JP4787943B2 - Static electricity removing device and semiconductor element supply and / or transfer device using the same, powder supply and / or transfer device - Google Patents

Static electricity removing device and semiconductor element supply and / or transfer device using the same, powder supply and / or transfer device Download PDF

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Description

本発明は、半導体素子や粉体などの静電気を除去して、それらが供給装置や搬送装置へ付着したり、塊状になってしまうことを防止するようにした静電気除去装置ならびにそれを用いる半導体素子の供給および/または搬送装置、粉体の供給および/または搬送装置に関する。   The present invention relates to a static eliminator that removes static electricity from a semiconductor element, powder, etc., and prevents them from adhering to a supply device or a transport device or becoming a lump, and a semiconductor element using the static eliminator The present invention relates to an apparatus for supplying and / or conveying powder and a powder for supplying and / or conveying apparatus.

上記のような静電気を除去するようにした装置は、以下の特許文献1および2などで提案されている。特許文献1は、パーツフィーダのパーツ面上にイオンを供給して帯電を除去するようにしたパーツフィーダの静電気除去装置において、回転中心となる中央のボルトから、エアとともにイオンを供給することで、静電気を効果的に除去するようにしたものである。   An apparatus for removing static electricity as described above has been proposed in Patent Documents 1 and 2 below. In Patent Document 1, in the static eliminator of the parts feeder that removes the charge by supplying ions onto the parts surface of the parts feeder, the ions are supplied together with air from the central bolt that is the center of rotation. It is intended to effectively remove static electricity.

一方、特許文献2は、粉体篩い分け機において、篩い分けのスクリーンの周囲の除電器からイオンを吹付けるようにした目詰まり防止装置である。
特開2003−201010号公報 特開2004−105908号公報
On the other hand, Patent Document 2 is a clogging prevention device in which ions are sprayed from a static eliminator around a sieving screen in a powder sieving machine.
JP 2003-201010 A JP 2004-105908 A

上述の各従来技術は、いずれもイオンを吹付けることで、帯電電荷を除去している。したがって、発生した電荷量と同じ電荷量で逆極性のイオンを発生することが困難で、充分な静電気除去効果を得ることが困難であるという問題がある。   Each of the above-described conventional techniques removes charged charges by spraying ions. Therefore, there is a problem that it is difficult to generate ions of the opposite polarity with the same charge amount as the generated charge amount, and it is difficult to obtain a sufficient static elimination effect.

本発明の目的は、充分な静電気除去効果を得ることができる静電気除去装置ならびにそれを用いる半導体素子の供給および/または搬送装置、粉体の供給および/または搬送装置を提供することである。   An object of the present invention is to provide a static eliminator capable of obtaining a sufficient static eliminator, a semiconductor element supply and / or transfer device, and a powder supply and / or transfer device using the same.

本発明の静電気除去装置は、気体用のノズルと、前記気体用のノズルの軌道に略交わる軌道を有するように配置され、前記気体用のノズルから吐出される気体に吸寄せられて、気化対象液体を吐出する液体用のノズルと、前記気体用のノズルの軌道と液体用のノズルの軌道との交点の下流側に設けられ、前記気化対象液体の混合した気体が衝突し、その混合気体を微細化する拡散板とを含むことを特徴とする。   The static eliminator of the present invention is arranged to have a gas nozzle and a trajectory that substantially intersects the gas nozzle trajectory, and is sucked into the gas discharged from the gas nozzle to be vaporized. A liquid nozzle that discharges liquid, and provided on the downstream side of the intersection of the orbit of the gas nozzle and the orbit of the liquid nozzle, the mixed gas of the liquid to be vaporized collides, and the mixed gas is And a diffusion plate to be miniaturized.

上記の構成によれば、半導体素子や粉体などの静電気を除去して、それらが供給装置や搬送装置へ付着したり、塊状になってしまうことを防止するようにした静電気除去装置において、気体用のノズルと液体用のノズルとを、それらの軌道が略交わるように配置し、これによって気体用のノズルから吐出される気体に吸寄せられて、液体用のノズルから気化対象液体が吐出され、それらは混合気体となる。その混合気体は、前記気体用のノズルの軌道と液体用のノズルの軌道との交点の下流側に設けられる拡散板に衝突することで微細化され、霧状となる。前記気体用のノズルからの気体の吐出圧で前記混合気体の流量が変化し、前記軌道の交点から拡散板までの距離によって前記混合気体の粒径が変化する。   According to the above configuration, in the static eliminator that removes static electricity such as semiconductor elements and powders and prevents them from adhering to the supply device or the transport device or becoming a lump, The nozzles for liquid and the nozzles for liquid are arranged so that their orbits substantially intersect with each other, whereby the gas to be vaporized is sucked by the gas discharged from the nozzle for gas and the liquid to be vaporized is discharged from the nozzle for liquid. , They become a mixed gas. The mixed gas is made finer and mist by colliding with a diffusion plate provided on the downstream side of the intersection of the gas nozzle orbit and the liquid nozzle orbit. The flow rate of the mixed gas changes depending on the gas discharge pressure from the gas nozzle, and the particle size of the mixed gas changes depending on the distance from the intersection of the orbit to the diffusion plate.

このような極微細な霧状の混合気体を半導体素子のパーツフィーダや粉体を蓄積するホッパなどで発生することで、前記半導体素子や粉体の摩擦によって発生する静電気による電荷を、正負いずれの極性であっても、該霧状の混合気体によって、効果的に除去することができる。また、前記のように混合気体は極微細な霧状であるので、液滴の場合のように半導体素子に錆が発生したり、粉体が塊状になってしまうような不具合もない。   By generating such an extremely fine mist-like mixed gas in a semiconductor device parts feeder or a hopper that accumulates powder, the charge caused by static electricity generated by friction of the semiconductor device or powder can be positive or negative. Even if it is polar, it can be effectively removed by the mist-like mixed gas. In addition, since the mixed gas is in the form of an extremely fine mist as described above, there is no problem that rust is generated in the semiconductor element or the powder is agglomerated as in the case of droplets.

また、本発明の静電気除去装置では、前記気体用のノズルと液体用のノズルとは、液体用のノズルの中心に気体用のノズルが嵌め込まれた2重筒構造から成り、両ノズルの吐出面は略一致し、前記液体用のノズルはその吐出面にかけて狭窄部となっていることを特徴とする。   Further, in the static eliminator of the present invention, the gas nozzle and the liquid nozzle have a double cylinder structure in which a gas nozzle is fitted in the center of the liquid nozzle, and the discharge surfaces of both nozzles Are substantially coincident with each other, and the liquid nozzle has a narrowed portion over the discharge surface.

上記の構成によれば、2重筒構造につき、気体用のノズルと液体用のノズルとの軌道が交わり、さらに液体用のノズルがその吐出面にかけて狭窄部となっていることで、気体用のノズルから吐出される気体による液体用のノズルからの気化対象液体の吸出しを効果的に行うことができる。   According to the above configuration, in the double cylinder structure, the orbit of the nozzle for gas and the nozzle for liquid intersects, and further, the nozzle for liquid becomes a constricted portion over its discharge surface, The liquid to be vaporized can be effectively sucked out from the nozzle for liquid by the gas discharged from the nozzle.

したがって、気体の圧力が低くても、前記霧状の混合気体を作成することができ、気体をタンクや簡単なポンプで発生させるようにして、該静電気除去装置を携帯可能なレベルに小型化することができる。   Therefore, even if the pressure of the gas is low, the mist-like mixed gas can be created, and the static electricity removing device is miniaturized to a portable level by generating the gas with a tank or a simple pump. be able to.

さらにまた、本発明の静電気除去装置では、前記狭窄部は、ノズルの軸直角方向での断面が楕円形状であり、楕円の短径部分の内周面が前記気体用のノズルの外周面に略密着し、前記拡散板は、前記気体用のノズルの外径より広く、かつ前記狭窄部の長径部分よりも狭い幅に形成されることを特徴とする。   Furthermore, in the static eliminator of the present invention, the constricted portion has an elliptical cross section in the direction perpendicular to the axis of the nozzle, and the inner peripheral surface of the ellipse minor axis portion is substantially the same as the outer peripheral surface of the gas nozzle. The diffusion plate is formed to have a width wider than an outer diameter of the gas nozzle and narrower than a long diameter portion of the narrowed portion.

