JP2007076330A - Original plate for planographic printing plate, and its manufacturing method - Google Patents

Original plate for planographic printing plate, and its manufacturing method Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an original plate for a planographic printing plate, which solves the problem that stains appear on a paper surface corresponding to an end of the original plate for the planographic printing plate, which makes setter conveyability good, which dispenses with a step of removing a slip sheet and which can enhance the productivity of a plate-making operation, and a manufacturing method for the original plate for the planographic printing plate. <P>SOLUTION: In this manufacturing method for the original plate for the planographic printing plate, the original plate for the planographic printing plate is manufactured by cutting a coated web with a cutting member in the state of sandwiching the coated web in the direction of plate thickness. In the coated web, a photosensitive layer and a protecting layer containing an inorganic layered compound are laminated on an aluminum substrate with a hydrophilic surface in this order. The manufacturing method is characterized in that the coated web is cut without making the slip paper interposed between the coated surfaces of the coated web. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は光重合性感光性平版印刷版原版の製造方法及びそれにより得られた平版印刷版原版に関し、詳しくは、端部に汚れが発生することのない光重合性感光性平版印刷版原版及びその製造方法に関するものである。   The present invention relates to a method for producing a photopolymerizable photosensitive lithographic printing plate precursor and a lithographic printing plate precursor obtained thereby, and more specifically, a photopolymerizable photosensitive lithographic printing plate precursor in which no smear occurs at the end, and It relates to the manufacturing method.

アルミニウム板を支持体とする平版印刷版原版を製造する方法としては、一般に、感光液を塗布、乾燥してできた塗工ウェブを所望のサイズに裁断する方法が採られている。裁断された重合性ネガ型平版印刷版原版の端部においては、裁断時の高圧力により感光層が重合、硬化し、印刷時に硬化した部分にインクが付着して紙に印刷されて端部汚れとなり、印刷物の商品価値を著しく損ねていた。
端部汚れの問題を解決し、セッター搬送性の良好な平版印刷版原版及びその製造方法として、裁断後の平版印刷版原版の形状を所定の条件に制御する方法が提案されている(例えば、特許文献1参照。)。ここには、合紙が介在した裁断のみが開示されており、同様の条件で合紙を除去して裁断した場合には、端部汚れの発生が抑制できないという問題が新たに生じた。
As a method for producing a lithographic printing plate precursor using an aluminum plate as a support, a method is generally employed in which a coated web formed by applying and drying a photosensitive solution is cut into a desired size. At the edge of the cut negative lithographic printing plate precursor, the photosensitive layer is polymerized and cured by the high pressure at the time of cutting. As a result, the commercial value of the printed matter was significantly impaired.
As a lithographic printing plate precursor having a good setter transportability and a method for producing the same, a method for controlling the shape of the lithographic printing plate precursor after cutting to a predetermined condition has been proposed (for example, (See Patent Document 1). Here, only the cutting with interleaving paper is disclosed, and when the interleaving paper is removed and cut under the same conditions, a new problem arises that the occurrence of edge stains cannot be suppressed.

従来、露光工程に供される平版印刷版原版としては、一般に原版と原版の間に合紙が挿入された積層体が用いられていた。合紙は、原版同士の接着を防止し、セッターの搬送性を向上させる機能や、保護層のキズ防止機能を有する。しかし、製版作業の効率化を図るためには、合紙を挿入しない積層体を用いて、合紙除去工程を省略することが望まれていた。さらに合紙を用いないことは、コストダウンや環境への負荷の軽減という利点をもたらす。
このため、裁断工程に起因する印刷版の端部の汚れの発生を、合紙を介在させることなく防止し、且つ、セッター搬送性が良好であり、合紙除去工程の必要ない平版印刷版原版及びその製造方法が望まれていた。
特開2003−63161公報
Conventionally, as a lithographic printing plate precursor to be subjected to an exposure step, a laminate in which a slip sheet is inserted between the original plate and the original plate has been used. The interleaving paper has a function of preventing adhesion between the original plates and improving the transportability of the setter and a function of preventing the protective layer from being scratched. However, in order to increase the efficiency of the plate making operation, it has been desired to omit the slip sheet removing step using a laminate that does not insert slip sheets. Further, not using the slip sheet brings advantages such as cost reduction and reduction of environmental burden.
For this reason, the lithographic printing plate precursor that prevents the edge of the printing plate due to the cutting process from occurring without interposing the interleaf and has good setter transportability and does not require the interleaf removal process. And a method for producing the same.
JP 2003-63161 A

上記問題点を考慮した本発明の目的は、裁断工程に起因する平版印刷版原版端部に対応する紙面の汚れが抑制され、セッター搬送性の良好な、合紙除去工程が必要ない平版印刷版原版の製造方法及びその製造方法により得られる端部における汚れの発生が抑制された平版印刷版原版を提供することにある。   The object of the present invention in consideration of the above-mentioned problems is that a planographic printing plate that suppresses stains on the paper surface corresponding to the edge of the planographic printing plate precursor due to the cutting process, has good setter transportability, and does not require a slip sheet removing process An object of the present invention is to provide a method for producing an original plate and a lithographic printing plate precursor in which the occurrence of stains at the edge obtained by the production method is suppressed.

本発明者らは、上記目的が、特定の保護層を有する塗工ウェブの裁断方法を制御することで解決しうることを見出し、本発明を完成した。
即ち、本発明の平版印刷版原版の製造方法は、親水性表面を有するアルミニウム支持体上に、感光層、無機層状化合物を含む保護層をこの順に積層した塗工ウェブを、裁断部材で板厚方向に挟み付けて裁断することで製造される平版印刷版原版の製造方法であって、前記塗工ウェブの保護層表面に合紙を介在させることなく裁断することを特徴とする。
ここで用いる裁断部材が、上下1組の裁断刃を有するものであり、上側裁断刃と下側裁断刃との間隔を30〜100μmの範囲に設定して、塗工ウェブを所定サイズに裁断することが好ましく、前記感光層は、(イ)赤外線吸収剤、(ロ)重合開始剤、(ハ)重合性化合物、及び、(ニ)バインダーポリマーを含んだ重合性ネガ型であることが好ましい。
The present inventors have found that the above object can be solved by controlling a cutting method of a coated web having a specific protective layer, and have completed the present invention.
That is, in the method for producing a lithographic printing plate precursor according to the present invention, a coated web obtained by laminating a photosensitive layer and a protective layer containing an inorganic layered compound in this order on an aluminum support having a hydrophilic surface is formed using a cutting member. A method for producing a lithographic printing plate precursor produced by being sandwiched in a direction and being cut, wherein the cutting is carried out without interposing a slip sheet on the surface of the protective layer of the coated web.
The cutting member used here has a pair of upper and lower cutting blades, the interval between the upper cutting blade and the lower cutting blade is set in a range of 30 to 100 μm, and the coating web is cut into a predetermined size. The photosensitive layer is preferably a polymerizable negative type containing (b) an infrared absorber, (b) a polymerization initiator, (c) a polymerizable compound, and (d) a binder polymer.

上記条件で裁断された平版印刷版原版は、セッター搬送性を向上させる観点から、対向する2辺もしくは4辺の端部が感光層側から下面側に湾曲しており、端部にそって表面から離れる方向に曲げられて形成された湾曲面を有し、断面における湾曲部の裁断ダレ高さが30〜200μmであり、該湾曲部の切欠部面積が200〜100000μm2であることを特徴とする。 The lithographic printing plate precursor that has been cut under the above conditions has two or four opposite ends curved from the photosensitive layer side to the lower surface side from the viewpoint of improving setter transportability, and the surface along the ends. A curved surface formed by bending in a direction away from the curved surface, a cutting sag height of the curved portion in a cross section is 30 to 200 μm, and a cutout area of the curved portion is 200 to 100,000 μm 2 To do.

すなわち、本発明は以下の点を見出し、完成したものである。平版印刷版原版を裁断する上刃と下刃との間隔を30〜100μmの間に設定して、所定のサイズに裁断した場合、裁断された平版印刷版原版は、裁断部対向する2辺もしくは4辺の端部にそって表面から離れる方向に曲げられて形成された湾曲面を有し、断面における湾曲部の裁断ダレ高さが30〜200μmであり、該湾曲部の切欠部面積が200〜100000μm2であって、セッター搬送性に優れた形状を有する。
このような形状を達成するために、前記裁断条件で、塗工ウェブと裁断刃の間に合紙を挟まずに裁断した場合には、一般的なネガ型の感光層と水溶性の保護層とを有する平版印刷版原版では、印刷時に紙面端部における汚れの発生が抑制できないが、本発明においては。保護層に無機層状化合物を含有するため、合紙を介在させることなく裁断しても汚れは発生しない。端部汚れが生じない原因は明確ではないが、保護層に無機層状化合物を含むことにより、裁断時に板状の形状で積層構造を有する無機層状化合物の物性に起因して保護層が割れて亀裂を生じ、その部分からわずかではあるが酸素が透過して感光層に至り、裁断時に発生する活性種に起因する裁断部の所望されない重合を抑制し得るものと考えている。
That is, the present invention has been found and completed as follows. When the interval between the upper blade and the lower blade for cutting the lithographic printing plate precursor is set between 30 to 100 μm and cut into a predetermined size, the cut lithographic printing plate precursor has two sides facing the cutting portion or It has a curved surface formed by being bent in the direction away from the surface along the edges of the four sides, the cutting sag height of the curved portion in the cross section is 30 to 200 μm, and the cutout area of the curved portion is 200 It is ˜100,000 μm 2 and has a shape excellent in setter transportability.
In order to achieve such a shape, a general negative-type photosensitive layer and a water-soluble protective layer are cut under the above-described cutting conditions without cutting a slip sheet between the coating web and the cutting blade. In the planographic printing plate precursor having the above, the occurrence of stains at the edge of the paper surface during printing cannot be suppressed, but in the present invention. Since the protective layer contains an inorganic stratiform compound, no dirt is generated even if it is cut without intervening paper. The reason that the edge contamination does not occur is not clear, but by including an inorganic layered compound in the protective layer, the protective layer is cracked due to the physical properties of the inorganic layered compound having a laminated structure in a plate shape at the time of cutting. It is considered that oxygen can permeate slightly from that portion to reach the photosensitive layer, and undesired polymerization of the cut portion due to the active species generated during cutting can be suppressed.

前記裁断部の保護層の割れを適度に生じさせ、紙面端部汚れを抑制するという観点からは、無機層状化合物として雲母化合物が好ましい。また、同様の観点から、無機層状化合物の形状としては、厚さは薄ければ薄いほどよく、平面サイズは塗布面の平滑性や活性光線の透過性を阻害しない限りにおいて大きいほどよい。従って、アスペクト比は20以上であり、好ましくは100以上、特に好ましくは200以上である。なお、アスペクト比は粒子の長径に対する厚さの比であり、たとえば、粒子の顕微鏡写真による投影図から測定することができる。アスペクト比が大きい程、得られる効果が大きい。   A mica compound is preferable as the inorganic layered compound from the viewpoint of appropriately generating cracks in the protective layer of the cut portion and suppressing the stain on the paper end. From the same point of view, the inorganic layered compound has a smaller shape as the thickness is reduced, and the plane size is preferably larger as long as the smoothness of the coated surface and the transmittance of actinic rays are not impaired. Accordingly, the aspect ratio is 20 or more, preferably 100 or more, particularly preferably 200 or more. The aspect ratio is the ratio of the thickness to the major axis of the particle, and can be measured, for example, from a projected view of the particle by a micrograph. The larger the aspect ratio, the greater the effect that can be obtained.

本発明によれば、裁断工程に起因する平版印刷版原版端部に対応する紙面の汚れが抑制され、セッター搬送性の良好な、合紙除去の工程が必要ない平版印刷版原版の製造方法及びその製造方法により得られる端部における汚れの発生が抑制された平版印刷版原版を提供することができる。   According to the present invention, a method for producing a lithographic printing plate precursor that suppresses stains on the paper surface corresponding to the edge of the lithographic printing plate precursor due to the cutting step, has good setter transportability, and does not require an interleaf removal step, and It is possible to provide a lithographic printing plate precursor in which the occurrence of contamination at the edge obtained by the production method is suppressed.

本発明は、親水性表面を有するアルミニウム支持体上に、感光層、無機層状化合物を含む保護層をこの順に積層した塗工ウェブを裁断部材で板厚方向に挟み付けて裁断することで製造される平版印刷版原版の製造方法であって、前記塗工ウェブの塗工面に合紙を介在させることなく裁断することを特徴とする平版印刷版原版の製造方法である。本発明をさらに詳細に説明する。
まず、塗工ウェブの裁断方法を説明する。
The present invention is produced by cutting a coated web in which a photosensitive layer and a protective layer containing an inorganic stratiform compound are laminated in this order on an aluminum support having a hydrophilic surface, and sandwiching the coated web in the thickness direction with a cutting member. A method for producing a lithographic printing plate precursor, comprising: cutting the coated web on the coated surface without interposing a slip sheet. The present invention will be described in further detail.
First, a method for cutting the coated web will be described.

図1は、スリッタ装置の裁断部を示す断面図である。スリッタ装置には、上下一対の裁断刃10、20が左右に配置されている。これらの裁断刃10、20は円板上の丸刃からなり、上側裁断刃10aおよび10bは回転軸11に、下側裁断刃20aおよび20bは回転軸21に、それぞれ同軸上に支持されている。そして、上側裁断刃10aおよび10bと下側裁断刃20aおよび20bとは、相反する方向に回転される。平版印刷版原版30は、上側裁断刃10a、10bと下側裁断刃20a、20bとの間を通されて所定の幅に裁断される。更に具体的には、図1に示すスリッタ装置の裁断部の上側裁断刃10aと下側裁断刃20aとの隙間および上側裁断刃10bと下側裁断刃20bとの隙間(D)と上刃と下刃のかみ込み量(S)とを調製することにより目的端部断面形状を得ることができる。紙面端部汚れ発生の抑制やレーザー露光セッターでの自動搬送不良発生の抑制の観点から、上側裁断刃10aと下側裁断刃20aとの隙間および上側裁断刃10bと下側裁断刃20bとの隙間(D)は30〜100μmに設定して裁断するのが好ましく、40〜80μmがより好ましい範囲である。さらに、印刷版原版の歪みの防止等の観点から、上刃と下刃のかみ込み量(S)は50〜1000μmに設定して裁断するのが好ましく、200〜700μmがより好ましい。   FIG. 1 is a cross-sectional view showing a cutting portion of the slitter device. In the slitter device, a pair of upper and lower cutting blades 10 and 20 are arranged on the left and right. These cutting blades 10 and 20 are circular blades on a circular plate, and the upper cutting blades 10a and 10b are supported on the rotating shaft 11 and the lower cutting blades 20a and 20b are supported on the rotating shaft 21 coaxially. The upper cutting blades 10a and 10b and the lower cutting blades 20a and 20b are rotated in opposite directions. The planographic printing plate precursor 30 is cut into a predetermined width by passing between the upper cutting blades 10a and 10b and the lower cutting blades 20a and 20b. More specifically, the gap between the upper cutting blade 10a and the lower cutting blade 20a and the upper blade between the upper cutting blade 10b and the lower cutting blade 20b in the cutting section of the slitter apparatus shown in FIG. The target end cross-sectional shape can be obtained by adjusting the amount of biting (S) of the lower blade. From the viewpoint of suppressing the occurrence of edge contamination on the paper surface and suppressing the occurrence of automatic conveyance failure in the laser exposure setter, the clearance between the upper cutting blade 10a and the lower cutting blade 20a and the clearance between the upper cutting blade 10b and the lower cutting blade 20b. (D) is preferably set to 30 to 100 μm and cut, and 40 to 80 μm is a more preferable range. Furthermore, from the viewpoint of preventing distortion of the printing plate precursor, the amount of biting (S) between the upper blade and the lower blade is preferably set to 50 to 1000 μm, and more preferably 200 to 700 μm.

図2は、本発明の上側裁断刃10aと下側裁断刃20aの形状を示すものである。また、図3は、図2のA部の拡大図であって、上側裁断刃10aの先端形状と下側裁断刃20aの先端形状および上側裁断刃と下側裁断刃の隙間を示す。図4は、図1のスリッタ装置、図2の裁断刃を用いて裁断を行った端部断面の形状を示す。   FIG. 2 shows the shapes of the upper cutting blade 10a and the lower cutting blade 20a of the present invention. FIG. 3 is an enlarged view of part A in FIG. 2 and shows the tip shape of the upper cutting blade 10a and the tip shape of the lower cutting blade 20a and the gap between the upper cutting blade and the lower cutting blade. FIG. 4 shows the shape of an end cross-section cut using the slitter device of FIG. 1 and the cutting blade of FIG.

図4の切欠部の形状は凸型に湾曲していることが好ましく、より好ましくは屈曲部を有さない凸型湾曲である。屈曲部を有する場合には屈曲部にインキが付着して汚れが発生する場合がある。図4のダレ高さ(X)の好ましい範囲は、紙面端部汚れ発生の抑制やレーザー露光セッターでの自動搬送不良発生の抑制の観点から、30〜200μm、より好ましい範囲は40〜180μmである。同様の観点から、図4の切欠部の面積(Y)の好ましい範囲は200〜100000μm2であり、より好ましい範囲は500〜70000μm2である。ダレ高さ(X)、切欠部の面積(Y)、バリ高さ(Z)は、超深度形状測定顕微鏡VK−8500(キーエンス製)で測定可能である。 The shape of the notch in FIG. 4 is preferably curved in a convex shape, more preferably a convex curve without a bent portion. In the case of having a bent portion, ink may adhere to the bent portion and stains may occur. A preferable range of the sagging height (X) in FIG. 4 is 30 to 200 μm, and a more preferable range is 40 to 180 μm, from the viewpoint of suppressing the occurrence of edge contamination on the paper surface and suppressing the occurrence of poor automatic conveyance with a laser exposure setter. . From the same viewpoint, the preferable range of the area of the notch in FIG. 4 (Y) is 200~100000Myuemu 2, a more preferred range is 500~70000μm 2. The sagging height (X), the area of the notch (Y), and the burr height (Z) can be measured with an ultra-deep shape measuring microscope VK-8500 (manufactured by Keyence).

<平版印刷版原版>
次に、本発明の製造方法が適用される平版印刷版原版について説明する。本発明の平版印刷版原版はアルミニウム支持体上に、感光層、無機層状化合物を含む保護層をこの順に設けている。ここで、「この順に設けた」とは、支持体上に、感光層、及び無機層状化合物を含む保護層がこの順に設けられることを指し、目的に応じて設けられる他の層(例えば、バックコート層等)の存在を否定するものではない。
<Lithographic printing plate precursor>
Next, a planographic printing plate precursor to which the production method of the present invention is applied will be described. In the lithographic printing plate precursor according to the invention, a photosensitive layer and a protective layer containing an inorganic layered compound are provided in this order on an aluminum support. Here, “provided in this order” means that a photosensitive layer and a protective layer containing an inorganic stratiform compound are provided in this order on the support, and other layers (for example, a back surface) provided according to the purpose. It does not deny the presence of a coat layer or the like.

[保護層]
平版印刷版原版に適する保護層の特性としては、合紙を介在することなく裁断して端部が汚れを生じないよう適度な割れを生じ、露光に用いる活性光線の透過を阻害せず、ガス透過性が低いフィルム若しくは被膜を形成することができ、且つ、感光層との密着性に優れるものである。また、印刷版原版を合紙を挟まずに積層した場合に、印刷版原版同士の接着によるセッター搬送時の送りミスや保護層表面のキズの発生を防止する特性を有する必要もある。本発明者らは鋭意検討の結果、以下に述べる物性を有する無機層状化合物を好適なバインダーとともに用いることにより、優れた性能を示す保護層が得られることを見いだした。
[Protective layer]
The characteristics of the protective layer suitable for the lithographic printing plate precursor include that the paper is cut without intervening intervening paper to cause moderate cracking so that the edges do not become smudged, do not hinder the transmission of actinic rays used for exposure, and gas A film or a film having low permeability can be formed, and the adhesiveness with the photosensitive layer is excellent. In addition, when the printing plate precursors are stacked without interposing the interleaving paper, it is also necessary to have a characteristic of preventing the occurrence of feeding errors and scratches on the surface of the protective layer during setter conveyance due to adhesion between the printing plate precursors. As a result of intensive studies, the present inventors have found that a protective layer exhibiting excellent performance can be obtained by using an inorganic layered compound having the following physical properties together with a suitable binder.

本発明で使用する無機質の層状化合物とは、薄い平板状の形状を有する粒子であり、例えば、下記一般式(1)で表される天然雲母、合成雲母等の雲母群、一般式(2)で表されるタルク、テニオライト、モンモリロナイト、サポナイト、ヘクトライト、りん酸ジルコニウムなどが挙げられる。
一般式(1):A(B,C)2−5D410(OH,F,O)2〔ただし、Aは、K,Na,Caの何れか、B及びCは、Fe(II),Fe(III),Mn,Al,Mg,Vの何れかであり、Dは、Si又はAlである。〕
一般式(2):3MgO・4SiO・H2O
The inorganic layered compound used in the present invention is a particle having a thin flat plate shape. For example, a mica group such as natural mica and synthetic mica represented by the following general formula (1), general formula (2) Talc, teniolite, montmorillonite, saponite, hectorite, zirconium phosphate and the like represented by
General formula (1): A (B, C) 2 -5D 4 O 10 (OH, F, O) 2 [where A is any of K, Na, and Ca, and B and C are Fe (II) , Fe (III), Mn, Al, Mg, V, and D is Si or Al. ]
General formula (2): 3MgO · 4SiO · H2O

上記雲母群においては、天然雲母としては白雲母、ソーダ雲母、金雲母、黒雲母及び鱗雲母が挙げられる。また、合成雲母としては、フッ素金雲母KMg3(AlSi310)F2、カリ四ケイ素雲母KMg2.5(Si410)F2等の非膨潤性雲母、及びNaテトラシリリックマイカNaMg2.5(Si410)F2、Na又はLiテニオライト(Na,Li)Mg2Li(Si410)F2、モンモリロナイト系のNa又はLiヘクトライト(Na,Li)1/8Mg2/5Li1/8(Si410)F2等の膨潤性雲母等が挙げられる。更に合成スメクタイトも有用である。 In the mica group, examples of natural mica include muscovite, soda mica, phlogopite, biotite and sericite. Synthetic mica includes non-swelling mica such as fluorine phlogopite mica 3 (AlSi 3 O 10 ) F 2 , potassium tetrasilicon mica KMg 2.5 (Si 4 O 10 ) F 2 , and Na tetrasilicic mica NaMg 2.5. (Si 4 O 10 ) F 2 , Na or Li teniolite (Na, Li) Mg 2 Li (Si 4 O 10 ) F 2 , montmorillonite-based Na or Li hectorite (Na, Li) 1/8 Mg 2/5 Examples thereof include swelling mica such as Li 1/8 (Si 4 O 10 ) F 2 . Synthetic smectite is also useful.

本発明においては、上記の無機質の層状化合物の中でも、合成の無機質の層状化合物であるフッ素系の膨潤性雲母が特に有用である。なかでも、ベントナイト及び膨潤性合成雲母が有用であり、特に膨潤性合成雲母が好ましく用いられる。   In the present invention, among the inorganic layered compounds, fluorine-based swellable mica, which is a synthetic inorganic layered compound, is particularly useful. Among them, bentonite and swellable synthetic mica are useful, and swellable synthetic mica is particularly preferably used.

本発明で使用する無機層状化合物の形状としては、保護層に対する分子の透過性制御、保護層内での分子の拡散性制御の観点からは、厚さは薄ければ薄いほどよく、平面サイズは塗布面の平滑性や活性光線の透過性を阻害しない限りにおいて大きいほどよい。従って、アスペクト比は20以上であり、好ましくは100以上、特に好ましくは200以上である。なお、アスペクト比は粒子の長径に対する厚さの比であり、たとえば、粒子の顕微鏡写真による投影図から測定することができる。アスペクト比が大きい程、得られる効果が大きい。   As the shape of the inorganic layered compound used in the present invention, from the viewpoint of controlling the permeability of molecules to the protective layer and controlling the diffusibility of molecules within the protective layer, the thinner the better, the plane size is As long as the smoothness of the coated surface and the transmittance of actinic rays are not impaired, the larger the better. Accordingly, the aspect ratio is 20 or more, preferably 100 or more, particularly preferably 200 or more. The aspect ratio is the ratio of the thickness to the major axis of the particle, and can be measured, for example, from a projected view of the particle by a micrograph. The larger the aspect ratio, the greater the effect that can be obtained.

本発明で使用する無機層状化合物の粒子径は、その平均長径が0.3〜20μm、好ましくは0.5〜10μm、特に好ましくは1〜5μmである。また、該粒子の平均の厚さは、0.1μm以下、好ましくは、0.05μm以下、特に好ましくは、0.01μm以下である。例えば、無機層状化合物のうち、代表的化合物である膨潤性合成雲母のサイズは厚さが1〜50nm、面サイズが1〜20μm程度である。   As for the particle diameter of the inorganic stratiform compound used in the present invention, the average major axis is 0.3 to 20 μm, preferably 0.5 to 10 μm, particularly preferably 1 to 5 μm. The average thickness of the particles is 0.1 μm or less, preferably 0.05 μm or less, particularly preferably 0.01 μm or less. For example, among the inorganic layered compounds, the size of the swellable synthetic mica, which is a representative compound, has a thickness of 1 to 50 nm and a surface size of about 1 to 20 μm.

このようにアスペクト比が大きい無機層状化合物の粒子を保護層に含有させると、塗膜強度が向上し、また、酸素や水分の透過を効果的に防止しうるため、変形などによる保護層の劣化を防止し、高湿条件下において長期間保存しても、湿度の変化による平版印刷版原版における画像形成性の低下もなく保存安定性に優れる。さらに、前記したように、裁断刃による裁断に際し、保護層が撓みにくくなり、所望されない重合を抑制する程度の酸素を透過しうる保護層の割れを生じやすくなるといった利点をも有する。   When particles of inorganic layered compounds having a large aspect ratio are contained in the protective layer as described above, the coating film strength is improved and the permeation of oxygen and moisture can be effectively prevented. Even when stored for a long time under high humidity conditions, the storage stability of the planographic printing plate precursor is not deteriorated due to changes in humidity, and the storage stability is excellent. Furthermore, as described above, when cutting with a cutting blade, the protective layer is difficult to bend, and there is also an advantage that the protective layer that can permeate oxygen to suppress undesired polymerization is likely to be cracked.

無機層状化合物の保護層に含有される量は、保護層に使用されるバインダーの量に対し、重量比で5/1〜1/100であることが好ましい。無機質の層状化合物の量が重量比較例で1/100未満であると、無機質の層状化合物を添加する効果がなく、5/1を越えると、塗膜にひび割れが生じる虞れがある。複数種の無機層状化合物を併用した場合でも、これらの無機層状化合物の合計の量が上記の重量比であることが好ましい。   The amount of the inorganic layered compound contained in the protective layer is preferably 5/1 to 1/100 by weight with respect to the amount of the binder used in the protective layer. If the amount of the inorganic layered compound is less than 1/100 in the weight comparison example, there is no effect of adding the inorganic layered compound, and if it exceeds 5/1, the coating film may be cracked. Even when a plurality of types of inorganic layered compounds are used in combination, the total amount of these inorganic layered compounds is preferably the above-mentioned weight ratio.

本発明の保護層に用いられるバインダーとしては、無機層状化合物の分散性が良好であり、感光層に密着する均一な被膜を形成し得るものであれば、特に制限はなく、水溶性ポリマー、水不溶性ポリマーのいずれをも適宜選択して使用することができる。具体的には例えば、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸、ポリアクリルアミド、ポリ酢酸ビニルの部分鹸化物、エチレン−ビニルアルコール共重合体、水溶性セルロース誘導体、ゼラチン、デンプン誘導体、アラビアゴム等の水溶性ポリマーや、ポリ塩化ビニリデン、ポリ(メタ)アクリロニトリル、ポリサルホン、ポリ塩化ビニル、ポリエチレン、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリアミド、セロハン等の水不溶性ポリマー等が挙げられる。これらは、必要に応じて2種以上を併用して用いることもできる。これらのうち、非画像部に残存する保護層の除去の容易性及び被膜形成時のハンドリング性の観点から、水溶性ポリマーが好ましく、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸等の水溶性アクリル樹脂、ゼラチン、アラビアゴム等が好適であり、なかでも、水を溶媒として塗布可能であり、且つ、印刷時における湿し水により容易に除去されるという観点から、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ゼラチン、アラビアゴム等がさらに好ましい。   The binder used in the protective layer of the present invention is not particularly limited as long as it has good dispersibility of the inorganic layered compound and can form a uniform film in close contact with the photosensitive layer. Any insoluble polymer can be appropriately selected and used. Specifically, for example, polyvinyl alcohol, modified polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, polyacrylic acid, polyacrylamide, partially saponified polyvinyl acetate, ethylene-vinyl alcohol copolymer, water-soluble cellulose derivative, gelatin, starch derivative, Arabic Examples include water-soluble polymers such as rubber, and water-insoluble polymers such as polyvinylidene chloride, poly (meth) acrylonitrile, polysulfone, polyvinyl chloride, polyethylene, polycarbonate, polystyrene, polyamide, and cellophane. These may be used in combination of two or more as required. Of these, water-soluble polymers are preferred from the viewpoint of easy removal of the protective layer remaining in the non-image area and handling properties during film formation, water-soluble acrylic resins such as polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, and polyacrylic acid, Gelatin, gum arabic, and the like are preferable. Among them, polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, gelatin, gum arabic are preferable from the viewpoint that they can be applied using water as a solvent and can be easily removed by dampening water during printing. Etc. are more preferable.

本発明に係る保護層に用い得るポリビニルアルコールは、必要な水溶性を有する実質的量の未置換ビニルアルコール単位を含有するかぎり、一部がエステル、エーテル、及びアセタールで置換されていてもよい。また、同様に一部が他の共重合成分を含有していてもよい。ポリビニルアルコールの具体例としては、71〜100%加水分解され、重合度が300〜2400の範囲のものが挙げられる。具体的には、株式会社クラレ製のPVA−105,PVA−110,PVA−117,PVA−117H,PVA−120,PVA−124,PVA−124H,PVA−CS,PVA−CST,PVA−HC,PVA−203,PVA−204,PVA−205,PVA−210,PVA−217,PVA−220,PVA−224,PVA−217EE,PVA−217E,PVA−220E,PVA−224E,PVA−405,PVA−420,PVA−613,L−8等が挙げられる。上記の共重合体としては、88〜100%加水分解されたポリビニルアセテートクロロアセテート又はプロピオネート、ポリビニルホルマール及びポリビニルアセタール及びそれらの共重合体が挙げられる。   The polyvinyl alcohol that can be used in the protective layer according to the present invention may be partially substituted with an ester, an ether, and an acetal as long as it contains a substantial amount of an unsubstituted vinyl alcohol unit having the necessary water solubility. Similarly, a part may contain other copolymerization components. Specific examples of the polyvinyl alcohol include those having a hydrolysis degree of 71 to 100% and a polymerization degree of 300 to 2400. Specifically, PVA-105, PVA-110, PVA-117, PVA-117H, PVA-120, PVA-124, PVA-124H, PVA-CS, PVA-CST, PVA-HC, manufactured by Kuraray Co., Ltd. PVA-203, PVA-204, PVA-205, PVA-210, PVA-217, PVA-220, PVA-224, PVA-217EE, PVA-217E, PVA-220E, PVA-224E, PVA-405, PVA- 420, PVA-613, L-8, and the like. Examples of the copolymer include 88-100% hydrolyzed polyvinyl acetate chloroacetate or propionate, polyvinyl formal, polyvinyl acetal, and copolymers thereof.

次に、保護層に用いる無機層状化合物の一般的な分散方法の例について述べる。まず、水100重量部に先に無機層状化合物の好ましいものとして挙げた膨潤性の層状化合物を5〜10重量部添加し、水になじませ、膨潤させた後、分散機にかけて分散する。
ここで用いる分散機としては、機械的に直接力を加えて分散する各種ミル、大きな剪断力を有する高速攪拌型分散機、高強度の超音波エネルギーを与える分散機等が挙げられる。具体的には、ボールミル、サンドグラインダーミル、ビスコミル、コロイドミル、ホモジナイザー、ティゾルバー、ポリトロン、ホモミキサー、ホモブレンダー、ケディミル、ジェットアジター、毛細管式乳化装置、液体サイレン、電磁歪式超音波発生機、ポールマン笛を有する乳化装置等が挙げられる。上記の方法で分散した無機層状化合物の5〜10重量%の分散物は高粘度あるいはゲル状であり、保存安定性は極めて良好である。この分散物を用いて保護層塗布液を調製する際には、水で希釈し、充分攪拌した後、バインダー溶液と配合して調製するのが好ましい。
Next, an example of a general dispersion method of the inorganic layered compound used for the protective layer will be described. First, 5 to 10 parts by weight of the swellable layered compound mentioned above as a preferred inorganic layered compound is added to 100 parts by weight of water, and the mixture is swelled and swollen.
Examples of the disperser used here include various mills that disperse mechanically by applying a direct force, a high-speed stirring disperser having a large shearing force, and a disperser that provides high-intensity ultrasonic energy. Specifically, ball mill, sand grinder mill, visco mill, colloid mill, homogenizer, tisol bar, polytron, homomixer, homo blender, ketdy mill, jet agitator, capillary emulsifier, liquid siren, electrostrictive ultrasonic generator, An emulsifying device having a Paulman whistle can be used. A dispersion of 5 to 10% by weight of the inorganic stratiform compound dispersed by the above method is highly viscous or gelled and has very good storage stability. When preparing a protective layer coating solution using this dispersion, it is preferably prepared by diluting with water and stirring sufficiently, and then blending with a binder solution.

この保護層塗布液には、塗布性を向上させための界面活性剤や被膜の物性改良のための水溶性の可塑剤などの公知の添加剤を加えることができる。水溶性の可塑剤としては、例えば、プロピオンアミド、シクロヘキサンジオール、グリセリン、ソルビトール等が挙げられる。また、水溶性の(メタ)アクリル系ポリマーを加えることもできる。さらに、この塗布液には、感光層との密着性、塗布液の経時安定性を向上するための公知の添加剤を加えてもよい。このように調製された保護層塗布液を、支持体上に備えられた感光層の上に塗布し、乾燥して保護層を形成する。塗布溶剤はバインダーとの関連において適宜選択することができるが、水溶性ポリマーを用いる場合には、蒸留水、精製水を用いることが好ましい。保護層は、ブレード塗布法、エアナイフ塗布法、グラビア塗布法、ロールコーティング塗布法、スプレー塗布法、ディップ塗布法、バー塗布法等の公知の塗布方法により感光層上に塗布される。保護層塗布量としては、乾燥後の塗布量で、0.5〜10g/m2の範囲であることが好ましく、1〜5g/m2の範囲であることがさらに好ましい。 Known additives such as a surfactant for improving the coating property and a water-soluble plasticizer for improving the physical properties of the film can be added to the protective layer coating solution. Examples of the water-soluble plasticizer include propionamide, cyclohexanediol, glycerin, sorbitol and the like. A water-soluble (meth) acrylic polymer can also be added. Furthermore, known additives for improving the adhesion to the photosensitive layer and the temporal stability of the coating solution may be added to the coating solution. The protective layer coating solution thus prepared is applied onto the photosensitive layer provided on the support and dried to form a protective layer. The coating solvent can be appropriately selected in relation to the binder, but when a water-soluble polymer is used, it is preferable to use distilled water or purified water. The protective layer is coated on the photosensitive layer by a known coating method such as a blade coating method, an air knife coating method, a gravure coating method, a roll coating coating method, a spray coating method, a dip coating method, or a bar coating method. The protective layer coating amount, the coating amount after drying is preferably in the range of 0.5 to 10 g / m 2, more preferably in the range of 1 to 5 g / m 2.

本発明においては、感光層と保護層の間に、さらに接着性、除去性を制御するための水溶性ポリマーからなる中間層を設けることもできる。この中間層の乾燥塗布重量としては、通常0.1〜10g/m2であり、好ましくは0.1〜2.0g/m2である。 In the present invention, an intermediate layer made of a water-soluble polymer for controlling adhesion and removability can be further provided between the photosensitive layer and the protective layer. The dry coating weight of this intermediate layer is usually 0.1 to 10 g / m 2 , preferably 0.1 to 2.0 g / m 2 .

本発明に係る保護層及び所望により設けられる上記中間層の塗布方法は、特に制限されるものではなく、米国特許第3,458,311号又は特開昭55−49729号に記載されている方法を適用することができる。また、塗布する際の溶剤としては、水が使用される。   The coating method of the protective layer according to the present invention and the intermediate layer provided as desired is not particularly limited, and is a method described in US Pat. No. 3,458,311 or JP-A-55-49729. Can be applied. Moreover, water is used as a solvent for application.

本発明に係る保護層は、裁断することで端部が汚れを生じないよう適度な割れを生じ、感光層と良好な接着性を有し、優れた酸素遮断性を有するものであり、且つ、感光層に書き込みを行う活性光線に対して透明、即ち、書き込みの機能を阻害しない特性を有する。   The protective layer according to the present invention has moderate cracks so that the edges do not become soiled by cutting, has good adhesiveness with the photosensitive layer, has excellent oxygen barrier properties, and It is transparent to actinic rays for writing on the photosensitive layer, that is, has a characteristic that does not hinder the writing function.

<感光層>
次に、本発明に係る感光層について説明する。本発明に係る平版印刷版原版の感光層は、赤外線吸収剤、重合開始剤、重合性化合物、及びバインダーポリマーを含有することが望ましいが、これに限定されるものではない。更に必要に応じて、着色剤や他の任意成分を含むことができる。さらには、重合性ネガ型の感光層であることが望ましいが、これに限定されるものではない。
<Photosensitive layer>
Next, the photosensitive layer according to the present invention will be described. The photosensitive layer of the lithographic printing plate precursor according to the invention preferably contains an infrared absorber, a polymerization initiator, a polymerizable compound, and a binder polymer, but is not limited thereto. Furthermore, a coloring agent and other arbitrary components can be included as needed. Furthermore, although it is desirable that it is a polymerizable negative photosensitive layer, it is not limited to this.

本発明における重合性ネガ型の感光層は、赤外光に感応するため、CTPに有用な赤外線レーザーに感光することができる。ここに含まれる赤外線吸収剤は、赤外線レーザーの照射(露光)に対し高感度で電子励起状態となり、かかる電子励起状態に係る電子移動、エネルギー移動、発熱(光熱変換機能)などが、感光層中に併存する重合開始剤に作用して、該重合開始剤に化学変化を生起させてラジカルを生成させる。   Since the polymerizable negative photosensitive layer in the present invention is sensitive to infrared light, it can be exposed to an infrared laser useful for CTP. The infrared absorber contained therein is in an electronically excited state with high sensitivity to infrared laser irradiation (exposure), and the electron transfer, energy transfer, heat generation (photothermal conversion function), etc. in the electronically excited state are contained in the photosensitive layer. It acts on the polymerization initiators coexisting with each other to cause a chemical change in the polymerization initiators to generate radicals.

本発明における平版印刷版原版は、感光層が赤外線吸収剤を含有することにより、750nm〜1400nmの波長を有する赤外線レーザー光での直接描画される製版に特に好適であり、従来の平版印刷版原版に比べ、高い画像形成性を発現することができる。   The lithographic printing plate precursor according to the invention is particularly suitable for plate making directly drawn with an infrared laser beam having a wavelength of 750 to 1400 nm because the photosensitive layer contains an infrared absorber, and the conventional lithographic printing plate precursor Compared to the above, high image forming properties can be exhibited.

以下に、本発明に係る感光層を構成する各成分について説明する。
〔(イ)赤外線吸収剤〕
本発明に係る感光層は、エネルギー移動機能(電子移動)や光熱変換機能などの発現を目的にして、赤外線吸収剤を含有する。
赤外線吸収剤は、赤外線レーザーの照射(露光)に対し高感度で電子励起状態となり、かかる電子励起状態に係る電子移動、エネルギー移動、発熱(光熱変換機能)などが、後述する重合開始剤に作用して、該重合開始剤に高感度で化学変化を生起させてラジカルを生成させるのに有用である。
本発明において使用される赤外線吸収剤は、750nm〜1400nmの波長に吸収極大を有する染料又は顔料であることが好ましい。
Below, each component which comprises the photosensitive layer concerning this invention is demonstrated.
[(I) Infrared absorber]
The photosensitive layer according to the present invention contains an infrared absorber for the purpose of developing an energy transfer function (electron transfer), a photothermal conversion function, and the like.
Infrared absorbers are in an electronically excited state with high sensitivity to infrared laser irradiation (exposure), and the electron transfer, energy transfer, heat generation (photothermal conversion function), etc. related to the electron excited state act on the polymerization initiator described later. Thus, it is useful for generating a radical by causing a chemical change in the polymerization initiator with high sensitivity.
The infrared absorbent used in the present invention is preferably a dye or pigment having an absorption maximum at a wavelength of 750 nm to 1400 nm.

染料としては、市販の染料及び例えば、「染料便覧」(有機合成化学協会編集、昭和45年刊)等の文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、金属チオレート錯体等の染料が挙げられる。   As the dye, commercially available dyes and known dyes described in documents such as “Dye Handbook” (edited by the Society for Synthetic Organic Chemistry, published in 1970) can be used. Specifically, dyes such as azo dyes, metal complex azo dyes, pyrazolone azo dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinoneimine dyes, methine dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, metal thiolate complexes, etc. Is mentioned.

好ましい染料としては、例えば、特開昭58−125246号、特開昭59−84356号、特開昭60−78787号等に記載されているシアニン染料、特開昭58−173696号、特開昭58−181690号、特開昭58−194595号等に記載されているメチン染料、特開昭58−112793号、特開昭58−224793号、特開昭59−48187号、特開昭59−73996号、特開昭60−52940号、特開昭60−63744号等に記載されているナフトキノン染料、特開昭58−112792号等に記載されているスクワリリウム色素、英国特許434,875号記載のシアニン染料等を挙げることができる。   Examples of preferable dyes include cyanine dyes described in JP-A-58-125246, JP-A-59-84356, JP-A-60-78787, JP-A-58-173696, 58-181690, JP-A-58-194595, etc., methine dyes, JP-A-58-112793, JP-A-58-224793, JP-A-59-48187, JP-A-59- No. 73996, JP-A-60-52940, JP-A-60-63744 and the like, Naphthoquinone dyes described in JP-A-58-112792, etc., British Patent 434,875 And cyanine dyes.

また、米国特許第5,156,938号記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特許第3,881,924号記載の置換されたアリールベンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−142645号(米国特許第4,327,169号)記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭58−181051号、同58−220143号、同59−41363号、同59−84248号、同59−84249号、同59−146063号、同59−146061号に記載されているピリリウム系化合物、特開昭59−216146号記載のシアニン色素、米国特許第4,283,475号に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平5−13514号、同5−19702号に開示されているピリリウム化合物も好ましく用いられる。また、染料として好ましい別の例として、米国特許第4,756,993号明細書中に式(I)、(II)として記載されている近赤外吸収染料を挙げることができる。   Also, a near infrared absorption sensitizer described in US Pat. No. 5,156,938 is preferably used, and a substituted arylbenzo (thio) pyrylium salt described in US Pat. No. 3,881,924, Trimethine thiapyrylium salts described in JP-A-57-142645 (US Pat. No. 4,327,169), JP-A-58-181051, 58-220143, 59-41363, 59-84248 Nos. 59-84249, 59-146063, 59-146061, pyranlium compounds, cyanine dyes described in JP-A-59-216146, US Pat. No. 4,283,475 The pentamethine thiopyrylium salts described above and the pyrylium compounds disclosed in Japanese Patent Publication Nos. 5-13514 and 5-19702 are also preferably used. . Moreover, as another example preferable as a dye, the near-infrared absorptive dye described as the formula (I) and (II) in US Patent 4,756,993 can be mentioned.

また、本発明における赤外線吸収色素の好ましい他の例としては、以下に例示するような特開2002−278057号公報に記載の特定インドレニンシアニン色素が挙挙げられる。   Other preferable examples of the infrared absorbing dye in the present invention include specific indolenine cyanine dyes described in JP-A-2002-278057 as exemplified below.

Figure 2007076330
Figure 2007076330

これらの染料のうち特に好ましいものとしては、シアニン色素、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、ニッケルチオレート錯体、インドレニンシアニン色素が挙げられる。更に、シアニン色素やインドレニンシアニン色素が好ましく、特に好ましい例として下記一般式(a)で示されるシアニン色素が挙げられる。   Particularly preferred among these dyes are cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, nickel thiolate complexes, and indolenine cyanine dyes. Further, cyanine dyes and indolenine cyanine dyes are preferred, and particularly preferred examples include cyanine dyes represented by the following general formula (a).

Figure 2007076330
Figure 2007076330

一般式(a)中、X1は、水素原子、ハロゲン原子、−NPh2、X2−L1又は以下に示す基を表す。ここで、X2は酸素原子、窒素原子、又は硫黄原子を示し、L1は、炭素原子数1〜12の炭化水素基、ヘテロ原子を有する芳香族環、ヘテロ原子を含む炭素原子数1〜12の炭化水素基を示す。なお、ここでヘテロ原子とは、N、S、O、ハロゲン原子、Seを示す。Xa-は後述するZa-と同様に定義され、Raは、水素原子、アルキル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、ハロゲン原子より選択される置換基を表す。 In formula (a), X 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom, -NPh 2, X 2 -L 1 or a group shown below. Here, X 2 represents an oxygen atom, a nitrogen atom, or a sulfur atom, and L 1 represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, an aromatic ring having a hetero atom, or 1 to 1 carbon atom containing a hetero atom. 12 hydrocarbon groups are shown. In addition, a hetero atom here shows N, S, O, a halogen atom, and Se. Xa - the Za described later - is defined as for, R a represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a substituted or unsubstituted amino group, substituted or unsubstituted amino group and a halogen atom.

