JP4790863B2 - 部分的に透明なシンチレータ基板を有する検出器、検査装置及びその製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、医療撮像の分野に関する。特に本発明は、関心対象の検査のための検出器、検査装置、及びそのような検出器を製造するための方法に関する。

現在のa-Si (a-Silicon)ベースのフラットX線検出器において、センサアレイのフォトダイオードを照らすためにリフレッシュ光がしばしば用いられる。リフレッシュ光は、a-Siアレイの裏面を介して適用され、ピクセルマトリクス中の開いた領域を介してアレイを通過する。

リフレッシュ光として紫外線(UV)光が用いられる場合、三次元再構成画像品質を改善するために、CsI(ヨウ化セシウム)のブライトバーン(brightburn)が緩和されることもできる。

新たなタイプのフラットX線検出器において、センサアレイの基板は、リフレッシュ光の意図された波長に対して不透明である場合がある。例えば単結晶シリコンがシンチレータによって生成される光を検出するためのセンサマトリクスとして用いられる場合、基板はこの光に対して完全に不透明である。

不透明な基板を備えた検出器を持つことは望ましく、検出器は改善された時間挙動を持つ。

本発明は、検出器、検査装置及び独立請求項による特徴を有するそのような検出器を生成する方法を提供する。

本発明の以下に説明される例示的な実施の形態は、検出器を生成する方法及び検査装置に適用されることに留意すべきである。

本発明の第１の態様によれば、検査装置による関心対象の検査のための検出器が提供され、検出器は基板及び反射層を有し、反射層は、シンチレータにおいて生成される光の一部をセンサアレイの方へ反射するように適応され、反射層がリフレッシュ光の波長及びシンチレータからの光の波長に対して部分的に透明であるように、反射層は、リフレッシュ光の波長に対して透明である複数のホールを有する。

本発明の文脈において、「基板」は、「シンチレータ基板」又は「センサアレイ基板」を指すことに留意すべきである。「基板」がシンチレータ基板を指す場合(変形例1)、検出器のシンチレータは、シンチレータ基板上に成長することができ、そしてセンサアレイに接着されることができる。「基板」がセンサアレイ基板(変形例2)を指す場合、シンチレータは、(今度はセンサアレイ基板上に成長した)センサアレイ上に直接成長することができる。この場合には、シンチレータ基板は存在する必要はない。

言い換えると、検出器フロントエンドの外部から(例えばシンチレータ基板の裏面から)、検出器のフロントエンドの内部への光の適用を可能にする検出器が提供される。(例えば紫外線光である)このリフレッシュ光は、反射層中の複数のホールを通過する。したがって、リフレッシュ光は、シンチレータのブライトバーンを改善することができる。

光収率及びシンチレータの変調伝達関数(MTF)が必要なレベルに維持されることができるように、シンチレータ基板は例えば半透明である。これは、基板とシンチレータとの間に不透明かつ例えば光を反射する層が設けられた、光に対して透明なシンチレータ基板によって達成されることができる。この層は、不透明な層に多くの小さなホールを開けることによって、部分的に透明にされる。

したがって、本発明の他の例示的な実施の形態によれば、反射層は、リフレッシュ光の波長に対して不透明である材料から成る。

言い換えると、反射層は、シンチレータによって生成される光を反射するように適応されていることができ、したがって検出器の収率を改善する。

本発明の他の例示的な実施の形態によれば、センサアレイ基板は、モノシリコン技術に基づいて生成されるモノシリコン基板である。

本発明の他の例示的な実施の形態によれば、センサアレイは複数のピクセルを有し、シンチレータ基板の反射層中の各々のホールの大きさは、センサアレイのピクセルのピクセルサイズの約10%未満である。

本発明の他の例示的な実施の形態によれば、反射層は表面を持ち、反射層の表面の一部はリフレッシュ光の波長に対して透明であり、反射層の表面のうちリフレッシュ光の波長に対して透明である部分は、反射層の表面の30%未満である。

したがって、ホールを介してシンチレータ材料に導入されることができる光の量は、シンチレータ及び/又はセンサ素子の必要な変化を成し遂げるために十分大きいことができる。同時に、基板及びホールを通して検出器のフロントエンドから失われる光の割合は、予定された小さな値に維持されて、検出器及び感度は予定されたレベルで影響を受けるだけである。

本発明の他の例示的な実施の形態によれば、反射層中の複数のホールは、レーザ除去プロセス又はリフトオフプロセスに基づいて生成される。

しかしながら、例えばドライエッチング技術のような他の種類のプロセスがホールを生成するために用いられることができることに留意すべきである。

本発明の他の例示的な実施の形態によれば、反射層及びシンチレータ基板は、一次放射線のわずかな部分のみを散乱又は吸収するように適応される。

したがって、検出器に入る大部分の放射線は、散乱又は吸収されることなく、反射層及びシンチレータ基板を通過する。

反射層のための材料として、アルミニウム又は銀が用いられることができる。シンチレータ基板は、アルミニウム又はアモルファス炭素から成ることができる。

本発明の他の例示的な実施の形態によれば、シンチレータ基板はガラス基板であり、検出器は、シンチレータ基板とセンサアレイとの間にハードシールを有し、ハードシールは、検出器のフロントエンドを周囲から封じるように適応される。

したがって、ガラス基板及びセンサアレイ(例えばガラス又はシリコン)が同程度の熱膨張率を持つので、ハードシールはシンチレータ基板とセンサアレイとの間に作成されることができる。

本発明の他の例示的な実施の形態によれば、検出器は、X線放射を検出するように適応されるフラット検出器である。

本発明のさらに別の例示的な実施の形態によれば、関心対象の検査のための検査装置が提供され、この検査装置は、基板及び反射層を持つ検出器を有し、反射層は、シンチレータにおいて生成される光の一部をセンサアレイの方へ反射するように適応され、反射層がリフレッシュ光の波長に対して部分的に透明であるように、反射層は、リフレッシュ光の波長に対して透明なように適応される複数のホールを有する。

本発明による検出器が改善されてより安定した感度を持つことができるので、そのような検出器は、多くの画像が撮られる間にX線光源/検出器配置が患者(分析される対象物)のまわりで回転する撮像アプリケーションにおいて、特に用いられることができる。それから、これらの画像は、患者/対象物の三次元画像を計算するために用いられる。そのような撮像装置は、例えば図4に示される。

さらに、本発明の他の例示的な実施の形態によれば、検査装置は、二次元X線撮像装置、コンピュータ断層撮影(CT)装置、コヒーレント散乱コンピュータ断層撮像(CSCT)装置、並びに、心臓撮像、血管撮像又はユニバーサルX線撮影及び蛍光透視撮像(URF撮像)のためのX線検査装置のうちの一つとして適応される。

本発明の応用分野は、医療撮像又は携行品調査又は非破壊試験であることができる。

本発明の他の例示的な実施の形態によれば、検査装置による関心対象の検査のための検出器のための部分的に透明な基板と反射層との組み合わせを生成するための方法が提供され、この方法は、シンチレータ基板を提供するステップ、シンチレータ基板上に反射層を堆積するステップ、及び反射層中に複数のホールを提供するステップを含み、ホールはリフレッシュ光の波長に対して透明であるように適応され、反射層は、シンチレータにおいて生成される光の一部をセンサアレイの方へ反射するように適応される。

反射層中のホールは、基板と反射層との組み合わせがリフレッシュ光の波長に対して部分的に透明であるように適応される。

本発明の他の例示的な実施の形態によれば、本方法は、シンチレータが成長する側のシンチレータ基板の表面構造を変えるステップをさらに含み、検出器の使用中の基板からのシンチレータの剥離を防止する表面粗さをもたらす。

本発明の他の例示的な実施の形態によれば、検査装置による関心対象の検査のための検出器のための、部分的に透明な基板と反射層との組み合わせを生成するための方法が提供され、本方法は、センサアレイ基板を提供するステップ、センサアレイ基板上にセンサアレイを堆積するステップ、センサアレイ上にシンチレータを堆積するステップ、及びシンチレータ上に反射層を提供するステップを有する。

本発明の他の例示的な実施の形態によれば、反射層は、小さなホールを有するミラー又は白いペイントとし適応される。

シンチレータは、例えばCsIから成ることができる。

光収率及びシンチレータ層のMTFを低下させることなくリフレッシュ光に対して部分的に透明にされたシンチレータ基板上の不透明な反射層を有する検出器が提供することが、本発明の例示的な実施の形態の要点である。反射層は、例えばパルスレーザによって不透明な層中に多くの小さなホールを開けることによって部分的に透明にされる。ホールのサイズはセンサのピクセルサイズと比べて小さく、開口の相対的な面積は、全面積に対して数パーセントから最大約30%の範囲である。

本発明のこれらの及び他の態様は、以下に説明される実施の形態から明らかになり、以下に説明される実施の形態を参照して説明される。

本発明の例示的な実施の形態は、以下の図面を参照して、以下で説明される。

本発明の例示的な実施の形態による検出器。 本発明の例示的な実施の形態による検出器フロントエンド。 本発明の例示的な実施の形態による検出器のための部分的に透明な基板を生成するための方法のフローチャート。 本発明の例示的な実施の形態による二次元X線撮像装置。 本発明の他の例示的な実施の形態による検査装置の模式図。

図面中の図解は概略的である。異なる図面において、同様の又は同一の要素は、同一の参照番号によって提示される。

図1は、それぞれの電子部品と共に検出器フロントエンドの模式図を示す。図1から分かるように、シンチレータ基板213、CsIシンチレータ201及びセンサアレイ205が、例えば鉛で作られた放射シールド301上に配置される（基板213とシンチレータ201との間に部分的に透明な、不透明な反射層206が配置されている。反射層206は図1には描かれていないが、図2に描かれている）。

参照符号302, 304は、電子部品ハウジングを表す。検出器の電子部品は、ハウジング302, 304内に配置されて、プリント回路基板303を有し、その上に対応する電子素子(例えば素子305)が配置される。

検出器フロントエンド213, 201, 205は、結線216を介して電子回路に接続される。図1に示される説明は単に模式図であって、詳細な又はスケーリングされた説明ではないことに留意すべきである。

さらに、X線に対して透明な検出器カバー214が設けられており、裏面カバー又はグラウンドプレート215と共に、検出器のケーシングを提供する。

図2は、検出器フロントエンド200の模式図を示す。図2から分かるように、フロントエンド200は、とりわけ、シンチレータ層201、及び、X線によってシンチレータ中で生成される電磁放射を検出するように適応される検出素子又はピクセル202, 203, 204を有するセンサアレイ205を有する。

さらにフロントエンド200は、複数の小さなホール207, 208, 209, 210, 211及び212を有する反射層206を含む。

反射層206は、シンチレータ基板213上に配置される。

それぞれのレイヤ201, 202, 206は、保護層によって又は検出器カバー214によって覆われることができる。さらに、シンチレータ201、反射層206及び検出層202, 203, 204, 205を保護するために、センサアレイ基板205とシンチレータ基板213との間にハードシールが設けられていることができる（図2には描かれていない）。

さらに、電子回路は図2に示されていない。

X線フラット検出器に用いられるシンチレータのシンチレータ基板(又は基板と反射層との組み合わせ)は、可視放射線及びUFに対して不透明であることができる。これは、X線で生成された光を、ガラス上のa-Siによって一般に形成されるセンサマトリクスによって読み出されることができるように変換層中に保つための要件である。

