JP4664634B2 - 新規なベンズアミジン誘導体またはその塩 - Google Patents
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Description
本発明は、抗真菌活性を有する新規なベンズアミジン誘導体またはその塩に関する。また、それらを有効成分とする抗真菌剤に関する。
侵襲性カンジダ症などの重篤な深在性真菌症は、しばしば致死的疾患となる。本来、カンジダなどの真菌に対する宿主生体側の主要な防御機構は、好中球による非特異免疫によると考えられており、この防御機構が正常に機能している場合には真菌に感染する危険性は少ない。しかしながら、近年、生体の免疫機能の低下をもたらす悪性腫瘍（特に、急性白血病、悪性リンパ腫などの造血器系悪性腫瘍）およびエイズなどの基礎疾患を有する患者数の増加、制癌剤・免疫抑制剤などの繁用、抗菌抗生物質・ステロイドホルモンの多用、長期にわたる中心静脈栄養および静脈カテーテルの使用などにより深在性真菌症に罹患する危険が増大している（非特許文献１）。
深在性真菌症の治療を適用とした薬剤は、抗細菌剤と比較してはるかに少なく、アムホテリシンＢ、フルシトシン、ミコナゾール、フルコナゾール、イトラコナゾールおよびミカファンギンの６種類にすぎない。
アムホテリシンＢは、真菌に対する殺菌作用が非常に強い反面、腎毒性などの強い副作用の問題があり、臨床使用には制約がある。また、フルシトシンは連用により早期に耐性化するなどの問題があるため、現在では単独で使用されることは稀である。ミカファンギンはクリプトコッカス属に対する活性が弱い。その他の薬剤は、その構造的特徴から、いずれもアゾール系抗真菌剤と総称され、その真菌に対する殺菌作用は、アムホテリシンＢのそれに比べて一般に劣る傾向にあるが、有効性と安全性の兼ね合いから、現在、最も多用されている（非特許文献２）。
アムホテリシンＢは、真菌に対する殺菌作用が非常に強い反面、腎毒性などの強い副作用の問題があり、臨床使用には制約がある。また、フルシトシンは連用により早期に耐性化するなどの問題があるため、現在では単独で使用されることは稀である。ミカファンギンはクリプトコッカス属に対する活性が弱い。その他の薬剤は、その構造的特徴から、いずれもアゾール系抗真菌剤と総称され、その真菌に対する殺菌作用は、アムホテリシンＢのそれに比べて一般に劣る傾向にあるが、有効性と安全性の兼ね合いから、現在、最も多用されている（非特許文献２）。
近年、フルコナゾールの反復投与を受けたエイズ患者の口腔咽頭カンジダ症病巣からフルコナゾール耐性カンジダ・アルビカンス（C.albicans）が30％以上と高頻度に検出されるようになり、しかも耐性株の多くはイトラコナゾールおよびそのほかのアゾール系薬剤にも交叉耐性を示す。さらに慢性粘膜皮膚カンジダ症または深在性カンジダ症を発症した非エイズ患者についても耐性株の分離が報告されている（非特許文献３）。
このようにごく少数に限られる薬剤のいずれかに耐性の問題が起こるならば、増加の一途を辿っている深在性真菌症患者のマネジメントに深刻な影響を与えることは必至である（非特許文献４）。
このようにごく少数に限られる薬剤のいずれかに耐性の問題が起こるならば、増加の一途を辿っている深在性真菌症患者のマネジメントに深刻な影響を与えることは必至である（非特許文献４）。
臨床と微生物、第17巻、第265頁、1990年
臨床と微生物、第21巻、第277頁、1994年
臨床と微生物、第28巻、第57頁、2001年
臨床と微生物、第28巻、第51頁、2001年
そのため、既存の薬剤とは作用機作が異なり、アゾール系薬剤の耐性真菌にも効果があり、副作用が少ない抗真菌剤が強く望まれている。
このような状況下において、本発明者らは、鋭意検討を行った結果、ベンゼン環にアミジノ基を導入した一般式［１］
「式中、Ｒ１は保護または置換されていてもよいアミジノ基を；Ｒ２は、水素原子、ハロゲン原子ならびに置換されていてもよいアルキル、シクロアルキルおよびアルコキシ基から選ばれる一つ以上の基を；Ｒ３は、水素原子、置換されていてもよいアルキル基または保護もしくは置換されていてもよいアミノ基を；Ｒ４は、水素原子、ヒドロキシル基またはイミノ保護基を；Ｘは、置換されていてもよい低級アルキレン基を；Ｙは、置換されていてもよい二価の環状アミン残基を；Ｚは、置換されていてもよいアルキレン基を；Ｗは、イミノ基または一般式
「式中、Ｒ５は水素原子、置換されていてもよいアルキル基または保護もしくは置換されていてもよいアミノまたはヒドロキシル基を示す。」をそれぞれ示す。」で表されるベンズアミジン誘導体またはその塩が優れた抗真菌活性を有することを見出し、本発明を完成した。
一般式［１］のベンズアミジン誘導体またはその塩は、高い安全性を有し、優れた体内動態を示すことから抗真菌剤として有用である。
以下、本発明化合物について詳述する。
本明細書において、特にことわらない限り、ハロゲン原子とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子およびヨウ素原子を；アルキル基とは、たとえば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、s-ブチル、イソブチル、t-ブチル、ペンチル、イソペンチル、ヘキシル、ヘプチルおよびオクチルなどの直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ1-12アルキル基を；シクロアルキル基とは、たとえば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシルおよびシクロヘプチルなどのＣ3-7シクロアルキル基を；アルキレン基とは、たとえば、メチレン、エチレン、プロピレン、ブチレン、アミレン、へキシレン、ヘプタメチレンおよびオクタメチレンなどの直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ1-8アルキレン基を；低級アルキレン基とは、たとえば、メチレン、エチレン、プロピレン、ブチレン、アミレンおよびへキシレンなどの直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ1-6アルキレン基を；アルコキシ基とは、たとえば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、s-ブトキシ、t-ブトキシ、ペンチルオキシ、イソペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、ヘプチルオキシおよびオクチルオキシなどの直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ1-12アルコキシ基を；低級アルコキシ基とは、たとえば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、s-ブトキシ、t-ブトキシ、ペンチルオキシおよびイソペンチルオキシなどの直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ1-6アルコキシ基を；アミノ低級アルキル基とは、たとえば、アミノメチル、アミノエチル、アミノプロピルおよびアミノブチルなどのＣ1-6アミノアルキル基を；低級アルキルアミノ基とは、たとえば、メチルアミノ、エチルアミノ、イソプロピルアミノ、プロピルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノおよびメチルエチルアミノなどの直鎖状もしくは分枝鎖状のモノまたはジ-Ｃ1-6アルキルアミノ基を；低級アルキルオキシカルボニル基とは、たとえば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、イソプロポキシカルボニルおよびプロポキシカルボニルなどの直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ1-6アルキルオキシカルボニル基を；アシル基とは、たとえば、ホルミル基、アセチル、イソバレリルおよびプロピオニルなどの直鎖状または分枝鎖状のＣ2-12アルカノイル基、ベンジルカルボニルなどのアルアルキルカルボニル基、ベンゾイルおよびナフトイルなどのアロイル基ならびにニコチノイル、テノイル、ピロリジノカルボニルおよびフロイル基などの複素環式カルボニル基などの基を；アリール基とは、フェニルおよびナフチルなどの芳香族性の環状の基を；複素環式基とは、たとえば、ピロリル、ピロリジニル、ピペリジル、ピペラジニル、イミダゾリル、ピラゾリル、ピリジル、テトラヒドロピリジル、ピリミジニル、モルホリニル、チオモルホリニル、キノリル、キノリジニル、テトラヒドロキノリニル、テトラヒドロイソキノリニル、キヌクリジニル、キナゾリル、チアゾリル、テトラゾリル、チアジアゾリル、ピロリニル、イミダゾリニル、イミダゾリジニル、ピラゾリニル、ピラゾリジニル、プリニルおよびインダゾリル基などの該環を形成する異項原子として１つ以上の窒素原子を含み、さらに１つ以上の酸素原子または硫黄原子を含んでいてもよい５員もしくは６員環、縮合環または架橋環の含窒素複素環式基、ならびにフリル、チエニル、ベンゾチエニル、ピラニル、イソベンゾフラニル、オキサゾリル、ベンゾフラニル、インドリル、ベンズイミダゾリル、ベンズオキサゾリル、ベンゾチアゾリル、キノキサリル、ジヒドロキノキサリニル、２，３−ジヒドロベンゾチエニル、２，３−ジヒドロベンゾピロリル、２，３−ジヒドロ−４Ｈ−１−チアナフチル、２，３−ジヒドロベンゾフラニル、ベンゾ［ｂ］ジオキサニル、イミダゾ［２，３−ａ］ピリジル、ベンゾ［ｂ］ピペラジニル、クロメニル、イソチアゾリル、イソオキサゾリル、チアジアゾリル、オキサジアゾリル、ピリダジニル、イソインドリルおよびイソキノリル基などの該環を形成する異項原子として１つ以上の酸素原子もしくは硫黄原子を含んでいてもよい、窒素、酸素および硫黄原子から選ばれる少なくとも１つ以上の異項原子を含有する５員もしくは６員環、縮合環または架橋環の複素環式基を；低級アルケニル基とは、たとえば、ビニル、アリル、プロペニル、イソプロペニル、ブテニル、イソブテニルおよびペンテニルなどの直鎖状および分枝鎖状のＣ2-6アルケニル基を；低級アルキルスルホニルカルバモイル基とは、たとえば、メチルスルホニルカルバモイル、エチルスルホニルカルバモイル、プロピルスルホニルカルバモイル、イソプロピルスルホニルカルバモイル、ブチルスルホニルカルバモイル、イソブチルスルホニルカルバモイル、s-ブチルスルホニルカルバモイル、t-ブチルスルホニルカルバモイルおよびペンチルスルホニルカルバモイルなどの直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ1-6アルキルスルホニルカルバモイル基を；低級アルキルカルバモイル基とは、たとえば、メチルカルバモイル、エチルカルバモイル、プロピルカルバモイル、イソプロピルカルバモイル、ジメチルカルバモイル、ジエチルカルバモイルおよびメチルエチルカルバモイルなどのモノまたはジ-Ｃ1-6アルキルカルバモイル基を；アリールオキシカルボニル基とは、たとえば、フェノキシカルボニルおよびナフトキシカルボニルなどで表されるアリールオキシ−ＣＯ−で表される基を；アルキルオキシカルボニル基とは、たとえば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニルおよびプロポキシカルボニルなどの直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ1-12アルキルオキシカルボニル基を；アルアルキルオキシカルボニル基とは、たとえば、ベンジルオキシカルボニル、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル、ｏ−ブロモベンジルオキシカルボニル、ｐ−メトキシベンジルオキシカルボニル、３，４−ジメトキシベンジルオキシカルボニルおよび４−（フェニルアゾ）ベンジルオキシカルボニルなどのアルアルキルオキシカルボニル基を；脱離基とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子およびヨウ素原子などのハロゲン原子、メタンスルホニルオキシおよびトリフルオロメタンスルホニルオキシなどのアルキルスルホニルオキシ基、p-トルエンスルホニルオキシおよびベンゼンスルホニルオキシなどのアリールスルホニルオキシ基ならびにアセチルオキシおよびトリフルオロアセチルオキシなどのアシルオキシ基などの基をそれぞれ意味する。
本明細書において、特にことわらない限り、ハロゲン原子とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子およびヨウ素原子を；アルキル基とは、たとえば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、s-ブチル、イソブチル、t-ブチル、ペンチル、イソペンチル、ヘキシル、ヘプチルおよびオクチルなどの直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ1-12アルキル基を；シクロアルキル基とは、たとえば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシルおよびシクロヘプチルなどのＣ3-7シクロアルキル基を；アルキレン基とは、たとえば、メチレン、エチレン、プロピレン、ブチレン、アミレン、へキシレン、ヘプタメチレンおよびオクタメチレンなどの直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ1-8アルキレン基を；低級アルキレン基とは、たとえば、メチレン、エチレン、プロピレン、ブチレン、アミレンおよびへキシレンなどの直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ1-6アルキレン基を；アルコキシ基とは、たとえば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、s-ブトキシ、t-ブトキシ、ペンチルオキシ、イソペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、ヘプチルオキシおよびオクチルオキシなどの直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ1-12アルコキシ基を；低級アルコキシ基とは、たとえば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、s-ブトキシ、t-ブトキシ、ペンチルオキシおよびイソペンチルオキシなどの直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ1-6アルコキシ基を；アミノ低級アルキル基とは、たとえば、アミノメチル、アミノエチル、アミノプロピルおよびアミノブチルなどのＣ1-6アミノアルキル基を；低級アルキルアミノ基とは、たとえば、メチルアミノ、エチルアミノ、イソプロピルアミノ、プロピルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノおよびメチルエチルアミノなどの直鎖状もしくは分枝鎖状のモノまたはジ-Ｃ1-6アルキルアミノ基を；低級アルキルオキシカルボニル基とは、たとえば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、イソプロポキシカルボニルおよびプロポキシカルボニルなどの直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ1-6アルキルオキシカルボニル基を；アシル基とは、たとえば、ホルミル基、アセチル、イソバレリルおよびプロピオニルなどの直鎖状または分枝鎖状のＣ2-12アルカノイル基、ベンジルカルボニルなどのアルアルキルカルボニル基、ベンゾイルおよびナフトイルなどのアロイル基ならびにニコチノイル、テノイル、ピロリジノカルボニルおよびフロイル基などの複素環式カルボニル基などの基を；アリール基とは、フェニルおよびナフチルなどの芳香族性の環状の基を；複素環式基とは、たとえば、ピロリル、ピロリジニル、ピペリジル、ピペラジニル、イミダゾリル、ピラゾリル、ピリジル、テトラヒドロピリジル、ピリミジニル、モルホリニル、チオモルホリニル、キノリル、キノリジニル、テトラヒドロキノリニル、テトラヒドロイソキノリニル、キヌクリジニル、キナゾリル、チアゾリル、テトラゾリル、チアジアゾリル、ピロリニル、イミダゾリニル、イミダゾリジニル、ピラゾリニル、ピラゾリジニル、プリニルおよびインダゾリル基などの該環を形成する異項原子として１つ以上の窒素原子を含み、さらに１つ以上の酸素原子または硫黄原子を含んでいてもよい５員もしくは６員環、縮合環または架橋環の含窒素複素環式基、ならびにフリル、チエニル、ベンゾチエニル、ピラニル、イソベンゾフラニル、オキサゾリル、ベンゾフラニル、インドリル、ベンズイミダゾリル、ベンズオキサゾリル、ベンゾチアゾリル、キノキサリル、ジヒドロキノキサリニル、２，３−ジヒドロベンゾチエニル、２，３−ジヒドロベンゾピロリル、２，３−ジヒドロ−４Ｈ−１−チアナフチル、２，３−ジヒドロベンゾフラニル、ベンゾ［ｂ］ジオキサニル、イミダゾ［２，３−ａ］ピリジル、ベンゾ［ｂ］ピペラジニル、クロメニル、イソチアゾリル、イソオキサゾリル、チアジアゾリル、オキサジアゾリル、ピリダジニル、イソインドリルおよびイソキノリル基などの該環を形成する異項原子として１つ以上の酸素原子もしくは硫黄原子を含んでいてもよい、窒素、酸素および硫黄原子から選ばれる少なくとも１つ以上の異項原子を含有する５員もしくは６員環、縮合環または架橋環の複素環式基を；低級アルケニル基とは、たとえば、ビニル、アリル、プロペニル、イソプロペニル、ブテニル、イソブテニルおよびペンテニルなどの直鎖状および分枝鎖状のＣ2-6アルケニル基を；低級アルキルスルホニルカルバモイル基とは、たとえば、メチルスルホニルカルバモイル、エチルスルホニルカルバモイル、プロピルスルホニルカルバモイル、イソプロピルスルホニルカルバモイル、ブチルスルホニルカルバモイル、イソブチルスルホニルカルバモイル、s-ブチルスルホニルカルバモイル、t-ブチルスルホニルカルバモイルおよびペンチルスルホニルカルバモイルなどの直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ1-6アルキルスルホニルカルバモイル基を；低級アルキルカルバモイル基とは、たとえば、メチルカルバモイル、エチルカルバモイル、プロピルカルバモイル、イソプロピルカルバモイル、ジメチルカルバモイル、ジエチルカルバモイルおよびメチルエチルカルバモイルなどのモノまたはジ-Ｃ1-6アルキルカルバモイル基を；アリールオキシカルボニル基とは、たとえば、フェノキシカルボニルおよびナフトキシカルボニルなどで表されるアリールオキシ−ＣＯ−で表される基を；アルキルオキシカルボニル基とは、たとえば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニルおよびプロポキシカルボニルなどの直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ1-12アルキルオキシカルボニル基を；アルアルキルオキシカルボニル基とは、たとえば、ベンジルオキシカルボニル、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル、ｏ−ブロモベンジルオキシカルボニル、ｐ−メトキシベンジルオキシカルボニル、３，４−ジメトキシベンジルオキシカルボニルおよび４−（フェニルアゾ）ベンジルオキシカルボニルなどのアルアルキルオキシカルボニル基を；脱離基とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子およびヨウ素原子などのハロゲン原子、メタンスルホニルオキシおよびトリフルオロメタンスルホニルオキシなどのアルキルスルホニルオキシ基、p-トルエンスルホニルオキシおよびベンゼンスルホニルオキシなどのアリールスルホニルオキシ基ならびにアセチルオキシおよびトリフルオロアセチルオキシなどのアシルオキシ基などの基をそれぞれ意味する。
Ｙにおける二価の環状アミン残基とは、該環を形成する異なった２つの原子を介してＸおよびＺに結合する環状アミンを意味し、環状アミンとは、たとえば、飽和の環状アミンおよび不飽和の環状アミンのいずれでもよく、また当該環内にさらに１つまたはそれ以上の窒素原子、酸素原子、硫黄原子などの異種原子およびカルボニル炭素を含んでいてもよく、さらに単環であっても２〜３環性であってもよく、具体的には、アジリジン、アゼチジン、ピロリジン、ピロリン、ジヒドロピリジン、ピペリジン、ジヒドロアゼピンおよびペルヒドロアゼピンなどの窒素原子１個を有する飽和または不飽和の単環式３〜７員の環状アミン；ピペラジン、ホモピペラジンなどの窒素原子２個を有する飽和または不飽和の単環式３〜７員の環状アミン；モルホリン、チオモルホリン、ホモチオモルホリンなどの窒素原子以外に酸素原子および硫黄原子から選ばれるヘテロ原子１〜４個を有する飽和または不飽和の単環式３〜７員の環状アミン；イソインドリン、テトラヒドロキノリンなどの飽和または不飽和の２〜３環性の環状アミン；ならびに、キヌクリジン、５−アザスピロ［２．４］ヘプタン、２，８−ジアザビシクロ［４．３．０］ノナン、３−アザビシクロ［３．１．０］ヘキサン、２−オキサ−５，８−ジアザビシクロ［４．３．０］ノナン、２，８−ジアザスピロ［４．４］ノナンおよび７−アザビシクロ［２．２．１］ヘプタンなどのスピロ式または架橋式の飽和または不飽和の５〜１２員の環状アミンを意味する。
アミノ基の保護基としては、通常のアミノ保護基として使用しうるすべての基を含み、たとえば、（モノ、ジ、トリ）クロロアセチル、トリフルオロアセチル、フェニルアセチル、ホルミル、アセチル、ベンゾイル、フタロイル、スクシニルおよびＮ末端が保護されていてもよいアミノ酸残基などのアシル基（アミノ酸としては、たとえば、グリシン、アラニン、バリン、ロイシン、イソロイシン、セリン、トレオニン、システイン、メチオニン、アスパラギン酸、グルタミン酸、アスパラギン、グルタミン、アルギニン、リジン、ヒスチジン、ヒドロキシリジン、フェニルアラニン、チロシン、トリプトファン、プロリンおよびヒドロキシプロリンなどが挙げられる。）；メトキシカルボニル、ジフェニルメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、トリクロロエトキシカルボニル、トリブロモエトキシカルボニル、１，１−ジメチルプロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、２−エチルヘキシルオキシカルボニル、ｔ−ペンチルオキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニルおよび１−アダマンチルオキシカルボニルなどのアルキルオキシカルボニル基；ベンジルオキシカルボニル、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル、ｏ−ブロモベンジルオキシカルボニル、ｐ−メトキシベンジルオキシカルボニル、３，４−ジメトキシベンジルオキシカルボニルおよび４−（フェニルアゾ）ベンジルオキシカルボニルなどのアルアルキルオキシカルボニル基；フェニルオキシカルボニル、４−フルオロフェニルオキシカルボニル、４−メトキシフェニルオキシカルボニル、８−キノリルオキシカルボニルおよび２−フルフリルオキシカルボニルなどのアリールオキシカルボニル基；ベンジル、ジフェニルメチルおよびトリチルなどのアルアルキル基；メトキシメチル、ベンジルオキシメチル、２−メトキシエトキシメチル、２，２，２−トリクロロエトキシメチル、２−（トリメチルシリル）エトキシメチルおよび１−エトキシエチルなどのアルコキシアルキル基；２−ニトロフェニルチオおよび２，４−ジニトロフェニルチオなどのアリールチオ基；メタンスルホニルおよびｐ−トルエンスルホニルなどのアルキルスルホニルもしくはアリールスルホニル基；Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメチレンなどのジアルキルアミノアルキリデン基；ベンジリデン、２−ヒドロキシベンジリデン、２−ヒドロキシ−５−クロロベンジリデンおよび２−ヒドロキシ−１−ナフチルメチレンなどのアルアルキリデン基；３−ヒドロキシ−４−ピリジルメチレンなどの含窒素複素環式アルキリデン基；シクロヘキシリデン、２−エトキシカルボニルシクロヘキシリデン、２−エトキシカルボニルシクロペンチリデン、２−アセチルシクロヘキシリデンおよび３，３−ジメチル−５−オキシシクロヘキシリデンなどのシクロアルキリデン基；ジフェニルホスホリルおよびジベンジルホスホリルなどのジアリールもしくはジアルアルキルホスホリル基；５−メチル−２−オキソ−２Ｈ−１，３−ジオキソール−４−イル−メチルなどの含酸素複素環式アルキル基；トリメチルシリル基などの置換シリル基などが挙げられる。
アミジノ基の保護基としては、通常のアミジノ基の保護基として使用しうるすべての基を含み、たとえば、アシル基；アルキルオキシカルボニル基；アルアルキルオキシカルボニル基；アリールオキシカルボニル基；アルアルキル基；アルコキシアルキル基；アリールチオ基；アルキルスルホニル基；アリールスルホニル基；シクロペンチルオキシカルボニルおよびシクロヘキシルオキシカルボニルなどのシクロアルキルオキシカルボニル基；エチルチオカルボニルなどのアルキルチオカルボニル基；ジアルキルアミノアルキリデン基；アルアルキリデン基；含窒素複素環式アルキリデン基；シクロアルキリデン基；含酸素複素環式アルキル基；置換シリル基などが挙げられる。
イミノ基の保護基としては、通常のイミノ基の保護基として使用しうるすべての基を含み、たとえば、アシル基；アルキルオキシカルボニル基；アルアルキルオキシカルボニル基；アリールオキシカルボニル基；アルアルキル基；アルコキシアルキル基；アリールチオ基；アルキルスルホニル基；アリールスルホニル基；シクロペンチルオキシカルボニルおよびシクロヘキシルオキシカルボニルなどのシクロアルキルオキシカルボニル基；エチルチオカルボニルなどのアルキルチオカルボニル基；ジアルキルアミノアルキリデン基；アルアルキリデン基；含窒素複素環式アルキリデン基；シクロアルキリデン基；含酸素複素環式アルキル基；置換シリル基などが挙げられる。
ヒドロキシル基の保護基としては、通常のヒドロキシル基の保護基として使用しうるすべての基を含み、たとえば、アシル基；アルキルオキシカルボニル基；アルアルキルオキシカルボニル基；アリールオキシカルボニル基；アルキル基；アリルなどのアルケニル基；ベンジル、ｐ−メトキシベンジル、３，４−ジメトキシベンジル、ジフェニルメチルおよびトリチルなどのアルアルキル基；テトラヒドロフリル、テトラヒドロピラニルおよびテトラヒドロチオピラニルなどの含酸素および含硫黄複素環式基；メトキシメチル、メトキシエトキシメチルおよび２−（トリメチルシリル）エトキシメチルなどのアルコキシアルキル基；ベンジルオキシメチルなどのアルアルコキシアルキル基；メチルチオメチルおよび２−メチルチオエチルなどの低級アルキルチオアルキル基；メタンスルホニルおよびｐ−トルエンスルホニル基などのアルキルスルホニル基もしくはアリールスルホニル基；ならびにトリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、ジエチルイソプロピルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、ｔ−ブチルジフェニルシリル基、ジフェニルメチルシリル基およびｔ−ブチルメトキシフェニルシリル基などの置換シリル基などが挙げられる。
カルボキシル基の保護基としては、通常のカルボキシル基の保護基として使用し得るすべての基を含み、たとえば、アルキル基；アリール基；アルアルキル基；アセチルメチル、ベンゾイルメチル、ｐ−ニトロベンゾイルメチル、ｐ−ブロモベンゾイルメチルおよびｐ−メタンスルホニルベンゾイルメチルなどのアシルアルキル基；２−テトラヒドロピラニルおよび２−テトラヒドロフラニルなどの含酸素複素環式基；２，２，２−トリクロロエチルなどのハロゲノアルキル基；２−（トリメチルシリル）エチルなどのアルキルシリルアルキル基；アセトキシメチル、プロピオニルオキシメチルおよびピバロイルオキシメチルなどのアシルオキシアルキル基；フタルイミドメチルおよびスクシンイミドメチルなどの含窒素複素環式アルキル基；シクロアルキル基；アルコキシアルキル基；アルアルコキシアルキル基；低級アルキルチオアルキル基；フェニルチオメチルなどのアリールチオアルキル基；アルケニル基；ならびに置換シリル基などが挙げられる。
一般式［１］の化合物の塩としては、通常、知られているアミノ基などの塩基性基またはフェノール性ヒドロキシル基もしくはカルボキシル基などの酸性基における塩を挙げることができる。塩基性基における塩としては、たとえば、塩酸、臭化水素酸および硫酸などの鉱酸との塩；酒石酸、ギ酸、酢酸、クエン酸、トリクロロ酢酸、フマル酸、マレイン酸およびトリフルオロ酢酸などの有機カルボン酸との塩；ならびにメタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、メシチレンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、イセチオン酸およびヘプタンスルホン酸などのスルホン酸との塩などを挙げることができる。また、酸性基における塩としては、たとえば、ナトリウムおよびカリウムなどのアルカリ金属との塩；カルシウムおよびマグネシウムなどのアルカリ土類金属との塩；アンモニウム塩；ならびにトリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ−メチルピペリジン、Ｎ−メチルモルホリン、ジエチルアミン、ジシクロヘキシルアミン、プロカイン、ジベンジルアミン、Ｎ−ベンジル−β−フェネチルアミンおよびＮ，Ｎ’−ジベンジルエチレンジアミンなどの含窒素有機塩基との塩などを挙げることができる。さらに、上記、塩の中で一般式［１］の化合物の好ましい塩としては、薬理学的に許容される塩が挙げられる。
Ｒ１の置換基としては、保護されていてもよいヒドロキシル基、アルキル基、低級アルケニル基、低級アルコキシ基およびアリール基などから選ばれる１つ以上の基が挙げられる。
Ｒ2、Ｒ3、ＸおよびＺの各置換基としては、ハロゲン原子、保護されていてもよいアミノ、ヒドロキシル、カルボキシル、カルバモイル、ヒドロキシカルバモイルおよび低級アルキルアミノ基、アシル基、アリール基、複素環式基、シクロアルキル基、低級アルケニル基、低級アルキルスルホニルカルバモイル基、低級アルキルカルバモイル基、低級アルコキシ基ならびに低級アルキルオキシカルボニル基から選ばれる１つ以上の基が挙げられる。
Ｙの置換基としては、アルキル基および保護または置換されていてもよいアミノ低級アルキル基から選ばれる１つ以上の基が挙げられる。
Ｒ2、Ｒ3、ＸおよびＺの各置換基としては、ハロゲン原子、保護されていてもよいアミノ、ヒドロキシル、カルボキシル、カルバモイル、ヒドロキシカルバモイルおよび低級アルキルアミノ基、アシル基、アリール基、複素環式基、シクロアルキル基、低級アルケニル基、低級アルキルスルホニルカルバモイル基、低級アルキルカルバモイル基、低級アルコキシ基ならびに低級アルキルオキシカルボニル基から選ばれる１つ以上の基が挙げられる。
Ｙの置換基としては、アルキル基および保護または置換されていてもよいアミノ低級アルキル基から選ばれる１つ以上の基が挙げられる。
上記の各置換基における置換基は、さらに各置換基の置換基として例示した基によって置換されていてもよい。
また、各置換基の置換基における複素環式基は、さらに、ケト基によって置換されていてもよい。
また、各置換基の置換基における複素環式基は、さらに、ケト基によって置換されていてもよい。
本発明化合物において、好ましい化合物としては、以下の化合物が挙げられる。
Ｒ１が、保護されていてもよいアミジノ基である化合物が好ましく、アミジノ基である化合物がより好ましい。
Ｒ２が、水素原子またはハロゲン原子である化合物が好ましく、水素原子である化合物がより好ましい。
Ｒ３が、保護されていてもよいアミノ基または低級アルキル基である化合物が好ましく、アミノ基またはメチル基である化合物がさらに好ましい。
Ｒ４が、水素原子またはアルキルオキシカルボニルもしくはアルアルキルオキシカルボニル基で表されるイミノ保護基である化合物が好ましく、水素原子である化合物がさらに好ましい。
Ｘが、低級アルキレン基である化合物が好ましく、Ｃ2-6低級アルキレン基である化合物がさらに好ましい。
Ｚが、低級アルキレン基である化合物が好ましく、Ｃ2-6低級アルキレン基である化合物がさらに好ましい。
Ｙが、窒素原子２個を有する飽和または不飽和の単環式３〜７員の環状アミン残基である化合物が好ましく、式
である化合物がより好ましい。
Ｗがイミノ基または式
である化合物が好ましい。
Ｒ１が、保護されていてもよいアミジノ基である化合物が好ましく、アミジノ基である化合物がより好ましい。
Ｒ２が、水素原子またはハロゲン原子である化合物が好ましく、水素原子である化合物がより好ましい。
Ｒ３が、保護されていてもよいアミノ基または低級アルキル基である化合物が好ましく、アミノ基またはメチル基である化合物がさらに好ましい。
Ｒ４が、水素原子またはアルキルオキシカルボニルもしくはアルアルキルオキシカルボニル基で表されるイミノ保護基である化合物が好ましく、水素原子である化合物がさらに好ましい。
Ｘが、低級アルキレン基である化合物が好ましく、Ｃ2-6低級アルキレン基である化合物がさらに好ましい。
Ｚが、低級アルキレン基である化合物が好ましく、Ｃ2-6低級アルキレン基である化合物がさらに好ましい。
Ｙが、窒素原子２個を有する飽和または不飽和の単環式３〜７員の環状アミン残基である化合物が好ましく、式
Ｗがイミノ基または式
本発明化合物中、代表的化合物としては、たとえば、以下の表１および２に記載の化合物が挙げられる。表中、Ｍｅはメチル基を示す。
また、一般式［１］の化合物またはその塩において、異性体（たとえば、光学異性体、幾何異性体および互変異性体など）が存在する場合、本発明は、それらの異性体を包含し、また、溶媒和物、水和物および種々の形状の結晶を包含するものである。
次に、本発明化合物の製造法について説明する。
本発明化合物は、自体公知の方法を組合せることにより製造できるが、たとえば、次に示す製造法により製造することができる。
一般式［１］の化合物は、たとえば、以下の製造法により製造することができる。
［製造法１］
「式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｘ、Ｙ、ＺおよびＷは、前記したと同様の意味を；Ｌ１、Ｌ２およびＬ３は、脱離基を；ＲａおよびＲｂは、アミノ基の保護基をそれぞれ示す。」
一般式［２］の化合物は、たとえば、国際公開番号ＷＯ９６／１６９４７などに記載の方法またはそれに準じた方法により製造することができる。
本発明化合物は、自体公知の方法を組合せることにより製造できるが、たとえば、次に示す製造法により製造することができる。
一般式［１］の化合物は、たとえば、以下の製造法により製造することができる。
［製造法１］
一般式［２］の化合物は、たとえば、国際公開番号ＷＯ９６／１６９４７などに記載の方法またはそれに準じた方法により製造することができる。
（１−ａ）
一般式［４］の化合物は、塩基の存在下または不存在下、一般式［２］の化合物を一般式［３］の化合物と反応させることにより製造することができる。
この反応で使用される溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、メタノール、エタノール、2-プロパノールおよび2-メチル-2-プロパノールなどのアルコール類；Ｎ,Ｎ-ジメチルホルムアミド、Ｎ,Ｎ-ジメチルアセトアミドおよび1-メチル-2-ピロリドンなどのアミド類；塩化メチレン、クロロホルムおよびジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類；ベンゼン、トルエンおよびキシレンなどの芳香族炭化水素類；ジオキサン、テトラヒドロフラン、アニソール、ジエチレングリコールジエチルエーテルおよびエチレングリコールモノメチルエーテルなどのエーテル類；アセトニトリルなどのニトリル類；ならびにジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類などが挙げられ、これらは混合して使用してもよい。
この反応で所望により使用される塩基としては、たとえば、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムt-ブトキシド、ナトリウムt-ブトキシドなどの金属アルコキシド；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水素化ナトリウム、水素化カリウムなどの無機塩基；トリエチルアミン、Ｎ,Ｎ-ジイソプロピルエチルアミンおよびピリジンなどの有機塩基などが挙げられ、塩基の使用量は、一般式［２］の化合物に対して、等モル以上であればよく、好ましくは、1〜3倍モルであればよい。
この反応で用いる一般式［３］の化合物の使用量は、一般式［２］の化合物に対して等モル以上であればよく、好ましくは、1〜5倍モルである。
この反応は、0〜200℃、好ましくは、0〜150℃で1分間〜24時間実施すればよい。
また、Ｒaで示されるアミノ基の保護基の除去は、公知の方法で行えばよい。
一般式［４］の化合物は、塩基の存在下または不存在下、一般式［２］の化合物を一般式［３］の化合物と反応させることにより製造することができる。
この反応で使用される溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、メタノール、エタノール、2-プロパノールおよび2-メチル-2-プロパノールなどのアルコール類；Ｎ,Ｎ-ジメチルホルムアミド、Ｎ,Ｎ-ジメチルアセトアミドおよび1-メチル-2-ピロリドンなどのアミド類；塩化メチレン、クロロホルムおよびジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類；ベンゼン、トルエンおよびキシレンなどの芳香族炭化水素類；ジオキサン、テトラヒドロフラン、アニソール、ジエチレングリコールジエチルエーテルおよびエチレングリコールモノメチルエーテルなどのエーテル類；アセトニトリルなどのニトリル類；ならびにジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類などが挙げられ、これらは混合して使用してもよい。
この反応で所望により使用される塩基としては、たとえば、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムt-ブトキシド、ナトリウムt-ブトキシドなどの金属アルコキシド；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水素化ナトリウム、水素化カリウムなどの無機塩基；トリエチルアミン、Ｎ,Ｎ-ジイソプロピルエチルアミンおよびピリジンなどの有機塩基などが挙げられ、塩基の使用量は、一般式［２］の化合物に対して、等モル以上であればよく、好ましくは、1〜3倍モルであればよい。
この反応で用いる一般式［３］の化合物の使用量は、一般式［２］の化合物に対して等モル以上であればよく、好ましくは、1〜5倍モルである。
この反応は、0〜200℃、好ましくは、0〜150℃で1分間〜24時間実施すればよい。
また、Ｒaで示されるアミノ基の保護基の除去は、公知の方法で行えばよい。
（１−ｂ）
一般式［６］の化合物は、一般式［４］の化合物を一般式［５］の化合物と反応させることにより製造することができる。
この反応は、製造法１−ａに準じて行えばよい。また、Ｒbで示されるアミノ基の保護基の除去は、公知の方法で行えばよい。
一般式［５］の化合物は、たとえば、臭化4-[Ｎ-[(t-ブトキシ)カルボニル]ピペリジン-4-イル]ブチル、ヨウ化3-[Ｎ-[(t-ブトキシ)カルボニル]ピペリジン-4-イル]プロピル［ジャーナル・オブ・メディシナル・ケミストリー(J. Med. Chem.)、第37巻、2537〜2551頁、1994年］などが挙げられる。また、3-アミノ-1-プロパノール、4-アミノ-1-ブタノール、5-アミノ-1-ペンタノール、6-アミノ-1-ヘキサノールなどを原料にして、公知の方法を組み合わせることにより合成することができる。
一般式［６］の化合物は、一般式［４］の化合物を一般式［５］の化合物と反応させることにより製造することができる。
この反応は、製造法１−ａに準じて行えばよい。また、Ｒbで示されるアミノ基の保護基の除去は、公知の方法で行えばよい。
一般式［５］の化合物は、たとえば、臭化4-[Ｎ-[(t-ブトキシ)カルボニル]ピペリジン-4-イル]ブチル、ヨウ化3-[Ｎ-[(t-ブトキシ)カルボニル]ピペリジン-4-イル]プロピル［ジャーナル・オブ・メディシナル・ケミストリー(J. Med. Chem.)、第37巻、2537〜2551頁、1994年］などが挙げられる。また、3-アミノ-1-プロパノール、4-アミノ-1-ブタノール、5-アミノ-1-ペンタノール、6-アミノ-1-ヘキサノールなどを原料にして、公知の方法を組み合わせることにより合成することができる。
（１−ｃ）
一般式［８］の化合物は、塩基の存在下または不存在下、一般式［６］の化合物を一般式［７］の化合物と反応させることにより製造することができる。
この反応は、テトラヘドロン（Tetrahedron）、第57巻、第7073〜7105頁、2001年、ケミカル・アンド・ファーマシューティカル・ブレチン（Chem. Pharm. Bull.）、第44巻、第1577〜1579頁、1996年などに記載されている方法に従って行えばよい。
一般式［７］の化合物としては、たとえば、アセトイミド酸エチル塩酸塩、N,N’-ビス(ベンジルオキシカルボニル)-1H-ピラゾール-1-カルボキシアミジン、1H-ピラゾール-1-[N,N’-ビス(t-ブトキシカルボニル)]カルボキシアミジン［シンセシス（SYNTHESIS）、第597〜582頁、1994年］及び［テトラヘドロン・レターズ（Tetrahedron Letters）、第34巻、第3389〜3392頁、1993年］などが挙げられる。
この反応で使用される溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、水；メタノール、エタノール、2-プロパノールおよび2-メチル-2-プロパノールなどのアルコール類；Ｎ,Ｎ-ジメチルホルムアミド、Ｎ,Ｎ-ジメチルアセトアミドおよび1-メチル-2-ピロリドンなどのアミド類；塩化メチレン、クロロホルムおよびジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類；ベンゼン、トルエンおよびキシレンなどの芳香族炭化水素類；ジオキサン、テトラヒドロフラン、アニソール、ジエチレングリコールジエチルエーテルおよびエチレングリコールモノメチルエーテルなどのエーテル類；アセトニトリルなどのニトリル類；ならびにジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類などが挙げられ、これらは混合して使用してもよい。
この反応で所望により使用される塩基としては、たとえば、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムt-ブトキシド、ナトリウムt-ブトキシドなどの金属アルコキシド；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水素化ナトリウム、水素化カリウムなどの無機塩基；トリエチルアミン、N,N-ジイソプロピルエチルアミンおよびピリジンなどの有機塩基などが挙げられ、塩基の使用量は、一般式［７］の化合物に対して、等モル以上であればよく、好ましくは、1〜3倍モルであればよい。
この反応で用いる一般式［７］の化合物の使用量は、一般式［６］の化合物に対して等モル以上であればよく、好ましくは、1〜5倍モルである。
この反応は、0〜200℃、好ましくは、0〜100℃で1分間〜7日間実施すればよい。
一般式［８］の化合物は、塩基の存在下または不存在下、一般式［６］の化合物を一般式［７］の化合物と反応させることにより製造することができる。
この反応は、テトラヘドロン（Tetrahedron）、第57巻、第7073〜7105頁、2001年、ケミカル・アンド・ファーマシューティカル・ブレチン（Chem. Pharm. Bull.）、第44巻、第1577〜1579頁、1996年などに記載されている方法に従って行えばよい。
一般式［７］の化合物としては、たとえば、アセトイミド酸エチル塩酸塩、N,N’-ビス(ベンジルオキシカルボニル)-1H-ピラゾール-1-カルボキシアミジン、1H-ピラゾール-1-[N,N’-ビス(t-ブトキシカルボニル)]カルボキシアミジン［シンセシス（SYNTHESIS）、第597〜582頁、1994年］及び［テトラヘドロン・レターズ（Tetrahedron Letters）、第34巻、第3389〜3392頁、1993年］などが挙げられる。
この反応で使用される溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、水；メタノール、エタノール、2-プロパノールおよび2-メチル-2-プロパノールなどのアルコール類；Ｎ,Ｎ-ジメチルホルムアミド、Ｎ,Ｎ-ジメチルアセトアミドおよび1-メチル-2-ピロリドンなどのアミド類；塩化メチレン、クロロホルムおよびジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類；ベンゼン、トルエンおよびキシレンなどの芳香族炭化水素類；ジオキサン、テトラヒドロフラン、アニソール、ジエチレングリコールジエチルエーテルおよびエチレングリコールモノメチルエーテルなどのエーテル類；アセトニトリルなどのニトリル類；ならびにジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類などが挙げられ、これらは混合して使用してもよい。
この反応で所望により使用される塩基としては、たとえば、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムt-ブトキシド、ナトリウムt-ブトキシドなどの金属アルコキシド；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水素化ナトリウム、水素化カリウムなどの無機塩基；トリエチルアミン、N,N-ジイソプロピルエチルアミンおよびピリジンなどの有機塩基などが挙げられ、塩基の使用量は、一般式［７］の化合物に対して、等モル以上であればよく、好ましくは、1〜3倍モルであればよい。
この反応で用いる一般式［７］の化合物の使用量は、一般式［６］の化合物に対して等モル以上であればよく、好ましくは、1〜5倍モルである。
この反応は、0〜200℃、好ましくは、0〜100℃で1分間〜7日間実施すればよい。
（１−ｄ）
一般式［１］の化合物は、一般式［８］の化合物をアミジノ化することにより製造することができる。
アミジノ化は、国際公開番号ＷＯ９６／１６９４７；ジャーナル・オブ・メディシナル・ケミストリー（J. Med. Chem.）、第36巻、第1811〜1819頁、1993年；ジャーナル・オブ・オーガニック・ケミストリー（J. Org. Chem.）、第64巻、第12〜13頁、1999年およびジャーナル・オブ・アメリカン・ケミカル・ソサイエティー（J. Am. Chem. Soc.）、第107巻、第2743〜2748頁、1985年などに記載の方法またはそれに準じた方法で行えばよい。
より具体的には、たとえば、一般式［８］のベンゾニトリル誘導体からベンズイミドエステル誘導体を経由し、一般式［１］のベンズアミジン誘導体とする方法（Pinner法）が挙げられる。
（１−ｄ−１）
ベンズイミドエステル誘導体は、酸の存在下、一般式［８］のベンゾニトリル誘導体を、たとえば、アルコール類と反応させることにより製造することができる。
この反応に使用されるアルコール類は、溶媒として使用してもよく、メタノール、エタノール、プロパノールおよびブタノールなどのアルコール類が挙げられる。また、たとえば、ジオキサン、テトラヒドロフラン、アニソール、ジエチレングリコールジエチルエーテルなどのエーテル類；アセトンおよび２−ブタノンなどのケトン類；並びに塩化メチレン、クロロホルム、１,２−ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類など反応に悪影響を及ぼさない溶媒を混合して使用してもよい。
この反応に使用される酸としては、塩化水素、臭化水素酸、過塩素酸、p-トルエンスルホン酸およびメタンスルホン酸などが挙げられ、その使用量は、一般式［８］のベンゾニトリル誘導体に対して1〜200倍モル、好ましくは、5〜100倍モルであればよい。
この反応において、アルコール類の使用量は、一般式［８］のベンゾニトリル誘導体に対し、1〜1000倍モル、好ましくは、10〜100倍モルであればよい。
この反応は、通常、−30〜150℃、好ましくは、10〜50℃で30分間〜24時間実施すればよい。
（１−ｄ−２）
一般式［１］のベンズアミジン誘導体は、ベンズイミドエステル誘導体を塩基の存在下または不存在下、アンモニア、アミンまたはその塩と反応させることにより製造することができる。
この反応に使用される溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさない溶媒であればよく、たとえば、メタノール、エタノール、２−プロパノールおよび２−メチル−２−プロパノールなどのアルコール類；ジオキサン、テトラヒドロフラン、アニソール、ジエチレングリコールジエチルエーテルおよびエチレングリコールモノメチルエーテルなどのエーテル類；Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミドおよびＮ,Ｎ−ジメチルアセトアミドなどのアミド類；並びにジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類が挙げられ、これらは混合して使用してもよい。
アミンまたはその塩としては、たとえば、塩化アンモニウム、臭化アンモニウムおよび酢酸アンモニウムなどが挙げられる。
また、この反応で用いられるアミンとしては、たとえば、メチルアミン、エチルアミン、アリルアミンおよびメトキシアミンなどの脂肪族アミン；ヒドロキシルアミンが挙げられ、それらの使用量は、ベンズイミドエステル誘導体またはその塩に対して、1〜100倍モル、好ましくは、1〜10倍モルであればよい。
この反応は、通常、0〜150℃、好ましくは、20〜120℃で1分間〜24時間実施すればよい。
一般式［１］の化合物は、一般式［８］の化合物をアミジノ化することにより製造することができる。
アミジノ化は、国際公開番号ＷＯ９６／１６９４７；ジャーナル・オブ・メディシナル・ケミストリー（J. Med. Chem.）、第36巻、第1811〜1819頁、1993年；ジャーナル・オブ・オーガニック・ケミストリー（J. Org. Chem.）、第64巻、第12〜13頁、1999年およびジャーナル・オブ・アメリカン・ケミカル・ソサイエティー（J. Am. Chem. Soc.）、第107巻、第2743〜2748頁、1985年などに記載の方法またはそれに準じた方法で行えばよい。
より具体的には、たとえば、一般式［８］のベンゾニトリル誘導体からベンズイミドエステル誘導体を経由し、一般式［１］のベンズアミジン誘導体とする方法（Pinner法）が挙げられる。
（１−ｄ−１）
ベンズイミドエステル誘導体は、酸の存在下、一般式［８］のベンゾニトリル誘導体を、たとえば、アルコール類と反応させることにより製造することができる。
この反応に使用されるアルコール類は、溶媒として使用してもよく、メタノール、エタノール、プロパノールおよびブタノールなどのアルコール類が挙げられる。また、たとえば、ジオキサン、テトラヒドロフラン、アニソール、ジエチレングリコールジエチルエーテルなどのエーテル類；アセトンおよび２−ブタノンなどのケトン類；並びに塩化メチレン、クロロホルム、１,２−ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類など反応に悪影響を及ぼさない溶媒を混合して使用してもよい。
この反応に使用される酸としては、塩化水素、臭化水素酸、過塩素酸、p-トルエンスルホン酸およびメタンスルホン酸などが挙げられ、その使用量は、一般式［８］のベンゾニトリル誘導体に対して1〜200倍モル、好ましくは、5〜100倍モルであればよい。
この反応において、アルコール類の使用量は、一般式［８］のベンゾニトリル誘導体に対し、1〜1000倍モル、好ましくは、10〜100倍モルであればよい。
この反応は、通常、−30〜150℃、好ましくは、10〜50℃で30分間〜24時間実施すればよい。
（１−ｄ−２）
一般式［１］のベンズアミジン誘導体は、ベンズイミドエステル誘導体を塩基の存在下または不存在下、アンモニア、アミンまたはその塩と反応させることにより製造することができる。
この反応に使用される溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさない溶媒であればよく、たとえば、メタノール、エタノール、２−プロパノールおよび２−メチル−２−プロパノールなどのアルコール類；ジオキサン、テトラヒドロフラン、アニソール、ジエチレングリコールジエチルエーテルおよびエチレングリコールモノメチルエーテルなどのエーテル類；Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミドおよびＮ,Ｎ−ジメチルアセトアミドなどのアミド類；並びにジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類が挙げられ、これらは混合して使用してもよい。
アミンまたはその塩としては、たとえば、塩化アンモニウム、臭化アンモニウムおよび酢酸アンモニウムなどが挙げられる。
また、この反応で用いられるアミンとしては、たとえば、メチルアミン、エチルアミン、アリルアミンおよびメトキシアミンなどの脂肪族アミン；ヒドロキシルアミンが挙げられ、それらの使用量は、ベンズイミドエステル誘導体またはその塩に対して、1〜100倍モル、好ましくは、1〜10倍モルであればよい。
この反応は、通常、0〜150℃、好ましくは、20〜120℃で1分間〜24時間実施すればよい。
別途、アミドキシムまたはその類縁体を経由する際は、テトラヘドロン（Tetrahedron）、第51巻、第12047〜12068頁、1995年；シンセティック・コミュニケーション（Synthetic Communication）、第26巻、第4351〜4367頁、1996年；ジャーナル・オブ・メディシナル・ケミストリー（J. Med. Chem.）、第43巻、第4063〜4070頁、2000年；同第44巻、第1217〜1230頁、2001年；ケミカル・アンド・ファーマシューティカル・ブレチン（Chem. Pharm. Bull.）、第49巻、第268〜277頁、2001年などに記載の方法またはそれに準じた方法で行えばよい。
上記した製造法１における各々の化合物は、それらの塩を使用することもでき、その塩としては、一般式［１］の化合物で説明したと同様の塩が挙げられる。
上記した製造法１において得られた各々の製造中間体は、単離せずにつぎの反応に使用することもできる。
上記した製造法１における各々の化合物において、官能基、たとえば、アミノ基、環状アミン残基、ヒドロキシル基、ホルミル基またはカルボキシル基などを有する化合物は、必要に応じ、予めこれらの基を通常の保護基で保護しておき、反応後、自体公知の方法でこれらの保護基を脱保護することもできる。
上記した製造法１において得られた各々の製造中間体は、単離せずにつぎの反応に使用することもできる。
上記した製造法１における各々の化合物において、官能基、たとえば、アミノ基、環状アミン残基、ヒドロキシル基、ホルミル基またはカルボキシル基などを有する化合物は、必要に応じ、予めこれらの基を通常の保護基で保護しておき、反応後、自体公知の方法でこれらの保護基を脱保護することもできる。
このようにして得られた一般式［１］の化合物またはそれらの塩は、たとえば、縮合、付加、酸化、還元、転位、置換、ハロゲン化、脱水もしくは加水分解などの自体公知の反応に付すことによって、または、それらの反応を適宜組合わせることによって他の一般式［１］の化合物またはその塩に誘導することができる。
また、上記した製造法における化合物において、異性体（たとえば、光学異性体、幾何異性体および互変異性体など）が存在する場合、これらの異性体も使用することができ、また、溶媒和物、水和物および種々の形状の結晶も使用することができる。
本発明化合物を医薬として用いる場合、通常、製剤化に使用される賦形剤、担体および希釈剤などの製剤補助剤を適宜混合してもよく、これらは常法にしたがって、錠剤、カプセル剤、散剤、シロップ剤、顆粒剤、丸剤、懸濁剤、乳剤、液剤、粉体製剤、坐剤、点眼剤、点鼻剤、点耳剤、貼付剤、軟膏剤または注射剤などの形態で経口または非経口で投与することができる。また投与方法、投与量および投与回数は、患者の年齢、体重および症状に応じて適宜選択することができ、通常、成人に対しては、経口または非経口（たとえば、注射、点滴および直腸部位への投与など）投与により、１日、0.01〜1000mg／kgを１回から数回に分割して投与すればよい。
本発明化合物を医薬として用いる場合、通常、製剤化に使用される賦形剤、担体および希釈剤などの製剤補助剤を適宜混合してもよく、これらは常法にしたがって、錠剤、カプセル剤、散剤、シロップ剤、顆粒剤、丸剤、懸濁剤、乳剤、液剤、粉体製剤、坐剤、点眼剤、点鼻剤、点耳剤、貼付剤、軟膏剤または注射剤などの形態で経口または非経口で投与することができる。また投与方法、投与量および投与回数は、患者の年齢、体重および症状に応じて適宜選択することができ、通常、成人に対しては、経口または非経口（たとえば、注射、点滴および直腸部位への投与など）投与により、１日、0.01〜1000mg／kgを１回から数回に分割して投与すればよい。
試験例１ 抗真菌作用
抗真菌活性の測定にはNational Committee for Clinical Laboratory Standards (NCCLS)の標準法M27-Aを参考にし、微量液体希釈法により50％発育阻止濃度（IC50）を測定した。感受性測定培地には、RPMI1640に３−（Ｎ−モルホリノ）プロパンスルホン酸（ＭＯＰＳ、終濃度0.165M）を加えて緩衝液とし、1mol/L水酸化ナトリウムを添加してpH7.0に調整したものを用いた。35℃で一夜培養したカンジダ・アルビカンス（Candida albicans）TIMM1623を培地に懸濁後、1×104cells/mLになるよう測定培地で希釈し、接種菌液とした。96穴マイクロプレート（平底：岩城硝子社製）に培地175μL、被験薬5μL（発育コントロールウェルには、薬剤希釈溶媒）、菌液20μLを加え、ミキサーで撹拌した後、ウェルリーダーSME3400（サイニクス社製）を用い、波長630 nmにおける初発濁度を測定した。35℃で培養し、48時間後に同様に終末濁度を測定した。薬剤の希釈系列において、終末濁度から初発濁度を引いた値のうちで、発育コントロールの終末濁度から初発濁度を引いた値の50％値（IC50計算値）と同等またはそれ以下の濁度を示す被験薬濃度で最も低い薬剤濃度の値をIC50とした。各菌株に対するIC50値の結果を表３に示す。
抗真菌活性の測定にはNational Committee for Clinical Laboratory Standards (NCCLS)の標準法M27-Aを参考にし、微量液体希釈法により50％発育阻止濃度（IC50）を測定した。感受性測定培地には、RPMI1640に３−（Ｎ−モルホリノ）プロパンスルホン酸（ＭＯＰＳ、終濃度0.165M）を加えて緩衝液とし、1mol/L水酸化ナトリウムを添加してpH7.0に調整したものを用いた。35℃で一夜培養したカンジダ・アルビカンス（Candida albicans）TIMM1623を培地に懸濁後、1×104cells/mLになるよう測定培地で希釈し、接種菌液とした。96穴マイクロプレート（平底：岩城硝子社製）に培地175μL、被験薬5μL（発育コントロールウェルには、薬剤希釈溶媒）、菌液20μLを加え、ミキサーで撹拌した後、ウェルリーダーSME3400（サイニクス社製）を用い、波長630 nmにおける初発濁度を測定した。35℃で培養し、48時間後に同様に終末濁度を測定した。薬剤の希釈系列において、終末濁度から初発濁度を引いた値のうちで、発育コントロールの終末濁度から初発濁度を引いた値の50％値（IC50計算値）と同等またはそれ以下の濁度を示す被験薬濃度で最も低い薬剤濃度の値をIC50とした。各菌株に対するIC50値の結果を表３に示す。
試験例２ カンジダ・アルビカンスによるマウス全身感染に対する治療効果
カンジダ・アルビカンスTIMM1623をサブロー寒天平板培地（栄研化学社製）上、35℃で一夜培養した菌体を滅菌生理食塩液に懸濁し、1.5×105cells/mL相当の感染用菌液を調製した。この菌液を一群5匹のICR系雄性マウス（4週齢）の尾静脈に0.2mL接種した。なお、マウスを易感染状態にするためにシクロホスファミドを感染4日前に200mg/kgおよび1日後に100mg/kg腹腔内投与した。滅菌生理食塩液で0.1mg/mLの濃度に調製した被験化合物溶液0.2mLを感染2時間後に1回、翌日より1日1回6日間、計7回背部皮下に投与した。対照群のマウスには、同量の滅菌生理食塩液を投与し、感染28日目までの生存匹数を観察した。
その結果、感染28日目までに対照群が2/5例生存するのに対し、実施例３ｂの化合物投与群は全例生存した。
カンジダ・アルビカンスTIMM1623をサブロー寒天平板培地（栄研化学社製）上、35℃で一夜培養した菌体を滅菌生理食塩液に懸濁し、1.5×105cells/mL相当の感染用菌液を調製した。この菌液を一群5匹のICR系雄性マウス（4週齢）の尾静脈に0.2mL接種した。なお、マウスを易感染状態にするためにシクロホスファミドを感染4日前に200mg/kgおよび1日後に100mg/kg腹腔内投与した。滅菌生理食塩液で0.1mg/mLの濃度に調製した被験化合物溶液0.2mLを感染2時間後に1回、翌日より1日1回6日間、計7回背部皮下に投与した。対照群のマウスには、同量の滅菌生理食塩液を投与し、感染28日目までの生存匹数を観察した。
その結果、感染28日目までに対照群が2/5例生存するのに対し、実施例３ｂの化合物投与群は全例生存した。
つぎに、本発明を参考例および実施例を挙げて説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
なお、溶離液における混合比は、すべて容量比であり、カラムクロマトグラフィーにおける担体は、特に記載のないものは、B.W.シリカゲル、BW−127ZH（富士シリシア化学社製）を使用した。
各実施例において各略号は、以下の意味を有する。
d6-DMSO：重ジメチルスルホキシド
Cbz：ベンジルオキシカルボニル
Boc：t-ブトキシカルボニル
なお、溶離液における混合比は、すべて容量比であり、カラムクロマトグラフィーにおける担体は、特に記載のないものは、B.W.シリカゲル、BW−127ZH（富士シリシア化学社製）を使用した。
各実施例において各略号は、以下の意味を有する。
d6-DMSO：重ジメチルスルホキシド
Cbz：ベンジルオキシカルボニル
Boc：t-ブトキシカルボニル
参考例１
4-[3-(1-ピペラジニル)プロポキシ]ベンゾニトリル1.85gをＮ,Ｎ-ジメチルホルムアミド10mLに溶解させ、この溶液に室温で無水炭酸カリウム1.77gおよび6-ブロモヘキシルカルバミド酸t-ブチル1.79gを順次加え、同温で22時間攪拌した。反応混合物に1.0mol/L水酸化ナトリウム水溶液とクロロホルムを加え有機層を分取し、水層をクロロホルムで抽出した。有機層をあわせ、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［溶離液；クロロホルム：メタノール＝10：1］で精製し、無色油状の6-{4-[3-(4-シアノフェノキシ)プロピル]-1-ピペラジニル}ヘキシルカルバミド酸t-ブチル3.46gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値： 1.20-1.80(8H,m), 1.44(9H,s), 1.96-2.02(2H,m), 2.32-2.54(12H,m), 3.00-3.20(2H,m), 4.06(2H,t,J=6.3Hz), 4.50(1H,brs), 6.92-6.96(2H,m), 7.55-7.59(2H,m)
1H-NMR(CDCl3)δ値： 1.20-1.80(8H,m), 1.44(9H,s), 1.96-2.02(2H,m), 2.32-2.54(12H,m), 3.00-3.20(2H,m), 4.06(2H,t,J=6.3Hz), 4.50(1H,brs), 6.92-6.96(2H,m), 7.55-7.59(2H,m)
参考例２
6-{4-[3-(4-シアノフェノキシ)プロピル]-1-ピペラジニル}ヘキシルカルバミド酸t-ブチル3.46gを室温で6.0mol/L塩酸30mLに溶解させ、同温で12時間攪拌した。減圧下で溶媒を留去し、残留物を酢酸エチル−エタノールに加えた後、濾取し、白色固形の4-{3-[4-(6-アミノヘキシル)-1-ピペラジニル]プロポキシ}ベンゾニトリル塩酸塩2.51gを得た。
1H-NMR(d6-DMSO)δ値： 1.20-1.80(8H,m), 2.10-2.30(2H,m), 2.74-2.79(2H,m), 3.00-3.90(14H,m), 4.19(2H,t,J=6.0Hz), 7.12(2H,d,J=8.8Hz), 7.79(2H,d,J=8.8Hz), 7.91(3H,brs)
1H-NMR(d6-DMSO)δ値： 1.20-1.80(8H,m), 2.10-2.30(2H,m), 2.74-2.79(2H,m), 3.00-3.90(14H,m), 4.19(2H,t,J=6.0Hz), 7.12(2H,d,J=8.8Hz), 7.79(2H,d,J=8.8Hz), 7.91(3H,brs)
参考例３
4-{3-[4-(6-アミノヘキシル)-1-ピペラジニル]プロポキシ}ベンゾニトリル塩酸塩0.80gを水とクロロホルムの混液に溶解させ、5.0mol/L水酸化ナトリウム水溶液を用いてpH12.5に調整した。有機層を分取し、更に水層をクロロホルムで2回抽出し、合わせた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物0.75gに室温で1-[Ｎ,Ｎ’-ビス(ベンジルオキシカルボニル)アミジノ]ピラゾール2.00gのテトラヒドロフラン10mL溶液を加え、同温で３日間攪拌した。反応混合物を減圧下で濃縮し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［溶離液；クロロホルム：メタノール＝40：1］で精製し、無色油状の{[(ベンジルオキシ)カルボニル]アミノ}[(6-{4-[3-(4-シアノフェノキシ)プロピル]-1-ピペラジニル}ヘキシル)アミノ]メチリデンカルバミド酸ベンジル1.29gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値： 1.10-1.80,(8H,m), 1.90-2.10(2H,m), 2.20-2.70(12H,m), 3.30-3.50(2H,m), 4.06(2H,t,J=6.3Hz), 5.12(2H,s), 5.17(2H,s), 6.94(2H,d,J=8.9Hz), 7.20-7.45(10H,m), 7.57(2H,d,J=8.9Hz), 8.29(1H,brs), 11.75(1H,brs)
1H-NMR(CDCl3)δ値： 1.10-1.80,(8H,m), 1.90-2.10(2H,m), 2.20-2.70(12H,m), 3.30-3.50(2H,m), 4.06(2H,t,J=6.3Hz), 5.12(2H,s), 5.17(2H,s), 6.94(2H,d,J=8.9Hz), 7.20-7.45(10H,m), 7.57(2H,d,J=8.9Hz), 8.29(1H,brs), 11.75(1H,brs)
参考例４
4-(4-ブロモブチル)-1-ピペリジンカルボン酸t-ブチル1.70gをＮ,Ｎ-ジメチルホルムアミド14mLに溶解させ、この溶液に室温で4-[3-(1-ピペラジニル)プロポキシ]ベンゾニトリル塩酸塩1.70gのＮ,Ｎ-ジメチルホルムアミド溶液20mLを加えた。同温で無水炭酸カリウム5.90gを加え、70℃で6時間攪拌した。反応混合物を室温に冷却し、水および酢酸エチルの混合溶媒に加え有機層を分取した。更に水層を酢酸エチルで抽出し、有機層をあわせ、水および飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［溶離液；クロロホルム：メタノール＝30：1］で精製し、黄色油状の4-(4-{4-[3-(4-シアノフェノキシ)プロピル]-1-ピペラジニル}ブチル)-1-ピペリジンカルボン酸t-ブチル1.50gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値： 0.95-1.15(2H,m), 1.15-1.70(9H,m), 1.45(9H,s), 1.90-2.05(2H,m), 2.25-2.70(14H,m), 3.95-4.15(2H,m), 4.06(2H,t,J=6.5Hz), 6.94(2H,d,J=8.9Hz), 7.57(2H,d,J=8.9Hz)
1H-NMR(CDCl3)δ値： 0.95-1.15(2H,m), 1.15-1.70(9H,m), 1.45(9H,s), 1.90-2.05(2H,m), 2.25-2.70(14H,m), 3.95-4.15(2H,m), 4.06(2H,t,J=6.5Hz), 6.94(2H,d,J=8.9Hz), 7.57(2H,d,J=8.9Hz)
参考例５
4-(4-{4-[3-(4-シアノフェノキシ)プロピル]-1-ピペラジニル}ブチル)-1-ピペリジンカルボン酸t-ブチル0.75gをクロロホルム3.8mLに溶解させ、5℃でトリフルオロ酢酸3.8mLを加え、室温で1時間攪拌した。反応混合物を減圧下で濃縮し、得られた残留物に水およびクロロホルムを加え、5.0mol/L水酸化ナトリウム水溶液を用いてpH12.1に調整し、有機層を分取した。更に水層をクロロホルムで抽出し、有機層をあわせ、水および飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去し、淡黄色油状の4-(3-{4-[4-(4-ピペリジニル)ブチル]-1-ピペラジニル}プロポキシ)ベンゾニトリル0.66gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値： 1.00-1.90(11H,m), 1.90-2.05(2H,m), 2.25-2.65(14H,m), 3.00-3.15(2H,m), 4.06(2H,t,J=6.4Hz), 6.94(2H,d,J=8.8Hz), 7.57(2H,d,J=8.8Hz)
1H-NMR(CDCl3)δ値： 1.00-1.90(11H,m), 1.90-2.05(2H,m), 2.25-2.65(14H,m), 3.00-3.15(2H,m), 4.06(2H,t,J=6.4Hz), 6.94(2H,d,J=8.8Hz), 7.57(2H,d,J=8.8Hz)
参考例６
4-(3-{4-[4-(4-ピペリジニル)ブチル]-1-ピペラジニル}プロポキシ)ベンゾニトリル0.30gをエタノール10mLに溶解させ、5℃でアセトイミド酸エチル塩酸塩0.29gおよびトリエチルアミン0.49mLを加え、室温で2時間した。反応混合物を5℃に冷却し、同温でアセトイミド酸エチル塩酸塩0.29gおよびトリエチルアミン0.49mLを加え、室温で16時間攪拌した。反応混合物を減圧下で濃縮し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［シリカゲル：ＹＭＣ社製ＯＤＳ−ＡＭ １２０−Ｓ５０、溶離液；水：アセトニトリル＝95：5］で精製し、無色油状の4-(3-{4-[4-(1-エタンイミドイル-4-ピペリジニル)ブチル]-1-ピペラジニル}プロポキシ)ベンゾニトリル0.21gを得た。
1H-NMR(D2O)δ値： 1.10-1.45(6H,m), 1.60-1.80(3H,m), 1.80-1.95(2H,m), 2.00-2.15(2H,m), 2.28(3H,s), 2.50-3.60(14H,m), 3.90-4.00(2H,m), 4.20(2H,t,J=5.9Hz), 7.11(2H,d,J=9.0Hz), 7.74(2H,d,J=9.0Hz)
1H-NMR(D2O)δ値： 1.10-1.45(6H,m), 1.60-1.80(3H,m), 1.80-1.95(2H,m), 2.00-2.15(2H,m), 2.28(3H,s), 2.50-3.60(14H,m), 3.90-4.00(2H,m), 4.20(2H,t,J=5.9Hz), 7.11(2H,d,J=9.0Hz), 7.74(2H,d,J=9.0Hz)
実施例１
{[(ベンジルオキシ)カルボニル]アミノ}[(6-{4-[3-(4-シアノフェノキシ)プロピル]-1-ピペラジニル}ヘキシル)アミノ]メチリデンカルバミド酸ベンジル0.58gをエタノール30mLに溶解させ、氷冷下、この溶液に塩化水素ガスを導入後、室温で16時間攪拌した。反応混合物を減圧下で濃縮し、得られた残留物をエタノール20mLに溶解させ、室温で酢酸アンモニウム0.48gを加え、3時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却後、減圧下で濃縮し、残留物に水、クロロホルムを加えた後、5.0mol/L水酸化ナトリウム水溶液を用いてpH13.0に調整した。有機層を分取し、更に水層をクロロホルムで2回抽出し、有機層をあわせ、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去し、無色油状の({6-[4-(3-{4-[アミノ(イミノ)メチル]フェノキシ}プロピル)-1-ピペラジニル]ヘキシル}アミノ){[(ベンジルオキシ)カルボニル]アミノ}メチリデンカルバミド酸ベンジル0.54gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値： 1.20-1.70(8H,m), 1.80-2.00(2H,m), 2.20-2.70(12H,m), 3.35-3.45(2H,m), 3.90-4.00(2H,m), 5.12(2H,s), 5.17(2H,s), 6.70-7.00(2H,m), 7.10-7.50(10H,m), 7.50-7.80(2H,m), 8.29(1H,brs)
1H-NMR(CDCl3)δ値： 1.20-1.70(8H,m), 1.80-2.00(2H,m), 2.20-2.70(12H,m), 3.35-3.45(2H,m), 3.90-4.00(2H,m), 5.12(2H,s), 5.17(2H,s), 6.70-7.00(2H,m), 7.10-7.50(10H,m), 7.50-7.80(2H,m), 8.29(1H,brs)
実施例２
({6-[4-(3-{4-[アミノ(イミノ)メチル]フェノキシ}プロピル)-1-ピペラジニル]ヘキシル}アミノ){[(ベンジルオキシ)カルボニル]アミノ}メチリデンカルバミド酸ベンジル0.51gをメタノール10mLに溶解させ、この溶液に室温で5％パラジウム−炭素0.05gを加え、水素雰囲気下、常温常圧で5時間攪拌した。触媒を濾去後、減圧下で濃縮し、無色油状の4-{3-[4-(6-{[アミノ(イミノ)メチル]アミノ}ヘキシル)-1-ピペラジニル]プロポキシ}ベンズアミジン0.52gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値： 1.20-1.60(8H,m), 1.80-1.90(2H,m), 2.15-2.50(12H,m), 3.10-3.20(2H,m), 4.05(2H,t,J=6.2Hz), 6.97(2H,d,J=8.7Hz), 7.73(2H,d,J=8.7Hz)
1H-NMR(CDCl3)δ値： 1.20-1.60(8H,m), 1.80-1.90(2H,m), 2.15-2.50(12H,m), 3.10-3.20(2H,m), 4.05(2H,t,J=6.2Hz), 6.97(2H,d,J=8.7Hz), 7.73(2H,d,J=8.7Hz)
実施例３ａ
4-{3-[4-(6-{[アミノ(イミノ)メチル]アミノ}ヘキシル)-1-ピペラジニル]プロポキシ}ベンズアミジン0.52gを1.0mol/L塩酸に溶解させた後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー［シリカゲル：ＹＭＣ社製ＯＤＳ−ＡＭ １２０−Ｓ５０、溶離液：水］で精製し、無色油状の4-{3-[4-(6-{[アミノ(イミノ)メチル]アミノ}ヘキシル)-1-ピペラジニル]プロポキシ}ベンズアミジン塩酸塩0.24gを得た。
1H-NMR(d6-DMSO)δ値： 1.20-1.40(4H,m), 1.40-1.60(2H,m), 1.65-1.80(2H,m), 2.20-2.40(2H,m), 3.00-3.20(4H,m), 3.20-3.60(6H,m), 4.21(2H,t,J=6.0Hz), 7.17(2H,d,J=8.9Hz), 7.85(2H,d,J=8.9Hz), 8.92(2H,brs), 9.22(2H,brs)
1H-NMR(d6-DMSO)δ値： 1.20-1.40(4H,m), 1.40-1.60(2H,m), 1.65-1.80(2H,m), 2.20-2.40(2H,m), 3.00-3.20(4H,m), 3.20-3.60(6H,m), 4.21(2H,t,J=6.0Hz), 7.17(2H,d,J=8.9Hz), 7.85(2H,d,J=8.9Hz), 8.92(2H,brs), 9.22(2H,brs)
実施例３ｂ
4-{3-[4-(6-{[アミノ(イミノ)メチル]アミノ}ヘキシル)-1-ピペラジニル]プロポキシ}ベンズアミジン0.42gを酢酸エチルに溶解させ、この溶液に室温でフマル酸0.14gを加え、同温で24時間攪拌した。析出晶を濾取し、酢酸エチルで洗浄後、減圧下で乾燥させ、白色固形の4-{3-[4-(6-{[アミノ(イミノ)メチル]アミノ}ヘキシル)-1-ピペラジニル]プロポキシ}ベンズアミジン二フマル酸塩0.37gを得た。
1H-NMR(d6-DMSO)δ値： 1.20-1.50(8H,m), 1.80-2.00(2H,m), 2.20-2.60(12H,m), 2.70-4.00(11H,m), 3.00-3.20(2H,m), 4.11(2H,t,J=6.3Hz), 6.51(4H,s), 7.14(2H,d,J=8.8Hz), 7.80(2H,d,J=8.8Hz)
MALDI-TOF-MS(positive)m/z：404(M+H)+
1H-NMR(d6-DMSO)δ値： 1.20-1.50(8H,m), 1.80-2.00(2H,m), 2.20-2.60(12H,m), 2.70-4.00(11H,m), 3.00-3.20(2H,m), 4.11(2H,t,J=6.3Hz), 6.51(4H,s), 7.14(2H,d,J=8.8Hz), 7.80(2H,d,J=8.8Hz)
MALDI-TOF-MS(positive)m/z：404(M+H)+
実施例４
4-(3-{4-[4-(1-エタンイミドイル-4-ピペリジニル)ブチル]-1-ピペラジニル}プロポキシ)ベンゾニトリル0.20gをエタノール20mLに懸濁させ、氷冷下、塩化水素ガスを導入後、室温で17時間30分攪拌した。反応混合物を減圧下で濃縮し、得られた残留物をエタノール5.0mLに溶解させ、室温で酢酸アンモニウム0.22gを加え、1時間加熱還流した。反応混合物を室温に冷却後、減圧下で濃縮し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［シリカゲル：ＹＭＣ社製ＯＤＳ−ＡＭ １２０−Ｓ５０、溶離液；水：アセトニトリル＝96：4］で精製した。得られた油状物に1.0mol/L塩酸2.0mLを加え、減圧下で濃縮し、無色油状物0.15gを得た。この油状物を水5.0mLに溶解させ、1.0mol/L水酸化ナトリウム水溶液を用いてpH13.2に調整した。析出物を濾取し、白色固形の4-(3-{4-[4-(1-エタンイミドイル-4-ピペリジニル)ブチル]-1-ピペラジニル}プロポキシ)ベンズアミジン90mgを得た。
1H-NMR(d6-DMSO)δ値： 0.90-1.05(2H,m), 1.15-1.45(7H,m), 1.55-1.65(2H,m), 1.80-1.90(2H,m), 1.97(3H,s), 2.15-2.45(12H,m), 2.55-2.65(2H,m), 3.90-4.10(4H,m), 6.91(2H,d,J=8.8Hz), 7.71(2H,d,J=8.8Hz)
1H-NMR(d6-DMSO)δ値： 0.90-1.05(2H,m), 1.15-1.45(7H,m), 1.55-1.65(2H,m), 1.80-1.90(2H,m), 1.97(3H,s), 2.15-2.45(12H,m), 2.55-2.65(2H,m), 3.90-4.10(4H,m), 6.91(2H,d,J=8.8Hz), 7.71(2H,d,J=8.8Hz)
Claims (4)
- 一般式
- Ｒ１が、保護されていてもよいアミジノ基；Ｒ２が、水素原子またはハロゲン原子；Ｒ３が、保護されていてもよいアミノ基または低級アルキル基；Ｒ４が、水素原子またはアルキルオキシカルボニルもしくはアルアルキルオキシカルボニル基で表されるイミノ保護基；Ｘが、低級アルキレン基；Ｙが、ピペラジンまたはホモピペラジン；Ｚが、低級アルキレン基；Ｗが、イミノ基または式
- Ｒ１が、アミジノ基；Ｒ２が、水素原子；Ｒ３が、アミノ基；Ｒ４が、水素原子；Ｘが、Ｃ2-6低級アルキレン基；Ｙが、式
- 請求項１〜３記載のベンズアミジン誘導体またはその塩を含有する抗真菌剤。
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