic atomic groups other than hydrogen, such as halogen atoms (—F, —Br, —Cl, —I), hydroxyl groups. Group, alkoxy group, aryloxy group, mercapto group, alkylthio group, arylthio group, alkyldithio group, aryldithio group, amino group, N-alkylamino group, N, N-dialkylamino group, N-arylamino group, N, N-diarylamino group, N-alkyl-N-arylamino group, acyloxy group, carbamoyloxy group, N-alkylcarbamoyloxy group, N-arylcarbamoyloxy group, N, N-dialkylcarbamoyloxy group, N, N- Diarylcarbamoyloxy group, N-alkyl-N-arylcarbamoyloxy group, alkylsulfoxy Group, arylsulfoxy group, acylthio group, acylamino group, N-alkylacylamino group, N-arylacylamino group, ureido group, N′-alkylureido group, N ′, N′-dialkylureido group, N′- Arylureido group, N ′, N′-diarylureido group, N′-alkyl-N′-arylureido group, N-alkylureido group, N-arylureido group, N′-alkyl-N-alkylureido group, N '-Alkyl-N-arylureido group, N', N'-dialkyl-N-alkylureido group, N ', N'-dialkyl-N-arylureido group, N'-aryl-N-alkylureido group, N '-Aryl-N-arylureido group, N', N'-diaryl-N-alkylureido group, N ', N'-diaryl-N-arylureido group, N'-a Kill-N′-aryl-N-alkylureido group, N′-alkyl-N′-aryl-N-arylureido group, alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group, N-alkyl-N-alkoxycarbonylamino group N-alkyl-N-aryloxycarbonylamino group, N-aryl-N-alkoxycarbonylamino group, N-aryl-N-aryloxycarbonylamino group, formyl group, acyl group, carboxyl group and its conjugate base group, Alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, N-alkylcarbamoyl group, N, N-dialkylcarbamoyl group, N-arylcarbamoyl group, N, N-diarylcarbamoyl group, N-alkyl-N-arylcarbamoyl group, Alkylsulfinyl , An arylsulfinyl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, a sulfo group (-SO 3 H) and its conjugated base group, alkoxy sulfonyl group, aryloxy sulfonyl group, sulfinamoyl group, N- alkylsulfinamoyl group, N, N -Dialkylsulfinamoyl group, N-arylsulfinamoyl group, N, N-diarylsulfinamoyl group, N-alkyl-N-arylsulfinamoyl group, sulfamoyl group, N-alkylsulfamoyl group, N, N-dialkylsulfamoyl group, N-arylsulfamoyl group, N, N-diarylsulfamoyl group, N-alkyl-N-arylsulfamoyl group, N-acylsulfamoyl group and its conjugate base group , N- alkylsulfonylsulfamoyl group (-SO 2 NHS 2 (alkyl)) and its conjugated base group, N- aryl sulfonylsulfamoyl group (-SO 2 NHSO 2 (aryl) ) and its conjugated base group, N- alkylsulfonylcarbamoyl group (-CONHSO 2 (alkyl)) and Its conjugated base group, N-arylsulfonylcarbamoyl group (—CONHSO 2 (aryl)) and its conjugated base group, alkoxysilyl group (—Si (Oalkyl) 3 ), aryloxysilyl group (—Si (Oaryl) 3 ), Hydroxysilyl group (—Si (OH) 3 ) and its conjugate base group, phosphono group (—PO 3 H 2 ) and its conjugate base group, dialkylphosphono group (—PO 3 (alkyl) 2 ), diarylphosphono group (—PO 3 (aryl) 2 ), alkylarylphosphono group (—PO 3 (a lkyl) (aryl)), monoalkylphosphono group (—PO 3 H (alkyl)) and its conjugate base group, monoarylphosphono group (—PO 3 H (aryl)) and its conjugate base group, phosphonooxy group ( -OPO 3 H 2) and its conjugated base group, a dialkyl phosphono group (-OPO 3 (alkyl) 2) , diaryl phosphono group (-OPO 3 (aryl) 2) , alkylaryl phosphono group (- OPO 3 (alkyl) (aryl) ), monoalkyl phosphono group (-OPO 3 H (alkyl)) and its conjugated base group, monoarylphosphono group (-OPO 3 H (aryl)) and its conjugate base group, a cyano group, a nitro group, a dialkyl boryl group (-B (alkyl) 2), Jiariruboriru group (-B ( RYL) 2), alkyl aryl boryl group (-B (alkyl) (aryl) ), dihydroxy boryl group (-B (OH) 2) and its conjugated base group, an alkyl hydroxy boryl group (-B (alkyl) (OH) ) And its conjugated base group, arylhydroxyboryl group (-B (aryl) (OH)) and its conjugated base group, aryl group, alkenyl group and alkynyl group.

本発明の平版印刷版原版では、感光層の設計にもよるが、水素結合可能な水素原子を有する置換基や、特に、カルボン酸よりも酸解離定数(pKa)が小さい酸性を有する置換基は、耐刷性を下げる傾向にあるので好ましくない。一方、ハロゲン原子や、炭化水素基(アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基)、アルコキシ基、アリーロキシ基などの疎水性置換基は、耐刷を向上する傾向にあるのでより好ましく、特に、環状構造がシクロペンタンやシクロヘキサン等の6員環以下の単環脂肪族炭化水素である場合には、このような疎水性の置換基を有していることが好ましい。これら置換基は可能であるならば、置換基同士、又は置換している炭化水素基と結合して環を形成してもよく、置換基は更に置換されていてもよい。   In the lithographic printing plate precursor according to the invention, although depending on the design of the photosensitive layer, a substituent having a hydrogen atom capable of hydrogen bonding, particularly a substituent having an acid dissociation constant (pKa) smaller than that of a carboxylic acid is , Because it tends to lower the printing durability. On the other hand, hydrophobic substituents such as halogen atoms, hydrocarbon groups (alkyl groups, aryl groups, alkenyl groups, alkynyl groups), alkoxy groups, aryloxy groups and the like are more preferable because they tend to improve printing durability. When the cyclic structure is a monocyclic aliphatic hydrocarbon having 6 or less members such as cyclopentane or cyclohexane, it preferably has such a hydrophobic substituent. If possible, these substituents may be bonded to each other or with a substituted hydrocarbon group to form a ring, and the substituent may be further substituted.

一般式(i)におけるAがNR−である場合のRは、水素原子又は炭素数1〜10の一価の炭化水素基を表す。このRで表される炭素数1〜10までの一価の炭化水素基としては、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基が挙げられる。
アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、へプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、イソプロピル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、1−メチルブチル基、イソヘキシル基、2−エチルヘキシル基、2−メチルヘキシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、1−アダマンチル基、2−ノルボルニル基等の炭素数1〜10までの直鎖状、分枝状、又は環状のアルキル基が挙げられる。
アリール基の具体例としては、フェニル基、ナフチル基、インデニル基等の炭素数1〜10までのアリール基、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群から選ばれるヘテロ原子を1個含有する炭素数1〜10までのヘテロアリール基、例えば、フリル基、チエニル基、ピロリル基、ピリジル基、キノリル基等が挙げられる。
アルケニル基の具体例としては、ビニル基、1−プロペニル基、1−ブテニル基、1−メチル−1−プロペニル基、1−シクロペンテニル基、1−シクロヘキセニル基等の炭素数1〜10までの直鎖状、分枝状、又は環状のアルケニル基が挙げられる。
アルキニル基の具体例としては、エチニル基、1−プロピニル基、1−ブチニル基、1−オクチニル基等の炭素数1〜10までのアルキニル基が挙げられる。Rが有してもよい置換基としては、Rが導入し得る置換基として挙げたものと同様である。但し、Rの炭素数は、置換基の炭素数を含めて1〜10である。
R 3 in the case where A in the general formula (i) is NR 3 — represents a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms. Examples of the monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms represented by R 3 include an alkyl group, an aryl group, an alkenyl group, and an alkynyl group.
Specific examples of the alkyl group include methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, isopropyl group, isobutyl group, sec-butyl group, 1 carbon number such as tert-butyl group, isopentyl group, neopentyl group, 1-methylbutyl group, isohexyl group, 2-ethylhexyl group, 2-methylhexyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, 1-adamantyl group, 2-norbornyl group Up to 10 linear, branched or cyclic alkyl groups.
Specific examples of the aryl group include carbon having one heteroatom selected from the group consisting of an aryl group having 1 to 10 carbon atoms such as a phenyl group, a naphthyl group, and an indenyl group, a nitrogen atom, an oxygen atom, and a sulfur atom. Examples include heteroaryl groups of 1 to 10, such as furyl, thienyl, pyrrolyl, pyridyl, and quinolyl groups.
Specific examples of the alkenyl group include those having 1 to 10 carbon atoms such as vinyl group, 1-propenyl group, 1-butenyl group, 1-methyl-1-propenyl group, 1-cyclopentenyl group, 1-cyclohexenyl group and the like. A linear, branched, or cyclic alkenyl group is mentioned.
Specific examples of the alkynyl group include alkynyl groups having 1 to 10 carbon atoms such as ethynyl group, 1-propynyl group, 1-butynyl group, and 1-octynyl group. The substituent that R 3 may have is the same as those exemplified as the substituent that R 2 can introduce. The number of carbon atoms of R 3 is 1 to 10 including the carbon number of the substituent.

一般式(i)におけるAは、合成が容易であることから、酸素原子又は−NH−であることが好ましい。   A in the general formula (i) is preferably an oxygen atom or —NH— because synthesis is easy.

一般式(i)におけるnは、1〜5の整数を表し、耐刷の点で好ましくは1である。   N in the general formula (i) represents an integer of 1 to 5, and is preferably 1 in terms of printing durability.

以下に、一般式(i)で表される繰り返し単位の好ましい具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Although the preferable specific example of the repeating unit represented by general formula (i) below is shown, this invention is not limited to these.

一般式(i)で表される繰り返し単位は、バインダーポリマー中に1種類だけであってもよいし、2種類以上含有していてもよい。本発明における特定バインダーポリマー(1)は、一般式(i)で表される繰り返し単位だけからなるポリマーであってもよいが、通常、他の共重合成分と組み合わされ、コポリマーとして使用される。コポリマーにおける一般式(i)で表される繰り返し単位の総含有量は、その構造や、感光層組成物の設計等によって適宜決められるが、好ましくはポリマー成分の総モル量に対し、1〜99モル%、より好ましくは5〜40モル%、更に好ましくは5〜20モル%の範囲で含有される。   One type of repeating unit represented by the general formula (i) may be contained in the binder polymer, or two or more types may be contained. The specific binder polymer (1) in the present invention may be a polymer consisting only of the repeating unit represented by the general formula (i), but is usually combined with other copolymerization components and used as a copolymer. The total content of the repeating unit represented by the general formula (i) in the copolymer is appropriately determined depending on its structure, the design of the photosensitive layer composition, etc., but preferably 1 to 99 with respect to the total molar amount of the polymer component. It is contained in the range of mol%, more preferably 5 to 40 mol%, still more preferably 5 to 20 mol%.

コポリマーとして用いる場合の共重合成分としては、ラジカル重合可能なモノマーであれば従来公知のものを制限なく使用できる。具体的には、「高分子データハンドブック−基礎編−(高分子学会編、培風館、1986)」記載のモノマー類が挙げられる。このような共重合成分は1種類であってもよいし、2種類以上を組み合わせて使用してもよい。   As a copolymerization component in the case of using as a copolymer, a conventionally well-known thing can be used without a restriction | limiting if it is a monomer which can be radically polymerized. Specific examples include monomers described in “Polymer Data Handbook—Basic Edition” (Edition of Polymer Society, Bafukan, 1986). One type of such copolymerization component may be used, or two or more types may be used in combination.

本発明における特定バインダーポリマー(1)の分子量は、画像形成性や耐刷性の観点から適宜決定される。好ましい分子量としては、2,000〜1,000,000、より好ましくは5,000〜500,000、更に好ましくは10,000〜200,000の範囲である。
また、特定バインダーポリマー(1)の酸価(meq/g)としては、2.00〜3.60の範囲であることが好ましい。
The molecular weight of the specific binder polymer (1) in the present invention is appropriately determined from the viewpoint of image formability and printing durability. The molecular weight is preferably in the range of 2,000 to 1,000,000, more preferably 5,000 to 500,000, and still more preferably 10,000 to 200,000.
The acid value (meq / g) of the specific binder polymer (1) is preferably in the range of 2.00 to 3.60.

本発明おける特定バインダーポリマー(1)は単独で使用してもよいし、他のバインダーポリマーを1種以上併用して、混合物として用いてもよい。
併用されるバインダーポリマーは、バインダーポリマー成分の総質量に対し1〜60質量%、好ましくは1〜40質量%、更に好ましくは1〜20質量%の範囲で用いられる。 併用できるバインダーポリマーとしては、従来公知のものを制限なく使用でき、具体的には、本業界においてよく使用されるアクリル主鎖バインダーや、ウレタンバインダー等や、後述するラジカル重合性基を有するバインダーポリマーが好ましく用いられる。
The specific binder polymer (1) in the present invention may be used alone or in combination with one or more other binder polymers.
The binder polymer used in combination is used in the range of 1 to 60% by mass, preferably 1 to 40% by mass, and more preferably 1 to 20% by mass with respect to the total mass of the binder polymer component. As the binder polymer that can be used in combination, conventionally known ones can be used without limitation, and specifically, an acrylic main chain binder, a urethane binder, etc. often used in the industry, and a binder polymer having a radical polymerizable group described later. Is preferably used.

−併用可能な他のバインダーポリマー−
前記特定バインダーポリマー(1)と併用可能な他のバインダーポリマーは、ラジカル重合性基を有するバインダーポリマーであることが好ましい。
そのラジカル重合性基としては、ラジカルにより重合することが可能であれば特に限定されないが、α−置換メチルアクリル基[−OC(=O)−C(−CHZ)=CH、Z=ヘテロ原子から始まる炭化水素基]、アクリル基、メタクリル基、アリル基、スチリル基が挙げられ、この中でも、アクリル基、メタクリル基が好ましい。
かかるバインダーポリマー中のラジカル重合性基の含有量(ヨウ素滴定によるラジカル重合可能な不飽和二重結合の含有量)は、感度や保存性の観点から、バインダーポリマー1g当たり、好ましくは0.1〜10.0mmol、より好ましくは1.0〜7.0mmol、最も好ましくは2.0〜5.5mmolである。
-Other binder polymers that can be used together-
The other binder polymer that can be used in combination with the specific binder polymer (1) is preferably a binder polymer having a radical polymerizable group.
The radical polymerizable group is not particularly limited as long as it can be polymerized by a radical, but α-substituted methylacrylic group [—OC (═O) —C (—CH 2 Z) ═CH 2 , Z = A hydrocarbon group starting from a hetero atom], an acryl group, a methacryl group, an allyl group, and a styryl group. Among these, an acryl group and a methacryl group are preferable.
The content of the radical polymerizable group in the binder polymer (content of unsaturated double bond capable of radical polymerization by iodine titration) is preferably 0.1 to 1 g per binder polymer from the viewpoint of sensitivity and storage stability. It is 10.0 mmol, More preferably, it is 1.0-7.0 mmol, Most preferably, it is 2.0-5.5 mmol.

また、併用可能な他のバインダーポリマーは、更に、アルカリ可溶性基を有するものが好ましい。バインダーポリマー中のアルカリ可溶性基の含有量(中和滴定による酸価)は、現像カスの析出性や耐刷性の観点から、バインダーポリマー1g当たり、好ましくは0.1〜3.0mmol、より好ましくは0.2〜2.0mmol、最も好ましくは0.45〜1.0mmolである。   Further, the other binder polymer that can be used in combination is preferably one having an alkali-soluble group. The content of alkali-soluble groups in the binder polymer (acid value by neutralization titration) is preferably from 0.1 to 3.0 mmol, more preferably from 1 to 3.0 g of binder polymer, from the viewpoints of precipitation of developing residue and printing durability. Is 0.2 to 2.0 mmol, most preferably 0.45 to 1.0 mmol.

このようなバインダーポリマーの重量平均分子量は、皮膜性(耐刷性)や、塗布溶剤への溶解性の観点から、好ましくは2,000〜1,000,000、より好ましくは10,000〜300,000、最も好ましくは20,000〜200,000の範囲である。   The weight average molecular weight of such a binder polymer is preferably from 2,000 to 1,000,000, more preferably from 10,000 to 300, from the viewpoints of film properties (press life) and solubility in a coating solvent. In the range of 20,000 to 200,000.

また、このようなバインダーポリマーのガラス転移点(Tg)は、保存安定性、耐刷性、及び感度の観点から、好ましくは70〜300℃、より好ましくは80〜250℃、最も好ましくは90〜200℃の範囲である。
バインダーポリマーのガラス転移点を高めるため手段としては、その分子中に、アミド基やイミド基を含有することが好ましく、特に、メタクリルアミドやメタクリルアミド誘導体を含有することが好ましい。
Further, the glass transition point (Tg) of such a binder polymer is preferably 70 to 300 ° C., more preferably 80 to 250 ° C., and most preferably 90 to 90 ° C. from the viewpoints of storage stability, printing durability, and sensitivity. It is in the range of 200 ° C.
As a means for increasing the glass transition point of the binder polymer, the molecule preferably contains an amide group or an imide group, and particularly preferably contains a methacrylamide or a methacrylamide derivative.

本発明において、更に、特公平7−12004号、特公平7−120041号、特公平7−120042号、特公平8−12424号、特開昭63−287944号、特開昭63−287947号、特開平1−271741号の各公報、特願平11−352691号明細書等に記載される、酸基を含有するウレタン系バインダーポリマーを用いることもできる。バインダーポリマーは、非常に、強度に優れるので、耐刷性・低露光適性の点で有利である。
また、特開平11−171907号公報記載のアミド基を有するバインダーは優れた現像性と膜強度を併せもち、好適である。
In the present invention, further, Japanese Patent Publication No. 7-12004, Japanese Patent Publication No. 7-120041, Japanese Patent Publication No. 7-120042, Japanese Patent Publication No. 8-12424, Japanese Patent Publication No. 63-287944, Japanese Patent Publication No. 63-287947, Urethane-based binder polymers containing acid groups described in JP-A-1-2717741, Japanese Patent Application No. 11-352691 and the like can also be used. Since the binder polymer is very excellent in strength, it is advantageous in terms of printing durability and suitability for low exposure.
A binder having an amide group described in JP-A No. 11-171907 is suitable because it has excellent developability and film strength.

更に、この他に水溶性線状有機高分子として、ポリビニルピロリドンやポリエチレンオキサイド等が有用である。また、硬化皮膜の強度を上げるために、アルコール可溶性ナイロンや2,2−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−プロパンとエピクロロヒドリンのポリエーテル等も有用である。   In addition, polyvinyl pyrrolidone, polyethylene oxide, and the like are useful as the water-soluble linear organic polymer. In order to increase the strength of the cured film, alcohol-soluble nylon, polyether of 2,2-bis- (4-hydroxyphenyl) -propane and epichlorohydrin, and the like are also useful.

好ましい実施様態においてバインダーポリマーは実質的に水不要でアルカリに可溶なものが用いられる。そうすることで、現像液として、環境上好ましくない有機溶剤を用いないか若しくは非常に少ない使用量に制限できる。このような使用法においてはバインダーポリマーの酸価(ポリマー1g当たりの酸含率を化学等量数で表したもの)と分子量は画像強度と現像性の観点から適宜選択される。好ましい酸価は、0.4〜3.0meq/gであり、好ましい分子量は質量平均分子量で3000から50万の範囲であり、より好ましくは、酸価が0.6〜2.0、分子量が1万から30万の範囲である。
なお、これらのバインダーポリマーは、必要に応じて、後述する特定バインダーポリマー(2)や特定バインダーポリマー(3)と併用することができる。
In a preferred embodiment, a binder polymer that does not require water and is soluble in alkali is used. By doing so, an organic solvent that is not environmentally preferable is not used as the developer, or the amount used can be limited to a very small amount. In such a method of use, the acid value of the binder polymer (the acid content per gram of polymer expressed as a chemical equivalent number) and the molecular weight are appropriately selected from the viewpoint of image strength and developability. The preferred acid value is 0.4 to 3.0 meq / g, and the preferred molecular weight is in the range of 3000 to 500,000 in terms of mass average molecular weight, more preferably the acid value is 0.6 to 2.0 and the molecular weight is It is in the range of 10,000 to 300,000.
In addition, these binder polymers can be used together with the specific binder polymer (2) and the specific binder polymer (3) described later as necessary.

−特定バインダーポリマー(2)−
また、本発明におけるバインダーポリマーとしては、ビニル基が置換したフェニル基を側鎖に有するバインダーポリマー(以下、適宜、特定バインダーポリマー(2)と称する。)も好適に用いることができる。
ビニル基が置換したフェニル基を側鎖に有するバインダーポリマーとは、ビニル基が置換したフェニル基が直接若しくは連結基を介して主鎖と結合したものである。該連結基としては、特に限定されず、任意の基、原子、又はそれらの複合した基が挙げられる。また、前記フェニル基は、当該ビニル基の他に、置換可能な基若しくは原子で置換されていてもよく、かかる置換可能な基若しくは原子としては、具体的には、ハロゲン原子、カルボキシ基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、アミド基、アミノ基、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基などが挙げられる。更に、前記ビニル基は、ハロゲン原子、カルボキシ基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、アミド基、アミノ基、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基等で置換されていてもよい。
-Specific binder polymer (2)-
In addition, as the binder polymer in the present invention, a binder polymer having a phenyl group substituted with a vinyl group in the side chain (hereinafter, appropriately referred to as a specific binder polymer (2)) can also be suitably used.
The binder polymer having a phenyl group substituted with a vinyl group in the side chain is one in which a phenyl group substituted with a vinyl group is bonded to the main chain directly or via a linking group. The linking group is not particularly limited, and includes any group, atom, or a complex group thereof. In addition to the vinyl group, the phenyl group may be substituted with a substitutable group or atom. Specific examples of the substitutable group or atom include a halogen atom, a carboxy group, and a sulfo group. Group, nitro group, cyano group, amide group, amino group, alkyl group, aryl group, alkoxy group, aryloxy group and the like. Furthermore, the vinyl group may be substituted with a halogen atom, a carboxy group, a sulfo group, a nitro group, a cyano group, an amide group, an amino group, an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, or the like.

特定バインダーポリマー(2)としては、下記一般式(2)で表される基を側鎖に有するバインダーポリマーであることが好ましい。   The specific binder polymer (2) is preferably a binder polymer having a group represented by the following general formula (2) in the side chain.


一般式(2)中、Zは連結基を表し、R、R、及びRは、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシ基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、アミド基、アミノ基、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基等を表し、更にこれらの基は、アルキル基、アミノ基、アリール基、アルケニル基、カルボキシ基、スルホ基、ヒドロキシ基等で置換されていてもよい。Rは置換可能な基又は原子を表す。nは0又は1を表し、mは0〜4の整数を表し、kは1〜4の整数を表す。 In General Formula (2), Z 1 represents a linking group, and R 1 , R 2 , and R 3 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a carboxy group, a sulfo group, a nitro group, a cyano group, or an amide group. Represents an amino group, an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, and the like, and these groups are substituted with an alkyl group, an amino group, an aryl group, an alkenyl group, a carboxy group, a sulfo group, a hydroxy group, and the like. It may be. R 4 represents a substitutable group or atom. n represents 0 or 1, m 1 represents an integer of 0 to 4, and k 1 represents an integer of 1 to 4.

上記一般式(2)について更に詳細に説明する。
としては水素原子が好ましい。
また、Zで表される連結基としては、酸素原子、硫黄原子、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、−N(R)−、−C(O)−O−、−C(R)=N−、−C(O)−、スルホニル基、複素環基、及び下記構造式で表される基等の単独若しくは2以上が複合した基が挙げられる。ここで、R及びRは、それぞれ、水素原子、アルキル基、アリール基等を表す。更に、上記した連結基には、アルキル基、アリール基、ハロゲン原子等の置換基を有していてもよい。
The general formula (2) will be described in more detail.
R 4 is preferably a hydrogen atom.
Examples of the linking group represented by Z 1 include an oxygen atom, a sulfur atom, an alkylene group, an alkenylene group, an arylene group, —N (R a ) —, —C (O) —O—, —C (R b ) = N—, —C (O) —, a sulfonyl group, a heterocyclic group, and a group represented by the following structural formula, or a group in which two or more are combined. Here, R a and R b each represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or the like. Furthermore, the above-described linking group may have a substituent such as an alkyl group, an aryl group, or a halogen atom.

上記複素環基としては、ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、テトラゾール環、イソオキサゾール環、オキサゾール環、オキサジアゾール環、イソチアゾール環、チアゾール環、チアジアゾール環、チアトリアゾール環、インドール環、インダゾール環、ベンズイミダゾール環、ベンゾトリアゾール環、ベンズオキサゾール環、ベンズチアゾール環、ベンズセレナゾール環、ベンゾチアジアゾール環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、トリアジン環、キノリン環、キノキサリン環等の含窒素複素環、フラン環、チオフェン環等が挙げられ、更にこれらの複素環には置換基が結合していてもよい。   Examples of the heterocyclic group include pyrrole ring, pyrazole ring, imidazole ring, triazole ring, tetrazole ring, isoxazole ring, oxazole ring, oxadiazole ring, isothiazole ring, thiazole ring, thiadiazole ring, thiatriazole ring, indole ring. , Indazole ring, benzimidazole ring, benzotriazole ring, benzoxazole ring, benzthiazole ring, benzselenazole ring, benzothiadiazole ring, pyridine ring, pyridazine ring, pyrimidine ring, pyrazine ring, triazine ring, quinoline ring, quinoxaline ring, etc. A nitrogen-containing heterocyclic ring, a furan ring, a thiophene ring and the like, and a substituent may be bonded to these heterocyclic rings.

前記一般式(2)で表される基を側鎖に有するバインダーポリマーの具体例としては、下記に示すものが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
なお、構造式中、数字は、共重合体の全組成100質量%中における各繰り返し単位の質量%を表す。
Specific examples of the binder polymer having the group represented by the general formula (2) in the side chain include those shown below, but are not limited thereto.
In addition, in a structural formula, a number represents the mass% of each repeating unit in 100 mass% of all compositions of a copolymer.


特定バインダーポリマー(2)の重量平均分子量としては、5000〜1,000,000であることが好ましく、10,000〜500,000であることがより好ましく、20,000〜300,000であることが更に好ましい。   The weight average molecular weight of the specific binder polymer (2) is preferably 5000 to 1,000,000, more preferably 10,000 to 500,000, and 20,000 to 300,000. Is more preferable.