センサアレイとその基板上の(CsIで形成されることができる)X線変換層との組み合わせは、通常、フラット検出器のフロントエンドを形成する密封されたユニットである。

a-Siフォトダイオードの又はCsIシンチレータの特性を変えるためにX線フラット検出器のこのフロントエンドに光が適用される場合、これは、a-Siガラスプレートの裏面から光を適用することによって実行されることができる。リフレッシュ光は、ピクセルマトリクス中の開いた領域を介してアレイを通過する。

他のタイプのフラットX線検出器において、センサアレイの基板は、リフレッシュ光の意図された波長に対して不透明である場合がある。その場合、シンチレータの光収率及びMTFが必要とされるレベルに維持されることができるように、リフレッシュ光は半透明のシンチレータ基板を用いて適用されることができる。

そのような半透明のシンチレータ基板は、参照符号206, 213に関して図2に示される。

シンチレータ基板206, 213の機能は、以下の通りである。
-必要とされる特性を獲得するように制御された成長プロセスでシンチレータ材料がその上に堆積される基板。
-基板の表面特性は、堆積されるシンチレータ層の構造にとって重要である。
-さらに、シンチレータ基板206及び213は、それが検出器フロントエンドの一部であるときに、シンチレータ層のためのキャリアプレートを提供しなければならない。
-またさらに、デポジションプロセスの後、後処理の後、又はフラット検出器の寿命の間の、シンチレータの基板からの剥離は回避されなければならない。基板の特性及び準備はこの能力にとって重要である。
-さらに、基板は、反射体を提供しなければならず、そこから、シンチレータによって生成される光のうちの予定された割合が、センサアレイの方へ反射される。
-さらに、基板材料は、一次X線のうちのわずかな割合のみを吸収又は散乱させなければならない。

用いられることができる基板材料は、アルミニウム及び/若しくはアモルファス炭素又は銀から成ることができ、又はそれらを含むことができる。これらの層は、光に対して不透明である。

CsI層がその上に成長される図2に示される基板213は、CsIの挙動を「リフレッシュする」又は変化/改善するために用いられる光に対して透明である。

部分的に透明である不透明な反射層206は、CsIのためのベース層(すなわちCsIの基板)を形成する。

参照符号202, 203, 204は、センサアレイ205のピクセルを示す。

図3は、本発明の例示的な実施の形態による方法のフローチャートを示す。この方法はステップ1から始まり、ガラスプレートが出発材料として用いられる。種々の種類のガラスが利用可能である。ほうけい酸塩ガラスのようなa-Si基板として使用されるのと同じ材料が特に適用可能である。

ステップ2において、CsI(ヨウ化セシウム)が成長する側のガラス基板の表面構造は、その上に成長する必要があるCsI層が以降の処理の間又は検出器の耐用期間の間に離層しないように、表面にある程度の粗さを与えるために、化学エッチングやサンドブラスチング、又は適切な任意の方法によって変更される。この表面構造はさらに、シンチレータ層の柱状成長を促進するように適応されなければならない。

ステップ3において、反射層(例えばアルミニウム又は銀)は、例えば蒸着つまり化学蒸着プロセスの助けを借りて、粗くされたガラス表面上に堆積される。この層は、ガラスとCsI層との間の不透明な反射型の又は非反射型の分離を形成する。

そして、ステップ4において、多数の小さなホールが、例えばレーザ除去によって反射層中に作成される。これは、ホール毎に又は多数のホールが設けられたマスクによって実行されることができ、このマスクを用いると、基板の一部が一度に加工されることができる。

あるいは、必要とされるホールは、例えばリフトオフ技術を用いて作成される。

ホールは、シンチレータがその上で用いられるセンサのピクセルサイズより非常に小さい(好ましくは、ホール径は、ピクセルサイズの5〜10%より小さい)。ピクセルサイズは、アプリケーションや検出器のデザインに依存する。それは、高分解能検出器では、例えば20μm〜200μmの範囲であることができ、例えばコンピュータ断層撮影法に用いられる検出器のためのピクセルでは200μm〜2mmの範囲であることができる。

光に対して透明である表面の割合(すなわち除去された反射体領域の相対面積密度)は、数%と約30%との間である(例えば2%と20%との間)。これらの条件の下で、ホールを介してシンチレータ材料に導入されることができる光の量は、シンチレータ及び/又はセンサ素子の必要とされる変化を起こすために十分に大きいことができる。同時に、基板中のホールを通して検出器のフロントエンドから失われる光の割合は、予定された小さな値に維持されて、検出器感度は予定されたレベルで影響されるだけである。

CsI基板の上に形成される不透明な層中のホールを光が通過するときに、この光の一部はガラスプレート中及び/又はリフレッシュ光を導入するための光学システム中で反射される。このシンチレータによって生成された光は、不透明層中のホールを通して検出器フロントエンドに部分的に再び入る可能性があり、検出器のMTFを劣化させる可能性がある。またこのために、レーザ除去によって開かれる表面の割合は、シンチレータ層のMTFが著しく低下しないように、小さくなければならない。この条件は、上で説明されたように基板上の光を透過する領域のサイズ及び数を選択することによって達成されることができる。

シンチレータ用の基板としてガラスを使用することの更なる利点は、熱膨張率が、センサアレイ(例えば、ガラス又はシリコン)のそれと整合することができることである。これらの条件の下で、ハードシールが、周囲から検出器のフロントエンドを封じるために、シンチレータ基板とセンサアレイとの間に作成されることができる。

シンチレータ用の基板としてのガラスの代替物として、センサアレイをリフレッシュするため及び/又はシンチレータの挙動を変えるために必要とされる(用いられることができる)放射線(例えばシンチレータの時間挙動及び光収率を変えるための紫外線)に対して透明である他の材料が用いられることができる。

本発明は、X線フラット検出器のフロントエンド中にリフレッシュ光を導入するために用いられることができ、そのようなフロントエンドを有する検出器の感度及びMTFに関する負の影響を及ぼすことはない。このリフレッシュ光は、例えば、時間あたりのその信号遅延に関する検出器の挙動を変更して/改善するために、及び/又はX線露光(ブライトバーン)の後のシンチレータ感度の変化を低減して/改善するために、用いられることができる。

図4は、本発明の例示的な実施の形態による二次元X線撮像装置の説明を示す。撮像装置400は、X線電源440、エックス線管432、２つのモニタ436, 437及びコリメータ434から成る装置435を持つ光源アセンブリ430を有する。

光源432によって生成されるX線の焦点は位置433にある。光源432によって生成されるX線ビーム438は、ビーム角439を持ち、テーブル490上に配置された撮像される対象物491に侵入する。

ビーム438は、散乱線除去グリッド454を通過して、受信器アセンブリ450の一部を形成する検出器452によって検出される。検出器452は、本発明による検出器である。

光源432及び検出器452は、ガントリベース401に回転可能に取り付けられたガントリ422に配置される。さらに、半径方向に検出器452を調整するために、半径方向の調整コンポーネント456が設けられている。

ガントリベース401は、光源アセンブリの制御及びコンピュータシステム460への検出器データの送信を可能にするために、リンク462を介してコンピュータシステム460に接続される。

図5は、本発明の例示的な実施の形態によるコンピュータ断層撮影スキャナシステムの例示的な実施の形態を示す。

図5に示されるコンピュータ断層撮影装置100は、コーンビームCTスキャナである。しかしながら、本発明は、ファンビームジオメトリで実行されることもできる。一次ファンビームを生成するために、開口システム105は、スリットコリメータとして構成されることができる。図5に示されるCTスキャナは、回転軸102のまわりで回転可能であるガントリ101を有する。ガントリ101はモータ103によって駆動される。参照番号104は放射源(例えばX線光源) を示し、本発明の一態様によれば、この放射源は多色性の又は単色の放射線を放射する。

