JP4747725B2 - Plasma display panel - Google Patents

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Description

本発明は表示デバイスとして知られているプラズマディスプレイパネルに関し、特に高画質を実現するプラズマディスプレイパネルに関する。   The present invention relates to a plasma display panel known as a display device, and more particularly to a plasma display panel realizing high image quality.

近年、双方向情報端末として大画面、壁掛けテレビへの期待が高まっており、そのための表示デバイスとして、液晶表示パネル、フィールドエミッションディスプレイ、エレクトロルミネッセンスディスプレイなどの数多くのものがある。これらの表示デバイスの中でもプラズマディスプレイパネル(以下、PDPと呼ぶ)は、自発光型で美しい画像表示ができ、大画面化が容易であるなどの理由から、視認性に優れた薄型表示デバイスとして注目されており、高精細化および大画面化に向けた開発が進められている。   In recent years, expectations for large screens and wall-mounted televisions are increasing as interactive information terminals, and there are many display devices such as liquid crystal display panels, field emission displays, and electroluminescence displays. Among these display devices, the plasma display panel (hereinafter referred to as “PDP”) is a thin display device with excellent visibility because it is self-luminous and can display beautiful images and can be easily enlarged. Development for higher definition and larger screen is underway.

PDPには、大別して、駆動的にはAC型とDC型があり、放電形式では面放電型と対向放電型の2種類があるが、高精細化、大画面化および製造の簡便性から、現状では、AC型で面放電型のPDPが主流を占めるようになってきている。   PDP is broadly divided into AC type and DC type in terms of driving, and there are two types of discharge types, surface discharge type and counter discharge type. However, due to high definition, large screen, and ease of manufacturing, At present, AC type and surface discharge type PDPs have become the mainstream.

PDPは、透明基板上に表示電極、誘電体層、MgOによる保護層などの構成物より形成した前面板と、基板上にアドレス電極、誘電体層、隔壁、蛍光体層などの構成物より形成した背面板とにより構成されている。   The PDP is formed from a front plate formed of a constituent such as a display electrode, a dielectric layer, a protective layer made of MgO on a transparent substrate, and a constituent such as an address electrode, a dielectric layer, a partition wall, and a phosphor layer on the substrate. And a back plate.

一方、環境に対する影響から、PDPの誘電体層を形成するガラス材料についても鉛を含有しないガラス材料を使用することが要求され、それらのガラス材料が開示されている(例えば、特許文献1、特許文献2参照)。   On the other hand, from the influence on the environment, it is required to use glass materials that do not contain lead for the glass material forming the dielectric layer of the PDP, and such glass materials are disclosed (for example, Patent Document 1, Patents). Reference 2).

また、銀電極よりなる表示電極を誘電体層で覆う場合に、基板が黄変する現象が発生するが、これらの現象を抑制するために誘電体層を形成するガラス材料のペースト中に酸化剤を混入させる例が開示されている(例えば、特許文献3参照)。
特開2004−35297号公報 特開2005−41734号公報 特開2002−25341号公報
In addition, when the display electrode made of a silver electrode is covered with a dielectric layer, a phenomenon occurs in which the substrate turns yellow. In order to suppress these phenomena, an oxidizing agent is contained in the paste of the glass material forming the dielectric layer. The example which mixes is disclosed (for example, refer patent document 3).
JP 2004-35297 A JP 2005-41734 A JP 2002-25341 A

PDPの誘電体層には、誘電体層の透明性が高いこと、誘電体層中に気泡などが存在せずに耐絶縁性が高いこと、コンデンサとして適度な誘電率を有していること、さらには電極との反応が抑制されることなどが要求される。   The dielectric layer of the PDP has high transparency of the dielectric layer, high insulation resistance without bubbles in the dielectric layer, and having an appropriate dielectric constant as a capacitor, Furthermore, it is required that reaction with the electrode is suppressed.

しかしながら、鉛を含有しないBiのガラス材料によって誘電体層を形成する場合には、誘電体層の誘電率が上昇して誘電体層の静電容量が増加するため、PDPの放電電力を増加させるといった課題を有していた。一方、RO(RはLi、Na、Kから選ばれる少なくとも1種)を含有するガラス材料によって誘電体層を形成する場合には、誘電率を上昇させることはないが、誘電体ガラス中に非架橋酸素が多く存在し、その非架橋酸素を介して、先に形成してある銀電極から拡散してきた銀イオンが還元して銀コロイドを形成し、誘電体層が黄色く着色する『黄変』と呼ばれる現象を発生するという課題を有していた。 However, when the dielectric layer is formed of a Bi 2 O 3 glass material not containing lead, the dielectric constant of the dielectric layer increases and the capacitance of the dielectric layer increases. It had the problem of increasing. On the other hand, when the dielectric layer is formed of a glass material containing R 2 O (R is at least one selected from Li, Na, and K), the dielectric constant is not increased. There is a large amount of non-bridging oxygen, and silver ions diffused from the previously formed silver electrode are reduced through the non-bridging oxygen to form a silver colloid, and the dielectric layer is colored yellow. It had the problem of generating a phenomenon called “hen”.

このような黄変はPDPの画質に影響を及ぼすだけでなく、誘電体層中に気泡を発生させ、誘電体層の耐絶縁性を低下させる要因ともなっていた。また、これらの黄変を抑制する目的で酸化剤を混入させる方法では、誘電体層の透過性を損なうなどの課題を有していた。   Such yellowing not only affects the image quality of the PDP, but also causes bubbles in the dielectric layer, thereby reducing the insulation resistance of the dielectric layer. Moreover, the method of mixing an oxidizing agent for the purpose of suppressing these yellowing has problems such as impairing the permeability of the dielectric layer.

本発明は、上記課題を解決して、鉛を含有しない誘電体層を用いて透過率、耐絶縁性、誘電率を満足し、変色の発生などがなく表示品質に優れたPDPを実現することを目的とする。   The present invention solves the above-mentioned problems, and realizes a PDP having excellent display quality with no discoloration and the like by using a dielectric layer containing no lead, satisfying transmittance, insulation resistance and dielectric constant. With the goal.

上記課題を解決するために、本発明のPDPは、表示電極を覆って誘電体層を設けたPDPであって、誘電体層は、鉛成分を含有せず、Bi 2 3 を含有し、かつ表示電極を覆う第1誘電体層と、第1誘電体層を覆う第2誘電体層とにより構成され、第1誘電体層は、MO(MOはCeO2、CuO、MnO2、Cr23、Co23、V23、MoO3から選ばれる少なくとも1種)を含有し、R2O(RはLi、Na、Kから選ばれる少なくとも1種)を含有せず、第2誘電体層は、R2O(RはLi、Na、Kから選ばれる少なくとも1種)を含有し、MO(MOはCeO2、CuO、MnO2、Cr23、Co23 2 3 MoO3から選ばれる少なくとも1種)を含有しないことを特徴とする。 In order to solve the above problems, the PDP of the present invention is a PDP in which a dielectric layer is provided so as to cover the display electrode, and the dielectric layer does not contain a lead component but contains Bi 2 O 3 , And a first dielectric layer covering the display electrode and a second dielectric layer covering the first dielectric layer. The first dielectric layer is composed of MO (MO is CeO 2 , CuO, MnO 2 , Cr 2 O 3 , Co 2 O 3 , V 2 O 3 , MoO 3 ), R 2 O (R is at least one selected from Li, Na, K), and The two dielectric layers contain R 2 O (R is at least one selected from Li, Na, K), and MO (MO is CeO 2 , CuO, MnO 2 , Cr 2 O 3 , Co 2 O 3 , V 2 O 3 and at least one selected from MoO 3 ) are not contained.

このような構成によって、誘電体層全体を鉛成分が含有しないガラス材料で構成することができて、誘電率、耐絶縁性を満足する誘電体層を実現し、表示品質に優れたPDPを提供することができる。   With this configuration, the entire dielectric layer can be made of a glass material that does not contain a lead component, a dielectric layer that satisfies the dielectric constant and insulation resistance is realized, and a PDP with excellent display quality is provided. can do.

本発明のPDPによれば、誘電体層全体を環境に優しい鉛を含まないガラス材料で構成し、透過率の低下や気泡発生による耐絶縁性の低下などがない表示品質に優れたPDPを実現することができる。   According to the PDP of the present invention, the entire dielectric layer is made of an environmentally friendly glass material that does not contain lead, and a PDP with excellent display quality that does not have a decrease in transmittance or a decrease in insulation resistance due to generation of bubbles is realized. can do.

以下、本発明の実施の形態によるPDPについて図面を用いて説明する。   Hereinafter, a PDP according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

(実施の形態)
図1は本発明の実施の形態におけるPDPの構造を示す斜視図である。PDPの基本構造は、一般的な交流面放電型PDPと同様である。図1に示すように、PDP1は前面ガラス基板3などよりなる前面パネル2と、背面ガラス基板11などよりなる背面パネル10とが対向して配置され、その外周部をガラスフリットなどからなる封着材によって気密封着されている。封着されたPDP1内部の放電空間16には、ネオンおよびキセノンなどの放電ガスが400Torr〜600Torrの圧力で封入されている。
(Embodiment)
FIG. 1 is a perspective view showing the structure of a PDP according to an embodiment of the present invention. The basic structure of the PDP is the same as that of a general AC surface discharge type PDP. As shown in FIG. 1, the PDP 1 has a front panel 2 made of a front glass substrate 3 and a rear panel 10 made of a back glass substrate 11 facing each other, and its outer peripheral portion is sealed with a glass frit or the like. The material is hermetically sealed. The discharge space 16 inside the sealed PDP 1 is filled with a discharge gas such as neon and xenon at a pressure of 400 Torr to 600 Torr.

前面パネル2の前面ガラス基板3上には、走査電極4および維持電極5よりなる一対の帯状の表示電極6とブラックストライプ(遮光層)7が互いに平行にそれぞれ複数列配置されている。前面ガラス基板3上には表示電極6と遮光層7とを覆うようにコンデンサとしての働きをする誘電体層8が形成され、さらにその表面に酸化マグネシウム(MgO)などからなる保護層9が形成されている。   On the front glass substrate 3 of the front panel 2, a pair of strip-shaped display electrodes 6 each consisting of the scanning electrodes 4 and the sustain electrodes 5 and a plurality of black stripes (light shielding layers) 7 are arranged in parallel to each other. A dielectric layer 8 serving as a capacitor is formed on the front glass substrate 3 so as to cover the display electrode 6 and the light shielding layer 7, and a protective layer 9 made of magnesium oxide (MgO) is formed on the surface. Has been.

また、背面パネル10の背面ガラス基板11上には、走査電極4および維持電極5と直交する方向に、複数の帯状のアドレス電極12が互いに平行に配置され、これを下地誘電体層13が被覆している。さらに、アドレス電極12間の下地誘電体層13上には放電空間16を区切る所定の高さの隔壁14が形成されている。隔壁14間の溝にアドレス電極12毎に、紫外線によって赤色、青色および緑色にそれぞれ発光する蛍光体層15が順次塗布されている。走査電極4および維持電極5とアドレス電極12とが交差する位置に放電セルが形成され、表示電極6方向に並んだ赤色、青色、緑色の蛍光体層15を有する放電セルがカラー表示のための画素になる。   On the back glass substrate 11 of the back panel 10, a plurality of strip-like address electrodes 12 are arranged in parallel to each other in a direction orthogonal to the scan electrodes 4 and the sustain electrodes 5, and this is covered with a base dielectric layer 13. is doing. Further, a partition wall 14 having a predetermined height is formed on the base dielectric layer 13 between the address electrodes 12 to divide the discharge space 16. A phosphor layer 15 that emits red, blue, and green light by ultraviolet rays is sequentially applied to the grooves between the barrier ribs 14 for each address electrode 12. A discharge cell is formed at a position where the scan electrode 4 and the sustain electrode 5 intersect with the address electrode 12, and the discharge cell having red, blue and green phosphor layers 15 arranged in the direction of the display electrode 6 is used for color display. Become a pixel.

次に、PDPの製造方法について説明する。まず、前面ガラス基板3上に、走査電極4および維持電極5と遮光層7とを形成する。走査電極4と維持電極5は、インジウムスズ酸化物(ITO)や酸化スズ(SnO)などからなる透明電極と、その上に形成した銀ペーストなどからなる金属バス電極とによって構成されている。これらの電極は、フォトリソグラフィ法などを用いてパターンニングして形成される。これらの電極材料層は所望の温度で焼成固化される。また、遮光層7も同様に、黒色顔料を含むペーストをスクリーン印刷する方法や黒色顔料をガラス基板の全面に形成した後、フォトリソグラフィ法を用いてパターンニングし、焼成することにより形成される。 Next, a method for manufacturing a PDP will be described. First, the scan electrode 4, the sustain electrode 5, and the light shielding layer 7 are formed on the front glass substrate 3. Scan electrode 4 and sustain electrode 5 are configured by a transparent electrode made of indium tin oxide (ITO), tin oxide (SnO 2 ), or the like, and a metal bus electrode made of silver paste or the like formed thereon. These electrodes are formed by patterning using a photolithography method or the like. These electrode material layers are fired and solidified at a desired temperature. Similarly, the light shielding layer 7 is formed by screen printing a paste containing a black pigment or by forming a black pigment on the entire surface of the glass substrate, patterning it using a photolithography method, and baking it.

次に、走査電極4、維持電極5および遮光層7を覆うように前面ガラス基板3上に誘電体ペーストをダイコート法などにより塗布して誘電体ペースト層(誘電体材料層)を形成する。誘電体ペーストを塗布した後、所定の時間放置することにより塗布された誘電体ペースト表面がレベリングされて平坦な表面になる。その後、誘電体ペースト層を焼成固化することにより、走査電極4、維持電極5および遮光層7を覆う誘電体層8が形成される。なお、誘電体ペーストはガラス粉末などの誘電体材料、バインダおよび溶剤を含む塗料である。次に、誘電体層8上に酸化マグネシウム(MgO)からなる保護層9を真空蒸着法により形成する。以上の工程により前面ガラス基板3上に所定の構成物(走査電極4、維持電極5、遮光層7、誘電体層8、保護層9)が形成され、前面パネル2が完成する。   Next, a dielectric paste is applied on the front glass substrate 3 by a die coating method or the like so as to cover the scan electrode 4, the sustain electrode 5, and the light shielding layer 7, thereby forming a dielectric paste layer (dielectric material layer). After the dielectric paste is applied, the surface of the applied dielectric paste is leveled by leaving it to stand for a predetermined time, so that a flat surface is obtained. Thereafter, the dielectric paste layer is baked and solidified to form the dielectric layer 8 that covers the scan electrode 4, the sustain electrode 5, and the light shielding layer 7. The dielectric paste is a paint containing a dielectric material such as glass powder, a binder and a solvent. Next, a protective layer 9 made of magnesium oxide (MgO) is formed on the dielectric layer 8 by a vacuum deposition method. Through the above steps, predetermined components (scanning electrode 4, sustaining electrode 5, light shielding layer 7, dielectric layer 8, and protective layer 9) are formed on front glass substrate 3, and front panel 2 is completed.

一方、背面パネル10は以下のようにして形成される。まず、背面ガラス基板11上に、銀ペーストをスクリーン印刷する方法や、金属膜を全面に形成した後、フォトリソグラフィ法を用いてパターンニングする方法などによりアドレス電極12用の構成物となる材料層を形成し、それを所望の温度で焼成することによりアドレス電極12を形成する。次に、アドレス電極12が形成された背面ガラス基板11上にダイコート法などによりアドレス電極12を覆うように誘電体ペーストを塗布して誘電体ペースト層を形成する。その後、誘電体ペースト層を焼成することにより下地誘電体層13を形成する。なお、誘電体ペーストはガラス粉末などの誘電体材料とバインダおよび溶剤を含んだ塗料である。   On the other hand, the back panel 10 is formed as follows. First, a material layer that becomes a constituent for the address electrode 12 by a method of screen printing a silver paste on the back glass substrate 11 or a method of patterning using a photolithography method after forming a metal film on the entire surface. Are formed and fired at a desired temperature to form the address electrode 12. Next, a dielectric paste is applied on the rear glass substrate 11 on which the address electrodes 12 are formed by a die coating method so as to cover the address electrodes 12 to form a dielectric paste layer. Thereafter, the base dielectric layer 13 is formed by firing the dielectric paste layer. The dielectric paste is a paint containing a dielectric material such as glass powder, a binder and a solvent.

次に、下地誘電体層13上に隔壁材料を含む隔壁形成用ペーストを塗布して所定の形状にパターンニングすることにより、隔壁材料層を形成した後、焼成することにより隔壁14を形成する。ここで、下地誘電体層13上に塗布した隔壁用ペーストをパターンニングする方法としては、フォトリソグラフィ法やサンドブラスト法を用いることができる。   Next, a partition wall forming paste containing a partition wall material is applied onto the base dielectric layer 13 and patterned into a predetermined shape to form a partition wall material layer and then fired to form the partition walls 14. Here, as a method of patterning the partition wall paste applied on the base dielectric layer 13, a photolithography method or a sand blast method can be used.

次に、隣接する隔壁14間の下地誘電体層13上および隔壁14側面に蛍光体材料を含む蛍光体ペーストを塗布し、焼成することにより蛍光体層15が形成される。以上の工程により、背面ガラス基板11上に所定の構成部材を有する背面パネル10が完成する。   Next, the phosphor layer 15 is formed by applying and baking a phosphor paste containing a phosphor material on the base dielectric layer 13 between the adjacent barrier ribs 14 and on the side faces of the barrier ribs 14. Through the above steps, the rear panel 10 having predetermined components on the rear glass substrate 11 is completed.

このようにして所定の構成部材を備えた前面パネル2と背面パネル10とを走査電極4とアドレス電極12とが直交するように対向配置して、その周囲をガラスフリットで封着し、放電空間16にネオン、キセノンなどを含む放電ガスを封入することによりPDP1が完成する。   In this way, the front panel 2 and the back panel 10 provided with predetermined constituent members are arranged to face each other so that the scanning electrodes 4 and the address electrodes 12 are orthogonal to each other, and the periphery thereof is sealed with a glass frit, so that a discharge space is obtained. 16 is filled with a discharge gas containing neon, xenon, or the like, thereby completing the PDP 1.

次に、本発明の特徴である誘電体層8について詳細に説明する。図2は、本発明の実施の形態におけるPDPの誘電体層8の構成を示す前面パネル2の断面図である。図2は図1と上下反転させて示している。図2に示すように、フロート法などにより製造された前面ガラス基板3に、走査電極4と維持電極5よりなる表示電極6とブラックストライプ7がパターン形成されている。走査電極4と維持電極5はそれぞれ透明電極4a、5aと、透明電極4a、5a上に形成された金属バス電極4b、5bとにより構成されている。金属バス電極4b、5bは透明電極4a、5aの長手方向に導電性を付与する目的として用いられ、銀材料などの導電性材料によって形成されている。   Next, the dielectric layer 8 that is a feature of the present invention will be described in detail. FIG. 2 is a cross-sectional view of front panel 2 showing the configuration of dielectric layer 8 of the PDP in the embodiment of the present invention. 2 is shown upside down from FIG. As shown in FIG. 2, display electrodes 6 and black stripes 7 made of scanning electrodes 4 and sustain electrodes 5 are formed in a pattern on a front glass substrate 3 manufactured by a float process or the like. Scan electrode 4 and sustain electrode 5 are each composed of transparent electrodes 4a and 5a and metal bus electrodes 4b and 5b formed on transparent electrodes 4a and 5a. The metal bus electrodes 4b and 5b are used for the purpose of imparting conductivity in the longitudinal direction of the transparent electrodes 4a and 5a, and are formed of a conductive material such as a silver material.

誘電体層8は、前面ガラス基板3上に形成されたこれらの透明電極4a、5aと金属バス電極4b、5bとブラックストライプ7を覆って設けた第1誘電体層81と、第1誘電体層81上に形成された第2誘電体層82の少なくとも2層構成としている。第2誘電体層82上に保護層9が形成されている。   The dielectric layer 8 includes a first dielectric layer 81 provided on the front glass substrate 3 so as to cover the transparent electrodes 4a and 5a, the metal bus electrodes 4b and 5b, and the black stripe 7, and a first dielectric layer. The second dielectric layer 82 formed on the layer 81 has at least two layers. A protective layer 9 is formed on the second dielectric layer 82.

本発明の実施の形態では、第1誘電体層81はBi23を含有する誘電体ガラス材料を用いて形成し、第2誘電体層82をR2O(RはLi、Na、Kから選ばれる少なくとも1種)が含まれる誘電体ガラス材料を用いて形成している。さらに、金属バス電極4b、5bと接触し界面を形成する第1誘電体層81には、誘電体ガラスとしてMO(MOはCeO2、MnO2、Cr23、CuO、Co23 2 3 MoO3から選ばれる少なくとも1種)を含有させてもよい。したがって、第1誘電体層81と第2誘電体層82とで構成される誘電体層8は、鉛成分を含まない誘電体層8とすることができる。 In the embodiment of the present invention, the first dielectric layer 81 is formed using a dielectric glass material containing Bi 2 O 3 , and the second dielectric layer 82 is formed of R 2 O (R is Li, Na, K). It is formed using a dielectric glass material containing at least one selected from Further, the first dielectric layer 81 that contacts with the metal bus electrodes 4b and 5b to form an interface has a dielectric glass of MO (MO is CeO 2 , MnO 2 , Cr 2 O 3 , CuO, Co 2 O 3 , V 2 O 3 or at least one selected from MoO 3 ) may be contained. Therefore, the dielectric layer 8 composed of the first dielectric layer 81 and the second dielectric layer 82 can be a dielectric layer 8 that does not contain a lead component.

これらの第1誘電体層81と第2誘電体層82とは以下の方法によって形成することができる。すなわち、それぞれの誘電体ガラスのガラス粉体と、樹脂を含む溶剤とで構成した誘電体ペーストをスクリーン印刷法などによって表示電極6、ブラックストライプ7が形成された前面ガラス基板3上に塗布して乾燥させ、その後、450℃〜600℃で焼成してそれぞれの誘電体層を形成する。   The first dielectric layer 81 and the second dielectric layer 82 can be formed by the following method. That is, a dielectric paste composed of glass powder of each dielectric glass and a solvent containing resin is applied on the front glass substrate 3 on which the display electrodes 6 and the black stripes 7 are formed by a screen printing method or the like. After drying, baking is performed at 450 ° C. to 600 ° C. to form each dielectric layer.

また、他の方法としては、それぞれの誘電体ガラスのガラス粉体と、樹脂を含む溶剤とで構成した誘電体ペーストをフィルム上に形成して、表示電極6、ブラックストライプ7が形成された前面ガラス基板3上に転写し、その後、450℃〜600℃で焼成してそれぞれの誘電体層を形成する方法も適用できる。   As another method, a dielectric paste composed of glass powder of each dielectric glass and a solvent containing a resin is formed on a film, and the display electrode 6 and the black stripe 7 are formed on the front surface. A method in which the respective dielectric layers are formed by transferring onto the glass substrate 3 and then firing at 450 ° C. to 600 ° C. is also applicable.

なお、本発明の実施の形態では、第2誘電体層82にRO(RはLi、Na、Kから選ばれる少なくとも1種)が含まれる誘電体ガラス材料を用い、第1誘電体層81にBiを含有する誘電体ガラス材料を用いて形成している。したがって、第2誘電体層82の誘電率が第1誘電体層81の誘電率よりも小さいため、誘電体層8の誘電率を最適化するために第2誘電体層82を第1誘電体層81よりも厚く形成してもよい。 In the embodiment of the present invention, a dielectric glass material containing R 2 O (R is at least one selected from Li, Na, and K) is used for the second dielectric layer 82, and the first dielectric layer 81 is formed using a dielectric glass material containing Bi 2 O 3 . Therefore, since the dielectric constant of the second dielectric layer 82 is smaller than the dielectric constant of the first dielectric layer 81, the second dielectric layer 82 is made to be the first dielectric layer in order to optimize the dielectric constant of the dielectric layer 8. It may be formed thicker than the layer 81.

(実施例)
本発明の実施の形態の具体例として、第1誘電体層81と第2誘電体層82の誘電体ガラスの材料成分を変えたPDPを作製し以下の項目について評価した。
(Example)
As a specific example of the embodiment of the present invention, a PDP in which the material components of the dielectric glass of the first dielectric layer 81 and the second dielectric layer 82 were changed was produced and evaluated for the following items.

(評価実験1)
誘電体ガラス材料の違いによる黄変の度合いを評価するため、銀電極を形成した前面ガラス基板上に第1誘電体層と第2誘電体層を形成し、色彩色差計を用いてb*値を評価して比較した。なお、b*値が大きいほど変色が大きいことを示す。
(Evaluation Experiment 1)
In order to evaluate the degree of yellowing due to the difference in dielectric glass material, the first dielectric layer and the second dielectric layer are formed on the front glass substrate on which the silver electrode is formed, and the b * value is measured using a color difference meter. Were evaluated and compared. In addition, it shows that discoloration is so large that b * value is large.

(評価実験2)
誘電体層の絶縁耐電圧を評価するために第1誘電体層と第2誘電体層を形成した誘電体層の絶縁破壊テストを行った。誘電体層の絶縁破壊テストは、希ガス空間に前面パネル2の誘電体層8上に金属板をおき、表示電極6と金属板との間にAC電圧を印加して絶縁破壊する電圧を評価した。
(Evaluation Experiment 2)
In order to evaluate the dielectric strength voltage of the dielectric layer, a dielectric breakdown test was performed on the dielectric layer formed with the first dielectric layer and the second dielectric layer. In the dielectric breakdown test of the dielectric layer, a metal plate is placed on the dielectric layer 8 of the front panel 2 in a rare gas space, and an AC voltage is applied between the display electrode 6 and the metal plate to evaluate the breakdown voltage. did.

(評価実験3)
誘電体層の誘電率は、周波数1MHzでの比誘電率をLCRメータを用いて測定した。
(Evaluation Experiment 3)
The dielectric constant of the dielectric layer was measured using a LCR meter for the relative dielectric constant at a frequency of 1 MHz.

なお、本実施例で第1誘電体層81、第2誘電体層82を作製する誘電体ガラスの材料成分割合とその材料の誘電率を表1に示す。   Table 1 shows the material component ratio of the dielectric glass for forming the first dielectric layer 81 and the second dielectric layer 82 and the dielectric constant of the material in this embodiment.

Figure 0004747725
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表1中において、A、Bは第2誘電体層82を形成するための誘電体ガラス材料であり、C、D、Eが第1誘電体層81を形成するための誘電体ガラス材料である。表1に示すように、第1誘電体層81の誘電体ガラス材料C、D、EはBiを主成分とし、MO材料としてのCeO、MnOを微量含有させている。また、第2誘電体層82の誘電体ガラス材料A、BにはROのガラス材料を含有させ、MO材料は含まないようにしている。 In Table 1, A and B are dielectric glass materials for forming the second dielectric layer 82, and C, D, and E are dielectric glass materials for forming the first dielectric layer 81. . As shown in Table 1, the dielectric glass materials C, D, and E of the first dielectric layer 81 are mainly composed of Bi 2 O 3 and contain a small amount of CeO 2 and MnO 2 as MO materials. The dielectric glass materials A and B of the second dielectric layer 82 contain an R 2 O glass material and do not contain an MO material.

表2に本発明の実施例と比較例とを表1に示す材料成分を用いて作製した誘電体層の組合せとして示す。   Table 2 shows examples of the present invention and comparative examples as combinations of dielectric layers produced using the material components shown in Table 1.

Figure 0004747725
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表2に示すように、いずれの誘電体層も鉛を含有しない誘電体層として、本発明の実施例としての実施例1〜実施例4の誘電体層と、実施例に対する比較例としての比較例1〜比較例4を作製し、上記のb*値、絶縁破壊テスト、誘電体層の誘電率の評価実験を行った。   As shown in Table 2, each dielectric layer is a lead-free dielectric layer, the dielectric layers of Examples 1 to 4 as examples of the present invention, and a comparison as a comparative example with respect to the examples. Examples 1 to 4 were prepared, and the above b * value, dielectric breakdown test, and dielectric layer dielectric constant evaluation experiment were performed.

図3は本発明の実施の形態のPDPの誘電体層の黄変の度合いを示すb*値の結果を示す図である。比較例1〜比較例4が本発明の実施例1〜実施例4に比べてb*値の大きいことがわかる。特に、比較例3、比較例4では金属バス電極4b、5bとRO成分の誘電体ガラス材料とが接触することによって、金属バス電極4b、5bの銀コロイドが多く生成され黄変が進行し、結果としてb*値が5以上と大幅に上昇している。一方、比較例1、2は比較例3、4よりは黄変が抑制されているもののb*値が3以上と大きくなっている。 FIG. 3 is a diagram showing the result of b * value indicating the degree of yellowing of the dielectric layer of the PDP according to the embodiment of the present invention. It can be seen that Comparative Examples 1 to 4 have a larger b * value than Examples 1 to 4 of the present invention. In particular, in Comparative Examples 3 and 4, when the metal bus electrodes 4b and 5b and the dielectric glass material of the R 2 O component are in contact with each other, a large amount of silver colloid of the metal bus electrodes 4b and 5b is generated and yellowing proceeds. As a result, the b * value is significantly increased to 5 or more. On the other hand, in Comparative Examples 1 and 2, the b * value is larger than 3 although the yellowing is suppressed compared to Comparative Examples 3 and 4.

一方、本発明の実施例は実施例1、2、3、4に示すように、第1誘電体層81はBi23を主成分とする誘電体ガラス材料を用いて形成し、第2誘電体層82にR2O(RはLi、Na、Kから選ばれる少なくとも1種)が含まれる誘電体ガラス材料を用いて形成している。さらに、金属バス電極4b、5bと接触し界面を形成する第1誘電体層81には、誘電体ガラスとしてMO(MOはCeO2、MnO2、Cr23、CuO、Co23 2 3 MoO3から選ばれる少なくとも1種)を含有させている。その結果、下層誘電体ガラスにCeO2やMnO2などの酸化物成分を含有させることによって、b*値を2以下に抑制することが可能となる。なお、これらの酸化物によって黄変が抑制されるのは、金属バス電極である銀電極から析出する銀の還元を抑制されるためと考えられる。 On the other hand, in the embodiment of the present invention, as shown in Embodiments 1, 2, 3, and 4, the first dielectric layer 81 is formed using a dielectric glass material mainly composed of Bi 2 O 3 , and the second The dielectric layer 82 is formed using a dielectric glass material containing R 2 O (R is at least one selected from Li, Na, and K). Further, the first dielectric layer 81 that contacts with the metal bus electrodes 4b and 5b to form an interface has a dielectric glass of MO (MO is CeO 2 , MnO 2 , Cr 2 O 3 , CuO, Co 2 O 3 , At least one selected from V 2 O 3 and MoO 3 ). As a result, the b * value can be suppressed to 2 or less by including an oxide component such as CeO 2 or MnO 2 in the lower dielectric glass. In addition, it is considered that the yellowing is suppressed by these oxides because reduction of silver deposited from the silver electrode which is a metal bus electrode is suppressed.

図4は本発明の実施の形態のPDPの誘電体層の絶縁破壊テストの結果を示す図であり、所定面積内での絶縁破壊個数を示している。図4の結果より、比較例1、2、3、4の誘電体層の構成では十分な絶縁耐圧性能を確保することができないことがわかる。この原因としては、黄変の度合いを示す図3の結果で示したように、黄変が発生する際の銀コロイドの生成や、それらの結果としての気泡発生によって誘電体層の絶縁耐圧性能が劣化していると考えられる。   FIG. 4 is a diagram showing the result of the dielectric breakdown test of the dielectric layer of the PDP according to the embodiment of the present invention, and shows the number of dielectric breakdowns within a predetermined area. From the results of FIG. 4, it can be seen that the dielectric layer configurations of Comparative Examples 1, 2, 3, and 4 cannot ensure sufficient withstand voltage performance. As shown in FIG. 3 showing the degree of yellowing, the cause of this is the generation of silver colloid when yellowing occurs, and the dielectric breakdown voltage performance of the dielectric layer due to the generation of bubbles as a result. It is thought that it has deteriorated.

一方、実施例1、2、3、4においては、これらの黄変発生の要因がないため、誘電体層として十分な絶縁耐圧性能を確保することができていると考えられる。   On the other hand, in Examples 1, 2, 3, and 4, since there is no cause of these yellowing occurrences, it is considered that sufficient withstand voltage performance as a dielectric layer can be secured.

なお、本発明の実施例1〜実施例4の誘電率は、全て11以下の値となっており、実使用上、PDPの消費電力を増加させることなく駆動することが可能な値になっている。   The dielectric constants of Examples 1 to 4 of the present invention are all values of 11 or less, and are values that can be driven without increasing the power consumption of the PDP in actual use. Yes.

なお、上述の実施例においては、第1誘電体層81にMO成分の材料としてCe23やMnO2を含有させているが、Co23やCuO、Cr23 2 3 MoO3を含有させても同様の効果が得られることを確認している。 In the above-described embodiment, Ce 2 O 3 or MnO 2 is contained in the first dielectric layer 81 as the material of the MO component, but Co 2 O 3 , CuO, Cr 2 O 3 , V 2 O 3, the same effect also contain MoO 3 is confirmed that the obtained.

本発明は、銀電極などと接する誘電体層を鉛成分を含まないBiを主成分とする誘電体ガラス材料とし、さらにその中に微量のMO成分を含有させ、その上層に鉛を含まないROの誘電体層を設ける2層構造としている。その結果、黄変現象の発生や絶縁耐圧性能の劣化のないPDP用誘電体層を実現することができる。 In the present invention, a dielectric layer in contact with a silver electrode or the like is a dielectric glass material mainly composed of Bi 2 O 3 containing no lead component, and further contains a trace amount of MO component, and lead is added to the upper layer. A two-layer structure in which a dielectric layer of R 2 O not included is provided. As a result, it is possible to realize a dielectric layer for PDP that does not cause yellowing and does not deteriorate the dielectric strength performance.

以上述べてきたように本発明のPDPは、誘電体層の黄変や絶縁耐圧性能の劣化がなく、表示品質に優れたPDPを実現し、大画面の表示デバイスなどに有用である。   As described above, the PDP of the present invention does not cause yellowing of the dielectric layer and does not deteriorate the withstand voltage performance, realizes a PDP excellent in display quality, and is useful for a large screen display device.

本発明の実施の形態におけるPDPの構造を示す斜視図The perspective view which shows the structure of PDP in embodiment of this invention 同PDPの誘電体層の構成を示す前面パネルの断面図Sectional drawing of the front panel showing the configuration of the dielectric layer of the PDP 同PDPの誘電体層の黄変の度合いを示すb*値の結果を示す図The figure which shows the result of b * value which shows the degree of yellowing of the dielectric material layer of the PDP 同PDPの誘電体層の絶縁破壊テストの結果を示す図The figure which shows the result of the dielectric breakdown test of the dielectric material layer of the PDP

符号の説明Explanation of symbols

1 PDP
2 前面パネル
3 前面ガラス基板
4 走査電極
4a,5a 透明電極
4b,5b 金属バス電極
5 維持電極
6 表示電極
7 ブラックストライプ(遮光層)
8 誘電体層
9 保護層
10 背面パネル
11 背面ガラス基板
12 アドレス電極
13 下地誘電体層
14 隔壁
15 蛍光体層
16 放電空間
81 第1誘電体層
82 第2誘電体層
1 PDP
2 Front panel 3 Front glass substrate 4 Scan electrode 4a, 5a Transparent electrode 4b, 5b Metal bus electrode 5 Sustain electrode 6 Display electrode 7 Black stripe (light shielding layer)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 8 Dielectric layer 9 Protective layer 10 Back panel 11 Back glass substrate 12 Address electrode 13 Base dielectric layer 14 Partition 15 Phosphor layer 16 Discharge space 81 1st dielectric layer 82 2nd dielectric layer

Claims (1)

表示電極を覆って誘電体層を設けたプラズマディスプレイパネルであって、
前記誘電体層は、鉛成分を含有せず、Bi 2 3 を含有し、かつ前記表示電極を覆う第1誘電体層と、前記第1誘電体層を覆う第2誘電体層とにより構成され、
前記第1誘電体層は、MO(MOはCeO2、CuO、MnO2、Cr23、Co23、V23、MoO3から選ばれる少なくとも1種)を含有し、R2O(RはLi、Na、Kから選ばれる少なくとも1種)を含有せず、
前記第2誘電体層は、R2O(RはLi、Na、Kから選ばれる少なくとも1種)を含有し、MO(MOはCeO2、CuO、MnO2、Cr23、Co23 2 3 MoO3から選ばれる少なくとも1種)を含有しないことを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
A plasma display panel that covers a display electrode and is provided with a dielectric layer,
The dielectric layer includes a first dielectric layer that does not contain a lead component, contains Bi 2 O 3 , covers the display electrode , and a second dielectric layer covers the first dielectric layer. And
The first dielectric layer contains MO (MO is at least one selected from CeO 2 , CuO, MnO 2 , Cr 2 O 3 , Co 2 O 3 , V 2 O 3 , MoO 3 ), and R 2. Does not contain O (R is at least one selected from Li, Na, K),
The second dielectric layer contains R 2 O (R is at least one selected from Li, Na, and K), and MO (MO is CeO 2 , CuO, MnO 2 , Cr 2 O 3 , Co 2 O). 3 , at least one selected from V 2 O 3 and MoO 3 ).
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