JP4763836B2 - Phosphoric acid residue-containing (meth) acrylamide-containing composition, phosphorus acid residue-containing vinyl polymer-containing composition, production method and use thereof - Google Patents

Phosphoric acid residue-containing (meth) acrylamide-containing composition, phosphorus acid residue-containing vinyl polymer-containing composition, production method and use thereof Download PDF

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本発明は、難燃性、絶縁性及び透明性に優れたリン系酸残基含有ビニル系重合体含有組成物及びその原料であるリン系酸残基含有(メタ)アクリルアミド含有組成物、並びにかかる重合体含有組成物の製造方法及び用途に関する。   The present invention relates to a phosphoric acid residue-containing vinyl polymer-containing composition excellent in flame retardancy, insulation and transparency, a phosphoric acid residue-containing (meth) acrylamide-containing composition as a raw material thereof, and such a composition. The present invention relates to a production method and use of a polymer-containing composition.

アクリル系樹脂等のエチレン性不飽和結合含有化合物の重合体(ビニル系重合体)は、成形性、絶縁性、透明性等に優れているので、多岐の分野で使用されている。しかしビニル系重合体は容易に燃焼するので、一般的に難燃剤が添加されている。難燃剤としては、優れた難燃性をビニル系重合体に付与するのみならず、火災時やリサイクル処理時に有毒ガスを発生しないようにハロゲンを含まないリン系化合物が好ましい。しかし、リン系化合物をビニル系重合体に練り混んだり、塗布したりしただけでは、リン系化合物のブリードアウトや脱落が生じ、ビニル系重合体に恒久的な難燃性を付与することができなかった。   A polymer (vinyl polymer) of an ethylenically unsaturated bond-containing compound such as an acrylic resin is excellent in moldability, insulation, transparency, and the like, and thus is used in various fields. However, since a vinyl polymer burns easily, a flame retardant is generally added. As the flame retardant, a phosphorus-based compound not containing halogen is preferable so that not only excellent flame retardancy is imparted to the vinyl polymer, but also a toxic gas is not generated at the time of fire or recycling treatment. However, if the phosphorus compound is kneaded or applied to the vinyl polymer, the phosphorus compound may bleed out or fall off, and permanent flame retardancy can be imparted to the vinyl polymer. There wasn't.

そこで特開2007-106803号(特許文献1)は、恒久的な難燃性を有するビニル系重合体として、下記式(I):

(ただしRは水素基又はメチル基である)により表されるN-モノホスホン酸(メタ)アクリルアミドのアミン変性物、及び/又は下記式(II):

(ただしRは水素基又はメチル基である)により表されるN, N-ジホスホン酸(メタ)アクリルアミドのアミン変性物と、その他の不飽和化合物((メタ)アクリロニトリル、(メタ)アクリル酸等)との共重合体を提案している。
Therefore, JP 2007-106803 (Patent Document 1) discloses the following formula (I) as a vinyl polymer having permanent flame retardancy:

(Wherein R is a hydrogen group or a methyl group) and an amine-modified product of N-monophosphonic acid (meth) acrylamide represented by the following formula (II):

(However, R is a hydrogen group or a methyl group) N, N-diphosphonic acid (meth) acrylamide modified with amines and other unsaturated compounds ((meth) acrylonitrile, (meth) acrylic acid, etc.) Has been proposed as a copolymer.

しかしN-モノホスホン酸(メタ)アクリルアミド及びN, N-ジホスホン酸(メタ)アクリルアミドのアミン変性物と、その他の不飽和化合物とを均一に混合するのは容易ではなく、必ずしも透明な共重合体が得られず、特許文献1のビニル系重合体は外観上良好でないことがあった。またN-モノホスホン酸(メタ)アクリルアミド及びN, N-ジホスホン酸(メタ)アクリルアミドは導電性を有し、アミン変性しても良好な絶縁性が得られず、特許文献1のビニル系重合体は絶縁性が要求される用途に適していなかった。   However, it is not easy to mix N-monophosphonic acid (meth) acrylamide and amine-modified N, N-diphosphonic acid (meth) acrylamide with other unsaturated compounds, and a transparent copolymer is not always necessary. In some cases, the vinyl polymer of Patent Document 1 was not good in appearance. In addition, N-monophosphonic acid (meth) acrylamide and N, N-diphosphonic acid (meth) acrylamide have conductivity, and even if they are amine-modified, good insulation cannot be obtained. It was not suitable for applications that required insulation.

特開2007-106803号公報JP 2007-106803 JP

従って、本発明の目的は、難燃性、絶縁性及び透明性に優れたリン系酸残基含有ビニル系重合体含有組成物及びその原料であるリン系酸残基含有(メタ)アクリルアミド含有組成物、並びにかかる重合体含有組成物の製造方法及び用途を提供することである。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a phosphorus acid residue-containing vinyl polymer-containing composition that is excellent in flame retardancy, insulation, and transparency, and a phosphorus acid residue-containing (meth) acrylamide-containing composition that is a raw material thereof. And a method for producing such a polymer-containing composition and use thereof.

上記目的に鑑み鋭意研究の結果、本発明者は、(1) リン系酸残基を有する(メタ)アクリルアミド及び含窒素界面活性剤を含む組成物は、その他のエチレン性不飽和結合含有化合物と良好に相溶して透明な混合物が得られること、及び(2) かかる混合物中のリン系酸残基含有(メタ)アクリルアミドとその他のエチレン性不飽和結合含有化合物とを反応させると、難燃性、絶縁性及び透明性に優れたビニル系重合体含有組成物が得られることを見出し、本発明に想到した。   As a result of intensive studies in view of the above object, the present inventor has found that (1) a composition containing (meth) acrylamide having a phosphorus acid residue and a nitrogen-containing surfactant is composed of other ethylenically unsaturated bond-containing compounds. When a transparent mixture is obtained with good compatibility and (2) the phosphoric acid residue-containing (meth) acrylamide and other ethylenically unsaturated bond-containing compound in the mixture are reacted, flame retardancy The present inventors have found that a vinyl polymer-containing composition having excellent properties, insulating properties and transparency can be obtained, and arrived at the present invention.

すなわち、本発明のリン系酸残基含有(メタ)アクリルアミド含有組成物は、(ポリ)ホスホン酸基及び/又は(ポリ)リン酸基からなるリン系酸残基を有する(メタ)アクリルアミド(A)と、含窒素界面活性剤(B)とを含むものであって、
前記リン系酸残基含有(メタ)アクリルアミド(A)は、式(1):

(ただしR1は水素基又はメチル基であり、X1及びX2はそれぞれ独立に(ポリ)ホスホン酸基又は(ポリ)リン酸基である)により表されるN, N-置換(メタ)アクリルアミド、及び式(2):

(ただしR1は水素基又はメチル基であり、X3は(ポリ)ホスホン酸基又は(ポリ)リン酸基である)により表されるN-置換(メタ)アクリルアミドのいずれか又はこれらの混合物であり、
前記含窒素界面活性剤(B)は、(ポリ)エーテル基を含有するアミン系界面活性剤、及び四級アンモニウム塩基を含有するカチオン性界面活性剤のいずれか又はこれらの混合物であることを特徴とする。
That is, the phosphoric acid residue-containing (meth) acrylamide-containing composition of the present invention has a (meth) acrylamide (A) having a phosphoric acid residue composed of a (poly) phosphonic acid group and / or a (poly) phosphoric acid group. ) And a nitrogen-containing surfactant (B),
The phosphorus acid residue-containing (meth) acrylamide (A) has the formula (1):

(Wherein R 1 is a hydrogen group or a methyl group, and X 1 and X 2 are each independently a (poly) phosphonic acid group or a (poly) phosphoric acid group) N, N-substituted (meth) Acrylamide and formula (2):

(Wherein R 1 is a hydrogen group or a methyl group, and X 3 is a (poly) phosphonic acid group or a (poly) phosphoric acid group), or any of N-substituted (meth) acrylamides represented by these or a mixture thereof And
The nitrogen-containing surfactant (B) is any one of an amine-based surfactant containing a (poly) ether group and a cationic surfactant containing a quaternary ammonium base, or a mixture thereof. And

前記(ポリ)エーテル基含有アミン系界面活性剤は、式(3):

[ただしR2は炭素数1〜30の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素数6〜30のアリール基、又は炭素数7〜30のアリールアルキル基であり、R3は炭素数2〜4の直鎖状又は分岐状のアルキレン基であり、R4は-(R4aO)kH基(R4aは炭素数2〜4の直鎖状又は分岐状のアルキレン基である)、炭素数1〜30の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素数6〜30のアリール基、炭素数7〜30のアリールアルキル基、又は水素基であり、f及びkはそれぞれ独立に1〜30の整数である]により表される第一の(ポリ)エーテル基含有アミン系界面活性剤、及び式(4):

[ただしR5は炭素数1〜30の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素数6〜30のアリール基、又は炭素数7〜30のアリールアルキル基であり、R6は-(R6aO)sH基(R6aは炭素数2〜4の直鎖状又は分岐状のアルキレン基である)、炭素数1〜30の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素数6〜30のアリール基、炭素数7〜30のアリールアルキル基、又は水素基であり、R7は炭素数1〜6の直鎖状又は分岐状のアルキレン基であり、R8は炭素数2〜4の直鎖状又は分岐状のアルキレン基であり、R9は-(R9aO)tH基(R9aは炭素数2〜4の直鎖状又は分岐状のアルキレン基である)、炭素数1〜30の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素数6〜30のアリール基、炭素数7〜30のアリールアルキル基、又は水素基であり、r、s及びtはそれぞれ独立に1〜30の整数である]により表される第二の(ポリ)エーテル基含有アミン系界面活性剤のいずれか又はこれらの混合物であるのが好ましい。
The (poly) ether group-containing amine surfactant has the formula (3):

[However, R 2 is a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, or an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms, and R 3 is 2 to 2 carbon atoms. 4 linear or branched alkylene groups, R 4 is a — (R 4a O) k H group (R 4a is a linear or branched alkylene group having 2 to 4 carbon atoms), carbon A linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms, or a hydrogen group, and f and k are each independently 1 to 30 A first (poly) ether group-containing amine surfactant represented by formula (4):

[Wherein R 5 is a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, or an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms, and R 6 is — (R 6a O) s H group (R 6a is a linear or branched alkylene group having 2 to 4 carbon atoms), a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, 6 to 30 carbon atoms An aryl group, an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms, or a hydrogen group, R 7 is a linear or branched alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, and R 8 is a straight chain having 2 to 4 carbon atoms. A chain or branched alkylene group, R 9 is a — (R 9a O) t H group (R 9a is a linear or branched alkylene group having 2 to 4 carbon atoms); 30 linear or branched alkyl group, aryl group having 6 to 30 carbon atoms, arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms, or hydrogen group, and r, s and t are each independently 1 to 1 It is preferably any one of the second (poly) ether group-containing amine surfactants represented by the following formula: or a mixture thereof.

前記カチオン性界面活性剤は、式(5):

(ただしR10及びR13はそれぞれ独立に炭素数1〜30の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素数6〜30のアリール基、又は炭素数7〜30のアリールアルキル基であり、R11及びR12はそれぞれ独立に炭素数1〜6の直鎖状又は分岐状のアルキル基であり、R10〜R13にはいずれも水酸基、エステル結合及びアミノ基からなる群から選ばれた少なくとも一種が結合していてもよく、Y-は対イオンである)により表される第一のカチオン性界面活性剤、式(6):


(ただしR14は炭素数1〜30の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素数6〜30のアリール基、又は炭素数7〜30のアリールアルキル基であり、Y-は対イオンである)により表される第二のカチオン性界面活性剤、式(7):

(ただしR15は炭素数1〜30の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素数6〜30のアリール基、又は炭素数7〜30のアリールアルキル基であり、R16及びR17はそれぞれ独立に炭素数1〜6の直鎖状又は分岐状のアルキル基であり、R18は炭素数1〜30の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基、炭素数6〜30のアリーレン基又は炭素数7〜30のアリーレンアルキル基であり、R15〜R18にはいずれも水酸基、エステル結合及びアミノ基からなる群から選ばれた少なくとも一種が結合していてもよい)により表される第三のカチオン性界面活性剤、及び式(8):

(ただしR19は炭素数1〜30の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素数6〜30のアリール基、又は炭素数7〜30のアリールアルキル基である)により表される第四のカチオン性界面活性剤からなる群から選ばれた少なくとも一種であるのが好ましい。
The cationic surfactant has the formula (5):

(However, R 10 and R 13 are each independently a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, or an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms; 11 and R 12 are each independently a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and each of R 10 to R 13 is at least selected from the group consisting of a hydroxyl group, an ester bond and an amino group. A first cationic surfactant represented by formula (6), wherein one species may be bound, Y - is a counter ion:


(However, R 14 is a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, or an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms, and Y is a counter ion. ) A second cationic surfactant represented by formula (7):

(However, R 15 is a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, or an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms, and R 16 and R 17 are respectively Independently a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and R 18 is a linear or branched alkylene group having 1 to 30 carbon atoms, an arylene group having 6 to 30 carbon atoms, or a carbon number 7 to 30 arylene alkyl group, and each of R 15 to R 18 may be bonded to at least one selected from the group consisting of a hydroxyl group, an ester bond and an amino group. Cationic surfactant and formula (8):

Wherein R 19 is a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, or an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms. It is preferably at least one selected from the group consisting of cationic surfactants.

前記N, N-置換(メタ)アクリルアミドは、式(1a):

(ただしR1は水素基又はメチル基であり、n及びn'はそれぞれ独立に0〜2の整数である)により表されるN, N-ジ(ポリ)ホスホン酸(メタ)アクリルアミドであるのが好ましい。前記N-置換(メタ)アクリルアミドは、式(2a):

(ただしR1は水素基又はメチル基であり、mは0〜2の整数である)により表されるN-モノ(ポリ)ホスホン酸(メタ)アクリルアミドであるのが好ましい。
The N, N-substituted (meth) acrylamide has the formula (1a):

(Wherein R 1 is a hydrogen group or a methyl group, and n and n ′ are each independently an integer of 0 to 2), N, N-di (poly) phosphonic acid (meth) acrylamide Is preferred. The N-substituted (meth) acrylamide has the formula (2a):

(Wherein R 1 is a hydrogen group or a methyl group, and m is an integer of 0 to 2), and is preferably N-mono (poly) phosphonic acid (meth) acrylamide.

前記第一の(ポリ)エーテル基含有アミン系界面活性剤は式(3a):

(ただしR2aは炭素数1〜30の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基であり、f及びkは式(3)と同じである)により表される化合物であるのが好ましい。前記第二の(ポリ)エーテル基含有アミン系界面活性剤は式(4a):


(ただしR5aは炭素数1〜30の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基であり、r、s及びtは式(4)と同じである)により表される化合物であるのが好ましい。
The first (poly) ether group-containing amine surfactant is represented by the formula (3a):

(Wherein R 2a is a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, and f and k are the same as those in the formula (3)). The second (poly) ether group-containing amine surfactant is represented by the formula (4a):


It is preferable that R 5a is a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, and r, s, and t are the same as those in the formula (4).

前記第一のカチオン性界面活性剤は式(5a):

(ただしR10及びY-は式(5)と同じである)により表されるトリメチル型カチオン性界面活性剤、式(5b):

(ただしR10及びY-は式(5)と同じであり、R13aは炭素数2〜30の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素数6〜30のアリール基、又は炭素数8〜30のアリールアルキル基である)により表されるジアルキル型カチオン性界面活性剤、式(5c):

(ただしR10及びY-は式(5)と同じである)により表されるベンジル型カチオン性界面活性剤、及び式(5d):

(ただしR10a,R13bはそれぞれ独立に炭素数1〜20の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基であり、Y-は式(5)と同じである)により表されるヒドロキシエステル型カチオン性界面活性剤のいずれか又はこれらの組合せであるのが好ましい。
The first cationic surfactant has the formula (5a):

(Wherein R 10 and Y are the same as in formula (5)), a trimethyl-type cationic surfactant represented by formula (5b):

(However, R 10 and Y are the same as those in formula (5), and R 13a is a linear or branched alkyl group having 2 to 30 carbon atoms, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, or 8 to 8 carbon atoms. A dialkyl-type cationic surfactant represented by formula (5c):

(Wherein R 10 and Y are the same as in formula (5)), and a benzylic cationic surfactant represented by formula (5d):

(Wherein R 10a and R 13b are each independently a linear or branched alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and Y is the same as in formula (5)). Preferably any one of the surfactants or a combination thereof.

前記第三のカチオン性界面活性剤は式(7a):

(ただしR15は式(7)と同じである)により表される化合物であるのが好ましい。
The third cationic surfactant has the formula (7a):

(However, R 15 is the same as in formula (7)).

前記リン系酸残基含有(メタ)アクリルアミド(A)のリン系酸残基一個に対して、前記含窒素界面活性剤(B)がモル比で0.5〜4配合されているのが好ましい。   The nitrogen-containing surfactant (B) is preferably blended in a molar ratio of 0.5 to 4 with respect to one phosphorus acid residue of the phosphorus acid residue-containing (meth) acrylamide (A).

本発明のリン系酸残基含有ビニル系重合体含有組成物は、上記リン系酸残基含有(メタ)アクリルアミド含有組成物(A+B)と、その他のエチレン性不飽和結合含有化合物(C)とを含むものであって、
前記その他のエチレン性不飽和結合含有化合物(C)は、分子内に少なくとも一個のエチレン性不飽和結合を有するが酸性基を有しない不飽和化合物(C-1)、及び分子内にエチレン性不飽和結合と酸性基とを各々少なくとも一個有する不飽和化合物(C-2)のいずれか又はこれらの混合物であることを特徴とする。
The phosphorus acid residue-containing vinyl polymer-containing composition of the present invention comprises the above phosphorus acid residue-containing (meth) acrylamide-containing composition (A + B) and other ethylenically unsaturated bond-containing compounds (C )
The other ethylenically unsaturated bond-containing compound (C) includes an unsaturated compound (C-1) having at least one ethylenically unsaturated bond but no acidic group in the molecule, and an ethylenically unsaturated compound in the molecule. It is any one of unsaturated compounds (C-2) each having at least one saturated bond and an acidic group, or a mixture thereof.

前記酸性基非含有不飽和化合物(c-1)は、(メタ)アクリル酸エステル、(メタ)アクリロニトリル、(メタ)アクリルアミド、ジアルキルアミノアルキル(メタ)アクリレート、N, N-ジアルキル(メタ)アクリルアミド、スチレン、少なくとも一部の水素基がメチル基で置換されたスチレン、ジビニルベンゼン、脂肪酸ビニルエステル、ハロゲン化ビニル、少なくとも一部の水素基がフッ素基で置換された(メタ)アクリル酸エステル、少なくとも一部の水素基がフッ素基で置換された(メタ)アクリル酸、及び少なくとも一部の水素基がフッ素基で置換されたアルキル基を含有するビニルからなる群から選ばれた少なくとも一種であるのが好ましい。前記酸性基含有不飽和化合物(C-2)は、ターシャリーブチルアクリルアミドスルホン酸、アリルスルホン酸、メタアリルスルホン酸、ビニルスルホン酸、p-スチレンスルホン酸、(メタ)アクリル酸ブチル-4-スルホン酸、(メタ)アクリロオキシベンゼンスルホン酸、(メタ)アクリル酸、クロトン酸、マレイン酸及びその無水物、フマル酸、イタコン酸、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート、及び式(9):

(ただしR20は水素基又はメチル基であり、R21は炭素数が2〜4で、直鎖状又は分岐状で、少なくとも一部の水素基が塩素基で置換されていてもよいアルキレン基であり、xは1〜6の整数である)で表される化合物からなる群から選ばれた少なくとも一種であるのが好ましい。
The acidic group-free unsaturated compound (c-1) includes (meth) acrylic acid ester, (meth) acrylonitrile, (meth) acrylamide, dialkylaminoalkyl (meth) acrylate, N, N-dialkyl (meth) acrylamide, Styrene, styrene having at least some hydrogen groups substituted with methyl groups, divinylbenzene, fatty acid vinyl ester, vinyl halide, (meth) acrylic acid ester having at least some hydrogen groups substituted with fluorine groups, at least one And at least one selected from the group consisting of (meth) acrylic acid in which part of the hydrogen groups are substituted with fluorine groups, and vinyl containing an alkyl group in which at least some of the hydrogen groups are substituted with fluorine groups. preferable. The acidic group-containing unsaturated compound (C-2) includes tertiary butyl acrylamide sulfonic acid, allyl sulfonic acid, methallyl sulfonic acid, vinyl sulfonic acid, p-styrene sulfonic acid, butyl-4-sulfone (meth) acrylate. Acid, (meth) acrylooxybenzenesulfonic acid, (meth) acrylic acid, crotonic acid, maleic acid and its anhydride, fumaric acid, itaconic acid, hydroxyalkyl (meth) acrylate, and formula (9):

(However, R 20 is a hydrogen group or a methyl group, R 21 is an alkylene group having 2 to 4 carbon atoms, linear or branched, and at least a part of the hydrogen groups may be substituted with chlorine groups. And x is an integer of 1 to 6), and is preferably at least one selected from the group consisting of compounds represented by:

前記リン系酸残基含有(メタ)アクリルアミド含有組成物(A+B)と、前記その他のエチレン性不飽和結合含有化合物(C)との質量比(A+B)/(C)は、(15/85)〜(60/40)であるのが好ましい。   The mass ratio (A + B) / (C) of the phosphoric acid residue-containing (meth) acrylamide-containing composition (A + B) and the other ethylenically unsaturated bond-containing compound (C) is: 15/85) to (60/40).

本発明の難燃性樹脂は、上記リン系酸残基含有ビニル系重合体含有組成物からなることを特徴とする。   The flame retardant resin of the present invention is characterized by comprising the above-mentioned phosphorus acid residue-containing vinyl polymer-containing composition.

本発明の絶縁性樹脂は、上記リン系酸残基含有ビニル系重合体含有組成物からなることを特徴とする。   The insulating resin of the present invention is characterized by comprising the above-mentioned phosphoric acid residue-containing vinyl polymer-containing composition.

本発明のリン系酸残基含有ビニル系重合体含有組成物の製造方法は、(メタ)アクリルアミド、N-ヒドロキシ(メタ)アクリルアミド又はこれらの混合物と、リン酸、ピロリン酸、ポリリン酸及びオキシ塩化リンからなる群から選ばれた少なくとも一種との反応物又はその加水分解物であるリン系酸残基含有(メタ)アクリルアミド(A)を調製し、これに上記含窒素界面活性剤(B)を混合し、得られた組成物(A+B)と上記その他のエチレン性不飽和結合含有化合物(C)とを反応させることを特徴とする。   The method for producing the phosphoric acid residue-containing vinyl polymer-containing composition of the present invention comprises (meth) acrylamide, N-hydroxy (meth) acrylamide or a mixture thereof, phosphoric acid, pyrophosphoric acid, polyphosphoric acid and oxychlorination. A phosphoric acid residue-containing (meth) acrylamide (A) which is a reaction product or a hydrolyzate thereof with at least one selected from the group consisting of phosphorus is prepared, and the nitrogen-containing surfactant (B) is added to this. It is characterized by mixing and reacting the resulting composition (A + B) with the other ethylenically unsaturated bond-containing compound (C).

前記組成物(A+B)と前記(C)とを反応させる方法として、水媒体中で、乳化剤及び重合開始剤を用いた乳化重合を用いるのが好ましい。   As a method of reacting the composition (A + B) and the (C), it is preferable to use emulsion polymerization using an emulsifier and a polymerization initiator in an aqueous medium.

本発明のリン系酸残基含有(メタ)アクリルアミド含有組成物は、リン系酸残基を有する(メタ)アクリルアミドと含窒素界面活性剤とを含むので、その他のエチレン性不飽和結合含有化合物と良好に相溶し、透明な混合物が得られる。かかる混合物中のリン系酸残基含有(メタ)アクリルアミドとその他のエチレン性不飽和結合含有化合物とを反応させてなる本発明のリン系酸残基含有ビニル系重合体含有組成物は、難燃性、絶縁性及び透明性に優れている。このような特性を有するリン系酸残基含有ビニル系重合体含有組成物は、難燃性樹脂及び絶縁性樹脂として有用であり、リン系酸残基含有(メタ)アクリルアミド含有組成物は難燃性及び絶縁性に優れた樹脂の設計に有用である。   Since the phosphoric acid residue-containing (meth) acrylamide-containing composition of the present invention contains (meth) acrylamide having a phosphoric acid residue and a nitrogen-containing surfactant, other ethylenically unsaturated bond-containing compounds and A well-miscible and transparent mixture is obtained. The phosphoric acid residue-containing vinyl polymer-containing composition of the present invention obtained by reacting a phosphoric acid residue-containing (meth) acrylamide in the mixture with another ethylenically unsaturated bond-containing compound is a flame retardant. Excellent in properties, insulation and transparency. Phosphoric acid residue-containing vinyl polymer-containing compositions having such properties are useful as flame retardant resins and insulating resins, and phosphoric acid residue-containing (meth) acrylamide-containing compositions are flame retardant. This is useful for designing a resin having excellent properties and insulation properties.

アクリルアミドの赤外測定チャートである。It is an infrared measurement chart of acrylamide. 実施例1のホスホン酸基含有加水分解物の赤外測定チャートである。2 is an infrared measurement chart of the phosphonic acid group-containing hydrolyzate of Example 1. FIG. ポリオキシエチレン−ステアリルアミンの赤外測定チャートである。It is an infrared measurement chart of polyoxyethylene-stearylamine. 実施例1のホスホン酸基含有加水分解物とポリオキシエチレン−ステアリルアミンとの組成物の赤外測定チャートである。It is an infrared measurement chart of the composition of the phosphonic acid group containing hydrolyzate of Example 1, and polyoxyethylene-stearylamine. 実施例2のホスホン酸基含有加水分解物の赤外測定チャートである。3 is an infrared measurement chart of the phosphonic acid group-containing hydrolyzate of Example 2. 実施例2のホスホン酸基含有加水分解物とポリオキシエチレン−ステアリルアミンとの組成物の赤外測定チャートである。It is an infrared measurement chart of the composition of the phosphonic acid group containing hydrolyzate of Example 2, and polyoxyethylene-stearylamine. テトラデシルジメチルベンジル−アンモニムクロライドの赤外測定チャートである。2 is an infrared measurement chart of tetradecyldimethylbenzyl-ammonium chloride. 実施例7のホスホン酸基含有加水分解物とテトラデシルジメチルベンジル−アンモニムクロライドとの組成物の赤外測定チャートである。It is an infrared measurement chart of the composition of the phosphonic acid group containing hydrolyzate of Example 7, and tetradecyl dimethyl benzyl-ammonium chloride. 実施例8のホスホン酸基含有加水分解物とテトラデシルジメチルベンジル−アンモニムクロライドとの組成物の赤外測定チャートである。It is an infrared measurement chart of the composition of the phosphonic acid group containing hydrolyzate of Example 8, and a tetradecyl dimethyl benzyl- ammonium chloride.

[1] リン系酸残基含有(メタ)アクリルアミド含有組成物
(1) リン系酸残基含有(メタ)アクリルアミド
リン系酸残基含有(メタ)アクリルアミドは、式(1):

(ただしR1は水素基又はメチル基であり、X1及びX2はそれぞれ独立に(ポリ)ホスホン酸基又は(ポリ)リン酸基である)により表されるN, N-置換(メタ)アクリルアミド、及び式(2):

(ただしR1は水素基又はメチル基であり、X3は(ポリ)ホスホン酸基又は(ポリ)リン酸基である)により表されるN-置換(メタ)アクリルアミドのいずれか又はこれらの混合物である。混合物の場合、N, N-置換(メタ)アクリルアミドとN-置換(メタ)アクリルアミドとのモル比は(50/50)以上が好ましく、(60/40)以上がより好ましく、(70/30)以上が最も好ましい。
[1] Phosphorus acid residue-containing (meth) acrylamide-containing composition
(1) Phosphoric acid residue-containing (meth) acrylamide Phosphoric acid residue-containing (meth) acrylamide has the formula (1):

(Wherein R 1 is a hydrogen group or a methyl group, and X 1 and X 2 are each independently a (poly) phosphonic acid group or a (poly) phosphoric acid group) N, N-substituted (meth) Acrylamide and formula (2):

(Wherein R 1 is a hydrogen group or a methyl group, and X 3 is a (poly) phosphonic acid group or a (poly) phosphoric acid group) It is. In the case of a mixture, the molar ratio of N, N-substituted (meth) acrylamide to N-substituted (meth) acrylamide is preferably (50/50) or more, more preferably (60/40) or more, (70/30) The above is most preferable.

N, N-置換(メタ)アクリルアミドとしては、式(1a):

(ただしR1は水素基又はメチル基であり、n及びn'はそれぞれ独立に0〜2の整数である)により表されるN, N-ジ(ポリ)ホスホン酸(メタ)アクリルアミドが好ましく、n及びn'が0であるN, N-ジホスホン酸(メタ)アクリルアミドがより好ましい。
As N, N-substituted (meth) acrylamide, the formula (1a):

N, N-di (poly) phosphonic acid (meth) acrylamide represented by (wherein R 1 is a hydrogen group or a methyl group, and n and n ′ are each independently an integer of 0 to 2) is preferable, N, N-diphosphonic acid (meth) acrylamide in which n and n ′ are 0 is more preferable.

N-置換(メタ)アクリルアミドとしては、式(2a):

(ただしR1は水素基又はメチル基であり、mは0〜2の整数である)により表されるN-モノ(ポリ)ホスホン酸(メタ)アクリルアミドが好ましく、mが0であるN-モノホスホン酸(メタ)アクリルアミドがより好ましい。
As N-substituted (meth) acrylamide, the formula (2a):

N-mono (poly) phosphonic acid (meth) acrylamide represented by (wherein R 1 is a hydrogen group or a methyl group, and m is an integer of 0 to 2), and m is 0. Acid (meth) acrylamide is more preferred.

リン系酸残基含有(メタ)アクリルアミドは、(メタ)アクリルアミド、N-ヒドロキシ(メタ)アクリルアミド又はこれらの混合物と、リン酸、ピロリン酸、ポリリン酸及びオキシ塩化リンからなる群から選ばれた少なくとも一種とを反応させ、必要に応じて加水分解することにより得られる。(メタ)アクリルアミドはアクリルアミド、メタクリルアミド又はこれらの混合物でよい。N-ヒドロキシ(メタ)アクリルアミドは、N-ヒドロキシアクリルアミド、N-ヒドロキシメタクリルアミド又はこれらの混合物でよい。リン酸としては、正リン酸、無水リン酸(五酸化リン=P2O5)又はこれらの混合物でよいが、無水リン酸が好ましい。以下原料として、(メタ)アクリルアミドと無水リン酸を用いる場合について説明する。 The phosphorus acid residue-containing (meth) acrylamide is at least selected from the group consisting of (meth) acrylamide, N-hydroxy (meth) acrylamide or a mixture thereof, and phosphoric acid, pyrophosphoric acid, polyphosphoric acid, and phosphorus oxychloride It is obtained by reacting with one species and hydrolyzing as necessary. (Meth) acrylamide may be acrylamide, methacrylamide or a mixture thereof. The N-hydroxy (meth) acrylamide may be N-hydroxyacrylamide, N-hydroxymethacrylamide or a mixture thereof. As phosphoric acid, orthophosphoric acid, phosphoric anhydride (phosphorus pentoxide = P 2 O 5 ) or a mixture thereof may be used, but phosphoric anhydride is preferred. Hereinafter, the case where (meth) acrylamide and phosphoric anhydride are used as raw materials will be described.

反応及び加水分解の手順及び条件については、例えばWO2005-080454に記載されているので詳細な説明を省略するが、(メタ)アクリルアミドに対して無水リン酸を反応させ、加水分解すると、(メタ)アクリルアミドと無水リン酸とが1:1のモル比で反応する場合、(メタ)アクリルアミドは、例えば式(10):


(ただしR1は水素基又はメチル基である)に示すように、中間生成物としてピロリン酸が(メタ)アクリルアミドにN, N-結合した化合物、及び/又はジピロリン酸を介して2つの(メタ)アクリルアミドが結合した化合物が生成する工程、及び中間生成物が加水分解される工程を経て、N, N-ジホスホン酸(メタ)アクリルアミドになる。
The reaction and hydrolysis procedures and conditions are described in, for example, WO2005-080454, and thus detailed description thereof is omitted. However, when (meth) acrylamide is reacted with phosphoric anhydride and hydrolyzed, (meth) When acrylamide and phosphoric anhydride are reacted at a molar ratio of 1: 1, (meth) acrylamide is, for example, the formula (10):


(Wherein R 1 is a hydrogen group or a methyl group), a compound in which pyrophosphate is N, N-bonded to (meth) acrylamide as an intermediate product and / or two (meta) via dipyrophosphate. ) N, N-diphosphonic acid (meth) acrylamide is obtained through a process in which an acrylamide-bound compound is formed and an intermediate product is hydrolyzed.

また(メタ)アクリルアミドと無水リン酸とが2:1のモル比で反応する場合、(メタ)アクリルアミドは、例えば式(11):

(ただしR1は水素基又はメチル基である)に示すように、N-モノホスホン酸(メタ)アクリルアミドになる。
When (meth) acrylamide and phosphoric anhydride are reacted at a molar ratio of 2: 1, (meth) acrylamide is represented by, for example, formula (11):

As shown in (wherein R 1 is a hydrogen group or a methyl group), N-monophosphonic acid (meth) acrylamide is obtained.

その他にも、例えば式(12):


(ただしR1は水素基又はメチル基であり、x,x',x'',y,y'及びy''はそれぞれ独立に0〜2の整数である)に示すように、N, N-ジ(ポリ)ホスホン酸(メタ)アクリルアミドやN-モノ(ポリ)ホスホン酸(メタ)アクリルアミドが生成する場合もある。
Other examples include formula (12):


(Wherein R 1 is a hydrogen group or a methyl group, and x, x ′, x ″, y, y ′ and y ″ are each independently an integer of 0 to 2), N, N -Di (poly) phosphonic acid (meth) acrylamide and N-mono (poly) phosphonic acid (meth) acrylamide may be produced.

N, N-ジホスホン酸(メタ)アクリルアミドを主に製造する場合、(メタ)アクリルアミドに対する無水リン酸のモル比は0.9〜1.2の範囲とするのが好ましい。N-モノホスホン酸(メタ)アクリルアミドを主に製造する場合、(メタ)アクリルアミドに対する無水リン酸のモル比は0.5〜0.8の範囲とするのが好ましい。   When N, N-diphosphonic acid (meth) acrylamide is mainly produced, the molar ratio of phosphoric anhydride to (meth) acrylamide is preferably in the range of 0.9 to 1.2. When N-monophosphonic acid (meth) acrylamide is mainly produced, the molar ratio of phosphoric anhydride to (meth) acrylamide is preferably in the range of 0.5 to 0.8.

N, N-ジホスホン酸(メタ)アクリルアミド及びN-モノホスホン酸(メタ)アクリルアミドはいずれも、ゲル化を伴わずにアクリル酸エステル等と共重合することができる(日本化学会誌、2009年7月号及び9月号の広告欄)。   Both N, N-diphosphonic acid (meth) acrylamide and N-monophosphonic acid (meth) acrylamide can be copolymerized with acrylates etc. without gelation (Journal of Chemical Society of Japan, July 2009 issue) And September issue ad column).

(2) 含窒素界面活性剤
含窒素界面活性剤は、以下の(ポリ)エーテル基含有アミン系界面活性剤及びカチオン性界面活性剤に大別される。
(2) Nitrogen-containing surfactants Nitrogen-containing surfactants are roughly classified into the following (poly) ether group-containing amine surfactants and cationic surfactants.

(i) (ポリ)エーテル基含有アミン系界面活性剤
(ポリ)エーテル基含有アミン系界面活性剤として以下の第一及び第二の(ポリ)エーテル基含有アミン系界面活性剤が好ましい。第一の(ポリ)エーテル基含有アミン系界面活性剤は式(3):

[ただしR2は炭素数1〜30の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素数6〜30のアリール基、又は炭素数7〜30のアリールアルキル基であり、R3は炭素数2〜4の直鎖状又は分岐状のアルキレン基であり、R4は-(R4aO)kH基(R4aは炭素数2〜4の直鎖状又は分岐状のアルキレン基である)、炭素数1〜30の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素数6〜30のアリール基、炭素数7〜30のアリールアルキル基、又は水素基であり、f及びkはそれぞれ独立に1〜30の整数である]により表される。
(i) (Poly) ether group-containing amine surfactant The following first and second (poly) ether group-containing amine surfactants are preferred as the (poly) ether group-containing amine surfactant. The first (poly) ether group-containing amine surfactant is represented by the formula (3):

[However, R 2 is a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, or an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms, and R 3 is 2 to 2 carbon atoms. 4 linear or branched alkylene groups, R 4 is a — (R 4a O) k H group (R 4a is a linear or branched alkylene group having 2 to 4 carbon atoms), carbon A linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms, or a hydrogen group, and f and k are each independently 1 to 30 It is an integer of].

R2は炭素数10〜25の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基であるのが好ましい。R3としてはエチレン基及びプロピレン基が好ましく、エチレン基がより好ましい。R4としては上記-(R4aO)kH基又は水素基が好ましい。上記-(R4aO)kH基のR4aとしては、エチレン基及びプロピレン基が好ましく、エチレン基がより好ましい。f及びkはそれぞれ独立に1〜25の整数であるのが好ましい。 R 2 is preferably a linear or branched alkyl group having 10 to 25 carbon atoms. R 3 is preferably an ethylene group or a propylene group, more preferably an ethylene group. R 4 is preferably the above-mentioned — (R 4a O) k H group or hydrogen group. The above - The (R 4a O) k H R 4a group, ethylene group and propylene group are preferred, and more preferably an ethylene group. f and k are preferably each independently an integer of 1 to 25.

第一の(ポリ)エーテル基含有アミン系界面活性剤は式(3a):

(ただしR2aは炭素数1〜30の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基であり、f及びkは式(3)と同じである)により表される化合物が最も好ましい。
The first (poly) ether group-containing amine surfactant is represented by the formula (3a):

A compound represented by the formula (wherein R 2a is a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, and f and k are the same as those in formula (3)) is most preferable.

第一の(ポリ)エーテル基含有アミン系界面活性剤の市販品として、ナイミーンL-201,同L-202,同L-207,同F-215,同S-202,同S-204,同S-210,同S-215,同S-220,同O-205,同T2-202,同T2-210,同T2-230(以上日油株式会社製)等が挙げられる。   The commercial products of the first (poly) ether group-containing amine surfactants are: Naimine L-201, L-202, L-207, F-215, S-202, S-204, S-210, S-215, S-220, O-205, T2-202, T2-210, T2-230 (manufactured by NOF Corporation).

第二の(ポリ)エーテル基含有アミン系界面活性剤は式(4):

[ただしR5は炭素数1〜30の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素数6〜30のアリール基、又は炭素数7〜30のアリールアルキル基であり、R6は-(R6aO)sH基(R6aは炭素数2〜4の直鎖状又は分岐状のアルキレン基である)、炭素数1〜30の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素数6〜30のアリール基、炭素数7〜30のアリールアルキル基、又は水素基であり、R7は炭素数1〜6の直鎖状又は分岐状のアルキレン基であり、R8は炭素数2〜4の直鎖状又は分岐状のアルキレン基であり、R9は-(R9aO)tH基(R9aは炭素数2〜4の直鎖状又は分岐状のアルキレン基である)、炭素数1〜30の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素数6〜30のアリール基、炭素数7〜30のアリールアルキル基、又は水素基であり、r、s及びtはそれぞれ独立に1〜30の整数である]により表される。
The second (poly) ether group-containing amine surfactant is represented by the formula (4):

[Wherein R 5 is a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, or an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms, and R 6 is — (R 6a O) s H group (R 6a is a linear or branched alkylene group having 2 to 4 carbon atoms), a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, 6 to 30 carbon atoms An aryl group, an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms, or a hydrogen group, R 7 is a linear or branched alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, and R 8 is a straight chain having 2 to 4 carbon atoms. A chain or branched alkylene group, R 9 is a — (R 9a O) t H group (R 9a is a linear or branched alkylene group having 2 to 4 carbon atoms); 30 linear or branched alkyl group, aryl group having 6 to 30 carbon atoms, arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms, or hydrogen group, and r, s and t are each independently 1 to 1 It is an integer of 30].

R5は炭素数10〜25のアルキル基であるのが好ましい。R6としては上記-(R6aO)sH基又は水素基が好ましい。上記-(R6aO)sH基のR6aとしては、エチレン基及びプロピレン基が好ましく、エチレン基がより好ましい。R7としてはプロピレン基が好ましい。R8としてはエチレン基及びプロピレン基が好ましく、エチレン基がより好ましい。R9としては上記-(R9aO)tH基又は水素基が好ましい。上記-(R9aO)tH基のR9aとしては、エチレン基及びプロピレン基が好ましく、エチレン基がより好ましい。r、s及びtはそれぞれ独立に1〜25の整数であるのが好ましい。 R 5 is preferably an alkyl group having 10 to 25 carbon atoms. R 6 is preferably the above-mentioned — (R 6a O) s H group or hydrogen group. The above - The (R 6a O) s of H radicals R 6a, ethylene group and propylene group are preferred, and more preferably an ethylene group. R 7 is preferably a propylene group. R 8 is preferably an ethylene group or a propylene group, more preferably an ethylene group. R 9 is preferably the aforementioned — (R 9a O) t H group or hydrogen group. The above - The (R 9a O) t H group R 9a, ethylene group and propylene group are preferred, and more preferably an ethylene group. It is preferable that r, s and t are each independently an integer of 1 to 25.

第二の(ポリ)エーテル基含有アミン系界面活性剤は式(4a):


(ただしR5aは炭素数1〜30の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基であり、r、s及びtは式(4)と同じである)により表される化合物が最も好ましい。
The second (poly) ether group-containing amine surfactant is represented by the formula (4a):


A compound represented by the formula (wherein R 5a is a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, and r, s, and t are the same as those in formula (4)) is most preferable.

第二の(ポリ)エーテル基含有アミン系界面活性剤の市販品として、ナイミーンDT-203,同L-208(以上日油株式会社製)等が挙げられる。   As commercially available products of the second (poly) ether group-containing amine-based surfactant, there are Nimin DT-203, L-208 (manufactured by NOF Corporation) and the like.

(ii) カチオン性界面活性剤
カチオン性界面活性剤は四級アンモニウム塩基を含有する。カチオン性界面活性剤として、以下の第一〜第四のカチオン性界面活性剤が好ましい。第一のカチオン性界面活性剤は式(5):

(ただしR10及びR13はそれぞれ独立に炭素数1〜30の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素数6〜30のアリール基、又は炭素数7〜30のアリールアルキル基であり、R11及びR12はそれぞれ独立に炭素数1〜6の直鎖状又は分岐状のアルキル基であり、R10〜R13にはいずれも水酸基、エステル結合及びアミノ基からなる群から選ばれた少なくとも一種が結合していてもよく、Y-は対イオンである)により表される。
(ii) Cationic surfactant The cationic surfactant contains a quaternary ammonium base. As the cationic surfactant, the following first to fourth cationic surfactants are preferable. The first cationic surfactant is of formula (5):

(However, R 10 and R 13 are each independently a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, or an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms; 11 and R 12 are each independently a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and each of R 10 to R 13 is at least selected from the group consisting of a hydroxyl group, an ester bond and an amino group. One type may be bonded, and Y is a counter ion).

第一のカチオン性界面活性剤としては、式(5a):

(ただしR10及びY-は式(5)と同じである)により表されるトリメチル型カチオン性界面活性剤、式(5b):

(ただしR10及びY-は式(5)と同じであり、R13aは炭素数2〜30の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素数6〜30のアリール基、又は炭素数8〜30のアリールアルキル基である)により表されるジアルキル型カチオン性界面活性剤、式(5c):

(ただしR10及びY-は式(5)と同じである)により表されるベンジル型カチオン性界面活性剤、及び式(5d):

(ただしR10a,R13bはそれぞれ独立に炭素数1〜20の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基であり、Y-は式(5)と同じである)により表されるヒドロキシエステル型カチオン性界面活性剤が好ましい。
As the first cationic surfactant, the formula (5a):

(Wherein R 10 and Y are the same as in formula (5)), a trimethyl-type cationic surfactant represented by formula (5b):

(However, R 10 and Y are the same as those in formula (5), and R 13a is a linear or branched alkyl group having 2 to 30 carbon atoms, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, or 8 to 8 carbon atoms. A dialkyl-type cationic surfactant represented by formula (5c):

(Wherein R 10 and Y are the same as in formula (5)), and a benzylic cationic surfactant represented by formula (5d):

(Wherein R 10a and R 13b are each independently a linear or branched alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and Y is the same as in formula (5)). A surfactant is preferred.

対イオンY-としては、ハロゲンイオン(塩素イオン等)、アルキル硫酸イオン(CH3SO4 -等)、アルキルもしくはアリールスルホン酸イオン、アルキル亜硫酸イオン、アルキルリン酸イオン等が挙げられる。 Examples of the counter ion Y include halogen ions (such as chlorine ions), alkyl sulfate ions (such as CH 3 SO 4 ), alkyl or aryl sulfonate ions, alkyl sulfite ions, and alkyl phosphate ions.

トリメチル型カチオン性界面活性剤の市販品として、ニッサンカチオンBB,同FB,同FB-500,同PB-40R,同PB-300,同ABT2-500,同AB,同AB-600,同VB-M2フレーク,同VB-F(以上日油株式会社製)等が挙げられる。ジアルキル型カチオン性界面活性剤の市販品として、ニッサンカチオン2-DB-500E,同2-DB-800E,同2ABT,同2-OLR(以上日油株式会社製)等が挙げられる。ベンジル型カチオン性界面活性剤の市販品として、ニッサンカチオンF2-40R,同F2-50R,同M2-100R(以上日油株式会社製)等が挙げられる。ヒドロキシエステル型カチオン性界面活性剤の市販品として、ニッサンカチオンEQ-01D(日油株式会社製)等が挙げられる。 Commercially available trimethyl-type cationic surfactants include Nissan Cation BB, FB, FB-500, PB-40R, PB-300, ABT2-500, AB, AB-600, VB- M2 flakes, VB-F (manufactured by NOF Corporation), etc. Examples of commercially available dialkyl type cationic surfactants include Nissan Cations 2-DB-500E, 2-DB-800E, 2ABT, 2-OLR (above NOF Corporation). Examples of commercially available benzyl type cationic surfactants include Nissan Cation F 2 -40R, F 2 -50R, M 2 -100R (manufactured by NOF Corporation) and the like. Examples of commercially available hydroxy ester type cationic surfactants include Nissan Cation EQ-01D (manufactured by NOF Corporation).

第二のカチオン性界面活性剤は式(6):


(ただしR14は炭素数1〜30の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素数6〜30のアリール基、又は炭素数7〜30のアリールアルキル基であり、Y-は対イオンである)により表される。Y-は上記と同じでよい。第二のカチオン性界面活性剤の市販品としてニッサンカチオンAR-4(日油株式会社製)等が挙げられる。
The second cationic surfactant is of formula (6):


(However, R 14 is a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, or an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms, and Y is a counter ion. ). Y - is be the same as described above. As a commercial product of the second cationic surfactant, Nissan Cation AR-4 (manufactured by NOF Corporation) and the like can be mentioned.

第三のカチオン性界面活性剤は、式(7):

(ただしR15は炭素数1〜30の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素数6〜30のアリール基、又は炭素数7〜30のアリールアルキル基であり、R16及びR17はそれぞれ独立に炭素数1〜6の直鎖状又は分岐状のアルキル基であり、R18は炭素数1〜30の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基、炭素数6〜30のアリーレン基又は炭素数7〜30のアリーレンアルキル基であり、R15〜R18にはいずれも水酸基、エステル結合及びアミノ基からなる群から選ばれた少なくとも一種が結合していてもよい)により表される。
The third cationic surfactant has the formula (7):

(However, R 15 is a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, or an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms, and R 16 and R 17 are respectively Independently a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and R 18 is a linear or branched alkylene group having 1 to 30 carbon atoms, an arylene group having 6 to 30 carbon atoms, or a carbon number 7 to 30 arylene alkyl groups, and each of R 15 to R 18 may be bound to at least one selected from the group consisting of a hydroxyl group, an ester bond and an amino group.

第三のカチオン性界面活性剤としては、式(7a):

(ただしR15は式(7)と同じである)により表される化合物が最も好ましい。
As the third cationic surfactant, the formula (7a):

A compound represented by the formula (wherein R 15 is the same as in formula (7)) is most preferred.

第三のカチオン性界面活性剤の市販品として、ニッサンアノンBF,同BL,同BL-SF,同BDL-SF,同BDC-SF,同BDF-SF,同BDF-R(以上日油株式会社製)等が挙げられる。   Nissan Anon BF, BL, BL-SF, BDL-SF, BDC-SF, BDF-SF, BDF-R (Nippon Oil Co., Ltd.) Manufactured) and the like.

第四のカチオン性界面活性剤は、式(8):

(ただしR19は炭素数1〜30の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素数6〜30のアリール基、又は炭素数7〜30のアリールアルキル基である)により表される。第四のカチオン性界面活性剤の市販品としてニッサンアノンGLM-R,同GLM-R-LV(以上日油株式会社製)等が挙げられる。
The fourth cationic surfactant has the formula (8):

(Wherein R 19 is a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, or an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms). As commercial products of the fourth cationic surfactant, Nissan Anon GLM-R, GLM-R-LV (manufactured by NOF CORPORATION) and the like can be mentioned.

(3) 配合割合
リン系酸残基含有(メタ)アクリルアミドと含窒素界面活性剤との配合割合について、リン系酸残基含有(メタ)アクリルアミドのリン系酸残基一個(リン系酸残基一個当たり酸性水酸基を二個以上有する。式(1a)及び(2a)参照)に対して、含窒素界面活性剤がモル比で0.5〜4配合されているのが好ましい。具体的には、N, N-置換(メタ)アクリルアミドは一分子当たりリン系酸残基を二個(酸性水酸基の合計は四個以上)有するので、N, N-置換(メタ)アクリルアミドを100モル%として、含窒素界面活性剤の割合が100〜800モル%であるのが好ましい。N-置換(メタ)アクリルアミドは一分子当たりリン系酸残基を一個有するので、N-置換(メタ)アクリルアミドを100モル%として、含窒素界面活性剤の割合が50〜400モル%であるのが好ましい。リン系酸残基一個に対する含窒素界面活性剤の配合割合を0.5モル比未満とすると、その他のエチレン性不飽和結合含有化合物との相溶性が悪くなり、ビニル系重合体の透明性が悪化する。一方この割合を4モル比超としても相溶性向上効果が飽和する。この配合割合は1〜3モル比がより好ましく、1〜2モル比が最も好ましい。
(3) Mixing ratio Regarding the mixing ratio of phosphorus acid residue-containing (meth) acrylamide and nitrogen-containing surfactant, one phosphorus acid residue of phosphorus acid residue-containing (meth) acrylamide (phosphorus acid residue) It is preferable that the nitrogen-containing surfactant is blended in a molar ratio of 0.5 to 4 with respect to the formulas (1a) and (2a)). Specifically, N, N-substituted (meth) acrylamide has two phosphoric acid residues per molecule (the total number of acidic hydroxyl groups is 4 or more). As a mol%, the ratio of the nitrogen-containing surfactant is preferably 100 to 800 mol%. Since N-substituted (meth) acrylamide has one phosphoric acid residue per molecule, N-substituted (meth) acrylamide is 100 mol%, and the ratio of nitrogen-containing surfactant is 50 to 400 mol%. Is preferred. When the blending ratio of the nitrogen-containing surfactant to one phosphorus acid residue is less than 0.5 molar ratio, the compatibility with other ethylenically unsaturated bond-containing compounds is deteriorated, and the transparency of the vinyl polymer is deteriorated. . On the other hand, even if this ratio exceeds 4 molar ratio, the effect of improving compatibility is saturated. The mixing ratio is more preferably 1 to 3 molar ratio, and most preferably 1 to 2 molar ratio.

(4) 調製方法
リン系酸残基含有(メタ)アクリルアミド含有組成物の調製方法について説明する。リン系酸残基含有(メタ)アクリルアミドは常温で液体であるので、含窒素界面活性剤が常温で液体である場合、リン系酸残基含有(メタ)アクリルアミドと含窒素界面活性剤とを混合することにより調製することができる。必要に応じて、加熱してもよいし、溶媒中で混合してもよい。加熱温度は約50℃〜約70℃が好ましい。
(4) Preparation Method A method for preparing a phosphoric acid residue-containing (meth) acrylamide-containing composition will be described. Phosphorus acid residue-containing (meth) acrylamide is liquid at room temperature, so if the nitrogen-containing surfactant is liquid at room temperature, mix phosphorous acid residue-containing (meth) acrylamide with nitrogen-containing surfactant Can be prepared. If necessary, it may be heated or mixed in a solvent. The heating temperature is preferably about 50 ° C to about 70 ° C.

後述するその他のエチレン性不飽和結合含有化合物、すなわちリン系酸残基含有(メタ)アクリルアミド又はその含窒素界面活性剤変性物(後述)と共重合してリン系酸残基含有ビニル系重合体含有組成物を調製するために用いるエチレン性不飽和結合含有化合物が液状の場合、これを溶媒としてリン系酸残基含有(メタ)アクリルアミド含有組成物を調製してもよい。   Phosphoric acid residue-containing vinyl polymer by copolymerization with other ethylenically unsaturated bond-containing compounds described later, that is, phosphoric acid residue-containing (meth) acrylamide or its nitrogen-containing surfactant-modified product (described later) When the ethylenically unsaturated bond-containing compound used for preparing the containing composition is liquid, a phosphoric acid residue-containing (meth) acrylamide-containing composition may be prepared using this as a solvent.

(5) リン系酸残基含有(メタ)アクリルアミド含有組成物の構造
リン系酸残基含有(メタ)アクリルアミド含有組成物は、非常に均一で、透明性に優れている。リン系酸残基含有(メタ)アクリルアミド含有組成物は、(i) リン系酸残基含有(メタ)アクリルアミド及び含窒素界面活性剤の単なる混合物であってもよいし、(ii) リン系酸残基含有(メタ)アクリルアミドのリン系酸残基中の水酸基の少なくとも一部に、含窒素界面活性剤のアミノ基が反応してなる変性物であってもよいし、(iii) これら(i)及び(ii)の混合物であってもよい。(ii)の変性物は、リン系酸残基含有(メタ)アクリルアミド及び含窒素界面活性剤が、酸・塩基反応して四級アンモニウム塩を形成したものである。含窒素界面活性剤による変性度(リン系酸残基中の水酸基の水素原子が含窒素界面活性剤により置換された度合)は、リン系酸残基含有(メタ)アクリルアミドと含窒素界面活性剤の配合割合等により変えることができる。
(5) Structure of Phosphoric Acid Residue-Containing (Meth) acrylamide-Containing Composition The phosphoric acid residue-containing (meth) acrylamide-containing composition is very uniform and excellent in transparency. The phosphoric acid residue-containing (meth) acrylamide-containing composition may be (i) a simple mixture of a phosphoric acid residue-containing (meth) acrylamide and a nitrogen-containing surfactant, or (ii) a phosphoric acid. A modified product in which the amino group of the nitrogen-containing surfactant reacts with at least a part of the hydroxyl group in the phosphorus acid residue of the residue-containing (meth) acrylamide may be (iii) these (i ) And (ii). The modified product (ii) is a product in which a phosphorus acid residue-containing (meth) acrylamide and a nitrogen-containing surfactant are subjected to an acid / base reaction to form a quaternary ammonium salt. The degree of modification by the nitrogen-containing surfactant (the degree to which the hydrogen atom of the hydroxyl group in the phosphoric acid residue is replaced by the nitrogen-containing surfactant) depends on the (meth) acrylamide containing the phosphorus acid residue and the nitrogen-containing surfactant. It can be changed depending on the blending ratio and the like.

以下、(ii)の変性物の構造について説明する。式(1a)に示すN, N-ジ(ポリ)ホスホン酸(メタ)アクリルアミドを用いた場合、得られる(ポリ)ホスホン酸基含有(メタ)アクリルアミドの変性物は式(1b):

[ただしR1,n及びn'は式(1)と同じであり、Zはそれぞれ独立に-OH基又は-O-+NR4単位(+NR4はカチオン化した含窒素界面活性剤である)であり、Zのうちの少なくとも一つは-O-+NR4単位である]で表される。式(2a)に示すN-モノ(ポリ)ホスホン酸(メタ)アクリルアミドを用いた場合、得られる(ポリ)ホスホン酸基含有(メタ)アクリルアミドの変性物は式(2b):

(ただしR1及びmは式(2)と同じであり、Zは式(1b)と同じであり、Zのうちの少なくとも一つは-O-+NR4単位である)で表される構造を有する。
Hereinafter, the structure of the modified product (ii) will be described. When N, N-di (poly) phosphonic acid (meth) acrylamide represented by the formula (1a) is used, the resulting (poly) phosphonic acid group-containing (meth) acrylamide modified product is represented by the formula (1b):

[Wherein R 1 , n and n ′ are the same as those in the formula (1), Z is independently an —OH group or —O − + NR 4 unit ( + NR 4 is a cationized nitrogen-containing surfactant) And at least one of Z is —O − + NR 4 units]. When N-mono (poly) phosphonic acid (meth) acrylamide represented by the formula (2a) is used, the resulting (poly) phosphonic acid group-containing (meth) acrylamide modified product is represented by the formula (2b):

Wherein R 1 and m are the same as in formula (2), Z is the same as in formula (1b), and at least one of Z is —O − + NR 4 units. Have

カチオン化した含窒素界面活性剤+NR4は、式(3)に示す第一の(ポリ)エーテル基含有アミン系界面活性剤を用いた場合、式(3b):

(ただしR2〜R4及びfは式(3)と同じである)で表され、式(4)に示す第二の(ポリ)エーテル基含有アミン系界面活性剤を用いた場合、式(4b):

(ただしR5〜R9及びrは式(4)と同じである)又は式(4c):


(ただしR5〜R9及びrは式(4)と同じである)で表され、式(5)に示す第一のカチオン性界面活性剤を用いた場合、式(5e):

(ただしR10〜R13は式(5)と同じである)で表され、式(6)に示す第二のカチオン性界面活性剤を用いた場合、式(6a):


(ただしR14は式(6)と同じである)で表され、式(7)に示す第三のカチオン性界面活性剤を用いた場合、式(7b):


(ただしR15〜R18は式(7)と同じである)で表され、式(8)に示す第四のカチオン性界面活性剤を用いた場合、式(8a):

(ただしR19は式(8)と同じである)で表される。
When the first (poly) ether group-containing amine surfactant represented by the formula (3) is used, the cationized nitrogen-containing surfactant + NR 4 is represented by the formula (3b):

(Wherein R 2 to R 4 and f are the same as those in the formula (3)), when the second (poly) ether group-containing amine surfactant shown in the formula (4) is used, the formula ( 4b):

(Wherein R 5 to R 9 and r are the same as in formula (4)) or formula (4c):


(Wherein R 5 to R 9 and r are the same as those in formula (4)), when the first cationic surfactant shown in formula (5) is used, formula (5e):

(Wherein R 10 to R 13 are the same as in formula (5)), and when the second cationic surfactant shown in formula (6) is used, formula (6a):


(Where R 14 is the same as formula (6)), and when the third cationic surfactant shown in formula (7) is used, formula (7b):


(Wherein R 15 to R 18 are the same as those in formula (7)), and when the fourth cationic surfactant shown in formula (8) is used, formula (8a):

(Wherein R 19 is the same as in formula (8)).

[2] リン系酸残基含有ビニル系重合体含有組成物
リン系酸残基含有ビニル系重合体含有組成物は、上記リン系酸残基含有(メタ)アクリルアミド含有組成物と、その他のエチレン性不飽和結合含有化合物とを反応させてなり、もってリン系酸残基含有(メタ)アクリルアミドとその他のエチレン性不飽和結合含有化合物との共重合体、及び含窒素界面活性剤を含む。リン系酸残基含有ビニル系重合体含有組成物は、(i) リン系酸残基含有(メタ)アクリルアミド及びその他のエチレン性不飽和結合含有化合物の共重合体と、含窒素界面活性剤との単なる混合物であってもよいし、(ii) 上記のリン系酸残基含有(メタ)アクリルアミドの含窒素界面活性剤による変性物と、その他のエチレン性不飽和結合含有化合物との共重合体であってもよいし、(iii) これら(i)及び(ii)の混合物であってもよい。リン系酸残基含有(メタ)アクリルアミド含有組成物が含窒素界面活性剤による変性物である場合、リン系酸残基含有(メタ)アクリルアミド及び含窒素界面活性剤が電気的に結合して四級アンモニウム塩を形成しているので、リン系酸残基含有(メタ)アクリルアミド含有組成物がその他のエチレン性不飽和結合含有化合物と反応しても含窒素界面活性剤は脱離せず、上記(ii)の共重合体が形成される。
[2] Phosphoric acid residue-containing vinyl polymer-containing composition Phosphoric acid residue-containing vinyl polymer-containing composition includes the above-mentioned phosphoric acid residue-containing (meth) acrylamide-containing composition and other ethylene And a copolymer of a phosphoric acid residue-containing (meth) acrylamide and another ethylenically unsaturated bond-containing compound, and a nitrogen-containing surfactant. The phosphorus acid residue-containing vinyl polymer-containing composition comprises (i) a copolymer of phosphorus acid residue-containing (meth) acrylamide and other ethylenically unsaturated bond-containing compounds, a nitrogen-containing surfactant, Or (ii) a copolymer of the above-mentioned phosphorus acid residue-containing (meth) acrylamide modified with a nitrogen-containing surfactant and another ethylenically unsaturated bond-containing compound. Or (iii) a mixture of these (i) and (ii). When the phosphoric acid residue-containing (meth) acrylamide-containing composition is a modified product with a nitrogen-containing surfactant, the phosphoric acid residue-containing (meth) acrylamide and the nitrogen-containing surfactant are electrically coupled to each other. Since a quaternary ammonium salt is formed, the nitrogen-containing surfactant does not desorb even when the phosphoric acid residue-containing (meth) acrylamide-containing composition reacts with other ethylenically unsaturated bond-containing compounds. The copolymer of ii) is formed.

その他のエチレン性不飽和結合含有化合物は用途に応じて適宜選択されるが、以下の二群(1) 分子内に少なくとも一個のエチレン性不飽和結合を有するが酸性基を有しない不飽和化合物、及び(2) 分子内にエチレン性不飽和結合と酸性基とを各々少なくとも一個有する不飽和化合物に大別できる。   Other ethylenically unsaturated bond-containing compounds are appropriately selected depending on the application, but the following two groups (1) unsaturated compounds having at least one ethylenically unsaturated bond in the molecule but no acidic group, And (2) It can be roughly classified into unsaturated compounds each having at least one ethylenically unsaturated bond and acidic group in the molecule.

(1) 酸性基を含有しない不飽和化合物
酸性基非含有不飽和化合物としては、常温で気体でない、分子内に少なくとも一個のエチレン性不飽和結合を有する不飽和化合物がすべて対象になるが、中でも(メタ)アクリル酸エステル、(メタ)アクリロニトリル、(メタ)アクリルアミド、ジアルキルアミノアルキル(メタ)アクリレート、N, N-ジアルキル(メタ)アクリルアミド、置換又は無置換のスチレン、ジビニルベンゼン、脂肪酸ビニルエステル(酢酸ビニル等)、ハロゲン化ビニル、少なくとも一部の水素基がフッ素基で置換された(メタ)アクリル酸エステル、少なくとも一部の水素基がフッ素基で置換された(メタ)アクリル酸、少なくとも一部の水素基がフッ素基で置換されたアルキル基を含有するビニル等が挙げられる。これらは単独で用いてもよいし、二種以上を併用しても良い。
(1) Unsaturated compounds that do not contain acidic groups As unsaturated compounds that do not contain acidic groups, all unsaturated compounds that are not gaseous at room temperature and have at least one ethylenically unsaturated bond in the molecule are targeted. (Meth) acrylic acid ester, (meth) acrylonitrile, (meth) acrylamide, dialkylaminoalkyl (meth) acrylate, N, N-dialkyl (meth) acrylamide, substituted or unsubstituted styrene, divinylbenzene, fatty acid vinyl ester (acetic acid Vinyl), vinyl halides, (meth) acrylic acid esters in which at least some hydrogen groups are substituted with fluorine groups, (meth) acrylic acids in which at least some hydrogen groups are substituted with fluorine groups, at least some And vinyl containing an alkyl group in which the hydrogen group is substituted with a fluorine group. These may be used alone or in combination of two or more.

(メタ)アクリル酸エステルとして、例えばメチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、ペンチル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、2-エチルヘキシル(メタ)アクリレート等のアルキル(メタ)アクリレート;エチレングリコールジ(メタ)アクリレート;トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート等が挙げられる。   Examples of (meth) acrylic acid esters include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, pentyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meta ) Alkyl (meth) acrylates such as acrylate; ethylene glycol di (meth) acrylate; trimethylolpropane tri (meth) acrylate and the like.

N, N-ジアルキル(メタ)アクリルアミドとしてはN, N-ジメチル(メタ)アクリルアミドが好ましい。ジアルキルアミノアルキル(メタ)アクリレートとして、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート等が挙げられる。   As N, N-dialkyl (meth) acrylamide, N, N-dimethyl (meth) acrylamide is preferable. Examples of the dialkylaminoalkyl (meth) acrylate include dimethylaminoethyl (meth) acrylate and diethylaminoethyl (meth) acrylate.

置換スチレンとして、少なくとも一部の水素基がメチル基で置換されたスチレンが挙げられ、具体的にはα-メチルスチレン、ビニルトルエン等が挙げられる。ハロゲン化ビニルとして、塩化ビニル、フッ化ビニル、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、トリフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン等が挙げられる。   Examples of the substituted styrene include styrene in which at least a part of hydrogen groups are substituted with methyl groups, and specific examples include α-methylstyrene and vinyltoluene. Examples of the vinyl halide include vinyl chloride, vinyl fluoride, vinylidene fluoride, tetrafluoroethylene, trifluoroethylene, chlorotrifluoroethylene and the like.

少なくとも一部の水素基がフッ素基で置換された(メタ)アクリル酸エステルとして、2,2,2-トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、ターシャリーブチル-α-(トリフルオロメチル)アクリレート等のフルオロ(メタ)アクリル酸エステル等のハイドロフルオロアルキル基又はパーフルオロアルキル基を有する(メタ)アクリル酸エステルが挙げられる。少なくとも一部の水素基がフッ素基で置換された(メタ)アクリル酸として、α-(トリフルオロメチル)アクリル酸等のハイドロフルオロアルキル基含有(メタ)アクリル酸が挙げられる。少なくとも一部の水素基がフッ素基で置換されたアルキル基を含有するビニルとして、パーフルオロブチルエチレン、パーフルオロヘキシルエチレン、パーフルオロオクチルエチレン、パーフルオロデシルエチレン等のパーフルオロアルキル基含有ビニルが挙げられる。   As (meth) acrylic acid esters in which at least some of the hydrogen groups are substituted with fluorine groups, fluoro such as 2,2,2-trifluoroethyl (meth) acrylate and tertiary butyl-α- (trifluoromethyl) acrylate (Meth) acrylic acid ester which has hydrofluoroalkyl groups, such as (meth) acrylic acid ester, or a perfluoroalkyl group is mentioned. Examples of (meth) acrylic acid in which at least a part of hydrogen groups are substituted with fluorine groups include hydrofluoroalkyl group-containing (meth) acrylic acid such as α- (trifluoromethyl) acrylic acid. Examples of the vinyl containing an alkyl group in which at least a part of the hydrogen groups are substituted with a fluorine group include perfluoroalkyl group-containing vinyls such as perfluorobutylethylene, perfluorohexylethylene, perfluorooctylethylene, and perfluorodecylethylene. It is done.

(2) 酸性基を含有する不飽和化合物
酸性基としては特に制限されないが、スルホン酸基、カルボン酸基、リン酸基、アルコール性水酸基等が挙げられる。エチレン性不飽和結合を有する骨格としては、(メタ)アクリレート骨格、(メタ)アリルエステル骨格、置換又は無置換の不飽和脂肪族炭化水素骨格、不飽和基により置換された芳香族炭化水素骨格等を挙げることができる。
(2) Unsaturated compound containing acidic group The acidic group is not particularly limited, and examples thereof include a sulfonic acid group, a carboxylic acid group, a phosphoric acid group, and an alcoholic hydroxyl group. Examples of the skeleton having an ethylenically unsaturated bond include a (meth) acrylate skeleton, a (meth) allyl ester skeleton, a substituted or unsubstituted unsaturated aliphatic hydrocarbon skeleton, and an aromatic hydrocarbon skeleton substituted with an unsaturated group. Can be mentioned.

(i) スルホン酸基を含有する不飽和単量体
スルホン酸基を含有する不飽和単量体としては、例えば特開2004-179154号に記載のものが挙げられる。具体的には、ターシャリーブチルアクリルアミドスルホン酸、アリルスルホン酸、メタアリルスルホン酸、ビニルスルホン酸、p-スチレンスルホン酸、(メタ)アクリル酸ブチル-4-スルホン酸、(メタ)アクリロオキシベンゼンスルホン酸等が好ましい。
(i) Unsaturated monomer containing sulfonic acid group Examples of the unsaturated monomer containing a sulfonic acid group include those described in JP-A-2004-179154. Specifically, tertiary butyl acrylamide sulfonic acid, allyl sulfonic acid, methallyl sulfonic acid, vinyl sulfonic acid, p-styrene sulfonic acid, (meth) acrylic acid butyl-4-sulfonic acid, (meth) acrylooxybenzene Sulfonic acid and the like are preferable.

(ii) カルボン酸基を含有する不飽和単量体
カルボン酸基を含有する不飽和単量体の例示化合物としては、(メタ)アクリル酸、クロトン酸、マレイン酸及びその無水物、フマル酸、イタコン酸等が挙げられる。
(ii) Unsaturated monomer containing a carboxylic acid group Examples of unsaturated monomers containing a carboxylic acid group include (meth) acrylic acid, crotonic acid, maleic acid and anhydrides thereof, fumaric acid, Itaconic acid and the like can be mentioned.

(iii) リン酸基を有する不飽和単量体
リン酸基含有不飽和単量体として、式(9):

(ただしR20は水素基又はメチル基であり、R21は炭素数が2〜4で、直鎖状又は分岐状で、少なくとも一部の水素基が塩素基で置換されていてもよいアルキレン基であり、xは1〜6の整数である)により表される化合物が挙げられる。一般式(9)により表されるリン酸基含有不飽和単量体の市販品として、ユニケミカル株式会社製の商品名Phosmer(登録商標)がある。
(iii) Unsaturated monomer having phosphoric acid group As the phosphoric acid group-containing unsaturated monomer, the formula (9):

(However, R 20 is a hydrogen group or a methyl group, R 21 is an alkylene group having 2 to 4 carbon atoms, linear or branched, and at least a part of the hydrogen groups may be substituted with chlorine groups. And x is an integer of 1 to 6). As a commercial product of the phosphate group-containing unsaturated monomer represented by the general formula (9), there is a trade name “Phosmer (registered trademark)” manufactured by Unichemical Co., Ltd.

(iv) アルコール性水酸基を含有する不飽和単量体
アルコール性水酸基を含有する不飽和単量体としては、ヘキサメチレンジオールジ(メタ)アクリレート;ヒドロキシメチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、3-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート等のヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート等が挙げられる。
(iv) Unsaturated monomer containing alcoholic hydroxyl group Unsaturated monomer containing alcoholic hydroxyl group includes hexamethylenediol di (meth) acrylate; hydroxymethyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meta ) Acrylate, 3-hydroxypropyl (meth) acrylate, hydroxyalkyl (meth) acrylate such as 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, and the like.

(3) 各不飽和化合物の使用割合
リン系酸残基含有(メタ)アクリルアミド含有組成物(A+B)と、その他のエチレン性不飽和結合含有化合物(C)との質量比(A+B)/(C)は特に制限されず、所望の物性に応じて適宜選択すればよい。この質量比は(15/85)〜(60/40)が好ましく、(20/80)〜(60/40)がより好ましい。
(3) Use ratio of each unsaturated compound Mass ratio (A + B) of phosphoric acid residue-containing (meth) acrylamide-containing composition (A + B) to other ethylenically unsaturated bond-containing compound (C) ) / (C) is not particularly limited, and may be appropriately selected according to desired physical properties. This mass ratio is preferably (15/85) to (60/40), more preferably (20/80) to (60/40).

(4) 調製方法
リン系酸残基含有ビニル系重合体含有組成物は、上記リン系酸残基含有(メタ)アクリルアミド含有組成物と、その他のエチレン性不飽和結合含有化合物とを反応させることにより調製する。この反応は、リン系酸残基含有(メタ)アクリルアミド又はその含窒素界面活性剤変性物と、その他のエチレン性不飽和結合含有化合物との共重合反応である。共重合方法は、公知の乳化重合、懸濁重合、溶液重合、塊状重合及び放射線重合のいずれでもよいが乳化重合が好ましい。重合度は、用途に応じて適宜変えることができる。上記のように、リン系酸残基含有(メタ)アクリルアミド含有組成物は、非常に均一であるので、これを用いて得られるリン系酸残基含有ビニル系重合体含有組成物は、非常に均一で、透明性に優れている。上記のように、リン系酸残基含有(メタ)アクリルアミド含有組成物の調製時にその他のエチレン性不飽和結合含有化合物を溶媒として用いた場合、リン系酸残基含有(メタ)アクリルアミド含有組成物の調製に引き続き、重合開始剤を添加して共重合を行うのが好ましい。
(4) Preparation method The phosphoric acid residue-containing vinyl polymer-containing composition is obtained by reacting the phosphoric acid residue-containing (meth) acrylamide-containing composition with another ethylenically unsaturated bond-containing compound. Prepare by. This reaction is a copolymerization reaction between a phosphorus acid residue-containing (meth) acrylamide or its nitrogen-containing surfactant-modified product and another ethylenically unsaturated bond-containing compound. The copolymerization method may be any of known emulsion polymerization, suspension polymerization, solution polymerization, bulk polymerization and radiation polymerization, but emulsion polymerization is preferred. The degree of polymerization can be appropriately changed according to the application. As described above, since the phosphoric acid residue-containing (meth) acrylamide-containing composition is very uniform, the phosphoric acid residue-containing vinyl polymer-containing composition obtained using this is very Uniform and excellent in transparency. As described above, when other ethylenically unsaturated bond-containing compound is used as a solvent when preparing a phosphoric acid residue-containing (meth) acrylamide-containing composition, a phosphoric acid residue-containing (meth) acrylamide-containing composition Subsequent to the preparation, it is preferred to carry out copolymerization by adding a polymerization initiator.

(i) 乳化重合
乳化重合は、水媒体中で、乳化剤及び重合開始剤を用いてラジカル重合により行う。乳化剤としては公知のものを使用することができる。乳化剤としては、フェノール、クレゾール、ブチルフェノール、ノニルフェノール、ドデシルフェノール等のフェノール性水酸基を有する化合物のアルキレンオキシド付加物や、ドデシルベンゼンスルホネート等のアルキルベンゼンスルホン酸塩が挙げられる。好ましくはポリオキシエチレンノニルフエノールエーテル及びドデシルベンゼンスルホネートである。乳化剤の使用量は、水性樹脂エマルジョンの製造において重合に供される不飽和モノマーの合計量を基準として、3質量%以上であり、好ましくは5〜30質量%である。
(i) Emulsion polymerization Emulsion polymerization is carried out by radical polymerization in an aqueous medium using an emulsifier and a polymerization initiator. Known emulsifiers can be used. Examples of the emulsifier include alkylene oxide adducts of compounds having a phenolic hydroxyl group such as phenol, cresol, butylphenol, nonylphenol, and dodecylphenol, and alkylbenzene sulfonates such as dodecylbenzene sulfonate. Polyoxyethylene nonyl phenol ether and dodecylbenzene sulfonate are preferable. The amount of the emulsifier used is 3% by mass or more, preferably 5-30% by mass, based on the total amount of unsaturated monomers used for polymerization in the production of the aqueous resin emulsion.

重合開始剤としては、アンモニウムパーサルフェート(APS)、カリウムパーサルフェート(KPS)、アセチルパーオキサイド、イソプロピルハイドロパーオキサイド等の有機過酸化物系開始剤、2, 2’-アゾビスイソブチロニトリル、2, 2 ’-アゾビス(2, 4-ジメチルバレロニトリル)、ジメチル2, 2 ’-アゾビス(2-メチルプロピオネート)、ジメチル2, 2 ’-アゾビスイソブチレート等のアゾ系開始剤、あるいはラウリルパーオキシド、ベンゾイルパーオキシド、tert-ブチルパーオキシ・ピバレート等の過酸化物系開始剤、過酸化水素等が挙げられる。 As polymerization initiators, organic peroxide initiators such as ammonium persulfate (APS), potassium persulfate (KPS), acetyl peroxide, isopropyl hydroperoxide, 2, 2′-azobisisobutyronitrile, twenty two '-Azobis (2,4-dimethylvaleronitrile), dimethyl 2, 2 '-Azobis (2-methylpropionate), dimethyl 2, 2 Examples thereof include azo initiators such as' -azobisisobutyrate, or peroxide initiators such as lauryl peroxide, benzoyl peroxide and tert-butylperoxy pivalate, and hydrogen peroxide.

重合手順について述べる。攪拌器、還流冷却器付き反応器に、上記リン系酸残基含有(メタ)アクリルアミド含有組成物、その他のエチレン性不飽和結合含有化合物、乳化剤及び水を入れ、脱気した後、添加する重合開始剤の分解温度である40℃〜70℃に昇温する。好ましい重合温度は50℃〜70℃である。所定温度到達直後に重合開始剤を添加する。所定温度に到達してから約1時間間隔で重合開始剤を2〜3回添加した後、10〜24時間程度重合反応を継続する。反応温度は最初から最後まで一定である必要はなく、重合末期に温度を上げて未反応単量体を極力少なくする方法をとってもよい。乳化重合に際して、従来より乳化重合操作に一般的に用いられている各種添加剤や助剤、例えば連鎖移動剤、キレート化剤等を使用することができる。   The polymerization procedure is described. Polymerization to be added after degassing the above-mentioned phosphoric acid residue-containing (meth) acrylamide-containing composition, other ethylenically unsaturated bond-containing compound, emulsifier and water in a reactor equipped with a stirrer and reflux condenser The temperature is raised to 40 ° C to 70 ° C, which is the decomposition temperature of the initiator. A preferable polymerization temperature is 50 ° C to 70 ° C. A polymerization initiator is added immediately after reaching the predetermined temperature. After reaching a predetermined temperature, a polymerization initiator is added 2 to 3 times at intervals of about 1 hour, and then the polymerization reaction is continued for about 10 to 24 hours. The reaction temperature does not need to be constant from the beginning to the end, and a method of increasing the temperature at the end of the polymerization to minimize the unreacted monomer may be used. In the emulsion polymerization, various additives and auxiliaries generally used in the conventional emulsion polymerization operations, such as chain transfer agents and chelating agents, can be used.

重合溶液は不飽和原料(リン系酸残基含有(メタ)アクリルアミド含有組成物及びその他のエチレン性不飽和結合含有化合物)の初期固形分濃度が10〜40質量%であるのが好ましい。重合開始剤のトータル使用量は、不飽和原料を100とした場合に質量比で0.1〜5であるのが好ましい。   The polymerization solution preferably has an initial solid content concentration of 10 to 40% by mass of unsaturated raw materials (phosphorus acid residue-containing (meth) acrylamide-containing composition and other ethylenically unsaturated bond-containing compounds). The total amount of the polymerization initiator used is preferably 0.1 to 5 by mass ratio when the unsaturated raw material is 100.

得られたポリマーエマルジョンを冷却した後、多量の貧溶媒中に混入してビニル系重合体を分離し、金網等を用いてろ過し、ビニル系重合体を回収する。ビニル系重合体は貧溶媒を用いて洗浄するのが好ましい。貧溶媒としてメタノール等が挙げられる。   After cooling the obtained polymer emulsion, it is mixed in a large amount of a poor solvent to separate the vinyl polymer and filtered using a wire mesh or the like to recover the vinyl polymer. The vinyl polymer is preferably washed using a poor solvent. Methanol etc. are mentioned as a poor solvent.

(ii) 懸濁重合
懸濁重合は、乳化剤を使用しないで、水媒体中で上記重合開始剤を用いたラジカル重合を行う以外乳化重合と同じでよい。ただし懸濁重合には、ポリビニルアルコール等の水溶性ポリマーからなる懸濁剤を用いるのが好ましい。
(ii) Suspension polymerization Suspension polymerization may be the same as emulsion polymerization except that radical polymerization using the above polymerization initiator is performed in an aqueous medium without using an emulsifier. However, it is preferable to use a suspending agent made of a water-soluble polymer such as polyvinyl alcohol for suspension polymerization.

(iii) 溶液重合
溶液重合は、上記リン系酸残基含有(メタ)アクリルアミド含有組成物及びその他のエチレン性不飽和結合含有化合物の双方が溶解する共通溶媒中で、乳化剤を使用しないで、上記重合開始剤を用いたラジカル重合を行う以外、乳化重合と同じでよい。
(iii) Solution polymerization Solution polymerization is carried out without using an emulsifier in a common solvent in which both the phosphoric acid residue-containing (meth) acrylamide-containing composition and other ethylenically unsaturated bond-containing compounds are dissolved. It may be the same as emulsion polymerization except that radical polymerization using a polymerization initiator is performed.

(iv) 塊状重合
塊状重合は、溶媒及び乳化剤を使用しないで、上記重合開始剤を用いたラジカル重合を行う以外、乳化重合と同じでよい。
(iv) Bulk Polymerization Bulk polymerization may be the same as emulsion polymerization except that radical polymerization using the polymerization initiator is performed without using a solvent and an emulsifier.

(v) 放射線重合
放射線としては紫外線が好ましい。紫外線重合による樹脂膜の製造方法は、上記リン系酸残基含有(メタ)アクリルアミド含有組成物、その他のエチレン性不飽和結合含有化合物及び光重合開始剤(光増感剤)を含有する組成物を、これが付着しない材料(フッ素系重合体等)により被覆された板に流延し、紫外線透過性板で覆った後、紫外線を照射することにより重合させるものである。光重合開始剤として、2, 2-ジメトキシ-1, 2-ジフェニルエタン-1-オン、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾフェノン等が挙げられる。光重合開始剤の使用量は上記リン系酸残基含有(メタ)アクリルアミド含有組成物及びその他のエチレン性不飽和結合含有化合物の合計質量に対して、0.005〜10質量%の範囲が好ましい。紫外線照射強度は5〜150 mW/cm2が好ましく、照射時間は1〜15分間が好ましい。
(v) Radiation polymerization The radiation is preferably ultraviolet rays. A method for producing a resin film by ultraviolet polymerization is a composition containing the above-mentioned phosphoric acid residue-containing (meth) acrylamide-containing composition, another ethylenically unsaturated bond-containing compound and a photopolymerization initiator (photosensitizer). Is cast on a plate coated with a material (fluorine polymer or the like) to which it does not adhere, covered with an ultraviolet transmissive plate, and then polymerized by irradiation with ultraviolet rays. Examples of the photopolymerization initiator include 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, and benzophenone. The amount of the photopolymerization initiator used is preferably in the range of 0.005 to 10% by mass with respect to the total mass of the phosphoric acid residue-containing (meth) acrylamide-containing composition and other ethylenically unsaturated bond-containing compounds. The ultraviolet irradiation intensity is preferably 5 to 150 mW / cm 2 and the irradiation time is preferably 1 to 15 minutes.

(5) 特性及び用途
リン系酸残基含有ビニル系重合体含有組成物は優れた難燃性、絶縁性、透明性、接着性及び耐溶剤性を有する。具体的には、リン系酸残基含有ビニル系重合体含有組成物をガスバーナーの先端に設置し、炎に2秒間以上曝しても炭化するのみか、着火した場合でも自己消化性を有する。その表面固有抵抗は相対湿度50〜75%/室温の条件下で1×1014Ω以上である。また透明性が高く、屈折率にムラがない。よってリン系酸残基含有ビニル系重合体含有組成物は、難燃性樹脂及び絶縁性樹脂として有用である。リン系酸残基含有ビニル系重合体含有組成物は、射出成形、押し出し成形、プレス成形等を用いて任意の形状に成形することができる。
(5) Properties and uses The phosphorus acid residue-containing vinyl polymer-containing composition has excellent flame retardancy, insulation, transparency, adhesiveness and solvent resistance. Specifically, the phosphoric acid residue-containing vinyl-based polymer-containing composition is placed at the tip of a gas burner and is carbonized even when exposed to a flame for 2 seconds or more, or has self-digestibility even when ignited. Its surface resistivity is 1 × 10 14 Ω or more under conditions of relative humidity of 50 to 75% / room temperature. Moreover, transparency is high and there is no unevenness in refractive index. Therefore, the phosphorus acid residue-containing vinyl polymer-containing composition is useful as a flame retardant resin and an insulating resin. The phosphorus acid residue-containing vinyl polymer-containing composition can be molded into an arbitrary shape using injection molding, extrusion molding, press molding, or the like.

本発明を以下の実施例によりさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの例に限定されるものではない。   The present invention will be described in more detail with reference to the following examples, but the present invention is not limited to these examples.

実施例1
(1) ホスホン酸基含有アクリルアミドの調製
WO2005-080454の実施例4と同様にして、アクリルアミド及び無水リン酸を用いてホスホン酸基を有する加水分解物を調製した。この加水分解物を含む反応溶液に貧溶媒を添加し、濾別した加水分解物を100℃で1時間加熱乾燥した。
Example 1
(1) Preparation of phosphonic acid group-containing acrylamide
In the same manner as in Example 4 of WO2005-080454, a hydrolyzate having a phosphonic acid group was prepared using acrylamide and phosphoric anhydride. A poor solvent was added to the reaction solution containing the hydrolyzate, and the hydrolyzate separated by filtration was dried by heating at 100 ° C. for 1 hour.

(2) 酸価の測定
ホスホン酸基含有加水分解物の酸価を、1規定KOHを用いて測定した結果、892 mg/gであった(N, N-ジホスホン酸アクリルアミドの理論酸価:969.7 mg/g、N-モノホスホン酸アクリルアミドの理論酸価:741.7 mg/g)。
(2) Measurement of Acid Value The acid value of the phosphonic acid group-containing hydrolyzate was measured using 1N KOH, and was 892 mg / g (theoretical acid value of N, N-diphosphonic acid acrylamide: 969.7 mg / g, theoretical acid value of N-monophosphonic acid acrylamide: 741.7 mg / g).

(3) 元素分析
ホスホン酸基含有加水分解物の窒素含有量をCHNコーダ法により測定し、リン含有量をICP発光分光分析法により測定し、窒素とリンの質量比を求めた結果、1:4.4であり、N, N-ジホスホン酸アクリルアミドにおける理論比と同じであった。
(3) Elemental analysis The nitrogen content of the hydrolyzate containing phosphonic acid groups was measured by the CHN coder method, the phosphorus content was measured by ICP emission spectroscopy, and the mass ratio of nitrogen and phosphorus was determined. 4.4, which is the same as the theoretical ratio in N, N-diphosphonic acid acrylamide.

(4) 赤外スペクトル測定
アクリルアミド及びホスホン酸基含有加水分解物について、フーリエ変換赤外分光装置(形式:IRPrestige-21、株式会社島津製作所製)を用いて、赤外スペクトル測定を行った。結果を図1及び図2に示す。アクリルアミドでは、3,160 cm-1付近及び3,340 cm-1付近にN-H結合による鋭いピークが検出された(図1)。一方、ホスホン酸基含有加水分解物では、N-H結合によるピークは3,210 cm-1付近及び3,360 cm-1付近に僅かに検出されたのみであった(図2)。またホスホン酸基含有加水分解物では、1,010 cm-1を頂点として、700〜1,300 cm-1の範囲に、ホスホン酸基による幅広いピークが検出された(図2)。これらのことから、大部分のアクリルアミドの窒素原子に、2つのホスホン酸基が導入されたことが確認された。
(4) Infrared spectrum measurement About the acrylamide and the phosphonic acid group containing hydrolyzate, the infrared spectrum measurement was performed using the Fourier-transform infrared spectroscopy apparatus (form: IRPrestige-21, Shimadzu Corporation make). The results are shown in FIGS. In acrylamide, sharp peaks due to NH bonds were detected in the vicinity of 3,160 cm −1 and 3,340 cm −1 (FIG. 1). On the other hand, in the phosphonic acid group-containing hydrolyzate, peaks due to NH bonds were only slightly detected in the vicinity of 3,210 cm −1 and 3,360 cm −1 (FIG. 2). In the phosphonic acid group-containing hydrolyzate, a broad peak due to the phosphonic acid group was detected in the range of 700 to 1,300 cm -1 with 1,010 cm -1 as the apex (FIG. 2). From these facts, it was confirmed that two phosphonic acid groups were introduced into most acrylamide nitrogen atoms.

酸価の測定、元素分析及び赤外スペクトル測定の結果から、ホスホン酸基含有加水分解物は、N, N-ジホスホン酸アクリルアミド及びN-モノホスホン酸アクリルアミドを含み、N, N-ジホスホン酸アクリルアミドを主成分とする組成物であることが確認された。   From the results of acid value measurement, elemental analysis and infrared spectrum measurement, the phosphonic acid group-containing hydrolyzate contains N, N-diphosphonic acid acrylamide and N-monophosphonic acid acrylamide, and N, N-diphosphonic acid acrylamide is the main. It was confirmed that the composition was a component.

(5) 組成物の調製
ホスホン酸基含有加水分解物及びポリオキシエチレン−ステアリルアミン(商品名「ナイミーンS-210」、純度100%、日油株式会社製、上記式(3a)におけるf及びkの合計:10、分子量709)を、モル比が1:3となるように混合し[ホスホン酸基含有加水分解物は、N, N-ジホスホン酸アクリルアミド(分子量231)100モル%からなるものとしてモル数を算出]、60℃で30分間撹拌すると透明な組成物が得られた。
(5) Preparation of composition Phosphonic acid group-containing hydrolyzate and polyoxyethylene-stearylamine (trade name “Nymene S-210”, purity 100%, manufactured by NOF Corporation, f and k in the above formula (3a) 10 and molecular weight 709) are mixed so that the molar ratio is 1: 3. The phosphonic acid group-containing hydrolyzate is composed of 100 mol% of N, N-diphosphonic acid acrylamide (molecular weight 231). The number of moles was calculated] and stirred at 60 ° C. for 30 minutes to obtain a transparent composition.

(6) 赤外スペクトル測定
ポリオキシエチレン−ステアリルアミン及び上記組成物について、赤外スペクトル測定を行った。結果を図3及び図4に示す。ポリオキシエチレン−ステアリルアミンでは、1,123 cm-1付近にエーテル鎖によるピークが検出され、2,855 cm-1付近及び2,924 cm-1付近にステアリル基によるピークが検出されたが(図3)、組成物では、これらのピーク以外に1,678 cm-1付近にN, N-ジホスホン酸アクリルアミドの炭素−酸素二重結合及び/又は炭素−炭素二重結合によるピークが検出された。しかし、組成物ではホスホン酸基の1,010 cm-1付近のピーク(図2参照)が検出されず、このピークはシフトしてエーテル鎖のピーク(1,123 cm-1付近)と重なっていると考えられる。このピークシフトから、組成物は、ホスホン酸基含有加水分解物のホスホン酸基とポリオキシエチレン−ステアリルアミンのアミノ基とが酸・塩基反応した変性物であると考えられる。
(6) Infrared spectrum measurement The infrared spectrum measurement was performed about polyoxyethylene-stearylamine and the said composition. The results are shown in FIGS. In polyoxyethylene-stearylamine, a peak due to the ether chain was detected in the vicinity of 1,123 cm -1 and a peak due to the stearyl group was detected in the vicinity of 2,855 cm -1 and 2,924 cm -1 (Fig. 3). In addition to these peaks, a peak due to a carbon-oxygen double bond and / or a carbon-carbon double bond of N, N-diphosphonic acid acrylamide was detected in the vicinity of 1,678 cm −1 . However, in the composition, a peak near 1,010 cm −1 of the phosphonic acid group (see FIG. 2) was not detected, and this peak is considered to shift and overlap with the peak of the ether chain (near 1,123 cm −1 ). . From this peak shift, the composition is considered to be a modified product in which the phosphonic acid group of the phosphonic acid group-containing hydrolyzate and the amino group of polyoxyethylene-stearylamine are subjected to an acid / base reaction.

実施例2
(1) ホスホン酸基含有アクリルアミドの調製
WO2005-080454の実施例1と同様にして、アクリルアミド及び無水リン酸を用いてホスホン酸基を有する加水分解物を調製した。この加水分解物を含む反応溶液に貧溶媒を添加し、分液ロートにより分離した加水分解物を100℃で1時間加熱乾燥した。
Example 2
(1) Preparation of phosphonic acid group-containing acrylamide
A hydrolyzate having a phosphonic acid group was prepared using acrylamide and phosphoric anhydride in the same manner as in Example 1 of WO2005-080454. A poor solvent was added to the reaction solution containing the hydrolyzate, and the hydrolyzate separated by a separatory funnel was dried by heating at 100 ° C. for 1 hour.

(2) 酸価の測定
ホスホン酸基含有加水分解物の酸価を、1規定KOHを用いて測定した結果、674 mg/gであり、加水分解物の主成分はN-モノホスホン酸アクリルアミド(理論酸価:741.7 mg/g)であることが確認された。
(2) Measurement of acid value The acid value of the phosphonic acid group-containing hydrolyzate was measured using 1N KOH. As a result, it was 674 mg / g. The acid value was confirmed to be 741.7 mg / g).

(3) 赤外スペクトル測定
ホスホン酸基含有加水分解物について、フーリエ変換赤外分光装置を用いて、赤外スペクトル測定を行った。結果を図5に示す。3,210 cm-1付近及び3,350 cm-1付近にN-H結合によるピークが検出されるとともに、984 cm-1を頂点として、700〜1,300 cm-1の範囲に、ホスホン酸基による幅広いピークが検出された。これらのことからも、加水分解物の主成分はN-モノホスホン酸アクリルアミドであることが確認された。
(3) Infrared spectrum measurement About the phosphonic acid group containing hydrolyzate, the infrared spectrum measurement was performed using the Fourier-transform infrared spectrometer. The results are shown in FIG. A peak due to NH bonding was detected in the vicinity of 3,210 cm -1 and 3,350 cm -1 , and a wide range of peaks due to phosphonic acid groups were detected in the range of 700 to 1,300 cm -1 with the peak at 984 cm -1 . From these facts, it was confirmed that the main component of the hydrolyzate was N-monophosphonic acid acrylamide.

(4) 組成物の調製
ホスホン酸基含有加水分解物及びポリオキシエチレン−ステアリルアミン(ナイミーンS-210、純度100%)を、モル比が1:1.5となるように混合し[ホスホン酸基含有加水分解物はN-モノホスホン酸アクリルアミド100モル%からなるものとしてモル数を算出]、60℃で30分間撹拌すると透明な組成物が得られた。
(4) Preparation of composition Phosphonic acid group-containing hydrolyzate and polyoxyethylene-stearylamine (Nymine S-210, purity 100%) were mixed at a molar ratio of 1: 1.5 [phosphonic acid group-containing The number of moles was calculated on the assumption that the hydrolyzate was composed of 100 mol% of N-monophosphonic acid acrylamide.] When the mixture was stirred at 60 ° C. for 30 minutes, a transparent composition was obtained.

(5) 赤外スペクトル測定
上記組成物について、赤外スペクトル測定を行った。結果を図6に示す。組成物では、エーテル鎖によるピーク(1,123 cm-1付近)及びステアリル基によるピーク(2,855 cm-1付近及び2,924 cm-1付近)以外に1,680 cm-1付近にN-モノホスホン酸アクリルアミドの炭素−酸素二重結合及び/又は炭素−炭素二重結合によるピークが検出された。しかし、この組成物でもホスホン酸基の984 cm-1付近のピーク(図5参照)が検出されず、このピークはシフトしてエーテル鎖のピーク(1,123 cm-1付近)と重なっていると考えられる。このピークシフトから、組成物は、ホスホン酸基含有加水分解物のホスホン酸基とポリオキシエチレン−ステアリルアミンのアミノ基とが酸・塩基反応した変性物であると考えられる。
(5) Infrared spectrum measurement The above composition was subjected to infrared spectrum measurement. The results are shown in FIG. In the composition, carbon-oxygen of N-monophosphonic acid acrylamide is located near 1,680 cm -1 in addition to the peak due to ether chain (near 1,123 cm -1 ) and the peak due to stearyl group (near 2,855 cm -1 and 2,924 cm -1 ). Peaks due to double bonds and / or carbon-carbon double bonds were detected. However, even in this composition, a peak near 984 cm −1 of the phosphonic acid group (see FIG. 5) was not detected, and this peak is considered to shift and overlap with the peak of the ether chain (near 1,123 cm −1 ). It is done. From this peak shift, the composition is considered to be a modified product in which the phosphonic acid group of the phosphonic acid group-containing hydrolyzate and the amino group of polyoxyethylene-stearylamine are subjected to an acid / base reaction.

赤外スペクトル測定を5回行い、エーテル鎖に帰属する1,123 cm-1のピークの強度I1123と、炭素−酸素二重結合及び/又は炭素−炭素二重結合に帰属する1,680cm-1のピークの強度I1680との比I1123/I1680を、実施例1及び2の組成物についてそれぞれ求め、平均した結果、実施例1の組成物では4.9であり、実施例2の組成物では2.5であった。またステアリル基に帰属する2,924 cm-1のピークの強度I2924と、上記ピーク強度I1680との比I2924/I1680を、実施例1及び2の各々の組成物について求め、平均した結果、実施例1の組成物では6.4であり、実施例2の組成物では3.2であった。これらのことから、実施例1の組成物は、実施例2の組成物のほぼ2倍のポリオキシエチレン−ステアリルアミンを含むことが分かり、仕込み比と一致した。 Performs infrared spectrum measured five times, and the peak intensity I 1123 of 1,123 cm -1 attributed to an ether chain, a carbon - oxygen double bonds and / or carbon - peak of 1,680Cm -1 attributable to carbon double bond The ratio I 1123 / I 1680 to the strength I 1680 was determined for each of the compositions of Examples 1 and 2, and averaged to be 4.9 for the composition of Example 1 and 2.5 for the composition of Example 2. there were. Further, the ratio I 2924 / I 1680 of the peak intensity I 2924 attributed to the stearyl group to 2,924 cm −1 and the peak intensity I 1680 was determined for each of the compositions of Examples 1 and 2, and averaged. The composition of Example 1 was 6.4, and the composition of Example 2 was 3.2. From these facts, it was found that the composition of Example 1 contained about twice as much polyoxyethylene-stearylamine as the composition of Example 2, which was consistent with the charging ratio.

実施例3
ポリオキシエチレン−ステアリルアミンとしてナイミーンS-204(日油株式会社製、上記式(3a)におけるf及びkの合計:4、分子量445)を用いた以外実施例1と同様にして組成物を調製した。
Example 3
A composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that Naimine S-204 (manufactured by NOF Corporation, total of f and k in the above formula (3a): 4, molecular weight 445) was used as polyoxyethylene-stearylamine. did.

実施例4
ポリオキシエチレン−ステアリルアミンとしてナイミーンS-202(日油株式会社製、上記式(3a)におけるf及びkの合計:2、分子量357)を用いた以外実施例1と同様にして組成物を調製した。
Example 4
A composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that Naimine S-202 (manufactured by NOF Corporation, total of f and k in formula (3a): 2, molecular weight 357) was used as polyoxyethylene-stearylamine. did.

実施例5
ポリオキシエチレン−ステアリルアミンとしてナイミーンS-204(日油株式会社製)を用いた以外実施例2と同様にして組成物を調製した。
Example 5
A composition was prepared in the same manner as in Example 2, except that Naimine S-204 (manufactured by NOF Corporation) was used as polyoxyethylene-stearylamine.

実施例6
ポリオキシエチレン−ステアリルアミンとしてナイミーンS-202(日油株式会社製)を用いた以外実施例2と同様にして組成物を調製した。
Example 6
A composition was prepared in the same manner as in Example 2 except that Naimine S-202 (manufactured by NOF Corporation) was used as polyoxyethylene-stearylamine.

実施例7
実施例1と同様にして、N, N-ジホスホン酸アクリルアミドを主成分とするホスホン酸基含有加水分解物を調製した。ホスホン酸基含有加水分解物に、テトラデシルジメチルベンジル−アンモニムクロライド(商品名「ニッサンカチオンM2-100R」、日油株式会社製)を、モル比が1:3となるように(ホスホン酸基含有加水分解物は、N, N-ジホスホン酸アクリルアミド100モル%からなるものとしてとしてモル数を算出)、2-プロピルアルコールに入れ(固形分濃度10質量%)、室温で30分間攪拌した。得られた反応溶液を100℃で1時間加熱乾燥すると、透明な組成物が得られた。
Example 7
In the same manner as in Example 1, a phosphonic acid group-containing hydrolyzate containing N, N-diphosphonic acid acrylamide as a main component was prepared. Tetradecyldimethylbenzyl-ammonium chloride (trade name “Nissan Cation M 2 -100R”, manufactured by NOF Corporation) is added to the hydrolyzate containing phosphonic acid groups so that the molar ratio is 1: 3 (phosphonic acid). The group-containing hydrolyzate was calculated as the number of moles of N, N-diphosphonic acid acrylamide as 100 mol%), placed in 2-propyl alcohol (solid content concentration 10% by mass), and stirred at room temperature for 30 minutes. The obtained reaction solution was heat-dried at 100 ° C. for 1 hour to obtain a transparent composition.

テトラデシルジメチルベンジル−アンモニムクロライド及び上記組成物について、赤外スペクトル測定を行った。結果を図7及び図8に示す。テトラデシルジメチルベンジル−アンモニムクロライドでは、720 cm-1付近及び1,610 cm-1付近にベンゼン環に帰属するピークが検出され、2,853 cm-1付近及び2,922 cm-1付近にテトラデシル基及びメチル基に帰属するピークが検出され、3,380 cm-1付近及び3,450 cm-1付近にN-H結合によるピークが検出された(図7)。上記組成物では、これらのピーク以外に1,676 cm-1付近にN, N-ジホスホン酸アクリルアミドの炭素−酸素二重結合及び/又は炭素−炭素二重結合によるピークが検出され、また995 cm-1を頂点として、800〜1,300 cm-1の範囲に、ホスホン酸基による幅広いピークが検出された(図8)。N-H結合によるピークが3,380 cm-1付近及び3,450 cm-1付近(図7参照)から3,340 cm-1付近及び3,430 cm-1付近にシフトし、ホスホン酸基のピークが1,010 cm-1(図2参照)から995 cm-1にシフトしていることから、組成物は、ホスホン酸基含有加水分解物のホスホン酸基とテトラデシルジメチルベンジル−アンモニムクロライドのアミノ基とが酸・塩基反応した変性物であると考えられる。 Infrared spectra were measured for tetradecyldimethylbenzyl-ammonium chloride and the above composition. The results are shown in FIGS. Tetradecyldimethylbenzylammonium - In Ann monitor skeleton ride, 720 cm -1 and near peaks attributable to the benzene ring in the vicinity of 1,610 cm -1 is detected, the tetradecyl group and a methyl group in the vicinity of 2,853 cm -1 and around 2,922 cm -1 An attributed peak was detected, and peaks due to NH bonds were detected in the vicinity of 3,380 cm −1 and 3,450 cm −1 (FIG. 7). In the above composition, in addition to these peaks, a peak due to a carbon-oxygen double bond and / or carbon-carbon double bond of N, N-diphosphonic acid acrylamide was detected in the vicinity of 1,676 cm −1 , and 995 cm −1 was detected. A broad peak due to the phosphonic acid group was detected in the range of 800 to 1,300 cm -1 with the peak at (Fig. 8). Peaks due to NH bonds shift from around 3,380 cm -1 and around 3,450 cm -1 (see Fig. 7) to around 3,340 cm -1 and around 3,430 cm -1 , and the peak of the phosphonic acid group is 1,010 cm -1 (Fig. 2 since the reference) is shifted to 995 cm -1, composition, phosphonic acid group and tetradecyl dimethyl benzyl phosphonic acid group-containing hydrolyzate - and amino groups Ann monitor skeleton ride is acid-base reaction denaturation It is considered a thing.

実施例8
実施例2と同様にして、N-モノホスホン酸アクリルアミドを主成分とするホスホン酸基含有加水分解物を調製した。ホスホン酸基含有加水分解物及びテトラデシルジメチルベンジル−アンモニムクロライド(ニッサンカチオンM2-100R、分子量366)を、モル比が1:1.5となるように(ホスホン酸基含有加水分解物はN-モノホスホン酸アクリルアミド100モル%からなるものとしてモル数を算出)、2-プロピルアルコールに入れ(固形分濃度10質量%)、室温で30分間攪拌した。得られた反応溶液を60℃で15時間加熱乾燥すると、透明な組成物が得られた。
Example 8
In the same manner as in Example 2, a phosphonic acid group-containing hydrolyzate containing N-monophosphonic acid acrylamide as a main component was prepared. The phosphonic acid group-containing hydrolyzate and tetradecyldimethylbenzyl-ammonium chloride (Nissan cation M 2 -100R, molecular weight 366) are mixed so that the molar ratio is 1: 1.5 (phosphonic acid group-containing hydrolyzate is N- The number of moles was calculated as consisting of 100 mol% monophosphonic acid acrylamide), placed in 2-propyl alcohol (solid content concentration 10 mass%), and stirred at room temperature for 30 minutes. The obtained reaction solution was heat-dried at 60 ° C. for 15 hours to obtain a transparent composition.

上記組成物について、赤外スペクトル測定を行った。結果を図9に示す。ベンゼン環に帰属するピーク(720 cm-1付近)並びにテトラデシル基及びメチル基に帰属するピーク(2,853 cm-1付近及び2,922 cm-1付近)以外に、1,678 cm-1付近にN-モノホスホン酸アクリルアミドの炭素−酸素二重結合及び/又は炭素−炭素二重結合によるピークが検出された。また997 cm-1を頂点として、800〜1,300 cm-1の範囲に、ホスホン酸基による幅広いピークが検出された。ホスホン酸基のピークが984 cm-1(図5)から997 cm-1にシフトしていることから、組成物は、ホスホン酸基含有加水分解物のホスホン酸基とテトラデシルジメチルベンジル−アンモニムクロライドのアミノ基とが酸・塩基反応した変性物であると考えられる。 The infrared spectrum measurement was performed about the said composition. The results are shown in FIG. In addition to the peaks attributed to the benzene ring (near 720 cm -1 ) and the peaks attributed to the tetradecyl group and methyl group (near 2,853 cm -1 and 2,922 cm -1 ), N-monophosphonic acid acrylamide near 1,678 cm -1 The peak due to the carbon-oxygen double bond and / or the carbon-carbon double bond was detected. Also the 997 cm -1 as a vertex, within the range of 800~1,300 cm -1, broad peak due to the phosphonic acid group is detected. Since the peak of the phosphonic acid group is shifted from 984 cm −1 (FIG. 5) to 997 cm −1 , the composition contains the phosphonic acid group and tetradecyldimethylbenzyl-ammonium of the phosphonic acid group-containing hydrolyzate. It is considered to be a modified product obtained by an acid / base reaction with the amino group of chloride.

赤外スペクトル測定を5回行い、テトラデシル基に帰属する2,924 cm-1のピークの強度I2924と、炭素−酸素二重結合及び/又は炭素−炭素二重結合に帰属するピーク強度I1680との比I2924/I1680を、実施例7及び8の組成物についてそれぞれ求め、平均した結果、実施例7の組成物では12.1であり、実施例8の組成物では7.6であった。これらのことから、実施例7の組成物は、実施例8の組成物の1.6倍のポリオキシエチレン−ステアリルアミンを含むことが分かり、仕込み比とほぼ一致した。 Infrared spectrum measurement was performed 5 times, and the peak intensity I 2924 of 2,924 cm −1 attributed to the tetradecyl group and the peak intensity I 1680 attributed to the carbon-oxygen double bond and / or carbon-carbon double bond The ratio I 2924 / I 1680 was determined for each of the compositions of Examples 7 and 8, and averaged to be 12.1 for the composition of Example 7 and 7.6 for the composition of Example 8. From these facts, it was found that the composition of Example 7 contained 1.6 times as much polyoxyethylene-stearylamine as the composition of Example 8, and almost coincided with the charging ratio.

比較例1
ポリオキシエチレン−ステアリルアミンに替えて、ステアリルアミンを用いた以外実施例1と同様にして組成物を調製した。
Comparative Example 1
A composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that stearylamine was used instead of polyoxyethylene-stearylamine.

比較例2
ポリオキシエチレン−ステアリルアミンに替えて、オレイルアミンを用いた以外実施例1と同様にして組成物を調製した。
Comparative Example 2
A composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that oleylamine was used instead of polyoxyethylene-stearylamine.

比較例3
ポリオキシエチレン−ステアリルアミンに替えて、ステアリルアミンを用いた以外実施例2と同様にして組成物を調製した。
Comparative Example 3
A composition was prepared in the same manner as in Example 2 except that stearylamine was used instead of polyoxyethylene-stearylamine.

比較例4
ポリオキシエチレン−ステアリルアミンに替えて、オレイルアミンを用いた以外実施例2と同様にして組成物を調製した。
Comparative Example 4
A composition was prepared in the same manner as in Example 2 except that oleylamine was used instead of polyoxyethylene-stearylamine.

相溶性評価
実施例1〜8及び比較例1〜4で得られた組成物と、スチレンモノマー、メチルメタクリレート、ブチルアクリレート及び2-エチルヘキシルアクリレートのそれぞれとを等質量で混合し、攪拌した後、目視により相溶性を評価した。相溶性は以下の基準により判定した。結果を表1に示す。
◎:室温で透明な混合物が得られた。
○:60℃で加熱すると、透明な混合物が得られた。
×:白濁した混合物しか得られなかった。
Compatibility Evaluation The compositions obtained in Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 4, and each of styrene monomer, methyl methacrylate, butyl acrylate and 2-ethylhexyl acrylate were mixed in equal mass, stirred, and then visually observed. Thus, the compatibility was evaluated. Compatibility was determined according to the following criteria. The results are shown in Table 1.
A: A transparent mixture was obtained at room temperature.
○: When heated at 60 ° C., a transparent mixture was obtained.
X: Only a cloudy mixture was obtained.

表1(続き)
Table 1 (continued)

表1(続き)
Table 1 (continued)

注:(1) N, N-ジホスホン酸アクリルアミドを主成分とする組成物。
(2) ポリオキシエチレン−ステアリルアミン(商品名「ナイミーンS-210」、日油株式会社製)。
(3) N-モノホスホン酸アクリルアミドを主成分とする組成物。
(4) ポリオキシエチレン−ステアリルアミン(商品名「ナイミーンS-204」、日油株式会社製)。
(5) ポリオキシエチレン−ステアリルアミン(商品名「ナイミーンS-202」、日油株式会社製)。
(6) テトラデシルジメチルベンジル−アンモニムクロライド(商品名「ニッサンカチオンM2-100R」、日油株式会社製)。
(7) ステアリルアミン
(8) オレイルアミン
Notes: (1) A composition based on N, N-diphosphonic acid acrylamide.
(2) Polyoxyethylene-stearylamine (trade name “Naymin S-210”, manufactured by NOF Corporation).
(3) A composition mainly composed of N-monophosphonic acid acrylamide.
(4) Polyoxyethylene-stearylamine (trade name “Naimine S-204”, manufactured by NOF Corporation).
(5) Polyoxyethylene-stearylamine (trade name “Naimine S-202”, manufactured by NOF Corporation).
(6) Tetradecyldimethylbenzyl-ammonium chloride (trade name “Nissan Cation M 2 -100R”, manufactured by NOF Corporation).
(7) Stearylamine
(8) Oleylamine

表1から、実施例1〜8の組成物はいずれも、スチレンモノマー及びアルキルアクリレートに対して優れた相溶性を有することが分かった。これに対して、比較例1〜4では、オキシアルキレン基又はカチオン性基を有さない界面活性剤を用いたので、実施例1〜8に比較して、スチレンモノマー及びアルキルアクリレートに対する相溶性に劣っていた。   From Table 1, it was found that all the compositions of Examples 1 to 8 had excellent compatibility with the styrene monomer and the alkyl acrylate. On the other hand, in Comparative Examples 1-4, since the surfactant which does not have an oxyalkylene group or a cationic group was used, compared with Examples 1-8, it became compatible with a styrene monomer and an alkyl acrylate. It was inferior.

実施例9
還流冷却管、触媒投入口等を有する自動合成反応装置に、実施例1で調製したホスホン酸基含有アクリルアミド含有組成物(変性物)20質量部、メチルメタクリレート20質量部、及びイオン交換水60質量部を入れ、窒素ガスを導入しながら攪拌し、60℃まで昇温した後、ホスホン酸基含有アクリルアミド含有組成物及びメチルメタクリレートの合計を100質量%として10質量%のポリオキシエチレンノニルフエノールエーテル及び4質量%のアンモニウムパーサルフェートを添加した。その後22時間60〜65℃に保持して乳化重合し、ホスホン酸基含有アクリルアミド含有組成物(変性物)及びメチルメタクリレートを共重合してなるビニル系重合体を含むエマルジョンを得た。このエマルジョンを冷却し、エマルジョンの5倍重量部のメタノールを加え、撹拌した後、金網を用いてろ過し、固形分を回収し、イオン交換水を用いて洗浄した後、60℃で15時間乾燥することにより、ビニル系重合体を調製した。
Example 9
In an automatic synthesis reactor having a reflux condenser, a catalyst inlet, etc., 20 parts by mass of a phosphonic acid group-containing acrylamide-containing composition (modified product) prepared in Example 1, 20 parts by mass of methyl methacrylate, and 60 parts by mass of ion-exchanged water. The mixture was stirred while introducing nitrogen gas, heated to 60 ° C., and 10% by mass of polyoxyethylene nonylphenol ether and 100% by mass of the total of the phosphonic acid group-containing acrylamide-containing composition and methyl methacrylate and 4% by weight of ammonium persulfate was added. Thereafter, emulsion polymerization was carried out while maintaining at 60 to 65 ° C. for 22 hours to obtain an emulsion containing a vinyl polymer formed by copolymerizing a phosphonic acid group-containing acrylamide-containing composition (modified product) and methyl methacrylate. Cool the emulsion, add 5 parts by weight of methanol to the emulsion, stir, filter using a wire mesh, collect the solids, wash with ion-exchanged water, and dry at 60 ° C for 15 hours. By doing so, a vinyl polymer was prepared.

実施例10
ホスホン酸基含有アクリルアミド含有組成物及びメチルメタクリレートの配合割合をそれぞれ13.3質量部及び26.7質量部とした以外実施例9と同様にして、ビニル系重合体を調製した。
Example 10
A vinyl polymer was prepared in the same manner as in Example 9, except that the blending ratios of the phosphonic acid group-containing acrylamide-containing composition and methyl methacrylate were 13.3 parts by mass and 26.7 parts by mass, respectively.

実施例11
上記自動合成反応装置に、実施例2で調製したホスホン酸基含有アクリルアミド含有組成物15質量部、メチルメタクリレート15質量部、及びイオン交換水70質量部を入れ、アンモニウムパーサルフェートの添加量を5質量%とした以外実施例9と同様にして、ビニル系重合体を調製した。このビニル系重合体のリン含有量(JIS K0102に準拠して測定)は0.97質量%であった(理論値:1.3質量%)。
Example 11
In the automatic synthesis reaction apparatus, 15 parts by mass of the phosphonic acid group-containing acrylamide-containing composition prepared in Example 2, 15 parts by mass of methyl methacrylate, and 70 parts by mass of ion-exchanged water were added, and the addition amount of ammonium persulfate was 5 masses. %, A vinyl polymer was prepared in the same manner as in Example 9, except that The phosphorus content (measured in accordance with JIS K0102) of this vinyl polymer was 0.97% by mass (theoretical value: 1.3% by mass).

実施例12
ホスホン酸基含有アクリルアミド含有組成物及びメチルメタクリレートの配合割合をそれぞれ10質量部及び20質量部とした以外実施例11と同様にして、ビニル系重合体を調製した。このビニル系重合体のリン含有量は0.75質量%であった(理論値:0.86質量%)。
Example 12
A vinyl polymer was prepared in the same manner as in Example 11 except that the blending ratios of the phosphonic acid group-containing acrylamide-containing composition and methyl methacrylate were 10 parts by mass and 20 parts by mass, respectively. The phosphorus content of this vinyl polymer was 0.75% by mass (theoretical value: 0.86% by mass).

実施例13
ホスホン酸基含有アクリルアミド含有組成物及びメチルメタクリレートの配合割合をそれぞれ6質量部及び24質量部とした以外実施例11と同様にして、ビニル系重合体を調製した。このビニル系重合体のリン含有量は0.59質量%であった(理論値:0.52質量%)。
Example 13
A vinyl polymer was prepared in the same manner as in Example 11 except that the blending ratios of the phosphonic acid group-containing acrylamide-containing composition and methyl methacrylate were 6 parts by mass and 24 parts by mass, respectively. The phosphorus content of this vinyl polymer was 0.59% by mass (theoretical value: 0.52% by mass).

比較例6
ホスホン酸基含有アクリルアミド含有組成物及びメチルメタクリレートの配合割合をそれぞれ5.7質量部及び34.3質量部とした以外実施例9と同様にして、ビニル系重合体を調製した。
Comparative Example 6
A vinyl polymer was prepared in the same manner as in Example 9 except that the blending ratios of the phosphonic acid group-containing acrylamide-containing composition and methyl methacrylate were 5.7 parts by mass and 34.3 parts by mass, respectively.

比較例7
ホスホン酸基含有アクリルアミド含有組成物及びメチルメタクリレートの配合割合をそれぞれ4.3質量部及び25.7質量部とした以外実施例11と同様にして、ビニル系重合体を調製した。このビニル系重合体のリン含有量は0.43質量%であった(理論値:0.37質量%)。
Comparative Example 7
A vinyl polymer was prepared in the same manner as in Example 11 except that the blending ratios of the phosphonic acid group-containing acrylamide-containing composition and methyl methacrylate were 4.3 parts by mass and 25.7 parts by mass, respectively. The phosphorus content of this vinyl polymer was 0.43% by mass (theoretical value: 0.37% by mass).

実施例9〜13並びに比較例6及び7で得られたビニル系重合体について、以下の方法により、難燃性及び透明性を評価した。結果を表2に示す。   For the vinyl polymers obtained in Examples 9 to 13 and Comparative Examples 6 and 7, flame retardancy and transparency were evaluated by the following methods. The results are shown in Table 2.

(1) 難燃性
ビニル系重合体をガスバーナーの先端に設置し、炎に2秒間曝し、自己消火性を調べることにより難燃性を評価した(検体数:3個)。自己消火性は以下の基準により判定した。
○:自己消火性があった。
×:自己消火性がなかった。
(1) Flame retardancy A vinyl polymer was placed at the tip of a gas burner, exposed to flame for 2 seconds, and self-extinguishing was examined to evaluate flame retardancy (number of specimens: 3). Self-extinguishing properties were determined according to the following criteria.
○: Self-extinguishing
X: There was no self-extinguishing property.

(2) 透明性
目視により判定。透明性は以下の基準により判定した。
○:透明である。
×:白濁している。
(2) Transparency Judged visually. Transparency was determined according to the following criteria.
○: Transparent.
X: It is cloudy.

表2(続き)
Table 2 (continued)

注:(1) N, N-ジホスホン酸アクリルアミドを主成分とする組成物。
(2) ポリオキシエチレン−ステアリルアミン(商品名「ナイミーンS-210」、日油株式会社製)。
(3) メチルメタクリレート。
(4) N-モノホスホン酸アクリルアミドを主成分とする組成物。
Notes: (1) A composition based on N, N-diphosphonic acid acrylamide.
(2) Polyoxyethylene-stearylamine (trade name “Naymin S-210”, manufactured by NOF Corporation).
(3) Methyl methacrylate.
(4) A composition mainly composed of N-monophosphonic acid acrylamide.

表2から明らかなように、実施例9〜13のビニル系重合体は、難燃性及び透明性に優れていた。これに対して、比較例6及び7では、ホスホン酸基含有アクリルアミド含有組成物とその他のエチレン性不飽和結合含有化合物とのモル比を1/6としたので、実施例9〜13に比較して難燃性に劣っていた。   As is clear from Table 2, the vinyl polymers of Examples 9 to 13 were excellent in flame retardancy and transparency. On the other hand, in Comparative Examples 6 and 7, the molar ratio between the phosphonic acid group-containing acrylamide-containing composition and the other ethylenically unsaturated bond-containing compound was set to 1/6. Therefore, compared with Examples 9-13 It was inferior in flame retardancy.

実施例14
還流冷却管、触媒投入口等を有する自動合成反応装置に、実施例1で調製したホスホン酸基含有アクリルアミド含有組成物25質量部、2-エチルヘキシルアクリレート25質量部、及びイオン交換水50質量部を入れ、窒素ガスを導入しながら攪拌し、60℃まで昇温した後、ホスホン酸基含有アクリルアミド含有組成物及び2-エチルヘキシルアクリレートの合計を100質量%として12.6質量%のドデシルベンゼンスルホネート及び2質量%のアンモニウムパーサルフェートを添加した。その後22時間60〜65℃に保持して乳化重合し、ホスホン酸基含有アクリルアミド含有組成物(変性物)及びメチルメタクリレートを共重合してなるビニル系重合体を含むエマルジョンを得た。このエマルジョンを冷却し、エマルジョンの5倍重量部のメタノールを加え、撹拌した後、金網を用いてろ過し、固形分を回収し、イオン交換水を用いて洗浄した後、60℃で15時間乾燥することにより、ビニル系重合体を調製した(収率49%)。
Example 14
In an automatic synthesis reactor having a reflux condenser, a catalyst inlet, and the like, 25 parts by mass of the phosphonic acid group-containing acrylamide-containing composition prepared in Example 1, 25 parts by mass of 2-ethylhexyl acrylate, and 50 parts by mass of ion-exchanged water were added. The mixture was stirred while introducing nitrogen gas, and the temperature was raised to 60 ° C. Then, the total of the phosphonic acid group-containing acrylamide-containing composition and 2-ethylhexyl acrylate was 100% by mass, 12.6% by mass dodecylbenzenesulfonate and 2% by mass Of ammonium persulfate was added. Thereafter, emulsion polymerization was carried out while maintaining at 60 to 65 ° C. for 22 hours to obtain an emulsion containing a vinyl polymer formed by copolymerizing a phosphonic acid group-containing acrylamide-containing composition (modified product) and methyl methacrylate. Cool the emulsion, add 5 parts by weight of methanol to the emulsion, stir, filter using a wire mesh, collect the solids, wash with ion-exchanged water, and dry at 60 ° C for 15 hours. As a result, a vinyl polymer was prepared (yield 49%).

実施例15
実施例1で調製したホスホン酸基含有アクリルアミド含有組成物に代えて、実施例2で調製した組成物を用いた以外実施例14と同様にして、ビニル系重合体を調製した(収率34%)。
Example 15
A vinyl polymer was prepared in the same manner as in Example 14 except that the composition prepared in Example 2 was used instead of the phosphonic acid group-containing acrylamide-containing composition prepared in Example 1 (yield: 34% ).

実施例16
2-エチルヘキシルアクリレートに代えてブチルアクリレートを用いた以外実施例14と同様にして、ビニル系重合体を調製した(収率68%)。
Example 16
A vinyl polymer was prepared in the same manner as in Example 14 except that butyl acrylate was used in place of 2-ethylhexyl acrylate (yield 68%).

実施例17
2-エチルヘキシルアクリレートに代えてブチルアクリレートを用いた以外実施例15と同様にして、ビニル系重合体を調製した(収率70%)。
Example 17
A vinyl polymer was prepared in the same manner as in Example 15 except that butyl acrylate was used instead of 2-ethylhexyl acrylate (yield 70%).

比較例8
溶質として50質量部の2-エチルヘキシルアクリレートのみを用いた実施例14と同様にして、ビニル系重合体を調製した(収率91%)。
Comparative Example 8
A vinyl polymer was prepared in the same manner as in Example 14 using only 50 parts by mass of 2-ethylhexyl acrylate as a solute (yield 91%).

比較例9
溶質として50質量部のブチルアクリレートのみを用いた実施例14と同様にして、ビニル系重合体を調製した(収率64%)。
Comparative Example 9
A vinyl polymer was prepared in the same manner as Example 14 using only 50 parts by mass of butyl acrylate as a solute (yield 64%).

実施例14〜17並びに比較例8及び9で得られたビニル系重合体について、以下の方法により、絶縁性、透明性及び耐溶剤性を評価した(透明性の評価基準は上記と同じ)。結果を表3に示す。   The vinyl polymers obtained in Examples 14 to 17 and Comparative Examples 8 and 9 were evaluated for insulation, transparency and solvent resistance by the following methods (the evaluation criteria for transparency were the same as above). The results are shown in Table 3.

(1) 絶縁性
相対湿度60%/室温の条件下で、表面固有抵抗測定器(東亜電波工業株式会社製 SME-8310)により表面固有抵抗を測定することにより絶縁性を評価した。
(1) Insulation The insulation was evaluated by measuring the surface resistivity with a surface resistivity meter (SME-8310, manufactured by Toa Denpa Kogyo Co., Ltd.) under the condition of relative humidity 60% / room temperature.

(2) 耐溶剤性
10質量部のビニル系重合体を、90質量部のテトラヒドロフランに入れ、60分間攪拌した後、ビニル系重合体の状態を観察し、以下の基準により耐溶剤性を判定した。
○:膨潤したが、全く溶解しなかった。
△:膨潤し、一部が溶解した。
×:完全に溶解した。
(2) Solvent resistance
10 parts by weight of the vinyl polymer was placed in 90 parts by weight of tetrahydrofuran and stirred for 60 minutes, then the state of the vinyl polymer was observed, and the solvent resistance was determined according to the following criteria.
○: Swelled but not dissolved at all.
Δ: Swelled and partly dissolved.
X: Completely dissolved.

表3(続き)
Table 3 (continued)

注:(1) N, N-ジホスホン酸アクリルアミドを主成分とする組成物。
(2) ポリオキシエチレン−ステアリルアミン(商品名「ナイミーンS-210」、日油株式会社製)。
(3) 2-エチルヘキシルアクリレート。
(4) N-モノホスホン酸アクリルアミドを主成分とする組成物。
(5) ブチルアクリレート。
Notes: (1) A composition based on N, N-diphosphonic acid acrylamide.
(2) Polyoxyethylene-stearylamine (trade name “Naymin S-210”, manufactured by NOF Corporation).
(3) 2-ethylhexyl acrylate.
(4) A composition mainly composed of N-monophosphonic acid acrylamide.
(5) Butyl acrylate.

表3から明らかなように、実施例14及び16のビニル系重合体は、表面固有抵抗が1×1014 Ω以上であり、本発明のビニル系重合体は、絶縁性にも優れていることが分かる。また実施例15及び17より、N-モノホスホン酸アクリルアミドを主成分とする組成物を用いたビニル系重合体は、耐溶剤性に優れていた。これに対して、比較例8及び9では、ホスホン酸基含有アクリルアミド含有組成物を用いず、その他のエチレン性不飽和結合含有化合物のみを重合したので、実施例14〜17に比較して絶縁性及び耐溶剤性に劣っていた。 As is apparent from Table 3, the vinyl polymers of Examples 14 and 16 have a surface resistivity of 1 × 10 14 Ω or more, and the vinyl polymer of the present invention is excellent in insulation. I understand. Further, from Examples 15 and 17, the vinyl polymer using the composition mainly composed of N-monophosphonic acid acrylamide was excellent in solvent resistance. On the other hand, in Comparative Examples 8 and 9, only the other ethylenically unsaturated bond-containing compound was polymerized without using the phosphonic acid group-containing acrylamide-containing composition. In addition, the solvent resistance was poor.

Claims (19)

(ポリ)ホスホン酸基及び/又は(ポリ)リン酸基からなるリン系酸残基を有する(メタ)アクリルアミド(A)と、含窒素界面活性剤(B)とを含むリン系酸残基含有(メタ)アクリルアミド含有組成物であって、
前記リン系酸残基含有(メタ)アクリルアミド(A)は、式(1):

(ただしR1は水素基又はメチル基であり、X1及びX2はそれぞれ独立に(ポリ)ホスホン酸基又は(ポリ)リン酸基である)により表されるN, N-置換(メタ)アクリルアミド、及び式(2):

(ただしR1は水素基又はメチル基であり、X3は(ポリ)ホスホン酸基又は(ポリ)リン酸基である)により表されるN-置換(メタ)アクリルアミドのいずれか又はこれらの混合物であり、
前記含窒素界面活性剤(B)は、(ポリ)エーテル基を含有するアミン系界面活性剤、及び四級アンモニウム塩基を含有するカチオン性界面活性剤のいずれか又はこれらの混合物であることを特徴とするリン系酸残基含有(メタ)アクリルアミド含有組成物。
Phosphoric acid residue containing (meth) acrylamide (A) having a phosphorus acid residue consisting of (poly) phosphonic acid group and / or (poly) phosphoric acid group and nitrogen-containing surfactant (B) A (meth) acrylamide-containing composition comprising:
The phosphorus acid residue-containing (meth) acrylamide (A) has the formula (1):

(Wherein R 1 is a hydrogen group or a methyl group, and X 1 and X 2 are each independently a (poly) phosphonic acid group or a (poly) phosphoric acid group) N, N-substituted (meth) Acrylamide and formula (2):

(Wherein R 1 is a hydrogen group or a methyl group, and X 3 is a (poly) phosphonic acid group or a (poly) phosphoric acid group), or any of N-substituted (meth) acrylamides represented by these or a mixture thereof And
The nitrogen-containing surfactant (B) is any one of an amine-based surfactant containing a (poly) ether group and a cationic surfactant containing a quaternary ammonium base, or a mixture thereof. A phosphoric acid residue-containing (meth) acrylamide-containing composition.
請求項1に記載のリン系酸残基含有(メタ)アクリルアミド含有組成物において、
前記(ポリ)エーテル基含有アミン系界面活性剤が、式(3):

[ただしR2は炭素数1〜30の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素数6〜30のアリール基、又は炭素数7〜30のアリールアルキル基であり、R3は炭素数2〜4の直鎖状又は分岐状のアルキレン基であり、R4は-(R4aO)kH基(R4aは炭素数2〜4の直鎖状又は分岐状のアルキレン基である)、炭素数1〜30の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素数6〜30のアリール基、炭素数7〜30のアリールアルキル基、又は水素基であり、f及びkはそれぞれ独立に1〜30の整数である]により表される第一の(ポリ)エーテル基含有アミン系界面活性剤、及び式(4):

[ただしR5は炭素数1〜30の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素数6〜30のアリール基、又は炭素数7〜30のアリールアルキル基であり、R6は-(R6aO)sH基(R6aは炭素数2〜4の直鎖状又は分岐状のアルキレン基である)、炭素数1〜30の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素数6〜30のアリール基、炭素数7〜30のアリールアルキル基、又は水素基であり、R7は炭素数1〜6の直鎖状又は分岐状のアルキレン基であり、R8は炭素数2〜4の直鎖状又は分岐状のアルキレン基であり、R9は-(R9aO)tH基(R9aは炭素数2〜4の直鎖状又は分岐状のアルキレン基である)、炭素数1〜30の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素数6〜30のアリール基、炭素数7〜30のアリールアルキル基、又は水素基であり、r、s及びtはそれぞれ独立に1〜30の整数である]により表される第二の(ポリ)エーテル基含有アミン系界面活性剤のいずれか又はこれらの混合物であり、
前記カチオン性界面活性剤が、式(5):

(ただしR10及びR13はそれぞれ独立に炭素数1〜30の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素数6〜30のアリール基、又は炭素数7〜30のアリールアルキル基であり、R11及びR12はそれぞれ独立に炭素数1〜6の直鎖状又は分岐状のアルキル基であり、R10〜R13にはいずれも水酸基、エステル結合及びアミノ基からなる群から選ばれた少なくとも一種が結合していてもよく、Y-は対イオンである)により表される第一のカチオン性界面活性剤、式(6):


(ただしR14は炭素数1〜30の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素数6〜30のアリール基、又は炭素数7〜30のアリールアルキル基であり、Y-は対イオンである)により表される第二のカチオン性界面活性剤、式(7):

(ただしR15は炭素数1〜30の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素数6〜30のアリール基、又は炭素数7〜30のアリールアルキル基であり、R16及びR17はそれぞれ独立に炭素数1〜6の直鎖状又は分岐状のアルキル基であり、R18は炭素数1〜30の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基、炭素数6〜30のアリーレン基又は炭素数7〜30のアリーレンアルキル基であり、R15〜R18にはいずれも水酸基、エステル結合及びアミノ基からなる群から選ばれた少なくとも一種が結合していてもよい)により表される第三のカチオン性界面活性剤、及び式(8):

(ただしR19は炭素数1〜30の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素数6〜30のアリール基、又は炭素数7〜30のアリールアルキル基である)により表される第四のカチオン性界面活性剤からなる群から選ばれた少なくとも一種であることを特徴とするリン系酸残基含有(メタ)アクリルアミド含有組成物。
In the phosphoric acid residue-containing (meth) acrylamide-containing composition according to claim 1,
The (poly) ether group-containing amine surfactant is represented by the formula (3):

[However, R 2 is a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, or an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms, and R 3 is 2 to 2 carbon atoms. 4 linear or branched alkylene groups, R 4 is a — (R 4a O) k H group (R 4a is a linear or branched alkylene group having 2 to 4 carbon atoms), carbon A linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms, or a hydrogen group, and f and k are each independently 1 to 30 A first (poly) ether group-containing amine surfactant represented by formula (4):

[Wherein R 5 is a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, or an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms, and R 6 is — (R 6a O) s H group (R 6a is a linear or branched alkylene group having 2 to 4 carbon atoms), a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, 6 to 30 carbon atoms An aryl group, an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms, or a hydrogen group, R 7 is a linear or branched alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, and R 8 is a straight chain having 2 to 4 carbon atoms. A chain or branched alkylene group, R 9 is a — (R 9a O) t H group (R 9a is a linear or branched alkylene group having 2 to 4 carbon atoms); 30 linear or branched alkyl group, aryl group having 6 to 30 carbon atoms, arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms, or hydrogen group, and r, s and t are each independently 1 to 1 Any one of the second (poly) ether group-containing amine surfactants represented by the formula:
The cationic surfactant has the formula (5):

(However, R 10 and R 13 are each independently a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, or an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms; 11 and R 12 are each independently a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and each of R 10 to R 13 is at least selected from the group consisting of a hydroxyl group, an ester bond and an amino group. A first cationic surfactant represented by formula (6), wherein one species may be bound, Y - is a counter ion:


(However, R 14 is a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, or an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms, and Y is a counter ion. ) A second cationic surfactant represented by formula (7):

(However, R 15 is a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, or an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms, and R 16 and R 17 are respectively Independently a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and R 18 is a linear or branched alkylene group having 1 to 30 carbon atoms, an arylene group having 6 to 30 carbon atoms, or a carbon number 7 to 30 arylene alkyl group, and each of R 15 to R 18 may be bonded to at least one selected from the group consisting of a hydroxyl group, an ester bond and an amino group. Cationic surfactant and formula (8):

Wherein R 19 is a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, or an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms. A phosphoric acid residue-containing (meth) acrylamide-containing composition, which is at least one selected from the group consisting of cationic surfactants.
請求項1又は2に記載のリン系酸残基含有(メタ)アクリルアミド含有組成物において、前記N, N-置換(メタ)アクリルアミドが、式(1a):

(ただしR1は水素基又はメチル基であり、n及びn'はそれぞれ独立に0〜2の整数である)により表されるN, N-ジ(ポリ)ホスホン酸(メタ)アクリルアミドであり、前記N-置換(メタ)アクリルアミドが、式(2a):

(ただしR1は水素基又はメチル基であり、mは0〜2の整数である)により表されるN-モノ(ポリ)ホスホン酸(メタ)アクリルアミドであることを特徴とするリン系酸残基含有(メタ)アクリルアミド含有組成物。
3. The phosphoric acid residue-containing (meth) acrylamide-containing composition according to claim 1 or 2, wherein the N, N-substituted (meth) acrylamide is represented by the formula (1a):

(Wherein R 1 is a hydrogen group or a methyl group, and n and n ′ are each independently an integer of 0 to 2), N, N-di (poly) phosphonic acid (meth) acrylamide, The N-substituted (meth) acrylamide has the formula (2a):

(Wherein R 1 is a hydrogen group or a methyl group, and m is an integer of 0 to 2) N-mono (poly) phosphonic acid (meth) acrylamide represented by Group-containing (meth) acrylamide-containing composition.
請求項2又は3に記載のリン系酸残基含有(メタ)アクリルアミド含有組成物において、前記第一の(ポリ)エーテル基含有アミン系界面活性剤が式(3a):

(ただしR2aは炭素数1〜30の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基であり、f及びkは式(3)と同じである)により表される化合物であり、前記第二の(ポリ)エーテル基含有アミン系界面活性剤が式(4a):

(ただしR5aは炭素数1〜30の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基であり、r、s及びtは式(4)と同じである)により表される化合物であり、前記第一のカチオン性界面活性剤が式(5a):

(ただしR10及びY-は式(5)と同じである)により表されるトリメチル型カチオン性界面活性剤、式(5b):

(ただしR10及びY-は式(5)と同じであり、R13aは炭素数2〜30の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素数6〜30のアリール基、又は炭素数8〜30のアリールアルキル基である)により表されるジアルキル型カチオン性界面活性剤、式(5c):

(ただしR10及びY-は式(5)と同じである)により表されるベンジル型カチオン性界面活性剤、及び式(5d):

(ただしR10a,R13bはそれぞれ独立に炭素数1〜20の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基であり、Y-は式(5)と同じである)により表されるヒドロキシエステル型カチオン性界面活性剤のいずれか又はこれらの組合せであり、前記第三のカチオン性界面活性剤が式(7a):

(ただしR15は式(7)と同じである)により表される化合物であることを特徴とするリン系酸残基含有(メタ)アクリルアミド含有組成物。
The phosphoric acid residue-containing (meth) acrylamide-containing composition according to claim 2 or 3, wherein the first (poly) ether group-containing amine surfactant is represented by the formula (3a):

Wherein R 2a is a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, and f and k are the same as those in the formula (3), and the second (poly ) The ether group-containing amine surfactant is represented by the formula (4a):

(Wherein R 5a is a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, and r, s, and t are the same as those in the formula (4)). The cationic surfactant is represented by the formula (5a):

(Wherein R 10 and Y are the same as in formula (5)), a trimethyl-type cationic surfactant represented by formula (5b):

(However, R 10 and Y are the same as those in formula (5), and R 13a is a linear or branched alkyl group having 2 to 30 carbon atoms, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, or 8 to 8 carbon atoms. A dialkyl-type cationic surfactant represented by formula (5c):

(Wherein R 10 and Y are the same as in formula (5)), and a benzylic cationic surfactant represented by formula (5d):

(Wherein R 10a and R 13b are each independently a linear or branched alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and Y is the same as in formula (5)). Any of the surfactants or a combination thereof, and the third cationic surfactant is represented by the formula (7a):

A phosphoric acid residue-containing (meth) acrylamide-containing composition, which is a compound represented by the formula (wherein R 15 is the same as in formula (7)).
請求項1〜4のいずれかに記載のリン系酸残基含有(メタ)アクリルアミド含有組成物において、前記リン系酸残基含有(メタ)アクリルアミド(A)のリン系酸残基一個に対して、前記含窒素界面活性剤(B)がモル比で0.5〜4配合されていることを特徴とするリン系酸残基含有(メタ)アクリルアミド含有組成物。 5. The phosphoric acid residue-containing (meth) acrylamide-containing composition according to claim 1, wherein the phosphoric acid residue-containing (meth) acrylamide (A) has one phosphoric acid residue. A phosphoric acid residue-containing (meth) acrylamide-containing composition, wherein the nitrogen-containing surfactant (B) is blended in a molar ratio of 0.5 to 4. (ポリ)ホスホン酸基及び/又は(ポリ)リン酸基からなるリン系酸残基を有する(メタ)アクリルアミド(A)、及び含窒素界面活性剤(B)を含むリン系酸残基含有(メタ)アクリルアミド含有組成物(A+B)と、その他のエチレン性不飽和結合含有化合物(C)とを反応させてなり、もって前記(A)と前記(C)との共重合体、及び前記(B)を含むリン系酸残基含有ビニル系重合体含有組成物であって、
前記リン系酸残基含有(メタ)アクリルアミド(A)は、式(1):

(ただしR1は水素基又はメチル基であり、X1及びX2はそれぞれ独立に(ポリ)ホスホン酸基又は(ポリ)リン酸基である)により表されるN, N-置換(メタ)アクリルアミド、及び式(2):

(ただしR1は水素基又はメチル基であり、X3は(ポリ)ホスホン酸基又は(ポリ)リン酸基である)により表されるN-置換(メタ)アクリルアミドのいずれか又はこれらの混合物であり、
前記その他のエチレン性不飽和結合含有化合物(C)は、分子内に少なくとも一個のエチレン性不飽和結合を有するが酸性基を有しない不飽和化合物(C-1)、及び分子内にエチレン性不飽和結合と酸性基とを各々少なくとも一個有する不飽和化合物(C-2)のいずれか又はこれらの混合物であり、
前記含窒素界面活性剤(B)は、(ポリ)エーテル基を含有するアミン系界面活性剤、及び四級アンモニウム塩基を含有するカチオン性界面活性剤のいずれか又はこれらの混合物である
ことを特徴とするリン系酸残基含有ビニル系重合体含有組成物。
Phosphoric acid residue containing (meth) acrylamide (A) having a phosphorus acid residue consisting of (poly) phosphonic acid group and / or (poly) phosphoric acid group, and nitrogen-containing surfactant (B) ( A (meth) acrylamide-containing composition (A + B) and another ethylenically unsaturated bond-containing compound (C), and a copolymer of (A) and (C), and A phosphorus acid residue-containing vinyl polymer-containing composition containing (B),
The phosphorus acid residue-containing (meth) acrylamide (A) has the formula (1):

(Wherein R 1 is a hydrogen group or a methyl group, and X 1 and X 2 are each independently a (poly) phosphonic acid group or a (poly) phosphoric acid group) N, N-substituted (meth) Acrylamide and formula (2):

(Wherein R 1 is a hydrogen group or a methyl group, and X 3 is a (poly) phosphonic acid group or a (poly) phosphoric acid group), or any of N-substituted (meth) acrylamides represented by these or a mixture thereof And
The other ethylenically unsaturated bond-containing compound (C) includes an unsaturated compound (C-1) having at least one ethylenically unsaturated bond but no acidic group in the molecule, and an ethylenically unsaturated compound in the molecule. Any one of unsaturated compounds (C-2) each having at least one saturated bond and an acidic group, or a mixture thereof;
The nitrogen-containing surfactant (B) is any one of an amine-based surfactant containing a (poly) ether group and a cationic surfactant containing a quaternary ammonium base, or a mixture thereof. Phosphoric acid residue-containing vinyl polymer-containing composition.
請求項6に記載のリン系酸残基含有ビニル系重合体含有組成物において、前記(ポリ)エーテル基含有アミン系界面活性剤が、式(3):

[ただしR2は炭素数1〜30の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素数6〜30のアリール基、又は炭素数7〜30のアリールアルキル基であり、R3は炭素数2〜4の直鎖状又は分岐状のアルキレン基であり、R4は-(R4aO)kH基(R4aは炭素数2〜4の直鎖状又は分岐状のアルキレン基である)、炭素数1〜30の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素数6〜30のアリール基、炭素数7〜30のアリールアルキル基、又は水素基であり、f及びkはそれぞれ独立に1〜30の整数である]により表される第一の(ポリ)エーテル基含有アミン系界面活性剤、及び式(4):

[ただしR5は炭素数1〜30の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素数6〜30のアリール基、又は炭素数7〜30のアリールアルキル基であり、R6は-(R6aO)sH基(R6aは炭素数2〜4の直鎖状又は分岐状のアルキレン基である)、炭素数1〜30の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素数6〜30のアリール基、炭素数7〜30のアリールアルキル基、又は水素基であり、R7は炭素数1〜6の直鎖状又は分岐状のアルキレン基であり、R8は炭素数2〜4の直鎖状又は分岐状のアルキレン基であり、R9は-(R9aO)tH基(R9aは炭素数2〜4の直鎖状又は分岐状のアルキレン基である)、炭素数1〜30の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素数6〜30のアリール基、炭素数7〜30のアリールアルキル基、又は水素基であり、r、s及びtはそれぞれ独立に1〜30の整数である]により表される第二の(ポリ)エーテル基含有アミン系界面活性剤のいずれか又はこれらの混合物であり、
前記カチオン性界面活性剤が、式(5):

(ただしR10及びR13はそれぞれ独立に炭素数1〜30の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素数6〜30のアリール基、又は炭素数7〜30のアリールアルキル基であり、R11及びR12はそれぞれ独立に炭素数1〜6の直鎖状又は分岐状のアルキル基であり、R10〜R13にはいずれも水酸基、エステル結合及びアミノ基からなる群から選ばれた少なくとも一種が結合していてもよく、Y-は対イオンである)により表される第一のカチオン性界面活性剤、式(6):


(ただしR14は炭素数1〜30の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素数6〜30のアリール基、又は炭素数7〜30のアリールアルキル基であり、Y-は対イオンである)により表される第二のカチオン性界面活性剤、式(7):

(ただしR15は炭素数1〜30の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素数6〜30のアリール基、又は炭素数7〜30のアリールアルキル基であり、R16及びR17はそれぞれ独立に炭素数1〜6の直鎖状又は分岐状のアルキル基であり、R18は炭素数1〜30の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基、炭素数6〜30のアリーレン基又は炭素数7〜30のアリーレンアルキル基であり、R15〜R18にはいずれも水酸基、エステル結合及びアミノ基からなる群から選ばれた少なくとも一種が結合していてもよい)により表される第三のカチオン性界面活性剤、及び式(8):

(ただしR19は炭素数1〜30の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素数6〜30のアリール基、又は炭素数7〜30のアリールアルキル基である)により表される第四のカチオン性界面活性剤からなる群から選ばれた少なくとも一種であることを特徴とするリン系酸残基含有ビニル系重合体含有組成物。
The phosphorus acid residue-containing vinyl polymer-containing composition according to claim 6, wherein the (poly) ether group-containing amine surfactant is represented by the formula (3):

[However, R 2 is a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, or an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms, and R 3 is 2 to 2 carbon atoms. 4 linear or branched alkylene groups, R 4 is a — (R 4a O) k H group (R 4a is a linear or branched alkylene group having 2 to 4 carbon atoms), carbon A linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms, or a hydrogen group, and f and k are each independently 1 to 30 A first (poly) ether group-containing amine surfactant represented by formula (4):

[Wherein R 5 is a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, or an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms, and R 6 is — (R 6a O) s H group (R 6a is a linear or branched alkylene group having 2 to 4 carbon atoms), a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, 6 to 30 carbon atoms An aryl group, an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms, or a hydrogen group, R 7 is a linear or branched alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, and R 8 is a straight chain having 2 to 4 carbon atoms. A chain or branched alkylene group, R 9 is a — (R 9a O) t H group (R 9a is a linear or branched alkylene group having 2 to 4 carbon atoms); 30 linear or branched alkyl group, aryl group having 6 to 30 carbon atoms, arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms, or hydrogen group, and r, s and t are each independently 1 to 1 Any one of the second (poly) ether group-containing amine surfactants represented by the formula:
The cationic surfactant has the formula (5):

(However, R 10 and R 13 are each independently a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, or an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms; 11 and R 12 are each independently a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and each of R 10 to R 13 is at least selected from the group consisting of a hydroxyl group, an ester bond and an amino group. A first cationic surfactant represented by formula (6), wherein one species may be bound, Y - is a counter ion:


(However, R 14 is a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, or an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms, and Y is a counter ion. ) A second cationic surfactant represented by formula (7):

(However, R 15 is a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, or an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms, and R 16 and R 17 are respectively Independently a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and R 18 is a linear or branched alkylene group having 1 to 30 carbon atoms, an arylene group having 6 to 30 carbon atoms, or a carbon number 7 to 30 arylene alkyl group, and each of R 15 to R 18 may be bonded to at least one selected from the group consisting of a hydroxyl group, an ester bond and an amino group. Cationic surfactant and formula (8):

Wherein R 19 is a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, or an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms. A phosphorus polymer-containing vinyl polymer-containing composition, which is at least one selected from the group consisting of cationic surfactants.
請求項6又は7に記載のリン系酸残基含有ビニル系重合体含有組成物において、前記酸性基非含有不飽和化合物(c-1)が(メタ)アクリル酸エステル、(メタ)アクリロニトリル、(メタ)アクリルアミド、ジアルキルアミノアルキル(メタ)アクリレート、N, N-ジアルキル(メタ)アクリルアミド、スチレン、少なくとも一部の水素基がメチル基で置換されたスチレン、ジビニルベンゼン、脂肪酸ビニルエステル、ハロゲン化ビニル、少なくとも一部の水素基がフッ素基で置換された(メタ)アクリル酸エステル、少なくとも一部の水素基がフッ素基で置換された(メタ)アクリル酸、及び少なくとも一部の水素基がフッ素基で置換されたアルキル基を含有するビニルからなる群から選ばれた少なくとも一種であり、
前記酸性基含有不飽和化合物(C-2)が、ターシャリーブチルアクリルアミドスルホン酸、アリルスルホン酸、メタアリルスルホン酸、ビニルスルホン酸、p-スチレンスルホン酸、(メタ)アクリル酸ブチル-4-スルホン酸、(メタ)アクリロオキシベンゼンスルホン酸、(メタ)アクリル酸、クロトン酸、マレイン酸及びその無水物、フマル酸、イタコン酸、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート、及び式(9):

(ただしR20は水素基又はメチル基であり、R21は炭素数が2〜4で、直鎖状又は分岐状で、少なくとも一部の水素基が塩素基で置換されていてもよいアルキレン基であり、xは1〜6の整数である)で表される化合物からなる群から選ばれた少なくとも一種であることを特徴とするリン系酸残基含有ビニル系重合体含有組成物。
The phosphoric acid residue-containing vinyl polymer-containing composition according to claim 6 or 7, wherein the acidic group-free unsaturated compound (c-1) is a (meth) acrylic acid ester, (meth) acrylonitrile, ( (Meth) acrylamide, dialkylaminoalkyl (meth) acrylate, N, N-dialkyl (meth) acrylamide, styrene, styrene having at least a part of hydrogen groups substituted with methyl groups, divinylbenzene, fatty acid vinyl ester, vinyl halide, (Meth) acrylic acid ester in which at least a part of hydrogen groups are substituted with fluorine groups, (meth) acrylic acid in which at least a part of hydrogen groups are substituted with fluorine groups, and at least part of the hydrogen groups are fluorine groups. Is at least one selected from the group consisting of vinyls containing substituted alkyl groups,
The acidic group-containing unsaturated compound (C-2) is tertiary butyl acrylamide sulfonic acid, allyl sulfonic acid, methallyl sulfonic acid, vinyl sulfonic acid, p-styrene sulfonic acid, (meth) acrylic acid butyl-4-sulfone. Acid, (meth) acrylooxybenzenesulfonic acid, (meth) acrylic acid, crotonic acid, maleic acid and its anhydride, fumaric acid, itaconic acid, hydroxyalkyl (meth) acrylate, and formula (9):

(However, R 20 is a hydrogen group or a methyl group, R 21 is an alkylene group having 2 to 4 carbon atoms, linear or branched, and at least a part of the hydrogen groups may be substituted with chlorine groups. And x is an integer of 1 to 6). A phosphorus acid residue-containing vinyl polymer-containing composition, which is at least one selected from the group consisting of compounds represented by:
請求項6〜8のいずれかに記載のリン系酸残基含有ビニル系重合体含有組成物において、前記リン系酸残基含有(メタ)アクリルアミド含有組成物(A+B)と、前記その他のエチレン性不飽和結合含有化合物(C)との質量比(A+B)/(C)が、(15/85)〜(60/40)であることを特徴とするリン系酸残基含有ビニル系重合体含有組成物。 The phosphorus acid residue-containing vinyl polymer-containing composition according to any one of claims 6 to 8, wherein the phosphorus acid residue-containing (meth) acrylamide-containing composition (A + B) and the other Phosphoric acid residue-containing vinyl, wherein the mass ratio (A + B) / (C) to the ethylenically unsaturated bond-containing compound (C) is (15/85) to (60/40) -Based polymer-containing composition. 請求項6〜9のいずれかに記載のリン系酸残基含有ビニル系重合体含有組成物において、前記N, N-置換(メタ)アクリルアミドが式(1a):

(ただしR1は水素基又はメチル基であり、n及びn'はそれぞれ独立に0〜2の整数である)により表されるN, N-ジ(ポリ)ホスホン酸(メタ)アクリルアミドであり、前記N-置換(メタ)アクリルアミドが式(2a):

(ただしR1は水素基又はメチル基であり、mは0〜2の整数である)により表されるN-モノ(ポリ)ホスホン酸(メタ)アクリルアミドであることを特徴とするリン系酸残基含有ビニル系重合体含有組成物。
The phosphoric acid residue-containing vinyl polymer-containing composition according to any one of claims 6 to 9, wherein the N, N-substituted (meth) acrylamide is represented by the formula (1a):

(Wherein R 1 is a hydrogen group or a methyl group, and n and n ′ are each independently an integer of 0 to 2), N, N-di (poly) phosphonic acid (meth) acrylamide, The N-substituted (meth) acrylamide is represented by the formula (2a):

(Wherein R 1 is a hydrogen group or a methyl group, and m is an integer of 0 to 2) N-mono (poly) phosphonic acid (meth) acrylamide represented by A group-containing vinyl polymer-containing composition.
請求項7〜10のいずれかに記載のリン系酸残基含有ビニル系重合体含有組成物において、前記第一の(ポリ)エーテル基含有アミン系界面活性剤が式(3a):

(ただしR2aは炭素数1〜30の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基であり、f及びkは式(3)と同じである)により表される化合物であり、前記第二の(ポリ)エーテル基含有アミン系界面活性剤が式(4a):

(ただしR5aは炭素数1〜30の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基であり、r、s及びtは式(4)と同じである)により表される化合物であり、前記第一のカチオン性界面活性剤が式(5a):

(ただしR10及びY-は式(5)と同じである)により表されるトリメチル型カチオン性界面活性剤、式(5b):

(ただしR10及びY-は式(5)と同じであり、R13aは炭素数2〜30の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素数6〜30のアリール基、又は炭素数8〜30のアリールアルキル基である)により表されるジアルキル型カチオン性界面活性剤、式(5c):

(ただしR10及びY-は式(5)と同じである)により表されるベンジル型カチオン性界面活性剤、及び式(5d):

(ただしR10a,R13bはそれぞれ独立に炭素数1〜20の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基であり、Y-は式(5)と同じである)により表されるヒドロキシエステル型カチオン性界面活性剤のいずれか又はこれらの組合せであり、前記第三のカチオン性界面活性剤が式(7a):

(ただしR15は式(7)と同じである)により表される化合物であることを特徴とするリン系酸残基含有ビニル系重合体含有組成物。
The phosphorus acid residue-containing vinyl polymer-containing composition according to any one of claims 7 to 10, wherein the first (poly) ether group-containing amine surfactant is represented by the formula (3a):

Wherein R 2a is a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, and f and k are the same as those in the formula (3), and the second (poly ) The ether group-containing amine surfactant is represented by the formula (4a):

(Wherein R 5a is a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, and r, s, and t are the same as those in the formula (4)). The cationic surfactant is represented by the formula (5a):

(Wherein R 10 and Y are the same as in formula (5)), a trimethyl-type cationic surfactant represented by formula (5b):

(However, R 10 and Y are the same as those in formula (5), and R 13a is a linear or branched alkyl group having 2 to 30 carbon atoms, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, or 8 to 8 carbon atoms. A dialkyl-type cationic surfactant represented by formula (5c):

(Wherein R 10 and Y are the same as in formula (5)), and a benzylic cationic surfactant represented by formula (5d):

(Wherein R 10a and R 13b are each independently a linear or branched alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and Y is the same as in formula (5)). Any of the surfactants or a combination thereof, and the third cationic surfactant is represented by the formula (7a):

A phosphorus polymer-containing vinyl polymer-containing composition, wherein the compound is represented by the formula (wherein R 15 is the same as that in formula (7)).
請求項6〜11のいずれかに記載のリン系酸残基含有ビニル系重合体含有組成物において、前記リン系酸残基含有(メタ)アクリルアミド含有組成物(A+B)は、前記リン系酸残基含有(メタ)アクリルアミド(A)のリン系酸残基一個に対して、前記含窒素界面活性剤(B)がモル比で0.5〜4配合されていることを特徴とするリン系酸残基含有ビニル系重合体含有組成物。 12. The phosphoric acid residue-containing vinyl polymer-containing composition according to any one of claims 6 to 11, wherein the phosphoric acid residue-containing (meth) acrylamide-containing composition (A + B) is the phosphoric acid residue. A phosphoric acid characterized in that the nitrogen-containing surfactant (B) is blended in a molar ratio of 0.5 to 4 with respect to one phosphoric acid residue of acid residue-containing (meth) acrylamide (A). Residue-containing vinyl polymer-containing composition. 請求項6〜12のいずれかに記載のリン系酸残基含有ビニル系重合体含有組成物からなることを特徴とする難燃性樹脂。 A flame retardant resin comprising the phosphoric acid residue-containing vinyl polymer-containing composition according to any one of claims 6 to 12. 請求項6〜12のいずれかに記載のリン系酸残基含有ビニル系重合体含有組成物からなることを特徴とする絶縁性樹脂。 An insulating resin comprising the phosphoric acid residue-containing vinyl polymer-containing composition according to any one of claims 6 to 12. (メタ)アクリルアミド、N-ヒドロキシ(メタ)アクリルアミド又はこれらの混合物と、リン酸、ピロリン酸、ポリリン酸及びオキシ塩化リンからなる群から選ばれた少なくとも一種との反応物又はその加水分解物であるリン系酸残基含有(メタ)アクリルアミド(A)を調製し、これに含窒素界面活性剤(B)を混合し、得られた組成物(A+B)とその他のエチレン性不飽和結合含有化合物(C)とを反応させることによりリン系酸残基含有ビニル系重合体含有組成物を製造する方法であって、
前記含窒素界面活性剤(B)は、(ポリ)エーテル基を含有するアミン系界面活性剤、及び四級アンモニウム塩基を含有するカチオン性界面活性剤のいずれか又はこれらの混合物であり、
前記その他のエチレン性不飽和結合含有化合物(C)は、分子内に少なくとも一個のエチレン性不飽和結合を有するが酸性基を有しない不飽和化合物(C-1)、及び分子内にエチレン性不飽和結合と酸性基とを各々少なくとも一個有する不飽和化合物(C-2)のいずれか又はこれらの混合物であることを特徴とする方法。
It is a reaction product of (meth) acrylamide, N-hydroxy (meth) acrylamide or a mixture thereof and at least one selected from the group consisting of phosphoric acid, pyrophosphoric acid, polyphosphoric acid and phosphorus oxychloride, or a hydrolyzate thereof. Prepare phosphoric acid residue-containing (meth) acrylamide (A) and mix it with nitrogen-containing surfactant (B). The resulting composition (A + B) and other ethylenically unsaturated bonds A method of producing a phosphorus acid residue-containing vinyl polymer-containing composition by reacting with a compound (C),
The nitrogen-containing surfactant (B) is either an amine-based surfactant containing a (poly) ether group, and a cationic surfactant containing a quaternary ammonium base, or a mixture thereof.
The other ethylenically unsaturated bond-containing compound (C) includes an unsaturated compound (C-1) having at least one ethylenically unsaturated bond but no acidic group in the molecule, and an ethylenically unsaturated compound in the molecule. A method comprising any one of unsaturated compounds (C-2) having at least one saturated bond and at least one acidic group, or a mixture thereof.
請求項15に記載のリン系酸残基含有ビニル系重合体含有組成物の製造方法において、前記リン系酸残基含有(メタ)アクリルアミド(A)が、式(1):

(ただしR1は水素基又はメチル基であり、X1及びX2はそれぞれ独立に(ポリ)ホスホン酸基又は(ポリ)リン酸基である)により表されるN, N-置換(メタ)アクリルアミド、及び式(2):

(ただしR1は水素基又はメチル基であり、X3は(ポリ)ホスホン酸基又は(ポリ)リン酸基である)により表されるN-置換(メタ)アクリルアミドのいずれか又はこれらの混合物であることを特徴とする方法。
16. The method for producing a phosphorus acid residue-containing vinyl polymer-containing composition according to claim 15, wherein the phosphorus acid residue-containing (meth) acrylamide (A) is represented by the formula (1):

(Wherein R 1 is a hydrogen group or a methyl group, and X 1 and X 2 are each independently a (poly) phosphonic acid group or a (poly) phosphoric acid group) N, N-substituted (meth) Acrylamide and formula (2):

(Wherein R 1 is a hydrogen group or a methyl group, and X 3 is a (poly) phosphonic acid group or a (poly) phosphoric acid group) A method characterized in that
請求項15又は16に記載のリン系酸残基含有ビニル系重合体含有組成物の製造方法において、前記(ポリ)エーテル基含有アミン系界面活性剤が、式(3):

[ただしR2は炭素数1〜30の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素数6〜30のアリール基、又は炭素数7〜30のアリールアルキル基であり、R3は炭素数2〜4の直鎖状又は分岐状のアルキレン基であり、R4は-(R4aO)kH基(R4aは炭素数2〜4の直鎖状又は分岐状のアルキレン基である)、炭素数1〜30の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素数6〜30のアリール基、炭素数7〜30のアリールアルキル基、又は水素基であり、f及びkはそれぞれ独立に1〜30の整数である]により表される第一の(ポリ)エーテル基含有アミン系界面活性剤、及び式(4):

[ただしR5は炭素数1〜30の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素数6〜30のアリール基、又は炭素数7〜30のアリールアルキル基であり、R6は-(R6aO)sH基(R6aは炭素数2〜4の直鎖状又は分岐状のアルキレン基である)、炭素数1〜30の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素数6〜30のアリール基、炭素数7〜30のアリールアルキル基、又は水素基であり、R7は炭素数1〜6の直鎖状又は分岐状のアルキレン基であり、R8は炭素数2〜4の直鎖状又は分岐状のアルキレン基であり、R9は-(R9aO)tH基(R9aは炭素数2〜4の直鎖状又は分岐状のアルキレン基である)、炭素数1〜30の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素数6〜30のアリール基、炭素数7〜30のアリールアルキル基、又は水素基であり、r、s及びtはそれぞれ独立に1〜30の整数である]により表される第二の(ポリ)エーテル基含有アミン系界面活性剤のいずれか又はこれらの混合物であり、
前記カチオン性界面活性剤が、式(5):

(ただしR10及びR13はそれぞれ独立に炭素数1〜30の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素数6〜30のアリール基、又は炭素数7〜30のアリールアルキル基であり、R11及びR12はそれぞれ独立に炭素数1〜6の直鎖状又は分岐状のアルキル基であり、R10〜R13にはいずれも水酸基、エステル結合及びアミノ基からなる群から選ばれた少なくとも一種が結合していてもよく、Y-は対イオンである)により表される第一のカチオン性界面活性剤、式(6):


(ただしR14は炭素数1〜30の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素数6〜30のアリール基、又は炭素数7〜30のアリールアルキル基であり、Y-は対イオンである)により表される第二のカチオン性界面活性剤、式(7):

(ただしR15は炭素数1〜30の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素数6〜30のアリール基、又は炭素数7〜30のアリールアルキル基であり、R16及びR17はそれぞれ独立に炭素数1〜6の直鎖状又は分岐状のアルキル基であり、R18は炭素数1〜30の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基、炭素数6〜30のアリーレン基又は炭素数7〜30のアリーレンアルキル基であり、R15〜R18にはいずれも水酸基、エステル結合及びアミノ基からなる群から選ばれた少なくとも一種が結合していてもよい)により表される第三のカチオン性界面活性剤、及び式(8):

(ただしR19は炭素数1〜30の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素数6〜30のアリール基、又は炭素数7〜30のアリールアルキル基である)により表される第四のカチオン性界面活性剤からなる群から選ばれた少なくとも一種であることを特徴とする方法。
17. The method for producing a phosphorus acid residue-containing vinyl polymer-containing composition according to claim 15 or 16, wherein the (poly) ether group-containing amine surfactant is represented by the formula (3):

[However, R 2 is a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, or an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms, and R 3 is 2 to 2 carbon atoms. 4 linear or branched alkylene groups, R 4 is a — (R 4a O) k H group (R 4a is a linear or branched alkylene group having 2 to 4 carbon atoms), carbon A linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms, or a hydrogen group, and f and k are each independently 1 to 30 A first (poly) ether group-containing amine surfactant represented by formula (4):

[Wherein R 5 is a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, or an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms, and R 6 is — (R 6a O) s H group (R 6a is a linear or branched alkylene group having 2 to 4 carbon atoms), a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, 6 to 30 carbon atoms An aryl group, an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms, or a hydrogen group, R 7 is a linear or branched alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, and R 8 is a straight chain having 2 to 4 carbon atoms. A chain or branched alkylene group, R 9 is a — (R 9a O) t H group (R 9a is a linear or branched alkylene group having 2 to 4 carbon atoms); 30 linear or branched alkyl group, aryl group having 6 to 30 carbon atoms, arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms, or hydrogen group, and r, s and t are each independently 1 to 1 Any one of the second (poly) ether group-containing amine surfactants represented by the formula:
The cationic surfactant has the formula (5):

(However, R 10 and R 13 are each independently a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, or an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms; 11 and R 12 are each independently a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and each of R 10 to R 13 is at least selected from the group consisting of a hydroxyl group, an ester bond and an amino group. A first cationic surfactant represented by formula (6), wherein one species may be bound, Y - is a counter ion:


(However, R 14 is a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, or an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms, and Y is a counter ion. ) A second cationic surfactant represented by formula (7):

(However, R 15 is a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, or an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms, and R 16 and R 17 are respectively Independently a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and R 18 is a linear or branched alkylene group having 1 to 30 carbon atoms, an arylene group having 6 to 30 carbon atoms, or a carbon number 7 to 30 arylene alkyl group, and each of R 15 to R 18 may be bonded to at least one selected from the group consisting of a hydroxyl group, an ester bond and an amino group. Cationic surfactant and formula (8):

Wherein R 19 is a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, or an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms. A method comprising at least one selected from the group consisting of cationic surfactants.
請求項15〜17のいずれかに記載のリン系酸残基含有ビニル系重合体含有組成物の製造方法において、前記酸性基非含有不飽和化合物(c-1)が(メタ)アクリル酸エステル、(メタ)アクリロニトリル、(メタ)アクリルアミド、ジアルキルアミノアルキル(メタ)アクリレート、N, N-ジアルキル(メタ)アクリルアミド、スチレン、少なくとも一部の水素基がメチル基で置換されたスチレン、ジビニルベンゼン、脂肪酸ビニルエステル、ハロゲン化ビニル、少なくとも一部の水素基がフッ素基で置換された(メタ)アクリル酸エステル、少なくとも一部の水素基がフッ素基で置換された(メタ)アクリル酸、及び少なくとも一部の水素基がフッ素基で置換されたアルキル基を含有するビニルからなる群から選ばれた少なくとも一種であり、
前記酸性基含有不飽和化合物(C-2)が、ターシャリーブチルアクリルアミドスルホン酸、アリルスルホン酸、メタアリルスルホン酸、ビニルスルホン酸、p-スチレンスルホン酸、(メタ)アクリル酸ブチル-4-スルホン酸、(メタ)アクリロオキシベンゼンスルホン酸、(メタ)アクリル酸、クロトン酸、マレイン酸及びその無水物、フマル酸、イタコン酸、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート、及び式(9):

(ただしR20は水素基又はメチル基であり、R21は炭素数が2〜4で、直鎖状又は分岐状で、少なくとも一部の水素基が塩素基で置換されていてもよいアルキレン基であり、xは1〜6の整数である)で表される化合物からなる群から選ばれた少なくとも一種であることを特徴とする方法。
The method for producing a phosphorus acid residue-containing vinyl polymer-containing composition according to any one of claims 15 to 17, wherein the acidic group-free unsaturated compound (c-1) is a (meth) acrylic acid ester, (Meth) acrylonitrile, (meth) acrylamide, dialkylaminoalkyl (meth) acrylate, N, N-dialkyl (meth) acrylamide, styrene, styrene, divinylbenzene, fatty acid vinyl with at least some hydrogen groups substituted with methyl groups Esters, vinyl halides, (meth) acrylic acid esters in which at least some hydrogen groups are substituted with fluorine groups, (meth) acrylic acids in which at least some hydrogen groups are substituted with fluorine groups, and at least some The hydrogen group is at least one selected from the group consisting of vinyl containing an alkyl group substituted with a fluorine group,
The acidic group-containing unsaturated compound (C-2) is tertiary butyl acrylamide sulfonic acid, allyl sulfonic acid, methallyl sulfonic acid, vinyl sulfonic acid, p-styrene sulfonic acid, (meth) acrylic acid butyl-4-sulfone. Acid, (meth) acrylooxybenzenesulfonic acid, (meth) acrylic acid, crotonic acid, maleic acid and its anhydride, fumaric acid, itaconic acid, hydroxyalkyl (meth) acrylate, and formula (9):

(However, R 20 is a hydrogen group or a methyl group, R 21 is an alkylene group having 2 to 4 carbon atoms, linear or branched, and at least a part of the hydrogen groups may be substituted with chlorine groups. And x is an integer of 1 to 6), and is at least one selected from the group consisting of compounds represented by:
請求項15〜18のいずれかに記載のリン系酸残基含有ビニル系重合体含有組成物の製造方法において、前記組成物(A+B)と前記(C)とを反応させる方法として、水媒体中で、乳化剤及び重合開始剤を用いた乳化重合を用いることを特徴とする方法。 The method for producing a phosphoric acid residue-containing vinyl polymer-containing composition according to any one of claims 15 to 18, wherein the composition (A + B) and the (C) are reacted as water. A method using emulsion polymerization using an emulsifier and a polymerization initiator in a medium.
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