参照番号105は、放射源から放射される放射ビームをコーン型放射ビーム106に成形する開口システムを示す。コーンビーム106は、ガントリ101の中央に(すなわちCTスキャナの検査領域に)配置された関心対象107に侵入して、検出器108に突き当たるように導かれる。図5から分かるように、検出器108は放射源104の反対側でガントリ101に配置され、検出器108の表面はコーンビーム106によって覆われる。図5に示される検出器108は、関心対象107によって散乱された又は関心対象107を通過したX線をそれぞれ検出することが可能な複数の検出器素子123を有する。

関心対象107をスキャンする間、放射源104、開口システム105及び検出器108は、矢印116によって示される方向にガントリ101に沿って回転する。放射源104、開口システム105及び検出器108を伴うガントリ101の回転のために、モータ103はモータ制御ユニット117に接続され、モータ制御ユニットは、再構成ユニット118(計算又は決定ユニットとも呼ばれる)に接続される。

図5において、関心対象107は、動作テーブル119に配置される人である。例えば人107の心臓130のスキャンにおいて、ガントリ101が人107のまわりを回転する間、オペレーションテーブル119は、ガントリ101の回転軸102と平行な方向に沿って人107を移動させる。これによって、心臓130は、ヘリカルスキャン経路に沿ってスキャンされる。オペレーションテーブル119をスキャンの間に停止することもでき、それによって信号スライスを測定する。説明される全ての場合において、回転軸102に平行な方向には移動せず、回転軸102のまわりのガントリ101の回転だけがある円形スキャンを実行することも可能であることに留意すべきである。

さらに、心臓130を通過することによって減衰するX線が検出器108によって検出される間、人107の心臓130の心電図を測定する心電図装置135が設けられていることができる。測定された心電図に関するデータは、再構成ユニット118に送信される。

検出器108は、再構成ユニット118に接続される。再構成ユニット118は、検出結果(すなわち検出器108の検出器素子123からの読み出し) を受け取って、これらの読み出しに基づいてスキャン結果を決定する。さらに、再構成ユニット118は、オペレーションテーブル119に対するモータ103及び120によるガントリ101の動きを調整するために、モータ制御ユニット117と通信する。

再構成ユニット118は、検出器108の読み出しから画像を再構成するように適応されることができる。再構成ユニット118によって生成された再構成画像は、インタフェース122を介してディスプレイ(図5に図示せず)に出力されることができる。

再構成ユニット118は、検出器108の検出器素子123からの読み出しを処理するために、データプロセッサによって実現されることができる。

検出器108は、基板及びその基板上の反射層を有し、反射層は、シンチレータ中で生成される光の一部をセンサアレイの方へ反射するように適応され、基板と反射層との組み合わせがリフレッシュ光の波長に対して部分的に透明であるように、反射層は、リフレッシュ光の波長に対して透明であるように適応された複数のホールを有する。検出器108はさらに、多数の別個のピクセル素子を有することができる。この場合には、リフレッシュ光がピクセル素子に導入されることができるように、これらのピクセル素子の各々は、その外側壁のうちの少なくとも一つが部分的に透明な反射材料から作成される。そしてリフレッシュ光は、時間を通じた及び/又は放射線への露光の後の、ピクセル素子の時間挙動を改善するため及び/又はピクセル素子の感度の安定性を改善するために適用される。

測定されたデータ(すなわち、心臓コンピュータ断層撮影データ及び心電図データ)は、グラフィカルユーザインタフェース(GUI) 140を介してさらに制御されていることができる再構成ユニット118によって処理される。この遡及的分析は、遡及的なECGゲートを用いたヘリカル心臓コーンビーム再構成スキームに基づくことができる。しかしながら、本発明は、この特定のデータ取得及び再構成に制限されないことに留意すべきである。

「有する」「含む」といった用語は、他の要素又はステップを除外しないこと、及び単数形は複数を除外しないことに留意すべきである。

さらに、別々の実施の形態に関して説明された要素は組み合わせられることができる。特許請求の範囲中の参照符号は、特許請求の範囲を制限するものとして解釈されてはならないことに留意すべきである。

Claims (13)

1. 検査装置によって関心対象を検査するための検出器であって、
   基板及び反射層を有し、
   前記反射層は、シンチレータ中で生成される光の一部をセンサアレイの方へ反射し、
   前記反射層は、当該反射層がリフレッシュ光の波長に対して部分的に透明であるように、リフレッシュ光の波長に対して透明である複数のホールを有する、
   検出器。
2. 前記反射層は、前記リフレッシュ光の波長及び前記シンチレータ中で生成される光の波長に対して不透明である材料からなる、請求項１に記載の検出器。
3. 前記基板がシンチレータ基板であり、前記反射層は、当該シンチレータ基板上に配置される、請求項１に記載の検出器。
4. 前記センサアレイが複数のピクセルを有し、
   前記反射層中の各々のホールのサイズが、前記センサアレイのピクセルのピクセルサイズの１０％未満である、
   請求項１に記載の検出器。
5. 前記反射層が表面を有し、
   前記反射層の前記表面の一部が、前記リフレッシュ光の波長に対して透明であり、
   前記リフレッシュ光の波長に対して透明である前記反射層の前記表面の前記一部が、前記反射層の前記表面の３０％未満である、
   請求項１に記載の検出器。
6. 前記反射層中の前記複数のホールが、レーザ除去プロセス又はリフトオフプロセスに基づいて生成される、請求項１に記載の検出器。
7. 前記反射層及び前記基板が、一次放射線のわずかな割合のみを散乱又は吸収するように適応される、請求項１に記載の検出器。
8. 前記シンチレータ基板がガラス基板であり、
   前記検出器は前記シンチレータ基板と前記センサアレイとの間にハードシールを有し、
   前記ハードシールは、前記検出器のフロントエンドを周囲から封じる、
   請求項３に記載の検出器。
9. X線放射線を検出するフラット検出器である請求項１に記載の検出器。
10. 関心対象を検査するための検査装置であって、
    基板及び反射層を備える検出器を有し、
    前記反射層は、シンチレータ中で生成される光の一部をセンサアレイの方へ反射し、
    前記反射層は、当該反射層がリフレッシュ光の波長に対して部分的に透明であるように、リフレッシュ光の波長に対して透明である複数のホールを有する、
    検査装置。
11. 二次元X線撮像装置、コンピュータ断層撮影装置、コヒーレント散乱コンピュータ断層撮影装置、並びに、心臓撮像、血管撮像又はユニバーサルX線撮像及び蛍光透視撮像のためのX線検査装置のうちの一つである、請求項１０に記載の検査装置。
12. 検査装置による関心対象の検査のための検出器用の部分的に透明なシンチレータ基板と反射層との組み合わせの製造方法であって、
    シンチレータ基板を提供するステップ、
    前記シンチレータ基板上に反射層を堆積させるステップ、及び
    前記反射層中に複数のホールを設けるステップを有し、
    前記ホールは、シンチレータ基板と反射層との組み合わせがリフレッシュ光の波長に対して部分的に透明であるように、リフレッシュ光の波長に対して透明であり、
    前記反射層は、シンチレータ中で生成された光の一部をセンサアレイの方へ反射する、
    方法。
13. シンチレータが成長する側の前記シンチレータ基板の表面構造を変化させ、前記検出器の使用中の前記シンチレータ基板の剥離を防止するための表面粗さをもたらすステップをさらに有する、請求項１２に記載の方法。

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