−特定バインダーポリマー(3)−
また、アリル基を有する有機ポリマーも、本発明におけるバインダーポリマーとして好適に用いることができる。
特に、0.7meq/g〜8.0meq/gのアリル基(即ち、1グラム当たり7×10−4モル〜8.0×10−3モルのアリル基)を含有するバインダーポリマーが好ましい。以下、このバインダーポリマーを特定バインダーポリマー(3)と称して説明する。
-Specific binder polymer (3)-
Moreover, the organic polymer which has an allyl group can also be used suitably as a binder polymer in this invention.
In particular, a binder polymer containing 0.7 meq / g to 8.0 meq / g of allyl group (that is, 7 × 10 −4 mol to 8.0 × 10 −3 mol of allyl group per gram) is preferable. Hereinafter, this binder polymer will be referred to as a specific binder polymer (3).

特定バインダーポリマー(3)は、アクリル酸アリル、及び/又は、メタクリル酸アリルのポリマー又はコポリマーであることが好ましい。
より具体的には、ポリメタクリル酸アリル等のホモポリマー、上記アクリル酸アリル、及び/又は、メタクリル酸アリルと、アクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸メチル、メタクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、メタクリル酸ブチル、これらのアルキルエステル、酢酸ビニル、スチレン、無水マレイン酸、アクリロニトリル等の他のモノマーと、のコポリマーが含まれる。
The specific binder polymer (3) is preferably a polymer or copolymer of allyl acrylate and / or allyl methacrylate.
More specifically, homopolymers such as polyallyl methacrylate, the above allyl acrylate and / or allyl methacrylate, acrylic acid, methacrylic acid, methyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl acrylate, ethyl methacrylate , Butyl acrylate, butyl methacrylate, their alkyl esters, vinyl acetate, styrene, maleic anhydride, copolymers with other monomers such as acrylonitrile.

特定バインダーポリマー(3)の別の好ましい例としては、ペンダントアリル基、又は末端アリル基のいずれでもよいアリル基を有するポリウレタン(以下、アリル基含有ポリウレタンと称する。)が挙げられる。
アリル基を有するポリウレタンは、ジイソシアナートを過剰のアリル基を有するジオールと反応させてポリウレタンを生成させることにより調製することができる。
また、ジイソシアナートをジメチロールプロピオン酸等のカルボキシル基を有するジオールと反応させることにより、カルボキシル基を有するポリウレタンを調製し、このカルボキシル基を、例えば、アリルアルコールとエステル化することによりアリルエステル基に転化することで、アリル基を有するポリウレタンを得ることができる。
Another preferred example of the specific binder polymer (3) includes a polyurethane having an allyl group which may be either a pendant allyl group or a terminal allyl group (hereinafter referred to as an allyl group-containing polyurethane).
Polyurethanes having allyl groups can be prepared by reacting diisocyanates with diols having excess allyl groups to form polyurethanes.
Also, by reacting diisocyanate with a diol having a carboxyl group such as dimethylolpropionic acid, a polyurethane having a carboxyl group is prepared, and this carboxyl group is esterified with, for example, allyl alcohol to form an allyl ester group. A polyurethane having an allyl group can be obtained by converting to.

アリル基を有するジオールとしては、3−アリルオキシ−1,2−プロパンジオール、及びトリメチロールプロパンアリルエーテルが挙げられる。また、アリルエステル基を有するジオールとしては、アリル4,4−ビス(ヒドロキシエチルオキシフェニル)−ペンタノアート、及び2,2−ビス(ヒドロキシメチル)プロパノアートが挙げられる。好ましいジオールは、3−アリルオキシ−1,2−プロパンジオール:(HO)CH−CH(OH)−CH−O−CH−CH=CHである。 Examples of the diol having an allyl group include 3-allyloxy-1,2-propanediol and trimethylolpropane allyl ether. Examples of the diol having an allyl ester group include allyl 4,4-bis (hydroxyethyloxyphenyl) -pentanoate and 2,2-bis (hydroxymethyl) propanoate. Preferred diols are 3-allyloxy-1,2-propanediol: a (HO) CH 2 -CH (OH ) -CH 2 -O-CH 2 -CH = CH 2.

これらのアリル基を有するジオールは、単独又は組み合わせで、或いは、更にアリル基を含まないジオールとの組み合わせで用いることができる。但し、これらのジオールは、得られるポリマー中に0.7meq/g〜8.0meq/gの範囲でアリル基が存在するような条件のもとで、使用される。
なお、本発明において用いられる、アリル基を含まないジオールの例としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、1,4−ブタンジオール、及び1,6−ヘキサンジオールが挙げられる。
These diols having an allyl group can be used alone or in combination, or further in combination with a diol containing no allyl group. However, these diols are used under conditions such that allyl groups are present in the range of 0.7 meq / g to 8.0 meq / g in the obtained polymer.
Examples of diols containing no allyl group used in the present invention include ethylene glycol, diethylene glycol, polyethylene glycol, propylene glycol, polypropylene glycol, neopentyl glycol, 1,4-butanediol, and 1,6-hexane. Diols are mentioned.

アリル基を有するポリウレタンは、酸基、すなわちpKが7以下の基(例えば、スルホン酸基、リン酸基、ホスホン酸基、カルボン酸基)を含んでいてもよい。このようなポリウレタンは、アリル基を有するジオールと1つ又は複数の酸基を含むジオールとの混合物の過剰量を、上記のようにジイソシアナートと反応させることによって得られる。1つ又は複数の酸基を含む有用なジオールとしては、例えば、ジアルカノールアルキルスルホン酸、ジアルカノールアルキルリン酸、及びジアルカノールアルキルホスホン酸が挙げられる。 The polyurethane having an allyl group may contain an acid group, that is, a group having a pKa of 7 or less (for example, a sulfonic acid group, a phosphoric acid group, a phosphonic acid group, or a carboxylic acid group). Such polyurethanes are obtained by reacting an excess of a mixture of a diol having an allyl group and a diol containing one or more acid groups with a diisocyanate as described above. Useful diols containing one or more acid groups include, for example, dialkanol alkyl sulfonic acids, dialkanol alkyl phosphoric acids, and dialkanol alkyl phosphonic acids.

アリル基及び酸基を有するポリウレタンは、カルボキシル基及びアリル基を有するポリウレタンであることが好ましい。カルボキシル基及びアリル基を有するポリウレタンは、ジイソシアナートを、過剰の、アリル基を有するジオール及びカルボキシル基を有するジオールの混合物と反応させて、ポリウレタンを生成させることによって得られる。
このジオールの混合物における混合比は、得られるポリマー中に0.7meq/g〜8.0meq/gの範囲でアリル基が存在するような条件のもとで、決定される。
The polyurethane having an allyl group and an acid group is preferably a polyurethane having a carboxyl group and an allyl group. A polyurethane having a carboxyl group and an allyl group is obtained by reacting a diisocyanate with an excess of a mixture of an allyl group-containing diol and a carboxyl group-containing diol to form a polyurethane.
The mixing ratio in the mixture of diols is determined under conditions such that allyl groups are present in the range of 0.7 meq / g to 8.0 meq / g in the resulting polymer.

カルボキシル基を有するジオールとして有用なものは、例えば、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)プロピオン酸、(2,2−ジメチロールプロパン酸)、2,2−ビス(2−ヒドロキシエチル)プロパン酸、2,2−ビス(3−ヒドロキシプロピル)プロパン酸、ビス(ヒドロキシメチル)酢酸、ビス(4−ヒドロキシフェニル)酢酸、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)酪酸、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)ペンタン酸、及び酒石酸等のジアルカノールアルカン酸、3,5−ジヒドロキシ安息香酸等のジヒドロキシ安息香酸、ピロメリット酸二無水物、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ジフェニルテトラカルボン酸二無水物、又は2,3,6,7−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物等の酸二無水物と、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、1,2−又は1,3−プロパンジオール、ポリプロピレングリコール、1,2−又は1,4−ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、1,6−ヘキサンジオール等のジオールと、の反応生成物のような酸二無水物に、ジオールを反応させることにより得られるジヒドロキシジカルボン酸が挙げられる。   Examples of useful diols having a carboxyl group include 2,2-bis (hydroxymethyl) propionic acid, (2,2-dimethylolpropanoic acid), 2,2-bis (2-hydroxyethyl) propanoic acid, 2,2-bis (3-hydroxypropyl) propanoic acid, bis (hydroxymethyl) acetic acid, bis (4-hydroxyphenyl) acetic acid, 2,2-bis (hydroxymethyl) butyric acid, 2,2-bis (hydroxymethyl) Dialkanol alkanoic acid such as pentanoic acid and tartaric acid, dihydroxybenzoic acid such as 3,5-dihydroxybenzoic acid, pyromellitic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-benzophenone tetracarboxylic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-diphenyltetracarboxylic dianhydride or 2,3,6,7-naphthalenetetracarboxylic acid Acid dianhydrides such as anhydrides, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, polyethylene glycol, 1,2- or 1,3-propanediol, polypropylene glycol, 1,2- or 1,4-butanediol, neo Examples thereof include dihydroxydicarboxylic acid obtained by reacting a diol with an acid dianhydride such as a reaction product of a diol such as pentyl glycol and 1,6-hexanediol.

また、ポリウレタンを合成する際に用いられるイソシアナートとしては、芳香族及び/又は脂肪族ジイソシアナートを使用することができる。
芳香族ジイソシアナートとしては、例えば、2,4−トルエンジイソシアナート、2,6−トルエンジイソシアナート、p−キシレンジイソシアナート、m−キシレンジイソシアナート、テトラメチルキシレンジイソシアナート、4,4−ジフェニルメタンジイソシアナート、1,5−ナフタレンジイソシアナート、及び3,3’−ジメチルビフェニル−4,4’−ジイソシアナートが挙げられる。
脂肪族ジイソシアナートとしては、例えば、ヘキサメチレンジイソシアナート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアナート、イソホロンジイソシアナート、4,4−メチレン−ビス(シクロヘキシルイソシアナート)、メチルシクロヘキサン−2,4−及び2,6−ジイソシアナート、及び1,4−ビス(イソシアナートメチル)シクロヘキサンが挙げられる。
なお、本発明においては、芳香族ジイソシアナートの方が好ましく用いられる。
In addition, aromatic and / or aliphatic diisocyanates can be used as the isocyanate used when synthesizing the polyurethane.
Examples of the aromatic diisocyanate include 2,4-toluene diisocyanate, 2,6-toluene diisocyanate, p-xylene diisocyanate, m-xylene diisocyanate, tetramethylxylene diisocyanate, 4 , 4-diphenylmethane diisocyanate, 1,5-naphthalene diisocyanate, and 3,3′-dimethylbiphenyl-4,4′-diisocyanate.
Examples of the aliphatic diisocyanate include hexamethylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, 4,4-methylene-bis (cyclohexyl isocyanate), methylcyclohexane-2,4- and 2 , 6-diisocyanate, and 1,4-bis (isocyanatomethyl) cyclohexane.
In the present invention, aromatic diisocyanate is preferably used.

以上のような特定バインダーポリマー(3)は、ゲルパーミエーショオンクロマトグラフィーにより測定して、5,000〜1,000,000、好ましくは100,000以下、より好ましくは75,000以下、更により好ましくは50,000以下の重量平均分子量を有する。   The specific binder polymer (3) as described above is 5,000 to 1,000,000, preferably 100,000 or less, more preferably 75,000 or less, as measured by gel permeation chromatography. More preferably, it has a weight average molecular weight of 50,000 or less.

特定バインダーポリマー(3)分子は、線状分子又は枝分かれ分子であってよく、好ましくは、1から5の多分散性を有するものである。
また、特定バインダーポリマー(3)は、0〜70mgKOH/gの酸価を有することが好ましく、0〜50mgKOH/gの酸価を有することがより好ましく、0〜30mgKOH/gの酸価を有することが更に好ましい。
The specific binder polymer (3) molecule may be a linear molecule or a branched molecule, and preferably has a polydispersity of 1 to 5.
The specific binder polymer (3) preferably has an acid value of 0 to 70 mgKOH / g, more preferably has an acid value of 0 to 50 mgKOH / g, and has an acid value of 0 to 30 mgKOH / g. Is more preferable.

本発明において、感光層中のバインダーポリマーの総量は、適宜決めることができるが、感光層中の不揮発性成分の総質量に対し、通常、10〜90質量%であり、好ましくは20〜80質量%、更に好ましくは30〜70質量%の範囲である。
また、後述する重合性化合物とバインダーポリマーは、質量比で1/9〜7/3の範囲とするのが好ましい。
In the present invention, the total amount of the binder polymer in the photosensitive layer can be appropriately determined, but is usually 10 to 90% by mass, preferably 20 to 80% by mass, based on the total mass of nonvolatile components in the photosensitive layer. %, More preferably in the range of 30 to 70% by mass.
Moreover, it is preferable to make the polymeric compound and binder polymer mentioned later into the range of 1 / 9-7 / 3 by mass ratio.

(その他の成分)
本発明に係る感光層には、以上の基本成分の他に、更にその用途、製造方法等に適したその他の成分を適宜添加することができる。以下、好ましい添加剤に関し例示する。
(Other ingredients)
In addition to the above basic components, the photosensitive layer according to the present invention may further contain other components suitable for its use and production method. Hereinafter, preferred additives will be exemplified.

−着色剤−
本発明に係る感光層には、その着色を目的として、染料若しくは顔料を添加してもよい。これにより、印刷版としての製版後の画像の視認性や、画像濃度測定機適性といったいわゆる検版性を向上させることができる。着色剤としては、具体例としては、例えば、フタロシアニン系顔料、アゾ系顔料、カーボンブラック、酸化チタンなどの顔料、エチルバイオレット、クリスタルバイオレット、アゾ系染料、アントラキノン系染料、シアニン系染料などの染料があり、中でも、カチオン性染料が好ましい。
また、着色剤としては、上記のような検版性に加え、重合禁止効果を有する吸収極大を500nm〜700nmの範囲に有する染料を用いてもよい。この染料としては、特開2005−107389号公報の段落番号〔0013〕〜〔0017〕に記載のものが用いられる。
着色剤としての染料及び顔料の添加量は、感光層中の不揮発性成分に対して約0.5質量%〜約5質量%が好ましい。
-Colorant-
A dye or a pigment may be added to the photosensitive layer according to the present invention for the purpose of coloring. As a result, it is possible to improve the so-called plate inspection properties such as the visibility of the image after plate making as a printing plate and the suitability of an image density measuring machine. Specific examples of the colorant include pigments such as phthalocyanine pigments, azo pigments, carbon black, and titanium oxide, and dyes such as ethyl violet, crystal violet, azo dyes, anthraquinone dyes, and cyanine dyes. Among them, a cationic dye is preferable.
Further, as the colorant, a dye having an absorption maximum having a polymerization inhibiting effect in the range of 500 nm to 700 nm may be used in addition to the plate inspection properties as described above. As this dye, those described in paragraph numbers [0013] to [0017] of JP-A-2005-107389 are used.
The addition amount of the dye and the pigment as the colorant is preferably about 0.5% by mass to about 5% by mass with respect to the nonvolatile component in the photosensitive layer.

−重合禁止剤−
本発明に係る感光層や、感光層を形成する際に用いられる感光層形成用塗布液においては、重合性化合物の不要な熱重合を阻止するために少量の熱重合禁止剤を添加することが望ましい。適当な熱重合禁止剤としては、ハイドロキノン、p−メトキシフェノール、ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ピロガロール、t−ブチルカテコール、ベンゾキノン、4,4’−チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、N−ニトロソフェニルヒドロキシアミン第一セリウム塩等が挙げられる。
熱重合禁止剤の添加量は、感光層(又は感光層形成用塗布液)中の不揮発性成分の質量に対して約0.01質量%〜約5質量%が好ましい。
また必要に応じて、酸素による重合阻害を防止するためにベヘン酸やベヘン酸アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加して、塗布後の乾燥の過程で層の表面に偏在させてもよい。高級脂肪酸誘導体の添加量は、感光層(又は感光層形成用塗布液)中の不揮発性成分に対して約0.5質量%〜約10質量%が好ましい。
-Polymerization inhibitor-
In the photosensitive layer according to the present invention and the coating solution for forming a photosensitive layer used for forming the photosensitive layer, a small amount of a thermal polymerization inhibitor may be added to prevent unnecessary thermal polymerization of the polymerizable compound. desirable. Suitable thermal polymerization inhibitors include hydroquinone, p-methoxyphenol, di-t-butyl-p-cresol, pyrogallol, t-butylcatechol, benzoquinone, 4,4′-thiobis (3-methyl-6-t- Butylphenol), 2,2′-methylenebis (4-methyl-6-tert-butylphenol), N-nitrosophenylhydroxyamine primary cerium salt and the like.
The addition amount of the thermal polymerization inhibitor is preferably about 0.01% by mass to about 5% by mass with respect to the mass of the nonvolatile component in the photosensitive layer (or photosensitive layer forming coating solution).
If necessary, a higher fatty acid derivative such as behenic acid or behenic acid amide or the like may be added to prevent polymerization inhibition by oxygen and may be unevenly distributed on the surface of the layer in the course of drying after coating. The addition amount of the higher fatty acid derivative is preferably about 0.5% by mass to about 10% by mass with respect to the nonvolatile component in the photosensitive layer (or the photosensitive layer forming coating solution).

−重量平均分子量が3,000以下であり、かつ、カルボン酸基少なくとも1つ有する化合物−
本発明に係る感光層には、重量平均分子量が3,000以下であり、かつ、カルボン酸基少なくとも1つ有する化合物(以下、適宜、特定カルボン酸化合物と称する。)を含有させてもよい。この特定カルボン酸化合物は、例えば、置換基を有していてもよい脂肪族カルボン酸、置換基を有してもよい芳香族カルボン酸、及び、置換基を有していてもよい複素環に直接連結したカルボン酸等の化合物から選択することができる。これらの中でも、フタル酸誘導体、トリメリット酸誘導体、ピロメリト酸誘導体、コハク酸誘導体、安息香酸誘導体、及びグリシン誘導体等が好適に挙げられる。
-A compound having a weight average molecular weight of 3,000 or less and having at least one carboxylic acid group-
The photosensitive layer according to the present invention may contain a compound having a weight average molecular weight of 3,000 or less and having at least one carboxylic acid group (hereinafter, appropriately referred to as a specific carboxylic acid compound). This specific carboxylic acid compound is, for example, an aliphatic carboxylic acid that may have a substituent, an aromatic carboxylic acid that may have a substituent, and a heterocyclic ring that may have a substituent. It can be selected from compounds such as directly linked carboxylic acids. Among these, phthalic acid derivatives, trimellitic acid derivatives, pyromellitic acid derivatives, succinic acid derivatives, benzoic acid derivatives, glycine derivatives, and the like are preferable.

本発明において、特定カルボン酸化合物の重量平均分子量は3000以下であり、60〜2000の範囲であることがより好ましく、100〜1500の範囲であることが更に好ましい。重量平均分子量が3000を越えると、特定カルボン酸化合物が支持体に吸着する場合があり好ましくない。   In the present invention, the specific carboxylic acid compound has a weight average molecular weight of 3000 or less, more preferably in the range of 60 to 2000, and still more preferably in the range of 100 to 1500. When the weight average molecular weight exceeds 3000, the specific carboxylic acid compound may be adsorbed on the support, which is not preferable.

以下に、本発明に好適に用いられる特定カルボン酸化合物の具体例(化合物No.1〜No.20)を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Specific examples (compounds No. 1 to No. 20) of the specific carboxylic acid compound suitably used in the present invention are listed below, but the present invention is not limited to these.


特定カルボン酸化合物の含有量は、感光層を構成する全固形分に対して、0.5質量%〜30質量%が好ましく、2質量%〜20質量%がより好ましい。
なお、特定カルボン酸化合物は、1種単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
0.5 mass%-30 mass% are preferable with respect to the total solid which comprises a photosensitive layer, and, as for content of a specific carboxylic acid compound, 2 mass%-20 mass% are more preferable.
In addition, a specific carboxylic acid compound may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

−その他の添加剤−
更に、本発明に係る感光層には、硬化皮膜の物性を改良するための無機充填剤や、その他可塑剤、感光層表面のインク着肉性を向上させ得る感脂化剤等の公知の添加剤を加えてもよい。
可塑剤としては、例えば、ジオクチルフタレート、ジドデシルフタレート、トリエチレングリコールジカプリレート、ジメチルグリコールフタレート、トリクレジルホスフェート、ジオクチルアジペート、ジブチルセバケート、トリアセチルグリセリン等が挙げられる。
これらの可塑剤、バインダーポリマーと重合性化合物との合計質量に対し一般的に10質量%以下の範囲で添加することができる。
-Other additives-
Furthermore, the photosensitive layer according to the present invention may be added with known additions such as inorganic fillers for improving the physical properties of the cured film, other plasticizers, and oil-sensitizing agents that can improve the ink deposition on the surface of the photosensitive layer. An agent may be added.
Examples of the plasticizer include dioctyl phthalate, didodecyl phthalate, triethylene glycol dicaprylate, dimethyl glycol phthalate, tricresyl phosphate, dioctyl adipate, dibutyl sebacate, triacetyl glycerin and the like.
Generally, it can be added in a range of 10% by mass or less with respect to the total mass of these plasticizer, binder polymer and polymerizable compound.

また、本発明に係る感光層において、後述する膜強度(耐刷性)向上を目的とした、現像後の加熱・露光の効果を強化するために、UV開始剤や、熱架橋剤等の添加も行うことができる。   In addition, in the photosensitive layer according to the present invention, in order to enhance the effect of heating / exposure after development for the purpose of improving the film strength (printing durability) described later, a UV initiator, a thermal crosslinking agent, etc. are added. Can also be done.

本発明における重合性ネガ型感光層は、支持体上に、上述の各種成分を適当な溶媒に溶解した塗布液(感光層形成用塗布液)を調製し、これを支持体又は後述する下塗り層上に塗布することにより形成される。
ここで使用する溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサン、酢酸エチル、エチレンジクロライド、テトラヒドロフラン、トルエン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、アセチルアセトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、3−メトキシプロパノール、メトキシメトキシエタノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、3−メトキシプロピルアセテート、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ−ブチロラクトン、乳酸メチル、乳酸エチルなどがある。
これらの溶媒は、単独或いは混合して使用することができる。そして、感光層形成用塗布液中の固形分の濃度は、2〜50質量%が適当である。
The polymerizable negative photosensitive layer in the present invention is prepared by preparing a coating solution (coating solution for forming a photosensitive layer) obtained by dissolving the above-mentioned various components in a suitable solvent on a support, and using this as a support or an undercoat layer described later. It is formed by applying on top.
Solvents used here include acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexane, ethyl acetate, ethylene dichloride, tetrahydrofuran, toluene, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, Acetylacetone, cyclohexanone, diacetone alcohol, ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol ethyl ether acetate, ethylene glycol monoisopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether acetate, 3-methoxypropanol, methoxymethoxyethanol, diethylene glycol monomethyl ether, Ethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, 3-methoxypropyl acetate, N, N-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, γ-butyrolactone, methyl lactate, lactic acid There are ethyl and the like.
These solvents can be used alone or in combination. The concentration of the solid content in the photosensitive layer forming coating solution is suitably 2 to 50% by mass.

本発明において、感光層の被覆量は、主に、感光層の感度、現像性、露光膜の強度・耐刷性に影響し得るもので、用途に応じ適宜選択することが望ましい。被覆量が少なすぎる場合には、耐刷性が十分でなくなる。一方多すぎる場合には、感度が下がり、露光に時間がかかる上、現像処理にもより長い時間を要するため好ましくない。
走査露光に対応しうる平版印刷版原版としては、その被覆量は、乾燥後の質量で約0.1g/m〜約10g/mの範囲が適当である。より好ましくは0.5〜5g/mである。
In the present invention, the coating amount of the photosensitive layer mainly affects the sensitivity of the photosensitive layer, the developability, the strength and the printing durability of the exposed film, and is preferably selected appropriately according to the application. When the coating amount is too small, the printing durability is not sufficient. On the other hand, if the amount is too large, the sensitivity is lowered, it takes time for exposure, and a longer time is required for development processing, which is not preferable.
As a lithographic printing plate precursor that can cope with scanning exposure, the coating amount is suitably in the range of about 0.1 g / m 2 to about 10 g / m 2 in terms of the mass after drying. More preferably from 0.5 to 5 g / m 2.

〔保護層〕
本発明の平版印刷版原版は、感光性記録層上に保護層を有していてもよい。以下、保護層について詳述する。
この保護層は、露光に用いる光の透過は実質阻害せず、感光性記録層との密着性に優れ、かつ、露光後の現像工程で容易に除去できるものであることが望ましい。このような保護層に関する工夫は、従来より種々なされており、例えば、米国特許第3,458,311号明細書及び特開昭55−49729号公報に詳しく記載されている。このような保護層を本発明の平版印刷版原版にも適用することができる。
[Protective layer]
The lithographic printing plate precursor according to the invention may have a protective layer on the photosensitive recording layer. Hereinafter, the protective layer will be described in detail.
It is desirable that the protective layer does not substantially inhibit the transmission of light used for exposure, has excellent adhesion to the photosensitive recording layer, and can be easily removed in a development process after exposure. Various devices relating to such a protective layer have been conventionally used, and are described in detail, for example, in US Pat. No. 3,458,311 and JP-A-55-49729. Such a protective layer can also be applied to the lithographic printing plate precursor according to the invention.

また、本発明の平版印刷版原版における感光性記録層は、前述のように、増感色素、重合開始剤、重合性化合物、及びバインダーポリマーを含有する重合性ネガ型感光層であることが好ましい態様である。この重合性ネガ型感光層上には、露光時において大気中の酸素を遮断して重合阻害作用を呈する酸素遮断能を有する保護層を有することが好ましい。一方で、保存時の安定性或いはセーフライト適性の観点からは、暗重合防止作用を呈する程度の酸素透過能を有することも望ましく、両機能を有する程度の酸素遮断性を有する保護層とすることが望ましい。   Further, as described above, the photosensitive recording layer in the lithographic printing plate precursor according to the invention is preferably a polymerizable negative photosensitive layer containing a sensitizing dye, a polymerization initiator, a polymerizable compound, and a binder polymer. It is an aspect. On the polymerizable negative photosensitive layer, it is preferable to have a protective layer having an oxygen blocking ability that blocks oxygen in the atmosphere during exposure and exhibits a polymerization inhibiting action. On the other hand, from the viewpoint of stability during storage or suitability for safelight, it is also desirable to have an oxygen permeability that exhibits an effect of preventing dark polymerization, and a protective layer having an oxygen barrier property that has both functions. Is desirable.

(水溶性高分子化合物)
保護層に主成分として用いられる材料としては、比較的、結晶性に優れた水溶性高分子化合物を用いることが好ましく、具体的には、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、酸性セルロース類、ゼラチン、アラビアゴム、ポリアクリル酸などのような水溶性ポリマーが挙げられる。その他の有用な水溶性高分子化合物としては、ポリビニルピロリドン、ゼラチン及びアラビアゴム等が挙げられる。
これらは単独又は併用して用いてもよい。
(Water-soluble polymer compound)
As a material used as a main component for the protective layer, it is preferable to use a water-soluble polymer compound having relatively excellent crystallinity. Specifically, polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, acidic celluloses, gelatin, gum arabic And water-soluble polymers such as polyacrylic acid. Other useful water-soluble polymer compounds include polyvinyl pyrrolidone, gelatin and gum arabic.
These may be used alone or in combination.

これらの中で、ポリビニルアルコールを主成分として用いることが、酸素遮断性、現像除去性といった基本特性に最も良好な結果を与える。
保護層に使用しうるポリビニルアルコールは、必要とされる酸素遮断性と水溶性を有するための、未置換ビニルアルコール単位を含有する限り、一部がエステル、エーテル、及びアセタールで置換されていてもよい。また、同様に一部が他の繰り返し単位を有する共重合体であってもよい。
Of these, the use of polyvinyl alcohol as the main component gives the best results for basic properties such as oxygen barrier properties and development removability.
Polyvinyl alcohol that can be used for the protective layer has the necessary oxygen barrier properties and water solubility, so long as it contains an unsubstituted vinyl alcohol unit, it may be partially substituted with ester, ether, and acetal. Good. Similarly, it may be a copolymer partially having other repeating units.

上記の共重合体としては、88〜100%加水分解されたポリビニルアセテートクロロアセテート又はプロピオネート、ポリビニルホルマール、ポリビニルアセタール及びそれらの共重合体が挙げられる。   Examples of the copolymer include 88-100% hydrolyzed polyvinyl acetate chloroacetate or propionate, polyvinyl formal, polyvinyl acetal, and copolymers thereof.

好適に用いられるポリビニルアルコールとしては、ケン化度が71〜100%、分子量が200〜2400の範囲のものを挙げることができる。良好な酸素遮断性、優れた被膜形成性と低接着性表面を有するという観点で、ケン化度が91モル%以上のポリビニルアルコールを用いることがより好ましい。   Examples of the polyvinyl alcohol suitably used include those having a saponification degree of 71 to 100% and a molecular weight of 200 to 2400. From the viewpoint of good oxygen barrier properties, excellent film forming properties, and a low adhesion surface, it is more preferable to use polyvinyl alcohol having a saponification degree of 91 mol% or more.

ポリビニルアルコールとしては市販品を用いることもできる。市販のポリビニルアルコールとしては、具体的には、(株)クラレ製の、PVA−102、PVA−103、PVA−104、PVA−105、PVA−110、PVA−117、PVA−117H、PVA−120、PVA−124、PVA−124H、PVA−135H、PVA−HC、PVA−617、PVA−624、PVA−706、PVA−613、PVA−CS、PVA−CST、PVA−203、PVA−204、PVA−205、PVA−210、PVA−217、PVA−220、PVA−224、PVA−217EE、PVA−217E、PVA−220E、PVA−224E、PVA−405、PVA−420、L−8、日本合成化学工業(株)製の、ゴーセノールNL−05、NM−11、NM−14、AL−06、P−610、C−500、A−300、AH−17、日本酢ビ・ポバール(株)製の、JF−04、JF−05、JF−10、JF−17、JF−17L、JM−05、JM−10、JM−17、JM−17L、JT−05、JT−13、JT−15等が挙げられる。   A commercial item can also be used as polyvinyl alcohol. Specific examples of commercially available polyvinyl alcohol include PVA-102, PVA-103, PVA-104, PVA-105, PVA-110, PVA-117, PVA-117H, and PVA-120 manufactured by Kuraray Co., Ltd. , PVA-124, PVA-124H, PVA-135H, PVA-HC, PVA-617, PVA-624, PVA-706, PVA-613, PVA-CS, PVA-CST, PVA-203, PVA-204, PVA -205, PVA-210, PVA-217, PVA-220, PVA-224, PVA-217EE, PVA-217E, PVA-220E, PVA-224E, PVA-405, PVA-420, L-8, Nippon Synthetic Chemical Gohsenol NL-05, NM-11, NM-14, AL-0 manufactured by Kogyo Co., Ltd. , P-610, C-500, A-300, AH-17, JF-04, JF-05, JF-10, JF-17, JF-17L, JM- 05, JM-10, JM-17, JM-17L, JT-05, JT-13, JT-15 and the like.

更に、ポリビニルアルコールを酸変性したものも好適に用いられる。具体的には、イタコン酸やマレイン酸変性のカルボキシ変性ポリビニルアルコールやスルホン酸変性ポリビニルアルコールが好適なものとして挙げられる。これら酸変性ポリビニルアルコールもケン化度が91モル%以上のものが、より好ましく使用できる。
具体的な酸変性ポリビニルアルコールとしては、例えば、(株)クラレ製の、KL−118、KM−618、KM−118、SK−5102、MP−102、R−2105、日本合成化学工業(株)製の、ゴーセナールCKS−50、T−HS−1、T−215、T−350、T−330、T−330H、日本酢ビ・ポバール(株)製の、AF−17、AT−17等が挙げられる。
Furthermore, what acid-modified polyvinyl alcohol is also used suitably. Specifically, itaconic acid and maleic acid-modified carboxy-modified polyvinyl alcohol and sulfonic acid-modified polyvinyl alcohol are preferable. These acid-modified polyvinyl alcohols having a saponification degree of 91 mol% or more can be more preferably used.
Specific examples of the acid-modified polyvinyl alcohol include KL-118, KM-618, KM-118, SK-5102, MP-102, R-2105, manufactured by Kuraray Co., Ltd., and Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd. Made by Gohsenal CKS-50, T-HS-1, T-215, T-350, T-330, T-330H, AF-17, AT-17, etc. manufactured by Nihon Ventures-Poval Co., Ltd. Can be mentioned.

水溶性高分子化合物は、平版印刷原版の感度や、平版印刷版原版を積層した場合における平版印刷版原版同士の接着の抑制などを考慮すると、保護層中の全固形分量に対して、45〜95質量%の範囲で含有されることが好ましく、50〜90質量%の範囲で含有されることがより好ましい。   In consideration of the sensitivity of the lithographic printing plate precursor and the suppression of adhesion between the lithographic printing plate plates when the lithographic printing plate precursors are laminated, the water-soluble polymer compound is 45 to 45% of the total solid content in the protective layer. It is preferable to contain in the range of 95 mass%, and it is more preferable to contain in the range of 50-90 mass%.

また、水溶性高分子化合物は、保護層中に、少なくとも1種を用いればよく、複数種を併用してもよい。複数種の水溶性高分子化合物を併用した場合でも、その合計の量(質量%)が上記の範囲であることが好ましい。   Further, at least one water-soluble polymer compound may be used in the protective layer, and a plurality of water-soluble polymer compounds may be used in combination. Even when a plurality of water-soluble polymer compounds are used in combination, the total amount (% by mass) is preferably within the above range.

一方で、保護層においては、感光性記録層(重合性ネガ型感光層)の画像部との密着性や、皮膜の均一性も版の取り扱い上極めて重要である。即ち、水溶性高分子化合物からなる親水性の層を親油性の感光性記録層に積層すると、接着力不足による膜剥離が発生しやすく、剥離部分が酸素の重合阻害により膜硬化不良などの欠陥を引き起こす。これに対し、これら2層間の接着性を改善すべく種々の提案がなされている。例えば、米国特許出願番号第292,501号、米国特許出願番号第44,563号には、主にポリビニルアルコールからなる親水性ポリマー中に、アクリル系エマルジョン又は水不溶性ビニルピロリドン−ビニルアセテート共重合体などを20〜60質量%混合し、記録層の上に積層することにより、充分な接着性が得られることが記載されている。これらの公知の技術をいずれも適用することはもちろん可能である。   On the other hand, in the protective layer, the adhesion of the photosensitive recording layer (polymerizable negative photosensitive layer) to the image area and the uniformity of the film are also extremely important in handling the plate. In other words, when a hydrophilic layer made of a water-soluble polymer compound is laminated on a lipophilic photosensitive recording layer, film peeling due to insufficient adhesion tends to occur, and the peeled part is defective such as film hardening failure due to oxygen polymerization inhibition. cause. On the other hand, various proposals have been made to improve the adhesion between these two layers. For example, U.S. Patent Application No. 292,501 and U.S. Patent Application No. 44,563 disclose an acrylic emulsion or a water-insoluble vinylpyrrolidone-vinyl acetate copolymer in a hydrophilic polymer mainly composed of polyvinyl alcohol. It is described that sufficient adhesiveness can be obtained by mixing 20 to 60% by mass and the like and laminating on the recording layer. Of course, any of these known techniques can be applied.

本発明においては、感光性記録層(重合性ネガ型感光層)との接着力、感度、不要なカブリの発生性の観点から、保護層にポリビニルアルコールとポリビニルピロリドンとを併用してもよい。この場合の添加量比(質量比)は、ケン化度が91モル%以上のポリビニルアルコール/ポリビニルピロリドンが、3/1以下であることが好ましい。また、ポリビニルピロリドンの他にも、比較的結晶性に優れている、酸性セルロース類、ゼラチン、アラビアゴム、ポリアクリル酸、及びこれらの共重合体なども、ポリビニルアルコールと併用することができる。   In the present invention, polyvinyl alcohol and polyvinyl pyrrolidone may be used in combination in the protective layer from the viewpoints of adhesive strength with a photosensitive recording layer (polymerizable negative photosensitive layer), sensitivity, and generation of unnecessary fog. In this case, the addition ratio (mass ratio) of polyvinyl alcohol / polyvinylpyrrolidone having a saponification degree of 91 mol% or more is preferably 3/1 or less. In addition to polyvinyl pyrrolidone, acidic celluloses, gelatin, gum arabic, polyacrylic acid, and copolymers thereof having relatively excellent crystallinity can be used in combination with polyvinyl alcohol.

−フィラー−
本発明における保護層には、前記水溶性高分子化合物に加え、フィラーを含有することが好ましい。フィラーを含有することによって、感光性記録層(重合性ネガ型感光層)の表面の耐キズ性の向上が図れ、更には、平版印刷版原版を、合紙を介することなく積層した場合に生じる隣接する平版印刷版原版との接着が抑制され、平版印刷版原版同士の剥離性を優れたものとすることができる。これにより、ハンドリング性が向上するという利点をも有することになる。
かかるフィラーとしては、有機フィラー、無機フィラー、無機−有機複合フィラー等のいずれでもよく、またこれらのうち、2種以上を混合して用いてもよい。好ましくは無機フィラーと有機フィラーとの併用である。
-Filler-
In addition to the water-soluble polymer compound, the protective layer in the present invention preferably contains a filler. By containing a filler, it is possible to improve the scratch resistance of the surface of the photosensitive recording layer (polymerizable negative photosensitive layer), and further, it occurs when a lithographic printing plate precursor is laminated without interposing a slip sheet. Adhesion between adjacent lithographic printing plate precursors is suppressed, and the detachability between the lithographic printing plate precursors can be improved. This also has the advantage of improved handling.
As such a filler, any of an organic filler, an inorganic filler, an inorganic-organic composite filler, and the like may be used, and two or more of these may be mixed and used. Preferably, the inorganic filler and the organic filler are used in combination.

フィラーの形状は、目的に応じて適宜選択されるが、例えば、繊維状、針状、板状、球状、粒状(なお、ここで「粒状」とは「不定形状の粒子」を指し、以下、本明細書において同じ意味で用いる。)、テトラポット状及びバルーン状等が挙げられる。これらのうち、好ましいものは板状、球状、粒状である。   The shape of the filler is appropriately selected depending on the purpose, but for example, fibrous, needle-like, plate-like, spherical, granular (herein, “granular” refers to “indefinitely shaped particles”, hereinafter, In the present specification, they are used in the same meaning.), Tetrapot shape, balloon shape and the like. Of these, preferred are plate-like, spherical and granular.

有機フィラーとしては、例えば、合成樹脂粒子、天然高分子粒子等が挙げられる。有機フィラーとして好ましくは、アクリル樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド、ポリエチレンイミン、ポリスチレン、ポリウレタン、ポリウレア、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、カルボキシメチルセルロールス、ゼラチン、デンプン、キチン、キトサン等の樹脂粒子であり、より好ましくはアクリル樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等の樹脂粒子が挙げられる。   Examples of the organic filler include synthetic resin particles and natural polymer particles. The organic filler is preferably resin particles such as acrylic resin, polyethylene, polypropylene, polyethylene oxide, polypropylene oxide, polyethyleneimine, polystyrene, polyurethane, polyurea, polyester, polyamide, polyimide, carboxymethylcellulose, gelatin, starch, chitin, chitosan, etc. More preferably, resin particles such as acrylic resin, polyethylene, polypropylene, and polystyrene are used.

有機フィラーとしては市販品を用いることもできる。
保護層に添加する有機フィラーに好適な市販のフィラーとしては、具体的には、三井化学製の、ケミパールW100、W200、W300、W308、W310、W400、W401、W4005、W410、W500、WF640、W700、W800、W900、W950、WP100、綜研化学製の、MX−150、MX−180、MX−300、MX−500、MX−1000、MX−1500H、MX−2000、MR−2HG、MR−7HG、MR−10HG、MR−3GSN、MR−5GSN、MR−2G、MR−7G、MR−10G、MR−20G、MR−5C、MR−7GC、SX−130H、SX−350H、SX−500H、SGP−50C、SGP−70C、積水化成品工業製の、MBX−5、MBX−8、MBX−12、MBX−15、MBX−20、MB20X−5、MB30X−5、MB30X−8、MB30X−20、SBX−6、SBX−8、SBX−12、SBX−17等が挙げられる。
A commercial item can also be used as an organic filler.
Specific examples of commercially available fillers suitable for the organic filler added to the protective layer include Chemipearl W100, W200, W300, W308, W310, W400, W401, W4005, W410, W500, WF640, and W700 manufactured by Mitsui Chemicals. W800, W900, W950, WP100, manufactured by Soken Chemical Co., Ltd., MX-150, MX-180, MX-300, MX-500, MX-1000, MX-1500H, MX-2000, MR-2HG, MR-7HG, MR-10HG, MR-3GSN, MR-5GSN, MR-2G, MR-7G, MR-10G, MR-20G, MR-5C, MR-7GC, SX-130H, SX-350H, SX-500H, SGP- 50C, SGP-70C, MBX-5, MBX-8, MBX made by Sekisui Plastics 12, MBX-15, MBX-20, MB20X-5, MB30X-5, MB30X-8, MB30X-20, SBX-6, SBX-8, SBX-12, SBX-17, and the like.

フィラーの粒子サイズ分布は、単分散でも多分散でもよいが、単分散が好ましい。フィラーの大きさは、平均粒子径が1〜20μmであることが好ましく、より好ましくは、平均粒子径が2〜15μm、更に好ましくは、平均粒子径が3〜10μmである。これらの範囲内とすることにより、上記本発明の効果がより有効に発現される。   The particle size distribution of the filler may be monodispersed or polydispersed, but is preferably monodispersed. The filler preferably has an average particle size of 1 to 20 μm, more preferably an average particle size of 2 to 15 μm, and still more preferably an average particle size of 3 to 10 μm. By setting it within these ranges, the effect of the present invention is more effectively expressed.

有機フィラーの含有量は、保護層の全固形分量に対し、好ましくは0.1〜20質量%、より好ましくは1〜15質量%、更に好ましくは、2〜10質量%である。   The content of the organic filler is preferably 0.1 to 20% by mass, more preferably 1 to 15% by mass, and still more preferably 2 to 10% by mass with respect to the total solid content of the protective layer.

無機フィラーとしては、金属及び金属化合物(例えば、酸化物、複合酸化物、水酸化物、炭酸塩、硫酸塩、ケイ酸塩、リン酸塩、窒化物、炭化物、硫化物及びこれらの少なくとも2種以上の複合化物等)が挙げられ、具体的には、雲母、硝子、酸化亜鉛、アルミナ、酸化ジルコン、酸化錫、チタン酸カリウム、チタン酸ストロンチウム、硼酸アルミニウム、酸化マグネシウム、硼酸マグネシウム、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化チタン、塩基性硫酸マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、硫酸カルシウム、硫酸マグネシウム、ケイ酸カルシウム、ケイ酸マグネシウム、リン酸カルシウム、窒化珪素、窒化チタン、窒化アルミ、炭化珪素、炭化チタン、硫化亜鉛及びこれらの少なくとも2種以上の複合化物等が挙げられる。
無機フィラーとして好ましくは、雲母、硝子、アルミナ、チタン酸カリウム、チタン酸ストロンチウム、硼酸アルミニウム、酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、ケイ酸カルシウム、ケイ酸マグネシウム、リン酸カルシウム、硫酸カルシウム等が挙げられる。
Inorganic fillers include metals and metal compounds (eg, oxides, composite oxides, hydroxides, carbonates, sulfates, silicates, phosphates, nitrides, carbides, sulfides, and at least two of these) More specifically, mica, glass, zinc oxide, alumina, zircon oxide, tin oxide, potassium titanate, strontium titanate, aluminum borate, magnesium oxide, magnesium borate, aluminum hydroxide , Magnesium hydroxide, calcium hydroxide, titanium hydroxide, basic magnesium sulfate, calcium carbonate, magnesium carbonate, calcium sulfate, magnesium sulfate, calcium silicate, magnesium silicate, calcium phosphate, silicon nitride, titanium nitride, aluminum nitride, carbonized Silicon, titanium carbide, zinc sulfide and at least two of these Composite compound of the above and the like.
Preferred examples of the inorganic filler include mica, glass, alumina, potassium titanate, strontium titanate, aluminum borate, magnesium oxide, calcium carbonate, magnesium carbonate, calcium silicate, magnesium silicate, calcium phosphate, and calcium sulfate.

これらのうち、保護層に特に好適な無機フィラーとしては、雲母に代表される無機質の層状化合物が挙げられる。
保護層中に無機質の層状化合物を用いることにより、酸素遮断性は更に高まり、また、保護層の膜強度が一層向上して耐キズ性が向上する他、保護層にマット性を付与することができる。その結果、保護層は、酸素等の遮断性に加え、変形などによる劣化やキズの発生を抑制することが可能となる。更に、保護層にマット性を付与することによって、平版印刷版原版を積層した場合には、平版印刷版原版の保護層表面と隣接する平版印刷版原版の支持体裏面との接着を抑制することが可能となる。
Of these, inorganic fillers particularly suitable for the protective layer include inorganic layered compounds represented by mica.
By using an inorganic layered compound in the protective layer, the oxygen barrier property is further increased, and the film strength of the protective layer is further improved and scratch resistance is improved, and the matte property can be imparted to the protective layer. it can. As a result, the protective layer can suppress deterioration due to deformation or the like and generation of scratches in addition to the barrier property of oxygen or the like. Furthermore, when a lithographic printing plate precursor is laminated by imparting a matte property to the protective layer, the adhesion between the protective layer surface of the lithographic printing plate precursor and the back surface of the adjacent lithographic printing plate precursor is suppressed. Is possible.

無機質の層状化合物としては、例えば、一般式:A(B,C)−5D10(OH,F,O)〔ただし、Aは、K,Na,Caの何れか、B及びCは、Fe(II),Fe(III),Mn,Al,Mg,Vの何れかであり、Dは、Si又はAlである。〕で表される天然雲母、合成雲母等の雲母などが挙げられる。 Examples of the inorganic layered compound include, for example, a general formula: A (B, C) 2 -5D 4 O 10 (OH, F, O) 2 [where A is any of K, Na, Ca, B and C Is any one of Fe (II), Fe (III), Mn, Al, Mg, and V, and D is Si or Al. ] Mica such as natural mica and synthetic mica represented by

雲母として具体的には、天然雲母としては、白雲母、ソーダ雲母、金雲母、黒雲母、及び鱗雲母が挙げられる。また、合成雲母としては、フッ素金雲母KMg(AlSi10)F、カリ四ケイ素雲母KMg2.5(Si10)F等の非膨潤性雲母、及びNaテトラシリリックマイカNaMg2.5(Si10)F、Na又はLiテニオライト(Na,Li)MgLi(Si10)F、モンモリロナイト系のNa又はLiヘクトライト(Na,Li)1/8Mg2/5Li1/8(Si10)F等の膨潤性雲母等が挙げられる。更に、合成スメクタイトも有用である。 Specific examples of the mica include muscovite, soda mica, phlogopite, biotite, and sericite. In addition, examples of the synthetic mica include non-swelling mica such as fluorine phlogopite mica KMg 3 (AlSi 3 O 10 ) F 2 , potassium tetrasilicon mica KMg 2.5 (Si 4 O 10 ) F 2 , and Na tetrasilic mica. NaMg 2.5 (Si 4 O 10 ) F 2 , Na or Li Teniolite (Na, Li) Mg 2 Li (Si 4 O 10 ) F 2 , Montmorillonite Na or Li Hectorite (Na, Li) 1/8 Examples thereof include swellable mica such as Mg 2/5 Li 1/8 (Si 4 O 10 ) F 2 . In addition, synthetic smectites are also useful.

雲母の中でも、フッ素系の膨潤性雲母が特に有用である。即ち、この膨潤性合成雲母は、1〜1.5nm程度の厚さの単位結晶格子層からなる積層構造を有し、格子内金属原子置換が他の粘度鉱物より著しく大きい。その結果、格子層は正電荷不足を生じ、それを補償するために層間にNa、Ca2+、Mg2+等の陽イオンを吸着している。これらの層間に介在している陽イオンは交換性陽イオンと呼ばれ、いろいろな陽イオンと交換する。特に、層間の陽イオンがLi、Naの場合、イオン半径が小さいため層状結晶格子間の結合が弱く、水により大きく膨潤する。その状態でシェアーをかけると容易に劈開し、水中で安定したゾルを形成する。膨潤性合成雲母はこの傾向が強く、本発明において有用であり、特に、膨潤性合成雲母が好ましく用いられる。 Of the mica, fluorine-based swellable mica is particularly useful. That is, this swellable synthetic mica has a laminated structure composed of unit crystal lattice layers having a thickness of about 1 to 1.5 nm, and the substitution of metal atoms in the lattice is significantly larger than other viscosity minerals. As a result, the lattice layer is deficient in positive charge, and cations such as Na + , Ca 2+ and Mg 2+ are adsorbed between the layers to compensate for this. The cations present between these layers are called exchangeable cations and exchange with various cations. In particular, when the cation between layers is Li + or Na + , the bond between the layered crystal lattices is weak because the ionic radius is small, and the layer swells greatly with water. If shear is applied in this state, it will easily cleave and form a stable sol in water. Swellable synthetic mica has a strong tendency and is useful in the present invention. In particular, swellable synthetic mica is preferably used.

雲母の形状としては、拡散制御の観点からは、厚さは薄ければ薄いほどよく、平面サイズは塗布面の平滑性や活性光線の透過性を阻害しない限りにおいて大きいほどよい。従って、アスペクト比は20以上であり、好ましくは100以上、特に好ましくは200以上である。なお、アスペクト比は粒子の長径に対する厚さの比であり、例えば、粒子の顕微鏡写真による投影図から測定することができる。アスペクト比が大きい程、得られる効果が大きい。   As the shape of mica, from the viewpoint of diffusion control, the thinner the better, the better the plane size as long as the smoothness of the coated surface and the transmittance of actinic rays are not hindered. Accordingly, the aspect ratio is 20 or more, preferably 100 or more, particularly preferably 200 or more. The aspect ratio is the ratio of the thickness to the major axis of the particle, and can be measured from, for example, a projected view of the particle by a micrograph. The larger the aspect ratio, the greater the effect that can be obtained.

雲母の粒子径は、その平均長径が0.3〜20μm、好ましくは0.5〜10μm、特に好ましくは1〜5μmである。また、該粒子の平均の厚さは、0.1μm以下、好ましくは、0.05μm以下、特に好ましくは、0.01μm以下である。具体的には、例えば、代表的化合物である膨潤性合成雲母のサイズは、厚さが1〜50nm、面サイズ(長径)が1〜20μm程度である。   The average major axis of the mica particle diameter is 0.3 to 20 μm, preferably 0.5 to 10 μm, and particularly preferably 1 to 5 μm. The average thickness of the particles is 0.1 μm or less, preferably 0.05 μm or less, particularly preferably 0.01 μm or less. Specifically, for example, the swellable synthetic mica that is a representative compound has a thickness of 1 to 50 nm and a surface size (major axis) of about 1 to 20 μm.

フィラーとして無機質の層状化合物を用いる場合、保護層に含有される無機質の層状化合物の量は、積層した場合の平版印刷版原版同士の接着の抑制やキズ発生の抑制、レーザ露光時の遮断による感度低下、低酸素透過性などの観点から、保護層の全固形分量に対し、5〜50質量%の範囲であることが好ましく、10〜40質量%の範囲が特に好ましい。複数種の無機質の層状化合物を併用した場合でも、これらの無機質の層状化合物の合計の量が上記の質量であることが好ましい。
無機質の層状化合物以外の無機フィラーの保護層に含有される量も同様に、保護層の全固形分量に対し、5〜50質量%の範囲であることが好ましく、10〜40質量%の範囲が特に好ましい。
When an inorganic layered compound is used as the filler, the amount of the inorganic layered compound contained in the protective layer is the sensitivity by suppressing adhesion between lithographic printing plate precursors when they are laminated, suppressing scratches, and blocking during laser exposure. From the viewpoint of reduction, low oxygen permeability, etc., it is preferably in the range of 5 to 50% by mass, particularly preferably in the range of 10 to 40% by mass with respect to the total solid content of the protective layer. Even when a plurality of inorganic layered compounds are used in combination, the total amount of these inorganic layered compounds is preferably the above-described mass.
Similarly, the amount contained in the protective layer of the inorganic filler other than the inorganic layered compound is also preferably in the range of 5 to 50% by mass, and in the range of 10 to 40% by mass with respect to the total solid content of the protective layer. Particularly preferred.

保護層には、有機フィラーと無機フィラーとを混合して使用することも好ましく、混合比率は質量比で、1:1〜1:5の範囲が好適である。この場合における保護層へフィラーの含有量としては、保護層の全固形分量に対し、無機フィラー有機フィラーの合計量で5〜50質量%の範囲であることが好ましく、10〜40質量%の範囲がより好ましい。   It is also preferable to use a mixture of an organic filler and an inorganic filler in the protective layer, and the mixing ratio is preferably a mass ratio of 1: 1 to 1: 5. In this case, the content of the filler in the protective layer is preferably in the range of 5 to 50% by mass, more preferably in the range of 10 to 40% by mass with respect to the total solid content of the protective layer. Is more preferable.

保護層には、無機−有機複合フィラーを用いることもできる。無機−有機複合フィラーとしては、例えば、有機フィラーと無機フィラーの複合化物が挙げられ、複合化に用いられる無機フィラーとしては、金属粉体、金属化合物(例えば、酸化物、窒化物、硫化物、炭化物及びこれらの複合化物等)の粒子が挙げられ、好ましくは酸化物及び硫化物等であり、より好ましくはガラス、SiO、ZnO、Fe、ZrO、SnO、ZnS、CuS等の粒子が挙げられる。
無機−有機複合フィラーの保護層への含有量としては、保護層の全固形分量に対し、5〜50質量%の範囲であることが好ましく、10〜40質量%の範囲がより好ましい。
An inorganic-organic composite filler can also be used for the protective layer. Examples of inorganic-organic composite fillers include composites of organic fillers and inorganic fillers. Examples of inorganic fillers used for composites include metal powders, metal compounds (for example, oxides, nitrides, sulfides, Particles of carbides and composites thereof), preferably oxides and sulfides, more preferably glass, SiO 2 , ZnO, Fe 2 O 3 , ZrO 2 , SnO 2 , ZnS, CuS, etc. Particles.
As content to the protective layer of an inorganic-organic composite filler, it is preferable that it is the range of 5-50 mass% with respect to the total solid content of a protective layer, and the range of 10-40 mass% is more preferable.

本発明において用いうる無機−有機複合フィラーとしては、シリカ成分を含有するものであることが好ましく、中でも、フィラーの表面の一部がシリカ層で被覆されたシリカ被覆微粒子であることが特に好ましい。
フィラーの表面の少なくとも一部にシリカが存在することで、フィラーとバインダー(ポリビニルアルコールなど)との親和性向上が達成され、保護層に対して外部応力を受けた場合でもフィラーの脱落が抑制され、優れた耐傷性、耐接着性を維持することができる。本発明における「シリカ被覆」とは、このようにフィラーの表面の少なくとも一部にシリカが存在する状態を包含するものとする。
The inorganic-organic composite filler that can be used in the present invention preferably contains a silica component, and particularly preferably silica-coated fine particles in which a part of the surface of the filler is coated with a silica layer.
The presence of silica on at least a part of the filler surface achieves improved affinity between the filler and the binder (polyvinyl alcohol, etc.), and suppresses the filler from falling off even when external stress is applied to the protective layer. Can maintain excellent scratch resistance and adhesion resistance. The “silica coating” in the present invention includes a state in which silica is present on at least a part of the surface of the filler.

シリカ被覆微粒子のコアとなる無機−有機複合フィラーを構成する有機樹脂としては、先述べたようなフィラーに求められる物性を有する有機樹脂であれば制限なく使用することができ、具体的には、例えば、ポリアクリル酸系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリエステル系樹脂、エポシキ系樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、シリコーン樹脂などが挙げられる。
中でも、保護層の好ましいバインダーであるポリビニルアルコールとの親和性の観点から、ポリアクリル酸系樹脂、ポリウレタン系樹脂、及びメラミン樹脂などが好ましい。
As the organic resin constituting the inorganic-organic composite filler that becomes the core of the silica-coated fine particles, any organic resin having physical properties required for the filler as described above can be used without limitation. For example, polyacrylic acid resin, polyurethane resin, polystyrene resin, polyester resin, epoxy resin, phenol resin, melamine resin, silicone resin and the like can be mentioned.
Of these, polyacrylic acid resins, polyurethane resins, melamine resins, and the like are preferable from the viewpoint of affinity with polyvinyl alcohol, which is a preferred binder for the protective layer.

また、フィラー表面を被覆するシリカ層を形成する材料としては、アルコキシシロキサン系化合物の縮合物などのアルコキシシリル基を有する化合物、特に、ゾル−ゲル方にて使用するシロキサン系材料、シリカゾル、コロイダルシリカ、シリカナノ粒子などのシリカ微粒子などが好ましく挙げられる。
シリカ被覆微粒子の構成としては、フィラー表面にシリカ微粒子が固体成分として付着しているものであっても、アルコキシシロキサン系化合物を縮合反応させてフィラー表面にシロキサン系化合物層を形成したものであってもよい。
In addition, as a material for forming a silica layer covering the filler surface, compounds having an alkoxysilyl group such as a condensate of an alkoxysiloxane compound, particularly a siloxane material used in a sol-gel method, silica sol, colloidal silica Preferred are silica fine particles such as silica nanoparticles.
The composition of the silica-coated fine particles is that in which the silica fine particles are adhered as a solid component on the filler surface, and a siloxane compound layer is formed on the filler surface by condensation reaction of the alkoxysiloxane compound. Also good.

シリカは必ずしもフィラー表面全域を被覆している必要はなく、少なくともフィラーに対し、0.5質量%以上の量で表面被覆していれば、上述の効果を得ることができる。
シリカの表面被覆状態は、走査型電子顕微鏡(TEM)等による形態観察により確認することができ、また、シリカの被覆量は、蛍光X線分析などの元素分析によりSi原子を検知し、そこに存在するシリカの量を算出することで確認することができる。
Silica does not necessarily have to cover the entire surface of the filler, and the above-mentioned effects can be obtained if the surface is coated in an amount of 0.5% by mass or more with respect to at least the filler.
The surface coating state of silica can be confirmed by morphological observation with a scanning electron microscope (TEM) or the like, and the silica coating amount is detected by detecting Si atoms by elemental analysis such as fluorescent X-ray analysis. This can be confirmed by calculating the amount of silica present.

シリカ被覆微粒子の製造方法としては特に制限はなく、シリカ微粒子或いはシリカ前駆体化合物を、樹脂微粒子の原料となるモノマー成分と共存させてフィラー形成と同時にシリカ表面被覆層を形成させる方法であってもよく、また、フィラーを形成した後、シリカ微粒子を物理的に表面に付着させ、その後、固定化する方法をとってもよい。   There is no particular limitation on the method for producing the silica-coated fine particles, and the silica surface coating layer may be formed simultaneously with the filler formation by coexisting the silica fine particles or the silica precursor compound with the monomer component as the raw material of the resin fine particles. Alternatively, after the filler is formed, the silica fine particles may be physically attached to the surface and then fixed.

シリカ被覆微粒子の製造方法の一例を挙げれば、まず、ポリビニルアルコール、メチルセルロース、ポリアクリル酸などの水溶性高分子やリン酸カルシウム、炭酸カルシウムなどの無機系懸濁剤などから適宜選択される懸濁安定剤を含む水中に、シリカと、原料樹脂(より具体的には、前記した有機樹脂を構成する、懸濁重合が可能なモノマー、懸濁架橋が可能なプレポリマー、又は樹脂液などの原料樹脂)と、を添加、攪拌、混合して、シリカと疎水性原料樹脂とを分散させてなる懸濁液を調製する。その際、懸濁安定剤の種類、その濃度、攪拌回転数などを調節することにより、目的の粒径を有するエマルジョン(懸濁液)を形成することができる。次いで、この懸濁液を加温して反応を開始させ、樹脂原料を、懸濁重合又は懸濁架橋させることにより樹脂粒子を生成させる。このとき、共存するシリカが重合或いは架橋反応により硬化する樹脂粒子に、特に、その物性に起因して樹脂粒子表面近傍に、固定化される。その後、これを固液分離し、洗浄により粒子に付着している懸濁安定剤を取り除いて、乾燥させる。これにより、シリカが固定化された所望粒径の略球状の有機樹脂粒子が得られる。   As an example of the method for producing silica-coated fine particles, first, a suspension stabilizer appropriately selected from water-soluble polymers such as polyvinyl alcohol, methylcellulose, and polyacrylic acid, and inorganic suspensions such as calcium phosphate and calcium carbonate. In water containing silica and a raw material resin (more specifically, a raw material resin such as a monomer capable of suspension polymerization, a prepolymer capable of suspension crosslinking, or a resin liquid constituting the organic resin described above) Are added, stirred, and mixed to prepare a suspension in which silica and a hydrophobic raw resin are dispersed. At that time, an emulsion (suspension) having a target particle size can be formed by adjusting the type of suspension stabilizer, its concentration, the number of stirring revolutions, and the like. Next, the suspension is heated to start the reaction, and resin particles are produced by suspension polymerization or suspension crosslinking of the resin raw material. At this time, the coexisting silica is fixed to the resin particles that are cured by polymerization or cross-linking reaction, particularly near the surface of the resin particles due to the physical properties thereof. Thereafter, this is subjected to solid-liquid separation, and the suspension stabilizer attached to the particles is removed by washing, followed by drying. Thereby, substantially spherical organic resin particles having a desired particle size on which silica is immobilized are obtained.

このように、懸濁重合、或いは懸濁架橋の際に条件を制御して所望の大きさの樹脂を得ることもできるが、このような制御を厳密に行うことなくシリカ付着無機−有機複合フィラーを生成した後、メッシュ濾過法により所望の大きさのシリカ被覆微粒子を得ることもできる。   As described above, a resin having a desired size can be obtained by controlling the conditions during suspension polymerization or suspension crosslinking. However, the silica-adhered inorganic-organic composite filler can be obtained without strict control. Then, silica-coated fine particles having a desired size can be obtained by a mesh filtration method.

上記方法によりシリカ被覆微粒子を製造する際の混合物における原料の添加量としては、原料樹脂とシリカとの総量が100質量部の場合、まず、分散媒である水200〜800重量部に懸濁安定剤0.1〜20質量部を添加し、充分に溶解又は分散させ、その液中に、前記した100質量部の原料樹脂とシリカとの混合物を投入し、分散粒子が所定の粒度になるように攪拌速度を調整しながら攪拌し、この粒度調整を行った後に液温を30〜90℃に昇温し、1〜8時間反応させればよい。   When the total amount of the raw material resin and silica is 100 parts by mass, the addition amount of the raw material in the mixture when the silica-coated fine particles are produced by the above method is first suspended stably in 200 to 800 parts by weight of water as a dispersion medium. 0.1 to 20 parts by mass of the agent is added and sufficiently dissolved or dispersed, and the mixture of 100 parts by mass of the raw material resin and silica is added to the liquid so that the dispersed particles have a predetermined particle size. After adjusting the particle size, the liquid temperature is raised to 30 to 90 ° C. and reacted for 1 to 8 hours.

シリカ被覆微粒子の製造方法については、前記した方法はその一例であり、例えば、特開2002−327036公報、特開2002−173410公報、特開2004−307837公報、及び、特開2006−38246公報などに詳細に記載された方法も適用することができる。また、ここに記載の方法により得られるシリカ被覆微粒子はいずれも本発明に好適に使用することができる。   As for the method for producing silica-coated fine particles, the above-described method is an example, and for example, JP 2002-327036 A, JP 2002-173410 A, JP 2004-307837 A, JP 2006-38246 A, and the like. The method described in detail in can also be applied. Further, any silica-coated fine particles obtained by the method described herein can be suitably used in the present invention.

また、本発明に使用しうるシリカ被覆微粒子は市販品としても入手可能であり、具体的な例としては、シリカ/メラミン複合微粒子としては、日産化学工業(株)オプトビーズ2000M,オプトビーズ3500M,オプトビーズ6500M,オプトビーズ10500M,オプトビーズ3500S,オプトビーズ6500Sが挙げられる。シリカ/アクリル複合微粒子としては、根上工業(株)アートパールG−200透明,アートパールG−400透明,アートパールG−800透明,アートパールGR−400透明,アートパールGR−600透明,アートパールGR−800透明,アートパールJ−7Pが挙げられる。シリカ/ウレタン複合微粒子としては、根上工業(株)アートパールC−400透明,C−800透明,P−800T,U−600T,U−800T,CF−600T,CF800T,大日精化(株)ダイナミックビーズCN5070D,ダンプラコートTHUが挙げられる。   The silica-coated fine particles that can be used in the present invention are also available as commercial products. As specific examples, silica / melamine composite fine particles include Nissan Chemical Industries Co., Ltd. Opt Bead 2000M, Opt Bead 3500M, Examples thereof include opt beads 6500M, opt beads 10500M, opt beads 3500S, and opt beads 6500S. As silica / acrylic composite fine particles, Negami Industrial Co., Ltd. Art Pearl G-200 transparent, Art Pearl G-400 transparent, Art Pearl G-800 transparent, Art Pearl GR-400 transparent, Art Pearl GR-600 transparent, Art Pearl GR-800 transparent, Art Pearl J-7P. As the silica / urethane composite fine particles, Negami Industrial Co., Ltd. Art Pearl C-400 Transparent, C-800 Transparent, P-800T, U-600T, U-800T, CF-600T, CF800T, Dainichi Seika Co., Ltd. Dynamic Examples thereof include beads CN5070D and dampula coat THU.

シリカ被覆微粒子の硬度は、好ましくは、ビーゴ製Multimode AFMにHysitron社製Triboscopeを接続した装置で測定した場合で、0.0005〜0.20GPaであり、より好ましくは0.001〜0.15Gpaであり、最も好ましい硬度は、0.003〜0.010Gpaである。なお、この硬度は、シリカ被覆微粒子の材質やシリカ層の被覆量等により、適宜、調整することができる。
ここで、本発明における保護層が重層構造を有し、その上部保護層にシリカ被覆微粒子を添加させた場合には、シリカ被覆微粒子の硬度は、下部保護層の硬度と同じか、小さいことが好ましい。
The hardness of the silica-coated fine particles is preferably 0.0005 to 0.20 GPa, more preferably 0.001 to 0.15 GPa, as measured with a device in which a Triboscope made by Hystron is connected to a Multimode AFM made by Vigo. The most preferred hardness is 0.003 to 0.010 Gpa. This hardness can be adjusted as appropriate depending on the material of the silica-coated fine particles, the coating amount of the silica layer, and the like.
Here, when the protective layer in the present invention has a multilayer structure and silica-coated fine particles are added to the upper protective layer, the hardness of the silica-coated fine particles may be the same as or smaller than the hardness of the lower protective layer. preferable.

また、本発明に係るシリカ被覆微粒子の形状は、真球状形状が好ましいが、平板形状若しくは楕円形状でもよい。
本発明に係るシリカ被覆微粒子の好ましい平均粒子径は1〜30μmφであり、更に好ましくは、1.5〜20μmφであり、もっとも好ましくは、2〜15μmφである。この範囲において十分なスペーサー機能、マット性能を発現することができ、保護層表面への固定化が容易で、外部からの接触応力に対しても優れた保持機能を有する。
特に、シリカ被覆微粒子の真比重は、0.90から1.30の範囲にあり、且つ、平均粒子径が2.0〜15μmであることが好ましく、真比重が、0.90から1.20の範囲にあり、3.0〜12μmであることがより好ましい。
The shape of the silica-coated fine particles according to the present invention is preferably a true spherical shape, but may be a flat plate shape or an elliptical shape.
The preferable average particle diameter of the silica-coated fine particles according to the present invention is 1 to 30 μmφ, more preferably 1.5 to 20 μmφ, and most preferably 2 to 15 μmφ. In this range, a sufficient spacer function and mat performance can be expressed, the immobilization on the surface of the protective layer is easy, and the holding function is excellent against contact stress from the outside.
In particular, the true specific gravity of the silica-coated fine particles is in the range of 0.90 to 1.30, the average particle diameter is preferably 2.0 to 15 μm, and the true specific gravity is 0.90 to 1.20. And is more preferably 3.0 to 12 μm.

保護層に対するシリカ被覆微粒子の好ましい添加量は、5〜1000mg/mであり、更に好ましくは、10〜500mg/mであり、もっとも好ましくは、20〜200mg/mである。
より具体的には、シリカ被覆微粒子の保護層固形分中の含有量は、表面マット効果の発現、感度、及び保護層表面からの粒子が離脱することなどの観点から、1.0質量%〜20質量%が好ましく、2.0質量%〜10質量%がより好ましい。
The preferred amount of silica-coated fine particles added to the protective layer is 5 to 1000 mg / m 2 , more preferably 10 to 500 mg / m 2 , and most preferably 20 to 200 mg / m 2 .
More specifically, the content of the silica-coated fine particles in the solid content of the protective layer is 1.0% by mass to from the viewpoints of surface mat effect expression, sensitivity, and separation of particles from the surface of the protective layer. 20 mass% is preferable and 2.0 mass%-10 mass% are more preferable.

保護層の成分(ポリビニルアルコールや無機質の層状化合物の選択、添加剤の使用)、塗布量等は、酸素遮断性・現像除去性の他、カブリ性や密着性・耐傷性を考慮して選択される。   Components of the protective layer (selection of polyvinyl alcohol and inorganic layered compounds, use of additives), coating amount, etc. are selected in consideration of fogging, adhesion, and scratch resistance in addition to oxygen barrier properties and development removability The

本発明において、保護層は単層に限らず、互いに異なる組成を有する複数の保護層を重層構造で設けることも可能である。重層構造の保護層の好ましい態様としては、記録層に近接して無機質の層状化合物を含有する保護層を下部保護層として設け、その表面に無機質の層状化合物と有機フィラーとを含有する保護層を上部保護層として、これらを順次積層する態様が挙げられる。
このような積層構造の保護層を設けることによって、最上層の保護層において、フィラーに起因する耐傷性、耐接着性の利点を十分に生かしながら、下部保護層の優れた酸素遮断性と相俟って、傷の発生及び所望されない酸素透過のいずれに起因する画像欠損も効果的に防止することができる。
In the present invention, the protective layer is not limited to a single layer, and a plurality of protective layers having different compositions can be provided in a multilayer structure. As a preferred embodiment of the protective layer having a multilayer structure, a protective layer containing an inorganic layered compound is provided as a lower protective layer in the vicinity of the recording layer, and a protective layer containing an inorganic layered compound and an organic filler is provided on the surface. As the upper protective layer, an embodiment in which these are sequentially laminated can be mentioned.
By providing a protective layer having such a laminated structure, the uppermost protective layer has the excellent oxygen barrier properties and compatibility with the lower protective layer while fully utilizing the advantages of scratch resistance and adhesion resistance due to the filler. Thus, it is possible to effectively prevent image defects due to both the generation of scratches and undesired oxygen permeation.

本発明における保護層は、25℃−1気圧における酸素透過度が、0.5ml/m・day以上100ml/m・day以下であることが好ましく、このような酸素透過度を達成するように、塗布量を調整することが好ましい。 The protective layer in the present invention preferably has an oxygen permeability at 25 ° C.-1 atm of 0.5 ml / m 2 · day to 100 ml / m 2 · day, so as to achieve such oxygen permeability. Further, it is preferable to adjust the coating amount.

なお、保護層には、記録層を露光する際に用いる光の透過性に優れ、かつ、露光に関わらない波長の光を効率よく吸収しうる、着色剤(水溶性染料)を添加してもよい。これにより、感度を低下させることなく、セーフライト適性を高めることができる。   The protective layer may be added with a colorant (water-soluble dye) that is excellent in the transparency of light used when exposing the recording layer and that can efficiently absorb light having a wavelength that is not related to exposure. Good. Thereby, safelight aptitude can be improved, without reducing a sensitivity.

(保護層の形成)
保護層の形成は、特に制限されるものではなく、上記成分を含む保護層形成用塗布液を、感光性記録層(重合性ネガ型感光層)上に塗布することで実施される。例えば、米国特許第3,458,311号明細書、又は特開昭55−49729号公報に記載される方法も適用することができる。
(Formation of protective layer)
The formation of the protective layer is not particularly limited, and is carried out by applying a protective layer-forming coating solution containing the above components on the photosensitive recording layer (polymerizable negative photosensitive layer). For example, the method described in U.S. Pat. No. 3,458,311 or JP-A-55-49729 can also be applied.

以下、保護層の塗布方法の一例として、雲母等の無機質の層状化合物とポリビニルアルコール等の水溶性高分子化合物とを含有する保護層の塗布方法について詳述する。雲母等の無機質の層状化合物が分散する分散液を調製し、その分散液と、上記のポリビニルアルコール等の水溶性高分子化合物(又は、水溶性高分子化合物を溶解した水溶液)とを混合してなる保護層形成用塗布液を、感光性記録層(重合性ネガ型感光層)上に塗布することで保護層が形成される。   Hereinafter, as an example of a method for applying the protective layer, a method for applying the protective layer containing an inorganic layered compound such as mica and a water-soluble polymer compound such as polyvinyl alcohol will be described in detail. A dispersion in which an inorganic layered compound such as mica is dispersed is prepared, and the dispersion is mixed with a water-soluble polymer compound such as polyvinyl alcohol (or an aqueous solution in which a water-soluble polymer compound is dissolved). A protective layer is formed by applying a coating solution for forming a protective layer to the photosensitive recording layer (polymerizable negative photosensitive layer).

ここで、保護層に用いる雲母等の無機質の層状化合物の分散方法の例について述べる。
まず、水100質量部に先に雲母の好ましいものとして挙げた膨潤性雲母を5〜10質量部添加し、充分水になじませ、膨潤させた後、分散機にかけて分散する。ここで用いる分散機としては、機械的に直接力を加えて分散する各種ミル、大きな剪断力を有する高速攪拌型分散機、高強度の超音波エネルギーを与える分散機等が挙げられる。具体的には、ボールミル、サンドグラインダーミル、ビスコミル、コロイドミル、ホモジナイザー、ティゾルバー、ポリトロン、ホモミキサー、ホモブレンダー、ケディミル、ジェットアジター、毛細管式乳化装置、液体サイレン、電磁歪式超音波発生機、ポールマン笛を有する乳化装置等が挙げられる。一般には、上記の方法で分散した雲母の2〜15質量%の分散物は高粘度或いはゲル状であり、保存安定性は極めて良好である。この分散物を用いて保護層形成用塗布液を調製する際には、水で希釈し、充分攪拌した後、ポリビニルアルコールなどの水溶性高分子化合物(又は、ポリビニルアルコールなどの水溶性高分子化合物を溶解した水溶液)と配合して調製するのが好ましい。
Here, an example of a method for dispersing an inorganic layered compound such as mica used for the protective layer will be described.
First, 5 to 10 parts by mass of the swellable mica mentioned above as a preferable mica is added to 100 parts by mass of water, and the mixture is thoroughly blended with water and swollen, and then dispersed by a disperser. Examples of the disperser used here include various mills that disperse mechanically by applying a direct force, a high-speed stirring disperser having a large shearing force, and a disperser that provides high-intensity ultrasonic energy. Specifically, ball mill, sand grinder mill, visco mill, colloid mill, homogenizer, tisol bar, polytron, homomixer, homo blender, ketdy mill, jet agitator, capillary emulsifier, liquid siren, electromagnetic distortion ultrasonic generator, An emulsifying device having a Paulman whistle can be used. In general, a dispersion of 2 to 15% by mass of mica dispersed by the above method is highly viscous or gelled and has very good storage stability. When preparing a coating solution for forming a protective layer using this dispersion, after diluting with water and stirring sufficiently, a water-soluble polymer compound such as polyvinyl alcohol (or a water-soluble polymer compound such as polyvinyl alcohol). And an aqueous solution in which is dissolved.

この保護層形成用塗布液には、塗布性を向上させための界面活性剤や、得られる被膜の物性改良のための水溶性可塑剤など、公知の添加剤を加えることができる。
水溶性可塑剤としては、例えば、プロピオンアミド、シクロヘキサンジオール、グリセリン、ソルビトール等が挙げられる。また、水溶性の(メタ)アクリル系ポリマーを加えることもできる。
更に、この塗布液には、記録層との密着性、塗布液の経時安定性を向上するための公知の添加剤を加えてもよい。
Known additives such as a surfactant for improving the coating property and a water-soluble plasticizer for improving the physical properties of the resulting film can be added to the coating solution for forming the protective layer.
Examples of the water-soluble plasticizer include propionamide, cyclohexanediol, glycerin, sorbitol and the like. A water-soluble (meth) acrylic polymer can also be added.
Furthermore, a known additive for improving the adhesion to the recording layer and the temporal stability of the coating solution may be added to the coating solution.

保護層の被覆量は、保護層の膜強度や耐キズ性、画質の維持、セーフライト適性を付与するための適切な酸素透過性を維持する観点で、乾燥後の質量で、0.1g/m〜4.0g/mが好ましく、0.3g/m〜3.0g/mがより好ましい。 The coating amount of the protective layer is 0.1 g / mass after drying from the viewpoint of maintaining the film strength and scratch resistance of the protective layer, maintaining the image quality, and maintaining appropriate oxygen permeability for imparting safelight suitability. m 2 to 4.0 g / m 2 is preferable, and 0.3 g / m 2 to 3.0 g / m 2 is more preferable.

また、重層構造の保護層を設ける場合についても、その塗布方法には特に制限はなく、同時重層塗布を行う方法、逐次塗布して重層する方法のいずれも適用することができる。 無機質の層状化合物を含有する下部保護層と無機質の層状化合物と有機フィラーとを含有する上部保護層との被覆量は、乾燥後の質量で、下部保護層が0.1g/m〜1.5g/mが好ましく、0.2g/m〜1.0g/mがより好ましく、上部保護層が0.1g/m〜4.0g/mが好ましく、0.2g/m〜3.0g/mがより好ましい。両者のバランスとしては、1:1〜1:5であることが好ましい。 Also, in the case of providing a protective layer having a multilayer structure, the coating method is not particularly limited, and either a method of simultaneous multilayer coating or a method of sequential coating and multilayering can be applied. The coating amount of the lower protective layer containing the inorganic stratiform compound and the upper protective layer containing the inorganic stratiform compound and the organic filler is the mass after drying, and the lower protective layer is 0.1 g / m 2 to 1. preferably 5 g / m 2, more preferably 0.2g / m 2 ~1.0g / m 2 , the upper protective layer is 0.1g / m 2 ~4.0g / m 2 preferably, 0.2 g / m 2 -3.0 g / m < 2 > is more preferable. The balance between the two is preferably 1: 1 to 1: 5.

〔支持体〕
本発明における支持体としては、紙、ポリエステルフィルム又はアルミニウム板が挙げられ、その中でも、寸法安定性がよく、比較的安価であり、必要に応じた表面処理により親水性や強度にすぐれた表面を提供できるアルミニウム板は更に好ましい。また、特公昭48−18327号公報に記載されているようなポリエチレンテレフタレートフィルム上にアルミニウムシートが結合された複合体シートも好ましい。
[Support]
Examples of the support in the present invention include paper, a polyester film or an aluminum plate. Among them, a surface having good dimensional stability, relatively inexpensive, and having excellent hydrophilicity and strength by surface treatment as necessary. An aluminum plate that can be provided is more preferred. A composite sheet in which an aluminum sheet is bonded on a polyethylene terephthalate film as described in Japanese Patent Publication No. 48-18327 is also preferable.

本発明において最も好適な支持体としてのアルミニウム板とは、寸度的に安定なアルミニウムを主成分とする金属板であり、純アルミニウム板の他、アルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合金板、又はアルミニウム(合金)がラミネート若しくは蒸着されたプラスチックフィルム又は紙の中から選ばれる。以下の説明において、上記に挙げたアルミニウム又はアルミニウム合金からなる支持体をアルミニウム支持体と総称して用いる。前記アルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタンなどがあり、合金中の異元素の含有量は10質量%以下である。本発明では純アルミニウム板が好適であるが、完全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、僅かに異元素を含有するものでもよい。このように本発明に適用されるアルミニウム板は、その組成が特定されるものではなく、従来より公知公用の素材のもの、例えば、JIS A 1050、JIS A 1100、JIS A 3103、JIS A 3005などを適宜利用することができる。   The aluminum plate as the most preferable support in the present invention is a metal plate mainly composed of dimensionally stable aluminum, and contains pure aluminum plate, aluminum as a main component, and a trace amount of foreign elements. An alloy plate or aluminum (alloy) is selected from a laminated or vapor-deposited plastic film or paper. In the following description, the above-mentioned support made of aluminum or an aluminum alloy is generically used as an aluminum support. Examples of the foreign element contained in the aluminum alloy include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, and titanium. The content of the foreign element in the alloy is 10% by mass or less. In the present invention, a pure aluminum plate is suitable, but completely pure aluminum is difficult to manufacture in terms of refining technology, and therefore may contain a slightly different element. Thus, the composition of the aluminum plate applied to the present invention is not specified, and it is a conventionally known material such as JIS A 1050, JIS A 1100, JIS A 3103, JIS A 3005, etc. Can be used as appropriate.

また、本発明に用いられるアルミニウム支持体の厚みは、およそ0.1mm〜0.6mm程度である。この厚みは印刷機の大きさ、印刷版の大きさ及びユーザーの希望により適宜変更することができる。
このような支持体(アルミニウム支持体)には、後述の表面処理が施され、親水化される。
Moreover, the thickness of the aluminum support body used for this invention is about 0.1 mm-about 0.6 mm. This thickness can be changed as appropriate according to the size of the printing press, the size of the printing plate, and the desire of the user.
Such a support (aluminum support) is subjected to a surface treatment described later to be hydrophilized.

(粗面化処理)
粗面化処理方法は、特開昭56−28893号公報に開示されているような機械的粗面化、化学的エッチング、電解グレインなどがある。更に塩酸又は硝酸電解液中で電気化学的に粗面化する電気化学的粗面化方法、及びアルミニウム表面を金属ワイヤーでひっかくワイヤーブラシグレイン法、研磨球と研磨剤でアルミニウム表面を砂目立でするポールグレイン法、ナイロンブラシと研磨剤で表面を粗面化するブラシグレイン法のような機械的粗面化法を用いることができ、上記粗面化方法を単独或いは組み合わせて用いることもできる。その中でも粗面化に有用に使用される方法は塩酸又は硝酸電解液中で化学的に粗面化する電気化学的方法であり、適する陽極時電気量は50C/dm〜400C/dmの範囲である。更に具体的には、0.1〜50%の塩酸又は硝酸を含む電解液中、温度20〜80℃、時間1秒〜30分、電流密度100C/dm〜400C/dmの条件で交流及び/又は直流電解を行うことが好ましい。
(Roughening treatment)
Examples of the roughening treatment method include mechanical roughening, chemical etching, and electrolytic grain as disclosed in JP-A-56-28893. Furthermore, the electrochemical surface roughening method in which the surface is electrochemically roughened in hydrochloric acid or nitric acid electrolyte solution, the aluminum surface is scratched with a metal wire, the wire brush grain method, the surface of the aluminum is polished with a polishing ball and an abrasive. A mechanical graining method such as a pole grain method, a brush grain method in which the surface is roughened with a nylon brush and an abrasive, can be used, and the above roughening methods can be used alone or in combination. Among them, a method usefully used for roughening is an electrochemical method in which roughening is chemically performed in hydrochloric acid or nitric acid electrolyte, and a suitable amount of electricity during anode is 50 C / dm 2 to 400 C / dm 2 . It is a range. More specifically, in the electrolytic solution containing from 0.1 to 50% hydrochloric acid or nitric acid, the temperature 20 to 80 ° C., for 1 second to 30 minutes, alternating at a current density of 100C / dm 2 ~400C / dm 2 It is preferable to perform direct current electrolysis.

このように粗面化処理したアルミニウム支持体は、酸又はアルカリにより化学的にエッチングされてもよい。好適に用いられるエッチング剤は、苛性ソーダ、炭酸ソーダ、アルミン酸ソーダ、メタケイ酸ソーダ、リン酸ソーダ、水酸化カリウム、水酸化リチウム等であり、濃度と温度の好ましい範囲はそれぞれ1〜50%、20〜100℃である。エッチングのあと表面に残留する汚れ(スマット)を除去するために酸洗いが行われる。用いられる酸は硝酸、硫酸、リン酸、クロム酸、フッ酸、ホウフッ化水素酸等が用いられる。特に電気化学的粗面化処理後のスマット除去処理方法としては、好ましくは特開昭53−12739号公報に記載されているような50〜90℃の温度の15〜65質量%の硫酸と接触させる方法及び特公昭48−28123号公報に記載されているアルカリエッチングする方法が挙げられる。以上のように処理された後、処理面の表面粗さRaが0.2〜0.5μm程度であれば、特に、方法、条件は限定しない。   The roughened aluminum support may be chemically etched with acid or alkali. Etching agents suitably used are caustic soda, sodium carbonate, sodium aluminate, sodium metasilicate, sodium phosphate, potassium hydroxide, lithium hydroxide, and the like. Preferred ranges of concentration and temperature are 1 to 50% and 20%, respectively. ~ 100 ° C. Pickling is performed to remove dirt (smut) remaining on the surface after etching. As the acid used, nitric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, chromic acid, hydrofluoric acid, borohydrofluoric acid and the like are used. In particular, as a method for removing smut after the electrochemical surface roughening treatment, contact with 15 to 65 mass% sulfuric acid at a temperature of 50 to 90 ° C. as described in JP-A-53-12739 is preferable. And the alkali etching method described in Japanese Patent Publication No. 48-28123. After the treatment as described above, the method and conditions are not particularly limited as long as the surface roughness Ra of the treated surface is about 0.2 to 0.5 μm.

(陽極酸化処理)
以上のようにして処理され酸化物層を形成したアルミニウム支持体には、その後に陽極酸化処理がなされる。
陽極酸化処理は硫酸、燐酸、シュウ酸若しくは硼酸/硼酸ナトリウムの水溶液が単独若しくは複数種類組み合わせて電解浴の主成分として用いられる。この際、電解液中に少なくともAl合金板、電極、水道水、地下水等に通常含まれる成分はもちろん含まれても構わない。更には第2、第3成分が添加されていても構わない。ここでいう第2、3成分とは、例えば、Na、K、Mg、Li、Ca、Ti、Al、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn等の金属のイオンやアンモニウムイオン等に陽イオンや、硝酸イオン、炭酸イオン、塩素イオン、リン酸イオン、フッ素イオン、亜硫酸イオン、チタン酸イオン、ケイ酸イオン、硼酸イオン等の陰イオンが挙げられ、その濃度としては0〜10000ppm程度含まれてもよい。陽極酸化処理の条件に特に限定はないが、好ましくは30〜500g/リットル、処理液温10〜70℃で、電流密度0.1〜40A/mの範囲で直流又は交流電解によって処理される。形成される陽極酸化皮膜の厚さは0.5〜1.5μmの範囲である。好ましくは0.5〜1.0μmの範囲である。以上の処理によって作製された支持体が、陽極酸化皮膜に存在するマイクロポアのポア径が5〜10nm、ポア密度が8×1015〜2×1016個/mの範囲に入るように処理条件が選択されることが好ましい。
(Anodizing treatment)
The aluminum support that has been treated as described above to form an oxide layer is then anodized.
In the anodizing treatment, sulfuric acid, phosphoric acid, oxalic acid, or an aqueous solution of boric acid / sodium borate is used alone or in combination as a main component of the electrolytic bath. In this case, the electrolyte solution may of course contain at least components normally contained in at least an Al alloy plate, an electrode, tap water, groundwater and the like. Further, the second and third components may be added. Here, the second and third components are, for example, metal ions such as Na, K, Mg, Li, Ca, Ti, Al, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, and Zn, and ammonium ions. Examples include cations, nitrate ions, carbonate ions, chloride ions, phosphate ions, fluorine ions, sulfite ions, titanate ions, silicate ions, borate ions and the like, and the concentration is 0 to 10,000 ppm. May be included. There are no particular limitations on the conditions of the anodizing treatment, but the treatment is preferably carried out by direct current or alternating current electrolysis at a treatment liquid temperature of 10 to 70 ° C. and a current density of 0.1 to 40 A / m 2 at 30 to 500 g / liter. . The thickness of the formed anodic oxide film is in the range of 0.5 to 1.5 μm. Preferably it is the range of 0.5-1.0 micrometer. The support produced by the above treatment is treated so that the pore diameter of the micropores existing in the anodized film is in the range of 5 to 10 nm and the pore density is in the range of 8 × 10 15 to 2 × 10 16 pieces / m 2. It is preferred that the conditions are selected.

前記支持体表面の親水化処理としては、広く公知の方法が適用できる。特に好ましい処理としては、シリケート又はポリビニルホスホン酸等による親水化処理が施される。皮膜はSi、又はP元素量として2〜40mg/m、より好ましくは4〜30mg/mで形成される。塗布量はケイ光X線分析法により測定できる。 A widely known method can be applied as the hydrophilic treatment on the surface of the support. As a particularly preferable treatment, a hydrophilic treatment with silicate or polyvinylphosphonic acid is performed. A film | membrane is formed by 2-40 mg / m < 2 > as Si or P element amount, More preferably, it is 4-30 mg / m < 2 >. The coating amount can be measured by fluorescent X-ray analysis.

上記の親水化処理は、アルカリ金属ケイ酸塩、又はポリビニルホスホン酸が1〜30質量%、好ましくは2〜15質量%であり、25℃のpHが10〜13である水溶液に、陽極酸化皮膜が形成されたアルミニウム支持体を、例えば、15〜80℃で0.5〜120秒浸漬することにより実施される。   The hydrophilization treatment is carried out by applying an anodized film to an aqueous solution containing 1 to 30% by mass, preferably 2 to 15% by mass of alkali metal silicate or polyvinylphosphonic acid, and having a pH of 10 to 13 at 25 ° C. This is carried out by immersing the aluminum support on which is formed, for example, at 15 to 80 ° C. for 0.5 to 120 seconds.

前記親水化処理に用いられるアルカリ金属ケイ酸塩としては、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、ケイ酸リチウムなどが使用される。アルカリ金属ケイ酸塩水溶液のpHを高くするために使用される水酸化物としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウムなどがある。なお、上記の処理液にアルカリ土類金属塩若しくは第IVB族金属塩を配合してもよい。アルカリ土類金属塩としては、硝酸カルシウム、硝酸ストロンチウム、硝酸マグネシウム、硝酸バリウムのような硝酸塩や、硫酸塩、塩酸塩、リン酸塩、酢酸塩、シュウ酸塩、ホウ酸塩などの水溶性の塩が挙げられる。第IVB族金属塩としては、四塩化チタン、三塩化チタン、フッ化チタンカリウム、シュウ酸チタンカリウム、硫酸チタン、四ヨウ化チタン、塩化酸化ジルコニウム、二酸化ジルコニウム、オキシ塩化ジルコニウム、四塩化ジルコニウムなどを挙げることができる。   As the alkali metal silicate used for the hydrophilization treatment, sodium silicate, potassium silicate, lithium silicate, or the like is used. Examples of the hydroxide used for increasing the pH of the aqueous alkali metal silicate solution include sodium hydroxide, potassium hydroxide, and lithium hydroxide. In addition, you may mix | blend alkaline-earth metal salt or Group IVB metal salt with said process liquid. Alkaline earth metal salts include nitrates such as calcium nitrate, strontium nitrate, magnesium nitrate, and barium nitrate, and water-soluble substances such as sulfate, hydrochloride, phosphate, acetate, oxalate, and borate. Salt. Group IVB metal salts include titanium tetrachloride, titanium trichloride, potassium fluoride titanium, potassium oxalate, titanium sulfate, titanium tetraiodide, zirconium chloride, zirconium dioxide, zirconium oxychloride, zirconium tetrachloride, etc. Can be mentioned.

アルカリ土類金属塩若しくは、第IVB族金属塩は、単独又は2種以上組み合わせて使用することができる。これらの金属塩の好ましい範囲は0.01〜10質量%であり、更に好ましい範囲は0.05〜5.0質量%である。また、米国特許第3,658,662号明細書に記載されているようなシリケート電着も有効である。特公昭46−27481号、特開昭52−58602号、特開昭52−30503号に開示されているような電解グレインを施した支持体と、上記陽極酸化処理及び親水化処理を組合せた表面処理も有用である。   Alkaline earth metal salts or Group IVB metal salts can be used alone or in combination of two or more. A preferable range of these metal salts is 0.01 to 10% by mass, and a more preferable range is 0.05 to 5.0% by mass. Silicate electrodeposition as described in US Pat. No. 3,658,662 is also effective. Surface obtained by combining a support with electrolytic grains as disclosed in JP-B-46-27481, JP-A-52-58602, JP-A-52-30503, and the above anodizing treatment and hydrophilization treatment Processing is also useful.

〔中間層(下塗り層)〕
本発明に係る平版印刷版原版には、感光層と支持体との間の密着性や汚れ性を改善する目的で、中間層(下塗り層)を設けてもよい。このような中間層の具体例としては、特公昭50−7481号、特開昭54−72104号、特開昭59−101651号、特開昭60−149491号、特開昭60−232998号、特開平3−56177号、特開平4−282637号、特開平5−16558号、特開平5−246171号、特開平7−159983号、特開平7−314937号、特開平8−202025号、特開平8−320551号、特開平9−34104号、特開平9−236911号、特開平9−269593号、特開平10−69092号、特開平10−115931号、特開平10−161317号、特開平10−260536号、特開平10−282682号、特開平11−84674号、特開平10−69092号、特開平10−115931号、特開平11−38635号、特開平11−38629号、特開平10−282645号、特開平10−301262号、特開平11−24277号、特開平11−109641号、特開平10−319600号、特開平11−84674号、特開平11−327152号、特開2000−10292号、特開2000−235254号、特開2000−352854号、特開2001−209170号、特願平11−284091号等に記載のものを挙げることができる。
[Intermediate layer (undercoat layer)]
In the lithographic printing plate precursor according to the invention, an intermediate layer (undercoat layer) may be provided for the purpose of improving the adhesion and soiling between the photosensitive layer and the support. Specific examples of such an intermediate layer include JP-B-50-7481, JP-A-54-72104, JP-A-59-101651, JP-A-60-149491, JP-A-60-232998, JP-A-3-56177, JP-A-4-282737, JP-A-5-16558, JP-A-5-246171, JP-A-7-159983, JP-A-7-314937, JP-A-8-202025, Special Kaihei 8-320551, JP 9-34104, JP 9-236911, JP 9-269593, JP 10-69092, JP 10-115931, JP 10-161317, JP 10-260536, JP-A-10-282682, JP-A-11-84684, JP-A-10-69092, JP-A-10-115931, Kaihei 11-38635, JP-A-11-38629, JP-A-10-282645, JP-A-10-301262, JP-A-11-24277, JP-A-11-109641, JP-A-10-319600, JP-A-10-319600 11-84684, JP-A-11-327152, JP-A-2000-10292, JP-A-2000-235254, JP-A-2000-352854, JP-A-2001-209170, Japanese Patent Application No. 11-284091, etc. Can be mentioned.

<製版方法>
以下、本発明の平版印刷版原版の製版方法について説明する。
本発明の平版印刷版原版は、記録層側の最表面と、バックコート層側の最表面とを直接接触させて複数枚積層してなる積層体(本発明の平版印刷版原版の積層体)を形成した後、この積層体をプレートセッター内にセットし、該平版印刷版原版を1枚ずつ自動搬送した後に、露光処理した後、現像処理を行なうことで製版できる。
本発明の平版印刷版原版は、版の間に合紙を挟み込むことなく積層しても、平版印刷版原版の間の密着性や、保護層へのキズの発生が抑制されるため、上記のような製版方法に適用することができる。また、その製版方法に、平版印刷版原版を合紙を挟み込むことなく積層した積層体(本発明の平版印刷版原版の積層体)を用いることができることから、合紙の除去が不必要となり、製版工程における生産性が向上する。
<Plate making method>
Hereinafter, a method for making a lithographic printing plate precursor according to the present invention will be described.
The lithographic printing plate precursor according to the invention is a laminate in which a plurality of sheets are laminated by directly contacting the outermost surface on the recording layer side and the outermost surface on the backcoat layer side (laminate of the lithographic printing plate precursor according to the invention) Then, the laminate is set in a plate setter, the lithographic printing plate precursor is automatically conveyed one by one, exposed, and then subjected to development.
The lithographic printing plate precursor of the present invention suppresses the adhesion between the lithographic printing plate precursors and the generation of scratches on the protective layer even if they are laminated without interposing the interleaf between the plates. It can be applied to such a plate making method. In addition, since the laminated body (laminated body of the lithographic printing plate precursor of the present invention) in which the lithographic printing plate precursor is laminated without sandwiching the interleaving paper can be used for the plate making method, removal of the interleaving paper becomes unnecessary, Productivity in the plate making process is improved.

本発明の平版印刷版原版が、増感色素として赤外線吸収剤を有する重合性ネガ型感光層上に保護層を設けてなる構成の場合、保護層とバックコート層とを直接接触させて複数枚積層してなる積層体を、プレートセッター内にセットし、該平版印刷版原版を1枚ずつ自動搬送した後に、750nm〜1400nmの波長で露光処理した後、実質的に加熱処理を経ることなく、搬送速度が1.25m/分以上の条件にて現像処理を行なうことで製版できる。   In the case where the lithographic printing plate precursor of the present invention has a constitution in which a protective layer is provided on a polymerizable negative photosensitive layer having an infrared absorber as a sensitizing dye, a plurality of sheets are obtained by directly contacting the protective layer and the backcoat layer. After the laminated body is set in a plate setter and the lithographic printing plate precursor is automatically conveyed one by one, after being exposed at a wavelength of 750 nm to 1400 nm, substantially without undergoing a heat treatment, It is possible to make a plate by carrying out development processing under a condition where the conveyance speed is 1.25 m / min or more.

〔露光〕
本発明における露光処理に用いられる光源としては、公知のものを制限なく用いることができる。光源の波長は300nm〜1200nmの範囲が好ましく、具体的には、各種レーザを光源として用いることができ、中でも、波長760nm〜1200nmの赤外線を放射する半導体レーザを用いることができる。
〔exposure〕
As the light source used for the exposure processing in the present invention, a known light source can be used without limitation. The wavelength of the light source is preferably in the range of 300 nm to 1200 nm. Specifically, various lasers can be used as the light source, and among them, a semiconductor laser that emits infrared light with a wavelength of 760 nm to 1200 nm can be used.

光源としてはレーザが好ましく、例えば、350〜450nmの波長の入手可能なレーザ光源としては以下のものを利用することができる。
ガスレーザとしては、Arイオンレーザ(364nm、351nm、10mW〜1W)、Krイオンレーザ(356nm,351nm,10mW〜1W)、He−Cdレーザ(441nm,325nm,1mW〜100mW)、固体レーザとして、Nd:YAG(YVO)とSHG結晶×2回の組み合わせ(355mm、5mW〜1W)、Cr:LiS
AFとSHG結晶の組み合わせ(430nm,10mW)が挙げられる。半導体レーザ系としては、KNbO、リング共振器(430nm,30mW)、導波型波長変換素子と
AlGaAs、InGaAs半導体の組み合わせ(380nm〜450nm、5mW〜100mW)、導波型波長変換素子とAlGaInP、AlGaAs半導体の組み合わせ(300nm〜350nm、5mW〜100mW)、AlGaInN(350nm〜450nm、5mW〜30mW)、その他、パルスレーザとしてNレーザ(337nm、パル
ス0.1〜10mJ)、XeF(351nm、パルス10〜250mJ)が挙げられる。
特に、この中でAlGaInN半導体レーザ(市販InGaN系半導体レーザ400〜410nm、5〜30mW)が波長特性、コストの面で好適である。
A laser is preferable as the light source. For example, the following laser light sources having a wavelength of 350 to 450 nm can be used.
As a gas laser, Ar ion laser (364 nm, 351 nm, 10 mW to 1 W), Kr ion laser (356 nm, 351 nm, 10 mW to 1 W), He—Cd laser (441 nm, 325 nm, 1 mW to 100 mW), and solid laser Nd: YAG combination of (YVO 4) and SHG crystal × 2 times (355mm, 5mW~1W), Cr: LiS
A combination of AF and SHG crystals (430 nm, 10 mW) can be mentioned. As the semiconductor laser system, KNbO 3 , ring resonator (430 nm, 30 mW), waveguide type wavelength conversion element and AlGaAs, InGaAs semiconductor combination (380 nm to 450 nm, 5 mW to 100 mW), waveguide type wavelength conversion element and AlGaInP, Combination of AlGaAs semiconductors (300 nm to 350 nm, 5 mW to 100 mW), AlGaInN (350 nm to 450 nm, 5 mW to 30 mW), other pulse lasers such as N 2 laser (337 nm, pulse 0.1 to 10 mJ), XeF (351 nm, pulse 10 ~ 250 mJ).
In particular, an AlGaInN semiconductor laser (commercially available InGaN-based semiconductor laser 400 to 410 nm, 5 to 30 mW) is preferable in terms of wavelength characteristics and cost.

その他、450nm〜700nmの入手可能な光源としてはArレーザ−(488n
m)、YAG−SHGレーザ(532nm)、He−Neレーザ(633nm)、He−Cdレーザ、赤色半導体レーザ(650〜690nm)があり、700nm〜1200nmの入手可能な光源としては半導体レーザ(800〜850nm)、Nd−YAGレーザ(1064nm)が好適に利用できる。
In addition, as an available light source of 450 nm to 700 nm, Ar + laser − (488 n
m), YAG-SHG laser (532 nm), He—Ne laser (633 nm), He—Cd laser, and red semiconductor laser (650 to 690 nm). As an available light source of 700 nm to 1200 nm, a semiconductor laser (800˜ 850 nm) and Nd-YAG laser (1064 nm) can be suitably used.

その他、超高圧、高圧、中圧、低圧の各水銀灯、ケミカルランプ、カーボンアーク灯、キセノン灯、メタルハライド灯、紫外のレーザランプ(ArFエキシマレーザ、KrFエキシマレーザなど)、可視の各種レーザランプ、蛍光灯、タングステン灯、太陽光等、放射線としては電子線、X線、イオンビーム、遠赤外線なども利用できる。   In addition, ultra high pressure, high pressure, medium pressure, low pressure mercury lamp, chemical lamp, carbon arc lamp, xenon lamp, metal halide lamp, ultraviolet laser lamp (ArF excimer laser, KrF excimer laser, etc.), various visible laser lamps, fluorescent light An electron beam, an X-ray, an ion beam, a far-infrared ray, or the like can be used as the radiation such as a lamp, a tungsten lamp, or sunlight.

上記の中でも、像露光に用いられる光線の光源としては、近赤外から赤外領域に発光波長を持つ光源が好ましく、固体レーザ、半導体レーザが特に好ましい。   Among the above, as a light source of light used for image exposure, a light source having an emission wavelength in the near infrared to infrared region is preferable, and a solid laser or a semiconductor laser is particularly preferable.

特に、750nm〜1400nmの波長を露光光源として用いる場合、該波長の光を発するものならば特に際限なく使用できるが、好ましくは750nm〜1400nmの波長の赤外線を放射する固体レーザ、或いは半導体レーザにより画像露光されることが好ましい。
レーザの出力は100mW以上が好ましく、露光時間を短縮するため、マルチビームレーザデバイスを用いることが好ましい。また、1画素あたりの露光時間は20μ秒以内であることが好ましい。平版印刷版原版に照射される単位あたりのエネルギー量は10〜300mJ/cmであることが好ましい。
In particular, when a wavelength of 750 nm to 1400 nm is used as an exposure light source, it can be used without particular limitation as long as it emits light of the wavelength, but preferably an image is emitted by a solid laser or semiconductor laser emitting infrared rays of a wavelength of 750 nm to 1400 nm. It is preferable to be exposed.
The laser output is preferably 100 mW or more, and a multi-beam laser device is preferably used in order to shorten the exposure time. The exposure time per pixel is preferably within 20 μsec. The amount of energy per unit irradiated on the lithographic printing plate precursor is preferably 10 to 300 mJ / cm 2 .

本発明における露光処理では、光源の光ビームをオーバーラップさせて露光することができる。オーバーラップとは副走査ピッチ幅がビーム径より小さいことをいう。オーバーラップは、例えば、ビーム径をビーム強度の半値幅(FWHM)で表わしたとき、FWHM/副走査ピッチ幅(オーバーラップ係数)で定量的に表現することができる。本発明ではこのオーバーラップ係数が0.1以上であることが好ましい。   In the exposure processing in the present invention, exposure can be performed by overlapping light beams of light sources. Overlap means that the sub-scanning pitch width is smaller than the beam diameter. The overlap can be expressed quantitatively by FWHM / sub-scanning pitch width (overlap coefficient), for example, when the beam diameter is expressed by the half width (FWHM) of the beam intensity. In the present invention, the overlap coefficient is preferably 0.1 or more.

本発明に使用する露光装置の光源の走査方式は特に限定はなく、円筒外面走査方式、円筒内面走査方式、平面走査方式などを用いることができる。また、光源のチャンネルは単チャンネルでもマルチチャンネルでもよいが、円筒外面方式の場合にはマルチチャンネルが好ましく用いられる。   The scanning method of the light source of the exposure apparatus used in the present invention is not particularly limited, and a cylindrical outer surface scanning method, a cylindrical inner surface scanning method, a planar scanning method, or the like can be used. The channel of the light source may be a single channel or a multi-channel, but in the case of a cylindrical outer surface system, a multi-channel is preferably used.

本発明においては、上述のように露光処理された平版印刷版原版は、加熱処理及び水洗処理を行ってもよい。
また、平版印刷版原版の種類によっては、例えば、重合性ネガ型感光層を有する場合には、特段の加熱処理及び水洗処理を行なうことなく、現像処理に供されてもよい。この加熱処理を行なわないことで、加熱処理に起因する画像の不均一性を抑制することができる。また、加熱処理及び水洗処理を行なわないことで、現像処理において安定な高速処理が可能となる。
In the present invention, the lithographic printing plate precursor subjected to the exposure treatment as described above may be subjected to a heat treatment and a water washing treatment.
Further, depending on the type of the lithographic printing plate precursor, for example, when it has a polymerizable negative photosensitive layer, it may be subjected to development processing without performing special heat treatment and water washing treatment. By not performing this heat treatment, image non-uniformity due to the heat treatment can be suppressed. Further, by performing neither heat treatment nor water washing treatment, stable high-speed processing is possible in development processing.

〔現像〕
本発明における現像処理では、現像液を用いて、感光層の非画像部を除去する。
なお、本発明においては、上述のように、増感色素として赤外線吸収剤を有する重合性ネガ型感光層上に保護層を設けてなる構成の平版印刷版原版の場合、現像処理における処理速度、即ち、現像処理における平版印刷版原版の搬送速度(ライン速度)は、1.25m/分以上であることが好ましく、より好ましくは、1.35m/分以上である。また、搬送速度の上限値には特に制限はないが、搬送の安定性の観点からは、3m/分以下であることが好ましい。
以下、本発明に用いられる現像液について説明する。
〔developing〕
In the development processing in the present invention, a non-image portion of the photosensitive layer is removed using a developer.
In the present invention, as described above, in the case of a lithographic printing plate precursor having a protective layer on a polymerizable negative photosensitive layer having an infrared absorber as a sensitizing dye, the processing speed in the development process, That is, the transport speed (line speed) of the lithographic printing plate precursor in the development process is preferably 1.25 m / min or more, more preferably 1.35 m / min or more. Moreover, there is no restriction | limiting in particular in the upper limit of a conveyance speed, However, From a viewpoint of stability of conveyance, it is preferable that it is 3 m / min or less.
Hereinafter, the developer used in the present invention will be described.

(現像液)
本発明に用いられる現像液は、pH14以下のアルカリ水溶液であることが好ましく、また、芳香族アニオン界面活性剤を含有することが好ましい。
(Developer)
The developer used in the present invention is preferably an alkaline aqueous solution having a pH of 14 or less, and preferably contains an aromatic anionic surfactant.

(芳香族アニオン界面活性剤)
本発明における現像液に用いられる芳香族アニオン界面活性剤は、現像促進効果、重合性ネガ型の感光層成分及び保護層成分の現像液中での分散安定化効果があり、現像処理安定化において好ましい。中でも、本発明に用いられる芳香族アニオン界面活性剤としては、下記一般式(A)又は一般式(B)で表される化合物であることが好ましい。
(Aromatic anionic surfactant)
The aromatic anionic surfactant used in the developer in the present invention has a development accelerating effect and a dispersion stabilizing effect in the developer of the polymerizable negative photosensitive layer component and the protective layer component. preferable. Among these, the aromatic anionic surfactant used in the present invention is preferably a compound represented by the following general formula (A) or general formula (B).

上記一般式(A)又は一般式(B)において、R、Rは、それぞれ独立に、直鎖又は分岐鎖の炭素原子数1〜5のアルキレン基を表し、具体的には、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基等が挙げられ、中でも、エチレン基、プロピレン基が特に好ましい。
m、nは、それぞれ独立に、1〜100から選択される整数を表し、中でも、1〜30が好ましく、2〜20がより好ましい。また、mが2以上の場合、複数存在するRは同一でも異なっていてもよい。同じく、nが2以上の場合、複数存在するRは同一でも異なっていてもよい。
t、uは、それぞれ独立に、0又は1を表す。
In the above general formula (A) or general formula (B), R 1 and R 3 each independently represents a linear or branched alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, specifically, an ethylene group. , Propylene group, butylene group, pentylene group and the like, among which ethylene group and propylene group are particularly preferable.
m and n each independently represent an integer selected from 1 to 100. Among them, 1 to 30 are preferable, and 2 to 20 are more preferable. When m is 2 or more, a plurality of R 1 may be the same or different. Similarly, when n is 2 or more, a plurality of R 3 may be the same or different.
t and u each independently represents 0 or 1.

、Rは、それぞれ独立に、直鎖又は分岐鎖の炭素数1〜20のアルキル基を表し、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、ドデシル基等が挙げられ、中でも、メチル基、エチル基、iso−プロピル基、n−プロピル基、n−ブチル基、iso−ブチル基、tert−ブチル基が特に好ましい。
p、qはそれぞれ、0〜2から選択される整数を表す。Y、Yは、それぞれ単結合、又は炭素原子数1〜10のアルキレン基を表し、具体的には、単結合、メチレン基、エチレン基が好ましく、特に単結合が好ましい。
(Zr+、(Zs+は、それぞれ独立に、アルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン、或いは、無置換又はアルキル基で置換されたアンモニウムイオンを表し、具体例としては、リチウムイオン、ナトリウムイオン、カリウムイオン、マグネシウムイオン、カルシウムイオン、アンモニウムイオン、炭素数1〜20の範囲の、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基が置換した2級〜4級のアンモニウムイオンなどが挙げられ、特に、ナトリウムイオンが好ましい。r、sはそれぞれ、1又は2を表す。
以下に、具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
R 2 and R 4 each independently represent a linear or branched alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, specifically, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, dodecyl group Among them, a methyl group, an ethyl group, an iso-propyl group, an n-propyl group, an n-butyl group, an iso-butyl group, and a tert-butyl group are particularly preferable.
p and q each represent an integer selected from 0 to 2; Y 1 and Y 2 each represent a single bond or an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms. Specifically, a single bond, a methylene group or an ethylene group is preferable, and a single bond is particularly preferable.
(Z 1 ) r + and (Z 2 ) s + each independently represents an alkali metal ion, an alkaline earth metal ion, or an ammonium ion that is unsubstituted or substituted with an alkyl group. Sodium ion, potassium ion, magnesium ion, calcium ion, ammonium ion, secondary to quaternary ammonium ion substituted with an alkyl group, aryl group, or aralkyl group in the range of 1 to 20 carbon atoms, etc. In particular, sodium ion is preferable. r and s each represent 1 or 2.
Specific examples are shown below, but the present invention is not limited thereto.

これら芳香族アニオン界面活性剤は、単独で使用してもよいし、2種以上を適宜組み合わせて使用してもよい。芳香族アニオン界面活性剤の添加量は、現像液中における芳香族アニオン界面活性剤の濃度が1.0〜10質量%の範囲とすることが好ましく、より好ましくは2〜10質量%の範囲とすることが効果的である。ここで、含有量が1.0質量%以下であると、現像性低下及び感光層成分の溶解性低下を招き、含有量が10質量%以上であると、印刷版の耐刷性を低下させる。   These aromatic anionic surfactants may be used alone or in appropriate combination of two or more. The amount of the aromatic anionic surfactant added is preferably such that the concentration of the aromatic anionic surfactant in the developer is in the range of 1.0 to 10% by mass, more preferably in the range of 2 to 10% by mass. It is effective to do. Here, if the content is 1.0% by mass or less, the developability and the solubility of the photosensitive layer components are lowered, and if the content is 10% by mass or more, the printing durability of the printing plate is reduced. .

本発明に係る現像液には、前記芳香族アニオン界面活性剤以外に、その他の界面活性剤を併用してもよい。その他の界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンナフチルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンステアレート等のポリオキシエチレンアルキルエステル類、ソルビタンモノラウレート、ソルビタンモノステアレート、ソルビタンジステアレート、ソルビタンモノオレエート、ソルビタンセスキオレエート、ソルビタントリオレエート等のソルビタンアルキルエステル類、グリセロールモノステアレート、グリセロールモノオレート等のモノグリセリドアルキルエステル類等のノニオン界面活性剤である。
これらその他の界面活性剤の現像液中における含有量は有効成分換算で、0.1から10質量%が好ましい。
In addition to the aromatic anionic surfactant, other surfactants may be used in combination with the developer according to the present invention. Examples of other surfactants include polyoxyethylene naphthyl ether, polyoxyethylene alkylphenyl ether, polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene cetyl ether, polyoxyethylene alkyl ethers such as polyoxyethylene stearyl ether, Polyoxyethylene alkyl esters such as oxyethylene stearate, sorbitan monolaurate, sorbitan monostearate, sorbitan distearate, sorbitan monooleate, sorbitan sesquioleate, sorbitan triesterate and other sorbitan alkyl esters, glycerol mono Nonionic surfactants such as monoglyceride alkyl esters such as stearate and glycerol monooleate.
The content of these other surfactants in the developer is preferably from 0.1 to 10% by mass in terms of active ingredients.

(2価金属に対するキレート剤)
本発明に係る現像液には、例えば、硬水に含まれるカルシウムイオンなどによる影響を抑制する目的で、2価金属に対するキレート剤を含有させることが好ましい。2価金属に対するキレート剤としては、例えば、Na、Na、Na、NaP(NaOP)PONa、カルゴン(ポリメタリン酸ナトリウム)などのポリリン酸塩、例えばエチレンジアミンテトラ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩、そのアミン塩;ジエチレントリアミンペンタ酢酸、そのカリウム塩、ナトリウム塩;トリエチレンテトラミンヘキサ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;ヒドロキシエチルエチレンジアミントリ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;ニトリロトリ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;1,2−ジアミノシクロヘキサンテトラ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;1,3−ジアミノ−2−プロパノールテトラ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩などのようなアミノポリカルボン酸類の他2−ホスホノブタントリカルボン酸−1,2,4、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;2−ホスホノブタノントリカルボン酸−2,3,4、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;1−ホスホノエタントリカルボン酸−1,2、2、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;1−ヒドロキシエタン−1,1−ジホスホン酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;アミノトリ(メチレンホスホン酸)、そのカリウム塩、そのナトリウム塩などのような有機ホスホン酸類を挙げることができ、中でも、エチレンジアミンテトラ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩、そのアミン塩;エチレンジアミンテトラ(メチレンホスホン酸)、そのアンモニウム塩、そのカリウム塩、;ヘキサメチレンジアミンテトラ(メチレンホスホン酸)、そのアンモニウム塩、そのカリウム塩が好ましい。
このようなキレート剤の最適量は使用される硬水の硬度及びその使用量に応じて変化するが、一般的には、使用時の現像液中に0.01〜5質量%、より好ましくは0.01〜0.5質量%の範囲で含有させる。
(Chelating agent for divalent metals)
The developer according to the present invention preferably contains a chelating agent for a divalent metal, for example, for the purpose of suppressing the influence of calcium ions contained in hard water. Examples of chelating agents for divalent metals include Na 2 P 2 O 7 , Na 5 P 3 O 3 , Na 3 P 3 O 9 , Na 2 O 4 P (NaO 3 P) PO 3 Na 2 , Calgon (polymetalin). Polyphosphates such as ethylenediaminetetraacetic acid, its potassium salt, its sodium salt, its amine salt; diethylenetriaminepentaacetic acid, its potassium salt, sodium salt; triethylenetetraminehexaacetic acid, its potassium salt, its sodium salt Hydroxyethylethylenediaminetriacetic acid, its potassium salt, its sodium salt; nitrilotriacetic acid, its potassium salt, its sodium salt; 1,2-diaminocyclohexanetetraacetic acid, its potassium salt, its sodium salt; 1,3-diamino-2 -Propanol tetraacetic acid 2-phosphonobutanetricarboxylic acid-1,2,4, potassium salt, sodium salt thereof; 2-phosphonobutanone tricarboxylic acid-2, in addition to aminopolycarboxylic acids such as potassium salt, sodium salt, etc. 3,4, its potassium salt, its sodium salt; 1-phosphonoethanetricarboxylic acid-1,2,2, its potassium salt, its sodium salt; 1-hydroxyethane-1,1-diphosphonic acid, its potassium salt, Examples thereof include organic phosphonic acids such as aminotri (methylenephosphonic acid), potassium salt, sodium salt, and the like. Among them, ethylenediaminetetraacetic acid, potassium salt, sodium salt, amine salt; ethylenediamine; Tetra (methylenephosphonic acid), its ammonium salt, its potash Salt; hexamethylenediamine tetra (methylene phosphonic acid), an ammonium salt, its potassium salt is preferred.
The optimum amount of such a chelating agent varies depending on the hardness of the hard water used and the amount used, but is generally 0.01 to 5% by mass, more preferably 0% in the developing solution at the time of use. It is made to contain in the range of 0.01-0.5 mass%.

また、本発明に係る現像液には、現像調整剤として有機酸のアルカリ金属塩類、無機酸のアルカリ金属塩類を加えてもよい。例えば、炭酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、クエン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウムなどを単独若しくは2種以上を組み合わせて混合して用いてもよい。   Further, an alkali metal salt of an organic acid or an alkali metal salt of an inorganic acid may be added to the developer according to the present invention as a development regulator. For example, sodium carbonate, potassium, ammonium, sodium citrate, potassium, ammonium and the like may be used alone or in combination of two or more.

(アルカリ剤)
本発明に係る現像液に用いられるアルカリ剤としては、例えば、第3リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、硼酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、水酸化ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、及び同リチウムなどの無機アルカリ剤及び、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、n−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピリジン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシドなどの有機アルカリ剤等が挙げられる。本発明においては、これらを単独で用いてもよいし、若しくは2種以上を組み合わせて混合して用いてもよい。
(Alkaline agent)
Examples of the alkaline agent used in the developer according to the present invention include tribasic sodium phosphate, potassium, ammonium, sodium borate, potassium, ammonium, sodium hydroxide, potassium, ammonium, and lithium. Inorganic alkaline agents such as monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, triisopropylamine, n-butylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanolamine And organic alkali agents such as diisotopanolamine, ethyleneimine, ethylenediamine, pyridine, and tetramethylammonium hydroxide. In the present invention, these may be used alone or in combination of two or more.

また、上記以外のアルカリ剤として、アルカリ珪酸塩を挙げることができる。アルカリ珪酸塩は塩基と組み合わせて使用してもよい。使用するアルカリ珪酸塩としては、水に溶解したときにアルカリ性を示すものであって、例えば珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、珪酸リチウム、珪酸アンモニウムなどがある。これらのアルカリ珪酸塩は1種単独でも、2種以上を組み合わせて用いてもよい。   Moreover, alkali silicate can be mentioned as alkali agents other than the above. Alkali silicates may be used in combination with a base. The alkali silicate to be used exhibits alkalinity when dissolved in water, and examples thereof include sodium silicate, potassium silicate, lithium silicate, and ammonium silicate. These alkali silicates may be used alone or in combination of two or more.

本発明に用いられる現像液は、支持体の親水化成分としての珪酸塩の成分である酸化ケイ素SiOと、アルカリ成分としてのアルカリ酸化物MO(Mはアルカリ金属又はアンモニウム基を表す)との混合比率、及び濃度の調整により、最適な範囲に容易に調節することができる。酸化ケイ素SiOとアルカリ酸化物MOとの混合比率(SiO/MOのモル比)は、支持体の陽極酸化皮膜が過度に溶解(エッチング)されることに起因する放置汚れや、溶解アルミニウムと珪酸塩との錯体形成に起因する不溶性ガスの発生を抑制するといった観点から、好ましくは0.75〜4.0の範囲であり、より好ましくは0.75〜3.5の範囲で使用される。 The developer used in the present invention is composed of silicon oxide SiO 2 which is a silicate component as a hydrophilizing component of a support and alkali oxide M 2 O as an alkali component (M represents an alkali metal or ammonium group). By adjusting the mixing ratio and concentration, it can be easily adjusted to the optimum range. The mixing ratio of the silicon oxide SiO 2 and the alkali oxide M 2 O (the molar ratio of SiO 2 / M 2 O) is the amount of unclean stains caused by excessive dissolution (etching) of the anodic oxide film of the support. From the viewpoint of suppressing the generation of insoluble gas resulting from complex formation between dissolved aluminum and silicate, the range is preferably 0.75 to 4.0, more preferably 0.75 to 3.5. Used in.

また、現像液中のアルカリ珪酸塩の濃度としては、支持体の陽極酸化皮膜の溶解(エッチング)抑制効果、現像性、沈殿や結晶生成の抑制効果、及び廃液時における中和の際のゲル化防止効果などの観点から、現像液の質量に対して、SiO量として、0.01〜1mol/Lが好ましく、より好ましくは0.05〜0.8mol/Lの範囲で使用される。 In addition, the alkali silicate concentration in the developer includes the effect of inhibiting dissolution (etching) of the anodic oxide film on the support, the developability, the effect of inhibiting precipitation and crystal formation, and the gelation during neutralization during waste From the viewpoint of the prevention effect and the like, the SiO 2 amount is preferably 0.01 to 1 mol / L, more preferably 0.05 to 0.8 mol / L with respect to the mass of the developer.

本発明において使用される現像液には、上記の成分の他に、必要に応じて以下のような成分を併用することができる。例えば、安息香酸、フタル酸、p−エチル安息香酸、p−n−プロピル安息香酸、p−イソプロピル安息香酸、p−n−ブチル安息香酸、p−t−ブチル安息香酸、p−t−ブチル安息香酸、p−2−ヒドロキシエチル安息香酸、デカン酸、サリチル酸、3−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸等の有機カルボン酸;プロピレングリコール等の有機溶剤;この他、還元剤、染料、顔料、硬水軟化剤、防腐剤等が挙げられる。   In addition to the above components, the following components can be used in combination in the developer used in the present invention, if necessary. For example, benzoic acid, phthalic acid, p-ethylbenzoic acid, pn-propylbenzoic acid, p-isopropylbenzoic acid, pn-butylbenzoic acid, pt-butylbenzoic acid, pt-butylbenzoic acid Acids, p-2-hydroxyethylbenzoic acid, decanoic acid, salicylic acid, organic carboxylic acids such as 3-hydroxy-2-naphthoic acid; organic solvents such as propylene glycol; other reducing agents, dyes, pigments, water softeners And preservatives.

本発明に用いられる現像液は、25℃におけるpHが10〜12.5の範囲であることが好ましく、pH11〜12.5の範囲であることがより好ましい。本発明における現像液は、前記界面活性剤を含むため、このような低pHの現像液を用いても、非画像部において優れた現像性を発現する。このように、現像液のpHを比較的低い値とすることにより、現像時における画像部へのダメージを軽減するとともに、現像液の取扱い性にも優れる。   The developer used in the present invention preferably has a pH in the range of 10 to 12.5 at 25 ° C, and more preferably in the range of pH 11 to 12.5. Since the developer in the present invention contains the surfactant, even if such a low pH developer is used, excellent developability is exhibited in the non-image area. Thus, by setting the pH of the developing solution to a relatively low value, damage to the image area during development is reduced and the handling property of the developing solution is excellent.

また、該現像液の導電率xは、2<x<30mS/cmであることが好ましく、5〜25mS/cmであることがより好ましい。
ここで、導電率を調整するための導電率調整剤として、有機酸のアルカリ金属塩類、無機酸のアルカリ金属塩類等を添加することが好ましい。
The conductivity x of the developer is preferably 2 <x <30 mS / cm, more preferably 5 to 25 mS / cm.
Here, it is preferable to add an alkali metal salt of an organic acid, an alkali metal salt of an inorganic acid, or the like as a conductivity adjusting agent for adjusting the conductivity.

上記の現像液は、露光された平版印刷版原版の現像液及び現像補充液として用いることができ、自動現像機に適用することが好ましい。自動現像機を用いて現像する場合、処理量に応じて現像液が疲労してくるので、補充液又は新鮮な現像液を用いて処理能力を回復させてもよい。本発明の製版方法においてもこの補充方式が好ましく適用される。   The developer can be used as a developer and a development replenisher for the exposed lithographic printing plate precursor, and is preferably applied to an automatic processor. When developing using an automatic developing machine, the developing solution becomes fatigued according to the amount of processing, so that the processing capability may be restored by using a replenishing solution or a fresh developing solution. This replenishment method is also preferably applied to the plate making method of the present invention.

更に、自動現像機を用いて、現像液の処理能力を回復させるためには、米国特許第4,882,246号に記載されている方法で補充することが好ましい。また、特開昭50−26601号、同58−54341号、特公昭56−39464号、同56−42860号、同57−7427号の各公報に記載されている現像液も好ましい。     Furthermore, in order to restore the processing capacity of the developer using an automatic developing machine, it is preferable to replenish by the method described in US Pat. No. 4,882,246. Developers described in JP-A-50-26601, 58-54341, JP-B-56-39464, 56-42860, and 57-7427 are also preferable.

本発明のより好ましい現像補充液は、アルミニウムイオンと水溶性キレート化合物形成能を有するオキシカルボン酸キレート剤と、アルカリ金属の水酸化物と、界面活性剤とを含有し、ケイ酸塩を含有せず、pH11〜13.5の水溶液であることを特徴とする現像補充液である。このような現像補充液を使用することにより、優れた現像性と版材の画像部の強度を損なうことの無い特性を有し、現像液のアルカリによりアルミニウム支持体が溶出されて形成する水酸化アルミニウムの析出が効果的に抑制され、自動現像機の現像浴ローラー表面への水酸化アルミニウムを主成分とする汚れの付着や、引き続く水洗浴内への水酸化アルミニウム析出物の蓄積が低減され、長期間安定に処理することができる。   A more preferred development replenisher of the present invention contains an oxycarboxylic acid chelating agent having an ability to form a water-soluble chelate compound with aluminum ions, an alkali metal hydroxide, and a surfactant, and contains a silicate. A developing replenisher characterized by being an aqueous solution having a pH of 11 to 13.5. By using such a development replenisher, it has excellent developability and characteristics that do not impair the strength of the image area of the plate material, and is formed by elution of the aluminum support by the alkali of the developer. Precipitation of aluminum is effectively suppressed, and adhesion of stains mainly composed of aluminum hydroxide to the surface of the developing bath roller of the automatic processor and subsequent accumulation of aluminum hydroxide precipitates in the washing bath are reduced. It can be processed stably for a long time.

このようにして現像処理された平版印刷版は、特開昭54−8002号、同55−115045号、同59−58431号等の各公報に記載されているように、水洗水、界面活性剤等を含有するリンス液、アラビアガムや澱粉誘導体等を含む不感脂化液で後処理される。これらの処理を種々組み合わせて行ってもよい。   The lithographic printing plate thus developed is washed with water or a surfactant as described in JP-A Nos. 54-8002, 55-1115045, 59-58431, and the like. And the like, and a post-treatment with a desensitizing solution containing gum arabic, starch derivatives and the like. These processes may be performed in various combinations.

更に、現像後の平版印刷版は、画像強度・耐刷性の向上を目的として、現像後の画像に対し、全面後加熱若しくは、全面露光を行うこともできる。
現像後の加熱には非常に強い条件を利用することができる。通常は加熱温度が200〜500℃の範囲で実施される。現像後の加熱温度が低いと十分な画像強化作用が得られず、高すぎる場合には支持体の劣化、画像部の熱分解といった問題を生じるおそれがある。
Furthermore, the lithographic printing plate after development can be subjected to full post-heating or full exposure on the developed image for the purpose of improving image strength and printing durability.
Very strong conditions can be used for heating after development. Usually, the heating temperature is 200 to 500 ° C. If the heating temperature after development is low, sufficient image strengthening action cannot be obtained, and if it is too high, problems such as deterioration of the support and thermal decomposition of the image area may occur.

以上の処理によって得られた平版印刷版はオフセット印刷機に掛けられ、多数枚の印刷に用いられる。
印刷時、版上の汚れ除去のため使用するプレートクリーナーとしては、従来より知られているPS版用プレートクリーナーが使用され、例えば、マルチクリーナー、CL−1、CL−2、CP、CN−4、CN、CG−1、PC−1、SR、IC(富士写真フイルム(株)製)等が挙げられる。
The planographic printing plate obtained by the above processing is loaded on an offset printing machine and used for printing a large number of sheets.
As plate cleaners used for removing stains on the plate during printing, conventionally known plate cleaners for PS plates are used, for example, multi cleaner, CL-1, CL-2, CP, CN-4. , CN, CG-1, PC-1, SR, IC (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) and the like.

以下、実施例によって本発明を説明するが本発明はこれらに限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described by way of examples, but the present invention is not limited thereto.

〔合成例1:重合体(P−1)の合成〕
ビスムチオール(2,5−ジメルカプト−1,3−4−チアジアゾール)150gを600mlのメタノール中に懸濁させ、冷却しながらトリエチルアミン101gを徐々に添加し、均一な溶液を得た。室温下に保ちながらp−クロロメチルスチレン(セイミケミカル製、CMS−14)を10分に亘り滴下し、更に3時間攪拌を続けた。反応生成物が次第に析出し、攪拌後に氷浴に移し内温を10℃まで冷却した後、吸引濾過により生成物を分離した。メタノールにより洗浄を行い、真空乾燥器内で1昼夜乾燥することで、収率75%で下記に示す化合物(モノマー)を得た。
[Synthesis Example 1: Synthesis of polymer (P-1)]
150 g of bismuthiol (2,5-dimercapto-1,3-4-thiadiazole) was suspended in 600 ml of methanol, and 101 g of triethylamine was gradually added while cooling to obtain a uniform solution. While maintaining at room temperature, p-chloromethylstyrene (manufactured by Seimi Chemical Co., CMS-14) was added dropwise over 10 minutes, and stirring was further continued for 3 hours. The reaction product gradually precipitated. After stirring, the reaction product was transferred to an ice bath, the internal temperature was cooled to 10 ° C., and the product was separated by suction filtration. The compound (monomer) shown below was obtained with a yield of 75% by washing with methanol and drying for one day in a vacuum dryer.



上記で得られたモノマー40gを、攪拌機、窒素導入管、温度計、還流冷却管を備えた1リッター4ツ口フラスコ内にとり、メタクリル酸70g及びエタノール200ml、蒸留水50mlを加え、攪拌しながら水浴上でトリエチルアミン110gを添加した。窒素雰囲気下で内温を70℃になるよう加熱し、この温度でアゾビスイソブチロニトリル(AIBN)を1g添加し、重合を開始した。6時間加熱攪拌を行い、その後重合系を室温まで冷却した。一部を取り出し、希塩酸を加えてpHを3程度に調整し、これを水中にあけることで下記に示す構造の重合体(ポリマー)を得た。   40 g of the monomer obtained above is placed in a 1-liter four-necked flask equipped with a stirrer, a nitrogen inlet tube, a thermometer, and a reflux condenser, 70 g of methacrylic acid, 200 ml of ethanol and 50 ml of distilled water are added, and the water bath is stirred. Above, 110 g of triethylamine was added. Under nitrogen atmosphere, the internal temperature was heated to 70 ° C., and 1 g of azobisisobutyronitrile (AIBN) was added at this temperature to initiate polymerization. The mixture was heated and stirred for 6 hours, and then the polymerization system was cooled to room temperature. A part was taken out, diluted hydrochloric acid was added to adjust the pH to about 3, and this was opened in water to obtain a polymer having the structure shown below.


上記の重合体の一部を取り出した残りの重合体溶液中に、1,4−ジオキサン100g及びp−クロロメチルスチレンを23g加え、室温で更に15時間攪拌を続けた。その後、濃塩酸(35〜37%水溶液)80〜90gを加え、系のpHが4以下になったことを確認後、3リッターの蒸留水中に全体を移した。析出した重合体を濾過により分離し、蒸留水にて洗浄を繰り返した後、真空乾燥器内で1昼夜乾燥した。これにより、収率90%で目的とする重合体(P−1)を得た。ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによる分子量測定により、重量平均分子量90,000(ポリスチレン換算)の重合体であり、更に、プロトンNMRによる解析により、重合体(P−1)の構造を支持するものであることが確認された。重合体(P−1)は、一般式(2)で表される基を側鎖に有するバインダーポリマー(特定バインダーポリマー(2))の具体例(P−1)として前記した化合物である。   100 g of 1,4-dioxane and 23 g of p-chloromethylstyrene were added to the remaining polymer solution from which a part of the polymer was taken out, and stirring was further continued at room temperature for 15 hours. Thereafter, 80 to 90 g of concentrated hydrochloric acid (35 to 37% aqueous solution) was added, and after confirming that the pH of the system was 4 or less, the whole was transferred into 3 liters of distilled water. The precipitated polymer was separated by filtration, washed repeatedly with distilled water, and then dried for one day in a vacuum dryer. Thereby, the target polymer (P-1) was obtained with a yield of 90%. It is a polymer having a weight average molecular weight of 90,000 (polystyrene conversion) by molecular weight measurement by gel permeation chromatography, and further supports the structure of the polymer (P-1) by analysis by proton NMR. Was confirmed. The polymer (P-1) is the compound described above as a specific example (P-1) of the binder polymer (specific binder polymer (2)) having a group represented by the general formula (2) in the side chain.

〔合成例2:モノマー(C−5)の合成〕
チオシアヌル酸89gをメタノール1.5リッターに懸濁し、冷却しながら水酸化カリウム84gを溶解した30%水溶液を徐々に加え、均一な溶液を得た。これに、室温下でp−クロロメチルスチレン230gを内温が40℃を越えないよう徐々に滴下した。添加後まもなく生成物が析出してくるが攪拌を続け、3時間攪拌を行った後に吸引濾過により
生成物を分離した。メタノールにより洗浄を行い、真空乾燥器内で一昼夜乾燥を行った後、90%の収率で、モノマー(C−5)を得た。モノマー(C−5)は、一般式(3)で表される化合物(特定モノマー)の具体例(C−5)として前記した化合物である。
[Synthesis Example 2: Synthesis of Monomer (C-5)]
A thirocyanuric acid 89g was suspended in 1.5 liters of methanol, and a 30% aqueous solution in which 84 g of potassium hydroxide was dissolved was gradually added while cooling to obtain a uniform solution. To this, 230 g of p-chloromethylstyrene was gradually added dropwise at room temperature so that the internal temperature did not exceed 40 ° C. Shortly after the addition, the product precipitated, but the stirring was continued, and after stirring for 3 hours, the product was separated by suction filtration. After washing with methanol and drying all day and night in a vacuum dryer, a monomer (C-5) was obtained with a yield of 90%. The monomer (C-5) is the compound described above as a specific example (C-5) of the compound (specific monomer) represented by the general formula (3).

〔合成例3:重合体(P−2)の合成〕
N,N−ジメチルアセトアミド(352.1g)を、マントルヒーター、温度調節器、機械攪拌機、コンデンサー、等圧滴下ロートおよび窒素導入管を取り付けた1リットルの4つ口フラスコに仕込んだ。次いで、4,4’−メチレン−ビス(フェニルイソシアナート)(150.4g)(0.6mol)を、室温で攪拌しながらゆっくりと加えた。10分後、2,2−ジメチロールプロパン酸(40.2g)(0.3mol)を周囲温度で加えた。反応混合物の温度が、57℃まで上昇した。次いで、3−アリルオキシ−1,2−プロパンジオール(43.6g)(0.33mol)を30分にわたって加えた。その反応混合物をさらに2時間攪拌し、重合体(P−2)を含む透明溶液を得た。反応の完了は、2275cm−1におけるイソシアナートの赤外吸収帯の消失により判定した。なお、得られた透明溶液は、不揮発分40%においてZの動粘度(ガードナー−ホルト)を有していた。
[Synthesis Example 3: Synthesis of Polymer (P-2)]
N, N-dimethylacetamide (352.1 g) was charged into a 1 liter four-necked flask equipped with a mantle heater, temperature controller, mechanical stirrer, condenser, isobaric dropping funnel and nitrogen inlet tube. Then 4,4′-methylene-bis (phenyl isocyanate) (150.4 g) (0.6 mol) was added slowly with stirring at room temperature. After 10 minutes, 2,2-dimethylolpropanoic acid (40.2 g) (0.3 mol) was added at ambient temperature. The temperature of the reaction mixture rose to 57 ° C. Then 3-allyloxy-1,2-propanediol (43.6 g) (0.33 mol) was added over 30 minutes. The reaction mixture was further stirred for 2 hours to obtain a transparent solution containing the polymer (P-2). Completion of the reaction was determined by the disappearance of the infrared absorption band of isocyanate at 2275 cm −1 . The obtained transparent solution had a kinematic viscosity (Gardner-Holt) of Z 1 at a nonvolatile content of 40%.

次いで、重合体(P−2)を含む透明溶液を、シルバーストンモデル#L4RT−A(Silverston Model #L4RT−A)多目的高せん断ラボラトリーミキサーを用いて6000rpmで攪拌しながら水(4.5Kg)と氷(1.5Kg)を加えて、重合体(P−2)を粉末状に沈殿させた。その混合物を、シリーズ2000、モデル#84、ラボラトリーディスパーセータ(Series 2000, Model #84, Laboratory Dispersator)を用いて、約10から15分間、4000rpmで攪拌した。さらに、重合体(P−2)を濾別し、乾燥オーブン中60℃で乾燥した。重合体(P−2)は、該重合体1グラム当たり約1.41meqのアリル基を有していた。また、重合体(P−2)の酸価は、該重合体1グラム当たり57mgのKOHであった。更に、重合体(P−2)の重量平均分子量は100,000である。
この重合体(P−2)は、特定バインダーポリマー(3)に相当する。
Next, the clear solution containing the polymer (P-2) was stirred with water (4.5 Kg) while stirring at 6000 rpm using a Silverstone Model # L4RT-A (Silverston Model # L4RT-A) multipurpose high shear laboratory mixer. Ice (1.5 Kg) was added to precipitate the polymer (P-2) in powder form. The mixture was agitated at 4000 rpm for about 10-15 minutes using a Series 2000, Model # 84, laboratory dispersator (Series 2000, Model # 84, Laboratory Dispersator). Furthermore, the polymer (P-2) was separated by filtration and dried at 60 ° C. in a drying oven. The polymer (P-2) had about 1.41 meq of allyl group per gram of the polymer. The acid value of the polymer (P-2) was 57 mg KOH per gram of the polymer. Furthermore, the weight average molecular weight of the polymer (P-2) is 100,000.
This polymer (P-2) corresponds to the specific binder polymer (3).

参考例1〕
(支持体の作製)
厚さ0.30mm、幅1030mmのJIS A 1050アルミニウム板を用いて、以下に示す表面処理を行った。
[ Reference Example 1]
(Production of support)
The surface treatment shown below was performed using a JIS A 1050 aluminum plate having a thickness of 0.30 mm and a width of 1030 mm.

<表面処理>
表面処理は、以下の(a)〜(f)の各種処理を連続的に行った。なお、各処理及び水洗の後にはニップローラで液切りを行った。
<Surface treatment>
In the surface treatment, the following various treatments (a) to (f) were continuously performed. In addition, after each process and water washing, the liquid was drained with the nip roller.

(a)アルミニウム板を苛性ソーダ濃度26質量%、アルミニウムイオン濃度6.5質量%、温度70℃でエッチング処理を行い、アルミニウム板を5g/m溶解した。その後水洗を行った。 (A) The aluminum plate was etched at a caustic soda concentration of 26 mass%, an aluminum ion concentration of 6.5 mass%, and a temperature of 70 ° C. to dissolve the aluminum plate by 5 g / m 2 . Thereafter, it was washed with water.

(b)温度30℃の硝酸濃度1質量%水溶液(アルミニウムイオン0.5質量%含む)で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後水洗した。 (B) A desmut treatment by spraying was performed with a 1% by mass aqueous solution of nitric acid having a temperature of 30 ° C. (including 0.5% by mass of aluminum ions), and then washed with water.

(c)60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。この時の電解液は、硝酸1質量%水溶液(アルミニウムイオン0.5質量%、アンモニウムイオン0.007質量%含む)、温度30℃であった。交流電源は電流値がゼロからピークに達するまでの時間TPが2msec、duty比1:1、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電流密度は電流のピーク値で25A/dm、電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で250C/cmであった。補助陽極には電源から流れる電流の5%を分流させた。その後水洗を行った。 (C) An electrochemical surface roughening treatment was continuously performed using an alternating voltage of 60 Hz. The electrolytic solution at this time was a 1% by mass aqueous nitric acid solution (including 0.5% by mass aluminum ions and 0.007% by mass ammonium ions) at a temperature of 30 ° C. The AC power source was subjected to an electrochemical surface roughening treatment using a carbon electrode as a counter electrode using a trapezoidal rectangular wave alternating current with a time TP of 2 msec until the current value reached a peak from zero and a duty ratio of 1: 1. Ferrite was used for the auxiliary anode. The current density was 25 A / dm 2 at the current peak value, and the amount of electricity was 250 C / cm 2 in terms of the total amount of electricity when the aluminum plate was the anode. 5% of the current flowing from the power source was shunted to the auxiliary anode. Thereafter, it was washed with water.

(d)アルミニウム板を苛性ソーダ濃度26質量%、アルミニウムイオン濃度6.5質量%でスプレーによるエッチング処理を35℃で行い、アルミニウム板を0.2g/m溶解し、前段の交流を用いて電気化学的な粗面化を行ったときに生成した水酸化アルミニウムを主体とするスマット成分の除去と、生成したピットのエッジ部分を溶解し、エッジ部分を滑らかにした。その後水洗した。 (D) The aluminum plate was etched by spraying at 35 ° C. with a caustic soda concentration of 26% by mass and an aluminum ion concentration of 6.5% by mass, the aluminum plate was dissolved at 0.2 g / m 2 , and electricity was obtained using the previous AC. The removal of the smut component mainly composed of aluminum hydroxide generated during chemical roughening and the edge portion of the generated pit were dissolved to smooth the edge portion. Thereafter, it was washed with water.

(e)温度60℃の硫酸濃度25質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後スプレーによる水洗を行った。 (E) A desmut treatment by spraying was performed with a 25% by weight aqueous solution of sulfuric acid having a temperature of 60 ° C. (containing 0.5% by weight of aluminum ions), followed by washing with water by spraying.

(f)硫酸濃度170g/リットル(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)、温度33℃、電流密度が5(A/dm)で、50秒間陽極酸化処理を行った。その後水洗を行った。この時の陽極酸化皮膜重量が2.7g/mであった。 (F) Anodization was performed for 50 seconds at a sulfuric acid concentration of 170 g / liter (containing 0.5 mass% of aluminum ions), a temperature of 33 ° C., and a current density of 5 (A / dm 2 ). Thereafter, it was washed with water. At this time, the weight of the anodized film was 2.7 g / m 2 .

このようにして得られたアルミニウム支持体の表面粗さRa、表面積比ΔS、急峻度a45は、それぞれ、Ra=0.27(測定機器;東京精密(株)製サーフコム、蝕針先端径2ミクロンメーター)、ΔS=75%、a45=44%(測定機器;セイコーインスツルメンツ社製SPA300/SPI3800N)であった。   The surface roughness Ra, surface area ratio ΔS, and steepness a45 of the aluminum support thus obtained were Ra = 0.27 (measuring instrument: Surfcom manufactured by Tokyo Seimitsu Co., Ltd., stylus tip diameter 2 microns), respectively. Meter), ΔS = 75%, a45 = 44% (measuring instrument: SPA300 / SPI3800N manufactured by Seiko Instruments Inc.).

(バックコート層の形成)
次に、下記バックコート層形成用塗布液を調製し、上記のアルミニウム支持体にワイヤーバーを用いて塗布した。乾燥は、温風式乾燥装置にて100℃で70秒間行い、バックコート層が形成された支持体を得た。このバックコート層の全塗布量は(乾燥後の被覆量)は0.46g/mであった。
(Formation of back coat layer)
Next, the following coating solution for forming a back coat layer was prepared and applied to the aluminum support using a wire bar. Drying was performed at 100 ° C. for 70 seconds with a hot air drying apparatus to obtain a support on which a backcoat layer was formed. The total coating amount of this back coat layer (the coating amount after drying) was 0.46 g / m 2 .

<バックコート層形成塗布液>
・jER1009(下記構造:ジャパンエポキシレジン(株)製) 1.00g
・フッ素系界面活性剤 0.005g
(メガファックF−780−F、大日本インキ化学工業(株)、
メチルイソブチルケトン(MIBK)30質量%溶液)
・メチルエチルケトン 22.5g
・1−メトキシ−2−プロパノール 2.5g
<Backcoat layer forming coating solution>
・ JER1009 (the following structure: Japan Epoxy Resin Co., Ltd.) 1.00 g
・ Fluorine surfactant 0.005g
(Megafuck F-780-F, Dainippon Ink and Chemicals,
Methyl isobutyl ketone (MIBK) 30% by mass solution)
・ Methyl ethyl ketone 22.5g
・ 2.5 g of 1-methoxy-2-propanol

(下塗り層の形成)
続いて、アルミニウム支持体の上記バックコート層が形成された面とは反対の面に、下記下塗り層形成用塗布液をワイヤーバーにて塗布し、90℃30秒間乾燥した。塗布量は10mg/mであった。
(Formation of undercoat layer)
Subsequently, the following undercoat layer-forming coating solution was applied with a wire bar to the surface of the aluminum support opposite to the surface on which the backcoat layer was formed, and dried at 90 ° C. for 30 seconds. The coating amount was 10 mg / m 2 .

<下塗り層形成用塗布液>
・下記構造の高分子化合物A(重量平均分子量:10,000) 0.05g
・メタノール 27g
・イオン交換水 3g
<Coating liquid for undercoat layer formation>
-Polymer compound A having the following structure (weight average molecular weight: 10,000) 0.05 g
・ Methanol 27g
・ Ion exchange water 3g

(感光層の形成)
下記感光層形成用塗布液Aを調製し、上記のように形成された下塗り層上にワイヤーバーを用いて塗布した。乾燥は、温風式乾燥装置にて125℃で34秒間行った。乾燥後の被覆量は1.4g/mであった。
(Formation of photosensitive layer)
The following photosensitive layer forming coating solution A was prepared and applied on the undercoat layer formed as described above using a wire bar. Drying was performed at 125 ° C. for 34 seconds using a warm air dryer. The coating amount after drying was 1.4 g / m 2 .

<感光層形成用塗布液A>
・赤外線吸収剤(IR−1) 0.038g
・重合開始剤A(S−1) 0.061g
・重合開始剤B(I−1) 0.094g
・メルカプト化合物(E−1) 0.015g
・重合性化合物(M−1) 0.425g
(商品名:A−BPE−4 新中村化学工業(株))
・バインダーポリマーA(B−1) 0.311g
・バインダーポリマーB(B−2) 0.250g
・バインダーポリマーC(B−3) 0.062g
・添加剤(T−1) 0.079g
・重合禁止剤(Q−1) 0.0012g
・エチルバイオレット(EV−1) 0.021g
・フッ素系界面活性剤 0.0081g
(メガファックF−780−F 大日本インキ化学工業(株)、
メチルイソブチルケトン(MIBK)30質量%溶液)
・メチルエチルケトン 5.886g
・メタノール 2.733g
・1−メトキシ−2−プロパノール 5.886g
<Photosensitive layer forming coating solution A>
・ Infrared absorber (IR-1) 0.038 g
-Polymerization initiator A (S-1) 0.061g
-Polymerization initiator B (I-1) 0.094g
・ Mercapto compound (E-1) 0.015 g
・ Polymerizable compound (M-1) 0.425 g
(Product name: A-BPE-4 Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)
-Binder polymer A (B-1) 0.311g
・ Binder polymer B (B-2) 0.250 g
-Binder polymer C (B-3) 0.062g
・ Additive (T-1) 0.079g
-Polymerization inhibitor (Q-1) 0.0012g
・ Ethyl violet (EV-1) 0.021g
・ Fluorine surfactant 0.0081g
(Megafuck F-780-F Dainippon Ink and Chemicals,
Methyl isobutyl ketone (MIBK) 30% by mass solution)
・ Methyl ethyl ketone 5.886g
・ Methanol 2.733g
・ 1-methoxy-2-propanol 5.886 g

なお、上記感光層形成用塗布液Aに用いた、赤外線吸収剤(IR−1)、重合開始剤A(S−1)、重合開始剤B(I−1)、メルカプト化合物(E−1)、重合性化合物(M−1)、バインダーポリマーA(B−1)、バインダーポリマーB(B−2)、バインダーポリマーC(B−3)、添加剤(T−1)、重合禁止剤(Q−1)、及びエチルバイオレット(EV−1)の構造を以下に示す。   In addition, the infrared absorber (IR-1), polymerization initiator A (S-1), polymerization initiator B (I-1), and mercapto compound (E-1) used for the coating liquid A for forming the photosensitive layer. , Polymerizable compound (M-1), binder polymer A (B-1), binder polymer B (B-2), binder polymer C (B-3), additive (T-1), polymerization inhibitor (Q -1) and the structure of ethyl violet (EV-1) are shown below.

(下部保護層の形成)
形成された感光層上に、合成雲母(ソマシフMEB−3L、3.2%水分散液、コープケミカル(株)製)、ポリビニルアルコール(ゴーセランCKS−50:ケン化度99モル%、重合度300、スルホン酸変性ポリビニルアルコール日本合成化学工業(株)製)、界面活性剤A(日本エマルジョン社製、エマレックス710)、及び界面活性剤B(アデカプルロニックP−84:旭電化工業(株)製)の混合水溶液(下部保護層形成用塗布液)をワイヤーバーで塗布し、温風式乾燥装置にて125℃で30秒間乾燥させた。
この混合水溶液(下部保護層形成用塗布液)中の合成雲母(固形分)/ポリビニルアルコール/界面活性剤A/界面活性剤Bの含有量割合は、7.5/89/2/1.5(質量%)であり、塗布量は(乾燥後の被覆量)は0.5g/mであった。
(Formation of lower protective layer)
On the formed photosensitive layer, synthetic mica (Somasif MEB-3L, 3.2% aqueous dispersion, manufactured by Coop Chemical Co., Ltd.), polyvinyl alcohol (Goselan CKS-50: saponification degree 99 mol%, polymerization degree 300) , Sulfonic acid-modified polyvinyl alcohol, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.), surfactant A (manufactured by Nippon Emulsion Co., Ltd., Emalex 710), and surfactant B (Adeka Pluronic P-84: manufactured by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.) ) Was applied with a wire bar and dried at 125 ° C. for 30 seconds with a hot air dryer.
The content ratio of synthetic mica (solid content) / polyvinyl alcohol / surfactant A / surfactant B in this mixed aqueous solution (coating liquid for forming the lower protective layer) was 7.5 / 89/2 / 1.5. The coating amount (the coating amount after drying) was 0.5 g / m 2 .

(上部保護層の形成)
下部保護層上に、有機フィラー(アートパールJ−7P、根上工業(株)製)、合成雲母(ソマシフMEB−3L、3.2%水分散液、コープケミカル(株)製)、ポリビニルアルコール(L−3266:ケン化度87モル%、重合度300、スルホン酸変性ポリビニルアルコール日本合成化学工業(株)製)、増粘剤(セロゲンFS−B、第一工業製薬(株)製)、高分子化合物A(前記構造)、及び界面活性剤(日本エマルジョン社製、エマレックス710)の混合水溶液(上部保護層形成用塗布液)をワイヤーバーで塗布し、温風式乾燥装置にて125℃で30秒間乾燥させた。
この混合水溶液(上部保護層形成用塗布液)中の有機フィラー/合成雲母(固形分)/ポリビニルアルコール/増粘剤/高分子化合物A/界面活性剤の含有量割合は、4.7/2.8/67.4/18.6/2.3/4.2(質量%)であり、塗布量は(乾燥後の被覆量)は1.2g/mであった。
これにより、参考例1の平版印刷版原版を得た。
(Formation of upper protective layer)
On the lower protective layer, an organic filler (Art Pearl J-7P, manufactured by Negami Industrial Co., Ltd.), synthetic mica (Somasif MEB-3L, 3.2% aqueous dispersion, manufactured by Coop Chemical Co., Ltd.), polyvinyl alcohol ( L-3266: degree of saponification 87 mol%, degree of polymerization 300, sulfonic acid-modified polyvinyl alcohol Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.), thickener (Serogen FS-B, Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.), high A mixed aqueous solution (a coating solution for forming an upper protective layer) of molecular compound A (the above structure) and a surfactant (manufactured by Nippon Emulsion Co., Ltd., Emalex 710) is applied with a wire bar, and 125 ° C. using a hot air dryer. For 30 seconds.
The content ratio of the organic filler / synthetic mica (solid content) / polyvinyl alcohol / thickener / polymer compound A / surfactant in the mixed aqueous solution (upper protective layer forming coating solution) is 4.7 / 2. The ratio was 0.8 / 67.4 / 18.6 / 2.3 / 4.2 (mass%), and the coating amount (the coating amount after drying) was 1.2 g / m 2 .
As a result, a planographic printing plate precursor of Reference Example 1 was obtained.

〔実施例2〜20〕
参考例1のバックコート層形成用塗布液において、エポキシ樹脂の添加量を下記表1に記載のように変え、更に、下記表1に記載の他の樹脂を併用した以外は、参考例1と同様にして、実施例2〜20の平版印刷版原版を得た。
[Examples 2 to 20]
In the coating liquid for forming the backcoat layer of Reference Example 1, the addition amount of the epoxy resin was changed as shown in Table 1 below, and the other resins described in Table 1 were used in combination with Reference Example 1 and Similarly, lithographic printing plate precursors of Examples 2 to 20 were obtained.

なお、表1及び表2に記載の他の樹脂は以下の通りである。
・ロジン変性フェノール樹脂A:タマノル386(荒川化学構造(株)製)
・ロジン変性フェノール樹脂B:タマノル352(荒川化学構造(株)製)
・ロジン変性フェノール樹脂C:タマノル380(荒川化学構造(株)製)
・ロジン変性フェノール樹脂D:タマノル409(荒川化学構造(株)製)
・ロジンエステル:エステルガムHP(荒川化学構造(株)製)
・ピロガロール樹脂:下記構造、重量平均分子量:3,000
・ノボラック樹脂A:m−クレゾール/p−クレゾール=6:4(モル比)、重量平均分子量:4,100
・ノボラック樹脂B:フェノール/m−クレゾール/p−クレゾール=5:3:2(モル比)、重量平均分子量:5,300
・ノボラック樹脂C:フェノール/m−クレゾール/p−クレゾール=5:3:2(モル比)、重量平均分子量:30,000
Other resins described in Tables 1 and 2 are as follows.
・ Rosin modified phenolic resin A: Tamanoru 386 (Arakawa Chemical Structure Co., Ltd.)
・ Rosin modified phenolic resin B: Tamanol 352 (Arakawa Chemical Structure Co., Ltd.)
・ Rosin-modified phenolic resin C: Tamanol 380 (Arakawa Chemical Structure Co., Ltd.)
・ Rosin modified phenolic resin D: Tamanol 409 (Arakawa Chemical Structure Co., Ltd.)
・ Rosin ester: Ester gum HP (Arakawa Chemical Structure Co., Ltd.)
・ Pyrogallol resin: The following structure, weight average molecular weight: 3,000
Novolak resin A: m-cresol / p-cresol = 6: 4 (molar ratio), weight average molecular weight: 4,100
Novolak resin B: phenol / m-cresol / p-cresol = 5: 3: 2 (molar ratio), weight average molecular weight: 5,300
Novolak resin C: phenol / m-cresol / p-cresol = 5: 3: 2 (molar ratio), weight average molecular weight: 30,000

〔実施例21〕
実施例4における重合構造の保護層を、下記の方法で形成される単層構造の保護層に代えた以外は、実施例4と同様にして、実施例21の平版印刷版原版を得た。
Example 21
A lithographic printing plate precursor of Example 21 was obtained in the same manner as in Example 4 except that the protective layer having a polymerization structure in Example 4 was replaced with a protective layer having a single layer structure formed by the following method.

(単層構造の保護層の形成)
感光層上に、合成雲母(ソマシフME−100、8%水分散液、コープケミカル(株)製)、ポリビニルアルコール(ゴーセランCKS−50:ケン化度99モル%、重合度300、スルホン酸変性ポリビニルアルコール日本合成化学工業(株)製)、及び界面活性剤(日本エマルジョン社製、エマレックス710)の混合水溶液(保護層形成用塗布液A)をワイヤーバーで塗布し、温風式乾燥装置にて125℃で75秒間乾燥させた。
この混合水溶液(保護層形成用塗布液A)中の、合成雲母(固形分)/ポリビニルアルコール/界面活性剤の含有量割合は、16/82/2(質量%)であり、塗布量は(乾燥後の被覆量)は1.6g/mであった。
(Formation of single layer protective layer)
On the photosensitive layer, synthetic mica (Somasif ME-100, 8% aqueous dispersion, manufactured by Coop Chemical Co., Ltd.), polyvinyl alcohol (Goselan CKS-50: saponification degree 99 mol%, polymerization degree 300, sulfonic acid-modified polyvinyl Alcohol Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.) and a surfactant (Nihon Emulsion Co., Emalex 710) mixed aqueous solution (coating solution A for protective layer formation) is applied with a wire bar, and the hot-air drying apparatus is applied. And dried at 125 ° C. for 75 seconds.
The content ratio of synthetic mica (solid content) / polyvinyl alcohol / surfactant in this mixed aqueous solution (coating liquid A for protective layer formation) is 16/82/2 (mass%), and the coating amount is ( The coating amount after drying) was 1.6 g / m 2 .

〔実施例22〕
実施例21における保護層形成用塗布液Aから合成雲母を除いた保護層形成用塗布液Bを用いた以外は、実施例21と同様にして、実施例22の平版印刷版原版を得た。
なお、保護層形成用塗布液Bは、ポリビニルアルコール/界面活性剤の含有量割合が98/2(質量%)である。
[Example 22]
A lithographic printing plate precursor of Example 22 was obtained in the same manner as in Example 21 except that the protective layer-forming coating solution B obtained by removing synthetic mica from the protective layer-forming coating solution A in Example 21 was used.
The coating liquid B for forming the protective layer has a content ratio of polyvinyl alcohol / surfactant of 98/2 (mass%).

〔実施例23〕
参考例1のバックコート層形成用塗布液の組成において、エポキシ樹脂及び併用される他の樹脂について、その種類及び含有率を下記表2に記載されるように変更した以外は、参考例1と同様にして、アルミニウム支持体上にバックコート層を形成した。
次に、アルミニウム支持体の上記バックコート層が形成された面とは反対の面に、下記の感光層形成用塗布液Bを乾燥後の厚みが1.4μmになるように塗布し、70℃の乾燥器内で5分間乾燥を行い、感光層(感光性記録層)を形成した。
このようにして、実施例23の平版印刷版原版を得た。
Example 23
In the composition of the backcoat layer-forming coating solution of Reference Example 1, the epoxy resin and other resins used in combination were the same as Reference Example 1 except that the type and content were changed as described in Table 2 below. Similarly, a back coat layer was formed on the aluminum support.
Next, the following photosensitive layer forming coating solution B was applied to the surface of the aluminum support opposite to the surface on which the backcoat layer was formed, so that the thickness after drying was 1.4 μm, and 70 ° C. Was dried for 5 minutes to form a photosensitive layer (photosensitive recording layer).
In this way, a planographic printing plate precursor of Example 23 was obtained.

<感光層形成用塗布液B>
・重合体(P−1) 10質量部
・重合開始剤(BC−6) 2質量部
・重合開始剤(T−4) 2質量部
・モノマー(C−5) 3.5質量部
・赤外線吸収剤(IR−2) 0.5質量部
・染料(D−4) 0.3質量部
・ジオキサン 70質量部
・シクロヘキサン 20質量部
<Photosensitive layer forming coating solution B>
-Polymer (P-1) 10 parts by mass-Polymerization initiator (BC-6) 2 parts by mass-Polymerization initiator (T-4) 2 parts by mass-Monomer (C-5) 3.5 parts by mass-Infrared absorption Agent (IR-2) 0.5 parts by mass Dye (D-4) 0.3 parts by mass Dioxane 70 parts by mass Cyclohexane 20 parts by mass

ここで、上記感光層形成用塗布液Bに用いた、重合体(P−1)は前述の合成例1で得られた重合体であり、また、モノマー(C−5)は前述の合成例2で得られたモノマーである。
また、重合開始剤(BC−6)、重合開始剤(T−4)、赤外線吸収剤(IR−2)、及び、染料(D−4)の構造を以下に示す。
Here, the polymer (P-1) used in the coating solution B for forming the photosensitive layer is the polymer obtained in the above Synthesis Example 1, and the monomer (C-5) is the above Synthesis Example. 2 is a monomer obtained in 2.
Moreover, the structure of a polymerization initiator (BC-6), a polymerization initiator (T-4), an infrared absorber (IR-2), and a dye (D-4) is shown below.

〔実施例24〜26〕
実施例23において、バックコート層形成用塗布液の組成において、エポキシ樹脂及び併用される他の樹脂について、その種類及び含有率を下記表2に記載されるように変更した以外は、実施例23と同様にして、実施例24〜26の平版印刷版原版を得た。
[Examples 24-26]
In Example 23, in the composition of the coating liquid for forming the back coat layer, Example 23 except that the type and content of the epoxy resin and other resins used in combination were changed as described in Table 2 below. In the same manner, lithographic printing plate precursors of Examples 24-26 were obtained.

〔実施例27〕
参考例1で用いたものと同じアルミニウム板に、ポリ(ビニルホスホン)酸後処理をした電気化学的研磨と陽極酸化により表面処理を行い、アルミニウム支持体を作製した。
次いで、実施例1のバックコート層用塗布液の組成において、エポキシ樹脂及び併用される他の樹脂について、その種類及び含有率を下記表2に記載されるように変更した以外は、参考例1と同様にして、上記のアルミニウム支持体上にバックコート層を形成した。
次いで、アルミニウム支持体の上記バックコート層が形成された面とは反対の面に、下記の感光層形成用塗布液Cを、ワイヤーを巻き付けた棒により乾燥後の塗布量が2g/mになるように塗布し、Ranarコンベア式オーブン中、約94℃、60秒の滞留時間で乾燥を行い、感光層(感光性記録層)を形成した。
Example 27
The same aluminum plate as used in Reference Example 1 was subjected to surface treatment by electrochemical polishing and anodizing after poly (vinylphosphonic) acid post-treatment to produce an aluminum support.
Next, in the composition of the backcoat layer coating solution of Example 1, the epoxy resin and other resins used in combination were changed to the types and contents as described in Table 2 below, and Reference Example 1 In the same manner as described above, a back coat layer was formed on the above aluminum support.
Next, on the surface of the aluminum support opposite to the surface on which the back coat layer is formed, the following coating solution C for forming a photosensitive layer is applied to a coating amount after drying with a rod wound with a wire to 2 g / m 2 . Then, the coating was dried in a Ranar conveyor type oven at about 94 ° C. with a residence time of 60 seconds to form a photosensitive layer (photosensitive recording layer).

<感光層形成用塗布液C>
・ウレタンアクリレートA 3.55質量部
・サートマー(Sartomer)355 0.74質量部
・重合体(P−2) 3.24質量部
・2−(4−メトキシフェニル)−4,6−
ビス(トリクロロメチル)−2−トリアジン 0.40質量部
・N−フェニルイミノ二酢酸 0.22質量部
・赤外線吸収剤(IR−3) 0.08質量部
・クリスタルバイオレット 0.10質量部
・Byk 307 0.02質量部
・メチルエチルケトン 13.75質量部
・トルエン 22.91質量部
・1−メトキシ−2−プロパノール 54.99質量部
<Photosensitive layer forming coating solution C>
-Urethane acrylate A 3.55 mass parts-Sartomer 355 0.74 mass parts-Polymer (P-2) 3.24 mass parts-2- (4-methoxyphenyl) -4,6-
Bis (trichloromethyl) -2-triazine 0.40 parts by mass N-phenyliminodiacetic acid 0.22 parts by mass Infrared absorber (IR-3) 0.08 parts by mass Crystal violet 0.10 parts by mass Byk 307 0.02 parts by mass-methyl ethyl ketone 13.75 parts by mass-toluene 22.91 parts by mass-1-methoxy-2-propanol 54.99 parts by mass

なお、感光層形成用塗布液Cに用いた重合体(P−2)は前述の合成例3で得られた重合体である。
また、ウレタンアクリレートA、サートマー(Sartomer)355、赤外線吸収剤(IR−3)、及びByk 307の詳細は以下の通りである。
ウレタンアクリレートA: DESMODUR(登録商標)N100とアクリル酸ヒドロキシエチルおよびペンタエリトリトールトリアクリレートを反応させて得られた、イソシアナート基の反応が完了した後二重結合含量が100g当たり0.5である、ウレタンアクリレートの80%メチルエチルケトン溶液
Sartomer 355: ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート多官能アクリルモノマー(Sartomer社製)
赤外線吸収剤(IR−3): 2−[2−[2−トリフェニル−3−[2−(1,3−ジヒドロ−1,3,3−トリメチル−2H−インドール−2−イリデン)−エチリデン]−1−シクロヘキセン−1−イル]−エテニル]−1,3,3−トリメチル−3H−インドリウムクロリド
Byk 307: ポリエトキシ化ジメチルポリシロキサンコポリマー(米国コネチカット州ウォリンフォードのBykChemie社製)
The polymer (P-2) used in the photosensitive layer forming coating solution C is the polymer obtained in Synthesis Example 3 described above.
Details of urethane acrylate A, Sartomer 355, infrared absorber (IR-3), and Byk 307 are as follows.
Urethane acrylate A: obtained by reacting DESMODUR® N100 with hydroxyethyl acrylate and pentaerythritol triacrylate, the double bond content is 0.5 per 100 g after the reaction of the isocyanate groups is completed. 80% methyl ethyl ketone solution of urethane acrylate Sartomer 355: Ditrimethylolpropane tetraacrylate polyfunctional acrylic monomer (Sartomer)
Infrared absorber (IR-3): 2- [2- [2-Triphenyl-3- [2- (1,3-dihydro-1,3,3-trimethyl-2H-indole-2-ylidene) -ethylidene ] -1-cyclohexen-1-yl] -ethenyl] -1,3,3-trimethyl-3H-indolium chloride Byk 307: polyethoxylated dimethylpolysiloxane copolymer (byk Chemie, Wallingford, Conn., USA)

更に、上記により形成された感光層上に、実施例22と同様にして、合成雲母を含有しない単層構造の保護層を形成した。
このようにして、実施例27の平版印刷版原版を得た。
Further, a protective layer having a single layer structure not containing synthetic mica was formed on the photosensitive layer formed as described above in the same manner as in Example 22.
Thus, the planographic printing plate precursor of Example 27 was obtained.

〔実施例28〜30〕
実施例27において、バックコート層形成用塗布液の組成中のエポキシ樹脂及び併用される他の樹脂について、その種類及び含有率を下記表2に記載されるように変更した以外は、実施例27と同様にして、実施例28〜30の平版印刷版原版を得た。
[Examples 28 to 30]
In Example 27, except for changing the type and content of the epoxy resin in the composition of the coating liquid for forming the backcoat layer and other resins used in combination, as described in Table 2 below, Example 27 In the same manner, lithographic printing plate precursors of Examples 28 to 30 were obtained.

〔比較例1〕
参考例1におけるバックコート層形成用塗布液中のエポキシ樹脂を、前記構造のピロガロール樹脂に代えた以外は、参考例1と同様にして、比較例1の平版印刷版原版を得た。
[Comparative Example 1]
A lithographic printing plate precursor of Comparative Example 1 was obtained in the same manner as in Reference Example 1, except that the epoxy resin in the coating solution for forming the backcoat layer in Reference Example 1 was replaced with the pyrogallol resin having the above structure.

〔比較例2〕
実施例23におけるバックコート層用塗布液のエポキシ樹脂及びロジン変性フェノール樹脂Aを、前記構造のピロガロール樹脂に代えた以外は、実施例23と同様にして、比較例2の平版印刷版原版を得た。
[Comparative Example 2]
A lithographic printing plate precursor of Comparative Example 2 was obtained in the same manner as in Example 23 except that the epoxy resin and rosin modified phenolic resin A in the coating liquid for backcoat layer in Example 23 were replaced with pyrogallol resin having the above structure. It was.

〔比較例3〕
実施例27におけるバックコート層用塗布液のエポキシ樹脂及びロジン変性フェノール樹脂Aを、前記構造のピロガロール樹脂に代えた以外は、実施例27と同様にして、比較例3の平版印刷版原版を得た。
[Comparative Example 3]
A lithographic printing plate precursor of Comparative Example 3 was obtained in the same manner as in Example 27 except that the epoxy resin and rosin-modified phenol resin A in the coating liquid for backcoat layer in Example 27 were replaced with the pyrogallol resin having the above structure. It was.

〔評価〕
(1)面状の観察
得られた平版印刷版原版を61cm×50cmに切断し、このシートのバックコート層の面状を目視にて観察した。
評価は1〜5の官能評価で行い、3が実用下限レベル、2以下は実用上不可レベルとした。結果を表1及び表2に示す。
[Evaluation]
(1) Observation of planar shape The obtained lithographic printing plate precursor was cut into 61 cm × 50 cm, and the planar shape of the backcoat layer of this sheet was visually observed.
Evaluation was performed by sensory evaluation of 1 to 5, 3 being a practical lower limit level, and 2 or less being a practically impossible level. The results are shown in Tables 1 and 2.

(2)擦りキズの評価
得られた平版印刷版原版を61cm×50cmに切断し、そのシート20枚の間に合紙を挟むことなく積層して積層体を形成した。この積層体を、既にカセットにセットしてある同じ平版印刷版原版の上にエッジから5cmずらして(積層した20枚の版材がカセット内の版材のエッジから5cm外側へ飛び出した状態で)重ねた後、飛び出した20枚の版材のエッジを水平方向に押し込んで、積層した20枚の一番下の版のバックコート層が、カセット中の最上の平版印刷版原版の保護層表面をこするようにしながら、カセット内へと設置した。この保護層表面が、バックコート層でこすられた版材を、耐キズ性の評価用版材とした。
この版材をセッティング部分からオートローダーにて、Creo社製Trendsetter3244に搬送し、解像度2400dpiで50%平網画像を、出力7W、外面ドラム回転数150rpm、版面エネルギー110mJ/cmで露光した。露光後、加熱処理、水洗処理は行わず、富士フイルム(株)社製自動現像機LP−1310HIIを用い搬送速度(ライン速度)2m/分、現像温度30℃で現像処理した。なお、現像液はDH−Nの1:4水希釈液を用い、現像補充液はFCT−421の1:1.4水希釈、フィニッシャーは富士フイルム(株)社製GN−2Kの1:1水希釈液を用いた。得られた平版印刷版の平網画像中に発生したキズの有無を目視評価した。
評価は1〜5の官能評価で行い、3が実用下限レベル、2以下は実用上不可レベルとした。結果を表1及び表2に示す。
(2) Evaluation of rubbing scratches The obtained lithographic printing plate precursor was cut into 61 cm × 50 cm and laminated without sandwiching interleaf between the 20 sheets to form a laminate. This laminate is shifted 5 cm from the edge onto the same lithographic printing plate precursor already set in the cassette (with 20 stacked plates protruding 5 cm outward from the edge of the plate in the cassette). After the stacking, the edges of the 20 protruding plate materials are pushed in the horizontal direction, and the backcoat layer of the stacked 20 bottom plates is applied to the protective layer surface of the top planographic printing plate precursor in the cassette. It was installed in the cassette while rubbing. A plate material whose surface of the protective layer was rubbed with a backcoat layer was used as a plate material for evaluation of scratch resistance.
The plate material was conveyed from the setting portion to a Trend setter 3244 manufactured by Creo Corporation, and exposed at a resolution of 2400 dpi, a 50% flat screen image at an output of 7 W, an outer drum rotation speed of 150 rpm, and a plate surface energy of 110 mJ / cm 2 . After the exposure, neither heat treatment nor water washing treatment was performed, and development was performed at a conveyance speed (line speed) of 2 m / min and a development temperature of 30 ° C. using an automatic developing machine LP-1310HII manufactured by FUJIFILM Corporation. The developer used was a 1: 4 water diluted solution of DH-N, the developer replenisher was diluted 1: 1.4 water of FCT-421, and the finisher was 1: 1 of GN-2K manufactured by FUJIFILM Corporation. A water dilution was used. The presence or absence of scratches generated in the flat screen image of the obtained lithographic printing plate was visually evaluated.
Evaluation was performed by sensory evaluation of 1 to 5, 3 being a practical lower limit level, and 2 or less being a practically impossible level. The results are shown in Tables 1 and 2.

(3)静摩擦係数の測定
得られた平版印刷版原版を100mm×150mmのシートに切断し、感光層側を上にして(保護層を上にして)、200mm×350mmの平滑な板の上に水平に固定した。また、得られた平版印刷版原版を35mm×75mmのシートに切断し、バックコート層を上にして、35mm×75mmの平滑な面を持つ500gの重りの平滑面に固定した。重りに固定した平版印刷版原版のバックコート層面を、平版印刷版原版の保護層面の中央に接触させて載せた。この状態で平滑な板の短辺の片方を持ち上げて傾斜させ、重りに固定した平版印刷版原版のバックコート層表面と保護層表面との間で滑りが生じ始めた時の平滑な板の傾斜角度θ°を測定した。静摩擦係数μは、μ=tanθの関係式より算出した。結果を表1及び表2に示す。
(3) Measurement of static friction coefficient The obtained lithographic printing plate precursor is cut into a sheet of 100 mm × 150 mm, the photosensitive layer side is facing up (the protective layer is facing up), and the surface is placed on a smooth plate of 200 mm × 350 mm Fixed horizontally. Further, the obtained lithographic printing plate precursor was cut into a 35 mm × 75 mm sheet and fixed on a smooth surface of a weight of 500 g having a smooth surface of 35 mm × 75 mm with the back coat layer facing up. The backcoat layer surface of the lithographic printing plate precursor fixed to the weight was placed in contact with the center of the protective layer surface of the lithographic printing plate precursor. In this state, one side of the flat side of the flat plate is lifted and inclined, and the flat plate is inclined when slipping begins between the backcoat layer surface and the protective layer surface of the lithographic printing plate precursor fixed to the weight. The angle θ ° was measured. The static friction coefficient μ was calculated from the relational expression of μ = tan θ. The results are shown in Tables 1 and 2.


表1及び表2から明らかなように、実施例〜30の平版印刷版原版、即ち、支持体裏面に、エポキシ樹脂と、フェノール性水酸基を有する樹脂及びロジンからなる群から選ばれる少なくとも1種とを含有するバックコート層を有する平版印刷版原版は、バックコート層の乾燥後の面状が良好で、合紙を挟み込むことなく積層した場合であっても、擦りキズが防止されることが分かる。また、バックコート層に、エポキシ樹脂以外に、ロジンやフェノール性水酸基を有する樹脂を併用した場合の平版印刷版原版は、バックコート層表面と保護層表面との間の静摩擦係数が0.40以上と高く、合紙を挟み込むことなく積層した際の各版間でのスベリが起こらないものと思われる。
これに対し、エポキシ樹脂を含まずピロガロール樹脂のみを含有するバックコート層を有する比較例1〜3の平版印刷版原版は、静摩擦係数が高く、紙を挟み込むことなく積層した際の各版間でのスベリが起こらないものと思われるが、耐キズ性が著しく劣ることが分かる。
As is clear from Tables 1 and 2, the lithographic printing plate precursors of Examples 2 to 30, that is, at least one selected from the group consisting of an epoxy resin , a resin having a phenolic hydroxyl group, and rosin on the back surface of the support. The lithographic printing plate precursor having a backcoat layer containing, the surface shape after drying of the backcoat layer is good, and even when laminated without interposing the interleaf, scratches can be prevented. I understand. Further, the lithographic printing plate precursor in the case where a resin having a rosin or a phenolic hydroxyl group is used in addition to the epoxy resin in the back coat layer, the static friction coefficient between the back coat layer surface and the protective layer surface is 0.40 or more. It seems that there is no sliding between the plates when they are laminated without sandwiching the interleaving paper.
On the other hand, the lithographic printing plate precursors of Comparative Examples 1 to 3 having a back coat layer containing only a pyrogallol resin without an epoxy resin have a high coefficient of static friction, and between each plate when stacked without sandwiching paper. However, the scratch resistance is remarkably inferior.

Claims (10)

支持体の一方の面に感光性記録層を有し、前記支持体の他方の面にエポキシ樹脂と、フェノール性水酸基を有する樹脂及びロジンからなる群から選ばれる少なくとも1種とを含有するバックコート層を有することを特徴とする平版印刷版原版。 A back coat having a photosensitive recording layer on one side of the support , and containing at least one selected from the group consisting of an epoxy resin , a resin having a phenolic hydroxyl group and rosin on the other side of the support A lithographic printing plate precursor having a layer. 前記フェノール性水酸基を有する樹脂がノボラック樹脂又はピロガロール樹脂であることを特徴とする請求項に記載の平版印刷版原版。 The lithographic printing plate precursor as claimed in claim 1 , wherein the resin having a phenolic hydroxyl group is a novolac resin or a pyrogallol resin. 前記フェノール性水酸基を有する樹脂の含有量が、前記バックコート層の全質量に対して0.1〜50質量%であることを特徴とする請求項又は請求項に記載の平版印刷版原版。 The lithographic printing plate precursor as claimed in claim 1 or 2 , wherein a content of the resin having a phenolic hydroxyl group is 0.1 to 50% by mass with respect to a total mass of the back coat layer. . 前記フェノール性水酸基を有する樹脂の含有量が、前記バックコート層の全質量に対して0.5〜30質量%であることを特徴とする請求項〜請求項のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。 The content of the resin having a phenolic hydroxyl group, according to any one of claims 1 to 3, characterized in that 0.5 to 30% by weight, based on the total weight of the backcoat layer Lithographic printing plate precursor. 前記ロジンが、ロジン変性フェノール樹脂又はロジンエステルであることを特徴とする請求項に記載の平版印刷版原版。 The lithographic printing plate precursor as claimed in claim 1 , wherein the rosin is a rosin-modified phenol resin or a rosin ester. 前記感光性記録層が、増感色素、重合開始剤、重合性化合物、及びバインダーポリマーを含有し、且つ、該感光性記録層上に酸素遮断性を有する保護層を有することを特徴とする請求項1〜請求項のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。 The photosensitive recording layer contains a sensitizing dye, a polymerization initiator, a polymerizable compound, and a binder polymer, and has a protective layer having an oxygen barrier property on the photosensitive recording layer. The lithographic printing plate precursor as claimed in any one of claims 1 to 5 . 前記保護層がフィラーを含有することを特徴とする請求項に記載の平版印刷版原版。 The lithographic printing plate precursor as claimed in claim 6 , wherein the protective layer contains a filler. 前記感光性記録層が、赤外線吸収剤、重合開始剤、分子内にビニル基が置換したフェニル基を2個以上有するモノマー、及びビニル基が置換したフェニル基を側鎖に有する重合体を含有することを特徴とする請求項1〜請求項のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。 The photosensitive recording layer contains an infrared absorber, a polymerization initiator, a monomer having two or more phenyl groups substituted with vinyl groups in the molecule, and a polymer having phenyl groups substituted with vinyl groups in the side chain. The lithographic printing plate precursor as claimed in any one of claims 1 to 5 , wherein: 前記感光性記録層が、0.7meq/g〜8.0meq/gのアリル基を含むバインダーポリマーを含有することを特徴とする請求項1〜請求項のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。 The lithographic printing according to any one of claims 1 to 5 , wherein the photosensitive recording layer contains a binder polymer containing an allyl group of 0.7 meq / g to 8.0 meq / g. Version original edition. 請求項1〜請求項のいずれか1項に記載の平版印刷版原版を、感光性記録層側の最表面とバックコート層側の最表面とを直接接触させて複数枚積層してなる平版印刷原版の積層体。
The lithographic printing plate precursor according to any one of claims 1 to 9, wherein a plurality of lithographic printing plate precursors are laminated by directly contacting the outermost surface on the photosensitive recording layer side and the outermost surface on the backcoat layer side. Laminate of printing original plate.
JP2007085765A 2006-11-09 2007-03-28 Planographic printing plate precursor and laminate of planographic printing plate precursor Active JP4864789B2 (en)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007085765A JP4864789B2 (en) 2006-11-09 2007-03-28 Planographic printing plate precursor and laminate of planographic printing plate precursor
US11/934,537 US7704675B2 (en) 2006-11-09 2007-11-02 Planographic printing plate precursor and stack thereof
EP07021700A EP1921501B1 (en) 2006-11-09 2007-11-08 Planographic printing plate precursor and stack thereof
AT07021700T ATE540335T1 (en) 2006-11-09 2007-11-08 FLAT PLATE PRECURSOR AND STACK THEREOF

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006303932 2006-11-09
JP2006303932 2006-11-09
JP2007085765A JP4864789B2 (en) 2006-11-09 2007-03-28 Planographic printing plate precursor and laminate of planographic printing plate precursor

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2008139814A JP2008139814A (en) 2008-06-19
JP4864789B2 true JP4864789B2 (en) 2012-02-01

Family

ID=39601310

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007085765A Active JP4864789B2 (en) 2006-11-09 2007-03-28 Planographic printing plate precursor and laminate of planographic printing plate precursor

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP4864789B2 (en)
AT (1) ATE540335T1 (en)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4813432B2 (en) * 2007-08-28 2011-11-09 富士フイルム株式会社 Planographic printing plate making method
JP5074906B2 (en) * 2007-12-07 2012-11-14 三菱製紙株式会社 Photosensitive planographic printing plate
JP5374403B2 (en) * 2009-02-13 2013-12-25 三菱製紙株式会社 Photosensitive lithographic printing plate material
JP5548494B2 (en) * 2010-03-19 2014-07-16 東京応化工業株式会社 Surface modifying material, resist pattern forming method, and pattern forming method

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4593419B2 (en) * 2005-09-26 2010-12-08 富士フイルム株式会社 Infrared photosensitive lithographic printing plate precursor
JP4611185B2 (en) * 2005-11-28 2011-01-12 富士フイルム株式会社 Infrared photosensitive lithographic printing plate precursor

Also Published As

Publication number Publication date
ATE540335T1 (en) 2012-01-15
JP2008139814A (en) 2008-06-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4213756B2 (en) Planographic printing plate precursor and laminate of planographic printing plate precursor
JP4668111B2 (en) Polymerizable composition and planographic printing plate precursor using the same
JP2007094138A (en) Lithographic printing original plate and plate-making method for the same
EP1921501B1 (en) Planographic printing plate precursor and stack thereof
JP2008089916A (en) Lithographic printing plate precursor, and lithographic printing plate precursor laminate
JP4611234B2 (en) Polymerizable negative lithographic printing plate precursor, laminate of lithographic printing plate precursor and method for producing polymerizable negative lithographic printing plate precursor
JP2007272134A (en) Negative lithographic printing original plate
JP2008139813A (en) Planographic printing plate precursor and stack thereof
JP2008249851A (en) Lithographic printing plate precursor
JP4429116B2 (en) Planographic printing plate precursor and lithographic printing plate making method
JP4574506B2 (en) Planographic printing plate precursor and its plate making method
JP4864789B2 (en) Planographic printing plate precursor and laminate of planographic printing plate precursor
JP4777220B2 (en) Photosensitive recording material, photosensitive lithographic printing plate precursor, and laminate thereof
JP2006225432A (en) Alkali-soluble polyurethane resin, polymerizable composition and lithographic printing original plate
JP4619912B2 (en) Planographic printing plate precursor and its plate making method
JP4437948B2 (en) Planographic printing plate precursor
JP2007268993A (en) Original printing plate of lithographic printing plate and laminated body of original printing plate of lithographic printing plate
JP4524235B2 (en) Planographic printing plate precursor
JP2007101693A (en) Lithographic printing forme original plate
JP5068682B2 (en) Negative type planographic printing plate precursor
JP2007256685A (en) Lithographic printing original plate and laminate thereof
JP4864682B2 (en) Polymerizable composition and planographic printing plate precursor using the same
JP2009109526A (en) Planographic printing plate and planographic printing plate layered product
JP2007076330A (en) Original plate for planographic printing plate, and its manufacturing method
JP2005221615A (en) Processing method for lithographic printing plate

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20090907

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20110705

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A132

Effective date: 20110712

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110907

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20111018

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20111109

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141118

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4864789

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250