JP4679357B2 - Fluorine-containing diamine and polymer using the same - Google Patents

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本発明は、新規なヘキサフルオロイソプロパノール基含有ジアミンまたはその誘導体、さらには該ヘキサフルオロイソプロパノール基含有ジアミンまたはその誘導体を用いて得られた重合体に関する。   The present invention relates to a novel hexafluoroisopropanol group-containing diamine or derivative thereof, and further to a polymer obtained using the hexafluoroisopropanol group-containing diamine or derivative thereof.

一般にジアミンは、ポリイミド、ポリアミド、ポリアミン、ポリ尿素などの縮合または付加重合用モノマーとして使用される。得られた重合体は主として分子内に環状構造を有するため、引っ張り強度、曲げ強度などの機械的強度が大きく、熱分解温度、熱変形温度などの熱的安定性に優れる等の多くの特徴があり、高性能エンジニアリングプラスチックとして位置づけられている。   In general, diamine is used as a monomer for condensation or addition polymerization such as polyimide, polyamide, polyamine, and polyurea. The obtained polymer mainly has a cyclic structure in the molecule, so that it has many mechanical strengths such as tensile strength and bending strength, and excellent thermal stability such as thermal decomposition temperature and thermal deformation temperature. Yes, it is positioned as a high-performance engineering plastic.

これらの樹脂についてはエンジニアリングプラスチック、耐熱性コーティング材料、電子材料、電子部品材料、光学材料など様々な応用がなされているが、特に半導体や光学用部材への用途を想定すると、通信機器の発達とともに高速処理用、高周波用などのニーズが増加していることから、その結果として、低誘電率性や高透明性が求められている。また低熱膨張であることも重要なポイントとされている。このような低誘電率を付与するための手段や高透明性を与える手段としては電子密度を低下させる含フッ素重合体が活発に研究されている。例えば、非特許文献1には、含フッ素ポリイミドの低誘電率化に関しての記載があり、その中で引用されている非特許文献2には、フッ素含量を増加させることにより誘電率が低くなることが開示されている。   These resins are used in various applications such as engineering plastics, heat-resistant coating materials, electronic materials, electronic component materials, and optical materials, but with the development of communication equipment, especially assuming applications to semiconductors and optical components. As needs for high-speed processing and high-frequency processing are increasing, low dielectric constant and high transparency are required as a result. In addition, low thermal expansion is an important point. As means for imparting such a low dielectric constant and means for imparting high transparency, fluorine-containing polymers that lower the electron density have been actively studied. For example, Non-Patent Document 1 has a description of lowering the dielectric constant of a fluorine-containing polyimide, and Non-Patent Document 2 cited therein has a lower dielectric constant by increasing the fluorine content. Is disclosed.

含フッ素化合物は、フッ素原子が有する低吸水性、耐熱性、耐候性、耐腐食性、透明性、低屈折率性、低誘電性などの特徴を持つことから最先端分野を中心に幅広い応用分野で利用されており、主に各波長におけるコーティング分野で応用されている。   Fluorine-containing compounds have features such as low water absorption, heat resistance, weather resistance, corrosion resistance, transparency, low refractive index, and low dielectric properties of fluorine atoms. And is mainly applied in the coating field at each wavelength.

従来、該含フッ素重合体中のフッ素含量を上げる方法としては、長鎖パーフルオロアルキルの導入や芳香環の水素をフッ素で置換する方法が知られているが、多くの場合、これらの方法はシリコン基板に対する密着性を低下させてしまう。例えば、特許文献3には、含フッ素ポリイミドで構成される光導波路の発明が開示されているが、基板との密着性を改善するために接着層を設ける必要があることが開示されている。そこで、高いフッ素含有量を維持および密着性を保持しつつ、低誘電性や高透明性などの特性を発現する含フッ素重合体が求められていた。
日本ポリイミド研究会編「最新ポリイミド−基礎と応用−」P269〜283(2002年) 日東技報,28(2),49,(1990) 特開2001−100055号公報
Conventionally, as a method for increasing the fluorine content in the fluoropolymer, a method of introducing a long chain perfluoroalkyl or a method of substituting hydrogen of an aromatic ring with fluorine is known. Adhesiveness to the silicon substrate is reduced. For example, Patent Document 3 discloses an invention of an optical waveguide made of fluorine-containing polyimide, but it is disclosed that an adhesive layer needs to be provided in order to improve adhesion to a substrate. Accordingly, there has been a demand for a fluorine-containing polymer that exhibits characteristics such as low dielectric properties and high transparency while maintaining a high fluorine content and maintaining adhesion.
Japan Polyimide Study Group "Latest Polyimide-Basics and Applications-" P269-283 (2002) Nitto Technical Report, 28 (2), 49, (1990) Japanese Patent Laid-Open No. 2001-100055

本発明は、上記の問題を鑑みてなされたものであり、低誘電性、高透明性を有し、かつ現像液として使用されるアルカリ水溶液および有機溶媒への高溶解性、基板への高密着性、高製膜性を達成するため、高いフッ素含有量を維持および密着性を保持しつつ、低誘電性や高透明性などの特性を発現する含フッ素重合体を提供することを課題とする。   The present invention has been made in view of the above problems, and has low dielectric properties, high transparency, high solubility in an alkaline aqueous solution and an organic solvent used as a developer, and high adhesion to a substrate. To provide a fluorine-containing polymer that exhibits characteristics such as low dielectric properties and high transparency while maintaining high fluorine content and maintaining adhesion, in order to achieve high properties and high film-forming properties. .

本発明者らは、上記の課題を解決するため、新規のジアミンの開発に鋭意検討したところ、同一分子内にヘキサフルオロイソプロパノール基を導入する新規なモノマーを見出し、かつその重合体を種々検討することで、これまでにない誘電率の低下、透明性の向上、かつ現像液として使用されるアルカリ水溶液および有機溶媒への高溶解性、基板への高密着性、高製膜性を実現し、本発明を完成するに至った。本発明で用いるヘキサフルオロイソプロパノール基含有重合体は、フッ素と水酸基とを含有しているため、密着性を保持しつつ、低誘電性や高透明性などの特性を発現することが可能となる。新規なヘキサフルオロイソプロパノール基含有ジアミン、またはその誘導体、さらにはヘキサフルオロイソプロパノール基含有ジアミンまたはその誘導体を用いた重合体及び酸不安定性化合物の提供を目的とする
すなわち、本発明は、式(1)で表される含フッ素ジアミンである。
In order to solve the above-mentioned problems, the present inventors diligently studied the development of a new diamine. As a result, they found a new monomer for introducing a hexafluoroisopropanol group into the same molecule, and studied various polymers thereof. In this way, unprecedented decrease in dielectric constant, improved transparency, and high solubility in alkaline aqueous solutions and organic solvents used as a developer, high adhesion to substrates, and high film-forming properties, The present invention has been completed. Since the hexafluoroisopropanol group-containing polymer used in the present invention contains fluorine and a hydroxyl group, it is possible to exhibit characteristics such as low dielectric property and high transparency while maintaining adhesion. It is an object of the present invention to provide a novel hexafluoroisopropanol group-containing diamine, or a derivative thereof, and further a polymer and an acid labile compound using the hexafluoroisopropanol group-containing diamine or derivative thereof. It is a fluorine-containing diamine represented by these.

Figure 0004679357
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また、本発明は、式(1)で示されるジアミンと一般式(2)   The present invention also relates to a diamine represented by formula (1) and a general formula (2)

Figure 0004679357
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で表されるテトラカルボン酸あるいは一般式(3) Or a tetracarboxylic acid represented by the general formula (3)

Figure 0004679357
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で表されるテトラカルボン酸二無水物を反応させて得られる重合体であって、一般式(4) A polymer obtained by reacting tetracarboxylic dianhydride represented by the general formula (4):

Figure 0004679357
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(式中、Rは芳香環を含む4価の有機基であり、カルボニル炭素はイミド五員環を形成するようにRの芳香環に互いにオルト位に結合している。)で示される含フッ素ポリアミド酸、および、これを脱水して得られる、一般式(5) (Wherein R is a tetravalent organic group containing an aromatic ring, and the carbonyl carbon is bonded to the aromatic ring of R in the ortho position so as to form an imide five-membered ring). Polyamic acid and general formula (5) obtained by dehydrating it

Figure 0004679357
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(式中、Rは一般式(4)と同じ)で示される含フッ素ポリイミド樹脂である。 (Wherein, R is the same as the general formula (4)).

また、本発明は、式(1)で示されるジアミンと一般式(6)   The present invention also relates to a diamine represented by formula (1) and a general formula (6).

Figure 0004679357
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(式中、Rは芳香環を含む2価の有機基である。Xは−OH基、ハロゲン(フッ素、塩素、臭素またはヨウ素)原子または−OR’基でR’はアルキル基またはフェニル基を示す。)で示されるジカルボン酸、ジカルボン酸ハライドおよびジカルボン酸ジエステルから選ばれる1種とを反応させて得られる重合体であって、一般式(7) Wherein R 1 is a divalent organic group containing an aromatic ring. X is an —OH group, a halogen (fluorine, chlorine, bromine or iodine) atom or —OR ′ group, and R ′ is an alkyl group or a phenyl group. A polymer obtained by reacting with one selected from dicarboxylic acids, dicarboxylic acid halides and dicarboxylic acid diesters represented by general formula (7):

Figure 0004679357
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(式中、Rは一般式(6)と同じ)で表される構成単位を含む含フッ素ポリアミド樹脂である。 (In the formula, R 1 is the same fluorine-containing polyamide resin as the structural unit represented by the general formula (6)).

本発明により、高いフッ素含有量を維持および密着性を保持しつつ、低誘電性や高透明性などの特性を発現する新規な含フッ素ポリイミドまたはその前駆体である含フッ素ポリアミド酸さらにそれらの重合体が提供できる。   According to the present invention, a novel fluorine-containing polyimide or its precursor fluorine-containing polyamic acid that exhibits characteristics such as low dielectric properties and high transparency while maintaining a high fluorine content and maintaining adhesion, and their weight Coalition can be provided.

以下に本発明を詳細に説明する。   The present invention is described in detail below.

本発明は式(1)で表されるヘキサフルオロイソプロパノール基含有ジアミン(以下、含フッ素ジアミン(1)という)、及びその応用に関するものである。さらに、該含フッ素ジアミン(1)を出発原料にした重合体あるいは酸不安定性化合物に関する。本発明の含フッ素ジアミン(1)の製造方法は特に限定されないが、簡便には3,5−ジニトロベンゾイルクロリドと式(8)   The present invention relates to a hexafluoroisopropanol group-containing diamine represented by the formula (1) (hereinafter referred to as fluorine-containing diamine (1)) and its application. Further, the present invention relates to a polymer or an acid labile compound using the fluorine-containing diamine (1) as a starting material. The production method of the fluorine-containing diamine (1) of the present invention is not particularly limited, but for convenience, 3,5-dinitrobenzoyl chloride and the formula (8)

Figure 0004679357
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で表される化合物を原料として、それらの縮合反応と、ニトロ基の還元により製造することができる。 Can be produced by the condensation reaction and reduction of the nitro group.

例えば、3,5−ジニトロベンゾイルクロリドと式(8)で表される化合物との縮合反応では、両原料を有機溶媒に溶解し反応する方法、もしくは両原料を相互に溶解(溶融)させて無溶媒で反応させる方法が採られる。好ましくは、等モル数の両原料の存在下で、有機溶媒中では−20〜80℃で、無溶媒では100〜250℃の温度範囲で反応させる方法が挙げられる。これらの温度範囲よりも低ければ反応は進行せず、高い場合は副反応が起こりやすい。また、この縮合反応では3,5−ジニトロベンゾイルクロリドの代わりに、3,5−ジニトロ安息香酸を用いることも出来る。   For example, in the condensation reaction between 3,5-dinitrobenzoyl chloride and the compound represented by the formula (8), a method in which both raw materials are dissolved in an organic solvent and reacted, or both raw materials are dissolved (melted) with each other and dissolved. A method of reacting with a solvent is employed. Preferably, the reaction is carried out in the presence of an equimolar number of both raw materials in a temperature range of -20 to 80 ° C in an organic solvent and 100 to 250 ° C in the absence of a solvent. If the temperature is lower than these temperature ranges, the reaction does not proceed, and if it is higher, side reactions tend to occur. In this condensation reaction, 3,5-dinitrobenzoic acid can be used in place of 3,5-dinitrobenzoyl chloride.

縮合反応で得られたニトロ化合物のニトロ基の還元反応では、水素ガスを用いた接触水素化法、もしくは通常金属と酸を用いた化学的水素化法が採られる。好ましくは、ニトロ化合物とパラジウムもしくは白金触媒の存在下、有機溶媒中で20〜100℃の温度範囲で水素ガスを接触させて反応させる方法が挙げられる。   In the reduction reaction of the nitro group of the nitro compound obtained by the condensation reaction, a catalytic hydrogenation method using hydrogen gas or a chemical hydrogenation method usually using a metal and an acid is employed. Preferably, a method in which hydrogen gas is brought into contact with each other in the temperature range of 20 to 100 ° C. in an organic solvent in the presence of a nitro compound and a palladium or platinum catalyst is mentioned.

これらの縮合反応および還元反応で用いる有機溶媒としては、原料もしくは反応生成物が溶解すれば特に限定されない。N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)、N,N−ジメチルアセトアミド(DMAc)、ジメチルスルホキシド(DMSO)、フェノール、o−クレゾール、N−メチル−2−ピロリドン、スルホラン、m−クレゾール、p−クレゾール、3−クロロフェノール、4−クロロフェノール、γ−ブチロラクトン、γ−バレロラクトン、δ−バレロラクトン、γ−カプロラクトン、ε−カプロラクトン、α−メチル−γ−ブチロラクトン、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、トリエチレングリコール、アセトフェノン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、酢酸ブチル、酢酸エチル、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、2−メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、ジブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールメチルアセテート、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、アセトン、ブタノール、エタノール、メタノール、キシレン、トルエン、クロルベンゼン、ターペン、ミネラルスピリット、石油ナフサ系溶媒など特に限定することなく使用できる。   The organic solvent used in these condensation reaction and reduction reaction is not particularly limited as long as the raw material or the reaction product is dissolved. N, N-dimethylformamide (DMF), N, N-dimethylacetamide (DMAc), dimethyl sulfoxide (DMSO), phenol, o-cresol, N-methyl-2-pyrrolidone, sulfolane, m-cresol, p-cresol, 3-chlorophenol, 4-chlorophenol, γ-butyrolactone, γ-valerolactone, δ-valerolactone, γ-caprolactone, ε-caprolactone, α-methyl-γ-butyrolactone, ethylene carbonate, propylene carbonate, triethylene glycol, Acetophenone, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, butyl acetate, ethyl acetate, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, 2-methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, butyl cellosolve acetate, acetic acid Chill, butyl acetate, isobutyl acetate, dibutyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, propylene glycol methyl acetate, tetrahydrofuran, dimethoxyethane, diethoxyethane, methyl isobutyl ketone, diisobutyl ketone, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, acetone, butanol, ethanol, methanol, xylene, toluene , Chlorobenzene, terpenes, mineral spirits, petroleum naphtha solvents and the like can be used without any particular limitation.

また本発明による重合体は式(1)で示される含フッ素ジアミンまたはその誘導体を用いて製造され、その重合体としては特に限定されないが、ポリイミド、ポリアミド、ポリアミン、ポリ尿素およびその前駆体であるポリアミド酸などやポリアミドイミド、ポリエステルイミドなどこれらの数種の縮合反応を併用した共重合体が挙げられる。中でも、ポリイミドは高い耐熱性を具備した電子材料、光学材料として幅広い応用が期待できる。   The polymer according to the present invention is produced using the fluorine-containing diamine represented by the formula (1) or a derivative thereof, and the polymer is not particularly limited, but is a polyimide, polyamide, polyamine, polyurea and a precursor thereof. Examples thereof include a copolymer in which several kinds of condensation reactions such as polyamide acid, polyamideimide, and polyesterimide are used in combination. Among these, polyimide can be expected to have a wide range of applications as an electronic material and an optical material having high heat resistance.

本発明の含フッ素重合体の製造方法は特に限定されないが、含フッ素ジアミン(1)から合成されたアミド、エステルおよびエーテル形成性誘導体をモノマーとして用い、その反応性官能基と反応し得る対モノマーと縮合、付加重合、重付加などの機構で重合される。したがって、ポリエステルおよびポリエーテルを合成する場合は対モノマーとしてジオール化合物が用いられ、ポリアミドを合成する場合は対モノマーとしてジアミン化合物が用いられる。本発明に使用できるこれらの対モノマーの構造は特に制限されるものではなく、公知の化合物を使用することができる。   The method for producing the fluoropolymer of the present invention is not particularly limited, but an amide, ester and ether-forming derivative synthesized from the fluorodiamine (1) is used as a monomer and can be reacted with its reactive functional group. Polymerized by a mechanism such as condensation, addition polymerization or polyaddition. Accordingly, when synthesizing polyester and polyether, a diol compound is used as a counter monomer, and when synthesizing polyamide, a diamine compound is used as a counter monomer. The structure of these counter monomers that can be used in the present invention is not particularly limited, and known compounds can be used.

本発明の含フッ素ポリイミドおよび含フッ素ポリアミドの製造において、原料として含フッ素ジアミン(1)またはそのアミド形成性誘導体を用いた場合、それ以外のアミン成分またはそのアミド形成誘導体を共重合することも可能である。その併用できるジアミン化合物としては特に限定されないが、具体的には、3,5−ジアミノベンゾトリフルオリド、2,5−ジアミノベンゾトリフルオリド、3,3’−ビストリフルオロメチル−4,4’−ジアミノビフェニル、3,3’−ビストリフルオロメチル−5,5’−ジアミノビフェニル、ビス(トリフルオロメチル)−4,4’−ジアミノジフェニル、ビス(フッ素化アルキル)−4,4’−ジアミノジフェニル、ジクロロ−4,4’−ジアミノジフェニル、ジブロモ−4,4’−ジアミノジフェニル、ビス(フッ素化アルコキシ)−4,4’−ジアミノジフェニル、ジフェニル−4,4’−ジアミノジフェニル、4,4’−ビス(4−アミノテトラフルオロフェノキシ)テトラフルオロベンゼン、4,4’−ビス(4−アミノテトラフルオロフェノキシ)オクタフルオロビフェニル、4,4’−ビナフチルアミン、o−、m−、p−フェニレンジアミン、2,4−ジアミノトルエン、2,5−ジアミノトルエン、2,4−ジアミノキシレン、2,4−ジアミノジュレン、ジメチル−4,4’−ジアミノジフェニル、ジアルキル−4,4’−ジアミノジフェニル、ジメトキシ−4,4’−ジアミノジフェニル、ジエトキシ−4,4’−ジアミノジフェニル、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、3,4’−ジアミノジフェニルエーテル、4,4’−ジアミノジフェニルスルフォン、3,3’−ジアミノジフェニルスルフォン、4,4’−ジアミノベンゾフェノン、3,3’−ジアミノベンゾフェノン、1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、4,4’−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル、ビス(4−(3−アミノフェノキシ)フェニル)スルフォン、ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)スルフォン、2,2−ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)プロパン、2,2−ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(4−(3−アミノフェノキシ)フェニル)プロパン、2,2−ビス(4−(3−アミノフェノキシ)フェニル)ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(4−(4−アミノ−2−トリフルオロメチルフェノキシ)フェニル)ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(4−(3−アミノ−5−トリフルオロメチルフェノキシ)フェニル)ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(4−アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(3−アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(3−アミノ−4−メチルフェニル)ヘキサフルオロプロパン、4,4’−ビス(4−アミノフェノキシ)オクタフルオロビフェニル、4,4’−ジアミノベンズアニリド等が例示できる。また、これらのジアミン化合物を2種以上併用することもできる。   When the fluorine-containing diamine (1) or its amide-forming derivative is used as a raw material in the production of the fluorine-containing polyimide and fluorine-containing polyamide of the present invention, it is possible to copolymerize other amine components or its amide-forming derivatives. It is. The diamine compound that can be used in combination is not particularly limited. Specifically, 3,5-diaminobenzotrifluoride, 2,5-diaminobenzotrifluoride, 3,3′-bistrifluoromethyl-4,4′-diamino Biphenyl, 3,3′-bistrifluoromethyl-5,5′-diaminobiphenyl, bis (trifluoromethyl) -4,4′-diaminodiphenyl, bis (fluorinated alkyl) -4,4′-diaminodiphenyl, dichloro -4,4'-diaminodiphenyl, dibromo-4,4'-diaminodiphenyl, bis (fluorinated alkoxy) -4,4'-diaminodiphenyl, diphenyl-4,4'-diaminodiphenyl, 4,4'-bis (4-Aminotetrafluorophenoxy) tetrafluorobenzene, 4,4′-bis (4-amino Tetrafluorophenoxy) octafluorobiphenyl, 4,4'-binaphthylamine, o-, m-, p-phenylenediamine, 2,4-diaminotoluene, 2,5-diaminotoluene, 2,4-diaminoxylene, 2, 4-diaminodurene, dimethyl-4,4′-diaminodiphenyl, dialkyl-4,4′-diaminodiphenyl, dimethoxy-4,4′-diaminodiphenyl, diethoxy-4,4′-diaminodiphenyl, 4,4 ′ -Diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,4'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenyl sulfone, 3,3'-diaminodiphenyl sulfone, 4,4'-diaminobenzophenone, 3,3 ' -Diaminobenzophenone, 1,3-bis (3- Minophenoxy) benzene, 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, 4,4′-bis (4-aminophenoxy) biphenyl, bis (4- ( 3-aminophenoxy) phenyl) sulfone, bis (4- (4-aminophenoxy) phenyl) sulfone, 2,2-bis (4- (4-aminophenoxy) phenyl) propane, 2,2-bis (4- ( 4-aminophenoxy) phenyl) hexafluoropropane, 2,2-bis (4- (3-aminophenoxy) phenyl) propane, 2,2-bis (4- (3-aminophenoxy) phenyl) hexafluoropropane, 2 , 2-bis (4- (4-amino-2-trifluoromethylphenoxy) phenyl) hexafluoropropane, 2,2-bi (4- (3-amino-5-trifluoromethylphenoxy) phenyl) hexafluoropropane, 2,2-bis (4-aminophenyl) hexafluoropropane, 2,2-bis (3-aminophenyl) hexafluoro Propane, 2,2-bis (3-amino-4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane, 2,2-bis (3-amino-4-methylphenyl) hexafluoropropane, 4,4′-bis (4-amino) Phenoxy) octafluorobiphenyl, 4,4′-diaminobenzanilide and the like. Two or more of these diamine compounds can be used in combination.

本発明の含フッ素ポリアミド酸は、一般式(4)(式中、Rは芳香環を含む4価の有機基であり、カルボニル炭素はイミド五員環を形成するようにRの芳香環に互いにオルト位に結合している。)で表される含フッ素ポリアミド酸である。   The fluorine-containing polyamic acid of the present invention has the general formula (4) (wherein R is a tetravalent organic group containing an aromatic ring, and the carbonyl carbon is mutually bonded to the aromatic ring of R so as to form an imide five-membered ring. It is bonded to the ortho position.).

Figure 0004679357
Figure 0004679357

また、本発明中の含フッ素ポリイミドとは、一般式(5)(式中、Rは芳香環を含む4価の有機基であり、カルボニル炭素はイミド五員環を形成するようにRの芳香環に互いにオルト位に結合している。)で表される構成単位を含む含フッ素ポリイミドである。   In addition, the fluorine-containing polyimide in the present invention is represented by the general formula (5) (wherein R is a tetravalent organic group containing an aromatic ring, and the carbonyl carbon is a fragrance of R so as to form an imide five-membered ring. And a fluorine-containing polyimide containing a structural unit represented by the following formula:

Figure 0004679357
Figure 0004679357

本発明の含フッ素ポリイミドは一般式(5)で表される構成単位からなるかまたは該構成単位が1〜100モル%の範囲のポリマーである。一般式(5)で表される構成単位が1モル%以下の場合は、それから得られた膜の誘電率が充分低くはならず好ましくない。   The fluorine-containing polyimide of the present invention is composed of a structural unit represented by the general formula (5) or a polymer having the structural unit in the range of 1 to 100 mol%. When the constitutional unit represented by the general formula (5) is 1 mol% or less, the dielectric constant of the film obtained therefrom is not sufficiently low, which is not preferable.

一般式(4)または(5)におけるRは芳香環を含む4価の有機基であれば特にその構造に限定されないが、下記式   R in the general formula (4) or (5) is not particularly limited as long as it is a tetravalent organic group containing an aromatic ring.

Figure 0004679357
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または、下記一般式で示される基が例示できる。 Or the group shown with the following general formula can be illustrated.

Figure 0004679357
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ここで、式中のYはそれぞれ独立に単結合、−O−、−S−、−SO−、−CO−、−CH−、−C(CH−、−CF−、−C(CF−であり、m、nはそれぞれ0〜3の整数である。これらの一般式中のベンゼン環は、適宜、C−Cの低級アルキル基、塩素、臭素、フッ素等のハロゲン原子で置換されていてもよい。ここでmが0、nが1のものが特に好ましく、例えば一般式(3)の置換基が例示できる。これらの一般式中のベンゼン環は、適宜、C−Cの低級アルキル基、塩素、臭素、フッ素等のハロゲン原子で置換されていてもよい。 Here, each Y in the formula is independently a single bond, —O—, —S—, —SO 2 —, —CO—, —CH 2 —, —C (CH 3 ) 2 —, —CF 2 —, —C (CF 3 ) 2 —, and m and n are each an integer of 0 to 3. The benzene ring in these general formulas may be optionally substituted with a C 1 -C 5 lower alkyl group, or a halogen atom such as chlorine, bromine or fluorine. Here, those in which m is 0 and n is 1 are particularly preferred, and examples thereof include a substituent of the general formula (3). The benzene ring in these general formulas may be optionally substituted with a C 1 -C 5 lower alkyl group, or a halogen atom such as chlorine, bromine or fluorine.

本発明で使用できるテトラカルボン酸二無水物としては、その構造は特に限定されないが、例えば、トリフルオロメチルベンゼンテトラカルボン酸二無水物、ビストリフルオロメチルベンゼンテトラカルボン酸二無水物、ジフルオロベンゼンテトラカルボン酸二無水物、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ターフェニルテトラカルボン酸二無水物、ヘキサフルオロイソプロピリデンジフタル酸二無水物、オキシジフタル酸ニ無水物、ビシクロ(2,2,2)オクト−7−エン−2,3,5,6−テトラカルボン酸二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)フェキサフルオロプロパン酸二無水物(6FDA)などが挙げられる。   The structure of the tetracarboxylic dianhydride that can be used in the present invention is not particularly limited. For example, trifluoromethylbenzenetetracarboxylic dianhydride, bistrifluoromethylbenzenetetracarboxylic dianhydride, difluorobenzenetetracarboxylic Acid dianhydride, biphenyltetracarboxylic dianhydride, terphenyltetracarboxylic dianhydride, hexafluoroisopropylidenediphthalic dianhydride, oxydiphthalic dianhydride, bicyclo (2,2,2) oct-7 -Ene-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) fexafluoropropanoic dianhydride (6FDA) and the like.

本発明の含フッ素ポリイミドおよびその前駆体である含フッ素ポリアミド酸は前記ジアミン成分と前記テトラカルボン酸二無水物を反応させることで製造することができる。この重合反応の方法、条件については特に制限されない。例えば、前記ジアミン成分と前記テトラカルボン酸二無水物を100〜250℃、好ましくは150〜200℃の温度範囲で相互に溶解(溶融)させて無溶媒で反応させる方法、また有機溶媒中高温(100〜250℃、好ましくは150〜200℃の温度範囲)で反応させる方法でほとんどまたは完全に閉環したポリイミドが得られる。また、前記ジアミン成分と前記テトラカルボン酸二無水物を−20〜80℃の温度で有機溶媒中にて反応させることで閉環していないかまたは部分的にしか閉環していない一般式(4)で表される前駆体の含フッ素ポリアミド酸を得る方法などが採用される。   The fluorine-containing polyimide of the present invention and the fluorine-containing polyamic acid which is a precursor thereof can be produced by reacting the diamine component with the tetracarboxylic dianhydride. The method and conditions for this polymerization reaction are not particularly limited. For example, a method in which the diamine component and the tetracarboxylic dianhydride are dissolved (melted) with each other in a temperature range of 100 to 250 ° C., preferably 150 to 200 ° C., and reacted without a solvent, or in a high temperature in an organic solvent ( 100-250 ° C., preferably 150-200 ° C.), a polyimide with almost or completely ring closure is obtained. In addition, the diamine component and the tetracarboxylic dianhydride are reacted in an organic solvent at a temperature of -20 to 80 ° C., so that the ring is not closed or only partially closed (4) The method of obtaining the precursor fluorine-containing polyamic acid represented by these is employ | adopted.

前駆体である含フッ素ポリアミド酸または部分的に閉環したイミドは100〜350℃、好ましくは250〜300℃の温度範囲で、必要に応じて無水酢酸、無水プロピオン酸、無水安息香酸などの酸無水物、ジシクロヘキシルカルボジイミドなどの閉環剤、さらにピリジン、イソキノリン、トリメチルアミン、アミノピリジン、イミダゾールなどの閉環触媒を適宜添加して、閉環させることでポリイミドとすることができる。   The precursor fluorine-containing polyamic acid or partially ring-closed imide is an acid anhydride such as acetic anhydride, propionic anhydride, benzoic anhydride or the like at a temperature range of 100 to 350 ° C., preferably 250 to 300 ° C. It is possible to obtain a polyimide by adding a ring closing catalyst such as a product, dicyclohexylcarbodiimide, and a ring closing catalyst such as pyridine, isoquinoline, trimethylamine, aminopyridine, and imidazole as appropriate.

またこれらの重合反応に際しては、前記テトラカルボン酸二無水物をアルコールで開環したジエステルジカルボン酸誘導体、およびそのジハライド誘導体も前記ジアミンと重合することができる。特にこの場合の該ポリイミド前駆体はポリアミド酸エステルとなり、ポリアミド酸より長期保存安定性などの面で優れる。   In these polymerization reactions, a diester dicarboxylic acid derivative obtained by ring-opening the tetracarboxylic dianhydride with an alcohol and a dihalide derivative thereof can also be polymerized with the diamine. In particular, the polyimide precursor in this case is a polyamic acid ester, which is superior to polyamic acid in terms of long-term storage stability.

本発明の含フッ素ポリアミドとは、一般式(7)(式中、Rは芳香環を含む2価の有機基である。)で表される構成単位を含む高分子化合物である。 The fluorine-containing polyamide of the present invention is a polymer compound containing a structural unit represented by the general formula (7) (wherein R 1 is a divalent organic group containing an aromatic ring).

Figure 0004679357
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一般式(7)におけるRは芳香環を含む2価の有機基であれば特にその構造には限定されないが、下記式 R 1 in the general formula (7) is not particularly limited as long as it is a divalent organic group containing an aromatic ring.

Figure 0004679357
Figure 0004679357

または、下記一般式で示される基が例示できる。 Or the group shown with the following general formula can be illustrated.

Figure 0004679357
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ここで、式中のYはそれぞれ独立に単結合、−O−、−S−、−SO−、−CO−、−CH−、−C(CH−、−CF−、−C(CF−であり、mは1〜3の整数である。これらの一般式中のベンゼン環は、適宜、C−Cの低級アルキル基、塩素、臭素、フッ素等のハロゲン原子で置換されていてもよい。これらの一般式中のベンゼン環は、適宜、C−Cの低級アルキル基、塩素、臭素、フッ素等のハロゲン原子で置換されていてもよい。 Here, each Y in the formula is independently a single bond, —O—, —S—, —SO 2 —, —CO—, —CH 2 —, —C (CH 3 ) 2 —, —CF 2 —, -C (CF 3) 2 - a and, m is an integer of 1 to 3. The benzene ring in these general formulas may be optionally substituted with a C 1 -C 5 lower alkyl group, or a halogen atom such as chlorine, bromine or fluorine. The benzene ring in these general formulas, optionally, a lower alkyl group of C 1 -C 5, chlorine, bromine, optionally substituted by halogen atoms such as fluorine.

本発明で使用できる一般式(6)で表されるジカルボン酸、ジカルボン酸ジハライド、ジカルボン酸ジエステルとしては、その構造は特に限定されないが、一般に公知の相当する化合物を広く用いることが可能である。ジカルボン酸ジハライドで用いられるハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素原子が挙げられ、特に塩素、臭素原子を用いたジカルボン酸ジクロライド、ジカルボン酸ジブロマイドが好適に用いられる。また、ジカルボン酸ジエステルで用いられる−OR’基のR’は特に限定されないが、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等、ヘキシル基、ノニル基等のC−C10のアルキル基、メチル基またはエチル基等のアルキル基が置換したフェニル基あるいは非置換のフェニル基等が挙げられ、特にメチル基、エチル基、フェニル基を用いたジカルボン酸ジメチルエステル、ジカルボン酸ジエチルエステル、ジカルボン酸ジフェニルエステルが好適に用いられる。 The structure of the dicarboxylic acid, dicarboxylic acid dihalide, and dicarboxylic acid diester represented by the general formula (6) that can be used in the present invention is not particularly limited, but generally known corresponding compounds can be widely used. Examples of the halogen atom used in the dicarboxylic acid dihalide include fluorine, chlorine, bromine and iodine atoms. In particular, dicarboxylic acid dichloride and dicarboxylic acid dibromide using chlorine and bromine atoms are preferably used. Although not particularly limited 'radicals R' -OR is used in the dicarboxylic acid diester, methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a hexyl group, an alkyl group of C 1 -C 10, such as a nonyl group, Examples thereof include a phenyl group substituted with an alkyl group such as a methyl group or an ethyl group, or an unsubstituted phenyl group. In particular, a dicarboxylic acid dimethyl ester, a dicarboxylic acid diethyl ester, or a dicarboxylic acid diphenyl using a methyl group, an ethyl group, or a phenyl group. Esters are preferably used.

より具体的には、例えばシュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸等の脂肪族ジカルボン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、3,3’−ジカルボキシルジフェニルエーテル、3,4’ジカルボキシルジフェニルエーテル、4,4’−ジカルボキシルジフェニルエーテル、3,3’−ジカルボキシルジフェニルメタン、3,4’−ジカルボキシルジフェニルメタン、4,4’−ジカルボキシルジフェニルメタン、3,3’−ジカルボキシルジフェニルジフルオロメタン、3,4’−ジカルボキシルジフェニルジフルオロメタン、4,4’−ジカルボキシルジフェニルジフルオロメタン、3,3’−ジカルボキシルジフェニルスルホン、3,4’−ジカルボキシルジフェニルスルホン、4,4’−ジカルボキシルジフェニルスルホン、3,3’−ジカルボキシルジフェニルスルフィド、3,4’−ジカルボキシルジフェニルスルフィド、4,4’−ジカルボキシルジフェニルスルフィド、3,3’−ジカルボキシルジフェニルケトン、3,4’−ジカルボキシルジフェニルケトン、4,4’−ジカルボキシルジフェニルケトン、2,2−ビス(3−カルボキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(3,4’−ジカルボキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−カルボキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(3−カルボキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(3,4’−ジカルボキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(4−カルボキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン、1,3−ビス(3−カルボキシフェノキシ)ベンゼン、1,4−ビス(3ーカルボキシフェノキシ)ベンゼン、1,4ービス(4ーカルボキシフェノキシ)ベンゼン、 3,3’−(1,4−フェニレンビス(1−メチルエチリデン))ビス安息香酸、3,4’−(1,4−フェニレンビス(1−メチルエチリデン))ビス安息香酸、4,4’−(1,4−フェニレンビス(1−メチルエチリデン))ビス安息香酸、2,2−ビス(4(3ーカルボキシフェノキシ)フェニル)プロパン、2,2−ビス(4−(4−カルボキシフェノキシ)フェニル)プロパン、2,2−ビス(4−(3−カルボキシフェノキシ)フェニル)ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(4−(4ーカルボキシフェノキシ)フェニル)ヘキサフルオロプロパン、ビス(4−(3ーカルボキシフェノキシ)フェニル)スルフィド、ビス(4−(4−カルボキシフェノキシ)フェニル)スルフィド、ビス(4−(3−カルボキシフェノキシ)フェニル)スルホン、ビス(4−(4−カルボキシフェノキシ)フェニル)スルホン、5−(パーフルオロノネニルオキシ)イソフタル酸、4−(パーフルオロノネニルオキシ)フタル酸、2−(パーフルオロノネニルオキシ)テレフタル酸、4−メトキシ−5−(パーフルオロノネニルオキシ)イソフタル酸などのパーフルオロノネニルオキシ基含有のジカルボン酸、5−(パーフルオロヘキセニルオキシ)イソフタル酸、4−(パーフルオロヘキセニルオキシ)フタル酸、2−(パーフルオロヘキセニルオキシ)テレフタル酸、4−メトキシ−5−(パーフルオロヘキセニルオキシ)イソフタル酸などのパーフルオロヘキセニルオキシ基含有のジカルボン酸、等の芳香族ジカルボン酸およびこれらのカルボン酸の各々に相当するジカルボン酸ジハライド、ジカルボン酸ジエステルが例示できる。すなわち、相当するジカルボン酸のジクロライド、ジブロマイド等のジカルボン酸ジハロゲン化物、ジメチルエステル、ジエチルエステル等のジカルボン酸ジアルキルエステル、ジカルボン酸ジフェニルエステル等が挙げられる。これらは単独でも、2種以上を混合していてもよい。   More specifically, for example, aliphatic dicarboxylic acids such as oxalic acid, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, suberic acid, azelaic acid, sebacic acid, phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, 3 , 3′-dicarboxyldiphenyl ether, 3,4′-dicarboxyldiphenyl ether, 4,4′-dicarboxyldiphenyl ether, 3,3′-dicarboxyldiphenylmethane, 3,4′-dicarboxyldiphenylmethane, 4,4′-dicarboxyl Diphenylmethane, 3,3′-dicarboxyldiphenyldifluoromethane, 3,4′-dicarboxyldiphenyldifluoromethane, 4,4′-dicarboxyldiphenyldifluoromethane, 3,3′-dicarboxyldiphenylsulfone, 3,4′- Dicarboxyl Phenylsulfone, 4,4'-dicarboxyldiphenylsulfone, 3,3'-dicarboxyldiphenyl sulfide, 3,4'-dicarboxyldiphenyl sulfide, 4,4'-dicarboxyldiphenyl sulfide, 3,3'-dicarboxyl Diphenyl ketone, 3,4'-dicarboxyl diphenyl ketone, 4,4'-dicarboxyl diphenyl ketone, 2,2-bis (3-carboxyphenyl) propane, 2,2-bis (3,4'-dicarboxyphenyl) ) Propane, 2,2-bis (4-carboxyphenyl) propane, 2,2-bis (3-carboxyphenyl) hexafluoropropane, 2,2-bis (3,4′-dicarboxyphenyl) hexafluoropropane, 2,2-bis (4-carboxyphenyl) hexafluoropropyl Bread, 1,3-bis (3-carboxyphenoxy) benzene, 1,4-bis (3-carboxyphenoxy) benzene, 1,4-bis (4-carboxyphenoxy) benzene, 3,3 ′-(1,4- Phenylenebis (1-methylethylidene)) bisbenzoic acid, 3,4 ′-(1,4-phenylenebis (1-methylethylidene)) bisbenzoic acid, 4,4 ′-(1,4-phenylenebis (1 -Methylethylidene)) bisbenzoic acid, 2,2-bis (4 (3-carboxyphenoxy) phenyl) propane, 2,2-bis (4- (4-carboxyphenoxy) phenyl) propane, 2,2-bis ( 4- (3-carboxyphenoxy) phenyl) hexafluoropropane, 2,2-bis (4- (4-carboxyphenoxy) phenyl) hexafluoropropa Bis (4- (3-carboxyphenoxy) phenyl) sulfide, bis (4- (4-carboxyphenoxy) phenyl) sulfide, bis (4- (3-carboxyphenoxy) phenyl) sulfone, bis (4- (4- Carboxyphenoxy) phenyl) sulfone, 5- (perfluorononenyloxy) isophthalic acid, 4- (perfluorononenyloxy) phthalic acid, 2- (perfluorononenyloxy) terephthalic acid, 4-methoxy-5- ( Perfluorononenyloxy) -containing dicarboxylic acid such as perfluorononenyloxy) isophthalic acid, 5- (perfluorohexenyloxy) isophthalic acid, 4- (perfluorohexenyloxy) phthalic acid, 2- (perfluorohexenyloxy) ) Terephthalic acid, 4-methoxy-5- (perf) Oro hexenyloxy) perfluoroalkyl hexenyl group-containing dicarboxylic acids such as isophthalic acid, aromatic dicarboxylic acids and dicarboxylic acid dihalide corresponding to each of these carboxylic acids and the like, dicarboxylic acid diester can be exemplified. That is, dicarboxylic acid dihalides such as dichloride and dibromide of the corresponding dicarboxylic acid, dicarboxylic acid dialkyl esters such as dimethyl ester and diethyl ester, and dicarboxylic acid diphenyl ester. These may be used alone or in combination of two or more.

本発明の含フッ素ポリアミドは式(1)で表される前記含フッ素ジアミン成分と一般式(6)で示される前記ジカルボン酸、ジカルボン酸ジハライドまたはジカルボン酸ジエステルを反応させることで製造することができる。この重合反応の方法、条件については特に制限されない。例えば、前記ジアミン成分と前記ジカルボン酸のアミド形成性誘導体を100〜250℃、好ましくは150〜200℃の温度範囲で相互に溶解(溶融)させて無溶媒で反応させる方法、また有機溶媒中高温(100〜250℃、好ましくは150〜200℃の温度範囲)で反応させる方法、−20〜80℃の温度で有機溶媒中にて反応する方法があげられる。   The fluorine-containing polyamide of the present invention can be produced by reacting the fluorine-containing diamine component represented by the formula (1) with the dicarboxylic acid, dicarboxylic acid dihalide or dicarboxylic acid diester represented by the general formula (6). . The method and conditions for this polymerization reaction are not particularly limited. For example, a method of dissolving (melting) the diamine component and the amide-forming derivative of the dicarboxylic acid in a temperature range of 100 to 250 ° C., preferably 150 to 200 ° C., and reacting them in the absence of a solvent, or a high temperature in an organic solvent. (The temperature range is 100 to 250 ° C., preferably 150 to 200 ° C.), and the method is a method of reacting in an organic solvent at a temperature of −20 to 80 ° C.

本発明による含フッ素重合体(含フッ素ポリアミド酸、含フッ素ポリアミドおよび含フッ素ポリイミド)の重合反応に使用できる有機溶媒としては原料の両成分が溶解すれば特に限定されないが、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)、N,N−ジメチルアセトアミド(DMAc)、ジメチルスルホキシド(DMSO)、フェノール、o−クレゾール、N−メチル−2−ピロリドン、スルホラン、m−クレゾール、p−クレゾール、3−クロロフェノール、4−クロロフェノール、γ−ブチロラクトン、γ−バレロラクトン、δ−バレロラクトン、γ−カプロラクトン、ε−カプロラクトン、α−メチル−γ−ブチロラクトン、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、トリエチレングリコール、アセトフェノン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノンなどが使用可能である。さらに両原料成分の溶解性を損なわない範囲であれば、その他の有機溶媒、例えば、酢酸ブチル、酢酸エチル、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、2−メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、ジブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールメチルアセテート、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、アセトン、ブタノール、エタノール、キシレン、トルエン、クロルベンゼン、ターペン、ミネラルスピリット、石油ナフサ系溶媒など特に限定することなく使用できる。   The organic solvent that can be used for the polymerization reaction of the fluorine-containing polymer (fluorine-containing polyamic acid, fluorine-containing polyamide, and fluorine-containing polyimide) according to the present invention is not particularly limited as long as both components of the raw material dissolve, but N, N-dimethylformamide (DMF), N, N-dimethylacetamide (DMAc), dimethyl sulfoxide (DMSO), phenol, o-cresol, N-methyl-2-pyrrolidone, sulfolane, m-cresol, p-cresol, 3-chlorophenol, 4 -Chlorophenol, γ-butyrolactone, γ-valerolactone, δ-valerolactone, γ-caprolactone, ε-caprolactone, α-methyl-γ-butyrolactone, ethylene carbonate, propylene carbonate, triethylene glycol, acetophenone, 1,3- Dimethyl Such as 2-imidazolidinone can be used. Furthermore, as long as the solubility of both raw material components is not impaired, other organic solvents such as butyl acetate, ethyl acetate, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, 2-methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, butyl cellosolve acetate, ethyl acetate, acetic acid Butyl, isobutyl acetate, dibutyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, propylene glycol methyl acetate, tetrahydrofuran, dimethoxyethane, diethoxyethane, methyl isobutyl ketone, diisobutyl ketone, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, acetone, butanol, ethanol, xylene, toluene, chlorobenzene, terpene , Mineral spirits, petroleum naphtha solvents and the like can be used without particular limitation.

本発明中による含フッ素重合体(含フッ素ポリアミド酸、含フッ素ポリアミドおよび含フッ素ポリイミド)の重合反応後の後処理方法としては、沈殿方法が採られる。未反応原料モノマーが溶解し、含フッ素重合体が沈殿する溶媒であれば特に限定されないが、酢酸ブチル、酢酸エチル、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、2−メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、酢酸エチル、酢酸イソブチル、ジブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールメチルアセテート、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、アセトン、ブタノール、エタノール、メタノール、イソプロピルアルコール、ヘキサン、キシレン、トルエン、クロルベンゼン、ターペン、ミネラルスピリット、石油ナフサ系溶媒などを使用できる。   As a post-treatment method after the polymerization reaction of the fluorine-containing polymer (fluorine-containing polyamic acid, fluorine-containing polyamide and fluorine-containing polyimide) according to the present invention, a precipitation method is employed. The solvent is not particularly limited as long as the unreacted raw material monomer is dissolved and the fluoropolymer is precipitated, but butyl acetate, ethyl acetate, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, 2-methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, butyl cellosolve acetate, ethyl acetate , Isobutyl acetate, dibutyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, propylene glycol methyl acetate, tetrahydrofuran, dimethoxyethane, diethoxyethane, methyl isobutyl ketone, diisobutyl ketone, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, acetone, butanol, ethanol, methanol, isopropyl alcohol, hexane, xylene, Use toluene, chlorobenzene, terpenes, mineral spirits, petroleum naphtha solvents, etc. That.

本発明中の含フッ素重合体(含フッ素ポリアミド酸、含フッ素ポリアミドおよび含フッ素ポリイミド)は、それぞれジメチルアセトアミド(DMAc)に溶解するものは、該溶媒に0.1g/dlの濃度で溶解し、オストワルド粘度計により30℃で測定した還元粘度が0.01dl/g以上、特に0.3dl/g以上のものが好ましい。該含フッ素重合体のフィルムを作製する際に、形状を保持するためには還元粘度が0.01dl/g以上、特に強度を確保するためには0.3dl/g以上のものが好ましい。   The fluorine-containing polymer (fluorine-containing polyamic acid, fluorine-containing polyamide, and fluorine-containing polyimide) in the present invention, each dissolved in dimethylacetamide (DMAc), is dissolved in the solvent at a concentration of 0.1 g / dl, The reduced viscosity measured at 30 ° C. with an Ostwald viscometer is preferably 0.01 dl / g or more, particularly preferably 0.3 dl / g or more. In producing the fluoropolymer film, a reduced viscosity of 0.01 dl / g or more is preferable for maintaining the shape, and particularly 0.3 dl / g or more is preferable for ensuring strength.

本発明の含フッ素重合体(含フッ素ポリアミド酸、含フッ素ポリアミドおよび含フッ素ポリイミド)は有機溶媒に溶解したワニス状態、または粉末状態、フィルム状態、固体状態で使用に供することが可能である。ワニスで使用する場合は、ガラス、シリコンウエーハ、金属、金属酸化物、セラミックス、樹脂などの基材上にスピンコート、スプレーコート、フローコート、含浸コート、ハケ塗りなど通常用いられる方法で塗布することができる。   The fluorine-containing polymer (fluorine-containing polyamic acid, fluorine-containing polyamide and fluorine-containing polyimide) of the present invention can be used in a varnish state dissolved in an organic solvent, or in a powder state, a film state or a solid state. When using in varnish, apply it on a substrate such as glass, silicon wafer, metal, metal oxide, ceramics, resin, etc. by usual methods such as spin coating, spray coating, flow coating, impregnation coating, brush coating. Can do.

電子材料用途に関して言えば、半導体素子内の信号遅延を低減するためには材料の低誘電率化が有効で、また異種材料界面のクラックを防ぐためには材料の熱膨張係数を揃える(有機材料は無機材料に比べて膨張係数が大きいので、有機材料に関しては熱膨張係数を揃えることは低熱膨張化に相当する)ことが有効である。特に本発明中のヘキサフルオロイソブロパノール基含有ポリイミドは、上記低誘電率化と低熱膨張率化の両方の性質を有する点で優れ、しかもアルカリ水溶液への可溶性も具備する。
「実施例」
以下、本発明の実施例を説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。
In terms of electronic material applications, it is effective to reduce the dielectric constant of the material in order to reduce the signal delay in the semiconductor element, and to align the thermal expansion coefficient of the material in order to prevent cracks at the interface between different materials (organic materials are Since the expansion coefficient is larger than that of the inorganic material, it is effective to make the thermal expansion coefficient uniform for the organic material). In particular, the hexafluoroisobropanol group-containing polyimide in the present invention is excellent in that it has both the above-described properties of lowering the dielectric constant and lowering the thermal expansion coefficient, and also has solubility in an alkaline aqueous solution.
"Example"
Examples of the present invention will be described below, but the present invention is not limited to these examples.

式(8)の化合物を20.00g、3,5−ジニトロベンゾイルクロリドを10.82g、ピリジン4.6ml、塩化メチレン150mlを300ml三つ口フラスコに加え、窒素雰囲気下、40℃にて3時間攪拌した。反応液を0.6N−HCl水溶液に投入し、得られた白色沈殿をろ別により回収後、室温にて真空乾燥した。20.97g(収率72%)の白色粉体を得た。NMRスペクトルにより、下記に示す式(9)の構造が示唆された。NMRスペクトルを図1に示す。   20.00 g of the compound of formula (8), 10.82 g of 3,5-dinitrobenzoyl chloride, 4.6 ml of pyridine, and 150 ml of methylene chloride are added to a 300 ml three-necked flask, and the mixture is kept at 40 ° C. for 3 hours under a nitrogen atmosphere. Stir. The reaction solution was poured into a 0.6 N HCl aqueous solution, and the resulting white precipitate was collected by filtration and then vacuum dried at room temperature. 20.97 g (yield 72%) of white powder was obtained. The NMR spectrum suggested the structure of formula (9) shown below. The NMR spectrum is shown in FIG.

Figure 0004679357
Figure 0004679357

実施例1で得られた化合物(式(9))9.90g、10%−パラジウムカーボン0.97g、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)75mlを300−ml三つ口フラスコ中に加え、水素風船を備え付け室温で12時間攪拌した。反応混合物をセライト処理し、得られたろ液を水に投入、得られた沈殿を回収した。メタノールと水の混合溶媒にて再結晶精製し、5.13g(収率57%)の白色粉体を得た。NMRスペクトルにより、下記に示す式(1)の構造が指示された。NMRスペクトルを図2に示す。   9.90 g of the compound obtained in Example 1 (formula (9)), 0.97 g of 10% -palladium carbon, and 75 ml of N, N-dimethylformamide (DMF) were added to a 300-ml three-necked flask, and hydrogen was added. It was equipped with a balloon and stirred at room temperature for 12 hours. The reaction mixture was treated with celite, the obtained filtrate was poured into water, and the resulting precipitate was recovered. Recrystallization purification was performed using a mixed solvent of methanol and water to obtain 5.13 g (yield 57%) of white powder. The NMR spectrum indicated the structure of formula (1) shown below. The NMR spectrum is shown in FIG.

Figure 0004679357
Figure 0004679357

実施例2で得られた含フッ素ジアミン(式(1))1.50g、6FDA(2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)フェキサフルオロプロパン酸二無水物)1.19gおよびN,N−ジメチルアセトアミド(DMAc)10.8mlを撹拌装置の付いた100−ml三つ口フラスコ中に仕込み、窒素気流下、室温にて5時間攪拌した。反応溶液をメタノールと水の混合溶媒に投入し、ポリマーを沈殿させた。沈殿したポリマーをろ別、50℃で真空乾燥し、含フッ素ポリポリアミド酸2.50g(収率95%)を得た。DMAcに0.1g/dlの濃度で溶解し、オストワルド粘度計により30℃で測定した固有粘度は0.44dl/gであった。得られたポリアミド酸の構造はIRおよびH−NMRスペクトルで確認したところ、下記式(10)であることが示唆された。H−NMRスペクトルを図3に示す。 1.50 g of the fluorinated diamine (formula (1)) obtained in Example 2, 1.19 g of 6FDA (2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) fexafluoropropanoic acid dianhydride) and N , N-dimethylacetamide (DMAc) (10.8 ml) was charged into a 100-ml three-necked flask equipped with a stirrer and stirred at room temperature for 5 hours under a nitrogen stream. The reaction solution was poured into a mixed solvent of methanol and water to precipitate the polymer. The precipitated polymer was separated by filtration and vacuum dried at 50 ° C. to obtain 2.50 g (95% yield) of fluorinated polypolyamic acid. It was dissolved in DMAc at a concentration of 0.1 g / dl, and the intrinsic viscosity measured at 30 ° C. with an Ostwald viscometer was 0.44 dl / g. When the structure of the obtained polyamic acid was confirmed by IR and 1 H-NMR spectrum, it was suggested to be the following formula (10). The 1 H-NMR spectrum is shown in FIG.

Figure 0004679357
Figure 0004679357

実施例3で得られたポリマー(式(10))をジメチルアセトアミド(DMAc)に溶解しガラス板上に展開して、250℃にて加熱処理したところ、透明性の高い強靱なフィルムが得られた。得られたフィルムのIRスペクトルから、構造は下記含フッ素ポリイミド(式(11))であることがわかった。得られた含フッ素ポリイミドフィルムの誘電率の測定を行ったところ1MHzで2.5であった。このフィルムの線熱膨張係数を測定したところ50〜300℃の平均値として4×10−5/℃であった。また、このフィルムは2.38wt%テトラメチルアンモニウム水溶液に溶解した。 When the polymer (formula (10)) obtained in Example 3 was dissolved in dimethylacetamide (DMAc) and spread on a glass plate and heat-treated at 250 ° C., a highly transparent and tough film was obtained. It was. From the IR spectrum of the obtained film, the structure was found to be the following fluorine-containing polyimide (formula (11)). When the dielectric constant of the obtained fluorine-containing polyimide film was measured, it was 2.5 at 1 MHz. When the linear thermal expansion coefficient of this film was measured, it was 4 * 10 < -5 > / degreeC as an average value of 50-300 degreeC. The film was dissolved in a 2.38 wt% tetramethylammonium aqueous solution.

Figure 0004679357
Figure 0004679357

実施例3で得られたポリアミド酸(式(10))0.50g、ピリジン0.10g、無水酢酸0.13g、DMF4.5gを100ml三つ口フラスコ中に加え、窒素雰囲気下、110℃にて12時間攪拌した。反応溶液をメタノールと水の混合溶媒に投入し、ポリマーを沈殿させた。沈殿したポリマーをろ別、100℃で真空乾燥し、含フッ素ポリイミド0.43g(収率90%)を得た。IRおよびH−NMRスペクトルによる構造解析から、得られたポリイミドは式(11)の化学構造を有していることがわかった。DMAcに0.1g/dlの濃度で溶解し、オストワルド粘度計により30℃で測定した固有粘度は0.30dl/gであった。得られたIRスペクトルを図4に示す。該化学イミド化により得られた含フッ素ポリイミド(式(11))は、DMF、DMAc以外にも、アセトン、メタノール、テトラヒドロフラン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートといった低沸点の有機溶剤、および2.38wt%テトラメチルアンモニウム水溶液にも良好な溶解性を示した。 0.50 g of the polyamic acid (formula (10)) obtained in Example 3, 0.10 g of pyridine, 0.13 g of acetic anhydride, and 4.5 g of DMF were added to a 100 ml three-necked flask, and the mixture was heated to 110 ° C. under a nitrogen atmosphere. And stirred for 12 hours. The reaction solution was poured into a mixed solvent of methanol and water to precipitate the polymer. The precipitated polymer was separated by filtration and vacuum dried at 100 ° C. to obtain 0.43 g (90% yield) of fluorine-containing polyimide. From structural analysis by IR and 1 H-NMR spectrum, it was found that the obtained polyimide had a chemical structure of the formula (11). It was dissolved in DMAc at a concentration of 0.1 g / dl, and the intrinsic viscosity measured at 30 ° C. with an Ostwald viscometer was 0.30 dl / g. The obtained IR spectrum is shown in FIG. The fluorine-containing polyimide obtained by the chemical imidization (formula (11)) is not only DMF and DMAc, but also low-boiling organic solvents such as acetone, methanol, tetrahydrofuran, propylene glycol monomethyl ether acetate, and 2.38 wt% tetra Good solubility in methylammonium aqueous solution was also exhibited.

実施例2で得られたジアミン(式(1))1.50g、2,2−ビス(3−カルボキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン)酸二塩化物1.15g、N,N−ジメチルアセトアミド(DMAc)10.8mlを撹拌装置の付いた100ml三つ口フラスコ中に仕込み、窒素気流下、室温にて5時間攪拌した。反応溶液をメタノールと水の混合溶媒に投入し、ポリマーを沈殿させた。沈殿したポリマーをろ別、100℃で真空乾燥し、含フッ素ポリアミド(式(12))2.38g(収率95%)を得た。DMAcに0.1g/dlの濃度で溶解し、オストワルド粘度計により30℃で測定した固有粘度は0.40dl/gであった。得られたポリアミド酸の構造はIRおよびH−NMRスペクトルで確認した。 1.50 g of the diamine (formula (1)) obtained in Example 2, 1.15 g of 2,2-bis (3-carboxyphenyl) hexafluoropropane) acid dichloride, N, N-dimethylacetamide (DMAc) 10.8 ml was charged into a 100 ml three-necked flask equipped with a stirrer and stirred at room temperature for 5 hours under a nitrogen stream. The reaction solution was poured into a mixed solvent of methanol and water to precipitate the polymer. The precipitated polymer was separated by filtration and vacuum dried at 100 ° C. to obtain 2.38 g (yield 95%) of a fluorine-containing polyamide (formula (12)). It was dissolved in DMAc at a concentration of 0.1 g / dl, and the intrinsic viscosity measured at 30 ° C. with an Ostwald viscometer was 0.40 dl / g. The structure of the obtained polyamic acid was confirmed by IR and 1 H-NMR spectrum.

Figure 0004679357
Figure 0004679357

本発明の含フッ素重合体は機械的強度、熱的安定性などの特性を維持したまま、低誘電率かつ低熱膨張係数で、しかも有機溶媒および現像液であるアルカリ水溶液に良好な溶解性を示すことから、電気・電子部品の絶縁材や光学部品のコーティング材として有用である。   The fluoropolymer of the present invention has a low dielectric constant and a low thermal expansion coefficient while maintaining properties such as mechanical strength and thermal stability, and also exhibits good solubility in an organic solvent and an alkaline aqueous solution as a developer. Therefore, it is useful as an insulating material for electrical / electronic parts and a coating material for optical parts.

実施例1で得られたジニトロ化合物(式(9))のH−NMRスペクトルである。2 is a 1 H-NMR spectrum of a dinitro compound (formula (9)) obtained in Example 1. FIG. 実施例2で得られた含フッ素ジアミン(式(1))のH−NMRスペクトルである。2 is a 1 H-NMR spectrum of a fluorine-containing diamine (formula (1)) obtained in Example 2. 実施例3で得られた含フッ素ポリアミド酸(式(10))のH−NMRスペクトルである。2 is a 1 H-NMR spectrum of the fluorine-containing polyamic acid obtained in Example 3 (formula (10)). 実施例5で得られた含フッ素ポリポリイミド(式(11))の赤外吸収スペクトルである。4 is an infrared absorption spectrum of the fluorine-containing polypolyimide (formula (11)) obtained in Example 5.

Claims (6)

式(1)で表される含フッ素ジアミン。
Figure 0004679357
A fluorine-containing diamine represented by the formula (1).
Figure 0004679357
式(1)で示されるジアミンと一般式(2)
Figure 0004679357
で表されるテトラカルボン酸あるいは一般式(3)
Figure 0004679357
で表されるテトラカルボン酸二無水物を反応させて得られる重合体であって、一般式(4)
Figure 0004679357
(式中、Rは芳香環を含む4価の有機基であり、カルボニル炭素はイミド五員環を形成するようにRの芳香環に互いにオルト位に結合している。)で示される含フッ素ポリアミド酸。
Diamine represented by formula (1) and general formula (2)
Figure 0004679357
Or a tetracarboxylic acid represented by the general formula (3)
Figure 0004679357
A polymer obtained by reacting tetracarboxylic dianhydride represented by the general formula (4):
Figure 0004679357
(Wherein R is a tetravalent organic group containing an aromatic ring, and the carbonyl carbon is bonded to the aromatic ring of R in the ortho position so as to form an imide five-membered ring). Polyamic acid.
一般式(4)で示される含フッ素ポリアミド酸を脱水して得られる重合体であって、一般式(5)
Figure 0004679357
(式中、Rは一般式(4)と同じ)で示される含フッ素ポリイミド樹脂。
A polymer obtained by dehydrating a fluorine-containing polyamic acid represented by the general formula (4), the polymer having the general formula (5)
Figure 0004679357
(In the formula, R is the same as the general formula (4)).
Rが下記式
Figure 0004679357
(式中、各芳香環は互いにオルト位に未結合手を有し、芳香環の水素原子はハロゲン(フッ素、塩素、臭素またはヨウ素)原子で置換していても良い。)で表される有機基である請求項3に記載の含フッ素ポリイミド樹脂。
R is the following formula
Figure 0004679357
(In the formula, each aromatic ring has a dangling bond at the ortho position with respect to each other, and the hydrogen atom of the aromatic ring may be substituted with a halogen (fluorine, chlorine, bromine or iodine) atom). The fluorine-containing polyimide resin according to claim 3, which is a group.
一般式(1)で示されるジアミンと一般式(6)
Figure 0004679357
(式中、Rは芳香環を含む2価の有機基である。Xは−OH基、ハロゲン(フッ素、塩素、臭素またはヨウ素)原子または−OR’基でR’はアルキル基またはフェニル基を示す。)で示されるジカルボン酸、ジカルボン酸ハライドおよびジカルボン酸ジエステルから選ばれる1種とを反応させて得られる重合体であって、一般式(7)
Figure 0004679357
(式中、Rは一般式(6)と同じ)で表される構成単位を含む含フッ素ポリアミド樹脂。
Diamine represented by general formula (1) and general formula (6)
Figure 0004679357
Wherein R 1 is a divalent organic group containing an aromatic ring. X is an —OH group, a halogen (fluorine, chlorine, bromine or iodine) atom or —OR ′ group, and R ′ is an alkyl group or a phenyl group. A polymer obtained by reacting with one selected from dicarboxylic acids, dicarboxylic acid halides and dicarboxylic acid diesters represented by general formula (7):
Figure 0004679357
(In the formula, R 1 Formula (6)) to the fluorine-containing polyamide resin containing a structural unit represented by.
が、下記式
Figure 0004679357
(式中、芳香環の水素原子はハロゲン(フッ素、塩素、臭素またはヨウ素)原子で置換していても良い。)で表される有機基である請求項5記載の含フッ素ポリアミド樹脂。
R 1 represents the following formula
Figure 0004679357
6. The fluorine-containing polyamide resin according to claim 5, which is an organic group represented by the formula (wherein the hydrogen atom of the aromatic ring may be substituted with a halogen (fluorine, chlorine, bromine or iodine) atom).
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