JP4715933B2 - 電気光学装置 - Google Patents

Description

本発明は、電気光学装置に関するものである。

近年、電気光学装置、例えば有機エレクトロルミネッセンスディスプレイは、表示画像の高精細化、画面の大型化等に伴って画素回路の増大、画素回路を構成する配線パターンや電極パターンの微細化が求められている。そのため、有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ（有機ＥＬディスプレイ）の各製造工程において、複雑かつ高度な技術が要求されている。これにともなって、これら有機ＥＬディスプレイの性能・信頼性保証するために、出荷前の各製造工程において各種（例えば全灯検査等）の検査もより重要になっている。そして、これら各種検査を行うための検査回路を、基板に複数の画素回路とともに設けている（例えば、特許文献１、２）。

特許文献１では、基板上の電気光学素子を保護するための封止部材を、封止部材の取付部が基板上に形成された検査回路とオーバーラップするように取り付け、装置の小型を図っている。また、特許文献２では、検査回路を構成するトランジスタ素子を、封止材による封止領域（封止材が基板に接着する領域）に配置して、封止領域というデットスペースの有効利用を図っている。

特開２００４−２０００３４号公報 特開平１０−２１４０６５号公報

しかしながら、前記両検査回路とも、封止部材と重なり合う部分に形成したため、封止部材による保護を充分享受できなかった。しかも、両検査回路とも、封止部材の接着面と対峙するため、何らか力が封止部材に加わったとき、該力が検査回路に直接加わることから、該検査回路を損傷させる虞があった。

本発明は上記問題点を解消するためになされたものであって、その目的は、基板に形成された検査のための検査回路を、周囲の環境から保護することのできる電気光学装置を提供することにある。

一つの例に係る電気光学装置は、基板の表示領域に、複数の走査線、複数のデータ線、これら走査線とデータ線の交差部に対応して設けられた電気光学素子を含む複数の単位回路を形成するとともに、前記表示領域に形成した複数の画素回路の電気光学素子を封止する封止部材を前記基板に接着した電気光学装置において、前記基板と前記封止部材とを接着する接着領域と前記表示領域との間に、検査回路を形成した。

この電気光学装置によれば、基板に形成される検査回路は、封止部材に完全に内包されるため、外部の湿気、酸素等から完全に保護される。また、検査回路は、直接、封止部材の接着面と対峙しない表示領域と接着領域の間に形成されているため、封止部材に加えられた力、例えば、基板に封止部材を接着する際、封止部材を基板に当接する力が接着面を介して直接加わらない。従って、検査回路は、何らかの原因で封止部材に加えられた力によって損傷する虞は小さい。また、例えば、封止部材がステンレス等の金属性の封止部材にすれば、外部の電気的ノイズが封止部材で完全に遮断されることから、検査回路は電気的ノイズによって誤動作することない。

この記載の電気光学装置において、前記検査回路は、前記複数のデータ線の各々に検査データ信号を供給するデータ線制御用検査回路部及び前記複数の走査線の各々に検査用の選択信号を選択的に供給するための走査線制御用検査回路部の少なくともいずれか一方を備えてもよい。

この電気光学装置によれば、データ線制御用検査回路部及び走査線制御用検査回路部の少なくともいずれか一方を備えた電気光学装置は、その備えた検査回路部が回りの環境（湿気、酸素、外力）から保護される。

この電気光学装置において、前記データ線制御用検査回路部は、検査モード信号を供給する検査モード信号供給線と、検査データ信号を供給する検査データ信号供給線と、前記検査データ信号供給線と前記複数のデータ線の各々との間に設けられ、前記検査モード信号に基づいて前記検査データ信号をそれぞれ対応する前記データ線に供給するトランジスタとを備えてもよい。

この電気光学装置によれば、前記データ線制御用検査回路部を、検査モード信号供給線、検査データ信号供給線及びトランジスタといった、最小限の回路構成で形成したので、表示領域と接着領域との間に同検査回路部を形成することができる。

この電気光学装置において、前記検査モード信号供給線及び前記検査データ信号供給線は、それぞれ前記基板の四隅のうちのいずれかの隅部に形成した検査用外部端子と電気的に接続してもよい。

この電気光学装置によれば、検査用外部端子は、各データ線の延長線上の基板の一辺に形成されたデータ線の外部端子から、外れた前記基板の隅部に形成される。そのため、基板のサイズを大きくすることなく、同検査用外部端子サイズを大きくすることができる。

この電気光学装置によれば、各色の電気光学素子についての検査が可能となる。

この電気光学装置において、前記走査線制御用検査回路部は、検査用の選択信号を供給する選択信号供給線と、検査用のクロック信号を供給するクロック信号供給線と、検査モード信号を供給する検査モード信号供給線と、前記複数のデータ線の各々に対応して設けられ、前記選択信号を前記クロック信号に応答して一方から他方にシフトして対応する走査線に出力するシフトレジスタとを備え、前記検査モード信号に基づいて、前記選択信号を走査線へ供給するトランジスタを備えてもよい。

この電気光学装置によれば、走査線制御用検査回路部を、選択信号供給線、クロック信号供給線、検査モード信号供給線、シフトレジスタ及びトランジスタといった、最小限の回路構成で形成したので、表示領域と接着領域との間に同検査回路部を形成することができる。

この電気光学装置において、前記選択信号供給線、前記クロック信号供給線及び前記検査モード信号供給線は、それぞれ前記基板の四隅のうちのいずれかの隅部に形成した検査用外部端子と電気的に接続してもよい。

この電気光学装置によれば、選択信号供給線、クロック信号供給線及び検査モード信号供給線の検査用外部端子は、各走査線の延長線上の基板の一辺に形成された走査線の外部端子から、外れた前記基板の隅部に形成される。そのため、基板のサイズを大きくすることなく、検査用外部端子のサイズを大きくすることができる。

本発明の電気光学装置は、複数の画素回路が形成された基板と、前記複数の画素回路を封止する封止部材と、が接着されており、前記複数の画素回路を含む表示領域を有し、前記複数の画素回路の夫々が走査線、及びデータ線に接続されてなる電気光学装置において、前記複数の画素回路の夫々は、陽極、発光層を含む機能層および陰極、を含み、前記走査線及び前記データ線のうちの少なくとも一方に接続された検査回路、及び前記検査回路に接続された検査用外部端子が形成されており、前記検査回路は、前記表示領域と、前記基板と前記封止部材とが接着される接着領域と、の間に配置されており、前記検査用外部端子は、前記封止部材と前記基板とが接着される接着領域の外側に配置されてなることを特徴とする。

検査用外部端子を、各走査線及び各データ線の延長線上の基板の一辺から外れた前記基板のコーナー部に形成すれば、基板のサイズを大きくすることなく、同検査用外部端子サイズを大きくすることができる。しかも、封止領域より外側に形成されているため、封止部材を接着させた後でも検査が可能である。

本発明の電気光学装置は、前記走査線に接続された選択信号入力端子と、前記データ線に接続されたデータ信号入力端子と、を有し、前記選択信号入力端子は前記基板の第１辺に設けられ、前記データ信号入力端子は前記基板の前記第１辺とは異なる第２辺に設けられ、前記検査用外部端子は、前記基板の前記第１辺と前記第２辺が交差するコーナー部に形成されてなることを特徴とする。

この電気光学装置によれば、第１辺と第２辺が交差する基板のコーナー部は、第１辺に形成された選択信号入力端子及び第２辺に形成されたデータ信号入力端子が形成されない。従って、検査用外部端子は、基板のサイズを大きくすることなく、同検査用外部端子サイズを大きくすることができる。

