JP4664705B2 - 内視鏡の製造方法 - Google Patents
内視鏡の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4664705B2 JP4664705B2 JP2005060541A JP2005060541A JP4664705B2 JP 4664705 B2 JP4664705 B2 JP 4664705B2 JP 2005060541 A JP2005060541 A JP 2005060541A JP 2005060541 A JP2005060541 A JP 2005060541A JP 4664705 B2 JP4664705 B2 JP 4664705B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lens
- film
- forming
- lens frame
- manufacturing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 50
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 87
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 77
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 44
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 claims description 38
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 22
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 20
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims description 15
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 239000010931 gold Substances 0.000 claims description 15
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 13
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 9
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims description 5
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims description 5
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 claims description 4
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 4
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 3
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 3
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 3
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 claims 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 120
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 111
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 11
- 238000005755 formation reaction Methods 0.000 description 11
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 11
- 238000005275 alloying Methods 0.000 description 7
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 description 7
- 239000011104 metalized film Substances 0.000 description 6
- 238000010849 ion bombardment Methods 0.000 description 5
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 5
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 3
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 3
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 2
- JVPLOXQKFGYFMN-UHFFFAOYSA-N gold tin Chemical compound [Sn].[Au] JVPLOXQKFGYFMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 2
- 238000000638 solvent extraction Methods 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 238000010301 surface-oxidation reaction Methods 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Instruments For Viewing The Inside Of Hollow Bodies (AREA)
- Lens Barrels (AREA)
- Endoscopes (AREA)
Description
本発明に係る内視鏡の製造方法は、レンズと該レンズを支持するレンズ枠とが半田付けされた内視鏡の製造方法であって、前記レンズ枠の母材を加熱する工程と、前記母材と密着する成膜材料を下地層として成膜する工程と、半田と合金化可能な成膜材料を中間層として成膜する工程と、酸化を抑え半田と相性のよい成膜材料を最表層として成膜する工程とを有し、真空中で行われる前記レンズ枠成膜工程と、前記レンズの母材を加熱する工程と、前記母材と密着する成膜材料を下地層として成膜する工程と、半田と合金化可能な成膜材料を中間層として成膜する工程と、酸化を抑え半田と相性のよい成膜材料を最表層として成膜する工程とを有し、真空中で行われる前記レンズ成膜工程とを備え、前記レンズ枠成膜工程及び前記レンズ成膜工程のそれぞれが、前記中間層を成膜後に冷却する工程を備えていることを特徴とする。
この内視鏡の製造方法は、レンズ及びレンズ枠に最表層を成膜した後に中間層の材料が最表層に析出してしまうのを好適に抑えることができる。
この内視鏡の製造方法は、表面をエッチングする工程を備えているので、成膜する前にレンズ枠の母材表面に形成された酸化膜を除去して膜の密着強度を向上することができる。
この内視鏡の製造方法は、レンズやレンズ枠の材料に特定されずに高い密着強度で成膜することができる。
この内視鏡の製造方法は、半田との合金化を高めることができる。
この内視鏡の製造方法は、表面の酸化を抑えるとともに、使用される半田の流れ性を向上させることができる。
また、本発明は、前記内視鏡の製造方法であって、少なくとも前記レンズ側面における前記下地層の成膜厚さを20nm以上とすることを特徴とする。
この内視鏡の製造方法は、母材と成膜層との密着性を好適に維持することができる。
また、本発明は、前記内視鏡の製造方法であって、少なくとも前記レンズ側面における前記中間層の成膜厚さを100nm以上4000nm以下とすることを特徴とする。
また、本発明は、前記内視鏡の製造方法であって、少なくとも前記レンズ側面における最表層の成膜厚さを20nm以上1000nm以下とすることを特徴とする。
本実施形態に係る内視鏡1は、図1に示すように、ステンレス製のレンズ枠2と、このレンズ枠2にて支持されるレンズ3とが、金―すずを有する図示しない半田によって半田付けされている。
レンズ枠2の先端孔2a及び貫通孔2cの内面には、レンズ枠2の母材2Aに対して密着性のよいクロム(成膜材料)からなる下地層5と、半田と合金化可能なニッケル(成膜材料)からなる中間層6と、酸化を抑え半田と相性のよい金(成膜材料)からなる最表層7とを有する枠用メタライズ膜8が成膜されている。
一方、レンズ3の外周面にも同様の構成を有するレンズ用メタライズ膜10がレンズ3の母材3Aに対して成膜されている。
レンズ枠2及びレンズ3を成膜するために、図2に示す成膜装置11を使用する。
この成膜装置11は、成膜前のレンズ枠2又はレンズ3のそれぞれの母材2A、3Aを収納するストッカー12と、ストッカー12を収納する大気雰囲気のストッカー室13と、成膜のためのスパッタリングを行うために常時真空状態とされるスパッタ室15と、ストッカー室13とスパッタ室15とを連結するロードロック室16とを備えている。
ストッカー室13、ロードロック室16及びスパッタ室15は直列に接続されて連通されており、それぞれの内部をストッカー12が移動可能とされている。
第一の部屋15Aには、クロムを含む第一ターゲット17が移動してきた母材2A又は母材3Aに対向するように配されている。同様に、第二の部屋15Bにはニッケルを含む第二ターゲット18が、第三の部屋15Cには金を含む第三ターゲット20がそれぞれ母材2A又は母材3Aに対向するように配されている。
ストッカー12には、レンズ枠2の先端孔2aが開口する端面2d又はレンズ3の側面3aが各ターゲット17、18、20とそれぞれ対向するように母材2A又は母材3Aが配置される。
レンズ枠2の母材2Aを加熱する工程(S01)では、レンズ枠2の母材2Aを収納するストッカー12をストッカー室13から第二真空弁22を閉じた状態で大気圧とされたロードロック室16内に移動する。
所定の真空度になった状態で第二真空弁22を開き、母材2Aを収納するストッカー12を第一の部屋15Aに移動する。
そして、常温から380℃まで1時間で昇温して母材2Aを加熱する。
ここでは、第一の部屋15AにArガスを10−1〜数Paの圧力にて供給し、母材2Aに電圧を印加して放電させてArプラズマを発生する。そして、母材2AにArイオンを入射させて表面の酸化膜を取り除くとともに表面を活性化させる。この工程を5分間実施する。
そのため、母材2Aを収納するストッカー12を第一ターゲット17と対向する位置まで第一の部屋15A内にて移動する。
そして、スパッタリング等の公知の方法によって少なくともレンズ枠2の端面2dとなる部分の膜厚が60nm以上になるまで下地層5を成膜する。
ここでは、下地層5が成膜された母材2Aを、第二ターゲット18と対向させ、スパッタリング等の公知の方法によって少なくともレンズ枠2の端面2dとなる部分の膜厚が300nm以上になるまで中間層6を成膜する。
ここでは、雰囲気温度が250℃以下に低下するまで、母材2Aへの電圧供給及びストッカー12の移動を1時間停止する。なお、このとき、自然放冷ではなく、冷却器等を接触させて強制的に冷却して250℃以下としても構わない。
これによって、母材2A表面も250℃以下まで低下する。
そのため、冷却後の母材2Aを収納するストッカー12を第二の部屋15Bから第三の部屋15Cに移動して、第三ターゲット20と対向させる。
その後、公知の方法によって少なくともレンズ枠2の端面2dとなる部分の膜厚が30nm以上になるまで最表層7を成膜する。
こうして、枠用メタライズ膜8が成膜されたレンズ枠2が得られる。
レンズ3の母材3Aを加熱する工程(S11)では、レンズ枠2の場合の工程(S01)と同様に、レンズ3の母材3Aを収納するストッカー12をストッカー室13から第一の部屋15Aに移動する。
そして、常温から1時間で380℃まで昇温して母材3Aを加熱する。
レンズ枠2の場合の工程(S03)と同様に、母材3Aを収納するストッカー12を第一ターゲット17と対向する位置まで第一の部屋15A内にて移動する。
そして、スパッタリング等の公知の方法によって少なくともレンズ3の側面3aとなる部分の膜厚が20nm以上になるまで下地層5を成膜する。
ここでは、下地層5が成膜された母材3Aを、第二ターゲット18と対向させ、スパッタリング等の公知の方法によって少なくともレンズ3の側面3aとなる部分の膜厚が100nm以上になるまで中間層6を成膜する。
ここでは、レンズ枠2における冷却工程(S05)と同様に、雰囲気温度が250℃以下に低下するまで、母材3Aへの電圧供給及びストッカー12の移動を1時間停止する。なお、このとき、自然放冷ではなく、冷却器等を接触させて強制的に冷却して250℃以下としても構わない。
これによって、母材3A表面も250℃以下まで低下する。
そのため、冷却後の母材3Aを収納するストッカー12を第二の部屋15Bから第三の部屋15Cに移動して、レンズ枠2の場合における工程(S06)と同様に少なくともレンズ3の側面3aとなる部分の膜厚が20nm以上になるまで最表層7を成膜する。
こうして、レンズ用メタライズ膜10が成膜されたレンズ3が得られる。
この結果、最表層7における半田の流れ性を向上して密着強度の高い表面を短時間で得ることができる。
また、レンズ枠2の成膜工程(S1)が表面をエッチングするイオンボンバード工程(S02)を備えているので、成膜する前にレンズ枠2の母材2A表面に形成された酸化膜を除去して膜の密着強度を向上することができる。
特に、少なくともレンズ枠2の端面2dにおける下地層5の成膜厚さが60nm以上とされ、少なくともレンズ3の側面3aにおける下地層5の成膜厚さが20nm以上とされているので、母材2Aと枠用メタライズ膜8と、及び、母材3Aとレンズ用メタライズ膜10との密着性をそれぞれ好適に維持することができる。
特に、少なくともレンズ枠2の端面2dにおける中間層6の成膜厚さが300nm以上、レンズ3の側面3aにおける中間層6の成膜厚さが100nm以上とされているので、半田がニッケルと反応することがあっても下地層5までの半田合金化を好適に抑えることができる。
特に、少なくともレンズ枠2の端面2dにおける最表層7の成膜厚さが30nm以上、レンズ3の側面3aにおける最表層7の成膜厚さが20nm以上とされているので、半田を施工する前に中間層6のニッケルが表面に析出することを好適に抑えることができる。
なお、上述した第1の実施形態と同様の構成要素には同一符号を付すとともに説明を省略する。
第2の実施形態と第1の実施形態との異なる点は、本実施形態に係る内視鏡の製造方法が、先端孔、後端孔、貫通孔のそれぞれが略同一径とされたレンズ枠を特に対象としている点である。
まず、第1の実施形態と同様に、レンズ枠の母材を加熱する工程を実施する。
そして、第1の実施形態と同様のイオンボンバード工程を30分間実施した後、第1の実施形態と同様、クロムを下地層として成膜する工程に移行し、少なくともレンズ枠の端面となる部分の膜厚が600nmになるまで下地層を成膜する。
本実施形態では、第1の実施形態と同様の方法によって、少なくともレンズ枠の端面となる部分に2000nmの膜厚の中間層を成膜する。なお、中間層の膜厚は、300nm以上であればよい。
本実施形態においても、第1の実施形態と同様に雰囲気温度が250℃以下に低下するまで、レンズ枠の母材への電圧供給及びストッカー12の移動を1時間停止する。
この内視鏡の製造方法によれば、イオンボンバード工程を第1の実施形態の場合よりも長い時間実施し、かつ、下地層の膜厚を600nmとしているので、レンズ枠の孔形状が先端から後端まで略同一径のものであっても、貫通孔の先端側の端面から後端側の深い位置まで高い密着強度の枠用メタライズ層を形成することができる。
なお、上述した他の実施形態と同様の構成要素には同一符号を付すとともに説明を省略する。
第3の実施形態と他の実施形態との異なる点は、本実施形態に係る内視鏡の製造方法が、厚いレンズであってもレンズ枠との嵌合部分が短いレンズを特に対象としている点である。
まず、第1の実施形態と同様に、レンズの母材を加熱する工程を実施する。
そして、第1の実施形態と同様、クロムを下地層として成膜する工程に移行し、少なくともレンズ枠の端面となる部分の膜厚が500nmになるまで下地層を成膜する。
本実施形態では、第1の実施形態と同様の方法によって、少なくともレンズの端面となる部分に2000nmの膜厚の中間層を成膜する。なお、中間層の膜厚は、100nm以上であればよい。
本実施形態においても、第1の実施形態と同様に雰囲気温度が250℃以下に低下するまで、レンズの母材への電圧供給及びストッカー12の移動を1時間停止する。
この内視鏡の製造方法によれば、下地層の膜厚を500nmとし、かつ、最表層の膜厚を1000nmとしているので、レンズの厚みが厚く、かつ、レンズ枠との嵌合深さが浅い場合にもレンズとレンズ枠との密着強度を高め、半田の流れ性を向上することができる。また、最表層の膜厚が1000nmなので、半田との合金化を好適な状態に維持することができ、これを越える膜厚にして半田の合金化による融点の上昇を抑えることができる。
なお、上述した他の実施形態と同様の構成要素には同一符号を付すとともに説明を省略する。
第4の実施形態と他の実施形態との異なる点は、本実施形態に係る内視鏡の製造方法が、厚いレンズが嵌合するために先端孔の深さが深いレンズ枠及びそれに嵌着するレンズを特に対象としている点である。
まず、第1の実施形態と同様に、レンズ枠の母材を加熱する工程及びイオンボンバード工程実施した後、クロムを下地層として成膜する工程に移行し、第2の実施形態と同様、少なくともレンズ枠の端面となる部分の膜厚が600nmになるまで下地層を成膜する。
本実施形態では、上記の実施形態と同様の方法によって、少なくともレンズ枠の端面となる部分の膜厚が3000nmになるまで中間層を成膜する。
本実施形態においても、上記の実施形態と同様に雰囲気温度が250℃以下に低下するまで、レンズ枠の母材への電圧供給及びストッカー12の移動を1時間停止する。
こうして、枠用メタライズ膜が成膜されたレンズ枠が得られる。
まず、第1の実施形態と同様に、レンズの母材を加熱する工程を実施する。
そして、第1の実施形態と同様、クロムを下地層として成膜する工程に移行し、少なくともレンズ枠の端面となる部分の膜厚が150nm以上になるまで下地層を成膜する。
本実施形態では、第1の実施形態と同様の方法によって、少なくともレンズの端面となる部分の膜厚が3000nmになるまで中間層を成膜する。
本実施形態においても、第1の実施形態と同様に雰囲気温度が250℃以下に低下するまで、レンズの母材への電圧供給及びストッカー12の移動を1時間停止する。
こうして、レンズ用メタライズ膜が成膜されたレンズが得られる。
また、中間層の膜厚が4000nm以下なので、自身の膜応力によって破壊されてしまうのを好適に抑えることができる。
さらに、レンズ枠の最表層の膜厚が600nm以下なので、半田との合金化を好適な状態に維持することができ、半田の融点が高くなるのを好適に抑えることができる。
例えば、上記実施形態では、下地層としてクロム、中間層としてニッケル、最表層として金をそれぞれ備えているとしているが、これら材料に限られることはない。例えば、下地層にあってはチタン、銅、シリコンの何れか一つを備えていてもよく、クロムの場合と同様の作用・効果を得ることができる。
さらに、最表層にあっては、銀、ニッケル、白金、銅の何れか一つを備えていてもよく、金の場合と同様の作用・効果を奏することができる。
また、これらの成膜は、スパッタリングのみならず、真空蒸着やイオンプレーティングによって行っても良い。
2 レンズ枠
2A 母材
2d 端面
3 レンズ
3A 母材
3a 側面
5 下地層
6 中間層
7 最表層
Claims (12)
- レンズと該レンズを支持するレンズ枠とが半田付けされた内視鏡の製造方法であって、
前記レンズ枠の母材を加熱する工程と、前記母材と密着する成膜材料を下地層として成膜する工程と、半田と合金化可能な成膜材料を中間層として成膜する工程と、酸化を抑え半田と相性のよい成膜材料を最表層として成膜する工程とを有し、真空中で行われる前記レンズ枠成膜工程と、
前記レンズの母材を加熱する工程と、前記母材と密着する成膜材料を下地層として成膜する工程と、半田と合金化可能な成膜材料を中間層として成膜する工程と、酸化を抑え半田と相性のよい成膜材料を最表層として成膜する工程とを有し、真空中で行われる前記レンズ成膜工程とを備え、
前記レンズ枠成膜工程及び前記レンズ成膜工程のそれぞれが、前記中間層を成膜後に冷却する工程を備えていることを特徴とする内視鏡の製造方法。 - 前記冷却する工程における冷却温度を250℃以下とすることを特徴とする請求項1に記載の内視鏡の製造方法。
- 前記レンズ枠成膜工程が、前記レンズ枠の母材を加熱した後、所定の真空度下にてイオンを衝突させて表面のエッチングを行う工程を備えていることを特徴とする請求項1または2に記載の内視鏡の製造方法。
- 前記下地層が、クロム、チタン、銅、シリコンの何れか一つを備えていることを特徴とする請求項1から3の何れか一つに記載の内視鏡の製造方法。
- 前記中間層が、ニッケル、白金、銅の何れか一つを備えていることを特徴とする請求項1から3の何れか一つに記載の内視鏡の製造方法。
- 前記最表層が、金、銀、ニッケル、白金、銅の何れか一つを備えていることを特徴とする請求項1から3の何れか一つに記載の内視鏡の製造方法。
- 少なくとも前記レンズ枠端面における前記下地層の成膜厚さを60nm以上とすることを特徴とする請求項1から3の何れか一つに記載の内視鏡の製造方法。
- 少なくとも前記レンズ枠端面における前記中間層の成膜厚さを300nm以上4000nm以下とすることを特徴とする請求項1から3の何れか一つに記載の内視鏡の製造方法。
- 少なくとも前記レンズ枠端面における前記最表層の成膜厚さを30nm以上600nm以下とすることを特徴とする請求項1から3の何れか一つに記載の内視鏡の製造方法。
- 少なくとも前記レンズ側面における前記下地層の成膜厚さを20nm以上とすることを特徴とする請求項1から3の何れか一つに記載の内視鏡の製造方法。
- 少なくとも前記レンズ側面における前記中間層の成膜厚さを100nm以上4000nm以下とすることを特徴とする請求項1から3の何れか一つに記載の内視鏡の製造方法。
- 少なくとも前記レンズ側面における最表層の成膜厚さを20nm以上1000nm以下とすることを特徴とする請求項1から3の何れか一つに記載の内視鏡の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005060541A JP4664705B2 (ja) | 2005-03-04 | 2005-03-04 | 内視鏡の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005060541A JP4664705B2 (ja) | 2005-03-04 | 2005-03-04 | 内視鏡の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006239220A JP2006239220A (ja) | 2006-09-14 |
JP4664705B2 true JP4664705B2 (ja) | 2011-04-06 |
Family
ID=37046196
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005060541A Active JP4664705B2 (ja) | 2005-03-04 | 2005-03-04 | 内視鏡の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4664705B2 (ja) |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS56145137A (en) * | 1980-04-04 | 1981-11-11 | Babcock & Wilcox Co | Method of soldering glass to metal without flux |
JPH04308744A (ja) * | 1991-04-08 | 1992-10-30 | Tokuyama Soda Co Ltd | 積層体 |
JPH0585868A (ja) * | 1991-05-20 | 1993-04-06 | Hitachi Metals Ltd | スパツタ膜を有する部材及びその製造方法 |
JPH10308359A (ja) * | 1997-05-07 | 1998-11-17 | Sanken Electric Co Ltd | 半導体素子及びその電極の形成方法 |
JP2002336190A (ja) * | 2001-03-12 | 2002-11-26 | Olympus Optical Co Ltd | 内視鏡 |
JP2005013277A (ja) * | 2003-06-23 | 2005-01-20 | Olympus Corp | 内視鏡用撮像装置及びこの内視鏡用撮像装置に設ける薄膜部の形成方法 |
-
2005
- 2005-03-04 JP JP2005060541A patent/JP4664705B2/ja active Active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS56145137A (en) * | 1980-04-04 | 1981-11-11 | Babcock & Wilcox Co | Method of soldering glass to metal without flux |
JPH04308744A (ja) * | 1991-04-08 | 1992-10-30 | Tokuyama Soda Co Ltd | 積層体 |
JPH0585868A (ja) * | 1991-05-20 | 1993-04-06 | Hitachi Metals Ltd | スパツタ膜を有する部材及びその製造方法 |
JPH10308359A (ja) * | 1997-05-07 | 1998-11-17 | Sanken Electric Co Ltd | 半導体素子及びその電極の形成方法 |
JP2002336190A (ja) * | 2001-03-12 | 2002-11-26 | Olympus Optical Co Ltd | 内視鏡 |
JP2005013277A (ja) * | 2003-06-23 | 2005-01-20 | Olympus Corp | 内視鏡用撮像装置及びこの内視鏡用撮像装置に設ける薄膜部の形成方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2006239220A (ja) | 2006-09-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7400042B2 (en) | Substrate with adhesive bonding metallization with diffusion barrier | |
US7833880B2 (en) | Process for manufacturing micromechanical devices containing a getter material and devices so manufactured | |
US5550398A (en) | Hermetic packaging with optical | |
JPH04131374A (ja) | 薄膜形成方法 | |
US9132496B2 (en) | Reducing formation of oxide on solder | |
EP2450949B1 (fr) | Structure d'encapsulation d'un micro-dispositif comportant un matériau getter | |
US9546418B2 (en) | Diffusion-bonded sputter target assembly and method of manufacturing | |
WO1999067047A1 (fr) | Procede d'assemblage par soudage diffusion d'un acier inoxydable martensitique et d'un alliage de cuivre, et element bimetallique obtenu | |
JP4664705B2 (ja) | 内視鏡の製造方法 | |
US20080149477A1 (en) | Method for consolidating and diffusion-bonding powder metallurgy sputtering target | |
US5134461A (en) | Ceramics substrate with an improved surface structure for electronic components | |
JP2004235073A (ja) | 蛍光放電管用電極合金、蛍光放電管用電極およびその電極を備えた蛍光放電管 | |
JP2007195658A (ja) | 内視鏡及びその製造方法 | |
JP4588292B2 (ja) | 腕時計ケース | |
KR20220092823A (ko) | 실린더 타겟의 제조방법 | |
US20160089740A1 (en) | Bonding Method for Thin Film Diamond Providing Low Vapor Pressure at High Temperature | |
US20020121437A1 (en) | Titanium target assembly for sputtering and method for preparing the same | |
WO2020194765A1 (ja) | 鏡、及び鏡の製造方法 | |
US20240158905A1 (en) | Protective coating for a copper allow substrate and corresponding process | |
JP7376742B1 (ja) | ターゲット組立体およびターゲット組立体の製造方法 | |
EP3309841A1 (fr) | Procede de realisation d'un contact electrique sur une couche de graphite, contact obtenu a l'aide d'un tel procede et dispositif electronique utilisant un tel contact | |
WO2022148941A1 (fr) | Procede d'assemblage par brasage direct d'une première pièce et d'une deuxième pièce, incluant des étapes de préparation de la surface d'au moins une des pièces | |
JPH11203997A (ja) | 真空バルブの製造方法 | |
JP2002020129A (ja) | 光学素子成形用型及びその製造方法 | |
JP2001130930A (ja) | 陰極線管の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080227 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100917 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100928 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20101119 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20101122 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20101214 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110107 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4664705 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140114 Year of fee payment: 3 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313115 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |