JP4749900B2 - 配線基板用積層体 - Google Patents
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Description
線熱膨張係数の測定においては、セイコーインスツル株式会社製の熱歪測定装置TMA100を用いた。積層体を10℃/分の速度で255℃まで昇温し、その温度で10分間保持した後、5℃/分の速度で冷却し、100℃から50℃での冷却時における線熱膨張係数の平均値を求めた。
積層体からエッチングによって銅箔を除去してポリイミド樹脂フィルムを得た。その後、前記ポリイミド樹脂フィルムを80℃の温度条件で2時間乾燥させ、乾燥後の質量を測定した。次に、前記乾燥後のポリイミド樹脂フィルムを23℃、相対湿度50%の恒温恒湿下に24時間放置し、24時間放置後のポリイミド樹脂フィルムの質量を測定した。そして、このようにして測定された質量の値を利用して下記式に従って吸湿率を求めた。
〔吸湿率(%)〕={(24時間放置後のポリイミド樹脂フィルムの質量−乾燥後のポリイミド樹脂フィルムの質量)/乾燥後の質量}×100
水酸化カリウム33.5wt%、エチレンジアミン11wt%、エチレングリコール22wt%からなる水溶液をエッチング液として用い、80℃の条件で積層体を10〜60秒間浸漬した。そして、浸漬前におけるポリイミド樹脂層の厚みと浸漬後におけるポリイミド樹脂層の厚みの差を浸漬時間で除することでエッチング速度を計算した。
300mlの三つ口フラスコ中において、窒素を流しながらビス(4−アミノフェニル)テレフタレート9.8g(0.028モル)、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル1.4g(0.007モル)をN,N−ジメチルアセトアミド106gに溶解させた溶液を得た。そして、前記溶液を攪拌しながら室温にてピロメリット酸二無水物7.5g(0.034モル)を加えた後、3時間反応させて樹脂溶液を得た。
その後、前記樹脂溶液を銅箔((株)日鉱マテリアルズ社製、商品名;NK−120、厚み12μm)上にアプリケーターを用いて塗布した後、オーブン中で110℃〜130℃の温度条件下で約3分間乾燥を行った。次いで、これを140〜250℃の温度条件で約4分間加熱し、更に280〜350℃の温度条件で約2分間加熱して熱イミド化による硬化処理を行い、約10μmのポリイミド樹脂層の片面に銅箔層を有する配線基板用積層体を得た。
ビス(4−アミノフェニル)テレフタレート7.8g(0.022モル)、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル3.0g(0.015モル)及びピロメリット酸二無水物8.0g(0.037モル)を使用した以外は実施例1と同様にして樹脂溶液を得た。この樹脂溶液を使用して実施例1と同様にして配線基板用積層体を得た。
ビス(4−アミノフェニル)テレフタレート7.3g(0.021モル)、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル2.8g(0.014モル)及びピロメリット酸二無水物4.5g(0.021モル)及び3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物4.1g(0.014モル)を使用した以外は実施例1と同様にして樹脂溶液を得た。この樹脂溶液を使用して実施例1と同様にして配線基板用積層体を得た。
ビス(4−アミノフェニル)テレフタレート6.5g(0.019モル)、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル2.6g(0.012モル)及びピロメリット酸二無水物4.0g(0.018モル)、1,4−フェニレンビス(無水トリメリテート)5.6g(0.012モル)を配合した以外は実施例1と同様にして樹脂溶液を得た。この樹脂溶液を使用して実施例1と同様にして配線基板用積層体を得た。
4,4’−ジアミノ−2’−メトキシベンズアニリド6.4g(0.025モル)、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル3.3g(0.016モル)及びピロメリット酸二無水物9.0g(0.041モル)を配合した以外は実施例1と同様にして樹脂溶液を得た。この樹脂溶液を使用して実施例1と同様にして配線基板用積層体を得た。
4,4’−ジアミノ−2,2’−ジメチルビフェニル5.7g(0.027モル)、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル3.6g(0.018モル)及びピロメリット酸二無水物9.5g(0.044モル)を配合した以外は実施例1と同様にして樹脂溶液を得た。この樹脂溶液を使用して実施例1と同様にして配線基板用積層体を得た。
4,4’−ジアミノジフェニルエーテル9.0g(0.045モル)及びピロメリット酸二無水物9.7g(0.044モル)を使用した以外は、実施例1と同様にして樹脂溶液を得た。この樹脂溶液を使用して実施例1と同様にして配線基板用積層体を得た。
ビス(4−アミノフェニル)テレフタレート6.8g(0.020モル)、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル2.6g(0.013モル)及び3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物9.4g(0.032モル)を使用した以外は、実施例1と同様にして樹脂溶液を得た。この樹脂溶液を使用して実施例1と同様にして配線基板用積層体を得た。
4−アミノフェニル−4−アミノベンゾエート5.9g(0.026モル)、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル3.5g(0.017モル)及びピロメリット酸二無水物9.3g(0.043モル)を使用した以外は、実施例1と同様にして樹脂溶液を得た。この樹脂溶液を使用して実施例1と同様にして配線基板用積層体を得た。
ビス(4−アミノフェニル)テレフタレート5.5g(0.016モル)、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル4.7g(0.023モル)及びピロメリット酸二無水物8.5g(0.039モル)を使用した以外は、実施例1と同様にして樹脂溶液を得た。この樹脂溶液を使用して実施例1と同様にして配線基板用積層体を得た。
Claims (3)
- ポリイミド樹脂層の片面又は両面に金属箔が積層する配線基板用積層体において、ポリイミド樹脂層が単層又は複数層から構成され、前記ポリイミド樹脂層全体として、線熱膨張係数が0.4ppm/K以上、9ppm/K未満、相対湿度50%(23℃)の条件下に24時間静置した後の吸湿率が1.5wt%以下であり、且つ水酸化カリウム33.5wt%、エチレンジアミン11wt%、エチレングリコール22wt%からなる水溶液をエッチング液として用いる80℃でのエッチング速度が5μm/min以上であり、且つ前記ポリイミド樹脂層の少なくとも1層のポリイミド樹脂層が、ジアミノ化合物とテトラカルボン酸二無水物とを反応して得られるものであって、ジアミノ化合物が、50〜80モル%のビス(4−アミノフェニル)テレフタレートと、10〜50モル%の1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、4,4’−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル及び4,4'−ビス(4−アミノフェノキシ)ジフェニルエーテルからなる群れから選ばれる少なくとも1種類のジアミノ化合物であること、並びにテトラカルボン酸二無水物が、50モル%以上のピロメリット酸二無水物を含むものであることを特徴とする配線基板用積層体。
- テトラカルボン酸二無水物が、ピロメリット酸二無水物、3,3',4,4'−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物及び1,4−フェニレンビス(無水トリメリテート)から選ばれる2種類以上のテトラカルボン酸二無水物であって、且つピロメリット酸二無水物が50モル%以上であることを特徴とする請求項1記載の配線基板用積層体。
- 金属箔が、銅箔、銅合金箔又はステンレス箔のいずれかであることを特徴とする請求項1又は2に記載の配線基板用積層体。
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