JP4627785B2 - 密閉式混練機 - Google Patents
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Description
例えば、下記特許文献1に開示されるものがある。この特許文献1のものは、断面が連通された2つの円形である筒状密閉な混練室を形成するチャンバーと、前記混練室に収納され回転により被混練材料を混練する2本のロータとを有する密閉式混練機において、チャンバーには各混練用ロータを中心にして混練室の外側に放射状に断面長孔形状として現れ、混練室の軸方向の両端間に延びて制御流体を循環させる第1熱伝達通路を形成するとともに、この熱伝達通路の断面長孔形状が、混練用ロータの回転径方向の長さを混練用ロータの回転周方向の幅より大きくなるようにされているものである。これらの構成により、混練中に上昇する混練室内(被混練材料)の温度を制御することとしていた。
また、被混練材料とチャンバー内壁との接触面積に限りがあることからも温度制御には限りがあった。
図1は密閉式混練機の全体構成を示す断面図である。図2は図1のZ−Z断面図である。
図示しない縦長シュートから供給口7に投入された被混練材料(ゴム等)は、フローティングウエイト6の昇降で混練室8内に押し込まれ、混練室8内の圧力で昇降するフローティングウエイト6の下方で混練室8を区画する。
このドロップドア2は、被混練材料の混練時に、混練室8の下方で混練用ロータ4,4の軸方向に延びる排出口3をドアトップ2aで閉塞して混練用ロータ4,4による被混練材料の混練を可能にし、また、被混練材料の混練後に、支点2bを中心に下方向に回転し落ちるように開き被混練材料の排出を可能にするものである。なお、ドロップドア2の開閉は図示しない油圧制御装置のドロップドア制御回路により行われる。
ラッチ5は、ドロップドア2に押し付けられてドロップドア2をチャンバー1側に突き上げて被混練材料の混練中の混練室8内の密閉性を保持するようにクランプし、また被混練材料の混練後にはドロップドア2から退避されてドロップドア2の開放(クランプ開放)を可能にするものである。
図示例のロータ15,16は、異方向回転であって、互いにかみ合わない非かみ合い式となっており、異方向回転の回転速度は一定比率(例えば、1対1.2)で異なっている。なお、本実施形態の密閉式混練機のロータ15、16は、上記に限定されるものではない。例えば、ロータ15、16は上述した異方向回転に限らず、同じ速度で回転するかみ合い式のものであってもよい。また、ロータ15、16の翼の数が1枚のものや3枚のものであってもよいし、この翼の配置が異なっていてもよい。
また、一方のロータ15と他方のロータ16とでは互いに異方向に回転するため、左右の混練室相互間でも被混練材料は流動する。これにより、被混練材料は図2の▲1▼に示すようにチャンバー1内において全体として徐々に大きく旋回流動し、添加剤が被混練材料に均一に混ざりこむ所謂マクロ分散が行われる。
図3(a)の凹部9aのようにロータ4の回転方向に対し垂直(ロータ4の軸方向)に溝を設けることで、ロータ4の軸方向への被混練材料の流れを促進させることができる。その結果、効果的に被混練材料とチャンバー内壁1との接触面の更新を行うことができ、被混練材料の分配性が向上する。
また、上記では凹部のみについて説明したが、凹部9を凸部(堤状突出部など)としても上記と同様の効果が得られる。
また、凹部42による上記把持作用により材料に十分な剪断が与えられて、被混練材料の分散性が向上するので、被混練材料温度の制御性能が向上する。
なお、図6では凹部42の断面が円弧となっているが、この円弧の半径を適宜変更したり、円弧の数を増加させたりしても上記と同様の効果がある。また、図示しないが、該断面をV字状のものや任意の曲線(例えば、波型形状)としても、チャンバー内壁の面積が広くできるので被混練材料温度の制御性能は向上する。
また、所定のねじれ角をもって螺旋状に溝を設けても同様である。従って、被混練材料温度の制御性能を向上させることができるので、規定排出温度までに被混練材料に投入できる混練エネルギーを大きくすることができ、混練品質を向上することができる。凹部は溝形状なので加工しやすいものである。
また、上記では凹部のみについて説明したが、凹部42を凸部(堤状突出部など)としても上記と同様の効果が得られる。
次に、図1で示した構成であるチャンバー内壁に溝の設けられている密閉式混練機とチャンバー内壁に溝の設けられていない従来の密閉式混練機との比較検証を行った。
図4において、検証に用いた密閉式混練機のチャンバー内壁には凹部9(円弧状)が溝深さ(H)1mmとして設けられている。本検証では、隣接する凹部9同士は混練用ロータ4の軸心Pを中心として、混練用ロータ4の軸方向と垂直方向に10度(α)ごとに設けられ、円弧の半径(R1)は6mmである。
4、41 混練用ロータ
8 混練室
9、9a、9b チャンバー内壁の凹部
42 混練用ロータ表面の凹部
P 混練用ロータの軸心
C 冷却機構
X 密閉式混練機
Claims (2)
- 断面が連通された2つの円形である閉じられた筒状密閉な混練室を形成するチャンバーと、前記混練室に収納され回転により被混練材料を混練する2本の混練用ロータとを有する密閉式混練機において、
前記混練用ロータの中心に冷却媒体が循環する空間が設けられると共に、前記混練用ロータの回転方向前側に面した部分であって、チップ部を除く表面に、当該表面の表面積を広げることで滑り止めとなる複数の凹部を設けたことを特徴とする密閉式混練機。 - 前記凹部は、前記混練用ロータの回転方向と交差する方向に延設された溝であることを
特徴とする請求項1に記載の密閉式混練機。
Priority Applications (1)
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JP2008122224A JP4627785B2 (ja) | 2008-05-08 | 2008-05-08 | 密閉式混練機 |
Applications Claiming Priority (1)
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JP2003066121A Division JP4236963B2 (ja) | 2003-03-12 | 2003-03-12 | 密閉式混練機 |
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JP2008238824A JP2008238824A (ja) | 2008-10-09 |
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Family Applications (1)
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Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0636806U (ja) * | 1992-10-20 | 1994-05-17 | エヌオーケー株式会社 | 密閉式混練機 |
JPH07133500A (ja) * | 1993-11-10 | 1995-05-23 | Kao Corp | 高粘度物の処理装置および石鹸の製造方法 |
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- 2008-05-08 JP JP2008122224A patent/JP4627785B2/ja not_active Expired - Fee Related
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