JP4714716B2 - Control method of light source device - Google Patents

Control method of light source device Download PDF

Info

Publication number
JP4714716B2
JP4714716B2 JP2007216297A JP2007216297A JP4714716B2 JP 4714716 B2 JP4714716 B2 JP 4714716B2 JP 2007216297 A JP2007216297 A JP 2007216297A JP 2007216297 A JP2007216297 A JP 2007216297A JP 4714716 B2 JP4714716 B2 JP 4714716B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wavelength
light source
dbr
semiconductor laser
laser light
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2007216297A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2007300149A (en
Inventor
研一 笠澄
久司 千賀
成 古宮
広通 石橋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Corp
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Panasonic Corp
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Panasonic Corp, Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Panasonic Corp
Priority to JP2007216297A priority Critical patent/JP4714716B2/en
Publication of JP2007300149A publication Critical patent/JP2007300149A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4714716B2 publication Critical patent/JP4714716B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Description

本発明は、光源装置の制御方法に関する。さらに詳細には、本発明は、半導体レーザ光源と第2高調波発生デバイスとを備え、安定した高調波光出力を得ることのできる光源装置の制御方法に関する。   The present invention relates to a method for controlling a light source device. More specifically, the present invention relates to a method for controlling a light source device that includes a semiconductor laser light source and a second harmonic generation device and can obtain a stable harmonic light output.

光ディスクの高密度化、及びディスプレイの高繊細化を実現するためには、小型の短波長光源が必要とされる。小型の短波長光源として、半導体レーザと擬似位相整合(以下『QPM』と記す)方式の光導波路型第2高調波発生(以下『SHG』と記す)デバイス(光導波路型QPM−SHGデバイス)を用いたコヒーレント光源が注目されている(例えば、非特許文献1参照)。   In order to realize a high density optical disc and a high-definition display, a small short wavelength light source is required. As a small short wavelength light source, a semiconductor laser and a quasi phase matching (hereinafter referred to as “QPM”) optical waveguide type second harmonic generation (hereinafter referred to as “SHG”) device (optical waveguide type QPM-SHG device) The coherent light source used has attracted attention (see, for example, Non-Patent Document 1).

図21に、光導波路型QPM−SHGデバイスを用いたSHG青色光源の概略構成を示す。図21に示すように、半導体レーザとして、分布ブラッグ反射器(以下『DBR』と記す)領域を有する波長可変DBR半導体レーザ54が用いられている。波長可変DBR半導体レーザ54は、0.85μm帯の100mW級AlGaAs系波長可変DBR半導体レーザであり、活性層領域56と位相調整領域57とDBR領域58とにより構成されている。そして、位相調整領域57とDBR領域58への注入電流を或る一定の比率で制御することにより、連続的に発振波長を変化させることができる。   FIG. 21 shows a schematic configuration of an SHG blue light source using an optical waveguide type QPM-SHG device. As shown in FIG. 21, a tunable DBR semiconductor laser 54 having a distributed Bragg reflector (hereinafter referred to as “DBR”) region is used as the semiconductor laser. The wavelength tunable DBR semiconductor laser 54 is a 100 mW class AlGaAs wavelength tunable DBR semiconductor laser in the 0.85 μm band, and includes an active layer region 56, a phase adjustment region 57, and a DBR region 58. The oscillation wavelength can be continuously changed by controlling the injection current into the phase adjustment region 57 and the DBR region 58 at a certain ratio.

第2高調波発生デバイスである光導波路型QPM−SHGデバイス55は、X板MgOドープLiNbO3 基板59上に形成された、光導波路60と周期的な分極反転領域61とにより構成されている。光導波路60は、ピロリン酸中でプロトン交換することによって形成される。また、周期的な分極反転領域61は、櫛形の電極をX板MgOドープLiNbO3 基板59上に形成し、電界を印加することによって作製される。 The optical waveguide type QPM-SHG device 55, which is a second harmonic generation device, includes an optical waveguide 60 and a periodic domain-inverted region 61 formed on an X plate MgO-doped LiNbO 3 substrate 59. The optical waveguide 60 is formed by proton exchange in pyrophosphoric acid. The periodic domain-inverted region 61 is produced by forming a comb-shaped electrode on the X-plate MgO-doped LiNbO 3 substrate 59 and applying an electric field.

図21に示すSHG青色光源においては、100mWのレーザ出力に対して75mWのレーザ光が光導波路60に結合する。そして、波長可変DBR半導体レーザ54の位相調整領域57及びDBR領域58への注入電流量を制御することにより、発振波長が光導波路型QPM−SHGデバイス55の位相整合波長許容幅内に固定される。このSHG青色光源を用いることにより、波長425nmの青色光が25mW程度得られているが、得られた青色光は、横モードがTE00モードで回折限界の集光特性を有し、ノイズ特性も相対雑音強度が−140dB/Hz以下と小さく、光ディスクの再生に適した特性を有する。
山本他、Optics Letters Vol.16, No.15, 1156 (1991)
In the SHG blue light source shown in FIG. 21, 75 mW laser light is coupled to the optical waveguide 60 for 100 mW laser output. Then, by controlling the amount of current injected into the phase adjustment region 57 and the DBR region 58 of the wavelength tunable DBR semiconductor laser 54, the oscillation wavelength is fixed within the phase matching wavelength allowable width of the optical waveguide type QPM-SHG device 55. . By using this SHG blue light source, about 25 mW of blue light having a wavelength of 425 nm is obtained, but the obtained blue light has a light condensing characteristic with a diffraction limit when the transverse mode is TE 00 mode, and also has a noise characteristic. The relative noise intensity is as small as −140 dB / Hz or less, and it has characteristics suitable for reproducing an optical disc.
Yamamoto et al., Optics Letters Vol.16, No.15, 1156 (1991)

第2高調波発生デバイスである光導波路型QPM−SHGデバイスは、基本波光の波長に対する青色光出力特性を評価すると、その青色光出力が半分になる波長幅(位相整合に対する波長許容幅)が0.1nm程度と小さいことが分かる。これは、青色光出力を安定に得るためには大きな問題となる。この問題を解決するために、従来においては、基本波光として波長可変DBR半導体レーザが用いられ、基本波光の波長(発振波長)を光導波路型QPM−SHGデバイスの位相整合波長許容幅内に固定し、安定な青色光出力を実現している。   The optical waveguide type QPM-SHG device, which is the second harmonic generation device, evaluates the blue light output characteristics with respect to the wavelength of the fundamental wave light, and the wavelength width (wavelength tolerance for phase matching) at which the blue light output is halved is 0. It can be seen that it is as small as about 1 nm. This is a serious problem in order to stably obtain the blue light output. In order to solve this problem, a wavelength tunable DBR semiconductor laser is conventionally used as the fundamental light, and the wavelength (oscillation wavelength) of the fundamental light is fixed within the phase matching wavelength allowable range of the optical waveguide type QPM-SHG device. Realizes stable blue light output.

一般に、半導体レーザ光源の発振波長は周囲温度によって変化し、光導波路型QPM−SHGデバイスの最適波長も周囲温度によって変化する。このため、従来においては、半導体レーザ光源及び光導波路型QPM−SHGデバイスを、ペルチエ素子等を利用してその温度を一定に保つことにより、青色光の出力安定化を図っていた。   In general, the oscillation wavelength of the semiconductor laser light source varies with the ambient temperature, and the optimum wavelength of the optical waveguide type QPM-SHG device also varies with the ambient temperature. For this reason, conventionally, the output of blue light has been stabilized by keeping the temperature of the semiconductor laser light source and the optical waveguide type QPM-SHG device constant using a Peltier element or the like.

しかし、光ディスクやレーザプリンタ等の光情報処理機器への搭載を考えた場合、稼働状態において、平均的な出力パワーは時々刻々と変化する。このとき、半導体レーザ光源の発生する熱量が変化し、ペルチエ素子等を利用して周囲温度を一定に保っている場合であっても、半導体レーザ光源自体の温度が変化し、ひいては発振波長が変化するために、安定な青色光出力が得られないという問題がある。   However, when considering installation in an optical information processing device such as an optical disk or a laser printer, the average output power changes every moment in the operating state. At this time, even if the amount of heat generated by the semiconductor laser light source changes and the ambient temperature is kept constant using a Peltier element, the temperature of the semiconductor laser light source itself changes, and the oscillation wavelength changes accordingly. Therefore, there is a problem that a stable blue light output cannot be obtained.

また、装置の小型化のためにペルチエ素子等の温度制御装置を用いない場合には、周囲温度の変動はより大きくなり、光導波路型QPM−SHGデバイスの出力変動を引き起こすことになる。   In addition, when a temperature control device such as a Peltier element is not used to reduce the size of the device, the ambient temperature fluctuates more and causes the output fluctuation of the optical waveguide type QPM-SHG device.

本発明は、従来技術における前記課題を解決するためになされたものであり、半導体レーザ光源と第2高調波発生デバイスとを備え、安定した高調波光出力を得ることのできる光源装置の制御方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made to solve the above-described problems in the prior art, and includes a method for controlling a light source device that includes a semiconductor laser light source and a second harmonic generation device and can obtain a stable harmonic light output. The purpose is to provide.

前記目的を達成するため、本発明に係る光源装置の制御方法は、少なくとも活性層領域と位相調整領域と分布ブラッグ反射器(DBR)領域を有する半導体レーザ光源と、前記半導体レーザ光源の出射光から第2高調波を発生させる第2高調波発生デバイスと、前記第2高調波発生デバイスからの光出力を検出する手段とを備え、前記半導体レーザ光源の光出力を低出力状態と高出力状態の少なくとも2つの状態に切り替える光源装置の制御方法であって、まず、前記半導体レーザ光源が高出力状態で、前記半導体レーザ光源の出射光の波長を前記第2高調波発生デバイスの最適波長にするための較正を行い、その後、前記半導体レーザ光源が高出力状態での、前記第2高調波発生デバイスからの光出力を制御目標値にするための較正と、前記半導体レーザ光源が低出力状態での、前記第2高調波発生デバイスからの光出力を制御目標値にするための較正とを順次行うことを特徴とする。 To achieve the above object, a control method of a light source device according to the present invention includes a semiconductor laser light source having at least the active layer region and the phase control region and a distributed Bragg reflector (DBR) region, light emitted from the light semiconductor laser light source A second harmonic generation device for generating a second harmonic from the first harmonic generation device, and means for detecting an optical output from the second harmonic generation device, the optical output of the semiconductor laser light source being in a low output state and a high output state A method of controlling a light source device that switches between at least two states, wherein the semiconductor laser light source is in a high output state and the wavelength of the emitted light from the semiconductor laser light source is set to the optimum wavelength of the second harmonic generation device. performs calibration for, then, the semiconductor laser light source is in the high output state, a calibration for the light output to the control target value from the second harmonic generation device, before The semiconductor laser light source is in the low output state, and wherein the calibration and sequentially performing for the light output to the control target value from the second harmonic generation device.

また、前記本発明の光源装置の制御方法においては、前記半導体レーザ光源の出射光の波長を前記第2高調波発生デバイスの最適波長にするための較正は、前記位相調整領域と前記DBR領域に注入する電流量を調節して行われるのが好ましい。 Further, in the above control method of the light source apparatus of the present invention, the calibration of the wavelength of the emitted light to the optimum wavelength of the second harmonic generation device of the semiconductor laser light source, the said phase control region DBR region It is preferable to adjust the amount of current injected into the.

また、前記本発明の光源装置の制御方法においては、前記第2高調波発生デバイスからの光出力を制御目標値にするための較正は、前記活性層領域と前記位相調整領域に注入する電流量を調節して行われるのが好ましい。 Further, the in the control method of the light source apparatus of the present invention, the calibration for the light output to the control target value from the second harmonic generation device, the current injected into the said active layer region phase adjustment region It is preferable to adjust the amount.

本発明によれば、リトライ処理を行うことなく、レーザパワー較正処理を終えることができる。   According to the present invention, the laser power calibration process can be completed without performing a retry process.

以下、実施の形態を用いて本発明をさらに具体的に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described more specifically using embodiments.

図1は本発明の一実施の形態における光源装置を示す概略構成図である。   FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing a light source device according to an embodiment of the present invention.

図1に示すように、本実施の形態の光源装置においては、基本波として用いられる半導体レーザ光源として、分布ブラッグ反射器(以下『DBR』と記す)領域1と、注入電流によってレーザ内の光の位相を調整する位相調整領域2と、注入電流によってその出力パワーを制御する活性層領域3とを有する0.85μm帯の100mW級AlGaAs系波長可変DBR半導体レーザ光源4が用いられている。   As shown in FIG. 1, in the light source device of this embodiment, as a semiconductor laser light source used as a fundamental wave, a distributed Bragg reflector (hereinafter referred to as “DBR”) region 1 and light in the laser by injection current are used. A 0.85 μm band 100 mW class AlGaAs wavelength tunable DBR semiconductor laser light source 4 having a phase adjustment region 2 for adjusting the phase of the light source and an active layer region 3 for controlling the output power by an injection current is used.

また、第2高調波発生デバイスとしては、擬似位相整合(以下『QPM』と記す)方式の光導波路型第2高調波発生(以下『SHG』と記す)デバイス(光導波路型QPM−SHGデバイス)5が用いられている。すなわち、光導波路型QPM−SHGデバイス5は、ニオブ酸リチウム(LiNbO3 )を用いた光学結晶基板(0.5mm厚のX板MgOドープLiNbO3 基板)11の上面に形成された、光導波路12と、基本波と高調波の伝搬定数差を補償するための、光導波路12と直交する周期的な分極反転領域とにより構成されている。光導波路12は、ピロリン酸中でプロトン交換することによって形成される。また、周期的な分極反転領域は、櫛形の電極をX板MgOドープLiNbO3 基板11上に形成し、電界を印加することによって作製される。光導波路型QPM−SHGデバイス5は、大きな非線形光学定数を利用することができ、また、光導波路型であり、長い相互作用長とすることが可能であるため、高い変換効率を実現することができる。 As the second harmonic generation device, a quasi phase matching (hereinafter referred to as “QPM”) optical waveguide type second harmonic generation (hereinafter referred to as “SHG”) device (optical waveguide type QPM-SHG device). 5 is used. That is, the optical waveguide type QPM-SHG device 5 has an optical waveguide 12 formed on the upper surface of an optical crystal substrate (0.5 mm thick X plate MgO-doped LiNbO 3 substrate) 11 using lithium niobate (LiNbO 3 ). And a periodic domain-inverted region orthogonal to the optical waveguide 12 for compensating for the propagation constant difference between the fundamental wave and the harmonic. The optical waveguide 12 is formed by proton exchange in pyrophosphoric acid. The periodic domain-inverted region is formed by forming a comb-shaped electrode on the X-plate MgO-doped LiNbO 3 substrate 11 and applying an electric field. The optical waveguide type QPM-SHG device 5 can use a large nonlinear optical constant, and is an optical waveguide type, and can have a long interaction length, so that high conversion efficiency can be realized. it can.

半導体レーザ光源4と光導波路型QPM−SHGデバイス5は、Siサブマウント6上で一体化され、ペルチエ素子によって温度コントロールされている。基本波光である半導体レーザ光は、レンズを用いることなく、直接結合によって光導波路型QPM−SHGデバイス5の光導波路12に結合する。すなわち、半導体レーザ光源4から出射された基本波光は、光導波路型QPM−SHGデバイス5に入射され、光導波路型QPM−SHGデバイス5に入射した基本波光は、光導波路12の内部に閉じ込められて伝搬する。光導波路12内を伝搬する基本波光は、光学結晶(X板MgOドープLiNbO3 )が有する非線形性によって第2高調波に変換され、光導波路型QPM−SHGデバイス5の出射端面から基本波光の2分の1の波長を有する高調波光が出射される。 The semiconductor laser light source 4 and the optical waveguide type QPM-SHG device 5 are integrated on the Si submount 6, and the temperature is controlled by a Peltier element. The semiconductor laser light, which is fundamental wave light, is coupled to the optical waveguide 12 of the optical waveguide type QPM-SHG device 5 by direct coupling without using a lens. That is, the fundamental wave light emitted from the semiconductor laser light source 4 is incident on the optical waveguide type QPM-SHG device 5, and the fundamental wave light incident on the optical waveguide type QPM-SHG device 5 is confined inside the optical waveguide 12. Propagate. The fundamental light propagating in the optical waveguide 12 is converted into the second harmonic by the non-linearity of the optical crystal (X plate MgO-doped LiNbO 3 ). Harmonic light having a wavelength of 1 is emitted.

上記の構造を有する光導波路型QPM−SHGデバイス5は、光学結晶(X板MgOドープLiNbO3 )が有する波長分散特性により、入射される基本波光の波長に対して、図2に示すような波長特性を有する。図2は、入射した基本波光の波長に対して出射される高調波光の出力パワーを示している。高調波光は、基本波光の最適波長λ0をピークとして、基本波光の波長λに対して、下記(数1)に示すようなSINC関数によって表される出力特性を示す。
[数1]
y=Sinc{(λ−λ0)×π/a}
=sin{(λ−λ0)×π/a}/{(λ−λ0)×π/a}
ここで、高調波出力パワーが最大値の半分になる波長幅によって表される波長許容度は、約0.1nmの幅を有し、安定に青色出力を得るためには、基本波光の波長を正確かつ安定にλ0に制御する必要がある。
The optical waveguide type QPM-SHG device 5 having the above structure has a wavelength as shown in FIG. 2 with respect to the wavelength of the incident fundamental wave light due to the wavelength dispersion characteristic of the optical crystal (X plate MgO-doped LiNbO 3 ). Has characteristics. FIG. 2 shows the output power of the harmonic light emitted with respect to the wavelength of the incident fundamental wave light. The harmonic light has an output characteristic represented by a SINC function as shown in the following (Equation 1) with respect to the wavelength λ of the fundamental wave light with the optimum wavelength λ0 of the fundamental wave light as a peak.
[Equation 1]
y = Sinc {(λ−λ0) × π / a}
= Sin {(λ−λ0) × π / a} / {(λ−λ0) × π / a}
Here, the wavelength tolerance expressed by the wavelength width at which the harmonic output power becomes half of the maximum value has a width of about 0.1 nm, and in order to obtain a stable blue output, the wavelength of the fundamental wave light is changed. It is necessary to control to λ0 accurately and stably.

以下、図1に示す半導体レーザ光源4の発振波長を制御する方法について説明する。   Hereinafter, a method for controlling the oscillation wavelength of the semiconductor laser light source 4 shown in FIG. 1 will be described.

半導体レーザ光源においては、一般に、前後の反射面の光学的距離Lに対して下記(数2)を満たす波長λの光のみが励振される。
[数2]
2L=nλ(n:整数)
上記(数2)を満たす波長λの列は『縦モード』と呼ばれ、この場合の発振波長は離散的な値をとる。図1に示す半導体レーザ光源4においては、DBR領域1と半導体レーザ光源4の出射端面との間に位相調整領域2が設けられており、位相調整領域2に印加される電流によって半導体レーザ光源4の光学的距離Lを変化させて、縦モードの波長λを変化させることができる。このように位相調整領域2に印加される電流によって半導体レーザ光源4の発振波長を制御することができる。
In a semiconductor laser light source, in general, only light having a wavelength λ satisfying the following (Equation 2) is excited with respect to the optical distance L between the front and rear reflecting surfaces.
[Equation 2]
2L = nλ (n: integer)
A column of wavelengths λ that satisfies the above (Formula 2) is called a “longitudinal mode”, and the oscillation wavelength in this case takes discrete values. In the semiconductor laser light source 4 shown in FIG. 1, a phase adjustment region 2 is provided between the DBR region 1 and the emission end face of the semiconductor laser light source 4, and the semiconductor laser light source 4 is supplied by a current applied to the phase adjustment region 2. The wavelength λ of the longitudinal mode can be changed by changing the optical distance L. Thus, the oscillation wavelength of the semiconductor laser light source 4 can be controlled by the current applied to the phase adjustment region 2.

しかし、この波長制御方法では、以下に述べる理由により、波長制御範囲が制限される。すなわち、図1に示す半導体レーザ光源4のDBR領域1にはグレーティングが形成されており、その周期によって規定される波長の光のみが反射される。具体的には、DBR領域1の屈折率をndbr 、DBR領域1のグレーティング周期をΛとしたとき、DBR領域1で反射され得る光の波長の範囲は、2Λ/ndbr ±0.1nm程度であり、この範囲内の波長制御しか行うことができない。 However, in this wavelength control method, the wavelength control range is limited for the reasons described below. That is, a grating is formed in the DBR region 1 of the semiconductor laser light source 4 shown in FIG. 1, and only light having a wavelength defined by the period is reflected. Specifically, when the refractive index of the DBR region 1 is n dbr and the grating period of the DBR region 1 is Λ, the wavelength range of light that can be reflected by the DBR region 1 is about 2Λ / n dbr ± 0.1 nm. Therefore, only wavelength control within this range can be performed.

本実施の形態においては、上記の波長制御範囲を拡大するために以下の方法が採られる。すなわち、DBR領域1には電極が形成されており、この電極に印加される電流によって、DBR領域1の実効的なグレーティング周期が変化すると共に、DBR領域1での最適波長が変化する。位相調整領域2に印加される電流による縦モードの波長の変化に追従するように、DBR領域1の最適波長を変化させることにより、連続的に発振波長を制御することが可能となる。実際には、DBR領域1と位相調整領域2に、一定比率の電流を印加することになる。   In the present embodiment, the following method is adopted to expand the wavelength control range. That is, an electrode is formed in the DBR region 1, and an effective grating period of the DBR region 1 is changed and an optimum wavelength in the DBR region 1 is changed by a current applied to the electrode. The oscillation wavelength can be continuously controlled by changing the optimum wavelength of the DBR region 1 so as to follow the change of the wavelength of the longitudinal mode due to the current applied to the phase adjustment region 2. Actually, a constant ratio of current is applied to the DBR region 1 and the phase adjustment region 2.

図3は本発明の一実施の形態における光源装置の制御回路を示すブロック図である。図3において、300は半導体レーザ光源としての波長可変DBR半導体レーザ光源であり、この波長可変DBR半導体レーザ光源300は、発光部(活性層領域)301と位相可変部(位相調整領域)302と波長可変部(DBR領域)303とにより構成されている。また、304は第2高調波発生デバイスとしての導波路型QPM−SHGデバイスであり、この導波路型QPM−SHGデバイス304からの第2高調波出力は、フォトディテクタ305によって検出される。そして、この第2高調波出力の検出結果は、I/Vアンプ306によってモニタ電圧FSmon として光出力/波長制御手段340にフィードバックされる。 FIG. 3 is a block diagram showing a control circuit of the light source device in one embodiment of the present invention. In FIG. 3, reference numeral 300 denotes a wavelength tunable DBR semiconductor laser light source as a semiconductor laser light source. The wavelength tunable DBR semiconductor laser light source 300 includes a light emitting portion (active layer region) 301, a phase variable portion (phase adjustment region) 302, and a wavelength. The variable part (DBR area) 303 is configured. Reference numeral 304 denotes a waveguide type QPM-SHG device as a second harmonic generation device, and a second harmonic output from the waveguide type QPM-SHG device 304 is detected by a photodetector 305. The detection result of the second harmonic output is fed back to the optical output / wavelength control means 340 as the monitor voltage FS mon by the I / V amplifier 306.

波長可変DBR半導体レーザ光源300の発光部301は、発光部駆動電流源310によって駆動される。ここで、発光部駆動電流源310は、ピーク電流源311とバイアス電流源312とDC電流源313とにより構成されている。ピーク電流源311とバイアス電流源312とDC電流源313の電流値は、光出力/波長制御手段340により、それぞれIopPK、IopBS、IopDCで設定される。 The light emitting unit 301 of the wavelength tunable DBR semiconductor laser light source 300 is driven by a light emitting unit drive current source 310. Here, the light emitting unit driving current source 310 includes a peak current source 311, a bias current source 312, and a DC current source 313. The current values of the peak current source 311, the bias current source 312 and the DC current source 313 are set by the optical output / wavelength control means 340 at I op PK, I op BS, and I op DC, respectively.

波長可変DBR半導体レーザ光源300の位相可変部302は、位相可変部駆動電流源320によって駆動される。ここで、位相可変部駆動電流源320は、ピーク電流源321とバイアス電流源322とDC電流源323とにより構成されている。ピーク電流源321とバイアス電流源322とDC電流源323の電流値は、光出力/波長制御手段340により、それぞれIphPK、IphBS、IphDCで設定される。そして、記録波形生成手段350からの変調信号PKMD、BSMDによってピーク電流源321とバイアス電流源322をそれぞれスイッチングすることにより、波長可変DBR半導体レーザ光源300の光出力変調が高速に実現される。 The phase variable unit 302 of the wavelength tunable DBR semiconductor laser light source 300 is driven by a phase variable unit drive current source 320. Here, the phase variable portion drive current source 320 is configured by a peak current source 321, a bias current source 322, and a DC current source 323. The current values of the peak current source 321, the bias current source 322, and the DC current source 323 are set by the optical output / wavelength control means 340 as I ph PK, I ph BS, and I ph DC, respectively. Then, the peak current source 321 and the bias current source 322 are respectively switched by the modulation signals PKMD and BSMD from the recording waveform generating means 350, whereby the light output modulation of the wavelength tunable DBR semiconductor laser light source 300 is realized at high speed.

以下、位相可変部駆動電流源320の動作について説明する。記録動作時においては、高いレーザパワーで変調するために、当然、発光部301に注入される電流は増加するが、そのときの発熱によって発光部301の温度が上昇する。発光部301も導波路構造となっているため、発熱による屈折率変化が位相及び波長のずれを引き起こす。その結果、光導波路型QPM−SHGデバイス304の変換効率の低下やモードホッピングが発生する。これを防止するために、本実施の形態においては、発光部301に注入されるのとほぼ逆相の電流を位相可変部駆動電流源320によって位相可変部302に供給している。すなわち、まず、反転手段360によって記録波形生成手段350からの変調信号PKMD、BSMDを反転し、ピーク電流源321とバイアス電流源322を変調する。その結果、図4に示すように、発光部301に注入される電流が増加する一方、位相可変部(ヒータ)302に注入される電流が減少し、全体として、発熱量は、記録動作時・消去動作時・再生動作時にかかわらず、一定に保たれる。   Hereinafter, the operation of the phase variable unit driving current source 320 will be described. During the recording operation, the current injected into the light emitting unit 301 naturally increases because of modulation with high laser power, but the temperature of the light emitting unit 301 rises due to heat generation at that time. Since the light emitting unit 301 also has a waveguide structure, a change in refractive index due to heat generation causes a phase and wavelength shift. As a result, the conversion efficiency and mode hopping of the optical waveguide type QPM-SHG device 304 occur. In order to prevent this, in the present embodiment, a current substantially in reverse phase to that injected into the light emitting unit 301 is supplied to the phase variable unit 302 by the phase variable unit drive current source 320. That is, first, the inversion means 360 inverts the modulation signals PKMD and BSMD from the recording waveform generation means 350 to modulate the peak current source 321 and the bias current source 322. As a result, as shown in FIG. 4, while the current injected into the light emitting unit 301 increases, the current injected into the phase variable unit (heater) 302 decreases, and as a whole, the amount of generated heat is Regardless of the erase operation or playback operation, it is kept constant.

波長可変DBR半導体レーザ光源300の波長可変部303は、波長可変部駆動電流源330によって駆動され、波長可変部駆動電流源330の電流値を変化させることにより、波長可変DBR半導体レーザ光源300の最適な発振波長を変化させることができる。波長可変部駆動電流源330の電流値は、光出力/波長制御手段340によりIdbr で設定される。 The wavelength tunable unit 303 of the wavelength tunable DBR semiconductor laser light source 300 is driven by the wavelength tunable unit driving current source 330, and the current value of the wavelength tunable unit driving current source 330 is changed to optimize the wavelength tunable DBR semiconductor laser light source 300. The oscillation wavelength can be changed. The current value of the wavelength variable portion drive current source 330 is set by I dbr by the light output / wavelength control means 340.

図5は、図3の光出力/波長制御手段340を詳細に示すブロック図である。図5に示すように、光出力/波長制御手段340は、レジスタブロック520と、プリセット値記憶部510と、光出力/波長制御部530とにより構成されている。ここで、レジスタブロック520は、各々の電流源の電流値を設定するためのものである。   FIG. 5 is a block diagram showing in detail the light output / wavelength control means 340 of FIG. As shown in FIG. 5, the light output / wavelength control means 340 includes a register block 520, a preset value storage unit 510, and a light output / wavelength control unit 530. Here, the register block 520 is for setting the current value of each current source.

記録動作時においては、発光部駆動電流源310に対して、IopDC、IopBS、IopPKは所望のボトムパワー、バイアスパワー、ピークパワーを実現するように決定される。ここで、IopDCは、下記(数3)によって定義される。
[数3]
opDC=IopBM+ΔIop
上記(数3)中、右辺第1項目のIopBMは、ボトムパワーを実現するように決定される。尚、右辺第2項目のΔIopは、光出力/波長制御部530による光出力制御成分である。
During the recording operation, I op DC, I op BS, and I op PK are determined so as to realize desired bottom power, bias power, and peak power for the light emitting unit driving current source 310. Here, I op DC is defined by the following (Equation 3).
[Equation 3]
I op DC = I op BM + ΔI op
In the above (Equation 3), I op BM of the first item on the right side is determined so as to realize bottom power. Note that ΔI op of the second item on the right side is a light output control component by the light output / wavelength control unit 530.

また、位相可変部駆動電流源320に対して、IphPKは、下記(数4)によって定義され、発光部駆動電流源310のピーク電流源311の動作による波長変化を相殺するように決定される。
[数4]
phPK=β3 ×IopPK
また、位相可変部駆動電流源320に対して、IphBSは、下記(数5)によって定義され、発光部駆動電流源310のバイアス電流源312の動作による波長変化を相殺するように決定される。
[数5]
phBS=β2 ×IopBS
また、位相可変部駆動電流源320に対して、IphDCは下記(数6)によって定義される。
[数6]
phDC=IphMAIN−γ3 ×β3 ×IopPK
−γ2 ×β2 ×IopBS−β1 ×ΔIop+ΔIph
上記(数6)中、右辺第1項目のIphMAINは、波長可変DBR半導体レーザ光源300の波長が光導波路型QPM−SHGデバイス304の最大効率波長となるように決定される。尚、右辺第2項目のγ3 ×β3 ×IopPKは、IopPKを増減させたときに波長可変DBR半導体レーザ光源300の波長が光導波路型QPM−SHGデバイス304の最大効率波長を追従するようにIphDCを変化させる成分である。また、右辺第3項目のγ2 ×β2 ×IopBSは、IopBSを増減させたときに波長可変DBR半導体レーザ光源300の波長が光導波路型QPM−SHGデバイス304の最大効率波長を追従するようにIphDCを変化させる成分である。また、右辺第4項目のβ1 ×ΔIopは、光出力/波長制御部530による光出力制御成分ΔIopを増減させたときに波長可変DBR半導体レーザ光源300の波長が光導波路型QPM−SHGデバイス304の最大効率波長を追従するようにIopDCを変化させる成分である。また、右辺第5項目のΔIphは、波長制御時にIphDCを変化させる成分である。
Further, for the phase variable unit driving current source 320, I ph PK is defined by the following ( Equation 4) and is determined so as to cancel the wavelength change due to the operation of the peak current source 311 of the light emitting unit driving current source 310. The
[Equation 4]
I ph PK = β 3 × I op PK
For the phase variable unit driving current source 320, I ph BS is defined by the following ( Equation 5), and is determined so as to cancel the wavelength change due to the operation of the bias current source 312 of the light emitting unit driving current source 310. The
[Equation 5]
I ph BS = β 2 × I op BS
For the phase variable unit drive current source 320, I ph DC is defined by the following ( Equation 6).
[Equation 6]
I ph DC = I ph MAIN−γ 3 × β 3 × I op PK
2 × β 2 × I op BS-β 1 × ΔI op + ΔI ph
In the above (Equation 6), I ph MAIN of the first item on the right side is determined so that the wavelength of the tunable DBR semiconductor laser light source 300 becomes the maximum efficiency wavelength of the optical waveguide type QPM-SHG device 304. Note that γ 3 × β 3 × I op PK in the second item on the right side indicates that the wavelength of the wavelength tunable DBR semiconductor laser light source 300 indicates the maximum efficiency wavelength of the optical waveguide type QPM-SHG device 304 when I op PK is increased or decreased. It is a component that changes I ph DC so as to follow. Also, γ 2 × β 2 × I op BS in the third item on the right side indicates that the wavelength of the tunable DBR semiconductor laser light source 300 increases the maximum efficiency wavelength of the optical waveguide type QPM-SHG device 304 when I op BS is increased or decreased. It is a component that changes I ph DC so as to follow. The fourth item on the right side, β 1 × ΔI op, is the wavelength of the tunable DBR semiconductor laser light source 300 when the light output control component ΔI op by the light output / wavelength control unit 530 is increased or decreased. This is a component that changes I op DC so as to follow the maximum efficiency wavelength of the device 304. Further, ΔI ph of the fifth item on the right side is a component that changes I ph DC during wavelength control.

さらに、波長可変部駆動電流源330に対して、Idbr は下記(数7)によって定義される。
[数7]
dbr =Idbr IN+α×ΔIph
上記(数7)中、右辺第1項目のIdbr INは、波長可変DBR半導体レーザ光源300の波長が光導波路型QPM−SHGデバイス304の最大効率波長となるように決定される。右辺第2項目のα×ΔIphは、波長制御時にΔIphを変化させたときに波長の連続可変を可能とするように、Idbr とΔIphを一定比率αで変化させる成分である。
Further, I dbr is defined by the following ( Equation 7) for the wavelength variable portion drive current source 330.
[Equation 7]
I dbr = I dbr IN + α × ΔI ph
In the above ( Equation 7), I dbr IN of the first item on the right side is determined so that the wavelength of the wavelength tunable DBR semiconductor laser light source 300 becomes the maximum efficiency wavelength of the optical waveguide type QPM-SHG device 304. The second item α × ΔI ph on the right side is a component that changes I dbr and ΔI ph at a constant ratio α so that the wavelength can be continuously varied when ΔI ph is changed during wavelength control.

再生動作時おいては、発光部駆動電流源310に対して、IopDCは、下記(数8)によって定義される。
[数8]
opDC=IopBM+ΔIop+IopRD
上記(数8)中、右辺第1項目のIopBMと右辺第2項目のΔIopは、記録動作時と同様にして決定される。また、右辺第3項目のIopRDは、リードパワーを実現するように決定される。
In the reproducing operation, I op DC is defined by the following (Equation 8) with respect to the light emitting unit driving current source 310.
[Equation 8]
I op DC = I op BM + ΔI op + I op RD
In the above (Equation 8), I op BM of the first item on the right side and ΔI op of the second item on the right side are determined in the same manner as in the recording operation. The third item I op RD on the right side is determined so as to realize read power.

また、位相可変部駆動電流源320に対して、IphPK、IphBSは、記録動作時と同様に定義される。 For the phase variable unit drive current source 320, I ph PK and I ph BS are defined in the same manner as in the recording operation.

また、位相可変部駆動電流源320に対して、IphDCは下記(数9)によって定義される。
[数9]
phDC=IphMAIN−γ3 ×β3 ×IopPK
−γ2 ×β2 ×IopBS−β1 ×ΔIop
+ΔIph−β1 ×IopRD
上記(数9)中、右辺第1項目から第5項目までは、記録動作時と同様にして決定される。また、右辺第6項目のβ1 ×IopRDは、IopRDを増減させたときに波長可変DBR半導体レーザ光源300の波長が光導波路型QPM−SHGデバイス304の最大効率波長を追従するようにIphDCを変化させる成分である。
Further, I ph DC is defined by the following ( Equation 9) with respect to the phase variable unit driving current source 320.
[Equation 9]
I ph DC = I ph MAIN−γ 3 × β 3 × I op PK
2 × β 2 × I op BS-β 1 × ΔI op
+ ΔI ph1 × I op RD
In the above (Equation 9), the first item to the fifth item on the right side are determined in the same manner as in the recording operation. Further, β 1 × I op RD of the sixth item on the right side is such that the wavelength of the tunable DBR semiconductor laser light source 300 follows the maximum efficiency wavelength of the optical waveguide type QPM-SHG device 304 when I op RD is increased or decreased. It is a component that changes I ph DC.

さらに、波長可変部駆動電流源330に対して、Idbr は、記録動作時と同様に定義される。 Further, I dbr is defined in the same manner as in the recording operation for the wavelength variable portion drive current source 330.

それぞれの電流値IopPK、IopBS、IopBM、IopRD、IphMAIN、Idbr IN、及びそれぞれのパラメータα、β1 、β2 、β3 、γ2 、γ3 は、波長可変DBR半導体レーザ光源300が所望の光出力で発光するように、光源装置の製造工程において調整されている。そして、そのときの値が、それぞれIopPK(pr)、IopBS(pr)、IopBM(pr)、IopRD(pr)、IphMAIN(pr)、Idbr IN(pr)、α(pr)、β1 (pr)、β2 (pr)、β3 (pr)、γ2 (pr)、γ3 (pr)としてプリセット値記憶部510に記憶されている。これらの値は、後述する『起動時レーザ処理』と『初期レーザパワー較正処理』に使用される。 The respective current values I op PK, I op BS, I op BM, I op RD, I ph MAIN, I dbr IN and the respective parameters α, β 1 , β 2 , β 3 , γ 2 , γ 3 are The wavelength tunable DBR semiconductor laser light source 300 is adjusted in the manufacturing process of the light source device so as to emit light with a desired light output. The values at that time are I op PK (pr), I op BS (pr), I op BM (pr), I op RD (pr), I ph MAIN (pr), I dbr IN (pr), respectively. , Α (pr), β 1 (pr), β 2 (pr), β 3 (pr), γ 2 (pr), γ 3 (pr) are stored in the preset value storage unit 510. These values are used for “startup laser processing” and “initial laser power calibration processing” described later.

光出力/波長制御部530は、I/Vアンプ306(図3)からフィードバックされるモニタ電圧FSmon にしたがって、波長可変DBR半導体レーザ光源300が常に所望の光出力で発光するように、それぞれの電流値を制御する。 The optical output / wavelength control unit 530 is configured so that the wavelength tunable DBR semiconductor laser light source 300 always emits light with a desired optical output according to the monitor voltage FS mon fed back from the I / V amplifier 306 (FIG. 3). Control the current value.

また、図3、図5に示すように、光出力/波長制御手段340は、発光部駆動電流源310と位相可変部駆動電流源320と波長可変部駆動電流源330に対して、それぞれの動作を許可するイネーブル信号CE_Iop、CE_Iph、CE_Idbr を出力する。 As shown in FIGS. 3 and 5, the optical output / wavelength control unit 340 operates with respect to the light emitting unit driving current source 310, the phase variable unit driving current source 320, and the wavelength variable unit driving current source 330. Enable signals CE_I op , CE_I ph , and CE_I dbr are output.

次に、本発明の光源装置を起動する場合において、短時間で波長可変DBR半導体レーザ光源300の発振波長を、導波路型QPM−SHGデバイス304の最大効率波長に到達させるための起動手順(以下『起動時レーザ処理』と呼ぶ)と、波長可変DBR半導体レーザ光源300を所望の光出力で発光させるための較正(以下『初期レーザパワー較正処理』と呼ぶ)を短時間で行う方法ついて説明する。   Next, when starting the light source device of the present invention, a startup procedure (hereinafter referred to as the following) for causing the oscillation wavelength of the tunable DBR semiconductor laser light source 300 to reach the maximum efficiency wavelength of the waveguide type QPM-SHG device 304 in a short time And a method of performing calibration (hereinafter referred to as “initial laser power calibration process”) for causing the wavelength-variable DBR semiconductor laser light source 300 to emit light with a desired light output in a short time. .

〈起動時レーザ処理〉
光源装置の起動時において、図5に示す光出力/波長制御手段340のレジスタブロック520の各々のレジスタには、プリセット値記憶部510に記憶されたそれぞれのプリセット値:IopPK(pr)、IopBS(pr)、IopBM(pr)、IopRD(pr)、IphMAIN(pr)、Idbr IN(pr)、α(pr)、β1 (pr)、β2 (pr)、β3 (pr)、γ2 (pr)、γ3 (pr)が格納されている。尚、それぞれの電流源の電流値は、これらのプリセット値から演算される値によって決定されている。
<Laser processing at startup>
When the light source device is activated, each register of the register block 520 of the light output / wavelength control unit 340 shown in FIG. 5 has a preset value stored in the preset value storage unit 510: I op PK (pr), I op BS (pr), I op BM (pr), I op RD (pr), I ph MAIN (pr), I dbr IN (pr), α (pr), β 1 (pr), β 2 (pr ), Β 3 (pr), γ 2 (pr), γ 3 (pr) are stored. Note that the current value of each current source is determined by a value calculated from these preset values.

起動時レーザ処理において、発光部駆動電流源310と位相可変部駆動電流源320と波長可変部駆動電流源330は、図3、図5、図6に示すように、まず、光出力/波長制御手段340からそれぞれイネーブル信号CE_Iop、CE_Iph、CE_Idbr を受信する。そして、発光部駆動電流源310は、イネーブル信号CE_Iopを受信すると同時に、下記(数10)によって表記される再生動作時のプリセット電流値で駆動を開始する。
[数10]
opDC=IopBM(pr)+IopRD(pr)
また、位相可変部駆動電流源320は、イネーブル信号CE_Iphを受信すると同時に、下記(数11)によって表記される再生動作時のプリセット電流値で駆動を開始する。
[数11]
phDC=IphMAIN(pr)
−γ3 (pr)×β3 (pr)×IopPK(pr)
−γ2 (pr)×β2 (pr)×IopBS(pr)
−β1 (pr)×IopRD(pr)
また、波長可変部駆動電流源330は、イネーブル信号CE_Idbr を受信すると同時に、下記(数12)によって表記されるプリセット電流値で駆動を開始する。
[数12]
dbr =Idbr IN(pr)
以上のように、起動時レーザ処理において、それぞれの電流源は、光源装置を製造する際に波長可変DBR半導体レーザ光源300が所望の光出力で発光するように調整され、プリセット値記憶部510に記憶された(すなわち、予め決められた)プリセット電流値で駆動を開始することになる。光導波路型QPM−SHGデバイス304の最大効率波長は、必ず常温における波長可変DBR半導体レーザ光源300の発振波長よりも長波長側にある。常温の状態から、波長可変DBR半導体レーザ光源300への電流注入が開始されると、注入電流によって発光部301、位相可変部302、波長可変部303の温度が上昇し、これにより発光部301、位相可変部302、波長可変部303の屈折率が変化して、波長可変DBR半導体レーザ光源300の発振波長が長波長側に変化する。図7に示すように、この波長の変化は、温度上昇に依存し、1次遅れ系の過渡応答特性を示し、一定時間が経過した後にほぼ整定する。
In the start-up laser processing, the light emitting unit driving current source 310, the phase variable unit driving current source 320, and the wavelength variable unit driving current source 330 are first configured to perform optical output / wavelength control, as shown in FIGS. Enable signals CE_I op , CE_I ph and CE_I dbr are received from the means 340, respectively. The light emitting unit driving current source 310 receives the enable signal CE_I op and starts driving at a preset current value at the time of the reproduction operation expressed by the following (Equation 10).
[Equation 10]
I op DC = I op BM (pr) + I op RD (pr)
Furthermore, the phase variable parts drive current source 320, upon receiving an enable signal CE_I ph, starts driving at the preset current value during reproduction operation, which is denoted by the following equation (11).
[Equation 11]
I ph DC = I ph MAIN (pr)
−γ 3 (pr) × β 3 (pr) × I op PK (pr)
−γ 2 (pr) × β 2 (pr) × I op BS (pr)
−β 1 (pr) × I op RD (pr)
In addition, the wavelength variable unit driving current source 330 receives the enable signal CE_Idbr, and at the same time starts driving with a preset current value expressed by the following ( Equation 12).
[Equation 12]
I dbr = I dbr IN (pr)
As described above, in the startup laser processing, each current source is adjusted so that the wavelength tunable DBR semiconductor laser light source 300 emits light with a desired light output when the light source device is manufactured, and the preset value storage unit 510 stores the light source device. The driving is started at the preset current value stored (that is, predetermined). The maximum efficiency wavelength of the optical waveguide type QPM-SHG device 304 is always longer than the oscillation wavelength of the tunable DBR semiconductor laser light source 300 at room temperature. When current injection into the wavelength tunable DBR semiconductor laser light source 300 is started from the room temperature, the temperatures of the light emitting unit 301, the phase variable unit 302, and the wavelength variable unit 303 are increased by the injected current, thereby the light emitting unit 301, The refractive indexes of the phase variable unit 302 and the wavelength variable unit 303 change, and the oscillation wavelength of the wavelength variable DBR semiconductor laser light source 300 changes to the longer wavelength side. As shown in FIG. 7, this wavelength change depends on the temperature rise, shows a transient response characteristic of a first-order lag system, and is almost settled after a fixed time.

起動時レーザ処理の後に、初期レーザパワー較正処理を行い、波長可変DBR半導体レーザ光源300の発振波長が光導波路型QPM−SHGデバイス304の最大効率波長にほぼ等しくなるようにIdbr 波長探査処理を行う。 After startup laser processing, initial laser power calibration processing is performed, and I dbr wavelength exploration processing is performed so that the oscillation wavelength of the wavelength tunable DBR semiconductor laser light source 300 is approximately equal to the maximum efficiency wavelength of the optical waveguide type QPM-SHG device 304. Do.

dbr 波長探査処理において、波長可変部(DBR領域)303への注入電流Idbr を所定の範囲で逐次変化させ、逐次変化に対応した光出力の検出値の増加分が最大となるときの注入電流値Idbr_llと、光出力の検出値の減少分が最大となるときの注入電流値Idbr_ulを求め、波長可変部(DBR領域)303への注入電流を、Idbr_llとIdbr_ulとの間の値に決定する。 In the I dbr wavelength exploration process, the injection current I dbr to the wavelength variable unit (DBR region) 303 is sequentially changed within a predetermined range, and the injection when the increase in the detected value of the optical output corresponding to the sequential change is maximized. The current value I dbr _ll and the injection current value I dbr _ul when the decrease in the detected value of the optical output is maximized are obtained, and the injection currents into the wavelength variable unit (DBR region) 303 are expressed as I dbr _ll and I dbr. Decide on a value between _ul.

この波長可変部(DBR領域)303への注入電流Idbr を所定の範囲で逐次変化させたときに注入電流値Idbr_llとIdbr_ulが前記所定の範囲に必ず含まれるように、プリセット値が設定されている。尚、注入電流値Idbr_llとIdbr_ulが前記所定の範囲に含まれない場合には、Idbr を変化させる範囲を変えて再度Idbr 波長探査処理を行わなければならず(『リトライ処理』)、起動時間の大幅なロスに繋がってしまう。 Preset values are set so that the injection current values I dbr _ll and I dbr _ul are always included in the predetermined range when the injection current I dbr to the wavelength variable portion (DBR region) 303 is sequentially changed in the predetermined range. Is set. If the injection current values I dbr _ll and I dbr _ul are not included in the predetermined range, the I dbr wavelength exploration process must be performed again by changing the range in which I dbr is changed (“retry processing”). )), Leading to a significant loss of startup time.

プリセット電流値で電流の注入を開始することにより、波長可変DBR半導体レーザ光源300の発振波長を光導波路型QPM−SHGデバイス304の最大効率波長にほぼ等しくすることができるので、一度のIdbr 波長探査処理で確実に光導波路型QPM−SHGデバイス304の最大効率波長にほぼ等しい波長を得ることができる。 By initiating the injection of current in the preset current value, since the oscillation wavelength of the wavelength tunable DBR semiconductor laser light source 300 can be made substantially equal to the maximum efficiency the wavelength of the optical waveguide type QPM-SHG device 304, once the I dbr wavelength A wavelength almost equal to the maximum efficiency wavelength of the optical waveguide type QPM-SHG device 304 can be reliably obtained by the exploration process.

以上の説明では、起動時レーザ処理において、位相可変部駆動電流源320は、上記(数11)によって表記される再生動作時のプリセット電流値で駆動を開始するとしている。しかし、図8に示すように、位相可変部駆動電流源320のDC電流源323が、まず、上記(数11)によって表記されるプリセット電流値よりも大きな電流値で駆動を開始し、所定時間経過後に、上記(数11)によって表記されるプリセット電流値に切り替えるようにすれば、波長可変DBR半導体レーザ光源300の発振波長の整定時間を短くすることができ、素早く波長探査処理に切り替わることが可能となるので、起動時間の短縮を図ることができる。   In the above description, in the startup laser processing, the phase variable unit drive current source 320 starts driving at the preset current value at the time of the reproduction operation expressed by the above (Equation 11). However, as shown in FIG. 8, the DC current source 323 of the phase variable unit driving current source 320 first starts to drive at a current value larger than the preset current value expressed by the above (Equation 11), for a predetermined time. By switching to the preset current value expressed by the above (Equation 11) after the lapse of time, the settling time of the oscillation wavelength of the wavelength tunable DBR semiconductor laser light source 300 can be shortened, and the wavelength search processing can be quickly switched. This makes it possible to shorten the startup time.

また、図9に示すように、光源装置の起動後に、起動時レーザ処理よりも先に位相可変部駆動電流源320と波長可変部駆動電流源330を動作させるようにすれば、すなわち、位相可変部駆動電流源320及び波長可変部駆動電流源330がそれぞれイネーブル信号CE_Iph、CE_Idbr を受信し、所定時間経過後に、発光部駆動電流源310がイネーブル信号CE_Iopを受信するようにすれば、波長可変DBR半導体レーザ光源300の発振波長の整定時間を短くすることができ、素早く波長探査処理に切り替わることが可能となるので、起動時間の短縮を図ることができる。 Also, as shown in FIG. 9, after the light source device is started, if the phase variable unit driving current source 320 and the wavelength variable unit driving current source 330 are operated before the startup laser processing, that is, the phase variable. If the unit driving current source 320 and the wavelength variable unit driving current source 330 receive the enable signals CE_I ph and CE_I dbr respectively, and the light emitting unit driving current source 310 receives the enable signal CE_I op after a predetermined time has elapsed, Since the settling time of the oscillation wavelength of the wavelength tunable DBR semiconductor laser light source 300 can be shortened and it is possible to quickly switch to the wavelength exploration processing, the start-up time can be shortened.

〈初期レーザパワー較正処理〉
光源装置は、起動して所定時間が経過した後に、初期レーザパワー較正処理を行う。初期レーザパワー較正処理は、波長可変DBR半導体レーザ光源300を所望の光出力で発光させることができるように、それぞれの電流値IopPK、IopBS、IopBM、IopRD、IphMAIN、Idbr INを求める処理である。初期レーザパワー較正処理においては、以下のような処理が行われる。まず、Idbr 波長探査処理が行われる。これは、波長可変DBR半導体レーザ光源300の発振波長を、おおよそ光導波路型QPM−SHGデバイス304の最大効率波長に近づけるために、波長可変部駆動電流源330の電流値Idbr を最適化するものであり、いわば波長可変DBR半導体レーザ光源300の発振波長の粗調整である。次に、IphMAIN波長探査処理が行われる。これは、波長可変DBR半導体レーザ光源300の発振波長を、光導波路型QPM−SHGデバイス304の最大効率波長にするために、IphMAINの値を最適化するものであり、いわば波長可変DBR半導体レーザ光源300の発振波長の微調整である。次に、記録パワー較正、再生パワー較正が行われる。記録パワー較正には、ボトムパワー較正とバイアスパワー較正とピークパワー較正が含まれる。ボトムパワー較正は、所望のボトムパワーが得られるように、IopBMの電流値を較正するものであり、バイアスパワー較正は、所望のバイアスパワーが得られるように、IopBSの電流値を較正するものであり、ピークパワー較正は、所望のピークパワーが得られるように、IopPKの電流値を較正するものである。ここで、記録パワー較正のための光強度検出手段について、詳細に説明する。
<Initial laser power calibration process>
The light source device performs an initial laser power calibration process after a predetermined time has elapsed since activation. In the initial laser power calibration process, the current values I op PK, I op BS, I op BM, I op RD, I ph are set so that the wavelength tunable DBR semiconductor laser light source 300 can emit light with a desired light output. This is a process for obtaining MAIN and I dbr IN. In the initial laser power calibration process, the following process is performed. First, an I dbr wavelength exploration process is performed. This optimizes the current value I dbr of the wavelength variable portion drive current source 330 in order to make the oscillation wavelength of the wavelength tunable DBR semiconductor laser light source 300 approximate to the maximum efficiency wavelength of the optical waveguide type QPM-SHG device 304. In other words, it is a rough adjustment of the oscillation wavelength of the wavelength tunable DBR semiconductor laser light source 300. Next, an I ph MAIN wavelength search process is performed. This is to optimize the value of I ph MAIN in order to set the oscillation wavelength of the wavelength tunable DBR semiconductor laser light source 300 to the maximum efficiency wavelength of the optical waveguide type QPM-SHG device 304, so to speak, a wavelength tunable DBR semiconductor. This is a fine adjustment of the oscillation wavelength of the laser light source 300. Next, recording power calibration and reproduction power calibration are performed. Recording power calibration includes bottom power calibration, bias power calibration, and peak power calibration. In the bottom power calibration, the current value of I op BM is calibrated so that a desired bottom power is obtained. In the bias power calibration, the current value of I op BS is obtained so that a desired bias power is obtained. In the peak power calibration, the current value of I op PK is calibrated so that a desired peak power can be obtained. Here, the light intensity detection means for recording power calibration will be described in detail.

記録動作時においては、図10に示すように、ピーク電流源とバイアス電流源を高速スイッチングさせて、レーザの光強度をピークパワー−ボトムパワー間で高速に変調する動作と、図16に示すように、バイアス電流源のみを常時オンさせてレーザの光強度を一定のバイアスパワーにする動作とを繰り返す。その結果、ピークパワー−ボトムパワー間で光強度を高速変調しているときにはマークが形成され、光強度を一定のバイアスパワーにしているときにはマークが消去される(このマークが存在しない箇所を『スペース』と呼ぶ)。   In the recording operation, as shown in FIG. 10, the peak current source and the bias current source are switched at high speed, and the laser light intensity is modulated at high speed between the peak power and the bottom power, and as shown in FIG. In addition, the operation of constantly turning on only the bias current source and setting the laser light intensity to a constant bias power is repeated. As a result, a mark is formed when the light intensity is modulated at high speed between the peak power and the bottom power, and the mark is erased when the light intensity is set to a constant bias power. ”).

ここで、ピークパワー−ボトムパワー間で高速変調しているときの光強度を有する光をフォトディテクタ305で受光したときに得られるモニタ電圧FSmon の平均値を求めることを『マーク部平均値検出』と呼び、バイアスパワーの光をフォトディテクタ305で受光したときに得られるモニタ電圧FSmon を求めることを『スペース部検出』と呼ぶ。 Here, the “mark portion average value detection” is to obtain the average value of the monitor voltage FS mon obtained when the photodetector 305 receives light having the light intensity when high-speed modulation is performed between the peak power and the bottom power. And obtaining the monitor voltage FS mon obtained when the photodetector 305 receives light of bias power is called “space portion detection”.

以後、ピークパワー較正時など、ピークパワー−ボトムパワー間で高速変調しているときの光強度を得たいときには、マーク部平均値検出を行い、バイアスパワー較正時など、バイアスパワーを得たいときには、スペース部検出を行う。   After that, when you want to obtain the light intensity when high-speed modulation between peak power and bottom power, such as during peak power calibration, perform mark part average value detection, and when you want to obtain bias power, such as during bias power calibration, Perform space detection.

以上の記録パワー較正がなされた後、再生パワー較正が行われる。これは、所望のリードパワーが得られるように、IopRDの電流値を較正するものである。以上の処理を経て、所望の光出力が得られるようになる。 After the above recording power calibration is performed, the reproduction power calibration is performed. This calibrates the current value of I op RD so that a desired read power can be obtained. Through the above processing, a desired light output can be obtained.

初期レーザパワー較正処理を開始するにあたって、それぞれの電流源の電流値は、図5に示す光出力/波長制御手段340のレジスタブロック520の各々のレジスタに格納されているそれぞれのプリセット値:IopPK(pr)、IopBS(pr)、IopBM(pr)、IopRD(pr)、IphMAIN(pr)、Idbr IN(pr)、α(pr)、β1 (pr)、β2 (pr)、β3 (pr)、γ2 (pr)、γ3 (pr)から演算される値によって決定されている。 When starting the initial laser power calibration process, the current values of the respective current sources are set to respective preset values: I op stored in the respective registers of the register block 520 of the optical output / wavelength control means 340 shown in FIG. PK (pr), I op BS (pr), I op BM (pr), I op RD (pr), I ph MAIN (pr), I dbr IN (pr), α (pr), β 1 (pr) , Β 2 (pr), β 3 (pr), γ 2 (pr), and γ 3 (pr).

また、初期レーザパワー較正処理を開始するにあたっては、それぞれの電流源は、図10に示すようなテストパターン(以下『テストパターン1』と呼ぶ)を用いることにより、記録動作時の駆動形態に近い駆動形態にしておく。   Further, when starting the initial laser power calibration process, each current source uses a test pattern as shown in FIG. 10 (hereinafter referred to as “test pattern 1”), which is close to the driving mode during the recording operation. Drive mode is used.

(Idbr 波長探査処理)
まず、Idbr 波長探査処理を行う。図11に示すように、このIdbr 波長探査処理においては、Idbr INの値をステップ状に変化させる。Idbr INの値をステップ状に変化させると、波長可変DBR半導体レーザ光源300の発振モードが変化する。このとき、I/Vアンプ306からフィードバックされるモニタ電圧FSmon (図3参照)の変化を検出する。この検出結果に基づき、そのときの波長可変DBR半導体レーザ光源300の発振モードにおける発振波長がおおよそ光導波路型QPM−SHGデバイス304の最大効率波長に近くなるIdbr INの値を求める(以下、この発振モードのことを『最適モード』と呼ぶ)。同時に、最適モードからモードホップしないようにIdbr INの中心値を求める。
(I dbr wavelength exploration process)
First, I dbr wavelength exploration processing is performed. As shown in FIG. 11, in this I dbr wavelength exploration process, the value of I dbr IN is changed stepwise. When the value of I dbr IN is changed stepwise, the oscillation mode of the wavelength tunable DBR semiconductor laser light source 300 changes. At this time, a change in the monitor voltage FS mon (see FIG. 3) fed back from the I / V amplifier 306 is detected. Based on the detection result, a value of I dbr IN is determined so that the oscillation wavelength in the oscillation mode of the tunable DBR semiconductor laser light source 300 at that time is approximately close to the maximum efficiency wavelength of the optical waveguide type QPM-SHG device 304 (hereinafter, this The oscillation mode is called “optimal mode”). At the same time, the center value of I dbr IN is obtained so as not to hop from the optimum mode.

dbr INを変化させる中心値をIdbr IN(pr)、Idbr INを変化させる範囲をIdbr IN(amp)、1ステップにおけるIdbr INの変化分をΔIdbr INとする。ここで、波長可変DBR半導体レーザ光源300の発振モードを1モード変化させるために必要なIdbr INの典型的な値を、Idbr IN(1mode)と定義する。すると、Idbr INを変化させる範囲であるIdbr IN(amp)は、Idbr 波長探査処理を行ったときに必ず最適モードを求めることができるように、Idbr IN(1mode)に対して十分大きくなければならない。また、同時に、最適モードからモードホップしないIdbr INの中心値を求めることができるように、ΔIdbr INはIdbr IN(1mode)に対して十分小さくなければならない。 The center value changing the I dbr IN I dbr IN (pr ), range I dbr IN changing the I dbr IN (amp), to the variation of I dbr IN in one step and [Delta] I dbr IN. Here, a typical value of I dbr IN required to change the oscillation mode of the wavelength tunable DBR semiconductor laser light source 300 by one mode is defined as I dbr IN (1 mode). Then, I dbr IN (amp), which is a range in which I dbr IN is changed, is sufficiently larger than I dbr IN (1 mode) so that the optimum mode can be always obtained when the I dbr wavelength search process is performed. Must be big. At the same time, ΔI dbr IN must be sufficiently small with respect to I dbr IN (1 mode) so that the center value of I dbr IN that is not mode- hopped from the optimal mode can be obtained.

以下、Idbr 波長探査処理の手順について、図11を参照しながら図12に示すフローチャートを用いて、より詳細に説明する。 Hereinafter, the procedure of the I dbr wavelength exploration process will be described in more detail using the flowchart shown in FIG. 12 with reference to FIG.

最初、それぞれの電流源は、テストパターン1(図10)を用いることにより、記録動作時の駆動形態に近い駆動形態となっている(S1)。   Initially, each current source has a driving configuration close to the driving configuration during the recording operation by using test pattern 1 (FIG. 10) (S1).

この状態で、まず、波長可変部駆動電流源330の電流値Idbr INを下記(数13)で表記されるIdbr IN(0)として、波長可変DBR半導体レーザ光源300の波長可変部303を駆動する(S2)。
[数13]
dbr IN(0)=Idbr IN(pr)
−Idbr IN(amp)/2
そして、このときの波長可変DBR半導体レーザ光源300の光出力の平均値を検出し、そのときのモニタ電圧をFSmon (0)とする。次いで、1ステップにつきIdbr INの値をΔIdbr INずつ増加させて、波長可変DBR半導体レーザ光源300の光出力の平均値を検出し、ステップtにおけるモニタ電圧をFSmon (t)とする。ここで、下記(数14)によって表記されるモニタ電圧FSmon (t)の時間変化量ΔFSmon (t)を求める。
[数14]
ΔFSmon (t)=FSmon (t)−FSmon (t−1)
以上の処理を、Idbr INが下記(数15)によって表記されるIdbr IN(t)となるまで繰り返す(S3)。
[数15]
dbr IN(t)=Idbr IN(pr)
+Idbr IN(amp)/2
このようにIdbr INを変化させた場合、図11に示すように、波長可変DBR半導体レーザ300の発振モードが最適モードに始めて到達したときに増加分が最大となる(ΔFSmon (t)が正の値となる範囲で、その絶対値が最大値となる)。このときのIdbr INの値が、最適モードからモードホップしないIdbr INの下限となる。この値を、Idbr_llと定義する。また、波長可変DBR半導体レーザ300の発振モードが最適モードから次のモードにモードホップしたときに減少分が最大となる(ΔFSmon (t)が負の値となる範囲で、その絶対値が最大値となる)。このときのIdbr INの値が、最適モードからモードホップしないIdbr INの上限となる。この値を、Idbr_ulと定義する。
In this state, first, the current value I dbr IN of the wavelength variable unit driving current source 330 is set to I dbr IN (0) expressed by the following ( Equation 13), and the wavelength variable unit 303 of the wavelength variable DBR semiconductor laser light source 300 is set. Drive (S2).
[Equation 13]
I dbr IN (0) = I dbr IN (pr)
-I dbr IN (amp) / 2
Then, the average value of the optical output of the wavelength tunable DBR semiconductor laser light source 300 at this time is detected, and the monitor voltage at that time is FS mon (0). Next, the value of I dbr IN is increased by ΔI dbr IN per step, the average value of the optical output of the wavelength tunable DBR semiconductor laser light source 300 is detected, and the monitor voltage at step t is FS mon (t). Here, a time change amount ΔFS mon (t) of the monitor voltage FS mon (t) expressed by the following (Equation 14) is obtained.
[Formula 14]
ΔFS mon (t) = FS mon (t) −FS mon (t−1)
The above process is repeated until I dbr IN is below is denoted by (number 15) I dbr IN (t) (S3).
[Equation 15]
I dbr IN (t) = I dbr IN (pr)
+ I dbr IN (amp) / 2
When I dbr IN is changed in this way, as shown in FIG. 11, when the oscillation mode of the wavelength tunable DBR semiconductor laser 300 reaches the optimum mode for the first time, the increase is maximized (ΔFS mon (t) is In the range where the value is positive, the absolute value is the maximum). The value of I dbr IN at this time is the lower limit of I dbr IN that does not mode hop from the optimum mode. This value is defined as I dbr _ll. Further, when the oscillation mode of the wavelength tunable DBR semiconductor laser 300 is mode-hopped from the optimum mode to the next mode, the decrease is maximized (the absolute value is maximum in the range where ΔFS mon (t) is a negative value). Value). The value of I dbr IN at this time is the upper limit of I dbr IN that does not mode hop from the optimum mode. This value is defined as I dbr _ul.

ここで、Idbr INの値を、Idbr_llとIdbr_ulとの間の値に決定する(S4)。このようにすれば、波長可変DBR半導体レーザ300の発振モードを最適モードに選択することができる。以後、この電流値Idbr INで波長可変DBR半導体レーザ光源300の波長可変部303を駆動する。 Here, the value of I dbr IN is determined to be a value between I dbr _ll and I dbr _ul (S4). In this way, the oscillation mode of the wavelength tunable DBR semiconductor laser 300 can be selected as the optimum mode. Thereafter, the wavelength tunable unit 303 of the wavelength tunable DBR semiconductor laser light source 300 is driven with the current value I dbr IN.

尚、本実施の形態においては、Idbr INの値を、Idbr_llとIdbr_ulとの間の値に決定するようにしているが、Idbr INの値を、Idbr_llとIdbr_ulのほぼ平均値に等しくなるような値とするのが望ましい。このようにすれば、波長可変DBR半導体レーザ300の発振モードが最適モードからモードホップしない上限、下限の両側から均等にマージンを保持することが可能となる。 In the present embodiment, the value of I dbr IN is determined to be a value between I dbr _ll and I dbr _ul, but the value of I dbr IN is set to I dbr _ll and I dbr. It is desirable that the value be approximately equal to the average value of _ul. In this way, it is possible to maintain a uniform margin from both the upper and lower limits where the oscillation mode of the wavelength tunable DBR semiconductor laser 300 is not mode-hopped from the optimum mode.

(IphMAIN波長探査処理)
次に、IphMAIN波長探査処理を行う。IphMAINの値を変化させると、波長可変DBR半導体レーザ光源300の発振波長が変化する。このとき、I/Vアンプ306からフィードバックされるモニタ電圧FSmon (図3参照)を、マーク部の平均値として検出する。この検出結果に基づき、そのときの波長可変DBR半導体レーザ光源300の発振波長が光導波路型QPM−SHGデバイス304の最大効率波長となるように、IphMAINの値を求める(以下、この発振波長のことを『最適波長』と呼ぶ)。
(I ph MAIN wavelength exploration process)
Next, I ph MAIN wavelength exploration processing is performed. When the value of I ph MAIN is changed, the oscillation wavelength of the wavelength tunable DBR semiconductor laser light source 300 changes. At this time, the monitor voltage FS mon (see FIG. 3) fed back from the I / V amplifier 306 is detected as the average value of the mark portion. Based on the detection result, the value of I ph MAIN is determined so that the oscillation wavelength of the tunable DBR semiconductor laser light source 300 at that time becomes the maximum efficiency wavelength of the optical waveguide type QPM-SHG device 304 (hereinafter, this oscillation wavelength) Is called "optimum wavelength").

phMAINを変化させる中心値をIphMAIN(pr)、IphMAINを変化させる範囲をIphMAIN(amp)、1ステップにおけるIphMAINの変化分をΔIphMAINとする。ここで、波長可変DBR半導体レーザ光源300の光出力が、光導波路型QPM−SHGデバイス304の効率が最大効率のときの光出力の1/2となる波長の許容幅をλ(1/2)、IphDCを変化させたときに波長可変DBR半導体レーザ光源300の波長がλ(1/2)だけ変化するIphDCの典型的な値をIphDC(1/2)と定義する。すると、IphMAINを変化させる範囲であるIphMAIN(amp)は、IphMAIN波長探査処理を行ったときに必ず最適波長が得られるように、IphDC(1/2)に対して十分大きくなければならない。また、ΔIphMAINは、最適波長の検出精度を向上させるために、IphDC(1/2)に対して十分小さくなければならない。 The central value for changing I ph MAIN is defined as I ph MAIN (pr), the range for changing I ph MAIN is defined as I ph MAIN (amp), and the change in I ph MAIN in one step is ΔI ph MAIN. Here, the allowable wavelength range where the optical output of the wavelength tunable DBR semiconductor laser light source 300 is ½ of the optical output when the efficiency of the optical waveguide type QPM-SHG device 304 is the maximum efficiency is λ (1/2). a typical value for I ph DC wavelength of the tunable DBR semiconductor laser light source 300 changes by lambda (1/2) is defined as I ph DC (1/2) when changing the I ph DC. Then, I ph MAIN (amp), which is a range in which I ph MAIN is changed, is set to I ph DC (1/2) so that an optimum wavelength is always obtained when the I ph MAIN wavelength search process is performed. Must be large enough. In addition, ΔI ph MAIN must be sufficiently smaller than I ph DC (1/2) in order to improve the detection accuracy of the optimum wavelength.

以下、IphMAIN波長探査処理の手順について、図13に示すフローチャートを用いて、より詳細に説明する。 Hereinafter, the procedure of the I ph MAIN wavelength search process will be described in more detail with reference to the flowchart shown in FIG.

最初、それぞれの電流源は、テストパターン1(図10)を用いることにより、記録動作時の駆動形態に近い駆動形態となっている(S5)。   Initially, each current source has a driving configuration close to the driving configuration during the recording operation by using test pattern 1 (FIG. 10) (S5).

この状態で、まず、位相可変部駆動電流源320の電流値IphMAINを下記(数16)で表記されるIphMAIN(0)として、波長可変DBR半導体レーザ光源300の位相可変部302を駆動する(S6)。
[数16]
phMAIN(0)=IphMAIN(pr)
−IphMAIN(amp)/2
そして、このときのマーク部における波長可変DBR半導体レーザ光源300の光出力の平均値を検出し、そのときのモニタ電圧をFSmon (0)とする。次いで、1ステップにつきIphMAINの値をΔIphMAINずつ増加させて、マーク部における波長可変DBR半導体レーザ光源300の光出力の平均値を検出し、ステップtにおけるモニタ電圧をFSmon (t)とする。
In this state, first, the phase variable unit 302 of the wavelength tunable DBR semiconductor laser light source 300 is set so that the current value I ph MAIN of the phase variable unit drive current source 320 is set to I ph MAIN (0) expressed by the following ( Equation 16). Drive (S6).
[Equation 16]
I ph MAIN (0) = I ph MAIN (pr)
-I ph MAIN (amp) / 2
Then, the average value of the optical output of the wavelength tunable DBR semiconductor laser light source 300 at the mark portion at this time is detected, and the monitor voltage at that time is FS mon (0). Next, the value of I ph MAIN is increased by ΔI ph MAIN per step to detect the average value of the optical output of the wavelength tunable DBR semiconductor laser light source 300 at the mark portion, and the monitor voltage at step t is set to FS mon (t) And

以上の処理を、IphMAINが下記(数17)によって表記されるIphMAIN(t)となるまで繰り返す(S7)。
[数17]
phMAIN(t)=IphMAIN(pr)
+IphMAIN(amp)/2
phMAINをこのように変化させた場合、波長可変DBR半導体レーザ光源300の発振波長が最適波長となったときにFSmon (t)が最大となる。位相可変部駆動電流源320の電流値IphMAINを、このときのIphMAINの値に決定する(S8)。この時点で、波長可変DBR半導体レーザ光源300の最適波長が選択されている。以後、この電流値IphMAINで波長可変DBR半導体レーザ光源300の位相可変部302を駆動する。
The above process is repeated until the I ph MAIN is below I ph MAIN (t), denoted by (number 17) (S7).
[Equation 17]
I ph MAIN (t) = I ph MAIN (pr)
+ I ph MAIN (amp) / 2
When I ph MAIN is changed in this way, FS mon (t) becomes maximum when the oscillation wavelength of the wavelength tunable DBR semiconductor laser light source 300 becomes the optimum wavelength. The current value I ph MAIN of the phase variable unit drive current source 320 is determined to be the value of I ph MAIN at this time (S8). At this time, the optimum wavelength of the wavelength tunable DBR semiconductor laser light source 300 is selected. Thereafter, the phase variable unit 302 of the wavelength tunable DBR semiconductor laser light source 300 is driven with the current value I ph MAIN.

以上のように、位相可変部駆動電流源320の電流値IphMAINを所定の範囲で逐次変化させ、この逐次変化に対応した光出力の検出値が最大となるときの電流値を求め、位相可変部駆動電流源320の電流値IphMAINをこの値に決定するようにすれば、波長可変DBR半導体レーザ光源300の発振波長を光導波路型QPM−SHGデバイス304の最大効率波長に確実に等しくすることができる。 As described above, the current value I ph MAIN of the phase variable unit driving current source 320 is sequentially changed within a predetermined range, and the current value when the detected value of the optical output corresponding to the successive change is maximized is obtained. If the current value I ph MAIN of the variable section drive current source 320 is determined to be this value, the oscillation wavelength of the tunable DBR semiconductor laser light source 300 is surely equal to the maximum efficiency wavelength of the optical waveguide type QPM-SHG device 304. can do.

[ボトムパワー較正]
次に、ボトムパワー較正を行う。
[Bottom power calibration]
Next, bottom power calibration is performed.

以下、ボトムパワー較正の手順について、図15に示すフローチャートを用いて、詳細に説明する。   Hereinafter, the procedure of bottom power calibration will be described in detail with reference to the flowchart shown in FIG.

それぞれの電流源は、図14に示すようなテストパターン2を用いることにより、定常動作するものとする(S21)。   Each current source is assumed to operate normally by using test pattern 2 as shown in FIG. 14 (S21).

ボトムパワー較正の開始時点においては、IopBMはプリセット値IopBM(pr)となっている。波長可変DBR半導体レーザ光源300の光出力を検出し、そのときのモニタ電圧をFSmon とする。ここで、ボトムパワーの制御目標値をBMref とする。また、BMref とFSmon との誤差eを下記(数18)で表記する(S22)。
[数18]
e=BMref −FSmon
そして、この誤差eの積分値をIopBM(pr)に加算して、下記(数19)を得る。
[数19]
opBM=IopBM(pr)+Kbm×∫edt
上記(数19)中、Kbmは比例定数であり、光出力の制御特性が最適化されるように設計される。
At the start of bottom power calibration, I op BM is a preset value I op BM (pr). The optical output of the wavelength tunable DBR semiconductor laser light source 300 is detected, and the monitor voltage at that time is FS mon . Here, the control target value of the bottom power is BM ref . Further, the error e between BM ref and FS mon is expressed by the following (Equation 18) (S22).
[Equation 18]
e = BM ref -FS mon
Then, the integral value of the error e is added to I op BM (pr) to obtain the following (Equation 19).
[Equation 19]
I op BM = I op BM (pr) + Kbm × ∫edt
In (Equation 19), Kbm is a proportionality constant, and is designed so that the control characteristic of the light output is optimized.

それと同時に、IphMAINから誤差eの積分値にβ1 を乗じた値を減算して、下記(数20)を得る。
[数20]
phMAIN=IphMAIN−β1 ×Kbm×∫edt
以上の処理を、誤差eが0となるまで繰り返し(S23)、発光部駆動電流源310の電流値IopBMを、このときのIopBMに決定する(S24)。以後、この電流値IopBMで波長可変DBR半導体レーザ光源300の発光部301を駆動する。それと同時に、位相可変部駆動電流源320の電流値IphMAINを、このときのIphMAINに決定する(S24)。以後、この電流値IphMAINで波長可変DBR半導体レーザ光源300の発光部301を駆動する。
At the same time, a value obtained by multiplying the integral value of the error e by β 1 is subtracted from I ph MAIN to obtain the following (Equation 20).
[Equation 20]
I ph MAIN = I ph MAIN−β 1 × Kbm × ∫edt
The above processing is repeated until the error e becomes 0 (S23), the current value I op BM emitting section drive current source 310, to determine the I op BM in this case (S24). Thereafter, the light emitting unit 301 of the wavelength tunable DBR semiconductor laser light source 300 is driven with the current value I op BM. At the same time, the current value I ph MAIN of the phase variable parts drive current source 320, to determine the I ph MAIN this time (S24). Thereafter, the light emitting unit 301 of the wavelength tunable DBR semiconductor laser light source 300 is driven with the current value I ph MAIN.

以上のような処理を行えば、IopBMの加算による波長変化を、IphMAINの減算によって相殺することができるので、常時波長可変DBR半導体レーザ光源300の発振波長を光導波路型QPM−SHGデバイス304の最大効率波長に保ちながら、所望のボトムパワーを得ることができる。 If the above processing is performed, the wavelength change due to the addition of I op BM can be canceled by subtraction of I ph MAIN, so that the oscillation wavelength of the tunable DBR semiconductor laser light source 300 is always changed to the optical waveguide type QPM-SHG. A desired bottom power can be obtained while maintaining the maximum efficiency wavelength of the device 304.

[バイアスパワー較正]
次に、バイアスパワー較正を行う。
[Bias power calibration]
Next, bias power calibration is performed.

以下、バイアスパワー較正の手順について、図17に示すフローチャートを用いて、詳細に説明する。   Hereinafter, the procedure of bias power calibration will be described in detail with reference to the flowchart shown in FIG.

それぞれの電流源は、図16に示すようなテストパターン2を用いることにより、バイアス−ボトム間でスイッチング動作するものとする(S9)。   Each current source performs a switching operation between the bias and the bottom by using the test pattern 2 as shown in FIG. 16 (S9).

バイアスパワー較正の開始時点においては、IopBSはプリセット値IopBS(pr)となっている。波長可変DBR半導体レーザ光源300の光出力をスペース部のみ検出し、そのときのモニタ電圧をFSmon とする。ここで、バイアスパワーの制御目標値をBSref とする。また、BSref とFSmon との誤差eを下記(数21)で表記する(S10)。
[数21]
e=BSref −FSmon
そして、この誤差eの積分値をIopBS(pr)に加算して、下記(数22)を得る。
[数22]
opBS=IopBS(pr)+Kbs×∫edt
上記(数22)中、Kbsは比例定数であり、光出力の制御特性が最適化されるように設計される。
At the start of bias power calibration, I op BS is a preset value I op BS (pr). Only the space portion is detected from the optical output of the wavelength tunable DBR semiconductor laser light source 300, and the monitor voltage at that time is FS mon . Here, the control target value of the bias power is assumed to be BS ref . Further, an error e between BS ref and FS mon is expressed by the following (Equation 21) (S10).
[Equation 21]
e = BS ref -FS mon
Then, the integral value of this error e is added to I op BS (pr) to obtain the following (Equation 22).
[Equation 22]
I op BS = I op BS (pr) + Kbs × ∫edt
In the above (Expression 22), Kbs is a proportionality constant, and is designed so that the control characteristic of the light output is optimized.

このIopBSの加算に伴い、レジスタブロック520の演算にしたがって、IphBSには、発光部駆動電流源310のバイアス電流源312の波長変化を位相可変部駆動電流源320のバイアス電流源322の波長変化で相殺するように、−β2 ×Kbs×∫edtの値が加算される。さらに、IphDCには、波長可変DBR半導体レーザ光源300の発振波長が光導波路型QPM−SHGデバイス304の最大効率波長に追従するように、−γ2 ×β2 ×Kbs×∫edtの値が加算される。 Along with the addition of this I op BS, according to the calculation of the register block 520, the I ph BS has the wavelength change of the bias current source 312 of the light emitting unit driving current source 310 as the bias current source 322 of the phase variable unit driving current source 320. The value of −β 2 × Kbs × ∫edt is added so as to cancel out with the change in wavelength. Further, I ph DC has a value of −γ 2 × β 2 × Kbs × ∫edt so that the oscillation wavelength of the wavelength tunable DBR semiconductor laser light source 300 follows the maximum efficiency wavelength of the optical waveguide type QPM-SHG device 304. Is added.

以上の処理を、誤差eが0となるまで繰り返し(S11)、発光部駆動電流源310の電流値IopBSを、このときのIopBSに決定する(S12)。以後、この電流値IopBSで波長可変DBR半導体レーザ光源300の発光部301を駆動する。 The above processing is repeated until the error e becomes 0 (S11), the current value I op BS emitting section drive current source 310, to determine the I op BS at this time (S12). Thereafter, the light emitting unit 301 of the wavelength tunable DBR semiconductor laser light source 300 is driven by the current value I op BS.

以上のような処理を行えば、波長可変DBR半導体レーザ光源300の発振波長を光導波路型QPM−SHGデバイス304の最大効率波長に追従させながら、IopBMを変化させて所望のバイアスパワーを得ることができる。 By performing the processing as described above, desired bias power is obtained by changing I op BM while making the oscillation wavelength of the wavelength tunable DBR semiconductor laser light source 300 follow the maximum efficiency wavelength of the optical waveguide type QPM-SHG device 304. be able to.

[ピークパワー較正]
次に、ピークパワー較正を行う。
[Peak power calibration]
Next, peak power calibration is performed.

以下、ピークパワー較正の手順について、図18に示すフローチャートを用いて、詳細に説明する。   Hereinafter, the procedure of peak power calibration will be described in detail with reference to the flowchart shown in FIG.

それぞれの電流源は、テストパターン1(図10)を用いることにより、ピーク−バイアス−ボトム間でスイッチング動作するものとする(S13)。   Each current source performs switching operation between peak-bias-bottom by using test pattern 1 (FIG. 10) (S13).

ピークパワー較正の開始時点においては、IopPKはプリセット値IopPK(pr)となっている。マーク部における波長可変DBR半導体レーザ光源300の光出力の平均値を検出し、そのときのモニタ電圧をFSmon とする。ここで、マーク部平均値の制御目標値をACref とする。また、ACref とFSmon との誤差eを下記(数23)で表記する(S14)。
[数23]
e=ACref −FSmon
そして、この誤差eの積分値をIopPK(pr)に加算して、下記(数24)を得る。
[数24]
opPK=IopPK(pr)+Kpk×∫edt
上記(数24)中、Kpkは比例定数であり、光出力の制御特性が最適化されるように設計される。
At the start of peak power calibration, I op PK is a preset value I op PK (pr). The average value of the optical output of the tunable DBR semiconductor laser light source 300 in the mark portion is detected, and the monitor voltage at that time is FS mon . Here, the control target value of the mark portion average value is AC ref . Further, an error e between AC ref and FS mon is expressed by the following (Equation 23) (S14).
[Equation 23]
e = AC ref −FS mon
Then, the integral value of this error e is added to I op PK (pr) to obtain the following (Equation 24).
[Equation 24]
I op PK = I op PK (pr) + Kpk × ∫edt
In the above (Equation 24), Kpk is a proportional constant, and is designed so that the control characteristic of the light output is optimized.

このIopPKの加算に伴い、レジスタブロック520の演算にしたがって、IphPKには、発光部駆動電流源310のピーク電流源311の波長変化を位相可変部駆動電流源320のピーク電流源321の波長変化で相殺するように、−β3 ×Kpk×∫edtの値が加算される。さらに、IphDCには、波長可変DBR半導体レーザ光源300の発振波長が光導波路型QPM−SHGデバイス304の最大効率波長に追従するように、−γ3 ×β3 ×Kpk×∫edtの値が加算される。 Along with the addition of I op PK, according to the calculation of the register block 520, I ph PK has a change in wavelength of the peak current source 311 of the light emitting unit driving current source 310 as a peak current source 321 of the phase variable unit driving current source 320. The value of −β 3 × Kpk × ∫edt is added so as to cancel out with the change in wavelength. Further, I ph DC has a value of −γ 3 × β 3 × Kpk × ∫edt so that the oscillation wavelength of the wavelength tunable DBR semiconductor laser light source 300 follows the maximum efficiency wavelength of the optical waveguide type QPM-SHG device 304. Is added.

以上の処理を、誤差eが0となるまで繰り返し(S15)、発光部駆動電流源310の電流値IopPKを、このときのIopPKに決定する(S16)。以後、この電流値IopPKで波長可変DBR半導体レーザ光源300の発光部301を駆動する。 The above processing is repeated until the error e becomes 0 (S15), the current value I op PK emitting section drive current source 310, to determine the I op PK at this time (S16). Thereafter, the light emitting unit 301 of the wavelength tunable DBR semiconductor laser light source 300 is driven with the current value I op PK.

以上のような処理を行えば、波長可変DBR半導体レーザ光源300の発振波長を光導波路型QPM−SHGデバイス304の最大効率波長に追従させながら、IopPKを変化させて所望のピークパワーを得ることができる。 When the above processing is performed, the desired peak power is obtained by changing I op PK while making the oscillation wavelength of the wavelength tunable DBR semiconductor laser light source 300 follow the maximum efficiency wavelength of the optical waveguide type QPM-SHG device 304. be able to.

[再生パワー較正]
次に、再生パワー較正を行う。
[Reproduction power calibration]
Next, reproduction power calibration is performed.

以下、再生パワー較正の手順について、図20に示すフローチャートを用いて、詳細に説明する。   Hereinafter, the reproduction power calibration procedure will be described in detail with reference to the flowchart shown in FIG.

最初、それぞれの電流源は、図19に示すようなテストパターン3を用いることにより、再生動作時の駆動形態となっている(S17)。   Initially, each current source is in a driving mode during a reproducing operation by using a test pattern 3 as shown in FIG. 19 (S17).

再生パワー較正の開始時点においては、IopRDはプリセット値IopRD(pr)となっている。マーク部における波長可変DBR半導体レーザ光源300の光出力の平均値を検出し、そのときのモニタ電圧をFSmon とする。ここで、リードパワーの制御目標値をRDref とする。また、RDref とFSmon との誤差eを下記(数25)で表記する(S18)。
[数25]
e=RDref −FSmon
そして、この誤差eの積分値をIopRD(pr)に加算して、下記(数26)を得る。
[数26]
opRD=IopRD(pr)+Krd×∫edt
上記(数26)中、Krdは比例定数であり、光出力の制御特性が最適化されるように設計される。
At the start of reproduction power calibration, I op RD is a preset value I op RD (pr). The average value of the optical output of the tunable DBR semiconductor laser light source 300 in the mark portion is detected, and the monitor voltage at that time is FS mon . Here, the control target value of the read power is RD ref . Further, an error e between RD ref and FS mon is expressed by the following (Equation 25) (S18).
[Equation 25]
e = RD ref −FS mon
Then, the integral value of this error e is added to I op RD (pr) to obtain the following (Equation 26).
[Equation 26]
I op RD = I op RD (pr) + Krd × ∫edt
In the above (Equation 26), Krd is a proportionality constant, and is designed so that the control characteristic of the light output is optimized.

このIopRDの加算に伴い、レジスタブロック520の演算にしたがって、IphDCには、波長可変DBR半導体レーザ光源300の発振波長が光導波路型QPM−SHGデバイス304の最大効率波長に追従するように、−β1 ×Krd×∫edtの値が加算される。 Along with the addition of I op RD, according to the calculation of the register block 520, I ph DC causes the oscillation wavelength of the wavelength tunable DBR semiconductor laser light source 300 to follow the maximum efficiency wavelength of the optical waveguide type QPM-SHG device 304. In addition, a value of −β 1 × Krd × ∫edt is added.

以上の処理を、誤差eが0となるまで繰り返し(S19)、発光部駆動電流源310の電流値IopRDを、このときのIopRDに決定する(S20)。以後、この電流値IopRDで波長可変DBR半導体レーザ光源300の発光部301を駆動する。 The above processing is repeated until the error e becomes 0 (S19), the current value I op RD emitting section drive current source 310, to determine the I op RD at this time (S20). Thereafter, the light emitting unit 301 of the wavelength tunable DBR semiconductor laser light source 300 is driven with the current value I op RD.

以上のような処理を行えば、波長可変DBR半導体レーザ光源300の発振波長を光導波路型QPM−SHGデバイス304の最大効率波長に追従させながら、IopRDを変化させて所望の再生パワーを得ることができる。 When the above processing is performed, the desired reproduction power is obtained by changing I op RD while making the oscillation wavelength of the wavelength tunable DBR semiconductor laser light source 300 follow the maximum efficiency wavelength of the optical waveguide type QPM-SHG device 304. be able to.

以上のように、本実施の形態においては、まず、記録動作時の駆動形態でIdbr 波長探査処理とIphMAIN波長探査処理を行い、その後、記録パワー較正と再生パワー較正を行ったが、以下にその効果を述べる。 As described above, in the present embodiment, first, the I dbr wavelength exploration processing and the I ph MAIN wavelength exploration processing are performed in the drive mode during the recording operation, and then the recording power calibration and the reproduction power calibration are performed. The effect is described below.

まず、再生動作時の駆動形態でIdbr 波長探査処理とIphMAIN波長探査処理を行った場合、最適波長となるIphMAINの値は、波長可変DBR半導体レーザ光源300の複数のモードに対して複数個存在し得る。そして、記録動作時の位相可変部駆動電流源320から波長可変DBR半導体レーザ光源300の位相可変部302に供給される電流は再生動作時よりも低くなるため、再生動作時のIphMAINの値を低い値に決定してしまうと、位相可変部駆動電流源320から波長可変DBR半導体レーザ光源300の位相可変部302に供給される電流が、0mA以下になってしまうか、位相可変部302のダイオード特性の低電流領域における非線形な領域に到達してしまう。このような場合には、所望の光出力が得られない。従って、かかる場合には、リトライ処理により、Idbr 波長探査処理、IphMAIN波長探査処理、再生パワー較正、記録パワー較正を再び繰り返す必要があり、起動時間の大幅なロスに繋がってしまう。 First, when the I dbr wavelength exploration process and the I ph MAIN wavelength exploration process are performed in the drive mode during the reproduction operation, the value of I ph MAIN, which is the optimum wavelength, corresponds to a plurality of modes of the wavelength tunable DBR semiconductor laser light source 300. There can be more than one. Since the current supplied from the phase variable unit driving current source 320 during the recording operation to the phase variable unit 302 of the wavelength tunable DBR semiconductor laser light source 300 is lower than during the reproducing operation, the value of I ph MAIN during the reproducing operation. Is set to a low value, the current supplied from the phase variable unit driving current source 320 to the phase variable unit 302 of the wavelength variable DBR semiconductor laser light source 300 becomes 0 mA or less, or the phase variable unit 302 A non-linear region in the low current region of the diode characteristic is reached. In such a case, a desired light output cannot be obtained. Therefore, in such a case, it is necessary to repeat the I dbr wavelength search process, the I ph MAIN wavelength search process, the reproduction power calibration, and the recording power calibration again by the retry process, which leads to a significant loss of start-up time.

これに対し、本実施の形態においては、まず、記録動作時の駆動形態でIdbr 波長探査処理とIphMAIN波長探査処理を行い、その後、記録パワー較正と再生パワー較正を順次行うようにしたので、IphMAINとして記録動作時に必要な高い値が必然的に求められる。従って、リトライ処理を行うことなく初期レーザ較正処理を終えることができる。 In contrast, in the present embodiment, first, the I dbr wavelength exploration process and the I ph MAIN wavelength exploration process are performed in the drive mode during the recording operation, and then the recording power calibration and the reproduction power calibration are sequentially performed. Therefore, a high value necessary for the recording operation is inevitably obtained as I ph MAIN. Therefore, the initial laser calibration process can be completed without performing the retry process.

また、上記したレーザパワーの較正方法において決定されたそれぞれの電流値を、プリセット値記憶部510に記憶しておき、これらの電流値を次回の起動時に用いるようにすれば、起動時間をより短縮することが可能となる。   In addition, if the current values determined in the laser power calibration method described above are stored in the preset value storage unit 510 and used in the next startup, the startup time is further shortened. It becomes possible to do.

本発明の一実施の形態における光源装置を示す概略構成図1 is a schematic configuration diagram showing a light source device according to an embodiment of the present invention. 本発明の一実施の形態における基本波光の波長に対して出射される高調波光の出力パワーを示す図The figure which shows the output power of the harmonic light radiate | emitted with respect to the wavelength of the fundamental wave light in one embodiment of this invention 本発明の一実施の形態における光源装置の制御回路を示すブロック図The block diagram which shows the control circuit of the light source device in one embodiment of this invention 本発明の一実施の形態における発光部駆動電流と位相可変部駆動電流との関係を示す図The figure which shows the relationship between the light emission part drive current and phase variable part drive current in one embodiment of this invention 図3の光出力/波長制御手段を詳細に示すブロック図Block diagram showing in detail the optical output / wavelength control means of FIG. 本発明の一実施の形態の起動時レーザ処理における各電流源の電流印加状態を示す図The figure which shows the electric current application state of each current source in the laser processing at the time of starting of one embodiment of this invention 本発明の一実施の形態における起動時レーザ処理の効果を説明するための図The figure for demonstrating the effect of the laser processing at the time of start in one embodiment of this invention 本発明の一実施の形態の起動時レーザ処理における各電流源の電流印加状態の他の例を示す図The figure which shows the other example of the electric current application state of each current source in the laser processing at the time of starting of one embodiment of this invention 本発明の一実施の形態の起動時レーザ処理における各電流源の電流印加状態のさらに他の例を示す図The figure which shows the further another example of the electric current application state of each current source in the laser processing at the time of starting of one embodiment of this invention 本発明の一実施の形態のIdbr 波長探査処理における記録動作時の駆動形態に近い駆動形態にしておくためのテストパターンを示す図The figure which shows the test pattern for making it the drive form close | similar to the drive form at the time of the recording operation in the Idbr wavelength search process of one embodiment of this invention 本発明の一実施の形態のIdbr 波長探査処理における波長可変部駆動電流波形を示す図The figure which shows the wavelength variable part drive current waveform in the Idbr wavelength search process of one embodiment of this invention 本発明の一実施の形態におけるIdbr 波長探査処理の手順を示すフローチャートThe flowchart which shows the procedure of the Idbr wavelength search process in one embodiment of this invention 本発明の一実施の形態におけるIphMAIN波長探査処理の手順を示すフローチャートThe flowchart which shows the procedure of the Iph MAIN wavelength search process in one embodiment of this invention 本発明の一実施の形態のボトムパワー較正における定常動作させるためのテストパターンを示す図The figure which shows the test pattern for making it operate | move normally in the bottom power calibration of one embodiment of this invention 本発明の一実施の形態におけるボトムパワー較正の手順を示すフローチャートThe flowchart which shows the procedure of the bottom power calibration in one embodiment of this invention 本発明の一実施の形態のバイアスパワー較正における記録動作時の駆動形態に近い駆動形態にしておくためのテストパターンを示す図The figure which shows the test pattern for making it the drive form close | similar to the drive form at the time of the recording operation in the bias power calibration of one embodiment of this invention 本発明の一実施の形態におけるバイアスパワー較正の手順を示すフローチャートThe flowchart which shows the procedure of the bias power calibration in one embodiment of this invention 本発明の一実施の形態におけるピークパワー較正の手順を示すフローチャートThe flowchart which shows the procedure of the peak power calibration in one embodiment of this invention 本発明の一実施の形態のリードパワー較正における再生動作時の駆動形態にしておくためのテストパターンを示す図The figure which shows the test pattern for making it the drive form at the time of reproduction | regeneration operation | movement in the read power calibration of one embodiment of this invention 本発明の一実施の形態における再生パワー較正の手順を示すフローチャートThe flowchart which shows the procedure of the reproduction power calibration in one embodiment of this invention 従来技術における光導波路型QPM−SHGデバイスを用いたSHG青色光源の概略構成図Schematic configuration diagram of SHG blue light source using optical waveguide type QPM-SHG device in the prior art

符号の説明Explanation of symbols

1 DBR領域
2 位相調整領域
3 活性層領域
4 半導体レーザ光源
5、304 光導波路型QPM−SHGデバイス
11 X板MgOドープLiNbO3 基板
12 光導波路
300 波長可変DBR半導体レーザ光源
301 発光部(活性層領域)
302 位相可変部(位相調整領域)
303 波長可変部(DBR領域)
305 フォトディテクタ
306 I/Vアンプ
310 発光部駆動電流源
311、321 ピーク電流源
312、322 バイアス電流源
313、323 DC電流源
320 位相可変部駆動電流源
330 波長可変部駆動電流源
340 光出力/波長制御手段
350 記録波形生成手段
360 反転手段
510 プリセット値記憶部
520 レジスタブロック
340 光出力/波長制御手段
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 DBR area | region 2 Phase adjustment area | region 3 Active layer area | region 4 Semiconductor laser light source 5,304 Optical waveguide type QPM-SHG device 11 X plate MgO doped LiNbO 3 substrate 12 Optical waveguide 300 Wavelength variable DBR semiconductor laser light source 301 Light emitting part (active layer area) )
302 Phase variable section (phase adjustment area)
303 Wavelength tuning unit (DBR region)
305 Photodetector 306 I / V amplifier 310 Light emitting unit drive current source 311, 321 Peak current source 312, 322 Bias current source 313, 323 DC current source 320 Phase variable unit drive current source 330 Wavelength variable unit drive current source 340 Optical output / wavelength Control unit 350 Recording waveform generation unit 360 Inversion unit 510 Preset value storage unit 520 Register block 340 Optical output / wavelength control unit

Claims (3)

少なくとも活性層領域と位相調整領域と分布ブラッグ反射器(DBR)領域を有する半導体レーザ光源と、前記半導体レーザ光源の出射光から第2高調波を発生させる第2高調波発生デバイスと、前記第2高調波発生デバイスからの光出力を検出する手段とを備え、前記半導体レーザ光源の光出力を低出力状態と高出力状態の少なくとも2つの状態に切り替える光源装置の制御方法であって、
まず、前記半導体レーザ光源が高出力状態で、前記半導体レーザ光源の出射光の波長を前記第2高調波発生デバイスの最適波長にするための較正を行い、
その後、前記半導体レーザ光源が高出力状態での、前記第2高調波発生デバイスからの光出力を制御目標値にするための較正と、前記半導体レーザ光源が低出力状態での、前記第2高調波発生デバイスからの光出力を制御目標値にするための較正とを順次行うことを特徴とする光源装置の制御方法。
A semiconductor laser light source having at least an active layer region, a phase adjustment region, and a distributed Bragg reflector (DBR) region, a second harmonic generation device for generating a second harmonic from light emitted from the semiconductor laser light source, and the second Means for detecting light output from a harmonic generation device, and a method of controlling a light source device that switches the light output of the semiconductor laser light source to at least two states of a low output state and a high output state,
First, the semiconductor laser light source is a high-output state, performs Calibration for the wavelength of the emitted light of the semiconductor laser light source to the optimum wavelength of the second harmonic generation device,
Thereafter, calibration for setting the light output from the second harmonic generation device to a control target value when the semiconductor laser light source is in a high output state, and the second harmonic when the semiconductor laser light source is in a low output state. A method for controlling a light source device, comprising sequentially performing calibration for setting a light output from a wave generating device to a control target value .
前記半導体レーザ光源の出射光の波長を前記第2高調波発生デバイスの最適波長にするための較正は、前記位相調整領域と前記DBR領域に注入する電流量を調節して行われる請求項1に記載の光源装置の制御方法。 The semiconductor laser calibration wavelength of the emitted light to the optimum wavelength of the second harmonic generation device of the light source, to claim 1 which is performed by adjusting the amount of current injected into the said phase control region DBR region The light source device control method according to claim. 前記第2高調波発生デバイスからの光出力を制御目標値にするための較正は、前記活性層領域と前記位相調整領域に注入する電流量を調節して行われる請求項1に記載の光源装置の制御方法。 The second calibration for the light output to the control target value from the harmonic generation device, a light source device according to claim 1 which is performed by adjusting the amount of current injected to the active layer region to the phase adjustment area Control method.
JP2007216297A 2007-08-22 2007-08-22 Control method of light source device Expired - Fee Related JP4714716B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007216297A JP4714716B2 (en) 2007-08-22 2007-08-22 Control method of light source device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007216297A JP4714716B2 (en) 2007-08-22 2007-08-22 Control method of light source device

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002097223A Division JP4181333B2 (en) 2002-03-29 2002-03-29 Control method of light source device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2007300149A JP2007300149A (en) 2007-11-15
JP4714716B2 true JP4714716B2 (en) 2011-06-29

Family

ID=38769313

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007216297A Expired - Fee Related JP4714716B2 (en) 2007-08-22 2007-08-22 Control method of light source device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4714716B2 (en)

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3334787B2 (en) * 1996-05-22 2002-10-15 松下電器産業株式会社 Oscillation wavelength stabilizing device for light source, harmonic output stabilizing device for light source, and optical disk system using them
JP3433044B2 (en) * 1997-05-21 2003-08-04 日本電信電話株式会社 Frequency stabilized light source
JP4485617B2 (en) * 1998-05-18 2010-06-23 パナソニック株式会社 Optical wavelength conversion element, coherent light generation apparatus and optical information processing apparatus using the same
JP2002043698A (en) * 1999-12-22 2002-02-08 Yokogawa Electric Corp Shg laser light source and method for modulating shg laser light source
JP2002016317A (en) * 2000-06-30 2002-01-18 Yokogawa Electric Corp Semiconductor laser light source and measuring apparatus using the same

Also Published As

Publication number Publication date
JP2007300149A (en) 2007-11-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3908730B2 (en) Light source device and modulation method thereof
US6323990B1 (en) Method for stabilizing output of higher harmonic waves and short wavelength laser beam source using the same
JP4693364B2 (en) Optical wavelength conversion device, control method therefor, and image projection device using the same
JP4950519B2 (en) Optical wavelength conversion device, optical wavelength conversion method, and image forming apparatus using the same
US7505492B2 (en) Alignment of lasing wavelength with wavelength conversion peak using modulated wavelength control signal
JP4545380B2 (en) Optical waveguide device, coherent light source using the same, and optical apparatus provided with the same
JP2002043698A (en) Shg laser light source and method for modulating shg laser light source
JP4914083B2 (en) Optical wavelength conversion device, optical wavelength conversion method, and image forming apparatus using the same
US6711183B1 (en) Optical wavelength conversion device, coherent light generator, and optical information processing apparatus
JP4181333B2 (en) Control method of light source device
JP4485617B2 (en) Optical wavelength conversion element, coherent light generation apparatus and optical information processing apparatus using the same
US7085297B2 (en) Driving method and driving circuit of light source apparatus
JP4806114B2 (en) Optical wavelength conversion element, laser light generation apparatus and optical information processing apparatus using the same
JPH1041589A (en) Device for stabilizing wavelength oscillated from light source and device for stabilizing higher harmonic output of light source, and optical disk system using those
JP4714716B2 (en) Control method of light source device
JP2007194416A (en) Light wavelength conversion light source
JP3550241B2 (en) Wavelength converter
JP4606053B2 (en) Driving method and driving circuit of light source device
JP3707775B2 (en) Optical disc system
JP3329446B2 (en) Coherent light source and control method thereof
JP3855431B2 (en) Short wavelength light source and optical recording apparatus using the same
JP4914082B2 (en) Optical wavelength conversion device, optical wavelength conversion method, and image forming apparatus using the same
JP3707774B2 (en) Optical disc system
JPH06102553A (en) Optical wavelength conversion element and short wavelength laser beam source
JP2003315859A (en) Wavelength converting laser device

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20070822

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100624

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100726

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20101109

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110121

A911 Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20110131

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20110308

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20110328

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees