JP4848684B2 - Method for producing high-purity 4-fluoro-1,3-dioxolan-2-one - Google Patents
Method for producing high-purity 4-fluoro-1,3-dioxolan-2-one Download PDFInfo
- Publication number
- JP4848684B2 JP4848684B2 JP2005188381A JP2005188381A JP4848684B2 JP 4848684 B2 JP4848684 B2 JP 4848684B2 JP 2005188381 A JP2005188381 A JP 2005188381A JP 2005188381 A JP2005188381 A JP 2005188381A JP 4848684 B2 JP4848684 B2 JP 4848684B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- dioxolan
- fluoro
- purity
- recrystallization
- crude
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Description
本発明は、二次電池用の溶媒や添加剤、医農薬製造用の中間体等に有用な４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンの製造方法に関する。 The present invention relates to a method for producing 4-fluoro-1,3-dioxolan-2-one useful as a solvent or additive for a secondary battery, an intermediate for producing a pharmaceutical or agrochemical, and the like.
４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンはリチウムイオン電池等の二次電池、
あるいは電気二重層キャパシタ用の溶媒、添加剤として有望な化合物である。例えば、特許文献１には、該化合物を溶媒として用いたリチウムイオン二次電池が、フッ素置換されていない溶媒を用いた二次電池に比較して、充放電の電流効率が優れ、良好な充放電サイクル特性を示すことが開示されている。
4-fluoro-1,3-dioxolan-2-one is a secondary battery such as a lithium ion battery,
Alternatively, it is a promising compound as a solvent and additive for electric double layer capacitors. For example, Patent Document 1 discloses that a lithium ion secondary battery using the compound as a solvent has better charge / discharge current efficiency and better chargeability than a secondary battery using a solvent not substituted with fluorine. It is disclosed to exhibit discharge cycle characteristics.
４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンの製造方法としては、次のものが知られている。
［１］４−クロロ−１，３−ジオキソラン−２−オンに、乾燥条件下で等モルのフッ化カリウムを加え反応させ、次いで蒸留する方法（特許文献２）。本方法によれば、７０％以上の収率で４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンが得られると記載されている。
［２］「エチレンカーボネートの融解液か、エチレンカーボネートの無水ＨＦ溶液」に、「Ｆ2ガスまたは、Ｆ2ガスと不活性ガスの混合ガス」を導入し、温度−２０〜１００℃で反応させる方法（特許文献３）。該文献によると、無水ＨＦを過剰に共存させた条件下では比較的高い選択率で目的化合物が得られる。さらに、該反応をアセトニトリル溶媒中で行う方法も知られている（特許文献４）。
[1] A method of reacting 4-chloro-1,3-dioxolan-2-one with equimolar potassium fluoride under dry conditions, followed by distillation (Patent Document 2). According to this method, it is described that 4-fluoro-1,3-dioxolan-2-one can be obtained with a yield of 70% or more.
[2] “F 2 gas or a mixed gas of F 2 gas and inert gas” is introduced into “melt of ethylene carbonate or anhydrous HF solution of ethylene carbonate” and reacted at a temperature of −20 to 100 ° C. Method (Patent Document 3). According to this document, the target compound can be obtained with a relatively high selectivity under the condition where anhydrous HF is excessively present. Furthermore, a method of performing the reaction in an acetonitrile solvent is also known (Patent Document 4).
上記［１］の方法によれば、安価に入手できるフッ化カリウムをフッ素化剤として、高収率で４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンを製造できる。フッ素化剤が固体であるため、操作も比較的容易である。しかしながら、この方法では、原料として４−クロロ−１，３−ジオキソラン−２−オンを使用するために、反応終了後の粗４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オン中に、「塩素根」が共存するという問題があった。ここで「塩素根」とは、原料である４−クロロ−１，３−ジオキソラン−２−オン、ならびに副生する塩化水素（ＨＣｌ）、さらには４−クロロ−１，３−ジオキソラン−２−オン中に不純物として共存し得る塩素（Ｃｌ2）など、「塩素原子（Ｃｌ）または塩化物イオン（Ｃｌ-）を含む化学種」を総称する。「塩素根」が残留した４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンを電気デバイス用途に使用すると、電気デバイスのサイクル特性が低下することがある。しかしながら、特許文献２に開示されている、反応後の蒸留精製では「塩素根」を十分に除去することができなかった。また該フッ素化は、反応変換率を完全に１００％にすることは困難で、原料の４−クロロ−１，３−ジオキソラン−２−オンを反応によって完全に消費することも難しい。 According to the method [1], 4-fluoro-1,3-dioxolan-2-one can be produced in high yield using potassium fluoride, which is available at a low cost, as a fluorinating agent. Since the fluorinating agent is a solid, the operation is relatively easy. However, in this method, since 4-chloro-1,3-dioxolan-2-one is used as a raw material, in the crude 4-fluoro-1,3-dioxolan-2-one after completion of the reaction, “chlorine” There was a problem that "roots" coexist. Here, “chlorine root” means 4-chloro-1,3-dioxolan-2-one as a raw material, hydrogen chloride (HCl) as a by-product, and 4-chloro-1,3-dioxolane-2- “Chemical species containing chlorine atoms (Cl) or chloride ions (Cl − )” such as chlorine (Cl 2 ) that can coexist as impurities in the ON are collectively referred to. When 4-fluoro-1,3-dioxolan-2-one in which the “chlorine root” remains is used for an electric device, the cycle characteristics of the electric device may be deteriorated. However, the “chlorine root” cannot be sufficiently removed by distillation purification after the reaction disclosed in Patent Document 2. Further, in the fluorination, it is difficult to make the reaction conversion rate completely 100%, and it is also difficult to completely consume the raw material 4-chloro-1,3-dioxolan-2-one by the reaction.
これに対し、上記［２］の方法は、エチレンカーボネートを、フッ素（Ｆ2）ガスで直接フッ素化するため、「塩素根」が系内に混入する恐れはない。しかしこの方法は、高価なフッ素ガスをフッ素源とするため、経済的には不利である。さらに、この直接的なフッ素化は、元来選択率の低い反応で、目的物の他に、異なる部位がフッ素化を受けた化合物、複数部位がフッ素化を受けた化合物が副生しやすく、系内の不純物プロフィールが複雑になる。選択性を高めるためには、大過剰量のＨＦを共存させて反応を行う必要があり、反応後の精製が煩雑になるという問題があった。 On the other hand, since the method [2] directly fluorinates ethylene carbonate with fluorine (F 2 ) gas, there is no possibility that “chlorine root” is mixed into the system. However, this method is economically disadvantageous because expensive fluorine gas is used as the fluorine source. Furthermore, this direct fluorination is originally a reaction with low selectivity. In addition to the target product, a compound in which different sites have undergone fluorination and a compound in which multiple sites have undergone fluorination are easily produced as by-products. Impurity profile in the system is complicated. In order to increase the selectivity, it is necessary to carry out the reaction in the presence of a large excess of HF, and there is a problem that purification after the reaction becomes complicated.
