JP4822826B2 - 粒子解析方法及び装置 - Google Patents
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(6)請求項6記載の発明は、試料に電子線を照射し、その電子線照射により試料から放出された電子を検出して視覚画像を得る走査型電子顕微鏡において、調整されたビーム電流のもとで、元素分析に必要な第1の計数時間を決定し、このビーム条件で輝度調整視野の画像信号を取得して制御装置にて基準となる第1のヒストグラムを作成し、該第1のヒストグラムより粒子検出に適した第1の閾値を決定し、試料ステージにて目的視野を順次移動して信号を取り込み、制御装置により前記第1の閾値で2値化を行ない、粒子解析を実行し、検出粒子に順次ビームを前記第1の計数時間照射し、X線検出器にて取得された特性X線に基づいて制御装置による粒子分類を行なう、ことを特徴とする粒子解析装置であって、定期的に試料ステージにて輝度調整視野に移動し、得られた信号から第2のヒストグラムを作成する手段と、制御装置にて基準となる前記第1のヒストグラムと、第2のヒストグラムとを比較して輝度変動量を計算する手段と、計算した輝度変動量から第2の閾値を算出する手段と、制御装置により、第1のヒストグラムと第2のヒストグラムとを比較してビーム変動量に応じた第2の計数時間を算出する手段と、試料ステージにて目的視野を順次移動して信号を取り込む手段と、制御装置により前記第2の閾値で2値化を行ない、粒子解析を実行する手段と、検出粒子に順次ビームを前記第2の計数時間照射し、X線検出器にて取得された特性X線に基づいて制御装置による粒子分析を行なう手段と、を備えることを特徴とする。
(4)請求項4記載の発明によれば、アラームを表示装置への表示、ブザーの鳴動、電話による通知の何れかで知らせることができる。
(6)請求項6記載の発明によれば、得られた第1のヒストグラムと該第2のヒストグラムとを比較して輝度変動量を計算し、該輝度変動量に応じた第2の計数時間を算出して算出された第2の計数時間ビームを照射して得られた特性X線から粒子分類を行なうことができる。
図1は本発明の一実施の形態例を示す構成図で、走査電子顕微鏡の構成例を示している。走査電子顕微鏡は、鏡筒部10と、試料室20と、操作観察部30とから構成されている。鏡筒部10において、1は電子銃、1aは電子銃1を構成するフィラメント、2は電子ビームを2次元方向にスキャンする偏向器、3は電子ビームを集束する集束レンズ、4はビーム電流を検出するファラデーカップ、11は該ファラデーカップ4で検出した電流を測定する電流計、5は試料上に電子ビームの焦点を合わせる対物レンズである。eは1次電子ビームである。
(実施の形態例1)
1.粒子解析画像の取得に適しており、かつ元素分析効率の高いビーム電流(ビーム強度)が得られるように、集束レンズ3を調整し、そのビーム電流の下で元素分析(元素分類)に必要な計数時間Toを決定する。
4.試料ステージ13をステージコントローラ25で制御し、目的視野を順次移動し、電子検出器14で試料12から放出された信号を読み込み、制御装置40で閾値So(以下、6.〜8.よるキャリブレーション後は閾値Si)で2値化(多値化)を行ない、粒子解析(粒子検出)を実行する。
(実施の形態例2)
1.実施の形態例2は、粒子解析画像の取得に適しており、かつ元素分析効率の高いビーム電流(ビーム強度)が得られるように、集束レンズ3を調整し、そのビーム電流のもとで元素分析に必要な計数時間Toと、粒子検出に適した輝度閾値Soを決定する。
3.試料ステージ13にて目的視野を順次移動し、制御装置40で閾値So(以下、5.〜6.によるキャリブレーション後は閾値Si)で粒子解析を実行する。
6.Si=So・Ii/Io,Ti=To・Io/Iiにて、閾値So及び測定時間Toを補正してSi,Tiとする。
以上、説明したように、この実施の形態例は、ヒストグラム測定の代わりに直接ビーム電流を測定し、ビーム変動を得るものである。この実施の形態例によれば、ヒストグラムを得ることなく、粒子解析、粒子分類を行なうことができる。
(実施の形態例3)
1.実施の形態例3は、粒子解析画像の取得に適しており、かつ元素分析効率の高いビーム電流(ビーム強度)が得られるように集束レンズ3を調整し、そのビーム電流のもとで、元素分析(粒子分類)に必要な計数時間Toを決定する。
3.1.項のビーム条件で輝度調整視野の画像信号を電子検出器14で取得し、基準となるヒストグラムHoを制御装置40にて作成する。
5.試料ステージ13にて目的視野を順次移動させ、電子検出器14で信号を取り込み、制御装置40で閾値So(以下、6.〜8.によるキャリブレーション後は閾値Si)で2値化(多値化)を行ない、粒子解析(粒子検出)を実行する。
7.定期的に試料ステージ13にて輝度調整視野に移動し、3.項と同様に信号を取得し、ヒストグラムHiを作成する。
この実施の形態例は、定期的にビーム変動をモニタし、変動許容値内かどうか確認することで、分類精度確保という目的を達成している。
以上、詳細に説明したように、本発明によれば、定期的に輝度変動量とビーム変動量のどちらか、又は両方を測定し、輝度閾値及び元素分析測定時間を補正することにより、長時間、最適な条件の下で効率よく粒子検出と分類を実行することが可能となる。
1a フィラメント
2 偏向コイル
3 集束レンズ
4 ファラデーカップ
5 対物レンズ
10 鏡筒部
11 電流計
12 試料
13 試料ステージ
14 電子検出器
15 X線検出器
21 フィラメント電源
22 偏向コイル電源
23 集束レンズ電源
24 対物レンズ電源
25 ステージコントローラ
30 操作観察部
40 制御装置
Claims (6)
- 試料に電子線を照射し、その電子線照射により試料から放出された電子を検出して視覚画像を得る走査型電子顕微鏡において、
調整されたビーム電流のもとで、元素分析に必要な第1の計数時間を決定し、
このビーム条件で輝度調整視野の画像信号を取得して制御装置にて基準となる第1のヒストグラムを作成すると共に基準X線強度を得、
該第1のヒストグラムより粒子検出に適した第1の閾値を決定し、
試料ステージにて目的視野を順次移動して信号を取り込み、
制御装置により前記第1の閾値で2値化を行ない、粒子解析を実行し、
検出粒子に順次ビームを前記第1の計数時間照射し、X線検出器にて取得された特性X線に基づいて制御装置による粒子分類を行なう、
ことを特徴とする粒子解析方法であって、
定期的に試料ステージにて輝度調整視野に移動し、得られた信号から第2のヒストグラムを作成し、
制御装置にて基準となる前記第1のヒストグラムと、第2のヒストグラムとを比較して輝度変動量を計算し、
計算した輝度変動量から第2の閾値を算出し、
制御装置により、前記基準X線強度と得られた第2のX線強度とを比較してビーム変動量に応じた第2の計数時間を算出し、
試料ステージにて目的視野を順次移動して信号を取り込み、
制御装置により前記第2の閾値で2値化を行ない、粒子解析を実行し、
検出粒子に順次ビームを前記第2の計数時間照射し、X線検出器にて取得された特性X線に基づいて制御装置による粒子分類を行なう、
ことを特徴とする粒子解析方法。 - 試料に電子線を照射し、その電子線照射により試料から放出された電子を検出して視覚画像を得る走査型電子顕微鏡において、
調整されたビーム電流のもとで、元素分析に必要な第1の計数時間を決定し、
このビーム条件で輝度調整視野の画像信号を取得して制御装置にて基準となる第1のヒストグラムを作成し、
該第1のヒストグラムより粒子検出に適した第1の閾値を決定し、
試料ステージにて目的視野を順次移動して信号を取り込み、
制御装置により前記第1の閾値で2値化を行ない、粒子解析を実行し、
検出粒子に順次ビームを前記第1の計数時間照射し、X線検出器にて取得された特性X線に基づいて制御装置による粒子分類を行なう、
ことを特徴とする粒子解析方法であって、
定期的に試料ステージにて輝度調整視野に移動し、得られた信号から第2のヒストグラムを作成し、
制御装置にて基準となる前記第1のヒストグラムと、第2のヒストグラムとを比較して輝度変動量を計算し、
計算した輝度変動量から第2の閾値を算出し、
制御装置により、第1のヒストグラムと第2のヒストグラムとを比較してビーム変動量に応じた第2の計数時間を算出し、
試料ステージにて目的視野を順次移動して信号を取り込み、
制御装置により前記第2の閾値で2値化を行ない、粒子解析を実行し、
検出粒子に順次ビームを前記第2の計数時間照射し、X線検出器にて取得された特性X線に基づいて制御装置による粒子分類を行なう、
ことを特徴とする粒子解析方法。 - 定期的にビーム変動をモニタして変動許容値以内かどうかチェックし、変動許容値を外れていたらアラームを出力することを特徴とする請求項1又は2記載の粒子解析方法。
- 前記アラームとして、表示装置への表示、ブザーの鳴動、電話による通知の何れかを用いることを特徴とする請求項3記載の粒子解析方法。
- 試料に電子線を照射し、その電子線照射により試料から放出された電子を検出して視覚画像を得る走査型電子顕微鏡において、
調整されたビーム電流のもとで、元素分析に必要な第1の計数時間を決定し、
このビーム条件で輝度調整視野の画像信号を取得して制御装置にて基準となる第1のヒストグラムを作成すると共に基準X線強度を得、
該第1のヒストグラムより粒子検出に適した第1の閾値を決定し、
試料ステージにて目的視野を順次移動して信号を取り込み、
制御装置により前記第1の閾値で2値化を行ない、粒子解析を実行し、
検出粒子に順次ビームを前記第1の計数時間照射し、X線検出器にて取得された特性X線に基づいて制御装置による粒子分類を行なう、
ことを特徴とする粒子解析装置であって、
定期的に試料ステージにて輝度調整視野に移動し、得られた信号から第2のヒストグラムを作成する手段と、
制御装置にて基準となる前記第1のヒストグラムと、第2のヒストグラムとを比較して輝度変動量を計算する手段と、
計算した輝度変動量から第2の閾値を算出する手段と、
制御装置により、前記基準X線強度と得られた第2のX線強度とを比較してビーム変動量に応じた第2の計数時間を算出する手段と、
試料ステージにて目的視野を順次移動して信号を取り込む手段と、
制御装置により前記第2の閾値で2値化を行ない、粒子解析を実行する手段と、
検出粒子に順次ビームを前記第2の計数時間照射し、X線検出器にて取得された特性X線に基づいて制御装置による粒子分類を行なう手段と、
を備えることを特徴とする粒子解析装置。 - 試料に電子線を照射し、その電子線照射により試料から放出された電子を検出して視覚画像を得る走査型電子顕微鏡において、
調整されたビーム電流のもとで、元素分析に必要な第1の計数時間を決定し、
このビーム条件で輝度調整視野の画像信号を取得して制御装置にて基準となる第1のヒストグラムを作成し、
該第1のヒストグラムより粒子検出に適した第1の閾値を決定し、
試料ステージにて目的視野を順次移動して信号を取り込み、
制御装置により前記第1の閾値で2値化を行ない、粒子解析を実行し、
検出粒子に順次ビームを前記第1の計数時間照射し、X線検出器にて取得された特性X線に基づいて制御装置による粒子分類を行なう、
ことを特徴とする粒子解析装置であって、
定期的に試料ステージにて輝度調整視野に移動し、得られた信号から第2のヒストグラムを作成する手段と、
制御装置にて基準となる前記第1のヒストグラムと、第2のヒストグラムとを比較して輝度変動量を計算する手段と、
計算した輝度変動量から第2の閾値を算出する手段と、
制御装置により、第1のヒストグラムと第2のヒストグラムとを比較してビーム変動量に応じた第2の計数時間を算出する手段と、
試料ステージにて目的視野を順次移動して信号を取り込む手段と、
制御装置により前記第2の閾値で2値化を行ない、粒子解析を実行する手段と、
検出粒子に順次ビームを前記第2の計数時間照射し、X線検出器にて取得された特性X線に基づいて制御装置による粒子分析を行なう手段と、
を備えることを特徴とする粒子解析装置。
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Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010060389A (ja) * | 2008-09-02 | 2010-03-18 | Horiba Ltd | 粒子解析装置、データ解析装置、x線分析装置、粒子解析方法及びコンピュータプログラム |
JP5865676B2 (ja) * | 2011-11-25 | 2016-02-17 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置 |
US8664595B2 (en) * | 2012-06-28 | 2014-03-04 | Fei Company | Cluster analysis of unknowns in SEM-EDS dataset |
JP5968131B2 (ja) * | 2012-07-10 | 2016-08-10 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 電子顕微鏡および電子顕微鏡による画像形成方法 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS646751A (en) * | 1987-02-28 | 1989-01-11 | Nippon Steel Corp | Quantification of inclusion and deposit |
JP2602287B2 (ja) * | 1988-07-01 | 1997-04-23 | 株式会社日立製作所 | X線マスクの欠陥検査方法及びその装置 |
JP2964597B2 (ja) * | 1990-09-21 | 1999-10-18 | 株式会社島津製作所 | 面分析における照射電流の変動補正法 |
JPH11233058A (ja) * | 1998-02-12 | 1999-08-27 | Hitachi Ltd | 電子顕微鏡 |
JP3732738B2 (ja) * | 2000-12-08 | 2006-01-11 | ファブソリューション株式会社 | 半導体デバイス検査装置 |
WO2003044821A1 (fr) * | 2001-11-21 | 2003-05-30 | Hitachi High-Technologies Corporation | Procede d'imagerie d'echantillon et systeme de faisceau de particules chargees |
AU2003255332A1 (en) * | 2002-07-30 | 2004-02-23 | Steinbeis-Transferzentrum Analytische Elektronenmikroskopie, Biomedizin, Biotechnologie-Heidelberg | Method and apparatus for multiple labeling detection and evaluation of a plurality of particles |
JP4498751B2 (ja) * | 2004-01-13 | 2010-07-07 | 日本電子株式会社 | 試料評価方法及び試料評価装置 |
JP4498817B2 (ja) * | 2004-05-14 | 2010-07-07 | 日本電子株式会社 | 元素濃度測定装置 |
-
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102621170A (zh) * | 2012-03-09 | 2012-08-01 | 湖北方圆环保科技有限公司 | 一种在能谱仪探测中自动确定测量时间的方法 |
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