JP4791248B2 - レーザー加工装置 - Google Patents
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Description
該レーザー光線照射手段は、レーザー光線発振手段と、該レーザー光線発振手段が発振するレーザー光線を伝送する光学伝送手段と、該光学伝送手段によって伝送されたレーザー光線を集光せしめる集光レンズとを含んでいる、レーザー加工装置において、
該光学伝送手段は、該レーザー光線発振手段が発振するレーザー光線を常光と異常光に分離する複屈折レンズを備え、
該集光レンズは、該複屈折レンズによって分離された常光と異常光をそれぞれ集光せしめ、常光の集光点と異常光の集光点とを形成する、
ことを特徴とするレーザー加工装置が提供される。
上記複屈折レンズは、所定の曲率を有する凸面を備えたガラス体と、該ガラス体の該凸面と対応する曲率を有する凹面を備えた結晶体とからなり、ガラス体の凸面と結晶体の凹面が結合して構成されている。
上記複屈折レンズと上記集光レンズとの間には、集光レンズに入射するレーザー光線の光軸を加工送り方向に変位せしめる複屈折偏向板が配設されていることが望ましい。複屈折偏向板は、所定の傾斜角度を有する傾斜面を備えた結晶体と、該結晶体の該傾斜面と対応する傾斜面を備えたガラス体とからなり、結晶体の傾斜面とガラス体の傾斜面が結合して構成されている。
また、上記レーザー光線発振手段と上記複屈折レンズとの間には、上記集光レンズによるレーザー光線の集光点深さ位置を変位せしめる集光点深さ変位手段が配設されていることが望ましい。
図2に示す実施形態は、図1に示す実施形態における方向変換ミラー71と複屈折レンズ72との間に二分の一波長板75を配設したものである。この二分の一波長板75は、偏光面を回動することによりパルスレーザー光線10のYVO4結晶体722の光学軸に対する入射角を変えることができる。このパルスレーザー光線10のYVO4結晶体722の光学軸に対する入射角を45度にすることにより、複屈折レンズ72によって分離される常光10aと異常光10bとの比率をそれぞれ50%にすることができる。
なお、図1および図2に示す実施形態における複屈折レンズ72はガラス体721が凸面721aを備え結晶体722が凹面722aを備えた例を示したが、ガラス体に凹面を備え結晶体に凸面を備えた構成にしてもよい。このこのように構成した場合には、異常光の集光点が常光の集光点より浅い位置(図1および図2において上方位置)、即ち光軸方向に集光レンズ8に近い位置となる。
光源 :LD励起QスイッチNd:YAGパルスレーザー
波長 :1064nm
パルス出力 :2.5μJ
集光スポット径 :φ1μm
パルス幅 :40ns
繰り返し周波数 :100kHz
加工送り速度 :100mm/秒
図4に示す光学伝送手段7は、上記図1に示す実施形態における複屈折レンズ72と集光レンズ8との間に集光レンズ8に入射するレーザー光線10の常光10aと異常光10bの光軸を加工送り方向Xに変位せしめる複屈折偏向板73を配設したものである。なお、図4に示す実施形態においては、複屈折偏向板73以外は上記図1に示すレーザー光線照射手段4の各構成要素を同一の構成であるため、同一部材には同一符号を付してその説明は省略する。
複屈折偏向板73は、図示の実施形態においてはYVO4結晶体731とLASF35ガラス体732とからなっている。YVO4結晶体は所定の傾斜角度(例えば3.5度)を有する面731aを備え、LASF35ガラス体732はYVO4結晶体731の傾斜面731aと対応する傾斜面732aを備えており、YVO4結晶体731の傾斜面731aとLASF35ガラス体732傾斜面732aが結合して構成されている。このように構成された複屈折偏向板73は、複屈折レンズ72によって分離されたパルスレーザー光線10の常光10aについては屈折させずにそのまま通過させ、異常光10bについては図4においてに左方に屈折させる。この結果、集光レンズ8は、常光10aについては被加工物であるウエーハ2の内部における集光点Paに集光せしめ、異常光10bについては常光10aの集光点Paに対して図4において矢印Xで示す加工送り方向に距離Sだけ左方に変位して被加工物であるウエーハ2の内部における集光点Pbに集光せしめる。この集光点Pbは、異常光10bが上述したように複屈折レンズ72によって外側に屈折せしめられているので、常光10aの集光点Paより深い位置(図4において下方位置)、即ち集光レンズ8から光軸方向に離れた位置となる。
図5に示す光学伝送手段7は、上記パルスレーザー光線発振手段5と方向変換ミラー71との間に集光点深さ変位手段74を配設したものである。なお、図5に示す実施形態においては、集光点深さ変位手段74以外は上記図4に示すレーザー光線照射手段4の各構成要素を同一の構成であるため、同一部材には同一符号を付してその説明は省略する。
図5に示す集光点深さ変位手段74は、間隔を置いて配設された第1の凸レンズ741および第2の凸レンズ742と、該第1の凸レンズ741と第2の凸レンズ742との間に配設された第1のミラー対743および第2のミラー対744とからなっている。第1のミラー対743は互いに平行に配設された第1のミラー743aと第2のミラー743bとからなり、該第1のミラー743aと第2のミラー743bは互いの間隔を維持した状態で図示しないミラー保持部材に固定されている。第2のミラー対744も互いに平行に配設された第1のミラー744aと第2のミラー744bとからなっており、該第1のミラー744aと第2のミラー744bは互いの間隔を維持した状態で図示しないミラー保持部材に固定されている。そして、図5に示す状態においては第1の凸レンズ741の焦点(f1)と第2の凸レンズ742の焦点(f2)が、第1のミラー対743の第2のミラー743bと第2のミラー対744の第1のミラー744aの間の集束点Dで一致するように構成されている。この状態においては、第2の凸レンズ742から方向変換ミラー71に向けて照射されるパルスレーザー光線10は平行となる。
3:チャックテーブル
4:レーザー光線照射手段
5:パルスレーザー光線発振手段
7:光学伝送手段
71: 方向変換ミラー
72:複屈折レンズ
721:LASF35ガラス体
722:YOV4結晶体
73:複屈折偏向板
731:YOV4結晶体
732:LASF35ガラス体
74:集光点深さ変位手段
741:第1の凸レンズ
742:第2の凸レンズ
743:第1のミラー対
744:第2のミラー対
75:二分の一波長板
8:集光レンズ
Claims (6)
- 被加工物を保持するチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持された被加工物に該被加工物に対して透過性を有するレーザー光線を照射するレーザー光線照射手段と、該チャックテーブルと該レーザー光線照射手段とを相対的に加工送りする加工送り手段とを具備し、
該レーザー光線照射手段は、レーザー光線発振手段と、該レーザー光線発振手段が発振するレーザー光線を伝送する光学伝送手段と、該光学伝送手段によって伝送されたレーザー光線を集光せしめる集光レンズとを含んでいる、レーザー加工装置において、
該光学伝送手段は、該レーザー光線発振手段が発振するレーザー光線を常光と異常光に分離する複屈折レンズを備え、
該集光レンズは、該複屈折レンズによって分離された常光と異常光をそれぞれ集光せしめ、常光の集光点と異常光の集光点とを形成する、
ことを特徴とするレーザー加工装置。 - 該光学伝送手段は、該レーザー光線発振手段と該複屈折レンズとの間に配設された波長板を備えている、請求項1記載のレーザー加工装置。
- 該複屈折レンズは、所定の曲率を有する凸面を備えたガラス体と、該ガラス体の該凸面と対応する曲率を有する凹面を備えた結晶体とからなり、該ガラス体の該凸面と該結晶体の該凹面が結合して構成されている、請求項1又は2記載のレーザー加工装置。
- 該複屈折レンズと該集光レンズとの間には、該集光レンズに入射するレーザー光線の光軸を加工送り方向に変位せしめる複屈折偏向板が配設されている、請求項1から3のいずれかに記載のレーザー加工装置。
- 該複屈折偏向板は、所定の傾斜角度を有する傾斜面を備えた結晶体と、該結晶体の該傾斜面と対応する傾斜面を備えたガラス体とからなり、該結晶体の該傾斜面と該ガラス体の該傾斜面が結合して構成されている、請求項1から4のいずれかに記載のレーザー加工装置。
- 該レーザー光線発振手段と該複屈折レンズとの間には、該集光レンズによるレーザー光線の集光点深さ位置を変位せしめる集光点深さ変位手段が配設されている、ことを特徴とする、請求項1から5のいずれかに記載のレーザー加工装置。
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