このように、高純度４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンを製造するための従来の方法は、大規模で製造するためには十分とはいえず、改善が求められていた。 Thus, the conventional method for producing high-purity 4-fluoro-1,3-dioxolan-2-one is not sufficient for producing on a large scale, and improvement has been demanded.
本発明者らは、かかる問題点に鑑み、高純度の４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンを工業的に生産するための方法につき、鋭意検討をした。その結果、粗４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンを、比誘電率が２．０〜３．５である有機溶媒から再結晶すると、不純物として共存する「塩素根」を、著しく高い効率で除去でき、高純度４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンを製造できるという知見を得た。該有機溶媒としては、トルエンが、特に好ましいことも見出した。 In view of such problems, the present inventors have intensively studied a method for industrially producing high-purity 4-fluoro-1,3-dioxolan-2-one. As a result, when crude 4-fluoro-1,3-dioxolan-2-one is recrystallized from an organic solvent having a relative dielectric constant of 2.0 to 3.5, the “chlorine root” that coexists as impurities is significantly reduced. It was found that it can be removed with high efficiency and that high-purity 4-fluoro-1,3-dioxolan-2-one can be produced. It has also been found that toluene is particularly preferable as the organic solvent.
本発明が特にそのメリットを発揮するのは、４−クロロ−１，３−ジオキソラン−２−オンを、フッ化カリウムと、アセトニトリル中、無水条件下で接触させて、粗４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンを製造する場合である。前述のように、本反応は操作が容易であり、選択率、収率も高いというメリットを有する一方で、反応混合物中に「塩素根」が相当量混入する結果となる。しかし上述の再結晶を行うことにより、この「塩素根」をごく容易に、電気デバイス用途に要求される濃度以下に低減できることとなった。とりわけ、この再結晶操作を２回以上行うと「塩素根」低減の効果が著しいことも判明した。 The present invention is particularly advantageous in that 4-chloro-1,3-dioxolan-2-one is brought into contact with potassium fluoride in acetonitrile under anhydrous conditions to give crude 4-fluoro-1, This is the case of producing 3-dioxolan-2-one. As described above, this reaction has the advantages of being easy to operate and having high selectivity and high yield, while resulting in a considerable amount of “chlorine root” being mixed into the reaction mixture. However, by performing the above-mentioned recrystallization, the “chlorine root” can be reduced very easily to a concentration lower than that required for electrical device applications. In particular, it has been found that the effect of reducing "chlorine roots" is remarkable when this recrystallization operation is performed twice or more.
これらの知見の結果、高純度４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンが従来技術に比較して、経済的にも、操作的にも、有利に製造できることとなった。 As a result of these findings, high-purity 4-fluoro-1,3-dioxolan-2-one can be advantageously produced economically and operationally compared to the prior art.
すなわち、本発明は、次の［発明１］〜［発明５］を骨子とする、高純度４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンの製造方法である。 That is, the present invention is a method for producing high-purity 4-fluoro-1,3-dioxolan-2-one based on the following [Invention 1] to [Invention 5 ].
［発明１］次の各工程を含む、高純度４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンの製造方法。
第１工程（フッ素化工程）：４−クロロ−１，３−ジオキソラン−２−オンをフッ化カリウムと、アセトニトリル中、無水条件下で接触させて、粗４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンを得る工程。
第２工程（精製工程）：前記第１工程で得られた粗４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンを、トルエンから再結晶して、共存する塩素根を除去し、高純度４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンを得る工程。
[Invention 1 ] A process for producing high-purity 4-fluoro-1,3-dioxolan-2-one, comprising the following steps.
First step (fluorination step): 4-chloro-1,3-dioxolan-2-one is contacted with potassium fluoride in acetonitrile under anhydrous conditions to give crude 4-fluoro-1,3-dioxolane- Obtaining 2-one.
Second step (purification step): The crude 4-fluoro-1,3-dioxolan-2-one obtained in the first step is recrystallized from toluene to remove coexisting chlorine radicals, and high purity 4 -Obtaining fluoro-1,3-dioxolan-2-one.
［発明２］再結晶を５℃以下の温度で行うことを特徴とする、発明１に記載の、高純度４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンの製造方法。 [Invention 2 ] The process for producing high-purity 4-fluoro-1,3-dioxolan-2- one according to Invention 1 , wherein recrystallization is performed at a temperature of 5 ° C. or lower.
［発明３］再結晶を少なくとも２回行うことを特徴とする、発明１又は発明２に記載の、高純度４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンの製造方法。 [Invention 3 ] The process for producing high-purity 4-fluoro-1,3-dioxolan-2- one according to Invention 1 or Invention 2 , wherein recrystallization is performed at least twice.
［発明４］蒸留精製を併せて行うことを特徴とする、発明１乃至発明３の何れかに記載の、高純度４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンの製造方法。 [Invention 4 ] The process for producing high-purity 4-fluoro-1,3-dioxolan-2-one according to any one of Inventions 1 to 3 , wherein distillation purification is performed together.
［発明５］次の各工程を含む、高純度４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンの製造方法。
第１工程（フッ素化工程）：４−クロロ−１，３−ジオキソラン−２−オンをフッ化カリウムと、アセトニトリル中、無水条件下で接触させて、粗４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンを得る工程。
第２工程（精製工程）：前記第１工程で得られた粗４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンを、トルエンを溶媒として、５℃以下の温度で少なくとも２回再結晶して、共存する塩素根を除去し、併せて蒸留精製を行う工程。
[Invention 5 ] A process for producing high-purity 4-fluoro-1,3-dioxolan-2-one comprising the following steps.
First step (fluorination step): 4-chloro-1,3-dioxolan-2-one is contacted with potassium fluoride in acetonitrile under anhydrous conditions to give crude 4-fluoro-1,3-dioxolane- Obtaining 2-one.
Second step (purification step): The crude 4-fluoro-1,3-dioxolan-2-one obtained in the first step was recrystallized at least twice at a temperature of 5 ° C. or lower using toluene as a solvent. The process of removing coexisting chlorine roots and performing distillation purification together.
本発明によると、塩素成分を含まない、高純度の４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンを、従来技術よりも効率よく製造できる。とりわけ、安価で入手できる４−クロロ−１，３−ジオキソラン−２−オンをフッ化カリウムによってフッ素化して得られた粗４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンから、不純物として共存する「塩素根」を容易に除去できるため、経済的にも大きなメリットを奏する。 According to the present invention, high-purity 4-fluoro-1,3-dioxolan-2-one containing no chlorine component can be produced more efficiently than in the prior art. In particular, it coexists as an impurity from crude 4-fluoro-1,3-dioxolan-2-one obtained by fluorinating 4-chloro-1,3-dioxolan-2-one, which is available at low cost, with potassium fluoride. Since the “chlorine root” can be easily removed, there is a great economic advantage.
以下、本発明につき、さらに詳細に説明する。まず本発明において、「高純度４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オン」とは、「塩素根」の含有量（４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オン中の全塩素濃度）が概ね１００ｐｐｍ以下のものを指し、好ましくは５０ｐｐｍ以下のもの、さらに好ましくは２０ｐｐｍ以下のものをいう。本発明の再結晶は「塩素根」の含量を低減させるのに十分な効果があるため、再結晶の回数や条件を適宜調整することで、「塩素根」含有量がこれらの条件を満たす「高純度４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オン」を容易に製造できる。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail. First, in the present invention, “high purity 4-fluoro-1,3-dioxolan-2-one” means the content of “chlorine root” (total chlorine in 4-fluoro-1,3-dioxolan-2-one (Concentration) is generally 100 ppm or less, preferably 50 ppm or less, more preferably 20 ppm or less. Since the recrystallization of the present invention has a sufficient effect for reducing the content of “chlorine root”, the content of “chlorine root” satisfies these conditions by appropriately adjusting the number and conditions of recrystallization. High purity 4-fluoro-1,3-dioxolan-2-one "can be easily produced.
本発明の再結晶精製に供する粗４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンとしては、安価に入手できる４−クロロ−１，３−ジオキソラン−２−オンを、フッ化カリウムと、アセトニトリル中、無水条件下で接触させて、粗４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンを得ることが好ましい。 As crude 4-fluoro-1,3-dioxolan-2-one used for recrystallization purification of the present invention, 4-chloro-1,3-dioxolan-2-one, which is available at a low price, potassium fluoride and acetonitrile among is contacted under anhydrous conditions, it is preferable to obtain the crude 4-fluoro-1,3-dioxolan-2-one.
そこで本明細書では、４−クロロ−１，３−ジオキソラン−２−オンをフッ化カリウムと反応させて、粗４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンを得る工程（フッ素化工程）を「第１工程」と呼び、引き続いて、この粗４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンを、再結晶を含む精製操作に付す工程（精製工程）を「第２工程」と呼び、順に説明を加えることにする。 Therefore, in the present specification, a step of reacting 4-chloro-1,3-dioxolan-2-one with potassium fluoride to obtain crude 4-fluoro-1,3-dioxolan-2-one (fluorination step) Is referred to as "first step", and subsequently, the step of subjecting this crude 4-fluoro-1,3-dioxolan-2-one to a purification operation including recrystallization (purification step) is referred to as "second step". A description will be added in order.
本発明の概要を、下記のスキームにまとめる。 The outline of the present invention is summarized in the following scheme.
まず第１工程について、説明する。第１工程は、４−クロロ−１，３−ジオキソラン−２−オンを、フッ化カリウムと、アセトニトリル中、無水条件下で接触させて、粗４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンを得る工程である。第１工程は、特許文献２に記載された条件にならって実施すればよいが、ここではその方法、条件を詳しく説明する。 First, the first step will be described. The first step involves contacting 4-chloro-1,3-dioxolan-2-one with potassium fluoride in acetonitrile under anhydrous conditions to give crude 4-fluoro-1,3-dioxolan-2-one. It is the process of obtaining. The first step may be performed according to the conditions described in Patent Document 2, but here, the method and conditions will be described in detail.
まず、第１工程の原料である４−クロロ−１，３−ジオキソラン−２−オンの製造方法については、特別な制限はないが、エチレンカーボネートをラジカル開始剤の存在下、光照射下、または熱時条件下で、塩素ガス（Ｃｌ2）と反応させることで容易に得ることができ、それが最も経済的である。得られた４−クロロ−１，３−ジオキソラン−２−オンは、通常の有機合成に用いられる精製手段によって、純度を９５％以上に高めた上で反応原料に供することが好ましい。 First, the production method of 4-chloro-1,3-dioxolan-2-one that is a raw material in the first step is not particularly limited, but ethylene carbonate is used in the presence of a radical initiator, under light irradiation, or It can be easily obtained by reacting with chlorine gas (Cl 2 ) under hot conditions, which is the most economical. The obtained 4-chloro-1,3-dioxolan-2-one is preferably used as a reaction raw material after its purity is increased to 95% or more by a purification means used in ordinary organic synthesis.
第１工程における「無水条件」とは、フッ化金属等の試薬として無水の試薬を用い、かつ、脱水溶媒を使用することで達成される。具体的には水分が１００ｐｐｍ以下の条件を言い、５０ｐｐｍ以下がより好ましい。 The “anhydrous condition” in the first step is achieved by using an anhydrous reagent as a reagent such as a metal fluoride and using a dehydrating solvent. Specifically, the condition is that moisture is 100 ppm or less, and 50 ppm or less is more preferable.
第１工程に用いられるフッ化カリウムは、前述のように無水試薬が好ましく、工業的に、しかも安価に入手できる無水フッ化カリウムが特に好ましい。無水フッ化カリウムの形状・製法に特に制限は無いが、スプレードライ品が最も良い結果を与えるので特に好ましい。フッ化カリウムの量は、４−クロロ−１，３−ジオキソラン−２−オン１モルに対して、通常１モル以上用いるが、十分な収率で目的物を得るためには、１〜２モルが好ましく、１〜１．５モルが特に好ましい。２モルを超えて用いると、反応に関与しないフッ化カリウムが増え、経済的に不利となるため、好ましくない。 Potassium fluoride used in the first step, rather preferably anhydrous reagent as described above, industrially, inexpensively anhydrous potassium fluoride available is particularly preferred. Although there is no restriction | limiting in particular in the shape and manufacturing method of anhydrous potassium fluoride, since a spray-dried product gives the best result, it is especially preferable. The amount of potassium fluoride is usually 1 mol or more based on 1 mol of 4-chloro-1,3-dioxolan-2-one, but in order to obtain the desired product in sufficient yield, 1 to 2 mol 1 to 1.5 mol is particularly preferable. If it is used in excess of 2 moles, potassium fluoride not involved in the reaction is increased, which is disadvantageous economically.
第１工程の反応は、酸性条件に耐える反応装置を用い、４−クロロ−１，３−ジオキソラン−２−オンとフッ化カリウムをスラリー状にして攪拌しながら接触させると、特に円滑に実施できる。この際、副生物として塩化水素が発生するため、順次パージし、系内から除去することが好ましい。 The reaction in the first step can be carried out particularly smoothly by using a reaction device that can withstand acidic conditions and contacting 4-chloro-1,3-dioxolan-2-one and potassium fluoride in a slurry state while stirring. . At this time, since hydrogen chloride is generated as a by-product, it is preferable to sequentially purge and remove from the system.
第１工程の反応は、溶媒の存在下行う。溶媒としては、フッ化カリウムを溶解させる作用の高い、極性有機溶媒を用いると、特に反応速度が高まり好ましい。具体的には、アセトニトリルである。 The reaction in the first step is performed in the presence of a solvent . As the solvent, it is preferable to use a polar organic solvent having a high action of dissolving potassium fluoride because the reaction rate is particularly increased. Specifically, it is acetonitrile.
第１工程の反応の温度は通常２０℃〜１５０℃であるが、溶媒を用いる場合には２０℃〜使用する溶媒の沸点までである。好ましくは４０℃〜１２０℃、より好ましくは６０℃〜１００℃である。 The temperature of the reaction in the first step is usually 20 ° C. to 150 ° C., but when a solvent is used, it is 20 ° C. to the boiling point of the solvent used. Preferably it is 40 to 120 degreeC, More preferably, it is 60 to 100 degreeC.
第１工程の反応の反応時間に特別な制限はないが、ガスクロマトグラフィー等の手法によって、原料の４−クロロ−１，３−ジオキソラン−２−オンの消費が十分に進み、もはや反応が進行しないことを確認してから終了するのが望ましい。 Although there is no particular limitation on the reaction time of the reaction in the first step, consumption of the raw material 4-chloro-1,3-dioxolan-2-one is sufficiently advanced by the method such as gas chromatography, and the reaction no longer proceeds. It is desirable to finish after confirming that it does not.
続いて、第２工程について説明する。第２工程は、粗４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンの精製工程で、粗４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンをトルエンから再結晶する操作によりなる。この結果として、「塩素根」が粗４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンから除去され、高純度４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンを得ることができる。 Subsequently, the second step will be described. The second step is a purification step of crude 4-fluoro-1,3-dioxolan-2-one, and comprises an operation of recrystallizing crude 4-fluoro-1,3-dioxolan-2-one from toluene . As a result, the “chlorine root” is removed from the crude 4-fluoro-1,3-dioxolan-2-one, and high-purity 4-fluoro-1,3-dioxolan-2-one can be obtained.
第２工程の再結晶においては、トルエンを有機溶媒として用いる。トルエンを用いると、「塩素根」を効果的に除去できるだけでなく、再結晶を通じた回収率もごく高い値となるため、好ましい。 In recrystallization in the second step, toluene is used as the organic solvent. Use of toluene is preferable because it not only effectively removes “chlorine roots” but also has a very high recovery rate through recrystallization.
この溶媒は、単独で使用する。 This solvent is used alone .
比誘電率が３．５よりも大きい有機溶媒を用いると、４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンの溶解度が著しく増大し、再結晶が難しくなる。逆に比誘電率が２．０よりも小さい有機溶媒を用いると、４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンの溶解度が極端に低下し、やはり再結晶操作が難しくなる。トルエンを用いた場合に、特異的に良好な再結晶がなし得、「塩素根」の効果的な除去が達成できる。 When an organic solvent having a relative dielectric constant larger than 3.5 is used, the solubility of 4-fluoro-1,3-dioxolan-2-one is remarkably increased and recrystallization becomes difficult. On the other hand, when an organic solvent having a relative dielectric constant smaller than 2.0 is used, the solubility of 4-fluoro-1,3-dioxolan-2-one is extremely lowered and the recrystallization operation becomes difficult. When toluene is used, specifically good recrystallization can be achieved and effective removal of “chlorine roots” can be achieved.
溶媒の使用量は、溶媒の比誘電率によって異なるが、粗４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オン１ｇあたり、通常０．５〜２０ｇであり、０．７〜６ｇが好ましく、０．８〜３ｇが特に好ましい。 The amount of the solvent used varies depending on the relative dielectric constant of the solvent, but is usually 0.5 to 20 g per 1 g of crude 4-fluoro-1,3-dioxolan-2-one, preferably 0.7 to 6 g, 0 .8-3g is particularly preferred.
再結晶の操作手順に特別な制限はないが、例えば次のように行うことができる。まず、粗４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンを、２０℃〜使用する溶媒の沸点（より好ましくは５０〜１００℃）の温度で、再結晶溶媒に攪拌しながら十分溶解させる。次いで、攪拌を維持したまま０．１〜１０ｄｅｇ／ｈで徐々に降温する。所定の温度に達したら攪拌を維持したまま、結晶の成長を待つ。この温度は、通常１０℃以下であるが、５℃以下とすると「塩素根」の除去効率が特に良好となる。なお、温度の下限値には特に制限がなく、各々の溶媒の融点以上であればよい。しかし、あまり温度が低くとも、再結晶の効率が向上するわけではなく、エネルギー的に不利なので、下限値は通常−５０℃、より好ましくは−３０℃である。以上のことから、再結晶の温度は通常−５０〜＋１０℃、より好ましくは−３０〜＋５℃である。 Although there is no special restriction | limiting in the operation procedure of recrystallization, For example, it can carry out as follows. First, crude 4-fluoro-1,3-dioxolan-2-one is sufficiently dissolved in a recrystallization solvent with stirring at a temperature of 20 ° C. to the boiling point of the solvent used (more preferably 50 to 100 ° C.). Next, the temperature is gradually lowered at 0.1 to 10 deg / h while maintaining stirring. When the predetermined temperature is reached, the growth of crystals is waited while maintaining stirring. This temperature is usually 10 ° C. or lower, but if it is 5 ° C. or lower, the removal efficiency of “chlorine roots” is particularly good. In addition, there is no restriction | limiting in particular in the lower limit of temperature, What is necessary is just more than melting | fusing point of each solvent. However, even if the temperature is too low, the efficiency of recrystallization does not improve and is disadvantageous in terms of energy, so the lower limit is usually −50 ° C., more preferably −30 ° C. From the above, the recrystallization temperature is usually −50 to + 10 ° C., more preferably −30 to + 5 ° C.
なお、再結晶に際しては、高純度４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンの種結晶を加えることもできる。しかし本発明の再結晶は、極端な過冷却を伴わず円滑に進行するので、種結晶は必須ではない。 In the recrystallization, a seed crystal of high purity 4-fluoro-1,3-dioxolan-2-one can be added. However, since the recrystallization of the present invention proceeds smoothly without extreme supercooling, a seed crystal is not essential.
第２工程の再結晶は１度行うだけであっても、十分大きな「塩素根」除去の効果を示す（実施例を参照）が、２回以上繰り返すと、特に大きな効果を生じる。したがって、要求される「塩素根」含量に応じて、２回以上、再結晶操作を繰り返すことが特に好ましい。 Even if the recrystallization in the second step is performed only once, a sufficiently large “chlorine root” removal effect is shown (see Examples), but when the recrystallization is repeated twice or more, a particularly large effect is produced. Therefore, it is particularly preferable to repeat the recrystallization operation two or more times depending on the required “chlorine root” content.
このような方法で析出した結晶は、その後濾過等の手法により分取することができる。また、再結晶溶媒を除いた後、再度融解させて容器外に回収することもできる。回収された高純度４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンの結晶は低極性溶媒（例えば、ヘキサン、ヘプタン等）で洗浄することができ、その後、減圧脱気するなどの操作により、これらの低極性溶媒を除けば、電気デバイス用に適した４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンの製品を回収することができる。 Crystals precipitated by such a method can then be collected by a technique such as filtration. Further, after removing the recrystallization solvent, it can be melted again and recovered outside the container. The recovered crystals of high-purity 4-fluoro-1,3-dioxolan-2-one can be washed with a low polarity solvent (for example, hexane, heptane, etc.), and then subjected to an operation such as degassing under reduced pressure. By removing these low-polarity solvents, 4-fluoro-1,3-dioxolan-2-one products suitable for electrical devices can be recovered.
しかしながら、より安定した品質の４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンを得るためには、上記再結晶操作と併せて、精密蒸留を行うことが一層好ましい。精密蒸留は、上記再結晶の前後の何れに行っても良いが、溶媒成分、固形分を除去できるというメリットを活かすため、再結晶の後（精製の最終段階）に行うのが特に効果的である。精密蒸留は段数２〜１０段程度、還流比３〜１５程度で行うのが好ましい。精密蒸留は減圧下で行うのが好ましく、１ｋＰａ〜３ｋＰａが特に好ましい。この圧力下では、４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンは７０℃〜１１０℃で主留分として留出する。 However, in order to obtain 4-fluoro-1,3-dioxolan-2-one with more stable quality, it is more preferable to perform precision distillation in combination with the recrystallization operation. Precision distillation may be performed before or after the recrystallization, but it is particularly effective to carry out after recrystallization (final stage of purification) in order to take advantage of the ability to remove solvent components and solids. is there. The precision distillation is preferably carried out at about 2 to 10 stages and a reflux ratio of about 3 to 15. The precision distillation is preferably carried out under reduced pressure, particularly preferably 1 kPa to 3 kPa. Under this pressure, 4-fluoro-1,3-dioxolan-2-one distills as a main fraction at 70 to 110 ° C.
ただし、精密蒸留それ自体の「塩素根」除去効果は小さい。特に、「塩素根」含量が低いサンプルを蒸留する場合、除去効果は一層小さい。すなわち本発明の対象とする、高純度の高純度４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンを得るためには、再結晶が必須であり、精密蒸留はそれに付随して行われるべきものである。 However, precision distillation itself has a small “chlorine root” removal effect. In particular, when a sample having a low “chlorine root” content is distilled, the removal effect is even smaller. That is, in order to obtain a high-purity high-purity 4-fluoro-1,3-dioxolan-2-one, which is the subject of the present invention, recrystallization is essential, and precision distillation should be performed concomitantly. It is.
これまでに述べた知見から、本発明を次の２工程を組み合わせて実施することは特に好ましい態様の１つといえる。
第１工程（フッ素化工程）：４−クロロ−１，３−ジオキソラン−２−オンをフッ化カリウムと、アセトニトリル中、無水条件下で接触させて、粗４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンを得る工程。
第２工程（精製工程）：前記第１工程で得られた粗４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンを、トルエンを溶媒として、５℃以下の温度で少なくとも２回再結晶して、共存する塩素根を除去し、併せて蒸留精製を行う工程。
From the knowledge described so far, it can be said that it is one of the particularly preferable embodiments to carry out the present invention by combining the following two steps.
First step (fluorination step): 4-chloro-1,3-dioxolan-2-one is contacted with potassium fluoride in acetonitrile under anhydrous conditions to give crude 4-fluoro-1,3-dioxolane- Obtaining 2-one.
Second step (purification step): The crude 4-fluoro-1,3-dioxolan-2-one obtained in the first step was recrystallized at least twice at a temperature of 5 ° C. or lower using toluene as a solvent. The process of removing coexisting chlorine roots and performing distillation purification together.
［実施例］以下、実施例により、本発明を更に具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。 [Examples] The present invention will be described more specifically with reference to the following examples. However, the present invention is not limited to these examples.
なお、組成分析はガスクロマトグラフィーで実施した。ガスクロマトグラフ分析値（％）は、溶媒が残存している場合は溶媒をカットし、下記の数値として算出した。 The composition analysis was performed by gas chromatography. The gas chromatographic analysis value (%) was calculated as the following numerical value after the solvent was cut when the solvent remained.
ガスクロマトグラフ分析値（％）
＝（該当化合物のピーク面積）／（全面積−残留溶媒ピーク面積）×１００
全塩素量（「塩素根」含量）は、フラスコ燃焼法により、反応混合物または４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オン中に存在しているＣｌ成分を全てＣｌ-に変換した後、Ｃｌ-イオン濃度を陰イオン液体クロマトグラフィーによって測定し、下記の値として算出した。
Gas chromatographic analysis value (%)
= (Peak area of the compound of interest) / (total area-residual solvent peak area) * 100
The total chlorine content (“chlorine root” content) is determined by converting all Cl components present in the reaction mixture or 4-fluoro-1,3-dioxolan-2-one to Cl − by flask combustion, The Cl − ion concentration was measured by anion liquid chromatography and calculated as the following value.
全塩素量（ｐｐｍ）：４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オン１ｇ中に含まれる塩素原子（Ｃｌ）のグラム数に１０6を乗じた値。 Total chlorine content (ppm): A value obtained by multiplying 10 6 by the number of grams of chlorine atom (Cl) contained in 1 g of 4-fluoro-1,3-dioxolan-2-one.
粗４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンの製造（第１工程）
撹拌機能を備えた１００Ｌの反応器に、４−クロロ−１，３−ジオキソラン−２−オン（「Ｃｌ−ＥＣ」と呼ぶ）１１．５６ｋｇ（９４．４ｍｏｌ、１．０当量）とアセトニトリル４５Ｌ、フッ化カリウム（スプレードライ品）６．６０ｋｇ（１１４ｍｏｌ、１．２当量）を仕込み、内温８０℃〜８５℃で１１時間攪拌した。反応液を冷却した後、反応で生じた塩化カリウムを濾別し、濾紙上の塩化カリウムはアセトニトリル１２Ｌで洗浄した。濾液と洗浄液を混合し、濃縮して溶媒を留去し、粗４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オン（「Ｆ−ＥＣ」と呼ぶ）を１０．０ｋｇ得た。この粗Ｆ−ＥＣを分析したところ、目的とするＦ−ＥＣの含量は８７．５％であり、原料のＣｌ−ＥＣの含量は０．１％。副生物であるビニレンカーボネート（「ＶＣ」と呼ぶ）とエチレンカーボネート（「ＥＣ」と呼ぶ）の含量はそれぞれ５．９％、４．１％であった。反応混合物中の全塩素量は４５００ｐｐｍであった。
Production of crude 4-fluoro-1,3-dioxolan-2-one (first step)
In a 100 L reactor equipped with a stirring function, 11.56 kg (94.4 mol, 1.0 equivalent) of 4-chloro-1,3-dioxolan-2-one (referred to as “Cl-EC”) and 45 L of acetonitrile, Potassium fluoride (spray-dried product) 6.60 kg (114 mol, 1.2 equivalents) was charged and stirred at an internal temperature of 80 ° C. to 85 ° C. for 11 hours. After cooling the reaction solution, potassium chloride generated by the reaction was filtered off, and the potassium chloride on the filter paper was washed with 12 L of acetonitrile. The filtrate and the washing solution were mixed and concentrated to remove the solvent to obtain 10.0 kg of crude 4-fluoro-1,3-dioxolan-2-one (referred to as “F-EC”). When this crude F-EC was analyzed, the content of the target F-EC was 87.5%, and the content of the raw material Cl-EC was 0.1%. The contents of by-products vinylene carbonate (referred to as “VC”) and ethylene carbonate (referred to as “EC”) were 5.9% and 4.1%, respectively. The total chlorine content in the reaction mixture was 4500 ppm.
４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンの再結晶（第２工程）
撹拌機能を備えた５００ｍｌの四つ口フラスコに、第１工程により得られた粗Ｆ−ＥＣ１００ｇ（全塩素量４５００ｐｐｍ）と３００ｇのトルエンを仕込み、７０℃に加熱して完全に溶解させた。次いで撹拌しながら、１時間当り５℃の速度で５℃まで冷却した。その後０℃から５℃に維持したまま３時間攪拌し、目的物の結晶を成長させた。その後、結晶を濾別し、５℃のヘキサンで２回洗浄した後、加熱融解し、液体を回収した。その結果、７２％の回収率でＦ−ＥＣの結晶が得られた。当該結晶中のＦ−ＥＣの純度は９９．７７％であり、全塩素量は６５ｐｐｍであった。
Recrystallization of 4-fluoro-1,3-dioxolan-2-one (second step)
A 500 ml four-necked flask equipped with a stirring function was charged with 100 g of crude F-EC obtained in the first step (total chlorine amount 4500 ppm) and 300 g of toluene, and heated to 70 ° C. to completely dissolve. It was then cooled to 5 ° C. at a rate of 5 ° C. per hour with stirring. Thereafter, the mixture was stirred for 3 hours while maintaining the temperature at 0 ° C. to 5 ° C. to grow the target crystal. Thereafter, the crystals were separated by filtration, washed twice with hexane at 5 ° C., and then melted by heating to recover a liquid. As a result, F-EC crystals were obtained with a recovery rate of 72%. The purity of F-EC in the crystals was 99.77%, and the total chlorine content was 65 ppm.
４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンの再結晶（第２工程）
実施例１（第２工程）と同一の装置を用い、溶媒として「トルエン３００ｇ」の代わりに、「トルエン２８０ｇ」を用いた他は同一の条件で、粗Ｆ−ＥＣ １００ｇ（塩素根含量４５００ｐｐｍ）の再結晶を行った。その結果、７５％の回収率でＦ−ＥＣの結晶が得られた。当該結晶中のＦ−ＥＣの純度は９９．４８％であり、全塩素量は７８ｐｐｍであった。
Recrystallization of 4-fluoro-1,3-dioxolan-2-one (second step)
Using the same apparatus as in Example 1 (second step), 100 g of crude F-EC (chlorine root content 4500 ppm) under the same conditions except that “toluene 280 g” was used instead of “toluene 300 g” as a solvent. Was recrystallized. As a result, F-EC crystals were obtained with a recovery rate of 75%. The purity of F-EC in the crystals was 99.48%, and the total chlorine content was 78 ppm.
４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンの再結晶（第２工程）
実施例１（第２工程）と同一の装置を用い、溶媒として「トルエン３００ｇ」の代わりに、「トルエン２５０ｇ」を用いた他は同一の条件で、粗Ｆ−ＥＣ １００ｇ（塩素根含量４５００ｐｐｍ）の再結晶を行った。その結果、７３％の回収率でＦ−ＥＣが得られ、当該結晶中のＦ−ＥＣの純度は９９．３９％であり、全塩素量は８０ｐｐｍであった。
Recrystallization of 4-fluoro-1,3-dioxolan-2-one (second step)
Using the same apparatus as in Example 1 (second step), 100 g of crude F-EC (chlorine root content 4500 ppm) under the same conditions except that “toluene 250 g” was used instead of “toluene 300 g” as a solvent. Was recrystallized. As a result, F-EC was obtained with a recovery rate of 73%, the purity of F-EC in the crystals was 99.39%, and the total chlorine content was 80 ppm.
４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンの再結晶（第２工程）
撹拌機能を備えた１００ｍｌの四つ口フラスコにトルエン５０ｇを仕込み、５℃まで冷却した。その後実施例３で得られたＦ−ＥＣ ２０ｇ（全塩素量８０ｐｐｍ）を撹拌しながら、０℃から５℃に温度を維持したまま滴下した。その後０℃から５℃に温度を維持したまま１時間攪拌した。そして固体を濾別し、５℃のヘキサンで２回洗浄した後、加熱融解し、液体を回収した。その結果、８５％の回収率でＦ−ＥＣが得られ、当該結晶中のＦ−ＥＣの純度は９９．９２％であり、全塩素量は９ｐｐｍであった。
［比較例１］
Recrystallization of 4-fluoro-1,3-dioxolan-2-one (second step)
A 100 ml four-necked flask equipped with a stirring function was charged with 50 g of toluene and cooled to 5 ° C. Thereafter, 20 g of F-EC obtained in Example 3 (total chlorine content 80 ppm) was added dropwise while maintaining the temperature from 0 ° C. to 5 ° C. while stirring. Thereafter, the mixture was stirred for 1 hour while maintaining the temperature from 0 ° C to 5 ° C. The solid was separated by filtration, washed twice with hexane at 5 ° C., and then melted by heating to recover the liquid. As a result, F-EC was obtained with a recovery rate of 85%, the purity of F-EC in the crystals was 99.92%, and the total chlorine content was 9 ppm.
[Comparative Example 1]
４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンの再結晶（第２工程）
実施例１（第２工程）と同一の装置を用い、溶媒として「トルエン３００ｇ」の代わりに、「トルエン３００ｇと酢酸エチル１００ｇの混合溶媒」を用いた他は同一の条件で、粗Ｆ−ＥＣ １００ｇ（塩素根含量４５００ｐｐｍ）の再結晶を行った。その結果、２５％の回収率でＦ−ＥＣが得られ、当該結晶中のＦ−ＥＣの純度は９９．５０％であり、全塩素量は８５ｐｐｍであった。
Recrystallization of 4-fluoro-1,3-dioxolan-2-one (second step)
Using the same apparatus as in Example 1 (second step), instead of “300 g of toluene” as the solvent, “Frequency of crude F-EC under the same conditions except that“ mixed solvent of 300 g of toluene and 100 g of ethyl acetate ”was used. Recrystallization of 100 g (chlorine root content 4500 ppm) was performed. As a result, F-EC was obtained with a recovery rate of 25%, the purity of F-EC in the crystals was 99.50%, and the total chlorine content was 85 ppm.
このように、「トルエン／酢酸エチル混合溶媒」でも再結晶によって全塩素量は大幅に低減できたが、酢酸エチルの極性が相対的に高いことに起因して、回収率が低下した。
［比較例２］蒸留のみによる精製
実施例１（第１工程）で得られたＦ−ＥＣ（全塩素量４５００ｐｐｍ）２００ｇを粗蒸留（９４℃〜９９℃／２．５ｋＰａ）して４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オン１４８ｇ（回収率７４％）を得た。この蒸留で得られた留分を分析したところ、目的とする４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンの含量は９３．０％であり、４−クロロ−１，３−ジオキソラン−２−オンの含量は０．２％。副生物であるＶＣとＥＣの含量はそれぞれ２．２％、１．９％であった。この留分を４段の蒸留塔を使用し、還流比２〜５で精密蒸留して、Ｆ−ＥＣ ９９ｇ（回収率６７％）を得た。このＦ−ＥＣを分析したところ、目的とするＦ−ＥＣの含量は９９．７％であった。全塩素量は１９７ｐｐｍであった。
As described above, even with the “toluene / ethyl acetate mixed solvent”, the total chlorine amount could be significantly reduced by recrystallization, but the recovery rate was lowered due to the relatively high polarity of ethyl acetate.
[Comparative Example 2 ] Purification by distillation only 200 g of F-EC (total chlorine amount 4500 ppm) obtained in Example 1 (first step) was roughly distilled (94 ° C to 99 ° C / 2.5 kPa) to give 4-fluoro. 148 g of -1,3-dioxolan-2-one (recovery 74%) was obtained. When the fraction obtained by this distillation was analyzed, the content of the desired 4-fluoro-1,3-dioxolan-2-one was 93.0%, and 4-chloro-1,3-dioxolane-2 -The content of ON is 0.2%. The contents of VC and EC as by-products were 2.2% and 1.9%, respectively. This fraction was subjected to precision distillation using a four-stage distillation column at a reflux ratio of 2 to 5 to obtain 99 g of F-EC (recovery: 67%). When this F-EC was analyzed, the content of the target F-EC was 99.7%. The total chlorine content was 197 ppm.
得られたＦ−ＥＣに対し、同様の蒸留精製を繰り返し行ったが、全塩素量は１５６ｐｐｍにまでしか低減しなかった。
［比較例３］酢酸エチルを用いた再結晶
撹拌機能を備えた５００ｍｌの四つ口フラスコに、実施例１（第１工程）で得られた粗Ｆ−ＥＣ １０ｇ（全塩素量４５００ｐｐｍ）と３０ｇの酢酸エチルを仕込み、６０℃に加熱して完全に溶解させた。次いで撹拌しながら、１時間当り５℃の速度で５℃まで冷却した。その後０℃から５℃に維持したまま３時間攪拌したが、結晶を得ることはできなかった。
The same distillation purification was repeated for the obtained F-EC, but the total chlorine content was reduced only to 156 ppm.
[Comparative Example 3 ] Recrystallization using ethyl acetate In a 500 ml four-necked flask equipped with a stirring function, 10 g of crude F-EC obtained in Example 1 (first step) (total chlorine amount 4500 ppm) and 30 g Of ethyl acetate and heated to 60 ° C. for complete dissolution. It was then cooled to 5 ° C. at a rate of 5 ° C. per hour with stirring. Thereafter, the mixture was stirred for 3 hours while maintaining the temperature at 0 ° C. to 5 ° C., but crystals could not be obtained.
本比較例は、実施例１の１／１０の規模で、トルエン（比誘電率２．３８）の代わりに、極性がわずかに大きい酢酸エチル（比誘電率６．０２）を用いて行ったものであるが、再結晶を効果的に行うことはできなかった。 This comparative example was carried out using 1/10 scale of Example 1 using ethyl acetate (relative permittivity 6.02) having slightly higher polarity instead of toluene (relative permittivity 2.38). However, recrystallization could not be performed effectively.
Claims (5)
第１工程（フッ素化工程）：４−クロロ−１，３−ジオキソラン−２−オンをフッ化カリウムと、アセトニトリル中、無水条件下で接触させて、粗４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンを得る工程。
第２工程（精製工程）：前記第１工程で得られた粗４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンを、トルエンから再結晶して、共存する塩素根を除去し、高純度４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンを得る工程。 A method for producing high-purity 4-fluoro-1,3-dioxolan-2-one, comprising the following steps.
First step (fluorination step): 4-chloro-1,3-dioxolan-2-one is contacted with potassium fluoride in acetonitrile under anhydrous conditions to give crude 4-fluoro-1,3-dioxolane- Obtaining 2-one.
Second step (purification step): The crude 4-fluoro-1,3-dioxolan-2-one obtained in the first step is recrystallized from toluene to remove coexisting chlorine radicals, and high purity 4 -Obtaining fluoro-1,3-dioxolan-2-one.
第１工程（フッ素化工程）：４−クロロ−１，３−ジオキソラン−２−オンをフッ化カリウムと、アセトニトリル中、無水条件下で接触させて、粗４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンを得る工程。
第２工程（精製工程）：前記第１工程で得られた粗４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンを、トルエンを溶媒として、５℃以下の温度で少なくとも２回再結晶して、共存する塩素根を除去し、併せて蒸留精製を行う工程。 A method for producing high-purity 4-fluoro-1,3-dioxolan-2-one, comprising the following steps.
First step (fluorination step): 4-chloro-1,3-dioxolan-2-one is contacted with potassium fluoride in acetonitrile under anhydrous conditions to give crude 4-fluoro-1,3-dioxolane- Obtaining 2-one.
Second step (purification step): The crude 4-fluoro-1,3-dioxolan-2-one obtained in the first step was recrystallized at least twice at a temperature of 5 ° C. or lower using toluene as a solvent. The process of removing coexisting chlorine roots and performing distillation purification together.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2005188381A JP4848684B2 (en) | 2005-06-28 | 2005-06-28 | Method for producing high-purity 4-fluoro-1,3-dioxolan-2-one |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2005188381A JP4848684B2 (en) | 2005-06-28 | 2005-06-28 | Method for producing high-purity 4-fluoro-1,3-dioxolan-2-one |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2007008826A JP2007008826A (en) | 2007-01-18 |
| JP4848684B2 true JP4848684B2 (en) | 2011-12-28 |
Family
ID=37747782
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2005188381A Expired - Fee Related JP4848684B2 (en) | 2005-06-28 | 2005-06-28 | Method for producing high-purity 4-fluoro-1,3-dioxolan-2-one |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4848684B2 (en) |
Families Citing this family (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5061635B2 (en) * | 2007-02-15 | 2012-10-31 | ダイキン工業株式会社 | Process for producing 4-fluoro-1,3-dioxolan-2-one |
| CN100558721C (en) * | 2007-06-01 | 2009-11-11 | 张家港市华盛化学有限公司 | The preparation method of fluoric cyclic carbonate |
| JP5135926B2 (en) * | 2007-07-13 | 2013-02-06 | ダイキン工業株式会社 | Process for producing 4-fluoro-1,3-dioxolan-2-one |
| JP5600876B2 (en) * | 2008-02-28 | 2014-10-08 | ダイキン工業株式会社 | Process for producing 4-fluoro-1,3-dioxolan-2-one |
| JP5358974B2 (en) * | 2008-02-28 | 2013-12-04 | ダイキン工業株式会社 | Method for producing fluorinated 1,3-dioxolan-2-one |
| US8519161B2 (en) * | 2008-06-30 | 2013-08-27 | Daikin Industries, Ltd. | Process for preparing fluoropropylene carbonate |
| CN101676282A (en) * | 2008-09-16 | 2010-03-24 | 中国科学院福建物质结构研究所 | Method for synthesizing fluorinated ethylene carbonate |
| TW201105646A (en) * | 2009-05-28 | 2011-02-16 | Solvay Fluor Gmbh | Process for the preparation of 4-fluoro-4-R-5-R'-1,3-dioxolane-2-ones |
| JP5698443B2 (en) * | 2009-06-02 | 2015-04-08 | 三菱化学株式会社 | Non-aqueous electrolyte and non-aqueous electrolyte secondary battery |
| CN101597275B (en) * | 2009-07-16 | 2012-05-30 | 太仓华一化工科技有限公司 | Method for purifying fluoroethylene carbonate |
| CN102596930A (en) * | 2009-10-21 | 2012-07-18 | 苏威氟有限公司 | Method for the manufacture of fluorinated ethylene carbonates |
| CN102060838A (en) * | 2010-12-31 | 2011-05-18 | 浙江华晶氟化学科技有限公司 | Method for preparing fluoroethylene carbonate |
| CN114163412B (en) * | 2021-11-30 | 2023-03-14 | 苏州华一新能源科技股份有限公司 | Preparation process of fluoroethylene carbonate and lithium battery applying fluoroethylene carbonate |
| CN114632486A (en) * | 2022-03-18 | 2022-06-17 | 山东惟普新能源有限公司 | Device and method capable of continuously synthesizing fluoroethylene carbonate |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1998015024A1 (en) * | 1996-10-03 | 1998-04-09 | National Research Council Of Canada | Electrolyte comprising fluoro-ethylene carbonate and propylene carbonate, for alkali metal-ion secondary battery |
| JP4531153B2 (en) * | 1999-04-28 | 2010-08-25 | 関東電化工業株式会社 | Process for producing 4-fluoro-1,3-dioxolan-2-one |
-
2005
- 2005-06-28 JP JP2005188381A patent/JP4848684B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2007008826A (en) | 2007-01-18 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4848684B2 (en) | Method for producing high-purity 4-fluoro-1,3-dioxolan-2-one | |
| JP4848683B2 (en) | Method for producing high-purity 4-fluoro-1,3-dioxolan-2-one | |
| EP3381923B1 (en) | Novel method for preparing lithium bis(fluorosulfonyl)imide | |
| KR101890787B1 (en) | Process for producing lithium bisfluorosulfonylimide | |
| JP5135926B2 (en) | Process for producing 4-fluoro-1,3-dioxolan-2-one | |
| JP5358974B2 (en) | Method for producing fluorinated 1,3-dioxolan-2-one | |
| US7208641B2 (en) | Method for producing 2,2,2-trifluoroethanol | |
| KR101004976B1 (en) | Potassium perfluoroalkanesulfonates and process for production thereof | |
| JP2008088135A (en) | Method for purifying quaternary imidazolium tetrafluoroborate and electric double layer capacitor using quaternary imidazolium tetrafluoroborate purified thereby | |
| JP2008195691A (en) | Manufacturing method of 4-fluoro-1,3-dioxolan-2-one | |
| JP5891598B2 (en) | Method for producing lithium fluorosulfonate and lithium fluorosulfonate | |
| JP6144077B2 (en) | Carbonate purification method | |
| JP6728731B2 (en) | Method for recovering hydrofluoric acid and nitric acid | |
| US9428521B2 (en) | Process for the production of a carbodiimide | |
| WO2012137813A1 (en) | Method for producing bis(perfluoroalkanesulfone)imide salt | |
| JP4993262B2 (en) | Method for purifying quaternary ammonium tetrafluoroborate and electric double layer capacitor using the same | |
| JP2012020970A (en) | Method for producing {3-(1-diphenylmethylazetidin-3-yl)ester-5-isopropyl ester 2-amino-1,4-dihydro-6-methyl-4-(3-nitrophenyl)-3,5-pyridinedicarboxylate} | |
| JP2012232888A (en) | Method for producing lithium fluorosulfonate, and lithium fluorosulfonate | |
| JP4322122B2 (en) | Method for purifying high-purity niobium compound and / or tantalum compound | |
| JP2018502858A (en) | Method for producing forodesin | |
| WO2016002773A1 (en) | Method for producing purified ionic complex | |
| WO2019044286A1 (en) | Method for producing perfluoroalkane sulfonylimide acid metal salt | |
| JP2000226361A (en) | Production of quaternary alkylammonium salt | |
| JP6002603B2 (en) | Method for producing high-purity optically active dialkyl ester of tartaric acid | |
| JP4542480B2 (en) | Method for producing maleonitriles |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080325 |
|
| RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20100325 |
|
| RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20100326 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110531 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110729 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110920 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20111003 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141028 Year of fee payment: 3 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |