JP4640414B2 - Spray drying equipment - Google Patents
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Description
本発明は、スラリーの噴霧および乾燥を行う噴霧乾燥装置に係り、さらに詳しくは、得られる顆粒の粒度のバラツキが小さく、かつ、不純物の混入を有効に防止できる噴霧乾燥装置に関する。 The present invention relates to a spray drying apparatus for spraying and drying a slurry, and more particularly to a spray drying apparatus capable of effectively preventing impurities from being mixed with a small variation in the particle size of the granules obtained.
噴霧乾燥装置は、原料粉末、溶媒およびバインダ等により構成されるスラリーを、ノズルや回転ディスク等の噴霧部により噴霧して、熱風で瞬時に乾燥させるための装置である。このような噴霧乾燥装置は、医薬品、ファインセラミックス等において、顆粒を得るために、従来より用いられている。 The spray drying apparatus is an apparatus for spraying a slurry composed of raw material powder, a solvent, a binder, and the like by a spraying unit such as a nozzle or a rotating disk and drying it instantaneously with hot air. Such a spray drying apparatus is conventionally used for obtaining granules in pharmaceuticals, fine ceramics and the like.
噴霧乾燥装置の噴霧部としては、加圧ノズルや回転ディスク等が主に使用される。噴霧部として回転ディスクを使用した場合においては、加圧ノズルを使用した場合と比較して、より細かい顆粒を得ることができ、そのため、噴霧部としては、回転ディスクが、好適に使用されている。 As the spray unit of the spray drying apparatus, a pressure nozzle, a rotating disk, or the like is mainly used. In the case where a rotating disk is used as the spraying part, finer granules can be obtained as compared with the case where a pressure nozzle is used. Therefore, a rotating disk is preferably used as the spraying part. .
上記回転ディスクは、一般に、円板形状を有しており、回転軸により支持される下板、液滴を噴霧するための分散ピン、分散ピン上に形成される上板から構成される。さらに、回転ディスクの上方には、回転ディスク上にスラリーを吐出するためのスラリー吐出部と、このスラリー吐出部を保持するための保持部とが形成されている(たとえば、特許文献1)。 The rotating disk generally has a disk shape, and includes a lower plate supported by a rotating shaft, a dispersion pin for spraying droplets, and an upper plate formed on the dispersion pin. Further, a slurry discharge part for discharging slurry onto the rotary disk and a holding part for holding the slurry discharge part are formed above the rotary disk (for example, Patent Document 1).
しかしながら、特許文献1に記載されているような回転ディスクを有する噴霧乾燥装置では、噴霧乾燥を連続して行うと、スラリーの跳ね返りや乾燥熱風の影響により、回転ディスクの上板と、スラリー吐出部を保持する保持部との隙間に原料の付着(スケーリング)が発生してしまう。上板と保持部との隙間に原料が付着し、この付着物が堆積してしまうと、堆積により一定の大きさとなった付着物が、脱落し、製品中に混入してしまい、結果として、粒度の揃った製品が得られなくなってしまう。
However, in the spray drying apparatus having a rotating disk as described in
さらに、付着物の堆積により、高速回転する回転ディスクの上板と、保持部との間において、付着物による摩擦が生じてしまい、この摩擦により、上板あるいは保持部が摩耗してしまい、摩耗物が製品中に不純物として混入し、製品に悪影響を及ぼしてしまうという問題もあった。 Furthermore, due to the accumulation of deposits, friction due to the deposits occurs between the upper plate of the rotating disk that rotates at a high speed and the holding unit, and the friction causes wear of the upper plate or the holding unit. There is also a problem that the product is mixed as an impurity in the product and adversely affects the product.
本発明は、このような実状に鑑みてなされ、回転ディスクの上板と、スラリー吐出部を保持する保持部との隙間への原料の付着を防止し、得られる顆粒の粒度のバラツキを小さくするとともに、不純物の混入を有効に防止できる噴霧乾燥装置に関する。 The present invention has been made in view of such a situation, and prevents the adhesion of raw materials to the gap between the upper plate of the rotating disk and the holding unit that holds the slurry discharge unit, and reduces the variation in the particle size of the obtained granules. In addition, the present invention relates to a spray drying apparatus that can effectively prevent contamination of impurities.
上記目的を達成するために、本発明に係る噴霧乾燥装置は、
スラリーを吐出するためのスラリー吐出部と、前記スラリー吐出部を保持するための保持部と、前記吐出部から吐出されたスラリーを放射状に噴霧する回転ディスクと、を有する噴霧乾燥装置であって、
前記回転ディスクには、上板が形成されており、
前記回転ディスクの上板が、前記保持部の外径よりも大きな内径を有し、
前記回転ディスクの上板の内径をr1、前記保持部の外径をr2とした時に、r1−r2の範囲は0.5〜2.0mmであることを特徴とする。
In order to achieve the above object, a spray drying apparatus according to the present invention comprises:
A spray drying apparatus having a slurry discharge unit for discharging slurry, a holding unit for holding the slurry discharge unit, and a rotating disk for spraying the slurry discharged from the discharge unit radially,
An upper plate is formed on the rotating disk,
An upper plate of the rotating disk has an inner diameter larger than an outer diameter of the holding portion;
The range of r1-r2 is 0.5 to 2.0 mm, where r1 is the inner diameter of the upper plate of the rotating disk and r2 is the outer diameter of the holding portion.