また、本発明の電気光学装置は、前記検査用外部端子は、アライメントマークと兼用されてなることを特徴とする。

本発明の電気光学装置によれば、基板上に検査用外部端子を形成した時点で、該検査用外部端子をアライメントマークとして使用できるため、例えば、複数の電気光学素子を製造する工程でのアライメント作業に利用できる。又、封止部材よる封止領域より外側に検査用外部端子を形成したので、封止部材を基板上に貼り付ける際のアライメント作業にも利用できる。

この電気光学装置において、前記検査用外部端子は、前記基板のコーナー部に複数形成してもよい。

この電気光学装置によれば、コーナー部に形成したので、外部端子としてのサイズを大きくでき、プローブとの接続が容易になるとともに、アライメントマークとしてもサイズを大きくなるため、封止部材を基板に貼り付ける際の、精度の高いアライメント作業が容易に行える。

この電気光学装置において、前記複数の検査用外部端子は、前記基板の各コーナー部に形成され、各コーナー部の辺に沿って配置形成してもよい。

この電気光学装置によれば、複数の検査用外部端子は、コーナー部の辺に沿って配置形成したので、複数の隣り合う検査用外部端子の配置関係で、より精度のアライメントが可能となる。

この電気光学装置によれば、各色の電気光学素子についての検査が可能となるとともに、電気光学素子を製造する工程において検査用外部端子がアライメントマークとして利用できる。

この電気光学装置において、前記電気光学素子は、エレクトロルミネッセンス素子であってもよい。

この電気光学装置によれば、エレクトロルミネッセンス素子の検査が可能となるとともに、エレクトロルミネッセンス素子を製造する工程において検査用外部端子がアライメントマークとして利用できる。

この電気光学装置によれば、有機エレクトロルミネッセンス素子の検査が可能となるとともに、有機エレクトロルミネッセンス素子を、製造する工程、例えば液滴吐出装置を利用して製造する場合において検査用外部端子がアライメントマークとして利用できる。

この電気光学装置において、前記表示領域には、赤色の光を出射する複数の電気光学素子、緑色の光を出射する複数の電気光学素子、青色の光を出射する複数の電気光学素子が形成され、前記検査回路の信号供給線は、赤色の光を出射する電気光学素子のための検査データ信号を供給する赤用検査データ信号供給線と、緑色の光を出射する電気光学素子のための検査データ信号を供給する緑用検査データ信号供給線と、青色の光を出射する電気光学素子のための検査データ信号を供給する青用検査データ信号供給線とを有してもよい。

この電気光学装置において、前記電気光学素子は、エレクトロルミネッセンス素子であってもよい。

この電気光学装置によれば、エレクトロルミネッセンス素子の検査を行うことができる。

この電気光学装置において、前記エレクトロルミネッセンス素子は、発光層が有機発光材料で構成されていてもよい。

この電気光学装置によれば、有機エレクトロルミネッセンス素子の検査を行うことができる。

本発明の有機ＥＬディスプレイの斜視図。 有機ＥＬディスプレイの要部断面図。 有機ＥＬディスプレイの電気的構成を説明するための電気回路図。 画素回路を説明するための電気回路図。 走査線制御用検査回路部を説明するための電気回路図。 データ線制御用検査回路部の別例を説明するための電気回路図。

以下、本発明の電気光学装置を具体化した一実施形態を図面に従って説明する。図１は、有機ＥＬディスプレイの斜視図であり、図２は、その有機ＥＬディスプレイの要部断面図である。

図１に示すように、電気光学装置としての有機ＥＬディスプレイ１は、四角形状の透明基板２を備えている。透明基板２は、本実施形態では、無アルカリガラス基板で形成されている。

透明基板２の表面（素子形成面）２ａには、２点鎖で囲まれる略四角形状の表示領域３が形成されている。表示領域３には、図１に示すように、ｍ×ｎ個の画素４がマトリクス状に形成されている。詳述すると、表示領域３には、１行当りｍ個の画素４群がｎ行、また、１列当りｎ個の画素４群がｍ行形成されている。

各画素４は、図３に示すように、赤色の光を出射する赤用の有機ＥＬ素子７（図４参照）を有する赤用画素回路４Ｒ、緑色の光を出射する緑用の有機ＥＬ素子７（図４参照）を有する緑用画素回路４Ｇ及び青色の光を出射する青用の有機ＥＬ素子７（図４参照）を有する青用画素回路４Ｂの３種類の画素回路から構成されている。単位回路としての赤、緑及び青用画素回路４Ｒ，４Ｇ，４Ｂは、行方向に沿って赤用画素回路４Ｒ、緑用画素回路４Ｇ、青用画素回路４Ｂの順に配置されている。即ち、各画素回路４Ｒ，４Ｇ，４Ｂは、行方向に沿っては、赤用画素回路４Ｒ、緑用画素回路４Ｇ、青用画素回路４Ｂ、赤用画素回路４Ｒ、緑用画素回路４Ｇ、…の順に繰り返して配置されている。また、列方向に沿っては、同色の画素回路４Ｒ，４Ｇ，４Ｂが配置されている。

表示領域３には、各列方向に配置された各色の画素回路４Ｒ，４Ｇ，４Ｂに対応してデータ線Ｌｒ，Ｌｇ，Ｌｂがそれぞれ列方向に沿って形成され、その列方向の同色の画素回路４Ｒ，４Ｇ，４Ｂにデータ信号Ｄｒ，Ｄｇ，Ｄｂをそれぞれ供給する。又、各行方向に繰り返し配置された各色の画素回路４Ｒ，４Ｇ，４Ｂに対応して複数の走査線Ｌｙがそれぞれ行方向に沿って形成され、行方向の各画素回路４Ｒ，４Ｇ，４Ｂに選択信号Ｓｙ（図４参照）をそれぞれ供給する。つまり、各画素回路４Ｒ，４Ｇ，４Ｂは、それぞれ対応する各データ線Ｌｒ，Ｌｇ，Ｌｂと各走査線Ｌｙとの交差部に形成されている。

列方向に形成した各データ線Ｌｒ，Ｌｇ，Ｌｂの上下両端部は、透明基板２の上下両端部まで延出形成され、透明基板２の上下両側辺であって左右隅部（コーナー部）を除く端縁に形成したデータ線外部端子５に電気的に接続されている。各データ線Ｌｒ，Ｌｇ，Ｌｂに対応して形成されたデータ信号入力端子としてのデータ線外部端子５は、銅箔等で形成される端子であって、透明基板２の第２側辺としての上側辺及び下側辺に沿って等ピッチで表面（素子形成面）２ａに配列形成されている。

そして、各上下両側の各データ線外部端子５は、図示しない、本体がポリイミド樹脂で形成されているデータ線用のフレキシブル基板に形成した複数の接続端子（図示しない）と、いわゆる異方性導電膜（ＡＣＦ）方式によって電気的に接続されるようになっている。フレキシブル基板にはデータ線駆動用ＩＣチップが実装され、そのデータ線駆動用ＩＣチップから各画素回路４Ｒ，４Ｇ，４Ｂに供給するデータ信号Ｄｒ，Ｄｇ，Ｄｂが出力される。そして、本実施形態では、各データ線Ｌｒ，Ｌｇ，Ｌｂは、上下両側部から対応するデータ線外部端子５を介して同じ内容のデータ信号Ｄｒ，Ｄｇ，Ｄｂが同期して供給される。

一方、行方向に形成した複数の走査線Ｌｙの左右両端部は、透明基板２の左右両端部まで延出形成され、透明基板２の左右両側辺であって上下隅部（コーナー部）を除く端縁に形成した走査線外部端子６に電気的に接続されている。各走査線Ｌｙに対応して形成された選択信号入力端子としての走査線外部端子６は、銅箔等で形成される端子であって、透明基板２の第１側辺としての左側辺及び右側辺に沿って等ピッチで表面（素子形成面）２ａに配列形成されている。

そして、各左右両側の各走査線外部端子６は、図示しない、本体がポリイミド樹脂で形成されている走査線用のフレキシブル基板に形成した複数の接続端子と、異方性導電膜（ＡＣＦ）方式によって電気的に接続されるようになっている。フレキシブル基板には走査線駆動用ＩＣチップが実装され、その走査線駆動用ＩＣチップから各走査線Ｌｙに選択信号Ｓｙが出力される。そして、本実施形態では、各走査線Ｌｙは、左右両端部側から対応する走査線外部端子６を介して選択信号Ｓｙが同期して供給される。

さらに、表示領域３には、各列方向に配置された各色の画素回路４Ｒ，４Ｇ，４Ｂに対応して複数の電源線Ｌｖｒ，Ｌｖｇ，Ｌｖｂがそれぞれ列方向に沿って形成され、列方向の同色の画素回路４Ｒ，４Ｇ，４Ｂに対応する駆動電圧Ｖｒ，Ｖｇ，Ｖｂ（図４参照）を供給する。そして、複数の電源線Ｌｖｒ，Ｌｖｇ，Ｌｖｂの上下両端は、それぞれ行方向に沿って形成された対応する共通電源線Ｌｃｒ，Ｌｃｇ，Ｌｃｂに電気的に接続されている。

上側に形成した共通電源線Ｌｃｒ，Ｌｃｇ，Ｌｃｂの左側部は、透明基板２の左端部までそれぞれ延出形成され、透明基板２の左上隅部（コーナー部）に形成した赤用、緑用、青用の検査用電源線外部端子１７，１８，１９に電気的に接続されている。また、下側に形成した共通電源線Ｌｃｒ，Ｌｃｇ，Ｌｃｂの右側部は、透明基板２の右端部までそれぞれ延出形成され、透明基板２の右下隅部（コーナー部）に形成した赤用、緑用、青用の検査用電源線外部端子１７，１８，１９に電気的に接続されている。赤用、緑用、青用の検査用電源線外部端子１７，１８，１９は、検査用外部端子であって、出荷前に行われる検査の際に、検査装置（図示しない）から駆動電圧Ｖｒ，Ｖｇ，Ｖｂが供給される。また、赤用、緑用、青用の検査用電源線外部端子１７，１８，１９は、銅箔等で形成される端子である。これら検査用の外部端子１７〜１９はそれぞれ隅部に設けられ、数も少ないため、前記データ線外部端子５、前記走査線外部端子６等より大きなサイズで形成されている。

一方、上側に形成した共通電源線Ｌｃｒ，Ｌｃｇ，Ｌｃｂの左側部、及び、下側に形成した共通電源線Ｌｃｒ，Ｌｃｇ，Ｌｃｂの右側部は、データ線外部端子５と隣接して形成した図示しない共通電源線外部端子と電気的に接続されている。図示しない共通電源線外部端子は、データ線外部端子５と同じ方法で形成され、データ線用のフレキシブル基板に形成された電源供給用の接続端子と電気的に接続される。そして、本実施形態では、それぞれの電源線Ｌｖｒ，Ｌｖｇ，Ｌｖｂに供給する駆動電圧Ｖｒ，Ｖｇ，Ｖｂをデータ線用フレキシブル基板に形成した接続端子から出力するようになっている。従って、電源線Ｌｖｒ，Ｌｖｇ，Ｌｖｂは、上下両端部側から対応する共通電源線Ｌｃｒ，Ｌｃｇ，Ｌｃｂを介して駆動電圧Ｖｒ，Ｖｇ，Ｖｂが供給される。

図４は、画素４を構成する赤用画素回路４Ｒ、緑用画素回路４Ｇ及び青用画素回路４Ｂの回路構成を示す。説明の便宜上、赤用画素回路４Ｒについて説明し他の画素回路４Ｇ，４Ｂについては省略する。

赤用画素回路４Ｒは、駆動トランジスタＱ１、スイッチングトランジスタＱ２及び保持キャパシタＣ１をそれぞれ備えている。駆動トランジスタＱ１及びスイッチングトランジスタＱ２は、導電型がＮチャネルの薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）にて構成されている。駆動トランジスタＱ１は、ソースが赤色の光を出射する電気光学素子としての有機ＥＬ素子７の陽極に接続され、ドレインが対応する電源線Ｌｖｒに接続されている。駆動トランジスタＱ１のゲートは保持キャパシタＣ１が接続されている。その保持キャパシタＣ１の他端は、電源線Ｌｖｒに接続されている。

スイッチングトランジスタＱ２はゲートが走査線Ｌｙに接続されている。また、スイッチングトランジスタＱ２は、ドレインがデータ線Ｌｒに接続され、ソースが駆動トランジスタＱ１のゲート及び保持キャパシタＣ１の一端と接続されている。

因みに、緑用画素回路４Ｇにおいて、駆動トランジスタＱ１のドレインが電源線Ｌｖｇに接続されるとともに、スイッチングトランジスタＱ２のドレインがデータ線Ｌｇに接続される。また、緑用画素回路４Ｇの有機ＥＬ素子７は緑色の光を出射する有機ＥＬ素子である。同様に、青用画素回路４Ｂにおいて、駆動トランジスタＱ１のドレインが電源線Ｌｖｂに接続されるとともに、スイッチングトランジスタＱ２のドレインがデータ線Ｌｂに接続される。また、青用画素回路４Ｂの有機ＥＬ素子７は青色の光を出射する有機ＥＬ素子である。

そして、走査線Ｌｙに選択信号Ｓｙが所定期間出力されると、赤用画素回路４Ｒ、緑用画素回路４Ｇ及び青用画素回路４ＢのスイッチングトランジスタＱ２が所定期間オンしてデータ線Ｌｒ，Ｌｇ，Ｌｂを介してデータ信号Ｄｒ，Ｄｇ，Ｄｂがそれぞれ供給される。すると、データ信号Ｄｒ，Ｄｇ，ＤｂがスイッチングトランジスタＱ２を介して保持キャパシタＣ１にそれぞれ供給される。各画素回路４Ｒ，４Ｇ，４Ｂの保持キャパシタＣ１はデータ信号Ｄｒ，Ｄｇ，Ｄｂに対応した電荷量を蓄積し保持する。また、各画素回路４Ｒ，４Ｇ，４Ｂの駆動トランジスタＱ１のゲート端子の電位はデータ信号Ｄｒ，Ｄｇ，Ｄｂにより押し上げられ、駆動トランジスタＱ１ドレイン／ソースにデータ信号Ｄｒ，Ｄｇ，Ｄｂに応じた駆動電流Ｉｒ，Ｉｇ，Ｉｂをそれぞれ有機ＥＬ素子７に供給する。この駆動電流Ｉｒ，Ｉｇ，Ｉｂは、保持キャパシタＣ１に蓄積されたデータ信号Ｄｒ，Ｄｇ，Ｄｂに応じた電荷量に相対した値となる。

つまり、駆動トランジスタＱ１は、データ信号Ｄｒ，Ｄｇ，Ｄｂに応答して導通し、その導通状態が保持されて各有機ＥＬ素子７に駆動電流Ｉｒ，Ｉｇ，Ｉｂを供給する。すると、このタイミングで各画素回路４Ｒ，４Ｇ，４Ｂの有機ＥＬ素子７がそれぞれデータ信号Ｄｒ，Ｄｇ，Ｄｂに相対した輝度で発光する。

このように、表示領域３にマトリクス状に配置形成された各画素回路４Ｒ，４Ｇ，４Ｂからなる各画素４は、図３において、上側の走査線Ｌｙから下側の走査線Ｌｙへと順番に選択信号Ｓｙが所定期間出力される。そして、選択信号Ｓｙが出力された走査線Ｌｙ上の選択された各画素４（画素回路４Ｒ，４Ｇ，４Ｂ）に対して一斉にデータ信号Ｄｒ，Ｄｇ，Ｄｂがデータ線Ｌｒ，Ｌｇ，Ｌｂを介して供給され、その選択された走査線Ｌｙ上の選択された各画素４（画素回路４Ｒ，４Ｇ，４Ｂ）中の有機ＥＬ素子７は発光する。つまり、最上側の走査線Ｌｙ上の各画素４から順番に最下側の走査線Ｌｙ上に各画素４が発光制御されて、１フレームの画像がいわゆる線順次で表示領域３に表示されるようになっている。

図２は、画素回路４Ｒ，４Ｇ，４Ｂの各有機ＥＬ素子７の構造を示す有機ＥＬディスプレイ１の要部断面図である。尚、説明の便宜上、図２において、赤色の光を出射する有機ＥＬ素子７を赤用有機ＥＬ素子７Ｒ、緑色の光を出射する有機ＥＬ素子７を緑用有機ＥＬ素子７Ｇ、青色の光を出射する有機ＥＬ素子７を青用有機ＥＬ素子７Ｂと表記している。

図２に示すように、各有機ＥＬ素子７Ｒ，７Ｇ，７Ｂは、透明基板２の素子形成面２ａに形成された回路形成層２ｂ上に形成されている。この回路形成層２ｂは、表示領域３に形成される前記各画素回路４Ｒ，４Ｇ，４Ｂを駆動させるための駆動トランジスタＱ１等といった回路素子や、表示領域３の外側に形成される後記するデータ線制御用検査回路部８ａ，８ｂ及び走査線制御用検査回路部９ａ，９ｂを構成する回路素子の一部または全部が形成された層である。

また、回路形成層２ｂ上の表示領域３に対応した領域には、各有機ＥＬ素子７Ｒ，７Ｇ，７Ｂをマトリクス状に区画するバンクＢが形成されている。各バンクＢによって区画された凹状領域の各底部には陽極３１（画素電極若しくは個別電極）が形成されている。本実施形態においては、陽極３１は、透明電極であって、光透過性を有する導電性材料であるインジウムー錫化合物（ＩＴＯ）で構成されている。

各陽極３１は、対応する駆動トランジスタＱ１とコンタクトホールＨを介して電気的に接続されている。各陽極３１上には、本実施形態においては、正孔輸送層３２、発光層３３Ｒ，３３Ｇ，３３Ｂの順に積層されてなる機能層３４が形成されている。発光層３３Ｒは、赤色の光を出射する有機発光材料で構成された発光層であり、発光層３３Ｇは、緑色の光を出射する有機発光材料で構成された発光層であり、発光層３３Ｂは、青色の光を出射する有機発光材料で構成された発光層である。

機能層３４上全面に渡って共通電極としての陰極３５が形成されている。陰極３５は、アルミニウムの膜で形成されている。陰極３５全面を覆うように、保護膜３６が形成されている。そして、前記した陽極３１、機能層３４及び陰極３５が積層されて、各有機ＥＬ素子７（７Ｒ，７Ｇ，７Ｂ）が構成される。

そして、各有機ＥＬ素子７（７Ｒ，７Ｇ，７Ｂ）から出射した光は、透明電極の陽極３１を介して図２において下側に出射される。また、陰極３５に向かって出射された光は、アルミニウム膜からなる陰極３５にて反射され、陽極３１を介して下側に出射される。従って、本実施形態の有機ＥＬディスプレイ１はボトムエミッション型のディスプレイである。

図１において、前記表示領域３に隣接する上下両側の透明基板２の素子形成面２ａには、データ線用検査回路としてのデータ線制御用検査回路部８ａ，８ｂが行方向に形成されている。上側及び下側データ線制御用検査回路部８ａ，８ｂは、図３に示すように、それぞれ各データ線Ｌｒ，Ｌｇ，Ｌｂに対応してゲートトランジスタＱ３が設けられている。ゲートトランジスタＱ３は、導電型がＮチャネルの薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）にて構成されている。各ゲートトランジスタＱ３のゲートは、行方向に沿って形成された検査モード信号供給線Ｌ０にそれぞれ電気的に接続されている。そして、検査モード信号供給線Ｌ０に検査のための高電位（Ｈレベル）の検査モード信号ＭＤが供給されると、各ゲートトランジスタＱ３が一斉にオンする。

各ゲートトランジスタＱ３のソースは、それぞれ対応するデータ線Ｌｒ，Ｌｇ，Ｌｂに接続されている。各ゲートトランジスタＱ３であってソースが赤用のデータ線Ｌｒに接続された各ゲートトランジスタＱ３は、そのドレインが行方向に沿って形成された赤用検査データ信号供給線Ｌ１にそれぞれ電気的に接続されている。また、各ゲートトランジスタＱ３であってソースが緑用のデータ線Ｌｇに接続された各ゲートトランジスタＱ３は、そのドレインが行方向に沿って形成された緑用検査データ信号供給線Ｌ２にそれぞれ電気的に接続されている。さらに、各ゲートトランジスタＱ３であってソースが青用のデータ線Ｌｂに接続された各ゲートトランジスタＱ３は、そのドレインが行方向に沿って形成された青用検査データ信号供給線Ｌ３にそれぞれ電気的に接続されている。

上側データ線制御用検査回路部８ａの各供給線Ｌ０，Ｌ１，Ｌ２，Ｌ３は共に隣接して形成され、その右側部は、透明基板２の四隅の中の右上隅部まで延出形成されている。そして、検査モード信号供給線Ｌ０は透明基板２の右上隅部（コーナー部）に形成した検査モード信号外部端子１０に電気的に接続されている。赤用検査データ信号供給線Ｌ１は透明基板２の右上隅部（コーナー部）に形成した赤用検査データ外部端子１１に電気的に接続されている。緑用検査データ信号供給線Ｌ２は透明基板２の右上隅部（コーナー部）に形成した緑用検査データ外部端子１２に電気的に接続されている。青用検査データ信号供給線Ｌ３は透明基板２の右上隅部（コーナー部）に形成した青用検査データ外部端子１３に電気的に接続されている。

下側データ線制御用検査回路部８ｂの各供給線Ｌ０，Ｌ１，Ｌ２，Ｌ３も同様に、共に隣接して形成され、その左側部は、透明基板２の四隅の中の左下隅部まで延出形成されている。そして、上側データ線制御用検査回路部８ａと同様に、検査モード信号供給線Ｌ０は検査モード信号外部端子１０に、赤用検査データ信号供給線Ｌ１は赤用検査データ外部端子１１に、緑用検査データ信号供給線Ｌ２は緑用検査データ外部端子１２に、青用検査データ信号供給線Ｌ３は青用検査データ外部端子１３に電気的に接続されている。

上側及び下側データ線制御用検査回路部８ａ，８ｂの各供給線Ｌ０，Ｌ１，Ｌ２，Ｌ３にそれぞれ接続された外部端子１０〜１３は、銅箔等で形成される端子である。また、これら外部端子１０〜１３はそれぞれ隅部に設けられ、数も少ないため、前記データ線外部端子５、前記走査線外部端子６等より大きなサイズで形成されている。

これら外部端子１０〜１３は、検査用外部端子であって、出荷前に行われる検査の際に、検査装置から検査モード信号ＭＤ、検査データ信号Ｄｍｒ，Ｄｍｇ，Ｄｍｂが供給される。そして、検査モード信号外部端子１０から検査のための検査モード信号ＭＤが供給されている状態で、各検査データ外部端子１１〜１３にそれぞれ検査データ信号Ｄｍｒ，Ｄｍｇ，Ｄｍｂがそれぞれに供給されると、ゲートトランジスタＱ３を介してそれぞれ対応する各データ線Ｌｒ，Ｌｇ，Ｌｂにそれぞれ検査データ信号Ｄｍｒ，Ｄｍｇ，Ｄｍｂが供給される。

図１において、前記表示領域３に隣接する左右両側の透明基板２の素子形成面２ａには、走査線用検査回路としての走査線制御用検査回路部９ａ，９ｂが列方向に形成されている。図５に示すように、左側及び右側走査線制御用検査回路部９ａ，９ｂは、それぞれ各走査線Ｌｙに対応してゲートトランジスタＱ４及びシフトレジスタＳＲが設けられている。

ゲートトランジスタＱ４は、導電型がＮチャネルの薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）にて構成されている。各ゲートトランジスタＱ４のゲートは、列方向に沿って形成された検査モード信号供給線Ｌ４にそれぞれ電気的に接続されている。検査モード信号供給線Ｌ４の一端は前記検査モード信号供給線Ｌ０に接続されている。従って、検査モード信号供給線Ｌ４に検査のためのＨレベルの検査モード信号ＭＤが供給されると、各ゲートトランジスタＱ４が一斉にオンする。各ゲートトランジスタＱ４は、ソースが対応する走査線Ｌｙにそれぞれ接続され、ドレインが対応するシフトレジスタＳＲにそれぞれ接続されている。

各シフトレジスタＳＲは、直列に接続され、最上側の走査線Ｌｙに対応するシフトレジスタＳＲが選択信号供給線Ｌ５に接続されている。そして、最上側の走査線Ｌｙに対応するシフトレジスタＳＲには、選択信号供給線Ｌ５から供給される検査のためのＨレベルの選択信号Ｓｍが入力される。各シフトレジスタＳＲは、列方向に沿って形成されたクロック信号供給線Ｌ６にそれぞれ電気的に接続され、クロック信号供給線Ｌ６から供給されるクロック信号ＣＬを入力する。

そして、最上側のシフトレジスタＳＲに入力されたＨレベルの選択信号Ｓｍは、クロック信号ＣＬに応答して上側のシフトレジスタＳＲから下側のシフトレジスタＳＲにシフトされる。従って、選択信号Ｓｍがシフトして入力されたシフトレジスタＳＲは、そのＨレベルの選択信号Ｓｍを次のクロック信号ＣＬの発生までゲートトランジスタＱ４を介して対応する走査線Ｌｙに出力する。従って、クロック信号ＣＬに同期してシフトする選択信号Ｓｍによって、上側の走査線Ｌｙから順番に下側の走査線Ｌｙへと走査線Ｌｙが選択される。

左側走査線制御用検査回路部９ａの供給線Ｌ５の端部は、透明基板２の四隅の中の左上隅部まで延出形成されている。そして、選択信号供給線Ｌ５は透明基板２の左上隅部（コーナー部）に形成した選択信号外部端子１５に電気的に接続されている。クロック信号供給線Ｌ６は透明基板２の四隅の中の左下隅部（コーナー部）に形成したクロック信号外部端子１６に電気的に接続されている。

右側走査線制御用検査回路部９ｂの供給線Ｌ５の端部は、透明基板２の四隅の中の右上隅部まで延出形成されている。そして、選択信号供給線Ｌ５は透明基板２の右上隅部（コーナー部）に形成した選択信号外部端子１５に電気的に接続されている。クロック信号供給線Ｌ６は透明基板２の四隅の中の右下隅部（コーナー部）に形成したクロック信号外部端子１６に電気的に接続されている。

左側及び右側走査線制御用検査回路部９ａ，９ｂの選択信号外部端子１５及びクロック信号外部端子１６は、銅箔等で形成される端子である。また、選択信号外部端子１５及びクロック信号外部端子１６はそれぞれ隅部に設けられ、数も少ないため、前記データ線外部端子５、前記走査線外部端子６等より大きなサイズで形成されている。

これら外部端子１５，１６は、検査用外部端子であって、出荷前に行われる検査の際に、検査装置から選択信号Ｓｍ、クロック信号ＣＬがそれぞれ供給される。そして、各ゲートトランジスタＱ４がオンし、選択信号外部端子１５から選択信号Ｓｍが供給された状態で、クロック信号外部端子１６にクロック信号ＣＬが供給され、各走査線Ｌｙに対して順番に選択信号Ｓｍを供給するようになっている。

図１において、データ線制御用検査回路部８ａ，８ｂ及び走査線制御用検査回路部９ａ，９ｂを囲む領域の外側であって検査用の前記各外部端子５，６，１０〜１３，１５，１６，１７〜１９，２０の内側の透明基板２の素子形成面２ａには、封止部材としての封止基板２１の接着領域Ｚ１が設けられている。封止基板２１は、ステンレス製であって、その透明基板２側の面には収容凹部２２が凹設され、その四角環状に形成された外周縁２３が接着面となって接着領域Ｚ１で接着剤を介して透明基板２に対して貼り付けられている。このとき、図２に示すように、接着領域Ｚ１と表示領域３の間に、走査線制御用検査回路部９ａ，９ｂ（データ線制御用検査回路部８ａ，８ｂも同様）が形成される。従って、透明基板２は、外部端子５，６，１０〜１３，１５，１６，１７〜１９，２０を除いて、各検査回路部８ａ，８ｂ，９ａ，９ｂ及び表示領域３に形成された各画素回路４Ｒ，４Ｇ，４Ｂが封止基板２１の収容凹部２２に内包され封止される。その結果、各画素回路４Ｒ，４Ｇ，４Ｂ、各検査回路部８ａ，８ｂ，９ａ，９ｂは、封止基板２１によって湿度や酸素等から保護される。

前記検査用の各外部端子１０〜１３，１５〜１９，２０は、封止基板２１（封止基板２１によって封止される封止領域）より外側の透明基板２の四隅（コーナー部）に振り分けて形成されている。因みに、図１に示すように、左上隅部には、選択信号外部端子１５及び各検査用電源線外部端子１７，１８，１９が配置され、左下隅には、検査モード信号外部端子１０、クロック信号外部端子１６及び各検査データ外部端子１１〜１３がそれぞれ配置されている。また、右下隅部には、クロック信号外部端子１６及び各検査用電源線外部端子１７，１８，１９が配置され、右上隅には、検査モード信号外部端子１０、選択信号外部端子１５及び各検査データ外部端子１１〜１３がそれぞれ配置されている。また、左上隅部及び右下隅部は、検査装置の接地用プローブと接続される検査用外部端子としての接地外部端子２０がそれぞれ形成されて、この接地外部端子２０は各画素回路４Ｒ，４Ｇ，４Ｂの有機ＥＬ素子７の陰極と電気的に接続されている。そして、本実施形態では、各隅とも５個の検査用の外部端子をそれぞれコーナーに沿って直角に配列形成し、前記封止基板２１を透明基板２に接着する際のアライメントマークとしている。

次に、上記のように構成された有機ＥＬディスプレイ１の検査方法について説明する。有機ＥＬディスプレイ１は出荷前に、検査装置を使って輝点検査、暗点検査を行うようになっている。

まず、透明基板２の各隅部に形成した各外部端子１０〜１３，１５〜２０は、それぞれ対応する検査装置のプローブに接続する。即ち、検査モード信号外部端子１０は、検査モード信号ＭＤを供給するプローブに接続する。赤用検査データ外部端子１１は赤用検査データ信号Ｄｍｒを供給するプローブに接続する。緑用検査データ外部端子１２は緑用検査データ信号Ｄｍｇを供給するプローブに接続する。青用検査データ外部端子１３は青用検査データ信号Ｄｍｂを供給するプローブに接続する。また、選択信号外部端子１５は選択信号Ｓｍを供給するプローブに接続する。クロック信号外部端子１６はクロック信号ＣＬを供給するプローブに接続する。さらに、赤用、緑用、青用の各検査用電源線外部端子１７，１８，１９は、それぞれ駆動電圧Ｖｒ，Ｖｇ，Ｖｂを供給するプローブに接続する。接地外部端子２０は、接地（グランド）プローブに接続する。

そして、検査装置は、各駆動電圧Ｖｒ，Ｖｇ，Ｖｂをそれぞれ赤用、緑用、青用の各検査用電源線外部端子１７，１８，１９に供給している状態で、検査モード信号外部端子１０にＨレベルの検査モード信号ＭＤを出力する。すると、上側及び下側データ線制御用検査回路部８ａ，８ｂのゲートトランジスタＱ３及び左側及び右側走査線制御用検査回路部９ａ，９ｂのゲートトランジスタＱ４が一斉にオンする。この状態で、選択信号外部端子１５にＨレベルの選択信号Ｓｍを出力するとともに、赤、緑、青用検査データ外部端子１１，１２，１３に赤、緑、青用検査データ信号Ｄｍｒ，Ｄｍｇ，Ｄｍｂを出力する。

その結果、最上側の走査線Ｌｙが選択され、その選択された走査線Ｌｙ上の各画素回路４Ｒ，４Ｇ，４Ｂは、それぞれ赤、緑、青用検査データ信号Ｄｍｒ，Ｄｍｇ，Ｄｍｂがデータ線Ｌｒ，Ｌｇ，Ｌｂを介して供給され保持され、赤、緑、青用検査データ信号Ｄｍｒ，Ｄｍｇ，Ｄｍｂに基づいて有機ＥＬ素子７は発光する。

そして、以後、クロック信号外部端子１６にクロック信号ＣＬを供給する毎に、前記選択信号ＳｍをシフトレジスタＳＲにシフトさせて、各走査線Ｌｙ上の各画素回路４Ｒ，４Ｇ，４Ｂの有機ＥＬ素子７を同様に発光させる。そして、最下側の走査線Ｌｙを選択しその走査線Ｌｙ上の各画素回路４Ｒ，４Ｇ，４Ｂの有機ＥＬ素子７させると、表示領域３の全ての画素回路４Ｒ，４Ｇ，４Ｂが赤、緑、青用検査データ信号Ｄｍｒ，Ｄｍｇ，Ｄｍｂに基づく輝度で発光していることになる。

そして、この表示領域３の表示状態を見て欠陥のある画素４を検査する。例えば、暗点検査をする場合には、検査装置は各有機ＥＬが最も明るい輝度で発光する赤、緑、青用検査データ信号Ｄｍｒ，Ｄｍｇ，Ｄｍｂを各画素回路４Ｒ，４Ｇ，４Ｂに供給して、各画素４を最も明るい輝度で発光させるようにする。この状態で、表示領域３内に発光してない欠陥のある画素４を検査する。

輝点検査をする場合には、検査装置は、各有機ＥＬを発光させない赤、緑、青用検査データ信号Ｄｍｒ，Ｄｍｇ，Ｄｍｂを各画素回路４Ｒ，４Ｇ，４Ｂにそれぞれ供給して表示領域３中の各画素４を発光させないようにする。この状態で、表示領域３内において発光している欠陥のある画素４を検査する。

上記したように、本実施形態によれば、以下の効果を有する。

（１）本実施形態によれば、透明基板２の四隅に形成した検査用の各外部端子１０〜１３，１５〜２０に、検査装置のプローブを当てるだけで、暗点検査、輝点検査等の欠陥画素の検査を行うことができる。しかも、封止基板２１（封止基板２１によって封止される封止領域）より各外部端子が外側のコーナー部に形成されているため、封止基板２１を貼り合せた後でも検査が可能となる。

（２）本実施形態によれば、検査用の各外部端子１０〜１３，１５〜２０を、透明基板２の四隅に形成した。つまり、外部端子１０〜１３，１５〜２０は、各データ線Ｌｒ，Ｌｇ，Ｌｂ及び各走査線Ｌｙの延長線上の透明基板２の一辺に形成された各データ線Ｌｒ，Ｌｇ，Ｌｂ及び各走査線Ｌｙの外部端子５，６から外れたスペース的に余裕がある透明基板２の隅部に形成される。従って、透明基板２のサイズ（額縁部分）を大きくすることなく、検査用の各外部端子１０〜１３，１５〜２０のサイズを、外部端子５，６のサイズより大きくすることができる。そして、検査用の各外部端子１０〜１３，１５〜２０のサイズを大きくできることによって、各外部端子１０〜１３，１５〜２０に対して容易にかつ短時間に検査装置のプローブを精度よく接続することができる。

（３）本実施形態によれば、検査用の外部端子１０〜１３，１５〜２０を、封止基板２１の外側に形成し同封止基板２１を透明基板２に貼りあわせる際のアライメントマークとした。従って、封止基板２１を透明基板２に貼り合わせるためだけのアライメントマークを形成する領域を確保する必要がなくなるとともに、製造工程がその分省略できる。しかも、検査用の外部端子１０〜１３，１５〜２０をそれぞれ四隅（コーナー部）に沿って直角に配列形成したので、精度よく封止基板２１を透明基板２に貼り合せることができる。

さらに、検査用の外部端子１０〜１３，１５〜２０は、有機ＥＬ素子７Ｒ，７Ｇ，７Ｂの機能層３４を形成する前に既に形成することができるので、インクジェット方式で有機ＥＬ素子７Ｒ，７Ｇ，７Ｂの機能層３４を形成する際のアライメントマークとしても利用できる。要は、検査用の外部端子１０〜１３，１５〜２０が形成された後に行われる各種の製造工程のアライメントマークとして利用することができる。

（４）本実施形態によれば、検査回路、即ち上側及び下側データ線制御用検査回路部８ａ，８ｂ、及び、左側及び右側走査線制御用検査回路部９ａ，９ｂを、封止基板２１の収容凹部２２に内包される位置に形成した。従って、各検査回路部８ａ，８ｂ，９ａ，９ｂは、外部の湿気、酸素等から完全に保護される。また、各検査回路部８ａ，８ｂ，９ａ，９ｂは、直接、封止基板２１の接着面と対峙しない接着領域Ｚ１の内側（表示領域３と接着領域Ｚ１の間）に形成されているため、封止基板２１に加えられた力、例えば、基板２に封止基板２１を接着する際、封止基板２１を透明基板２に当接する力が接着面を介して直接加わらない。従って、各検査回路部８ａ，８ｂ，９ａ，９ｂは、何らかの原因で封止基板２１に加えられた力によって損傷する虞を小さくすることができる。

（５）本実施形態によれば、封止基板２１をステンレスで形成した。従って、封止基板２１によって外部の電磁的ノイズが封止部材で完全に遮断されることから、各検査回路部８ａ，８ｂ，９ａ，９ｂは電磁的ノイズによって誤動作されることがない。

（６）本実施形態によれば、上側及び下側データ線制御用検査回路部８ａ，８ｂは、各データ線Ｌｒ，Ｌｇ，Ｌｂに対して設けたゲートトランジスタＱ３だけで構成したので、回路規模も小さくなりその分だけ表示領域３を大きくすることができる。また、回路規模が小さくなることから、上側及び下側データ線制御用検査回路部８ａ，８ｂを、封止基板２１の収容凹部２２に内包させることが容易となる。

（７）本実施形態によれば、左側及び右側走査線制御用検査回路部９ａ，９ｂは、走査線Ｌｙに対して設けたゲートトランジスタＱ４とシフトレジスタＳＲだけで構成したので、回路規模も小さくなりその分だけ表示領域３を大きくすることができる。また、回路規模が小さくなることから、左側及び右側走査線制御用検査回路部９ａ，９ｂを、封止基板２１の収容凹部２２に内包させることが容易となる。

尚、発明の実施形態は、上記実施形態に限定されるものではなく、以下のように実施してもよい。

○上記実施形態では、各有機ＥＬ素子７Ｒ，７Ｇ，７Ｂを発光させて行う検査回路であったが、これに限定されるものではなく、駆動トランジスタＱ１、配線等、その他の検査対象の検査回路に応用してもよい。

○上記実施形態では、検査用の外部端子１０〜１３，１５〜２０は、全て検査装置からの信号を入力するための入力端子であったが、検査装置に信号を出力する出力端子であってもよい。

○上記実施形態では、上側及び下側データ線制御用検査回路部８ａ，８ｂは、一つの走査線Ｌｙが選択されたとき、全てのデータ線Ｌｒ，Ｌｇ，Ｌｂに対して一斉に赤用、緑用、青用の各検査データ信号Ｄｍｒ，Ｄｍｇ，Ｄｍｂがそれぞれ出力するように構成した。これを、図６に示す上側及び下側データ線制御用検査回路部８ａ，８ｂに変更して実施してもよい。

図６において、上側及び下側データ線制御用検査回路部８ａ，８ｂは、各データ線Ｌｒ，Ｌｇ，Ｌｂに対応してシフトレジスタＳＲ１が設けられている。各ゲートトランジスタＱ３のゲートは、それぞれ対応するシフトレジスタＳＲ１に接続されている。

各シフトレジスタＳＲ１は、直列に接続され、最左側のデータ線Ｌｒに対応するシフトレジスタＳＲが選択信号供給線Ｌ４１に接続されている。そして、最左側のシフトレジスタＳＲ１には、選択信号供給線Ｌ４１から供給される検査のためのＨレベルの選択信号Ｓｍ１が入力される。各シフトレジスタＳＲ１は、行方向に沿って形成されたクロック信号供給線Ｌ４２にそれぞれ電気的に接続され、クロック信号供給線Ｌ４２から供給されるクロック信号ＣＬ１を入力する。尚、選択信号供給線Ｌ４１及びクロック信号供給線Ｌ４２は、透明基板２の隅部に形成した検査用の外部端子４１，４２に電気的に接続されている。

そして、最左側のシフトレジスタＳＲ１に入力されたＨレベルの選択信号Ｓｍ１は、クロック信号ＣＬ１に応答して左側のシフトレジスタＳＲから右側のシフトレジスタＳＲ１にシフトされる。従って、選択信号Ｓｍ１がシフトして入力されたシフトレジスタＳＲ１は、そのＨレベルの選択信号Ｓｍ１を次のクロック信号ＣＬ１の発生まで対応するゲートトランジスタＱ３のみオン状態にする。従って、クロック信号ＣＬ１を適宜制御することによって、データ線Ｌｒ，Ｌｇ，Ｌｂの中の一つを選択しその選択されたデータ線だけに検査データ信号を供給し、検査を行うことができる。

○上記実施形態では、封止部材としての封止基板２１をステンレス（金属）で形成したがガラス基板に収容凹部を形成する等、封止部材本来の機能を果たすものであるならば材料はどんな材料であってもよい。

○上記実施形態では、検査モード信号外部端子１０、並びに、検査モード信号供給線Ｌ０は、上側及び下側データ線制御用検査回路部８ａ，８ｂ、左側及び右側走査線制御用検査回路部９ａ，９ｂ共通に設けたが、独立に設けてもよい。

○上記実施形態では、左側及び右側走査線制御用検査回路部９ａ，９ｂにおいて、ゲートトランジスタＱ４を設けたが、これを省略して実施してもよい。

○上記実施形態では、上側及び下側データ線制御用検査回路部８ａ，８ｂの２つの検査回路を設けたが、いずれか一方だけを設けたものに応用してもよい。

○上記実施形態では、左側及び右側走査線制御用検査回路部９ａ，９ｂの２つの検査回路を設けたがいずれか一方だけを設けたものに応用してもよい。

○上記実施形態では、上側及び下側データ線制御用検査回路部８ａ，８ｂは、それぞれ両側から共通のデータ線Ｌｒ，Ｌｇ，Ｌｂに検査データ信号Ｄｍｒ，Ｄｍｇ，Ｄｍｂを供給するようにした。これを、例えば、上側データ線制御用検査回路部８ａは奇数番目のデータ線にデータ信号を、下側データ線制御用検査回路部８ｂは偶数番目のデータ線にデータ信号をそれぞれ出力するように実施してもよい。

○上記実施形態では、左側及び右側走査線制御用検査回路部９ａ，９ｂは、それぞれ両側から共通の走査線Ｌｙを選択するようにした。これを、例えば、左側走査線制御用検査回路部９ａは奇数番目の走査線Ｌｙを、右側走査線制御用検査回路部９ｂは偶数番目の走査線Ｌｙをそれぞれ選択するように実施してもよい。上記実施形態では、データ線制御用検査回路部８ａ，８ｂと走査線制御用検査回路部９ａ，９ｂを設けたが、例えば、データ線制御用検査回路部８ａ，８ｂのみ、反対に走査線制御用検査回路部９ａ，９ｂのみ設けたものに応用してもよい。

○上記実施形態では、検査用外部端子は、全ての四隅のコーナー部に具体化したが、いずれかのコーナー部であってもよい。

○上記実施形態では、各有機ＥＬ素子７Ｒ，７Ｇ，７Ｂを発光させて行う検査回路であったが、これに限定されるものではなく、駆動トランジスタＱ１、配線等、その他の検査対象の検査回路に応用してもよい。

○上記実施形態では、検査用の外部端子１０〜１３，１５〜２０は全て検査装置から信号を入力するための入力端子であったが、検査装置に信号を出力する出力端子であってもよい。

○上記実施形態では、電気光学装置を有機ＥＬディスプレイ１のボトムエミッション型に具体化したが、トップエミッション型であってもよい。

○、接着領域Ｚ１と陰極３５（電気光学装置の共通電極）を形成した領域の間に、走査線制御用検査回路部９ａ，９ｂ（データ線制御用検査回路部８ａ，８ｂも同様）が形成されてもよい。このようにすることにより、各検査回路部８ａ，８ｂ，９ａ，９ｂと電気光学素子としての有機エレクトロルミネッセンス素子７とは、外部の湿気、酸素等から完全に保護される。また、走査線制御用検査回路部９ａ，９ｂ（データ線制御用検査回路部８ａ，８ｂも同様）を覆うように、陰極（電気光学素子の共通電極）に形成してもよい。このようにすることにより、外部の電磁的ノイズが封止部材で完全に遮断されることから、各検査回路部８ａ，８ｂ，９ａ，９ｂは電磁的ノイズによって誤動作されることがない。

○また、図２では、保護膜３６は陰極３５（電気光学素子の共通電極）上を覆うように形成したが、各検査回路部８ａ，８ｂ、９ａ，９ｂを覆うように保護膜３６を形成してもよい。従って、各検査回路部８ａ，８ｂ、９ａ，９ｂと電気光学素子としての有機エレクトロルミネッセンス素子７と陰極３５とは、外部の湿気、酸素等から完全に保護されるとともに、各検査回路部８ａ，８ｂ、９ａ，９ｂは何らかの原因で封止基板２１に加えられた力によって損傷する虞を小さくすることができる。また、各検査回路部８ａ，８ｂ、９ａ，９ｂを覆うように保護膜を形成するとともに、接着領域Ｚ１と保護膜３６とが接するように、保護膜を形成することが好ましい。従って、各検査回路部８ａ，８ｂ、９ａ，９ｂと電気光学素子としての有機エレクトロルミネッセンス素子７と陰極３５とは、外部の湿気、酸素等から完全に保護される。

○上記実施形態では、電気光学装置を有機ＥＬディスプレイ１に具体化したが、これに限定されるものではなく、例えば液晶ディスプレイ等であってもよく、或いは、平面状の電子放出素子を備え、同素子から放出された電子による蛍光物質の発光を利用した電界効果型表示装置（ＦＥＤやＳＥＤ等）であってもよい。同様に、電気光学素子としては有機エレクトロルミネッセンス素子、液晶、電子放出素子であってもよい。

１…電気光学装置としての有機ＥＬディスプレイ、２…基板としての透明基板、３…表示領域、４…画素、４Ｒ…赤用画素回路、４Ｇ…緑用画素回路、４Ｂ…青用画素回路、５…データ線外部端子、６…走査線外部端子、７…電気光学素子としての有機エレクトロルミネッセンス素子、８ａ…上側データ線制御用検査回路部、８ｂ…下側データ線制御用検査回路部、９ａ…左側走査線制御用検査回路部、９ｂ…右側走査線制御用検査回路部、１０…検査モード信号外部端子、１１…赤用検査データ外部端子、１２…緑用検査データ外部端子、１３…青用検査データ外部端子、１５…選択信号外部端子、１６…クロック信号外部端子、１７…赤用検査電源線外部端子、１８…緑用検査電源線外部端子、１９…青用検査電源線外部端子、２０…接地用外部端子、２１…封止基板、３３Ｒ，３３Ｇ，３３Ｂ…発光層、Ｌ０…検査モード信号供給線、Ｌ１…赤用検査データ信号供給線、Ｌ２…緑用検査データ信号供給線、Ｌ３…青用検査データ信号供給線、Ｌ４…検査モード信号供給線、Ｌ５…選択信号供給線、Ｌ６…クロック信号供給線、Ｌｒ，Ｌｇ，Ｌｂ…データ線、Ｌｙ…走査線、Ｓｍ，Ｓｙ…選択信号、ＳＲ…シフトレジスタ、Ｚ１…接着領域、Ｄｒ，Ｄｇ，Ｄｂ…データ信号、Ｄｍｒ…赤用検査データ信号、Ｄｍｇ…緑用検査データ信号、Ｄｍｂ…青用検査データ信号、ＭＤ…検査モード信号、Ｑ３，Ｑ４…ゲートトランジスタ。

Claims (9)

1. 複数の画素回路が形成された基板と、前記複数の画素回路を封止する封止部材と、が接着されており、前記複数の画素回路を含む表示領域を有し、前記複数の画素回路の夫々が走査線、及びデータ線に接続されてなる電気光学装置において、
   前記複数の画素回路の夫々は、陽極、発光層を含む機能層および陰極、を含み、
   前記走査線及び前記データ線のうちの少なくとも一方に接続された検査回路、及び前記検査回路に接続された検査用外部端子が形成されており、
   前記検査回路は、前記表示領域と、前記基板と前記封止部材とが接着される接着領域と、の間に配置されており、
   前記検査用外部端子は、前記封止部材と前記基板とが接着される接着領域の外側に配置されてなることを特徴とする電気光学装置。
2. 請求項１に記載の電気光学装置において、
   前記走査線に接続された選択信号入力端子と、前記データ線に接続されたデータ信号入力端子と、を有し、
   前記選択信号入力端子は前記基板の第１辺に設けられ、
   前記データ信号入力端子は前記基板の前記第１辺とは異なる第２辺に設けられ、
   前記検査用外部端子は、前記基板の前記第１辺と前記第２辺が交差するコーナー部に形成されてなることを特徴とする電気光学装置。
3. 請求項１又は２に記載の電気光学装置において、
   前記検査用外部端子は、アライメントマークと兼用されてなることを特徴とする電気光学装置。
4. 請求項１乃至３のいずれかに記載の電気光学装置において、
   前記検査回路はトランジスタを含み、
   前記トランジスタは、検査モード信号を供給する検査モード信号供給線、及び、検査データ信号を供給する検査データ信号供給線、に接続されてなることを特徴とする電気光学装置。
5. 請求項４に記載の電気光学装置において、
   前記検査モード信号供給線に接続される検査用外部端子、及び前記検査データ信号供給線に接続される検査用外部端子、を含んでなることを特徴とする電気光学装置。
6. 請求項４又は５に記載の電気光学装置において、
   前記複数の画素回路は、赤色の光を出射する電気光学素子を有する画素回路、緑色の光を出射する電気光学素子を有する画素回路、及び青色の光を出射する電気光学素子を有する画素回路を含み、
   前記検査データ信号供給線は、赤色の光を出射する前記電気光学素子に接続される赤用検査データ信号供給線と、緑色の光を出射する前記電気光学素子に接続される緑用検査データ信号供給線と、青色の光を出射する前記電気光学素子に接続される青用検査データ信号供給線と、を含んでなることを特徴とする電気光学装置。
7. 請求項１乃至３のいずれに記載の電気光学装置において、
   前記検査回路はトランジスタを含み、
   前記トランジスタは、
   検査用の選択信号を供給する選択信号供給線、及び検査モード信号を供給する検査モード信号供給線に接続されてなることを特徴とする電気光学装置。
8. 請求項７に記載の電気光学装置において、
   前記選択信号供給線に接続されたシフトレジスタ、及び前記シフトレジスタに接続されており、検査用にクロック信号を供給するクロック信号供給線、を有することを特徴とする電気光学装置。
9. 請求項８に記載の電気光学装置において、
   前記選択信号供給線に接続された検査用外部端子、前記クロック信号供給線に接続された検査用外部端子、及び前記検査モード信号供給線に接続された検査用外部端子、を含んでなることを特徴とする電気光学装置。

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