Figure 2007076330
Figure 2007076330

1及びR2は、それぞれ独立に、炭素原子数1〜12の炭化水素基を示す。感光層塗布液の保存安定性から、R1及びR2は、炭素原子数2個以上の炭化水素基であることが好ましく、更に、R1とR2とは互いに結合し、5員環又は6員環を形成していることが特に好ましい。 R 1 and R 2 each independently represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms. From the storage stability of the photosensitive layer coating solution, R 1 and R 2 are preferably hydrocarbon groups having 2 or more carbon atoms, and R 1 and R 2 are bonded to each other to form a 5-membered ring or It is particularly preferable that a 6-membered ring is formed.

Ar1、Ar2は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基を示す。好ましい芳香族炭化水素基としては、ベンゼン環及びナフタレン環が挙げられる。また、好ましい置換基としては、炭素原子数12個以下の炭化水素基、ハロゲン原子、炭素原子数12個以下のアルコキシ基が挙げられる。Y1、Y2は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、硫黄原子又は炭素原子数12個以下のジアルキルメチレン基を示す。R3、R4は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい炭素原子数20個以下の炭化水素基を示す。好ましい置換基としては、炭素原子数12個以下のアルコキシ基、カルボキシル基、スルホ基が挙げられる。R5、R6、R7及びR8は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、水素原子又は炭素原子数12個以下の炭化水素基を示す。原料の入手性から、好ましくは水素原子である。また、Za-は、対アニオンを示す。ただし、一般式(a)で示されるシアニン色素が、その構造内にアニオン性の置換基を有し、電荷の中和が必要ない場合にはZa-は必要ない。好ましいZa-は、感光層塗布液の保存安定性から、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、及びスルホン酸イオンであり、特に好ましくは、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロフォスフェートイオン、及びアリールスルホン酸イオンである。 Ar 1 and Ar 2 may be the same or different and each represents an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent. Preferred aromatic hydrocarbon groups include a benzene ring and a naphthalene ring. Moreover, as a preferable substituent, a C12 or less hydrocarbon group, a halogen atom, and a C12 or less alkoxy group are mentioned. Y 1 and Y 2 may be the same or different and each represents a sulfur atom or a dialkylmethylene group having 12 or less carbon atoms. R 3 and R 4 may be the same or different and each represents a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. Preferred substituents include alkoxy groups having 12 or less carbon atoms, carboxyl groups, and sulfo groups. R 5 , R 6 , R 7 and R 8 may be the same or different and each represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms. From the availability of raw materials, a hydrogen atom is preferred. Za represents a counter anion. However, Za is not necessary when the cyanine dye represented by formula (a) has an anionic substituent in its structure and neutralization of charge is not necessary. Preferred Za is a halogen ion, a perchlorate ion, a tetrafluoroborate ion, a hexafluorophosphate ion, and a sulfonate ion, particularly preferably a perchlorate ion, a hexagonal salt, in view of storage stability of the photosensitive layer coating solution. Fluorophosphate ions and aryl sulfonate ions.

本発明において、好適に用いることのできる一般式(a)で示されるシアニン色素の具体例としては、特開2001−133969公報の段落番号[0017]から[0019]に記載されたものを挙げることができる。
また、特に好ましい他の例として更に、前記した特開2002−278057号公報に記載の特定インドレニンシアニン色素が挙げられる。
Specific examples of the cyanine dye represented by formula (a) that can be suitably used in the present invention include those described in paragraph numbers [0017] to [0019] of JP-A No. 2001-133969. Can do.
Further, other particularly preferable examples include specific indolenine cyanine dyes described in JP-A-2002-278057 described above.

本発明において使用される顔料としては、市販の顔料及びカラーインデックス(C.I.)便覧、「最新顔料便覧」(日本顔料技術協会編、1977年刊)、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)、「印刷インキ技術」CMC出版、1984年刊)に記載されている顔料が利用できる。   Examples of the pigment used in the present invention include commercially available pigments and color index (CI) manual, “Latest Pigment Handbook” (edited by Japan Pigment Technology Association, published in 1977), “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1986), “Printing Ink Technology”, CMC Publishing, 1984) can be used.

顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレン及びペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用できる。これらの顔料のうち好ましいものはカーボンブラックである。   Examples of the pigment include black pigments, yellow pigments, orange pigments, brown pigments, red pigments, purple pigments, blue pigments, green pigments, fluorescent pigments, metal powder pigments, and other polymer-bonded dyes. Specifically, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensed azo pigments, chelate azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, perylene and perinone pigments, thioindigo pigments, quinacridone pigments, dioxazine pigments, isoindolinone pigments In addition, quinophthalone pigments, dyed lake pigments, azine pigments, nitroso pigments, nitro pigments, natural pigments, fluorescent pigments, inorganic pigments, carbon black, and the like can be used. Among these pigments, carbon black is preferable.

これら顔料は表面処理をせずに用いてもよく、表面処理を施して用いてもよい。表面処理の方法には、樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性剤を付着させる方法、反応性物質(例えば、シランカップリング剤、エポキシ化合物、ポリイソシアネート等)を顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表面処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」(幸書房)、「印刷インキ技術」(CMC出版、1984年刊)及び「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に記載されている。   These pigments may be used without surface treatment, or may be used after surface treatment. The surface treatment method includes a method of surface coating with a resin or wax, a method of attaching a surfactant, a method of bonding a reactive substance (eg, silane coupling agent, epoxy compound, polyisocyanate, etc.) to the pigment surface, etc. Can be considered. The above-mentioned surface treatment methods are described in “Characteristics and Applications of Metal Soap” (Shobobo), “Printing Ink Technology” (CMC Publishing, 1984) and “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1986). Yes.

顔料の粒径は0.01μm〜10μmの範囲にあることが好ましく、0.05μm〜1μmの範囲にあることが更に好ましく、特に0.1μm〜1μmの範囲にあることが好ましい。この好ましい粒径の範囲において、感光層中における顔料の優れた分散安定性が得られ、均一な感光層が得られる。   The particle size of the pigment is preferably in the range of 0.01 μm to 10 μm, more preferably in the range of 0.05 μm to 1 μm, and particularly preferably in the range of 0.1 μm to 1 μm. Within this preferred particle size range, excellent dispersion stability of the pigment in the photosensitive layer can be obtained, and a uniform photosensitive layer can be obtained.

顔料を分散する方法としては、インク製造やトナー製造等に用いられる公知の分散技術が使用できる。分散機としては、超音波分散器、サンドミル、アトライター、パールミル、スーパーミル、ボールミル、インペラー、デスパーザー、KDミル、コロイドミル、ダイナトロン、3本ロールミル、加圧ニーダー等が挙げられる。詳細は、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に記載されている。   As a method for dispersing the pigment, a known dispersion technique used in ink production, toner production, or the like can be used. Examples of the disperser include an ultrasonic disperser, a sand mill, an attritor, a pearl mill, a super mill, a ball mill, an impeller, a disperser, a KD mill, a colloid mill, a dynatron, a three-roll mill, and a pressure kneader. Details are described in "Latest Pigment Applied Technology" (CMC Publishing, 1986).

これらの赤外線吸収剤は、本発明に係る感光層に用いる場合、他の成分と同一の層に添加してもよいし、別の層を設けそこへ添加してもよい。
これらの赤外線吸収剤は、感光層中における均一性や感光層の耐久性の観点から、感光層を構成する全固形分に対し0.01〜50質量%、好ましくは0.1〜10質量%、染料の場合特に好ましくは0.5〜10質量%、顔料の場合特に好ましくは0.1〜10質量%の割合で添加することができる。
When these infrared absorbers are used in the photosensitive layer according to the present invention, they may be added to the same layer as other components, or another layer may be provided and added thereto.
From the viewpoint of uniformity in the photosensitive layer and durability of the photosensitive layer, these infrared absorbers are 0.01 to 50% by mass, preferably 0.1 to 10% by mass, based on the total solid content constituting the photosensitive layer. In the case of a dye, particularly preferably 0.5 to 10% by mass, and in the case of a pigment, 0.1 to 10% by mass can be particularly preferably added.

〔(ロ)重合開始剤〕
本発明に用いられる重合開始剤としては、オニウム塩、活性ハロゲン化合物、オキシムエステル化合物、ボレート化合物などが挙げられる。これらは1種のみを用いてもよく、2種以上を併用してもよい。本発明においては、重合開始剤としてオニウム塩が好ましく、中でも、スルホニウム塩が特に好ましい。
本発明において好適に用いられるスルホニウム塩重合開始剤としては、下記一般式(1)で表されるオニウム塩が挙げられる。
[(B) polymerization initiator]
Examples of the polymerization initiator used in the present invention include onium salts, active halogen compounds, oxime ester compounds, and borate compounds. These may use only 1 type and may use 2 or more types together. In the present invention, an onium salt is preferable as a polymerization initiator, and a sulfonium salt is particularly preferable.
Examples of the sulfonium salt polymerization initiator suitably used in the present invention include onium salts represented by the following general formula (1).

Figure 2007076330
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一般式(1)中、R11、R12及びR13は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい炭素原子数20個以下の炭化水素基を示す。好ましい置換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素原子数12個以下のアルキル基、炭素原子数12個以下のアルコキシ基、又は炭素原子数12個以下のアリールオキシ基が挙げられる。(Z11-はハロゲンイオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、カルボキシレートイオン、及びスルホン酸イオンからなる群より選択される対イオンを表し、好ましくは、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロフォスフェートイオン、カルボキシレートイオン、及びアリールスルホン酸イオンである。 In the general formula (1), R 11 , R 12 and R 13 may be the same or different and each represents a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. Preferable substituents include a halogen atom, a nitro group, an alkyl group having 12 or less carbon atoms, an alkoxy group having 12 or less carbon atoms, or an aryloxy group having 12 or less carbon atoms. (Z 11 ) represents a counter ion selected from the group consisting of halogen ion, perchlorate ion, tetrafluoroborate ion, hexafluorophosphate ion, carboxylate ion, and sulfonate ion, preferably perchloric acid Ions, hexafluorophosphate ions, carboxylate ions, and aryl sulfonate ions.

以下に、一般式(1)で表されるオニウム塩の具体例([OS−1]〜[OS−12])を挙げるが、これらに限定されるものではない。   Specific examples ([OS-1] to [OS-12]) of the onium salt represented by the general formula (1) are shown below, but are not limited thereto.

Figure 2007076330
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上記したものの他、特開2002−148790公報、特開2002−148790公報、特開2002−350207公報、特開2002−6482公報に記載の特定の芳香族スルホニウム塩も好適に用いられる。
本発明においては、上記スルホニウム塩重合開始剤の他にも、他の重合開始剤(他のラジカル発生剤)を用いることができる。他のラジカル発生剤としては、スルホニウム塩以外の他のオニウム塩、トリハロメチル基を有するトリアジン化合物、過酸化物、アゾ系重合開始剤、アジド化合物、キノンジアジド、活性ハロゲン化合物、オキシムエステル化合物、トリアリールモノアルキルボレート化合物などが挙げられ、中でも、高感度であることから、オニウム塩が好ましい。また、上記のスルホニウム塩重合開始剤を必須成分として、これらの重合開始剤(ラジカル発生剤)を併用することもできる。
In addition to the above, specific aromatic sulfonium salts described in JP-A Nos. 2002-148790, 2002-148790, 2002-350207, and 2002-6482 are also preferably used.
In the present invention, in addition to the sulfonium salt polymerization initiator, other polymerization initiators (other radical generators) can be used. Other radical generators include onium salts other than sulfonium salts, triazine compounds having a trihalomethyl group, peroxides, azo polymerization initiators, azide compounds, quinonediazides, active halogen compounds, oxime ester compounds, triaryls. Examples thereof include monoalkyl borate compounds. Among them, onium salts are preferable because of their high sensitivity. Moreover, these polymerization initiators (radical generators) can be used in combination with the sulfonium salt polymerization initiator as an essential component.

本発明において好適に用い得る他のオニウム塩としては、ヨードニウム塩及びジアゾニウム塩が挙げられる。本発明において、これらのオニウム塩は酸発生剤ではなく、ラジカル重合の開始剤として機能する。
本発明における他のオニウム塩としては、下記一般式(2)及び(3)で表されるオニウム塩が挙げられる。
Other onium salts that can be suitably used in the present invention include iodonium salts and diazonium salts. In the present invention, these onium salts function not as acid generators but as radical polymerization initiators.
Other onium salts in the present invention include onium salts represented by the following general formulas (2) and (3).

Figure 2007076330
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一般式(2)中、Ar21とAr22は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素原子数20個以下のアリール基を示す。このアリール基が置換基を有する場合の好ましい置換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素原子数12個以下のアルキル基、炭素原子数12個以下のアルコキシ基、又は炭素原子数12個以下のアリールオキシ基が挙げられる。(Z21-は(Z11-と同義の対イオンを表す。 In the general formula (2), Ar 21 and Ar 22 each independently represent an aryl group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. Preferred substituents when this aryl group has a substituent include a halogen atom, a nitro group, an alkyl group having 12 or less carbon atoms, an alkoxy group having 12 or less carbon atoms, or a carbon atom having 12 or less carbon atoms. An aryloxy group is mentioned. (Z 21 ) represents a counter ion having the same meaning as (Z 11 ) .

一般式(3)中、Ar31は、置換基を有していてもよい炭素原子数20個以下のアリール基を示す。好ましい置換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素原子数12個以下のアルキル基、炭素原子数12個以下のアルコキシ基、炭素原子数12個以下のアリールオキシ基、炭素原子数12個以下のアルキルアミノ基、炭素原子数12個以下のジアルキルアミノ基、炭素原子数12個以下のアリールアミノ基又は、炭素原子数12個以下のジアリールアミノ基が挙げられる。(Z31-は(Z11-と同義の対イオンを表す。 In the general formula (3), Ar 31 represents an aryl group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. Preferred examples of the substituent include a halogen atom, a nitro group, an alkyl group having 12 or less carbon atoms, an alkoxy group having 12 or less carbon atoms, an aryloxy group having 12 or less carbon atoms, and 12 or less carbon atoms. Examples thereof include an alkylamino group, a dialkylamino group having 12 or less carbon atoms, an arylamino group having 12 or less carbon atoms, or a diarylamino group having 12 or less carbon atoms. (Z 31 ) represents a counter ion having the same meaning as (Z 11 ) .

以下に、本発明において、好適に用いることのできる一般式(2)で示されるオニウム塩([OI−1]〜[OI−10])、及び一般式(3)で示されるオニウム塩([ON−1]〜[ON−5])の具体例を挙げるが、これらに限定されるものではない。   In the present invention, the onium salts represented by the general formula (2) ([OI-1] to [OI-10]) and the onium salt represented by the general formula (3) ([ Specific examples of ON-1] to [ON-5] are given below, but are not limited thereto.

Figure 2007076330
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本発明において重合開始剤(ラジカル発生剤)として好適に用いることのできるオニウム塩の具体例としては、特開2001−133696号公報に記載されたもの等を挙げることができる。   Specific examples of onium salts that can be suitably used as a polymerization initiator (radical generator) in the present invention include those described in JP-A No. 2001-133696.

なお、本発明において用いられる重合開始剤(ラジカル発生剤)は、極大吸収波長が400nm以下であることが好ましく、更に360nm以下であることが好ましい。このように吸収波長を紫外線領域にすることにより、平版印刷版原版の取り扱いを白灯下で実施することができる。   The polymerization initiator (radical generator) used in the present invention preferably has a maximum absorption wavelength of 400 nm or less, and more preferably 360 nm or less. By making the absorption wavelength in the ultraviolet region in this way, the lithographic printing plate precursor can be handled under white light.

本発明における重合開始剤の総含有量は、感度及び印刷時の非画像部に汚れの発生の観点から、感光層を構成する全固形分に対し0.1〜50質量%、好ましくは0.5〜30質量%、特に好ましくは1〜20質量%である。   In the present invention, the total content of the polymerization initiator is from 0.1 to 50% by mass, preferably from 0. It is 5-30 mass%, Most preferably, it is 1-20 mass%.

本発明における重合開始剤としては、1種のみを用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。2種以上の重合開始剤を併用する場合は、例えば、好適に用いられるスルホニウム塩重合開始剤のみを複数種用いてもよいし、スルホニウム塩重合開始剤と他の重合開始剤とを併用してもよい。
スルホニウム塩重合開始剤と他の重合開始剤とを併用する場合、その含有比(質量比)としては、100/1〜100/50が好ましく、100/5〜100/25がより好ましい。
As a polymerization initiator in this invention, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together. When two or more polymerization initiators are used in combination, for example, a plurality of suitably used sulfonium salt polymerization initiators may be used, or a sulfonium salt polymerization initiator and another polymerization initiator may be used in combination. Also good.
When the sulfonium salt polymerization initiator and another polymerization initiator are used in combination, the content ratio (mass ratio) is preferably 100/1 to 100/50, more preferably 100/5 to 100/25.

また、重合開始剤は、他の成分と同一の層に添加してもよいし、別の層を設けそこへ添加してもよい。
本発明における感光層に、重合開始剤として好ましい、高感度のスルホニウム塩重合開始剤を用いる場合、ラジカル重合反応が効果的に進行し、形成された画像部の強度が非常に高いものとなる。従って、後述する保護層の高い酸素遮断機能とあいまって、高い画像部強度を有する平版印刷版を作製することができ、その結果、耐刷性が一層向上する。また、スルホニウム塩重合開始剤はそれ自体が経時安定性に優れていることから、作製された平版印刷版原版を保存した際にも、所望されない重合反応の発生が効果的に抑制されるという利点をも有することになる。
Moreover, a polymerization initiator may be added to the same layer as other components, or another layer may be provided and added thereto.
When a highly sensitive sulfonium salt polymerization initiator, which is preferable as a polymerization initiator, is used for the photosensitive layer in the present invention, the radical polymerization reaction proceeds effectively, and the strength of the formed image portion becomes very high. Therefore, combined with the high oxygen blocking function of the protective layer described later, a lithographic printing plate having high image area strength can be produced, and as a result, printing durability is further improved. In addition, since the sulfonium salt polymerization initiator itself is excellent in stability over time, even when the produced lithographic printing plate precursor is stored, the occurrence of an undesirable polymerization reaction is effectively suppressed. Will also have.

〔(ハ)重合性化合物〕
本発明に用いられる重合性化合物は、少なくとも一個のエチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物であり、エチレン性不飽和結合を少なくとも1個、好ましくは2個以上有する化合物から選ばれる。このような化合物群は当該産業分野において広く知られるものであり、本発明においてはこれらを特に限定無く用いることができる。これらは、例えば、モノマー、プレポリマー、即ち2量体、3量体及びオリゴマー、又はそれらの混合物並びにそれらの共重合体などの化学的形態をもつ。モノマー及びその共重合体の例としては、不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など)や、そのエステル類、アミド類が挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド類が用いられる。また、ヒドロキシル基やアミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と単官能若しくは多官能イソシアネート類或いはエポキシ類との付加反応物、及び単官能若しくは、多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。また、イソシアネート基や、エポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と単官能若しくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との付加反応物、更にハロゲン基や、トシルオキシ基等の脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と単官能若しくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との置換反応物も好適である。また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン、ビニルエーテル等に置き換えた化合物群を使用することも可能である。
[(C) Polymerizable compound]
The polymerizable compound used in the present invention is an addition polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated double bond, and is selected from compounds having at least one, preferably two or more ethylenically unsaturated bonds. Such a compound group is widely known in the industrial field, and can be used without any particular limitation in the present invention. These have chemical forms such as monomers, prepolymers, that is, dimers, trimers and oligomers, or mixtures thereof and copolymers thereof. Examples of monomers and copolymers thereof include unsaturated carboxylic acids (for example, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.), and esters and amides thereof. In this case, an ester of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyhydric alcohol compound, or an amide of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyvalent amine compound is used. In addition, an addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having a nucleophilic substituent such as a hydroxyl group, amino group or mercapto group with a monofunctional or polyfunctional isocyanate or epoxy, and monofunctional or polyfunctional A dehydration condensation reaction product with a functional carboxylic acid is also preferably used. Further, an addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having an electrophilic substituent such as an epoxy group or an epoxy group with a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol, a halogen group or In addition, a substitution reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having a leaving substituent such as a tosyloxy group and a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol is also suitable. As another example, it is also possible to use a group of compounds substituted with unsaturated phosphonic acid, styrene, vinyl ether or the like instead of the unsaturated carboxylic acid.

脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、1,3−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ(アクリロイルオキシプロピル)エーテル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、1,4−シクロヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、トリ(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー等がある。   Specific examples of the monomer of an ester of an aliphatic polyhydric alcohol compound and an unsaturated carboxylic acid include acrylic acid esters such as ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, 1,3-butanediol diacrylate, and tetramethylene glycol. Diacrylate, propylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane tri (acryloyloxypropyl) ether, trimethylolethane triacrylate, hexanediol diacrylate, 1,4-cyclohexanediol diacrylate , Tetraethylene glycol diacrylate, pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol triacrylate , Pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol diacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, sorbitol triacrylate, sorbitol tetraacrylate, sorbitol pentaacrylate, sorbitol hexaacrylate, tri (acryloyloxyethyl) isocyanurate, polyester acrylate oligomer.

メタクリル酸エステルとしては、テトラメチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、1,3−ブタンジオールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビトールテトラメタクリレート、ビス〔p−(3−メタクリルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル〕ジメチルメタン、ビス−〔p−(メタクリルオキシエトキシ)フェニル〕ジメチルメタン等がある。   Methacrylic acid esters include tetramethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolethane trimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, 1,3-butanediol dimethacrylate, Hexanediol dimethacrylate, pentaerythritol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol dimethacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, sorbitol trimethacrylate, sorbitol tetramethacrylate, bis [p- (3-methacryloxy- 2-hydroxypro ) Phenyl] dimethyl methane, bis - [p- (methacryloxyethoxy) phenyl] dimethyl methane.

イタコン酸エステルとしては、エチレングリコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタコネート、1,3−ブタンジオールジイタコネート、1,4−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジイタコネート、ソルビトールテトライタコネート等がある。   Itaconic acid esters include ethylene glycol diitaconate, propylene glycol diitaconate, 1,3-butanediol diitaconate, 1,4-butanediol diitaconate, tetramethylene glycol diitaconate, pentaerythritol diitaconate And sorbitol tetritaconate.

クロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビトールテトラジクロトネート等がある。
イソクロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロトネート等がある。
Examples of crotonic acid esters include ethylene glycol dicrotonate, tetramethylene glycol dicrotonate, pentaerythritol dicrotonate, and sorbitol tetradicrotonate.
Examples of isocrotonic acid esters include ethylene glycol diisocrotonate, pentaerythritol diisocrotonate, and sorbitol tetraisocrotonate.

マレイン酸エステルとしては、エチレングリコールジマレート、トリエチレングリコールジマレート、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテトラマレート等がある。
その他のエステルの例として、例えば、特公昭46−27926、特公昭51−47334、特開昭57−196231記載の脂肪族アルコール系エステル類や、特開昭59−5240、特開昭59−5241、特開平2−226149記載の芳香族系骨格を有するもの、特開平1−165613記載のアミノ基を含有するもの等も好適に用いられる。更に、前述のエステルモノマーは混合物としても使用することができる。
Examples of maleic acid esters include ethylene glycol dimaleate, triethylene glycol dimaleate, pentaerythritol dimaleate, and sorbitol tetramaleate.
Examples of other esters include aliphatic alcohol esters described in JP-B-46-27926, JP-B-51-47334, JP-A-57-196231, JP-A-59-5240, JP-A-59-5241. Those having an aromatic skeleton described in JP-A-2-226149 and those containing an amino group described in JP-A-1-165613 are also preferably used. Furthermore, the ester monomers described above can also be used as a mixture.

また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチレンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−アクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミド等がある。その他の好ましいアミド系モノマーの例としては、特公昭54−21726記載のシクロへキシレン構造を有すものを挙げることができる。   Specific examples of amide monomers of aliphatic polyvalent amine compounds and unsaturated carboxylic acids include methylene bis-acrylamide, methylene bis-methacrylamide, 1,6-hexamethylene bis-acrylamide, 1,6-hexamethylene bis. -Methacrylamide, diethylenetriamine trisacrylamide, xylylene bisacrylamide, xylylene bismethacrylamide and the like. Examples of other preferable amide monomers include those having a cyclohexylene structure described in JP-B-54-21726.

また、イソシアネートと水酸基の付加反応を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭48−41708号公報中に記載されている1分子に2個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下記一般式で示される水酸基を含有するビニルモノマーを付加させた1分子中に2個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられる。   In addition, urethane-based addition polymerizable compounds produced by using an addition reaction of isocyanate and hydroxyl group are also suitable, and specific examples thereof include, for example, one molecule described in JP-B-48-41708. A vinyl urethane compound containing two or more polymerizable vinyl groups in one molecule obtained by adding a vinyl monomer containing a hydroxyl group represented by the following general formula to a polyisocyanate compound having two or more isocyanate groups. Can be mentioned.

CH2=C(Ra)COOCH2CH(Rb)OH・・・一般式
(ただし、Ra及びRbは、H又はCH3を示す。)
CH 2 = C (R a) COOCH 2 CH (R b) OH ··· formula (wherein, R a and R b represent H or CH 3.)

また、特開昭51−37193号、特公平2−32293号、特公平2−16765号に記載されているようなウレタンアクリレート類や、特公昭58−49860号、特公昭56−17654号、特公昭62−39417号、特公昭62−39418号記載のエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適である。更に、特開昭63−277653号、特開昭63−260909号、特開平1−105238号に記載される、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有する付加重合性化合物類を用いることによっては、非常に感光スピードに優れた光重合性組成物を得ることができる。   Also, urethane acrylates such as those described in JP-A-51-37193, JP-B-2-32293, and JP-B-2-16765, JP-B-58-49860, JP-B-56-17654, Urethane compounds having an ethylene oxide skeleton described in JP-B-62-39417 and JP-B-62-39418 are also suitable. Further, by using addition polymerizable compounds having an amino structure or a sulfide structure in the molecule described in JP-A-63-277653, JP-A-63-260909, and JP-A-1-105238, It is possible to obtain a photopolymerizable composition excellent in the photosensitive speed.

その他の例としては、特開昭48−64183号、特公昭49−43191号、特公昭52−30490号、各公報に記載されているようなポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸を反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタクリレートを挙げることができる。また、特公昭46−43946号、特公平1−40337号、特公平1−40336号記載の特定の不飽和化合物や、特開平2−25493号記載のビニルホスホン酸系化合物等も挙げることができる。また、ある場合には、特開昭61−22048号記載のペルフルオロアルキル基を含有する構造が好適に使用される。更に日本接着協会誌vol.20、No.7、300〜308ページ(1984年)に光硬化性モノマー及びオリゴマーとして紹介されているものも使用することができる。   Other examples include polyester acrylates, epoxy resins and (meth) acrylic acid as described in JP-A-48-64183, JP-B-49-43191, JP-B-52-30490, and JP-A-52-30490. Mention may be made of polyfunctional acrylates and methacrylates such as reacted epoxy acrylates. Further, specific unsaturated compounds described in JP-B-46-43946, JP-B-1-40337 and JP-B-1-40336, vinylphosphonic acid compounds described in JP-A-2-25493, and the like can also be mentioned. . In some cases, a structure containing a perfluoroalkyl group described in JP-A-61-22048 is preferably used. Furthermore, Journal of Japan Adhesion Association vol. 20, no. 7, pages 300 to 308 (1984), which are introduced as photocurable monomers and oligomers, can also be used.

これらの付加重合性化合物について、その構造、単独使用か併用か、添加量等の使用方法の詳細は、最終的な性能設計にあわせて任意に設定できる。例えば、次のような観点から選択される。感光スピードの点では1分子あたりの不飽和基含量が多い構造が好ましく、多くの場合、2官能以上が好ましい。また、画像部、即ち硬化膜の強度を高くするためには、3官能以上のものがよく、更に、異なる官能数・異なる重合性基(例えば、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、スチレン系化合物、ビニルエーテル系化合物)のものを併用することで、感光性と強度の両方を調節する方法も有効である。大きな分子量の化合物や疎水性の高い化合物は、感光スピードや膜強度に優れる反面、現像スピードや現像液中での析出といった点で好ましく無い場合がある。また、感光層組成物中の他の成分(例えば、バインダーポリマー、開始剤、着色剤等)との相溶性、分散性に対しても、付加重合化合物の選択・使用法は重要な要因であり、例えば、低純度化合物の使用や、2種以上の併用により相溶性を向上させ得ることがある。
また、本発明の平版印刷版原版では、後述の支持体や保護層等との密着性を向上せしめる目的で特定の構造を選択することもあり得る。
About these addition polymerizable compounds, the details of usage, such as the structure, single use or combined use, and addition amount can be arbitrarily set according to the final performance design. For example, it is selected from the following viewpoints. From the viewpoint of photosensitive speed, a structure having a high unsaturated group content per molecule is preferable, and in many cases, a bifunctional or higher functionality is preferable. Further, in order to increase the strength of the image portion, that is, the cured film, those having three or more functionalities are preferable, and furthermore, different functional numbers and different polymerizable groups (for example, acrylic ester, methacrylic ester, styrenic compound, A method of adjusting both photosensitivity and strength by using a vinyl ether compound) is also effective. A compound having a large molecular weight or a compound having high hydrophobicity is excellent in photosensitive speed and film strength, but is not preferable in terms of development speed and precipitation in a developer. In addition, the selection and use method of the addition polymerization compound is also an important factor for compatibility and dispersibility with other components in the photosensitive layer composition (for example, binder polymer, initiator, colorant, etc.). For example, the compatibility may be improved by using a low-purity compound or using two or more kinds in combination.
In the lithographic printing plate precursor according to the invention, a specific structure may be selected for the purpose of improving adhesion to a support or a protective layer described later.

感光層組成物中の付加重合性化合物の含有量に関しては、感度、相分離の発生、感光層の粘着性、更には、現像液からの析出性の観点から、感光層組成物中の固形分に対して、好ましくは5〜80質量%、更に好ましくは40〜75質量%の範囲で使用される。   Regarding the content of the addition polymerizable compound in the photosensitive layer composition, the solid content in the photosensitive layer composition is considered from the viewpoints of sensitivity, occurrence of phase separation, adhesiveness of the photosensitive layer, and precipitation from the developer. The amount is preferably 5 to 80% by mass, more preferably 40 to 75% by mass.

また、これらは単独で用いても2種以上併用してもよい。その他、付加重合性化合物の使用法は、酸素に対する重合阻害の大小、解像度、かぶり性、屈折率変化、表面粘着性等の観点から適切な構造、配合、添加量を任意に選択できる。更に、本発明の平版印刷版原版では、下塗り、上塗りといった層構成・塗布方法も実施し得る。   These may be used alone or in combination of two or more. In addition, as for the method of using the addition polymerizable compound, an appropriate structure, blending, and addition amount can be arbitrarily selected from the viewpoints of polymerization inhibition with respect to oxygen, resolution, fogging property, refractive index change, surface tackiness, and the like. Furthermore, in the lithographic printing plate precursor according to the invention, a layer constitution / coating method such as undercoating or overcoating can be carried out.

〔(ニ)バインダーポリマー〕
本発明に用いられるバインダーポリマーは、膜性向上の観点から含有されるものであって、膜性を向上させる機能を有していれば、種々のものを使用することがすることができる。中でも、本発明において好適なバインダーポリマーとしては、下記一般式(i)で表される繰り返し単位を有するバインダーポリマーである。以下、一般式(i)で表される繰り返し単位を有するバインダーポリマーを、適宜、特定バインダーポリマーと称し、詳細に説明する。
[(D) Binder polymer]
The binder polymer used in the present invention is contained from the viewpoint of improving the film property, and various types can be used as long as it has a function of improving the film property. Especially, as a binder polymer suitable in this invention, it is a binder polymer which has a repeating unit represented by the following general formula (i). Hereinafter, the binder polymer having the repeating unit represented by the general formula (i) is appropriately referred to as a specific binder polymer and will be described in detail.

Figure 2007076330
Figure 2007076330

(一般式(i)中、R1は水素原子又はメチル基を表し、R2は炭素原子、水素原子、酸素原子、窒素原子、及び硫黄原子からなる群より選択される2以上の原子を含み構成され、その総原子数が2〜82である連結基を表す。Aは酸素原子又は−NR3−を表し、R3は水素原子又は炭素数1〜10の一価の炭化水素基を表す。nは1〜5の整数を表す。) (In General Formula (i), R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, and R 2 contains two or more atoms selected from the group consisting of a carbon atom, a hydrogen atom, an oxygen atom, a nitrogen atom, and a sulfur atom. And a linking group having a total number of atoms of 2 to 82. A represents an oxygen atom or —NR 3 —, and R 3 represents a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms. N represents an integer of 1 to 5.)

まず、一般式(i)におけるR1は、水素原子又はメチル基を表し、特にメチル基が好ましい。
一般式(i)におけるR2で表される連結基は、炭素原子、水素原子、酸素原子、窒素原子、及び硫黄原子からなる群より選択される2以上の原子を含み構成され、その総原子数が2〜82であり、好ましくは2〜50であり、より好ましくは2〜30である。ここで示す総原子数は、当該連結基が置換基を有する場合には、その置換基を含めた原子数を指す。より具体的には、R2で表される連結基の主骨格を構成する原子数が、1〜30であることが好ましく、3〜25であることがより好ましく、4〜20であることが更に好ましく、5〜10であることが最も好ましい。なお、本発明における「連結基の主骨格」とは、一般式(i)におけるAと末端COOHとを連結するためのみに使用される原子又は原子団を指し、特に、連結経路が複数ある場合には、使用される原子数が最も少ない経路を構成する原子又は原子団を指す。したがって、連結基内に環構造を有する場合、その連結部位(例えば、o−、m−、p−など)により算入されるべき原子数が異なる。
First, R 1 in the general formula (i) represents a hydrogen atom or a methyl group, and a methyl group is particularly preferable.
The linking group represented by R 2 in the general formula (i) includes two or more atoms selected from the group consisting of a carbon atom, a hydrogen atom, an oxygen atom, a nitrogen atom, and a sulfur atom. The number is 2 to 82, preferably 2 to 50, and more preferably 2 to 30. The total number of atoms shown here refers to the number of atoms including the substituent when the linking group has a substituent. More specifically, the number of atoms constituting the main skeleton of the linking group represented by R 2 is preferably 1-30, more preferably 3-25, and 4-20. More preferred is 5-10. The “main skeleton of the linking group” in the present invention refers to an atom or an atomic group used only for linking A and the terminal COOH in the general formula (i), and particularly when there are a plurality of linking paths. Refers to an atom or atomic group that constitutes a path with the least number of atoms used. Therefore, when a linking group has a ring structure, the number of atoms to be included differs depending on the linking site (for example, o-, m-, p-, etc.).

また、より具体的には、アルキレン、置換アルキレン、アリーレン、置換アリーレンなどが挙げられ、これらの2価の基がアミド結合やエステル結合で複数連結された構造を有していてもよい。
鎖状構造の連結基としては、エチレン、プロピレン等が挙げられる。また、これらのアルキレンがエステル結合を介して連結されている構造もまた好ましいものとして例示することができる。
More specific examples include alkylene, substituted alkylene, arylene, substituted arylene, and the like, and a structure in which a plurality of these divalent groups are linked by an amide bond or an ester bond may be used.
Examples of the linking group having a chain structure include ethylene and propylene. A structure in which these alkylenes are linked via an ester bond can also be exemplified as a preferable example.

この中でも、一般式(i)におけるR2で表される連結基は、炭素原子数3から30までの脂肪族環状構造を有する(n+1)価の炭化水素基であることが好ましい。より具体的には、任意の置換基によって一個以上置換されていてもよいシクロプロパン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン、シクロデカン、ジシクロヘキシル、ターシクロヘキシル、ノルボルナン等の脂肪族環状構造を有する化合物を構成する任意の炭素原子上の水素原子を(n+1)個除き、(n+1)価の炭化水素基としたものを挙げることができる。また、R2は、置換基を含めて炭素数3から30であることが好ましい。 Among these, the linking group represented by R 2 in the general formula (i) is preferably an (n + 1) -valent hydrocarbon group having an aliphatic cyclic structure having 3 to 30 carbon atoms. More specifically, a compound having an aliphatic cyclic structure such as cyclopropane, cyclopentane, cyclohexane, cycloheptane, cyclooctane, cyclodecane, dicyclohexyl, tercyclohexyl, norbornane and the like, which may be substituted by one or more arbitrary substituents And (n + 1) valent hydrocarbon groups by removing (n + 1) hydrogen atoms on an arbitrary carbon atom constituting. R 2 preferably has 3 to 30 carbon atoms including a substituent.

脂肪族環状構造を構成する化合物の任意の炭素原子は、窒素原子、酸素原子、又は硫黄原子から選ばれるヘテロ原子で、一個以上置き換えられていてもよい。耐刷性の点で、R2は縮合多環脂肪族炭化水素、橋架け環脂肪族炭化水素、スピロ脂肪族炭化水素、脂肪族炭化水素環集合(複数の環が結合又は連結基でつながったもの)等、2個以上の環を含有してなる炭素原子数5から30までの置換基を有していてもよい脂肪族環状構造を有する(n+1)価の炭化水素基であることが好ましい。この場合も炭素数は置換基が有する炭素原子を含めてのものである。 One or more arbitrary carbon atoms of the compound constituting the aliphatic cyclic structure may be replaced with a heteroatom selected from a nitrogen atom, an oxygen atom, or a sulfur atom. In terms of printing durability, R 2 represents a condensed polycyclic aliphatic hydrocarbon, a bridged cyclic aliphatic hydrocarbon, a spiro aliphatic hydrocarbon, an aliphatic hydrocarbon ring assembly (a plurality of rings are connected by a bond or a linking group). A (n + 1) valent hydrocarbon group having an aliphatic cyclic structure which may have a substituent of 5 to 30 carbon atoms containing two or more rings. . Also in this case, the carbon number includes the carbon atom of the substituent.

2で表される連結基としては、特に、連結基の主骨格を構成する原子数が5〜10のものが好ましく、構造的には、鎖状構造であって、その構造中にエステル結合を有するものや、前記の如き環状構造を有するものが好ましい。
2で表される連結基に導入可能な置換基としては、水素を除く1価の非金属原子団を挙げることができ、ハロゲン原子(−F、−Br、−Cl、−I)、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルジチオ基、アリールジチオ基、アミノ基、N−アルキルアミノ基、N,N−ジアルキルアミノ基、N−アリールアミノ基、N,N−ジアリールアミノ基、N−アルキル−N−アリールアミノ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、N−アルキルカルバモイルオキシ基、N−アリールカルバモイルオキシ基、N,N−ジアルキルカルバモイルオキシ基、N,N−ジアリールカルバモイルオキシ基、N−アルキル−N−アリールカルバモイルオキシ基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、アシルチオ基、アシルアミノ基、N−アルキルアシルアミノ基、N−アリールアシルアミノ基、ウレイド基、N’−アルキルウレイド基、N’,N’−ジアルキルウレイド基、N’−アリールウレイド基、N’,N’−ジアリールウレイド基、N’−アルキル−N’−アリールウレイド基、N−アルキルウレイド基、N−アリールウレイド基、N’−アルキル−N−アルキルウレイド基、N’−アルキル−N−アリールウレイド基、N’,N’−ジアルキル−N−アルキルウレイド基、N’,N’−ジアルキル−N−アリールウレイド基、N’−アリール−N−アルキルウレイド基、N’−アリール−N−アリールウレイド基、N’,N’−ジアリール−N−アルキルウレイド基、N’,N’−ジアリール−N−アリールウレイド基、N’−アルキル−N’−アリール−N−アルキルウレイド基、N’−アルキル−N’−アリール−N−アリールウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリーロキシカルボニルアミノ基、N−アルキル−N−アルコキシカルボニルアミノ基、N−アルキル−N−アリーロキシカルボニルアミノ基、N−アリール−N−アルコキシカルボニルアミノ基、N−アリール−N−アリーロキシカルボニルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基及びその共役塩基基、
As the linking group represented by R 2 , those having 5 to 10 atoms constituting the main skeleton of the linking group are particularly preferred, and are structurally a chain structure, and an ester bond in the structure. And those having a cyclic structure as described above are preferred.
Examples of the substituent that can be introduced into the linking group represented by R 2 include monovalent nonmetallic atomic groups other than hydrogen, such as halogen atoms (—F, —Br, —Cl, —I), hydroxyl groups. Group, alkoxy group, aryloxy group, mercapto group, alkylthio group, arylthio group, alkyldithio group, aryldithio group, amino group, N-alkylamino group, N, N-dialkylamino group, N-arylamino group, N, N-diarylamino group, N-alkyl-N-arylamino group, acyloxy group, carbamoyloxy group, N-alkylcarbamoyloxy group, N-arylcarbamoyloxy group, N, N-dialkylcarbamoyloxy group, N, N- Diarylcarbamoyloxy group, N-alkyl-N-arylcarbamoyloxy group, alkylsulfoxy , Arylsulfoxy group, acylthio group, acylamino group, N-alkylacylamino group, N-arylacylamino group, ureido group, N′-alkylureido group, N ′, N′-dialkylureido group, N′-aryl Ureido group, N ′, N′-diarylureido group, N′-alkyl-N′-arylureido group, N-alkylureido group, N-arylureido group, N′-alkyl-N-alkylureido group, N ′ -Alkyl-N-arylureido group, N ', N'-dialkyl-N-alkylureido group, N', N'-dialkyl-N-arylureido group, N'-aryl-N-alkylureido group, N ' -Aryl-N-arylureido group, N ', N'-diaryl-N-alkylureido group, N', N'-diaryl-N-arylureido group, N'-al Kill-N′-aryl-N-alkylureido group, N′-alkyl-N′-aryl-N-arylureido group, alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group, N-alkyl-N-alkoxycarbonylamino group N-alkyl-N-aryloxycarbonylamino group, N-aryl-N-alkoxycarbonylamino group, N-aryl-N-aryloxycarbonylamino group, formyl group, acyl group, carboxyl group and its conjugate base group,

アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、N−アルキルカルバモイル基、N,N−ジアルキルカルバモイル基、N−アリールカルバモイル基、N,N−ジアリールカルバモイル基、N−アルキル−N−アリールカルバモイル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホ基(−SO3H)及びその共役塩基基、アルコキシスルホニル基、アリーロキシスルホニル基、スルフィナモイル基、N−アルキルスルフィナモイル基、N,N−ジアルキルスルフィナモイル基、N−アリールスルフィナモイル基、N,N−ジアリールスルフィナモイル基、N−アルキル−N−アリールスルフィナモイル基、スルファモイル基、N−アルキルスルファモイル基、N,N−ジアルキルスルファモイル基、N−アリールスルファモイル基、N,N−ジアリールスルファモイル基、N−アルキル−N−アリールスルファモイル基、N−アシルスルファモイル基及びその共役塩基基、N−アルキルスルホニルスルファモイル基(−SO2NHSO2(alkyl))及びその共役塩基基、N−アリールスルホニルスルファモイル基(−SO2NHSO2(aryl))及びその共役塩基基、N−アルキルスルホニルカルバモイル基(−CONHSO2(alkyl))及びその共役塩基基、N−アリールスルホニルカルバモイル基(−CONHSO2(aryl))及びその共役塩基基、アルコキシシリル基(−Si(Oalkyl)3)、アリーロキシシリル基(−Si(Oaryl)3)、ヒドロキシシリル基(−Si(OH)3)及びその共役塩基基、ホスホノ基(−PO32)及びその共役塩基基、ジアルキルホスホノ基(−PO3(alkyl)2)、ジアリールホスホノ基(−PO3(aryl)2)、アルキルアリールホスホノ基(−PO3(alkyl)(aryl))、モノアルキルホスホノ基(−PO3H(alkyl))及びその共役塩基基、モノアリールホスホノ基(−PO3H(aryl))及びその共役塩基基、ホスホノオキシ基(−OPO32)及びその共役塩基基、ジアルキルホスホノオキシ基(−OPO3(alkyl)2)、ジアリールホスホノオキシ基(−OPO3(aryl)2)、アルキルアリールホスホノオキシ基(−OPO3(alkyl)(aryl))、モノアルキルホスホノオキシ基(−OPO3H(alkyl))及びその共役塩基基、モノアリールホスホノオキシ基(−OPO3H(aryl))及びその共役塩基基、シアノ基、ニトロ基、ジアルキルボリル基(−B(alkyl)2)、ジアリールボリル基(−B(aryl)2)、アルキルアリールボリル基(−B(alkyl)(aryl))、ジヒドロキシボリル基(−B(OH)2)及びその共役塩基基、アルキルヒドロキシボリル基(−B(alkyl)(OH))及びその共役塩基基、アリールヒドロキシボリル基(−B(aryl)(OH))及びその共役塩基基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基が挙げられる。 Alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, N-alkylcarbamoyl group, N, N-dialkylcarbamoyl group, N-arylcarbamoyl group, N, N-diarylcarbamoyl group, N-alkyl-N-arylcarbamoyl group, Alkylsulfinyl group, arylsulfinyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, sulfo group (—SO 3 H) and its conjugate base group, alkoxysulfonyl group, aryloxysulfonyl group, sulfinamoyl group, N-alkylsulfinamoyl group, N, N-dialkylsulfinamoyl group, N-arylsulfinamoyl group, N, N-diarylsulfinamoyl group, N-alkyl-N-arylsulfinamoyl group, sulfamoyl group, N-alkylsulfamoyl group N, N-dialkylsulfamoyl group, N-arylsulfamoyl group, N, N-diarylsulfamoyl group, N-alkyl-N-arylsulfamoyl group, N-acylsulfamoyl group and the like Conjugated base group, N-alkylsulfonylsulfamoyl group (—SO 2 NHSO 2 (alkyl)) and its conjugate base group, N-arylsulfonylsulfamoyl group (—SO 2 NHSO 2 (aryl)) and its conjugate base Group, N-alkylsulfonylcarbamoyl group (—CONHSO 2 (alkyl)) and its conjugate base group, N-arylsulfonylcarbamoyl group (—CONHSO 2 (aryl)) and its conjugate base group, alkoxysilyl group (—Si (Oalkyl) ) 3), aryloxy silyl group (-Si (Oaryl) 3), hydroxy Lil group (-Si (OH) 3) and its conjugated base group, a phosphono group (-PO 3 H 2) and its conjugated base group, a dialkyl phosphono group (-PO 3 (alkyl) 2) , diaryl phosphono group ( -PO 3 (aryl) 2), alkyl aryl phosphono group (-PO 3 (alkyl) (aryl )), monoalkyl phosphono group (-PO 3 H (alkyl)) and its conjugated base group, monoarylphosphono Group (—PO 3 H (aryl)) and its conjugate base group, phosphonooxy group (—OPO 3 H 2 ) and its conjugate base group, dialkylphosphonooxy group (—OPO 3 (alkyl) 2 ), diarylphosphonooxy Group (—OPO 3 (aryl) 2 ), alkylarylphosphonooxy group (—OPO 3 (alkyl) (aryl)), monoalkylphosphonooxy group ( -OPO 3 H (alkyl)) and its conjugated base group, monoarylphosphono group (-OPO 3 H (aryl)) and its conjugated base group, a cyano group, a nitro group, a dialkyl boryl group (-B (alkyl) 2 ), diarylboryl group (-B (aryl) 2 ), alkylarylboryl group (-B (alkyl) (aryl)), dihydroxyboryl group (-B (OH) 2 ) and its conjugate base group, alkylhydroxyboryl And a group (—B (alkyl) (OH)) and its conjugate base group, an arylhydroxyboryl group (—B (aryl) (OH)) and its conjugate base group, an aryl group, an alkenyl group and an alkynyl group.

本発明の平版印刷版原版では、感光層の設計にもよるが、水素結合可能な水素原子を有する置換基や、特に、カルボン酸よりも酸解離定数(pKa)が小さい酸性を有する置換基は、耐刷性を下げる傾向にあるので好ましくない。一方、ハロゲン原子や、炭化水素基(アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基)、アルコキシ基、アリーロキシ基などの疎水性置換基は、耐刷を向上する傾向にあるのでより好ましく、特に、環状構造がシクロペンタンやシクロヘキサン等の6員環以下の単環脂肪族炭化水素である場合には、このような疎水性の置換基を有していることが好ましい。これら置換基は可能であるならば、置換基同士、又は置換している炭化水素基と結合して環を形成してもよく、置換基は更に置換されていてもよい。   In the lithographic printing plate precursor according to the invention, although depending on the design of the photosensitive layer, a substituent having a hydrogen atom capable of hydrogen bonding, particularly a substituent having an acid dissociation constant (pKa) smaller than that of a carboxylic acid is , Because it tends to lower the printing durability. On the other hand, hydrophobic substituents such as halogen atoms, hydrocarbon groups (alkyl groups, aryl groups, alkenyl groups, alkynyl groups), alkoxy groups, aryloxy groups and the like are more preferable because they tend to improve printing durability. When the cyclic structure is a monocyclic aliphatic hydrocarbon having 6 or less members such as cyclopentane or cyclohexane, it preferably has such a hydrophobic substituent. If possible, these substituents may be bonded to each other or with a substituted hydrocarbon group to form a ring, and the substituent may be further substituted.

一般式(i)におけるAがNR3−である場合のR3は、水素原子又は炭素数1〜10の一価の炭化水素基を表す。このR3で表される炭素数1〜10までの一価の炭化水素基としては、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基が挙げられる。 R 3 in the case where A in formula (i) is NR 3 — represents a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms. Examples of the monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms represented by R 3 include an alkyl group, an aryl group, an alkenyl group, and an alkynyl group.

アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、へプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、イソプロピル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、1−メチルブチル基、イソヘキシル基、2−エチルヘキシル基、2−メチルヘキシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、1−アダマンチル基、2−ノルボルニル基等の炭素数1〜10までの直鎖状、分枝状、又は環状のアルキル基が挙げられる。   Specific examples of the alkyl group include methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, isopropyl group, isobutyl group, sec-butyl group, 1 carbon number such as tert-butyl group, isopentyl group, neopentyl group, 1-methylbutyl group, isohexyl group, 2-ethylhexyl group, 2-methylhexyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, 1-adamantyl group, 2-norbornyl group Up to 10 linear, branched or cyclic alkyl groups.

アリール基の具体例としては、フェニル基、ナフチル基、インデニル基等の炭素数1〜10までのアリール基、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群から選ばれるヘテロ原子を1個含有する炭素数1〜10までのヘテロアリール基、例えば、フリル基、チエニル基、ピロリル基、ピリジル基、キノリル基等が挙げられる。
アルケニル基の具体例としては、ビニル基、1−プロペニル基、1−ブテニル基、1−メチル−1−プロペニル基、1−シクロペンテニル基、1−シクロヘキセニル基等の炭素数1〜10までの直鎖状、分枝状、又は環状のアルケニル基が挙げられる。
Specific examples of the aryl group include carbon having one heteroatom selected from the group consisting of an aryl group having 1 to 10 carbon atoms such as a phenyl group, a naphthyl group, and an indenyl group, a nitrogen atom, an oxygen atom, and a sulfur atom. Examples include heteroaryl groups of 1 to 10, such as furyl, thienyl, pyrrolyl, pyridyl, and quinolyl groups.
Specific examples of the alkenyl group include those having 1 to 10 carbon atoms such as vinyl group, 1-propenyl group, 1-butenyl group, 1-methyl-1-propenyl group, 1-cyclopentenyl group, 1-cyclohexenyl group and the like. A linear, branched, or cyclic alkenyl group is mentioned.

アルキニル基の具体例としては、エチニル基、1−プロピニル基、1−ブチニル基、1−オクチニル基等の炭素数1〜10までのアルキニル基が挙げられる。R3が有してもよい置換基としては、R2が導入し得る置換基として挙げたものと同様である。但し、R3の炭素数は、置換基の炭素数を含めて1〜10である。
一般式(i)におけるAは、合成が容易であることから、酸素原子又は−NH−であることが好ましい。
Specific examples of the alkynyl group include alkynyl groups having 1 to 10 carbon atoms such as ethynyl group, 1-propynyl group, 1-butynyl group, and 1-octynyl group. The substituent that R 3 may have is the same as those exemplified as the substituent that R 2 can introduce. However, the carbon number of R < 3 > is 1-10 including the carbon number of a substituent.
A in the general formula (i) is preferably an oxygen atom or —NH— because synthesis is easy.

一般式(i)におけるnは、1〜5の整数を表し、耐刷の点で好ましくは1である。
以下に、一般式(i)で表される繰り返し単位の好ましい具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
N in the general formula (i) represents an integer of 1 to 5, and is preferably 1 in terms of printing durability.
Although the preferable specific example of the repeating unit represented by general formula (i) below is shown, this invention is not limited to these.

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一般式(i)で表される繰り返し単位は、バインダーポリマー中に1種類だけであってもよいし、2種類以上含有していてもよい。本発明における特定バインダーポリマーは、一般式(i)で表される繰り返し単位だけからなるポリマーであってもよいが、通常、他の共重合成分と組み合わされ、コポリマーとして使用される。コポリマーにおける一般式(i)で表される繰り返し単位の総含有量は、その構造や、感光層組成物の設計等によって適宜決められるが、好ましくはポリマー成分の総モル量に対し、1〜99モル%、より好ましくは5〜40モル%、更に好ましくは5〜20モル%の範囲で含有される。   One type of repeating unit represented by the general formula (i) may be contained in the binder polymer, or two or more types may be contained. The specific binder polymer in the present invention may be a polymer composed only of the repeating unit represented by the general formula (i), but is usually used as a copolymer in combination with other copolymerization components. The total content of the repeating unit represented by the general formula (i) in the copolymer is appropriately determined depending on its structure, the design of the photosensitive layer composition, etc. It is contained in the range of mol%, more preferably 5 to 40 mol%, still more preferably 5 to 20 mol%.

コポリマーとして用いる場合の共重合成分としては、ラジカル重合可能なモノマーであれば従来公知のものを制限なく使用できる。具体的には、「高分子データハンドブック−基礎編−(高分子学会編、培風館、1986)」記載のモノマー類が挙げられる。このような共重合成分は1種類であってもよいし、2種類以上を組み合わせて使用してもよい。   As a copolymerization component in the case of using as a copolymer, a conventionally well-known thing can be used without a restriction | limiting, if it is a monomer which can be radically polymerized. Specific examples include monomers described in “Polymer Data Handbook—Basic Edition” (Edition of Polymer Society, Bafukan, 1986). One type of such copolymerization component may be used, or two or more types may be used in combination.

本発明における特定バインダーポリマーの分子量は、画像形成性や耐刷性の観点から適宜決定される。好ましい分子量としては、2,000〜1,000,000、より好ましくは5,000〜500,000、更に好ましくは10,000〜200,000の範囲である。   The molecular weight of the specific binder polymer in the present invention is appropriately determined from the viewpoint of image formability and printing durability. The molecular weight is preferably in the range of 2,000 to 1,000,000, more preferably 5,000 to 500,000, and still more preferably 10,000 to 200,000.

本発明おいて用いられるバインダーポリマーは、特定バインダーポリマー単独であってもよいし、他のバインダーポリマーを1種以上併用して、混合物として用いてもよい。併用されるバインダーポリマーは、バインダーポリマー成分の総質量に対し1〜80質量%、好ましくは1〜40質量%、更に好ましくは1〜20質量%の範囲で用いられる。併用できるバインダーポリマーとしては、従来公知のものを制限なく使用でき、具体的には、本業界においてよく使用されるアクリル主鎖バインダーや、ウレタンバインダー等が好ましく用いられる。さらには、本業界においてよく使用される重合性基を有するものが好ましく、また、酸性基を有するものが好ましい。   The binder polymer used in the present invention may be a specific binder polymer alone, or may be used as a mixture by combining one or more other binder polymers. The binder polymer used in combination is used in the range of 1 to 80% by mass, preferably 1 to 40% by mass, and more preferably 1 to 20% by mass with respect to the total mass of the binder polymer component. As the binder polymer that can be used in combination, a conventionally known binder polymer can be used without limitation, and specifically, an acrylic main chain binder, a urethane binder, or the like often used in the industry is preferably used. Furthermore, those having a polymerizable group often used in the industry are preferred, and those having an acidic group are preferred.

感光層組成物中での特定バインダーポリマー及び併用してもよいバインダーポリマーの合計量は、適宜決めることができるが、感光層組成物中の不揮発性成分の総質量に対し、通常、10〜90質量%であり、好ましくは20〜80質量%、更に好ましくは30〜70質量%の範囲である。
また、このようなバインダーポリマーの酸価(meg/g)としては、2.00〜3.60の範囲であることが好ましい。
Although the total amount of the specific binder polymer in the photosensitive layer composition and the binder polymer that may be used in combination can be determined as appropriate, it is usually 10 to 90 with respect to the total mass of nonvolatile components in the photosensitive layer composition. It is mass%, Preferably it is 20-80 mass%, More preferably, it is the range of 30-70 mass%.
Moreover, as an acid value (meg / g) of such a binder polymer, it is preferable that it is the range of 2.00-3.60.

−併用可能な他のバインダーポリマー−
前記特定バインダーポリマーと併用可能な他のバインダーポリマーは、ラジカル重合性基を有するバインダーポリマーであることが好ましい。
そのラジカル重合性基としては、ラジカルにより重合することが可能であれば特に限定されないが、α−置換メチルアクリル基[−OC(=O)−C(−CH2Z)=CH2、Z=ヘテロ原子から始まる炭化水素基]、アクリル基、メタクリル基、アリル基、スチリル基が挙げられ、この中でも、アクリル基、メタクリル基が好ましい。
-Other binder polymers that can be used together-
The other binder polymer that can be used in combination with the specific binder polymer is preferably a binder polymer having a radical polymerizable group.
The radical polymerizable group is not particularly limited as long as it can be polymerized by radicals, but α-substituted methylacrylic group [—OC (═O) —C (—CH 2 Z) ═CH 2 , Z = A hydrocarbon group starting from a hetero atom], an acryl group, a methacryl group, an allyl group, and a styryl group. Among these, an acryl group and a methacryl group are preferable.

かかるバインダーポリマー中のラジカル重合性基の含有量(ヨウ素滴定によるラジカル重合可能な不飽和二重結合の含有量)は、感度や保存性の観点から、バインダーポリマー1g当たり、好ましくは0.1〜10.0mmol、より好ましくは1.0〜7.0mmol、最も好ましくは2.0〜5.5mmolである。   The content of the radical polymerizable group in the binder polymer (content of unsaturated double bond capable of radical polymerization by iodine titration) is preferably 0.1 to 1 g per binder polymer from the viewpoint of sensitivity and storage stability. It is 10.0 mmol, More preferably, it is 1.0-7.0 mmol, Most preferably, it is 2.0-5.5 mmol.

また、併用可能な他のバインダーポリマーは、更に、アルカリ可溶性基を有するものが好ましい。バインダーポリマー中のアルカリ可溶性基の含有量(中和滴定による酸価)は、現像カスの析出性や耐刷性の観点から、バインダーポリマー1g当たり、好ましくは0.1〜3.0mmol、より好ましくは0.2〜2.0mmol、最も好ましくは0.45〜1.0mmolである。
このようなバインダーポリマーの質量平均分子量は、皮膜性(耐刷性)や、塗布溶剤への溶解性の観点から、好ましくは2,000〜1,000,000、より好ましくは10,000〜300,000、最も好ましくは20,000〜200,000の範囲である。
Further, the other binder polymer that can be used in combination is preferably one having an alkali-soluble group. The content of alkali-soluble groups in the binder polymer (acid value by neutralization titration) is preferably from 0.1 to 3.0 mmol, more preferably from 1 to 3.0 g of binder polymer, from the viewpoints of precipitation of developing residue and printing durability. Is 0.2 to 2.0 mmol, most preferably 0.45 to 1.0 mmol.
The mass average molecular weight of such a binder polymer is preferably from 2,000 to 1,000,000, more preferably from 10,000 to 300, from the viewpoints of film properties (press life) and solubility in a coating solvent. In the range of 20,000 to 200,000.

また、このようなバインダーポリマーのガラス転移点(Tg)は、保存安定性、耐刷性、及び感度の観点から、好ましくは70〜300℃、より好ましくは80〜250℃、最も好ましくは90〜200℃の範囲である。
バインダーポリマーのガラス転移点を高めるため手段としては、その分子中に、アミド基やイミド基を含有することが好ましく、特に、メタクリルアミドやメタクリルアミド誘導体を含有することが好ましい。
Further, the glass transition point (Tg) of such a binder polymer is preferably 70 to 300 ° C., more preferably 80 to 250 ° C., and most preferably 90 to 90 ° C. from the viewpoints of storage stability, printing durability, and sensitivity. It is in the range of 200 ° C.
As a means for increasing the glass transition point of the binder polymer, the molecule preferably contains an amide group or an imide group, and particularly preferably contains a methacrylamide or a methacrylamide derivative.

(その他の成分)
本発明に係る感光層には、以上の基本成分の他に、更にその用途、製造方法等に適したその他の成分を適宜添加することができる。以下、好ましい添加剤に関し例示する。
(Other ingredients)
In addition to the above basic components, the photosensitive layer according to the present invention may further contain other components suitable for its use and production method. Hereinafter, preferred additives will be exemplified.

−着色剤−
本発明に係る感光層には、その着色を目的として、染料若しくは顔料を添加してもよい。これにより、印刷版としての製版後の画像の視認性や、画像濃度測定機適性といったいわゆる検版性を向上させることができる。着色剤としては、具体例としては、例えば、フタロシアニン系顔料、アゾ系顔料、カーボンブラック、酸化チタンなどの顔料、エチルバイオレット、クリスタルバイオレット、アゾ系染料、アントラキノン系染料、シアニン系染料などの染料があり、中でも、カチオン性染料が好ましい。
着色剤としての染料及び顔料の添加量は、全感光層組成物中の不揮発性成分に対して約0.5質量%〜約5質量%が好ましい。
-Colorant-
A dye or a pigment may be added to the photosensitive layer according to the present invention for the purpose of coloring. As a result, it is possible to improve the so-called plate inspection properties such as the visibility of the image after plate making as a printing plate and the suitability of an image density measuring machine. Specific examples of the colorant include pigments such as phthalocyanine pigments, azo pigments, carbon black, titanium oxide, ethyl violet, crystal violet, azo dyes, anthraquinone dyes, cyanine dyes, and the like. Among them, a cationic dye is preferable.
The addition amount of the dye and pigment as the colorant is preferably about 0.5% by mass to about 5% by mass with respect to the non-volatile components in the total photosensitive layer composition.

−重合禁止剤−
本発明に係る感光層においては、重合可能なエチレン性不飽和二重結合を有する化合物、即ち、重合性化合物の不要な熱重合を阻止するために少量の熱重合禁止剤を添加することが望ましい。適当な熱重合禁止剤としてはハイドロキノン、p−メトキシフェノール、ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ピロガロール、t−ブチルカテコール、ベンゾキノン、4,4’−チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、N−ニトロソフェニルヒドロキシアミン第一セリウム塩等が挙げられる。熱重合禁止剤の添加量は、感光層組成物中の不揮発性成分の質量に対して約0.01質量%〜約5質量%が好ましい。また必要に応じて、酸素による重合阻害を防止するためにベヘン酸やベヘン酸アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加して、塗布後の乾燥の過程で層の表面に偏在させてもよい。高級脂肪酸誘導体の添加量は、感光層組成物中の不揮発性成分に対して約0.5質量%〜約10質量%が好ましい。
-Polymerization inhibitor-
In the photosensitive layer according to the present invention, it is desirable to add a small amount of a thermal polymerization inhibitor in order to prevent unnecessary thermal polymerization of the polymerizable compound having an ethylenically unsaturated double bond, that is, the polymerizable compound. . Suitable thermal polymerization inhibitors include hydroquinone, p-methoxyphenol, di-t-butyl-p-cresol, pyrogallol, t-butylcatechol, benzoquinone, 4,4'-thiobis (3-methyl-6-t-butylphenol ), 2,2′-methylenebis (4-methyl-6-tert-butylphenol), N-nitrosophenylhydroxyamine primary cerium salt and the like. The addition amount of the thermal polymerization inhibitor is preferably about 0.01% by mass to about 5% by mass with respect to the mass of the nonvolatile component in the photosensitive layer composition. If necessary, a higher fatty acid derivative such as behenic acid or behenic acid amide or the like may be added to prevent polymerization inhibition by oxygen and may be unevenly distributed on the surface of the layer in the course of drying after coating. The addition amount of the higher fatty acid derivative is preferably about 0.5% by mass to about 10% by mass with respect to the nonvolatile components in the photosensitive layer composition.

−その他の添加剤−
更に、本発明に係る感光層には、硬化皮膜の物性を改良するための無機充填剤や、その他可塑剤、感光層表面のインク着肉性を向上させ得る感脂化剤等の公知の添加剤を加えてもよい。可塑剤としては、例えば、ジオクチルフタレート、ジドデシルフタレート、トリエチレングリコールジカプリレート、ジメチルグリコールフタレート、トリクレジルホスフェート、ジオクチルアジペート、ジブチルセバケート、トリアセチルグリセリン等があり、バインダーポリマーと付加重合性化合物との合計質量に対し一般的に10質量%以下の範囲で添加することができる。
また、本発明に係る感光層において、後述する膜強度(耐刷性)向上を目的とした、現像後の加熱・露光の効果を強化するために、UV開始剤や、熱架橋剤等の添加も行うことができる。
-Other additives-
Furthermore, the photosensitive layer according to the present invention may be added with known additions such as inorganic fillers for improving the physical properties of the cured film, other plasticizers, and oil-sensitizing agents that can improve the ink deposition on the surface of the photosensitive layer. An agent may be added. Examples of plasticizers include dioctyl phthalate, didodecyl phthalate, triethylene glycol dicaprylate, dimethyl glycol phthalate, tricresyl phosphate, dioctyl adipate, dibutyl sebacate, triacetyl glycerin, and addition polymerization with binder polymer. Generally, it can be added in a range of 10% by mass or less based on the total mass with the compound.
In addition, in the photosensitive layer according to the present invention, in order to enhance the effect of heating / exposure after development for the purpose of improving the film strength (printing durability) described later, a UV initiator, a thermal crosslinking agent, etc. are added. Can also be done.

〔支持体〕
本発明における支持体には、後述のような親水化処理が施されたものが用いられる。このような支持体としては、紙、ポリエステルフィルム又はアルミニウム板が挙げられ、その中でも、寸法安定性がよく、比較的安価であり、必要に応じた表面処理により親水性や強度にすぐれた表面を提供できるアルミニウム板は更に好ましい。また、特公昭48−18327号公報に記載されているようなポリエチレンテレフタレートフィルム上にアルミニウムシートが結合された複合体シートも好ましい。
[Support]
As the support in the present invention, a support subjected to a hydrophilization treatment as described later is used. Examples of such a support include paper, polyester film, and aluminum plate. Among them, a surface having good dimensional stability, relatively inexpensive, and having excellent hydrophilicity and strength by surface treatment as required. An aluminum plate that can be provided is more preferred. A composite sheet in which an aluminum sheet is bonded on a polyethylene terephthalate film as described in Japanese Patent Publication No. 48-18327 is also preferable.

本発明において最も好適な支持体としてのアルミニウム板とは、寸度的に安定なアルミニウムを主成分とする金属板であり、純アルミニウム板の他、アルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合金板、又はアルミニウム(合金)がラミネート若しくは蒸着されたプラスチックフィルム又は紙の中から選ばれる。以下の説明において、上記に挙げたアルミニウム又はアルミニウム合金からなる支持体をアルミニウム支持体と総称して用いる。前記アルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタンなどがあり、合金中の異元素の含有量は10質量%以下である。本発明では純アルミニウム板が好適であるが、完全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、僅かに異元素を含有するものでもよい。このように本発明に適用されるアルミニウム板は、その組成が特定されるものではなく、従来より公知公用の素材のもの、例えば、JIS A 1050、JIS A 1100、JIS A 3103、JIS A 3005などを適宜利用することができる。   The aluminum plate as the most preferable support in the present invention is a metal plate mainly composed of dimensionally stable aluminum, and contains pure aluminum plate, aluminum as a main component, and a trace amount of foreign elements. An alloy plate or aluminum (alloy) is selected from a laminated or vapor-deposited plastic film or paper. In the following description, the above-mentioned support made of aluminum or an aluminum alloy is generically used as an aluminum support. Examples of foreign elements contained in the aluminum alloy include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, and titanium. The content of foreign elements in the alloy is 10% by mass or less. In the present invention, a pure aluminum plate is suitable. However, since pure aluminum is difficult to manufacture in terms of refining technology, it may contain slightly different elements. Thus, the composition of the aluminum plate applied to the present invention is not specified, and conventionally known and used materials such as JIS A 1050, JIS A 1100, JIS A 3103, JIS A 3005, etc. Can be used as appropriate.

また、本発明に用いられるアルミニウム支持体の厚みは、およそ0.1mm〜0.6mm程度である。この厚みは印刷機の大きさ、印刷版の大きさ及びユーザーの希望により適宜変更することができる。
このようなアルミニウム支持体には、後述の表面処理が施され、親水化される。
Moreover, the thickness of the aluminum support body used for this invention is about 0.1 mm-about 0.6 mm. This thickness can be changed as appropriate according to the size of the printing press, the size of the printing plate, and the desire of the user.
Such an aluminum support is subjected to a surface treatment described later to be hydrophilized.

(粗面化処理)
粗面化処理方法は、特開昭56−28893号公報に開示されているような機械的粗面化、化学的エッチング、電解グレインなどがある。更に塩酸又は硝酸電解液中で電気化学的に粗面化する電気化学的粗面化方法、及びアルミニウム表面を金属ワイヤーでひっかくワイヤーブラシグレイン法、研磨球と研磨剤でアルミニウム表面を砂目立でするポールグレイン法、ナイロンブラシと研磨剤で表面を粗面化するブラシグレイン法のような機械的粗面化法を用いることができ、上記粗面化方法を単独或いは組み合わせて用いることもできる。その中でも粗面化に有用に使用される方法は塩酸又は硝酸電解液中で化学的に粗面化する電気化学的方法であり、適する陽極時電気量は50C/dm2〜400C/dm2の範囲である。更に具体的には、0.1〜50%の塩酸又は硝酸を含む電解液中、温度20〜80℃、時間1秒〜30分、電流密度100C/dm2〜400C/dm2の条件で交流及び/又は直流電解を行うことが好ましい。
(Roughening treatment)
Examples of the roughening treatment method include mechanical roughening, chemical etching, and electrolytic grain as disclosed in JP-A-56-28893. Furthermore, the electrochemical surface roughening method in which the surface is electrochemically roughened in hydrochloric acid or nitric acid electrolyte solution, the aluminum surface is scratched with a metal wire, the wire brush grain method, the surface of the aluminum is polished with a polishing ball and an abrasive. A mechanical graining method such as a pole grain method, a brush grain method in which the surface is roughened with a nylon brush and an abrasive, can be used, and the above roughening methods can be used alone or in combination. Among them, a method usefully used for roughening is an electrochemical method in which roughening is performed chemically in hydrochloric acid or nitric acid electrolyte, and a suitable amount of electricity at the time of anode is 50 C / dm 2 to 400 C / dm 2 . It is a range. More specifically, in the electrolytic solution containing from 0.1 to 50% hydrochloric acid or nitric acid, the temperature 20 to 80 ° C., for 1 second to 30 minutes, alternating at a current density of 100C / dm 2 ~400C / dm 2 It is preferable to perform direct current electrolysis.

このように粗面化処理したアルミニウム支持体は、酸又はアルカリにより化学的にエッチングされてもよい。好適に用いられるエッチング剤は、苛性ソーダ、炭酸ソーダ、アルミン酸ソーダ、メタケイ酸ソーダ、リン酸ソーダ、水酸化カリウム、水酸化リチウム等であり、濃度と温度の好ましい範囲はそれぞれ1〜50%、20〜100℃である。エッチングのあと表面に残留する汚れ(スマット)を除去するために酸洗いが行われる。用いられる酸は硝酸、硫酸、リン酸、クロム酸、フッ酸、ホウフッ化水素酸等が用いられる。特に電気化学的粗面化処理後のスマット除去処理方法としては、好ましくは特開昭53−12739号公報に記載されているような50〜90℃の温度の15〜65質量%の硫酸と接触させる方法及び特公昭48−28123号公報に記載されているアルカリエッチングする方法が挙げられる。以上のように処理された後、処理面の表面粗さRaが0.2〜0.5μm程度であれば、特に、方法、条件は限定しない。   The roughened aluminum support may be chemically etched with acid or alkali. Etching agents suitably used are caustic soda, sodium carbonate, sodium aluminate, sodium metasilicate, sodium phosphate, potassium hydroxide, lithium hydroxide and the like, and preferred ranges of concentration and temperature are 1 to 50% and 20%, respectively. ~ 100 ° C. Pickling is performed to remove dirt (smut) remaining on the surface after etching. As the acid used, nitric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, chromic acid, hydrofluoric acid, borohydrofluoric acid and the like are used. In particular, as a method for removing smut after the electrochemical surface roughening treatment, contact with 15 to 65 mass% sulfuric acid at a temperature of 50 to 90 ° C. as described in JP-A-53-12739 is preferable. And the alkali etching method described in Japanese Patent Publication No. 48-28123. After the treatment as described above, the method and conditions are not particularly limited as long as the surface roughness Ra of the treated surface is about 0.2 to 0.5 μm.

(陽極酸化処理)
以上のようにして処理され酸化物層を形成したアルミニウム支持体には、その後に陽極酸化処理がなされる。
陽極酸化処理は硫酸、燐酸、シュウ酸若しくは硼酸/硼酸ナトリウムの水溶液が単独若しくは複数種類組み合わせて電解浴の主成分として用いられる。この際、電解液中に少なくともAl合金板、電極、水道水、地下水等に通常含まれる成分はもちろん含まれても構わない。更には第2、第3成分が添加されていても構わない。ここでいう第2、3成分とは、例えば、Na、K、Mg、Li、Ca、Ti、Al、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn等の金属のイオンやアンモニウムイオン等に陽イオンや、硝酸イオン、炭酸イオン、塩素イオン、リン酸イオン、フッ素イオン、亜硫酸イオン、チタン酸イオン、ケイ酸イオン、硼酸イオン等の陰イオンが挙げられ、その濃度としては0〜10000ppm程度含まれてもよい。陽極酸化処理の条件に特に限定はないが、好ましくは30〜500g/リットル、処理液温10〜70℃で、電流密度0.1〜40A/m2の範囲で直流又は交流電解によって処理される。形成される陽極酸化皮膜の厚さは0.5〜1.5μmの範囲である。好ましくは0.5〜1.0μmの範囲である。以上の処理によって作製された支持体が、陽極酸化皮膜に存在するマイクロポアのポア径が5〜10nm、ポア密度が8×1015〜2×1016個/m2の範囲に入るように処理条件が選択されることが好ましい。
(Anodizing treatment)
The aluminum support that has been treated as described above to form an oxide layer is then anodized.
In the anodizing treatment, sulfuric acid, phosphoric acid, oxalic acid, or an aqueous solution of boric acid / sodium borate is used alone or in combination as a main component of the electrolytic bath. In this case, the electrolyte solution may of course contain at least components normally contained in at least an Al alloy plate, an electrode, tap water, groundwater and the like. Further, the second and third components may be added. Here, the second and third components are, for example, metal ions such as Na, K, Mg, Li, Ca, Ti, Al, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, and Zn, and ammonium ions. Examples include cations, nitrate ions, carbonate ions, chloride ions, phosphate ions, fluorine ions, sulfite ions, titanate ions, silicate ions, borate ions and the like, and the concentration is 0 to 10,000 ppm. May be included. There are no particular limitations on the conditions of the anodizing treatment, but the treatment is preferably carried out by direct current or alternating current electrolysis at a current density of 0.1 to 40 A / m 2 at 30 to 500 g / liter, a treatment liquid temperature of 10 to 70 ° C. . The thickness of the formed anodic oxide film is in the range of 0.5 to 1.5 μm. Preferably it is the range of 0.5-1.0 micrometer. The support prepared by the above treatment is treated so that the pore diameter of the micropores existing in the anodized film is in the range of 5 to 10 nm and the pore density is in the range of 8 × 10 15 to 2 × 10 16 pieces / m 2. It is preferred that the conditions are selected.

前記支持体表面の親水化処理としては、広く公知の方法が適用できる。特に好ましい処理としては、シリケート又はポリビニルホスホン酸等による親水化処理が施される。皮膜はSi、又はP元素量として2〜40mg/m2、より好ましくは4〜30mg/m2で形成される。塗布量はケイ光X線分析法により測定できる。 A widely known method can be applied as the hydrophilic treatment on the surface of the support. As a particularly preferable treatment, a hydrophilic treatment with silicate or polyvinylphosphonic acid is performed. A film | membrane is formed by 2-40 mg / m < 2 > as Si or P element amount, More preferably, it is 4-30 mg / m < 2 >. The coating amount can be measured by fluorescent X-ray analysis.

上記の親水化処理は、アルカリ金属ケイ酸塩、又はポリビニルホスホン酸が1〜30質量%、好ましくは2〜15質量%であり、25℃のpHが10〜13である水溶液に、陽極酸化皮膜が形成されたアルミニウム支持体を、例えば、15〜80℃で0.5〜120秒浸漬することにより実施される。   The hydrophilization treatment is carried out by applying an anodized film to an aqueous solution containing 1 to 30% by mass, preferably 2 to 15% by mass of alkali metal silicate or polyvinylphosphonic acid, and having a pH of 10 to 13 at 25 ° C. This is carried out by immersing the aluminum support on which is formed, for example, at 15 to 80 ° C. for 0.5 to 120 seconds.

前記親水化処理に用いられるアルカリ金属ケイ酸塩としては、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、ケイ酸リチウムなどが使用される。アルカリ金属ケイ酸塩水溶液のpHを高くするために使用される水酸化物としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウムなどがある。なお、上記の処理液にアルカリ土類金属塩若しくは第IVB族金属塩を配合してもよい。アルカリ土類金属塩としては、硝酸カルシウム、硝酸ストロンチウム、硝酸マグネシウム、硝酸バリウムのような硝酸塩や、硫酸塩、塩酸塩、リン酸塩、酢酸塩、シュウ酸塩、ホウ酸塩などの水溶性の塩が挙げられる。第IVB族金属塩としては、四塩化チタン、三塩化チタン、フッ化チタンカリウム、シュウ酸チタンカリウム、硫酸チタン、四ヨウ化チタン、塩化酸化ジルコニウム、二酸化ジルコニウム、オキシ塩化ジルコニウム、四塩化ジルコニウムなどを挙げることができる。   As the alkali metal silicate used for the hydrophilization treatment, sodium silicate, potassium silicate, lithium silicate, or the like is used. Examples of the hydroxide used for increasing the pH of the aqueous alkali metal silicate solution include sodium hydroxide, potassium hydroxide, and lithium hydroxide. In addition, you may mix | blend alkaline-earth metal salt or a group IVB metal salt with said process liquid. Alkaline earth metal salts include nitrates such as calcium nitrate, strontium nitrate, magnesium nitrate, and barium nitrate, and water-soluble substances such as sulfate, hydrochloride, phosphate, acetate, oxalate, and borate. Salt. Group IVB metal salts include titanium tetrachloride, titanium trichloride, potassium titanium fluoride, potassium titanium oxalate, titanium sulfate, titanium tetraiodide, zirconium chloride, zirconium dioxide, zirconium oxychloride, zirconium tetrachloride, etc. Can be mentioned.

アルカリ土類金属塩若しくは、第IVB族金属塩は、単独又は2種以上組み合わせて使用することができる。これらの金属塩の好ましい範囲は0.01〜10質量%であり、更に好ましい範囲は0.05〜5.0質量%である。また、米国特許第3,658,662号明細書に記載されているようなシリケート電着も有効である。特公昭46−27481号、特開昭52−58602号、特開昭52−30503号に開示されているような電解グレインを施した支持体と、上記陽極酸化処理及び親水化処理を組合せた表面処理も有用である。   Alkaline earth metal salts or Group IVB metal salts can be used alone or in combination of two or more. A preferable range of these metal salts is 0.01 to 10% by mass, and a more preferable range is 0.05 to 5.0% by mass. Silicate electrodeposition as described in US Pat. No. 3,658,662 is also effective. Surface obtained by combining a support with electrolytic grains as disclosed in JP-B-46-27481, JP-A-52-58602, JP-A-52-30503, and the above anodizing treatment and hydrophilization treatment Processing is also useful.

〔平版印刷版原版の作製〕
本発明の平版印刷版原版は、支持体上に、感光層と保護層とをこの順に設け、更に必要に応じて、下塗り層等を設けてなる。かかる平版印刷版原版は、上述の各種成分を含む塗布液を、それぞれ、適当な溶媒に溶かして、支持体上に、順次塗布することにより製造することができる。
[Preparation of lithographic printing plate precursor]
In the lithographic printing plate precursor according to the invention, a photosensitive layer and a protective layer are provided on a support in this order, and further an undercoat layer and the like are provided as necessary. Such a lithographic printing plate precursor can be produced by dissolving the above-described coating liquids containing the various components in an appropriate solvent and sequentially coating them on a support.

感光層を塗設する際には、前記感光層成分を種々の有機溶剤に溶かして、感光層塗布液とし、支持体又は下塗り層上に塗布される。
ここで使用する溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサン、酢酸エチル、エチレンジクロライド、テトラヒドロフラン、トルエン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、アセチルアセトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、3−メトキシプロパノール、メトキシメトキシエタノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、3−メトキシプロピルアセテート、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ−ブチロラクトン、乳酸メチル、乳酸エチルなどがある。これらの溶媒は、単独或いは混合して使用することができる。そして、感光層塗布液中の固形分の濃度は、2〜50質量%が適当である。
When coating the photosensitive layer, the photosensitive layer components are dissolved in various organic solvents to form a photosensitive layer coating solution, which is applied onto the support or the undercoat layer.
Solvents used here include acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexane, ethyl acetate, ethylene dichloride, tetrahydrofuran, toluene, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, Acetylacetone, cyclohexanone, diacetone alcohol, ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol ethyl ether acetate, ethylene glycol monoisopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether acetate, 3-methoxypropanol, methoxymethoxyethanol, diethylene glycol monomethyl ether, Ethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, 3-methoxypropyl acetate, N, N-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, γ-butyrolactone, methyl lactate, lactic acid There are ethyl and the like. These solvents can be used alone or in combination. The solid content in the photosensitive layer coating solution is suitably 2 to 50% by mass.

前記感光層の被覆量は、主に、感光層の感度、現像性、露光膜の強度・耐刷性に影響し得るもので、用途に応じ適宜選択することが望ましい。被覆量が少なすぎる場合には、耐刷性が十分でなくなる。一方多すぎる場合には、感度が下がり、露光に時間がかかる上、現像処理にもより長い時間を要するため好ましくない。走査露光用平版印刷版原版としては、その被覆量は乾燥後の質量で約0.1g/m2〜約10g/m2の範囲が適当である。より好ましくは0.5〜5g/m2である。 The coating amount of the photosensitive layer mainly affects the sensitivity of the photosensitive layer, the developability, and the strength and printing durability of the exposed film, and is preferably selected as appropriate according to the application. When the coating amount is too small, the printing durability is not sufficient. On the other hand, if the amount is too large, the sensitivity is lowered, it takes time for exposure, and a longer time is required for development processing, which is not preferable. For the lithographic printing plate precursor for scanning exposure, the coating amount is suitably in the range of about 0.1 g / m 2 to about 10 g / m 2 in terms of the mass after drying. More preferably from 0.5 to 5 g / m 2.

〔中間層(下塗り層)〕
本発明に係る平版印刷版原版には、感光層と支持体との間の密着性や汚れ性を改善する目的で、中間層(下塗り層)を設けてもよい。このような中間層の具体例としては、特公昭50−7481号、特開昭54−72104号、特開昭59−101651号、特開昭60−149491号、特開昭60−232998号、特開平3−56177号、特開平4−282637号、特開平5−16558号、特開平5−246171号、特開平7−159983号、特開平7−314937号、特開平8−202025号、特開平8−320551号、特開平9−34104号、特開平9−236911号、特開平9−269593号、特開平10−69092号、特開平10−115931号、特開平10−161317号、特開平10−260536号、特開平10−282682号、特開平11−84674号、特開平10−69092号、特開平10−115931号、特開平11−38635号、特開平11−38629号、特開平10−282645号、特開平10−301262号、特開平11−24277号、特開平11−109641号、特開平10−319600号、特開平11−84674号、特開平11−327152号、特開2000−10292号、特開2000−235254号、特開2000−352854号、特開2001−209170号、特願平11−284091号等に記載のものを挙げることができる。
[Intermediate layer (undercoat layer)]
In the lithographic printing plate precursor according to the invention, an intermediate layer (undercoat layer) may be provided for the purpose of improving the adhesion and soiling between the photosensitive layer and the support. Specific examples of such an intermediate layer include JP-B-50-7481, JP-A-54-72104, JP-A-59-101651, JP-A-60-149491, JP-A-60-232998, JP-A-3-56177, JP-A-4-282737, JP-A-5-16558, JP-A-5-246171, JP-A-7-159983, JP-A-7-314937, JP-A-8-202025, Special Kaihei 8-320551, JP 9-34104, JP 9-236911, JP 9-269593, JP 10-69092, JP 10-115931, JP 10-161317, JP 10-260536, JP-A-10-282682, JP-A-11-84684, JP-A-10-69092, JP-A-10-115931, Kaihei 11-38635, JP-A-11-38629, JP-A-10-282645, JP-A-10-301262, JP-A-11-24277, JP-A-11-109641, JP-A-10-319600, JP-A-10-319600 11-84684, JP-A-11-327152, JP-A-2000-10292, JP-A-2000-235254, JP-A-2000-352854, JP-A-2001-209170, Japanese Patent Application No. 11-284091, etc. Can be mentioned.

<製版方法>
以下、本発明の平版印刷版の製版方法について説明する。
本発明の平版印刷版の製版方法は、上述の本発明の平版印刷版原版を、保護層とアルミニウム支持体裏面とを直接接触させて複数枚積層してなる積層体を、プレートセッター内にセットし、該平版印刷版原版を1枚づつ自動搬送した後に、750nm〜1400nmの波長で露光処理した後、実質的に加熱処理を経ることなく、搬送速度が1.25m/分以上の条件にて現像処理を行なうことを特徴とする。
<Plate making method>
Hereinafter, the plate making method of the planographic printing plate of the present invention will be described.
The plate making method of the lithographic printing plate of the present invention comprises the step of setting a laminate comprising a plurality of the above-described lithographic printing plate precursors of the present invention in direct contact with the protective layer and the back surface of the aluminum support in a plate setter. Then, after the lithographic printing plate precursor is automatically conveyed one by one, after being exposed at a wavelength of 750 nm to 1400 nm, the conveyance speed is 1.25 m / min or more without substantially undergoing heat treatment. Development processing is performed.

上述の本発明の平版印刷版原版は、中間に合紙を挟み込むことなく積層しても、平版印刷版原版の間の密着性や、保護層へのキズの発生が抑制されるため、上記のような製版方法に適用することができる。
本発明の平版印刷版の製版方法によれば、平版印刷版原版を、合紙を挟み込むことなく積層した積層体を用いることから、合紙の除去が不必要となる。
Even if the lithographic printing plate precursor of the present invention described above is laminated without interposing the interleaf, the adhesion between the lithographic printing plate precursors and the generation of scratches on the protective layer are suppressed. It can be applied to such a plate making method.
According to the lithographic printing plate making method of the present invention, since a laminate in which lithographic printing plate precursors are laminated without interposing the interleaving paper is used, it is not necessary to remove the interleaving paper.

この製版方法は、上述した本発明の平版印刷版原版の製版にも好適であることはいうまでもないが、少なくとも、赤外線吸収剤、重合開始剤、及び重合性化合物を含有し、750nm〜1400nmの波長の露光によりアルカリ現像液に対する溶解性が低下する重合性ネガ型感光層を備えた平版印刷版原版のいずれにも好適に適用できる。具体的には、本発明に係る平版印刷版原版の感光層を構成する各成分の欄で説明した「赤外線吸収剤、重合開始剤、及び重合性化合物」の各成分を含有する感光層であればよく、バインダーポリマーとしては公知のものを含んでいてもよいし、含まなくてもかまわない。   Needless to say, this plate making method is also suitable for plate making of the above-described lithographic printing plate precursor according to the present invention, but contains at least an infrared absorber, a polymerization initiator, and a polymerizable compound, and is 750 nm to 1400 nm. The present invention can be suitably applied to any lithographic printing plate precursor provided with a polymerizable negative photosensitive layer whose solubility in an alkaline developer is reduced by exposure at a wavelength of. Specifically, it may be a photosensitive layer containing each component of “infrared absorber, polymerization initiator, and polymerizable compound” described in the column of each component constituting the photosensitive layer of the lithographic printing plate precursor according to the invention. What is necessary is just to include a well-known thing as a binder polymer, and does not need to contain it.

また、本発明の平版印刷版の製版方法が適用される感光層としては、pH10〜13.5のアルカリ現像液に対する未露光部の現像速度が80nm/sec以上、かつ、該アルカリ現像液の露光部での浸透速度が50nF/sec以下である物性を有することが好ましい。この感光層の未露光部の現像速度や硬化後の感光層に対するアルカリ現像液の浸透速度の測定方法は、本出願人が先に出願した特願2004−248535号明細書に記載された方法を用いることができる。感光層の未露光部の現像速度や硬化後の感光層に対するアルカリ現像液の浸透速度の制御は、常法により行うことができるが、代表的なものとしては、前記特定バインダーポリマーを使用する方法の他、未露光部の現像速度の向上には、親水性の化合物の添加が有用であり、露光部への現像液浸透抑制には、疎水性の化合物の添加手段が有用である。   The photosensitive layer to which the lithographic printing plate making method of the present invention is applied has a development rate of 80 nm / sec or more in an unexposed portion with respect to an alkaline developer having a pH of 10 to 13.5, and exposure of the alkaline developer. It is preferable that the penetration rate in the part has a physical property of 50 nF / sec or less. The method for measuring the developing speed of the unexposed portion of the photosensitive layer and the penetration speed of the alkali developer into the cured photosensitive layer is the same as the method described in Japanese Patent Application No. 2004-248535 previously filed by the present applicant. Can be used. Control of the developing speed of the unexposed part of the photosensitive layer and the penetration speed of the alkali developer into the cured photosensitive layer can be performed by a conventional method, but as a typical method, a method using the specific binder polymer In addition, the addition of a hydrophilic compound is useful for improving the developing speed of the unexposed area, and the means for adding a hydrophobic compound is useful for suppressing the penetration of the developer into the exposed area.

〔露光〕
本発明における露光処理に用いられる光源としては、750nm〜1400nmの波長で露光し得るものであれば、如何なるものでもよいが、赤外線レーザーが好適なものとして挙げられる。中でも、本発明においては、750nm〜1400nmの波長の赤外線を放射する固体レーザー及び半導体レーザーにより画像露光されることが好ましい。レーザーの出力は100mW以上が好ましく、露光時間を短縮するため、マルチビームレーザデバイスを用いることが好ましい。また、1画素あたりの露光時間は20μ秒以内であることが好ましい。平版印刷版原版に照射されるエネルギーは10〜300mJ/cm2であることが好ましい。露光のエネルギーが低すぎると感光層の硬化が十分に進行しない。また、露光のエネルギーが高すぎると感光層がレーザーアブレーションされ、画像が損傷することがある。
〔exposure〕
The light source used for the exposure treatment in the present invention may be any light source as long as it can be exposed at a wavelength of 750 nm to 1400 nm, and an infrared laser is preferable. Especially, in this invention, it is preferable to image-expose with the solid laser and semiconductor laser which radiate | emit infrared rays with a wavelength of 750 nm-1400 nm. The laser output is preferably 100 mW or more, and a multi-beam laser device is preferably used to shorten the exposure time. The exposure time per pixel is preferably within 20 μsec. The energy applied to the planographic printing plate precursor is preferably 10 to 300 mJ / cm 2 . If the exposure energy is too low, the photosensitive layer is not sufficiently cured. If the exposure energy is too high, the photosensitive layer may be laser ablated and the image may be damaged.

本発明における露光処理では、光源の光ビームをオーバーラップさせて露光することができる。オーバーラップとは副走査ピッチ幅がビーム径より小さいことをいう。オーバーラップは、例えば、ビーム径をビーム強度の半値幅(FWHM)で表わしたとき、FWHM/副走査ピッチ幅(オーバーラップ係数)で定量的に表現することができる。本発明ではこのオーバーラップ係数が0.1以上であることが好ましい。   In the exposure processing in the present invention, exposure can be performed by overlapping light beams of light sources. Overlap means that the sub-scanning pitch width is smaller than the beam diameter. The overlap can be expressed quantitatively by FWHM / sub-scanning pitch width (overlap coefficient), for example, when the beam diameter is expressed by the half width (FWHM) of the beam intensity. In the present invention, the overlap coefficient is preferably 0.1 or more.

本発明に使用する露光装置の光源の走査方式は特に限定はなく、円筒外面走査方式、円筒内面走査方式、平面走査方式などを用いることができる。また、光源のチャンネルは単チャンネルでもマルチチャンネルでもよいが、円筒外面方式の場合にはマルチチャンネルが好ましく用いられる。   The scanning method of the light source of the exposure apparatus used in the present invention is not particularly limited, and a cylindrical outer surface scanning method, a cylindrical inner surface scanning method, a planar scanning method, or the like can be used. The channel of the light source may be a single channel or a multi-channel, but in the case of a cylindrical outer surface system, a multi-channel is preferably used.

本発明においては、上述のように、露光処理された平版印刷版原版は、特段の加熱処理及び水洗処理を行なうことなく、現像処理に供される。この加熱処理を行なわないことで、加熱処理に起因する画像の不均一性を抑制することができる。また、加熱処理及び水洗処理を行なわないことで、現像処理において安定な高速処理が可能となる。   In the present invention, as described above, the exposed lithographic printing plate precursor is subjected to a development process without performing any special heat treatment and water washing treatment. By not performing this heat treatment, image non-uniformity due to the heat treatment can be suppressed. Further, by performing neither heat treatment nor water washing treatment, stable high-speed processing is possible in development processing.

〔現像〕
本発明における現像処理では、現像液を用いて、感光層の非画像部を除去する。
なお、本発明においては、上述のように、現像処理における処理速度、即ち、現像処理における平版印刷版原版の搬送速度(ライン速度)は、1.25m/分以上であることを要し、より好ましくは、1.35m/分以上である。また、搬送速度の上限値には特に制限はないが、搬送の安定性の観点からは、3m/分以下であることが好ましい。
以下、本発明に用いられる現像液について説明する。
〔developing〕
In the development processing in the present invention, a non-image portion of the photosensitive layer is removed using a developer.
In the present invention, as described above, the processing speed in the development process, that is, the transport speed (line speed) of the lithographic printing plate precursor in the development process needs to be 1.25 m / min or more. Preferably, it is 1.35 m / min or more. Moreover, there is no restriction | limiting in particular in the upper limit of a conveyance speed, However, From a viewpoint of the stability of conveyance, it is preferable that it is 3 m / min or less.
Hereinafter, the developer used in the present invention will be described.

(現像液)
本発明に用いられる現像液は、pH14以下のアルカリ水溶液であることが好ましく、また、芳香族アニオン界面活性剤を含有することが好ましい。
(Developer)
The developer used in the present invention is preferably an alkaline aqueous solution having a pH of 14 or less, and preferably contains an aromatic anionic surfactant.

(芳香族アニオン界面活性剤)
本発明における現像液に用いられる芳香族アニオン界面活性剤は、現像促進効果、重合性ネガ型の感光層成分及び保護層成分の現像液中での分散安定化効果があり、現像処理安定化において好ましい。中でも、本発明に用いられる芳香族アニオン界面活性剤としては、下記一般式(A)又は一般式(B)で表される化合物であることが好ましい。
(Aromatic anionic surfactant)
The aromatic anionic surfactant used in the developer in the present invention has a development accelerating effect and a dispersion stabilizing effect in the developer of the polymerizable negative photosensitive layer component and the protective layer component. preferable. Among these, the aromatic anionic surfactant used in the present invention is preferably a compound represented by the following general formula (A) or general formula (B).

Figure 2007076330
Figure 2007076330

上記一般式(A)又は一般式(B)において、R1、R3は、それぞれ独立に、直鎖又は分岐鎖の炭素原子数1〜5のアルキレン基を表し、具体的には、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基等が挙げられ、中でも、エチレン基、プロピレン基が特に好ましい。
m、nは、それぞれ独立に、1〜100から選択される整数を表し、中でも、1〜30が好ましく、2〜20がより好ましい。また、mが2以上の場合、複数存在するR1は同一でも異なっていてもよい。同じく、nが2以上の場合、複数存在するR3は同一でも異なっていてもよい。
t、uは、それぞれ独立に、0又は1を表す。
In the above general formula (A) or general formula (B), R 1 and R 3 each independently represents a linear or branched alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, specifically an ethylene group. , Propylene group, butylene group, pentylene group, and the like, among which ethylene group and propylene group are particularly preferable.
m and n each independently represent an integer selected from 1 to 100. Among them, 1 to 30 are preferable, and 2 to 20 are more preferable. When m is 2 or more, a plurality of R 1 may be the same or different. Similarly, when n is 2 or more, a plurality of R 3 may be the same or different.
t and u each independently represents 0 or 1.

2、R4は、それぞれ独立に、直鎖又は分岐鎖の炭素数1〜20のアルキル基を表し、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、ドデシル基等が挙げられ、中でも、メチル基、エチル基、iso−プロピル基、n−プロピル基、n−ブチル基、iso−ブチル基、tert−ブチル基が特に好ましい。
p、qはそれぞれ、0〜2から選択される整数を表す。Y1、Y2は、それぞれ単結合、又は炭素原子数1〜10のアルキレン基を表し、具体的には、単結合、メチレン基、エチレン基が好ましく、特に単結合が好ましい。
(Z1r+、(Z2s+は、それぞれ独立に、アルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン、或いは、無置換又はアルキル基で置換されたアンモニウムイオンを表し、具体例としては、リチウムイオン、ナトリウムイオン、カリウムイオン、マグネシウムイオン、カルシウムイオン、アンモニウムイオン、炭素数1〜20の範囲の、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基が置換した2級〜4級のアンモニウムイオンなどが挙げられ、特に、ナトリウムイオンが好ましい。r、sはそれぞれ、1又は2を表す。
以下に、具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
R 2 and R 4 each independently represent a linear or branched alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, specifically, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, dodecyl group Among them, a methyl group, an ethyl group, an iso-propyl group, an n-propyl group, an n-butyl group, an iso-butyl group, and a tert-butyl group are particularly preferable.
p and q each represent an integer selected from 0 to 2; Y 1 and Y 2 each represent a single bond or an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms. Specifically, a single bond, a methylene group or an ethylene group is preferred, and a single bond is particularly preferred.
(Z 1 ) r + and (Z 2 ) s + each independently represents an alkali metal ion, an alkaline earth metal ion, or an ammonium ion that is unsubstituted or substituted with an alkyl group. Sodium ion, potassium ion, magnesium ion, calcium ion, ammonium ion, secondary to quaternary ammonium ion substituted with an alkyl group, aryl group, or aralkyl group in the range of 1 to 20 carbon atoms, etc. In particular, sodium ion is preferable. r and s each represent 1 or 2.
Specific examples are shown below, but the present invention is not limited thereto.

Figure 2007076330
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Figure 2007076330
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これら芳香族アニオン界面活性剤は、単独で使用してもよいし、2種以上を適宜組み合わせて使用してもよい。芳香族アニオン界面活性剤の添加量は、現像液中における芳香族アニオン界面活性剤の濃度が1.0〜10質量%の範囲とすることが好ましく、より好ましくは2〜10質量%の範囲とすることが効果的である。ここで、含有量が1.0質量%以下であると、現像性低下及び感光層成分の溶解性低下を招き、含有量が10質量%以上であると、印刷版の耐刷性を低下させる。   These aromatic anionic surfactants may be used alone or in appropriate combination of two or more. The amount of the aromatic anionic surfactant added is preferably such that the concentration of the aromatic anionic surfactant in the developer is in the range of 1.0 to 10% by mass, more preferably in the range of 2 to 10% by mass. It is effective to do. Here, if the content is 1.0% by mass or less, the developability and the solubility of the photosensitive layer components are lowered, and if the content is 10% by mass or more, the printing durability of the printing plate is reduced. .

本発明に係る現像液には、前記芳香族アニオン界面活性剤以外に、その他の界面活性剤を併用してもよい。その他の界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンナフチルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンステアレート等のポリオキシエチレンアルキルエステル類、ソルビタンモノラウレート、ソルビタンモノステアレート、ソルビタンジステアレート、ソルビタンモノオレエート、ソルビタンセスキオレエート、ソルビタントリオレエート等のソルビタンアルキルエステル類、グリセロールモノステアレート、グリセロールモノオレート等のモノグリセリドアルキルエステル類等のノニオン界面活性剤である。
これらその他の界面活性剤の現像液中における含有量は有効成分換算で、0.1から10質量%が好ましい。
In addition to the aromatic anionic surfactant, other surfactants may be used in combination with the developer according to the present invention. Examples of other surfactants include polyoxyethylene naphthyl ether, polyoxyethylene alkylphenyl ether, polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene cetyl ether, polyoxyethylene alkyl ethers such as polyoxyethylene stearyl ether, Polyoxyethylene alkyl esters such as oxyethylene stearate, sorbitan monolaurate, sorbitan monostearate, sorbitan distearate, sorbitan monooleate, sorbitan sesquioleate, sorbitan trioleate, sorbitan alkyl esters, glycerol mono Nonionic surfactants such as monoglyceride alkyl esters such as stearate and glycerol monooleate.
The content of these other surfactants in the developer is preferably from 0.1 to 10% by mass in terms of active ingredients.

(2価金属に対するキレート剤)
本発明に係る現像液には、例えば、硬水に含まれるカルシウムイオンなどによる影響を抑制する目的で、2価金属に対するキレート剤を含有させることが好ましい。2価金属に対するキレート剤としては、例えば、Na227、Na533、Na339、Na24P(NaO3P)PO3Na2、カルゴン(ポリメタリン酸ナトリウム)などのポリリン酸塩、例えばエチレンジアミンテトラ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩、そのアミン塩;ジエチレントリアミンペンタ酢酸、そのカリウム塩、ナトリウム塩;トリエチレンテトラミンヘキサ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;ヒドロキシエチルエチレンジアミントリ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;ニトリロトリ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;1,2−ジアミノシクロヘキサンテトラ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;1,3−ジアミノ−2−プロパノールテトラ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩などのようなアミノポリカルボン酸類の他2−ホスホノブタントリカルボン酸−1,2,4、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;2−ホスホノブタノントリカルボン酸−2,3,4、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;1−ホスホノエタントリカルボン酸−1,2、2、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;1−ヒドロキシエタン−1,1−ジホスホン酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;アミノトリ(メチレンホスホン酸)、そのカリウム塩、そのナトリウム塩などのような有機ホスホン酸類を挙げることができ、中でも、エチレンジアミンテトラ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩、そのアミン塩;エチレンジアミンテトラ(メチレンホスホン酸)、そのアンモニウム塩、そのカリウム塩、;ヘキサメチレンジアミンテトラ(メチレンホスホン酸)、そのアンモニウム塩、そのカリウム塩が好ましい。
このようなキレート剤の最適量は使用される硬水の硬度及びその使用量に応じて変化するが、一般的には、使用時の現像液中に0.01〜5質量%、より好ましくは0.01〜0.5質量%の範囲で含有させる。
(Chelating agent for divalent metals)
The developer according to the present invention preferably contains a chelating agent for a divalent metal, for example, for the purpose of suppressing the influence of calcium ions contained in hard water. Examples of the chelating agent for the divalent metal include Na 2 P 2 O 7 , Na 5 P 3 O 3 , Na 3 P 3 O 9 , Na 2 O 4 P (NaO 3 P) PO 3 Na 2 , Calgon (polymetaline). Polyphosphates such as ethylenediaminetetraacetic acid, its potassium salt, its sodium salt, its amine salt; diethylenetriaminepentaacetic acid, its potassium salt, sodium salt; triethylenetetraminehexaacetic acid, its potassium salt, its sodium salt Hydroxyethylethylenediaminetriacetic acid, its potassium salt, its sodium salt; nitrilotriacetic acid, its potassium salt, its sodium salt; 1,2-diaminocyclohexanetetraacetic acid, its potassium salt, its sodium salt; 1,3-diamino-2 -Propanol tetraacetic acid, its potassium salt, 2-phosphonobutanetricarboxylic acid-1,2,4, potassium salt thereof, sodium salt thereof; 2-phosphonobutanone tricarboxylic acid-2,3,4, 1-phosphonoethanetricarboxylic acid-1,2,2, potassium salt, sodium salt; 1-hydroxyethane-1,1-diphosphonic acid, potassium salt, sodium salt; aminotri Organic phosphonic acids such as (methylenephosphonic acid), its potassium salt, its sodium salt and the like, among others, ethylenediaminetetraacetic acid, its potassium salt, its sodium salt, its amine salt; ethylenediaminetetra (methylenephosphonic acid) ), Its ammonium salt, its potassium salt; hexamethyl Emissions diamine tetra (methylene phosphonic acid), an ammonium salt, its potassium salt is preferred.
The optimum amount of such a chelating agent varies depending on the hardness of the hard water used and the amount used, but is generally 0.01 to 5% by mass, more preferably 0% in the developing solution at the time of use. It is made to contain in the range of 0.01-0.5 mass%.

また、本発明に係る現像液には、現像調整剤として有機酸のアルカリ金属塩類、無機酸のアルカリ金属塩類を加えてもよい。例えば、炭酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、クエン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウムなどを単独若しくは2種以上を組み合わせて混合して用いてもよい。   Further, an alkali metal salt of an organic acid or an alkali metal salt of an inorganic acid may be added to the developer according to the present invention as a development regulator. For example, sodium carbonate, potassium, ammonium, sodium citrate, potassium, ammonium and the like may be used alone or in combination of two or more.

(アルカリ剤)
本発明に係る現像液に用いられるアルカリ剤としては、例えば、第3リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、硼酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、水酸化ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、及び同リチウムなどの無機アルカリ剤及び、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、n−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピリジン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシドなどの有機アルカリ剤等が挙げられる。本発明においては、これらを単独で用いてもよいし、若しくは2種以上を組み合わせて混合して用いてもよい。
(Alkaline agent)
Examples of the alkaline agent used in the developer according to the present invention include tribasic sodium phosphate, potassium, ammonium, sodium borate, potassium, ammonium, sodium hydroxide, potassium, ammonium, and lithium. Inorganic alkaline agents such as monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, triisopropylamine, n-butylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanolamine And organic alkali agents such as diisotopanolamine, ethyleneimine, ethylenediamine, pyridine, and tetramethylammonium hydroxide. In the present invention, these may be used alone or in combination of two or more.

また、上記以外のアルカリ剤として、アルカリ珪酸塩を挙げることができる。アルカリ珪酸塩は塩基と組み合わせて使用してもよい。使用するアルカリ珪酸塩としては、水に溶解したときにアルカリ性を示すものであって、例えば珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、珪酸リチウム、珪酸アンモニウムなどがある。これらのアルカリ珪酸塩は1種単独でも、2種以上を組み合わせて用いてもよい。   Moreover, alkali silicate can be mentioned as alkali agents other than the above. Alkali silicates may be used in combination with a base. The alkali silicate to be used exhibits alkalinity when dissolved in water, and examples thereof include sodium silicate, potassium silicate, lithium silicate, and ammonium silicate. These alkali silicates may be used alone or in combination of two or more.

本発明に用いられる現像液は、支持体の親水化成分としての珪酸塩の成分である酸化ケイ素SiO2と、アルカリ成分としてのアルカリ酸化物M2O(Mはアルカリ金属又はアンモニウム基を表す)との混合比率、及び濃度の調整により、最適な範囲に容易に調節することができる。酸化ケイ素SiO2とアルカリ酸化物M2Oとの混合比率(SiO2/M2Oのモル比)は、支持体の陽極酸化皮膜が過度に溶解(エッチング)されることに起因する放置汚れや、溶解アルミニウムと珪酸塩との錯体形成に起因する不溶性ガスの発生を抑制するといった観点から、好ましくは0.75〜4.0の範囲であり、より好ましくは0.75〜3.5の範囲で使用される。 The developer used in the present invention is composed of silicon oxide SiO 2 which is a silicate component as a hydrophilizing component of a support and alkali oxide M 2 O as an alkali component (M represents an alkali metal or ammonium group). By adjusting the mixing ratio and concentration, it can be easily adjusted to the optimum range. The mixing ratio (SiO 2 / M 2 O molar ratio) of silicon oxide SiO 2 and alkali oxide M 2 O is the amount of unclean dirt caused by excessive dissolution (etching) of the anodic oxide film of the support. From the viewpoint of suppressing the generation of insoluble gas resulting from complex formation between dissolved aluminum and silicate, the range is preferably 0.75 to 4.0, more preferably 0.75 to 3.5. Used in.

また、現像液中のアルカリ珪酸塩の濃度としては、支持体の陽極酸化皮膜の溶解(エッチング)抑制効果、現像性、沈殿や結晶生成の抑制効果、及び廃液時における中和の際のゲル化防止効果などの観点から、現像液の質量に対して、SiO2量として、0.01〜1mol/Lが好ましく、より好ましくは0.05〜0.8mol/Lの範囲で使用される。 In addition, the alkali silicate concentration in the developer includes the effect of inhibiting dissolution (etching) of the anodic oxide film on the support, the developability, the effect of inhibiting precipitation and crystal formation, and the gelation during neutralization during waste From the viewpoint of the prevention effect and the like, the amount of SiO 2 is preferably 0.01 to 1 mol / L, more preferably 0.05 to 0.8 mol / L with respect to the mass of the developer.

本発明において使用される現像液には、上記の成分の他に、必要に応じて以下のような成分を併用することができる。例えば、安息香酸、フタル酸、p−エチル安息香酸、p−n−プロピル安息香酸、p−イソプロピル安息香酸、p−n−ブチル安息香酸、p−t−ブチル安息香酸、p−t−ブチル安息香酸、p−2−ヒドロキシエチル安息香酸、デカン酸、サリチル酸、3−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸等の有機カルボン酸;プロピレングリコール等の有機溶剤;この他、還元剤、染料、顔料、硬水軟化剤、防腐剤等が挙げられる。   In addition to the above components, the following components can be used in combination in the developer used in the present invention, if necessary. For example, benzoic acid, phthalic acid, p-ethylbenzoic acid, pn-propylbenzoic acid, p-isopropylbenzoic acid, pn-butylbenzoic acid, pt-butylbenzoic acid, pt-butylbenzoic acid Acids, p-2-hydroxyethylbenzoic acid, decanoic acid, salicylic acid, organic carboxylic acids such as 3-hydroxy-2-naphthoic acid; organic solvents such as propylene glycol; other reducing agents, dyes, pigments, water softeners And preservatives.

本発明に用いられる現像液は、25℃におけるpHが10〜12.5の範囲であることが好ましく、pH11〜12.5の範囲であることがより好ましい。本発明における現像液は、前記界面活性剤を含むため、このような低pHの現像液を用いても、非画像部において優れた現像性を発現する。このように、現像液のpHを比較的低い値とすることにより、現像時における画像部へのダメージを軽減するとともに、現像液の取扱い性にも優れる。   The developer used in the present invention preferably has a pH in the range of 10 to 12.5 at 25 ° C, and more preferably in the range of pH 11 to 12.5. Since the developer in the present invention contains the surfactant, even if such a low pH developer is used, excellent developability is exhibited in the non-image area. Thus, by setting the pH of the developing solution to a relatively low value, damage to the image area during development is reduced and the handling property of the developing solution is excellent.

また、該現像液の導電率xは、2<x<30mS/cmであることが好ましく、5〜25mS/cmであることがより好ましい。
ここで、導電率を調整するための導電率調整剤として、有機酸のアルカリ金属塩類、無機酸のアルカリ金属塩類等を添加することが好ましい。
The conductivity x of the developer is preferably 2 <x <30 mS / cm, more preferably 5 to 25 mS / cm.
Here, it is preferable to add an alkali metal salt of an organic acid, an alkali metal salt of an inorganic acid, or the like as a conductivity adjusting agent for adjusting the conductivity.

上記の現像液は、露光された平版印刷版原版の現像液及び現像補充液として用いることができ、自動現像機に適用することが好ましい。自動現像機を用いて現像する場合、処理量に応じて現像液が疲労してくるので、補充液又は新鮮な現像液を用いて処理能力を回復させてもよい。   The developer can be used as a developer and a development replenisher for the exposed lithographic printing plate precursor, and is preferably applied to an automatic processor. When developing using an automatic developing machine, the developing solution becomes fatigued according to the amount of processing, so that the processing capability may be restored by using a replenishing solution or a fresh developing solution.

更に、自動現像機を用いて、現像液の処理能力を回復させるためには、米国特許第4,882,246号に記載されている方法で補充することが好ましい。また、特開昭50−26601号、同58−54341号、特公昭56−39464号、同56−42860号、同57−7427号の各公報に記載されている現像液も好ましい。   Furthermore, in order to restore the processing capacity of the developer using an automatic developing machine, it is preferable to replenish by the method described in US Pat. No. 4,882,246. Developers described in JP-A-50-26601, 58-54341, JP-B-56-39464, 56-42860, and 57-7427 are also preferable.

本発明のより好ましい現像補充液は、アルミニウムイオンと水溶性キレート化合物形成能を有するオキシカルボン酸キレート剤と、アルカリ金属の水酸化物と、界面活性剤とを含有し、ケイ酸塩を含有せず、pH11〜13.5の水溶液であることを特徴とする現像補充液である。このような現像補充液を使用することにより、優れた現像性と版材の画像部の強度を損なうことの無い特性を有し、現像液のアルカリによりアルミニウム支持体が溶出されて形成する水酸化アルミニウムの析出が効果的に抑制され、自動現像機の現像浴ローラー表面への水酸化アルミニウムを主成分とする汚れの付着や、引き続く水洗浴内への水酸化アルミニウム析出物の蓄積が低減され、長期間安定に処理することができる。   A more preferred development replenisher of the present invention contains an oxycarboxylic acid chelating agent having an ability to form a water-soluble chelate compound with aluminum ions, an alkali metal hydroxide, and a surfactant, and contains a silicate. A developing replenisher characterized by being an aqueous solution having a pH of 11 to 13.5. By using such a development replenisher, it has excellent developability and characteristics that do not impair the strength of the image area of the plate material, and is formed by elution of the aluminum support by the alkali of the developer. Precipitation of aluminum is effectively suppressed, adhesion of stains mainly composed of aluminum hydroxide to the surface of the developing bath roller of the automatic processor, and subsequent accumulation of aluminum hydroxide precipitates in the washing bath are reduced. It can be processed stably for a long time.

このようにして現像処理された平版印刷版原版は、特開昭54−8002号、同55−115045号、同59−58431号等の各公報に記載されているように、水洗水、界面活性剤等を含有するリンス液、アラビアガムや澱粉誘導体等を含む不感脂化液で後処理される。本発明に係る平版印刷版原版の後処理にはこれらの処理を種々組み合わせて用いることができる。このような処理によって得られた平版印刷版はオフセット印刷機に掛けられ、多数枚の印刷に用いられる。   The lithographic printing plate precursor thus developed is subjected to washing water, surface activity as described in JP-A Nos. 54-8002, 55-11545, 59-58431, and the like. It is post-treated with a desensitizing solution containing a rinse solution containing an agent and the like, gum arabic and starch derivatives. These treatments can be used in various combinations for the post-treatment of the lithographic printing plate precursor according to the invention. The planographic printing plate obtained by such processing is loaded on an offset printing machine and used for printing a large number of sheets.

本発明の平版印刷版の製版方法においては、画像強度・耐刷性の向上を目的として、現像後の画像に対し、全面後加熱若しくは、全面露光を行うこともできる。
現像後の加熱には非常に強い条件を利用することができる。通常は加熱温度が200〜500℃の範囲で実施される。現像後の加熱温度が低いと十分な画像強化作用が得られず、高すぎる場合には支持体の劣化、画像部の熱分解といった問題を生じるおそれがある。
以上の処理によって得られた平版印刷版はオフセット印刷機に掛けられ、多数枚の印刷に用いられる。
In the lithographic printing plate making method of the present invention, for the purpose of improving the image strength and printing durability, the image after development can be subjected to whole surface post-heating or whole surface exposure.
Very strong conditions can be used for heating after development. Usually, the heating temperature is 200 to 500 ° C. If the heating temperature after development is low, sufficient image strengthening action cannot be obtained, and if it is too high, problems such as deterioration of the support and thermal decomposition of the image area may occur.
The planographic printing plate obtained by the above processing is loaded on an offset printing machine and used for printing a large number of sheets.

印刷時、版上の汚れ除去のため使用するプレートクリーナーとしては、従来知られているPS版用プレートクリーナーが使用され、例えば、マルチクリーナー、CL−1、CL−2、CP、CN−4、CN、CG−1、PC−1、SR、IC(富士写真フイルム株式会社製)等が挙げられる。   As a plate cleaner used for removing stains on the plate at the time of printing, a conventionally known plate cleaner for PS plate is used. For example, a multi cleaner, CL-1, CL-2, CP, CN-4, CN, CG-1, PC-1, SR, IC (made by Fuji Photo Film Co., Ltd.), etc. are mentioned.

以下、実施例によって本発明を説明するが本発明はこれらに限定されるものではない。
〔実施例1〕
(支持体の作製)
厚さ0.30mm、幅1030mmのJIS A 1050アルミニウム板を用いて、以下に示す表面処理を行った。
Hereinafter, the present invention will be described by way of examples, but the present invention is not limited thereto.
[Example 1]
(Production of support)
The surface treatment shown below was performed using a JIS A 1050 aluminum plate having a thickness of 0.30 mm and a width of 1030 mm.

<表面処理>
表面処理は、以下の(a)〜(f)の各種処理を連続的に行った。なお、各処理及び水洗の後にはニップローラで液切りを行った。
<Surface treatment>
In the surface treatment, the following various treatments (a) to (f) were continuously performed. In addition, after each process and water washing, the liquid was drained with the nip roller.

(a)アルミニウム板を苛性ソーダ濃度26質量%、アルミニウムイオン濃度6.5質量%、温度70℃でエッチング処理を行い、アルミニウム板を5g/m2溶解した。その後水洗を行った。
(b)温度30℃の硝酸濃度1質量%水溶液(アルミニウムイオン0.5質量%含む)で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後水洗した。
(A) The aluminum plate was etched at a caustic soda concentration of 26 mass%, an aluminum ion concentration of 6.5 mass%, and a temperature of 70 ° C. to dissolve the aluminum plate at 5 g / m 2 . Thereafter, it was washed with water.
(B) A desmut treatment by spraying was performed with a 1% by mass aqueous solution of nitric acid having a temperature of 30 ° C. (including 0.5% by mass of aluminum ions), and then washed with water.

(c)60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。この時の電解液は、硝酸1質量%水溶液(アルミニウムイオン0.5質量%、アンモニウムイオン0.007質量%含む)、温度30℃であった。交流電源は電流値がゼロからピークに達するまでの時間TPが2msec、duty比1:1、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電流密度は電流のピーク値で25A/dm2、電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で250C/cm2であった。補助陽極には電源から流れる電流の5%を分流させた。その後水洗を行った。 (C) An electrochemical surface roughening treatment was continuously performed using an alternating voltage of 60 Hz. The electrolytic solution at this time was a 1% by mass aqueous nitric acid solution (including 0.5% by mass aluminum ions and 0.007% by mass ammonium ions) at a temperature of 30 ° C. The AC power source was subjected to an electrochemical surface roughening treatment using a carbon electrode as a counter electrode using a trapezoidal rectangular wave alternating current with a time TP of 2 msec until the current value reached a peak from zero and a duty ratio of 1: 1. Ferrite was used for the auxiliary anode. The current density was 25 A / dm 2 at the peak current value, and the amount of electricity was 250 C / cm 2 in terms of the total amount of electricity when the aluminum plate was the anode. 5% of the current flowing from the power source was shunted to the auxiliary anode. Thereafter, it was washed with water.

(d)アルミニウム板を苛性ソーダ濃度26質量%、アルミニウムイオン濃度6.5質量%でスプレーによるエッチング処理を35℃で行い、アルミニウム板を0.2g/m2溶解し、前段の交流を用いて電気化学的な粗面化を行ったときに生成した水酸化アルミニウムを主体とするスマット成分の除去と、生成したピットのエッジ部分を溶解し、エッジ部分を滑らかにした。その後水洗した。
(e)温度60℃の硫酸濃度25質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後スプレーによる水洗を行った。
(f)硫酸濃度170g/リットル(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)、温度33℃、電流密度が5(A/dm2)で、50秒間陽極酸化処理を行った。その後水洗を行った。この時の陽極酸化皮膜重量が2.7g/m2であった。
このようにして得られたアルミニウム支持体の表面粗さRaは0.27(測定機器;東京精密(株)製サーフコム、蝕針先端径2ミクロンメーター)であった。
(D) The aluminum plate was spray-etched at 35 ° C. with a caustic soda concentration of 26% by mass and an aluminum ion concentration of 6.5% by mass, the aluminum plate was dissolved at 0.2 g / m 2, and electrochemical using the alternating current in the previous stage. The smut component mainly composed of aluminum hydroxide generated during roughening was removed, and the edge portion of the generated pit was dissolved to smooth the edge portion. Thereafter, it was washed with water.
(E) A desmut treatment by spraying was performed with a 25% by weight aqueous solution of sulfuric acid having a temperature of 60 ° C. (containing 0.5% by weight of aluminum ions), followed by washing with water by spraying.
(F) Anodization was performed for 50 seconds at a sulfuric acid concentration of 170 g / liter (containing 0.5 mass% of aluminum ions), a temperature of 33 ° C., and a current density of 5 (A / dm 2 ). Thereafter, it was washed with water. At this time, the weight of the anodized film was 2.7 g / m 2 .
The surface roughness Ra of the aluminum support thus obtained was 0.27 (measuring instrument: Surfcom manufactured by Tokyo Seimitsu Co., Ltd., stylus tip diameter 2 micrometer).

<下塗り層>
次に、このアルミニウム支持体に下記下塗り層用塗布液をワイヤーバーにて塗布し、90℃30秒間乾燥した。塗布量は10mg/m2であった。
<Undercoat layer>
Next, the following undercoat layer coating solution was applied to the aluminum support with a wire bar and dried at 90 ° C. for 30 seconds. The coating amount was 10 mg / m 2 .

(下塗り層用塗布液)
・下記構造の高分子化合物A 0.05g
・メタノール 27g
・イオン交換水 3g
(Coating solution for undercoat layer)
-Polymer compound A having the following structure: 0.05 g
・ Methanol 27g
・ Ion exchange water 3g

Figure 2007076330
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(感光層) (Photosensitive layer)

次に、下記感光層塗布液[P−1]を調製し、上記のアルミニウム支持体にワイヤーバーを用いて塗布した。乾燥は、温風式乾燥装置にて115℃で34秒間行い、平版印刷版原版を得た。乾燥後の被覆量は1.4g/m2であった。 Next, the following photosensitive layer coating solution [P-1] was prepared and applied to the above aluminum support using a wire bar. Drying was performed at 115 ° C. for 34 seconds with a hot air dryer to obtain a lithographic printing plate precursor. The coating amount after drying was 1.4 g / m 2 .

<感光層塗布液[P−1]>
・赤外線吸収剤(IR−1) 0.074g
・重合開始剤(OS−12) 0.280g
・添加剤(PM−1) 0.151g
・重合性化合物(AM−1) 1.00g
・特定バインダーポリマー(BT−1) 1.00g
・エチルバイオレット(C−1) 0.04g
・フッ素系界面活性剤 0.015g
(メガファックF−780−F 大日本インキ化学工業(株)、
メチルイソブチルケトン(MIBK)30質量%溶液)
・メチルエチルケトン 10.4g
・メタノール 4.83g
・1−メトキシ−2−プロパノール 10.4g
<Photosensitive layer coating solution [P-1]>
・ Infrared absorber (IR-1) 0.074g
-Polymerization initiator (OS-12) 0.280g
・ Additive (PM-1) 0.151g
・ Polymerizable compound (AM-1) 1.00 g
・ Specific binder polymer (BT-1) 1.00g
・ Ethyl violet (C-1) 0.04g
・ Fluorine-based surfactant 0.015g
(Megafuck F-780-F Dainippon Ink and Chemicals,
Methyl isobutyl ketone (MIBK) 30% by mass solution)
・ Methyl ethyl ketone 10.4g
・ Methanol 4.83g
・ 10.4 g of 1-methoxy-2-propanol

なお、上記感光層塗布液に用いた重合開始剤(OS−12)は、前述の一般式(1)で表されるオニウム塩の化合物例として挙げられているものを指す。また、赤外線吸収剤(IR−1)、添加剤(PM−1)、重合性化合物(AM−1)、バインダーポリマー(BT−1)、及びエチルバイオレット(C−1)の構造を以下に示す。   In addition, the polymerization initiator (OS-12) used for the said photosensitive layer coating liquid refers to what is mentioned as a compound example of the onium salt represented by the above-mentioned general formula (1). The structures of the infrared absorber (IR-1), additive (PM-1), polymerizable compound (AM-1), binder polymer (BT-1), and ethyl violet (C-1) are shown below. .

Figure 2007076330
Figure 2007076330

(保護層)
前述の感光層表面に、合成雲母(ソマシフME−100、8%水分散液、コープケミカル(株)製)と、ケン化度が91モル%以上の特定ポリビニルアルコール(ゴーセランCKS−50:ケン化度99モル%、重合度300、スルホン酸変性ポリビニルアルコール日本合成化学工業株式会社製)と、界面活性剤(日本エマルジョン社製、エマレックス710)と、の混合水溶液(保護層用塗布液)をワイヤーバーで塗布し、温風式乾燥装置にて125℃75秒間乾燥させた。
この混合水溶液(保護層用塗布液)中の、雲母固形分/特定ポリビニルアルコール/界面活性剤の含有量割合は、18/80/2(質量%)であり、全塗布量は(乾燥後の被覆量)は1.6g/m2であった。
これにより、塗工ウェブを作成した。
(Protective layer)
Synthetic mica (Somasif ME-100, 8% aqueous dispersion, manufactured by Coop Chemical Co., Ltd.) and specific polyvinyl alcohol having a saponification degree of 91 mol% or more (Goselan CKS-50: saponification) 99 mol%, polymerization degree 300, sulfonic acid-modified polyvinyl alcohol Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.) and a surfactant (Nihon Emulsion Co., Emalex 710) mixed aqueous solution (coating solution for protective layer) It apply | coated with the wire bar and it was made to dry with 125 degreeC 75 second with a warm air type drying apparatus.
The content ratio of mica solid content / specific polyvinyl alcohol / surfactant in this mixed aqueous solution (protective layer coating solution) is 18/80/2 (mass%), and the total coating amount is (after drying). The coating amount was 1.6 g / m 2 .
This created a coated web.

下記のように塗工ウェブをカットした。合紙を挟まない、厚さ0.3mm、幅90cmのコイル状の塗工ウェブを幅80cmに、図1のスリッタ装置と図2の裁断刃を用いて、上側裁断刃と下側裁断刃との隙間(D)を表1に示すように設定して、両端を連続してスリットした。その後、110cmに裁断し(110×80cm)、平版印刷版原版を得た。このプレートのダレ高さ(X)及び切欠部面積(Y)は表1に示す通りであった。   The coated web was cut as follows. A slitting device of FIG. 1 and a cutting blade of FIG. 2 are used to form a coiled coating web having a thickness of 0.3 mm and a width of 90 cm, with no interleaving paper interposed therebetween, and a width of 80 cm. The gap (D) was set as shown in Table 1, and both ends were continuously slit. Thereafter, it was cut into 110 cm (110 × 80 cm) to obtain a lithographic printing plate precursor. The sagging height (X) and the notch area (Y) of this plate were as shown in Table 1.

得られた平版印刷版原版を、合紙を挟まずに積層し、Creo社製Trendsetter800II Quantumにて、解像度2400dpi、外面ドラム回転数200rpm、出力0〜8Wの範囲でlogEで0.15ずつ変化させて露光した。なお、露光は25℃50%RHの条件下で行った。
露光後、加熱処理、水洗処理は行わず、富士フイルム(株)社製自動現像機LP−1310HIIを用い搬送速度(ライン速度)2m/分、現像温度30℃で現像処理した。なお、現像液はDH−Nの1:4水希釈液を用い、現像補充液はFCT−421の1:1.4水希釈、フィニッシャーは富士フイルム(株)社製GN−2Kの1:1水希釈液を用いた。
The obtained lithographic printing plate precursor was laminated without interposing the interleaving paper, and was changed by 0.15 at log E within a range of resolution 2400 dpi, external drum rotation speed 200 rpm, output 0-8 W with a Trendsetter 800II Quantum manufactured by Creo. And exposed. The exposure was performed under conditions of 25 ° C. and 50% RH.
After the exposure, neither heat treatment nor water washing treatment was performed, and development was performed at a conveyance speed (line speed) of 2 m / min and a development temperature of 30 ° C. using an automatic developing machine LP-1310HII manufactured by FUJIFILM Corporation. The developer used was a 1: 4 water diluted solution of DH-N, the developer replenisher was diluted 1: 1.4 water of FCT-421, and the finisher was 1: 1 of GN-2K manufactured by FUJIFILM Corporation. A water dilution was used.

印刷機は東京機械(株)製の4色タワー型輪転機CT7000(17万機)、インキは大日本インキ(株)製新聞用インキ、湿し水は東洋インキ(株)製新聞用ニュースキングアルキー(pH=10.2)、紙は王子製紙製“苫小牧”(重さ44g/m2)、ブランケットは金陽社MP−75R、2.07mmを用い、10万部印刷した後、印刷版の端部に相当する部分の汚れ以下の基準で目視官能評価した。
○:実用上好ましいレベル
△:実用下限レベル
×:実用上不可レベル
The printing machine is a four-color tower-type rotary press CT7000 (170,000 machines) manufactured by Tokyo Kikai Co., Ltd., the ink is Dainippon Ink Co., Ltd. newspaper ink, and the dampening water is Toyo Ink Co., Ltd. Newspaper News King. After printing 100,000 copies using Alky (pH = 10.2), Oji Paper's “Tomakomai” (weight: 44 g / m 2 ), blanket using Kinyo MP-75R, 2.07 mm, Visual sensory evaluation was performed based on the standard below the contamination corresponding to the end.
○: Practically preferred level △: Practical lower limit level ×: Impractical level

セッター搬送性は、NEC社製AMIZSETTERにて、搬送速度が120版/時の条件で150版連続処理し、150枚全て問題なく搬送できたか否かを以下の基準で評価した。
○:すべて問題なく搬送できた
△:うまく搬送できなかったものが3枚以下であった
×:うまく搬送できなかったものが3枚より多かった
The setter transportability was evaluated according to the following criteria as to whether or not 150 plates could be continuously processed without problems with AMIZSETTER manufactured by NEC under the condition that the transport speed was 120 plates / hour.
○: All could be conveyed without any problem △: Three or fewer sheets could not be conveyed successfully ×: More than three sheets could not be conveyed successfully

Figure 2007076330
Figure 2007076330

表1からわかるように、無機層状化合物を保護層に有する塗工ウェブを、合紙を介さずに裁断したものは、いずれも印刷端部汚れが発生しない、または発生しても実用レベル以上のものであった(実施例1〜11)。しかし、無機層状化合物を保護層に有さない塗工ウェブを、合紙を介さずに切断したものは、著しい端部汚れが発生し、実用上問題となる(比較例1)。また、合紙を介して裁断した場合は、その後の合紙除去工程が必要となり、本発明の目的を達成し得ない(比較例2)。   As can be seen from Table 1, none of the coated webs having the inorganic layered compound in the protective layer cut without intervening interstitial paper, or even if they occur, are above the practical level. (Examples 1 to 11). However, when the coated web having no inorganic layered compound in the protective layer is cut without interposing the interleaf, significant edge contamination occurs and becomes a practical problem (Comparative Example 1). Moreover, when it cuts through an interleaf, the subsequent interleaf removal process is needed and the objective of this invention cannot be achieved (comparative example 2).

スリッタ装置の裁断部を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the cutting part of a slitter apparatus. 本発明の下側裁断刃の先端部形状の一実施態様を示す斜視図である。It is a perspective view which shows one embodiment of the front-end | tip part shape of the lower side cutting blade of this invention. 図2における下側裁断刃の先端部形状のA部の拡大図である。It is an enlarged view of A part of the front-end | tip part shape of the lower side cutting blade in FIG. 本発明の感光性平版印刷版端部の一実施態様の形状を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the shape of one embodiment of the photosensitive lithographic printing plate edge part of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

10a、10b……上側裁断刃
11……回転軸
20(20a、20b)……下側裁断刃
21……回転軸
25……下側裁断刃
30……平版印刷版
10a, 10b ...... Upper cutting blade 11 ... Rotating shaft 20 (20a, 20b) ... Lower cutting blade 21 ... Rotating shaft 25 ... Lower cutting blade 30 ... Lithographic printing plate

Claims (4)

親水性表面を有するアルミニウム支持体上に、感光層、無機層状化合物を含む保護層をこの順に積層した塗工ウェブを、裁断部材で板厚方向に挟み付けて裁断することで製造される平版印刷版原版の製造方法であって、前記塗工ウェブの保護層表面に合紙を介在させることなく裁断することを特徴とする平版印刷版原版の製造方法。   Lithographic printing produced by cutting a coated web in which a photosensitive layer and a protective layer containing an inorganic stratiform compound are laminated in this order on an aluminum support having a hydrophilic surface, and sandwiched in the plate thickness direction by a cutting member. A method for producing a lithographic printing plate precursor, characterized in that it is cut without interleaving paper on the surface of the protective layer of the coated web. 前記裁断部材が、上下1組の裁断刃を有し、上側裁断刃と下側裁断刃との間隔を30〜100μmの範囲に設定して、塗工ウェブを所定サイズに裁断することを特徴とする請求項1に記載の平版印刷版原版の製造方法。   The cutting member has a pair of upper and lower cutting blades, the interval between the upper cutting blade and the lower cutting blade is set in a range of 30 to 100 μm, and the coating web is cut into a predetermined size. The method for producing a lithographic printing plate precursor as claimed in claim 1. 前記感光層が、下記(イ)〜(ニ)の各成分を含有する重合性ネガ型感光層であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の平版印刷版原版の製造方法。
(イ)赤外線吸収剤
(ロ)重合開始剤
(ハ)重合性化合物
(ニ)バインダーポリマー
The method for producing a lithographic printing plate precursor according to claim 1 or 2, wherein the photosensitive layer is a polymerizable negative photosensitive layer containing the following components (a) to (d).
(B) Infrared absorber (b) Polymerization initiator (c) Polymerizable compound (d) Binder polymer
親水性表面を有するアルミニウム支持体上に、感光層、無機層状化合物を含む保護層をこの順に設けた平版印刷版原版において、対向する2辺もしくは4辺の端部が感光層側から下面側に湾曲しており、端部にそって表面から離れる方向に曲げられて形成された湾曲面を有し、断面における湾曲部の裁断ダレ高さが30〜200μmであり、該湾曲部の切欠部面積が200〜100000μmであることを特徴とする平版印刷版原版。 In a lithographic printing plate precursor in which a photosensitive layer and a protective layer containing an inorganic stratiform compound are provided in this order on an aluminum support having a hydrophilic surface, the opposing two or four side edges are from the photosensitive layer side to the lower surface side. It has a curved surface that is curved and bent in a direction away from the surface along the end, the cutting sag height of the curved portion in the cross section is 30 to 200 μm, and the notch area of the curved portion Is a lithographic printing plate precursor, characterized in that it is 200 to 100,000 μm 2 .
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WO2015119089A1 (en) * 2014-02-04 2015-08-13 富士フイルム株式会社 Lithographic printing plate precursor, manufacturing method therefor, plate manufacturing method for lithographic printing plate, and printing method

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015119089A1 (en) * 2014-02-04 2015-08-13 富士フイルム株式会社 Lithographic printing plate precursor, manufacturing method therefor, plate manufacturing method for lithographic printing plate, and printing method
JPWO2015119089A1 (en) * 2014-02-04 2017-03-23 富士フイルム株式会社 Planographic printing plate precursor and method for producing the same, planographic printing plate making method, and printing method
JP2018114759A (en) * 2014-02-04 2018-07-26 富士フイルム株式会社 Lithographic printing plate raw plate and manufacturing method therefor, manufacturing method of lithographic printing plate, and printing method
US10668764B2 (en) 2014-02-04 2020-06-02 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor, manufacturing method therefor, plate manufacturing method for lithographic printing plate, and printing method

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