あるいは、本発明に係る噴霧乾燥装置は、
スラリーを吐出するためのスラリー吐出部と、前記スラリー吐出部を保持するための保持部と、前記吐出部から吐出されたスラリーを放射状に噴霧する回転ディスクと、を有する噴霧乾燥装置であって、
前記回転ディスクには、上板が形成されており、
前記回転ディスクの上板と前記保持部とが、前記回転ディスクの回転軸方向から見て、互いに重なり合わないように配置されており、
前記回転ディスクの上板の内径をr1、前記保持部の外径をr2とした時に、r1−r2の範囲は0.5〜2.0mmであることを特徴とする。
Alternatively, the spray drying apparatus according to the present invention is
A spray drying apparatus having a slurry discharge unit for discharging slurry, a holding unit for holding the slurry discharge unit, and a rotating disk for spraying the slurry discharged from the discharge unit radially,
An upper plate is formed on the rotating disk,
The upper plate of the rotating disk and the holding portion are arranged so as not to overlap each other when viewed from the rotating shaft direction of the rotating disk,
The range of r1-r2 is 0.5 to 2.0 mm, where r1 is the inner diameter of the upper plate of the rotating disk and r2 is the outer diameter of the holding portion.
本発明においては、前記回転ディスクの上板の内径を前記保持部の外径より大きくすることにより、あるいは、前記回転ディスクの上板と前記保持部とを、前記回転ディスクの回転軸方向から見て、互いに重なり合わないように配置することにより、前記回転ディスクの上板と前記保持部との隙間への原料の付着を有効に防止することができる。本発明によると、上板と保持部との隙間への原料の付着を防止することができるため、付着物の脱落が原因となる製品の粒度のバラツキや、付着物による摩耗が原因となる不純物の混入を有効に防止することができる。 In the present invention, the inner diameter of the upper plate of the rotating disk is made larger than the outer diameter of the holding part, or the upper plate of the rotating disk and the holding part are viewed from the rotation axis direction of the rotating disk. Thus, by disposing them so as not to overlap each other, it is possible to effectively prevent the raw material from adhering to the gap between the upper plate of the rotating disk and the holding portion. According to the present invention, since it is possible to prevent the raw material from adhering to the gap between the upper plate and the holding part, the impurities caused by the variation in the particle size of the product that causes the fall off of the deposit and the wear due to the deposit. Can be effectively prevented.
本発明において、好ましくは、
前記回転ディスクの上板は、前記保持部の外径よりも大きな内径を有しており、かつ、
前記回転ディスクの上板と前記保持部とが、前記回転ディスクの回転軸方向から見て、互いに重なり合わないように配置されている。
In the present invention, preferably,
The upper plate of the rotating disk has an inner diameter larger than the outer diameter of the holding portion, and
The upper plate of the rotating disk and the holding portion are arranged so as not to overlap each other when viewed from the rotating shaft direction of the rotating disk.
前記回転ディスクの上板の内径を前記保持部の外径より大きくし、かつ、前記回転ディスクの上板と前記保持部とを、前記回転ディスクの回転軸方向から見て、互いに重なり合わないように配置することにより、前記回転ディスクの上板と前記保持部との隙間への原料の付着の防止効果をより高めることができる。 The inner diameter of the upper plate of the rotating disk is larger than the outer diameter of the holding part, and the upper plate of the rotating disk and the holding part do not overlap each other when viewed from the direction of the rotation axis of the rotating disk. By disposing in, the effect of preventing the adhesion of the raw material to the gap between the upper plate of the rotating disk and the holding portion can be further enhanced.
本発明において、好ましくは、前記回転ディスクの上板の少なくとも一部には、前記保持部に付着した付着物を掻き取るための掻き取り手段が形成してある。前記回転ディスクの上板に、前記保持部に付着した付着物を掻き取るための掻き取り手段を形成することにより、前記保持部への付着物の堆積を有効に防止することができる。 In the present invention, preferably, at least a part of the upper plate of the rotating disk is formed with a scraping means for scraping off deposits attached to the holding portion. By forming a scraping means for scraping off the adhering matter adhering to the holding part on the upper plate of the rotating disk, it is possible to effectively prevent the adhering substance from accumulating on the holding part.
本発明において、好ましくは、前記掻き取り手段は、前記保持部と接触しないように配置されている。前記掻き取り手段は、前記保持部に付着した付着物を、回転ディスクの回転より、掻き取るための手段である。そのため、前記掻き取り手段を前記保持部と接触するように配置すると、前記掻き取り手段と前記保持部とが、回転により摩耗してしまい、摩耗物が製品中に混入してしまうおそれがある。したがって、前記掻き取り手段は、前記保持部と接触しないように配置することが好ましい。 In this invention, Preferably, the said scraping means is arrange | positioned so that it may not contact with the said holding | maintenance part. The scraping means is means for scraping off the adhering matter adhering to the holding part by rotation of a rotating disk. For this reason, if the scraping means is arranged so as to come into contact with the holding portion, the scraping means and the holding portion are worn by rotation, and there is a possibility that a worn object is mixed in the product. Therefore, it is preferable to arrange the scraping means so as not to contact the holding portion.
本発明において、好ましくは、前記掻き取り手段は、前記回転ディスクの回転軸方向から見て、前記保持部と重なり合わないように配置されている。
あるいは、好ましくは、前記掻き取り手段は、前記回転ディスクの回転軸方向から見て、前記保持部と重なり合う部分を一部に有する。
In the present invention, preferably, the scraping means is arranged so as not to overlap the holding portion when viewed from the direction of the rotation axis of the rotating disk.
Alternatively, preferably, the scraping means has a part overlapping with the holding part when viewed from the rotation axis direction of the rotary disk.
本発明において、好ましくは、前記掻き取り手段は、前記回転ディスクの回転数に応じて、半径方向に移動する移動機構を有する。 In the present invention, preferably, the scraping means has a moving mechanism that moves in a radial direction in accordance with the number of rotations of the rotating disk.
本発明において、好ましくは、前記移動機構が、前記回転ディスクの回転数が大きくなると、前記保持部から離れ、前記回転ディスクの回転数が小さくなると、前記保持部に近づく機構である。 In the present invention, it is preferable that the moving mechanism is a mechanism that moves away from the holding portion when the rotation number of the rotating disk increases, and approaches the holding portion when the rotation number of the rotating disk decreases.
本発明において、好ましくは、前記掻き取り手段は、複数の掻き取りピンから構成されており、前記掻き取りピンは、前記回転ディスクの上板の周方向に等間隔に配置されている。前記掻き取りピンを、周方向に等間隔に配置することにより、前記回転ディスクの回転を安定したものとすることができる。 In the present invention, it is preferable that the scraping means includes a plurality of scraping pins, and the scraping pins are arranged at equal intervals in the circumferential direction of the upper plate of the rotating disk. By arranging the scraping pins at equal intervals in the circumferential direction, the rotation of the rotating disk can be stabilized.
本発明において、好ましくは、前記保持部における前記上板と向き合う底面の少なくとも一部には、外周に向かって前記上板との隙間が広くなるようなテーパーが形成してある。 In the present invention, preferably, at least a part of the bottom surface of the holding portion facing the upper plate is formed with a taper that widens the gap with the upper plate toward the outer periphery.
本発明において、好ましくは、前記回転ディスクにおける上板の内周側端部上面の少なくとも一部には、内周に向かって前記保持部との隙間が広くなるようなテーパーが形成してある。 In the present invention, it is preferable that a taper is formed on at least a part of the upper surface of the inner peripheral side end of the upper plate so that a gap with the holding portion becomes wider toward the inner periphery.
前記保持部および/または前記回転ディスクの上板の少なくとも一部にテーパーを設けることにより、前記回転ディスクの上板と前記保持部との間隔を十分に確保することができるため、前記回転ディスクの上板と前記保持部との隙間への原料の付着を、より効果的に防止することができる。 By providing a taper in at least a part of the holding plate and / or the upper plate of the rotating disk, a sufficient interval between the upper plate of the rotating disk and the holding portion can be secured. It is possible to more effectively prevent the raw material from adhering to the gap between the upper plate and the holding portion.
本発明において、好ましくは、前記保持部には、ガスを吐出するためのガス吐出機構が具備してある。前記保持部にガス吐出機構を設け、ガスを吐出することにより、前記保持部への原料の付着の防止、および前記保持部に付着した付着物を除去することが可能となる。 In the present invention, it is preferable that the holding portion is provided with a gas discharge mechanism for discharging gas. By providing a gas discharge mechanism in the holding unit and discharging gas, it becomes possible to prevent adhesion of the raw material to the holding unit and to remove deposits attached to the holding unit.
本発明に係る粉体の乾燥方法は、上記いずれかの噴霧乾燥装置を使用して、原料粉末を含有するスラリーを噴霧乾燥し、顆粒化することを特徴とする。本発明の乾燥方法によると、上記本発明の噴霧乾燥装置を使用するため、良好な粒度分布を有し、かつ、不純物の混入が極めて少ない粉体を得ることができる。 The method for drying a powder according to the present invention is characterized in that the slurry containing the raw material powder is spray-dried and granulated using any one of the above-described spray-drying apparatuses. According to the drying method of the present invention, since the spray drying apparatus of the present invention is used, a powder having a good particle size distribution and containing very little impurities can be obtained.
本発明によると、回転ディスクの上板と保持部との隙間への原料の付着を有効に防止することができるため、付着物の脱落が原因となる製品の粒度のバラツキや、付着物による摩耗が原因となる不純物の混入を有効に防止することができる。 According to the present invention, since it is possible to effectively prevent the adhesion of the raw material to the gap between the upper plate of the rotating disk and the holding portion, the variation in the particle size of the product that causes the deposit to fall off, and the wear due to the deposit It is possible to effectively prevent the contamination of impurities caused by.
以下、本発明を、図面に示す実施形態に基づき説明する。
図1は本発明の一実施形態に係る噴霧乾燥装置の全体構成図、
図2は本発明の一実施形態に係る噴霧乾燥装置の噴霧部の要部断面図、
図3は図2に示すIII−III線に沿う噴霧部の要部断面図、
図4は本発明の他の実施形態に係る噴霧乾燥装置の噴霧部の要部断面図、
図5は図4に示すV−V線に沿う噴霧部の要部断面図、
図6〜図9は本発明のさらに他の実施形態に係る噴霧乾燥装置の噴霧部の要部断面図、
図10は従来の噴霧乾燥装置の噴霧部の要部断面図である。
Hereinafter, the present invention will be described based on embodiments shown in the drawings.
FIG. 1 is an overall configuration diagram of a spray drying apparatus according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a cross-sectional view of an essential part of a spraying part of a spray drying apparatus according to an embodiment of the present invention,
FIG. 3 is a cross-sectional view of the main part of the spray section along the line III-III shown in FIG.
FIG. 4 is a cross-sectional view of a principal part of a spraying part of a spray drying apparatus according to another embodiment of the present invention,
FIG. 5 is a cross-sectional view of the main part of the spray section along the line V-V shown in FIG.
6 to 9 are cross-sectional views of main parts of a spray unit of a spray drying apparatus according to still another embodiment of the present invention,
FIG. 10 is a cross-sectional view of an essential part of a spraying part of a conventional spray drying apparatus.
第1実施形態
図1に示すように、本発明の一実施形態に係る噴霧乾燥システムは、乾燥手段である噴霧乾燥装置1と、噴霧乾燥装置1にスラリーポンプ11を介してスラリーを供給するスラリー供給手段と、送風機12を介して乾燥用熱風を供給する熱風供給手段と、排気手段(サイクロン14、バグフィルター15、回収機用ブロアー16)とを有する。
First Embodiment As shown in FIG. 1, a spray-drying system according to an embodiment of the present invention includes a spray-drying
本実施形態の噴霧乾燥システムにおいては、原料粉末、溶媒およびバインダ等により構成されるスラリーを、スラリーポンプ11を介してスラリー供給手段から噴霧乾燥装置1に供給し、送風機12を介して熱風供給手段から送られる乾燥用熱風により、噴霧乾燥装置1内にて原料の乾燥を行い、顆粒状の原料粒を得る。
In the spray drying system of the present embodiment, a slurry composed of raw material powder, a solvent, a binder, and the like is supplied from the slurry supply unit to the
噴霧乾燥装置1は、筒状の乾燥筒体10と、乾燥筒体10の上方中心部に位置する噴霧部2とを有する。噴霧部2へは、スラリーポンプ11を介してスラリー供給手段から、スラリーが供給されるようになっており、供給されたスラリーは、噴霧部2により、乾燥筒体10の内壁に向けて放射状に噴霧される。そして、噴霧部2により、噴霧されたスラリーは、送風機12を介して熱風供給手段から送られる乾燥用熱風により乾燥され、顆粒となり、乾燥材料排出口13から取り出される。
The
図2に示すように、噴霧部2は、回転軸4を介して回転自在に配置された回転ディスク3と、スラリーホース(スラリー供給手段の一部)5と、回転軸4およびスラリーホース5を保持するディストリビュータ6とを有している。さらに、ディストリビュータ6は、ケーシング7の下端部7aにより外周側から固定されている。ディストリビュータ6およびケーシング7の下端部7aは、本発明の「保持部」を構成している。
As shown in FIG. 2, the
スラリーホース5は、スラリー供給手段から供給されたスラリーを、吐出するための吐出部5aを有している。スラリー供給手段から供給されたスラリーは、吐出部5aを介して、回転ディスク3上の回転軸4付近に滴下される。本実施形態では、スラリーホース5は、図3に示すように、回転軸4を中心として180°対称位置に2本配置したが、スラリーホース5の本数や配置位置は特に限定されない。なお、スラリーホース5を2本以上配置する場合には、スラリーの滴下が一定になるように、回転ディスク3の周方向に等間隔に配置することが好ましい。また、スラリーホース5を構成する材質は特に限定されないが、たとえばナイロンなどが使用可能である。
The
回転ディスク3は、円板形状であり、回転軸4により支持される下板31を有し、下板31の外周側上面には、回転ディスク3の周方向に分散ピン32が複数配置してある。さらに、分散ピン32上には、上板33が固定されている。回転ディスク3は、回転軸4により、好ましくは回転速度3000〜8000rpmで回転自在となっており、吐出部5aから吐出されるスラリーを、回転による遠心力により、放射状に噴霧可能となっている。
The
本実施形態における噴霧部2によるスラリーの具体的な噴霧方法を次に示す。まず、吐出部5aから、回転ディスク3の下板31の表面にスラリーが液滴の状態で滴下される。次いで、回転ディスク3の回転による遠心力により、このスラリー液滴が、下板31上を外周側に移動していき、分散ピン32の下部周面に付着する。そして、分散ピン32に付着したスラリー液滴は、遠心力により、分散ピン32の表面上を上昇していき、分散ピン32の上端付近において分散ピン32を離れ噴霧される。
The concrete spraying method of the slurry by the spraying
本実施形態において、分散ピン32の上方に形成されている上板33は、スラリー液滴の噴霧を安定化させる機能を有しており、上板33を形成することにより、得られる顆粒の粒度分布をシャープにすることができる。本実施形態では、上板33を形成することにより、粒度分布をシャープにすることができるため、粒度分布を基準とする良品率を約10%程度高めることができる。
In the present embodiment, the
本実施形態では、図2に示すように、回転ディスク3の上板33の内径(r1)を、ケーシング7の下端部7aの外径(r2)より大きくするとともに、図3に示すように、回転軸4方向から見て、上板33とケーシング7の下端部7aとが互いに重なり合わないように配置する。
In the present embodiment, as shown in FIG. 2, the inner diameter (r1) of the
このようにすることにより、回転ディスク3の上板33と、ディストリビュータ6との隙間への原料の付着を防止することができる。原料の付着を防止することにより、付着物の脱落が原因となる製品の粒度のバラツキや、付着物による摩耗が原因となる不純物の混入を有効に防止することができる。
By doing so, it is possible to prevent the raw material from adhering to the gap between the
上板33の内径(r1)は、下端部7aの外径(r2)より大きくし、回転軸4方向から見て、上板33と下端部7aとが互いに重なり合わないようにすれば良く、その大きさについては、特に限定されないが、上板33の内径(r1)は、下端部7aの外径(r2)より、好ましくは0.5〜2.0mm程度、より好ましくは0.5〜1.0mm程度大きくする。上板33の内径(r1)と下端部7aの外径(r2)との差が小さすぎると、上板33と下端部7aとの間に原料の付着が発生するおそれがある。一方、その差が大き過ぎると、回転ディスク3を必要以上に大きくしなければならず、現実的ではない。
The inner diameter (r1) of the
なお、図10に示すように、従来の噴霧乾燥装置の噴霧部20においては、回転ディスク30に形成された上板330の内径(r1a)は、ケーシング7の下端部7aの外径(r2)よりも小さくなっていた。したがって、従来の噴霧乾燥装置の噴霧部20においては、回転軸4方向から見て、上板33とケーシング7の下端部7aとが互いに重なり合っており、しかも、ディストリビュータ6と上板330との隙間が、約1〜2mm程度と非常に狭くなっていた。
As shown in FIG. 10, in the
そのため、従来の噴霧乾燥装置の噴霧部20では、噴霧乾燥を連続して行うと、スラリーの跳ね返りや乾燥熱風の影響により、上板330とディストリビュータ6との隙間に原料の付着(スケーリング)が発生していた。そして、上板330とディストリビュータ6との隙間に原料が付着し、この付着物が堆積し、堆積により一定の大きさとなった付着物が脱落し、製品中に混入してしまい、製品の粒度のバラツキが大きくなってしまうという問題があった。
Therefore, in the
さらに、付着物の堆積により、高速回転する回転ディスク30の上板330とディストリビュータ6との間に、付着物による摩擦が生じてしまう。そして、この摩擦により、上板330あるいはディストリビュータ6の一部が摩耗してしまい、摩耗物が製品中に不純物として混入し、製品に悪影響を及ぼしてしまうという問題もあった。
Further, due to the accumulation of the deposits, friction due to the deposits is generated between the
これに対して、本実施形態では、回転ディスク3の上板33の内径(r1)を、ケーシング7の下端部7aの外径(r2)より大きくし、さらに、回転軸4方向から見て、上板33とケーシング7の下端部7aとが互いに重なり合わないように配置するため、従来の噴霧乾燥装置の噴霧部20における付着物の問題を解決することができる。
On the other hand, in the present embodiment, the inner diameter (r1) of the
そして、噴霧部2より噴霧されたスラリーの液滴は、図1に示す送風機12を介して熱風供給手段から送られる乾燥用熱風(好ましくは180〜230℃)により乾燥され、顆粒となり、最終的に、乾燥材料排出口13より取り出される。本実施形態によると、良好な粒度分布を有し、かつ、不純物の混入が極めて少ない顆粒を得ることができる。
Then, the slurry droplets sprayed from the
なお、熱風供給手段から送られた乾燥用熱風は、排気手段であるサイクロン14、バグフィルター15および回収機用ブロアー16により、噴霧乾燥により気化した溶媒や粉塵と共に回収される。
The hot air for drying sent from the hot air supply means is recovered by the
第2実施形態
図4に示す本実施形態の噴霧部2aは、第1実施形態の噴霧部2と以下に示す以外は、同様な構成と作用を有し、その重複する説明は省略する。
本実施形態の噴霧部2aでは、第1実施形態と異なり、回転ディスク3aの上板33aには、ケーシング7の下端部7aの外周面に付着する付着物を掻き取るために掻き取りピン34aが形成されている。
Second Embodiment The
Unlike the first embodiment, in the
図2,3に示す第1実施形態に係る噴霧部2では、上板33aとディストリビュータ6との隙間への原料の付着を防止することができる。しかしながら、回転ディスク3aの回転条件や、使用する原料の種類によっては、図4に示すようにケーシング7の下端部7aの外周部から上板33aの上面部にかけて、付着物9(破線にて図示)が生成してしまうこともある。
In the
これに対して、本実施形態では、上板33a上に掻き取りピン34aを形成し、回転ディスク3が回転することにより、付着物9が掻き取られるようになっている。なお、掻き取りピン34aは、図4のV−V線断面図である図5に示すように、回転ディスク3aの上板33aの周方向に等間隔で配置される。本実施形態では、図5に示すように、掻き取りピン34aは、4本配置したが、その本数は、特に限定されない。なお、掻き取りピン34aを2本以上配置する場合には、回転バランスを確保するために、回転ディスク3aの周方向に等間隔に配置することが好ましい。
On the other hand, in this embodiment, the
本実施形態では、上板33aには、バネ35aが具備されている。バネ35aは、その弾性力により、掻き取りピン34aを回転ディスク3aの内周側に保持している。掻き取りピン34aは、バネ35aの弾性力を利用し、回転ディスク3aの回転数に応じて、半径方向に移動可能となっている。すなわち、掻き取りピン34aは、回転ディスク3aの回転数が増加すると、回転による遠心力により、外周側に移動し、逆に、回転ディスク3aの回転数が減少すると、バネ35の弾性力により、内周側に移動する構造となっている。
In the present embodiment, the
付着物9は、回転ディスク3aの回転数が比較的小さい時に発生しやすく、逆に、回転ディスク3aの回転数が比較的大きい時には、ほとんど発生しなくなる傾向にある。しかも、回転数が大きい時に、掻き取りピン34aが、ケーシング7の下端部7aの近くにあると、回転ディスク3の回転の邪魔になるおそれがある。したがって、掻き取りピン34aには、上述したような移動機構を具備させることが好ましい。
The
また、掻き取りピン34aは、ディストリビュータ6およびケーシング7の下端部7aと接触しないように配置されていることが好ましく、掻き取りピン34aと下端部7aとの間の距離は、最短で2mm程度とすることが好ましい。掻き取りピン34aとケーシング7の下端部7aとが、接触するように配置してしまうと、掻き取りピン34aあるいは下端部7aが、回転により摩耗してしまい、摩耗物が製品中に混入してしまうおそれがある。
The
掻き取りピン34aを構成する材質としては、特に限定されないが、ステンレス、アルミナ系セラミックス、ジルコニア系セラミックスなどが挙げらる。これらのなかでも、摩耗によるコンタミネーションの防止という観点より、噴霧乾燥装置により乾燥する原料粉末よりも硬い材料で構成することが好ましく、特に、アルミナ系セラミックスや、ジルコニア系セラミックスを好適に用いることができる。
The material constituting the
第3実施形態
図6に示す本実施形態の噴霧部2bは、第2実施形態の噴霧部2aと以下に示す以外は、同様な構成と作用を有し、その重複する説明は省略する。
本実施形態の噴霧部2bでは、第2実施形態と異なり、回転ディスク3bの上板33bには、ケーシング7の下端部7aの外周面、およびディストリビュータ6の下面に付着してしまう付着物を掻き取るためのL字型の掻き取りピン34bが形成されている。
Third Embodiment The
Unlike the second embodiment, the
本実施形態のL字型の掻き取りピン34bは、ケーシング7の下端部7aの外周面だけでなく、ディストリビュータ6の下面に付着した付着物を掻き取ることができる以外は、第2実施形態と同様な作用効果を奏する。
The L-shaped
第4実施形態
図7に示す本実施形態の噴霧部2cは、第1実施形態の噴霧部2と以下に示す以外は、同様な構成と作用を有し、その重複する説明は省略する。
本実施形態の噴霧部2cでは、第1実施形態と異なり、ディストリビュータ6cの下面には、外周に向かって上板33との隙間が広くなるようなテーパー6c−1が形成されている。本実施形態では、ディストリビュータ6cの下面にテーパー6c−1を形成することにより、上板33とディストリビュータ6cとの間隔を十分に確保することができるため、上板33とディストリビュータ6cとの隙間への原料の付着を、より効果的に防止することができる。
Fourth Embodiment The spray unit 2c of the present embodiment shown in FIG. 7 has the same configuration and operation as those of the
In the spray part 2c of this embodiment, unlike the first embodiment, a
なお、ディストリビュータ6cの下面に形成されるテーパー6c−1は、ディストリビュータ6cの少なくとも一部に形成すれば良く、たとえば、テーパー開始点6c−2やテーパー角度は、目的に合わせて任意に設定可能である。
The
第5実施形態
図8に示す本実施形態の噴霧部2dは、第1実施形態の噴霧部2と以下に示す以外は、同様な構成と作用を有し、その重複する説明は省略する。
本実施形態の噴霧部2dでは、第1実施形態と異なり、回転ディスク3dの上板33dの内周側端部上面には、内周に向かって、ディストリビュータ6との隙間が広くなるようなテーパー33d−1が形成されている。本実施形態では、上板33dの内周側端部上面にテーパー33d−1を形成することにより、上板33dとディストリビュータ6との間隔を十分に確保することができるため、上板33dとディストリビュータ6との隙間への原料の付着を、より効果的に防止することができる。
Fifth Embodiment The
In the
なお、上板33dの内周側端部上面に形成されるテーパー33d−1は、上板33dの内周側端部上面の少なくとも一部に形成すれば良く、たとえば、テーパー開始点33d−2やテーパー角度は、目的に合わせて任意に設定可能である。
The
第6実施形態
図9に示す本実施形態の噴霧部2eは、第1実施形態の噴霧部2と以下に示す以外は、同様な構成と作用を有し、その重複する説明は省略する。
本実施形態の噴霧部2eでは、第1実施形態と異なり、ディストリビュータ6eに、ガス吐出用ホース8が設けられており、ケーシング7eの外周側の側面に設けられたガス吐出部8aよりガスを吐出できるようになっている。
Sixth Embodiment The spray unit 2e of the present embodiment shown in FIG. 9 has the same configuration and operation as those of the
In the spray unit 2e of this embodiment, unlike the first embodiment, the
本実施形態では、ガス吐出用ホース8を介してガス吐出部8aよりガスを吐出することにより、ケーシング7eの外周側の表面における原料の付着を防止することができるとともに、もし、原料が付着した場合においても、付着物を有効に除去することができる。ガス吐出部8aは、ケーシング7eの外周側の表面の少なくとも一部に形成されていることが好ましく、必要に応じて、複数個形成することも可能である。
In the present embodiment, by discharging the gas from the
なお、本実施形態では、ガス吐出部8aは、ケーシング7eの外周側の表面に形成したが、ディストリビュータ6eの下面に形成しても良く、この場合には、ディストリビュータ6eの下面における原料の付着を防止することができる。また、ガス吐出部8aは、ケーシング7eの外周側の表面、およびディストリビュータ6eの下面の両方に形成しても良い。
In the present embodiment, the
ガス吐出部8aから吐出するガスとしては、特に限定されず、噴霧乾燥する原料に併せて適宜選択すればよいが、たとえば、空気やN2 ガスなどが使用でき、必要に応じて水分を含有させても良い。また、ガス吐出部8aから吐出するガスの温度は、常温〜400℃程度であることが好ましく、より好ましくは送風機12を介して熱風供給手段より供給される乾燥用熱風と同じものを使用する。
The gas discharged from the
その他の実施形態
なお、本発明は、上述した実施形態に限定されるものではなく、本発明の範囲内で種々に改変することができる。
Other Embodiments The present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications can be made within the scope of the present invention.
たとえば、上述した各実施形態では、分散ピン34a,34b、テーパー6c−1,33d−1、ガス吐出部8aは、それぞれ別々に形成したが、本発明の作用効果を損なわない限りにおいて、これらを複合して形成することも可能である。
For example, in each of the above-described embodiments, the dispersion pins 34a and 34b, the
以下、本発明を、さらに詳細な実施例に基づき説明するが、本発明は、これら実施例に限定されない。 Hereinafter, although this invention is demonstrated based on a more detailed Example, this invention is not limited to these Examples.
まず、出発原料として、セラミック原料を用意し、セラミック原料とバインダーと純水とを撹拌・混合し、次いで、配合粉砕機を使用して配合・粉砕を行い、セラミックスラリーを作製した。 First, a ceramic raw material was prepared as a starting raw material, the ceramic raw material, a binder, and pure water were stirred and mixed, and then mixed and pulverized using a compounding pulverizer to produce a ceramic slurry.
次いで、得られたセラミックスラリーについて、図2,3に示す噴霧部2を有する本発明の噴霧乾燥装置(実施例)を使用して噴霧乾燥を行った。なお、噴霧乾燥の条件としては、回転ディスク3の回転数を3500rpm、乾燥用熱風の温度を190℃とした。また、噴霧部2の上板33の内径(r1)とケーシング7の下端部7aの外径(r2)との差は、2.0mmとした。
Next, the obtained ceramic slurry was spray dried using the spray drying apparatus (Example) of the present invention having the
さらに、上記とは別に、得られたセラミックスラリーについて、上記と同様にして、図10に示す噴霧部20を有する従来の噴霧乾燥装置(比較例)を使用して噴霧乾燥を行った。
Further, separately from the above, the obtained ceramic slurry was spray-dried using the conventional spray-drying apparatus (comparative example) having the
本発明の噴霧乾燥装置(実施例)を使用して得られたセラミック顆粒、および従来の噴霧乾燥装置(比較例)を使用して得られたセラミック顆粒について、外観検査および顆粒の良品率の測定を行った。 Visual inspection and measurement of non-defective product ratio of ceramic granules obtained using the spray drying apparatus (Example) of the present invention and ceramic granules obtained using a conventional spray drying apparatus (Comparative Example) Went.
外観検査は、得られたセラミック顆粒について、黒色の異物が存在するか否か、および顆粒の固まりが存在するか否かを評価することにより行った。外観検査は、表1に示す検査ロット数について行った。黒色の異物、または顆粒の固まりが存在したロットを不良ロットとし、検査ロット数に対する不良ロット数の割合を不良率として求めた。不良率は低いほうが好ましい。結果を表1に示す。 The appearance inspection was performed by evaluating whether or not black foreign substances exist and whether or not there is a lump of granules. The appearance inspection was performed for the number of inspection lots shown in Table 1. A lot where black foreign matter or a lump of granules existed was determined as a defective lot, and the ratio of the number of defective lots to the number of inspection lots was determined as a defective rate. It is preferable that the defect rate is low. The results are shown in Table 1.
顆粒の良品率の測定は、得られたセラミック顆粒について、粒度分布の測定を行い、粒径が300μm以下の範囲にあった粒子を良品とし、粒子の全重量に対する良品の重量を求め、これを良品率とした。結果を表2に示す。良品率は高いほうが好ましい。 The measurement of the non-defective product ratio of the granule is performed by measuring the particle size distribution of the obtained ceramic granule. The particle having a particle size in the range of 300 μm or less is determined to be non-defective, and the weight of the non-defective product with respect to the total weight of the particle is obtained. The non-defective product rate. The results are shown in Table 2. It is preferable that the yield rate is high.
評価1
表1より、本発明の噴霧乾燥装置(実施例)を使用して得られたセラミック顆粒は、黒色の異物および顆粒の固まりが、全く存在せず、良好な結果となった。一方、従来の噴霧乾燥装置(比較例)を使用して得られたセラミック顆粒は、黒色の異物および顆粒の固まりが、それぞれ確認され、不良率が1.38%であった。なお、比較例にて確認された黒色の異物は、ディストリビュータ6および/または回転ディスク30の上板330の一部が摩耗することにより混入した摩耗物であり、また、顆粒の固まりは、ディストリビュータ6と回転ディスク30の上板330との間に堆積した付着物であった。
From Table 1, the ceramic granule obtained using the spray-drying apparatus (Example) of the present invention did not have any black foreign matter and no mass of granules, and gave good results. On the other hand, in the ceramic granule obtained using the conventional spray drying apparatus (comparative example), black foreign substances and agglomeration of the granule were confirmed, and the defect rate was 1.38%. In addition, the black foreign material confirmed in the comparative example is a worn object that is mixed when a part of the
この結果より、本発明の噴霧乾燥装置(実施例)を使用することにより、回転ディスクの上板とディストリビュータ(保持部)との隙間への原料の付着を有効に防止することができることが確認できた。 From this result, it can be confirmed that by using the spray drying apparatus (Example) of the present invention, it is possible to effectively prevent the adhesion of the raw material to the gap between the upper plate of the rotating disk and the distributor (holding portion). It was.
評価2
表2より、本発明の噴霧乾燥装置(実施例)を使用して得られたセラミック顆粒は、良品率が94.0%となり、良好な結果であった。一方、従来の噴霧乾燥装置(比較例)を使用して得られたセラミック顆粒は、良品率が87.6%となり、90%を下回り、良品率に劣る結果となった。
From Table 2, the ceramic granule obtained using the spray drying apparatus (Example) of the present invention had a good product ratio of 94.0%, which was a good result. On the other hand, the ceramic granule obtained using the conventional spray drying apparatus (comparative example) had a non-defective product ratio of 87.6%, less than 90%, and a poor product ratio.
この結果より、本発明の噴霧乾燥装置(実施例)を使用することにより、粒度分布のバラツキを解消することができ、結果として、良品率を向上させることが可能であることが確認できた。 From this result, it was confirmed that the dispersion of the particle size distribution can be eliminated by using the spray drying apparatus (Example) of the present invention, and as a result, the yield rate can be improved.
1… 噴霧乾燥装置
10… 乾燥筒体
11… スラリーポンプ
12… 送風機
13… 乾燥材料排出口
14… サイクロン
15… バグフィルター
16… 回収機用ブロアー
2… 噴霧部
3… 回転ディスク
31… 下板
32… 分散ピン
33… 上板
4… 回転軸
5… スラリーホース
5a… 吐出部
6… ディストリビュータ
7… ケーシング
7a… 下端部
DESCRIPTION OF
Claims (13)
前記回転ディスクには、上板が形成されており、
前記回転ディスクの上板が、前記保持部の外径よりも大きな内径を有し、
前記回転ディスクの上板と前記保持部とが、前記回転ディスクの回転軸方向から見て、互いに重なり合わないように配置されており、
前記回転ディスクの上板の内径をr1、前記保持部の外径をr2とした時に、r1−r2の範囲は0.5〜2.0mmであり、
前記保持部と前記上板との隙間が1〜2mmであることを特徴とする噴霧乾燥装置。 A spray drying apparatus having a slurry discharge unit for discharging slurry, a holding unit for holding the slurry discharge unit, and a rotating disk for spraying the slurry discharged from the discharge unit radially,
An upper plate is formed on the rotating disk,
An upper plate of the rotating disk has an inner diameter larger than an outer diameter of the holding portion;
The upper plate of the rotating disk and the holding portion are arranged so as not to overlap each other when viewed from the rotating shaft direction of the rotating disk,
The top plate of the inner diameter of the rotary disk r1, the outer diameter of the holding portion when the r2, range of r1-r2 is Ri 0.5~2.0mm der,
The spray-drying apparatus characterized by the gap of the said holding | maintenance part and the said upper board being 1-2 mm .
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