JP4781814B2 - Manufacturing method and manufacturing apparatus for build-up type multilayer printed wiring board - Google Patents

Manufacturing method and manufacturing apparatus for build-up type multilayer printed wiring board Download PDF

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本発明は、多層プリント配線板の一形態であるビルドアップ型多層プリント配線板の製造方法及び製造装置に関する。   The present invention relates to a manufacturing method and a manufacturing apparatus for a build-up type multilayer printed wiring board which is one form of a multilayer printed wiring board.

電子機器の高性能化、小型化などの要求に対応するために、プリント配線板に対して高密度化や薄型化が要求されている。これらの要求に応えるために、多層プリント配線板の一形態であるビルドアップ型多層プリント配線板が注目されている。   In order to meet demands for higher performance and smaller size of electronic devices, printed wiring boards are required to have higher density and thickness. In order to meet these requirements, a build-up type multilayer printed wiring board, which is one form of the multilayer printed wiring board, has attracted attention.

ビルドアップ型多層プリント配線板は、一般的に、樹脂を主成分とするコア材の両面側に形成された配線層と、この配線層間を接続するために例えばドリル加工により形成された貫通孔であるIVH(Interstitial Via Hole)と、このIVH及び各配線層を覆うように形成された絶縁層と、この絶縁層の所定の位置にレーザ加工等により形成された非貫通孔であるLVH(Laser Via Hole)及びドリル加工等により形成された貫通孔であるスルーホールと、このLVH及びスルーホールの内壁を覆うように絶縁層の表面に形成された配線層と、この配線層上に所定の開口部を有して形成されたソルダーレジスト層とを有するものである。   A build-up type multilayer printed wiring board is generally composed of a wiring layer formed on both sides of a core material mainly composed of a resin and a through hole formed by drilling, for example, to connect the wiring layers. An IVH (Interstitial Via Hole), an insulating layer formed so as to cover the IVH and each wiring layer, and a non-through hole LVH (Laser Via) formed by laser processing or the like at a predetermined position of the insulating layer Hole) and a through hole which is a through hole formed by drilling, a wiring layer formed on the surface of the insulating layer so as to cover the inner wall of the LVH and the through hole, and a predetermined opening on the wiring layer And a solder resist layer formed.

また、上述の絶縁層やソルダーレジスト層の形成方法として、スクリーンを用いて絶縁性樹脂インクやソルダーレジストインクを配線板に塗布するスクリーン印刷法、真空ラミネータを用いて絶縁性樹脂シート等を配線板に接着させる真空ラミネート法、及びロールコート法がある。
ロールコート法は、絶縁層やソルダーレジスト層を形成する際に、配線板を垂直に立てた状態で一対の塗布用ロールのロール間に挟み、絶縁性樹脂インクをロールを介して配線板の両面側に同時に塗布することが可能なので、片面ずつ塗布するスクリーン印刷法に比べて生産性に優れる。
また、絶縁層やソルダーレジスト層を形成する際に、安価な絶縁性樹脂インク及びソルダーレジストインクを用いることができるので、高価な絶縁性樹脂シートを用いる真空ラミネート法に比べて製造コストの低減に対して有利である。
従って、ロールコート法は、ビルドアップ型多層プリント配線板の製造方法において、絶縁層及びソルダーレジスト層の形成方法として有効な方法である。
In addition, as a method for forming the above-described insulating layer or solder resist layer, a screen printing method in which an insulating resin ink or solder resist ink is applied to a wiring board using a screen, an insulating resin sheet or the like using a vacuum laminator is used. There are a vacuum laminating method and a roll coating method.
In the roll coating method, an insulating layer or a solder resist layer is formed by sandwiching a wiring board between a pair of coating rolls in a state where the wiring board stands vertically, and insulating resin ink on both sides of the wiring board through the roll. Since it can be applied simultaneously to the side, the productivity is superior to the screen printing method in which each side is applied.
In addition, when forming an insulating layer or a solder resist layer, it is possible to use an inexpensive insulating resin ink and solder resist ink, so that the manufacturing cost can be reduced compared to a vacuum laminating method using an expensive insulating resin sheet. This is advantageous.
Therefore, the roll coating method is an effective method for forming the insulating layer and the solder resist layer in the manufacturing method of the build-up type multilayer printed wiring board.

ロールコート法により絶縁層やソルダーレジスト層を形成するプリント配線板の製造方法が、特許文献1に記載されている。
特許文献1の記載によれば、配線板の配線パターンの面積比率の小さい側の面に対する塗布圧力を、配線パターンの面積比率の大きい側の面に対する塗布圧力よりも小さくすることによって、表裏面で配線パターン面積比率の異なる配線板においても表裏面で均一な膜厚を有する絶縁層やソルダーレジスト層を形成可能としている。
特開2001−144419号公報
Patent Document 1 describes a method for manufacturing a printed wiring board in which an insulating layer and a solder resist layer are formed by a roll coating method.
According to the description of Patent Document 1, the coating pressure on the surface of the wiring board with the smaller area ratio of the wiring pattern is made smaller than the coating pressure on the surface of the wiring pattern with the larger area ratio, so that Even on wiring boards having different wiring pattern area ratios, an insulating layer and a solder resist layer having a uniform film thickness can be formed on the front and back surfaces.
JP 2001-144419 A

ところで、特許文献1に記載のプリント配線板の製造方法は、絶縁層を形成する際、配線板の両面側に同時に絶縁性樹脂インクを塗布するため、配線板のIVHの内部にボイドが発生する場合がある。このボイドをIVH内ボイドと呼ぶ。IVH内ボイドを有するビルドアップ型多層プリント配線板は、信頼性試験の一つである熱衝撃試験により熱ストレスを与えられると、IVH内ボイドが熱膨張して、IVHに対応した範囲及びその近傍の配線層が断線する場合がある。   By the way, in the method for manufacturing a printed wiring board described in Patent Document 1, when an insulating layer is formed, an insulating resin ink is simultaneously applied to both sides of the wiring board, so that voids are generated inside the IVH of the wiring board. There is a case. This void is called an IVH internal void. The build-up type multilayer printed wiring board having voids in IVH is subjected to thermal stress by a thermal shock test which is one of reliability tests. The wiring layer may be disconnected.

IVH内ボイドが発生する理由を、図16を用いて説明する。図16は、一対のロール110a,110bを用いて、絶縁性樹脂インク112を配線板100のIVH105の内部に充填させる様子を表す模式的断面図である。また、図16中の(a),(b),(c)は、その順に、配線板100が矢印Edの方向に移動していく様子を示している。また、図16中の矢印Ea,Ebは一対のロール110a,110bそれぞれの回転方向を示している。   The reason why the voids in IVH are generated will be described with reference to FIG. FIG. 16 is a schematic cross-sectional view illustrating a state in which the insulating resin ink 112 is filled into the IVH 105 of the wiring board 100 using a pair of rolls 110a and 110b. Moreover, (a), (b), and (c) in FIG. 16 show a state in which the wiring board 100 moves in the direction of the arrow Ed in that order. Also, arrows Ea and Eb in FIG. 16 indicate the rotation directions of the pair of rolls 110a and 110b.

図16に示すように、一対のロール110a,110bは、配線板100とそれぞれ接触している接触面積は等しい、即ち、配線板100の搬送方向Edにおける、一方のロール110aと配線板100と接触面の長さ125aと、他方のロール110bと配線板100と接触面の長さ125bとはほぼ等しいため、IVH105の内部にロール110a及びロール110bからほぼ同時に絶縁性樹脂インク112が注入される。このため、IVH105の内部の空気が閉じ込められ、この閉じ込められた空気がIVH内ボイドGになるものと考えられる。   As shown in FIG. 16, the pair of rolls 110 a and 110 b have the same contact area in contact with the wiring board 100, that is, contact with one roll 110 a and the wiring board 100 in the transport direction Ed of the wiring board 100. Since the length of the surface 125a and the length of the other roll 110b, the wiring board 100, and the contact surface 125b are substantially equal, the insulating resin ink 112 is injected into the IVH 105 almost simultaneously from the roll 110a and the roll 110b. For this reason, it is considered that the air inside the IVH 105 is trapped, and the trapped air becomes the void G in the IVH.

また、特許文献1に記載のプリント配線板の製造方法は、ソルダーレジスト層を形成する際、配線板の両面側に同時にソルダーレジストインクを塗布するため、上述した理由と同様の理由により、配線板のスルーホールの内部にボイドが発生する場合がある。このボイドをスルーホール内ボイドと呼ぶ。
スルーホール内ボイドを有するビルドアップ型多層プリント配線板に電子部品等をクリーム半田等を用いて実装する場合、クリーム半田を溶融させるリフロー工程において、配線板が加熱された際にスルーホール内ボイドが熱膨張して破裂し、スルーホールに対応した範囲及びその近傍に載置された電子部品等の載置位置がずれる可能性がある。電子部品の載置位置のずれ量が大きいと、配線板と電子部品との間で導通不良が発生し、実装基板としての機能に障害が生じる。
ソルダーレジスト層を形成する際の配線板の厚さは、絶縁層を形成する際の配線板の厚さよりも厚いので、IVHの内径とスルーホールの内径が略等しい場合、スルーホールのアスペクト比(スルーホールの内径に対する長さの比率)がIVHのアスペクト比よりも大きいため、スルーホール内ボイドは、IVH内ボイドGよりも高い確率で発生することが考えられる。
Moreover, since the manufacturing method of the printed wiring board of patent document 1 applies a soldering resist ink simultaneously on both surfaces side of a wiring board when forming a soldering resist layer, it is a wiring board for the reason similar to the reason mentioned above. Voids may occur inside the through-holes. This void is referred to as a through-hole void.
When mounting electronic components etc. on a build-up type multilayer printed wiring board with through-hole voids using cream solder etc., the voids in the through-holes are generated when the wiring board is heated in the reflow process to melt the cream solder. There is a possibility that the mounting position of an electronic component or the like placed in the range corresponding to the through hole and in the vicinity thereof may shift due to thermal expansion and rupture. If the displacement amount of the mounting position of the electronic component is large, a conduction failure occurs between the wiring board and the electronic component, and the function as a mounting substrate is impaired.
Since the thickness of the wiring board when forming the solder resist layer is thicker than the thickness of the wiring board when forming the insulating layer, the aspect ratio of the through hole (when the inner diameter of the IVH is substantially equal to the inner diameter of the through hole) Since the ratio of the length to the inner diameter of the through hole) is larger than the aspect ratio of IVH, it is considered that the void in the through hole is generated with a higher probability than the void G in the IVH.

そこで、本発明が解決しようとする課題は、絶縁層やソルダーレジスト層を形成する際、IVHやスルーホール内に発生するボイドを抑制するプリント配線板の製造方法及び製造装置を提供することにある。   Accordingly, the problem to be solved by the present invention is to provide a printed wiring board manufacturing method and manufacturing apparatus that suppress voids generated in IVH and through holes when forming an insulating layer and a solder resist layer. .

