JP4679808B2 - Composition for forming retardation film - Google Patents

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Description

本発明は、光学異方性を有する粒子を含有する位相差膜形成用組成物、この位相差膜形成用組成物を用いて形成される位相差膜、この位相差膜を有する位相差素子および偏光板、ならびにこれらを使用した液晶表示素子に関する。   The present invention relates to a retardation film-forming composition containing particles having optical anisotropy, a retardation film formed using the retardation film-forming composition, a retardation element having the retardation film, and The present invention relates to a polarizing plate and a liquid crystal display element using these.

近年、液晶表示装置(LCD)は、ノートブックパソコンやパソコン用モニター、カーネビゲーションシステムやTVモニターなどに広く使われるようになってきた。この液晶表示装置は、ブラウン管(CRT)と比較して視野角特性が劣ることが開発当初から指摘されており、視野角特性の改良のために従来から様々な検討がなされてきた。   In recent years, liquid crystal display devices (LCD) have been widely used in notebook personal computers, personal computer monitors, car navigation systems, TV monitors, and the like. It has been pointed out from the beginning that this liquid crystal display device is inferior in viewing angle characteristics as compared to a cathode ray tube (CRT), and various studies have been made for improving the viewing angle characteristics.

たとえば、視野角特性の改良方法の一つに、ポリカーボネートなどの透明フィルムに一軸または二軸延伸加工等を施して得られる延伸フィルムを、位相差フィルムとして使用する方法がある。しかしながら、この方法では、広範囲にわたって視野角特性を改良するためには、複数枚の延伸フィルムを貼り合わせる必要があり、各延伸フィルムについて複屈折性をコントロールしたり、延伸フィルムの貼り合わせ角度を精密にコントロールしたりすることが必要とされ、製造上のコスト高の一因となっていた。   For example, one method for improving viewing angle characteristics is to use a stretched film obtained by subjecting a transparent film such as polycarbonate to uniaxial or biaxial stretching as a retardation film. However, in this method, in order to improve the viewing angle characteristics over a wide range, it is necessary to bond a plurality of stretched films. For each stretched film, the birefringence is controlled, or the stretched film bonding angle is precise. It has been necessary to control the production cost, which has contributed to high manufacturing costs.

また、液晶表示装置の主流を占めるTN型LCDの視野角特性を改良するために、電圧がon状態(黒表示)の時に液晶セル内でハイブリッド配向したすべての液晶分子の角度依存性を補償する位相差フィルムが必要となってきた。このために負の補償フィルムとなりうる液晶性の円盤状化合物をハイブリッド配向させた位相差フィルムや、棒状の液晶性化合物をハイブリッド配向させた位相差フィルムが提案されており、これらの位相差フィルムを使用することにより左右方向と上下方向の三方向の視野角特性を改良できることが知られている。   In addition, in order to improve the viewing angle characteristics of TN type LCDs, which occupy the mainstream of liquid crystal display devices, the angle dependency of all liquid crystal molecules hybrid-aligned in the liquid crystal cell when the voltage is on (black display) is compensated. A retardation film has become necessary. For this reason, a retardation film in which a liquid crystalline discotic compound that can be a negative compensation film is hybrid-aligned and a retardation film in which a rod-shaped liquid crystalline compound is hybrid-aligned have been proposed. It is known that the viewing angle characteristics in the three directions, left and right and up and down, can be improved by using it.

しかしながら、これらの液晶性化合物を用いたフィルムは、液晶性化合物そのもの、または液晶性化合物が形成したハイブリッド配向の安定性の面から、長期にわたる使用において視野角特性が変化することがあった。   However, the film using these liquid crystalline compounds may change the viewing angle characteristics over a long period of use from the standpoint of stability of the liquid crystalline compound itself or the hybrid alignment formed by the liquid crystalline compound.

また、最近TVモニターで主流となっているVA方式は、電圧がOFFの状態で液晶層が垂直配向することによって黒状態を表示するものであり、視野角度による位相差変化も大きい。   In addition, the VA method, which has recently become the mainstream in TV monitors, displays a black state by vertically aligning a liquid crystal layer while the voltage is OFF, and a change in phase difference due to a viewing angle is large.

こういった状況下において、種々の液晶タイプに適応し、なおかつ長期にわたる使用において視野角特性などが良好に維持される液晶表示装置用の光学補償フィルムのニーズが高まっていた。   Under these circumstances, there has been a growing need for an optical compensation film for a liquid crystal display device that can be applied to various liquid crystal types and that can maintain good viewing angle characteristics and the like over a long period of use.

また、DVDやCD−R等の光ディスクの読みとりや書き込みなどに必要とされるレーザー光のピックアップ装置にも、透明フィルムを延伸加工した位相差フィルムやガラス基板上に液晶をコートしたものが波長板として使用されている。しかしながら、延伸加工した位相差フィルムでは位相差のバラツキやフィルム表面のうねりによる収差の問題が発生することがあり、また、液晶をコートしたものでは長期にわたる使用においてその特性が変化することがあった。   In addition, a laser beam pick-up device required for reading and writing of an optical disk such as a DVD or a CD-R is a wave plate obtained by coating a liquid crystal on a retardation film obtained by stretching a transparent film or a glass substrate. It is used as However, stretched retardation films may cause aberration problems due to phase variations and film surface waviness, and those coated with liquid crystals may change their properties over a long period of use. .

一方、針状粒子を含有する組成物から形成した反射防止膜が知られている(特許文献1
および特許文献2)。この反射防止膜は帯電防止性、耐擦傷性および透明性を向上させたものであり、膜の複屈折性については何ら開示されていない。
On the other hand, an antireflection film formed from a composition containing acicular particles is known (Patent Document 1).
And Patent Document 2). This antireflection film has improved antistatic properties, scratch resistance and transparency, and no disclosure is made on the birefringence of the film.

また、特許文献3には、透明な高分子樹脂と、複屈折性を有する無機物質とを含む光学樹脂材料が開示されおり、無機物質として針状結晶性の鉱物が例示されている。しかしながら、この光学樹脂材料は、前記高分子樹脂の配向により生じる複屈折性と反対の屈折率を有する無機物質を、高分子樹脂の配向屈折率を打ち消すように配向したものであって、特許文献3には、複屈折性を有する無機物質の長径方向の屈折率と長径方向に直交する方向の屈折率との差により、膜平面方向と膜厚方向との間に屈折率の差を生じさせることについては、開示されていない。
特開2002−293839号公報 特開2002−355936号公報 特開平11−293116号公報
Further, Patent Document 3 discloses an optical resin material containing a transparent polymer resin and an inorganic substance having birefringence, and an acicular crystalline mineral is exemplified as the inorganic substance. However, this optical resin material is obtained by orienting an inorganic substance having a refractive index opposite to the birefringence generated by the orientation of the polymer resin so as to cancel the orientation refractive index of the polymer resin. 3, the difference between the refractive index in the major axis direction and the refractive index in the direction perpendicular to the major axis direction of the inorganic substance having birefringence causes a difference in refractive index between the film plane direction and the film thickness direction. This is not disclosed.
JP 2002-293839 A JP 2002-355936 A JP-A-11-293116

本発明は、上記のような従来技術に伴う問題を解決しようとするものであって、良好な光学特性を長期にわたって安定して発現する位相差膜、位相差素子、偏光板、およびこれらを使用した液晶表示素子、ならびに前記位相差膜を形成するための組成物を提供することを課題としている。   The present invention is intended to solve the problems associated with the prior art as described above, and uses a retardation film, a retardation element, a polarizing plate, and the like that stably express good optical characteristics over a long period of time. It is an object of the present invention to provide a liquid crystal display element and a composition for forming the retardation film.

本発明者は、上記問題点を解決すべく鋭意研究し、形状異方性と複屈折性を合わせもつ無機粒子をフィルム中に配置させることによって、優れた複屈折性を有する位相差膜を形成できることを見出し、発明を完成するに至った。   The present inventor has intensively studied to solve the above problems, and forms a retardation film having excellent birefringence by arranging inorganic particles having both shape anisotropy and birefringence in the film. We found out what we could do and came to complete the invention.

すなわち、本発明に係る位相差膜形成用組成物は、
(A)長径と短径を有する形状異方性を示し、かつ長径方向の屈折率が長径方向と直交する方向の平均屈折率よりも大きく複屈折性を有する無機粒子と、
(B)該無機粒子(A)を固定化するための、硬化性化合物であるバインダーと
を含有する位相差膜形成用組成物であって、
該組成物から形成される位相差膜に膜面平行方向と膜厚方向との屈折率の差を生じさせ、該膜面平行方向の屈折率が膜厚方向の屈折率よりも大きいことを特徴としている。
That is, the composition for forming a retardation film according to the present invention is
(A) inorganic particles exhibiting shape anisotropy having a major axis and a minor axis, and having a refractive index in the major axis direction larger than an average refractive index in a direction perpendicular to the major axis direction, and birefringence;
(B) A retardation film-forming composition containing a binder that is a curable compound for fixing the inorganic particles (A),
The retardation film formed from the composition causes a difference in refractive index between the film surface parallel direction and the film thickness direction, and the film surface parallel direction refractive index is larger than the film thickness direction refractive index. It is said.

前記位相差膜形成用組成物は、この組成物から形成される位相差膜において、無機粒子(A)の長径方向が膜平面に実質的に平行に配置され、
該無機粒子(A)の長径方向の屈折率と長径方向と直交する方向の屈折率との差により、前記位相差膜に膜面平行方向と膜厚方向との屈折率の差を生じさせることが好ましい。また、前記位相差膜の膜面平行方向の屈折率と膜厚方向の屈折率との差は0.010以上であることが好ましい。
In the retardation film formed from the composition, the composition for forming the retardation film is arranged such that the major axis direction of the inorganic particles (A) is substantially parallel to the film plane,
Due to the difference between the refractive index in the major axis direction of the inorganic particles (A) and the refractive index in the direction perpendicular to the major axis direction, a difference in refractive index between the film surface parallel direction and the film thickness direction is caused in the retardation film. Is preferred. The difference between the refractive index in the film surface parallel direction and the refractive index in the film thickness direction of the retardation film is preferably 0.010 or more.

記無機粒子(A)は、平均長径が2μm以下の結晶性を有する無機粒子であることが好ましい。
前記硬化性化合物は、(i)メラミン化合物、(ii)イソシアネート化合物、(iii
)アクリレート化合物、(iv)エポキシ化合物、または(v)加水分解性シラン化合物であることが好ましい。バインダー(B)の添加量は、無機粒子(A)100重量部に対して、1〜200重量部であることが好ましい。
前記位相差膜形成用組成物は、硬化開始剤(C)を含有することもできる。
Before SL inorganic particles (A) preferably has an average major axis is an inorganic particle having the crystalline 2 [mu] m.
The curable compound comprises (i) a melamine compound, (ii) an isocyanate compound, (iii)
It is preferably an acrylate compound, (iv) an epoxy compound, or (v) a hydrolyzable silane compound. The amount of the binder (B) added is preferably 1 to 200 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the inorganic particles (A).
The composition for forming a retardation film can also contain a curing initiator (C).

本発明に係る位相差膜形成用組成物は、塗布性能に優れるとともに、複屈折性および透明性に優れた位相差膜を形成することができる。また、本発明に係る位相差膜は、長期に渡り、安定して優れた複屈折性および透明性を示すとともに良好な視野角特性を示す。   The composition for forming a retardation film according to the present invention is excellent in coating performance and can form a retardation film excellent in birefringence and transparency. In addition, the retardation film according to the present invention stably exhibits excellent birefringence and transparency over a long period of time, and also exhibits good viewing angle characteristics.

以下、本発明に係る位相差膜形成用組成物、位相差膜、位相差素子、偏光板、および液晶表示素子について、さらに詳細に説明する。   Hereinafter, the composition for forming a retardation film, the retardation film, the retardation element, the polarizing plate, and the liquid crystal display element according to the present invention will be described in more detail.

<位相差膜形成用組成物>
本発明に係る位相差膜形成用組成物は、特定の無機粒子とバインダーとを含有する組成物であって、後述するような複屈折性を有する位相差膜を形成することができる。
<Phase difference film forming composition>
The composition for forming a retardation film according to the present invention is a composition containing specific inorganic particles and a binder, and can form a retardation film having birefringence as described later.

(A)無機粒子:
本発明に用いられる無機粒子は、長径と短径を有する形状異方性を示し、かつ長径方向の屈折率が長径方向と直交する方向の平均屈折率よりも大きく、複屈折性を有する無機粒子(以下、「無機粒子(A)」という。)である。ここで、長径とは無機粒子(A)の最も長い径(以下、「a軸」ともいう)を意味し、短径とはa軸に垂直な軸のうち最も短い径(以下、「b軸」ともいう)を意味する。また、本明細書において、a軸とb軸の両軸に垂直な軸を「c軸」と定義する。
(A) Inorganic particles:
The inorganic particles used in the present invention exhibit shape anisotropy having a major axis and a minor axis, and have a refractive index in the major axis direction larger than an average refractive index in a direction perpendicular to the major axis direction, and have birefringence. (Hereinafter referred to as “inorganic particles (A)”). Here, the long diameter means the longest diameter (hereinafter also referred to as “a-axis”) of the inorganic particles (A), and the short diameter means the shortest diameter among the axes perpendicular to the a-axis (hereinafter referred to as “b-axis”). ")". In this specification, an axis perpendicular to both the a-axis and the b-axis is defined as “c-axis”.

無機粒子(A)は、a軸の長さ(長径:La)とb軸の長さ(短径:Db)との比(「アスペクト比」という)(La/Db)が、通常1.5以上、好ましくは2.0以上、より好ましくは5.0〜10000、特に好ましくは10.0〜1000である。また、c軸の長さ(Dc)とb軸の長さ(Db)との比(Dc/Db)は、通常1.0〜1.5、好ましくは1.0〜1.3である。アスペクト比(La/Db)が、上記範囲にあると、位相差膜を形成する際に、無機粒子(A)の長径方向が膜平面に平行になるように無機粒子(A)を容易に配置させることができ、位相差膜の複屈折性を容易に制御することができる。アスペクト比(La/Db)が、1.5未満であると、無機粒子(A)は膜内で任意の方向に配置されることがあり、結果として形成された膜が複屈折性を有しないことがある。このため、特に、針状の無機粒子が好適に使用される。 Inorganic particles (A), the length of a-axis (major axis: L a) and the length of b-axis (short diameter: D b) the ratio of ( "aspect ratio") is (L a / D b), Usually, it is 1.5 or more, preferably 2.0 or more, more preferably 5.0 to 10000, particularly preferably 10.0 to 1000. The length of the c axis (D c) and the length of the b-axis (D b) the ratio of (D c / D b) is generally 1.0 to 1.5, preferably 1.0 to 1. 3. When the aspect ratio (L a / D b ) is within the above range, when forming the retardation film, the inorganic particles (A) can be easily formed so that the major axis direction of the inorganic particles (A) is parallel to the film plane. The birefringence of the retardation film can be easily controlled. When the aspect ratio (L a / D b ) is less than 1.5, the inorganic particles (A) may be arranged in any direction in the film, and the resulting film has birefringence. May not have. For this reason, in particular, acicular inorganic particles are preferably used.

無機粒子(A)の平均長径は、透明性を有する位相差膜を形成できれば特に制限されないが、通常2μm以下、好ましくは1μm以下、より好ましくは0.5μm以下、特に好ましくは0.1μm以下である。ここで、平均長径とは、透過型電子顕微鏡観察により測定した粒子の長径の数平均値(n=100)である。平均長径が上記上限を超えると、無機粒子が均一に分散せず、また保存安定性に欠けることがあり、位相差膜を形成する際には無機粒子が沈降しやすく、さらに光散乱により得られる膜の透明性が低下したり、濁度(ヘイズ値)が上昇したりすることがある。   The average major axis of the inorganic particles (A) is not particularly limited as long as a transparent retardation film can be formed, but is usually 2 μm or less, preferably 1 μm or less, more preferably 0.5 μm or less, particularly preferably 0.1 μm or less. is there. Here, the average major axis is the number average value (n = 100) of the major axis of the particles measured by observation with a transmission electron microscope. When the average major axis exceeds the above upper limit, the inorganic particles may not be uniformly dispersed, and storage stability may be lacking, and when forming a retardation film, the inorganic particles are likely to settle, and are obtained by light scattering. The transparency of the film may decrease, and the turbidity (haze value) may increase.

また、無機粒子(A)は、平均長径が上記範囲にあれば、長径が10μm以上の粒子が含まれていてもよいが、長径が10μm以上の粒子は、好ましくは10重量%未満、より好ましくは5重量%未満、特に好ましくは1重量%未満、最も好ましくは0.1重量%未満である。長径が10μm以上の粒子の含有率が上記範囲にあると、光透過率を増大させることができるとともに、得られる位相差膜の膜面平行方向の屈折率と膜厚方向の屈折率との差も制御しやすくなる。   The inorganic particles (A) may contain particles having a major axis of 10 μm or more as long as the average major axis is in the above range, but the particles having a major axis of 10 μm or more are preferably less than 10% by weight, more preferably. Is less than 5% by weight, particularly preferably less than 1% by weight, most preferably less than 0.1% by weight. When the content of particles having a major axis of 10 μm or more is in the above range, the light transmittance can be increased, and the difference between the refractive index in the film surface parallel direction and the refractive index in the film thickness direction of the obtained retardation film. Will also be easier to control.

無機粒子(A)は、a軸方向(長径方向)の屈折率が、長径方向と直交する方向の平均屈折率よりも大きい複屈折性を有する粒子である。a軸方向(長径方向)の屈折率(na
)と、a軸と直交する方向の屈折率の平均値(nr)との差(Δnp=na−nr)は、得られる位相差膜の膜面平行方向の屈折率と膜厚方向の屈折率との差が後述するような範囲となるものであれば特に限定されないが、通常0.010以上、好ましくは0.050以上、より好ましくは0.100以上、特に好ましくは0.200以上である。このΔnp
上記範囲にあると、位相差膜の膜厚方向の屈折率を容易に調整することができ、膜面平行方向の屈折率と膜厚方向の屈折率との差を容易に制御することができる。
The inorganic particles (A) are particles having birefringence in which the refractive index in the a-axis direction (major axis direction) is larger than the average refractive index in the direction orthogonal to the major axis direction. Refractive index in the a-axis direction (major axis direction) (n a
) And the difference between the average value of the refractive index in the direction orthogonal to the a-axis (n r) (Δn p = n a -n r) is parallel to the film surface direction of the refractive index of the obtained retardation film and the film thickness Although it will not specifically limit if the difference with the refractive index of a direction becomes the range which is mentioned later, Usually, 0.010 or more, Preferably it is 0.050 or more, More preferably, it is 0.100 or more, Especially preferably, it is 0.00. 200 or more. When this Δn p is in the above range, the refractive index in the film thickness direction of the retardation film can be easily adjusted, and the difference between the refractive index in the film surface parallel direction and the refractive index in the film thickness direction can be easily controlled. can do.

また、無機粒子(A)はa軸方向(長径方向)の屈折率とa軸と直交する方向の屈折率との平均値、すなわち粒子全体の平均屈折率が、通常3未満、好ましくは2.5以下、より好ましくは2.0以下である。粒子全体の平均屈折率が上記範囲にあると、形成された位相差膜における光の散乱を抑制することができる。   In addition, the inorganic particles (A) have an average value of the refractive index in the a-axis direction (major axis direction) and the refractive index in the direction orthogonal to the a-axis, that is, the average refractive index of the entire particle is usually less than 3, preferably 2. 5 or less, more preferably 2.0 or less. When the average refractive index of the entire particle is in the above range, light scattering in the formed retardation film can be suppressed.

このような形状異方性と複屈折性を合わせもつ無機粒子(A)としては、粒子を形成した場合に長径方向の屈折率が長径方向と直交する方向の屈折率よりも大きくなる無機化合物を主成分とする粒子であれば良く、その成分は、具体的には、複屈折性が顕著であり、かつ、粒子形状と屈折率との関係が上述した条件を満たすものとして、SiC、ZnS、As 2 Se 3 、LiNbO 3 、TiO 2 、SnO 2 、BaTiO 3 、BeO、MgF 2 、KH 2 PO 4 が好ましく、特にルチル型のTiO 2 、アンチモンをドープしたSnO 2 、コランダムのAl 2 O 3 が好ましいAs the inorganic particles (A) having both shape anisotropy and birefringence, an inorganic compound in which the refractive index in the major axis direction is larger than the refractive index in the direction perpendicular to the major axis direction when the particles are formed. As long as it is a particle having a main component, specifically, the component has a remarkable birefringence, and the relationship between the particle shape and the refractive index satisfies the above-described conditions, SiC, ZnS, As 2 Se 3, LiNbO 3, TiO 2, SnO 2, BaTiO 3, BeO, is MgF 2, KH 2 PO 4 are preferred, TiO 2, especially rutile, SnO 2, Al 2 O 3 corundum doped with antimony Is preferred .

上記無機化合物を主成分とする粒子としては、上述したような形状異方性と複屈折性を合わせもつ無機粒子になれば、たとえば、下記のような無機鉱物を細かく粉砕したものを使用することができる。
黄鉄鋼、黄銅鉱、辰砂、斑銅鋼、鶏簡石、石黄などの硫化鉱物類;
尖晶石(スピネル)、綱玉(コランダム)、赤鉄鋼、金紅石、金緑石、蛋白石などの酸化鉱物類;
水晶、紅石英、碧玉、玉髄などの石英類;
蛍石、氷晶石、岩塩などのハロゲン化鉱物類;
方解石、霰石、菱マンガン鉱、孔雀石、藍銅鉱などの炭酸塩鉱物類;
重晶石、天青石、石膏、硫酸鉛鉱などの硫酸塩鉱物;
トルコ石、バリッシャー石、燐灰石、ストレング石などの燐酸塩鉱物;
アダム鉱などの砒酸塩鉱物類;
橄纜石、石榴石、トパーズ、ジルコン、藍晶石、紅柱石、ダトー石、緑簾石、灰簾石、ベスブ石、緑柱石、電気石、翠銅鉱、菫青石、斧石、ベニ、ト石、透輝石、リチア輝石、ひすい輝石、透角閃石、リーベック閃石、バラ輝石、珪線石、滑石、珪孔雀石、白雲母、黒雲母、リチア雲母、ブドウ石、魚眼石、蛇紋石、青金石、方ソーダ石などの珪酸塩鉱物類;
カリ長石、斜長石、曹長石などの長石類;
方沸石、菱沸石、輝沸石、束沸石、ソーダ沸石、濁沸石などの沸石類;
タングステン酸塩鉱物;モリブデン鉱物;硼酸塩鉱物;バナジウム酸塩鉱物などが挙げられる。
As the particles containing the inorganic compound as a main component, if the inorganic particles have both shape anisotropy and birefringence as described above, for example, the following finely pulverized inorganic minerals should be used. Can do.
Sulphide minerals such as pyrite steel, chalcopyrite, cinnabar, porphyry steel, chicken calcite, and stone yellow;
Oxidizing minerals such as spinel, corundum, red iron steel, gold red stone, gold green stone, and protein stone;
Quartz, such as quartz, red quartz, jasper and chalcedony;
Halogenated minerals such as fluorite, cryolite and rock salt;
Carbonate minerals such as calcite, aragonite, chrysantumite, peacock stone, kyanite, etc .;
Sulphate minerals such as barite, celestite, gypsum and lead ore;
Phosphate minerals such as turquoise, barisherite, apatite and strength stone;
Arsenate minerals such as Adamite;
Meteorite, stone meteorite, topaz, zircon, kyanite, columbite, datoite, chlorite, habitite, vesuvite, beryl, tourmaline, chalcopyrite, cordierite, axite, beni, to Stone, diopside, lithiateite, jadeite, hornblende, leebeckite, rose pyroxene, wollastonite, talc, pylorite, muscovite, biotite, lithia mica, grapestone, fisheye stone, serpentine, blue Silicate minerals such as gold stone and sodalite;
Feldspars such as potash feldspar, plagioclase, feldspar;
Zeolites such as calcite, chabazite, pyroxenite, lumbarite, soda zeolite, turbidite, etc .;
Examples include tungstate minerals; molybdenum minerals; borate minerals; vanadate minerals.

また、このような無機鉱物を主原料とし、必要に応じて他の成分を混合して用い、CZ法やFZ法、スカル・メルト法、ベルヌイ法、ブリッジマン法などの方法で、融液から単結晶を成長させる融液法;主に水を溶媒として溶解して単結晶を成長させる溶液法;水の代わりに融解した無機物、たとえば酸化鉛、フッ化鉛、酸化モリブデン、酸化タングステン、酸化ホウ素、酸化バナジウムなどを溶媒として使用するフラックス法により結晶成長させる方法;主に石英で用いられる水熱法;CVDやPVDなどの気相法;ゾル−ゲル法などを用いて、上述したような形状異方性と複屈折性を合わせもつ無機粒子(A)を調製することもできる。   In addition, such inorganic minerals are used as the main raw material, and other components are mixed as required, and from the melt by methods such as the CZ method, FZ method, skull melt method, Bernoulli method, Bridgman method, etc. A melt method for growing a single crystal; a solution method for growing a single crystal mainly by dissolving water in a solvent; an inorganic substance melted instead of water, such as lead oxide, lead fluoride, molybdenum oxide, tungsten oxide, boron oxide Crystal growth by a flux method using vanadium oxide or the like as a solvent; Hydrothermal method mainly used in quartz; Gas phase method such as CVD or PVD; Sol-gel method or the like as described above Inorganic particles (A) having both anisotropy and birefringence can also be prepared.

無機粒子(A)の構造は、上記のような形状異方性と複屈折性を合わせもつものであれば特に制限されないが、複屈折性を発現しやすいことから非晶質のものよりも結晶質のものが好ましく、特に単結晶のものが好ましい。結晶質を有する無機粒子(A)を用いることによって、位相差膜の複屈折性をより精度良く効率的に発現させることができる。また
、結晶系についても上記のような形状異方性と複屈折性を合わせもつ粒子であれば特に制限されず、三斜、単斜、斜方、稜面、正方、六方、立方のいずれでもよい。
The structure of the inorganic particles (A) is not particularly limited as long as it has both shape anisotropy and birefringence as described above. Is preferable, and a single crystal is particularly preferable. By using the crystalline inorganic particles (A), the birefringence of the retardation film can be expressed more accurately and efficiently. Further, the crystal system is not particularly limited as long as the particles have both shape anisotropy and birefringence as described above, and any of triclinic, monoclinic, oblique, ridge, square, hexagonal, and cubic can be used. Good.

無機粒子(A)は、位相差膜形成用組成物全量に対して通常1〜95重量%、好ましくは5〜70重量%、より好ましくは5〜50重量%、特に好ましくは5〜30重量%で含有される。無機粒子(A)の含有率が上記範囲にあると、位相差膜形成用組成物は良好な塗工性を示すとともに、得られる位相差膜の複屈折性が特に優れたものとなる。   The inorganic particles (A) are usually 1 to 95% by weight, preferably 5 to 70% by weight, more preferably 5 to 50% by weight, particularly preferably 5 to 30% by weight, based on the total amount of the retardation film forming composition. Contained. When the content of the inorganic particles (A) is in the above range, the composition for forming a retardation film exhibits good coating properties, and the birefringence of the obtained retardation film is particularly excellent.

無機粒子(A)は、分散性をより向上させるためや、位相差膜を形成した場合に後述するバインダー(B)により形成される成分との密着性をより向上させるために、カップリング剤などの処理剤で表面処理してもよい。表面処理した無機粒子(A)を用いることによって、分散性をより向上させるだけでなく、得られる位相差膜の透明性が長期にわたって確保され、さらに位相差膜形成用組成物の保存安定性をより向上させることができる。ここで、表面処理とは、無機粒子(A)と表面処理剤とを混合することにより表面を改質する操作を意味するものであり、その方法は、無機粒子(A)に表面処理剤を物理吸着させる方法と、無機粒子(A)と表面処理剤とを化学結合させる方法のいずれの方法を用いてもよいが、表面処理の効果の観点から、化学結合させる方法を用いることが好ましい。   In order to further improve the dispersibility of the inorganic particles (A) or to further improve the adhesion with the component formed by the binder (B) described later when a retardation film is formed, a coupling agent or the like You may surface-treat with the processing agent. By using the surface-treated inorganic particles (A), not only the dispersibility is further improved, but also the transparency of the obtained retardation film is ensured over a long period of time, and the storage stability of the retardation film forming composition is further improved. It can be improved further. Here, the surface treatment means an operation of modifying the surface by mixing the inorganic particles (A) and the surface treatment agent, and the method comprises applying a surface treatment agent to the inorganic particles (A). Any of the method of physical adsorption and the method of chemically bonding the inorganic particles (A) and the surface treatment agent may be used, but from the viewpoint of the effect of the surface treatment, the method of chemically bonding is preferably used.

前記表面処理剤として、イソプロピルトリイソステアロイルチタネート、チタンn−ブトキサイド、チタンエトキサイド、チタン2−エチルヘキシオキシド、チタンイソブトキサイド、チタンイソプロポキサイド、チタンメトキサイド、チタンメトキシプロポキサイド、チタンn−ノニルオキサイド、チタンn−プロポキサイド、チタンステアリルオキシド、トリイソプロポキシヘプタデシナートチタン;
γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシランなどの分子内に不飽和二重結合を有する化合物群;γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランなどの分子内にエポキシ基を有する化合物類;
γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシランなどの分子内にアミノ基を有する化合物類;
γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシランなどの分子内にメルカプト基を有する化合物類;
メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシランなどのアルキルシラン類;
テトラブトキシシチタン、テトラブトキシジルコニウム、テトライソプロポキシアルミニウムなどのカップリング剤が挙げられる。これらのカップリング剤は、1種単独で、または2種以上を混合して用いることができる。
As the surface treatment agent, isopropyl triisostearoyl titanate, titanium n-butoxide, titanium ethoxide, titanium 2-ethylhexoxide, titanium isobutoxide, titanium isopropoxide, titanium methoxide, titanium methoxypropoxide, Titanium n-nonyl oxide, titanium n-propoxide, titanium stearyl oxide, triisopropoxy heptadecinate titanium;
Compound groups having an unsaturated double bond in the molecule such as γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-acryloxypropyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane; γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ-glycyl Compounds having an epoxy group in the molecule such as sidoxypropyltrimethoxysilane;
compounds having an amino group in the molecule such as γ-aminopropyltriethoxysilane and γ-aminopropyltrimethoxysilane;
compounds having a mercapto group in the molecule such as γ-mercaptopropyltriethoxysilane and γ-mercaptopropyltrimethoxysilane;
Alkylsilanes such as methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, and phenyltrimethoxysilane;
Examples of the coupling agent include tetrabutoxy titanium, tetrabutoxy zirconium, and tetraisopropoxy aluminum. These coupling agents can be used alone or in combination of two or more.

また、市販のカップリング剤としては、たとえば、日本ユニカー(株)製のA-1100、A-1102、A-1110、A-1120、A-1122、Y-9669、A-1160、AZ-6166、A-151、A-171、A-172、A-174、Y-9936、AZ-6167、AZ-6134、A-186、A-187、A-189、AZ-6129、A-1310、AZ-6189、A-162、A-163、AZ-6171、A-137、A-153、A-1230、A-1170、A-1289、Y-5187、A-2171、Y-11597など、東レダウコーニング・シリコーン(株)製のSH6020、SH6023、SH6026、SZ6030、SZ6032、AY-43-038、SH6040、SZ6050、SH6062、SH6076、SZ6083、SZ6300などが挙げられる
Examples of commercially available coupling agents include A-1100, A-1102, A-1110, A-1120, A-1122, Y-9669, A-1160, AZ-6166 manufactured by Nippon Unicar Co., Ltd. , A-151, A-171, A-172, A-174, Y-9936, AZ-6167, AZ-6134, A-186, A-187, A-189, AZ-6129, A-1310, AZ -6189, A-162, A-163, AZ-6171, A-137, A-153, A-1230, A-1170, A-1289, Y-5187, A-2171, Y-11597, etc. Examples include SH6020, SH6023, SH6026, SZ6030, SZ6032, AY-43-038, SH6040, SZ6050, SH6062, SH6076, SZ6083, and SZ6300 manufactured by Corning Silicone.

前記表面処理剤は、無機粒子(A)100重量部に対して、通常0.1〜20重量部、好ましくは0.5〜10重量部、より好ましくは1〜5重量部の量を添加することが望ましい。表面処理剤の添加量が上記下限未満になると表面処理効果が十分に発揮されないことがあり、また、表面処理剤の添加量が上記上限を超えると位相差膜形成用組成物中に未反応の表面処理剤が多く残存し、この組成物の保存安定性の低下、および位相差膜の帯電
防止性能、機械的強度が不十分になることがある。
The surface treatment agent is usually added in an amount of 0.1 to 20 parts by weight, preferably 0.5 to 10 parts by weight, more preferably 1 to 5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the inorganic particles (A). It is desirable. When the addition amount of the surface treatment agent is less than the above lower limit, the surface treatment effect may not be sufficiently exhibited, and when the addition amount of the surface treatment agent exceeds the above upper limit, it is unreacted in the composition for forming a retardation film. A large amount of the surface treatment agent remains, and the storage stability of the composition may deteriorate, and the antistatic performance and mechanical strength of the retardation film may be insufficient.

このような形状異方性と複屈折性を合わせもつ無機粒子(A)を位相差膜形成用組成物に含有させることによって、この位相差膜形成用組成物を用いて形成される位相差膜の複屈折性を容易に制御することができる。   A retardation film formed using the retardation film-forming composition by containing the inorganic particles (A) having both shape anisotropy and birefringence in the retardation film-forming composition. The birefringence of can be easily controlled.

(B)バインダー:
本発明に用いられるバインダー(B)は、前記無機粒子(A)を固定化できるものであって、可視光の吸収が少ないものが好ましい。具体的には、メラミン化合物、イソシアネート化合物、アクリレート化合物、エポキシ化物、加水分解性シラン化合物、およびこれらの単独重合体または共重合体、単独縮合体または共縮合体、水酸基含有重合体などが挙げられる。さらに、ポリカーボネート、トリアセチルセルロース(TAC)、ポリスチレン、後述するノルボルネン系樹脂等の環状オレフィン系樹脂、ポリエーテルスルホンなどの高分子化合物も用いることができる。これらは1種単独で、または2種以上を混合して用いることができる。
(B) Binder:
The binder (B) used in the present invention is preferably one that can immobilize the inorganic particles (A) and has little visible light absorption. Specific examples include melamine compounds, isocyanate compounds, acrylate compounds, epoxidized products, hydrolyzable silane compounds, and homopolymers or copolymers thereof, homocondensates or cocondensates, and hydroxyl group-containing polymers. . Furthermore, high molecular compounds such as polycarbonate, triacetyl cellulose (TAC), polystyrene, cyclic olefin resins such as norbornene resin described later, and polyethersulfone can also be used. These can be used individually by 1 type or in mixture of 2 or more types.

また、これらは後述する有機溶剤(D)に溶解して使用することが好ましい。有機溶剤(D)に対するこれらの化合物の濃度は、好ましくは5〜95重量%、より好ましくは10〜90重量%、特に好ましくは20〜80重量%である。高分子化合物の濃度が上記下限未満になると位相差膜の厚みが薄くなりすぎたり、また膜厚を厚くしようとすると膜厚の調整が困難となることがある。一方、高分子化合物の濃度が上記上限を超えると位相差膜の厚みを均一にすることが困難になることがある。   Moreover, it is preferable to use these, melt | dissolving in the organic solvent (D) mentioned later. The concentration of these compounds with respect to the organic solvent (D) is preferably 5 to 95% by weight, more preferably 10 to 90% by weight, and particularly preferably 20 to 80% by weight. If the concentration of the polymer compound is less than the above lower limit, the thickness of the retardation film may become too thin, or adjustment of the film thickness may be difficult if the film thickness is increased. On the other hand, when the concentration of the polymer compound exceeds the above upper limit, it may be difficult to make the thickness of the retardation film uniform.

本発明において、上記のようなバインダー(B)を使用することによって、無機粒子(A)を固定化できるだけでなく、位相差膜の耐擦傷性、透明性、複屈折性およびこれらの特性の安定性を高めることもできる。   In the present invention, by using the binder (B) as described above, not only the inorganic particles (A) can be fixed, but also the scratch resistance, transparency, birefringence and stability of these properties of the retardation film. It can also improve sex.

また、本発明では、上記のようなバインダー(B)のうち、硬化性化合物が好ましく用いられる。硬化性化合物を用いることによって、さらに、無機粒子(A)の分散性やバインダーとの密着性がより向上するとともに、無機粒子(A)の位相差膜中での配置が複屈折性を発現するのに一層良好なものとなり、また、得られる位相差膜の耐擦傷性、透明性、耐溶剤やこれらの特性の耐久安定性が一層向上する。   Moreover, in this invention, a sclerosing | hardenable compound is used preferably among the above binders (B). By using the curable compound, the dispersibility of the inorganic particles (A) and the adhesion to the binder are further improved, and the arrangement of the inorganic particles (A) in the retardation film exhibits birefringence. In addition, scratch resistance, transparency, solvent resistance, and durability stability of these characteristics of the obtained retardation film are further improved.

硬化性化合物の具体例としては、以下のような化合物が挙げられる。   Specific examples of the curable compound include the following compounds.

(i)メラミン化合物:
本発明に用いられるメラミン化合物は、分子内にメチロール基およびアルコキシ化メチル基、または前記置換基のうちのいずれか一方を2個以上有するメラミン化合物が最も好ましい。具体的には、ヘキサメチルエーテル化メチロールメラミン化合物、ヘキサブチルエーテル化メチロールメラミン化合物、メチルブチル混合エーテル化メチロールメラミン化合物、メチルエーテル化メチロールメラミン化合物、ブチルエーテル化メチロールメラミン化合物などのメチル化メラミン化合物が挙げられる。
(I) Melamine compounds:
The melamine compound used in the present invention is most preferably a melamine compound having two or more of any one of a methylol group and an alkoxylated methyl group or the aforementioned substituent in the molecule. Specific examples include methylated melamine compounds such as hexamethyl etherified methylol melamine compounds, hexabutyl etherified methylol melamine compounds, methylbutyl mixed etherified methylol melamine compounds, methyl etherified methylol melamine compounds, and butyl etherified methylol melamine compounds.

また、本発明では、このメラミン化合物と反応することが可能な水酸基含有重合体を併用してもよい。このような水酸基含有重合体としては、ポリビニルアセタール樹脂(ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルホルマール樹脂)、ポリビニルアルコール樹脂、ポリアクリル系樹脂、ポリフェノール系樹脂、フェノキシ樹脂などが挙げられる。これらの樹脂は、1種単独で、または2種以上を組み合わせて用いることができる。   Moreover, in this invention, you may use together the hydroxyl-containing polymer which can react with this melamine compound. Examples of such a hydroxyl group-containing polymer include polyvinyl acetal resin (polyvinyl butyral resin, polyvinyl formal resin), polyvinyl alcohol resin, polyacrylic resin, polyphenolic resin, phenoxy resin, and the like. These resins can be used alone or in combination of two or more.

これらの樹脂のうち、基材に対する密着性および機械的特性に優れ、無機粒子(A)の
均一分散が比較的容易なポリビニルブチラール樹脂(変性ポリビニルブチラール樹脂を含む。)が最も好ましい。
Of these resins, polyvinyl butyral resins (including modified polyvinyl butyral resins) that are excellent in adhesion to the substrate and mechanical properties and in which uniform dispersion of the inorganic particles (A) is relatively easy are most preferable.

(ii)イソシアネート化合物:
本発明では、イソシアネート化合物は、水酸基含有重合体と反応することが可能なイソシアネート基を有しているものであれば特に制限されるものではない。前記水酸基含有重合体は、メラミン化合物と併用される水酸基含有重合体と同じ重合体を用いることができる。イソシアネート化合物の具体例としては、2,4−トリレンジイソシアネ−ト、2,6−トリレンジイソシアネ−ト、1,3−キシリレンジイソシアネ−ト、1,4−キシリレンジイソシアネ−ト、1,5−ナフタレンジイソシアネ−ト、m−フェニレンジイソシアネート、p−フェニレンジイソシアネート、3,3’−ジメチル−4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネ−ト、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネ−ト、3,3’−ジメチルフェニレンジイソシアネ−ト、4,4’−ビフェニレンジイソシアネ−ト、1,6−ヘキサンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、メチレンビス(4−シクロヘキシルイソシアネア−ト)、2,2,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネ−ト、ビス(2−イソシアネートエチル)フマレート、6−イソプロピル−1,3−フェニルジイソシアネ−ト、4−ジフェニルプロパンジイソシアネ−ト、リジンジイソシアネ−ト、水添ジフェニルメタンジイソシアネ−ト、1,3−ビス(イソシアネートメチル)シクロヘキサン、テトラメチルキシリレンジイソシアネ−ト、2,5(または2,6)−ビス(イソシアネートメチル)−ビシクロ[2.2.1]ヘプタンなどが挙げられる。これらのイソシアネート化合物は、1種単独で、または2種以上を混合して用いることができる。
(Ii) Isocyanate compound:
In the present invention, the isocyanate compound is not particularly limited as long as it has an isocyanate group capable of reacting with a hydroxyl group-containing polymer. The said hydroxyl-containing polymer can use the same polymer as the hydroxyl-containing polymer used together with a melamine compound. Specific examples of the isocyanate compound include 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, 1,3-xylylene diisocyanate, 1,4-xylylene diisocyanate. 1,5-naphthalene diisocyanate, m-phenylene diisocyanate, p-phenylene diisocyanate, 3,3′-dimethyl-4,4′-diphenylmethane diisocyanate, 4,4′-diphenylmethane diisocyanate , 3,3′-dimethylphenylene diisocyanate, 4,4′-biphenylene diisocyanate, 1,6-hexane diisocyanate, isophorone diisocyanate, methylene bis (4-cyclohexyl isocyanate), 2,2,4-trimethylhexamethylene diisocyanate, bis (2-isocyanatoethyl) Malate, 6-isopropyl-1,3-phenyl diisocyanate, 4-diphenylpropane diisocyanate, lysine diisocyanate, hydrogenated diphenylmethane diisocyanate, 1,3-bis (isocyanate) Methyl) cyclohexane, tetramethylxylylene diisocyanate, 2,5 (or 2,6) -bis (isocyanatomethyl) -bicyclo [2.2.1] heptane, and the like. These isocyanate compounds can be used individually by 1 type or in mixture of 2 or more types.

これらのイソシアネート化合物のうち、2,4−トリレンジイソシアネ−ト、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、メチレンビス(4−シクロヘキシルイソシアネア−ト)、1,3−ビス(イソシアネートメチル)シクロヘキサンが好ましい。   Of these isocyanate compounds, 2,4-tolylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, xylylene diisocyanate, methylene bis (4-cyclohexyl isocyanate), and 1,3-bis (isocyanate methyl) cyclohexane are preferred.

(iii)アクリレート化合物:
本発明に用いられるアクリレート化合物は、分子内に少なくとも一つの(メタ)アクリロイル基を有しているものであれば特に制限されるものではない。たとえば、単官能(メタ)アクリレート化合物、多官能(メタ)アクリレート化合物が挙げられる。これらのうち、多官能(メタ)アクリレート化合物が好ましく、位相差膜形成用組成物の反応性を向上させることができる。
(Iii) Acrylate compound:
The acrylate compound used in the present invention is not particularly limited as long as it has at least one (meth) acryloyl group in the molecule. For example, a monofunctional (meth) acrylate compound and a polyfunctional (meth) acrylate compound are mentioned. Among these, a polyfunctional (meth) acrylate compound is preferable, and the reactivity of the retardation film forming composition can be improved.

単官能(メタ)アクリレート化合物の具体例としては、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、tert−ブチル(メタ)アクリレート、ペンチル(メタ)アクリレート、アミル(メタ)アクリレート、イソアミル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、ヘプチル(メタ)アクリレート、オクチル(メタ)アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ノニル(メタ)アクリレート、デシル(メタ)アクリレート、イソデシル(メタ)アクリレート、ウンデシル(メタ)アクリレート、ドデシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、イソステアリル(メタ)アクリレート等のアルキル(メタ)アクリレート類;
ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート等のヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート類;フェノキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル(メタ)アクリレート等のフェノキシアルキル(メタ)アクリレート類;
メトキシエチル(メタ)アクリレート、エトキシエチル(メタ)アクリレート、プロポキシエチル(メタ)アクリレート、ブトキシエチル(メタ)アクリレート、メトキシブチル(メタ)アクリレート等のアルコキシアルキル(メタ)アクリレート類;
ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、エトキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート等のポリエチレングリコール(メタ)アクリレート類;
ポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール(メタ)アクリレート、エトキシポリプロピレングリコール(メタ)アクリレート、ノニルフェノキシポリプロピレングリコール(メタ)アクリレート等のポリプロピレングリコール(メタ)アクリレート類;
シクロヘキシル(メタ)アクリレート、4−ブチルシクロヘキシル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタジエニル(メタ)アクリレート、ボルニル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、トリシクロデカニル(メタ)アクリレート等のシクロアルキル(メタ)アクリレート類;
ベンジル(メタ)アクリレート;テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレートなどが挙げられる。これらの単官能(メタ)アクリレート化合物は、1種単独で、または2種以上を混合して用いることができる。
Specific examples of the monofunctional (meth) acrylate compound include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, tert -Butyl (meth) acrylate, pentyl (meth) acrylate, amyl (meth) acrylate, isoamyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, heptyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, 2 -Ethylhexyl (meth) acrylate, nonyl (meth) acrylate, decyl (meth) acrylate, isodecyl (meth) acrylate, undecyl (meth) acrylate, dodecyl (meth) acrylate , Alkyl (meth) acrylates such as lauryl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, isostearyl (meth) acrylate;
Hydroxyalkyl (meth) acrylates such as hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate and hydroxybutyl (meth) acrylate; phenoxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth) acrylate and the like Of phenoxyalkyl (meth) acrylates;
Alkoxyalkyl (meth) acrylates such as methoxyethyl (meth) acrylate, ethoxyethyl (meth) acrylate, propoxyethyl (meth) acrylate, butoxyethyl (meth) acrylate, methoxybutyl (meth) acrylate;
Polyethylene glycol (meth) acrylates such as polyethylene glycol mono (meth) acrylate, ethoxydiethylene glycol (meth) acrylate, methoxypolyethylene glycol (meth) acrylate, phenoxypolyethylene glycol (meth) acrylate, nonylphenoxypolyethylene glycol (meth) acrylate;
Polypropylene glycol (meth) acrylates such as polypropylene glycol mono (meth) acrylate, methoxypolypropylene glycol (meth) acrylate, ethoxypolypropylene glycol (meth) acrylate, nonylphenoxy polypropylene glycol (meth) acrylate;
Cyclohexyl (meth) acrylate, 4-butylcyclohexyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, dicyclopentadienyl (meth) acrylate, bornyl (meth) acrylate, isobornyl ( Cycloalkyl (meth) acrylates such as (meth) acrylate and tricyclodecanyl (meth) acrylate;
Examples include benzyl (meth) acrylate; tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate and the like. These monofunctional (meth) acrylate compounds can be used individually by 1 type or in mixture of 2 or more types.

また、多官能(メタ)アクリレート化合物の具体例としては、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート等のアルキレングリコールジ(メタ)アクリレート類;
トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリヒドロキシエチルトリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート等の多価アルコールのポリ(メタ)アクリレート類;
イソシアヌレートトリ(メタ)アクリレート、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートジ(メタ)アクリレート、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートトリ(メタ)アクリレート等のイソシアヌレートのポリ(メタ)アクリレート類;
トリシクロデカンジイルジメチルジ(メタ)アクリレート等のシクロアルカンのポリ(メタ)アクリレート類;
ビスフェノールAのエチレンオキサイド付加体のジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAのプロピレンオキサイド付加体のジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAのアルキレンオキサイド付加体のジ(メタ)アクリレート、水添ビスフェノールAのエチレンオキサイド付加体のジ(メタ)アクリレート、水添ビスフェノールAのプロピレンオキサイド付加体のジ(メタ)アクリレート、水添ビスフェノールAのアルキレンオキサイド付加体のジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAジグリシジルエーテルと(メタ)アクリル酸とから得られる(メタ)アクリレート等のビスフェノールAの(メタ)アクリレート誘導体類;
3,3,4,4,5,5,6,6−オクタフルオロオクタンジ(メタ)アクリレート、3−(2−パーフルオロヘキシル)エトキシ−1,2−ジ(メタ)アクリロイルプロパン、N−n−プロピル−N−2,3−ジ(メタ)アクリロイルプロピルパーフルオロオクチルスルホンアミド等の含フッ素(メタ)アクリレート類が挙げられる。これらの多官能(メタ)アクリレート化合物は、1種単独で、または2種以上を混合して用いることができる
Specific examples of the polyfunctional (meth) acrylate compound include ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, 1,4 -Alkylene glycol di (meth) acrylates such as butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate;
Trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolpropane trihydroxyethyl tri (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa Poly (meth) acrylates of polyhydric alcohols such as (meth) acrylate and hydroxypivalate neopentyl glycol di (meth) acrylate;
Isocyanurate poly (meth) acrylates such as isocyanurate tri (meth) acrylate, tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate di (meth) acrylate, tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate tri (meth) acrylate;
Poly (meth) acrylates of cycloalkanes such as tricyclodecanediyldimethyldi (meth) acrylate;
Di (meth) acrylate of bisphenol A ethylene oxide adduct, di (meth) acrylate of propylene oxide adduct of bisphenol A, di (meth) acrylate of alkylene oxide adduct of bisphenol A, ethylene oxide addition of hydrogenated bisphenol A Di (meth) acrylate, di (meth) acrylate of propylene oxide adduct of hydrogenated bisphenol A, di (meth) acrylate of alkylene oxide adduct of hydrogenated bisphenol A, bisphenol A diglycidyl ether and (meth) acrylic (Meth) acrylate derivatives of bisphenol A such as (meth) acrylate obtained from acids;
3,3,4,4,5,5,6,6-octafluorooctanedi (meth) acrylate, 3- (2-perfluorohexyl) ethoxy-1,2-di (meth) acryloylpropane, Nn And fluorine-containing (meth) acrylates such as -propyl-N-2,3-di (meth) acryloylpropyl perfluorooctylsulfonamide. These polyfunctional (meth) acrylate compounds can be used individually by 1 type or in mixture of 2 or more types.

これらの多官能(メタ)アクリレート化合物のうち、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレートなど、1分子内に含まれるアクリロイル基の数が多く、架橋密度の向上が図れ、優れた膜硬度を与える多官能(メタ)アクリレート化合物が特に好ましい。   Among these polyfunctional (meth) acrylate compounds, dipentaerythritol hexaacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, pentaerythritol triacrylate, trimethylolpropane triacrylate, etc. have many acryloyl groups contained in one molecule, and the crosslinking density A polyfunctional (meth) acrylate compound that can improve the thickness and give excellent film hardness is particularly preferred.

(iv)エポキシ化合物:
本発明に用いられるエポキシ化合物は、分子内に少なくとも一つのエポキシ基を有しているものであれば特に制限されるものではない。たとえば、ビスフェノール型エポキシ化合物、ノボラック型エポキシ化合物、脂環式エポキシ化合物、脂肪族エポキシ化合物、芳香族エポキシ化合物、グリシジルアミン型エポキシ化合物、ハロゲン化エポキシ化合物等が挙げられる。
(Iv) Epoxy compound:
The epoxy compound used in the present invention is not particularly limited as long as it has at least one epoxy group in the molecule. Examples thereof include bisphenol type epoxy compounds, novolac type epoxy compounds, alicyclic epoxy compounds, aliphatic epoxy compounds, aromatic epoxy compounds, glycidylamine type epoxy compounds, halogenated epoxy compounds and the like.

具体的には、ビスフェノールAジグリシジルエーテル、ビスフェノールFジグリシジルエーテル、ビスフェノールSジグリシジルエーテル等のビスフェノール型エポキシ化合物;
フェノールノボラック型エポキシ化合物、クレゾールノボラック型エポキシ化合物などのノボラック型エポキシ化合物;
3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル−5,5−スピロ−3,4−エポキシ)シクロヘキサン−メタ−ジオキサン、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)アジペート、ビニルシクロヘキセンオキサイド、4−ビニルエポキシシクロヘキサン、ビス(3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキシルメチル)アジペート、3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキシル−3’,4’−エポキシ−6’−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、メチレンビス(3,4−エポキシシクロヘキサン)、ジシクロペンタジエンジエポキサイド、エチレングリコールのジ(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)エーテル、エチレンビス(3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート)、エポキシ化テトラベンジルアルコール、ラクトン変性3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ラクトン変性エポキシ化テトラヒドロベンジルアルコール、シクロヘキセンオキサイド、水添ビスフェノールAジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールFジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールADジグリシジルエーテルなどの脂環式エポキシ化合物類;
1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテルなどの脂肪族エポキシ化合物;
臭素化ビスフェノールAジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールFジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールSジグリシジルエーテルなどのハロゲン化エポキシ化合物;
テトラグリシジルアミノフェニルメタンなどのグリシジルアミン型エポキシ化合物が挙げられる。
Specifically, bisphenol type epoxy compounds such as bisphenol A diglycidyl ether, bisphenol F diglycidyl ether, and bisphenol S diglycidyl ether;
Novolac epoxy compounds such as phenol novolac epoxy compounds and cresol novolac epoxy compounds;
3,4-epoxycyclohexylmethyl-3 ′, 4′-epoxycyclohexanecarboxylate, 2- (3,4-epoxycyclohexyl-5,5-spiro-3,4-epoxy) cyclohexane-meta-dioxane, bis (3 , 4-epoxycyclohexylmethyl) adipate, vinylcyclohexylene oxide, 4-vinylepoxycyclohexane, bis (3,4-epoxy-6-methylcyclohexylmethyl) adipate, 3,4-epoxy-6-methylcyclohexyl-3 ′, 4 '-Epoxy-6'-methylcyclohexanecarboxylate, methylenebis (3,4-epoxycyclohexane), dicyclopentadiene diepoxide, di (3,4-epoxycyclohexylmethyl) ether of ethylene glycol, ethylene bis (3,4 Epoxycyclohexanecarboxylate), epoxidized tetrabenzyl alcohol, lactone-modified 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3 ′, 4′-epoxycyclohexanecarboxylate, lactone-modified epoxidized tetrahydrobenzyl alcohol, cyclohexene oxide, hydrogenated bisphenol A diglycidyl Alicyclic epoxy compounds such as ether, hydrogenated bisphenol F diglycidyl ether, hydrogenated bisphenol AD diglycidyl ether;
Aliphatic epoxy compounds such as 1,4-butanediol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, glycerin triglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether;
Halogenated epoxy compounds such as brominated bisphenol A diglycidyl ether, brominated bisphenol F diglycidyl ether, brominated bisphenol S diglycidyl ether;
Examples thereof include glycidylamine type epoxy compounds such as tetraglycidylaminophenylmethane.

また、上記化合物以外に、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル類;エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリンなどの脂肪族多価アルコールに1種または2種以上のアルキレンオキサイドを付加することにより得られるポリエーテルポリオールのポリグリシジルエーテル類;脂肪族長鎖二塩基酸のジグリシジルエステル類;脂肪族高級アルコールのモノグリシジルエーテル類;フェノール、クレゾール、ブチルフェノールまたはこれらにアルキレンオキサイドを付加して得られるポリエーテルアルコールのモノグリシジルエーテル類;高級脂肪酸
のグリシジルエステル類;エポキシ化大豆油、エポキシステアリン酸ブチル、エポキシステアリン酸オクチル、エポキシ化アマニ油などが挙げられる。
In addition to the above compounds, polyethylene glycol diglycidyl ether, polypropylene glycol diglycidyl ethers; obtained by adding one or more alkylene oxides to aliphatic polyhydric alcohols such as ethylene glycol, propylene glycol, and glycerin. Polyglycidyl ethers of polyether polyols; diglycidyl esters of aliphatic long-chain dibasic acids; monoglycidyl ethers of higher aliphatic alcohols; polyethers obtained by adding phenol, cresol, butylphenol or alkylene oxides to these Monoglycidyl ethers of alcohol; glycidyl esters of higher fatty acids; epoxidized soybean oil, butyl epoxy stearate, octyl epoxy stearate, epoxy Such as linseed oil, and the like.

また、これらの化合物を1種また2種以上を予め適宜好適な範囲で重合したエポキシ樹脂を使用することもできる。   Moreover, the epoxy resin which superposed | polymerized 1 type or 2 types or more of these compounds in the suitable range suitably can also be used.

さらに、本発明に用いられるエポキシ化合物として、共役ジエン系モノマーの重合体、共役ジエン系モノマーとエチレン性不飽和結合基を有する化合物との共重合体、ジエン系モノマーとエチレン性不飽和結合性基を有する化合物との共重合体、天然ゴム等の(共)重合体をエポキシ化した化合物も挙げられる。   Furthermore, as an epoxy compound used in the present invention, a polymer of a conjugated diene monomer, a copolymer of a conjugated diene monomer and a compound having an ethylenically unsaturated bond group, a diene monomer and an ethylenically unsaturated bond group And a compound obtained by epoxidizing a (co) polymer such as a natural rubber and a copolymer.

これらエポキシ化合物の中で、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル−5,5−スピロ−3,4−エポキシ)シクロヘキサン−メタ−ジオキサンといった硬化性に優れた脂環式エポキシ化合物が特に好ましい。   Among these epoxy compounds, 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3 ′, 4′-epoxycyclohexanecarboxylate, 2- (3,4-epoxycyclohexyl-5,5-spiro-3,4-epoxy) cyclohexane- An alicyclic epoxy compound having excellent curability such as meta-dioxane is particularly preferable.

(v)加水分解性シラン化合物:
本発明に用いられる加水分解性シラン化合物は、分子内に少なくとも一つの加水分解性基を有しているものであれば特に制限されるものではない。たとえば、特開平2000−1648等で例示した加水分解性シラン化合物、およびこの加水分解性シラン化合物の単独縮合物または共縮合物が挙げられる。また、加水分解性シラン化合物の縮合物は、、市販品を用いることができる。たとえば、KR282、KR155、KR211、Polon MF40、KC89、KC88(以上、信越シリコーン社製)として入手することができる。
(V) Hydrolyzable silane compound:
The hydrolyzable silane compound used in the present invention is not particularly limited as long as it has at least one hydrolyzable group in the molecule. Examples thereof include hydrolyzable silane compounds exemplified in JP-A 2000-1648 and the like, and single condensates or cocondensates of the hydrolyzable silane compounds. Moreover, a commercial item can be used for the condensate of a hydrolysable silane compound. For example, it can be obtained as KR282, KR155, KR211, Polon MF40, KC89, KC88 (manufactured by Shin-Etsu Silicone).

バインダー(B)の添加量は、位相差膜を形成した場合に、無機粒子(A)を固定化できる量であれば特に制限されないが、無機粒子(A)100重量部に対して、通常0.01〜1,000重量部、好ましくは0.1〜300重量部、より好ましくは1〜200重量部が望ましい。バインダー(B)の添加量が上記下限未満になると位相差膜形成用組成物を用いて位相差膜を形成したときに硬化性が低下することがあり、また、バインダー(B)の添加量が上記上限を超えると位相差膜形成用組成物の保存安定性が低下することがある。また、上記範囲の量のバインダー(B)を含有する位相差膜形成用組成物を用いて位相差膜を形成することによって、位相差膜の耐擦傷性、耐溶剤性、透明性、複屈折性などの特性がさらに向上する。   The amount of the binder (B) added is not particularly limited as long as it can fix the inorganic particles (A) when the retardation film is formed, but is usually 0 with respect to 100 parts by weight of the inorganic particles (A). 0.01 to 1,000 parts by weight, preferably 0.1 to 300 parts by weight, more preferably 1 to 200 parts by weight is desirable. When the addition amount of the binder (B) is less than the above lower limit, the curability may be lowered when the retardation film is formed using the retardation film forming composition, and the addition amount of the binder (B) is When the upper limit is exceeded, the storage stability of the composition for forming a retardation film may be lowered. In addition, by forming a retardation film using a retardation film-forming composition containing the binder (B) in an amount in the above range, the scratch resistance, solvent resistance, transparency, and birefringence of the retardation film are formed. The characteristics such as sex are further improved.

(C)硬化開始剤:
本発明に係る位相差膜形成用組成物は、さらに硬化開始剤(C)を含有することが好ましい。硬化開始剤(C)を添加することによって、位相差膜を短時間で、かつ低エネルギーで形成させることができる。
(C) Curing initiator:
The composition for forming a retardation film according to the present invention preferably further contains a curing initiator (C). By adding the curing initiator (C), the retardation film can be formed in a short time and with low energy.

本発明に用いられる硬化開始剤(C)としては、熱酸発生剤、光酸発生剤、光重合開始剤(光ラジカル発生剤)などが挙げられる。これらの硬化開始剤は1種単独で、または2種以上を組み合わせて用いることができる。   Examples of the curing initiator (C) used in the present invention include a thermal acid generator, a photoacid generator, a photopolymerization initiator (photo radical generator), and the like. These curing initiators can be used alone or in combination of two or more.

(i)熱酸発生剤:
本発明では、メラミン化合物の硬化、メラミン化合物と水酸基含有重合体の硬化、およびエポキシ化合物の硬化の際に熱酸発生剤を用いることが好ましい。熱酸発生剤の具体例としては、脂肪族スルホン酸、脂肪族スルホン酸塩、脂肪族カルボン酸、脂肪族カルボン酸塩、芳香族スルホン酸、芳香族スルホン酸塩、芳香族カルボン酸、芳香族カルボン酸塩、金属塩、リン酸エステル、などが挙げられる。これらの熱酸発生剤は1種単独で、また
は2種以上を組み合わせて用いることができる。
(I) Thermal acid generator:
In the present invention, it is preferable to use a thermal acid generator in curing the melamine compound, curing the melamine compound and the hydroxyl group-containing polymer, and curing the epoxy compound. Specific examples of the thermal acid generator include aliphatic sulfonic acid, aliphatic sulfonate, aliphatic carboxylic acid, aliphatic carboxylate, aromatic sulfonic acid, aromatic sulfonate, aromatic carboxylic acid, aromatic Examples thereof include carboxylates, metal salts, and phosphate esters. These thermal acid generators can be used alone or in combination of two or more.

このような熱酸発生剤のうち、メラミン化合物の硬化、およびメラミン化合物と水酸基含有重合体の硬化の際に用いる熱酸発生剤としては芳香族スルホン酸が最も好ましい。この場合、芳香族スルホン酸を用いることによって、硬化速度をより向上させることができる。   Among such thermal acid generators, aromatic sulfonic acid is most preferable as the thermal acid generator used for curing the melamine compound and curing the melamine compound and the hydroxyl group-containing polymer. In this case, the curing rate can be further improved by using aromatic sulfonic acid.

熱酸発生剤の添加量は、十分に硬化反応が進行する量であれば特に制限されないが、バインダー(B)100重量部に対して、通常0.1〜15重量部、好ましくは1〜10重量部であることが望ましい。熱酸発生剤の添加量が上記下限未満になるとバインダー(B)の硬化反応が十分に進行せず、十分な硬度を有する位相差膜が得られないことがある。また、熱酸発生剤の添加量が上記上限を超えると、得られる位相差膜の耐候性や耐熱性が低下することがある。   The amount of the thermal acid generator added is not particularly limited as long as the curing reaction proceeds sufficiently, but is usually 0.1 to 15 parts by weight, preferably 1 to 10 parts per 100 parts by weight of the binder (B). A part by weight is desirable. When the addition amount of the thermal acid generator is less than the above lower limit, the curing reaction of the binder (B) does not proceed sufficiently, and a retardation film having sufficient hardness may not be obtained. Moreover, when the addition amount of a thermal acid generator exceeds the said upper limit, the weather resistance and heat resistance of the phase difference film obtained may fall.

(ii)光酸発生剤:
本発明では、熱酸発生剤と同様、メラミン化合物の硬化、メラミン化合物と水酸基含有重合体の硬化の際、加えてエポキシ化合物、加水分解性シラン化合物、および加水分解性シラン化合物の縮合物の硬化の際に光酸発生剤を用いることも好ましい。光酸発生剤の具体例としては、(4−n−デシロキシフェニル)フェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、〔4−(2−ヒドロキシ−n−テトラデシロキシ)フェニル〕フェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、〔4−(2−ヒドロキシ−n−テトラデシロキシ)フェニル〕フェニルヨードニウムトリフルオロスルホネート、〔4−(2−ヒドロキシ−n−テトラデシロキシ)フェニル〕フェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、〔4−(2−ヒドロキシ−n−テトラデシロキシ)フェニル〕フェニルヨードニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、ビス(4−t−ブチルフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ビス(4−t−ブチルフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ビス(4−t−ブチルフェニル)ヨードニウムトリフルオロスルホネート、ビス(4−t−ブチルフェニル)ヨードニウムテトラフルオロボレート、ビス(ドデシルフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ビス(ドデシルフェニル)ヨードニウムテトラフルオロボレート、ビス(ドデシルフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ビス(ドデシルフェニル)ヨードニウムトリフルオロメチルスルホネート、ジフェニルジスルホン、ジトシルジスルホン、ビス(フェニルスルホニル)ジアゾメタン、ビス(クロルフェニルスルホニル)ジアゾメタン、ビス(キシリルスルホニル)ジアゾメタン、フェニルスルホニルベンゾイルジアゾメタン、ビス(シクロヘキシルスルホニル)メタン、1,8−ナフタレンジカルボン酸イミドメチルスルホネート、1,8−ナフタレンジカルボン酸イミドトシルスルホネート、1,8−ナフタレンジカルボン酸イミドトリフルオロメチルスルホネート、1,8−ナフタレンジカルボン酸イミドカンファースルホネート、コハク酸イミドフェニルスルホネート、コハク酸イミドトシルスルホネート、コハク酸イミドトリフルオロメチルスルホネート、コハク酸イミドカンファースルホネート、フタル酸イミドトリフルオロスルホネート、シス−5−ノルボルネン−エンド−2,3−ジカルボン酸イミドトリフルオロメチルスルホネート、ベンゾイントシラート、1,2−ジフェニル−2−ヒドロキシプロピルトシラート、1,2−ジ(4−メチルメルカプトフェニル)−2−ヒドロキシプロピルトシラート、ピロガロールメチルスルホネート、ピロガロールエチルスルホネート、2,6−ジニトロフェニルメチルトシラート、オルト−ニトロフェニルメチルトシラート、パラ−ニトロフェニルトシラートなどが挙げられる。これらの光酸発生剤は、1種単独で、または2種以上を組み合わせて用いることができる。
(Ii) Photoacid generator:
In the present invention, as in the case of the thermal acid generator, the curing of the melamine compound, the curing of the melamine compound and the hydroxyl group-containing polymer, and the curing of the condensate of epoxy compound, hydrolyzable silane compound, and hydrolyzable silane compound In this case, it is also preferable to use a photoacid generator. Specific examples of the photoacid generator include (4-n-decyloxyphenyl) phenyliodonium hexafluoroantimonate, [4- (2-hydroxy-n-tetradecyloxy) phenyl] phenyliodonium hexafluoroantimonate, [ 4- (2-hydroxy-n-tetradecyloxy) phenyl] phenyliodonium trifluorosulfonate, [4- (2-hydroxy-n-tetradecyloxy) phenyl] phenyliodonium hexafluorophosphate, [4- (2-hydroxy -N-tetradecyloxy) phenyl] phenyliodonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, bis (4-t-butylphenyl) iodonium hexafluoroantimonate, bis (4-t-butylphenyl) iodonium hexaful Lophosphate, bis (4-t-butylphenyl) iodonium trifluorosulfonate, bis (4-t-butylphenyl) iodonium tetrafluoroborate, bis (dodecylphenyl) iodonium hexafluoroantimonate, bis (dodecylphenyl) iodonium tetrafluoro Borate, bis (dodecylphenyl) iodonium hexafluorophosphate, bis (dodecylphenyl) iodonium trifluoromethylsulfonate, diphenyldisulfone, ditosyldisulfone, bis (phenylsulfonyl) diazomethane, bis (chlorophenylsulfonyl) diazomethane, bis (xylylsulfonyl) ) Diazomethane, phenylsulfonylbenzoyldiazomethane, bis (cyclohexylsulfonyl) methane, 1,8 Naphthalenedicarboxylic acid imidomethyl sulfonate, 1,8-naphthalenedicarboxylic acid imidotosyl sulfonate, 1,8-naphthalenedicarboxylic acid imide trifluoromethyl sulfonate, 1,8-naphthalenedicarboxylic acid imide camphor sulfonate, succinimide phenyl sulfonate, succinic acid Imidosyl sulfonate, succinimide trifluoromethyl sulfonate, succinimide camphor sulfonate, phthalic imide trifluorosulfonate, cis-5-norbornene-endo-2,3-dicarboxylic acid imide trifluoromethyl sulfonate, benzoin tosylate, 1 , 2-Diphenyl-2-hydroxypropyl tosylate, 1,2-di (4-methylmercaptophenyl) -2-hydroxypropyl tosylate , Pyrogallol methyl sulfonate, pyrogallol ethyl sulfonate, 2,6-dinitrophenyl methyl tosylate, ortho-nitrophenyl methyl tosylate, para-nitrophenyl tosylate and the like. These photoacid generators can be used singly or in combination of two or more.

これらの光酸発生剤のうち、エポキシ化合物、加水分解性シラン化合物、および加水分解性シラン化合物の縮合物の硬化の際に用いる光酸発生剤としては(4−n−デシロキシ
フェニル)フェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネートが最も好ましい。この場合、(4−n−デシロキシフェニル)フェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネートを用いることによって、硬化速度をより向上させることができる。
Among these photoacid generators, (4-n-decyloxyphenyl) phenyliodonium is used as a photoacid generator for curing epoxy compounds, hydrolyzable silane compounds, and condensates of hydrolyzable silane compounds. Most preferred is hexafluoroantimonate. In this case, the curing rate can be further improved by using (4-n-decyloxyphenyl) phenyliodonium hexafluoroantimonate.

光酸発生剤の添加量は、十分に硬化反応が進行する量であれば特に制限されないが、バインダー(B)100重量部に対して、通常0.1〜15重量部、好ましくは1〜10重量部であることが望ましい。光酸発生剤の添加量が上記下限未満になるとバインダー(B)の硬化反応が十分に進行せず、十分な硬度を有する位相差膜が得られないことがある。また、光酸発生剤の添加量が上記上限を超えると、得られる位相差膜の耐候性や耐熱性が低下することがある。   The amount of the photoacid generator added is not particularly limited as long as the curing reaction proceeds sufficiently, but is usually 0.1 to 15 parts by weight, preferably 1 to 10 parts per 100 parts by weight of the binder (B). A part by weight is desirable. When the addition amount of the photoacid generator is less than the above lower limit, the curing reaction of the binder (B) does not proceed sufficiently, and a retardation film having sufficient hardness may not be obtained. Moreover, when the addition amount of a photo-acid generator exceeds the said upper limit, the weather resistance and heat resistance of the phase difference film obtained may fall.

(iii)光重合開始剤(光ラジカル発生剤):
本発明では、アクリレート化合物を硬化させる際に光重合開始剤(光ラジカル発生剤)を用いることが好ましい。光重合開始剤(光ラジカル発生剤)の具体例としては、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2,2’−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、キサントン、フルオレン、フルオレノン、ベンズアルデヒド、アントラキノン、トリフェニルアミン、カルバゾール、3−メチルアセトフェノン、4−クロロベンゾフェノン、4,4’−ジメトキシベンゾフェノン、4,4’−ジアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾイルプロピルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、チオキサントン、ジエチルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノプロパン−1−オン、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)ブタン−1−オン、1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オンなどが挙げられる。これらの光重合開始剤(光ラジカル発生剤)は、1種単独で、または2種以上を組み合わせて用いることができる。
(Iii) Photopolymerization initiator (photo radical generator):
In the present invention, it is preferable to use a photopolymerization initiator (photo radical generator) when curing the acrylate compound. Specific examples of the photopolymerization initiator (photo radical generator) include 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2,2′-dimethoxy-2-phenylacetophenone, xanthone, fluorene, fluorenone, benzaldehyde, anthraquinone, triphenylamine, and carbazole. 3-methylacetophenone, 4-chlorobenzophenone, 4,4′-dimethoxybenzophenone, 4,4′-diaminobenzophenone, Michler's ketone, benzoylpropyl ether, benzoin ethyl ether, benzyldimethyl ketal, 1- (4-isopropylphenyl)- 2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, thioxanthone, diethylthioxanthone, 2-isopropylthioxyl , 2-chlorothioxanthone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 2-benzyl-2-dimethyl Amino-1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one, 1- [4- (2-hydroxyethoxy) -phenyl] -2-hydroxy-2-methylpropan-1-one and the like can be mentioned. These photopolymerization initiators (photo radical generators) can be used alone or in combination of two or more.

これらの光重合開始剤(光ラジカル発生剤)のうち、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノプロパン−1−オン、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンが好ましい。   Of these photopolymerization initiators (photo radical generators), 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone is preferred.

また、このような光重合開始剤(光ラジカル発生剤)は、市販品を用いることができる。たとえば、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノプロパン−1−オンは、イルガキュア907(チバスペシャルティケミカルズ(株)製)として、また、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンは、イルガキュア184(チバスペシャルティケミカルズ(株)製)として入手することができる。   Moreover, a commercial item can be used for such a photoinitiator (photoradical generator). For example, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one is Irgacure 907 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.), and 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone is It can be obtained as Irgacure 184 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals).

光重合開始剤(光ラジカル発生剤)の添加量は、十分に硬化反応が進行する量であれば特に制限されないが、バインダー(B)100重量部に対して、通常0.1〜20重量部、好ましくは0.5〜10重量部であることが望ましい。光重合開始剤(光ラジカル発生剤)の添加量が上記下限未満になるとバインダー(B)の硬化反応が十分に進行せず、十分な硬度を有する位相差膜が得られないことがある。また、光重合開始剤(光ラジカル発生剤)の添加量が上記上限を超えると、位相差膜形成用組成物の保存安定性が低下することがある。   The addition amount of the photopolymerization initiator (photo radical generator) is not particularly limited as long as the curing reaction proceeds sufficiently, but is usually 0.1 to 20 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the binder (B). The amount is preferably 0.5 to 10 parts by weight. When the addition amount of the photopolymerization initiator (photo radical generator) is less than the lower limit, the curing reaction of the binder (B) does not proceed sufficiently, and a retardation film having sufficient hardness may not be obtained. Moreover, when the addition amount of a photoinitiator (photoradical generator) exceeds the said upper limit, the storage stability of the composition for phase-difference film formation may fall.

(D)有機溶剤:
本発明では、前記バインダー(B)を有機溶剤(D)に溶解して使用することが好まし
い。このような有機溶剤(D)は無機粒子(A)の分散安定性、バインダー(B)および硬化開始剤(C)の溶解性、塗布膜厚または塗布環境によって適宜決定することができる。具体的な有機溶剤(D)としては、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、アセチルアセトン等のケトン類;メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、n−ブタノール、ジアセトンアルコール等のアルコール類;エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のエーテル基含有アルコール類;乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブチル等のヒドロキシエステル類;アセト酢酸エチル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸ブチル等のβ―ケトエステル類;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類が挙げられる。これらの有機溶剤(D)は1種単独で、または2種以上を混合して使用することができる。
(D) Organic solvent:
In the present invention, it is preferable to use the binder (B) by dissolving it in an organic solvent (D). Such an organic solvent (D) can be appropriately determined depending on the dispersion stability of the inorganic particles (A), the solubility of the binder (B) and the curing initiator (C), the coating film thickness or the coating environment. Specific examples of the organic solvent (D) include ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, and acetyl acetone; alcohols such as methanol, ethanol, isopropyl alcohol, n-butanol, and diacetone alcohol; ethyl cellosolve, butyl cellosolve, and propylene Ether group-containing alcohols such as glycol monomethyl ether; hydroxy esters such as methyl lactate, ethyl lactate and butyl lactate; β-ketoesters such as ethyl acetoacetate, methyl acetoacetate and butyl acetoacetate; aromatics such as toluene and xylene And hydrocarbons. These organic solvents (D) can be used individually by 1 type or in mixture of 2 or more types.

このような有機溶剤(D)を用いることによって、位相差膜の膜厚を容易に制御することができ、また得られる位相差膜の膜厚均一性に富み、さらに位相差素子の位相差膜と基材との密着性を高めることができる。   By using such an organic solvent (D), the thickness of the retardation film can be easily controlled, and the obtained retardation film is rich in film thickness uniformity, and further the retardation film of the retardation element. The adhesion between the substrate and the substrate can be increased.

また、後述する基材として耐溶剤性に劣る熱可塑性樹脂を用いる場合、位相差膜表面における平滑性、位相差膜内部におけるボイド発生の抑制、および位相差膜中の微粒子の分散性や分布状態を適切に制御できる点、および位相差膜と基材との密着性を向上させるために、粒子分散性とバインダー溶解性の異なる2種以上の溶剤を用いることが好ましい。具体的には、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等から選ばれる少なくとも1種のケトン類と、メタノール、エタノール、イソプロパノール、n−ブタノール、t−ブタノール等から選ばれる少なくとも1種のアルコール類との組み合わせからなる混合溶剤が好ましい。   In addition, when a thermoplastic resin having poor solvent resistance is used as a base material to be described later, smoothness on the surface of the retardation film, suppression of void generation inside the retardation film, and dispersibility and distribution state of fine particles in the retardation film It is preferable to use two or more kinds of solvents having different particle dispersibility and binder solubility in order to appropriately control the thickness and to improve the adhesion between the retardation film and the substrate. Specifically, it comprises a combination of at least one kind of ketone selected from methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and the like and at least one kind of alcohol selected from methanol, ethanol, isopropanol, n-butanol, t-butanol and the like. Mixed solvents are preferred.

(E)添加剤:
本発明に係る位相差膜形成用組成物は、本発明の目的や効果を損なわない範囲において、光増感剤、重合禁止剤、重合開始助剤、レベリング剤、濡れ性改良剤、界面活性剤、可塑剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、帯電防止剤、無機充填剤、顔料、染料等の添加剤をさらに含有させることができる。
(E) Additive:
The composition for forming a retardation film according to the present invention includes a photosensitizer, a polymerization inhibitor, a polymerization initiation assistant, a leveling agent, a wettability improver, and a surfactant as long as the object and effects of the present invention are not impaired. Further, additives such as a plasticizer, an ultraviolet absorber, an antioxidant, an antistatic agent, an inorganic filler, a pigment, and a dye can be further contained.

<位相差膜形成用組成物の調製方法>
本発明に係る位相差膜形成用組成物は、前記無機粒子(A)、バインダー(B)、および必要に応じて硬化開始剤(C)、有機溶剤(D)、その他添加剤を、室温または加熱条件下で、ミキサ、ニーダー、ボールミル、三本ロール等の混合機を用いて混合することによって調製することができる。加熱条件下で混合する場合には、バインダー(B)や硬化開始剤(C)などの反応や分解などの変質が起きない温度以下で行うことが好ましい。
<Method for Preparing Composition for Forming Retardation Film>
The composition for forming a retardation film according to the present invention contains the inorganic particles (A), the binder (B), and, if necessary, a curing initiator (C), an organic solvent (D), and other additives at room temperature or It can prepare by mixing using mixers, such as a mixer, a kneader, a ball mill, and a 3 rolls, on heating conditions. In the case of mixing under heating conditions, it is preferable to carry out the reaction at a temperature or lower where reaction such as binder (B) and curing initiator (C) and alteration such as decomposition do not occur.

この位相差膜形成用組成物は、その粘度が通常1〜10,000mPa・s、好ましくは2〜1,000mPa・s、より好ましくは3〜100mPa・sであり、塗布性に優れ、均一な位相差膜を形成できるとともに、その膜厚を容易に制御することができる。その結果、所望の位相差を発現させる位相差膜、すなわち所望の位相差値を有する位相差膜を容易に得ることができる。また、透明性、安定性に優れた位相差膜を容易に得ることができる。ここで、位相差値とは、複屈折光の屈折率差(△n)と膜厚(d)の積(△nd)で定義されるリターデーション(Retardation)値を意味する。   The composition for forming a retardation film has a viscosity of usually 1 to 10,000 mPa · s, preferably 2 to 1,000 mPa · s, and more preferably 3 to 100 mPa · s. A retardation film can be formed and its film thickness can be easily controlled. As a result, a retardation film that expresses a desired retardation, that is, a retardation film having a desired retardation value can be easily obtained. In addition, a retardation film excellent in transparency and stability can be easily obtained. Here, the phase difference value means a retardation value defined by the product (Δnd) of the refractive index difference (Δn) of the birefringent light and the film thickness (d).

<位相差膜>
本発明に係る位相差膜は、前記位相差膜形成用組成物を後述する基材などの支持体に塗布(コーティング)し、乾燥および/または硬化させることによって形成させることができる。
<Phase difference film>
The retardation film according to the present invention can be formed by applying (coating) the composition for forming a retardation film to a support such as a substrate described later, and drying and / or curing.

コーティング方法は特に制限されないが、たとえば、ディッピング法、スプレー法、バーコート法、ロールコート法、スピンコート法、カーテンコート法、グラビア印刷法、シルクスクリーン法、インクジェット法などが挙げられる。   The coating method is not particularly limited, and examples include dipping method, spray method, bar coating method, roll coating method, spin coating method, curtain coating method, gravure printing method, silk screen method, and ink jet method.

前記位相差膜形成用組成物が有機溶剤(D)を含有する場合には、後述する硬化の工程の前にこの有機溶剤(D)を除去する乾燥工程(溶媒除去工程)を入れることが好ましい。たとえば、前記位相差膜形成用組成物を基材などに塗布(コーティング)した後に、熱風乾燥機や真空乾燥機などに入れて有機溶剤(D)を蒸発させて除去することできる。このときの乾燥温度は、有機溶剤(D)の沸点(bp)より100℃高い温度(bp+100℃)よりも低い温度が好ましく、さらに好ましくは沸点(bp)より50℃高い温度(bp+50℃)よりも低い温度、特に好ましくは沸点(bp)より20℃高い温度(bp+20℃)よりも低い温度、最も好ましくは沸点より低い温度である。このとき、複数種の溶媒を使用する場合には、乾燥温度は最も沸点(bp)の低い溶媒について上記範囲を満たすことが好ましい。また、乾燥工程の好ましい処理時間は0.01秒〜60分、さらに好ましくは1秒〜30分、特に好ましくは1分〜30分である。溶媒除去工程後であって後述する硬化工程前に残留する有機溶剤(D)の量は、好ましくは10重量%以下、さらに好ましくは5重量%以下、特に好ましくは1重量%以下である。有機溶剤(D)を上記方法で除去し、その残留量を上記範囲にすることにより、最終的に得られる位相差膜中の気泡の発生を防ぐとともに、無機粒子(A)とバインダー(B)との密着性がより向上し、さらに、無機粒子(A)の位相差膜中での配置が複屈折性を発現するのに一層良好なものとなる。また、得られる位相差膜の耐擦傷性、透明性、耐溶剤や、位相差膜と基材との密着性がより向上するとともに、これらの特性の耐久安定性がより一層向上する。   When the retardation film forming composition contains an organic solvent (D), it is preferable to put a drying step (solvent removing step) for removing the organic solvent (D) before the curing step described later. . For example, the organic solvent (D) can be removed by evaporating the organic solvent (D) by applying (coating) the retardation film-forming composition to a substrate or the like and then putting it in a hot air dryer or a vacuum dryer. The drying temperature at this time is preferably lower than the temperature (bp + 100 ° C.) higher by 100 ° C. than the boiling point (bp) of the organic solvent (D), more preferably from the temperature (bp + 50 ° C.) higher by 50 ° C. than the boiling point (bp). At a lower temperature, particularly preferably a temperature lower than the temperature (bp + 20 ° C.) 20 ° C. higher than the boiling point (bp), most preferably a temperature lower than the boiling point. At this time, when a plurality of types of solvents are used, it is preferable that the drying temperature satisfy the above range for the solvent having the lowest boiling point (bp). Moreover, the preferable processing time of a drying process is 0.01 second-60 minutes, More preferably, it is 1 second-30 minutes, Most preferably, they are 1 minute-30 minutes. The amount of the organic solvent (D) remaining after the solvent removal step and before the curing step described later is preferably 10% by weight or less, more preferably 5% by weight or less, and particularly preferably 1% by weight or less. By removing the organic solvent (D) by the above method and setting the residual amount in the above range, the formation of bubbles in the finally obtained retardation film is prevented and the inorganic particles (A) and the binder (B) In addition, the arrangement of the inorganic particles (A) in the retardation film is more favorable for developing birefringence. Further, the scratch resistance, transparency and solvent resistance of the obtained retardation film and the adhesion between the retardation film and the substrate are further improved, and the durability stability of these characteristics is further improved.

基材などに塗布した位相差膜形成用組成物を硬化させる方法は、本発明の効果を損なわなければ特に限定されるものではなく、硬化開始剤を使用せず電子線等の高エネルギー線を照射して硬化してもよいが、通常は硬化開始剤を使用した方がより確実に硬化するので好ましい。   The method of curing the composition for forming a retardation film applied to a substrate or the like is not particularly limited as long as the effects of the present invention are not impaired, and a high energy beam such as an electron beam is used without using a curing initiator. Although it may be cured by irradiation, it is usually preferable to use a curing initiator because it cures more reliably.

硬化開始剤として光酸発生剤や光重合開始剤を用いる場合には、紫外線や可視光を照射して光硬化させるが、この場合、露光量は、通常0.01〜10J/cm2、好ましくは
0.1〜5J/cm2、より好ましくは0.3〜3J/cm2である。露光量が上記下限未満になると硬化不良が生じることがあり、また、露光量が上記上限を超えると硬化時間が過度に長くなり基材が劣化することがある。
When a photoacid generator or a photopolymerization initiator is used as a curing initiator, it is photocured by irradiation with ultraviolet rays or visible light. In this case, the exposure amount is usually 0.01 to 10 J / cm 2 , preferably Is 0.1 to 5 J / cm 2 , more preferably 0.3 to 3 J / cm 2 . When the exposure amount is less than the lower limit, curing failure may occur. When the exposure amount exceeds the upper limit, the curing time becomes excessively long and the substrate may be deteriorated.

また、硬化開始剤として熱酸発生剤や熱重合開始剤を用いる場合には、硬化温度は、通常60〜200℃、好ましくは80〜170℃である。硬化温度が上記下限未満になると硬化不良が生じることがあり、また、硬化温度が上記上限を超えると基材が熱により変質、変形することがある。   Moreover, when using a thermal acid generator and a thermal polymerization initiator as a hardening initiator, hardening temperature is 60-200 degreeC normally, Preferably it is 80-170 degreeC. When the curing temperature is less than the above lower limit, poor curing may occur, and when the curing temperature exceeds the upper limit, the substrate may be altered or deformed by heat.

上記方法により前記位相差膜形成用組成物から形成された位相差膜中において、無機粒子(A)の大部分は、膜平面に対して平行に寝ており、無機粒子(A)の長径方向が膜平面に対して平行な状態となっているが、膜平面内での無機粒子(A)の長径方向の向きはランダムになっている。すなわち、無機粒子(A)の大部分は、その長径方向が膜厚方向に垂直な状態になっていればよい。ここで、「無機粒子(A)の大部分」とは、残りの無機粒子が本発明の目的、効果に大きな影響を及ぼさない程度の量をいう。   In the retardation film formed from the retardation film forming composition by the above method, most of the inorganic particles (A) lie parallel to the film plane, and the major axis direction of the inorganic particles (A) Are parallel to the film plane, but the direction of the major axis direction of the inorganic particles (A) in the film plane is random. That is, most of the inorganic particles (A) only have to have a major axis direction perpendicular to the film thickness direction. Here, “the majority of the inorganic particles (A)” means an amount such that the remaining inorganic particles do not greatly affect the purpose and effect of the present invention.

その結果、この位相差膜は、膜平面方向(x方向、y方向。ただし、x方向とy方向は直交。)については実質的に屈折率差が発生しないが、膜平面方向と膜厚方向(z方向)とに屈折率の差が生じ、膜平面方向の屈折率が膜厚方向の屈折率よりも大きくなる。   As a result, this retardation film has substantially no refractive index difference in the film plane direction (x direction, y direction, where the x direction and y direction are orthogonal), but the film plane direction and the film thickness direction. A difference in refractive index occurs between (z direction) and the refractive index in the film plane direction becomes larger than the refractive index in the film thickness direction.

ところで、位相差膜中のバインダー(B)により形成される成分は、その分子鎖が実質的に配向しておらず、光学的に等方性を有していることが好ましい。ここで、「分子鎖が実質的に配向」とは、「バインダー(B)により形成される成分を構成する分子鎖が、ある程度の規則性をもって配向するとともに、位相差膜の複屈折性に対して大きな影響を及ぼす程度の複屈折性を示すような配向」を意味する。位相差膜中のバインダー(B)により形成される成分のみの複屈折性を測定することは困難であるが、バインダー(B)のみを硬化させて膜を形成することによって、ある程度、複屈折性を推測することができる。このようにして測定したx、y、z各方向の屈折率の差が、好ましくは0.001以下、さらに好ましくは0.0005以下、特に好ましくは0.0001以下であることが望ましい。位相差膜中のバインダー(B)により形成される成分の複屈折性が大きい場合、所望する位相差特性が得られないことがある。   By the way, it is preferable that the component formed by the binder (B) in the retardation film is optically isotropic because its molecular chain is not substantially oriented. Here, “substantially oriented molecular chains” means that “the molecular chains constituting the component formed by the binder (B) are oriented with a certain degree of regularity and the birefringence of the retardation film. It means “orientation that exhibits birefringence to such a degree as to have a large effect”. Although it is difficult to measure the birefringence of only the component formed by the binder (B) in the retardation film, the birefringence is to some extent by forming a film by curing only the binder (B). Can be guessed. The difference in refractive index in the x, y, and z directions measured in this manner is preferably 0.001 or less, more preferably 0.0005 or less, and particularly preferably 0.0001 or less. When the birefringence of the component formed by the binder (B) in the retardation film is large, desired retardation characteristics may not be obtained.

本発明に係る位相差膜は、膜平面方向の屈折率と膜厚方向の屈折率との差(Δnf)が
、通常0.010以上、好ましくは0.020以上、より好ましくは0.030以上である。Δnfが上記範囲にあると位相差膜は優れた複屈折性を示し、膜厚方向の透過光に位
相差(Retardation)を良好に発現させることができる。
In the retardation film according to the present invention, the difference (Δn f ) between the refractive index in the film plane direction and the refractive index in the film thickness direction is usually 0.010 or more, preferably 0.020 or more, more preferably 0.030. That's it. When Δn f is in the above range, the retardation film exhibits excellent birefringence, and a retardation can be satisfactorily expressed in transmitted light in the film thickness direction.

位相差膜の膜厚は特に制限されるものではないが、通常50〜30,000nm、好ましくは50〜20,000nm、より好ましくは60〜10,000nmである。位相差膜の膜厚が上記上限未満になると、十分な複屈折性が得られないことがあり、また、位相差膜の膜厚が上記上限を超えると、十分な透過率を得られないことや、位相差膜中で無機粒子(A)が不適切な配置となり複屈折性が得られないことがある。また、位相差膜の厚みムラは、好ましくは平均膜厚に対して±10%以内、より好ましくは±5%以内である。厚みムラが上記範囲にあると位相差(Retardation)ムラが少なく良好な位相差膜とな
る。
The thickness of the retardation film is not particularly limited, but is usually 50 to 30,000 nm, preferably 50 to 20,000 nm, more preferably 60 to 10,000 nm. If the thickness of the retardation film is less than the above upper limit, sufficient birefringence may not be obtained, and if the thickness of the retardation film exceeds the above upper limit, sufficient transmittance may not be obtained. In addition, the inorganic particles (A) may be improperly arranged in the retardation film, and birefringence may not be obtained. Further, the thickness unevenness of the retardation film is preferably within ± 10%, more preferably within ± 5% with respect to the average film thickness. When the thickness unevenness is in the above range, the retardation film has little unevenness and a good retardation film is obtained.

また、位相差膜中の残留溶媒量は、好ましくは5重量%以下、さらに好ましくは1重量%以下、特に好ましくは0.5重量%以下である。残留溶媒量が上記範囲にあると長期にわたり、耐候性、耐熱性、複屈折性などの特性を良好に発現することができる。   The residual solvent amount in the retardation film is preferably 5% by weight or less, more preferably 1% by weight or less, and particularly preferably 0.5% by weight or less. When the residual solvent amount is in the above range, characteristics such as weather resistance, heat resistance, and birefringence can be expressed well over a long period of time.

(透明導電性膜を有する位相差膜)
本発明に係る位相差膜は、上記位相差膜と後述する透明導電性膜とからなる位相差膜であってもよい。すなわち、少なくとも前記位相差膜の片面に透明導電層を積層することができる。
(Retardation film having transparent conductive film)
The retardation film according to the present invention may be a retardation film including the retardation film and a transparent conductive film described later. That is, a transparent conductive layer can be laminated on at least one side of the retardation film.

透明導電層(透明導電性膜)を形成するための材料は、Sn、In、Ti、Pb、Au、Pt、Ag等の金属、またはこれらの酸化物が一般的に使用される。これらの金属単体被膜を基板上に形成し、必要に応じてこの金属単体被膜を酸化して、透明導電性膜を作製することができる。また、被膜形成当初から金属酸化物層として付着形成させる方法もあるが、被膜形成当初は金属単体または低級酸化物の形態で被膜を形成し、その後、加熱酸化、陽極酸化または液相酸化等の酸化処理を施して透明化することもできる。   As a material for forming the transparent conductive layer (transparent conductive film), metals such as Sn, In, Ti, Pb, Au, Pt, and Ag, or oxides thereof are generally used. These simple metal films can be formed on a substrate, and if necessary, this simple metal film can be oxidized to produce a transparent conductive film. In addition, there is a method of depositing as a metal oxide layer from the beginning of the film formation, but at the beginning of the film formation, a film is formed in the form of a single metal or a lower oxide, and thereafter, such as heating oxidation, anodization or liquid phase oxidation It can also be made transparent by oxidation treatment.

これらの透明導電膜は、他の透明導電層を有するシート、フィルムなどを前記位相差膜に接着して形成してもよく、プラズマ重合法、スパッタリング法、真空蒸着法、メッキ、イオンプレーティング法、スプレー法、電解析出法などによって前記位相差膜上に直接形成してもよい。これらの透明導電膜の厚さは、所望の特性により適宜決定され、特に限定はされないが、通常は10〜10,000オングストローム、好ましくは50〜5,000オングストロームである。   These transparent conductive films may be formed by adhering a sheet, film or the like having another transparent conductive layer to the retardation film. Plasma polymerization method, sputtering method, vacuum deposition method, plating, ion plating method Alternatively, it may be formed directly on the retardation film by spraying, electrolytic deposition, or the like. The thickness of these transparent conductive films is appropriately determined depending on desired characteristics and is not particularly limited, but is usually 10 to 10,000 angstroms, preferably 50 to 5,000 angstroms.

本発明に係る位相差膜の上に直接透明導電層を形成する場合、この位相差膜と透明導電
性膜との間に必要に応じて接着層およびアンカーコート層を形成してもよい。接着層は、エポキシ樹脂、ポリイミド、ポリブタジエン、フェノール樹脂、ポリエーテルエーテルケトンなどの耐熱樹脂を用いて形成することができる。また、アンカーコート層は、エポキシジアクリレート、ウレタンジアクリレート、ポリエステルジアクリレート等のアクリルプレポリマーなど含むアンカーコート剤を用いて、公知の硬化手法、たとえばUV硬化や加熱硬化により硬化させて形成することができる。
When the transparent conductive layer is directly formed on the retardation film according to the present invention, an adhesive layer and an anchor coat layer may be formed between the retardation film and the transparent conductive film as necessary. The adhesive layer can be formed using a heat-resistant resin such as epoxy resin, polyimide, polybutadiene, phenol resin, or polyetheretherketone. In addition, the anchor coat layer is formed by curing by a known curing method, for example, UV curing or heat curing, using an anchor coating agent including an acrylic prepolymer such as epoxy diacrylate, urethane diacrylate, or polyester diacrylate. Can do.

(位相差膜と反射防止膜との組み合わせ)
本発明に係る位相差膜は、この膜上に反射防止膜を形成して使用してもよい。位相差膜と反射防止膜とを組み合わせて使用することによって、反射防止効果が得られ光の透過率が向上する。反射防止膜を形成するための組成物(以下、「反射防止膜形成用組成物」という)は、たとえば、水酸基を有する含フッ素共重合体と、水酸基と反応し得る官能基を有する硬化性化合物とを含有することが好ましく、さらに、熱酸発生剤および/または有機溶剤を含有することが望ましい。このとき、反射防止膜の屈折率は、位相差膜の膜厚方向の屈折率とそれに接する基材等の媒体の屈折率との積の平方根の値から±10%の範囲に好ましく調整され、さらに好ましくはこの平方根の値から±5%の範囲内に調整される。反射防止膜の屈折率を上記範囲に調整することにより、より一層、光の透過率を向上させることができる。
(Combination of retardation film and antireflection film)
The retardation film according to the present invention may be used by forming an antireflection film on the film. By using the retardation film and the antireflection film in combination, an antireflection effect is obtained and the light transmittance is improved. The composition for forming the antireflection film (hereinafter referred to as “antireflection film forming composition”) is, for example, a fluorinated copolymer having a hydroxyl group and a curable compound having a functional group capable of reacting with the hydroxyl group. It is preferable to contain a thermal acid generator and / or an organic solvent. At this time, the refractive index of the antireflection film is preferably adjusted within a range of ± 10% from the value of the square root of the product of the refractive index in the film thickness direction of the retardation film and the refractive index of the medium such as a substrate in contact therewith, More preferably, it is adjusted within the range of ± 5% from this square root value. The light transmittance can be further improved by adjusting the refractive index of the antireflection film within the above range.

(1)水酸基を有する含フッ素共重合体:
本発明に用いられる水酸基を有する含フッ素共重合体(以下、単に「含フッ素共重合体」という)は、分子内に水酸基を有する含フッ素共重合体であれば特に制限されず、好適に使用することができる。具体的には、フッ素原子を含有する単量体(以下、「単量体(I)」という)と、水酸基またはエポキシ基を含有する単量体(以下、「単量体(II)」
という)とを共重合して得ることができる。また、必要に応じて、単量体(I)および単
量体(II)以外のエチレン性不飽和単量体(以下、「単量体(III)」という)とを添加
することが好ましい。
(1) Fluorine-containing copolymer having a hydroxyl group:
The fluorine-containing copolymer having a hydroxyl group used in the present invention (hereinafter simply referred to as “fluorine-containing copolymer”) is not particularly limited as long as it is a fluorine-containing copolymer having a hydroxyl group in the molecule, and is preferably used. can do. Specifically, a monomer containing a fluorine atom (hereinafter referred to as “monomer (I)”) and a monomer containing a hydroxyl group or an epoxy group (hereinafter referred to as “monomer (II)”)
Can be obtained by copolymerization. Further, it is preferable to add an ethylenically unsaturated monomer other than the monomer (I) and the monomer (II) (hereinafter referred to as “monomer (III)”) as necessary.

単量体(I)としては、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、フッ化
ビニリデン、クロロトリフルオロエチレン、トリフルオロエチレン、テトラフルオロエチレン、(フルオロアルキル)ビニルエーテル、(フルオロアルコキシアルキル)ビニルエーテル、パーフルオロ(アルキルビニルエーテル)、パーフルオロ(アルコキシビニルエーテル)、フッ素含有(メタ)アクリル酸エステルなどが挙げられる。これら単量体(I
)は1種単独で、または2種以上を組み合わせて使用することができる。
Monomers (I) include tetrafluoroethylene, hexafluoropropylene, vinylidene fluoride, chlorotrifluoroethylene, trifluoroethylene, tetrafluoroethylene, (fluoroalkyl) vinyl ether, (fluoroalkoxyalkyl) vinyl ether, perfluoro ( Alkyl vinyl ether), perfluoro (alkoxy vinyl ether), fluorine-containing (meth) acrylic acid ester, and the like. These monomers (I
) Can be used singly or in combination of two or more.

前記含フッ素共重合体を製造における単量体(I)の配合量は特に制限されるものでは
ないが、通常10〜99モル%、好ましくは15〜97モル%である。
The blending amount of the monomer (I) in the production of the fluorine-containing copolymer is not particularly limited, but is usually 10 to 99 mol%, preferably 15 to 97 mol%.

単量体(II)としては、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシプロピルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、ヒドロキシペンチルビニルエーテル、ヒドロキシヘキシルビニルエーテル、ヒドロキシエチルアリルエーテル、ヒドロキシブチルアリルエーテル、グリセロールモノアリルエーテル、アリルアルコール、ヒドロキシエチル(メタ)アクリル酸エステルなどが挙げられる。これら単量体(II)は1種単独で、または2種以上を組み合わせて使用することができる。   Monomers (II) include hydroxyethyl vinyl ether, hydroxypropyl vinyl ether, hydroxybutyl vinyl ether, hydroxypentyl vinyl ether, hydroxyhexyl vinyl ether, hydroxyethyl allyl ether, hydroxybutyl allyl ether, glycerol monoallyl ether, allyl alcohol, hydroxyethyl ( And (meth) acrylic acid esters. These monomers (II) can be used alone or in combination of two or more.

前記含フッ素共重合体を製造における単量体(II)の配合量は特に制限されるものではないが、通常1〜20モル%、好ましくは3〜15モル%である。   The blending amount of the monomer (II) in the production of the fluorine-containing copolymer is not particularly limited, but is usually 1 to 20 mol%, preferably 3 to 15 mol%.

単量体(III)としては、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、プロピルビ
ニルエーテル、ブチルビニルエーテル、ヘキシルビニルエーテル、オクチルビニルエーテ
ルなどが挙げられる。これら単量体(III)は1種単独で、または2種以上を組み合わせ
て使用することができる。
Examples of the monomer (III) include methyl vinyl ether, ethyl vinyl ether, propyl vinyl ether, butyl vinyl ether, hexyl vinyl ether, and octyl vinyl ether. These monomers (III) can be used alone or in combination of two or more.

前記含フッ素共重合体を製造における単量体(III)の配合量は特に制限されるもので
はないが、通常5〜45モル%、好ましくは10〜40モル%である。
The blending amount of the monomer (III) in the production of the fluorine-containing copolymer is not particularly limited, but is usually 5 to 45 mol%, preferably 10 to 40 mol%.

前記含フッ素共重合体の重合度は、反射防止膜の機械的強度や塗布性を考慮して適宜決定される。たとえば、機械的強度および塗布性に影響を及ぼす固有粘度(N,N−ジメチルアセトアミド溶剤使用、測定温度25℃)が、通常0.05〜2.0dl/g、好ましくは0.1〜1.5dl/gとなるように重合度を調節することが好ましい。固有粘度が上記範囲にあると、得られる反射防止膜が優れた機械的強度や塗布性を示す。   The degree of polymerization of the fluorine-containing copolymer is appropriately determined in consideration of the mechanical strength and coating properties of the antireflection film. For example, the intrinsic viscosity (using N, N-dimethylacetamide solvent, measuring temperature 25 ° C.) affecting the mechanical strength and coating properties is usually 0.05 to 2.0 dl / g, preferably 0.1 to 1. It is preferable to adjust the degree of polymerization so as to be 5 dl / g. When the intrinsic viscosity is in the above range, the obtained antireflection film exhibits excellent mechanical strength and applicability.

前記含フッ素共重合体の重合方法は特に制限されず、ラジカル重合開始剤を用いた溶液重合法、懸濁重合法、乳化重合法、塊状重合法などが挙げられる。   The polymerization method of the fluorine-containing copolymer is not particularly limited, and examples thereof include a solution polymerization method using a radical polymerization initiator, a suspension polymerization method, an emulsion polymerization method, and a bulk polymerization method.

(2)水酸基と反応し得る官能基を有する硬化性化合物:
本発明に用いられる水酸基と反応し得る官能基を有する硬化性化合物(以下、「反射防止膜用硬化性化合物」ともいう)としては、メラミン化合物、尿素化合物、グアナミン化合物、フェノール化合物、エポキシ化合物、イソシアネート化合物、多塩基酸などが挙げられる。これらの化合物は1種単独で、または2種以上を組み合わせて使用することができる。
(2) A curable compound having a functional group capable of reacting with a hydroxyl group:
As the curable compound having a functional group capable of reacting with a hydroxyl group used in the present invention (hereinafter also referred to as “curable compound for antireflection film”), a melamine compound, a urea compound, a guanamine compound, a phenol compound, an epoxy compound, An isocyanate compound, a polybasic acid, etc. are mentioned. These compounds can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

このような化合物のうち、位相差膜形成用組成物におけるバインダー(B)と同種の化合物を使用することにより、位相差膜と反射防止膜との相性がより良好となり、さらに優れた透過率や密着力を得ることができる。   Among these compounds, by using the same type of compound as the binder (B) in the composition for forming a retardation film, the compatibility between the retardation film and the antireflection film is improved, and further excellent transmittance and Adhesion can be obtained.

上記反射防止膜用硬化性化合物のうち、分子内にメチロール基およびアルコキシ化メチル基、または前記置換基のいずれか一方を2個以上有するメラミン化合物が好ましい。このようなメラミンメラミン化合物を用いることによって、反射防止膜形成用組成物は保存安定性に優れ、かつ低温硬化が可能となる。このようなメラミン化合物のうち、ヘキサメチルエーテル化メチロールメラミン化合物、ヘキサブチルエーテル化メチロールメラミン化合物、メチルブチル混合エーテル化メチロールメラミン化合物、メチルエーテル化メチロールメラミン化合物、ブチルエーテル化メチロールメラミン化合物などのメチル化メラミン化合物がより好ましい。   Of the curable compounds for antireflection films, melamine compounds having two or more methylol groups and alkoxylated methyl groups or the above substituents in the molecule are preferred. By using such a melamine melamine compound, the composition for forming an antireflection film is excellent in storage stability and can be cured at a low temperature. Among such melamine compounds, methylated melamine compounds such as hexamethyletherified methylolmelamine compounds, hexabutyletherified methylolmelamine compounds, methylbutyl mixed etherified methylolmelamine compounds, methyletherified methylolmelamine compounds, butyletherified methylolmelamine compounds, More preferred.

また、本発明では、位相差膜形成用組成物のバインダー(B)と反応し得る官能基および光重合可能な官能基を有する化合物を反射防止膜用硬化性化合物として使用することもできる。   In the present invention, a compound having a functional group capable of reacting with the binder (B) of the composition for forming a retardation film and a photopolymerizable functional group can also be used as the curable compound for the antireflection film.

反射防止膜用硬化性化合物の添加量は、前記含フッ素共重合体100重量部に対して、1〜70重量部であることが好ましい。反射防止膜用硬化性化合物の添加量が1重量部未満となると水酸基を有する含フッ素共重合体の硬化が不十分となることがあり、また、70重量部を超えると反射防止膜形成用組成物の保存安定性が低下することがある。   The addition amount of the curable compound for antireflection film is preferably 1 to 70 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the fluorinated copolymer. When the addition amount of the curable compound for antireflection film is less than 1 part by weight, curing of the fluorine-containing copolymer having a hydroxyl group may be insufficient, and when it exceeds 70 parts by weight, the composition for forming an antireflection film Storage stability of the product may be reduced.

(3)熱酸発生剤:
本発明に用いられる熱酸発生剤は、反射防止膜形成用組成物の硬化反応が十分に進行するものであれば特に制限されないが、たとえば、位相差膜形成用組成物に用いられる熱酸発生剤と同じものが挙げられる。
(3) Thermal acid generator:
The thermal acid generator used in the present invention is not particularly limited as long as the curing reaction of the composition for forming an antireflection film sufficiently proceeds. For example, the thermal acid generator used for the composition for forming a retardation film is used. The same thing as an agent is mentioned.

熱酸発生剤の添加量は特に制限されるものではないが、前記含フッ素共重合体と前記反
射防止膜用硬化性化合物との合計量100重量部に対して、通常0.1〜30重量部、好ましくは0.5〜20重量部、より好ましくは1〜10重量部である。熱酸発生剤の添加量が上記下限未満になると熱酸発生剤の添加効果が発現しないことがあり、また、熱酸発生剤の添加量が上記上限を超えると反射防止膜形成用組成物の保存安定性が低下することがある。
The addition amount of the thermal acid generator is not particularly limited, but is usually 0.1 to 30 weights with respect to 100 parts by weight of the total amount of the fluorine-containing copolymer and the curable compound for antireflection film. Parts, preferably 0.5 to 20 parts by weight, more preferably 1 to 10 parts by weight. When the addition amount of the thermal acid generator is less than the above lower limit, the effect of adding the thermal acid generator may not be exhibited, and when the addition amount of the thermal acid generator exceeds the above upper limit, Storage stability may be reduced.

(4)有機溶剤:
本発明に用いられる有機溶剤としては、位相差膜形成用組成物において用いられる有機溶剤(D)と同種の有機溶剤を使用することが好ましい。
(4) Organic solvent:
As the organic solvent used in the present invention, it is preferable to use the same organic solvent as the organic solvent (D) used in the composition for forming a retardation film.

有機溶剤の添加量は、前記含フッ素共重合体100重量部に対して、100〜10,000重量部が好ましい。有機溶剤の添加量が100重量部未満となると均一な厚さを有する反射防止膜を形成することが困難となることがあり、また、10,000重量部を超えると反射防止膜形成用組成物の保存安定性が低下することがある。   The addition amount of the organic solvent is preferably 100 to 10,000 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the fluorine-containing copolymer. When the addition amount of the organic solvent is less than 100 parts by weight, it may be difficult to form an antireflection film having a uniform thickness, and when it exceeds 10,000 parts by weight, the composition for forming an antireflection film The storage stability of may decrease.

<位相差素子>
本発明に係る位相差素子は前記位相差膜を有している。この位相差素子は、前記位相差膜形成用組成物を乾燥および/または硬化して得られた位相差膜を単体で使用して形成してもよく、また、基材上に前記位相差膜形成用組成物を塗布(コーティング)し、乾燥および/または硬化させた被膜(位相差膜)を使用して形成してもよい。
<Phase difference element>
The retardation element according to the present invention has the retardation film. The retardation element may be formed by using a retardation film obtained by drying and / or curing the retardation film forming composition alone, and the retardation film is formed on a substrate. You may form using the film | membrane (retardation film) which apply | coated (coating) the forming composition and dried and / or hardened | cured.

また、本発明に係る位相差素子は、さらに透明導電性膜を有していてもよい。この透明導電性膜は、位相差膜表面に直接形成されていてもよく、基材その他、位相差膜とは別の場所に形成されていてもよい。ここで、位相差膜については上述の通りである。   The retardation element according to the present invention may further have a transparent conductive film. This transparent conductive film may be directly formed on the surface of the retardation film, or may be formed at a location other than the base material or other retardation film. Here, the retardation film is as described above.

さらに、本発明に係る位相差素子は、上述した位相差膜と同様に、少なくともその片面に透明導電層を積層することもでき、このとき、接着層やアンカーコート層を形成することもできる。   Further, in the retardation element according to the present invention, a transparent conductive layer can be laminated on at least one surface thereof as in the above-described retardation film, and at this time, an adhesive layer and an anchor coat layer can be formed.

<基材>
前記基材は、本発明の目的および効果を損なわない範囲であれば特に制限されず、所望の特性に応じて材質や形状を適宜選択することができる。たとえば、ガラスや石英等の透明な無機化合物、透明プラスチックのシートまたはフィルムが、基材として使用できる。また、レンズやプリズム形状の成形品を基材として使用してもよい。さらに、反射性の基材を用いることもできる。反射性の基材の上に前記位相差膜を形成すると反射光の位相差を制御することも可能となる。このような基材のうち、生産性を考慮すると一般的に光学用フィルムとして用いられる透明フィルムを基材として使用することが好ましい。
<Base material>
The base material is not particularly limited as long as it does not impair the object and effect of the present invention, and the material and shape can be appropriately selected according to desired characteristics. For example, a transparent inorganic compound such as glass or quartz, a transparent plastic sheet or film can be used as the substrate. Moreover, you may use a lens or a prism-shaped molded article as a base material. Furthermore, a reflective base material can also be used. When the retardation film is formed on a reflective substrate, the phase difference of reflected light can be controlled. Among such substrates, it is preferable to use a transparent film generally used as an optical film as a substrate in consideration of productivity.

また、一軸延伸フィルムや二軸延伸フィルムなど、複屈折性などの光学特性が適宜好適に付与されたフィルム、たとえば位相差フィルムを使用することもできる。   In addition, a film such as a uniaxially stretched film or a biaxially stretched film, to which optical properties such as birefringence are suitably imparted, for example, a retardation film can also be used.

前記基材の厚みは、その平均値に対して、通常±20%以内、好ましくは±10%以内、さらに好ましくは±5%以内、特に好ましくは±3%以内の分布であることが望ましい。基材の厚みの分布が上記範囲内にあると、位相差膜形成用組成物を塗布した後に、位相差膜と基材とからなるフィルムを延伸配向した場合でも、複屈折性のムラ(位相差ムラ)を防ぐことができる。   It is desirable that the thickness of the base material is normally within ± 20%, preferably within ± 10%, more preferably within ± 5%, particularly preferably within ± 3% with respect to the average value. When the thickness distribution of the base material is within the above range, the birefringence unevenness (position) is present even when the film comprising the retardation film and the base material is stretched and oriented after the retardation film forming composition is applied. Phase difference) can be prevented.

このような基材は、たとえば、ガラス、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、トリアセチルアセテート樹脂(TAC)、ノルボルネン系樹脂等の環状オレフィン系樹脂などから得ることができる。これらの樹脂からなる基材を含む位相差
素子を用いることによって、液晶表示の位相差フィルムや視野角補償フィルムの利用分野において、優れた表示効果を得ることができる。上述した樹脂のうち、アクリル系樹脂やトリアセチルアセテート樹脂(TAC)などの比較的耐熱性に劣る樹脂からなる基材を使用する場合には、熱硬化よりも光硬化により位相差膜を形成することが好ましい。光硬化により位相差膜を形成することによって、耐熱性に劣る樹脂からなる基材であっても優れた表示効果を得ることができる。
Such a substrate can be obtained from, for example, glass, polycarbonate resin, polyester resin, acrylic resin, triacetyl acetate resin (TAC), or cyclic olefin resin such as norbornene resin. By using a retardation element including a substrate made of these resins, an excellent display effect can be obtained in the field of application of a retardation film for liquid crystal display and a viewing angle compensation film. Among the above-mentioned resins, when using a base material made of a resin having relatively low heat resistance such as acrylic resin or triacetyl acetate resin (TAC), the retardation film is formed by photocuring rather than thermal curing. It is preferable. By forming the retardation film by photocuring, an excellent display effect can be obtained even if the substrate is made of a resin having poor heat resistance.

また、このような基材は表面処理して使用してもよい。表面処理の方法としては、一般的に行われている親水化処理方法、たとえばアクリル系樹脂やスルホン酸塩基含有樹脂をコーティングやラミネートにより積層する方法、またはコロナ放電処理やプラズマ処理などにより基材表面の親水性を向上させる方法などが挙げられる。   Moreover, you may use such a base material after surface-treating. As the surface treatment method, the surface of the substrate is generally treated by a hydrophilic treatment method, for example, a method of laminating an acrylic resin or a sulfonate group-containing resin by coating or lamination, or a corona discharge treatment or plasma treatment. And the like, and the like.

本発明では、上記基材のうち、環状オレフィン系樹脂から得られる基材が特に好ましく用いられる。環状オレフィン系樹脂としては、下記のような(共)重合体が挙げられる。(1)下記一般式(1)で表される多環式単量体の開環重合体。
(2)下記一般式(1)で表される多環式単量体と共重合性単量体との開環共重合体。
(3)上記(1)または(2)の開環(共)重合体の水素添加(共)重合体。
(4)上記(1)または(2)の開環(共)重合体をフリーデルクラフト反応により環化したのち、水素添加した(共)重合体。
(5)下記一般式(1)で表される多環式単量体と不飽和二重結合含有化合物との飽和共重合体。
(6)下記一般式(1)で表される多環式単量体、ビニル系環状炭化水素単量体およびシクロペンタジエン系単量体から選ばれる1種以上の単量体の付加型(共)重合体およびその水素添加(共)重合体。
(7)下記一般式(1)で表される多環式単量体とアクリレートとの交互共重合体。
In the present invention, among the above-mentioned substrates, a substrate obtained from a cyclic olefin resin is particularly preferably used. Examples of the cyclic olefin-based resin include the following (co) polymers. (1) A ring-opening polymer of a polycyclic monomer represented by the following general formula (1).
(2) A ring-opening copolymer of a polycyclic monomer and a copolymerizable monomer represented by the following general formula (1).
(3) A hydrogenated (co) polymer of the ring-opening (co) polymer of (1) or (2) above.
(4) A (co) polymer obtained by cyclization of the ring-opening (co) polymer of the above (1) or (2) by Friedel-Craft reaction and then hydrogenation.
(5) A saturated copolymer of a polycyclic monomer represented by the following general formula (1) and an unsaturated double bond-containing compound.
(6) Addition type of one or more monomers selected from polycyclic monomers represented by the following general formula (1), vinyl cyclic hydrocarbon monomers and cyclopentadiene monomers (co-polymers) ) A polymer and its hydrogenated (co) polymer.
(7) An alternating copolymer of a polycyclic monomer represented by the following general formula (1) and an acrylate.

Figure 0004679808
Figure 0004679808

(式中、R1〜R4は、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜30の炭化水素基、またはその他の1価の有機基であり、それぞれ同一または異なっていてもよい。R1とR2またはR3とR4は、一体化して2価の炭化水素基を形成しても良く、R1またはR2とR3
またはR4とは互いに結合して、単環または多環構造を形成してもよい。mは0または正
の整数であり、pは0または正の整数である。)
〔開環(共)重合体〕
(多環式単量体)
上記多環式単量体の具体例としては、次のような化合物が挙げられるが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。
ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
トリシクロ[4.3.0.12,5]−8−デセン、
トリシクロ[4.4.0.12,5]−3−ウンデセン、
テトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
ペンタシクロ[6.5.1.13,6 .02,7 .09,13]−4−ペンタデセン、
5−メチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5−エチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5−メトキシカルボニルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5−メチル−5−メトキシカルボニルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5−シアノビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
8−メトキシカルボニルテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、8−エトキシカルボニルテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、8−n−プロポキシカルボニルテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8−イソプロポキシカルボニルテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8−n−ブトキシカルボニルテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8−メチル−8−メトキシカルボニルテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8−メチル−8−エトキシカルボニルテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8−メチル−8−n−プロポキシカルボニルテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8−メチル−8−イソプロポキシカルボニルテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8−メチル−8−n−ブトキシカルボニルテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
5−エチリデンビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
8−エチリデンテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
5−フェニルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
8−フェニルテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
5−フルオロビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5−フルオロメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5−トリフルオロメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5−ペンタフルオロエチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5,5−ジフルオロビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5,6−ジフルオロビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5,5−ビス(トリフルオロメチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5,6−ビス(トリフルオロメチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5−メチル−5−トリフルオロメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5,5,6−トリフルオロビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5,5,6−トリス(フルオロメチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5,5,6,6−テトラフルオロビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5,5,6,6−テトラキス(トリフルオロメチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5,5−ジフルオロ−6,6−ビス(トリフルオロメチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5,6−ジフルオロ−5,6−ビス(トリフルオロメチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5,5,6−トリフルオロ−5−トリフルオロメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5−フルオロ−5−ペンタフルオロエチル−6,6−ビス(トリフルオロメチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5,6−ジフルオロ−5−ヘプタフルオロ−iso−プロピル−6−トリフルオロメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5−クロロ−5,6,6−トリフルオロビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5,6−ジクロロ−5,6−ビス(トリフルオロメチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5,5,6−トリフルオロ−6−トリフルオロメトキシビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5,5,6−トリフルオロ−6−ヘプタフルオロプロポキシビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
8−フルオロテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8−フルオロメチルテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8−ジフルオロメチルテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8−トリフルオロメチルテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、8−ペンタフルオロエチルテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8,8−ジフルオロテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8,9−ジフルオロテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8,8−ビス(トリフルオロメチル)テトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8,9−ビス(トリフルオロメチル)テトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8−メチル−8−トリフルオロメチルテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8,8,9−トリフルオロテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8,8,9−トリス(トリフルオロメチル)テトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8,8,9,9−テトラフルオロテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8,8,9,9−テトラキス(トリフルオロメチル)テトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8,8−ジフルオロ−9,9−ビス(トリフルオロメチル)テトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8,9−ジフルオロ−8,9−ビス(トリフルオロメチル)テトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8,8,9−トリフルオロ−9−トリフルオロメチルテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8,8,9−トリフルオロ−9−トリフルオロメトキシテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8,8,9−トリフルオロ−9−ペンタフルオロプロポキシテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8−フルオロ−8−ペンタフルオロエチル−9,9−ビス(トリフルオロメチル)テトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8,9−ジフルオロ−8−ヘプタフルオロiso−プロピル−9−トリフルオロメチルテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8−クロロ−8,9,9−トリフルオロテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8,9−ジクロロ−8,9−ビス(トリフルオロメチル)テトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8−(2,2,2−トリフルオロエトキシカルボニル)テトラシクロ[4.4.0.12,
5 .17,10]−3−ドデセン、
8−メチル−8−(2,2,2−トリフルオロエトキシカルボニル)テトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン
などを挙げることができる。
(Wherein, R 1 to R 4 are each a hydrogen atom, a halogen atom, a hydrocarbon group, or other monovalent organic group, having 1 to 30 carbon atoms, which may be the same or different from each .R 1 And R 2 or R 3 and R 4 may be combined to form a divalent hydrocarbon group. R 1 or R 2 and R 3
Alternatively, R 4 may be bonded to each other to form a monocyclic or polycyclic structure. m is 0 or a positive integer, and p is 0 or a positive integer. )
[Ring-opening (co) polymer]
(Polycyclic monomer)
Specific examples of the polycyclic monomer include the following compounds, but the present invention is not limited to these specific examples.
Bicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
Tricyclo [4.3.0.1 2,5 ] -8-decene,
Tricyclo [4.4.0.1 2,5 ] -3-undecene,
Tetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
Pentacyclo [6.5.1.1 3,6 . 0 2,7 . 0 9,13 ] -4-pentadecene,
5-methylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5-ethylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5-methoxycarbonylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5-methyl-5-methoxycarbonylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5-cyanobicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
8-methoxycarbonyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene, 8-ethoxycarbonyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene, 8-n-propoxycarbonyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
8-isopropoxycarbonyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
8-n-butoxycarbonyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
8-methyl-8-methoxycarbonyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
8-methyl-8-ethoxycarbonyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
8-methyl-8-n-propoxycarbonyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
8-methyl-8-isopropoxycarbonyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
8-methyl-8-n-butoxycarbonyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
5-ethylidenebicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
8-ethylidenetetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
5-phenylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
8-phenyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
5-fluorobicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5-fluoromethylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5-trifluoromethylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5-pentafluoroethylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5,5-difluorobicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5,6-difluorobicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5,5-bis (trifluoromethyl) bicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5,6-bis (trifluoromethyl) bicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5-methyl-5-trifluoromethylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5,5,6-trifluorobicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5,5,6-tris (fluoromethyl) bicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5,5,6,6-tetrafluorobicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5,5,6,6-tetrakis (trifluoromethyl) bicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5,5-difluoro-6,6-bis (trifluoromethyl) bicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5,6-difluoro-5,6-bis (trifluoromethyl) bicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5,5,6-trifluoro-5-trifluoromethylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5-fluoro-5-pentafluoroethyl-6,6-bis (trifluoromethyl) bicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5,6-difluoro-5-heptafluoro-iso-propyl-6-trifluoromethylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5-chloro-5,6,6-trifluorobicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5,6-dichloro-5,6-bis (trifluoromethyl) bicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5,5,6-trifluoro-6-trifluoromethoxybicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5,5,6-trifluoro-6-heptafluoropropoxybicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
8-fluorotetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
8-fluoromethyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
8-difluoromethyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
8-trifluoromethyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene, 8-pentafluoroethyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
8,8-difluorotetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
8,9-difluorotetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
8,8-bis (trifluoromethyl) tetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
8,9-bis (trifluoromethyl) tetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
8-methyl-8-trifluoromethyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
8,8,9-trifluorotetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
8,8,9-tris (trifluoromethyl) tetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
8,8,9,9-tetrafluorotetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
8,8,9,9-tetrakis (trifluoromethyl) tetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
8,8-difluoro-9,9-bis (trifluoromethyl) tetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
8,9-difluoro-8,9-bis (trifluoromethyl) tetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
8,8,9-trifluoro-9-trifluoromethyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
8,8,9-trifluoro-9-trifluoromethoxytetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
8,8,9-trifluoro-9-pentafluoropropoxytetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
8-fluoro-8-pentafluoroethyl-9,9-bis (trifluoromethyl) tetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
8,9-difluoro-8-heptafluoroiso-propyl-9-trifluoromethyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
8-chloro-8,9,9-trifluorotetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
8,9-dichloro-8,9-bis (trifluoromethyl) tetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
8- (2,2,2-trifluoroethoxycarbonyl) tetracyclo [4.4.0.1 2,
5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
8-methyl-8- (2,2,2-trifluoroethoxycarbonyl) tetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene.

これらは、1種単独で、または2種以上を組み合わせて用いることができる。   These can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

上記多環式単量体のうち、好ましいものは、上記一般式(1)中、R1およびR3が水素原子または炭素数1〜10、さらに好ましくは1〜4、特に好ましくは1〜2の炭化水素基であり、R2およびR4が水素原子または一価の有機基であって、R2 およびR4の少な
くとも一つは水素原子および炭化水素基以外の極性を有する極性基を示し、mは0〜3の整数、pは0〜3の整数であり、より好ましくはm+p=0〜4、さらに好ましくは0〜2、特に好ましくはm=1、p=0であるものである。m=1、p=0である前記多環式単量体は、得られる環状オレフィン系樹脂のガラス転移温度が高く、かつ機械的強度も優れたものとなる点で好ましい。
Among the polycyclic monomers, preferred are those in the general formula (1) wherein R 1 and R 3 are hydrogen atoms or 1 to 10 carbon atoms, more preferably 1 to 4, particularly preferably 1 to 2. R 2 and R 4 are hydrogen atoms or monovalent organic groups, and at least one of R 2 and R 4 represents a polar group having a polarity other than hydrogen atoms and hydrocarbon groups , M is an integer of 0-3, p is an integer of 0-3, more preferably m + p = 0-4, more preferably 0-2, particularly preferably m = 1, p = 0. . The polycyclic monomer in which m = 1 and p = 0 is preferable in that the obtained cyclic olefin-based resin has a high glass transition temperature and excellent mechanical strength.

上記多環式単量体の極性基としては、カルボキシル基、水酸基、アルコキシカルボニル基、アリロキシカルボニル基、アミノ基、アミド基、シアノ基などが挙げられ、これらの極性基はメチレン基などの連結基を介して結合していてもよい。また、カルボニル基、エーテル基、シリルエーテル基、チオエーテル基、イミノ基など極性を有する2価の有機基が連結基となって結合している炭化水素基なども極性基として挙げられる。これらの中では、カルボキシル基、水酸基、アルコキシカルボニル基またはアリロキシカルボニル基が好ましく、特にアルコキシカルボニル基またはアリロキシカルボニル基が好ましい。   Examples of the polar group of the polycyclic monomer include a carboxyl group, a hydroxyl group, an alkoxycarbonyl group, an allyloxycarbonyl group, an amino group, an amide group, and a cyano group. These polar groups are linked to a methylene group or the like. It may be bonded via a group. In addition, a hydrocarbon group in which a divalent organic group having a polarity such as a carbonyl group, an ether group, a silyl ether group, a thioether group, or an imino group is bonded as a linking group can also be exemplified. Among these, a carboxyl group, a hydroxyl group, an alkoxycarbonyl group or an allyloxycarbonyl group is preferable, and an alkoxycarbonyl group or an allyloxycarbonyl group is particularly preferable.

さらに、R2およびR4の少なくとも1つが、化学式−(CH2)nCOORで表される極性基である単量体は、得られる環状オレフィン系樹脂が高いガラス転移温度と低い吸湿性、各種材料との優れた密着性を有するものとなる点で好ましい。上記化学式において、Rは炭素原子数1〜12、さらに好ましくは1〜4、特に好ましくは1〜2の炭化水素基、好ましくはアルキル基である。また、nは、通常、0〜5であるが、nの値が小さいものほど、得られる環状オレフィン系樹脂のガラス転移温度が高くなるので好ましく、さらにnが0である前記多環式単量体はその合成が容易である点で好ましい。 Furthermore, a monomer in which at least one of R 2 and R 4 is a polar group represented by the chemical formula — (CH 2 ) n COOR is obtained by using a cyclic olefin-based resin having a high glass transition temperature, low hygroscopicity, It is preferable at the point which has the outstanding adhesiveness with material. In the above chemical formula, R is a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, more preferably 1 to 4 carbon atoms, particularly preferably 1 to 2 carbon atoms, and preferably an alkyl group. In addition, n is usually 0 to 5, but the smaller the value of n, the higher the glass transition temperature of the obtained cyclic olefin-based resin, which is preferable. Further, n is 0. The body is preferred because it is easy to synthesize.

また、上記一般式(1)においてR1またはR3がアルキル基であることが好ましく、炭素数1〜4のアルキル基、さらに好ましくは1〜2のアルキル基、特にメチル基であることが好ましく、また、このアルキル基が、上記化学式−(CH2)nCOORで表される極性基が結合した炭素原子と同一の炭素原子に結合されていることが、得られる環状オレフィン系樹脂の吸湿性を低くできる点で特に好ましい。 In the general formula (1), R 1 or R 3 is preferably an alkyl group, preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 2 carbon atoms, particularly preferably a methyl group. In addition, the hygroscopic property of the resulting cyclic olefin-based resin that the alkyl group is bonded to the same carbon atom as the carbon atom to which the polar group represented by the chemical formula — (CH 2 ) n COOR is bonded. Is particularly preferable in that it can be lowered.

(共重合性単量体)
共重合性単量体の具体例としては、シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘプテン、シクロオクテン、ジシクロペンタジエンなどのシクロオレフィンを挙げることができる。シクロオレフィンの炭素数としては、4〜20が好ましく、さらに好ましくは5〜12である。これらは、1種単独で、または2種以上を組み合わせて用いることができる。
(Copolymerizable monomer)
Specific examples of the copolymerizable monomer include cycloolefins such as cyclobutene, cyclopentene, cycloheptene, cyclooctene, and dicyclopentadiene. As carbon number of a cycloolefin, 4-20 are preferable, More preferably, it is 5-12. These can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

前記多環式単量体と共重合性単量体との好ましい割合(多環式単量体/共重合性単量体)は、重量比で100/0〜50/50であり、さらに好ましくは100/0〜60/40である。   A preferred ratio of the polycyclic monomer and the copolymerizable monomer (polycyclic monomer / copolymerizable monomer) is 100/0 to 50/50 by weight, and more preferably. Is 100/0 to 60/40.

(開環重合用触媒)
本発明において、(1)前記多環式単量体の開環重合体、および(2)前記多環式単量
体と共重合性単量体との開環共重合体を得るための開環重合反応は、メタセシス触媒の存在下で行われる。
(Catalyst for ring-opening polymerization)
In the present invention, (1) a ring-opening polymer of the polycyclic monomer, and (2) a ring-opening copolymer of the polycyclic monomer and a copolymerizable monomer are obtained. The ring polymerization reaction is performed in the presence of a metathesis catalyst.

このメタセシス触媒は、
(a)W、MoおよびReを有する化合物から選ばれた少なくとも1種の化合物(以下、化合物(a)という)と、
(b)デミングの周期律表IA族元素(たとえばLi、Na、Kなど)、IIA族元素(たとえば、Mg、Caなど)、IIB族元素(たとえば、Zn、Cd、Hgなど)、IIIA族元素(たとえば、B、Alなど)、IVA族元素(たとえば、Si、Sn、Pbなど)、またはIVB族元素(たとえば、Ti、Zrなど)を有する化合物であって、この元素と炭素との結合またはこの元素と水素との結合を少なくとも1つ有する化合物から選ばれる少なくとも1種の化合物(以下、化合物(b)という)と
の組み合わせからなる触媒である。また、触媒の活性を高めるために、後述の添加剤(c)をさらに添加したものであってもよい。
This metathesis catalyst is
(A) at least one compound selected from compounds having W, Mo and Re (hereinafter referred to as compound (a));
(B) Deming periodic table group IA elements (for example, Li, Na, K, etc.), group IIA elements (for example, Mg, Ca, etc.), group IIB elements (for example, Zn, Cd, Hg, etc.), group IIIA elements (For example, B, Al, etc.), a compound having a group IVA element (for example, Si, Sn, Pb, etc.), or a group IVB element (for example, Ti, Zr, etc.), The catalyst comprises a combination of at least one compound selected from compounds having at least one bond between this element and hydrogen (hereinafter referred to as compound (b)). Further, in order to enhance the activity of the catalyst, an additive (c) described later may be further added.

化合物(a)としては、WCl6、MoCl6、ReOCl3などの特開平1−1326
26号公報第8頁左下欄第6行〜第8頁右上欄第17行に記載の化合物を挙げることができる。
Examples of the compound (a) include WCl 6 , MoCl 6 , ReOCl 3 and the like.
No. 26, page 8, lower left column, line 6 to page 8, upper right column, line 17 can be mentioned.

化合物(b)としては、n−C49Li、(C253Al、(C252AlCl、(C251.5AlCl1.5、(C25)AlCl2、メチルアルモキサン、LiHなどの特
開平1−132626号公報第8頁右上欄第18行〜第8頁右下欄第3行に記載の化合物を挙げることができる。
As the compound (b), n-C 4 H 9 Li, (C 2 H 5) 3 Al, (C 2 H 5) 2 AlCl, (C 2 H 5) 1.5 AlCl 1.5, (C 2 H 5) AlCl 2 , compounds such as methylalumoxane, LiH and the like, described in JP-A No. 1-132626, page 8, upper right column, line 18 to page 8, lower right column, line 3.

添加剤(c)成分としては、アルコール類、アルデヒド類、ケトン類、アミン類などが好適に用いることができ、また特開平1−132626号公報第8頁右下欄第16行〜第9頁左上欄第17行に示される化合物を使用することもできる。   As the additive (c) component, alcohols, aldehydes, ketones, amines and the like can be suitably used. JP-A-1-132626, page 8, lower right column, lines 16 to 9 The compounds shown in the upper left column, line 17 can also be used.

メタセシス触媒の使用量は、上記化合物(a)と前記多環式単量体とのモル比(化合物:多環式単量体)が、通常1:500〜1:50,000、好ましくは1:1,000〜1:10,000となる量が好ましい。   The amount of the metathesis catalyst used is such that the molar ratio of the compound (a) to the polycyclic monomer (compound: polycyclic monomer) is usually from 1: 500 to 1: 50,000, preferably 1. : The quantity used as 1,000-1: 10,000 is preferable.

化合物(a)と化合物(b)との割合(化合物(a):化合物(b))は、金属原子比で1:1〜1:50、好ましくは1:2〜1:30が望ましい。   The ratio of compound (a) to compound (b) (compound (a): compound (b)) is 1: 1 to 1:50, preferably 1: 2 to 1:30 in terms of metal atom ratio.

化合物(a)と化合物(c)との割合(化合物(c):化合物(a))は、モル比で0.005:1〜15:1、好ましくは0.05:1〜7:1が望ましい。   The ratio of compound (a) to compound (c) (compound (c): compound (a)) is 0.005: 1 to 15: 1, preferably 0.05: 1 to 7: 1 in molar ratio. desirable.

(重合反応用溶媒)
開環重合反応において用いられる溶媒としては、たとえばペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカンなどのアルカン類;シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン、デカリン、ノルボルナンなどのシクロアルカン類;ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、クメンなどの芳香族炭化水素;クロロブタン、ブロモヘキサン、塩化メチレン、ジクロロエタン、ヘキサメチレンジブロミド、クロロホルム、テトラクロロエチレンなどのハロゲン化アルカン;クロロベンゼンなどのハロゲン化アリール化合物;酢酸エチル、酢酸n−ブチル、酢酸iso−ブチル、プロピオン酸メチル、ジメトキシエタンなどの飽和カルボン酸エステル類;ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタンなどのエーテル類などを挙げることができる。これらは単独で、または2種以上を混合して用いることができる。これらのうち、芳香族炭化水素が好ましい。このような溶媒は、分子量調節剤溶液を構成する溶媒、前記多環式単量体および/またはメ
タセシス触媒を溶解するための溶媒として用いられる。
(Solvent for polymerization reaction)
Examples of the solvent used in the ring-opening polymerization reaction include alkanes such as pentane, hexane, heptane, octane, nonane, decane; cycloalkanes such as cyclohexane, cycloheptane, cyclooctane, decalin, norbornane; benzene, toluene, xylene Aromatic hydrocarbons such as chlorobutane, bromohexane, methylene chloride, dichloroethane, hexamethylene dibromide, chloroform, tetrachloroethylene; aryl halide compounds such as chlorobenzene; ethyl acetate, n-butyl acetate , Saturated carboxylic acid esters such as iso-butyl acetate, methyl propionate and dimethoxyethane; ethers such as dibutyl ether, tetrahydrofuran and dimethoxyethane Kind, and the like. These can be used alone or in admixture of two or more. Of these, aromatic hydrocarbons are preferred. Such a solvent is used as a solvent for dissolving the solvent constituting the molecular weight regulator solution, the polycyclic monomer and / or the metathesis catalyst.

溶媒の使用量は、溶媒と前記多環式単量体との重量比(溶媒:多環式単量体)が、通常1:1〜10:1、好ましくは1:1〜5:1となる量が望ましい。   The amount of the solvent used is such that the weight ratio of the solvent to the polycyclic monomer (solvent: polycyclic monomer) is usually 1: 1 to 10: 1, preferably 1: 1 to 5: 1. Is desirable.

(分子量調節剤)
得られる開環(共)重合体の分子量は、重合温度、触媒の種類、溶媒の種類によって調節することも可能であるが、分子量調節剤を反応系に共存させることによっても調節することができる。
(Molecular weight regulator)
The molecular weight of the resulting ring-opening (co) polymer can be adjusted by the polymerization temperature, the type of catalyst, and the type of solvent, but can also be adjusted by allowing a molecular weight regulator to coexist in the reaction system. .

好適な分子量調節剤としては、たとえばエチレン、プロペン、1−ブテン、1−ペンテン、1−ヘキセン、1−ヘプテン、1−オクテン、1−ノネン、1−デセンなどのα−オレフィン類およびスチレンを挙げることができ、これらのうち、1−ブテン、1−ヘキセンが特に好ましい。これらの分子量調節剤は単独で、または2種以上を混合して用いることができる。   Suitable molecular weight regulators include, for example, α-olefins such as ethylene, propene, 1-butene, 1-pentene, 1-hexene, 1-heptene, 1-octene, 1-nonene, 1-decene, and styrene. Of these, 1-butene and 1-hexene are particularly preferred. These molecular weight regulators can be used alone or in admixture of two or more.

分子量調節剤の使用量は、開環重合反応に供される前記多環式単量体1モルに対して、通常0.005〜0.6モル、好ましくは0.02〜0.5モルである。   The amount of the molecular weight regulator used is usually 0.005 to 0.6 mol, preferably 0.02 to 0.5 mol, per 1 mol of the polycyclic monomer subjected to the ring-opening polymerization reaction. is there.

(不飽和炭化水素系ポリマー)
前記開環共重合体は、後述する開環共重合反応において、前記多環式単量体と共重合性単量体とを開環重合させて得ることができるが、ポリブタジエン、ポリイソプレンなどの共役ジエン化合物、スチレン−ブタジエン共重合体、エチレン−非共役ジエン共重合体、ポリノルボルネンなど、主鎖に炭素−炭素間二重結合を2つ以上含む不飽和炭化水素系ポリマーなどの存在下で多環式単量体を開環重合させてもよい。
(Unsaturated hydrocarbon polymer)
The ring-opening copolymer can be obtained by ring-opening polymerization of the polycyclic monomer and the copolymerizable monomer in a ring-opening copolymerization reaction to be described later, such as polybutadiene and polyisoprene. In the presence of unsaturated hydrocarbon polymers such as conjugated diene compounds, styrene-butadiene copolymers, ethylene-nonconjugated diene copolymers, polynorbornene, etc. that contain two or more carbon-carbon double bonds in the main chain. Polycyclic monomers may be subjected to ring-opening polymerization.

(開環(共)重合反応)
前記開環共重合体の製造方法は、環状オレフィンについての公知の開環重合反応を用いることができ、前記多環式単量体と共重合性単量体とを、前記開環重合用触媒や重合反応用溶媒、必要に応じて前記分子量調節剤の存在下で、開環重合させることによって製造することができる。
(Ring-opening (co) polymerization reaction)
The method for producing the ring-opening copolymer can use a known ring-opening polymerization reaction for a cyclic olefin, and the polycyclic monomer and the copolymerizable monomer are converted into the catalyst for ring-opening polymerization. It can be produced by ring-opening polymerization in the presence of a solvent for polymerization reaction, and if necessary, the molecular weight regulator.

〔水素添加(共)重合体〕
上記の方法で得られる開環(共)重合体は、そのまま使用してもよいが、これに水素添加した水素添加(共)重合体として使用してもよい。この水素添加(共)重合体は耐衝撃性の大きい樹脂の原料として有用である。
[Hydrogenated (co) polymer]
The ring-opening (co) polymer obtained by the above method may be used as it is, or may be used as a hydrogenated (co) polymer obtained by hydrogenation thereof. This hydrogenated (co) polymer is useful as a raw material for resins having high impact resistance.

水素添加反応は、通常の方法、すなわち開環(共)重合体の溶液に水素添加触媒を添加し、これに常圧〜300気圧、好ましくは3〜200気圧の水素ガスを0〜200℃、好ましくは20〜180℃で作用させることによって行われる。   In the hydrogenation reaction, a hydrogenation catalyst is added to a usual method, that is, a solution of a ring-opening (co) polymer, and hydrogen gas at normal pressure to 300 atm, preferably 3 to 200 atm, is added to 0 to 200 ° C., Preferably it is performed by operating at 20 to 180 ° C.

このように、水素添加することにより、得られる水素添加(共)重合体は、優れた熱安定性を有するものとなり、成形加工時や製品として使用する時の加熱によっても、その特性が低下することはない。   Thus, by hydrogenation, the resulting hydrogenated (co) polymer has excellent thermal stability, and its properties deteriorate even when heated during molding or as a product. There is nothing.

水素添加(共)重合体の水素添加率は、500MHz、1H−NMRで測定した値が通常50%以上、好ましく70%以上、より好ましくは90%以上、特に好ましくは98%以上、最も好ましくは99%以上である。水素添加率が高いほど、熱や光に対する安定性が優れたものとなり、位相差素子の基材として使用した場合に長期にわたって安定した特性を得ることができる。   The hydrogenation rate of the hydrogenated (co) polymer is usually 50% or more, preferably 70% or more, more preferably 90% or more, particularly preferably 98% or more, most preferably measured by 500 MHz and 1H-NMR. 99% or more. The higher the hydrogenation rate, the better the stability to heat and light. When used as a base material for a retardation element, stable characteristics can be obtained over a long period of time.

なお、環状オレフィン系樹脂として使用される水素添加(共)重合体は、この水素添加(共)重合体中に含まれるゲル含有量が5重量%以下であることが好ましく、特に1重量%以下であることが好ましい。   The hydrogenated (co) polymer used as the cyclic olefin-based resin preferably has a gel content contained in the hydrogenated (co) polymer of 5% by weight or less, particularly 1% by weight or less. It is preferable that

(水素添加触媒)
水素添加触媒としては、通常のオレフィン性化合物の水素添加反応に用いられるものを使用することができる。この水素添加触媒としては、不均一系触媒および均一系触媒が挙げられる。
(Hydrogenation catalyst)
As a hydrogenation catalyst, what is used for the hydrogenation reaction of a normal olefinic compound can be used. Examples of the hydrogenation catalyst include a heterogeneous catalyst and a homogeneous catalyst.

不均一系触媒としては、パラジウム、白金、ニッケル、ロジウム、ルテニウムなどの貴金属触媒物質を、カーボン、シリカ、アルミナ、チタニアなどの担体に担持させた固体触媒を挙げることができる。均一系触媒としては、ナフテン酸ニッケル/トリエチルアルミニウム、ニッケルアセチルアセトナート/トリエチルアルミニウム、オクテン酸コバルト/n−ブチルリチウム、チタノセンジクロリド/ジエチルアルミニウムモノクロリド、酢酸ロジウム、クロロトリス(トリフェニルホスフィン)ロジウム、ジクロロトリス(トリフェニルホスフィン)ルテニウム、クロロヒドロカルボニルトリス(トリフェニルホスフィン)ルテニウム、ジクロロカルボニルトリス(トリフェニルホスフィン)ルテニウムなどを挙げることができる。触媒の形態は、粉末でも粒状でもよい。   Examples of the heterogeneous catalyst include a solid catalyst in which a noble metal catalyst material such as palladium, platinum, nickel, rhodium, and ruthenium is supported on a carrier such as carbon, silica, alumina, and titania. Homogeneous catalysts include nickel naphthenate / triethylaluminum, nickel acetylacetonate / triethylaluminum, cobalt octenoate / n-butyllithium, titanocene dichloride / diethylaluminum monochloride, rhodium acetate, chlorotris (triphenylphosphine) rhodium, dichloro Examples thereof include tris (triphenylphosphine) ruthenium, chlorohydrocarbonyltris (triphenylphosphine) ruthenium, dichlorocarbonyltris (triphenylphosphine) ruthenium, and the like. The form of the catalyst may be powder or granular.

これらの水素添加触媒は、開環(共)重合体と水素添加触媒との重量比(開環(共)重合体:水素添加触媒)が、1:1×10-6〜1:2となる割合で使用される。 In these hydrogenation catalysts, the weight ratio of the ring-opening (co) polymer to the hydrogenation catalyst (ring-opening (co) polymer: hydrogenation catalyst) is 1: 1 × 10 −6 to 1: 2. Used in proportions.

(フリーデルクラフト反応による環化)
水素添加(共)重合体としては、上述のように上記開環(共)重合体に水素添加したものを使用してもよいが、上記開環(共)重合体をフリーデルクラフト反応により環化したのち、水素添加した(共)重合体を使用することもできる。
(Cyclization by Friedel-Craft reaction)
As the hydrogenated (co) polymer, one obtained by hydrogenating the ring-opened (co) polymer as described above may be used, but the ring-opened (co) polymer may be circulated by Friedel-Craft reaction. Then, a hydrogenated (co) polymer can be used.

上記開環(共)重合体をフリーデルクラフト反応により環化する方法は特に限定されるものではないが、特開昭50−154399号公報に記載の酸性化合物を用いた公知の方法が採用できる。酸性化合物としては、具体的には、AlCl3、BF3、FeCl3、A
23、HCl、CH3ClCOOH、ゼオライト、活性白土、などのルイス酸、ブレン
ステッド酸が用いられる。環化された開環(共)重合体は、上記開環(共)重合体の水素添加反応と同様の方法により水素添加できる。
The method for cyclizing the ring-opened (co) polymer by Friedel-Craft reaction is not particularly limited, but a known method using an acidic compound described in JP-A No. 50-154399 can be employed. . Specific examples of the acidic compound include AlCl 3 , BF 3 , FeCl 3 , A
Lewis acids such as l 2 O 3 , HCl, CH 3 ClCOOH, zeolite, activated clay, and Bronsted acid are used. The cyclized ring-opening (co) polymer can be hydrogenated by the same method as the hydrogenation reaction of the ring-opening (co) polymer.

〔飽和共重合体〕
前記環状オレフィン系樹脂として、前記多環式単量体と不飽和二重結合含有化合物との飽和共重合体も使用できる。この飽和共重合体は、触媒を用いて通常の付加重合反応により得ることができる。
[Saturated copolymer]
As the cyclic olefin-based resin, a saturated copolymer of the polycyclic monomer and an unsaturated double bond-containing compound can also be used. This saturated copolymer can be obtained by a usual addition polymerization reaction using a catalyst.

(不飽和二重結合含有化合物)
不飽和二重結合含有化合物としては、たとえばエチレン、プロピレン、ブテンなど、好ましくは炭素数2〜12、さらに好ましくは炭素数2〜8のオレフィン系化合物を挙げることができる。
(Unsaturated double bond-containing compound)
Examples of the unsaturated double bond-containing compound include olefinic compounds having preferably 2 to 12 carbon atoms, more preferably 2 to 8 carbon atoms, such as ethylene, propylene, and butene.

前記多環式単量体と不飽和二重結合含有化合物との好ましい重量比(前記多環式単量体/不飽和二重結合含有化合物)は、90/10〜40/60であり、さらに好ましくは85/15〜50/50である。   A preferred weight ratio of the polycyclic monomer to the unsaturated double bond-containing compound (the polycyclic monomer / unsaturated double bond-containing compound) is 90/10 to 40/60, Preferably it is 85 / 15-50 / 50.

(付加重合触媒)
付加重合触媒としては、チタン化合物、ジルコニウム化合物およびバナジウム化合物から選ばれた少なくとも1種の化合物と、助触媒としての有機アルミニウム化合物とが用いられる。
(Addition polymerization catalyst)
As the addition polymerization catalyst, at least one compound selected from a titanium compound, a zirconium compound and a vanadium compound, and an organoaluminum compound as a co-catalyst are used.

チタン化合物としては、四塩化チタン、三塩化チタンなどを挙げることができ、ジルコニウム化合物としてはビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウムクロリド、ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリドなどを挙げることができる。   Examples of the titanium compound include titanium tetrachloride and titanium trichloride. Examples of the zirconium compound include bis (cyclopentadienyl) zirconium chloride and bis (cyclopentadienyl) zirconium dichloride.

バナジウム化合物としては、下記式
VO(OR)ab、またはV(OR)cd
(式中、Rは炭化水素基、Xはハロゲン原子であって、0≦a≦3、0≦b≦3、2≦(a+b)≦3、0≦c≦4、0≦d≦4、3≦(c+d)≦4である。)
で表されるバナジウム化合物、あるいはこれらの電子供与体付加物が用いられる。
As a vanadium compound, the following formula
VO (OR) a X b or V (OR) c X d
(Wherein R is a hydrocarbon group, X is a halogen atom, and 0 ≦ a ≦ 3, 0 ≦ b ≦ 3, 2 ≦ (a + b) ≦ 3, 0 ≦ c ≦ 4, 0 ≦ d ≦ 4, (3 ≦ (c + d) ≦ 4)
The vanadium compound represented by these, or these electron donor adducts are used.

上記電子供与体としては、アルコール、フェノール類、ケトン、アルデヒド、カルボン酸、有機酸または無機酸のエステル、エーテル、酸アミド、酸無水物、アルコキシシランなどの含酸素電子供与体;アンモニア、アミン、ニトリル、イソシアナートなどの含窒素電子供与体などが挙げられる。   Examples of the electron donor include oxygen-containing electron donors such as alcohols, phenols, ketones, aldehydes, carboxylic acids, esters of organic acids or inorganic acids, ethers, acid amides, acid anhydrides, alkoxysilanes; ammonia, amines, Examples thereof include nitrogen-containing electron donors such as nitrile and isocyanate.

助触媒として、アルミニウム−炭素結合あるいはアルミニウム−水素結合を少なくとも1つ含有する化合物から選ばれた少なくとも1種の有機アルミニウム化合物が用いられる。   As the promoter, at least one organoaluminum compound selected from compounds containing at least one aluminum-carbon bond or aluminum-hydrogen bond is used.

付加重合反応において、たとえば触媒としてバナジウム化合物を用いる場合、バナジウム化合物と有機アルミニウム化合物の比率は、バナジウム原子に対するアルミニウム原子の比(Al/V)が2以上であり、好ましくは2〜50、特に好ましくは3〜20が望ましい。   In the addition polymerization reaction, for example, when a vanadium compound is used as a catalyst, the ratio of the vanadium compound to the organoaluminum compound is such that the ratio of aluminum atom to vanadium atom (Al / V) is 2 or more, preferably 2 to 50, particularly preferably. 3-20 are desirable.

(重合反応用溶媒および分子量調節方法)
付加重合反応に使用される重合反応用溶媒は、開環重合反応に用いられる溶媒と同じものを使用することができる。また、得られる飽和共重合体の分子量の調節は、通常、水素を用いて行われる。
(Solvent for polymerization reaction and molecular weight adjustment method)
As the solvent for the polymerization reaction used in the addition polymerization reaction, the same solvent as that used in the ring-opening polymerization reaction can be used. Moreover, the molecular weight of the resulting saturated copolymer is usually adjusted using hydrogen.

〔付加型(共)重合体およびその水素添加(共)重合体〕
前記環状オレフィン系樹脂として、前記多環式単量体、ビニル系環状炭化水素単量体およびシクロペンタジエン系単量体から選ばれる1種以上の単量体の付加型(共)重合体およびその水素添加(共)重合体も使用できる。
[Additional (co) polymers and their hydrogenated (co) polymers]
As the cyclic olefin resin, an addition type (co) polymer of at least one monomer selected from the polycyclic monomer, vinyl cyclic hydrocarbon monomer, and cyclopentadiene monomer, and its Hydrogenated (co) polymers can also be used.

(ビニル系環状炭化水素単量体)
ビニル系環状炭化水素単量体としては、たとえば、4−ビニルシクロペンテン、2−メチルー4−イソプロペニルシクロペンテンなどのビニルシクロペンテン系単量体;4−ビニルシクロペンタン、4−イソプロペニルシクロペンタンなどのビニルシクロペンタン系単量体などのビニル化5員環炭化水素系単量体;4−ビニルシクロヘキセン、4−イソプロペニルシクロヘキセン、1−メチル−4−イソプロペニルシクロヘキセン、2−メチル−4−ビニルシクロヘキセン、2−メチル−4−イソプロペニルシクロヘキセンなどのビニルシクロヘキセン系単量体;4−ビニルシクロヘキサン、2−メチル−4−イソプロペニルシクロヘキサンなどのビニルシクロヘキサン系単量体;スチレン、α―メチルスチレン、2−メチルスチレン、3−メチルスチレン、4−メチルスチレン、1−ビニルナフタレン、2−ビニルナフタレン、4−フェニルスチレン、p−メトキシスチレンなどのスチレン系単量体;d−テルペン、1−テルペン、ジテルペン、d−リモネン、1−リモネン
、ジペンテンなどのテルペン系単量体;4−ビニルシクロヘプテン、4−イソプロペニルシクロヘプテンなどのビニルシクロヘプテン系単量体;4−ビニルシクロヘプタン、4−イソプロペニルシクロヘプタンなどのビニルシクロヘプタン系単量体などが挙げられる。これらのうち、スチレン、α−メチルスチレンが好ましい。これらは、1種単独で、または2種以上を組み合わせて用いることができる。
(Vinyl cyclic hydrocarbon monomer)
Examples of the vinyl cyclic hydrocarbon monomer include vinyl cyclopentene monomers such as 4-vinylcyclopentene and 2-methyl-4-isopropenylcyclopentene; vinyl such as 4-vinylcyclopentane and 4-isopropenylcyclopentane. Vinylated 5-membered hydrocarbon monomers such as cyclopentane monomers; 4-vinylcyclohexene, 4-isopropenylcyclohexene, 1-methyl-4-isopropenylcyclohexene, 2-methyl-4-vinylcyclohexene, Vinylcyclohexene monomers such as 2-methyl-4-isopropenylcyclohexene; vinylcyclohexane monomers such as 4-vinylcyclohexane and 2-methyl-4-isopropenylcyclohexane; styrene, α-methylstyrene, 2- Methylstyrene, 3- Styrenic monomers such as styrene styrene, 4-methylstyrene, 1-vinylnaphthalene, 2-vinylnaphthalene, 4-phenylstyrene, p-methoxystyrene; d-terpene, 1-terpene, diterpene, d-limonene, 1- Terpene monomers such as limonene and dipentene; vinylcycloheptene monomers such as 4-vinylcycloheptene and 4-isopropenylcycloheptene; 4-vinylcycloheptane, 4-isopropenylcycloheptane and the like And vinyl cycloheptane monomers. Of these, styrene and α-methylstyrene are preferred. These can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

(シクロペンタジエン系単量体)
シクロペンタジエン系単量体としては、たとえばシクロペンタジエン、1−メチルシクロペンタジエン、2−メチルシクロペンタジエン、2−エチルシクロペンタジエン、5−メチルシクロペンタジエン、5,5−メチルシクロペンタジエンなどが挙げられる。これらのうち、シクロペンタジエンが好ましい。これらは、1種単独で、または2種以上を組み合わせて用いることができる。
(Cyclopentadiene monomer)
Examples of the cyclopentadiene monomer include cyclopentadiene, 1-methylcyclopentadiene, 2-methylcyclopentadiene, 2-ethylcyclopentadiene, 5-methylcyclopentadiene, 5,5-methylcyclopentadiene, and the like. Of these, cyclopentadiene is preferred. These can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

(付加重合反応および水素添加反応)
前記多環式単量体、ビニル系環状炭化水素単量体およびシクロペンタジエン系単量体から選ばれる1種以上の単量体の付加重合反応は、上述した飽和共重合体における付加重合反応と同様の方法により実施することができる。また、この付加型(共)重合体の水素添加(共)重合体は、上述した開環(共)重合体の水素添加(共)重合体と同様の水添方法により得ることができる。
(Addition polymerization reaction and hydrogenation reaction)
The addition polymerization reaction of at least one monomer selected from the polycyclic monomer, vinyl cyclic hydrocarbon monomer and cyclopentadiene monomer is the addition polymerization reaction in the above-mentioned saturated copolymer. The same method can be used. The hydrogenated (co) polymer of this addition type (co) polymer can be obtained by the same hydrogenation method as the hydrogenated (co) polymer of the ring-opening (co) polymer described above.

〔交互共重合体〕
環状オレフィン系樹脂として、前記多環式単量体とアクリレートとの交互共重合体も使用できる。ここで、「交互共重合体」とは、前記多環式単量体に由来する構造単位は、必ずアクリレートに由来する構造単位に隣接する構造を有する共重合体を意味する。ただし、アクリレート由来の構造単位同士が隣接する構造を否定するものではない。すなわち、アクリレート由来の構造単位同士は隣接してもよいが、前記多環式単量体に由来する構造単位同士は隣接しない構造を有する共重合体を意味する。
[Alternate copolymer]
As the cyclic olefin resin, an alternating copolymer of the polycyclic monomer and acrylate can also be used. Here, the “alternate copolymer” means a copolymer in which the structural unit derived from the polycyclic monomer always has a structure adjacent to the structural unit derived from acrylate. However, this does not deny a structure in which acrylate-derived structural units are adjacent to each other. That is, it means a copolymer having a structure in which acrylate-derived structural units may be adjacent to each other but structural units derived from the polycyclic monomer are not adjacent to each other.

(アクリレート)
アクリレートとしては、たとえば、メチルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート等の炭素原子数1〜20の直鎖状、分岐状または環状アルキルアクリレート;グリシジルアクリレート、2−テトラヒドロフルフリルアクリレート等の炭素原子数2〜20の複素環基含有アクリレート;ベンジルアクリレート等の炭素原子数6〜20の芳香族環基含有アクリレート;イソボロニルアクリレート、ジシクロペンタニルアクリレート等炭素数7〜30の多環構造を有するアクリレートが挙げられる。
(Acrylate)
Examples of the acrylate include linear, branched or cyclic alkyl acrylates having 1 to 20 carbon atoms such as methyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, and cyclohexyl acrylate; carbon atoms such as glycidyl acrylate and 2-tetrahydrofurfuryl acrylate. 2-20 heterocyclic group-containing acrylate; benzyl acrylate and other aromatic ring group-containing acrylates such as benzyl acrylate; isobornyl acrylate, dicyclopentanyl acrylate, etc. having a polycyclic structure of 7-30 carbon atoms An acrylate is mentioned.

(交互共重合体の重合方法)
前記多環式単量体とアクリレートとの交互共重合体は、ルイス酸存在下、前記多環式単量体とアクリレートとの合計量100モルに対して、通常、前記多環式単量体が30〜70モル、アクリレートが70〜30モルの割合で、好ましくは前記多環式単量体が40〜60モル、アクリレートが60〜40モル割合で、特に好ましくは前記多環式単量体が45〜55モル、アクリレートが55〜45モルの割合でラジカル重合することによって得ることができる。
(Alternating copolymer polymerization method)
In the presence of a Lewis acid, the alternating copolymer of the polycyclic monomer and acrylate is usually the polycyclic monomer with respect to a total amount of 100 mol of the polycyclic monomer and acrylate. Is 30 to 70 mol, acrylate is 70 to 30 mol, preferably 40 to 60 mol of the polycyclic monomer and acrylate is 60 to 40 mol, particularly preferably the polycyclic monomer. Can be obtained by radical polymerization at a ratio of 45 to 55 mol and acrylate of 55 to 45 mol.

ルイス酸の量は、アクリレート100モルに対して0.001〜1モルとなる量である。また、フリーラジカルを発生する公知の有機過酸化物または公知のアゾビス系ラジカル重合開始剤を用いることができる。重合反応温度は、通常、−20℃〜80℃、好ましくは5℃〜60℃である。また、重合反応用溶媒には、開環重合反応に用いられる溶媒と同じものを使用することができる。   The amount of the Lewis acid is 0.001 to 1 mol per 100 mol of acrylate. Also, a known organic peroxide that generates free radicals or a known azobis-based radical polymerization initiator can be used. The polymerization reaction temperature is usually -20 ° C to 80 ° C, preferably 5 ° C to 60 ° C. Moreover, the same solvent as used for the ring-opening polymerization reaction can be used as the solvent for the polymerization reaction.

本発明に用いられる環状オレフィン系樹脂は、固有粘度〔η〕inhが0.2〜5dl/
g、さらに好ましくは0.3〜3dl/g、特に好ましくは0.4〜1.5dl/gであり、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)で測定したポリスチレン換算の数平均分子量(Mn)が8,000〜100,000、さらに好ましくは10,000〜80,000、特に好ましくは12,000〜50,000であり、重量平均分子量(Mw)が20,000〜300,000、さらに好ましくは30,000〜250,000、特に好ましくは40,000〜200,000のものが好適である。固有粘度〔η〕inh、数平均分子量および重量平均分子量が上記範囲にあると、環状オレフィン系樹脂の耐
熱性、耐水性、耐薬品性、機械的特性と、この環状オレフィン系樹脂のフィルムを位相差素子の基材として使用したときの透過光の位相差の安定性とのバランスが良好となる。
The cyclic olefin resin used in the present invention has an intrinsic viscosity [η] inh of 0.2 to 5 dl /
g, more preferably 0.3 to 3 dl / g, particularly preferably 0.4 to 1.5 dl / g, and the number average molecular weight (Mn) in terms of polystyrene measured by gel permeation chromatography (GPC) is 8. 1,000 to 100,000, more preferably 10,000 to 80,000, particularly preferably 12,000 to 50,000, and a weight average molecular weight (Mw) of 20,000 to 300,000, more preferably 30. From 50,000 to 250,000, particularly preferably from 40,000 to 200,000 is preferred. When the intrinsic viscosity [η] inh , number average molecular weight and weight average molecular weight are in the above ranges, the heat resistance, water resistance, chemical resistance, mechanical properties of the cyclic olefin resin and the film of the cyclic olefin resin are determined. The balance with the stability of the phase difference of transmitted light when used as a base material of a phase difference element becomes good.

前記環状オレフィン系樹脂のガラス転移温度(Tg)は、通常100℃以上、好ましくは120〜350℃、さらに好ましくは130〜250℃、特に好ましくは140〜200℃である。Tgが上記下限未満の場合は、光源やその他の隣接部品からの熱により、得られる位相差素子の光学特性の変化が大きくなることがある。また、Tgが上記上限を超えると、この環状オレフィン系樹脂からなる基材を、延伸加工など、Tg付近の温度まで加熱して加工する場合に樹脂が熱劣化する可能性が高くなる。   The glass transition temperature (Tg) of the cyclic olefin-based resin is usually 100 ° C. or higher, preferably 120 to 350 ° C., more preferably 130 to 250 ° C., and particularly preferably 140 to 200 ° C. When Tg is less than the above lower limit, a change in optical characteristics of the obtained retardation element may be increased due to heat from the light source and other adjacent components. Moreover, when Tg exceeds the said upper limit, when heating and processing the base material which consists of this cyclic olefin resin to the temperature of Tg vicinity, such as extending | stretching process, possibility that a resin will carry out thermal degradation will become high.

前記環状オレフィン系樹脂の23℃における飽和吸水率は、好ましくは0.05〜2重量%、さらに好ましくは0.1〜1重量%である。飽和吸水率がこの範囲内にあると、環状オレフィン系樹脂フィルムに均一な光学特性を付与することができ、また、環状オレフィン系樹脂フィルムと位相差膜との密着性が優れ、使用途中で剥離などが発生せず、さらに、酸化防止剤などとの相溶性にも優れ、酸化防止剤などを多量に添加することも可能となる。飽和吸水率が上記下限未満であると、位相差膜や他の透明支持体との密着性が乏しくなり、剥離を生じやすくなり、また、上記上限超えると、環状オレフィン系樹脂フィルムが吸水して寸法変化を起こしやすくなる。なお、上記の飽和吸水率はASTM D570に従い、23℃の水中で1週間浸漬して増加重量を測定することにより得られる値である。   The saturated water absorption rate at 23 ° C. of the cyclic olefin resin is preferably 0.05 to 2% by weight, more preferably 0.1 to 1% by weight. If the saturated water absorption rate is within this range, the cyclic olefin resin film can be imparted with uniform optical characteristics, and the adhesion between the cyclic olefin resin film and the retardation film is excellent, and it is peeled off during use. In addition, it is excellent in compatibility with an antioxidant and the like, and a large amount of an antioxidant can be added. When the saturated water absorption is less than the above lower limit, the adhesion with the retardation film or other transparent support becomes poor, and peeling easily occurs, and when the upper limit is exceeded, the cyclic olefin resin film absorbs water. Dimensional changes are likely to occur. In addition, said saturated water absorption is a value obtained by immersing in 23 degreeC water for 1 week, and measuring an increase weight according to ASTM D570.

前記環状オレフィン系樹脂としては、その光弾性係数(CP)が0〜100(×10-12Pa-1)であり、かつ応力光学係数(CR)が1,500〜4,000(×10-12Pa-1)を満たすものが好適に使用できる。ここで、光弾性係数(CP)および応力光学係数(
R)は、種々の文献(Polymer Journal,Vol.27,No.9,pp 943-950(1995);日本レオロジー学会誌,Vol.19, No.2, pp 93-97(1991);光弾性実験法,日刊工業新聞社,昭和50年第7版)に記載されており公知の事実であり、前者はポリマーがガラス状態での応力による位相差の発生程度を表すのに対し、後者は流動状態での応力による位相差の発生程度を表す。
The cyclic olefin-based resin has a photoelastic coefficient (C P ) of 0 to 100 (× 10 −12 Pa −1 ) and a stress optical coefficient (C R ) of 1,500 to 4,000 (× Those satisfying 10 −12 Pa −1 ) can be preferably used. Here, the photoelastic coefficient (C P ) and the stress optical coefficient (
C R ) is based on various documents (Polymer Journal, Vol. 27, No. 9, pp 943-950 (1995); Journal of the Japanese Society of Rheology, Vol. 19, No. 2, pp 93-97 (1991); This is a well-known fact that is described in Elastic Experimental Method, Nikkan Kogyo Shimbun, 7th edition of 1975. The former represents the degree of phase difference caused by stress in the glass state of the polymer, while the latter Represents the degree of phase difference due to stress in the flow state.

光弾性係数(CP)が大きいことは、ポリマーをガラス状態で使用した場合に外的因子
または自らの凍結した歪みから発生した歪みから発生する応力などにおいて敏感に位相差を発生しやすくなってしまうことを表す。たとえば、温度変化や湿度変化などに伴う材料の収縮により発生する微小な応力によって、不必要な位相差を発生しやすいことを意味する。このことからできるだけ光弾性係数(CP)は小さい方がよい。
The large photoelastic coefficient (C P ) makes it easy to generate a phase difference sensitively to external factors or stress generated from strains generated by freezing strain when the polymer is used in a glass state. It represents that. For example, it means that an unnecessary phase difference is likely to be generated due to a minute stress generated by shrinkage of a material due to a temperature change or a humidity change. From this, it is better that the photoelastic coefficient (C P ) is as small as possible.

一方、応力光学係数(CR)が大きいことは、環状オレフィン系樹脂フィルムに位相差
の発現性を付与する際に少ない延伸倍率で所望の位相差を得られるようになったり、大きな位相差を付与しうるフィルムを得やすくなったり、同じ位相差が必要な場合には応力光学係数(CR)が小さいものと比べてフィルムを薄肉化できるという大きなメリットがあ
る。
On the other hand, a large stress optical coefficient (C R ) means that a desired retardation can be obtained with a small stretch ratio when a cyclic olefin resin film is imparted with retardation, or a large retardation is exhibited. There is a great merit that the film can be thinned compared to a film having a small stress optical coefficient (C R ) when it is easy to obtain a film that can be imparted or when the same retardation is required.

以上のような見地から、光弾性係数(CP)は、好ましくは0〜100(×10-12Pa-1)、さらに好ましくは0〜80(×10-12Pa-1)、特に好ましくは0〜50(×1
-12Pa-1)、より好ましくは0〜30(×10-12Pa-1)、最も好ましくは0〜20(×10-12Pa-1)である。光弾性係数(CP)が上記上限を超えると位相差素子の基材として用いた場合に、位相差膜形成時に発生する応力や位相差素子使用時の環境変化などによって発生する、環状オレフィン系樹脂フィルムの複屈折性の変化のため、位相差素子として使用した時に透過光量が低下してしまうことがある。
From the above viewpoint, the photoelastic coefficient (C P ) is preferably 0 to 100 (× 10 −12 Pa −1 ), more preferably 0 to 80 (× 10 −12 Pa −1 ), and particularly preferably. 0-50 (x1
0 −12 Pa −1 ), more preferably 0 to 30 (× 10 −12 Pa −1 ), and most preferably 0 to 20 (× 10 −12 Pa −1 ). When the photoelastic coefficient (C P ) exceeds the above upper limit, when used as a base material for a phase difference element, a cyclic olefin type is generated due to stress generated during the formation of a phase difference film or environmental changes during use of the phase difference element Due to the change in birefringence of the resin film, the amount of transmitted light may decrease when used as a retardation element.

前記環状オレフィン系樹脂の水蒸気透過度は、40℃,90%RHの条件下で25μm厚のフィルムを形成したとき、通常1〜400g/m2・24hrであり、好ましくは5
〜350g/m2・24hrであり、さらに好ましくは10〜300g/m2・24hrである。水蒸気透過度が上記範囲にあると、位相差素子の基材として使用した場合の粘着剤や接着剤の含有水分による特性変化や、位相差素子が使用される環境の湿度による特性変化を低減・回避することができる。
The water vapor permeability of the cyclic olefin resin is usually 1 to 400 g / m 2 · 24 hr when a film having a thickness of 25 μm is formed under the conditions of 40 ° C. and 90% RH, preferably 5
It is -350g / m < 2 > * 24hr, More preferably, it is 10-300g / m < 2 > * 24hr. When the water vapor transmission rate is in the above range, the characteristic change due to the moisture content of the adhesive or adhesive when used as the base material of the retardation element and the characteristic change due to the humidity of the environment where the retardation element is used are reduced. It can be avoided.

本発明に使用される環状オレフィン系樹脂は、上述した(1)〜(7)の(共)重合体のうちの少なくとも1種の(共)重剛体により構成されるが、これに公知の酸化防止剤、紫外線吸収剤などを添加してさらに安定化することができる。また、加工性を向上させるために、滑剤などの従来の樹脂加工において用いられる添加剤を添加することもできる。   The cyclic olefin resin used in the present invention is composed of at least one (co) heavy rigid body among the (co) polymers of (1) to (7) described above. It can be further stabilized by adding an inhibitor, an ultraviolet absorber or the like. Moreover, in order to improve workability, the additive used in conventional resin processings, such as a lubricant, can also be added.

酸化防止剤としては、たとえば2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノール、2,2’−ジオキシ−3,3’−ジ−t−ブチル−5,5’−ジメチルジフェニルメタン、テトラキス[メチレン−3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]メタンが挙げられる。紫外線吸収剤としては、たとえば2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノンなどが挙げられる。   Examples of the antioxidant include 2,6-di-t-butyl-4-methylphenol, 2,2′-dioxy-3,3′-di-t-butyl-5,5′-dimethyldiphenylmethane, tetrakis [ Methylene-3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate] methane. Examples of the ultraviolet absorber include 2,4-dihydroxybenzophenone and 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone.

また、本発明に使用される環状オレフィン系樹脂は、上述した(1)〜(7)のいずれかの(共)重合体を単独で使用してもよいが、(1)〜(7)の(共)重合体から選択される2種類以上の(共)重合体をブレンドして使用してもよい。ブレンドは押出機などを用いてペレットの状態で混合する手法、溶液の状態で混合する手法などによって行うことができる。   In addition, the cyclic olefin-based resin used in the present invention may use any of the (co) polymers of (1) to (7) described above, but (1) to (7). Two or more kinds of (co) polymers selected from (co) polymers may be blended and used. Blending can be performed by a method of mixing in a pellet state using an extruder or the like, a method of mixing in a solution state, or the like.

本発明において、基材として環状オレフィン系樹脂フィルムを使用する場合には、上記環状オレフィン系樹脂を溶融成形法あるいは溶液流延法(溶剤キャスト法)などによりフィルム状もしくはシート状にして使用する。このうち、膜厚の均一性および表面平滑性が良好になる点から溶剤キャスト法が好ましい。   In the present invention, when a cyclic olefin-based resin film is used as the substrate, the cyclic olefin-based resin is used in the form of a film or a sheet by a melt molding method or a solution casting method (solvent casting method). Of these, the solvent casting method is preferred from the viewpoint of good film thickness uniformity and surface smoothness.

溶剤キャスト法により環状オレフィン系樹脂フィルムを得る方法は特に限定されるものではなく、公知の方法を適用すればよい。たとえば、前記環状オレフィン系樹脂を溶媒に溶解または分散させて適度の濃度の溶液にし、適当なキャリヤー上に注いだり、または塗布した後、これを乾燥してキャリヤーから剥離させる方法が挙げられる。   The method for obtaining the cyclic olefin-based resin film by the solvent casting method is not particularly limited, and a known method may be applied. For example, there may be mentioned a method in which the cyclic olefin resin is dissolved or dispersed in a solvent to form a solution with an appropriate concentration, poured onto a suitable carrier, or coated, and then dried and peeled off from the carrier.

以下に、溶剤キャスト法により環状オレフィン系樹脂フィルムを得る方法の諸条件を示すが、本発明は係る諸条件に限定されるものではない。   Below, although various conditions of the method of obtaining a cyclic olefin resin film by a solvent cast method are shown, this invention is not limited to these conditions.

環状オレフィン系樹脂を溶媒に溶解または分散させる際には、この樹脂の濃度を、通常は0.1〜90重量%、好ましくは1〜50重量%、さらに好ましくは10〜35重量%にする。樹脂の濃度を上記下限未満にするとフィルムの厚みを確保することが困難になり、また、溶媒蒸発に伴う発泡などによりフィルムの表面平滑性が得にくくなるなどの問題
が生じる。一方、上記上限を超えた濃度にすると溶液粘度が高くなりすぎて得られる環状オレフィン系樹脂フィルムの厚みや表面が均一になりにくくなる。
When the cyclic olefin-based resin is dissolved or dispersed in a solvent, the concentration of the resin is usually 0.1 to 90% by weight, preferably 1 to 50% by weight, and more preferably 10 to 35% by weight. If the resin concentration is less than the above lower limit, it becomes difficult to ensure the thickness of the film, and problems such as difficulty in obtaining the surface smoothness of the film due to foaming due to solvent evaporation and the like arise. On the other hand, if the concentration exceeds the above upper limit, the solution viscosity becomes too high and the thickness and surface of the cyclic olefin resin film obtained are difficult to be uniform.

また、室温での上記溶液の粘度は、通常は1〜1,000,000mPa・s、好ましくは10〜100,000mPa・s、さらに好ましくは100〜50,000mPa・s、特に好ましくは1,000〜40,000mPa・sである。   The viscosity of the solution at room temperature is usually 1 to 1,000,000 mPa · s, preferably 10 to 100,000 mPa · s, more preferably 100 to 50,000 mPa · s, and particularly preferably 1,000. ˜40,000 mPa · s.

使用する溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族系溶媒;メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、1−メトキシ−2−プロパノールなどのセロソルブ系溶媒;ジアセトンアルコール、アセトン、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、4−メチル−2−ペンタノンなどのケトン系溶媒;乳酸メチル、乳酸エチルなどのエステル系溶媒;シクロヘキサノン、エチルシクロヘキサノン、1,2−ジメチルシクロヘキサンなどのシクロオレフィン系溶媒;2,2,3,3−テトラフルオロ−1−プロパノール、塩化メチレン、クロロホルムなどのハロゲン含有溶媒;テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル系溶媒;1−ペンタノール、1−ブタノールなどのアルコール系溶媒を挙げることができる。   Solvents used include aromatic solvents such as benzene, toluene and xylene; cellosolve solvents such as methyl cellosolve, ethyl cellosolve and 1-methoxy-2-propanol; diacetone alcohol, acetone, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, 4-methyl Ketone solvents such as 2-pentanone; ester solvents such as methyl lactate and ethyl lactate; cycloolefin solvents such as cyclohexanone, ethylcyclohexanone and 1,2-dimethylcyclohexane; 2,2,3,3-tetrafluoro- Examples thereof include halogen-containing solvents such as 1-propanol, methylene chloride and chloroform; ether solvents such as tetrahydrofuran and dioxane; alcohol solvents such as 1-pentanol and 1-butanol.

また、上記以外の溶媒であっても、溶解度パラメーター(SP値)が、好ましくは10〜30(MPa1/2)、さらに好ましくは10〜25(MPa1/2)、特に好ましくは15〜25(MPa1/2)、最も好ましくは15〜20(MPa1/2)の範囲にある溶媒を使用すれば、表面均一性と光学特性の良好な環状オレフィン系樹脂フィルムを得ることができる。 Moreover, even if it is a solvent other than the above, the solubility parameter (SP value) is preferably 10 to 30 (MPa 1/2 ), more preferably 10 to 25 (MPa 1/2 ), and particularly preferably 15 to 25. If a solvent in the range of (MPa 1/2 ), most preferably 15 to 20 (MPa 1/2 ) is used, a cyclic olefin resin film having good surface uniformity and optical properties can be obtained.

上記溶媒は単独でもしくは複数を混合して使用することができる。混合して使用する場合には、混合溶媒のSP値が上記範囲内にあることが好ましい。混合溶媒のSP値のSP値は、溶媒の重量比で予測することができ、たとえば2種類の溶媒(溶媒1と溶媒2)を混合する場合には、それぞれの重量分率をW1,W2、SP値をSP1,SP2とすると混合溶媒のSP値は下記式により算出できる。 The said solvent can be used individually or in mixture of multiple. When mixed and used, the SP value of the mixed solvent is preferably within the above range. The SP value of the mixed solvent can be predicted by the weight ratio of the solvent. For example, when two kinds of solvents (solvent 1 and solvent 2) are mixed, the weight fractions are expressed as W 1 , W 2, SP value SP value of the mixed solvent with the SP 1, SP 2 can be calculated by the following equation.

SP値=W1・SP1+W2・SP2
環状オレフィン系樹脂フィルムを溶剤キャスト法により製造する方法としては、上記溶液をダイスやコーターを使用して、金属ドラム、スチールベルト、ポリエチレンテレフタレート(PET)やポリエチレンナフタレート(PEN)などのポリエステルフィルム、テフロン(R)ベルトなどの支持体の上に塗布し、その後、溶剤を乾燥して支持体よりフィルムを剥離する方法が挙げられる。また、スプレー、ハケ、ロールスピンコート、デッピングなどで溶液を支持体に塗布し、その後、溶剤を乾燥して支持体よりフィルムを剥離して製造することもできる。なお、繰り返し塗布することにより厚みや表面平滑性などを制御することができる。
SP value = W 1 · SP 1 + W 2 · SP 2
As a method for producing a cyclic olefin-based resin film by a solvent casting method, the above solution is used with a die or a coater, a metal drum, a steel belt, a polyester film such as polyethylene terephthalate (PET) or polyethylene naphthalate (PEN), The method of apply | coating on support bodies, such as a Teflon (R) belt, and drying a solvent after that and peeling a film from a support body is mentioned. Alternatively, the solution can be applied to the support by spraying, brushing, roll spin coating, dipping, etc., and then the solvent is dried to peel the film from the support. In addition, thickness, surface smoothness, etc. are controllable by apply | coating repeatedly.

上記溶剤キャスト法の乾燥工程については、特に制限はなく一般的に用いられる方法、たとえば多数のローラーを介して乾燥炉中を通過させる方法などにより実施できるが、乾燥工程における溶媒の蒸発に伴い気泡が発生すると、フィルムの特性を著しく低下させることから、これを避けるために乾燥工程を2段以上の複数工程とし、各工程において温度または風量を適宜制御することが好ましい。   The drying process of the solvent casting method is not particularly limited and can be carried out by a generally used method, for example, a method of passing through a drying furnace through a large number of rollers. If this occurs, the characteristics of the film are remarkably deteriorated. Therefore, in order to avoid this, it is preferable to make the drying process into a plurality of processes of two or more stages and to appropriately control the temperature or the air volume in each process.

環状オレフィン系樹脂フィルム中の残留溶媒量は、通常10重量%以下、好ましくは5重量%以下、さらに好ましくは1重量%以下、特に好ましくは0.5重量%以下である。残留溶媒量が上記上限を超えると、環状オレフィン系樹脂フィルムの寸法の経時変化が大きくなることがある。また、残留溶媒によりTgが低くなり、耐熱性も低下することがある。   The amount of residual solvent in the cyclic olefin-based resin film is usually 10% by weight or less, preferably 5% by weight or less, more preferably 1% by weight or less, and particularly preferably 0.5% by weight or less. When the residual solvent amount exceeds the above upper limit, the change with time of the dimensions of the cyclic olefin-based resin film may become large. In addition, the residual solvent may lower Tg and reduce heat resistance.

また、後述する延伸工程を好適に行うためには、環状オレフィン系樹脂フィルムは微量の残留溶媒を含有する必要がある場合がある。具体的には、延伸配向により、位相差を安定して均一に発現するフィルムを得るために、残留溶媒量を通常は10〜0.1重量%、好ましくは5〜0.1重量%、さらに好ましくは1〜0.1重量%にすることがある。微量の溶媒を残留させることにより、延伸加工が容易になったり、位相差発現性の制御が容易になることがある。   Moreover, in order to perform the extending | stretching process mentioned later suitably, a cyclic olefin resin film may need to contain a trace amount residual solvent. Specifically, in order to obtain a film in which the retardation is stably and uniformly expressed by stretching orientation, the residual solvent amount is usually 10 to 0.1% by weight, preferably 5 to 0.1% by weight, Preferably it may be 1 to 0.1% by weight. By leaving a trace amount of solvent, stretching may be facilitated, and the control of retardation development may be facilitated.

環状オレフィン系樹脂フィルムの厚さは、通常は1〜500μm、好ましくは10〜300μm、さらに好ましくは30〜100μmである。フィルムの厚さが上記下限未満にあると実質的にハンドリングが困難となる。また、フィルムの厚さが上記上限を超えるとロール状に巻き取ることが困難になるとともに、光の透過率が低下することがある。   The thickness of the cyclic olefin resin film is usually 1 to 500 μm, preferably 10 to 300 μm, and more preferably 30 to 100 μm. If the thickness of the film is less than the above lower limit, handling becomes substantially difficult. Moreover, when the thickness of the film exceeds the above upper limit, it becomes difficult to wind in a roll shape, and the light transmittance may be lowered.

位相差素子の基材として使用される環状オレフィン系樹脂フィルムは、位相差フィルムとして使用することもでき、上記方法によって得た環状オレフィン系樹脂フィルムを延伸加工したものが好適に使用される。具体的には、公知の一軸延伸法あるいは二軸延伸法により製造することができる。すなわち、テンター法による横一軸延伸法、ロール間圧縮延伸法、周遠の異なるロールを利用する縦一軸延伸法など、または横一軸と縦一軸を組み合わせた二軸延伸法、インフレーション法による延伸法などを用いることができる。   The cyclic olefin resin film used as the base material of the retardation element can also be used as a retardation film, and a cyclic olefin resin film obtained by the above method is preferably used. Specifically, it can be produced by a known uniaxial stretching method or biaxial stretching method. That is, a horizontal uniaxial stretching method using a tenter method, a compression stretching method between rolls, a longitudinal uniaxial stretching method using rolls with different circumferences, a biaxial stretching method combining a horizontal uniaxial and a longitudinal uniaxial, a stretching method using an inflation method, etc. Can be used.

一軸延伸法の場合、延伸速度は通常は1〜5,000%/分であり、好ましくは50〜1,000%/分であり、さらに好ましくは100〜1,000%/分であり、特に好ましくは100〜500%/分である。   In the case of the uniaxial stretching method, the stretching speed is usually 1 to 5,000% / minute, preferably 50 to 1,000% / minute, more preferably 100 to 1,000% / minute, Preferably, it is 100 to 500% / min.

二軸延伸法では、同時2方向に延伸を行う方法や一軸延伸後に最初の延伸方向と異なる方向に延伸処理する方法がある。これらの方法では、2つの延伸軸の交わり角度は、通常は120〜60度の範囲である。また、延伸速度は各延伸方向で同じであっても、異なっていてもよく、通常は1〜5,000%/分であり、好ましくは50〜1,000%/分であり、さらに好ましくは100〜1,000%/分であり、特に好ましくは100〜500%/分である。   In the biaxial stretching method, there are a method of simultaneously stretching in two directions and a method of stretching in a direction different from the initial stretching direction after uniaxial stretching. In these methods, the intersecting angle of the two stretching axes is usually in the range of 120 to 60 degrees. The stretching speed may be the same or different in each stretching direction, and is usually 1 to 5,000% / min, preferably 50 to 1,000% / min, more preferably 100 to 1,000% / min, particularly preferably 100 to 500% / min.

延伸加工温度は特に限定されるものではないが、上述した環状オレフィン系樹脂のガラス転移温度(Tg)を基準として、通常はTg±30℃、好ましくはTg±10℃、さらに好ましくはTg−5〜Tg+10℃の範囲である。延伸加工温度を上記範囲内とすると位相差ムラの発生を抑えることができ、また、屈折率楕円体の制御が容易になる。   The stretching temperature is not particularly limited, but is usually Tg ± 30 ° C., preferably Tg ± 10 ° C., more preferably Tg-5, based on the glass transition temperature (Tg) of the above-mentioned cyclic olefin resin. It is the range of -Tg + 10 degreeC. When the stretching temperature is within the above range, the occurrence of unevenness in retardation can be suppressed, and the control of the refractive index ellipsoid is facilitated.

延伸倍率は、所望する特性により決定されるため特に限定はされないが、通常は1.01〜10倍、好ましくは1.1〜5倍、さらに好ましくは1.1〜3倍である。延伸倍率が10倍を超える場合、位相差の制御が困難になることがある。   The draw ratio is not particularly limited because it is determined by the desired properties, but is usually 1.01 to 10 times, preferably 1.1 to 5 times, and more preferably 1.1 to 3 times. When the draw ratio exceeds 10 times, it may be difficult to control the phase difference.

延伸したフィルムは、そのまま冷却してもよいが、Tg−20℃〜Tgの温度雰囲気下に少なくとも10秒以上、好ましくは30秒〜60分、さらに好ましくは1分〜60分静置することが好ましい。これにより、位相差特性の経時変化が少なく安定した環状オレフィン系樹脂フィルムからなる位相差フィルムを得ることができる。   The stretched film may be cooled as it is, but it is allowed to stand in a temperature atmosphere of Tg-20 ° C. to Tg for at least 10 seconds, preferably 30 seconds to 60 minutes, more preferably 1 minute to 60 minutes. preferable. Thereby, the retardation film which consists of a cyclic olefin-type resin film with few retardation changes with time, and stable can be obtained.

環状オレフィン系樹脂フィルムの線膨張係数は、温度20℃から100℃の範囲において、好ましくは1×10-4(1/℃)以下であり、さらに好ましくは9×10-5(1/℃)以下であり、特に好ましくは8×10-5(1/℃)以下であり、最も好ましくは7×10-5(1/℃)以下である。また、環状オレフィン系樹脂製の位相差フィルムの場合には、延伸方向とそれに垂直方向の線膨張係数差が好ましくは5×10-5(1/℃)以下であ
り、さらに好ましくは3×10-5(1/℃)以下であり、特に好ましくは1×10-5(1/℃)以下である。線膨張係数を上記範囲内にすると、環状オレフィン系樹脂フィルムからなる位相差フィルムを位相差素子の基材をして使用した場合、使用時の温度および湿度などによる応力変化が及ぼす透過光の位相差変化が抑えられるとともに位相差膜との密着性が良好に保持され、長期にわたり安定した光学特性を有する位相差素子を得ることができる。
The linear expansion coefficient of the cyclic olefin resin film is preferably 1 × 10 −4 (1 / ° C.) or less, more preferably 9 × 10 −5 (1 / ° C.) in the temperature range of 20 ° C. to 100 ° C. Or less, particularly preferably 8 × 10 −5 (1 / ° C.) or less, and most preferably 7 × 10 −5 (1 / ° C.) or less. In the case of a retardation film made of a cyclic olefin resin, the difference in linear expansion coefficient between the stretching direction and the direction perpendicular thereto is preferably 5 × 10 −5 (1 / ° C.) or less, more preferably 3 × 10. -5 (1 / ° C) or less, particularly preferably 1 × 10 -5 (1 / ° C) or less. When the linear expansion coefficient is within the above range, when a retardation film made of a cyclic olefin-based resin film is used as a base material for a retardation element, the level of transmitted light affected by changes in stress due to temperature, humidity, etc. during use. It is possible to obtain a retardation element that suppresses a change in phase difference and maintains good adhesion with a retardation film and has stable optical characteristics over a long period of time.

上記のようにして延伸したフィルムは、延伸により分子が配向し、透過光に位相差を与えるようになるが、この位相差の付与性能は、延伸前のフィルムの位相差値と延伸倍率、延伸温度、延伸配向後のフィルムの厚さにより制御することができる。   The film stretched as described above has molecules oriented by stretching and gives a retardation to transmitted light. The retardation imparting performance depends on the retardation value and stretching ratio of the film before stretching. It can be controlled by the temperature and the thickness of the film after stretching orientation.

延伸前のフィルムが一定の厚さの場合、延伸倍率が大きいフィルムほど位相差の絶対値が大きくなる傾向があるので、延伸倍率を変更することによって所望の位相差値の位相差フィルムを得ることができる。   When the film before stretching has a certain thickness, the larger the stretching ratio, the larger the absolute value of the retardation. Therefore, the retardation film having a desired retardation value can be obtained by changing the stretching ratio. Can do.

本発明に用いられる環状オレフィン系樹脂フィルムからなる位相差フィルムの光線波長590nmのフィルム面内における位相差値は、好ましくは1〜3,000nm、さらに好ましくは10〜1,000nm、特に好ましくは50〜500nmである。また、厚み方向の位相差値は、好ましくは1〜1000nm、さらに好ましくは10〜500nm、特に好ましくは50〜250nmである。   The retardation value in the film plane with a light wavelength of 590 nm of the retardation film made of the cyclic olefin resin film used in the present invention is preferably 1 to 3,000 nm, more preferably 10 to 1,000 nm, and particularly preferably 50. ~ 500 nm. Further, the thickness direction retardation value is preferably 1 to 1000 nm, more preferably 10 to 500 nm, and particularly preferably 50 to 250 nm.

<偏光板>
本発明に係る偏光板は、保護フィルム(a)と偏光膜(b)と保護フィルム(c)とをこの順で積層して得られる偏光板であって、保護フィルム(a)および/または(c)が前記位相差膜または前記位相差素子からなる偏光板である。また、本発明に係る偏光板は、上述した位相差膜および位相差素子と同様に、少なくともその片面に透明導電層を積層することもでき、このとき、接着層やアンカーコート層を形成することもできる。
<Polarizing plate>
The polarizing plate according to the present invention is a polarizing plate obtained by laminating a protective film (a), a polarizing film (b), and a protective film (c) in this order, and the protective film (a) and / or ( c) is a polarizing plate comprising the retardation film or the retardation element. In addition, the polarizing plate according to the present invention can also have a transparent conductive layer laminated on at least one surface thereof, like the above-described retardation film and retardation element, and at this time, an adhesive layer and an anchor coat layer are formed. You can also.

本発明に用いられる偏光膜(b)は、たとえば、ポリビニルアルコール(PVA)やPVAの一部をホルマル化したポリマーなどからなるフィルムに、ヨウ素や二色性染料などからなる二色性物質による染色処理、延伸処理、架橋処理などを適当な順序や方法で施して得られるフィルムであって、自然光を入射させると直線偏光となって透過するものである。特に、光の透過率が高く、偏光度の優れたものが好ましく用いられる。偏光膜(b)の厚さは、一般に5〜80μmのものが好適に使用されるが、本発明ではこれに限定されない。また、偏光膜(b)としては、上記PVA系フィルムの他に、同様の特性を発現するものであれば他のものを使用してもよい。たとえば、環状オレフィン系樹脂からなるフィルムに、染色処理、延伸処理、架橋処理などを適当な順序や方法で施したものでもよい。   The polarizing film (b) used in the present invention is, for example, a film made of polyvinyl alcohol (PVA) or a polymer obtained by formalizing a part of PVA with a dichroic substance made of iodine or a dichroic dye. It is a film obtained by performing treatment, stretching treatment, crosslinking treatment, etc. in an appropriate order and method, and is transmitted as linearly polarized light when natural light is incident thereon. In particular, those having a high light transmittance and an excellent degree of polarization are preferably used. In general, the thickness of the polarizing film (b) is preferably 5 to 80 μm, but is not limited to this in the present invention. As the polarizing film (b), in addition to the PVA-based film, other films may be used as long as they exhibit similar characteristics. For example, a film made of a cyclic olefin resin may be subjected to a dyeing process, a stretching process, a crosslinking process, and the like in an appropriate order and method.

保護フィルム(a)および(c)のいずれか一方にのみ前記位相差膜または前記位相差素子を使用した場合、残りの保護フィルムとしては、透明性や機械的強度、熱安定性や水分遮蔽性などに優れるポリマーからなるフィルムなどが好ましく用いられる。たとえば、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース(TAC)などのセルロース系フィルム;ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンイソフタレート、ポリブチレンテレフタレートなどのポリエステル系フィルム;ポリメチル(メタ)アクリレート、ポリエチル(メタ)アクリレートなどのアクリル樹脂系フィルム;ポリカーボネート系フィルム、ポリエーテルスルホン系フィルム、ポリスルホン系フィルム、ポリイミド系フィルム、環状オレフィン系樹脂フィルムなどを用いることができる。これらのフィルムは、溶液流延法(キャスティング法)または溶融成形法などにより好適に製造することができる。また、この保護フィルムの厚さは、通常20〜250μm、好ましくは30〜100μmである。   When the retardation film or the retardation element is used for only one of the protective films (a) and (c), the remaining protective film includes transparency, mechanical strength, thermal stability and moisture shielding properties. A film made of a polymer excellent in the above is preferably used. For example, cellulose films such as diacetyl cellulose and triacetyl cellulose (TAC); polyester films such as polyethylene terephthalate, polyethylene isophthalate and polybutylene terephthalate; acrylic resin films such as polymethyl (meth) acrylate and polyethyl (meth) acrylate A polycarbonate film, a polyethersulfone film, a polysulfone film, a polyimide film, a cyclic olefin resin film, and the like can be used. These films can be suitably produced by a solution casting method (casting method) or a melt molding method. Moreover, the thickness of this protective film is 20-250 micrometers normally, Preferably it is 30-100 micrometers.

このようなフィルムのうち、偏光板が有する耐湿性、耐熱性および光学特性をさらに向上させることができるとともに、偏光板に対する接着性に優れているという観点から、前記保護フィルム(a)および(b)のうちの少なくとも一方に環状オレフィン系樹脂からなるフィルムを用いることが好ましく、両方の保護フィルムに環状オレフィン系樹脂からなるフィルムを用いることが特に好ましい。   Among such films, the protective films (a) and (b) can be further improved from the viewpoint that the polarizing plate can further improve the moisture resistance, heat resistance and optical properties of the polarizing plate, and is excellent in adhesion to the polarizing plate. ) Is preferably used as a film made of a cyclic olefin resin, and it is particularly preferable to use a film made of a cyclic olefin resin for both protective films.

また、本発明に係る偏光板は、さらに偏光板の片面または両面に各種機能層を設けることができる。機能層としては、たとえば。感圧接着剤層、アンチグレア層、ハードコート層、アンチリフレクション層、ハーフリフレクション層、反射層、蓄光層、拡散層、エレクトロルミネッセンス層などが挙げられる。、これらの機能層は、各種2層以上を組み合わせて設置することもでき、たとえば、アンチグレア層とアンチリフレクション層、蓄光層と反射層、蓄光層と光拡散層などの組み合わせが挙げられる。機能層の組み合わせについては、これらに限定されるものではない。
(偏光板の製造方法)
本発明に係る偏光板は、偏光膜(b)と保護フィルム(a)および(c)とを公知の方法により貼合して製造することができる。本発明では、前記保護フィルム(a)および(c)のうちの少なくとも一方が前記位相差膜または位相差素子であればよい。偏光膜(b)と保護フィルム(a)および(c)とを貼合するために、粘着剤や接着剤を使用することができる。粘着剤、接着剤としては、透明性に優れたものが好ましく、具体的には、天然ゴム、合成ゴム、酢酸ビニル/塩化ビニルコポリマー、ポリビニルエーテル、アクリル系樹脂、変性ポリオレフィン系樹脂等の粘着剤;水酸基、アミノ基等の官能基を有する前記樹脂等にイソシアナート基含有化合物などの硬化剤を添加した硬化型粘着剤;ポリウレタン系のドライラミネート用接着剤;合成ゴム系接着剤;エポキシ系接着剤などが挙げられる。
Further, the polarizing plate according to the present invention can further be provided with various functional layers on one side or both sides of the polarizing plate. For example, as a functional layer. Examples thereof include a pressure-sensitive adhesive layer, an antiglare layer, a hard coat layer, an antireflection layer, a half reflection layer, a reflection layer, a phosphorescent layer, a diffusion layer, and an electroluminescence layer. These functional layers can also be installed in combination of two or more layers, and examples thereof include a combination of an antiglare layer and an antireflection layer, a phosphorescent layer and a reflective layer, a phosphorescent layer and a light diffusion layer, and the like. The combination of functional layers is not limited to these.
(Production method of polarizing plate)
The polarizing plate according to the present invention can be produced by bonding the polarizing film (b) and the protective films (a) and (c) by a known method. In the present invention, at least one of the protective films (a) and (c) may be the retardation film or the retardation element. In order to bond the polarizing film (b) and the protective films (a) and (c), an adhesive or an adhesive can be used. As the pressure-sensitive adhesive and adhesive, those having excellent transparency are preferable. Specifically, pressure-sensitive adhesives such as natural rubber, synthetic rubber, vinyl acetate / vinyl chloride copolymer, polyvinyl ether, acrylic resin, modified polyolefin resin, etc. A curable pressure-sensitive adhesive obtained by adding a curing agent such as an isocyanate group-containing compound to the resin having a functional group such as a hydroxyl group or an amino group; a polyurethane-based dry laminate adhesive; a synthetic rubber-based adhesive; an epoxy-based adhesive Agents and the like.

<実施例>
以下、本発明を実施例により説明するが、本発明は、この実施例により何ら限定されるものではない。なお、「部」および「%」は、特に断りのない限り「重量部」および「重量%」を意味する。
<Example>
EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention, this invention is not limited at all by this Example. “Parts” and “%” mean “parts by weight” and “% by weight” unless otherwise specified.

まず、各物性値の測定方法および物性の評価方法について説明する。   First, a method for measuring each physical property value and a method for evaluating the physical property will be described.

(1)全光線透過率、ヘイズ値:
スガ試験機社製ヘイズメーターHGM−2DP型を使用して測定した。
(1) Total light transmittance, haze value:
Measurement was performed using a haze meter HGM-2DP type manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.

(2)組成物の平均屈折率:
組成物を十分に乾燥して溶剤を除去するとともに硬化させ、2辺の長さが2cmでその2辺のなす角が90°で、かつ厚みが3mmである直角プリズムを作製した。この直角プリズムを用いてカルニュー光学社製屈折率計KPR−200により、波長590nmでの平均屈折率を測定した。電子顕微鏡観察により、この直角プリズムでは無機粒子が規則性なく並んでいることを確認した。
(2) Average refractive index of the composition:
The composition was sufficiently dried to remove the solvent and cured to produce a right-angle prism having two sides of 2 cm, an angle formed by the two sides of 90 °, and a thickness of 3 mm. Using this right angle prism, the average refractive index at a wavelength of 590 nm was measured with a refractometer KPR-200 manufactured by Kalnew Optical Co., Ltd. By observation with an electron microscope, it was confirmed that inorganic particles were arranged in a regular manner in this right-angle prism.

(3)透過光の位相差:
王子計測機器社製KOBRA−21ADHを用いて、透過光の波長590nmにおける膜厚方向の位相差値を測定した。ここで、膜厚方向の位相差値は次式で与えられる。
(3) Phase difference of transmitted light:
The phase difference value in the film thickness direction at a wavelength of 590 nm of transmitted light was measured using KOBRA-21ADH manufactured by Oji Scientific Instruments. Here, the retardation value in the film thickness direction is given by the following equation.

膜厚方向の位相差値=(膜面平行方向の屈折率−膜厚方向の屈折率)×膜厚
(4)位相差膜の膜厚:
無歪みガラス(BK7)上の片面に位相差膜を形成し測定サンプルを作製した。このサ
ンプルの位相差膜が形成されていない面を黒色スプレーで塗りつぶし、裏面からの反射をなくし、大塚電子社製反射分光膜厚計FTM−1000を用いて、反射率を測定し、その結果より位相差膜の膜厚を算出した。
Thickness direction retardation value = (refractive index in film surface parallel direction−refractive index in film thickness direction) × film thickness (4) Thickness of retardation film:
A retardation film was formed on one side of unstrained glass (BK7) to prepare a measurement sample. The surface of the sample where the retardation film is not formed is painted with black spray, the reflection from the back surface is eliminated, and the reflectance is measured using a reflection spectral film thickness meter FTM-1000 manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd. The thickness of the retardation film was calculated.

(5)位相差膜の膜面平行方向の屈折率と膜厚方向の屈折率の差:
得られた位相差膜について王子計測機社製自動複屈折計KOBRA−21ADHと組成物の平均屈折率とを用い、位相差膜の波長590nmにおける3次元屈折率Nx、Ny、Nzを求めた。得られた位相差膜の膜面平行方向と膜厚平行方向の屈折率は次式によって計算した。
(5) The difference between the refractive index in the direction parallel to the film surface of the retardation film and the refractive index in the film thickness direction:
For the obtained retardation film, an automatic birefringence meter KOBRA-21ADH manufactured by Oji Scientific Instruments Co., Ltd. and the average refractive index of the composition were used to determine the three-dimensional refractive indexes Nx, Ny, and Nz at a wavelength of 590 nm. The refractive index in the film surface parallel direction and the film thickness parallel direction of the obtained retardation film was calculated by the following equation.

膜面平行方向:(Nx+Ny)/2
膜厚方向:Nz
(6)位相差膜の密着性:
JIS K5400に記載の碁盤目セロハンテープ剥離試験に準拠して、100個の碁盤目(1mm角)の残膜率(%)で評価した。
Film surface parallel direction: (Nx + Ny) / 2
Film thickness direction: Nz
(6) Adhesiveness of retardation film:
In accordance with a cross cellophane tape peeling test described in JIS K5400, evaluation was made based on the remaining film rate (%) of 100 cross cells (1 mm square).

(7)位相差膜中での粒子分散性:
位相差膜の断面を電子顕微鏡により観察した。位相差膜内部におけるボイド発生がなく、かつ微粒子の著しい凝集がないものを、粒子分散性が良好な位相差膜と判定した。
(7) Particle dispersibility in retardation film:
The cross section of the retardation film was observed with an electron microscope. A film in which no void was generated in the retardation film and no fine particles were aggregated was determined to be a retardation film having good particle dispersibility.

(8)湿熱試験:
位相差素子を温度40℃、相対湿度95%の環境下にて500時間保持した。
(8) Wet heat test:
The retardation element was held for 500 hours in an environment of a temperature of 40 ° C. and a relative humidity of 95%.

(9)乾熱試験:
位相差素子を温度80℃の環境下にて500時間保持した。
(9) Dry heat test:
The retardation element was held in an environment at a temperature of 80 ° C. for 500 hours.

<製造例1>
(ルチル型針状酸化チタン粒子分散液(1)の調製)
ルチル型針状酸化チタン微粉末(石原テクノ社製、商品名:TTO−S−4、長径の長さ(La):70nm、長径と短径の長さの比(La/Db):5)3.5重量部、デンカ
ブチラール#2000−L(電気化学工業(株)製、ポリビニルブチラール樹脂、平均重合度:約300、1分子中のポリビニルアルコール単位:21重量%以上、ガラス転移点(Tg):71℃、PVB#2000L)0.6重量部、メチルイソブチルケトン(MIBK)12重量部、およびt−ブタノール8重量部を混合し、ガラスビーズ用いて10時間分散させた後、ガラスビーズを除去して、ルチル型針状酸化チタン粒子分散液(1)24重量部を得た。得られたルチル型針状酸化チタン粒子分散液(1)をアルミ皿上で秤量し、120℃のホットプレート上で1時間乾燥して、全固形分濃度を求めた。全固形分濃度は17重量%であった。また、ルチル型針状酸化チタン粒子分散液(1)を磁性るつぼに秤量し、80℃のホットプレート上で30分間予備乾燥した後、750℃のマッフル炉中で1時間焼成を行い、得られた無機残渣量と前記全固形分濃度から、全固形分中の無機物含量を求めたところ、85重量%であった。
<Production Example 1>
(Preparation of rutile needle-like titanium oxide particle dispersion (1))
Rutile needle-shaped titanium oxide fine powder (Ishihara Techno Co., Ltd., trade name: TTO-S-4, length of major axis (L a ): 70 nm, ratio of major axis to minor axis length (L a / D b ) : 5) 3.5 parts by weight, Denkabutyral # 2000-L (manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd., polyvinyl butyral resin, average degree of polymerization: about 300, polyvinyl alcohol unit in one molecule: 21% by weight or more, glass transition Point (Tg): 71 ° C., PVB # 2000L (0.6 parts by weight), methyl isobutyl ketone (MIBK) (12 parts by weight), and t-butanol (8 parts by weight) were mixed and dispersed using glass beads for 10 hours. The glass beads were removed to obtain 24 parts by weight of a rutile needle-like titanium oxide particle dispersion (1). The obtained rutile-type acicular titanium oxide particle dispersion (1) was weighed on an aluminum dish and dried on a hot plate at 120 ° C. for 1 hour to determine the total solid content concentration. The total solid content was 17% by weight. Further, the rutile needle-like titanium oxide particle dispersion (1) was weighed in a magnetic crucible, preliminarily dried for 30 minutes on a hot plate at 80 ° C., and then fired in a muffle furnace at 750 ° C. for 1 hour. From the amount of inorganic residue and the total solid content, the inorganic content in the total solid content was determined to be 85% by weight.

<製造例2>
(ルチル型針状酸化チタン粒子分散液(2)の調製)
前記ルチル型針状酸化チタン微粉末3.5重量部、エチレンオキサイド−プロピレンオキサイド共重合体(平均重合度:約20)0.6重量部、MIBK12重量部、およびt−ブタノール8重量部を混合し、ガラスビーズ用いて10時間分散させた後、ガラスビーズを除去して、ルチル型針状酸化チタン粒子分散液(2)24重量部を得た。このルチル型針状酸化チタン粒子分散液(2)の全固形分濃度および全固形分中の無機物含量を製造例1と同様にして測定した。全固形分濃度は17重量%、無機物含量は85重量%であっ
た。
<Production Example 2>
(Preparation of rutile needle-like titanium oxide particle dispersion (2))
Mixing 3.5 parts by weight of the rutile needle-like titanium oxide fine powder, 0.6 parts by weight of ethylene oxide-propylene oxide copolymer (average degree of polymerization: about 20), 12 parts by weight of MIBK, and 8 parts by weight of t-butanol After dispersing for 10 hours using glass beads, the glass beads were removed to obtain 24 parts by weight of a rutile needle-like titanium oxide particle dispersion (2). The total solid concentration of the rutile needle-like titanium oxide particle dispersion (2) and the inorganic content in the total solid were measured in the same manner as in Production Example 1. The total solid content was 17% by weight and the inorganic content was 85% by weight.

<製造例3>
(ジルコニア被覆ルチル型針状酸化チタン粒子分散液の調製)
ルチル型針状酸化チタン微粉末の代わりに、ジルコニア被覆されたルチル型針状酸化チタン微粉末(石原テクノ社製、商品名:TTO−S−2、長径の長さ(La):70nm
、長径と短径の長さの比(La/Db):5)を用いた以外は、製造例2と同様にしてジルコニア被覆ルチル型針状酸化チタン粒子分散液を調製した。このジルコニア被覆ルチル型針状酸化チタン粒子分散液の全固形分濃度および全固形分中の無機物含量を製造例1と同様に測定した。全固形分濃度は17重量%、無機物含量は85重量%であった。
<Production Example 3>
(Preparation of zirconia-coated rutile needle-like titanium oxide particle dispersion)
Instead of rutile needle-like titanium oxide fine powder, rutile needle-like titanium oxide fine powder coated with zirconia (manufactured by Ishihara Techno Co., Ltd., trade name: TTO-S-2, length of major axis (L a ): 70 nm
A zirconia-coated rutile needle-like titanium oxide particle dispersion was prepared in the same manner as in Production Example 2, except that the ratio of the length of the major axis to the minor axis (L a / D b ): 5) was used. The total solid concentration of the zirconia-coated rutile needle-like titanium oxide particle dispersion and the inorganic content in the total solid were measured in the same manner as in Production Example 1. The total solid content was 17% by weight and the inorganic content was 85% by weight.

<製造例4>
(針状酸化スズ粒子分散液の調製)
ルチル型針状酸化チタン微粉末の代わりに、針状酸化スズ微粉末(石原テクノ社製、商品名:FS−10P、長径の長さ(La):1000nm、長径と短径の長さの比(La/Db):70)を用いた以外は、製造例2と同様にして針状酸化スズ粒子分散液を調製し
た。この針状酸化スズ粒子分散液の全固形分濃度および全固形分中の無機含量を製造例1と同様に測定した。全固形分濃度は17重量%、無機物含量は85重量%であった。
<Production Example 4>
(Preparation of acicular tin oxide particle dispersion)
Instead of rutile acicular titanium oxide fine powder, acicular tin oxide fine powder (manufactured by Ishihara Techno Co., Ltd., trade name: FS-10P, length of major axis (L a ): 1000 nm, major axis and minor axis length An acicular tin oxide particle dispersion was prepared in the same manner as in Production Example 2 except that the ratio (L a / D b ): 70) was used. The total solid content concentration of this acicular tin oxide particle dispersion and the inorganic content in the total solid content were measured in the same manner as in Production Example 1. The total solid content was 17% by weight and the inorganic content was 85% by weight.

<比較製造例1>
(球状酸化チタン粒子分散液の調製)
ルチル型針状酸化チタン微粉末の代わりに、球状酸化チタン微粉末(石原テクノ社製、商品名:TTO−51(D)、長径の長さ(La):40nm、長径と短径の長さの比(
a/Db):1.2)を用いた以外は、製造例2と同様にして球状酸化チタン粒子分散液を調製した。この球状酸化チタン粒子分散液の全固形分濃度および全固形分中の無機含量を製造例1と同様に測定した。全固形分濃度は17重量%、無機物含量は85重量%であった。
<Comparative Production Example 1>
(Preparation of spherical titanium oxide particle dispersion)
Instead of rutile needle-like titanium oxide fine powder, spherical titanium oxide fine powder (manufactured by Ishihara Techno Co., Ltd., trade name: TTO-51 (D), length of major axis (L a ): 40 nm, length of major axis and minor axis Ratio of (
A spherical titanium oxide particle dispersion was prepared in the same manner as in Production Example 2 except that L a / D b ): 1.2) was used. The total solid content concentration of this spherical titanium oxide particle dispersion and the inorganic content in the total solid content were measured in the same manner as in Production Example 1. The total solid content was 17% by weight and the inorganic content was 85% by weight.

<比較製造例2>
(チタン酸カリウム粒子分散液の調製)
ルチル型針状酸化チタン微粉末の代わりに、チタン酸カリウム微粉末(大塚化学社製、商品名:ティスモN、長径の長さ(La):15μm、長径と短径の長さの比(La/Db
):30)を用いた以外は、製造例2と同様にしてチタン酸カリウム粒子分散液を調製した。このチタン酸カリウム粒子分散液の全固形分濃度および全固形分中の無機含量を製造例1と同様に測定した。全固形分濃度は17重量%、無機物含量は85重量%であった。
<Comparative Production Example 2>
(Preparation of potassium titanate particle dispersion)
Instead of rutile acicular titanium oxide fine powder, potassium titanate fine powder (Otsuka Chemical Co., Ltd., trade name: TISMO N, major axis length (L a): 15 [mu] m, the ratio of the length of the major axis to the minor axis ( L a / D b
): A potassium titanate particle dispersion was prepared in the same manner as in Production Example 2 except that 30) was used. The total solid content concentration and the inorganic content in the total solid content of this potassium titanate particle dispersion were measured in the same manner as in Production Example 1. The total solid content was 17% by weight and the inorganic content was 85% by weight.

容器中に、製造例1で調製したルチル型針状酸化チタン粒子分散液(1)100重量部と、バインダーとしてメトキシ化メチルメラミン(三井サイテック(株)製サイメル303)4重量部と、硬化開始剤としてキャタリスト4050(三井サイテック(株)製、有効成分濃度32重量%)1重量部とを加え、均一な溶液の位相差膜形成用組成物(1)を得た。この組成物(1)中の全固形分濃度を製造例1と同様にして測定した。全固形分濃度は20重量%であった。また、この組成物(1)の粘度(25℃)は5mPa・sであった。   In a container, 100 parts by weight of the rutile needle-like titanium oxide particle dispersion (1) prepared in Production Example 1, 4 parts by weight of methoxylated methylmelamine (Cymel 303, Mitsui Cytec Co., Ltd.) as a binder, and start of curing 1 part by weight of catalyst 4050 (manufactured by Mitsui Cytec Co., Ltd., active ingredient concentration: 32% by weight) was added as an agent to obtain a uniform retardation film forming composition (1). The total solid concentration in the composition (1) was measured in the same manner as in Production Example 1. The total solid concentration was 20% by weight. Moreover, the viscosity (25 degreeC) of this composition (1) was 5 mPa * s.

ルチル型針状酸化チタン粒子分散液(1)の代わりに、製造例2で調製したルチル型針状酸化チタン粒子分散液(2)を用いた以外は実施例1と同様にして、均一な溶液の位相差膜形成用組成物(2)を得た。この組成物(2)中の全固形分濃度を製造例1と同様に測定した。全固形分濃度は20重量%であった。また、この組成物(1)の粘度(25℃
)は5mPa・sであった。
A uniform solution in the same manner as in Example 1 except that the rutile needle-like titanium oxide particle dispersion (2) prepared in Production Example 2 was used instead of the rutile needle-like titanium oxide particle dispersion (1). A retardation film forming composition (2) was obtained. The total solid content concentration in the composition (2) was measured in the same manner as in Production Example 1. The total solid content was 20% by weight. The viscosity (25 ° C.)
) Was 5 mPa · s.

ルチル型針状酸化チタン粒子分散液(1)の代わりに、製造例3で調製したジルコニア被覆ルチル型針状酸化チタン粒子分散液を用いた以外は実施例1と同様にして、均一な溶液の位相差膜形成用組成物(3)を得た。この組成物(3)中の全固形分濃度を製造例1と同様に測定した。全固形分濃度は20重量%であった。また、この組成物(3)の粘度(25℃)は5mPa・sであった。   In place of the rutile needle-like titanium oxide particle dispersion (1), a uniform solution was prepared in the same manner as in Example 1 except that the zirconia-coated rutile needle-like titanium oxide particle dispersion prepared in Production Example 3 was used. A composition for forming a retardation film (3) was obtained. The total solid content concentration in the composition (3) was measured in the same manner as in Production Example 1. The total solid concentration was 20% by weight. Moreover, the viscosity (25 degreeC) of this composition (3) was 5 mPa * s.

ルチル型針状酸化チタン粒子分散液(1)の代わりに、製造例4で調製した針状酸化スズ粒子分散液を用いた以外は実施例1と同様にして、均一な溶液の位相差膜形成用組成物(4)を得た。この組成物(4)中の全固形分濃度を製造例1と同様に測定した。全固形分濃度は20重量%であった。また、この組成物(4)の粘度(25℃)は5mPa・sであった。   Retardation film formation of a uniform solution in the same manner as in Example 1 except that the acicular tin oxide particle dispersion prepared in Production Example 4 was used instead of the rutile-type acicular titanium oxide particle dispersion (1). A composition (4) was obtained. The total solid content concentration in the composition (4) was measured in the same manner as in Production Example 1. The total solid concentration was 20% by weight. Moreover, the viscosity (25 degreeC) of this composition (4) was 5 mPa * s.

容器中に、製造例1で調製したルチル型針状酸化チタン粒子分散液(1)100重量部と、デュラネートMF−B60X(旭化成(株)製)4重量部とを加え、均一な溶液の位相差膜形成用組成物(5)を得た。この組成物(5)中の全固形分濃度を製造例1と同様に測定した。全固形分濃度は20重量%であった。また、この組成物(5)の粘度(25℃)は5mPa・sであった。   In a container, 100 parts by weight of the rutile needle-like titanium oxide particle dispersion (1) prepared in Production Example 1 and 4 parts by weight of Duranate MF-B60X (manufactured by Asahi Kasei Co., Ltd.) are added. A composition for forming a retardation film (5) was obtained. The total solid concentration in this composition (5) was measured in the same manner as in Production Example 1. The total solid concentration was 20% by weight. Moreover, the viscosity (25 degreeC) of this composition (5) was 5 mPa * s.

容器中に、製造例2で調製したルチル型針状酸化チタン粒子分散液(2)100重量部と、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(日本化薬(株)製)4重量部と、イルガキュア184(チバスペシャルティケミカルズ(株)製)1重量部とを加え、均一な溶液の位相差膜形成用組成物(6)を得た。この組成物(6)中の全固形分濃度を製造例1と同様に測定した。全固形分濃度は20重量%であった。また、組成物(6)の粘度(25℃)は5mPa・sであった。   In the container, 100 parts by weight of the rutile needle-like titanium oxide particle dispersion (2) prepared in Production Example 2, 4 parts by weight of dipentaerythritol hexaacrylate (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), and Irgacure 184 (Ciba) 1 part by weight of Specialty Chemicals Co., Ltd.) was added to obtain a uniform retardation film forming composition (6). The total solid concentration in this composition (6) was measured in the same manner as in Production Example 1. The total solid concentration was 20% by weight. Moreover, the viscosity (25 degreeC) of the composition (6) was 5 mPa * s.

容器中に、製造例2で調製したルチル型針状酸化チタン粒子分散液(2)100重量部ト、アデカオプトマーKRM−2110(旭電化工業(株)製)4重量部と、アデカオプトマーSP−170(旭電化工業(株)製)1重量部とを加え、均一な溶液の位相差膜形成用組成物(7)を得た。この組成物(7)中の全固形分濃度を製造例1と同様に測定した。全固形分濃度は20重量%であった。また、この組成物(7)の粘度(25℃)は5mPa・sであった。   In a container, 100 parts by weight of rutile needle-like titanium oxide particle dispersion (2) prepared in Production Example 2, 4 parts by weight of Adekaoptomer KRM-2110 (manufactured by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.), and Adekaoptomer SP-170 (manufactured by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.) was added in an amount of 1 part by weight to obtain a uniform retardation film forming composition (7). The total solid concentration in this composition (7) was measured in the same manner as in Production Example 1. The total solid concentration was 20% by weight. Moreover, the viscosity (25 degreeC) of this composition (7) was 5 mPa * s.

容器中に、製造例2で調製したルチル型針状酸化チタン粒子分散液(2)100重量部と、KC89(信越シリコーン(株)製)4重量部と、アデカオプトマーSP−170(旭電化工業(株)製)1重量部とを加え、均一な溶液の位相差膜形成用組成物(8)を得た。この組成物(8)中の全固形分濃度を製造例1と同様に測定した。全固形分濃度は20重量%であった。また、この組成物(7)の粘度(25℃)は5mPa・sであった。   In the container, 100 parts by weight of the rutile needle-like titanium oxide particle dispersion (2) prepared in Production Example 2, 4 parts by weight of KC89 (manufactured by Shin-Etsu Silicone), Adekaoptomer SP-170 (Asahi Denka) 1 part by weight of Kogyo Co., Ltd. was added to obtain a uniform solution retardation film forming composition (8). The total solid concentration in this composition (8) was measured in the same manner as in Production Example 1. The total solid concentration was 20% by weight. Moreover, the viscosity (25 degreeC) of this composition (7) was 5 mPa * s.

<比較例1>
ルチル型針状酸化チタン粒子分散液(1)の代わりに、比較製造例1で調製した球状酸化チタン粒子分散液を用いた以外は実施例1と同様にして、均一な膜形成用組成物(a)を得た。この組成物(a)中の全固形分濃度を製造例1と同様に測定した。全固形分濃度
は20重量%であった。また、この組成物(a)の粘度(25℃)は5mPa・sであった。
<Comparative Example 1>
A uniform film-forming composition (as in Example 1) except that the spherical titanium oxide particle dispersion prepared in Comparative Production Example 1 was used instead of the rutile needle-like titanium oxide particle dispersion (1). a) was obtained. The total solid content concentration in the composition (a) was measured in the same manner as in Production Example 1. The total solid content was 20% by weight. Moreover, the viscosity (25 degreeC) of this composition (a) was 5 mPa * s.

<比較例2>
ルチル型針状酸化チタン粒子分散液(1)の代わりに、比較製造例2で調製したチタン酸カリウム粒子分散液を用いた以外は実施例1と同様にして、均一な膜形成用組成物(b)を得た。この組成物(b)中の全固形分濃度を製造例1と同様に測定した。全固形分濃度は20重量%であった。また、この組成物(b)の粘度(25℃)は10mPa・sであった。
<Comparative Example 2>
A uniform film-forming composition (as in Example 1) except that the potassium titanate particle dispersion prepared in Comparative Production Example 2 was used instead of the rutile needle-like titanium oxide particle dispersion (1). b) was obtained. The total solid content concentration in the composition (b) was measured in the same manner as in Production Example 1. The total solid content was 20% by weight. Moreover, the viscosity (25 degreeC) of this composition (b) was 10 mPa * s.

<比較例3>
サイメル303(三井サイテック(株)製)21重量部と、キャタリスト4050(三井サイテック(株)製)1重量部と、メチルイソブチルケトン50重量部とtert−ブタノールを加え、均一な溶液の位相差膜形成用組成物(c)を得た。この組成物(c)中の全固形分濃度を製造例1と同様に測定した。全固形分濃度は20重量%であった。また、組成物(6)の粘度(25℃)は10mPa・sであった。
<Comparative Example 3>
Cymel 303 (Mitsui Cytec Co., Ltd.) 21 parts by weight, Catalyst 4050 (Mitsui Cytec Co., Ltd.) 1 part by weight, methyl isobutyl ketone 50 parts by weight and tert-butanol were added, and the phase difference of the uniform solution A film-forming composition (c) was obtained. The total solid concentration in the composition (c) was measured in the same manner as in Production Example 1. The total solid content was 20% by weight. Moreover, the viscosity (25 degreeC) of the composition (6) was 10 mPa * s.

表1および表2は、実施例1〜8および比較例1〜3で調製した膜形成用組成物の組成(重量部)、全固形分濃度(重量%)、粘度(mPa・s)、組成物の平均屈折率を示す。   Tables 1 and 2 show the composition (parts by weight), total solid content concentration (% by weight), viscosity (mPa · s), and composition of the film-forming compositions prepared in Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 3. Indicates the average refractive index of the object.

Figure 0004679808
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実施例1で調製した位相差膜形成用組成物(1)を、ワイヤーバーコータ(#12)を用いて、環状オレフィン系樹脂フィルム(JSR(株)製ARTONフィルム、膜厚100μm、吸水率:0.17%、光弾性係数3×10-13cm2/dyne)、および無歪みガラス(BK7:厚さ1mm)にそれぞれ塗工した。なお、吸水率は23℃の水中に24時間浸漬した際の重量変化より求めた値である。これを、オーブンを用いて120℃で60分間乾燥し、位相差膜(1)を有する位相差素子(1)を得た。この位相差膜(1)の膜厚方向の位相差値(nm)、屈折率差、膜厚(μm)、および位相差膜中での粒子分散性を評価した。また、位相差素子(1)の全光線透過率(%)、ヘイズ(%)、位相差値(nm)、密着性を評価した。位相差膜(1)および位相差素子(1)についての評価結果を表3に示す。 Using the wire bar coater (# 12), the composition for forming a retardation film (1) prepared in Example 1 was cyclic olefin resin film (ARTON film manufactured by JSR Corporation, film thickness 100 μm, water absorption: 0.17%, photoelastic coefficient 3 × 10 −13 cm 2 / dyne), and unstrained glass (BK7: thickness 1 mm), respectively. In addition, a water absorption is the value calculated | required from the weight change at the time of being immersed in 23 degreeC water for 24 hours. This was dried at 120 ° C. for 60 minutes using an oven to obtain a retardation element (1) having a retardation film (1). The retardation value (nm), refractive index difference, film thickness (μm), and particle dispersibility in the retardation film of the retardation film (1) were evaluated. Further, the total light transmittance (%), haze (%), retardation value (nm), and adhesion of the retardation element (1) were evaluated. Table 3 shows the evaluation results for the retardation film (1) and the retardation element (1).

得られた位相差膜(1)は透明性に優れ、膜厚方向の位相差値が150nm程度であった。また、位相差素子(1)において、位相差膜(1)と環状オレフィン系樹脂フィルムの密着性は良好であった。位相差膜(1)および位相差素子(1)は、湿熱試験後および乾熱試験後においても、前記評価において初期特性からの大幅な変化が見られなかった。   The obtained retardation film (1) was excellent in transparency, and the retardation value in the film thickness direction was about 150 nm. In addition, in the retardation element (1), the adhesion between the retardation film (1) and the cyclic olefin-based resin film was good. In the retardation film (1) and the retardation element (1), no significant change from the initial characteristics was observed in the evaluation even after the wet heat test and the dry heat test.

位相差膜形成用組成物(1)の代わりに、実施例2で調製した位相差膜形成用組成物(2)を用いた以外は実施例9と同様にして、位相差膜(2)を有する位相差素子(2)を得た。この位相差膜(2)および位相差素子(2)について実施例9と同様の評価を行った。位相差膜(2)および位相差素子(2)についての評価結果を表3に示す。   The retardation film (2) was prepared in the same manner as in Example 9, except that the retardation film forming composition (2) prepared in Example 2 was used instead of the retardation film forming composition (1). The phase difference element (2) which has was obtained. Evaluation similar to Example 9 was performed about this retardation film (2) and retardation element (2). Table 3 shows the evaluation results for the retardation film (2) and the retardation element (2).

得られた位相差膜(2)は透明性に優れ、膜厚方向の位相差値が150nm程度であった。また、位相差素子(2)において、位相差膜(2)と環状オレフィン系樹脂フィルムの密着性は良好であった。位相差膜(2)および位相差素子(2)は、湿熱試験後および乾熱試験後においても、前記評価において初期特性からの大幅な変化が見られなかった。   The obtained retardation film (2) was excellent in transparency, and the retardation value in the film thickness direction was about 150 nm. In addition, in the retardation element (2), the adhesion between the retardation film (2) and the cyclic olefin-based resin film was good. In the retardation film (2) and the retardation element (2), no significant change from the initial characteristics was observed in the evaluation even after the wet heat test and the dry heat test.

位相差膜形成用組成物(1)の代わりに、実施例3で調製した位相差膜形成用組成物(3)を用いた以外は実施例9と同様にして、位相差膜(3)を有する位相差素子(3)を得た。この位相差膜(3)および位相差素子(3)について実施例9と同様の評価を行った。位相差膜(3)および位相差素子(3)についての評価結果を表3に示す。   The retardation film (3) was prepared in the same manner as in Example 9, except that the retardation film forming composition (3) prepared in Example 3 was used instead of the retardation film forming composition (1). The phase difference element (3) which has was obtained. Evaluation similar to Example 9 was performed about this retardation film (3) and retardation element (3). Table 3 shows the evaluation results of the retardation film (3) and the retardation element (3).

得られた位相差膜(3)は透明性に優れ、膜厚方向の位相差値が120nm程度であった。また、位相差素子(3)において、位相差膜(3)と環状オレフィン系樹脂フィルムの密着性は良好であった。位相差膜(3)および位相差素子(3)は、湿熱試験後および乾熱試験後においても、前記評価において初期特性からの大幅な変化が見られなかった。   The obtained retardation film (3) was excellent in transparency, and the retardation value in the film thickness direction was about 120 nm. In addition, in the retardation element (3), the adhesion between the retardation film (3) and the cyclic olefin-based resin film was good. In the retardation film (3) and the retardation element (3), no significant change from the initial characteristics was observed in the evaluation even after the wet heat test and the dry heat test.

位相差膜形成用組成物(1)の代わりに、実施例4で調製した位相差膜形成用組成物(4)を用いた以外は実施例9と同様にして、位相差膜(4)を有する位相差素子(4)を得た。この位相差膜(4)および位相差素子(4)について実施例9と同様の評価を行った。位相差膜(4)および位相差素子(4)についての評価結果を表3に示す。   The retardation film (4) was prepared in the same manner as in Example 9, except that the retardation film forming composition (4) prepared in Example 4 was used instead of the retardation film forming composition (1). The phase difference element (4) which has was obtained. Evaluation similar to Example 9 was performed about this retardation film (4) and retardation element (4). Table 3 shows the evaluation results of the retardation film (4) and the retardation element (4).

得られた位相差膜(4)は透明性に優れ、膜厚方向の位相差値が80nm程度であった。また、位相差素子(4)において、位相差膜(4)と環状オレフィン系樹脂フィルムの密着性は良好であった。位相差膜(4)および位相差素子(4)は、湿熱試験後および乾熱試験後においても、前記評価において初期特性からの大幅な変化が見られなかった。   The obtained retardation film (4) was excellent in transparency, and the retardation value in the film thickness direction was about 80 nm. In addition, in the retardation element (4), the adhesion between the retardation film (4) and the cyclic olefin-based resin film was good. The retardation film (4) and the retardation element (4) showed no significant change from the initial characteristics in the evaluation even after the wet heat test and the dry heat test.

位相差膜形成用組成物(1)の代わりに、実施例5で調製した位相差膜形成用組成物(5)を用いた以外は実施例9と同様にして、位相差膜(5)を有する位相差素子(5)を得た。この位相差膜(5)および位相差素子(5)について実施例9と同様の評価を行った。位相差膜(5)および位相差素子(5)についての評価結果を表3に示す。   The retardation film (5) was prepared in the same manner as in Example 9, except that the retardation film forming composition (5) prepared in Example 5 was used instead of the retardation film forming composition (1). The phase difference element (5) which has was obtained. Evaluation similar to Example 9 was performed about this retardation film (5) and retardation element (5). Table 3 shows the evaluation results of the retardation film (5) and the retardation element (5).

得られた位相差膜(5)は透明性に優れ、膜厚方向の位相差値が150nm程度であった。また、位相差素子(5)において、位相差膜(5)と環状オレフィン系樹脂フィルムの密着性は良好であった。位相差膜(5)および位相差素子(5)は、湿熱試験後および乾熱試験後においても、前記評価において初期特性からの大幅な変化が見られなかった。   The obtained retardation film (5) was excellent in transparency, and the retardation value in the film thickness direction was about 150 nm. In addition, in the retardation element (5), the adhesion between the retardation film (5) and the cyclic olefin-based resin film was good. The retardation film (5) and the retardation element (5) showed no significant change from the initial characteristics in the evaluation even after the wet heat test and the dry heat test.

実施例6で調製した位相差膜形成用組成物(6)を、ワイヤーバーコータ(#12)を用いて、前記環状オレフィン系樹脂フィルムおよび無歪みガラス(BK7:厚さ1mm)のそれぞれに塗工した。これに、メタルハライドランプを用いて250mW/cm2、1
J/cm2の紫外線照射し、位相差膜(6)を有する位相差素子(6)を得た。この位相
差膜(6)および位相差素子(6)について実施例9と同様の評価を行った。位相差膜(6)および位相差素子(6)についての評価結果を表3に示す。
The retardation film forming composition (6) prepared in Example 6 was applied to each of the cyclic olefin resin film and the unstrained glass (BK7: thickness 1 mm) using a wire bar coater (# 12). Worked. To this, using a metal halide lamp, 250 mW / cm 2 , 1
Irradiation with J / cm 2 ultraviolet rays gave a retardation element (6) having a retardation film (6). Evaluation similar to Example 9 was performed about this retardation film (6) and retardation element (6). Table 3 shows the evaluation results of the retardation film (6) and the retardation element (6).

得られた位相差膜(6)は透明性に優れ、膜厚方向の位相差値が150nm程度であった。また、位相差素子(6)において、位相差膜(6)と環状オレフィン系樹脂フィルムの密着性は良好であった。位相差膜(6)および位相差素子(6)は、湿熱試験後および乾熱試験後においても、前記評価において初期特性からの大幅な変化が見られなかった。   The obtained retardation film (6) was excellent in transparency, and the retardation value in the film thickness direction was about 150 nm. In addition, in the retardation element (6), the adhesion between the retardation film (6) and the cyclic olefin-based resin film was good. The retardation film (6) and the retardation element (6) showed no significant change from the initial characteristics in the evaluation even after the wet heat test and the dry heat test.

位相差膜形成用組成物(6)の代わりに、実施例7で調製した位相差膜形成用組成物(7)を用いた以外は実施例14と同様にして、位相差膜(7)および位相差素子(7)を得た。この位相差膜(7)および位相差素子(7)について実施例9と同様の評価を行った。位相差膜(7)および位相差素子(7)についての評価結果を表3に示す。   In the same manner as in Example 14, except that the retardation film forming composition (7) prepared in Example 7 was used instead of the retardation film forming composition (6), the retardation film (7) and A phase difference element (7) was obtained. Evaluation similar to Example 9 was performed about this retardation film (7) and retardation element (7). Table 3 shows the evaluation results of the retardation film (7) and the retardation element (7).

得られた位相差膜(7)は透明性に優れ、膜厚方向の位相差値が150nm程度であった。また、位相差素子(7)において、位相差膜(7)と環状オレフィン系樹脂フィルムの密着性は良好であった。位相差膜(7)および位相差素子(7)は、湿熱試験後および乾熱試験後においても、前記評価において初期特性からの大幅な変化が見られなかった。   The obtained retardation film (7) was excellent in transparency, and the retardation value in the film thickness direction was about 150 nm. In addition, in the retardation element (7), the adhesion between the retardation film (7) and the cyclic olefin-based resin film was good. The retardation film (7) and the retardation element (7) showed no significant change from the initial characteristics in the evaluation even after the wet heat test and the dry heat test.

位相差膜形成用組成物(6)の代わりに、実施例8で調製した位相差膜形成用組成物(8)を用いた以外は実施例14と同様にして、位相差膜(8)および位相差素子(8)を得た。この位相差膜(8)および位相差素子(8)について実施例9と同様の評価を行った。位相差膜(8)および位相差素子(8)についての評価結果を表3に示す。   In the same manner as in Example 14 except that the retardation film forming composition (8) prepared in Example 8 was used instead of the retardation film forming composition (6), the retardation film (8) and A phase difference element (8) was obtained. Evaluation similar to Example 9 was performed about this retardation film (8) and retardation element (8). Table 3 shows the evaluation results of the retardation film (8) and the retardation element (8).

得られた位相差膜(8)は透明性に優れ、膜厚方向の位相差値が150nm程度であった。また、位相差素子(8)において、位相差膜(8)と環状オレフィン系樹脂フィルムの密着性は良好であった。位相差膜(8)および位相差素子(8)は、湿熱試験後および乾熱試験後においても、前記評価において初期特性からの大幅な変化が見られなかった。   The obtained retardation film (8) was excellent in transparency, and the retardation value in the film thickness direction was about 150 nm. In addition, in the retardation element (8), the adhesion between the retardation film (8) and the cyclic olefin-based resin film was good. In the retardation film (8) and the retardation element (8), no significant change from the initial characteristics was observed in the evaluation even after the wet heat test and the dry heat test.

前記環状オレフィン系樹脂フィルムの代わりに、ポリカーボネートフィルム(帝人化成(株)製、吸水率:0.2%、光弾性係数70×10-13cm2/dyne)を用いた以外は実施例14と同様にして、位相差膜(9)および位相差素子(9)を得た。この位相差膜(9)および位相差素子(9)について実施例9と同様の評価を行った。位相差膜(9)および位相差素子(9)についての評価結果を表3に示す。 Example 14 except that a polycarbonate film (manufactured by Teijin Chemicals Ltd., water absorption: 0.2%, photoelastic coefficient 70 × 10 −13 cm 2 / dyne) was used instead of the cyclic olefin resin film. Similarly, a retardation film (9) and a retardation element (9) were obtained. Evaluation similar to Example 9 was performed about this retardation film (9) and retardation element (9). Table 3 shows the evaluation results of the retardation film (9) and the retardation element (9).

得られた位相差膜(9)は透明性に優れ、膜厚方向の位相差値が150nm程度であった。また、位相差素子(9)において、位相差膜(9)と環状オレフィン系樹脂フィルムの密着性は良好であった。   The obtained retardation film (9) was excellent in transparency, and the retardation value in the film thickness direction was about 150 nm. In addition, in the retardation element (9), the adhesion between the retardation film (9) and the cyclic olefin resin film was good.

湿熱試験後および乾熱試験後の位相差膜(9)の性能はほとんど変化しなかったが、位相差素子(9)における位相差値が初期評価結果より10nm程度減少した。また、湿熱試験後の密着性が5%程度低下した。   Although the performance of the retardation film (9) after the wet heat test and after the dry heat test hardly changed, the retardation value in the retardation element (9) decreased by about 10 nm from the initial evaluation result. Moreover, the adhesiveness after a wet heat test fell about 5%.

<比較例4>
位相差膜形成用組成物(1)の代わりに、比較例1で調製した膜形成用組成物(a)を用いた以外は実施例9と同様にして、位相差膜(a)を有する位相差素子(a)を得た。この位相差膜(a)および位相差素子(a)について実施例9と同様の評価を行った。位相差膜(a)および位相差素子(a)についての評価結果を表4に示す。得られた位相差
膜(a)は透明性が良好なものの、膜厚方向の位相差値が得られなかった。
<Comparative example 4>
In the same manner as in Example 9, except that the film forming composition (a) prepared in Comparative Example 1 was used instead of the phase difference film forming composition (1), the phase having the phase difference film (a) was used. A phase difference element (a) was obtained. Evaluation similar to Example 9 was performed about this retardation film (a) and retardation element (a). Table 4 shows the evaluation results for the retardation film (a) and the retardation element (a). Although the obtained retardation film (a) had good transparency, a retardation value in the film thickness direction could not be obtained.

<比較例5>
位相差膜形成用組成物(1)の代わりに、比較例2で調製した膜形成用組成物(b)を用いた以外は実施例9と同様にして、位相差膜(b)を有する位相差素子(b)を得た。この位相差膜(b)および位相差素子(b)について実施例9と同様の評価を行った。位相差膜(b)および位相差素子(b)についての評価結果を表4に示す。得られた位相差膜(b)は透明性がなく、膜厚方向の位相差値の測定できなかった。
<Comparative Example 5>
In the same manner as in Example 9, except that the film forming composition (b) prepared in Comparative Example 2 was used instead of the phase difference film forming composition (1), the phase having the phase difference film (b) was used. A phase difference element (b) was obtained. Evaluation similar to Example 9 was performed about this retardation film (b) and retardation element (b). Table 4 shows the evaluation results for the retardation film (b) and the retardation element (b). The obtained retardation film (b) was not transparent, and the retardation value in the film thickness direction could not be measured.

<比較例6>
位相差膜形成用組成物(1)の代わりに、比較例3で調製した膜形成用組成物(c)を用いた以外は実施例14と同様にして、位相差膜(c)を有する位相差素子(c)を得た。この位相差膜(c)および位相差素子(c)について実施例9と同様の評価を行った。位相差膜(c)および位相差素子(c)についての評価結果を表4に示す。得られた位相差膜(c)は透明性が良好なものの、膜厚方向の位相差値が十分得られなかった。
<Comparative Example 6>
In the same manner as in Example 14, except that the film forming composition (c) prepared in Comparative Example 3 was used instead of the phase difference film forming composition (1), A phase difference element (c) was obtained. Evaluation similar to Example 9 was performed about this retardation film (c) and retardation element (c). Table 4 shows the evaluation results of the retardation film (c) and the retardation element (c). Although the obtained retardation film (c) had good transparency, a sufficient retardation value in the film thickness direction could not be obtained.

<参考製造例1>
(含フッ素重合体の製造)
内容積1.5Lの電磁攪拌機付きステンレス製オートクレーブを、窒素ガスで十分置換した後、酢酸エチル500g、パーフルオロ(プロピルビニルエーテル)(FPVE)43.2g、エチルビニルエーテル(EVE)41.2g、ヒドロキシエチルビニルエーテル(HEVE)21.5g、ノニオン性反応性乳化剤として「アデカリアソープNE−30」(旭電化工業(株)製)40.5g、アゾ基含有ポリジメチルシロキサンとして「VPS−1001」(和光純薬工業(株)製)6.0gおよび過酸化ラウロイル1.25gを加え、ドライアイス−メタノールで−50℃まで冷却した後、再度窒素ガスで系内の酸素を除去した。
<Reference Production Example 1>
(Production of fluoropolymer)
A stainless steel autoclave with an electromagnetic stirrer with an internal volume of 1.5 L was sufficiently replaced with nitrogen gas, and then 500 g of ethyl acetate, 43.2 g of perfluoro (propyl vinyl ether) (FPVE), 41.2 g of ethyl vinyl ether (EVE), hydroxyethyl 21.5 g of vinyl ether (HEVE), 40.5 g of “ADEKA rear soap NE-30” (manufactured by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.) as a nonionic reactive emulsifier, and “VPS-1001” (Wako Jun) as an azo group-containing polydimethylsiloxane 6.0 g of Yakuhin Kogyo Co., Ltd. and 1.25 g of lauroyl peroxide were added and cooled to −50 ° C. with dry ice-methanol, and then oxygen in the system was removed again with nitrogen gas.

次いで、ヘキサフルオロプロピレン(HFP)97.4gを加え、昇温を開始した。オートクレーブ内の温度が60℃に達した時点での圧力は5.3×105Paを示した。そ
の後、70℃で20時間、攪拌下で反応を継続し、圧力が1.7×105Paに低下した
時点でオートクレーブを水冷し、反応を停止させた。室温に達した後、未反応モノマーを放出し、オートクレーブを開放して、固形分濃度26.4%のポリマー溶液を得た。得られたポリマー溶液をメタノールに投入し、ポリマーを析出させた後、メタノールにて洗浄し、50℃にて真空乾燥を行い、220gの含フッ素重合体を得た。
Next, 97.4 g of hexafluoropropylene (HFP) was added, and the temperature increase was started. The pressure when the temperature in the autoclave reached 60 ° C. was 5.3 × 10 5 Pa. Thereafter, the reaction was continued with stirring at 70 ° C. for 20 hours. When the pressure dropped to 1.7 × 10 5 Pa, the autoclave was cooled with water to stop the reaction. After reaching room temperature, unreacted monomers were released and the autoclave was opened to obtain a polymer solution having a solid content concentration of 26.4%. The obtained polymer solution was put into methanol to precipitate a polymer, washed with methanol, and vacuum dried at 50 ° C. to obtain 220 g of a fluoropolymer.

得られたポリマーは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)によるポリスチレン換算数平均分子量(Mn)が48,000、DSCによるガラス転移温度(Tg)が26.8℃、アリザリンコンプレクソン法によるフッ素含量が50.3%であった。   The obtained polymer has a polystyrene-equivalent number average molecular weight (Mn) of 48,000 by gel permeation chromatography (GPC), a glass transition temperature (Tg) of 26.8 ° C. by DSC, and a fluorine content by the alizarin complexone method. It was 50.3%.

<参考製造例2>
(反射防止膜形成用組成物の調製)
参考製造例1で得られた含フッ素重合体100gを、サイメル303(三井サイテック(株)製)30gとともにMIBK900g中に溶解し、100℃にて5時間、攪拌下で反応させた。得られた反応液100gと、硬化触媒であるキャタリスト4050(三井サイテック(株)製、芳香族スルホン酸化合物、固形分濃度32重量%)2gとを、MIBK900gに添加して溶解させることにより、反射防止膜形成用組成物を調製した。この組成物のMIBK溶液を、スピンコーターによりシリコンウェーハー上に、乾燥後の厚みが約0.1μmとなるように塗布した。これを、オーブンを用いて120℃で60分間加熱し、反射防止膜を得た。得られた反射防止膜について、エリプソメーターを用いて25℃での波長589nmにおける屈折率(nD 25)を測定したところ、1.41であった。
<Reference Production Example 2>
(Preparation of composition for forming antireflection film)
100 g of the fluoropolymer obtained in Reference Production Example 1 was dissolved in 900 g of MIBK together with 30 g of Cymel 303 (Mitsui Cytec Co., Ltd.), and reacted at 100 ° C. for 5 hours with stirring. By adding 100 g of the obtained reaction liquid and 2 g of catalyst 4050 (manufactured by Mitsui Cytec Co., Ltd., aromatic sulfonic acid compound, solid concentration 32 wt%) as a curing catalyst to 900 g of MIBK, An antireflection film-forming composition was prepared. The MIBK solution of this composition was applied onto a silicon wafer by a spin coater so that the thickness after drying was about 0.1 μm. This was heated at 120 ° C. for 60 minutes using an oven to obtain an antireflection film. With respect to the obtained antireflection film, the refractive index (n D 25 ) at a wavelength of 589 nm at 25 ° C. was measured using an ellipsometer, and it was 1.41.

実施例14で得られた位相差膜(6)の上に、さらに参考製造例2で調製した反射防止膜形成用組成物を、ワイヤーバーコータ(#3)を用いて塗工した。これを、オーブンを用いて120℃で60分間乾燥し、上層に反射防止膜を有する位相差膜(10)を得た。反射率測定によりこの反射防止膜の膜厚を計算したところ、約0.1μmであった。この位相差膜(10)および位相差素子(10)について実施例9と同様の評価を行った。位相差膜(10)および位相差素子(10)についての評価結果を表3に示す。   On the retardation film (6) obtained in Example 14, the antireflection film-forming composition prepared in Reference Production Example 2 was further coated using a wire bar coater (# 3). This was dried at 120 ° C. for 60 minutes using an oven to obtain a retardation film (10) having an antireflection film as an upper layer. When the film thickness of this antireflection film was calculated by reflectance measurement, it was about 0.1 μm. Evaluation similar to Example 9 was performed about this retardation film (10) and retardation element (10). Table 3 shows the evaluation results of the retardation film (10) and the retardation element (10).

得られた位相差膜(10)は透明性に優れ、膜厚方向の位相差値が150nm程度であった。さらに透過率が90%以上に向上した。また、位相差素子(10)において、位相差膜(10)と環状オレフィン系樹脂フィルムの密着性は良好であった。位相差膜(10)および位相差素子(10)は、湿熱試験後および乾熱試験後においても、前記評価において初期特性からの大幅な変化が見られなかった。   The obtained retardation film (10) was excellent in transparency, and the retardation value in the film thickness direction was about 150 nm. Further, the transmittance was improved to 90% or more. In addition, in the retardation element (10), the adhesion between the retardation film (10) and the cyclic olefin-based resin film was good. The retardation film (10) and the retardation element (10) showed no significant change from the initial characteristics in the evaluation even after the wet heat test and the dry heat test.

Figure 0004679808
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(位相差膜と透明フィルムからなる位相差素子を保護フィルムとした偏光板の作製)
厚さ50μmのポリビニルアルコールフィルムを、ヨウ素5g、ヨウ化カリウム250g、ほう酸10g、水1000gからなる40℃の浴に浸漬しながら約5分間で4倍まで一軸延伸して偏光膜を得た。この偏光膜の表面に、n−ブチルアクリレート90重量%、エチルアクリレート7重量%、アクリル酸3重量%からなるアクリル系樹脂100部とトリレンジイソシアナート(3モル)のトリメチロールプロパン(1モル)付加物の75重量%酢酸エチル溶液2部からなる架橋剤とを混合して得られた粘着剤を用いて、実施例9で作製した位相差素子(1)、およびトリアセチルセルロースフィルム(厚さ80μm:富士写真フィルム社製)をそれぞれ偏光膜に片面ずつ粘着させ偏光板(1)を得た。この偏光板(1)を80℃、90%相対湿度の条件下で500時間の耐久試験を行い、その外観変化を目視で観察したところ、いずれも白化や膨れ等の外観異常は認められず、また、偏光度についても、初期値に対して95%以上の偏光度を保持しており良好な耐久性を有していることが確認された。
(Preparation of a polarizing plate using a retardation film composed of a retardation film and a transparent film as a protective film)
A polyvinyl alcohol film having a thickness of 50 μm was uniaxially stretched up to 4 times in about 5 minutes while being immersed in a 40 ° C. bath composed of 5 g of iodine, 250 g of potassium iodide, 10 g of boric acid, and 1000 g of water to obtain a polarizing film. On the surface of this polarizing film, 100 parts of an acrylic resin comprising 90% by weight of n-butyl acrylate, 7% by weight of ethyl acrylate and 3% by weight of acrylic acid and trimethylolpropane (1 mole) of tolylene diisocyanate (3 moles). Using the pressure-sensitive adhesive obtained by mixing 2 parts of a 75% by weight ethyl acetate solution of the adduct, the retardation element (1) prepared in Example 9, and a triacetyl cellulose film (thickness) 80 μm: manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) was adhered to one side of the polarizing film to obtain a polarizing plate (1). This polarizing plate (1) was subjected to a durability test for 500 hours under the conditions of 80 ° C. and 90% relative humidity, and when the appearance change was visually observed, no abnormality in the appearance such as whitening or swelling was observed. Further, the degree of polarization was also confirmed to have a good degree of durability since the degree of polarization was maintained at 95% or more with respect to the initial value.

(位相差膜と位相差フィルムからなる位相差素子を保護フィルムとした偏光板の作製)
予め一軸延伸により面内位相差値を100nmに調整した環状オレフィン系樹脂フィルム(JSR(株)製 ARTONフィルム)を基材として実施例9と同様にして位相差素子(11)を作製した。位相差素子(1)の代わりに、この位相差素子(11)を用いた以外は実施例19と同様にして偏光板(2)を得た。この偏光板(2)を80℃、90%相対湿度の条件下で500時間の耐久試験を行い、その外観変化を目視で観察したところ、いずれも白化や膨れ等の外観異常は認められず、また、偏光度についても、初期値に対して95%以上の偏光度を保持しており良好な耐久性を有していることが確認された。
(Preparation of a polarizing plate using a retardation film composed of a retardation film and a retardation film as a protective film)
A retardation element (11) was produced in the same manner as in Example 9 using a cyclic olefin resin film (ARTON film manufactured by JSR Corporation) whose in-plane retardation value was adjusted to 100 nm by uniaxial stretching in advance. A polarizing plate (2) was obtained in the same manner as in Example 19 except that this retardation element (11) was used instead of the retardation element (1). When this polarizing plate (2) was subjected to a durability test for 500 hours under the conditions of 80 ° C. and 90% relative humidity, and the appearance change was visually observed, none of the appearance abnormalities such as whitening or blistering were observed. Further, the degree of polarization was also confirmed to have a good degree of durability since the degree of polarization was maintained at 95% or more with respect to the initial value.

(透明導電性膜を有する偏光板の作製)
実施例9で得られた位相差素子(1)に対し、位相差膜を設けた面と反対側の面にスパッター機(中外炉工業社製)を用いて、以下の条件にて透明導電性膜(ITO膜)を形成し、透明導電性膜を有する位相差素子(12)を得た。
(Preparation of a polarizing plate having a transparent conductive film)
With respect to the retardation element (1) obtained in Example 9, the surface opposite to the surface on which the retardation film is provided, using a sputtering machine (manufactured by Chugai Kogyo Kogyo Co., Ltd.), transparent conductivity under the following conditions A film (ITO film) was formed to obtain a retardation element (12) having a transparent conductive film.

電源:MHzの高周波電源
基板温度:70℃
ターゲット:In23/SnO2=90/10(重量比)の合金
雰囲気:アルゴンガス流入下
スパッター速度:270オングストローム/分
スパッター圧力:10-2 Torr
得られたITO膜の厚さは2,500オングストローム、比抵抗は1.5×10-3Ω・cmであった。ITO膜の密着性を実施例9と同様に評価したところ、残膜率が100%であった。この位相差素子(12)を、位相差素子(1)の代わりに用いた以外は実施例19と同様にして偏光板(3)を得た。この偏光板(3)を80℃、90%相対湿度の条件下で500時間の耐久試験を行い、その外観変化を目視で観察したところ、いずれも白化や膨れ等の外観異常は認められず、また、偏光度についても、初期値に対して95%以上の偏光度を保持しており良好な耐久性を有していることが確認された。
Power supply: High frequency power supply of MHz Substrate temperature: 70 ° C
Target: Alloy of In 2 O 3 / SnO 2 = 90/10 (weight ratio) Atmosphere: Under argon gas inflow Sputter speed: 270 Å / min Sputter pressure: 10 −2 Torr
The obtained ITO film had a thickness of 2,500 Å and a specific resistance of 1.5 × 10 −3 Ω · cm. When the adhesion of the ITO film was evaluated in the same manner as in Example 9, the residual film ratio was 100%. A polarizing plate (3) was obtained in the same manner as in Example 19 except that this retardation element (12) was used instead of the retardation element (1). When this polarizing plate (3) was subjected to an endurance test for 500 hours under the conditions of 80 ° C. and 90% relative humidity, and visually observed for changes in its appearance, none of the appearance abnormalities such as whitening or swelling were observed. Further, the degree of polarization was also confirmed to have a good degree of durability since the degree of polarization was maintained at 95% or more with respect to the initial value.

(透明導電性膜を有する偏光板の作製)
位相差素子(1)の代わりに、実施例20で得られた位相差素子(11)を用いた以外は実施例21と同様にして位相差素子(13)を得た。
(Preparation of a polarizing plate having a transparent conductive film)
A phase difference element (13) was obtained in the same manner as in Example 21 except that the phase difference element (11) obtained in Example 20 was used instead of the phase difference element (1).

得られたITO膜の厚さは2,500オングストローム、比抵抗は1.5×10-3Ω・cmであった。ITO膜の密着性を実施例9と同様に評価したところ、残膜率が100%であった。この位相差素子(13)を、位相差素子(1)の代わりに用いた以外は実施例19と同様にして偏光板(4)を得た。この偏光板(4)を80℃、90%相対湿度の条件下で500時間の耐久試験を行い、その外観変化を目視で観察したところ、いずれも白化や膨れ等の外観異常は認められず、また、偏光度についても、初期値に対して95%以上の偏光度を保持しており良好な耐久性を有していることが確認された。 The obtained ITO film had a thickness of 2,500 Å and a specific resistance of 1.5 × 10 −3 Ω · cm. When the adhesion of the ITO film was evaluated in the same manner as in Example 9, the residual film ratio was 100%. A polarizing plate (4) was obtained in the same manner as in Example 19 except that this retardation element (13) was used instead of the retardation element (1). This polarizing plate (4) was subjected to a durability test for 500 hours under the conditions of 80 ° C. and 90% relative humidity, and when the appearance change was visually observed, no appearance abnormality such as whitening or blistering was observed. Further, the degree of polarization was also confirmed to have a good degree of durability since the degree of polarization was maintained at 95% or more with respect to the initial value.

本発明に係る位相差膜や位相差素子、偏光板は、優れた複屈折性および透明性を有しており、長期に渡って安定した視野角を得ることができることから、様々な光学部品に使用することができる。たとえば、携帯電話、ディジタル情報端末、ポケットベル、ナビゲーション、車載用液晶ディスプレイ、液晶モニター、調光パネル、OA機器用ディスプレイ、AV機器用ディスプレイなどの各種液晶表示素子、エレクトロルミネッセンス表示素子またはタッチパネルなどに使用することができる。また、CD、CD−R、MD、MO、
DVD等の光ディスクの記録・再生装置に使用される波長板としても有用である。
The retardation film, retardation element, and polarizing plate according to the present invention have excellent birefringence and transparency, and can obtain a stable viewing angle over a long period of time. Can be used. For example, mobile phones, digital information terminals, pagers, navigation, in-vehicle liquid crystal displays, liquid crystal monitors, dimming panels, OA equipment displays, AV equipment displays and other liquid crystal display elements, electroluminescence display elements, touch panels, etc. Can be used. CD, CD-R, MD, MO,
It is also useful as a wave plate used in an optical disk recording / reproducing apparatus such as a DVD.

Claims (7)

(A)長径と短径を有する形状異方性を示し、かつ長径方向の屈折率が長径方向と直交する方向の平均屈折率よりも大きく複屈折性を有する針状の無機粒子と、
(B)該針状の無機粒子(A)を固定化するための、硬化性化合物であるバインダーと
を含有する位相差膜形成用組成物であって、
該組成物から形成される無延伸状態の位相差膜に膜面平行方向と膜厚方向との屈折率の差を生じさせ、該膜面平行方向の屈折率が膜厚方向の屈折率よりも大きくなることを特徴とする位相差膜形成用組成物。
(A) needle-like inorganic particles exhibiting shape anisotropy having a major axis and a minor axis, and having a birefringence greater than the average refractive index in the direction perpendicular to the major axis direction in the major axis direction;
(B) A retardation film-forming composition containing a binder that is a curable compound for immobilizing the acicular inorganic particles (A),
A difference in refractive index between the film surface parallel direction and the film thickness direction is caused in the unstretched retardation film formed from the composition, and the refractive index in the film surface parallel direction is higher than the refractive index in the film thickness direction. A composition for forming a retardation film, which is large.
前記位相差膜形成用組成物から形成される位相差膜において、針状の無機粒子(A)の長径方向が膜平面に実質的に平行に配置され、
該針状の無機粒子(A)の長径方向の屈折率と長径方向と直交する方向の屈折率との差により、前記位相差膜に膜面平行方向と膜厚方向との屈折率の差を生じさせることを特徴とする請求項1に記載の位相差膜形成用組成物。
In the retardation film formed from the retardation film forming composition, the major axis direction of the needle-like inorganic particles (A) is arranged substantially parallel to the film plane,
Due to the difference between the refractive index in the major axis direction of the needle-like inorganic particles (A) and the refractive index in the direction perpendicular to the major axis direction, the retardation film has a difference in refractive index between the film surface parallel direction and the film thickness direction. The composition for forming a retardation film according to claim 1, wherein the composition is formed.
前記位相差膜の膜面平行方向の屈折率と膜厚方向の屈折率との差が0.010以上であることを特徴とする請求項1または2に記載の位相差膜形成用組成物。   3. The composition for forming a retardation film according to claim 1, wherein a difference between a refractive index in the film surface parallel direction and a refractive index in the film thickness direction of the retardation film is 0.010 or more. 前記針状の無機粒子(A)が、平均長径が2μm以下の結晶性を有する針状の無機粒子であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の位相差膜形成用組成物。   The composition for forming a retardation film according to any one of claims 1 to 3, wherein the acicular inorganic particles (A) are acicular inorganic particles having crystallinity having an average major axis of 2 µm or less. object. 前記硬化性化合物が、(i)メラミン化合物、(ii)イソシアネート化合物、(iii)アクリレート化合物、(iv)エポキシ化合物、または(v)加水分解性シラン化合物であることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の位相差膜形成用組成物。   The curable compound is (i) a melamine compound, (ii) an isocyanate compound, (iii) an acrylate compound, (iv) an epoxy compound, or (v) a hydrolyzable silane compound. 5. The composition for forming a retardation film according to any one of 4 above. バインダー(B)の添加量が、針状の無機粒子(A)100重量部に対して、1〜200重量部であることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の位相差膜形成用組成物。   The retardation film according to any one of claims 1 to 5, wherein the amount of the binder (B) added is 1 to 200 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the needle-like inorganic particles (A). Forming composition. 硬化開始剤(C)を含有することを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の位相差膜形成用組成物。   The composition for forming a retardation film according to claim 1, further comprising a curing initiator (C).
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