JP4712544B2 - Surface treatment equipment - Google Patents

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JP4712544B2 JP2005345017A JP2005345017A JP4712544B2 JP 4712544 B2 JP4712544 B2 JP 4712544B2 JP 2005345017 A JP2005345017 A JP 2005345017A JP 2005345017 A JP2005345017 A JP 2005345017A JP 4712544 B2 JP4712544 B2 JP 4712544B2
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Description

本発明は、表面処理装置に関し、特に、被処理体のシワの発生を抑制することができる表面処理装置に関する。   The present invention relates to a surface treatment apparatus, and more particularly, to a surface treatment apparatus that can suppress the occurrence of wrinkles on an object to be processed.

近年における電子機器の高機能化に伴い、電子機器を構成する電子部品を搭載および接続するプリント配線基板についても高機能化が要請され、プリント配線基板を多層に積層することによる３次元的な高密度化が進んでいる。   With the recent increase in functionality of electronic devices, there is a demand for higher functionality for printed wiring boards on which electronic components constituting electronic devices are mounted and connected. Densification is progressing.

このようなプリント配線基板としては、ポリイミド樹脂などの樹脂からなる絶縁フィルムに銅箔などの金属層を貼り合わせたフレキシブル積層体の金属層の一部をエッチングして回路を形成したものが主に用いられており、これがプリプレグ（樹脂含浸基材）などによって貼り合わされて多層に積層され、電子機器の回路を構成している（たとえば、特許文献１参照）。   As such a printed wiring board, a circuit is formed mainly by etching a part of a metal layer of a flexible laminate in which a metal layer such as a copper foil is bonded to an insulating film made of a resin such as a polyimide resin. It is used, and is laminated by a prepreg (resin impregnated base material) or the like and laminated in multiple layers to constitute a circuit of an electronic device (for example, see Patent Document 1).

しかしながら、ポリイミド樹脂などの樹脂からなる絶縁フィルムは接着性に乏しいことが多い。そこで、絶縁フィルムの表面を放電プラズマ処理することなどによって接着性を向上させる表面処理が行なわれている（たとえば、特許文献２および特許文献３参照）。
特開２００４−１４８５４３号公報 特開２００５−５５６０号公報 特開２００４−３２７９３１号公報 特開２０００−７２９０３号公報 However, an insulating film made of a resin such as a polyimide resin often has poor adhesion. Therefore, surface treatment is performed to improve the adhesion by performing discharge plasma treatment on the surface of the insulating film (see, for example, Patent Document 2 and Patent Document 3).
JP 2004-148543 A JP 2005-5560 A JP 2004-327931 A JP 2000-72903 A

一般的に放電プラズマ処理は、処理効率の向上のために被処理体を金属ロールで搬送するラインを形成し、そのラインの中途に設置されたプラズマ処理室において行なわれている（たとえば、特許文献４参照）。   In general, discharge plasma processing is performed in a plasma processing chamber formed in the middle of a line for forming a line for conveying an object to be processed by a metal roll in order to improve processing efficiency (for example, Patent Documents). 4).

しかしながら、上記のフレキシブル積層体の絶縁フィルムの表面の放電プラズマ処理を行なう場合には、金属ロールによる搬送中にフレキシブル積層体の絶縁フィルムの表面と金属ロールの表面とが密着して金属ロールによる搬送がスムーズにならないため、フレキシブル積層体が折れてしまい、フレキシブル積層体に折れシワが発生するという問題があった。また、フレキシブル積層体の絶縁フィルムの表面と金属ロールの表面とが密着することに起因してフレキシブル積層体の搬送に揺らぎが生じ、この揺らぎが放電プラズマ処理後のフレキシブル積層体の巻き取りにまで影響して、フレキシブル積層体の巻き取り時にフレキシブル積層体にシワが発生するという問題があった。また、このような問題は、金属層の形成前の絶縁フィルムの表面の放電プラズマ処理を行なう際にも生じていた。   However, when performing the discharge plasma treatment on the surface of the insulating film of the flexible laminate, the surface of the insulating film of the flexible laminate and the surface of the metal roll are in close contact with each other during the transportation by the metal roll. However, there is a problem that the flexible laminate is folded and wrinkles are generated in the flexible laminate. In addition, due to the contact between the surface of the insulating film of the flexible laminate and the surface of the metal roll, fluctuations occur in the conveyance of the flexible laminate, and this fluctuation extends to the winding of the flexible laminate after the discharge plasma treatment. There is a problem that wrinkles are generated in the flexible laminate when the flexible laminate is wound. Such a problem has also occurred when performing discharge plasma treatment on the surface of the insulating film before forming the metal layer.

上記の事情に鑑みて、本発明の目的は、被処理体のシワの発生を抑制することができる表面処理装置を提供することにある。   In view of the above circumstances, an object of the present invention is to provide a surface treatment apparatus capable of suppressing the occurrence of wrinkles on an object to be treated.

本発明の第１の態様によれば、金属層と絶縁フィルムとが少なくとも積層されてなるフレキシブル積層体の絶縁フィルムの表面を放電プラズマ処理するための装置であって、絶縁フィルムの表面を放電プラズマ処理するためのプラズマ処理室と、プラズマ処理室の上流側に設置された搬送ロールと、プラズマ処理室の下流側に設置された搬送ロールと、を
備え、プラズマ処理室の下流側に設置された搬送ロールは最外層が樹脂層からなる樹脂被覆ロールを含み、樹脂被覆ロールは樹脂層の表面が放電プラズマ処理後のフレキシブル積層体の絶縁フィルムの表面と接触するように設置されており、樹脂被覆ロールの樹脂層の表面と絶縁フィルムの表面との接触状態下における樹脂層の静電容量が１００００Ｆ（ファラッド）以下であり、接触状態は、絶縁フィルムがテンションをかけられた状態で搬送されながら樹脂層の外周面の一部と接触している状態であり、樹脂層は、ＰＦＡ樹脂、ＥＴＦＥ樹脂またはＰＴＦＥ樹脂からなり、樹脂層の厚さは４３．５μｍ以上１１０μｍ以下であって、絶縁フィルムはポリイミド樹脂からなる表面処理装置が提供される。 According to the first aspect of the present invention, there is provided an apparatus for performing discharge plasma treatment on the surface of an insulating film of a flexible laminate comprising at least a metal layer and an insulating film, the surface of the insulating film being subjected to discharge plasma. A plasma processing chamber for processing, a transport roll installed on the upstream side of the plasma processing chamber, and a transport roll installed on the downstream side of the plasma processing chamber, and installed on the downstream side of the plasma processing chamber The transport roll includes a resin coating roll whose outermost layer is a resin layer, and the resin coating roll is installed such that the surface of the resin layer is in contact with the surface of the insulating film of the flexible laminate after the discharge plasma treatment. the capacitance of the resin layer under the contact state between the surface and the surface of the insulating film of the roll of the resin layer is not more than 10000F (farad), the contact shape Is a state in which the insulating film is in contact with a part of the outer peripheral surface of the resin layer while being conveyed in a tensioned state, and the resin layer is made of PFA resin, ETFE resin or PTFE resin, the thickness is a less 110μm or more 43.5Myuemu, insulating film surface treatment apparatus ing a polyimide resin is provided.

本発明の第２の態様によれば、絶縁フィルムの表面を放電プラズマ処理するための装置であって、絶縁フィルムの表面を放電プラズマ処理するためのプラズマ処理室と、プラズマ処理室の上流側に設置された搬送ロールと、プラズマ処理室の下流側に設置された搬送ロールと、を備え、プラズマ処理室の下流側に設置された搬送ロールは最外層が樹脂層からなる樹脂被覆ロールを含み、樹脂被覆ロールは樹脂層の表面が放電プラズマ処理後の絶縁フィルムの表面と接触するように設置されており、樹脂被覆ロールの樹脂層の表面と絶縁フィルムの表面との接触状態下における樹脂層の静電容量が１００００Ｆ以下であり、接触状態は、絶縁フィルムがテンションをかけられた状態で搬送されながら樹脂層の外周面の一部と接触している状態であり、樹脂層は、ＰＦＡ樹脂、ＥＴＦＥ樹脂またはＰＴＦＥ樹脂からなり、樹脂層の厚さは４３．５μｍ以上１１０μｍ以下であって、絶縁フィルムはポリイミド樹脂からなる表面処理装置が提供される。 According to the second aspect of the present invention, there is provided an apparatus for performing a discharge plasma treatment on the surface of an insulating film, the plasma treatment chamber for performing a discharge plasma treatment on the surface of the insulation film, and an upstream side of the plasma treatment chamber. A transport roll installed on the downstream side of the plasma processing chamber, and a transport roll installed on the downstream side of the plasma processing chamber includes a resin-coated roll whose outermost layer is a resin layer; The resin coating roll is installed so that the surface of the resin layer is in contact with the surface of the insulating film after the discharge plasma treatment, and the resin layer under the contact state between the surface of the resin layer of the resin coating roll and the surface of the insulating film. capacitance or less 10000F, contact state, in a state where the insulating film is in contact with part of the outer peripheral surface of the resin layer while being conveyed while being tensioned Ri, the resin layer is made of PFA resin, ETFE resin or PTFE resin, the thickness of the resin layer is a less 110μm or more 43.5Myuemu, insulating film surface treatment apparatus ing a polyimide resin is provided.

ここで、本発明の第１の態様および第２の態様による表面処理装置においては、樹脂被覆ロールの樹脂層の誘電率が３Ｆ／ｍ以下であることが好ましい。   Here, in the surface treatment apparatus according to the first and second aspects of the present invention, the dielectric constant of the resin layer of the resin-coated roll is preferably 3 F / m or less.

また、本発明の第１の態様および第２の態様による表面処理装置においては、樹脂被覆ロールの樹脂層の静摩擦係数が０．１以下であることが好ましい。   Moreover, in the surface treatment apparatus according to the first and second aspects of the present invention, it is preferable that the static friction coefficient of the resin layer of the resin-coated roll is 0.1 or less.

また、本発明の第１の態様および第２の態様による表面処理装置においては、プラズマ処理室の上流側に設置された搬送ロールは、プラズマ処理室に絶縁フィルムを鉛直方向に搬入するための搬送ロールを含むことが好ましい。   Moreover, in the surface treatment apparatus according to the first and second aspects of the present invention, the transport roll installed on the upstream side of the plasma processing chamber transports the insulating film into the plasma processing chamber in the vertical direction. It is preferable to include a roll.

また、本発明の第１の態様および第２の態様による表面処理装置においては、プラズマ処理室の上流側にプラズマ処理室に隣接した予備室を備えていてもよい。   In the surface treatment apparatus according to the first and second aspects of the present invention, a preliminary chamber adjacent to the plasma processing chamber may be provided upstream of the plasma processing chamber.

また、本発明の第１の態様および第２の態様による表面処理装置においては、プラズマ処理室の下流側にプラズマ処理室に隣接した予備室を備えていてもよい。   In the surface treatment apparatus according to the first and second aspects of the present invention, a preliminary chamber adjacent to the plasma processing chamber may be provided on the downstream side of the plasma processing chamber.

本発明の第３の態様によれば、金属層と絶縁フィルムとが少なくとも積層されてなるフレキシブル積層体の絶縁フィルムの表面を放電プラズマ処理するための装置であって、絶縁フィルムの表面を放電プラズマ処理するための第１プラズマ処理室と、絶縁フィルムの表面を放電プラズマ処理するための第２プラズマ処理室と、第１プラズマ処理室の上流側に第１プラズマ処理室に隣接して設置された第１予備室と、第２プラズマ処理室の下流側に第２プラズマ処理室に隣接して設置された第２予備室と、第１プラズマ処理室の下流側かつ第２プラズマ処理室の上流側に設置された第３予備室と、第１プラズマ処理室の上流側に設置された第１搬送ロールと、第２プラズマ処理室の下流側に設置された第２搬送ロールと、第３予備室内に設置された第３搬送ロールと、を備え、第１プラズマ処理室は第２プラズマ処理室の上流側に設置され、第１プラズマ処理室と第２プラズマ処理室とは第３予備室を介して連結されており、第１搬送ロールは第１プラズマ処理室にフレキシブル積層体を鉛直方向に搬入するための搬送ロールを第１予備室内に含み、第２搬送ロールは第２プラズマ処理室からフレキシブル積層体を鉛直方向に搬出するための搬送ロールを第２予備室内に含んでおり、第２搬送ロールおよび第３搬送ロールはそれぞれ、最外層が樹脂層からなる樹脂被覆ロールを含み、樹脂被覆ロールは樹脂層の表面が放電プラズマ処理後のフレキシブル積層体の絶縁フィルムの表面と接触するように設置されており、樹脂被覆ロールの樹脂層の表面と絶縁フィルムの表面との接触状態下における静電容量が１００００Ｆ以下であり、接触状態は、絶縁フィルムがテンションをかけられた状態で搬送されながら樹脂層の外周面の一部と接触している状態であり、樹脂層は、ＰＦＡ樹脂、ＥＴＦＥ樹脂またはＰＴＦＥ樹脂からなり、樹脂層の厚さは４３．５μｍ以上１１０μｍ以下であって、絶縁フィルムはポリイミド樹脂からなる表面処理装置が提供される。 According to the third aspect of the present invention, there is provided an apparatus for performing discharge plasma treatment on the surface of an insulating film of a flexible laminate comprising at least a metal layer and an insulating film, the surface of the insulating film being subjected to discharge plasma. A first plasma processing chamber for processing, a second plasma processing chamber for performing discharge plasma processing on the surface of the insulating film, and an upstream side of the first plasma processing chamber and adjacent to the first plasma processing chamber A first preliminary chamber; a second preliminary chamber installed adjacent to the second plasma processing chamber on the downstream side of the second plasma processing chamber; the downstream side of the first plasma processing chamber and the upstream side of the second plasma processing chamber A third preliminary chamber installed in the first plasma processing chamber, a first transport roll installed upstream of the first plasma processing chamber, a second transport roll installed downstream of the second plasma processing chamber, and a third preliminary chamber Installed in A third transfer roll, the first plasma processing chamber is installed upstream of the second plasma processing chamber, and the first plasma processing chamber and the second plasma processing chamber are connected via a third preliminary chamber. The first transport roll includes a transport roll for vertically loading the flexible laminate into the first plasma processing chamber in the first preliminary chamber, and the second transport roll receives the flexible stack from the second plasma processing chamber. A transport roll for carrying out in the vertical direction is included in the second preliminary chamber, and each of the second transport roll and the third transport roll includes a resin coating roll whose outermost layer is a resin layer, and the resin coating roll is a resin layer. Is installed so that the surface of the insulating film of the flexible laminate after the discharge plasma treatment is in contact with the surface of the resin layer of the resin coating roll and the surface of the insulating film Capacitance at is less 10000F, contact state is a state in which the insulating film is in contact with part of the outer peripheral surface of the resin layer while being conveyed while being tensioned, the resin layer, PFA resin consists ETFE resin or PTFE resin, the thickness of the resin layer is a less 110μm or more 43.5Myuemu, insulating film surface treatment apparatus ing a polyimide resin is provided.

また、本発明の第４の態様によれば、絶縁フィルムの表面を放電プラズマ処理するための装置であって、絶縁フィルムの表面を放電プラズマ処理するための第１プラズマ処理室と、絶縁フィルムの表面を放電プラズマ処理するための第２プラズマ処理室と、第１プラズマ処理室の上流側に第１プラズマ処理室に隣接して設置された第１予備室と、第２プラズマ処理室の下流側に第２プラズマ処理室に隣接して設置された第２予備室と、第１プラズマ処理室の下流側かつ第２プラズマ処理室の上流側に設置された第３予備室と、第１プラズマ処理室の上流側に設置された第１搬送ロールと、第２プラズマ処理室の下流側に設置された第２搬送ロールと、第３予備室内に設置された第３搬送ロールと、を備え、第１プラズマ処理室は第２プラズマ処理室の上流側に設置され、第１プラズマ処理室と第２プラズマ処理室とは第３予備室を介して連結されており、第１搬送ロールは第１プラズマ処理室に絶縁フィルムを鉛直方向に搬入するための搬送ロールを第１予備室内に含み、第２搬送ロールは第２プラズマ処理室から絶縁フィルムを鉛直方向に搬出するための搬送ロールを第２予備室内に含んでおり、第２搬送ロールおよび第３搬送ロールはそれぞれ、最外層が樹脂層からなる樹脂被覆ロールを含み、樹脂被覆ロールは樹脂層の表面が放電プラズマ処理後の絶縁フィルムの表面と接触するように設置されており、樹脂被覆ロールの樹脂層の表面と絶縁フィルムの表面との接触状態下における静電容量が１００００Ｆ以下であり、接触状態は、絶縁フィルムがテンションをかけられた状態で搬送されながら樹脂層の外周面の一部と接触している状態であり、樹脂層は、ＰＦＡ樹脂、ＥＴＦＥ樹脂またはＰＴＦＥ樹脂からなり、樹脂層の厚さは４３．５μｍ以上１１０μｍ以下であって、絶縁フィルムはポリイミド樹脂からなる表面処理装置が提供される。 According to the fourth aspect of the present invention, there is provided an apparatus for performing discharge plasma treatment on the surface of the insulating film, the first plasma processing chamber for performing discharge plasma treatment on the surface of the insulating film, and the insulating film. A second plasma processing chamber for performing a discharge plasma treatment on the surface; a first auxiliary chamber installed adjacent to the first plasma processing chamber upstream of the first plasma processing chamber; and a downstream side of the second plasma processing chamber A second preliminary chamber installed adjacent to the second plasma processing chamber, a third preliminary chamber installed downstream of the first plasma processing chamber and upstream of the second plasma processing chamber, and a first plasma processing A first transport roll installed on the upstream side of the chamber, a second transport roll installed on the downstream side of the second plasma processing chamber, and a third transport roll installed in the third preliminary chamber, One plasma processing chamber is the second plasma The first plasma processing chamber and the second plasma processing chamber are connected to each other through a third auxiliary chamber, and the first transport roll vertically attaches the insulating film to the first plasma processing chamber. The second transport roll includes a transport roll for carrying out the insulating film in the vertical direction from the second plasma processing chamber, and includes a transport roll for carrying in the first preliminary chamber. Each of the transport roll and the third transport roll includes a resin-coated roll whose outermost layer is a resin layer, and the resin-coated roll is installed so that the surface of the resin layer is in contact with the surface of the insulating film after the discharge plasma treatment. , the electrostatic capacitance under the contact state between the surfaces of the insulating film of the resin layer of the resin-coated roll is not more than 10000F, contact state, like the insulating film was subjected to tension The resin layer is made of PFA resin, ETFE resin or PTFE resin, and the thickness of the resin layer is 43.5 μm or more and 110 μm or less. Te, insulating film surface treatment apparatus ing a polyimide resin is provided.

また、本発明の第３の態様および第４の態様による表面処理装置においては、樹脂被覆ロールの樹脂層の誘電率が３Ｆ／ｍ以下であることが好ましい。   Moreover, in the surface treatment apparatus according to the third aspect and the fourth aspect of the present invention, it is preferable that the dielectric constant of the resin layer of the resin coating roll is 3 F / m or less.

また、本発明の第３の態様および第４の態様による表面処理装置においては、樹脂被覆ロールの樹脂層の静摩擦係数が０．１以下であることが好ましい。   In the surface treatment apparatus according to the third and fourth aspects of the present invention, it is preferable that the static friction coefficient of the resin layer of the resin-coated roll is 0.1 or less.

本発明によれば、被処理体のシワの発生を抑制することができる表面処理装置を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the surface treatment apparatus which can suppress generation | occurrence | production of the wrinkle of a to-be-processed object can be provided.

以下、本発明の実施の形態について説明する。なお、本発明の図面において、同一の参照符号は、同一部分または相当部分を表わすものとする。   Embodiments of the present invention will be described below. In the drawings of the present invention, the same reference numerals represent the same or corresponding parts.

図１に、本発明の表面処理装置の好ましい一例の模式的な構成図を示す。ここで、本発明の表面処理装置４０においては、被処理体となるフレキシブル積層体３９の搬送の流れの上流側の端部に未処理のフレキシブル積層体３９が巻き付けられた繰り出しロール２６が設置されており、フレキシブル積層体３９の搬送の流れの下流側の端部に放電プラズマ処理後のフレキシブル積層体３９を巻き取るための巻き取りロール２７が設置されている。ここで、フレキシブル積層体３９は、ポリイミド樹脂フィルムからなる絶縁フィルム３９ａと絶縁フィルム３９ａ上に貼り付けられた銅箔からなる金属層３９ｂとから構成されている。   In FIG. 1, the typical block diagram of a preferable example of the surface treatment apparatus of this invention is shown. Here, in the surface treatment apparatus 40 of the present invention, the feeding roll 26 in which the untreated flexible laminate 39 is wound around the upstream end of the flow of the conveyance of the flexible laminate 39 that is the object to be treated is installed. A take-up roll 27 for winding up the flexible laminate 39 after the discharge plasma treatment is provided at the downstream end of the flow of the flexible laminate 39. Here, the flexible laminate 39 is composed of an insulating film 39a made of a polyimide resin film and a metal layer 39b made of a copper foil attached on the insulating film 39a.

また、繰り出しロール２６と巻き取りロール２７との間には、複数の搬送ロールが設置されているとともに、フレキシブル積層体３９の絶縁フィルム３９ａを放電プラズマ処理するための第１プラズマ処理室３０と第２プラズマ処理室３２とが設置されている。ここで、第１プラズマ処理室３０は、第２プラズマ処理室３２の上流側に位置しており、第１プラズマ処理室３０内には紙面の裏側の方向（水平方向）に向かって伸びる丸棒状の一対の電極３５、３６が紙面の上下方向（鉛直方向）に複数配置されており、第２プラズマ処理室３２内には水平方向に向かって伸びる丸棒状の一対の電極３７、３８が鉛直方向に複数配置されている。   A plurality of transport rolls are installed between the feed roll 26 and the take-up roll 27, and the first plasma processing chamber 30 and the first plasma processing chamber 30 for performing discharge plasma processing on the insulating film 39a of the flexible laminate 39 are also provided. 2 plasma processing chambers 32 are installed. Here, the first plasma processing chamber 30 is located on the upstream side of the second plasma processing chamber 32, and the first plasma processing chamber 30 has a round bar shape extending in the direction (horizontal direction) on the back side of the paper surface. A plurality of electrodes 35 and 36 are arranged in the vertical direction (vertical direction) on the paper surface, and a pair of round bar-shaped electrodes 37 and 38 extending in the horizontal direction are vertically arranged in the second plasma processing chamber 32. Is arranged in multiple.

また、第１プラズマ処理室３０の上流側には第１上予備室２９が第１プラズマ処理室３０に隣接して設置されており、第１上予備室２９の上流側にはさらに入口予備室２８が第１上予備室２９に隣接して設置されている。また、第２プラズマ処理室３２の下流側には第２上予備室３３が第２プラズマ処理室３２に隣接して設置されており、第２上予備室３３の下流側にはさらに出口予備室３４が第２上予備室３３に隣接して設置されている。また、第１プラズマ処理室３０の下流側および第２プラズマ処理室３２の上流側には第１プラズマ処理室３０および第２プラズマ処理室３２のそれぞれに隣接する下予備室３１が設置されている。ここで、入口予備室２８、第１上予備室２９、下予備室３１、第２上予備室３３および出口予備室３４はそれぞれ第１プラズマ処理室３０および第２プラズマ処理室３２の内部に外部のガスが入り込むのを抑制して、第１プラズマ処理室３０および第２プラズマ処理室３２における放電プラズマ処理による処理効果を十分に得るために設置されている。   A first upper preliminary chamber 29 is installed adjacent to the first plasma processing chamber 30 on the upstream side of the first plasma processing chamber 30, and an inlet preliminary chamber is further provided on the upstream side of the first upper preliminary chamber 29. 28 is installed adjacent to the first upper spare chamber 29. Further, a second upper preliminary chamber 33 is installed adjacent to the second plasma processing chamber 32 on the downstream side of the second plasma processing chamber 32, and an outlet preliminary chamber is further provided on the downstream side of the second upper preliminary chamber 33. 34 is installed adjacent to the second upper spare chamber 33. Further, on the downstream side of the first plasma processing chamber 30 and the upstream side of the second plasma processing chamber 32, lower preliminary chambers 31 adjacent to the first plasma processing chamber 30 and the second plasma processing chamber 32 are installed. . Here, the inlet preliminary chamber 28, the first upper preliminary chamber 29, the lower preliminary chamber 31, the second upper preliminary chamber 33, and the outlet preliminary chamber 34 are external to the inside of the first plasma processing chamber 30 and the second plasma processing chamber 32, respectively. It is installed in order to suppress the gas from entering and sufficiently obtain the treatment effect by the discharge plasma treatment in the first plasma treatment chamber 30 and the second plasma treatment chamber 32.

このような構成の本発明の表面処理装置４０において、フレキシブル積層体３９は繰り出しロール２６から絶縁フィルム３９ａを上面側、金属層３９ｂを下面側として繰り出され、搬送ロール１、搬送ロール２、搬送ロール３および搬送ロール４によって順次搬送された後に入口予備室２８内に搬入される。   In the surface treatment apparatus 40 of the present invention having such a configuration, the flexible laminate 39 is fed from the feeding roll 26 with the insulating film 39a as the upper surface side and the metal layer 39b as the lower surface side, and the conveying roll 1, the conveying roll 2, and the conveying roll. 3 and the transport roll 4 are sequentially transported and then transported into the entrance preliminary chamber 28.

そして、入口予備室２８内において、フレキシブル積層体３９は、搬送ロール６、搬送ロール７および搬送ロール９によって順次搬送された後に第１上予備室２９内に搬入する。なお、入口予備室２８内にはガスシール用ロール８が設置されており、ガスシール用ロール８の表面は密に起毛している。そして、ガスシール用ロール８と搬送ロール９とは互いに接触してフレキシブル積層体３９を挟み込んでガスシールの役割を果たし、第１プラズマ処理室３０および第２プラズマ処理室３２の内部に外部のガスが入り込むのを抑制している。   In the entrance preliminary chamber 28, the flexible laminate 39 is sequentially transported by the transport roll 6, the transport roll 7, and the transport roll 9, and then is carried into the first upper preliminary chamber 29. A gas sealing roll 8 is installed in the entrance preliminary chamber 28, and the surface of the gas sealing roll 8 is closely brushed. The gas seal roll 8 and the transport roll 9 come into contact with each other and sandwich the flexible laminate 39 to serve as a gas seal. An external gas is introduced into the first plasma processing chamber 30 and the second plasma processing chamber 32. Is suppressed from entering.

第１上予備室２９内に搬入されたフレキシブル積層体３９は、搬送ロール１０および搬送ロール１１によって順次搬送された後に第１プラズマ処理室３０内に搬送される。ここで、第１プラズマ処理室３０内には予め放電プラズマ発生用ガスが導入されており、一対の電極３５、３６間に高周波電圧が印加されることによって放電プラズマが発生している。ここで、第１プラズマ処理室３０内に導入される放電プラズマ発生用ガスの種類は特に限定されないが、たとえば、ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノン、ラドンおよび窒素からなる群から選択された少なくとも１種を用いることができる。   The flexible laminate 39 carried into the first upper preliminary chamber 29 is sequentially conveyed by the conveyance roll 10 and the conveyance roll 11 and then conveyed into the first plasma processing chamber 30. Here, a discharge plasma generating gas is introduced into the first plasma processing chamber 30 in advance, and discharge plasma is generated by applying a high frequency voltage between the pair of electrodes 35 and 36. Here, the type of discharge plasma generating gas introduced into the first plasma processing chamber 30 is not particularly limited, but for example, at least selected from the group consisting of helium, neon, argon, krypton, xenon, radon, and nitrogen One type can be used.

また、フレキシブル積層体３９は、搬送ロール１１によって第１プラズマ処理室３０内に鉛直下方に搬入される。このようにフレキシブル積層体３９が第１プラズマ処理室３０内に水平方向ではなく鉛直方向に搬入されることによって、水平方向に搬入されたときに生じ得るフレキシブル積層体３９の自重による撓みを防止することができることから、フレキシブル積層体３９の撓みに起因する処理ムラなどの問題の発生を抑制することができる。   The flexible laminate 39 is carried vertically downward into the first plasma processing chamber 30 by the transport roll 11. As described above, the flexible laminate 39 is carried into the first plasma processing chamber 30 not in the horizontal direction but in the vertical direction, thereby preventing the flexible laminate 39 from being bent due to its own weight when it is carried in the horizontal direction. Therefore, it is possible to suppress the occurrence of problems such as processing unevenness due to the bending of the flexible laminate 39.

そして、第１プラズマ処理室３０内において、フレキシブル積層体３９の絶縁フィルム３９ａの表面は第１プラズマ処理室３０内に発生している放電プラズマによって放電プラズマ処理される。この放電プラズマ処理により、フレキシブル積層体３９の絶縁フィルム３９ａの表面に化学的に活性な官能基を発現させることなどによって、フレキシブル積層体３９の絶縁フィルム３９ａの表面の接着性が向上する。   In the first plasma processing chamber 30, the surface of the insulating film 39 a of the flexible laminate 39 is subjected to discharge plasma processing by the discharge plasma generated in the first plasma processing chamber 30. By this discharge plasma treatment, the adhesiveness of the surface of the insulating film 39a of the flexible laminate 39 is improved by, for example, expressing a chemically active functional group on the surface of the insulating film 39a of the flexible laminate 39.

第１プラズマ処理室３０内における放電プラズマ処理後のフレキシブル積層体３９は第１プラズマ処理室３０から搬出された後に下予備室３１内に搬入され、下予備室３１内の搬送ロール１２および搬送ロール１３によって搬送される。   The flexible laminate 39 after the discharge plasma processing in the first plasma processing chamber 30 is unloaded from the first plasma processing chamber 30 and then loaded into the lower preliminary chamber 31, and the transport roll 12 and the transport roll in the lower preliminary chamber 31. 13 is conveyed.

その後、フレキシブル積層体３９は下予備室３１から搬出されて、第２プラズマ処理室３２内に搬入される。ここで、第２プラズマ処理室３２内にも予め放電プラズマ発生用ガスが導入されており、一対の電極３７、３８間に高周波電圧が印加されることによって予め放電プラズマが発生している。ここで、第２プラズマ処理室３２内に導入される放電プラズマ発生用ガスの種類は特に限定されないが、たとえば、ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノン、ラドンおよび窒素からなる群から選択された少なくとも１種を用いることができる。   Thereafter, the flexible laminate 39 is carried out from the lower preliminary chamber 31 and carried into the second plasma processing chamber 32. Here, a discharge plasma generating gas is also introduced into the second plasma processing chamber 32 in advance, and discharge plasma is generated in advance by applying a high-frequency voltage between the pair of electrodes 37 and 38. Here, the type of discharge plasma generating gas introduced into the second plasma processing chamber 32 is not particularly limited, but for example, at least selected from the group consisting of helium, neon, argon, krypton, xenon, radon and nitrogen One type can be used.

また、フレキシブル積層体３９は、搬送ロール１３によって第２プラズマ処理室３２内に鉛直上方に搬入される。ここでも、フレキシブル積層体３９が第２プラズマ処理室３２内に水平方向ではなく鉛直方向に搬入されることによって、水平方向に搬入されたときに生じ得るフレキシブル積層体３９の自重による撓みを防止することができることから、フレキシブル積層体３９の撓みに起因する処理ムラなどの問題の発生を抑制することができる。   The flexible laminate 39 is carried vertically upward into the second plasma processing chamber 32 by the transport roll 13. Also here, the flexible laminate 39 is carried into the second plasma processing chamber 32 not in the horizontal direction but in the vertical direction, thereby preventing the flexible laminate 39 from being bent due to its own weight when it is carried in the horizontal direction. Therefore, it is possible to suppress the occurrence of problems such as processing unevenness due to the bending of the flexible laminate 39.

第２プラズマ処理室３２内における放電プラズマ処理後のフレキシブル積層体３９は第２プラズマ処理室３２から搬出された後に第２上予備室３３内に搬入され、第２上予備室３３内の搬送ロール１４および搬送ロール１５によって順次搬送される。   The flexible laminate 39 after the discharge plasma processing in the second plasma processing chamber 32 is unloaded from the second plasma processing chamber 32 and then loaded into the second upper preliminary chamber 33, and the transport roll in the second upper preliminary chamber 33 is used. 14 and the transport roll 15 are sequentially transported.

その後、フレキシブル積層体３９は出口予備室３４内に搬入され、搬送ロール１６および搬送ロール１８によって順次搬送される。なお、出口予備室３４内にはガスシール用ロール１７が設置されており、ガスシール用ロール１７の表面は密に起毛している。そして、搬送ロール１６とガスシール用ロール１７とは互いに接触してフレキシブル積層体３９を挟み込んでガスシールの役割を果たし、第１プラズマ処理室３０および第２プラズマ処理室３２の内部に外部のガスが入り込むのを抑制している。   Thereafter, the flexible laminate 39 is carried into the outlet preliminary chamber 34 and sequentially conveyed by the conveyance roll 16 and the conveyance roll 18. A gas seal roll 17 is installed in the outlet preliminary chamber 34, and the surface of the gas seal roll 17 is raised closely. The transport roll 16 and the gas sealing roll 17 are in contact with each other to sandwich the flexible laminate 39 and serve as a gas seal. The gas inside the first plasma processing chamber 30 and the second plasma processing chamber 32 is externally charged. Is suppressed from entering.

出口予備室３４から搬出されたフレキシブル積層体３９は、搬送ロール２１、搬送ロール２２および搬送ロール２３によって順次搬送された後、巻き取りロール２７によって巻き取られる。   The flexible laminate 39 transported from the outlet preliminary chamber 34 is sequentially transported by the transport roll 21, the transport roll 22, and the transport roll 23, and then wound by the take-up roll 27.

ここで、本発明の表面処理装置４０においては、第１プラズマ処理室３０の下流側に設置された搬送ロールであって、第１プラズマ処理室３０内における放電プラズマ処理後のフレキシブル積層体３９の絶縁フィルム３９ａの表面が接触する搬送ロールに最外層が樹脂層からなる樹脂被覆ロールが含まれており、この樹脂被覆ロールの最外層の樹脂層の表面とフレキシブル積層体３９の絶縁フィルム３９ａの表面との接触状態下における樹脂被覆ロールの最外層の樹脂層の静電容量が１００００Ｆ以下、好ましくは７５００Ｆ以下、さらに好ましくは５０００Ｆ以下であることを特徴としている。これは、本発明者が鋭意検討した結果、放電プラズマ処理後のフレキシブル積層体３９の絶縁フィルム３９ａの表面が接触する搬送ロールに最外層が樹脂層からなる樹脂被覆ロールを用い、樹脂被覆ロールの最外層の樹脂層の表面とフレキシブル積層体３９の絶縁フィルム３９ａの表面との接触状態下における樹脂被覆ロールの最外層の樹脂層の静電容量を１００００Ｆ以下、好ましくは７５００Ｆ以下、さらに好ましくは５０００Ｆ以下とすることによって、樹脂被覆ロールの最外層の樹脂層の表面とフレキシブル積層体３９の絶縁フィルム３９ａの表面との密着性が低減して、被処理体であるフレキシブル積層体３９の搬送がスムーズになり、フレキシブル積層体３９に発生していた折れシワや巻き取り時のシワの発生を低減できることを見出したことによるものである。   Here, in the surface treatment apparatus 40 of the present invention, it is a transport roll installed on the downstream side of the first plasma treatment chamber 30, and the flexible laminated body 39 after the discharge plasma treatment in the first plasma treatment chamber 30. The transport roll in contact with the surface of the insulating film 39a includes a resin-coated roll whose outermost layer is a resin layer. The surface of the outermost resin layer of the resin-coated roll and the surface of the insulating film 39a of the flexible laminate 39 The electrostatic capacity of the outermost resin layer of the resin-coated roll in the contact state with is 10000F or less, preferably 7500F or less, more preferably 5000F or less. As a result of intensive studies by the present inventors, a resin coated roll having a resin layer as the outermost layer is used as a transport roll in contact with the surface of the insulating film 39a of the flexible laminate 39 after the discharge plasma treatment. The capacitance of the resin layer of the outermost layer of the resin coating roll under the contact state between the surface of the outermost resin layer and the surface of the insulating film 39a of the flexible laminate 39 is 10000F or less, preferably 7500F or less, more preferably 5000F. By making the following, the adhesion between the surface of the outermost resin layer of the resin coating roll and the surface of the insulating film 39a of the flexible laminate 39 is reduced, and the flexible laminate 39, which is the object to be processed, is smoothly conveyed. Therefore, it is possible to reduce the generation of creases and wrinkles occurring in the flexible laminate 39. It is due to the fact that the headline was.

すなわち、図２の模式的断面図に示すように、搬送ロールが金属ロール４１であって、フレキシブル積層体３９中の絶縁フィルム３９ａがプラズマが照射されることにより分極して、絶縁フィルム３９ａの金属ロール４１と接触する側の表面がたとえば負電荷に帯電している場合には、フレキシブル積層体３９の絶縁フィルム３９ａの表面と接触する金属ロール４１の表面には正電荷が誘起され、フレキシブル積層体３９の絶縁フィルム３９ａの表面と接触する金属ロール４１の表面との間のクーロン力によってフレキシブル積層体３９と金属ロール４１との密着が発生する。   That is, as shown in the schematic cross-sectional view of FIG. 2, the transport roll is a metal roll 41, and the insulating film 39a in the flexible laminate 39 is polarized by being irradiated with plasma, so that the metal of the insulating film 39a When the surface in contact with the roll 41 is charged with a negative charge, for example, a positive charge is induced on the surface of the metal roll 41 in contact with the surface of the insulating film 39a of the flexible laminate 39, and the flexible laminate Adhesion between the flexible laminate 39 and the metal roll 41 is generated by a Coulomb force between the surface of the metal roll 41 and the surface of the insulating film 39a.

一方、図３の模式的断面図に示すように、搬送ロールが金属ロール４１の最表面が樹脂層４２からなる樹脂被覆ロール４３である場合には、フレキシブル積層体３９中の絶縁フィルム３９ａが分極して、絶縁フィルム３９ａの金属ロール４１と接触する側の表面がたとえば負電荷に帯電している場合でも、図２に示す金属ロール４１の場合のみと比べて樹脂被覆ロール４３の最表面の樹脂層４２に帯電する正電荷の量が少なくなると考えられることから、フレキシブル積層体３９の絶縁フィルム３９ａの表面と樹脂被覆ロール４３の樹脂層４２の表面との間のクーロン力が低減し、フレキシブル積層体３９と樹脂被覆ロール４３との密着性が低下すると考えられる。そして、本発明者が鋭意検討した結果、樹脂被覆ロール４３の最外層の樹脂層４２の表面とフレキシブル積層体３９の絶縁フィルム３９ａの表面との接触状態下における樹脂被覆ロール４３の最外層の樹脂層４２の静電容量を１００００Ｆ以下、好ましくは７５００Ｆ以下、さらに好ましくは５０００Ｆ以下としてフレキシブル積層体３９を搬送したときにフレキシブル積層体３９のよりスムーズな搬送が可能になることが見出され、本発明を完成するに至った。   On the other hand, as shown in the schematic cross-sectional view of FIG. 3, when the transport roll is a resin-coated roll 43 in which the outermost surface of the metal roll 41 is made of the resin layer 42, the insulating film 39 a in the flexible laminate 39 is polarized. Even when the surface of the insulating film 39a on the side in contact with the metal roll 41 is charged with a negative charge, for example, the resin on the outermost surface of the resin-coated roll 43 as compared with the case of the metal roll 41 shown in FIG. Since the amount of positive charges charged in the layer 42 is considered to be reduced, the Coulomb force between the surface of the insulating film 39a of the flexible laminate 39 and the surface of the resin layer 42 of the resin coating roll 43 is reduced, and flexible lamination It is considered that the adhesion between the body 39 and the resin coating roll 43 is lowered. As a result of intensive studies by the present inventors, the resin of the outermost layer of the resin coating roll 43 in a contact state between the surface of the outermost resin layer 42 of the resin coating roll 43 and the surface of the insulating film 39a of the flexible laminate 39 is obtained. It has been found that when the flexible laminate 39 is transported when the capacitance of the layer 42 is 10,000 F or less, preferably 7500 F or less, more preferably 5000 F or less, the flexible laminate 39 can be transported more smoothly. The invention has been completed.

なお、本発明において、樹脂被覆ロールの最外層の樹脂層の表面とフレキシブル積層体の絶縁フィルムの表面との接触状態下における樹脂被覆ロールの樹脂層の静電容量Ｃは、以下の式（１）で表わされる。   In the present invention, the capacitance C of the resin layer of the resin-coated roll in the contact state between the surface of the outermost resin layer of the resin-coated roll and the surface of the insulating film of the flexible laminate is represented by the following formula (1 ).

Ｃ＝ε・Ｓ／ｄ …（１）
式（１）において、εは樹脂被覆ロールの樹脂層の誘電率（Ｆ／ｍ）を示し、Ｓは樹脂被覆ロールの樹脂層の表面と絶縁フィルムの表面との接触面積（ｍ2）を示し、ｄは樹脂被覆ロールの樹脂層の厚み（ｍ）を示している。 C = ε · S / d (1)
In formula (1), ε represents the dielectric constant (F / m) of the resin layer of the resin-coated roll, and S represents the contact area (m 2 ) between the surface of the resin layer of the resin-coated roll and the surface of the insulating film. , D indicates the thickness (m) of the resin layer of the resin-coated roll.

ここで、図４の模式的断面図に、式（１）における樹脂被覆ロール４３の樹脂層４２の表面とフレキシブル積層体３９の絶縁フィルム３９ａの表面との接触面積Ｓおよび樹脂被覆ロール４３の樹脂層４２の厚みｄとをそれぞれ示す。ここで、接触面積Ｓは、樹脂被覆ロール４３の樹脂層４２の表面とフレキシブル積層体３９の絶縁フィルム３９ａの表面との接触領域Ｒの面積のことである。   Here, in the schematic cross-sectional view of FIG. 4, the contact area S between the surface of the resin layer 42 of the resin coating roll 43 and the surface of the insulating film 39 a of the flexible laminate 39 and the resin of the resin coating roll 43 in the formula (1). The thickness d of the layer 42 is shown, respectively. Here, the contact area S is the area of the contact region R between the surface of the resin layer 42 of the resin coating roll 43 and the surface of the insulating film 39 a of the flexible laminate 39.

また、樹脂被覆ロールの樹脂層の誘電率は３Ｆ／ｍ以下であることが好ましい。この場合にも、たとえば図３に示すように、樹脂被覆ロール４３の最表面の樹脂層４２に帯電する正電荷の量が少なくなる傾向にあり、フレキシブル積層体３９の絶縁フィルム３９ａの表面と樹脂被覆ロール４３の樹脂層４２の表面との間のクーロン力が低減し、フレキシブル積層体３９と樹脂被覆ロール４３との密着性が低下してフレキシブル積層体３９のよりスムーズな搬送が可能になるものと考えられる。   Moreover, it is preferable that the dielectric constant of the resin layer of a resin coating roll is 3 F / m or less. Also in this case, for example, as shown in FIG. 3, the amount of positive charges charged in the resin layer 42 on the outermost surface of the resin coating roll 43 tends to decrease, and the surface of the insulating film 39a of the flexible laminate 39 and the resin Coulomb force between the surface of the coating roll 43 and the resin layer 42 is reduced, the adhesion between the flexible laminate 39 and the resin coating roll 43 is reduced, and the flexible laminate 39 can be more smoothly conveyed. it is conceivable that.

また、樹脂被覆ロールの樹脂層の静摩擦係数は０．１以下であることが好ましい。この場合には、樹脂被覆ロールとフレキシブル積層体との離型性が優れるため、フレキシブル積層体３９のよりスムーズな搬送が可能になるものと考えられる。ここで、本発明における静摩擦係数ｘは、樹脂被覆ロールの樹脂層と同一の材質からなる樹脂シート上に、樹脂被覆ロールの樹脂層の一部である樹脂片（質量Ｍ（Ｎ））を置き、バネばかりなどにより樹脂片を引っ張り、樹脂片が動き出すときの引っ張り荷重をＰ（Ｎ）としたとき、以下の式（２）で表わされる。   Moreover, it is preferable that the static friction coefficient of the resin layer of a resin coating roll is 0.1 or less. In this case, since the release property between the resin-coated roll and the flexible laminate is excellent, it is considered that the flexible laminate 39 can be transported more smoothly. Here, the static friction coefficient x in the present invention is such that a resin piece (mass M (N)) which is a part of the resin layer of the resin coating roll is placed on a resin sheet made of the same material as the resin layer of the resin coating roll. When the resin piece is pulled only by a spring and the tensile load when the resin piece starts to move is P (N), it is expressed by the following equation (2).

ｘ＝Ｐ／Ｎ …（２）
また、本発明における樹脂被覆ロールの樹脂層を構成する樹脂としては、たとえばＰＦＡ（四フッ化エチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合樹脂）、ＦＥＰ（四フッ化エチレン−六フッ化プロピレン共重合樹脂）、ＥＴＦＥ（四フッ化エチレン−エチレン共重合樹脂）、ＰＴＦＥ（四フッ化エチレン樹脂）、ＣＴＦＥ（三フッ化塩化エチレン樹脂）、ＰＶＤＦ（フッ化ビニリデン樹脂）またはＰＰ（ポリプロピレン樹脂）などを用いることができる。 x = P / N (2)
Examples of the resin constituting the resin layer of the resin-coated roll in the present invention include PFA (tetrafluoroethylene-perfluoroalkyl vinyl ether copolymer resin) and FEP (tetrafluoroethylene-hexafluoropropylene copolymer resin). , ETFE (tetrafluoroethylene-ethylene copolymer resin), PTFE (tetrafluoroethylene resin), CTFE (trifluoroethylene chloride resin), PVDF (vinylidene fluoride resin), PP (polypropylene resin), etc. Can do.

図１に示す構成の表面処理装置４０において、本発明における上記の樹脂被覆ロールが適用される搬送ロールとしては、第１プラズマ処理室３０内において放電プラズマ処理された後のフレキシブル積層体３９の絶縁フィルム３９ａの表面と接触する搬送ロール１２、搬送ロール１３、搬送ロール１８および搬送ロール２２からなる群から選択された少なくとも１つが挙げられる。なお、その他の搬送ロールについては特に限定されず、金属ロールを用いてもよく、上記の樹脂被覆ロールを用いてもよい。   In the surface treatment apparatus 40 having the configuration shown in FIG. 1, as the transport roll to which the resin coating roll according to the present invention is applied, the insulation of the flexible laminate 39 after the discharge plasma treatment is performed in the first plasma treatment chamber 30. The at least 1 selected from the group which consists of the conveyance roll 12, the conveyance roll 13, the conveyance roll 18, and the conveyance roll 22 which contacts the surface of the film 39a is mentioned. In addition, it does not specifically limit about another conveyance roll, A metal roll may be used and said resin coating roll may be used.

なお、上記においては、フレキシブル積層体として、ポリイミド樹脂フィルムからなる絶縁フィルムと絶縁フィルム上の金属層とからなる２層構造のものについて説明したが、少なくとも金属層と絶縁フィルムとを含み、絶縁フィルムの表面が露出しているものであれば、金属層および絶縁フィルムのそれぞれの材質、厚さおよび層構造などの構成については特に限定されない。ここで、金属層としては、たとえば銅、アルミニウム、ニッケル、鉄、亜鉛またはこれらのいずれかを主成分とする合金などからなる層などを用いることができ、金属層の厚さはたとえば１μｍ以上１００μｍ以下の厚さにすることができる。また、絶縁フィルムとしては、たとえばエポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリオレフィン樹脂、フェノール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリイミド樹脂またはこれらの少なくとも２種の混合樹脂などからなるフィルムなどを用いることができ、絶縁フィルムの厚さはたとえば１μｍ以上１００μｍ以下の厚さにすることができる。   In the above description, the flexible laminate has been described as having a two-layer structure comprising an insulating film made of a polyimide resin film and a metal layer on the insulating film. However, the insulating film includes at least a metal layer and an insulating film. As long as the surface of the metal layer is exposed, the material, thickness, and layer structure of the metal layer and the insulating film are not particularly limited. Here, as the metal layer, for example, a layer made of copper, aluminum, nickel, iron, zinc or an alloy mainly containing any of these can be used, and the thickness of the metal layer is, for example, 1 μm or more and 100 μm. The thickness can be as follows. Further, as the insulating film, for example, a film made of an epoxy resin, a polyester resin, a polystyrene resin, a polyolefin resin, a phenol resin, a polybutadiene resin, a polyimide resin, or a mixed resin of at least two of these can be used. The thickness of can be, for example, 1 μm or more and 100 μm or less.

また、本発明の表面処理装置においては、フレキシブル積層体の絶縁フィルムの表面を放電プラズマ処理するものであれば、その他の箇所（たとえば金属層など）が放電プラズマ処理されてもよいことは言うまでもない。   Further, in the surface treatment apparatus of the present invention, it is needless to say that other portions (for example, a metal layer) may be subjected to the discharge plasma treatment as long as the surface of the insulating film of the flexible laminate is subjected to the discharge plasma treatment. .

また、上記においては、本発明の表面処理装置を用いて、フレキシブル積層体の絶縁フィルムの表面を放電プラズマ処理する場合について説明したが、本発明においては、フレキシブル積層体の作製において金属層と積層する前の絶縁フィルムなどの絶縁フィルムを被処理体としてその表面を放電プラズマ処理することもできる。   In the above description, the case where the surface of the insulating film of the flexible laminate is subjected to the discharge plasma treatment using the surface treatment apparatus of the present invention has been described. In the present invention, the metal layer and the laminate are laminated in the production of the flexible laminate. It is also possible to subject the surface to discharge plasma treatment using an insulation film such as an insulation film before the treatment as an object to be treated.

（実施例１）
図１に示す表面処理装置４０において、搬送ロール１２、搬送ロール１３、搬送ロール１８および搬送ロール２２のそれぞれに、厚さ１１０μｍ、誘電率２．１Ｆ／ｍおよび最表面の静摩擦係数０．０５のＰＦＡ樹脂を最表面に樹脂層としてコーティングしたステンレスロールを樹脂被覆ロールとして用いた。ここで、樹脂被覆ロールの外径は１１８ｍｍであって、コーティングされたＰＦＡ樹脂の幅は１０８０ｍｍであった。 Example 1
In the surface treatment apparatus 40 shown in FIG. 1, each of the transport roll 12, the transport roll 13, the transport roll 18, and the transport roll 22 has a thickness of 110 μm, a dielectric constant of 2.1 F / m, and a static friction coefficient of 0.05 on the outermost surface. A stainless steel roll having a PFA resin coated on the outermost surface as a resin layer was used as a resin coating roll. Here, the outer diameter of the resin-coated roll was 118 mm, and the width of the coated PFA resin was 1080 mm.

また、第１プラズマ処理室３０内および第２プラズマ処理室３２内のそれぞれにアルゴン、ヘリウムおよび窒素の混合ガス（アルゴン：ヘリウム：窒素＝５：５：０．３（体積比））を放電プラズマ発生用ガスとして予め６０分間導入しておき、ポリイミド樹脂フィルムからなる絶縁フィルム３９ａと銅箔からなる金属層３９ｂとの積層体からなる銅箔付ポリイミド（ＣＣＬ）をフレキシブル積層体３９として絶縁フィルム３９ａが上面となるように繰り出しロール２６に巻き付け、その一端を巻き取りロール２７に固定した。   In addition, a mixed gas of argon, helium and nitrogen (argon: helium: nitrogen = 5: 5: 0.3 (volume ratio)) is discharged into the first plasma processing chamber 30 and the second plasma processing chamber 32, respectively. Introduced as a gas for generation for 60 minutes in advance, a polyimide with a copper foil (CCL) made of a laminate of an insulating film 39a made of a polyimide resin film and a metal layer 39b made of copper foil is used as a flexible laminate 39 to form an insulating film 39a. Was wound around the feeding roll 26 so that the upper surface became the upper surface, and one end thereof was fixed to the winding roll 27.

ここで、それぞれの樹脂被覆ロールはフレキシブル積層体３９と樹脂被覆ロールの外周３６０°のうち１５０°の範囲で接触していたため、接触面積Ｓは１．０８×０．１１８×π×（１５０／３６０）≒０．１６７ｍ2であり、それぞれの樹脂被覆ロールの樹脂層の表面と絶縁フィルム３９ａの表面との接触状態下における静電容量Ｃは上記の式（１）より２．１×０．１６７／（１１０×１０-6）≒３１８８Ｆであった。 Here, since each resin coating roll was in contact with the flexible laminate 39 and the outer periphery 360 ° of the resin coating roll in a range of 150 °, the contact area S was 1.08 × 0.118 × π × (150 / 360) ≈0.167 m 2 , and the capacitance C in the contact state between the surface of the resin layer of each resin coating roll and the surface of the insulating film 39a is 2.1 × 0. It was 167 / (110 × 10 −6 ) ≈3188F.

そして、第１プラズマ処理室３０内および第２プラズマ処理室３２内にそれぞれ出力２ｋＷの放電プラズマを発生させた後、６０Ｎのテンションをかけてフレキシブル積層体３９を繰り出し、フレキシブル積層体３９を４ｍ／ｍｉｎの搬送速度で搬送して、フレキシブル積層体３９の絶縁フィルム３９ａの表面の放電プラズマ処理を行なった。   Then, after generating discharge plasma with an output of 2 kW in each of the first plasma processing chamber 30 and the second plasma processing chamber 32, the flexible laminate 39 is fed out with a tension of 60 N, and the flexible laminate 39 is moved to 4 m / min. The plasma was transported at a transport speed of min, and the discharge plasma treatment was performed on the surface of the insulating film 39a of the flexible laminate 39.

その後、出口予備室３４から搬出されてきたフレキシブル積層体３９を観察したところフレキシブル積層体３９に折れシワが発生していないことが確認された。また、フレキシブル積層体３９はシワ無く巻き取りロール２７に巻き取ることができることも確認された。   Then, when the flexible laminated body 39 carried out from the exit preliminary chamber 34 was observed, it was confirmed that the flexible laminated body 39 was not folded and wrinkled. It was also confirmed that the flexible laminate 39 can be wound around the winding roll 27 without wrinkles.

（実施例２）
ＰＦＡ樹脂の代わりに、厚さ５０μｍ、誘電率２．１Ｆ／ｍおよび最表面の静摩擦係数０．０２のＰＴＦＥ樹脂を最表面に樹脂層としてコーティングしたステンレスロールを樹脂被覆ロールとして用いたこと以外は実施例１と同一の方法および同一の条件でＣＣＬからなるフレキシブル積層体３９の絶縁フィルム３９ａの表面の放電プラズマ処理を行なった。 (Example 2)
A stainless steel roll coated with a PTFE resin having a thickness of 50 μm, a dielectric constant of 2.1 F / m and a static friction coefficient of 0.02 on the outermost surface as a resin layer was used as the resin coating roll instead of the PFA resin. A discharge plasma treatment was performed on the surface of the insulating film 39a of the flexible laminate 39 made of CCL under the same method and the same conditions as in Example 1.

ここで、それぞれの樹脂被覆ロールはフレキシブル積層体３９と樹脂被覆ロールの外周３６０°のうち１５０°の範囲で接触していたため、接触面積Ｓは１．０８×０．１１８×π×（１５０／３６０）≒０．１６７ｍ2であり、それぞれの樹脂被覆ロールの樹脂層の表面と絶縁フィルム３９ａの表面との接触状態下における静電容量Ｃは上記の式（１）より２．１×０．１６７／（５０×１０-6）≒７０１４Ｆであった。 Here, since each resin coating roll was in contact with the flexible laminate 39 and the outer periphery 360 ° of the resin coating roll in a range of 150 °, the contact area S was 1.08 × 0.118 × π × (150 / 360) ≈0.167 m 2 , and the capacitance C in the contact state between the surface of the resin layer of each resin coating roll and the surface of the insulating film 39a is 2.1 × 0. It was 167 / (50 × 10 −6 ) ≈7014F.

そして、出口予備室３４から搬出されてきたフレキシブル積層体３９を観察したところフレキシブル積層体３９に折れシワが発生していないことが確認された。また、フレキシブル積層体３９はシワ無く巻き取りロール２７に巻き取ることができることも確認された。   And when the flexible laminated body 39 carried out from the exit preliminary | backup chamber 34 was observed, it was confirmed that the flexible laminated body 39 did not bend and generate | occur | produce wrinkles. It was also confirmed that the flexible laminate 39 can be wound around the winding roll 27 without wrinkles.

（実施例３）
ＰＦＡ樹脂の代わりに、厚さ１００μｍ、誘電率２．６Ｆ／ｍおよび最表面の静摩擦係数０．０５のＥＴＦＥ樹脂を最表面に樹脂層としてコーティングしたステンレスロールを樹脂被覆ロールとして用いたこと以外は実施例１と同一の方法および同一の条件でＣＣＬからなるフレキシブル積層体３９の絶縁フィルム３９ａの表面の放電プラズマ処理を行なった。 (Example 3)
Instead of PFA resin, a stainless steel roll coated with ETFE resin having a thickness of 100 μm, dielectric constant of 2.6 F / m and outer surface static friction coefficient of 0.05 as a resin layer was used as the resin coating roll. A discharge plasma treatment was performed on the surface of the insulating film 39a of the flexible laminate 39 made of CCL under the same method and the same conditions as in Example 1.

ここで、それぞれの樹脂被覆ロールはフレキシブル積層体３９と樹脂被覆ロールの外周３６０°のうち１５０°の範囲で接触していたため、接触面積Ｓは１．０８×０．１１８×π×（１５０／３６０）≒０．１６７ｍ2であり、それぞれの樹脂被覆ロールの樹脂層の表面と絶縁フィルム３９ａの表面との接触状態下における静電容量Ｃは上記の式（１）より２．６×０．１６７／（１００×１０-6）≒４３４２Ｆであった。 Here, since each resin coating roll was in contact with the flexible laminate 39 and the outer periphery 360 ° of the resin coating roll in a range of 150 °, the contact area S was 1.08 × 0.118 × π × (150 / 360) ≈0.167 m 2 , and the capacitance C in the contact state between the surface of the resin layer of each resin coating roll and the surface of the insulating film 39a is 2.6 × 0. It was 167 / (100 × 10 −6 ) ≈4342F.

そして、出口予備室３４から搬出されてきたフレキシブル積層体３９を観察したところフレキシブル積層体３９に折れシワが発生していないことが確認された。また、フレキシブル積層体３９はシワ無く巻き取りロール２７に巻き取ることができることも確認された。   And when the flexible laminated body 39 carried out from the exit preliminary | backup chamber 34 was observed, it was confirmed that the flexible laminated body 39 did not bend and generate | occur | produce wrinkles. It was also confirmed that the flexible laminate 39 can be wound around the winding roll 27 without wrinkles.

（実施例４）
厚さ４３．５μｍ、誘電率２．６Ｆ／ｍおよび最表面の静摩擦係数０．０５のＥＴＦＥ樹脂を最表面に樹脂層としてコーティングしたステンレスロールを樹脂被覆ロールとして用いたこと以外は実施例１と同一の方法および同一の条件でＣＣＬからなるフレキシブル積層体３９の絶縁フィルム３９ａの表面の放電プラズマ処理を行なった。 Example 4
Example 1 except that a stainless steel roll having a thickness of 43.5 μm, a dielectric constant of 2.6 F / m and an outermost surface static friction coefficient of 0.05 coated ETFE resin as a resin layer was used as the resin coating roll. The discharge plasma treatment was performed on the surface of the insulating film 39a of the flexible laminate 39 made of CCL under the same method and under the same conditions.

ここで、それぞれの樹脂被覆ロールとフレキシブル積層体３９とは樹脂被覆ロールの外周３６０°のうち１５０°の範囲で接触していたため、接触面積Ｓは１．０８×０．１１８×π×（１５０／３６０）≒０．１６７ｍ2であり、それぞれの樹脂被覆ロールの樹脂層の表面と絶縁フィルム３９ａの表面との接触状態下における静電容量Ｃは上記の式（１）より２．６×０．１６７／（４３．５×１０-6）＝９９８２Ｆであった。 Here, since each resin coating roll and the flexible laminated body 39 were in contact within a range of 150 ° of the outer periphery 360 ° of the resin coating roll, the contact area S was 1.08 × 0.118 × π × (150 /360)≈0.167 m 2 , and the capacitance C in the contact state between the surface of the resin layer of each resin coating roll and the surface of the insulating film 39a is 2.6 × 0 from the above equation (1). 167 / (43.5 × 10 −6 ) = 9982F.

そして、出口予備室３４から搬出されてきたフレキシブル積層体３９を観察したところフレキシブル積層体３９に折れシワが発生していないことが確認された。また、フレキシブル積層体３９はシワ無く巻き取りロール２７に巻き取ることができることも確認された。   And when the flexible laminated body 39 carried out from the exit preliminary | backup chamber 34 was observed, it was confirmed that the flexible laminated body 39 did not bend and generate | occur | produce wrinkles. It was also confirmed that the flexible laminate 39 can be wound around the winding roll 27 without wrinkles.

（実施例５）
図１に示す表面処理装置４０を用いて、幅１２００ｍｍであって、厚さ１２．５μｍのポリイミド樹脂フィルムからなる絶縁フィルムの表面の放電プラズマ処理を行なった。 (Example 5)
The surface treatment apparatus 40 shown in FIG. 1 was used to perform discharge plasma treatment on the surface of an insulating film made of a polyimide resin film having a width of 1200 mm and a thickness of 12.5 μm.

図１に示す搬送ロール１２、搬送ロール１３、搬送ロール１８および搬送ロール２２のそれぞれに、厚さ１００μｍ、誘電率２．３Ｆ／ｍおよび最表面の静摩擦係数０．０５のＰＦＡ樹脂を最表面に樹脂層としてコーティングしたステンレスロールを樹脂被覆ロールとして用いた。ここで、樹脂被覆ロールの外径は１１８ｍｍであって、コーティングされたＰＦＡ樹脂の幅は１０８０ｍｍであった。   Each of the transport roll 12, transport roll 13, transport roll 18 and transport roll 22 shown in FIG. 1 has a PFA resin having a thickness of 100 μm, a dielectric constant of 2.3 F / m and a static friction coefficient of 0.05 on the outermost surface. A stainless steel roll coated as a resin layer was used as a resin coated roll. Here, the outer diameter of the resin-coated roll was 118 mm, and the width of the coated PFA resin was 1080 mm.

また、第１プラズマ処理室３０内および第２プラズマ処理室３２内のそれぞれにアルゴン、ヘリウムおよび窒素の混合ガス（アルゴン：ヘリウム：窒素＝５：５：０．３（体積比））を放電プラズマ発生用ガスとして予め６０分間導入しておき、上記の絶縁フィルムを繰り出しロール２６に巻き付け、その一端を巻き取りロール２７に固定した。   In addition, a mixed gas of argon, helium and nitrogen (argon: helium: nitrogen = 5: 5: 0.3 (volume ratio)) is discharged into the first plasma processing chamber 30 and the second plasma processing chamber 32, respectively. The gas for generation was introduced for 60 minutes in advance, and the insulating film was wound around the feeding roll 26, and one end thereof was fixed to the winding roll 27.

ここで、それぞれの樹脂被覆ロールは絶縁フィルムと樹脂被覆ロールの外周３６０°のうち１５０°の範囲で接触していたため、接触面積Ｓは１．０８×０．１１８×π×（１５０／３６０）≒０．１６７ｍ2であり、それぞれの樹脂被覆ロールの樹脂層の表面と絶縁フィルムの表面との接触状態下における静電容量Ｃは上記の式（１）より２．３×０．１６７／（１００×１０-6）≒３８４１Ｆであった。 Here, since each resin coating roll was in contact with the insulating film and the outer circumference 360 ° of the resin coating roll in a range of 150 °, the contact area S was 1.08 × 0.118 × π × (150/360). ≈0.167 m 2 , and the capacitance C in the contact state between the surface of the resin layer of each resin coating roll and the surface of the insulating film is 2.3 × 0.167 / (from the above equation (1). 100 × 10 −6 ) ≈3841F.

そして、第１プラズマ処理室３０内および第２プラズマ処理室３２内にそれぞれ出力２ｋＷの放電プラズマを発生させた後、６０Ｎのテンションをかけて絶縁フィルムを繰り出し、絶縁フィルムを４ｍ／ｍｉｎの搬送速度で搬送して、絶縁フィルムの表面の放電プラズマ処理を行なった。   Then, after generating discharge plasma with an output of 2 kW in each of the first plasma processing chamber 30 and the second plasma processing chamber 32, the insulating film is fed out with a tension of 60 N, and the insulating film is transported at a speed of 4 m / min. Then, the surface of the insulating film was subjected to discharge plasma treatment.

その後、出口予備室３４から搬出されてきた絶縁フィルムを観察したところ絶縁フィルムに折れシワが発生していないことが確認された。また、絶縁フィルムはシワ無く巻き取りロール２７に巻き取ることができることも確認された。   Thereafter, when the insulating film carried out from the outlet preliminary chamber 34 was observed, it was confirmed that the insulating film was not folded and wrinkled. It was also confirmed that the insulating film could be wound on the winding roll 27 without wrinkles.

（比較例１）
図１に示す表面処理装置４０において、搬送ロール１２、搬送ロール１３、搬送ロール１８および搬送ロール２２のそれぞれに、ＰＦＡ樹脂をコーティングしないステンレスロールを用いたこと以外は実施例１と同一の方法および同一の条件でＣＣＬからなるフレキシブル積層体３９の絶縁フィルム３９ａの表面の放電プラズマ処理を行なった。 (Comparative Example 1)
In the surface treatment apparatus 40 shown in FIG. 1, the same method as in Example 1 except that a stainless roll not coated with PFA resin is used for each of the transport roll 12, the transport roll 13, the transport roll 18, and the transport roll 22. The discharge plasma treatment was performed on the surface of the insulating film 39a of the flexible laminate 39 made of CCL under the same conditions.

ここで、それぞれのステンレスロールはフレキシブル積層体３９とステンレスロールの外周３６０°のうち１５０°の範囲で接触していたため、接触面積Ｓは１．０８×０．１１８×π×（１５０／３６０）≒０．１６７ｍ2であるが、ステンレスロールの誘電率は∞であるため、それぞれのステンレスロールの表面と絶縁フィルム３９ａの表面との接触状態下における静電容量Ｃは上記の式（１）より∞であった。 Here, since each stainless steel roll was in contact with the flexible laminate 39 and the outer circumference 360 ° of the stainless steel roll within a range of 150 °, the contact area S was 1.08 × 0.118 × π × (150/360). ≒ although 0.167m is 2, since the dielectric constant of the stainless roll ∞, so the electrostatic capacitance C under the state of contact between the respective stainless steel roll surface and the surface of the insulating film 39a is from the above equation (1) It was ∞.

そして、出口予備室３４から搬出されてきたフレキシブル積層体３９を観察したところフレキシブル積層体３９に折れシワが多数発生しており、プリント配線基板として使用することができないような状態となっていることが確認された。   And when the flexible laminated body 39 carried out from the exit preliminary | backup chamber 34 was observed, many bending wrinkles generate | occur | produced in the flexible laminated body 39, and it is in the state which cannot be used as a printed wiring board. Was confirmed.

（比較例２）
ＰＦＡ樹脂の代わりに、厚さ１００μｍ、誘電率７．７Ｆ／ｍおよび最表面の静摩擦係数０．４のＰＶＤＦ樹脂を最表面に樹脂層としてコーティングしたステンレスロールを樹脂被覆ロールとして用いたこと以外は実施例１と同一の方法および同一の条件でＣＣＬからなるフレキシブル積層体３９の絶縁フィルム３９ａの表面の放電プラズマ処理を行なった。 (Comparative Example 2)
A stainless steel roll coated with a PVDF resin having a thickness of 100 μm, a dielectric constant of 7.7 F / m and a static friction coefficient of 0.4 on the outermost surface as a resin layer was used as the resin coating roll instead of the PFA resin. A discharge plasma treatment was performed on the surface of the insulating film 39a of the flexible laminate 39 made of CCL under the same method and the same conditions as in Example 1.

ここで、それぞれの樹脂被覆ロールはフレキシブル積層体３９と樹脂被覆ロールの外周３６０°のうち１５０°の範囲で接触していたため、接触面積Ｓは１．０８×０．１１８×π×（１５０／３６０）≒０．１６７ｍ2であり、それぞれの樹脂被覆ロールの樹脂層の表面と絶縁フィルム３９ａの表面との接触状態下における静電容量Ｃは上記の式（１）より７．７×０．１６７／（１００×１０-6）≒１２８５９Ｆであった。 Here, since each resin coating roll was in contact with the flexible laminate 39 and the outer periphery 360 ° of the resin coating roll in a range of 150 °, the contact area S was 1.08 × 0.118 × π × (150 / 360) ≈0.167 m 2 , and the capacitance C in the contact state between the surface of the resin layer of each resin coating roll and the surface of the insulating film 39a is 7.7 × 0. It was 167 / (100 × 10 −6 ) ≈12859F.

そして、出口予備室３４から搬出されてきたフレキシブル積層体３９を観察したところフレキシブル積層体３９に折れシワが多数発生しており、プリント配線基板として使用することができないような状態となっていることが確認された。   And when the flexible laminated body 39 carried out from the exit preliminary | backup chamber 34 was observed, many bending wrinkles generate | occur | produced in the flexible laminated body 39, and it is in the state which cannot be used as a printed wiring board. Was confirmed.

（比較例３）
ＰＦＡ樹脂の代わりに、厚さ１００μｍ、誘電率７．７Ｆ／ｍおよび最表面の静摩擦係数０．３のＰＶＤＦ樹脂を最表面に樹脂層としてコーティングしたステンレスロールを樹脂被覆ロールとして用いたこと以外は実施例１と同一の方法および同一の条件でポリイミド樹脂フィルムからなる絶縁フィルムの表面の放電プラズマ処理を行なった。 (Comparative Example 3)
Instead of PFA resin, a stainless steel roll coated with a resin layer on the outermost surface of PVDF resin having a thickness of 100 μm, a dielectric constant of 7.7 F / m and a static friction coefficient of 0.3 was used as the resin coating roll. The surface of the insulating film made of the polyimide resin film was subjected to discharge plasma treatment in the same manner and under the same conditions as in Example 1.

ここで、それぞれの樹脂被覆ロールは絶縁フィルムとは樹脂被覆ロールの外周３６０°のうち１５０°の範囲で接触していたため、接触面積Ｓは１．０８×０．１１８×π×（１５０／３６０）≒０．１６７ｍ2であり、それぞれの樹脂被覆ロールの樹脂層の表面と絶縁フィルムの表面との接触状態下における静電容量Ｃは上記の式（１）より７．７×０．１６７／（１００×１０-6）≒１２８５９Ｆであった。 Here, since each resin coating roll was in contact with the insulating film in the range of 150 ° of the outer periphery 360 ° of the resin coating roll, the contact area S was 1.08 × 0.118 × π × (150/360 ) ≈0.167 m 2 , and the capacitance C in the contact state between the surface of the resin layer of each resin coating roll and the surface of the insulating film is 7.7 × 0.167 / from the above equation (1). It was (100 × 10 −6 ) ≈12859F.

そして、出口予備室３４から搬出されてきた絶縁フィルムを観察したところフレキシブル積層体３９に折れシワが多数発生していた。   And when the insulating film carried out from the preliminary | backup exit chamber 34 was observed, many bendings generate | occur | produced in the flexible laminated body 39. FIG.

上記の結果から、樹脂被覆ロールの樹脂層の表面と絶縁フィルムの表面との接触状態下における静電容量が１００００Ｆ以下である実施例１〜５の放電プラズマ処理を行なった場合には、フレキシブル積層体および絶縁フィルムのシワの発生がないことが確認された。   From the above results, in the case where the discharge plasma treatment of Examples 1 to 5 in which the electrostatic capacity under the contact state between the surface of the resin layer of the resin coating roll and the surface of the insulating film is 10,000 F or less, flexible lamination It was confirmed that there was no generation of wrinkles on the body and insulating film.

なお、上記の実施例１〜４においては、フレキシブル積層体３９の絶縁フィルム３９ａを上側、金属層３９ｂを下側として、絶縁フィルム３９ａの表面の放電プラズマ処理を行なったが、フレキシブル積層体３９の絶縁フィルム３９ａを下側とし、金属層３９ｂを上側として、第１プラズマ処理室３０の下流側において絶縁フィルム３９ａと接触する搬送ロールを樹脂被覆ロールとした構成で絶縁フィルム３９ａの表面の放電プラズマ処理を行なっても実施例１〜４と同様の結果が得られると考えられる。   In Examples 1 to 4 described above, the discharge plasma treatment was performed on the surface of the insulating film 39a with the insulating film 39a of the flexible laminate 39 on the upper side and the metal layer 39b on the lower side. Discharge plasma treatment of the surface of the insulating film 39a with a structure in which the insulating film 39a is on the lower side, the metal layer 39b is on the upper side, and the transport roll that contacts the insulating film 39a on the downstream side of the first plasma processing chamber 30 It is considered that the same results as in Examples 1 to 4 can be obtained even if the above is performed.

今回開示された実施の形態および実施例はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。   It should be understood that the embodiments and examples disclosed herein are illustrative and non-restrictive in every respect. The scope of the present invention is defined by the terms of the claims, rather than the description above, and is intended to include any modifications within the scope and meaning equivalent to the terms of the claims.

本発明によれば、被処理体のシワの発生を抑制することができる表面処理装置を提供することができるので、本発明はＣＣＬなどのフレキシブル積層体の絶縁フイルムの表面およびフレキシブル積層体の形成に使用される絶縁フイルムの表面の放電プラズマ処理などに好適に利用することができる。   According to the present invention, since it is possible to provide a surface treatment apparatus capable of suppressing the generation of wrinkles on the object to be processed, the present invention provides the surface of an insulating film of a flexible laminate such as CCL and the formation of the flexible laminate. It can be suitably used for, for example, discharge plasma treatment of the surface of the insulating film used in the above.

本発明の表面処理装置の好ましい一例の模式的な構成図である。It is a typical block diagram of a preferable example of the surface treatment apparatus of this invention. 金属ロールによりフレキシブル積層体を搬送するときを図解する模式的な断面図である。It is typical sectional drawing illustrating when a flexible laminated body is conveyed with a metal roll. 樹脂被覆ロールによりフレキシブル積層体を搬送するときを図解する模式的な断面図である。It is typical sectional drawing illustrating when a flexible laminated body is conveyed with a resin coating roll. 樹脂被覆ロールの樹脂層の表面と絶縁フィルムの表面との接触面積Ｓおよび樹脂被覆ロールの樹脂層の厚みｄを示す模式的な断面図である。It is typical sectional drawing which shows the contact area S of the surface of the resin layer of a resin coating roll, and the surface of an insulating film, and the thickness d of the resin layer of a resin coating roll.

符号の説明Explanation of symbols

１，２，３，４，６，７，９，１０，１１，１２，１３，１４，１５，１６，１８，２１，２２，２３ 搬送ロール、８，１７ ガスシール用ロール、２６ 繰り出しロール、２７ 巻き取りロール、２８ 入口予備室、２９ 第１上予備室、３０ 第１プラズマ処理室、３１ 下予備室、３２ 第２プラズマ処理室、３３ 第２上予備室、３４ 出口予備室、３５，３６，３７，３８ 電極、３９ フレキシブル積層体、３９ａ 絶縁フィルム、３９ｂ 金属層、４０ 表面処理装置、４１ 金属ロール、４２ 樹脂層、４３ 樹脂被覆ロール。   1,2,3,4,6,7,9,10,11,12,13,14,15,16,18,21,22,23 transport roll, 8,17 roll for gas seal, 26 feeding roll, 27 take-up roll, 28 inlet preliminary chamber, 29 first upper preliminary chamber, 30 first plasma processing chamber, 31 lower preliminary chamber, 32 second plasma processing chamber, 33 second upper preliminary chamber, 34 outlet preliminary chamber, 35, 36, 37, 38 Electrode, 39 Flexible laminate, 39a Insulating film, 39b Metal layer, 40 Surface treatment device, 41 Metal roll, 42 Resin layer, 43 Resin coated roll.

Claims (11)

金属層と絶縁フィルムとが少なくとも積層されてなるフレキシブル積層体の前記絶縁フィルムの表面を放電プラズマ処理するための装置であって、
前記絶縁フィルムの表面を放電プラズマ処理するためのプラズマ処理室と、
前記プラズマ処理室の上流側に設置された搬送ロールと、
前記プラズマ処理室の下流側に設置された搬送ロールと、を備え、
前記プラズマ処理室の下流側に設置された搬送ロールは最外層が樹脂層からなる樹脂被覆ロールを含み、
前記樹脂被覆ロールは前記樹脂層の表面が放電プラズマ処理後の前記フレキシブル積層体の前記絶縁フィルムの表面と接触するように設置されており、
前記樹脂被覆ロールの前記樹脂層の表面と前記絶縁フィルムの表面との接触状態下における前記樹脂層の静電容量が１００００Ｆ以下であり、
前記接触状態は、前記絶縁フィルムがテンションをかけられた状態で搬送されながら前記樹脂層の外周面の一部と接触している状態であり、
前記樹脂層は、ＰＦＡ樹脂、ＥＴＦＥ樹脂またはＰＴＦＥ樹脂からなり、
前記樹脂層の厚さは４３．５μｍ以上１１０μｍ以下であって、
前記絶縁フィルムはポリイミド樹脂からなることを特徴とする、表面処理装置。 An apparatus for performing discharge plasma treatment on the surface of the insulating film of a flexible laminate comprising at least a metal layer and an insulating film,
A plasma processing chamber for performing discharge plasma processing on the surface of the insulating film;
A transport roll installed on the upstream side of the plasma processing chamber;
A transport roll installed on the downstream side of the plasma processing chamber,
The transport roll installed on the downstream side of the plasma processing chamber includes a resin coating roll whose outermost layer is a resin layer,
The resin coating roll is installed such that the surface of the resin layer is in contact with the surface of the insulating film of the flexible laminate after the discharge plasma treatment,
The capacitance of the resin layer under a contact state between the surface of the resin layer of the resin-coated roll and the surface of the insulating film is 10,000 F or less ,
The contact state is a state in which the insulating film is in contact with a part of the outer peripheral surface of the resin layer while being conveyed in a tensioned state.
The resin layer is made of PFA resin, ETFE resin or PTFE resin,
The resin layer has a thickness of 43.5 μm to 110 μm,
The insulating film is characterized Rukoto a polyimide resin, a surface treatment apparatus. 絶縁フィルムの表面を放電プラズマ処理するための装置であって、
前記絶縁フィルムの表面を放電プラズマ処理するためのプラズマ処理室と、
前記プラズマ処理室の上流側に設置された搬送ロールと、
前記プラズマ処理室の下流側に設置された搬送ロールと、を備え、
前記プラズマ処理室の下流側に設置された搬送ロールは最外層が樹脂層からなる樹脂被覆ロールを含み、
前記樹脂被覆ロールは前記樹脂層の表面が放電プラズマ処理後の前記絶縁フィルムの表面と接触するように設置されており、
前記樹脂被覆ロールの前記樹脂層の表面と前記絶縁フィルムの表面との接触状態下における前記樹脂層の静電容量が１００００Ｆ以下であり、
前記接触状態は、前記絶縁フィルムがテンションをかけられた状態で搬送されながら前記樹脂層の外周面の一部と接触している状態であり、
前記樹脂層は、ＰＦＡ樹脂、ＥＴＦＥ樹脂またはＰＴＦＥ樹脂からなり、
前記樹脂層の厚さは４３．５μｍ以上１１０μｍ以下であって、
前記絶縁フィルムはポリイミド樹脂からなることを特徴とする、表面処理装置。 An apparatus for performing discharge plasma treatment on the surface of an insulating film,
A plasma processing chamber for performing discharge plasma processing on the surface of the insulating film;
A transport roll installed on the upstream side of the plasma processing chamber;
A transport roll installed on the downstream side of the plasma processing chamber,
The transport roll installed on the downstream side of the plasma processing chamber includes a resin coating roll whose outermost layer is a resin layer,
The resin coating roll is installed such that the surface of the resin layer is in contact with the surface of the insulating film after the discharge plasma treatment,
The capacitance of the resin layer under a contact state between the surface of the resin layer of the resin-coated roll and the surface of the insulating film is 10,000 F or less ,
The contact state is a state in which the insulating film is in contact with a part of the outer peripheral surface of the resin layer while being conveyed in a tensioned state.
The resin layer is made of PFA resin, ETFE resin or PTFE resin,
The resin layer has a thickness of 43.5 μm to 110 μm,
The insulating film is characterized Rukoto a polyimide resin, a surface treatment apparatus. 前記樹脂被覆ロールの前記樹脂層の誘電率が３Ｆ／ｍ以下であることを特徴とする、請求項１または２に記載の表面処理装置。   The surface treatment apparatus according to claim 1, wherein a dielectric constant of the resin layer of the resin coating roll is 3 F / m or less. 前記樹脂被覆ロールの前記樹脂層の静摩擦係数が０．１以下であることを特徴とする、請求項１から３のいずれかに記載の表面処理装置。   The surface treatment apparatus according to claim 1, wherein a static friction coefficient of the resin layer of the resin coating roll is 0.1 or less. 前記プラズマ処理室の上流側に設置された搬送ロールは、前記プラズマ処理室に前記絶縁フィルムを鉛直方向に搬入するための搬送ロールを含むことを特徴とする、請求項１から４のいずれかに記載の表面処理装置。   The conveyance roll installed in the upstream of the said plasma processing chamber contains the conveyance roll for carrying the said insulating film in the said plasma processing chamber in the perpendicular direction, The one in any one of Claim 1 to 4 characterized by the above-mentioned. The surface treatment apparatus as described. 前記プラズマ処理室の上流側に前記プラズマ処理室に隣接した予備室を備えていることを特徴とする、請求項１から５のいずれかに記載の表面処理装置。   The surface treatment apparatus according to claim 1, further comprising a preliminary chamber adjacent to the plasma processing chamber on an upstream side of the plasma processing chamber. 前記プラズマ処理室の下流側に前記プラズマ処理室に隣接した予備室を備えていることを特徴とする、請求項６に記載の表面処理装置。   The surface treatment apparatus according to claim 6, further comprising a preliminary chamber adjacent to the plasma processing chamber on a downstream side of the plasma processing chamber. 金属層と絶縁フィルムとが少なくとも積層されてなるフレキシブル積層体の前記絶縁フィルムの表面を放電プラズマ処理するための装置であって、
前記絶縁フィルムの表面を放電プラズマ処理するための第１プラズマ処理室と、
前記絶縁フィルムの表面を放電プラズマ処理するための第２プラズマ処理室と、
前記第１プラズマ処理室の上流側に前記第１プラズマ処理室に隣接して設置された第１予備室と、
前記第２プラズマ処理室の下流側に前記第２プラズマ処理室に隣接して設置された第２予備室と、
前記第１プラズマ処理室の下流側かつ前記第２プラズマ処理室の上流側に設置された第
３予備室と、
前記第１プラズマ処理室の上流側に設置された第１搬送ロールと、
前記第２プラズマ処理室の下流側に設置された第２搬送ロールと、
前記第３予備室内に設置された第３搬送ロールと、を備え、
前記第１プラズマ処理室は前記第２プラズマ処理室の上流側に設置され、
前記第１プラズマ処理室と前記第２プラズマ処理室とは前記第３予備室を介して連結されており、
前記第１搬送ロールは前記第１プラズマ処理室に前記フレキシブル積層体を鉛直方向に搬入するための搬送ロールを前記第１予備室内に含み、
前記第２搬送ロールは前記第２プラズマ処理室から前記フレキシブル積層体を鉛直方向に搬出するための搬送ロールを前記第２予備室内に含んでおり、
前記第２搬送ロールおよび前記第３搬送ロールはそれぞれ、最外層が樹脂層からなる樹脂被覆ロールを含み、
前記樹脂被覆ロールは前記樹脂層の表面が放電プラズマ処理後の前記フレキシブル積層体の前記絶縁フィルムの表面と接触するように設置されており、
前記樹脂被覆ロールの前記樹脂層の表面と前記絶縁フィルムの表面との接触状態下における静電容量が１００００Ｆ以下であり、
前記接触状態は、前記絶縁フィルムがテンションをかけられた状態で搬送されながら前記樹脂層の外周面の一部と接触している状態であり、
前記樹脂層は、ＰＦＡ樹脂、ＥＴＦＥ樹脂またはＰＴＦＥ樹脂からなり、
前記樹脂層の厚さは４３．５μｍ以上１１０μｍ以下であって、
前記絶縁フィルムはポリイミド樹脂からなることを特徴とする、表面処理装置。 An apparatus for performing discharge plasma treatment on the surface of the insulating film of a flexible laminate comprising at least a metal layer and an insulating film,
A first plasma processing chamber for performing a discharge plasma treatment on the surface of the insulating film;
A second plasma processing chamber for performing a discharge plasma treatment on the surface of the insulating film;
A first preliminary chamber installed adjacent to the first plasma processing chamber on the upstream side of the first plasma processing chamber;
A second preliminary chamber installed adjacent to the second plasma processing chamber on the downstream side of the second plasma processing chamber;
A third auxiliary chamber installed downstream of the first plasma processing chamber and upstream of the second plasma processing chamber;
A first transport roll installed on the upstream side of the first plasma processing chamber;
A second transport roll installed on the downstream side of the second plasma processing chamber;
A third transport roll installed in the third preliminary chamber,
The first plasma processing chamber is installed upstream of the second plasma processing chamber;
The first plasma processing chamber and the second plasma processing chamber are connected via the third preliminary chamber,
The first transport roll includes a transport roll for carrying the flexible laminate in the vertical direction into the first plasma processing chamber in the first preliminary chamber,
The second transport roll includes a transport roll for unloading the flexible laminate in the vertical direction from the second plasma processing chamber in the second preliminary chamber,
Each of the second transport roll and the third transport roll includes a resin-coated roll whose outermost layer is a resin layer,
The resin coating roll is installed such that the surface of the resin layer is in contact with the surface of the insulating film of the flexible laminate after the discharge plasma treatment,
The electrostatic capacity under the contact state between the surface of the resin layer of the resin coating roll and the surface of the insulating film is 10,000 F or less ,
The contact state is a state in which the insulating film is in contact with a part of the outer peripheral surface of the resin layer while being conveyed in a tensioned state,
The resin layer is made of PFA resin, ETFE resin or PTFE resin,
The resin layer has a thickness of 43.5 μm to 110 μm,
The insulating film is characterized Rukoto a polyimide resin, a surface treatment apparatus. 絶縁フィルムの表面を放電プラズマ処理するための装置であって、
前記絶縁フィルムの表面を放電プラズマ処理するための第１プラズマ処理室と、
前記絶縁フィルムの表面を放電プラズマ処理するための第２プラズマ処理室と、
前記第１プラズマ処理室の上流側に前記第１プラズマ処理室に隣接して設置された第１予備室と、
前記第２プラズマ処理室の下流側に前記第２プラズマ処理室に隣接して設置された第２予備室と、
前記第１プラズマ処理室の下流側かつ前記第２プラズマ処理室の上流側に設置された第３予備室と、
前記第１プラズマ処理室の上流側に設置された第１搬送ロールと、
前記第２プラズマ処理室の下流側に設置された第２搬送ロールと、
前記第３予備室内に設置された第３搬送ロールと、を備え、
前記第１プラズマ処理室は前記第２プラズマ処理室の上流側に設置され、
前記第１プラズマ処理室と前記第２プラズマ処理室とは前記第３予備室を介して連結されており、
前記第１搬送ロールは前記第１プラズマ処理室に前記絶縁フィルムを鉛直方向に搬入するための搬送ロールを前記第１予備室内に含み、
前記第２搬送ロールは前記第２プラズマ処理室から前記絶縁フィルムを鉛直方向に搬出するための搬送ロールを前記第２予備室内に含んでおり、
前記第２搬送ロールおよび前記第３搬送ロールはそれぞれ、最外層が樹脂層からなる樹脂被覆ロールを含み、
前記樹脂被覆ロールは前記樹脂層の表面が放電プラズマ処理後の前記絶縁フィルムの表面と接触するように設置されており、
前記樹脂被覆ロールの前記樹脂層の表面と前記絶縁フィルムの表面との接触状態下における静電容量が１００００Ｆ以下であり、
前記接触状態は、前記絶縁フィルムがテンションをかけられた状態で搬送されながら前記樹脂層の外周面の一部と接触している状態であり、
前記樹脂層は、ＰＦＡ樹脂、ＥＴＦＥ樹脂またはＰＴＦＥ樹脂からなり、
前記樹脂層の厚さは４３．５μｍ以上１１０μｍ以下であって、
前記絶縁フィルムはポリイミド樹脂からなることを特徴とする、表面処理装置。 An apparatus for performing discharge plasma treatment on the surface of an insulating film,
A first plasma processing chamber for performing a discharge plasma treatment on the surface of the insulating film;
A second plasma processing chamber for performing a discharge plasma treatment on the surface of the insulating film;
A first preliminary chamber installed adjacent to the first plasma processing chamber on the upstream side of the first plasma processing chamber;
A second preliminary chamber installed adjacent to the second plasma processing chamber on the downstream side of the second plasma processing chamber;
A third auxiliary chamber installed downstream of the first plasma processing chamber and upstream of the second plasma processing chamber;
A first transport roll installed on the upstream side of the first plasma processing chamber;
A second transport roll installed on the downstream side of the second plasma processing chamber;
A third transport roll installed in the third preliminary chamber,
The first plasma processing chamber is installed upstream of the second plasma processing chamber;
The first plasma processing chamber and the second plasma processing chamber are connected via the third preliminary chamber,
The first transport roll includes a transport roll for carrying the insulating film vertically into the first plasma processing chamber in the first preliminary chamber,
The second transport roll includes a transport roll for transporting the insulating film in the vertical direction from the second plasma processing chamber in the second preliminary chamber,
Each of the second transport roll and the third transport roll includes a resin-coated roll whose outermost layer is a resin layer,
The resin coating roll is installed such that the surface of the resin layer is in contact with the surface of the insulating film after the discharge plasma treatment,
The electrostatic capacity under the contact state between the surface of the resin layer of the resin coating roll and the surface of the insulating film is 10,000 F or less ,
The contact state is a state in which the insulating film is in contact with a part of the outer peripheral surface of the resin layer while being conveyed in a tensioned state.
The resin layer is made of PFA resin, ETFE resin or PTFE resin,
The resin layer has a thickness of 43.5 μm to 110 μm,
The insulating film is characterized Rukoto a polyimide resin, a surface treatment apparatus. 前記樹脂被覆ロールの前記樹脂層の誘電率が３Ｆ／ｍ以下であることを特徴とする、請求項８または９に記載の表面処理装置。   The surface treatment apparatus according to claim 8 or 9, wherein a dielectric constant of the resin layer of the resin coating roll is 3 F / m or less. 前記樹脂被覆ロールの前記樹脂層の静摩擦係数が０．１以下であることを特徴とする、請求項８から１０のいずれかに記載の表面処理装置。   The surface treatment apparatus according to claim 8, wherein a static friction coefficient of the resin layer of the resin coating roll is 0.1 or less.
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