上記の課題を解決するために、本願各発明は次の手段を有する。
1)貫通孔(4)を有し且つ湾曲可能なコア材の両面に配線パターン(8a,8b)をそれぞれ形成する一方、これら配線パターン同士を前記貫通孔の内面を被覆する導電層(5a,5b)を介して電気的に接続した両面配線基板(9)を準備し、この後、ロールコータ(10a)における一対のロール間のニップ口を通じて前記両面配線基板を一方向に搬送する際に、前記両面配線基板の両面に前記ロールコータ(10a)によって絶縁インク(11a,31a)をそれぞれ塗布して、前記配線パターンを覆う絶縁層を形成すると同時に前記貫通孔(4)を前記絶縁インクで満たすインク塗布工程を実施するビルドアップ型多層プリント配線板の製造方法において、前記インク塗布工程は、前記ニップ口に向かう前記両面配線基板の部位を一方のロール(12b)の外周面に沿わせた状態で実施されることを特徴とするビルドアップ型多層プリント配線板の製造方法である。
2)貫通孔(4)を有し且つ湾曲可能なコア材の両面に配線パターン(8a,8b)をそれぞれ形成する一方、これら配線パターン同士を前記貫通孔(4)の内面を被覆する導電層(5a,5b)を介して電気的に接続した両面配線基板(9)を準備し、この後、前記両面配線基板が一方向に搬送されてロールコータ(10a)を通過する際、前記両面配線基板の両面にロールコータ(10a)によって絶縁インク(11a,31a)を塗布して、前記配線パターンを覆う絶縁層を形成すると同時に前記貫通孔を前記絶縁インクで満たすビルドアップ型多層プリント配線板の製造装置において、前記ロールコータ(10a)は、互いに接離可能な一対のロール(12a,12b)であって、これらロール間に前記両面配線基板(9)の通過を許容するニップ口を形成する一対のロール(12a,12b)と、前記一対のロールの各々に前記絶縁インクを供給するインク供給手段(14a,14b)と、前記一方向でみて前記ニップ口よりも上流で前記両面配線基板を一方のロールとの間にて挟み付け且つ前記両面配線基板の搬送を案内する案内部材を含み、この案内部材から前記ニップ口に至る前記両面配線基板の部位を前記一方のロール(12b)の外周面に接触させ、この外周面に沿わせて湾曲させる湾曲手段(30)と、前記一対のロールの回転駆動と協働し、前記配線コア材を前記一方向に搬送する搬送手段(15a)とを有することを特徴とするビルドアップ型多層プリント配線板の製造装置である。
In order to solve the above problems, each invention of the present application has the following means.
1) While forming wiring patterns (8a, 8b) on both surfaces of a core material having a through hole (4) and being bendable, conductive layers (5a, 8b) covering these wiring patterns with the inner surface of the through hole 5b) to prepare a double-sided wiring board (9) electrically connected through, and then transport the double-sided wiring board in one direction through a nip between a pair of rolls in the roll coater (10a), Insulating ink (11a, 31a) is applied to both surfaces of the double-sided wiring board by the roll coater (10a) to form an insulating layer covering the wiring pattern, and at the same time, the through hole (4) is filled with the insulating ink. In the manufacturing method of the build-up type multilayer printed wiring board that performs the ink application process, the ink application process includes a step of the part of the double-sided wiring board that faces the nip opening. Is a manufacturing method of a buildup type multilayer printed wiring board, characterized in that it is carried out in a state in which along the outer peripheral surface of the square of the roll (12b).
2) Conductive layers covering the inner surface of the through hole (4) while forming the wiring patterns (8a, 8b) on both surfaces of the core material having the through hole (4) and being bendable. The double-sided wiring board (9) electrically connected via (5a, 5b) is prepared, and then the double-sided wiring when the double-sided wiring board is transported in one direction and passes through the roll coater (10a). An insulating ink (11a, 31a) is applied to both surfaces of the substrate by a roll coater (10a) to form an insulating layer that covers the wiring pattern, and at the same time, a build-up type multilayer printed wiring board that fills the through hole with the insulating ink. In the manufacturing apparatus, the roll coater (10a) is a pair of rolls (12a, 12b) that can contact and separate from each other, and allows the double-sided wiring board (9) to pass between these rolls. A pair of rolls (12a, 12b) that form a nip opening that accommodates the ink, and an ink supply means (14a, 14b) that supplies the insulating ink to each of the pair of rolls; Including a guide member that sandwiches the double-sided wiring board with one roll upstream and guides the conveyance of the double-sided wiring board, and a portion of the double-sided wiring board from the guide member to the nip opening In contact with the outer peripheral surface of the roll (12b), the bending means (30) for bending along the outer peripheral surface, and the rotational driving of the pair of rolls, the wire core material is conveyed in the one direction. And a build-up type multilayer printed wiring board manufacturing apparatus characterized by having a conveying means (15a).

本発明によれば、ビルドアップ型多層プリント配線板の製造方法及び製造装置において、貫通孔を有する配線板の両面側に一対のロールを有するロールコータを用いて絶縁性樹脂インクやソルダーレジストインク等のインクを塗布する際に、配線板を一対のロールの内の一方のロールの外周面に沿って湾曲させることにより、貫通孔であるIVHやスルーホール内にインクをすることができるので、IVHやスルーホール内のボイドの発生を抑制することができるという効果を奏する。   According to the present invention, in a manufacturing method and a manufacturing apparatus of a build-up type multilayer printed wiring board, an insulating resin ink, a solder resist ink, etc. using a roll coater having a pair of rolls on both sides of the wiring board having a through hole When the ink is applied, the wiring board is curved along the outer peripheral surface of one of the pair of rolls, so that the ink can be put into the IVH or the through hole that is a through hole. And the generation of voids in the through hole can be suppressed.

本発明の実施の形態を、好ましい実施例により図1〜図15を用いて説明する。
図1及び図2は、本発明のビルドアップ型多層プリント配線板の製造方法の実施例における第1工程及び第2工程をそれぞれ説明するための模式的断面図である。
図3は、本発明のビルドアップ型多層プリント配線板の製造方法の実施例における絶縁層及びソルダーレジスト層の形成方法を説明するための工程フロー図である。
図4及び図5は、本発明のビルドアップ型多層プリント配線板の製造方法の実施例における第3工程を説明するための模式的断面図であると共に、本発明のビルドアップ型多層プリント配線板の製造装置の実施例を説明するための模式的断面図である。
図6は、本発明のビルドアップ型多層プリント配線板の製造方法の実施例における第3工程を説明するための模式的断面図である。
図7及び図8は、本発明のビルドアップ型多層プリント配線板の製造方法の実施例における第4工程を説明するための模式的断面図である。
図9〜図13は、本発明のビルドアップ型多層プリント配線板の製造方法の実施例における第5工程〜第9工程をそれぞれ説明するための模式的断面図である。
図14は、本発明のビルドアップ型多層プリント配線板の製造方法の実施例における第11工程を説明するための模式的断面図である。
An embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.
1 and 2 are schematic cross-sectional views for explaining a first step and a second step, respectively, in an embodiment of the method for manufacturing a build-up type multilayer printed wiring board according to the present invention.
FIG. 3 is a process flow diagram for explaining a method for forming an insulating layer and a solder resist layer in an embodiment of the method for manufacturing a build-up type multilayer printed wiring board according to the present invention.
4 and 5 are schematic cross-sectional views for explaining the third step in the embodiment of the manufacturing method of the build-up type multilayer printed wiring board of the present invention, and the build-up type multilayer printed wiring board of the present invention. It is typical sectional drawing for demonstrating the Example of this manufacturing apparatus.
FIG. 6 is a schematic cross-sectional view for explaining a third step in the embodiment of the method for manufacturing a build-up type multilayer printed wiring board according to the present invention.
7 and 8 are schematic cross-sectional views for explaining the fourth step in the embodiment of the method for manufacturing a build-up type multilayer printed wiring board according to the present invention.
FIGS. 9 to 13 are schematic cross-sectional views for explaining the fifth to ninth steps in the embodiment of the method for manufacturing a build-up type multilayer printed wiring board according to the present invention.
FIG. 14 is a schematic cross-sectional view for explaining an eleventh step in the embodiment of the manufacturing method of the build-up type multilayer printed wiring board of the present invention.

本発明のビルドアップ型多層プリント配線板の製造方法及び製造装置の実施例について、以下に説明する。なお、以下に説明するビルドアップ型多層プリント配線板の製造方法は、4層の配線層を有するビルドアップ型多層プリント配線板の製造方法である。   Examples of the manufacturing method and manufacturing apparatus of the build-up type multilayer printed wiring board of the present invention will be described below. In addition, the manufacturing method of the buildup type multilayer printed wiring board demonstrated below is a manufacturing method of the buildup type multilayer printed wiring board which has four wiring layers.

<実施例>
実施例は、ロールコート法を用いて絶縁層及びソルダーレジスト層を形成する工程において、配線板を湾曲させた状態で、配線板に絶縁性樹脂インク及びソルダーレジストインクを塗布することにより、IVH(Interstitial Via Hole)及びスルーホール内に発生するIVH内ボイド及びスルーホール内ボイドを抑制するものである。
実施例を第1工程〜第11工程として、図1〜図15を用いて以下に説明する。
<Example>
In the embodiment, in the step of forming the insulating layer and the solder resist layer by using the roll coating method, the insulating resin ink and the solder resist ink are applied to the wiring board in a state where the wiring board is curved, whereby IVH ( Interstitial Via Hole) and IVH voids and through-hole voids generated in the through-holes are suppressed.
Examples will be described below as first to eleventh steps with reference to FIGS.

(第1工程)[図1参照]
長さ340mm、幅510mm、板厚0.4mmの樹脂基板であるコア材1の表裏面に厚さ12μmの銅箔2a,2bがそれぞれ貼り合わせられた両面銅張り板3の所定位置に、銅箔2a,2b間を電気的に接続するためのIVH(Interstitial Via Hole)4を貫通孔として形成する。
このIVH4は、ドリル加工やレーザ加工により形成することができる。実施例では、ドリル加工により、その直径が約0.2mmであるIVH4を形成した。
なお、コア材1及び銅箔2a,2bの厚さやIVH4の直径は、実施例に限定されるものではない。
(First step) [See FIG. 1]
Copper is placed at a predetermined position on a double-sided copper-clad plate 3 in which copper foils 2a and 2b having a thickness of 12 μm are bonded to the front and back surfaces of the core material 1 which is a resin substrate having a length of 340 mm, a width of 510 mm, and a plate thickness of 0.4 mm. An IVH (Interstitial Via Hole) 4 for electrically connecting the foils 2a and 2b is formed as a through hole.
This IVH4 can be formed by drilling or laser processing. In the example, IVH4 having a diameter of about 0.2 mm was formed by drilling.
In addition, the thickness of the core material 1 and copper foil 2a, 2b and the diameter of IVH4 are not limited to an Example.

(第2工程)[図2参照]
IVH4の内面及び銅箔2a,2bの表面に、例えば、銅からなる第1めっき層5a,5bを形成する。この第1めっき層5a,5bは、例えば、無電解銅めっきを行った後さらに電解銅めっきを行うことで形成され、実施例では第1めっき層5a,5bの厚さが約20μmとなるようにめっき条件を設定した。
次に、フォトリソ法により、所定の配線パターン8aが得られるように第1めっき層5a及び銅箔2aを選択的にエッチングして第1配線層6を形成し、所定の配線パターン8bが得られるように第1めっき層5b及び銅箔2bを選択的にエッチングして第2配線層7を形成する。
上述の工程を経た両面銅張り板3を両面配線板9と呼ぶ。
(Second step) [See FIG. 2]
For example, first plating layers 5a and 5b made of copper are formed on the inner surface of IVH4 and the surfaces of copper foils 2a and 2b. The first plating layers 5a and 5b are formed, for example, by performing electroless copper plating and further electrolytic copper plating. In the embodiment, the thickness of the first plating layers 5a and 5b is about 20 μm. The plating conditions were set in
Next, the first wiring layer 6 is formed by selectively etching the first plating layer 5a and the copper foil 2a so as to obtain a predetermined wiring pattern 8a by photolithography, and a predetermined wiring pattern 8b is obtained. In this manner, the second wiring layer 7 is formed by selectively etching the first plating layer 5b and the copper foil 2b.
The double-sided copper-clad board 3 that has undergone the above-described steps is referred to as a double-sided wiring board 9.

次に、この両面配線板9の表裏面上に、ロールコート法を用いて絶縁層を形成する。
そこで、まず、この絶縁層の形成方法の概略を、図3を用いて説明する。
図3は、絶縁層の形成方法、及び、後述するソルダーレジスト層の形成方法の概略を説明するための工程フロー図である。
絶縁層の形成方法は、詳細は後述するが、図3に示すように、両面配線板9の両面に、第1の絶縁性樹脂インク11aを第1のロールコータ10aを用いて塗布して第1の樹脂インク層18a,18bを形成する第1塗布工程と、この第1の樹脂インク層18a,18bの上に、さらに、第2の絶縁性樹脂インク11bを第2のロールコータ10bを用いて塗布して第2の樹脂インク層19a,19bを形成する第2塗布工程と、この第1の樹脂インク層18a,18b及び第2の樹脂インク層19a,19bを、同時に硬化させて絶縁層20,21とする硬化工程とからなる。
第1塗布工程は、主として、IVH4内部に第1の絶縁性樹脂インク11aをIVH4内ボイドの発生を抑制して充填することを目的とした工程であり、第2塗布工程は、主として、第2の絶縁性樹脂インク11bで絶縁層の厚さを所定の厚さとすることを目的とした工程である。
Next, an insulating layer is formed on the front and back surfaces of the double-sided wiring board 9 using a roll coating method.
Therefore, first, an outline of a method for forming this insulating layer will be described with reference to FIG.
FIG. 3 is a process flow diagram for explaining an outline of a method for forming an insulating layer and a method for forming a solder resist layer described later.
The method of forming the insulating layer will be described in detail later. As shown in FIG. 3, the first insulating resin ink 11a is applied to both surfaces of the double-sided wiring board 9 by using the first roll coater 10a. A first coating step for forming one resin ink layer 18a, 18b, and a second insulating resin ink 11b on the first resin ink layer 18a, 18b, using a second roll coater 10b. The second resin ink layer 19a, 19b is applied to form the second resin ink layer 19a, 19b, and the first resin ink layer 18a, 18b and the second resin ink layer 19a, 19b are simultaneously cured to form an insulating layer. 20 and 21, a curing step.
The first application process is a process mainly intended to fill the IVH4 with the first insulating resin ink 11a while suppressing the generation of voids in the IVH4, and the second application process mainly includes the second application process. This is a process aimed at setting the thickness of the insulating layer to a predetermined thickness with the insulating resin ink 11b.

以降、第1塗布工程を第3工程、第2塗布工程を第4工程、硬化工程を第5工程として、以下に説明する。   Hereinafter, the first application process will be described as a third process, the second application process as a fourth process, and the curing process as a fifth process.

(第3工程)[図4〜図6参照]:第1塗布工程
この第1塗布工程は、第1のロールコータ10aを用いて、第1の絶縁性樹脂インク11aを両面配線板9の両面側に塗布する際、IVH4の内部、及び配線パターン8a,8bの間隙がこの第1の絶縁性樹脂インク11aで充填されることを目的にしている。
(Third Step) [Refer to FIGS. 4 to 6]: First Application Step In the first application step, the first insulating resin ink 11a is applied to both surfaces of the double-sided wiring board 9 using the first roll coater 10a. The purpose is to fill the inside of the IVH 4 and the gap between the wiring patterns 8a and 8b with the first insulating resin ink 11a when applied to the side.

まず、図4及び図5を用いて、第1塗布工程で用いる第1のロールコータ10aの構成について説明する。
図4に示すように、第1塗布工程で用いる第1のロールコータ10aは、一対のロール12a,12bと、この一対のロール12a,12bそれぞれと接触するように配置された一対のドクターバー13a,13bと、第1の絶縁性樹脂インク11aを溜めておくための貯蔵部14a,14bと、上述の第2工程で作製した両面配線板9を把持すると共にこの両面配線板9を一対のロール12a,12b間を通過させるための駆動手段を有する取り付け部15aと、両面配線板9を湾曲させる湾曲手段であるローラー部30と、を有している。
また、ロール12a,ドクターバー13a,及び貯蔵部14aからなるロール部16aと、ロール12b,ドクターバー13b,及び貯蔵部14bからなるロール部16bとは、それぞれを接離する方向に移動させる駆動手段(図示せず)と接続されている。
First, the structure of the 1st roll coater 10a used at a 1st application | coating process is demonstrated using FIG.4 and FIG.5.
As shown in FIG. 4, the first roll coater 10a used in the first coating step includes a pair of rolls 12a and 12b and a pair of doctor bars 13a disposed so as to come into contact with the pair of rolls 12a and 12b, respectively. , 13b, storage portions 14a, 14b for storing the first insulating resin ink 11a, and the double-sided wiring board 9 produced in the second step described above, and the double-sided wiring board 9 is paired with a pair of rolls. It has the attachment part 15a which has a drive means for making it pass between 12a and 12b, and the roller part 30 which is a bending means to bend the double-sided wiring board 9. As shown in FIG.
Moreover, the drive part which moves the roll part 16a which consists of the roll 12a, the doctor bar 13a, and the storage part 14a, and the roll part 16b which consists of the roll 12b, the doctor bar 13b, and the storage part 14b to contact and separate each. (Not shown).

ローラー部30は、両面配線板9のIVH4の内部に第1の絶縁性樹脂インク11aをIVH4内ボイドの発生を抑制して充填するために、両面配線板9を一方のロール12bの外周面に沿って湾曲させて、このロール12bと両面配線板9との接触面における両面配線板9の移動方向の長さを、他方のロール12aと両面配線板9との接触面における両面配線板9の移動方向の長さよりも長くするためのものである。   In order to fill the IVH4 of the double-sided wiring board 9 with the first insulating resin ink 11a while suppressing the generation of voids in the IVH4, the roller unit 30 places the double-sided wiring board 9 on the outer peripheral surface of one roll 12b. The length of the double-sided wiring board 9 in the moving direction at the contact surface between the roll 12b and the double-sided wiring board 9, and the length of the double-sided wiring board 9 at the contact surface between the other roll 12a and the double-sided wiring board 9 is curved. This is for making it longer than the length in the moving direction.

実施例では、ローラー部30として直径が約8mmの円柱状のステンレス材を用い、両面配線板9を矢印Ec1の方向に移動させてローラー部30に接触させた際の接触位置がローラー部30の軸Oよりもロール12b側に位置するように、ローラー部30の両端部を第1のロールコータ10aに固定した。   In the embodiment, a cylindrical stainless material having a diameter of about 8 mm is used as the roller portion 30, and the contact position when the double-sided wiring board 9 is moved in the direction of the arrow Ec <b> 1 and brought into contact with the roller portion 30 is the position of the roller portion 30. Both end portions of the roller portion 30 were fixed to the first roll coater 10a so as to be positioned closer to the roll 12b than the axis O.

また、ローラー部30を両面配線板9の矢印Ed及びEc1の方向に移動可能にすると共に任意の位置で固定するようにしてもよい。ローラー部30を矢印Ed及びEc1の方向に移動させることにより、両面配線板9が湾曲する度合いを変えることができるので、ロール12bと両面配線板9との接触面における両面配線板9の移動方向の長さと、他方のロール12aと両面配線板9との接触面における両面配線板9の移動方向の長さとの差を任意の値に設定することができる。   Further, the roller unit 30 may be movable in the directions of the arrows Ed and Ec1 of the double-sided wiring board 9 and fixed at an arbitrary position. Since the degree of curvature of the double-sided wiring board 9 can be changed by moving the roller part 30 in the directions of arrows Ed and Ec1, the moving direction of the double-sided wiring board 9 on the contact surface between the roll 12b and the double-sided wiring board 9 And the length in the moving direction of the double-sided wiring board 9 on the contact surface between the other roll 12a and the double-sided wiring board 9 can be set to an arbitrary value.

即ち、ローラー部30を矢印Edの方向に移動させることにより、両面配線板9が湾曲する度合いを大きくすることができるので、ロール12bと両面配線板9との接触面における両面配線板9の移動方向の長さを、ロール12aと両面配線板9との接触面における両面配線板9の移動方向の長さよりもより長くすることができる。
また、ローラー部30を矢印Edの方向に移動させることにより、両面配線板9を矢印Edの方向に移動させる際に、両面配線板9が湾曲した状態をより長い時間保持することが可能である。
That is, the degree of curvature of the double-sided wiring board 9 can be increased by moving the roller portion 30 in the direction of the arrow Ed, so that the double-sided wiring board 9 moves on the contact surface between the roll 12b and the double-sided wiring board 9. The length in the direction can be made longer than the length in the moving direction of the double-sided wiring board 9 on the contact surface between the roll 12a and the double-sided wiring board 9.
Further, by moving the roller portion 30 in the direction of the arrow Ed, when the double-sided wiring board 9 is moved in the direction of the arrow Ed, it is possible to hold the curved state of the double-sided wiring board 9 for a longer time. .

また、ローラー部30を矢印Ec1の方向に移動させることにより、両面配線板9が湾曲する度合いを小さくすることができるので、ロール12bと両面配線板9との接触面における両面配線板9の移動方向の長さと、ロール12aと両面配線板9との接触面における両面配線板9の移動方向の長さとの差を小さくすることができる。   In addition, since the degree of curvature of the double-sided wiring board 9 can be reduced by moving the roller unit 30 in the direction of the arrow Ec1, the double-sided wiring board 9 moves on the contact surface between the roll 12b and the double-sided wiring board 9. The difference between the length in the direction and the length in the moving direction of the double-sided wiring board 9 on the contact surface between the roll 12a and the double-sided wiring board 9 can be reduced.

両面配線板9の湾曲の度合いは両面配線板9の厚さや材質、及び両面配線板9の構成等によって異なるため、両面配線板9に損傷を与えない範囲でローラー部30の配置位置を設定することが必要である。   Since the degree of curvature of the double-sided wiring board 9 varies depending on the thickness and material of the double-sided wiring board 9, the configuration of the double-sided wiring board 9, etc., the arrangement position of the roller unit 30 is set within a range that does not damage the double-sided wiring board 9. It is necessary.

また、ローラー部30をその軸Oを回転軸として回転自在としてもよい。ローラー部30を回転自在とすることにより、ローラー部30を両面配線板9の移動方向Ed,Ec2に回転させることにより、両面配線板9の移動をより円滑に行うことができる。   Further, the roller unit 30 may be rotatable about the axis O as a rotation axis. By making the roller part 30 rotatable, the double-sided wiring board 9 can be moved more smoothly by rotating the roller part 30 in the moving directions Ed and Ec2 of the double-sided wiring board 9.

また、ローラー部30の形状は実施例に限定されるものではなく、例えば、ローラー部30の形状を板状とし、このローラー部30の一面が両面配線板9の移動方向Ecと略平行になると共に両面配線板9を矢印Ec1の方向に移動させた際に両面配線板9がローラー部30と接触するようにローラー部30を配置することにより、両面配線板9が移動する際、ローラー部30と両面配線板9とは面で接するため、両面配線板9の湾曲状態をより安定化することができる。   Moreover, the shape of the roller part 30 is not limited to an Example, For example, let the shape of the roller part 30 be plate shape, and one surface of this roller part 30 becomes substantially parallel to the moving direction Ec of the double-sided wiring board 9. At the same time, when the double-sided wiring board 9 is moved by moving the double-sided wiring board 9 in the direction of the arrow Ec1, the roller part 30 is arranged so that the double-sided wiring board 9 contacts the roller part 30. Since the double-sided wiring board 9 is in contact with the surface, the curved state of the double-sided wiring board 9 can be further stabilized.

また、ローラー部30の材質は実施例に限定されるものではないが、両面配線板9がローラー部30に接触した状態において、両面配線板9にキズ等の損傷を与えない材料であることが望ましい。   In addition, the material of the roller part 30 is not limited to the embodiment, but the double-sided wiring board 9 may be a material that does not damage the double-sided wiring board 9 when the double-sided wiring board 9 is in contact with the roller part 30. desirable.

次に、上述した一対のロール12a,12bについて、図5を用いて説明する。
図5に示すように、一対のロール12a,12bは、それぞれが円柱形状であり、ロール12aの外周部には周方向に延在する溝17aが一定のピッチ(開口幅に相当する)Laで複数形成されており、ロール12bの外周部には周方向に延在する溝17bが一定のピッチ(開口幅に相当する)Lbで複数形成されている。
また、この溝17a,17bは、一定のピッチ(開口幅に相当する)La,Lbで周方向にスパイラル状に延在するように形成してもよい。
Next, the pair of rolls 12a and 12b described above will be described with reference to FIG.
As shown in FIG. 5, each of the pair of rolls 12a and 12b has a columnar shape, and grooves 17a extending in the circumferential direction are formed at a constant pitch La (corresponding to the opening width) La on the outer periphery of the roll 12a. A plurality of grooves 17b extending in the circumferential direction are formed at a constant pitch (corresponding to the opening width) Lb on the outer peripheral portion of the roll 12b.
Further, the grooves 17a and 17b may be formed so as to extend in a spiral shape in the circumferential direction at a constant pitch (corresponding to the opening width) La and Lb.

実施例では、一対のロール12a,12bは、各直径Ra,Rbが約110mm、材質がエチレンプロピレンゴム(EPTともいう)、硬度Hvが60である。
また、ロール12aの溝17aは、ピッチ(開口幅)Laが120μm、深さtaが60μm、開口角θaが90度であり、ロール12bの溝17bは、ピッチ(開口幅)Lbが120μm、深さtbが60μm、開口角θbが90度である。
また、上述したロール12a,12bの溝17a,17bの形状及び寸法は実施例に限定されるものではないが、例えば、両面配線板に非貫通孔(有底穴ともいう)が形成されている場合、この非貫通孔の有する開口径よりも開口幅La,Lbを狭くすることが好ましい。非貫通孔の有する開口径よりも開口幅La,Lbを狭くすることにより、第1の絶縁性樹脂インク11aを両面配線板に塗布した際に非貫通孔内の空気が抜けやすくなるので、非貫通孔内に発生するボイドを抑制することができる。
In the embodiment, each of the pair of rolls 12a and 12b has a diameter Ra and Rb of about 110 mm, a material made of ethylene propylene rubber (also referred to as EPT), and a hardness Hv of 60.
Further, the groove 17a of the roll 12a has a pitch (opening width) La of 120 μm, a depth ta of 60 μm, and an opening angle θa of 90 degrees, and the groove 17b of the roll 12b has a pitch (opening width) Lb of 120 μm and a depth. The thickness tb is 60 μm and the opening angle θb is 90 degrees.
Further, the shapes and dimensions of the grooves 17a and 17b of the rolls 12a and 12b described above are not limited to those in the embodiment. For example, a non-through hole (also referred to as a bottomed hole) is formed in a double-sided wiring board. In this case, it is preferable to make the opening widths La and Lb narrower than the opening diameter of the non-through hole. By making the opening widths La and Lb narrower than the opening diameters of the non-through holes, air in the non-through holes can be easily released when the first insulating resin ink 11a is applied to the double-sided wiring board. Voids generated in the through hole can be suppressed.

次に、図4を用いて、第1の絶縁性樹脂インク11aの塗布方法について説明する。
第1の絶縁性樹脂インク11aを、所定の粘度、例えば、3〜6Pa・sの範囲内の粘度になるように粘度調整した後、貯蔵部14a,14bに供給する。
次に、一対のロール12a,12bを、図示しない駆動手段により、矢印Ea,Ebの方向に回転させると、貯蔵部14a,14bに溜められた第1の絶縁性樹脂インク11aが一対のロール12a,12bの溝17a,17bに入り込む。実施例では、一対のロール12a,12bの各外周部における回転スピードを1.2m/minに設定した。なお、この回転スピードは、実施例に限定されるものではないが、後述する両面配線板9の搬送速度よりも速くなるように設定することにより、両面配線板9に所定量の第1の絶縁性樹脂インク11aを安定して供給することができる。
Next, a method for applying the first insulating resin ink 11a will be described with reference to FIG.
The first insulating resin ink 11a is adjusted to have a predetermined viscosity, for example, a viscosity in the range of 3 to 6 Pa · s, and then supplied to the storage units 14a and 14b.
Next, when the pair of rolls 12a and 12b are rotated in the directions of the arrows Ea and Eb by a driving means (not shown), the first insulating resin ink 11a stored in the storage portions 14a and 14b is transferred to the pair of rolls 12a. 12b enters the grooves 17a and 17b. In the example, the rotation speed at each outer peripheral portion of the pair of rolls 12a and 12b was set to 1.2 m / min. The rotational speed is not limited to the embodiment, but a predetermined amount of the first insulation is provided on the double-sided wiring board 9 by setting the rotational speed to be faster than the conveyance speed of the double-sided wiring board 9 described later. Resin ink 11a can be stably supplied.

次に、図4に示すように、第2工程で作製した両面配線板9を取り付け部15aに固定する。
その後、ロール部16a及びロール部16bを、図示しない駆動手段により、それぞれが離れる方向に移動させる。
さらに、取り付け部15aを、図示しない駆動手段により矢印Ec1の方向に移動させて、両面配線板9の両面側の所定領域が一対のロール12a,12bの間を通過し終わった時点で、取り付け部15aを停止させる。
Next, as shown in FIG. 4, the double-sided wiring board 9 produced in the second step is fixed to the attachment portion 15a.
Then, the roll part 16a and the roll part 16b are moved in the direction which each leaves | separates with the drive means which is not shown in figure.
Further, when the attachment portion 15a is moved in the direction of the arrow Ec1 by a driving means (not shown) and the predetermined area on both sides of the double-sided wiring board 9 has passed between the pair of rolls 12a and 12b, the attachment portion 15a is stopped.

ここで、両面配線板9の移動方向について説明する。
両面配線板9は、まず、矢印Ec1の方向に移動し、一対のロール12a,12bの間を通ってローラー部30に接触する。
そして、ローラー部30に接触した両面配線板9は、ローラー部30をその軸Oが両面配線板9の厚さ方向の中心線c1よりもロール12a側に位置するように配置しているので、ローラー部30とロール12bとの間を矢印Ec2の方向に移動する。
Here, the moving direction of the double-sided wiring board 9 will be described.
First, the double-sided wiring board 9 moves in the direction of the arrow Ec1 and passes between the pair of rolls 12a and 12b and contacts the roller unit 30.
And since the double-sided wiring board 9 which contacted the roller part 30 has arrange | positioned the roller part 30 so that the axis | shaft O may be located in the roll 12a side rather than the centerline c1 of the thickness direction of the double-sided wiring board 9, It moves in the direction of arrow Ec2 between the roller part 30 and the roll 12b.

次に、ロール部16a及びロール部16bを、図示しない駆動手段によりそれぞれが接近する方向に移動させて、ロール12a及びロール12bそれぞれを両面配線板9に接触させる。この接触により、両面配線板9は、ローラー部30によって、ロール12bの外周面に沿ってその周方向に湾曲する。
両面配線板9は、樹脂を主成分とするコア材1と銅からなる配線パターン8a,8bとにより構成されているので湾曲可能であるが、湾曲の度合いは、上述したように基板の厚さや材質、及び基板の構成等によってことなるため、プリント基板に損傷を与えない範囲でプリント基板を湾曲させる必要がある。
Next, the roll part 16a and the roll part 16b are moved in directions in which the roll part 16a and the roll part 16b approach each other by a driving unit (not shown), and the rolls 12a and 12b are brought into contact with the double-sided wiring board 9, respectively. By this contact, the double-sided wiring board 9 is curved in the circumferential direction along the outer peripheral surface of the roll 12 b by the roller unit 30.
The double-sided wiring board 9 can be bent because it is composed of the core material 1 mainly composed of resin and the wiring patterns 8a and 8b made of copper. However, the degree of bending is determined by the thickness of the substrate as described above. Since it depends on the material, the configuration of the board, and the like, it is necessary to bend the printed board within a range that does not damage the printed board.

その後、取り付け部15aを、図示しない駆動手段により、所定の速度、例えば約0.8m/minで矢印Edの方向に移動させて、一対のロール12a,12bの溝17a,17bに充填されている第1の絶縁性樹脂インク11aを両面配線板9の表裏面に転写させていく。
両面配線板9が一対のロール12a,12bの間を完全に通過し終わった後、取り付け部15aを停止させる。
その後、取り付け部15aから両面配線板9を取り外す。
Thereafter, the mounting portion 15a is moved in the direction of the arrow Ed at a predetermined speed, for example, about 0.8 m / min, by a driving means (not shown) to fill the grooves 17a and 17b of the pair of rolls 12a and 12b. The first insulating resin ink 11 a is transferred to the front and back surfaces of the double-sided wiring board 9.
After the double-sided wiring board 9 has completely passed between the pair of rolls 12a and 12b, the attachment portion 15a is stopped.
Then, the double-sided wiring board 9 is removed from the attachment part 15a.

以上の工程により、図6に示すように、両面配線板9の両面側の所定領域に、第1の絶縁性樹脂インク11aからなる第1の樹脂インク層18a,18bを形成する。
IVH4の内部及び配線パターン間は、第1の絶縁性樹脂インク11aで充填されており、従来問題となっていたIVH内ボイドGが発生していないことを確認した。なお、IVH内ボイドGが発生しなかった理由については、後で詳述する。
また、第1配線層6及び第2配線層7上の第1の樹脂インク層18a,18bの厚さは約5μm以下と非常に薄く形成されており、また、第1の樹脂インク層18a,18bの表面は、配線パターン8a,8bの段差を第1の絶縁性樹脂インク11aで埋めたことにより、略平滑な面になっていることを確認した。
Through the above steps, as shown in FIG. 6, first resin ink layers 18a and 18b made of the first insulating resin ink 11a are formed in predetermined regions on both sides of the double-sided wiring board 9.
The inside of the IVH 4 and the space between the wiring patterns were filled with the first insulating resin ink 11a, and it was confirmed that the IVH void G, which was a problem in the past, was not generated. The reason why the IVH void G has not occurred will be described in detail later.
The first resin ink layers 18a and 18b on the first wiring layer 6 and the second wiring layer 7 are formed to be very thin with a thickness of about 5 μm or less, and the first resin ink layers 18a and 18b It was confirmed that the surface of 18b was a substantially smooth surface by filling the steps of the wiring patterns 8a and 8b with the first insulating resin ink 11a.

(第4工程)[図5,図7,図8参照]:第2塗布工程
次に、第4工程である第2塗布工程について説明する。
この第2塗布工程は、後述する第1絶縁層20及び第2絶縁層21が、所定の厚さ(実施例では60μm)が得られるように、第2の樹脂インク層19a,19bを形成することが目的である。
(4th process) [Refer FIG.5, FIG.7, FIG.8]: 2nd application | coating process Next, the 2nd application | coating process which is a 4th process is demonstrated.
In the second coating step, the second resin ink layers 19a and 19b are formed so that a first insulating layer 20 and a second insulating layer 21 to be described later have a predetermined thickness (60 μm in the embodiment). Is the purpose.

まず、図5及び図7を用いて、第2塗布工程で用いる第2のロールコータ10bの構成について説明する。
図7に示すように、第2塗布工程で用いる第2のロールコータ10bは、一対のロール12c,12dと、この一対のロール12c,12dそれぞれと接触するように配置された一対のドクターバー13c,13dと、第2の絶縁性樹脂インク11bを溜めておくための貯蔵部14c,14dと、第1塗布工程で作製した両面配線板9を固定し、この両面配線板9を一対のロール12c,12dの間を通過させるための駆動手段を有する取り付け部15bとを有している。
なお、ロール12c,ドクターバー13c,及び貯蔵部14cからなるロール部16cと、ロール12d,ドクターバー13d,及び貯蔵部14dからなるロール部16dとは、それぞれを接離する方向に移動させる駆動手段と接続されている。
First, the structure of the 2nd roll coater 10b used at a 2nd application | coating process is demonstrated using FIG.5 and FIG.7.
As shown in FIG. 7, the second roll coater 10b used in the second coating step includes a pair of rolls 12c and 12d and a pair of doctor bars 13c arranged so as to come into contact with the pair of rolls 12c and 12d, respectively. , 13d, storage portions 14c, 14d for storing the second insulating resin ink 11b, and the double-sided wiring board 9 produced in the first application step are fixed, and the double-sided wiring board 9 is fixed to a pair of rolls 12c. , 12d, and a mounting portion 15b having a driving means for passing between them.
In addition, the roll part 16c which consists of the roll 12c, the doctor bar 13c, and the storage part 14c, and the roll part 16d which consists of the roll 12d, the doctor bar 13d, and the storage part 14d move each in the direction which contacts / separates. Connected with.

また、図5に示すように、一対のロール12c,12dは、それぞれが円柱形状であり、ロール12cの外周部には周方向に延在する溝17cが一定のピッチ(開口幅に相当する)Lcで複数形成されており、ロール12dの外周部には周方向に延在する溝17dが一定のピッチ(開口幅に相当する)Ldで複数形成されている。
また、この溝17c,17dは、一定のピッチ(開口幅に相当する)Lc,Ldで周方向にスパイラル状に延在するように形成してもよい。
Further, as shown in FIG. 5, each of the pair of rolls 12c and 12d has a cylindrical shape, and grooves 17c extending in the circumferential direction are formed at a constant pitch (corresponding to the opening width) on the outer peripheral portion of the roll 12c. A plurality of grooves Ld are formed at a constant pitch (corresponding to the opening width) Ld.
The grooves 17c and 17d may be formed so as to extend in a spiral shape in the circumferential direction at a constant pitch (corresponding to the opening width) Lc and Ld.

実施例では、一対のロール12c,12dは、各直径Ra,Rbが約110mm、材質がエチレンプロピレンゴム(EPTともいう)、硬度Hvが60である。
また、ロール12cの溝17cは、ピッチ(開口幅)Lcが1mm、深さtcが0.5mm、開口角θcが90度であり、ロール12dの溝17dは、ピッチ(開口幅)Ldが1mm、深さtdが0.5mm、開口角θdが90度である。
In the embodiment, each of the pair of rolls 12c and 12d has a diameter Ra and Rb of about 110 mm, a material made of ethylene propylene rubber (also referred to as EPT), and a hardness Hv of 60.
Further, the groove 17c of the roll 12c has a pitch (opening width) Lc of 1 mm, a depth tc of 0.5 mm, and an opening angle θc of 90 degrees, and the groove 17d of the roll 12d has a pitch (opening width) Ld of 1 mm. The depth td is 0.5 mm and the opening angle θd is 90 degrees.

次に、図7を用いて、第2の絶縁性樹脂インク11bの塗布方法について、説明する。
図7に示すように、第2の絶縁性樹脂インク11bを貯蔵部14c,14dに供給する。実施例では、第2の絶縁性樹脂インク11bとして、第1塗布工程で用いた第1の絶縁性樹脂インク11aと同じものを用いた。
次に、一対のロール12c,12dを、図示しない駆動手段により、矢印Ea,Ebの方向に回転させると、貯蔵部14c,14dに溜められている第2の絶縁性樹脂インク11bが一対のロール12c,12dの溝17c,17dに入り込む。実施例では、一対のロール12c,12dの各回転スピードを1.2m/minに設定した。なお、この回転スピードは、実施例に限定されるものではないが、後述する両面配線板9の搬送速度よりも速くなるように設定することにより、両面配線板9に所定量の第2の絶縁性樹脂インク11bを安定して供給することができる。
Next, a method for applying the second insulating resin ink 11b will be described with reference to FIG.
As shown in FIG. 7, the second insulating resin ink 11b is supplied to the storage units 14c and 14d. In the examples, the second insulating resin ink 11b was the same as the first insulating resin ink 11a used in the first application step.
Next, when the pair of rolls 12c and 12d are rotated in the directions of the arrows Ea and Eb by driving means (not shown), the second insulating resin ink 11b stored in the storage portions 14c and 14d is paired with the pair of rolls. It enters into the grooves 17c and 17d of 12c and 12d. In the example, each rotational speed of the pair of rolls 12c and 12d was set to 1.2 m / min. The rotational speed is not limited to the embodiment, but a predetermined amount of the second insulation is provided on the double-sided wiring board 9 by setting the rotational speed to be higher than the conveyance speed of the double-sided wiring board 9 described later. Resin ink 11b can be supplied stably.

次に、第3工程で作製した両面配線板9を取り付け部15bに固定する。
その後、ロール部16c及びロール部16dを、図示しない駆動手段により、それぞれが離れる方向に移動させる。
さらに、取り付け部15bを、図示しない駆動手段により、矢印Efの方向に移動させて、両面配線板9の両面側の所定領域が一対のロール12a,12bの間を通過し終わった時点で、取り付け部15bを停止させる。
次に、ロール部16c及びロール部16dを、図示しない駆動手段により、それぞれが接近する方向に移動させて、ロール12c及びロール12dそれぞれを両面配線板9に接触させる。
Next, the double-sided wiring board 9 produced in the third step is fixed to the attachment portion 15b.
Then, the roll part 16c and the roll part 16d are moved in the direction which each leaves | separates with the drive means which is not shown in figure.
Further, the attachment portion 15b is moved in the direction of the arrow Ef by a driving means (not shown), and when the predetermined area on both sides of the double-sided wiring board 9 has passed between the pair of rolls 12a and 12b, the attachment portion 15b is attached. The part 15b is stopped.
Next, the roll part 16c and the roll part 16d are moved in the direction in which they approach each other by a driving means (not shown) to bring the rolls 12c and 12d into contact with the double-sided wiring board 9, respectively.

その後、取り付け部15bを、図示しない駆動手段により、所定の速度、例えば0.8m/minで矢印Edの方向に移動させて、一対のロール12c,12dの溝17c,17dに充填されている第2の絶縁性樹脂インク11bを両面配線板9の第1の樹脂インク層18a,18bの表面に転写させていく。
さらに、両面配線板9が一対のロール12c,12dの間を完全に通過し終わった後、取り付け部15bを停止させる。
その後、取り付け部15bから両面配線板9を取り外す。
Thereafter, the mounting portion 15b is moved in the direction of the arrow Ed at a predetermined speed, for example, 0.8 m / min, by a driving means (not shown), and the grooves 17c and 17d of the pair of rolls 12c and 12d are filled. The second insulating resin ink 11b is transferred to the surfaces of the first resin ink layers 18a and 18b of the double-sided wiring board 9.
Further, after the double-sided wiring board 9 has completely passed between the pair of rolls 12c and 12d, the attachment portion 15b is stopped.
Then, the double-sided wiring board 9 is removed from the attachment part 15b.

上述した工程により、図8に示すように、両面配線板9の両面側に形成された第1の樹脂インク層18a,18b上に、第2の絶縁性樹脂インク11bからなる第2の樹脂インク層19a,19bを形成する。
硬化されていない第1の絶縁性樹脂インク11aからなる第1の樹脂インク層18a,18bと、硬化されていない第2の絶縁性樹脂インク11bからなる第2の樹脂インク層19a,19bとは、その界面近傍において互いに混ざり合うため、その境界面をはっきりと確認することが困難である。
そこで、第1の樹脂インク層18a,18bと第2の樹脂インク層19a,19bとの総厚te,tf(第1配線層6の表面から第2の樹脂インク層19aの表面までの厚さ,第2配線層7の表面から第2の樹脂インク層19bの表面までの厚さ)を測定した結果、総厚te,tfはいずれも約80μmであり、その表面はほぼ平滑な面であることを確認した。
As shown in FIG. 8, the second resin ink made of the second insulating resin ink 11b is formed on the first resin ink layers 18a and 18b formed on the both surfaces of the double-sided wiring board 9, as shown in FIG. Layers 19a and 19b are formed.
The first resin ink layers 18a and 18b made of the uncured first insulating resin ink 11a and the second resin ink layers 19a and 19b made of the uncured second insulating resin ink 11b In the vicinity of the interface, they are mixed with each other, and it is difficult to confirm the boundary surface clearly.
Therefore, the total thickness te, tf of the first resin ink layers 18a, 18b and the second resin ink layers 19a, 19b (thickness from the surface of the first wiring layer 6 to the surface of the second resin ink layer 19a). , Thickness from the surface of the second wiring layer 7 to the surface of the second resin ink layer 19b), the total thickness te and tf are both about 80 μm, and the surface is a substantially smooth surface. It was confirmed.

(第5工程)[図9参照]:硬化工程
上述の工程を経た両面配線板9を、例えば150℃で1時間加熱することによって、第1の樹脂インク層18a,18b及び第2の樹脂インク層19a,19b中の溶剤を蒸発させると共に、第1の樹脂インク層18a,18b及び第2の樹脂インク層19a,19bを硬化させて、第1絶縁層20及び第2絶縁層21を得る。なお、第1の樹脂インク層18a,18bを形成するための第1の絶縁性樹脂インク11aと、第2の樹脂インク層19a,19bを形成するための第2の絶縁性樹脂インク11bとは各主成分が同じなので、第1絶縁層20及び第2絶縁層21は均一な樹脂成分を有する。
第1絶縁層20及び第2絶縁層21の厚さtg,th(第1配線層6の表面から第1絶縁層20の表面までの厚さ,第2配線層7の表面から第2絶縁層21の表面までの厚さ)は、それぞれの平均値が約60μmであり、それぞれの厚さのばらつきは±8μmである。
(Fifth Step) [Refer to FIG. 9]: Curing Step The first resin ink layers 18a and 18b and the second resin ink are heated by heating the double-sided wiring board 9 that has undergone the above-described steps at, for example, 150 ° C. for one hour. The solvent in the layers 19a and 19b is evaporated, and the first resin ink layers 18a and 18b and the second resin ink layers 19a and 19b are cured to obtain the first insulating layer 20 and the second insulating layer 21. The first insulating resin ink 11a for forming the first resin ink layers 18a and 18b and the second insulating resin ink 11b for forming the second resin ink layers 19a and 19b are as follows. Since the main components are the same, the first insulating layer 20 and the second insulating layer 21 have a uniform resin component.
Thickness tg, th of the first insulating layer 20 and the second insulating layer 21 (thickness from the surface of the first wiring layer 6 to the surface of the first insulating layer 20, the surface of the second wiring layer 7 to the second insulating layer 21), the average value of each is about 60 μm, and the variation in thickness is ± 8 μm.

上述した工程を経た両面配線板9のIVH4の内部を倍率を100倍とした光学顕微鏡で確認したところ、IVH内ボイドGは発生していなかった。
また、配線パターンの面積比率の小さい領域と大きい領域とにおける第1絶縁層20及び第2絶縁層21の各厚さはほぼ等しいことを確認した。
以上詳述したように、上述した工程により、IVH内ボイドGの発生を抑制すると共に、配線パターンの面積比率に因ることなく厚さのばらつきが±10μm以下と良好である第1絶縁層20及び第2絶縁層21を形成できることを確認した。
When the inside of the IVH4 of the double-sided wiring board 9 that had undergone the above-described steps was confirmed with an optical microscope with a magnification of 100, no intra-IVH void G was generated.
In addition, it was confirmed that the thicknesses of the first insulating layer 20 and the second insulating layer 21 in the area where the area ratio of the wiring pattern is small and the area where the area ratio is large are substantially equal.
As described in detail above, the first insulating layer 20 that suppresses generation of the void G in the IVH and has a favorable thickness variation of ± 10 μm or less regardless of the area ratio of the wiring pattern by the above-described steps. It was confirmed that the second insulating layer 21 can be formed.

(第6工程)[図10参照]
第5工程を経た両面配線板9の所定位置に、後述する第3配線層25と第4配線層26とを電気的に接続するためのスルーホール29を貫通孔として形成する。
このスルーホール29は、ドリル加工やレーザ加工により形成することができる。実施例では、ドリル加工により、その直径が約0.2mmであるスルーホール29を形成した。
(Sixth step) [Refer to FIG. 10]
A through hole 29 for electrically connecting a third wiring layer 25 and a fourth wiring layer 26 described later is formed as a through hole at a predetermined position of the double-sided wiring board 9 that has undergone the fifth step.
The through hole 29 can be formed by drilling or laser processing. In the example, the through hole 29 having a diameter of about 0.2 mm was formed by drilling.

次に、第1絶縁層20を介して第1配線層6と第3配線層25とを電気的に接続するための第1のLVH(Laser Via Hole)22を上述の工程を経た両面配線板9の所定位置に形成する。また、第2絶縁層21を介して第2配線層7と第4配線層26とを電気的に接続するための第2のLVH23を上述の工程を経た両面配線板9の所定位置に形成する。
具体的には、第1絶縁層20及び第2絶縁層21の所定位置にレーザ光を照射し、第1配線層6及び第2配線層7の表面が露出するように、レーザ照射された領域における第1絶縁層20及び第2絶縁層21を除去することにより、開口径が約150μmであるLVH22,23を形成する。このLVH22,23は、炭酸ガス(CO)レーザやYAGレーザを用いたレーザ加工により形成することができる。
Next, a first LVH (Laser Via Hole) 22 for electrically connecting the first wiring layer 6 and the third wiring layer 25 through the first insulating layer 20 is replaced with the double-sided wiring board that has undergone the above-described steps. 9 at predetermined positions. In addition, a second LVH 23 for electrically connecting the second wiring layer 7 and the fourth wiring layer 26 through the second insulating layer 21 is formed at a predetermined position of the double-sided wiring board 9 that has undergone the above-described steps. .
Specifically, the laser irradiated region is irradiated with laser light at predetermined positions of the first insulating layer 20 and the second insulating layer 21 so that the surfaces of the first wiring layer 6 and the second wiring layer 7 are exposed. By removing the first insulating layer 20 and the second insulating layer 21, LVHs 22 and 23 having an opening diameter of about 150 μm are formed. The LVHs 22 and 23 can be formed by laser processing using a carbon dioxide (CO 2 ) laser or a YAG laser.

実施例では、スルーホール29を形成した後にLVH22,23を形成したがこれに限定されるものではなく、例えば、LVH22,23を形成した後にスルーホール29を形成するようにしてもよい。   In the embodiment, the LVHs 22 and 23 are formed after the through holes 29 are formed. However, the present invention is not limited to this. For example, the through holes 29 may be formed after the LVHs 22 and 23 are formed.

(第7工程)[図11参照]
スルーホール29及びLVH22,23の内面を覆うように、第1絶縁層20及び第2絶縁層21の表面上に、例えば銅からなる第2めっき層24a,24bを形成する。この第2めっき層24a,24bは、無電解銅めっきを行った後、さらに電解銅めっきを行うことで形成され、実施例では第2めっき層24a,24bの厚さが約20μmとなるようにめっき条件を設定した。
その後、フォトリソ法により、所定の配線パターン27a,27bが得られるように、第2めっき層24a,24bを選択的にエッチングして、第3配線層25及び第4配線層26を形成する。
上述の工程を経た両面配線板9を4層配線板28と呼ぶ。
(Seventh step) [Refer to FIG. 11]
Second plating layers 24 a and 24 b made of, for example, copper are formed on the surfaces of the first insulating layer 20 and the second insulating layer 21 so as to cover the through holes 29 and the inner surfaces of the LVHs 22 and 23. The second plating layers 24a and 24b are formed by performing electroless copper plating and further electrolytic copper plating. In the embodiment, the thickness of the second plating layers 24a and 24b is about 20 μm. Plating conditions were set.
Thereafter, the second plating layers 24a and 24b are selectively etched to form the third wiring layer 25 and the fourth wiring layer 26 so as to obtain predetermined wiring patterns 27a and 27b by photolithography.
The double-sided wiring board 9 that has undergone the above-described steps is referred to as a four-layer wiring board 28.

この4層配線板28の表裏面側に、ロールコート法を用いてソルダーレジスト層を形成する。
まず、ソルダーレジスト層の形成方法の概略を、図3を用いて説明する。
図3に示すように、ソルダーレジスト層の形成方法は、4層配線板28の両面側に、第1のソルダーレジストインク31aを上述した第3工程で用いた第1のロールコータ10aにより塗布して第1のレジストインク層38a,38bを形成する第3塗布工程と、この第1のレジストインク層38a,38b上に、さらに、第2のソルダーレジストインク31bを上述した第4工程で用いた第2のロールコータ10bを用いて塗布して第2のレジストインク層39a,39bを形成する第4塗布工程と、この第1のレジストインク層38a,38b及び第2のレジストインク層39a,39bを同時に乾燥させる乾燥工程とからなる。
A solder resist layer is formed on the front and back surfaces of the four-layer wiring board 28 using a roll coating method.
First, an outline of a method for forming a solder resist layer will be described with reference to FIG.
As shown in FIG. 3, the solder resist layer is formed by applying the first solder resist ink 31a on both sides of the four-layer wiring board 28 by the first roll coater 10a used in the third step described above. Then, the second solder resist ink 31b was further used in the above-described fourth step on the third coating step for forming the first resist ink layers 38a and 38b, and on the first resist ink layers 38a and 38b. A fourth application step of applying the second roll coater 10b to form the second resist ink layers 39a and 39b; and the first resist ink layers 38a and 38b and the second resist ink layers 39a and 39b. And a drying step of simultaneously drying.

第3塗布工程は、主として、スルーホール29及びLVH22,23の内部を第1のソルダーレジストインク31aでスルーホール内ボイド及びLVH内ボイドの発生を抑制して充填することを目的とする工程であり、第4塗布工程は、主として、第2のソルダーレジストインク31bで後述するソルダーレジスト層40,41の厚さを所定の厚さとすることを目的とする工程である。   The third application step is a step mainly intended to fill the inside of the through hole 29 and the LVHs 22 and 23 with the first solder resist ink 31a while suppressing generation of voids in the through holes and voids in the LVH. The fourth application step is a step mainly intended to set the thickness of solder resist layers 40 and 41, which will be described later, with the second solder resist ink 31b to a predetermined thickness.

以降、第3塗布工程を第8工程、第4塗布工程を第9工程、乾燥工程を第10工程として説明する。   Hereinafter, the third application process will be described as an eighth process, the fourth application process as a ninth process, and the drying process as a tenth process.

(第8工程)[図4及び図12参照]:第3塗布工程
第3塗布工程は、上述した第3工程(第1塗布工程)で使用した第1のロールコータ10aを用いて、第1のソルダーレジストインク31aを4層配線板28の両面側に塗布する際、スルーホール29及びLVH22,23の内部がこの第1のソルダーレジストインク31aでスルーホール内ボイド及びLVH内ボイドの発生を抑制して充填されることを目的としている。
(Eighth step) [Refer to FIG. 4 and FIG. 12]: Third application step The third application step uses the first roll coater 10a used in the third step (first application step) described above, When the solder resist ink 31a is applied to both sides of the four-layer wiring board 28, the inside of the through holes 29 and the LVHs 22 and 23 is suppressed by the first solder resist ink 31a from the generation of voids in the through holes and LVH. The purpose is to be filled.

第1のソルダーレジストインク31aを、所定の粘度、例えば、4〜10Pa・sの範囲内になるように調整した後、図4に示す第1のロールコータ10aの貯蔵部14a,14bに供給する。
次に、第3工程(第1塗布工程)で詳述した手順と同様の手順に従って、図12に示すように、4層配線板28の表裏面側の所定領域に、第1のソルダーレジストインク31aからなる第1のレジストインク層38a,38bを形成する。
スルーホール29及びLVH22,23の内部は、第1のソルダーレジストインク31aで充填されており、スルーホール内ボイド及びLVH内ボイドが発生していないことを確認した。
なお、スルーホール内ボイドが発生しなかった理由については、上述したIVH内ボイドGが発生しなかった理由と合わせて、後で詳述する。
The first solder resist ink 31a is adjusted to have a predetermined viscosity, for example, within a range of 4 to 10 Pa · s, and then supplied to the storage units 14a and 14b of the first roll coater 10a shown in FIG. .
Next, according to a procedure similar to the procedure detailed in the third step (first coating step), as shown in FIG. 12, the first solder resist ink is applied to a predetermined region on the front and back sides of the four-layer wiring board 28. First resist ink layers 38a and 38b made of 31a are formed.
The insides of the through holes 29 and the LVHs 22 and 23 were filled with the first solder resist ink 31a, and it was confirmed that no voids in the through holes and no voids in the LVH were generated.
The reason why no through-hole void has occurred will be described later together with the reason why the IVH void G has not occurred.

LVH内ボイドが発生しなかった理由は、非貫通孔であるLVH22,23の有する開口径(実施例では約150μm)よりも開口幅La,Lb(第1実施例では約120μm)を狭くすることにより、第1のソルダーレジストインク31aを4層配線板28に塗布した際にLVH22,23内の空気が抜けやすくなったためと考えられる。   The reason why the LVH internal void did not occur is that the opening widths La and Lb (about 120 μm in the first embodiment) are narrower than the opening diameters (about 150 μm in the embodiment) of the LVHs 22 and 23 which are non-through holes. Therefore, it is considered that the air in the LVHs 22 and 23 was easily removed when the first solder resist ink 31a was applied to the four-layer wiring board 28.

(第9工程)[図7及び図13参照]:第4塗布工程
第4塗布工程は、後述するソルダーレジスト層40,41が所定の厚さ(実施例では20μm)となるように、第2のレジストインク層39a,39bを所定の厚さに形成することを目的としている。
(9th process) [Refer FIG.7 and FIG.13]: 4th application | coating process The 4th application | coating process is 2nd so that the soldering resist layers 40 and 41 mentioned later may become predetermined | prescribed thickness (20 micrometers in an Example). The resist ink layers 39a and 39b are formed to a predetermined thickness.

第2のソルダーレジストインク31bを、図7に示す第2のロールコータ10bの貯蔵部14c,14dに供給する。実施例では、第2のソルダーレジストインク31bとして、第3塗布工程で用いた第1のソルダーレジストインク31aと同じものを用いた。
次に、第4工程(第2塗布工程)で詳述した手順と同様の手順に従って、図13に示すように、4層配線板28の第1のレジストインク層38a,38b上に、第2のソルダーレジストインク31bからなる第2のレジストインク層39a,39bを形成する。
The second solder resist ink 31b is supplied to the storage units 14c and 14d of the second roll coater 10b shown in FIG. In the example, as the second solder resist ink 31b, the same one as the first solder resist ink 31a used in the third coating step was used.
Next, according to a procedure similar to that detailed in the fourth step (second coating step), the second resist ink layers 38a and 38b of the four-layer wiring board 28 are secondly patterned as shown in FIG. Second resist ink layers 39a and 39b made of the solder resist ink 31b are formed.

硬化されていない第1のレジストインク層38a,38bと硬化されていない第2のレジストインク層39a,39bとは、その界面近傍において互いに混ざり合うため、その境界面をはっきりと確認することは困難である。
そこで、第1のレジストインク層38a,38bと第2のレジストインク層39a,39bとの総厚ti,tj(第3配線層25の表面から第2のレジストインク層39aの表面までの厚さ,第4配線層26の表面から第2のレジストインク層39bの表面までの厚さ)を測定した結果、総厚ti,tjはいずれも約25μmになっていることを確認した。
Since the uncured first resist ink layers 38a and 38b and the uncured second resist ink layers 39a and 39b are mixed with each other in the vicinity of the interface, it is difficult to clearly check the boundary surface. It is.
Therefore, the total thickness ti, tj of the first resist ink layers 38a, 38b and the second resist ink layers 39a, 39b (thickness from the surface of the third wiring layer 25 to the surface of the second resist ink layer 39a). As a result of measuring the thickness from the surface of the fourth wiring layer 26 to the surface of the second resist ink layer 39b, it was confirmed that the total thicknesses ti and tj were both about 25 μm.

(第10工程):乾燥工程
上述の工程を経た4層配線板28を、例えば図示しない乾燥炉を用いて80℃で20分加熱することによって、第1のレジストインク層38a,38b及び第2のレジストインク層39a,39b中の溶剤を蒸発させて乾燥させる。乾燥後の第1のレジストインク層38a,38b及び第2のレジストインク層39a,39bは未硬化状態である。
(Tenth Step): Drying Step The four-layer wiring board 28 that has undergone the above-described steps is heated, for example, at 80 ° C. for 20 minutes by using a drying furnace (not shown), whereby the first resist ink layers 38a, 38b and second The solvent in the resist ink layers 39a and 39b is evaporated and dried. The first resist ink layers 38a and 38b and the second resist ink layers 39a and 39b after drying are in an uncured state.

(第11工程)[図14参照]
乾燥後の第1のレジストインク層38a,38b及び第2のレジストインク層39a,39bにフォトリソ法により所定の露光及び現像を行って、開口部44a,44bを形成する。
次に、この開口部44a,44bが形成された4層配線板28を、例えば150℃で30分加熱することによって、第1のレジストインク層38a,38b及び第2のレジストインク層39a,39bを硬化させる。この硬化された第1のレジストインク層38a,38b及び第2のレジストインク層39a,39bは、ソルダーレジスト層40,41となる。
(11th step) [Refer to FIG. 14]
The first resist ink layers 38a and 38b and the second resist ink layers 39a and 39b after drying are subjected to predetermined exposure and development by a photolithography method to form openings 44a and 44b.
Next, the four-layer wiring board 28 in which the openings 44a and 44b are formed is heated at, for example, 150 ° C. for 30 minutes to thereby form the first resist ink layers 38a and 38b and the second resist ink layers 39a and 39b. Is cured. The cured first resist ink layers 38a and 38b and second resist ink layers 39a and 39b become solder resist layers 40 and 41, respectively.

ソルダーレジスト層40,41の厚さtk,tm(第3配線層25の表面からソルダーレジスト層40の表面までの厚さ,第4配線層26の表面からソルダーレジスト層41の表面までの厚さ)を測定した結果、総厚tk,tmはいずれも約20μmになっていることを確認した。
また、ソルダーレジスト層40,41は、第1のレジストインク層38a,38bを形成するための第1のソルダーレジストインク31aと、第2のレジストインク層39a,39bを形成するための第2のソルダーレジストインク31bとは各主成分が同じなので均一な樹脂成分を有した層となっており、また、ソルダーレジスト層40,41の表面は略平坦な面になっていることを確認した。
Thickness tk, tm of the solder resist layers 40, 41 (thickness from the surface of the third wiring layer 25 to the surface of the solder resist layer 40, thickness from the surface of the fourth wiring layer 26 to the surface of the solder resist layer 41) ) Was measured, and it was confirmed that the total thickness tk and tm were both about 20 μm.
The solder resist layers 40 and 41 include a first solder resist ink 31a for forming the first resist ink layers 38a and 38b and a second solder ink for forming the second resist ink layers 39a and 39b. Since each main component is the same as that of the solder resist ink 31b, it is a layer having a uniform resin component, and it was confirmed that the surfaces of the solder resist layers 40 and 41 are substantially flat.

ソルダーレジスト層の表面が略平坦な面であるビルドアップ型多層プリント配線板に電子部品等を実装する際、電子部品を精度良くこのプリント配線板に実装することができる。詳しくは、ビルドアップ型多層プリント配線板の外層に位置基準パターンを形成し、この位置基準パターンを電子部品等を実装するための実装機の画像認識部で認識する際、ソルダーレジスト層の表面が略平坦な面であると光の屈折による認識画像の歪みが小さいので、位置基準パターンを認識する認識精度が向上するため、電子部品を精度良くこのプリント配線板に実装することができる。   When an electronic component or the like is mounted on a build-up type multilayer printed wiring board having a substantially flat surface of the solder resist layer, the electronic component can be mounted on the printed wiring board with high accuracy. Specifically, when the position reference pattern is formed on the outer layer of the build-up type multilayer printed wiring board and this position reference pattern is recognized by the image recognition unit of the mounting machine for mounting electronic components, the surface of the solder resist layer is Since the recognition image distortion due to light refraction is small when the surface is substantially flat, the recognition accuracy for recognizing the position reference pattern is improved, so that the electronic component can be mounted on the printed wiring board with high accuracy.

上述した工程により、IVH内ボイドやスルーホール内ボイドの発生が抑制された4層の配線層(6,7,25,26)からなるビルドアップ型多層プリント配線板50を得る。   Through the above-described steps, the build-up type multilayer printed wiring board 50 including the four wiring layers (6, 7, 25, 26) in which generation of voids in IVH and voids in through holes is suppressed is obtained.

ここで、IVH内ボイドGの発生が抑制された解決理由について、図15を用いて説明する。図15は、実施例の第1塗布工程(図4参照)において、第1のロールコータ10aのローラー部30によってロール12bの外周面に沿って湾曲した両面配線板9のIVH4の内部に第1の絶縁性樹脂インク11aを充填させる様子を表す模式的断面図である。また、図15中の(a),(b),(c)は、その順に、両面配線板9が矢印Edの方向に移動していく様子を示している。   Here, the reason why the generation of the void G in the IVH is suppressed will be described with reference to FIG. FIG. 15 shows the first application in the IVH 4 of the double-sided wiring board 9 curved along the outer peripheral surface of the roll 12b by the roller portion 30 of the first roll coater 10a in the first application step (see FIG. 4) of the embodiment. It is typical sectional drawing showing a mode that it fills with the insulating resin ink 11a. Further, (a), (b), and (c) in FIG. 15 show how the double-sided wiring board 9 moves in the direction of the arrow Ed in that order.

図15に示すように、両面配線板9をロール12bの外周面に沿って湾曲させることによって、一対のロール12a,12bと両面配線板9との各接触面の面積を異ならせることができる。
即ち、両面配線板9の搬送方向Edにおけるロール12bと両面配線板9との接触面の長さ150bを、ロール12aと両面配線板9との接触面の長さ150aよりも長くすることにより、絶縁性樹脂インク11aは、まずロール12b側から供給されてIVH4の内部を充填する。このため、IVH4の内部の空気はロール12a側に押し出されるので、IVH内ボイドGの発生を抑制できるものと考えられる。
従って、IVH内ボイドGの発生を抑制するためには、IVH4の内部がロール12b側から供給される絶縁性樹脂インク11aで充填されるように、長さ150bを長さ150aよりも長くすればよい。
As shown in FIG. 15, the area of each contact surface between the pair of rolls 12a and 12b and the double-sided wiring board 9 can be varied by bending the double-sided wiring board 9 along the outer peripheral surface of the roll 12b.
That is, by making the length 150b of the contact surface between the roll 12b and the double-sided wiring board 9 in the transport direction Ed of the double-sided wiring board 9 longer than the length 150a of the contact surface between the roll 12a and the double-sided wiring board 9, The insulating resin ink 11a is first supplied from the roll 12b side and fills the inside of the IVH4. For this reason, since the air inside IVH4 is pushed out to the roll 12a side, it is thought that generation | occurrence | production of the void G in IVH can be suppressed.
Therefore, in order to suppress the generation of the void G in the IVH, the length 150b is made longer than the length 150a so that the inside of the IVH4 is filled with the insulating resin ink 11a supplied from the roll 12b side. Good.

また、スルーホール内ボイドの発生が抑制された解決理由についても、上述したIVH内ボイドGの発生が抑制された解決理由と同様の理由により説明することができる。   Further, the reason why the generation of voids in the through holes is suppressed can also be explained for the same reason as the reason why the generation of voids G in the IVH is suppressed.

また、実施例では、両面配線板9をロール12bの表面に沿ってその周方向に湾曲させたが、ローラー部30の中心軸Oがロール12a側になるようにローラー部30を配置することにより、両面配線板9をロール12aの外周面に沿って湾曲させるようにしても、同様の効果、即ちIVH内ボイド及びスルーホール内ボイドを抑制できるという効果が得られる。   Moreover, in the Example, although the double-sided wiring board 9 was curved to the circumferential direction along the surface of the roll 12b, by arrange | positioning the roller part 30 so that the central axis O of the roller part 30 may become the roll 12a side. Even if the double-sided wiring board 9 is curved along the outer peripheral surface of the roll 12a, the same effect, that is, the effect of suppressing the voids in the IVH and the voids in the through hole can be obtained.

本発明の実施例は、上述した構成及び手順に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において変形例としてもよいのは言うまでもない。   The embodiment of the present invention is not limited to the configuration and procedure described above, and it goes without saying that modifications may be made without departing from the scope of the present invention.

例えば、実施例では、第1塗布工程と第2塗布工程と硬化工程とをそれぞれ独立した工程として説明したが、これに限定されるものではなく、例えば、第1のロールコータと第2のロールコータと硬化(乾燥)炉とからなる一体型の塗布硬化装置を用いて、第1塗布工程と第2塗布工程と硬化工程とを連続して行ってもよい。   For example, in the embodiment, the first coating process, the second coating process, and the curing process are described as independent processes, but the present invention is not limited to this. For example, the first roll coater and the second roll The first coating process, the second coating process, and the curing process may be performed continuously using an integrated coating and curing apparatus that includes a coater and a curing (drying) furnace.

また、実施例では、第3塗布工程と第4塗布工程と乾燥工程とをそれぞれ独立した工程として説明したが、これに限定されるものではなく、例えば、第1のロールコータと第2のロールコータと乾燥炉とからなる一体型の塗布乾燥装置を用いて、第3塗布工程と第4塗布工程と乾燥工程とを連続して行ってもよい。   In the embodiment, the third coating process, the fourth coating process, and the drying process are described as independent processes. However, the present invention is not limited to this. For example, the first roll coater and the second roll The third coating process, the fourth coating process, and the drying process may be continuously performed using an integrated coating / drying apparatus including a coater and a drying furnace.

また、実施例では、4層の配線層からなるビルドアップ型多層プリント配線板の製造方法について説明したが、これに限定されるものではない。即ち、本発明は、2層以上の多層の配線層からなるビルドアップ型多層プリント配線板の製造方法においても、同様の効果を得ることができる。   Moreover, although the Example demonstrated the manufacturing method of the buildup type | mold multilayer printed wiring board which consists of four wiring layers, it is not limited to this. That is, the present invention can achieve the same effect even in a method for manufacturing a build-up type multilayer printed wiring board composed of two or more multilayer wiring layers.

また、実施例では、第1の絶縁性樹脂インク及び第2の絶縁性樹脂インクを同じ樹脂成分としたがこれに限定されるものではなく、異なる樹脂成分であっても構わない。
また、第1のソルダーレジストインクと第2のソルダーレジストインクを同じ樹脂成分としたがこれに限定されるものではなく、異なる樹脂成分であっても構わない。
In the embodiment, the first insulating resin ink and the second insulating resin ink are the same resin component. However, the present invention is not limited to this, and different resin components may be used.
Moreover, although the 1st soldering resist ink and the 2nd soldering resist ink were made into the same resin component, it is not limited to this, A different resin component may be sufficient.

また、実施例では、第1の絶縁性樹脂インク及び第2の絶縁性樹脂インクを同じ粘度としたがこれに限定されるものではなく、異なる粘度であっても構わない。
ところで、第1の絶縁性樹脂インク及び第2の絶縁性樹脂インクの粘度は、インクの溶剤体積比率を変えることによって調整することができる。即ち、溶剤体積比率を大きくすることによって粘度を低くすることができ、逆に、溶剤体積比率を小さくすることによって粘度を高くすることができる。
そこで、第1の絶縁性樹脂インク11aの溶剤体積比率を小さくすることにより、この第1の絶縁性樹脂インク11aを硬化する際に蒸発する溶剤の量を少なくすることができるので、IVH4の範囲に対応する絶縁層の表面に生じる窪みの窪み量を低減することができる。窪み量の大きい窪みを有する絶縁層の表面上に配線パターンを形成すると、この窪み上に形成された配線パターンが断線したり、配線パターン間でショート不良が発生する場合がある。
In the embodiment, the first insulating resin ink and the second insulating resin ink have the same viscosity. However, the present invention is not limited to this, and may have different viscosities.
By the way, the viscosity of the first insulating resin ink and the second insulating resin ink can be adjusted by changing the solvent volume ratio of the ink. That is, the viscosity can be lowered by increasing the solvent volume ratio, and conversely, the viscosity can be increased by decreasing the solvent volume ratio.
Therefore, by reducing the solvent volume ratio of the first insulating resin ink 11a, the amount of the solvent that evaporates when the first insulating resin ink 11a is cured can be reduced. It is possible to reduce the amount of dents generated on the surface of the insulating layer corresponding to. When a wiring pattern is formed on the surface of an insulating layer having a dent with a large amount of dent, the wiring pattern formed on the dent may be disconnected or a short-circuit defect may occur between the wiring patterns.

なお、溶剤体積比率を小さくするとレベリング性が悪化するが、第1塗布工程では、第1の絶縁性樹脂インク11aをIVH4の内部及び配線パターン8aの段差を埋めるように充填することが目的であるので、第1塗布工程ではレベリング性の悪化は問題にならない。   In addition, although leveling property will deteriorate if solvent volume ratio is made small, in the 1st application | coating process, it is the objective to fill the 1st insulating resin ink 11a so that the level | step difference of IVH4 and the wiring pattern 8a may be filled. Therefore, deterioration of leveling property does not become a problem in the first coating process.

また、第1の絶縁性樹脂インク11aの溶剤体積比率を小さくした場合、第1の絶縁性樹脂インク11aはレベリング性が悪くなるため、第1配線層6及び第2配線層7上に第1の樹脂インク層18a,18bが厚く形成されると、第1の樹脂インク層18a,18bの表面における平滑性が悪化することが考えられる。
従って、実施例のように、第1の絶縁性樹脂インク11aをIVH4の内部及び配線パターンの段差を埋めるように充填し、かつ、第1配線層6及び第2配線層7上に第1の樹脂インク層18a,18bがほとんど形成されない程度になるように、塗布条件を設定することが望ましい。
Further, when the solvent volume ratio of the first insulating resin ink 11a is reduced, the leveling property of the first insulating resin ink 11a is deteriorated. Therefore, the first insulating resin ink 11a has a first level on the first wiring layer 6 and the second wiring layer 7. If the resin ink layers 18a and 18b are formed thick, the smoothness on the surfaces of the first resin ink layers 18a and 18b may be deteriorated.
Accordingly, as in the embodiment, the first insulating resin ink 11a is filled in the IVH 4 so as to fill the steps of the wiring pattern, and the first wiring layer 6 and the second wiring layer 7 are filled with the first insulating resin 11a. It is desirable to set the coating conditions so that the resin ink layers 18a and 18b are hardly formed.

本発明のビルドアップ型多層プリント配線板の製造方法の実施例における第1工程を説明するための模式的断面図である。It is typical sectional drawing for demonstrating the 1st process in the Example of the manufacturing method of the buildup type multilayer printed wiring board of this invention. 本発明のビルドアップ型多層プリント配線板の製造方法の実施例における第2工程を説明するための模式的断面図である。It is typical sectional drawing for demonstrating the 2nd process in the Example of the manufacturing method of the buildup type multilayer printed wiring board of this invention. 本発明のビルドアップ型多層プリント配線板の製造方法の実施例における絶縁層及びソルダーレジスト層の形成方法を説明するための工程フロー図である。It is a process flowchart for demonstrating the formation method of the insulating layer and soldering resist layer in the Example of the manufacturing method of the buildup type multilayer printed wiring board of this invention. 本発明のビルドアップ型多層プリント配線板の製造方法の実施例における第3工程を説明するための模式的断面図であると共に、本発明のビルドアップ型多層プリント配線板の製造装置の実施例を説明するための模式的断面図である。It is typical sectional drawing for demonstrating the 3rd process in the Example of the manufacturing method of the buildup type multilayer printed wiring board of this invention, and is the Example of the manufacturing apparatus of the buildup type multilayer printed wiring board of this invention It is a typical sectional view for explaining. 本発明のビルドアップ型多層プリント配線板の製造方法の実施例における第3工程を説明するための模式的断面図であると共に、本発明のビルドアップ型多層プリント配線板の製造装置の実施例を説明するための模式的断面図である。It is typical sectional drawing for demonstrating the 3rd process in the Example of the manufacturing method of the buildup type multilayer printed wiring board of this invention, and is the Example of the manufacturing apparatus of the buildup type multilayer printed wiring board of this invention It is a typical sectional view for explaining. 本発明のビルドアップ型多層プリント配線板の製造方法の実施例における第3工程を説明するための模式的断面図である。It is typical sectional drawing for demonstrating the 3rd process in the Example of the manufacturing method of the buildup type multilayer printed wiring board of this invention. 本発明のビルドアップ型多層プリント配線板の製造方法の実施例における第4工程を説明するための模式的断面図である。It is typical sectional drawing for demonstrating the 4th process in the Example of the manufacturing method of the buildup type multilayer printed wiring board of this invention. 本発明のビルドアップ型多層プリント配線板の製造方法の実施例における第4工程を説明するための模式的断面図である。It is typical sectional drawing for demonstrating the 4th process in the Example of the manufacturing method of the buildup type multilayer printed wiring board of this invention. 本発明のビルドアップ型多層プリント配線板の製造方法の実施例における第5工程を説明するための模式的断面図である。It is typical sectional drawing for demonstrating the 5th process in the Example of the manufacturing method of the buildup type multilayer printed wiring board of this invention. 本発明のビルドアップ型多層プリント配線板の製造方法の実施例における第6工程を説明するための模式的断面図である。It is typical sectional drawing for demonstrating the 6th process in the Example of the manufacturing method of the buildup type multilayer printed wiring board of this invention. 本発明のビルドアップ型多層プリント配線板の製造方法の実施例における第7工程を説明するための模式的断面図である。It is typical sectional drawing for demonstrating the 7th process in the Example of the manufacturing method of the buildup type multilayer printed wiring board of this invention. 本発明のビルドアップ型多層プリント配線板の製造方法の実施例における第8工程を説明するための模式的断面図である。It is typical sectional drawing for demonstrating the 8th process in the Example of the manufacturing method of the buildup type multilayer printed wiring board of this invention. 本発明のビルドアップ型多層プリント配線板の製造方法の実施例における第9工程を説明するための模式的断面図である。It is typical sectional drawing for demonstrating the 9th process in the Example of the manufacturing method of the buildup type multilayer printed wiring board of this invention. 本発明のビルドアップ型多層プリント配線板の製造方法の実施例における第11工程を説明するための模式的断面図である。It is typical sectional drawing for demonstrating the 11th process in the Example of the manufacturing method of the buildup type multilayer printed wiring board of this invention. IVH内ボイド及びスルーホール内ボイドの発生を抑制する解決理由を説明するための模式的断面図である。It is typical sectional drawing for demonstrating the solution reason which suppresses generation | occurrence | production of the void in IVH and the void in a through hole. IVH内ボイド及びスルーホール内ボイドが発生する理由を説明するための模式的断面図である。It is typical sectional drawing for demonstrating the reason why the void in IVH and the void in a through hole generate | occur | produce.

符号の説明Explanation of symbols

1 コア材、 2a,2b 銅箔、 3 両面銅張り板、 4 IVH、 5a,5b,24a,24b めっき層、 6,7,25,26 配線層、 8a,8b,27a,27b 配線パターン、 9 両面配線板、 10a,10b ロールコータ、 11a,11b 絶縁性樹脂インク、 12a〜12d ロール、 13a〜13d ドクターバー、 14a〜14d 貯蔵部、 15a,15b 取付け部、 16a〜16d ロール部、 17a〜17d 溝、 18a,18b,19a,19b 樹脂インク層、 20,21 絶縁層、 22,23 LVH、 28 4層配線板、 29 スルーホール、 30 ローラー部、 31a,31b ソルダーレジストインク、 38a,38b,39a,39b レジストインク層、 40,41 ソルダーレジスト層、 44a,44b 開口部、 50 ビルドアップ型多層プリント配線板、 La〜Ld ピッチ(開口部)、 Ra〜Rd 直径、 ta〜td 深さ、 θa〜θd 開口角、 te〜tk,tm 厚さ、 O 軸、 c1 中心線 1 core material, 2a, 2b copper foil, 3 double-sided copper-clad plate, 4 IVH, 5a, 5b, 24a, 24b plating layer, 6, 7, 25, 26 wiring layer, 8a, 8b, 27a, 27b wiring pattern, 9 Double-sided wiring board, 10a, 10b roll coater, 11a, 11b insulating resin ink, 12a-12d roll, 13a-13d doctor bar, 14a-14d storage part, 15a, 15b mounting part, 16a-16d roll part, 17a-17d Groove, 18a, 18b, 19a, 19b Resin ink layer, 20, 21 Insulating layer, 22, 23 LVH, 28 Four-layer wiring board, 29 Through hole, 30 Roller part, 31a, 31b Solder resist ink, 38a, 38b, 39a 39b Resist ink layer 40, 41 Solder Dist layer, 44a, 44b opening, 50 build-up type multilayer printed wiring board, La to Ld pitch (opening), Ra to Rd diameter, ta to td depth, θa to θd opening angle, te to tk, tm thickness , O axis, c1 center line

Claims (2)

貫通孔を有し且つ湾曲可能なコア材の両面に配線パターンをそれぞれ形成する一方、これら配線パターン同士を前記貫通孔の内面を被覆する導電層を介して電気的に接続した両面配線基板を準備し、この後、ロールコータにおける一対のロール間のニップ口を通じて前記両面配線基板を一方向に搬送する際に、前記両面配線基板の両面に前記ロールコータによって絶縁インクをそれぞれ塗布して、前記配線パターンを覆う絶縁層を形成すると同時に前記貫通孔を前記絶縁インクで満たすインク塗布工程を実施するビルドアップ型多層プリント配線板の製造方法において、
前記インク塗布工程は、
前記ニップ口に向かう前記両面配線基板の部位を一方のロールの外周面に沿わせた状態で実施されることを特徴とするビルドアップ型多層プリント配線板の製造方法。
A double-sided wiring board is prepared in which wiring patterns are formed on both surfaces of a core material having a through-hole and bendable, and the wiring patterns are electrically connected to each other via a conductive layer covering the inner surface of the through-hole. Thereafter, when the double-sided wiring board is conveyed in one direction through a nip opening between a pair of rolls in the roll coater, an insulating ink is respectively applied to both sides of the double-sided wiring board by the roll coater, and the wiring In the manufacturing method of the build-up type multilayer printed wiring board that performs the ink application process of filling the through hole with the insulating ink at the same time as forming the insulating layer covering the pattern,
The ink application step includes
A method of manufacturing a build-up type multilayer printed wiring board, wherein the method is carried out in a state where a part of the double-sided wiring board facing the nip port is aligned with an outer peripheral surface of one roll.
貫通孔を有し且つ湾曲可能なコア材の両面に配線パターンをそれぞれ形成する一方、これら配線パターン同士を前記貫通孔の内面を被覆する導電層を介して電気的に接続した両面配線基板を準備し、この後、前記両面配線基板が一方向に搬送されてロールコータを通過する際、前記両面配線基板の両面にロールコータによって絶縁インクを塗布して、前記配線パターンを覆う絶縁層を形成すると同時に前記貫通孔を前記絶縁インクで満たすビルドアップ型多層プリント配線板の製造装置において、
前記ロールコータは、
互いに接離可能な一対のロールであって、これらロール間に前記両面配線基板の通過を許容するニップ口を形成する一対のロールと、
前記一対のロールの各々に前記絶縁インクを供給するインク供給手段と、
前記一方向でみて前記ニップ口よりも上流で前記両面配線基板を一方のロールとの間にて挟み付け且つ前記両面配線基板の搬送を案内する案内部材を含み、この案内部材から前記ニップ口に至る前記両面配線基板の部位を前記一方のロールの外周面に接触させ、この外周面に沿わせて湾曲させる湾曲手段と、
前記一対のロールの回転駆動と協働し、前記配線コア材を前記一方向に搬送する搬送手段と
を有することを特徴とするビルドアップ型多層プリント配線板の製造装置。
A double-sided wiring board is prepared in which wiring patterns are formed on both surfaces of a core material having a through-hole and bendable, and the wiring patterns are electrically connected to each other via a conductive layer covering the inner surface of the through-hole. Then, when the double-sided wiring board is conveyed in one direction and passes through a roll coater, an insulating ink is applied to both sides of the double-sided wiring board by a roll coater to form an insulating layer that covers the wiring pattern. At the same time, in the manufacturing apparatus of a build-up type multilayer printed wiring board that fills the through hole with the insulating ink,
The roll coater
A pair of rolls capable of contacting and separating from each other, a pair of rolls forming a nip opening that allows the double-sided wiring board to pass between the rolls;
Ink supply means for supplying the insulating ink to each of the pair of rolls;
A guide member that sandwiches the double-sided wiring board with one roll upstream of the nip opening when viewed in the one direction and guides the conveyance of the double-sided wiring board; A bending means for bringing the part of the double-sided wiring board to reach the outer peripheral surface of the one roll and bending it along the outer peripheral surface ;
An apparatus for manufacturing a build-up type multilayer printed wiring board, comprising: a conveying means for conveying the wiring core material in the one direction in cooperation with rotational driving of the pair of rolls.
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