JP4702530B2 - プラネタリー方式のスパッタリング装置 - Google Patents
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Description
16 開口部
20 スパッタリング装置
21 真空槽(容器)
30 プラネタリー治具
31 第1の交点
34 基板保持部材
34a 凹側面(基板保持面)
34b 下端(ターゲット側端)
40 スパッタ源
42 アースシールド板
44 磁石
50 ターゲット
54 中心(第2の交点)
60 基板
62 第1の直線
64 第2の直線
Claims (3)
- 開口を有し、該開口からターゲットが露出する、アースシールド板と、
前記アースシールド板に関して前記ターゲットとは反対側に配置され、前記ターゲットの略中心を通りかつ前記ターゲットに略垂直な中心軸のまわりを公転しながら自転し、前記ターゲットに対向する略半球状の基板保持面に基板を保持する、プラネタリー治具と、
前記ターゲットに関して前記アースシールド板及び前記プラネタリー治具とは反対側に配置された磁石と、
前記ターゲット、前記アースシールド板、前記プラネタリー治具、及び前記磁石が内部の所定位置に配置される容器とを備えた、スパッタリング装置において、
前記アースシールド板の前記開口の周囲に沿って、前記アースシールド板の前記プラネタリー治具側に配置され、前記中心軸の周りに延在する略筒状の形状を有し、前記アースシールド板側に少なくとも一つの開口部が形成された遮蔽部材を備えたことを特徴とする、スパッタリング装置。 - 前記遮蔽部材の前記アースシールド板側の全周の少なくとも20%に、前記開口部が形成されたことを特徴とする、請求項1に記載のスパッタリング装置。
- 前記遮蔽部材は、
前記プラネタリー治具の自転の中心軸と前記基板保持面との第1の交点と、前記プラネタリー治具の公転の中心軸と前記ターゲットとの第2の交点とを結ぶ第1の直線よりも、前記ターゲット側に配置され、かつ、
前記第2の交点と、前記プラネタリー治具の前記基板保持面の前記ターゲット側の端部とを結ぶ第2の直線と交差し、
前記遮蔽部材の前記開口部は、前記第2の直線よりも前記ターゲット側にのみ形成されたことを特徴とする、請求項1又は2に記載のスパッタリング装置。
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JP2005173284A JP4702530B2 (ja) | 2005-06-14 | 2005-06-14 | プラネタリー方式のスパッタリング装置 |
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JP2002220663A (ja) * | 2001-01-29 | 2002-08-09 | Anelva Corp | マグネトロンスパッタリング装置 |
JP2004091899A (ja) * | 2002-09-03 | 2004-03-25 | Victor Co Of Japan Ltd | 反射防止膜の成膜装置及び成膜方法 |
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- 2005-06-14 JP JP2005173284A patent/JP4702530B2/ja active Active
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