上記の構成によれば、拡散板が、気体用のノズルの外径より広く形成されることで、気体用のノズルから吐出された気体が確実に衝突し、混合気体の微細化が促進され、前記狭窄部の長径部分よりも狭い幅に形成されることで、生成された霧状の混合気体の排出を促進することができる。   According to the above configuration, the diffusion plate is formed wider than the outer diameter of the gas nozzle, so that the gas discharged from the gas nozzle reliably collides, and the refinement of the mixed gas is promoted, By forming a narrower width than the long diameter portion of the narrowed portion, discharge of the generated mist-like mixed gas can be promoted.

したがって、混合気体の微細化および同じ気体流量でも、混合気体の発生量を増大することができる。   Therefore, even if the gas mixture is refined and the same gas flow rate, the amount of gas mixture generated can be increased.

また、本発明の静電気除去装置は、前記気体用のノズル、液体用のノズルおよび拡散板を収容し、生成された霧状の混合気体の排出口を有する筐体を備えて成ることを特徴とする。   In addition, the static eliminator of the present invention is characterized in that it comprises a housing that accommodates the gas nozzle, the liquid nozzle, and the diffusion plate, and has a generated mist-like mixed gas outlet. To do.

上記の構成によれば、生成された混合気体の内、比較的粒径が大きいものは筐体の壁面、特に天面で液滴となり、排出口から排出されるのは、微細な霧状の混合気体のみとすることができる。   According to the above configuration, among the generated mixed gas, those having a relatively large particle size become droplets on the wall surface of the housing, particularly the top surface, and are discharged from the discharge port in a fine mist-like shape. Only mixed gas can be used.

さらにまた、本発明の静電気除去装置では、前記気体用のノズルの内径は0.5〜2.0mm、外径は1.0〜3.0mm、前記液体用のノズルの内径は2.0〜3.0mm、前記液体用のノズルの高さは50〜100mm、前記拡散板の幅は2.0〜4.0mmに形成されることを特徴とする。好ましくは、前記気体用のノズルの内径は0.5〜1.0mm、外径は1.0〜2.0mm、前記液体用のノズルの高さは50〜75mm、前記拡散板の幅は2.0〜3.0mmに形成されることを特徴とする。 Furthermore, in the electrostatic removing device of the present invention, the inner diameter of the nozzle for gas is 0.5 to 2.0 mm, an outer diameter of 1.0 to 3.0 mm, the inner diameter of the nozzle before Symbol liquid 2.0 ~3.0Mm, the height of the nozzle for the liquid 50 to 100 mm, the width of the front Symbol diffusion plate is being formed on 2.0~4.0m m. Preferably, the inner diameter of the gas nozzle is 0.5 to 1.0 mm, the outer diameter is 1.0 to 2.0 mm, the height of the liquid nozzle is 50 to 75 mm, and the width of the diffusion plate is 2. It is formed to 0.0 to 3.0 mm.

上記の構成によれば、微細な霧状の混合気体を生成するのに好適な構造を実現することができる。なお、気化対象液体は液体用のノズルによって吸い上げられ、外部から加圧されないが、気体用のノズルからは、たとえば0.5〜6kgf/cmで気体を供給すればよい。 According to said structure, the structure suitable for producing | generating a fine mist-like mixed gas is realizable. The vaporization target liquid is sucked up by the liquid nozzle and is not pressurized from the outside, but the gas may be supplied from the gas nozzle at, for example, 0.5 to 6 kgf / cm 2 .

また、本発明の静電気除去装置は、前記排出口に連結され、所望とする噴霧先へ、生成された霧状の混合気体を供給するダクトをさらに備えることを特徴とする。   In addition, the static eliminator of the present invention is further characterized by further comprising a duct connected to the outlet and supplying the generated mist-like mixed gas to a desired spray destination.

上記の構成によれば、前記排出口から排出された混合気体の内、比較的粒径が大きいものはダクトの内壁に付着して液滴となり、該ダクトから排出されるのは、微細な霧状の混合気体のみとすることができる。特に前記ダクトを60cm以上にすると、ダクトから液滴が排出されることを略確実に防止することができる。また、気体としてたとえば空気を用い、その圧力が0.5kgf/cmである場合、前記ダクトの長さとしては2m程度迄延長可能で、ダクトの出口から25cm程度迄噴霧を行うことができる。 According to the above configuration, among the mixed gas discharged from the discharge port, a relatively large particle size adheres to the inner wall of the duct to form droplets, and the duct discharges fine mist. Only in the form of a gas mixture. In particular, when the duct is 60 cm or more, it is possible to prevent the liquid droplets from being discharged from the duct almost certainly. Further, when air is used as the gas and the pressure is 0.5 kgf / cm 2 , the length of the duct can be extended to about 2 m, and spraying can be performed from the outlet of the duct to about 25 cm.

さらにまた、本発明の静電気除去装置は、静電気量を検出する検出手段と、前記検出手段での検出結果に応答し、前記気体用のノズルへの気体の供給を制御する制御手段とをさらに備えることを特徴とする。   Still further, the static eliminator of the present invention further comprises detection means for detecting the amount of static electricity, and control means for controlling the supply of gas to the gas nozzle in response to the detection result of the detection means. It is characterized by that.

上記の構成によれば、検出手段で検出された静電気量に応じて、制御手段が気体用のノズルへの気体の供給を制御するので、所定量以上の静電気が発生すると、自動的に該静電気除去装置を起動することができる。   According to the above configuration, since the control unit controls the gas supply to the gas nozzle according to the amount of static electricity detected by the detection unit, the static electricity is automatically generated when a predetermined amount or more of static electricity is generated. The removal device can be activated.

また、本発明の半導体素子の供給および/または搬送装置は、前記の静電気除去装置を用いることを特徴とする。   The semiconductor element supply and / or transfer device of the present invention is characterized by using the above-described static eliminator.

上記の構成によれば、パーツフィーダやベルトコンベアなどとして実現され、半導体素子の供給および搬送の少なくとも一方を行う装置において、上記の静電気除去装置を用いることで、これまで半導体素子を揮発性の液体に浸漬したり、装置側を拭き掃除して、静電気を除去していたのに比べて、高い静電気除去効果を得ることができるとともに、静電気除去の手間を省くことができる。   According to the above configuration, in the device that is realized as a parts feeder, a belt conveyor, or the like and performs at least one of the supply and transfer of the semiconductor element, the semiconductor element has heretofore been volatile liquid by using the static eliminating device. As compared with the case where the static electricity is removed by immersing in the device or by wiping and cleaning the device side, it is possible to obtain a higher static electricity removing effect and to save the trouble of removing the static electricity.

さらにまた、本発明の粉体の供給および/または搬送装置は、前記の静電気除去装置を用いることを特徴とする。   Furthermore, the powder supply and / or conveyance device of the present invention is characterized by using the above-described static eliminator.

上記の構成によれば、粉体の袋詰め装置などとして実現され、ホッパなどに蓄積した粉体を撹拌し、搬送する装置において、上記の静電気除去装置を用いることで、粉体が液体で凝固するようなことはなく、これまで静電気対策が施し難かった粉体に対して、静電気を除去することができるようになる。   According to the above configuration, the device is realized as a powder bagging device or the like, and in the device that stirs and conveys the powder accumulated in the hopper or the like, the powder is solidified with a liquid by using the static eliminating device. There is no such thing, and it will be possible to remove static electricity from powder that has been difficult to take countermeasures against static electricity.

本発明の静電気除去装置は、以上のように、半導体素子や粉体などの静電気を除去して、それらが供給装置や搬送装置へ付着したり、塊状になってしまうことを防止するようにした静電気除去装置において、気体用のノズルと液体用のノズルとを、それらの軌道が略交わるように配置し、これによって気体用のノズルから吐出される気体に吸寄せられて液体用のノズルから気化対象液体が吐出され、得られた混合気体を、前記気体用のノズルと液体用のノズルとの軌道の交点の下流側に設けられる拡散板に衝突させて微細化し、霧状にする。   As described above, the static eliminator of the present invention removes static electricity such as semiconductor elements and powders, and prevents them from adhering to a supply device or a transport device or from becoming a lump. In the static eliminator, the gas nozzle and the liquid nozzle are arranged so that their orbits substantially intersect, and the gas is sucked by the gas discharged from the gas nozzle and vaporized from the liquid nozzle. The target liquid is discharged, and the obtained mixed gas is made fine by colliding with a diffusion plate provided on the downstream side of the intersection of the orbit of the gas nozzle and the liquid nozzle.

それゆえ、このような極微細な霧状の混合気体を半導体素子のパーツフィーダや粉体を蓄積するホッパなどで発生することで、前記半導体素子や粉体の摩擦によって発生する静電気による電荷を、正負いずれの極性であっても、該霧状の混合気体によって効果的に除去することができる。また、前記のように混合気体は極微細な霧状であるので、液滴の場合のように半導体素子に錆が発生したり、粉体が塊状になってしまうような不具合もない。   Therefore, by generating such a fine mist-like mixed gas in a semiconductor device parts feeder or a hopper that accumulates powder, charges due to static electricity generated by friction of the semiconductor device and powder, Regardless of whether the polarity is positive or negative, the mist-like mixed gas can be effectively removed. In addition, since the mixed gas is in the form of an extremely fine mist as described above, there is no problem that rust is generated in the semiconductor element or the powder is agglomerated as in the case of droplets.

さらにまた、本発明の半導体素子の供給および/または搬送装置は、以上のように、パーツフィーダやベルトコンベアなどとして実現され、半導体素子の供給および搬送の少なくとも一方を行う装置において、上記の静電気除去装置を用いる。   Furthermore, the semiconductor element supply and / or transport apparatus according to the present invention is realized as a parts feeder, a belt conveyor, or the like as described above, and in the apparatus that performs at least one of the semiconductor element supply and transport, the static electricity removal described above. Use the device.

それゆえ、これまで半導体素子を揮発性の液体に浸漬したり、装置側を拭き掃除して、静電気を除去していたのに比べて、高い静電気除去効果を得ることができるとともに、静電気除去の手間を省くことができる。   Therefore, it is possible to obtain a higher static electricity removal effect compared to the case where the semiconductor element has been soaked in a volatile liquid or the device side has been wiped and cleaned to remove static electricity. Can be omitted.

また、本発明の粉体の供給および/または搬送装置は、以上のように、粉体の袋詰め装置などとして実現され、ホッパなどに蓄積した粉体を撹拌し、搬送する装置において、上記の静電気除去装置を用いる。   In addition, the powder supply and / or conveyance device of the present invention is realized as a powder bagging device or the like as described above, and in the device for stirring and conveying the powder accumulated in a hopper or the like, Use a static eliminator.

それゆえ、粉体が液体で凝固するようなことはなく、これまで静電気対策が施し難かった粉体に対して、静電気を除去することができるようになる。   Therefore, the powder does not solidify with a liquid, and static electricity can be removed from the powder that has been difficult to take measures against static electricity.

[実施の形態1]
図1は本発明の実施の第1の形態に係る静電気除去装置1の基本的構成を示す透視斜視図であり、図2および図3はその具体的構造を示す縦断面図である。この静電気除去装置1は、空気などの気体に水などの気化対象の液体10を混合して、極微細な霧状の気体を発生する噴霧器として実現される。
[Embodiment 1]
FIG. 1 is a perspective view showing a basic configuration of a static eliminator 1 according to a first embodiment of the present invention, and FIGS. 2 and 3 are longitudinal sectional views showing a specific structure thereof. The static eliminator 1 is realized as a sprayer that mixes a liquid 10 to be vaporized such as water with a gas such as air to generate a very fine mist-like gas.

この静電気除去装置1は、大略的に、筐体2内に、2重筒構造に形成される気体用ノズル3および液体用ノズル4と、それらと同心に配置され、それらを外囲する筒体5と、前記ノズル3,4の前方に配置される拡散板6とが収容されて構成されており、前記気体用ノズル3から気体を吹出すことで、液体用ノズル4がその基端部4bから、筐体2の底部に貯留した液体10を吸い上げて吐出し、こうして生成された混合気体が拡散板6に衝突することで前記極微細な霧状になり、排出口7から、それに接続される図示しないダクトを介して外部へ排出する。   In general, the static eliminator 1 includes a gas nozzle 3 and a liquid nozzle 4 formed in a double cylinder structure in a housing 2, and a cylinder that is disposed concentrically with and surrounds them. 5 and a diffuser plate 6 disposed in front of the nozzles 3 and 4 are accommodated, and the gas nozzle 3 blows out the gas so that the liquid nozzle 4 has its base end 4b. Then, the liquid 10 stored at the bottom of the housing 2 is sucked up and discharged, and the mixed gas thus generated collides with the diffusion plate 6 to form the ultrafine mist, which is connected to the discharge port 7 through it. It is discharged to the outside through a duct (not shown).

このため、先ず前記気体用ノズル3は、基台11の略中心から立設され、その基台11内には、接栓12から前記気体用ノズル3に連なる管路13が形成されている。前記接栓12には、コンプレッサやタンクなどの高圧の気体源が接続される。前記管路13の途中には、調圧や気体の供給/遮断を行うことができる調圧ねじ14が設けられている。前記気体用ノズル3は、たとえばSUSパイプから成り、高さH1は75mmであり、図4で示すその内径D1は0.8mmであり、外径D2は1.5mmである。   For this reason, first, the gas nozzle 3 is erected from the substantial center of the base 11, and a pipe line 13 that is connected to the gas nozzle 3 from the plug 12 is formed in the base 11. The plug 12 is connected to a high-pressure gas source such as a compressor or a tank. A pressure adjusting screw 14 capable of adjusting pressure and supplying / blocking gas is provided in the middle of the conduit 13. The gas nozzle 3 is made of, for example, a SUS pipe, has a height H1 of 75 mm, an inner diameter D1 shown in FIG. 4 of 0.8 mm, and an outer diameter D2 of 1.5 mm.

また、前記基台11からは、筒体5が立設されており、その先端5aには、該先端5aを閉塞する板状の支持部材15が取付けられている。前記支持部材15の中央には、前記液体用ノズル4を延長したノズルとなる孔15aが形成されており、その孔15aは、図2および図3で示すように、下方側では前記ノズル4の先端4aが嵌め込まれる円形であり、これによって液体用ノズル4は、その基端部4bが基台11から浮き上がって支持されている。前記液体用ノズル4は、たとえばAlパイプから成り、高さH2は72.5mmであり、その内径D3は3.0mmであり、外径D4は4.0mmである。また、前記液体用ノズル4の基端部4bの基台11からの高さH3は、前記高さH2および支持部材15へ嵌り込む量によっても異なるけれども、たとえば0.5〜2.0mmである。さらにまた、前記筒体5の内径D5は18.0mmであり、外径D6は20.0mmである。   A cylindrical body 5 is erected from the base 11, and a plate-like support member 15 that closes the distal end 5 a is attached to the distal end 5 a. A hole 15a is formed in the center of the support member 15 as an extended nozzle of the liquid nozzle 4. The hole 15a is formed on the lower side of the nozzle 4 as shown in FIGS. The front end 4 a is a circular shape into which the liquid nozzle 4 is supported, and the base end portion 4 b of the liquid nozzle 4 is lifted from the base 11 and supported. The liquid nozzle 4 is made of, for example, an Al pipe, has a height H2 of 72.5 mm, an inner diameter D3 of 3.0 mm, and an outer diameter D4 of 4.0 mm. Further, the height H3 of the base end portion 4b of the liquid nozzle 4 from the base 11 varies depending on the height H2 and the amount of fitting into the support member 15, but is, for example, 0.5 to 2.0 mm. . Furthermore, the inner diameter D5 of the cylindrical body 5 is 18.0 mm, and the outer diameter D6 is 20.0 mm.

前記孔15aの出口は前記気体用ノズル3の吐出面と略一致する。したがって、前記気体用ノズル3と液体用ノズル4との軌道が交わり、気体用ノズル3から吐出される気体に吸寄せられて、液体用ノズル4が気化対象の液体10を吸い上げ、吐出することができる。   The outlet of the hole 15a substantially coincides with the discharge surface of the gas nozzle 3. Therefore, the trajectory of the gas nozzle 3 and the liquid nozzle 4 intersects and is sucked by the gas discharged from the gas nozzle 3 so that the liquid nozzle 4 sucks up and discharges the liquid 10 to be vaporized. it can.

また、前記孔15aは、上方側では、軸直角断面が楕円形状に形成されており、したがって狭窄部15bを形成する。前記孔15aの楕円の短径方向の長さW1は、前記気体用ノズル3の外径D2に略等しく形成され、該孔15a内を前記気体用ノズル3の先端3aが挿通する。こうして、支持部材15は、前記ノズル3,4の先端3a,4aを、これらの軸線とは交差する方向への変位を阻止して支持する(揺れ止めを行う)。前記長さW1は、たとえば2.0mmであり、狭窄部15bの高さH4は1.5mmであり、孔15aの先端側の気体用ノズル3に平行な部分の長さH5は1.5mmである。この狭窄部15bは、気体の圧力が比較的低圧でも液体の吸出しを可能にするものであり、気体の圧力が高いときには特に設けなくてもよく、前記のように形成することで、0.5kgf/cm程度の低圧での液体の吸出しが可能になる。 In addition, the hole 15a has an elliptical cross section perpendicular to the axis on the upper side, and thus forms a constricted portion 15b. A length W1 of the ellipse in the minor axis direction of the ellipse 15a is formed substantially equal to the outer diameter D2 of the gas nozzle 3, and the tip 3a of the gas nozzle 3 is inserted through the hole 15a. In this way, the support member 15 supports the tips 3a and 4a of the nozzles 3 and 4 while preventing displacement in a direction intersecting with these axes (to prevent shaking). The length W1 is, for example, 2.0 mm, the height H4 of the narrowed portion 15b is 1.5 mm, and the length H5 of the portion parallel to the gas nozzle 3 on the tip side of the hole 15a is 1.5 mm. is there. The constricted portion 15b enables liquid to be sucked out even when the gas pressure is relatively low. When the gas pressure is high, the constricted portion 15b may not be provided. By forming the constricted portion 15b as described above, 0.5 kgf The liquid can be sucked out at a low pressure of about / cm 2 .

前記支持部材15上において、前記楕円形状の孔15aの短径方向には、板に切り欠き部6aを形成して成る前記拡散板6が配置される。その拡散板6の幅W2は、前記気体用ノズル3の外径D2より広く、かつ前記狭窄部15bの長径部分の幅W3よりも狭い幅に形成され、たとえば前記幅W2は3.0mmであり、前記幅W3は4.0mmである。また、前記切り欠き部6aの幅W4は10.0mmであり、高さH6は1.0mmである。この高さH6によって、混合気体における水分の粒径が変化し、狭い程小さくなる。したがって、支持部材15から拡散板6を交換可能にすることで、または拡散板6の支持部材15からの高さ調整を可能にすることで、前記水分の粒径を調整することができる。一方、混合気体の量は、気体の圧力によって変化する。   On the support member 15, the diffusion plate 6 formed by forming a notch 6 a in the plate is disposed in the minor axis direction of the elliptical hole 15 a. The width W2 of the diffusion plate 6 is formed to be wider than the outer diameter D2 of the gas nozzle 3 and narrower than the width W3 of the long diameter portion of the narrowed portion 15b. For example, the width W2 is 3.0 mm. The width W3 is 4.0 mm. The notch 6a has a width W4 of 10.0 mm and a height H6 of 1.0 mm. Depending on the height H6, the particle diameter of water in the mixed gas changes, and the smaller the smaller, the smaller. Therefore, the particle size of the moisture can be adjusted by making it possible to replace the diffusion plate 6 from the support member 15 or by adjusting the height of the diffusion plate 6 from the support member 15. On the other hand, the amount of the mixed gas varies depending on the gas pressure.

前記筒体5の基端部5bの一部分は、切り欠かれて、該筒体5の内外を連通する開口5cが形成されており、その開口5cを通して、前記液体用ノズル4に液体10が供給される。   A part of the base end portion 5b of the cylindrical body 5 is notched to form an opening 5c that communicates the inside and outside of the cylindrical body 5, and the liquid 10 is supplied to the liquid nozzle 4 through the opening 5c. Is done.

前記筐体2は、たとえばその幅W5が50mm角で、高さH7は、前記ノズル3,4の吐出面である支持部材15の上面からの高H8さが50mm以上であると、後述するように排出口7から排出される混合気体から液滴成分を略無くすことができるので、たとえば150mmに形成される。前記排出口7は、たとえばその径W6が20mmで、高さH9は30mmに形成される。   The case 2 has a width W5 of 50 mm square, for example, and a height H7 will be described later when the height H8 from the upper surface of the support member 15 that is the discharge surface of the nozzles 3 and 4 is 50 mm or more. Since the droplet component can be substantially eliminated from the gas mixture discharged from the discharge port 7, it is formed to 150 mm, for example. For example, the discharge port 7 has a diameter W6 of 20 mm and a height H9 of 30 mm.

図5は上述のように構成される静電気除去装置1において、微細な霧状の混合気体を発生するメカニズムを詳しく説明するための縦断面図である。この図5は、前記図3に基づいている。図5(a)は気体用ノズル3から吹出される気体の流れを示し、図5(b)は液体用ノズル4から吹出される液体の流れを示し、図5(c)はそれらが混合した混合気体の流れを示す図である。   FIG. 5 is a longitudinal sectional view for explaining in detail the mechanism for generating a fine mist-like mixed gas in the static eliminator 1 configured as described above. FIG. 5 is based on FIG. FIG. 5 (a) shows the flow of gas blown from the gas nozzle 3, FIG. 5 (b) shows the flow of liquid blown from the liquid nozzle 4, and FIG. 5 (c) shows that they are mixed. It is a figure which shows the flow of mixed gas.

外部の気体源から接栓12を介して気体用ノズル3に気体が供給されると、該気体は図5(a)で示すように筐体2内に充満し、排出口7から図示しないダクトを通って排出されるとともに、液体10の液面を僅かに押圧する。   When a gas is supplied from an external gas source to the gas nozzle 3 through the plug 12, the gas is filled into the housing 2 as shown in FIG. As the liquid is discharged through the liquid 10, the liquid level of the liquid 10 is slightly pressed.

これによって、液体用ノズル4が液体10を取込み易くなり、さらに前記気体用ノズル3から吹出す気体による真空ポンプのような吸出し効果によって、図5(b)で示すように、同心の液体用ノズル4から液体10が吸い出され、さらに拡散板6に衝突して微細な混合気体が発生し、筐体2内に充満する。このとき、細かい粒子程、筐体2の上部に漂い、大きく重い粒子程、下部に漂う。   This makes it easy for the liquid nozzle 4 to take in the liquid 10, and further, due to the suction effect like a vacuum pump by the gas blown out from the gas nozzle 3, as shown in FIG. The liquid 10 is sucked out from 4 and further collides with the diffusion plate 6 to generate a fine mixed gas, which fills the housing 2. At this time, the finer particles drift to the upper part of the housing 2, and the larger and heavier particles drift to the lower part.

これによって、図5(c)で示すように、重い粒子は下降して再び液体10となり、また比較的軽い粒子でも、天面2bや壁面2cに付着して再結晶化すると、落下して再び液体10となる。一方、前記天面2bや壁面2cに付着しなかった小さな粒子は、前記気体の排出に伴って、上方の排出口7からダクトへ排出される。   As a result, as shown in FIG. 5C, the heavy particles descend to become the liquid 10 again, and even relatively light particles fall on the top surface 2b and the wall surface 2c when they recrystallize and fall again. It becomes the liquid 10. On the other hand, small particles that did not adhere to the top surface 2b or the wall surface 2c are discharged from the upper discharge port 7 to the duct as the gas is discharged.

前記排出口7から排出された混合気体の内、比較的粒径が大きいものはダクトの内壁に付着して液滴となり、該ダクトから排出されるのは、微細な霧状の混合気体のみとなる。特に前記ダクトを60cm以上にすると、ダクトから液滴が排出されることを略確実に防止することができる。また、気体としてたとえば空気を用い、その圧力が0.5kgf/cmである場合、前記ダクトの長さとしては2m程度迄延長可能で、ダクトの出口から25cm程度迄噴霧を行うことができる。 Of the mixed gas discharged from the discharge port 7, those having a relatively large particle size adhere to the inner wall of the duct to form droplets, and only the fine mist-like mixed gas is discharged from the duct. Become. In particular, when the duct is 60 cm or more, it is possible to prevent the liquid droplets from being discharged from the duct almost certainly. Further, when air is used as the gas and the pressure is 0.5 kgf / cm 2 , the length of the duct can be extended to about 2 m, and spraying can be performed from the outlet of the duct to about 25 cm.

図6は、前記静電気除去装置1の具体的な一構成例を示す斜視図である。この例では、該静電気除去装置1は、基台21に搭載され、その基台21にはまた、該静電気除去装置1の側方に、前記液体10のリザーバタンク22が搭載されている。このリザーバタンク22と筐体2とは、その下端側で相互に連通しており、両者を合わせて、たとえば350ccの液体10を貯留することができる。リザーバタンク22の上面には、溶液カートリッジのノズルを受け入れる注入口23が形成されている。   FIG. 6 is a perspective view showing a specific configuration example of the static eliminator 1. In this example, the static eliminator 1 is mounted on a base 21, and a reservoir tank 22 for the liquid 10 is mounted on the base 21 on the side of the static eliminator 1. The reservoir tank 22 and the housing 2 communicate with each other on the lower end side, and together, for example, 350 cc of the liquid 10 can be stored. An inlet 23 for receiving the nozzle of the solution cartridge is formed on the upper surface of the reservoir tank 22.

図7は、前記静電気除去装置1の一使用例を示す図である。この例では、電子部品を供給するパーツフィーダ31に本静電気除去装置1が使用されている。該静電気除去装置1の排出口7にはダクト32が連結され、その先端32aが前記パーツフィーダ32のパーツ面上に臨み、霧状の混合気体を排出する。前記パーツ面上には、静電気量を検出する検出手段33が設けられており、その検出結果に応答して、制御回路34は、コンプレッサ35から前記接栓12への管路36に介在した電磁弁37を、静電気量が予め定めるレベルを超えるとONして気体を供給させ、前記予め定めるレベル以下ではOFFして気体の供給を遮断させる。このようにフィードバック制御によって、自動的に混合気体の発生をON/OFF制御する。   FIG. 7 is a view showing an example of use of the static eliminator 1. In this example, the static eliminating device 1 is used for a parts feeder 31 for supplying electronic components. A duct 32 is connected to the discharge port 7 of the static eliminator 1, and a tip 32 a of the duct 32 faces the parts surface of the parts feeder 32 to discharge a mist-like mixed gas. Detection means 33 for detecting the amount of static electricity is provided on the part surface, and in response to the detection result, the control circuit 34 is an electromagnetic wave interposed in the conduit 36 from the compressor 35 to the plug 12. The valve 37 is turned on to supply gas when the amount of static electricity exceeds a predetermined level, and is turned off to cut off the supply of gas below the predetermined level. As described above, the generation of the mixed gas is automatically ON / OFF controlled by the feedback control.

なお、前記検出手段33および制御回路34を用いることなく、タイマ連動などで、静電気が蓄積されそうな周期毎に、予め定める時間だけ電磁弁37をONさせるようにしてもよい。   Instead of using the detection means 33 and the control circuit 34, the solenoid valve 37 may be turned on for a predetermined time for each period in which static electricity is likely to be accumulated, for example, in conjunction with a timer.

また、図8は、前記静電気除去装置1の他の使用例を示す図である。この例では、電子部品を搬送するベルトコンベア38に本静電気除去装置1が使用されている。該静電気除去装置1の排出口7には前記ダクト32が連結され、そのダクト32は、前記ベルトコンベア38の搬送方向とは交差する方向に設けられ、前記ベルトコンベア38の略全長に亘って吹出し口39を有する棒状のノズル部材40に接続される。棒状のノズル部材40において、前記吹出し口39は、好ましくはベルトコンベア38の搬送方向下流側に向けて形成される。本使用例でも、前記検出手段33を用いたフィードバック制御が行われてもよい。   FIG. 8 is a diagram showing another example of use of the static eliminator 1. In this example, the static eliminating device 1 is used for a belt conveyor 38 that conveys electronic components. The duct 32 is connected to the discharge port 7 of the static eliminator 1, and the duct 32 is provided in a direction intersecting with the conveying direction of the belt conveyor 38, and is blown out over substantially the entire length of the belt conveyor 38. It is connected to a rod-like nozzle member 40 having a port 39. In the rod-like nozzle member 40, the blowout port 39 is preferably formed toward the downstream side in the transport direction of the belt conveyor 38. Also in this usage example, feedback control using the detection unit 33 may be performed.

表1および表2は、本件発明者の実験結果を示すものである。共に、各気体の圧力での前記パーツフィーダ31への混合気体の供給による静電気電圧の減少の様子を示すものであり、表1はダクト32の長さが60cmの場合であり、表2は2mの場合である。また、気体は空気とし、コンプレッサから表記の各圧力で供給し、液体10は水道水としている。   Tables 1 and 2 show the experimental results of the inventors. Both show the state of reduction of the electrostatic voltage due to the supply of the mixed gas to the parts feeder 31 at the pressure of each gas. Table 1 shows the case where the length of the duct 32 is 60 cm, and Table 2 shows 2 m. This is the case. Further, the gas is air, supplied from the compressor at the indicated pressures, and the liquid 10 is tap water.

Figure 0004787943
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表1および表2から明らかなように、ダクト32が長くなると、該ダクト32内での再結晶化が多くなり、エア圧が同じならばエア量は変わらないけれども、水道水の含有量(霧の量)が少なくなり、除電効果が多少悪くなっている。しかしながら、5分もすれば、かなりの除電効果が得られていることが理解される。0.5kV以下であれば、パーツがパーツフィーダ31のパーツ面の中心に塊まらなくなり、円滑な供給を行うことができる。また、発生された霧は、いずれのエア圧でも、ダクト32の出口にティシュペーパを垂らせてみても、湿りすら感じない程度であり、水道水であっても、パーツに錆などの不具合が発生する虞も少ない。   As is clear from Tables 1 and 2, when the duct 32 becomes longer, recrystallization increases in the duct 32, and the air amount does not change if the air pressure is the same. ) And the static elimination effect is somewhat worse. However, it is understood that a considerable charge eliminating effect is obtained after 5 minutes. If it is 0.5 kV or less, the parts do not clump at the center of the parts surface of the parts feeder 31 and smooth supply can be performed. In addition, the generated fog does not feel wet even when the tissue paper is hung at the outlet of the duct 32 at any air pressure. Even tap water causes problems such as rust on the parts. There is little possibility to do.

必要に応じて、本発明の静電気除去装置1では、前記液体10として、純水、アルカリ還元水および前記水道水などの水に限らず、それらに溶剤を溶かした物や、アルコールなど、静電気を除去すべき対象物に応じた液体を使用することができる。ただし、油脂類などで、粘性の高いものは気化させにくく、不適な物もある。同様に気体も、コンプレッサーで圧縮した空気や、ボンベに詰めた不活性ガスなどから、任意に選択することができる。   If necessary, in the static eliminator 1 of the present invention, the liquid 10 is not limited to pure water, alkaline reduced water, water such as the tap water, or the like, but can be charged with static electricity such as a substance in which a solvent is dissolved or alcohol. A liquid according to the object to be removed can be used. However, oils and fats that are highly viscous are difficult to vaporize and are not suitable. Similarly, the gas can be arbitrarily selected from air compressed by a compressor, an inert gas packed in a cylinder, and the like.

また、表3には、各エア圧に対する液体10の消費量を示す。液体10を予め定める各量だけ筐体2(および前記リザーバタンク22)に投入したときに、霧の発生を持続することができた時間を示す。この表3から、多少のばらつきはあるものの、表4で示すように、各エア圧での液体10の消費率(単位時間当りの消費量)は、液体10の残量に拘わらず、略一定であることが理解される。   Table 3 shows the consumption amount of the liquid 10 with respect to each air pressure. When the liquid 10 is charged into the housing 2 (and the reservoir tank 22) by predetermined amounts, the time during which the generation of mist can be continued is shown. Although there is some variation from Table 3, as shown in Table 4, the consumption rate (consumption per unit time) of the liquid 10 at each air pressure is substantially constant regardless of the remaining amount of the liquid 10. It is understood that

Figure 0004787943
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さらにまた、ダクト32の出口を先細状に絞ったり、ホーン状に拡大したりすることで、混合気体の拡散幅を調整することができる。エア圧および照射位置までの距離の調整も合わせて、たとえば、0.5kgf/cmで対象ワークとしては1cm以下の小型のトランジスタやチップ抵抗、チップコンデンサなどを供給する小型のパーツフィーダ、1.0〜2.0kgf/cmでφ=25〜60cmの中小型のパーツフィーダ、2.0〜4.0kgf/cmで前記中小型のパーツフィーダや生産ライン或いは粉体のホッパ、4.0kgf/cm以上で大型のパーツフィーダや生産ライン或いは粉体のホッパに使用することができる。 Furthermore, the diffusion width of the mixed gas can be adjusted by narrowing the outlet of the duct 32 into a tapered shape or expanding it into a horn shape. Combined with adjustment of air pressure and distance to irradiation position, for example, a small parts feeder for supplying a small transistor, chip resistor, chip capacitor, etc. of 0.5 cmf / cm 2 and a target work of 1 cm or less. Medium-to-small parts feeder at 0 to 2.0 kgf / cm 2 and φ = 25 to 60 cm, Small to medium-sized parts feeder and production line or powder hopper at 2.0 to 4.0 kgf / cm 2 , 4.0 kgf / Cm 2 or more and can be used for large parts feeders, production lines, or powder hoppers.

このように構成することで、前記半導体素子や粉体の摩擦によって発生する静電気による電荷を、正負いずれの極性であっても、霧状の混合気体によって効果的に除去することができる。また、前記のように混合気体は極微細な霧状であるので、液滴の場合のように半導体素子に錆が発生したり、粉体が塊状になってしまうような不具合もない。これによって、本発明の静電気除去装置31を、パーツフィーダやベルトコンベアなどとして実現され、半導体素子の供給および搬送の少なくとも一方を行う装置に適用した場合、格段に高い静電気除去効果を得ることができるとともに、静電気除去の手間を省くことができる。また、粉体の袋詰め装置などとして実現され、ホッパなどに蓄積した粉体を撹拌し、搬送する装置に適用した場合、粉体が液体で凝固するようなことはなく、これまで静電気対策が施し難かった粉体に対して、静電気を除去することができるようになる。また、上記のような電子部品や粉体に限らず、樹脂製品、科学繊維、金属薄板などにも適用することができる。   With such a configuration, the charge due to static electricity generated by friction between the semiconductor element and the powder can be effectively removed by the mist-like mixed gas regardless of whether the polarity is positive or negative. In addition, since the mixed gas is in the form of an extremely fine mist as described above, there is no problem that rust is generated in the semiconductor element or the powder is agglomerated as in the case of droplets. As a result, when the static eliminator 31 of the present invention is realized as a parts feeder, a belt conveyor, or the like, and applied to an apparatus that performs at least one of supply and transfer of semiconductor elements, an extremely high static eliminator can be obtained. At the same time, the trouble of removing static electricity can be saved. Also, it is realized as a powder bagging device, etc. When applied to a device that stirs and transports powder accumulated in a hopper etc., the powder does not solidify with liquid, and so far, countermeasures against static electricity have been taken. Static electricity can be removed from powder that was difficult to apply. Further, the present invention is not limited to the electronic parts and powders described above, and can be applied to resin products, scientific fibers, metal thin plates, and the like.

さらにまた、前記特許文献1や特許文献2のように、発生した静電気とは逆極性で、略等しい電圧のイオンを発生する場合には、極性や電圧の検知から対応したイオンの発生までに複雑な制御が必要となるのに対して、本発明の静電気除去装置1では、制御回路34は、検出手段33の検出結果が予め定めるレベル以上であるか否かから電磁弁37をON/OFF制御するだけであり、簡単な構成で効果的にフィードバック制御を行うことができる。   Furthermore, as in Patent Document 1 and Patent Document 2, in the case where ions having a polarity opposite to that of the generated static electricity and substantially the same voltage are generated, it is complicated from detection of polarity and voltage to generation of the corresponding ions. On the other hand, in the static eliminator 1 of the present invention, the control circuit 34 controls the electromagnetic valve 37 to be ON / OFF based on whether the detection result of the detection means 33 is equal to or higher than a predetermined level. Therefore, it is possible to effectively perform feedback control with a simple configuration.

また、制御回路34によるフィードバック制御を行わなければ、電源を確保する必要はなく、気体源の確保と、前記のような時々の液体10の補給を行えばよく、設置が容易で、かつ移動も容易である。しかも、専門的な知識がなくても、設置や維持が可能であるとともに、構造が簡単であるので、故障の可能性も少ない。   Further, if feedback control by the control circuit 34 is not performed, it is not necessary to secure a power source, it is only necessary to secure a gas source and supply the liquid 10 as described above, and it is easy to install and move. Easy. Moreover, it can be installed and maintained without specialized knowledge, and since the structure is simple, the possibility of failure is low.

さらにまた、液体用ノズル4の中心に気体用ノズル3が嵌め込まれた2重筒構造とすることで上述のように両ノズル3,4の軌道を交差させ、さらに液体用ノズル4がその吐出面にかけて狭窄部15bとなっていることで、気体用ノズル3から吐出される気体による液体用ノズル4からの液体10の吸出しを効果的に行うことができる。したがって、気体の圧力が、前記0.5kgf/cm程度に低くても、前記霧状の混合気体を作成することができ、気体をタンクや簡単なポンプで発生させるようにして、該静電気除去装置1を携帯可能なレベルに小型化することができる。これによって、上述のような工業用途に限らず、衣類の静電気除去やドアノブの静電気除去、或いは消臭用途などの一般家庭を含むような用途にも使用することができる。 Furthermore, the double nozzle structure in which the gas nozzle 3 is fitted in the center of the liquid nozzle 4 makes the orbits of the nozzles 3 and 4 intersect as described above, and the liquid nozzle 4 further has its discharge surface. Since the narrowed portion 15b is formed, the liquid 10 can be effectively sucked out from the liquid nozzle 4 by the gas discharged from the gas nozzle 3. Therefore, even if the gas pressure is as low as about 0.5 kgf / cm 2 , the mist-like mixed gas can be produced, and the static electricity can be removed by generating the gas with a tank or a simple pump. The device 1 can be downsized to a portable level. Thus, the present invention can be used not only for industrial applications as described above, but also for applications including general households such as static elimination of clothes, static elimination of doorknobs, and deodorization applications.

また、前記狭窄部15bをノズル3,4の軸直角方向での断面が楕円形状とし、前記拡散板6を、気体用ノズル3の外径より広く形成することで、該気体用ノズル3から吐出された気体が確実に衝突して混合気体の微細化が促進されるようになり、前記狭窄部15bの長径部分よりも狭い幅に形成することで、生成された霧状の混合気体の排出を促進することができる。したがって、混合気体の微細化および同じ気体流量でも、混合気体の発生量を増大することができる。   Further, the narrowed portion 15b has an elliptical cross section in the direction perpendicular to the axis of the nozzles 3 and 4, and the diffusion plate 6 is formed wider than the outer diameter of the gas nozzle 3, thereby discharging from the gas nozzle 3. The generated gas collides with certainty and the refinement of the mixed gas is promoted, and by forming the narrower width than the long diameter portion of the narrowed portion 15b, the generated mist-like mixed gas can be discharged. Can be promoted. Therefore, even if the gas mixture is refined and the same gas flow rate, the amount of gas mixture generated can be increased.

上述の例では、気体用ノズル3の内径D1は0.8mmであり、外径D2は1.5mmであったけれども、これに限らず、D1=0.5〜2.0mm、好ましくは0.5〜1.0mm、D2=1.0〜3.0mm、好ましくは1.0〜2.0mmであればよく、前記液体用ノズル4の内径D3は3.0mmであり、高さH2は72.5mmであったけれども、D3=2.0〜3.0mm、H2=50〜100mm、好ましくは50〜75mmであればよく、前記拡散板6の幅W2は3.0mmであったけれども、W2=2.0〜4.0mm、好ましくは2.0〜3.0mmであればよい。ユーザの望む液体10の貯留量が大きくなる程、すなわち補充サイクルが長くなる程、液面高さが高くなるので、前記高さH2が高くなり、ユーザの望む気体の圧力が低くなる程、気体用ノズル3の内径D1および外径D2ならびに液体用ノズル4の内径D3および外径D4は小さくなる。   In the above example, the inner diameter D1 of the gas nozzle 3 is 0.8 mm and the outer diameter D2 is 1.5 mm. However, the present invention is not limited to this, and D1 = 0.5 to 2.0 mm, preferably 0. 5 to 1.0 mm, D2 = 1.0 to 3.0 mm, preferably 1.0 to 2.0 mm. The inner diameter D3 of the liquid nozzle 4 is 3.0 mm, and the height H2 is 72. Although it was 0.5 mm, D3 = 2.0 to 3.0 mm, H2 = 50 to 100 mm, preferably 50 to 75 mm, and the width W2 of the diffusion plate 6 was 3.0 mm. = 2.0-4.0 mm, preferably 2.0-3.0 mm. Since the liquid level height increases as the storage amount of the liquid 10 desired by the user increases, that is, as the replenishment cycle becomes longer, the height H2 increases and the gas pressure desired by the user decreases. The inner diameter D1 and outer diameter D2 of the nozzle 3 for liquid and the inner diameter D3 and outer diameter D4 of the nozzle 4 for liquid are reduced.

[実施の形態2]
図9は本発明の実施の第2の形態に係る静電気除去装置41の構造を示す縦断面図である。この図9は、前述の図2に対応しており、対応する部分には同一の参照符号を付して示し、その説明を省略する。注目すべきは、この静電気除去装置41では、前記筒体5の基端部5bが基台11に固定されておらず、代りに基台11に固定され、筒体5が内挿する案内筒42が設けられており、筒体5が浮上可能となっていることである。
[Embodiment 2]
FIG. 9 is a longitudinal sectional view showing the structure of a static eliminator 41 according to the second embodiment of the present invention. FIG. 9 corresponds to FIG. 2 described above, and corresponding portions are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted. It should be noted that in this static eliminator 41, the base end 5b of the cylinder 5 is not fixed to the base 11, but instead is fixed to the base 11 and the guide cylinder into which the cylinder 5 is inserted. 42 is provided, and the cylinder 5 can float.

これに対応して、前記案内筒42の基端部42bには前記開口5cに連通する開口42cが形成されている。また、筐体2の上部側には、浮力および気体用ノズル3からの気体の吐出圧による前記筒体5の必要以上の浮上を阻止するストッパ43が取付けられている。さらにまた、支持部材45の板厚が前記支持部材15よりも厚く形成されており、狭窄部45bに続く孔45aが前記孔15aに比べて延長形成され、筒体5の浮上がりによっても、気体用ノズル3が該孔45aから外れないようになっている。   Correspondingly, an opening 42 c communicating with the opening 5 c is formed in the base end portion 42 b of the guide cylinder 42. Further, a stopper 43 for preventing the cylinder 5 from floating more than necessary due to buoyancy and gas discharge pressure from the gas nozzle 3 is attached to the upper side of the housing 2. Furthermore, the plate thickness of the support member 45 is formed to be thicker than that of the support member 15, and a hole 45 a following the constricted portion 45 b is formed to extend as compared with the hole 15 a, The nozzle 3 is prevented from being removed from the hole 45a.

したがって、前記液体10が多く投入された場合は、筒体5および支持部材45内に抱え込んだ気体の浮力によって筒体5が浮上がり、これによって液体10が支持部材45の孔45a側から侵入し、混合気体の発生ができなくなってしまうことを未然に防止することができる。ただし、気体が液体10と混合した後に、長い孔45aを通過することになるので、使用可能な気体の最低圧力は若干上昇する。   Therefore, when a large amount of the liquid 10 is introduced, the cylindrical body 5 is lifted by the buoyancy of the gas held in the cylindrical body 5 and the support member 45, so that the liquid 10 enters from the hole 45 a side of the support member 45. It is possible to prevent the mixed gas from being generated. However, since the gas passes through the long hole 45a after mixing with the liquid 10, the minimum pressure of the usable gas slightly increases.

前記ストッパ43に代えて、筒体5の基端部5bにフランジを形成し、案内筒42の先端に内向きのフランジを形成することで、筒体5の浮き上がりを防止するようにしてもよい。   Instead of the stopper 43, a flange may be formed at the base end portion 5b of the cylinder 5 and an inward flange may be formed at the tip of the guide cylinder 42 to prevent the cylinder 5 from being lifted. .

[実施の形態3]
図10および図11は本発明の実施の第3の形態に係る静電気除去装置51の構造を示す図であり、図10は縦断面図であり、図11はノズル3,54の軸直角断面図である。上述の静電気除去装置1,41では、気体用ノズル3と液体用ノズル4とは2重筒構造となっており、それらの軌道は一致するけれども、本発明の最小限の構成は、図10および図11で示すように、気体用ノズル3の軌道と液体用ノズル54の軌道とが略交わるように配置し、その軌道の交点の下流側に拡散板6を設けるだけでよい。
[Embodiment 3]
10 and 11 are views showing the structure of the static eliminating device 51 according to the third embodiment of the present invention, FIG. 10 is a longitudinal sectional view, and FIG. 11 is a sectional view perpendicular to the axes of the nozzles 3 and 54. It is. In the static eliminators 1 and 41 described above, the gas nozzle 3 and the liquid nozzle 4 have a double cylinder structure, and their trajectories coincide, but the minimum configuration of the present invention is shown in FIG. As shown in FIG. 11, it is only necessary to arrange the gas nozzle 3 and the liquid nozzle 54 so that the orbit of the liquid nozzle 54 substantially intersects, and to provide the diffusion plate 6 on the downstream side of the intersection of the orbits.

しかしながら、前述の2重筒構造に比べて、気体用ノズル3から吐出される気体による液体用ノズル54からの液体10の吸出効率が悪く、この場合も、使用可能な気体の最低圧力は上昇する。   However, the suction efficiency of the liquid 10 from the liquid nozzle 54 by the gas discharged from the gas nozzle 3 is poor as compared with the above-described double cylinder structure, and in this case also, the minimum pressure of the usable gas increases. .

そこで、図12や図13で示すように、液体用ノズル54の径を小さくして、気体用ノズル3の外周面に複数配置することで、前記図10および図11で示す1本の構成に比べて、使用可能な気体の最低圧力を低下させることができる。たとえば2.0kgf/cm程度まで使用可能となる。 Therefore, as shown in FIGS. 12 and 13, by reducing the diameter of the liquid nozzle 54 and arranging a plurality of the nozzles on the outer peripheral surface of the gas nozzle 3, the single structure shown in FIGS. In comparison, the minimum pressure of the usable gas can be reduced. For example, it can be used up to about 2.0 kgf / cm 2 .

[実施の形態4]
図14および図15は本発明の実施の第4の形態に係る静電気除去装置61の構造を示す図であり、図14は縦断面図であり、図15はノズル3,64の平面図である。この静電気除去装置61も、気体用ノズル3の周囲から複数の液体用ノズル64が近接して、その軌道を略一致させるけれども、各液体用ノズル64は、その基端部64b側が相互に違反している。このため、各液体用ノズル64および気体用ノズル3は、脚部材65によって纏められている。各液体用ノズル64が挿通する脚部材65の基端部65bには、液体10の貯留部66がそれぞれ設けられている。
[Embodiment 4]
14 and 15 are views showing the structure of the static eliminating device 61 according to the fourth embodiment of the present invention, FIG. 14 is a longitudinal sectional view, and FIG. 15 is a plan view of the nozzles 3 and 64. . In the static eliminator 61, a plurality of liquid nozzles 64 are close to each other from the periphery of the gas nozzle 3 to substantially match their trajectories, but the liquid nozzles 64 violate each other on the base end portion 64b side. ing. Therefore, the liquid nozzles 64 and the gas nozzles 3 are collected by the leg members 65. Storage portions 66 for the liquid 10 are respectively provided at the base end portions 65b of the leg members 65 through which the liquid nozzles 64 are inserted.

したがって、複数種類の液体10の混合気体を作成することができる。混合割合は、各液体用ノズル64の径や、気体用ノズル3との合流位置を異ならせることで、調整することができる。   Therefore, a mixed gas of a plurality of types of liquids 10 can be created. The mixing ratio can be adjusted by differentiating the diameter of each liquid nozzle 64 and the merging position with the gas nozzle 3.

本発明の実施の第1の形態に係る静電気除去装置の基本的構成を示す透視斜視図である。It is a see-through | perspective perspective view which shows the basic composition of the static eliminating device which concerns on the 1st Embodiment of this invention. 図1の具体的構造を示す縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view which shows the specific structure of FIG. 図1の具体的構造を示す縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view which shows the specific structure of FIG. 本発明の実施の第1の形態に係る静電気除去装置におけるノズルの正面図である。It is a front view of the nozzle in the static eliminating device which concerns on the 1st Embodiment of this invention. 前記静電気除去装置における微細な霧状の混合気体を発生するメカニズムを詳しく説明するための縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view for demonstrating in detail the mechanism which generate | occur | produces the fine mist-like mixed gas in the said static elimination apparatus. 前記静電気除去装置の具体的な一構成例を示す斜視図である。It is a perspective view which shows one specific structural example of the said static eliminating device. 前記静電気除去装置の一使用例を示す図である。It is a figure which shows one example of use of the said static eliminating device. 前記静電気除去装置の他の使用例を示す図である。It is a figure which shows the other usage example of the said static eliminating device. 本発明の実施の第2の形態に係る静電気除去装置の構造を示す縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view which shows the structure of the static eliminating device which concerns on the 2nd Embodiment of this invention. 本発明の実施の第3の形態に係る静電気除去装置の構造を示す縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view which shows the structure of the static eliminating device which concerns on the 3rd Embodiment of this invention. 本発明の実施の第3の形態に係る静電気除去装置におけるノズルの軸直角断面図である。It is an axial orthogonal cross section of the nozzle in the static eliminating device which concerns on the 3rd Embodiment of this invention. 本発明の実施の第3の形態に係る静電気除去装置におけるノズルの軸直角断面図である。It is an axial orthogonal cross section of the nozzle in the static eliminating device which concerns on the 3rd Embodiment of this invention. 本発明の実施の第3の形態に係る静電気除去装置におけるノズルの軸直角断面図である。It is an axial orthogonal cross section of the nozzle in the static eliminating device which concerns on the 3rd Embodiment of this invention. 本発明の実施の第4の形態に係る静電気除去装置の構造を示す縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view which shows the structure of the static eliminating device which concerns on the 4th Embodiment of this invention. 本発明の実施の第4の形態に係る静電気除去装置におけるノズルの平面図である。It is a top view of the nozzle in the static eliminating device which concerns on the 4th Embodiment of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1,41,51,61 静電気除去装置
2 筐体
3 気体用ノズル
4,54,64 液体用ノズル
5 筒体
6 拡散板
10 気化対象の液体
11 基台
12 接栓
13 管路
14 調圧ねじ
15,45 支持部材
15a,45a 孔
15b 狭窄部
2b 天面
2c 壁面
21 基台
22 リザーバタンク
31 パーツフィーダ
32 ダクト
33 検出手段
34 制御回路
35 コンプレッサ
36 管路
37 電磁弁
38 ベルトコンベア
39 吹出し口
40 ノズル部材
42 案内筒
43 ストッパ
65 脚部材
66 貯留部
1, 41, 51, 61 Static eliminator 2 Housing 3 Gas nozzle 4, 54, 64 Liquid nozzle 5 Tubular body 6 Diffusion plate 10 Liquid to be vaporized 11 Base 12 Plug 13 Pipe line 14 Pressure adjusting screw 15 , 45 Support member 15a, 45a Hole 15b Narrow part 2b Top surface 2c Wall surface 21 Base 22 Reservoir tank 31 Parts feeder 32 Duct 33 Detection means 34 Control circuit 35 Compressor 36 Pipeline 37 Solenoid valve 38 Belt conveyor 39 Air outlet 40 Nozzle member 42 Guide cylinder 43 Stopper 65 Leg member 66 Storage part

Claims (10)

気体用のノズルと、
前記気体用のノズルの軌道に略交わる軌道を有するように配置され、前記気体用のノズルから吐出される気体に吸寄せられて、気化対象液体を吐出する液体用のノズルと、
前記気体用のノズルの軌道と液体用のノズルの軌道との交点の下流側に設けられ、前記気化対象液体の混合した気体が衝突し、その混合気体を微細化する拡散板とを含むことを特徴とする静電気除去装置。
A gas nozzle;
A liquid nozzle that is disposed so as to have a trajectory that substantially intersects the trajectory of the gas nozzle, is sucked by the gas discharged from the gas nozzle, and discharges the liquid to be vaporized;
A diffusion plate that is provided on the downstream side of the intersection of the gas nozzle orbit and the liquid nozzle orbit, the gas mixed with the liquid to be vaporized collides, and the mixture gas is refined. Features a static eliminator.
前記気体用のノズルと液体用のノズルとは、液体用のノズルの中心に気体用のノズルが嵌め込まれた2重筒構造から成り、両ノズルの吐出面は略一致し、前記液体用のノズルはその吐出面にかけて狭窄部となっていることを特徴とする請求項1記載の静電気除去装置。   The gas nozzle and the liquid nozzle have a double cylinder structure in which a gas nozzle is fitted in the center of the liquid nozzle, the discharge surfaces of both nozzles substantially coincide, and the liquid nozzle 2. The static eliminator according to claim 1, wherein a constriction is formed on the discharge surface. 前記狭窄部は、ノズルの軸直角方向での断面が楕円形状であり、楕円の短径部分の内周面が前記気体用のノズルの外周面に略密着し、前記拡散板は、前記気体用のノズルの外径より広く、かつ前記狭窄部の長径部分よりも狭い幅に形成されることを特徴とする請求項2記載の静電気除去装置。   The narrowed portion has an elliptical cross-section in the direction perpendicular to the axis of the nozzle, the inner peripheral surface of the ellipse minor axis portion is substantially in close contact with the outer peripheral surface of the gas nozzle, and the diffusion plate is used for the gas 3. The static eliminator according to claim 2, wherein the static eliminator is formed to have a width wider than an outer diameter of the nozzle and narrower than a long diameter portion of the narrowed portion. 前記気体用のノズル、液体用のノズルおよび拡散板を収容し、生成された霧状の混合気体の排出口を有する筐体を備えて成ることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の静電気除去装置。   4. The housing according to claim 1, further comprising: a housing that accommodates the gas nozzle, the liquid nozzle, and the diffusion plate, and has a generated mist-like mixed gas discharge port. The static eliminator described in the paragraph. 前記気体用のノズルの内径は0.5〜2.0mm、外径は1.0〜3.0mm、前記液体用のノズルの内径は2.0〜3.0mm、前記液体用のノズルの高さは50〜100mm、前記拡散板の幅は2.0〜4.0mmに形成されることを特徴とする請求項2〜4のいずれか1項に記載の静電気除去装置。 The inner diameter of the nozzle for the gas 0.5 to 2.0 mm, an outer diameter of 1.0 to 3.0 mm, the inner diameter of the nozzle before Symbol liquid is 2.0 to 3.0 mm, the nozzle for the liquid height 50 to 100 mm, prior Symbol width of diffuser static eliminator according to any one of claims 2-4, characterized in that formed in 2.0~4.0m m. 好ましくは、前記気体用のノズルの内径は0.5〜1.0mm、外径は1.0〜2.0mm、前記液体用のノズルの高さは50〜75mm、前記拡散板の幅は2.0〜3.0mmに形成されることを特徴とする請求項5記載の静電気除去装置。Preferably, the inner diameter of the gas nozzle is 0.5 to 1.0 mm, the outer diameter is 1.0 to 2.0 mm, the height of the liquid nozzle is 50 to 75 mm, and the width of the diffusion plate is 2. 6. The static eliminator according to claim 5, wherein the static eliminator is formed to a thickness of 0.0 to 3.0 mm. 前記排出口に連結され、所望とする噴霧先へ、生成された霧状の混合気体を供給するダクトをさらに備えることを特徴とする請求項4〜6のいずれか1項に記載の静電気除去装置。 Coupled to said discharge port, desired that the spray target, static eliminator according to any one of claims 4-6, characterized in that it further comprises a duct for supplying the generated mist of the mixed gas . 静電気量を検出する検出手段と、
前記検出手段での検出結果に応答し、前記気体用のノズルへの気体の供給を制御する制御手段とをさらに備えることを特徴とする請求項1〜のいずれか1項に記載の静電気除去装置。
Detection means for detecting the amount of static electricity;
In response to the detection result in the detecting unit, the static electricity removal according to any one of claims 1 to 7, further comprising a control means for controlling the supply of gas to the nozzle for the gas apparatus.
前記請求項1〜のいずれか1項に記載の静電気除去装置を用いることを特徴とする半導体素子の供給および/または搬送装置。 A device for supplying and / or transporting a semiconductor element using the static eliminator according to any one of claims 1 to 8 . 前記請求項1〜のいずれか1項に記載の静電気除去装置を用いることを特徴とする粉体の供給および/または搬送装置。 A powder supply and / or transport device using the static eliminator according to any one of claims 1 to 8 .
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